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JP7471770B2 - Inductor and method for manufacturing the inductor - Google Patents

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JP7471770B2 JP2018156607A JP2018156607A JP7471770B2 JP 7471770 B2 JP7471770 B2 JP 7471770B2 JP 2018156607 A JP2018156607 A JP 2018156607A JP 2018156607 A JP2018156607 A JP 2018156607A JP 7471770 B2 JP7471770 B2 JP 7471770B2
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Description

本発明は、インダクタ、及びインダクタの製造方法に関する。 The present invention relates to an inductor and a method for manufacturing an inductor.

スマートフォンやタブレット端末等の小型の電子機器には様々な電子部品が使用される。その電子部品の一つにインダクタがある。インダクタは、例えばCPU(Central Processing Unit)に電源を供給するためのマルチフェーズDC-DCコンバータ等に使用される。 Small electronic devices such as smartphones and tablet terminals use a variety of electronic components. One of these components is the inductor. Inductors are used, for example, in multi-phase DC-DC converters that supply power to CPUs (Central Processing Units).

インダクタの構造には様々なタイプがあるが、磁性体のコアにコイルを巻き付けた巻き線タイプのものが広く普及している。 There are various types of inductor structures, but the most widely used type is the wound type, which has a coil wound around a magnetic core.

特開2003-168610号公報JP 2003-168610 A

しかしながら、巻き線タイプのインダクタは、磁性体のコアによって占有される体積が大きいため薄型化が困難であり、電子機器の小型化に不利である。 However, wound-type inductors are difficult to make thin because the volume occupied by the magnetic core is large, which is disadvantageous in miniaturizing electronic devices.

一側面によれば、本発明は、インダクタの薄型化を図ることを目的とする。 In one aspect, the present invention aims to make the inductor thinner.

一側面によれば、磁性体粉末と絶縁性樹脂とを含有する磁性体と、表面が絶縁層で被覆され、前記磁性体に埋め込まれた複数の線状の導体と、各々の前記導体の一方の端部に設けられ、一部が前記磁性体の表面から露出した第1の電極と、各々の前記導体の他方の端部に設けられ、一部が前記磁性体の表面から露出した第2の電極と、を有し、前記導体は、上面、下面、及び前記上面と前記下面とを接続する側面を備え、前記導体の延出方向に対して垂直な方向かつ前記導体の厚さ方向に切断した断面において、前記側面の前記厚さ方向の中央部が前記上面及び前記下面よりも側方に突出する形状であるインダクタが提供される。 According to one aspect, an inductor is provided which comprises a magnetic body containing magnetic powder and an insulating resin, a plurality of linear conductors whose surfaces are covered with an insulating layer and embedded in the magnetic body, a first electrode provided at one end of each of the conductors and a portion of which is exposed from the surface of the magnetic body, and a second electrode provided at the other end of each of the conductors and a portion of which is exposed from the surface of the magnetic body , wherein the conductors have an upper surface, a lower surface, and a side surface connecting the upper surface and the lower surface, and in a cross section cut in a direction perpendicular to the extension direction of the conductor and in the thickness direction of the conductor, a central portion of the side surface in the thickness direction protrudes laterally beyond the upper surface and the lower surface .

一側面によれば、インダクタの薄型化を実現することができる。 According to one aspect, it is possible to achieve a thinner inductor.

第1の実施形態で使用する金属板の平面図である。FIG. 2 is a plan view of a metal plate used in the first embodiment. 第1の実施形態に係るインダクタの製造途中の断面図(その1)である。1A to 1C are cross-sectional views (part 1) of the inductor according to the first embodiment during manufacturing; 第1の実施形態に係るインダクタの製造途中の断面図(その2)である。6 is a cross-sectional view (part 2) of the inductor according to the first embodiment during manufacturing; FIG. 第1の実施形態に係るインダクタの製造途中の断面図(その3)である。5 is a cross-sectional view (part 3) of the inductor according to the first embodiment during manufacturing; FIG. 第1の実施形態に係るインダクタの製造途中の断面図(その4)である。4 is a cross-sectional view (part 4) of the inductor according to the first embodiment during manufacturing; FIG. 第1の実施形態に係るインダクタの製造途中の断面図(その5)である。5 is a cross-sectional view (part 5) of the inductor according to the first embodiment during manufacturing; FIG. 第1の実施形態に係るインダクタの製造途中の断面図(その6)である。6 is a cross-sectional view (part 6) of the inductor according to the first embodiment during manufacturing; FIG. 第1の実施形態に係るインダクタの製造途中の平面図(その1)である。1 is a plan view (part 1) of the inductor according to the first embodiment during manufacturing; FIG. 第1の実施形態に係るインダクタの製造途中の平面図(その2)である。FIG. 2 is a second plan view of the inductor according to the first embodiment during manufacturing; 第1の実施形態に係るインダクタの製造途中の平面図(その3)である。11 is a plan view (part 3) of the inductor according to the first embodiment during manufacturing; FIG. 第1の実施形態に係るインダクタの製造途中の平面図(その4)である。FIG. 4 is a plan view (part 4) of the inductor according to the first embodiment during manufacturing; 第1の実施形態に係るインダクタの製造途中の平面図(その5)である。5 is a plan view (part 5) of the inductor according to the first embodiment during manufacturing; FIG. 第1の実施形態に係るインダクタの製造途中の平面図(その6)である。FIG. 6 is a plan view (part 6) of the inductor according to the first embodiment during manufacturing; 第1の実施形態に係るインダクタの製造途中の平面図(その7)である。FIG. 7 is a plan view (part 7) of the inductor according to the first embodiment during manufacturing; 第1の電極側及び第2の電極側から見た第1の実施形態に係るインダクタの側面図である。2 is a side view of the inductor according to the first embodiment as viewed from the first electrode side and the second electrode side. FIG. 第1の実施形態に係るインダクタの斜視図である。1 is a perspective view of an inductor according to a first embodiment; インダクタの使用方法について模式的に示す平面図である。1A and 1B are plan views each showing a schematic diagram of a method of using an inductor. 第1の実施形態に係るインダクタを備えた電子装置の断面図である。1 is a cross-sectional view of an electronic device including an inductor according to a first embodiment. 第1の実施形態に係るインダクタにおける導体の変形例について説明する平面図(その1)である。1A to 1C are plan views (part 1) illustrating modified examples of the conductor in the inductor according to the first embodiment. 第1の実施形態に係るインダクタにおける導体の変形例について説明する平面図(その2)である。FIG. 11 is a plan view (part 2) illustrating a modified example of the conductor in the inductor according to the first embodiment. 第1の実施形態に係るインダクタにおける導体の変形例について説明する平面図(その3)である。FIG. 11 is a plan view (part 3) illustrating a modified example of the conductor in the inductor according to the first embodiment. 第2の実施形態に係るインダクタの製造途中の断面図(その1)である。11A to 11C are cross-sectional views (part 1) of the inductor according to the second embodiment during manufacturing; 第2の実施形態に係るインダクタの製造途中の平面図(その1)である。13 is a plan view (part 1) of an inductor according to a second embodiment during manufacturing; FIG. 第2の実施形態に係るインダクタの製造途中の平面図(その2)である。FIG. 13 is a second plan view of the inductor according to the second embodiment during manufacturing; 第2の実施形態に係るインダクタの製造途中の平面図(その3)である。FIG. 11 is a plan view (part 3) of the inductor according to the second embodiment during manufacturing; 第2の実施形態に係るインダクタの製造途中の断面図(その2)である。13 is a cross-sectional view (part 2) of the inductor according to the second embodiment during manufacturing; FIG. 第2の実施形態に係るインダクタの製造途中の断面図(その3)である。13 is a cross-sectional view (part 3) of the inductor according to the second embodiment during manufacturing; FIG. 第2の実施形態の変形例1に係るインダクタの製造途中の断面図である。13A to 13C are cross-sectional views of an inductor according to a first modified example of the second embodiment during its manufacture. 第2の実施形態の変形例2に係るインダクタの製造途中の断面図である。13A to 13C are cross-sectional views of an inductor according to a second modified example of the second embodiment during its manufacture. 第2の実施形態の変形例2に係るインダクタの断面図(その1)である。FIG. 11 is a cross-sectional view (part 1) of an inductor according to a second modification of the second embodiment. 第2の実施形態の変形例2に係るインダクタの断面図(その2)である。FIG. 13 is a second cross-sectional view of an inductor according to Modification 2 of the second embodiment. 第2の実施形態に係るインダクタを備えた電子装置の断面図である。11 is a cross-sectional view of an electronic device including an inductor according to a second embodiment.

以下、図面を参照して発明を実施するための形態について説明する。なお、各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。 Below, a description will be given of an embodiment of the invention with reference to the drawings. Note that in each drawing, the same components are given the same reference numerals, and duplicate descriptions may be omitted.

〈第1の実施形態〉
本実施形態に係るインダクタについて、その製造方法を追いながら説明する。
First Embodiment
The inductor according to this embodiment will be described in detail with reference to its manufacturing method.

図1は、第1の実施形態で使用する金属板の平面図である。 Figure 1 is a plan view of the metal plate used in the first embodiment.

この金属板1は、例えばリードフレーム用の厚さが0.2mm程度の銅板であり、複数の製品領域Rを備える。各々の製品領域Rは、後で個々のインダクタが切り出される複数の矩形状の素子領域Cを備える。この例では、一つの製品領域Rにおいて複数の素子領域Cが格子状に配置される。 This metal plate 1 is, for example, a copper plate with a thickness of about 0.2 mm for a lead frame, and has multiple product regions R. Each product region R has multiple rectangular element regions C from which individual inductors will later be cut out. In this example, multiple element regions C are arranged in a grid pattern in one product region R.

なお、金属板1の材料は銅に限定されず、銅合金を金属板1の材料として使用してもよい。更に、42アロイ等のFe-Ni合金を金属板1の材料として使用してもよい。 The material of the metal plate 1 is not limited to copper, and a copper alloy may be used as the material of the metal plate 1. Furthermore, an Fe-Ni alloy such as alloy 42 may be used as the material of the metal plate 1.

本実施形態では、この金属板1の素子領域Cに以下のようにインダクタを形成する。 In this embodiment, an inductor is formed in element region C of metal plate 1 as follows.

図2~図7は、第1の実施形態に係るインダクタの製造途中の断面図であり、図8~図14はその平面図である。 Figures 2 to 7 are cross-sectional views of the inductor according to the first embodiment during manufacturing, and Figures 8 to 14 are plan views thereof.

なお、図2~図7においては、図8~図14におけるA-A線に沿った第1断面と、B-B線に沿った第2断面とを併記する。 In addition, in Figures 2 to 7, the first cross section taken along line A-A in Figures 8 to 14 and the second cross section taken along line B-B are shown together.

まず、図2(a)及び図8に示すように、金属板1の表面1aに島状の第1のレジスト層2を形成すると共に、金属板1の裏面1bを第2のレジスト層3で覆う。 First, as shown in FIG. 2(a) and FIG. 8, an island-shaped first resist layer 2 is formed on the front surface 1a of the metal plate 1, and the back surface 1b of the metal plate 1 is covered with a second resist layer 3.

次いで、図2(b)に示すように、各レジスト層2、3をマスクに使用しながら、第1のレジスト層2で覆われていない部分の金属板1をその厚さの途中の深さまでウエットエッチングする。これにより、第1のレジスト層2の下の金属板1に島状の第1の端子1xと第2の端子1yとが間隔をおいて形成され、かつ端子1x、1y以外の金属板1の厚さtが0.1mm程度にまで薄くなる。 Next, as shown in FIG. 2(b), while using each of the resist layers 2 and 3 as a mask, the metal plate 1 in the portion not covered by the first resist layer 2 is wet etched to a depth halfway through its thickness. As a result, the island-shaped first terminal 1x and second terminal 1y are formed at a distance from each other on the metal plate 1 under the first resist layer 2, and the thickness t of the metal plate 1 other than the terminals 1x and 1y is reduced to about 0.1 mm.

その後に、各レジスト層2、3は除去される。 Then, each resist layer 2 and 3 is removed.

図9は、各レジスト層2、3を除去した後の金属板1の平面図である。 Figure 9 is a plan view of the metal plate 1 after the resist layers 2 and 3 have been removed.

図9に示すように、第1の端子1xと第2の端子1yの各々は、矩形状の素子領域Cの縁に沿って間隔をおいて配される。また、各端子1x、1yは、一辺の長さW1が0.2mm程度の正方形状である。 As shown in FIG. 9, the first terminal 1x and the second terminal 1y are arranged at intervals along the edge of the rectangular element region C. Each of the terminals 1x and 1y is a square with a side length W1 of about 0.2 mm.

次に、図3(a)及び図10に示すように、金属板1の表面1aの上に第3のレジスト層6を形成すると共に、裏面1bにおいて第3のレジスト層6に相対する部位に第4のレジスト層7を形成する。 Next, as shown in Figures 3(a) and 10, a third resist layer 6 is formed on the front surface 1a of the metal plate 1, and a fourth resist layer 7 is formed on the rear surface 1b in a portion opposite the third resist layer 6.

図10に示すように、第3のレジスト層6は、第1の端子1xから第2の端子1yに蛇行するように延びる。 As shown in FIG. 10, the third resist layer 6 extends in a serpentine manner from the first terminal 1x to the second terminal 1y.

次いで、図3(b)に示すように、各レジスト層6、7をマスクにして金属板1をその両面からウエットエッチングすることで金属板1をパターニングし、金属板1に複数の導体1wを形成する。 Next, as shown in FIG. 3(b), the metal plate 1 is patterned by wet etching from both sides of the metal plate 1 using each of the resist layers 6 and 7 as a mask, thereby forming multiple conductors 1w on the metal plate 1.

そのウエットエッチングは等方的に進行するため、点線円内に示すように、導体1wは、側面の中央部が側方に突出し、かつ上面と下面とが平坦な概略矩形状となる。 The wet etching proceeds isotropically, so that the conductor 1w has a roughly rectangular shape with the center of the side surface protruding to the side and flat top and bottom surfaces, as shown in the dotted circle.

なお、ウエットエッチングに代えて、金型打ち抜きやレーザ加工によって金属板1をパターニングしてもよい。 In addition, instead of wet etching, the metal plate 1 may be patterned by die punching or laser processing.

更に、第1の端子1xと第2の端子1yの各々の上面は導体1wの表面から突出して設けられる。 Furthermore, the upper surfaces of the first terminal 1x and the second terminal 1y are arranged to protrude from the surface of the conductor 1w.

その後に、各レジスト層6、7は除去される。 Then, each resist layer 6, 7 is removed.

図11は、このように各レジスト層6、7を除去した後の金属板1の平面図である。 Figure 11 is a plan view of the metal plate 1 after the resist layers 6 and 7 have been removed in this manner.

図11に示すように、素子領域Cには枠体1dが設けられており、その枠体1dによって複数の導体1wが支持される。各々の導体1wは同一の延出方向Dに沿って蛇行した線状の金属板からなると共に、一方の端部に第1の端子1xを有し、かつ他方の端部に第2の端子1yを有する。 As shown in FIG. 11, a frame 1d is provided in the element region C, and multiple conductors 1w are supported by the frame 1d. Each conductor 1w is made of a linear metal plate that meanders along the same extension direction D, and has a first terminal 1x at one end and a second terminal 1y at the other end.

更に、各導体1wには蛇行部1eと直線部1fとが設けられる。このうち、直線部1fは延出方向Dに沿って延びる。また、蛇行部1eは、平面視において直線部1fから左右に屈曲するように設けられる。なお、直線部1fを省き、蛇行部1eのみで各導体1wを形成してもよい。 Furthermore, each conductor 1w has a meandering portion 1e and a straight portion 1f. Of these, the straight portion 1f extends along the extension direction D. Also, the meandering portion 1e is provided so as to bend left and right from the straight portion 1f in a plan view. Note that the straight portion 1f may be omitted, and each conductor 1w may be formed only with the meandering portion 1e.

各導体1wの幅W2は特に限定されないが、この例では幅W2を0.1mm程度とする。 The width W2 of each conductor 1w is not particularly limited, but in this example, the width W2 is approximately 0.1 mm.

次いで、図4(a)に示すように、導体1wと各端子1x、1yの各々の表面に誘電率が1.8程度のエポキシ樹脂の絶縁層9を電着塗装法で10μm程度の厚さに形成し、その絶縁層9で導体1wと各端子1x、1yの各々の表面を被覆する。 Next, as shown in FIG. 4(a), an insulating layer 9 of epoxy resin with a dielectric constant of about 1.8 is formed on the surface of the conductor 1w and each of the terminals 1x and 1y to a thickness of about 10 μm by electrocoating, and the surfaces of the conductor 1w and each of the terminals 1x and 1y are covered with the insulating layer 9.

なお、絶縁層9の材料はエポキシ樹脂に限定されず、ポリイミド樹脂等の他の絶縁性樹脂をその材料として採用してもよい。 The material of the insulating layer 9 is not limited to epoxy resin, and other insulating resins such as polyimide resin may be used as the material.

次に、図4(b)に示すように、ホットプレス機の下部金型15と上部金型16との間に金属板1を配し、更に磁性体粉末18aと絶縁性樹脂18bとを混練してなる粉体18で金属板1の周囲を充填する。なお、金属板1の下の粉体18については、本工程の前に予め板状に仮成型しておき、その上に金属板1を載せてもよい。 Next, as shown in FIG. 4(b), the metal plate 1 is placed between the lower die 15 and the upper die 16 of the hot press machine, and the metal plate 1 is filled with powder 18 made by kneading magnetic powder 18a and insulating resin 18b. Note that the powder 18 under the metal plate 1 may be preformed into a plate shape before this process, and the metal plate 1 may be placed on top of it.

また、絶縁性樹脂18bはバインダ(接合材)であって、例えばエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂等の熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂を絶縁性樹脂18bとして使用し得る。更に、磁性体粉末18aの材料も特に限定されず、軟磁性体の粉末を磁性体粉末18aとして使用し得る。そのような磁性体粉末18aとしては、例えば、カルボニル鉄粉や、フェライトやパーマロイ等の粉末がある。 The insulating resin 18b is a binder (bonding material), and may be, for example, a thermosetting resin or a thermoplastic resin such as epoxy resin, polyimide resin, phenolic resin, or acrylic resin. Furthermore, the material of the magnetic powder 18a is not particularly limited, and a powder of a soft magnetic material may be used as the magnetic powder 18a. Examples of such magnetic powder 18a include powders of carbonyl iron powder, ferrite, and permalloy.

そして、この状態で粉体18を160℃程度に加熱しながら、下部金型15と上部金型16の各々から粉体18に200MPa程度の圧力を加えることにより、粉体18を高圧成型して平板状の磁性体19とする。 Then, while heating the powder 18 in this state to about 160°C, a pressure of about 200 MPa is applied to the powder 18 from each of the lower die 15 and the upper die 16, and the powder 18 is molded under high pressure into a flat plate-shaped magnetic material 19.

このようにして形成された磁性体19は、磁性体粉末18aと絶縁性樹脂18bの各々を含有することになる。 The magnetic body 19 thus formed contains both magnetic powder 18a and insulating resin 18b.

また、図3(b)の点線円内に示したように、この例では導体1wの側面が側方に突出した形状となるため、導体1wと磁性体19との接触面積が増大し、導体1wと磁性体19との間の密着力が向上する。 In addition, as shown in the dotted circle in FIG. 3(b), in this example, the side surface of the conductor 1w protrudes laterally, increasing the contact area between the conductor 1w and the magnetic body 19 and improving the adhesion between the conductor 1w and the magnetic body 19.

なお、この例では粉体18を高圧成型することにより磁性体19を形成したが、磁性体19の形成方法はこれに限定されない。例えば、二枚の磁性フィルムの間に金属板1を挟んでなる積層体を作製し、真空中でその積層体を100℃程度に加熱しながら0.8MPa程度の圧力で加圧することにより磁性フィルムを磁性体19にしてもよい。そのような磁性フィルムとしては、例えば、カルボニル鉄粉にバインダとして絶縁性樹脂を混練してなる磁性材料をシート状に成型してなるフィルムがある。この場合、上記のように磁性体19を形成した後、加熱温度を180℃程度とする熱処理を1時間程度行うことによりバインダを熱硬化させてもよい。 In this example, the magnetic body 19 is formed by high-pressure molding of the powder 18, but the method of forming the magnetic body 19 is not limited to this. For example, a laminate may be made by sandwiching the metal plate 1 between two magnetic films, and the laminate may be heated to about 100°C in a vacuum while being pressed at a pressure of about 0.8 MPa to turn the magnetic film into the magnetic body 19. An example of such a magnetic film is a film made by molding a magnetic material made by kneading carbonyl iron powder with an insulating resin as a binder into a sheet. In this case, after forming the magnetic body 19 as described above, the binder may be thermally cured by performing a heat treatment at a heating temperature of about 180°C for about one hour.

なお、バインダとなる絶縁性樹脂は特に限定されない。例えばエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂等の熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂を絶縁性樹脂として使用し得る。 The insulating resin to be used as the binder is not particularly limited. For example, thermosetting resins and thermoplastic resins such as epoxy resin, polyimide resin, phenolic resin, and acrylic resin can be used as the insulating resin.

更に、磁性フィルムに混練する粉末も上記のカルボニル鉄粉に限定されず、フェライトやパーマロイ等の軟磁性体の粉末を磁性フィルムに混練し得る。 Furthermore, the powder to be kneaded into the magnetic film is not limited to the carbonyl iron powder described above, and powder of a soft magnetic material such as ferrite or permalloy can be kneaded into the magnetic film.

その後に、図5(a)及び図12に示すように、下部金型15と上部金型16との間から金属板1を取り出す。なお、図12においては、図が煩雑になるのを防ぐために絶縁層9を省いてある。これについては後述の図13及び図14でも同様である。 Then, as shown in Figures 5(a) and 12, the metal plate 1 is removed from between the lower mold 15 and the upper mold 16. Note that in Figure 12, the insulating layer 9 has been omitted to avoid complicating the illustration. This also applies to Figures 13 and 14 described below.

次に、図5(b)及び図13に示すように、ブラシ研磨やブラスト処理によって磁性体19の表面19aを研磨することにより、各端子1x、1yの上から絶縁層9と磁性体19とを除去し、磁性体19の表面19aに各端子1x、1yの一部を露出させる。 Next, as shown in FIG. 5(b) and FIG. 13, the surface 19a of the magnetic body 19 is polished by brush polishing or blasting to remove the insulating layer 9 and the magnetic body 19 from above each terminal 1x, 1y, thereby exposing a portion of each terminal 1x, 1y on the surface 19a of the magnetic body 19.

このとき、本実施形態では図2(b)のように金属板1を途中の深さまでエッチングして各端子1x、1yを形成したため、導体1wの上に各端子1x、1yが突出した構造となり、各端子1x、1yを磁性体19の上面から露出させ易くすることができる。 In this embodiment, the metal plate 1 is etched halfway to form the terminals 1x and 1y as shown in FIG. 2(b), resulting in a structure in which the terminals 1x and 1y protrude above the conductor 1w, making it easier to expose the terminals 1x and 1y from the top surface of the magnetic body 19.

続いて、図6(a)に示すように、各端子1x、1yに重なる開口21a、21bを備えた第5のレジスト層21を磁性体19の表面19aに形成する。これと共に、磁性体19の裏面19bに第6のレジスト層22を形成し、第6のレジスト層22で裏面19bを覆う。 Next, as shown in FIG. 6(a), a fifth resist layer 21 having openings 21a and 21b overlapping with the terminals 1x and 1y is formed on the front surface 19a of the magnetic body 19. At the same time, a sixth resist layer 22 is formed on the back surface 19b of the magnetic body 19, and the back surface 19b is covered with the sixth resist layer 22.

そして、図6(b)に示すように、金属板1に給電を行うことにより、各開口21a、21bから露出している部分の各端子1x、1yの表面に金属めっき層23としてニッケル層とスズ層とをこの順に電解めっき法で形成する。 Then, as shown in FIG. 6(b), by supplying electricity to the metal plate 1, a nickel layer and a tin layer are formed in this order as a metal plating layer 23 on the surface of each terminal 1x, 1y in the portion exposed from each opening 21a, 21b by electrolytic plating.

これにより、第1の端子1xと金属めっき層23により第1の電極24が形成され、かつ第2の端子1yと金属めっき層23により第2の電極25が形成されることになる。 As a result, the first electrode 24 is formed by the first terminal 1x and the metal plating layer 23, and the second electrode 25 is formed by the second terminal 1y and the metal plating layer 23.

金属めっき層23の厚さは特に限定されず、例えばニッケル層を2μm程度の厚さに形成し、スズ層を5μm程度の厚さに形成し得る。 The thickness of the metal plating layer 23 is not particularly limited; for example, the nickel layer can be formed to a thickness of about 2 μm, and the tin layer can be formed to a thickness of about 5 μm.

金属めっき層23は、各端子1x、1yの酸化防止層としての機能の他に、各電極24、25におけるはんだの濡れ性を向上させる機能も有する。このような機能を有する金属めっき層23としては、ニッケル層と金層とをこの順に積層した積層膜や、銀層とスズ層とをこの順に積層した積層膜もある。 In addition to functioning as an anti-oxidation layer for each of the terminals 1x and 1y, the metal plating layer 23 also has the function of improving the wettability of the solder in each of the electrodes 24 and 25. Examples of the metal plating layer 23 having such a function include a laminated film in which a nickel layer and a gold layer are laminated in this order, and a laminated film in which a silver layer and a tin layer are laminated in this order.

その後に、図7(a)に示すように、第5のレジスト層21と第6のレジスト層22とを除去する。 Then, as shown in FIG. 7(a), the fifth resist layer 21 and the sixth resist layer 22 are removed.

そして、図7(b)及び図14に示すように、切断線Sに沿って金属板1と磁性体19とを切断し、本実施形態に係るインダクタ30の基本構造を完成させる。 Then, as shown in FIG. 7(b) and FIG. 14, the metal plate 1 and the magnetic body 19 are cut along the cutting line S to complete the basic structure of the inductor 30 according to this embodiment.

図14に示すように、磁性体19は平面視で一辺の長さが2.5mm程度の正方形状(矩形状)であって、その表面19aは相対する第1の縁部19xと第2の縁部19yとを備える。そして、第1の縁部19xに複数の第1の電極24が露出すると共に、第2の縁部19yに複数の第2の電極25が露出する。 As shown in FIG. 14, the magnetic body 19 is a square (rectangular) with a side length of about 2.5 mm in plan view, and its surface 19a has a first edge 19x and a second edge 19y that face each other. A plurality of first electrodes 24 are exposed at the first edge 19x, and a plurality of second electrodes 25 are exposed at the second edge 19y.

また、各導体1wは、金属板1よりなる導体であって、第1の縁部19xから第2の縁部19yに向けて一方向に延出するように形成される。更に、各導体1wは平面視で蛇行するように設けられており、これにより各導体1wを直線状とする場合と比較して各導体1wのインダクタンスを高めることができる。 Each conductor 1w is made of metal plate 1 and is formed to extend in one direction from the first edge 19x to the second edge 19y. Furthermore, each conductor 1w is arranged to meander in a plan view, which increases the inductance of each conductor 1w compared to when each conductor 1w is linear.

なお、磁性体19はある程度の電気伝導性を有するが、本実施形態では導体1wの表面を絶縁層9(図7(b)参照)で被覆したため、磁性体19によって各導体1wが電気的にショートするのを防止することができる。 Although the magnetic body 19 has a certain degree of electrical conductivity, in this embodiment, the surface of the conductor 1w is covered with an insulating layer 9 (see FIG. 7(b)), so that the magnetic body 19 can prevent the conductors 1w from electrically shorting out.

また、この例では、導体1wの直線部1fと第1の電極24との接続部1pが、第1の電極24に向けてテーパ状に広くなる。同様に、直線部1fと第2の電極25との接続部1qも、第2の電極25に向けてテーパ状に広くなる。そのため、不図示の回路基板にインダクタ30を実装した後にこれらの接続部1p、1qにかかる機械的な応力が緩和され、各接続部1p、1qにクラックが生じるのを防止でき、ひいてはインダクタ30の信頼性が向上する。 In addition, in this example, the connection portion 1p between the straight portion 1f of the conductor 1w and the first electrode 24 tapers toward the first electrode 24. Similarly, the connection portion 1q between the straight portion 1f and the second electrode 25 tapers toward the second electrode 25. Therefore, after the inductor 30 is mounted on a circuit board (not shown), the mechanical stress applied to these connection portions 1p, 1q is alleviated, preventing cracks from occurring in each connection portion 1p, 1q, thereby improving the reliability of the inductor 30.

図15(a)は、第1の電極24側から見たインダクタ30の側面図であり、図15(b)は、第2の電極25側から見たインダクタ30の側面図である。 Figure 15(a) is a side view of the inductor 30 as viewed from the first electrode 24 side, and Figure 15(b) is a side view of the inductor 30 as viewed from the second electrode 25 side.

図15(a)、(b)に示すように、インダクタ30の側面には、各電極24、25を形成する端子1x、1yの側面が露出する。 As shown in Figures 15(a) and (b), the side surfaces of terminals 1x and 1y that form each electrode 24 and 25 are exposed on the side surface of the inductor 30.

図16は、インダクタ30の斜視図である。 Figure 16 is a perspective view of the inductor 30.

図16に示すように、インダクタ30は表面実装に適した平板状または直方体状の外観を有しており、磁性体19に埋め込まれた複数の導体1wを有する。各々の導体1wのインダクタンスは、磁性体19の透磁率や導体1wの形状等によって調節することができる。 As shown in FIG. 16, the inductor 30 has a flat or rectangular appearance suitable for surface mounting, and has multiple conductors 1w embedded in a magnetic body 19. The inductance of each conductor 1w can be adjusted by the magnetic permeability of the magnetic body 19, the shape of the conductors 1w, etc.

本実施形態では、上記のように金属板1から各導体1wを形成し、かつ磁性体19を平板状に成型することにより、インダクタ30の厚さTを0.3mm程度にまで薄くすることができ、インダクタ30を備えた電子機器の小型化に寄与することができる。 In this embodiment, by forming each conductor 1w from the metal plate 1 as described above and molding the magnetic body 19 into a flat plate, the thickness T of the inductor 30 can be reduced to approximately 0.3 mm, which contributes to the miniaturization of electronic devices equipped with the inductor 30.

また、図14や図16の例のように、複数の導体1wの蛇行形状を一致させると、隣接する導体1wの間隔を狭めても、隣接する導体1w同士の接触を防止することができる。よって、隣接する導体1wの間隔を狭めることが可能となるため、インダクタ30の更なる小型化を図ることができる。 In addition, as in the examples of Figures 14 and 16, by making the meandering shapes of multiple conductors 1w coincident, even if the spacing between adjacent conductors 1w is narrowed, contact between adjacent conductors 1w can be prevented. This makes it possible to narrow the spacing between adjacent conductors 1w, thereby enabling further miniaturization of the inductor 30.

図17(a)、(b)は、インダクタ30の使用方法について模式的に示す平面図である。 Figures 17(a) and (b) are plan views that show a schematic diagram of how the inductor 30 can be used.

図17(a)の例では、インダクタ30が備える複数の導体1wを配線29で並列に接続する。これにより、インダクタ30の全体の抵抗を低減することができ、CPUに電源を供給する電源回路等のような大電流用途にインダクタ30を使用することができる。 In the example of FIG. 17(a), multiple conductors 1w of the inductor 30 are connected in parallel with wiring 29. This reduces the overall resistance of the inductor 30, and allows the inductor 30 to be used in high-current applications such as a power supply circuit that supplies power to a CPU.

なお、図17(b)の例のように、複数の導体1wの各々に個別に配線29を接続し、各導体1wを独立に使用してもよい。 As shown in the example of FIG. 17(b), wiring 29 may be individually connected to each of the multiple conductors 1w, and each conductor 1w may be used independently.

図18は、このインダクタ30を備えた電子装置の断面図である。 Figure 18 is a cross-sectional view of an electronic device equipped with this inductor 30.

この電子装置40は、例えばCPUに電源を供給するためのマルチフェーズDC-DCコンバータであって、インダクタ30と回路基板33とを備える。 This electronic device 40 is, for example, a multiphase DC-DC converter for supplying power to a CPU, and includes an inductor 30 and a circuit board 33.

このうち、回路基板33は、絶縁層31とその上に形成された電極パッド32とを有する。その絶縁層31の上には、電極パッド32に重なる開口部34aを備えたソルダレジスト層34が形成されており、その開口部34aにおいてインダクタ30の各電極24、25がはんだ36を介して電極パッド32と接続される。 The circuit board 33 has an insulating layer 31 and electrode pads 32 formed thereon. A solder resist layer 34 having openings 34a that overlap the electrode pads 32 is formed on the insulating layer 31, and the electrodes 24, 25 of the inductor 30 are connected to the electrode pads 32 through the openings 34a via solder 36.

このとき、本実施形態では第1の電極24の表面と側面とが磁性体19の表面に露出し、かつ第2の電極25の表面と側面も磁性体19の表面に露出している。そのため、各電極24、25の表面から各電極24、25の側面にはんだ36が這い上がり、はんだメニスカスが形成される。これにより、各電極24、25とはんだ36との接合面積が増加し、各電極24、25と電極パッド32との接合強度が増加し、ひいては電子装置40の信頼性を向上することができる。 At this time, in this embodiment, the surface and side of the first electrode 24 are exposed to the surface of the magnetic body 19, and the surface and side of the second electrode 25 are also exposed to the surface of the magnetic body 19. Therefore, the solder 36 creeps up from the surface of each electrode 24, 25 to the side of each electrode 24, 25, forming a solder meniscus. This increases the bonding area between each electrode 24, 25 and the solder 36, increases the bonding strength between each electrode 24, 25 and the electrode pad 32, and ultimately improves the reliability of the electronic device 40.

更に、本実施形態では前述のようにインダクタ30の薄型化が図られているため、電子装置40の全体も小型化することができる。 Furthermore, in this embodiment, the inductor 30 is made thinner as described above, so the entire electronic device 40 can also be made smaller.

しかも、この例のように複数の導体1wを一つの磁性体19に埋め込むことで、各導体1wを個別に回路基板33に実装する場合と比較して実装面積を低減し易くなり、電子装置40の更なる小型化も実現できる。 In addition, by embedding multiple conductors 1w in one magnetic body 19 as in this example, it becomes easier to reduce the mounting area compared to mounting each conductor 1w individually on the circuit board 33, and further miniaturization of the electronic device 40 can be achieved.

〈第1の実施形態の変形例〉
第1の実施形態の変形例では、インダクタを構成する導体の変形例を示す。なお、第1の実施形態の変形例において、既に説明した実施形態と同一構成部についての説明は省略する場合がある。
<Modification of the First Embodiment>
In the modified example of the first embodiment, a modified conductor constituting the inductor is shown. Note that in the modified example of the first embodiment, the description of the same components as those in the embodiment already described may be omitted.

図19(a)は、導体の本数を1本とした場合のインダクタの平面図である。また、図19(b)は、導体の本数を2本とした場合のインダクタの平面図である。また、図19(c)は、導体の本数を3本とした場合のインダクタの平面図である。 Figure 19(a) is a plan view of an inductor with one conductor. Also, Figure 19(b) is a plan view of an inductor with two conductors. Also, Figure 19(c) is a plan view of an inductor with three conductors.

例えば、第1の実施形態ではインダクタ30に設ける導体1wの本数を4本としたが、図19(a)~(c)の各平面図のように導体1wの本数を1本、2本、及び3本としてもよいし、5本以上の導体1wをインダクタ30に設けてもよい。 For example, in the first embodiment, the number of conductors 1w provided in the inductor 30 is four, but the number of conductors 1w may be one, two, or three, as shown in the plan views of Figures 19(a) to (c), or five or more conductors 1w may be provided in the inductor 30.

更に、第1の実施形態では各電極24、25の間で導体1wを蛇行させたが、図20(a)の平面図のように各電極24、25の間で導体1wを直線状に形成することにより、各導体1wのインダクタンスを低減してもよい。 Furthermore, in the first embodiment, the conductor 1w is made to meander between each of the electrodes 24, 25, but the inductance of each conductor 1w may be reduced by forming the conductor 1w in a straight line between each of the electrodes 24, 25 as shown in the plan view of FIG. 20(a).

また、図20(b)の平面図に示すように、蛇行している導体1wと直線状の導体1wとを一つのインダクタ30に混在させてもよい。これにより、インダクタンスが異なる複数の導体1wを備えたインダクタ30を得ることができ、インダクタ30の用途を広げることができる。 Also, as shown in the plan view of FIG. 20(b), a meandering conductor 1w and a straight conductor 1w may be mixed in one inductor 30. This makes it possible to obtain an inductor 30 having multiple conductors 1w with different inductances, thereby expanding the range of uses for the inductor 30.

更に、図21の平面図に示すように、相互に蛇行形状が異なる複数の導体1wを設けてもよい。 Furthermore, as shown in the plan view of Figure 21, multiple conductors 1w with different meandering shapes may be provided.

なお、図19~図21を参照して説明した変形例は、インダクタ30のみならず、後述のインダクタ30A、30B、30C、30D、及び30Eにも適用可能である。 The modified examples described with reference to Figures 19 to 21 can be applied not only to inductor 30, but also to inductors 30A, 30B, 30C, 30D, and 30E described below.

〈第2の実施形態〉
第2の実施形態では、第1の電極及び第2の電極の高さを第1の実施形態よりも高くする例を示す。なお、第2の実施形態において、既に説明した実施形態と同一構成部についての説明は省略する場合がある。
Second Embodiment
In the second embodiment, an example in which the heights of the first electrode and the second electrode are made higher than those in the first embodiment will be described. Note that in the second embodiment, the description of the same components as those in the already described embodiments may be omitted.

第1の電極及び第2の電極は、第1断面にのみ現れ、第2断面には現れないため、第2の実施形態では、適宜、平面図と、A-A線に沿った第1断面を示す断面図とを参照しながら、以降の説明を行う。 The first electrode and the second electrode appear only in the first cross section and not in the second cross section, so in the second embodiment, the following explanation will be given with reference to the plan view and the cross-sectional view showing the first cross section along line A-A as appropriate.

まず、図1に示す金属板1と平面形状が同じ金属板20を準備し、金属板20に対して、第1の実施形態において図2の断面図及び図8の平面図を参照して説明した工程と同様の工程を実施後、各レジスト層2、3を除去する。これにより、図22(a)の断面図に示すように、金属板20に、表面20aから突出する複数の第3の端子20x及び第4の端子20yが形成される。なお、図22(a)に対応する平面図は、図9と同様である。金属板20の材料や厚さは、例えば、金属板1と同様とすることができる。 First, a metal plate 20 having the same planar shape as the metal plate 1 shown in FIG. 1 is prepared, and the same process as that described in the first embodiment with reference to the cross-sectional view of FIG. 2 and the plan view of FIG. 8 is carried out on the metal plate 20, and then the resist layers 2 and 3 are removed. As a result, as shown in the cross-sectional view of FIG. 22(a), a plurality of third terminals 20x and fourth terminals 20y protruding from the surface 20a are formed on the metal plate 20. Note that the plan view corresponding to FIG. 22(a) is the same as FIG. 9. The material and thickness of the metal plate 20 can be the same as those of the metal plate 1, for example.

次に、図22(b)の断面図及び図23の平面図に示すように、第7のレジスト層300を金属板20の表面20aの上に形成する。具体的には、第7のレジスト層300を、第3の端子20x及び第4の端子20y、並びに金属板20の表面20aの第3の端子20x及び第4の端子20yよりも外周側の部分を被覆するように、金属板20の表面20aの上に形成する。また、第8のレジスト層310を、金属板20の裏面20bの平面視で第7のレジスト層300と重複する位置に形成する。 Next, as shown in the cross-sectional view of FIG. 22(b) and the plan view of FIG. 23, a seventh resist layer 300 is formed on the front surface 20a of the metal plate 20. Specifically, the seventh resist layer 300 is formed on the front surface 20a of the metal plate 20 so as to cover the third terminal 20x and the fourth terminal 20y, as well as the portion of the front surface 20a of the metal plate 20 that is more peripheral than the third terminal 20x and the fourth terminal 20y. In addition, an eighth resist layer 310 is formed at a position that overlaps with the seventh resist layer 300 in a plan view on the rear surface 20b of the metal plate 20.

次に、図22(c)の断面図に示すように、各レジスト層300、310をマスクにして金属板20を両面からウエットエッチングすることで金属板20をパターニングする。なお、ウエットエッチングに代えて、金型打ち抜きやレーザ加工によって金属板20をパターニングしてもよい。 Next, as shown in the cross-sectional view of FIG. 22(c), the metal plate 20 is patterned by wet etching from both sides of the metal plate 20 using the resist layers 300 and 310 as masks. Note that instead of wet etching, the metal plate 20 may be patterned by die punching or laser processing.

次に、各レジスト層300、310を除去することで、図24の平面図に示すように、素子領域Cに、枠体20dに支持された複数の第3の端子20x及び第4の端子20yが形成される。第3の端子20x及び第4の端子20yの各々は、第1の実施形態と同様に、矩形状の素子領域Cの縁に沿って間隔をおいて配される。また、第3の端子20x及び第4の端子20yは、例えば、一辺の長さW3が0.2mm程度の正方形状となる。また、例えば、枠体20dの厚さが0.1mm程度、第3の端子20x及び第4の端子20yの厚さが0.2mm程度(エッチング前の金属板20の厚さと同じ)となる。 Next, by removing each resist layer 300, 310, a plurality of third terminals 20x and fourth terminals 20y supported by the frame body 20d are formed in the element region C as shown in the plan view of FIG. 24. As in the first embodiment, each of the third terminals 20x and fourth terminals 20y is arranged at intervals along the edge of the rectangular element region C. Also, the third terminals 20x and fourth terminals 20y are, for example, square-shaped with a side length W3 of about 0.2 mm. Also, for example, the thickness of the frame body 20d is about 0.1 mm, and the thickness of the third terminals 20x and fourth terminals 20y is about 0.2 mm (the same as the thickness of the metal plate 20 before etching).

次に、図1に示す金属板1と平面形状が同じ金属板10を準備し、第1の実施形態において図2の断面図を参照して説明した工程を実行せず、図3の断面図及び図8~図11の平面図を参照して説明した工程と同様の工程を実施する。これにより、図25の平面図に示すように、素子領域Cに設けられた枠体10dによって複数の導体10wが支持された構造体が作製される。 Next, a metal plate 10 having the same planar shape as the metal plate 1 shown in FIG. 1 is prepared, and instead of carrying out the process described in the first embodiment with reference to the cross-sectional view of FIG. 2, a process similar to the process described with reference to the cross-sectional view of FIG. 3 and the plan views of FIG. 8 to FIG. 11 is carried out. As a result, a structure is produced in which multiple conductors 10w are supported by a frame body 10d provided in the element region C, as shown in the plan view of FIG. 25.

各々の導体10wは同一の延出方向Dに沿って蛇行した線状の金属板からなると共に、一方の端部に第1の端子10xを有し、かつ他方の端部に第2の端子10yを有する。更に、各導体10wには蛇行部10eと直線部10fとが設けられる。このうち、直線部10fは延出方向Dに沿って延びる。また、蛇行部10eは、平面視において直線部10fから左右に屈曲するように設けられる。なお、直線部10fを省き、蛇行部10eのみで各導体10wを形成してもよい。 Each conductor 10w is made of a linear metal plate that meanders along the same extension direction D, and has a first terminal 10x at one end and a second terminal 10y at the other end. Each conductor 10w is further provided with a meandering portion 10e and a straight portion 10f. Of these, the straight portion 10f extends along the extension direction D. The meandering portion 10e is provided so as to bend left and right from the straight portion 10f in a plan view. Note that the straight portion 10f may be omitted, and each conductor 10w may be formed only with the meandering portion 10e.

導体10wと第1の端子10xとの境界部は、例えば、導体10w側から第1の端子10x側に向けてテーパ状に広くなるように形成することができる。同様に、導体10wと第2の端子10yとの境界部は、例えば、導体10w側から第2の端子10y側に向けてテーパ状に広くなるように形成することができる。 The boundary between the conductor 10w and the first terminal 10x can be formed, for example, so that it tapers from the conductor 10w side toward the first terminal 10x side. Similarly, the boundary between the conductor 10w and the second terminal 10y can be formed, for example, so that it tapers from the conductor 10w side toward the second terminal 10y side.

各第1の端子10x及び各第2の端子10yの幅W4は特に限定されないが、例えば、幅W4を0.2mm程度とすることができる。また、各導体10wの幅W5は特に限定されないが、例えば、幅W5を0.1mm程度とすることができる。なお、第1の実施形態とは異なり、枠体10d及び複数の導体10wは薄化されていなく、第1の端子10x及び第2の端子10yと枠体10d及び複数の導体10wとは同じ厚さ(例えば、0.2mm程度)である。 The width W4 of each first terminal 10x and each second terminal 10y is not particularly limited, but for example, the width W4 can be about 0.2 mm. The width W5 of each conductor 10w is not particularly limited, but for example, the width W5 can be about 0.1 mm. Unlike the first embodiment, the frame body 10d and the multiple conductors 10w are not thinned, and the first terminal 10x and the second terminal 10y and the frame body 10d and the multiple conductors 10w have the same thickness (for example, about 0.2 mm).

次に、図26(a)の断面図に示すように、図25に示す構造体上に図24に示す構造体を積層し、両者を接合する。第3の端子20x及び第4の端子20yは、平面である導体10wの一方の面に接合された突出部となる。両者の接合には、例えば、拡散接合やはんだ付け等の方法を用いることができる。はんだに代えて導電性ペースト(例えば、銀ペースト)を用いてもよい。なお、拡散接合とは、両者を密着させ、両者の融点以下の温度条件で、塑性変形をできるだけ生じない程度に加圧して、両者の接合面間に生じる原子の拡散を利用して接合する方法である。拡散接合は、例えば、真空雰囲気で加熱及び加圧して行うことができる。 Next, as shown in the cross-sectional view of FIG. 26(a), the structure shown in FIG. 24 is stacked on the structure shown in FIG. 25, and the two are bonded together. The third terminal 20x and the fourth terminal 20y are protrusions bonded to one surface of the flat conductor 10w. For example, diffusion bonding or soldering can be used to bond the two. A conductive paste (for example, silver paste) may be used instead of solder. Diffusion bonding is a method in which the two are brought into close contact with each other, and pressure is applied to the extent that plastic deformation is minimized at a temperature condition below the melting point of both, and the two are bonded using the diffusion of atoms that occurs between the bonding surfaces of the two. Diffusion bonding can be performed, for example, by heating and pressurizing in a vacuum atmosphere.

次に、図26(b)の断面図に示すように、第1の実施形態の図4(a)と同様に、図25に示す構造体と図24に示す構造体の接合面を除く部分を絶縁層9で被覆する。具体的には、枠体10d、第1の端子10x及び第2の端子10y、導体10w、枠体20d、第3の端子20x及び第4の端子20yの露出面に、誘電率が1.8程度のエポキシ樹脂の絶縁層9を電着塗装法で10μm程度の厚さに形成する。なお、絶縁層9の材料はエポキシ樹脂に限定されず、ポリイミド樹脂等の他の絶縁性樹脂をその材料として採用してもよい。 Next, as shown in the cross-sectional view of FIG. 26(b), similar to FIG. 4(a) of the first embodiment, the structure shown in FIG. 25 and the structure shown in FIG. 24 are covered with an insulating layer 9 except for the joint surfaces. Specifically, an insulating layer 9 made of epoxy resin with a dielectric constant of about 1.8 is formed to a thickness of about 10 μm by electrochemical coating on the exposed surfaces of the frame body 10d, the first terminal 10x, the second terminal 10y, the conductor 10w, the frame body 20d, the third terminal 20x, and the fourth terminal 20y. Note that the material of the insulating layer 9 is not limited to epoxy resin, and other insulating resins such as polyimide resin may be used as the material.

次に、図26(c)の断面図に示すように、第1の実施形態の図4(b)及び図5(a)と同様に、図26(b)に示す構造体の表面側の絶縁層9及び裏面側の絶縁層9を被覆する磁性体19を形成する。磁性体19は、第1の実施形態と同様に、磁性体粉末と絶縁性樹脂の各々を含有するものである。 Next, as shown in the cross-sectional view of FIG. 26(c), similar to the first embodiment shown in FIG. 4(b) and FIG. 5(a), a magnetic body 19 is formed to cover the insulating layer 9 on the front side and the insulating layer 9 on the back side of the structure shown in FIG. 26(b). As in the first embodiment, the magnetic body 19 contains both magnetic powder and insulating resin.

次に、図27(a)の断面図に示すように、第1の実施形態の図5(b)及び図13と同様に、ブラシ研磨やブラスト処理によって磁性体19の表面19aを研磨することにより、第3の端子20x及び第4の端子20yの上から絶縁層9と磁性体19とを除去する。これにより、磁性体19の表面19aに第3の端子20x及び第4の端子20yの一部(上面)が露出する。 Next, as shown in the cross-sectional view of FIG. 27(a), similar to FIG. 5(b) and FIG. 13 of the first embodiment, the surface 19a of the magnetic body 19 is polished by brush polishing or blasting to remove the insulating layer 9 and the magnetic body 19 from above the third terminal 20x and the fourth terminal 20y. As a result, a part (upper surface) of the third terminal 20x and the fourth terminal 20y is exposed on the surface 19a of the magnetic body 19.

このとき、本実施形態では図22(a)のように金属板20を途中の深さまでエッチングして第3の端子20x及び第4の端子20yを形成している。そのため、枠体20dよりも第3の端子20x及び第4の端子20yが突出した構造となり、第3の端子20x及び第4の端子20yを磁性体19の表面19aから露出させ易くすることができる。 In this embodiment, the metal plate 20 is etched halfway to form the third terminal 20x and the fourth terminal 20y, as shown in FIG. 22(a). This results in a structure in which the third terminal 20x and the fourth terminal 20y protrude from the frame body 20d, making it easier to expose the third terminal 20x and the fourth terminal 20y from the surface 19a of the magnetic body 19.

次に、図27(b)の断面図に示すように、第1の実施形態の図6(a)~図7(a)と同様に、第3の端子20x及び第4の端子20yの上面に金属めっき層23としてニッケル層とスズ層とをこの順に電解めっき法で形成する。これにより、第1の端子10xと第3の端子20xと金属めっき層23により第1の電極24Aが形成され、かつ第2の端子10yと第4の端子20yと金属めっき層23により第2の電極25Aが形成される。 Next, as shown in the cross-sectional view of FIG. 27(b), similar to FIG. 6(a) to FIG. 7(a) of the first embodiment, a nickel layer and a tin layer are formed in this order as a metal plating layer 23 on the upper surfaces of the third terminal 20x and the fourth terminal 20y by electrolytic plating. As a result, the first electrode 24A is formed by the first terminal 10x, the third terminal 20x, and the metal plating layer 23, and the second electrode 25A is formed by the second terminal 10y, the fourth terminal 20y, and the metal plating layer 23.

金属めっき層23の厚さは特に限定されず、例えばニッケル層を2μm程度の厚さに形成し、スズ層を5μm程度の厚さに形成し得る。 The thickness of the metal plating layer 23 is not particularly limited; for example, the nickel layer can be formed to a thickness of about 2 μm, and the tin layer can be formed to a thickness of about 5 μm.

金属めっき層23は、第3の端子20x及び第4の端子20yの酸化防止層としての機能の他に、各電極24A、25Aにおけるはんだの濡れ性を向上させる機能も有する。このような機能を有する金属めっき層23としては、ニッケル層と金層とをこの順に積層した積層膜や、銀層とスズ層とをこの順に積層した積層膜もある。 In addition to functioning as an anti-oxidation layer for the third terminal 20x and the fourth terminal 20y, the metal plating layer 23 also has the function of improving the wettability of the solder in each electrode 24A, 25A. Examples of the metal plating layer 23 having such a function include a laminated film in which a nickel layer and a gold layer are laminated in this order, and a laminated film in which a silver layer and a tin layer are laminated in this order.

次に、切断線Sに沿って図27(b)に示す構造体を切断し、図27(c)の断面図に示す本実施形態に係るインダクタ30Aの基本構造を完成させる。図14や図16と同様に、インダクタ30Aは、例えば、平面視で一辺の長さが2.5mm程度の正方形状(矩形状)であって、インダクタ30Aの対向する側面の一方には第1の電極24Aの側面が露出し、他方には第2の電極25Aの側面が露出する。 Next, the structure shown in FIG. 27(b) is cut along the cutting line S to complete the basic structure of the inductor 30A according to this embodiment, which is shown in the cross-sectional view of FIG. 27(c). As in FIG. 14 and FIG. 16, the inductor 30A is, for example, a square (rectangular) shape with a side length of about 2.5 mm in a plan view, with the side of the first electrode 24A exposed on one of the opposing sides of the inductor 30A and the side of the second electrode 25A exposed on the other.

インダクタ30Aでは、インダクタ30の奏する効果に加え、以下の効果を奏する。すなわち、インダクタ30では、第1の電極24及び第2の電極25の導体10wから突出する部分の高さ(金属めっき層23を除く部分の高さ)は金属板1の厚さの半分程度(例えば、0.1mm)である。これに対して、インダクタ30Aでは、第1の電極24A及び第2の電極25Aの導体10wから突出する部分の高さH1(金属めっき層23を除く部分の高さ)は金属板20の厚さ(例えば、0.2mm)と同じとすることができる。 Inductor 30A has the following effect in addition to the effect of inductor 30. That is, in inductor 30, the height of the portion of first electrode 24 and second electrode 25 protruding from conductor 10w (height of the portion excluding metal plating layer 23) is about half the thickness of metal plate 1 (e.g., 0.1 mm). In contrast, in inductor 30A, the height H1 of the portion of first electrode 24A and second electrode 25A protruding from conductor 10w (height of the portion excluding metal plating layer 23) can be the same as the thickness of metal plate 20 (e.g., 0.2 mm).

このように、インダクタ30Aでは、インダクタ30よりも各電極の突出部の高さが高いため、その分導体10w上に位置する磁性体19を厚くすることができる。その結果、インダクタ30Aのインダクタンスをインダクタ30よりも大きくすることができる。例えば、各電極の突出部の高さが0.1mm高くなると、約20%インダクタンスを大きくすることができる。 In this way, in inductor 30A, the height of the protruding parts of each electrode is higher than in inductor 30, so the magnetic body 19 located on the conductor 10w can be made thicker. As a result, the inductance of inductor 30A can be made higher than that of inductor 30. For example, if the height of the protruding parts of each electrode is increased by 0.1 mm, the inductance can be increased by about 20%.

なお、導体10w自体の構造や寸法は導体1wと変える必要がないため、各電極の突出部の高さが高くなることによる直流抵抗の上昇はわずかである。 In addition, since the structure and dimensions of conductor 10w itself do not need to be changed from conductor 1w, the increase in DC resistance due to the increased height of the protrusions of each electrode is slight.

また、インダクタ30Aでは、各電極の突出部の高さを調整することで、導体1wの上側に設けられる磁性体19の厚さと、導体1wの下側に設けられる磁性体19の厚さの、双方の厚さを均等に厚くすることができるため、よリインダクタンスを大きくすることができる。また、インダクタ30Aのインダクタンスを調整し易くなる。また、導体1wの上下に均等に磁性体19を設けることができるため、インダクタ30Aの反りを防止できる。 In addition, in inductor 30A, by adjusting the height of the protruding parts of each electrode, the thickness of the magnetic body 19 provided on the upper side of conductor 1w and the thickness of the magnetic body 19 provided on the lower side of conductor 1w can both be made uniformly thick, thereby making it possible to increase the inductance. This also makes it easier to adjust the inductance of inductor 30A. Furthermore, since magnetic body 19 can be provided evenly above and below conductor 1w, warping of inductor 30A can be prevented.

〈第2の実施形態の変形例1〉
第2の実施形態の変形例1では、第1の端子及び第2の端子の高さを第2の実施形態よりも更に高くする例を示す。なお、第2の実施形態の変形例1において、既に説明した実施形態と同一構成部についての説明は省略する場合がある。
<Modification 1 of the second embodiment>
In the first modification of the second embodiment, an example is shown in which the heights of the first terminal and the second terminal are made even higher than those in the second embodiment. Note that in the first modification of the second embodiment, the description of the same components as those in the already described embodiment may be omitted.

まず、第1の実施形態と同様にして、図11に示す構造体を作製する。また、第2の実施形態と同様にして、図24に示す構造体を作製する。そして、図28(a)の断面図に示すように、図11に示す構造体上に図24に示す構造体を積層し、両者を接合する。両者の接合には、例えば、拡散接合やはんだ付け等の方法を用いることができる。 First, the structure shown in FIG. 11 is fabricated in the same manner as in the first embodiment. Then, the structure shown in FIG. 24 is fabricated in the same manner as in the second embodiment. Then, as shown in the cross-sectional view of FIG. 28(a), the structure shown in FIG. 24 is stacked on the structure shown in FIG. 11, and the two are bonded together. For example, methods such as diffusion bonding or soldering can be used to bond the two together.

なお、各第1の端子1x及び第2の端子1yは導体1wと連続的に一体形成されている第1突出部の一例であり、各第3の端子20x及び第4の端子20yは第1突出部上に接合された導電性の第2突出部の一例である。ここで、連続的に一体形成されているとは、ウエットエッチング、金型打ち抜き、レーザ加工等によって金属材料をパターニングしたものであり、2つ以上の導体を接合した構造ではないことを意味する。 Note that each of the first terminals 1x and second terminals 1y is an example of a first protrusion that is continuously and integrally formed with the conductor 1w, and each of the third terminals 20x and fourth terminals 20y is an example of a conductive second protrusion that is joined onto the first protrusion. Here, "continuously and integrally formed" means that the metal material is patterned by wet etching, die punching, laser processing, etc., and is not a structure in which two or more conductors are joined.

次に、第2の実施形態の図26(b)~図27(c)の断面図を参照して説明した工程と同様の工程を実施し、図28(b)の断面図に示す本実施形態に係るインダクタ30Bの基本構造を完成させる。第1の端子1xと第3の端子20xと金属めっき層23により第1の電極24Bが形成され、かつ第2の端子1yと第4の端子20yと金属めっき層23により第2の電極25Bが形成される。 Next, steps similar to those described with reference to the cross-sectional views of Figures 26(b) to 27(c) of the second embodiment are carried out to complete the basic structure of the inductor 30B according to this embodiment shown in the cross-sectional view of Figure 28(b). The first terminal 1x, the third terminal 20x, and the metal plating layer 23 form a first electrode 24B, and the second terminal 1y, the fourth terminal 20y, and the metal plating layer 23 form a second electrode 25B.

図14や図16と同様に、インダクタ30Bは、例えば、平面視で一辺の長さが2.5mm程度の正方形状(矩形状)であって、インダクタ30Bの対向する側面の一方には第1の電極24Bの側面が露出し、他方には第2の電極25Bの側面が露出する。 Similar to Figures 14 and 16, the inductor 30B is, for example, a square (rectangular) shape with a side length of about 2.5 mm in a plan view, and the side of the first electrode 24B is exposed on one of the opposing sides of the inductor 30B, and the side of the second electrode 25B is exposed on the other.

インダクタ30Bでは、インダクタ30Aの奏する効果に加え、以下の効果を奏する。すなわち、インダクタ30A(図27(c)参照)では、第1の電極24A及び第2の電極25Aの導体10wから突出する部分の高さH1(金属めっき層23を除く部分の高さ)は金属板20の厚さ(例えば、0.2mm)と同程度である。これに対して、インダクタ30Bでは、第1の電極24B及び第2の電極25Bの導体1wから突出する部分の高さH2(金属めっき層23を除く部分の高さ)は金属板1の厚さの半分程度+金属板20の厚さ(例えば、H2=0.3mm程度)とすることができる。 In inductor 30B, in addition to the effects of inductor 30A, the following effects are achieved. That is, in inductor 30A (see FIG. 27(c)), the height H1 (height of the part excluding the metal plating layer 23) of the part of first electrode 24A and second electrode 25A protruding from conductor 10w is approximately the same as the thickness of metal plate 20 (e.g., 0.2 mm). In contrast, in inductor 30B, the height H2 (height of the part excluding the metal plating layer 23) of the part of first electrode 24B and second electrode 25B protruding from conductor 1w can be approximately half the thickness of metal plate 1 plus the thickness of metal plate 20 (e.g., H2 = approximately 0.3 mm).

このように、インダクタ30Bでは、インダクタ30Aよりも各電極の突出部の高さが更に高いため、その分導体1w上に位置する磁性体19を厚くすることができる。その結果、インダクタ30Bのインダクタンスをインダクタ30Aよりも更に大きくすることができる。 In this way, in inductor 30B, the height of the protruding parts of each electrode is higher than in inductor 30A, so the magnetic body 19 located on the conductor 1w can be made thicker. As a result, the inductance of inductor 30B can be made even greater than that of inductor 30A.

〈第2の実施形態の変形例2〉
第2の実施形態の変形例2では、第1の電極及び第2の電極が磁性体の表面から突出する突出部を有する例を示す。なお、第2の実施形態の変形例2において、既に説明した実施形態と同一構成部についての説明は省略する場合がある。
<Modification 2 of the second embodiment>
In the second modification of the second embodiment, an example is shown in which the first electrode and the second electrode have protruding portions protruding from the surface of the magnetic body. Note that in the second modification of the second embodiment, the description of the same components as those in the embodiment already described may be omitted.

まず、第2の実施形態と同様にして、図26(b)に示す構造体を作製する。この際、第2の実施形態よりも金属板20の厚さを厚くしてもよい。これにより、複数の第3の端子20x及び第4の端子20yにおいて、導体10wの表面からの突出量を増やすことができる。 First, the structure shown in FIG. 26(b) is fabricated in the same manner as in the second embodiment. In this case, the thickness of the metal plate 20 may be made thicker than in the second embodiment. This allows the protrusion amount from the surface of the conductor 10w to be increased in the multiple third terminals 20x and the fourth terminals 20y.

次に、図29(a)の断面図に示すように、ホットプレス機の下部金型15と上部金型16との間に図26(b)に示す構造体を配置する。そして、第1の実施形態の図4(b)と同様にして、図26(b)に示す構造体の表面側及び裏面側に磁性体19を形成し、下部金型15と上部金型16との間から取り出す。 Next, as shown in the cross-sectional view of FIG. 29(a), the structure shown in FIG. 26(b) is placed between the lower die 15 and upper die 16 of the hot press machine. Then, in the same manner as in FIG. 4(b) of the first embodiment, magnetic bodies 19 are formed on the front and back sides of the structure shown in FIG. 26(b), and the structure is removed from between the lower die 15 and upper die 16.

本実施形態では、上部金型16に第3の端子20x及び第4の端子20yの先端側が挿入される凹部16xが形成されている。そのため、下部金型15と上部金型16との間から取り出した構造体において、第3の端子20x及び第4の端子20yの先端側が磁性体19の表面19aから突出する。この時点では、第3の端子20x及び第4の端子20yの先端側の磁性体19の表面19aから突出する部分は、絶縁層9に被覆されている。 In this embodiment, the upper mold 16 is formed with recesses 16x into which the tip sides of the third terminal 20x and the fourth terminal 20y are inserted. Therefore, in the structure removed from between the lower mold 15 and the upper mold 16, the tip sides of the third terminal 20x and the fourth terminal 20y protrude from the surface 19a of the magnetic body 19. At this point, the parts of the third terminal 20x and the fourth terminal 20y protruding from the surface 19a of the magnetic body 19 on the tip side are covered with the insulating layer 9.

次に、図29(b)の断面図に示すように、ブラシ研磨やブラスト処理によって、第3の端子20x及び第4の端子20yの先端側の磁性体19の表面19aから突出する部分を被覆する絶縁層9の表面を研磨して除去する。これにより、磁性体19の表面19aから突出する第3の端子20x及び第4の端子20yの先端側が、絶縁層9から露出する。 29(b), the surface of the insulating layer 9 that covers the portions of the third terminal 20x and the fourth terminal 20y that protrude from the surface 19a of the magnetic body 19 on the tip side is polished and removed by brush polishing or blasting. As a result, the tip sides of the third terminal 20x and the fourth terminal 20y that protrude from the surface 19a of the magnetic body 19 are exposed from the insulating layer 9.

次に、磁性体19の表面19aから突出する第3の端子20x及び第4の端子20yの表面(側面の一部及び上面)に、第1の実施形態の図6(a)~図7(a)と同様に、金属めっき層23を形成し、その後個片化する。これにより、図29(c)の断面図に示す本実施形態に係るインダクタ30Cの基本構造を完成させる。第1の端子10xと第3の端子20xと金属めっき層23により第1の電極24Cが形成され、かつ第2の端子10yと第4の端子20yと金属めっき層23により第2の電極25Cが形成される。 Next, a metal plating layer 23 is formed on the surfaces (part of the side surface and the top surface) of the third terminal 20x and the fourth terminal 20y protruding from the surface 19a of the magnetic body 19 in the same manner as in FIGS. 6(a) to 7(a) of the first embodiment, and then the inductor 30C according to this embodiment is completed as shown in the cross-sectional view of FIG. 29(c). The first terminal 10x, the third terminal 20x, and the metal plating layer 23 form a first electrode 24C, and the second terminal 10y, the fourth terminal 20y, and the metal plating layer 23 form a second electrode 25C.

図14や図16と同様に、インダクタ30Cは、例えば、平面視で一辺の長さが2.5mm程度の正方形状(矩形状)であって、インダクタ30Cの対向する側面の一方には第1の電極24Cの側面が露出し、他方には第2の電極25Cの側面が露出する。また、第1の電極24Cの金属めっき層23及び第2の電極25Cの金属めっき層23が、インダクタ30Cの外部に露出する。金属めっき層23は、インダクタ30Cの側面に露出する部分を除いて、第3の端子20x及び第4の端子20yの磁性体19から露出する上面及び側面に形成される。 As in Figures 14 and 16, the inductor 30C is, for example, a square (rectangular) shape with a side length of about 2.5 mm in a plan view, and the side of the first electrode 24C is exposed on one of the opposing sides of the inductor 30C, and the side of the second electrode 25C is exposed on the other. In addition, the metal plating layer 23 of the first electrode 24C and the metal plating layer 23 of the second electrode 25C are exposed to the outside of the inductor 30C. The metal plating layer 23 is formed on the upper surfaces and side surfaces of the third terminal 20x and the fourth terminal 20y that are exposed from the magnetic body 19, except for the portions exposed on the side surfaces of the inductor 30C.

なお、以上の工程において、図26(b)に示す構造体に代えて図28(a)に示す構造体を用いることで、図30に示すインダクタ30Dを形成することも可能である。第1の端子1xと第3の端子20xと金属めっき層23により第1の電極24Dが形成され、かつ第2の端子1yと第4の端子20yと金属めっき層23により第2の電極25Dが形成される。 In the above steps, it is also possible to form the inductor 30D shown in FIG. 30 by using the structure shown in FIG. 28(a) instead of the structure shown in FIG. 26(b). The first terminal 1x, the third terminal 20x, and the metal plating layer 23 form a first electrode 24D, and the second terminal 1y, the fourth terminal 20y, and the metal plating layer 23 form a second electrode 25D.

図14や図16と同様に、インダクタ30Dは、例えば、平面視で一辺の長さが2.5mm程度の正方形状(矩形状)であって、インダクタ30Dの対向する側面の一方には第1の電極24Dの側面が露出し、他方には第2の電極25Dの側面が露出する。また、第1の電極24Dの金属めっき層23及び第2の電極25Dの金属めっき層23が、インダクタ30Dの外部に露出する。金属めっき層23は、インダクタ30Dの側面に露出する部分を除いて、第3の端子20x及び第4の端子20yの磁性体19から露出する上面及び側面に形成される。 As in Figures 14 and 16, the inductor 30D is, for example, a square (rectangular) shape with a side length of about 2.5 mm in a plan view, and the side of the first electrode 24D is exposed on one of the opposing sides of the inductor 30D, and the side of the second electrode 25D is exposed on the other. In addition, the metal plating layer 23 of the first electrode 24D and the metal plating layer 23 of the second electrode 25D are exposed to the outside of the inductor 30D. The metal plating layer 23 is formed on the upper surfaces and side surfaces of the third terminal 20x and the fourth terminal 20y that are exposed from the magnetic body 19, except for the portions exposed on the side surfaces of the inductor 30D.

インダクタ30Dでは、インダクタ30Cよりも各電極の突出部の高さが高いため、その分導体10w上に位置する磁性体19を厚くすることができる。その結果、インダクタ30Dのインダクタンスをインダクタ30Cよりも大きくすることができる。 In inductor 30D, the height of the protruding parts of each electrode is higher than in inductor 30C, so the magnetic body 19 located on the conductor 10w can be made thicker. As a result, the inductance of inductor 30D can be made larger than that of inductor 30C.

また、図31に示すように、別部品を接合することで、第1の電極及び第2の電極を磁性体の表面から突出させてもよい。 Also, as shown in FIG. 31, the first electrode and the second electrode may be made to protrude from the surface of the magnetic body by joining separate parts.

図31は、第2の実施形態の変形例2に係るインダクタを例示する図であり、図31(a)は第1断面を示す断面図、図31(b)は斜視図である。 Figure 31 illustrates an inductor according to the second modification of the second embodiment, where Figure 31(a) is a cross-sectional view showing the first cross section, and Figure 31(b) is a perspective view.

図31に示すインダクタ30Eは、例えば、図11示す構造体の導体1wから突出する突出部である第1の端子1x上及び第2の端子1y上に、金属ポスト28を接合し、金属ポスト28の端面に金属めっき層23を形成したものである。金属ポスト28は、導体1wの表面からの突出量を増加させる導電性の嵩上げ部であり、例えば、銅や銅合金を用いて形成することができる。第1の端子1x及び第2の端子1yと金属ポスト28との接合には、例えば、拡散接合やはんだ付け等の方法を用いることができる。はんだに代えて導電性ペースト(例えば、銀ペースト)を用いてもよい。金属ポスト28は、例えば円柱であるが角柱等であってもよい。金属ポスト28の高さは、必要に応じて任意の値に設定することができる。なお、金属ポスト28は、図27(c)や図28(b)に示す第3の端子20x及び第4の端子20y上に接合してもよい。 The inductor 30E shown in FIG. 31 is, for example, a structure in which a metal post 28 is bonded to the first terminal 1x and the second terminal 1y, which are protruding parts protruding from the conductor 1w of the structure shown in FIG. 11, and a metal plating layer 23 is formed on the end surface of the metal post 28. The metal post 28 is a conductive raised part that increases the amount of protrusion from the surface of the conductor 1w, and can be formed using, for example, copper or a copper alloy. For example, a method such as diffusion bonding or soldering can be used to bond the first terminal 1x and the second terminal 1y to the metal post 28. A conductive paste (for example, silver paste) may be used instead of solder. The metal post 28 is, for example, a cylinder, but may also be a square pillar. The height of the metal post 28 can be set to any value as necessary. The metal post 28 may be bonded to the third terminal 20x and the fourth terminal 20y shown in FIG. 27(c) or FIG. 28(b).

インダクタ30C、30D、及び30Eのように、第1の電極及び第2の電極を磁性体の表面から突出させることで、インダクタ30C、30D、または30Eを配線基板に実装した際にできる空間に、半導体チップや受動部品を配置することができる。受動部品としては、例えば、抵抗やコンデンサ等が挙げられる。 By having the first electrode and the second electrode protrude from the surface of the magnetic body, as in inductors 30C, 30D, and 30E, a semiconductor chip or passive components can be placed in the space that is created when inductor 30C, 30D, or 30E is mounted on a wiring board. Examples of passive components include resistors and capacitors.

例えば、図32に示す電子装置50では、回路基板51上にインダクタ30Eが実装されている。インダクタ30Eの第1の電極24E及び第2の電極25Eの金属めっき層23は、はんだ等により回路基板51に形成された電極パッド52と電気的に接続されている。回路基板51上にインダクタ30Eを実装することで生じた回路基板51上の空間には、半導体チップ53がフリップチップ実装等により実装され、モールド樹脂54により封止されている。回路基板51上の空間に、半導体チップ53に代えて、或いは半導体チップ53に加えて、コンデンサ等の能動部品が実装されてもよい。 For example, in the electronic device 50 shown in FIG. 32, an inductor 30E is mounted on a circuit board 51. The metal plating layers 23 of the first electrode 24E and the second electrode 25E of the inductor 30E are electrically connected to electrode pads 52 formed on the circuit board 51 by solder or the like. In the space on the circuit board 51 created by mounting the inductor 30E on the circuit board 51, a semiconductor chip 53 is mounted by flip-chip mounting or the like and sealed with molded resin 54. Instead of or in addition to the semiconductor chip 53, an active component such as a capacitor may be mounted in the space on the circuit board 51.

このように、第1の電極及び第2の電極を磁性体の表面から突出させたインダクタンスを配線基板に実装した際にできる空間に、半導体チップや受動部品を配置することで、配線基板を小面積化することができる。また、第1の電極及び第2の電極が長いため、インダクタンスで発生した熱を第1の電極及び第2の電極を介して効率的に放熱することができる。 In this way, by arranging a semiconductor chip or passive components in the space created when an inductance with a first electrode and a second electrode protruding from the surface of a magnetic body is mounted on a wiring board, the area of the wiring board can be reduced. In addition, because the first electrode and the second electrode are long, heat generated by the inductance can be efficiently dissipated via the first electrode and the second electrode.

以上、好ましい実施形態等について詳説したが、上述した実施形態等に制限されることはなく、特許請求の範囲に記載された範囲を逸脱することなく、上述した実施形態等に種々の変形及び置換を加えることができる。 Although the preferred embodiments have been described above in detail, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications and substitutions can be made to the above-described embodiments without departing from the scope of the claims.

1、10、20…金属板、1a、20a…表面、1b、20b…裏面、1d、10d、20d…枠体、1e、10e…蛇行部、1f、10f…直線部、1x、10x…第1の端子、1y、10y…第2の端子、1w、10w…導体、1p、1q…接続部、2…第1のレジスト層、3…第2のレジスト層、6…第3のレジスト層、7…第4のレジスト層、9…絶縁層、15…下部金型、16…上部金型、18…粉体、18a…磁性体粉末、18b…絶縁性樹脂、19…磁性体、19a…表面、19x…第1の縁部、19y…第2の縁部、20x…第3の端子、20y…第4の端子、21…第5のレジスト層、22…第6のレジスト層、23…金属めっき層、24、24A、24B、24C、24D、24E…第1の電極、25、25A、25B、25C、25D、25E…第2の電極、28…金属ポスト、29…配線、30、30A、30B、30C、30D、30E…インダクタ、31…絶縁層、32、52…電極パッド、33、51…回路基板、34…ソルダレジスト層、34a…開口部、40、50…電子装置、53…半導体チップ、54…モールド樹脂 1, 10, 20...metal plate, 1a, 20a...surface, 1b, 20b...back, 1d, 10d, 20d...frame, 1e, 10e...serpentine portion, 1f, 10f...straight portion, 1x, 10x...first terminal, 1y, 10y...second terminal, 1w, 10w...conductor, 1p, 1q...connection portion, 2...first resist layer, 3...second resist layer, 6...third resist layer, 7...fourth resist layer, 9...insulating layer, 15...lower mold, 16...upper mold, 18...powder, 18a...magnetic powder, 18b...insulating resin, 19...magnetic material, 19a...surface, 19x...first edge portion, 19y...second edge part, 20x...third terminal, 20y...fourth terminal, 21...fifth resist layer, 22...sixth resist layer, 23...metal plating layer, 24, 24A, 24B, 24C, 24D, 24E...first electrode, 25, 25A, 25B, 25C, 25D, 25E...second electrode, 28...metal post, 29...wiring, 30, 30A, 30B, 30C, 30D, 30E...inductor, 31...insulating layer, 32, 52...electrode pad, 33, 51...circuit board, 34...solder resist layer, 34a...opening, 40, 50...electronic device, 53...semiconductor chip, 54...molding resin

Claims (15)

磁性体粉末と絶縁性樹脂とを含有する磁性体と、
表面が絶縁層で被覆され、前記磁性体に埋め込まれた複数の線状の導体と、
各々の前記導体の一方の端部に設けられ、一部が前記磁性体の表面から露出した第1の電極と、
各々の前記導体の他方の端部に設けられ、一部が前記磁性体の表面から露出した第2の電極と、
を有し、
前記導体は、上面、下面、及び前記上面と前記下面とを接続する側面を備え、前記導体の延出方向に対して垂直な方向かつ前記導体の厚さ方向に切断した断面において、前記側面の前記厚さ方向の中央部が前記上面及び前記下面よりも側方に突出する形状であるインダクタ。
A magnetic material containing magnetic powder and an insulating resin;
A plurality of linear conductors, the surface of which is covered with an insulating layer and embedded in the magnetic body;
a first electrode provided at one end of each of the conductors and partly exposed from a surface of the magnetic body;
a second electrode provided at the other end of each of the conductors and partially exposed from the surface of the magnetic body;
having
The conductor has an upper surface, a lower surface, and a side surface connecting the upper surface and the lower surface, and in a cross section cut in a direction perpendicular to the extension direction of the conductor and in the thickness direction of the conductor, the central portion of the side surface in the thickness direction protrudes laterally beyond the upper surface and the lower surface .
前記導体は、平面視で蛇行していることを特徴とする請求項に記載のインダクタ。 The inductor according to claim 1 , wherein the conductor is meandering in a plan view. 前記導体は、平面視で直線状であることを特徴とする請求項に記載のインダクタ。 The inductor according to claim 1 , wherein the conductor is linear in a plan view. 前記導体が金属板からなることを特徴とする請求項1乃至請求項のいずれかに記載のインダクタ。 4. The inductor according to claim 1, wherein the conductor is made of a metal plate. 前記第1の電極及び前記第2の電極は、前記導体の表面から突出する導電性の突出部を有することを特徴とする請求項1乃至請求項のいずれかに記載のインダクタ。 5. The inductor according to claim 1, wherein the first electrode and the second electrode have conductive protrusions protruding from a surface of the conductor. 前記突出部は、前記導体と連続的に一体形成されていることを特徴とする請求項に記載のインダクタ。 The inductor according to claim 5 , wherein the protrusion is integrally formed continuously with the conductor. 前記導体の一方の面は平面であり、
前記突出部は、前記導体の一方の面に接合された他の導体であることを特徴とする請求項に記載のインダクタ。
One surface of the conductor is flat,
6. The inductor according to claim 5 , wherein the protrusion is another conductor joined to one surface of the conductor.
前記突出部は、前記導体と連続的に一体形成されている第1突出部と、前記第1突出部上に接合された導電性の第2突出部と、を含むことを特徴とする請求項に記載のインダクタ。 6. The inductor according to claim 5, wherein the protrusion includes a first protrusion integrally formed with the conductor and a conductive second protrusion joined onto the first protrusion. 前記突出部は、前記磁性体の表面から突出していることを特徴とする請求項乃至請求項のいずれかに記載のインダクタ。 9. The inductor according to claim 5 , wherein the protrusion protrudes from a surface of the magnetic body. 前記突出部上に、前記導体の表面からの突出量を増加させる導電性の嵩上げ部が接合されたことを特徴とする請求項乃至請求項のいずれかに記載のインダクタ。 10. The inductor according to claim 5, wherein a conductive raised portion is joined onto the protruding portion, the raised portion increasing the amount of protrusion from the surface of the conductor. 一方の端部に第1の電極を備え、かつ他方の端部に第2の電極を備えた複数の線状の導体を形成する工程と、
各々の前記導体の表面に絶縁層を形成する工程と、
磁性体粉末と絶縁性樹脂とを含有する磁性体に、表面に前記絶縁層が形成された各々の前記導体を埋め込む工程と、
各々の前記導体において、前記第1の電極と前記第2の電極の各々の一部を前記磁性体の表面から露出させる工程と、
を有し、
前記導体を形成する工程は、金属板を両面からエッチングすることでパターニングし、前記導体とする工程を有し、
エッチング後の前記導体は、上面、下面、及び前記上面と前記下面とを接続する側面を備え、前記導体の延出方向に対して垂直な方向かつ前記導体の厚さ方向に切断した断面において、前記側面の前記厚さ方向の中央部が前記上面及び前記下面よりも側方に突出する形状となるインダクタの製造方法。
forming a plurality of linear conductors each having a first electrode at one end and a second electrode at the other end;
forming an insulating layer on a surface of each of the conductors;
a step of embedding each of the conductors, the insulating layer being formed on a surface thereof, in a magnetic body containing magnetic powder and an insulating resin;
exposing a portion of each of the first electrode and the second electrode from a surface of the magnetic body in each of the conductors;
having
The step of forming the conductor includes a step of patterning a metal plate by etching from both sides to form the conductor;
A method for manufacturing an inductor, in which the conductor after etching has an upper surface, a lower surface, and a side surface connecting the upper surface and the lower surface, and in a cross section cut in a direction perpendicular to the extension direction of the conductor and in the thickness direction of the conductor, the central portion of the side surface in the thickness direction protrudes laterally beyond the upper surface and the lower surface .
前記導体を形成する工程は、金属板を両面からエッチングすることでパターニングし、前記導体とする工程を有し、
エッチング後の前記導体は、側面の中央部が側方に突出する形状となることを特徴とする請求項11に記載のインダクタの製造方法。
The step of forming the conductor includes a step of patterning a metal plate by etching from both sides to form the conductor;
12. The method for manufacturing an inductor according to claim 11 , wherein the conductor after etching has a shape in which a central portion of a side surface protrudes laterally.
前記導体を形成する工程は、金属板をパターニングして前記導体とする工程を有することを特徴とする請求項11又は請求項12に記載のインダクタの製造方法。 13. The method for manufacturing an inductor according to claim 11 , wherein the step of forming the conductor comprises a step of patterning a metal plate to form the conductor. 前記導体を形成する工程は、
前記金属板をパターニングする工程の前に、前記第1の電極と前記第2の電極の各々に相当する部分の前記金属板を除いて、前記金属板を薄くする工程を更に有することを特徴とする請求項13に記載のインダクタの製造方法。
The step of forming a conductor includes:
14. The method for manufacturing an inductor according to claim 13, further comprising a step of thinning the metal plate except for portions of the metal plate corresponding to the first electrode and the second electrode , prior to the step of patterning the metal plate.
前記第1の電極上に他の導体を接合すると共に、前記第2の電極上に他の導体を接合する工程を更に有することを特徴とする請求項11乃至請求項14のいずれかに記載のインダクタの製造方法。 15. The method for manufacturing an inductor according to claim 11 , further comprising the step of bonding another conductor onto the first electrode and bonding another conductor onto the second electrode.
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