JP7308378B1 - 樹脂組成物 - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 87
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 96
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 claims abstract description 95
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 95
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 73
- 229920006038 crystalline resin Polymers 0.000 claims abstract description 63
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims abstract description 45
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 53
- -1 aromatic hydroxycarboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 40
- 229920006149 polyester-amide block copolymer Polymers 0.000 claims description 32
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 29
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 28
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 9
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 7
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 5
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N decyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 claims description 4
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 claims 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 56
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 42
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 description 27
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 27
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 15
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 15
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 13
- KAUQJMHLAFIZDU-UHFFFAOYSA-N 6-Hydroxy-2-naphthoic acid Chemical compound C1=C(O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 KAUQJMHLAFIZDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 11
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 10
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 10
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M potassium acetate Chemical compound [K+].CC([O-])=O SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 5
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 235000011056 potassium acetate Nutrition 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 4
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 3
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 3
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 3
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010456 wollastonite Substances 0.000 description 3
- 229910052882 wollastonite Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 2
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000209094 Oryza Species 0.000 description 2
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MNZMMCVIXORAQL-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-diol Chemical compound C1=C(O)C=CC2=CC(O)=CC=C21 MNZMMCVIXORAQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002030 1,2-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:1])=C([*:2])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001989 1,3-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:1])=C([H])C([*:2])=C1[H] 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1H-imidazole Chemical compound CN1C=CN=C1 MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carboxyphenyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004762 CaSiO Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCKWAZCWKSMKNC-UHFFFAOYSA-N [3-octadecanoyloxy-2,2-bis(octadecanoyloxymethyl)propyl] octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)(COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC OCKWAZCWKSMKNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- RHCQEPWEBDOALW-MUCWUPSWSA-K cobalt(3+);(e)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound [Co+3].C\C([O-])=C/C(C)=O.C\C([O-])=C/C(C)=O.C\C([O-])=C/C(C)=O RHCQEPWEBDOALW-MUCWUPSWSA-K 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000003484 crystal nucleating agent Substances 0.000 description 1
- PNOXNTGLSKTMQO-UHFFFAOYSA-L diacetyloxytin Chemical compound CC(=O)O[Sn]OC(C)=O PNOXNTGLSKTMQO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910001651 emery Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000012765 fibrous filler Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)OC CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 1
- 229940046892 lead acetate Drugs 0.000 description 1
- UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L magnesium acetate Chemical compound [Mg+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011654 magnesium acetate Substances 0.000 description 1
- 229940069446 magnesium acetate Drugs 0.000 description 1
- 235000011285 magnesium acetate Nutrition 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-diol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=C(O)C2=C1 PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003493 octyltriethoxysilane Drugs 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000000711 polarimetry Methods 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000012763 reinforcing filler Substances 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004513 sizing Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005650 substituted phenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 239000012209 synthetic fiber Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFKCWAROGHMSTC-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(6-trimethoxysilylhexyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCC[Si](OC)(OC)OC GFKCWAROGHMSTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
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- C08G69/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
- C08G69/44—Polyester-amides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
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-
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Abstract
Description
特許文献1には、耐熱性及び機械的強度に優れ、そり変形が抑制されたコネクターの製造を実現できる樹脂組成物として、液晶性樹脂と所定のアスペクト比を有する繊維状ウォラストナイトとマイカとを所定量で含む液晶性樹脂組成物が提案されている。特許文献2には、ブリスター(成形品表面の細かい膨れ)発生が抑制された液晶性樹脂組成物として、液晶性樹脂、ウィスカー及び板状充填剤を含有し所定のスウェル比を有する液晶性樹脂組成物が提案されている。
[1](A)液晶性樹脂及び(B)ケイ酸カルシウムウィスカーを含有し、
(B)ケイ酸カルシウムウィスカーは、シランカップリング剤で表面処理されたケイ酸カルシウムウィスカーを含み、
(B)ケイ酸カルシウムウィスカーの疎水化度が、5~100であり、
(B)ケイ酸カルシウムウィスカーの含有量が、(A)液晶性樹脂100質量部に対して、5~85質量部である、樹脂組成物。
[2](B)ケイ酸カルシウムウィスカーの平均繊維径が、1~15μmである、[1]に記載の樹脂組成物。
[3](B)ケイ酸カルシウムウィスカーの平均繊維長が、10~200μmである[1]又は[2]に記載の樹脂組成物。
[4]前記シランカップリング剤の含有量が、(B)ケイ酸カルシウムウィスカーに対して、0.1~1.0質量%である、[1]から[3]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[5]前記シランカップリング剤が、1分子中のアミノ基の数が1以下である、[1]から[4]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[6](A)液晶性樹脂は、少なくとも芳香族ヒドロキシカルボン酸及びその誘導体から選ばれる1以上に由来する構成単位を構成成分として有する、芳香族ポリエステル又は芳香族ポリエステルアミドである、[1]から[5]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[7](A)液晶性樹脂は、少なくとも芳香族ヒドロキシカルボン酸及びその誘導体から選ばれる1以上に由来する構成単位を構成成分として有する、芳香族ポリエステルアミドである、[1]から[6]のいずれかに記載の樹脂組成物。
樹脂組成物は、(A)液晶性樹脂及び(B)ケイ酸カルシウムウィスカーを含有する。
<(A)液晶性樹脂>
「液晶性」とは、光学異方性溶融相を形成し得る性質を有することをいう。異方性溶融相の性質は、直交偏光子を利用した慣用の偏光検査法により確認することができる。より具体的には、異方性溶融相の確認は、Leitz偏光顕微鏡を使用し、Leitzホットステージに載せた溶融試料を窒素雰囲気下で40倍の倍率で観察することにより実施できる。液晶性を有する樹脂は、直交偏光子の間で検査したときに、たとえ溶融静止状態であっても偏光は通常透過し、光学的に異方性を示す。
(1)主として芳香族ヒドロキシカルボン酸及びその誘導体の1種又は2種以上からなるポリエステル;
(2)主として(a)芳香族ヒドロキシカルボン酸及びその誘導体の1種又は2種以上と、(b)芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸、及びそれらの誘導体の1種又は2種以上とからなるポリエステル;
(3)主として(a)芳香族ヒドロキシカルボン酸及びその誘導体の1種又は2種以上と、(b)芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸、及びそれらの誘導体の1種又は2種以上と、(c)芳香族ジオール、脂環族ジオール、脂肪族ジオール、及びそれらの誘導体の1種又は2種以上、とからなるポリエステル;
(4)主として(a)芳香族ヒドロキシカルボン酸及びその誘導体の1種又は2種以上と、(b)芳香族ヒドロキシアミン、芳香族ジアミン、及びそれらの誘導体の1種又は2種以上と、(c)芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸、及びそれらの誘導体の1種又は2種以上、とからなるポリエステルアミド;
(5)主として(a)芳香族ヒドロキシカルボン酸及びその誘導体の1種又は2種以上と、(b)芳香族ヒドロキシアミン、芳香族ジアミン、及びそれらの誘導体の1種又は2種以上と、(c)芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸、及びそれらの誘導体の1種又は2種以上と、(d)芳香族ジオール、脂環族ジオール、脂肪族ジオール、及びそれらの誘導体の1種又は2種以上、とからなるポリエステルアミド等、を挙げることができる。さらに上記の構成成分に必要に応じ分子量調整剤を併用してもよい。
上記液晶性樹脂は、2種以上の液晶性樹脂の混合物であってもよい。
一実施形態において、液晶性樹脂は、芳香族ヒドロキシカルボン酸及びその誘導体から選ばれる1以上に由来する構成単位を構成成分として有する芳香族ポリエステルアミドとすることができる。
構成単位(III)及び(IV)におけるAr1、Ar2はそれぞれ独立に2価の芳香族基を表す。2価の芳香族基としては、例えば、p-フェニレン基、m-フェニレン基、o-フェニレン基、置換フェニレン基、ビフェニル-4,4’-ジイル基、ビフェニル-3,3’-ジイル、ビフェニル-3,4’-ジイル、ナフタレン-2,6-ジイル基、ナフタレン-2,7-ジイル基、ナフタレン-1,6-ジイル基、ナフタレン1,4-ジイル等が挙げられる。
構成単位(III)は、1,4-フェニレンジカルボン酸、1,3-フェニレンジカルボン酸、及び2,6-ナフタレンジカルボン酸から選択される1以上から誘導されることが好ましく、1,4-フェニレンジカルボン酸(TA)から誘導されることがより好ましい。構成単位(IV)は、4,4’-ジヒドロキシビフェニル、1,4-ジヒドロキシベンゼン、及び2,6-ジヒドロキシナフタレンから選択される1以上から誘導されることが好ましく、4,4’-ジヒドロキシビフェニル(BP)から誘導されることがより好ましい。構成単位(V)は、N-アセチル-p-アミノフェノール(以下、「APAP」ともいう。)から誘導される。
一実施形態において、液晶性樹脂は、芳香族ヒドロキシカルボン酸及びその誘導体から選ばれる1以上に由来する構成単位を構成成分として有する芳香族ポリエステルとすることができる。
(i)4-ヒドロキシ安息香酸(HBA)、6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸(HNA)、1,4-フェニレンジカルボン酸(TA)、及び4,4’-ジヒドロキシビフェニル(BP)
(ii)4-ヒドロキシ安息香酸(HBA)、6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸(HNA)、1,4-フェニレンジカルボン酸(TA)及び/又は1,3-フェニレンジカルボン酸(IA)、4,4’-ジヒドロキシビフェニル(BP)、並びにN-アセチル-p-アミノフェノール(APAP)
溶融重合で得られた樹脂を、さらに固相重合させることにより分子量を増加させることができる。
一実施形態において、液晶性樹脂の上記により測定される溶融粘度は、20~40Pa・sとすることができる。
液晶性樹脂組成物は、(B)ケイ酸カルシウムウィスカーを含む。ケイ酸カルシウムウィスカーは、シランカップリング剤で表面処理されたケイ酸カルシウムウィスカーを含む。
上記したように、本発明者は、液晶性樹脂にケイ酸カルシウムウィスカーを配合すると樹脂組成物の溶融粘度が上昇してそれにより流動性が低下してしまうことがあることを知見した。しかし、驚くべきことに、後述するシランカップリング剤で表面処理されたケイ酸カルシウムウィスカーを用いることで、溶融粘度が上昇することを防ぐことができることが分かった。さらに、溶融粘度の上昇が少ない又は見られない組成においても、樹脂組成物の溶融粘度をさらに低下させることができることが分かった。それにより、従来よりも流動性が向上した樹脂組成物とすることができる。
平均繊維長は、ケイ酸カルシウムウィスカー100本が撮影された実体顕微鏡画像をCCDカメラからPCに取り込み、画像測定機によって画像処理手法により測定する。これを10回繰り返し、ケイ酸カルシウムウィスカーの本数が1000本となったときの測定値の平均値を採用する。なお、樹脂組成物中のケイ酸カルシウムウィスカーの平均繊維長は、樹脂組成物を600℃で2時間加熱して灰化した残渣を上記方法で測定することで得られる。
平均繊維径は、ケイ酸カルシウムウィスカー30本を走査型電子顕微鏡で測定し、その平均値を採用する。樹脂組成物中のケイ酸カルシウムウィスカーの平均繊維径は、樹脂組成物を600℃で2時間加熱して灰化した残渣を上記方法で測定することで得られる。
ケイ酸カルシウムウィスカーは、1種単独で使用してもよく、アスペクト比、平均繊維長、平均繊維径等が異なる2種以上を組み合わせて使用してもよい。
一実施形態において、ケイ酸カルシウムウィスカーの含有量は、液晶性樹脂100質量部に対して、11.1~48.4質量部とすることができる。ケイ酸カルシウムウィスカーの含有量が液晶性樹脂100質量部に対して5質量部未満であると、剛性及び機械的強度が不足し、寸法精度も悪化するため、好ましくない。85質量部を超えると流動性が悪化するため、好ましくない。
疎水化度は、メタノールウェッタビリティーによる値とする。詳しくは、疎水化度は以下の方法で測定した値とする。
1.500mL三角フラスコに試料0.5gを入れる。
2.イオン交換水50mLを(1)に加えてスターラーにて攪拌する。
3.攪拌をしたままビュレットよりメタノールを滴下させ、試料の全量がイオン交換水に懸濁された時の滴下量を読み取る。
4.次式により疎水化度を求める。
例えば、後述するように、シランカップリング剤としてアルキル基又はアリール基を有するアルコキシシランカップリング剤を用いる場合は、炭素鎖が長くなったり、環状構造を有したりする場合に疎水化度が高くなる。また、実施例に示すように、シランカップリング剤としてアルキル基又はアリール基を有するアルコキシシランカップリング剤を用いる場合は、その使用量が多い方が疎水化度は高くなる。
ケイ酸カルシウムウィスカーは、シランカップリング剤で表面処理されている。シランカップリング剤で表面処理されていないケイ酸カルシウムウィスカーを液晶性樹脂に配合すると樹脂組成物の溶融粘度が上昇してしまう場合があるが、シランカップリング剤で表面処理され、かつ疎水化度が調整されたケイ酸カルシウムウィスカーを液晶性樹脂に配合すると樹脂組成物の溶融粘度の上昇を防いで従来よりも流動性を向上させることができる。また、成形品におけるブリスターの発生を防ぐことができる。樹脂組成物の溶融粘度の上昇が見られない従来の樹脂組成物についても、より低下した溶融粘度を実現して、従来よりも流動性を向上させることができ、かつ成形品におけるブリスターの発生を防ぐことができる。このような知見はこれまで知られていない。
シランカップリング剤としては、加水分解性基が塩素原子であるクロロシランカップリング剤、加水分解性基がアルコキシ基であるアルコキシシランカップリング剤等が挙げられる。シランカップリング剤は、アルコキシシランカップリング剤を含むことが好ましく、ジアルコキシシランカップリング剤及びトリアルコキシシランカップリング剤から選ばれる1以上を含むことがより好ましい。アルコキシ基は、メトキシ基及びエトキシ基から選ばれる1以上であることが好ましい。
一実施形態において、シランカップリング剤は、1分子中のアミノ基の数が1以下であることが好ましい。
シランカップリング剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いることもできる。
一実施形態において、ケイ酸カルシウムウィスカーは、表面に、疎水性の基を有することが好ましい。一実施形態において、ケイ酸カルシウムウィスカーは、表面に、置換基を有していてもよい、炭素原子数が4以上(好ましくは4~12)の直鎖状又は分岐状アルキル基、及び、置換基を有していてもよい、炭素原子数が6以上のアリール基(好ましくはフェニル基)から選ばれる1以上の基を有することが好ましい。
一実施形態において、ケイ酸カルシウムウィスカーは、疎水化度が5~100となる範囲において、表面に、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基等の親水性を有する基を有していてもよい。
樹脂組成物には、使用目的に応じて、各種の粉粒状、板状又は繊維状(ケイ酸カルシウムウィスカーを除く)の無機又は有機の充填剤を配合することができる。
粉粒状無機充填剤としてはカーボンブラック、黒鉛、シリカ、石英粉末、ガラスビーズ、ガラスバルーン、ガラス粉、硅酸カルシウム、硅酸アルミニウム、カオリン、クレー、硅藻土、酸化鉄、酸化チタン、酸化亜鉛、三酸化アンチモン、アルミナなどの金属の酸化物、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムなどの金属の炭酸塩、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなどの金属の硫酸塩、その他フェライト、炭化硅素、窒化硅素、窒化硼素、各種金属粉末等が挙げられる。
繊維状無機充填剤の平均繊維長は、特に限定されず、例えば50~3000μmとすることができる。平均繊維径は、特に限定されず、例えば0.2~15μmとすることができる。平均繊維長及び平均繊維径の測定方法は、上記のとおりである。
一実施形態において、樹脂組成物の上記により測定される溶融粘度は、20Pa・s以上50Pa・s未満とすることができ、24.5Pa・s以上45.0Pa・s以下とすることができる。
本実施形態に係る樹脂組成物は、耐熱性、高機械強度、高剛性及び高流動性を有しているので、種々の立体成形品、繊維、フィルム等に加工できる。特にケイ酸カルシウムウィスカーを含んでいても溶融粘度の上昇を防いで優れた流動性を維持することができるので、小型の成形品に容易に加工することができる。
[材料]
(充填剤)
ケイ酸カルシウムウィスカー:キンセイマテック社製、「WOLLASTONITE SH-1250BJ」、平均繊維長:22.3μm、平均繊維径:1.7μm、平均アスペクト比: 13
タルク:松村産業(株)社製、「クラウンタルク(登録商標)PP」、平均粒径14.6μm
(表面処理剤:シランカップリング剤)
デシルトリメトキシシラン:信越化学工業(株)社製、「KBM-3103C」
フェニルトリメトキシシラン:信越化学工業(株)社製、「KBM-103」
N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン:信越化学工業(株)社製、「KBM-573」
N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン:信越化学工業(株)社製、「KBM-603」
(滑剤)
ペンタエリスリトールテトラステアレート:エメリーオレオケミカルズジャパン(株)製、「LOXIOL(登録商標) VPG861」
撹拌機、還流カラム、モノマー投入口、窒素導入口、減圧/流出ラインを備えた重合容器に、以下の原料モノマー、脂肪酸金属塩触媒、アシル化剤を仕込み、窒素置換を開始した。
(I)4-ヒドロキシ安息香酸 1380g(60モル%)(HBA)
(II)6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸 157g(5モル%)(HNA)
(III-a)1,4-フェニレンジカルボン酸 484g(17.5モル%)(TA)
(IV)4,4’-ジヒドロキシビフェニル 388g(12.5モル%)(BP)
(V)N-アセチル-p-アミノフェノール 126g(5モル%)(APAP)
酢酸カリウム触媒 110mg
無水酢酸 1659g
撹拌機、還流カラム、モノマー投入口、窒素導入口、減圧/流出ラインを備えた重合容器に、以下の原料モノマー、脂肪酸金属塩触媒、アシル化剤を仕込み、窒素置換を開始した。
(I)4-ヒドロキシ安息香酸 1385g(60モル%)(HBA)
(II)6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸 88g(2.8モル%)(HNA)
(III-a)1,4-フェニレンジカルボン酸 504g(18.15モル%)(TA)
(III-b)1,3-フェニレンジカルボン酸:19g(0.7モル%)(IA)
(IV)4,4’-ジヒドロキシビフェニル 415g(13.35モル%)(BP)
(V)N-アセチル-p-アミノフェノール 126g(5モル%)(APAP)
酢酸カリウム触媒 120mg
無水酢酸 1662g
撹拌機、還流カラム、モノマー投入口、窒素導入口、減圧/流出ラインを備えた重合容器に、以下の原料モノマー、脂肪酸金属塩触媒、アシル化剤を仕込み、窒素置換を開始した。
(I’)4-ヒドロキシ安息香酸 37g(2モル%)(HBA)
(II’)6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸 1218g(48モル%)(HNA)
(III’-a)1,4-フェニレンジカルボン酸 560g(25モル%)(TA)
(IV’)4,4’-ジヒドロキシビフェニル 628g(25モル%)(BP)
酢酸カリウム触媒 165mg
無水酢酸 1432g
(溶融粘度)
キャピラリー式レオメーター((株)東洋精機製作所製キャピログラフ)を使用し、下記シリンダー温度、せん断速度1000/秒で、ISO11443に準拠して、液晶性ポリマーの溶融粘度を測定した。測定には、内径1mm、長さ20mmのオリフィスを用いた。
シリンダー温度:
350℃(全芳香族ポリエステルアミド1)
360℃(全芳香族ポリエステルアミド2)
380℃(全芳香族ポリエステル)
示差走査熱量計(DSC、パーキンエルマー社製)にて、液晶性樹脂を室温から20℃/分の昇温条件で加熱した際に観測される吸熱ピーク温度(Tm1)の測定後、(Tm1+40)℃の温度で2分間保持した後、20℃/分の降温条件で室温まで一旦冷却した後、再度、20℃/分の昇温条件で加熱した際に観測される吸熱ピークの温度(Tm2)を測定した。
表1に記載の表面処理剤(シランカップリング剤)のメタノール溶液をケイ酸カルシウムウィスカーに噴霧し、乾燥させて、表面処理されたケイ酸カルシウムウィスカーを得た。シランカップリング剤の使用量は、表1に記載の量とした。
得られた各表面処理ケイ酸カルシウムウィスカーを試料として、以下の方法で疎水化度を測定した。結果を表1に示した。
1.500mL三角フラスコに試料0.5gを入れる。
2.イオン交換水50mLを(1)に加えてスターラーにて攪拌する。
3.攪拌をしたままビュレットよりメタノールを滴下させ、試料の全量がイオン交換水に懸濁された時の滴下量を読み取る。
4.次式により疎水化度を求める。
全芳香族ポリエステルアミド1、ケイ酸カルシウムウィスカー、及び滑剤を、表1に示す配合量で配合し、二軸押出機((株)日本製鋼所製TEX30α型)を用いて、シリンダー温度350℃にて溶融混練し、実施例1の樹脂組成物ペレットを得た。
表1に示す材料及び配合量とし、下記シリンダー温度にて溶融混練した以外は、実施例1と同様にして樹脂組成物ペレットを得た。
シリンダー温度:
350℃(実施例2~5、実施例8~10、比較例1~3、比較例8~13)
360℃(実施例7、比較例6、7)
370℃(実施例6、比較例4、5)
[実施例11]
表2に示す材料及び配合量とし、下記シリンダー温度にて溶融混練した以外は、実施例1と同様にして樹脂組成物ペレットを得た。
シリンダー温度:350℃
以下の方法で樹脂組成物の物性を測定した。結果を表1、2に示した。
(溶融粘度)
キャピラリー式レオメーター((株)東洋精機製作所製キャピログラフ)を使用し、下記シリンダー温度、せん断速度1000/秒で、ISO11443に準拠して、樹脂組成物の溶融粘度を測定した。測定には、内径1mm、長さ20mmのオリフィスを用いた。
シリンダー温度:
350℃(実施例1~5、実施例8~10、比較例1~3、比較例8~13)
350℃(実施例11)
360℃(実施例7、比較例6、7)
380℃(実施例6、比較例4、5)
ケイ酸カルシウムウィスカーの表面処理によって、樹脂組成物の溶融粘度が従来よりも低下することを確認するため、上記により測定された溶融粘度の値を用いて、未処理のケイ酸カルシウムウィスカーを含む樹脂組成物の溶融粘度に対する、表面処理されたケイ酸カルシウムウィスカーを含む樹脂組成物の溶融粘度の割合(表面処理ケイ酸カルシウムウィスカーを含む樹脂組成物の溶融粘度/未処理のケイ酸カルシウムウィスカーを含む樹脂組成物の溶融粘度)を算出した。
具体的には、比較例1(未処理のケイ酸カルシウムウィスカーを含む)の溶融粘度に対する、実施例1~5及び比較例2,3(いずれも表面処理ケイ酸カルシウムウィスカーを含む)の溶融粘度の各割合を算出した。同様に、比較例4の溶融粘度に対する実施例6及び比較例5の溶融粘度の割合、比較例6の溶融粘度に対する実施例7及び比較例7の溶融粘度の割合、比較例8の溶融粘度に対する実施例8及び比較例9の溶融粘度の割合、比較例10の溶融粘度に対する実施例9及び比較例11の溶融粘度の割合、比較例12の溶融粘度に対する実施例10及び比較例13の溶融粘度の割合、を算出した。結果を表1に示した。
同様に、比較例1の溶融粘度に対する、実施例11の溶融粘度の割合を算出した。結果を表2に示した。
1未満である場合は、溶融粘度が低下している。その結果、従来よりも流動性が向上している。
実施例及び比較例で得られた樹脂組成物ペレットを、成形機(住友重機械工業(株)製「SE100DU」)を用いて、以下の成形条件で成形し、ISO試験片A形を得た。この試験片を80mm×10mm×4mmに切り出し、曲げ試験片を作製した。この試験片を用いて、ISO 178に準拠し、曲げ強度、曲げ弾性率、及び曲げ歪みを測定した。
〔成形条件〕
シリンダー温度:
350℃(実施例1~5、実施例8~10、比較例1~3、比較例8~13)
350℃(実施例11)
360℃(実施例7、比較例6、7)
370℃(実施例6、比較例4、5)
金型温度:90℃
射出速度:33mm/sec
保圧:50MPa
実施例及び比較例で得られた樹脂組成物ペレットを、成形機(住友重機械工業(株)製「SE100DU」)を用いて、以下の成形条件で成形し、ISO試験片A形を得た。この試験片を80mm×10mm×4mmに切り出し、試験片を得た。この試験片を用いて、ISO75-1,2に準拠した方法で荷重たわみ温度を測定した。なお、曲げ応力としては、1.8MPaを用いた。
〔成形条件〕
シリンダー温度:
350℃(実施例1~5、実施例8~10、比較例1~3、比較例8~13)
350℃(実施例11)
360℃(実施例7、比較例6、7)
370℃(実施例6、比較例4、5)
金型温度:90℃
射出速度:33mm/sec
保圧:50MPa
実施例及び比較例で得られた樹脂組成物ペレットを、成形機(住友重機械工業(株)製「SE100DU」)を用いて、以下の成形条件で成形し、ウェルド部を有する12.5mm×120mm×0.8mmの成形品を得た。この成形品を上記ウェルド部で二分割して得た断片を1検体とし、所定温度のホットプレスに5分間挟んだ。その後、目視にて上記検体の表面にブリスターが発生しているかどうかを調べた。ブリスター温度は、ブリスターの発生個数がゼロとなる最高温度とした。なお、上記所定温度は250~300℃の範囲において10℃刻みで設定した。ブリスター温度が高いほど、高温で射出成形した場合でもブリスターの発生を抑制できる。
〔成形条件〕
シリンダー温度:
350℃(実施例1~5、実施例8~10、比較例1~3、比較例8~13)
350℃(実施例11)
360℃(実施例7、比較例6、7)
370℃(実施例6、比較例4、5)
金型温度:90℃
射出速度:33mm/sec
保圧:50MPa
これに対して、シランカップリング剤で表面処理され、かつ疎水化度が5~100であるケイ酸カルシウムウィスカーを液晶性樹脂100質量部に対して5~85質量部含む実施例1~5,7~10、及び実施例11の樹脂組成物は、比較例1,6,7,9,11よりも溶融粘度の上昇が抑制されている。これにより、従来よりも流動性が向上した樹脂組成物となっている。
比較例4の従来の樹脂組成物は、液晶性樹脂にケイ酸カルシウムウィスカーを配合することで溶融粘度が低下するが、実施例7の樹脂組成物によれば溶融粘度がさらに低下して流動性をより高めることができる。これにより、従来よりも流動性が向上した樹脂組成物となっている。
また、実施例1~10、及び実施例11の樹脂組成物は、いずれもブリスター温度が200℃を超えており、200℃を超える成形温度においてもブリスターの発生を抑制することができる。
これに対して、表面処理されたケイ酸カルシウムウィスカーを含むものの疎水化度が5未満である比較例2,3,5,7,9,11,13の樹脂組成物は、ブリスター温度が200℃未満であり、成形温度が200℃を超えるとブリスターが発生してしまう。
Claims (7)
- (A)液晶性樹脂からなる熱可塑性樹脂、及び(B)ケイ酸カルシウムウィスカーを含有し、
(B)ケイ酸カルシウムウィスカーは、シランカップリング剤で表面処理されたケイ酸カルシウムウィスカーを含み、
(B)ケイ酸カルシウムウィスカーの疎水化度が、5~90であり、
(B)ケイ酸カルシウムウィスカーの含有量が、(A)液晶性樹脂からなる熱可塑性樹脂100質量部に対して、5~85質量部であり、
前記シランカップリング剤は、デシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン及びN-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシランから選ばれる1以上であり、
無機及び有機充填剤(ケイ酸カルシウムウィスカーを除く)の含有量が、液晶性樹脂からなる熱可塑性樹脂100質量部に対して50質量部以下である、樹脂組成物。 - (B)ケイ酸カルシウムウィスカーの平均繊維径が、1~15μmである、請求項1に記載の樹脂組成物。
- (B)ケイ酸カルシウムウィスカーの平均繊維長が、10~200μmである、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。
- 前記シランカップリング剤の含有量が、(B)ケイ酸カルシウムウィスカーに対して、0.1~1.0質量%である、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。
- 前記シランカップリング剤が、1分子中のアミノ基の数が1以下である、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。
- (A)液晶性樹脂は、少なくとも芳香族ヒドロキシカルボン酸及びその誘導体から選ばれる1以上に由来する構成単位を構成成分として有する、芳香族ポリエステル又は芳香族ポリエステルアミドである、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。
- (A)液晶性樹脂は、少なくとも芳香族ヒドロキシカルボン酸及びその誘導体から選ばれる1以上に由来する構成単位を構成成分として有する、芳香族ポリエステルアミドである、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021157521 | 2021-09-28 | ||
JP2021157521 | 2021-09-28 | ||
PCT/JP2022/035841 WO2023054314A1 (ja) | 2021-09-28 | 2022-09-27 | 樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2023054314A1 JPWO2023054314A1 (ja) | 2023-04-06 |
JP7308378B1 true JP7308378B1 (ja) | 2023-07-13 |
Family
ID=85782695
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023504178A Active JP7308378B1 (ja) | 2021-09-28 | 2022-09-27 | 樹脂組成物 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7308378B1 (ja) |
WO (1) | WO2023054314A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2024082598A (ja) * | 2022-12-08 | 2024-06-20 | Eneos株式会社 | 樹脂組成物および該樹脂組成物からなる樹脂成形品 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022092015A1 (ja) * | 2020-10-29 | 2022-05-05 | 大塚化学株式会社 | 液晶ポリマー組成物、液晶ポリマー成形体、および電気電子機器 |
WO2022220125A1 (ja) * | 2021-04-15 | 2022-10-20 | 大塚化学株式会社 | 液晶ポリマー組成物、液晶ポリマー成形体、および電気電子機器 |
WO2023276699A1 (ja) * | 2021-06-30 | 2023-01-05 | 大塚化学株式会社 | 液晶ポリマー組成物および液晶ポリマー成形体 |
WO2023276698A1 (ja) * | 2021-06-30 | 2023-01-05 | 大塚化学株式会社 | 液晶ポリマー組成物および液晶ポリマー成形体 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4458039A (en) * | 1983-02-07 | 1984-07-03 | Celanese Corporation | Thermotropic liquid crystalline polymer blend with reduced surface abrasion |
JP2007262369A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Mitsubishi Engineering Plastics Corp | ポリエステル樹脂組成物 |
WO2020100618A1 (ja) * | 2018-11-15 | 2020-05-22 | ポリプラスチックス株式会社 | 液晶性樹脂組成物、及び当該液晶性樹脂組成物の成形品を含むコネクター |
-
2022
- 2022-09-27 WO PCT/JP2022/035841 patent/WO2023054314A1/ja active Application Filing
- 2022-09-27 JP JP2023504178A patent/JP7308378B1/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022092015A1 (ja) * | 2020-10-29 | 2022-05-05 | 大塚化学株式会社 | 液晶ポリマー組成物、液晶ポリマー成形体、および電気電子機器 |
WO2022220125A1 (ja) * | 2021-04-15 | 2022-10-20 | 大塚化学株式会社 | 液晶ポリマー組成物、液晶ポリマー成形体、および電気電子機器 |
WO2023276699A1 (ja) * | 2021-06-30 | 2023-01-05 | 大塚化学株式会社 | 液晶ポリマー組成物および液晶ポリマー成形体 |
WO2023276698A1 (ja) * | 2021-06-30 | 2023-01-05 | 大塚化学株式会社 | 液晶ポリマー組成物および液晶ポリマー成形体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2023054314A1 (ja) | 2023-04-06 |
WO2023054314A1 (ja) | 2023-04-06 |
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