JP7399599B2 - ルチル型酸化チタンオルガノゾルおよびルチル型酸化チタンオルガノゾルの製造方法並びにこのルチル型酸化チタンオルガノゾルを用いた高屈折率被膜形成用組成物および光学素子 - Google Patents
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Description
また、係るルチル型酸化チタンオルガノゾルを用いた高屈折率被膜形成用組成物および光学素子に関するものである。
また、オルガノゾルであることから、非水溶性樹脂との相溶性も良好なものとすることができる。
まず、本発明のルチル型酸化チタンオルガノゾルの基本構成を説明する。
本発明のルチル型酸化チタンオルガノゾルは、Zr、Ce、Sn、Feから選ばれる少なくとも1種の金属種の水和酸化物によって表面処理されたルチル型酸化チタン粒子と、シランカップリング剤と、塩基性添加剤と、非水溶性溶媒を主要成分とすることを基本構成とするものである。
このように、本発明のルチル型酸化チタンオルガノゾルは、ルチル型酸化チタンを用い、係るルチル型酸化チタンの表面をZr、Ce、Sn、Feという屈折率の高い金属種の水和酸化物で処理していることから、光触媒活性を抑制でき、かつ高い屈折率を発現するコロイド粒子を得ることができるのである。また、表面処理されたルチル型酸化チタン粒子をシランカップリング剤と塩基性添加剤の存在下で解膠させているので、粘度の経時安定性に優れたオルガノゾルを得ることができるのである。
また、具体的には、例えば上記のルチル型酸化チタンオルガノゾルにおいては、ルチル型酸化チタンオルガノゾルを925℃で2時間加熱した際、下式によって求められる値である。
酸化物換算(%)=(加熱後のルチル型酸化チタンオルガノゾルの質量/加熱前のルチル型酸化チタンオルガノゾルの質量)×100
本発明に用いられるルチル型酸化チタン粒子は、上記のとおり、コロイド粒子となるルチル型酸化チタン粒子の表面がZr、Ce、Sn、Feから選ばれる少なくとも1種の金属種の水和酸化物によって表面処理されているものであるが、コロイド粒子表面における金属種の比率は、X線光電子分光分析において20~50質量%であることを必要とする。また、係る表面比率に加えて、コロイド粒子に含まれるTiの比率が酸化物換算で60質量%以上であることも必要とする。
すなわち、本発明のルチル型酸化チタンオルガノゾルは、主成分であるチタンが一定量以上存在しており、かつ表面においては金属種の水和酸化物が特定の範囲の比率で存在しているコロイド粒子を用いることが必要なのであり、係る要件を具備することで、光触媒活性を抑制でき、かつ非水溶性溶媒中で高い透明性と高い屈折率を発現するコロイド粒子を得ることができるのである。
なお、コロイド粒子表面における金属種の比率が20質量%未満または50質量%を超える場合にはルチル型酸化チタンオルガノゾルの分散安定性が低くなり、ゲル化等を引き起こす恐れがある。
本発明に用いられるシランカップリング剤は、後記する塩基性添加剤とともに表面処理されたルチル型酸化チタン粒子を安定して非水溶性溶媒に解膠させるとともに、粘度の経時安定性に優れるオルガノゾルとするためのものである。
このように、本発明のルチル型酸化チタンオルガノゾルは、ルチル型酸化チタンを特定の表面形態の酸化チタン粒子とし、係る酸化チタン粒子をシランカップリング剤および塩基性添加剤という特定の材料で解膠させることによって、透明性、屈折率、粘度の経時安定性、非水溶性樹脂との相溶性の全てを満足させることができるオルガノゾルとすることができるのである。
また、シランカップリング剤の含有量としては特に限定されないが、チタン(TiO2)に対して3~60質量%とすることが好ましく、その中でもTiO2に対して5~40質量%とすることが好ましく、さらにその中でもTiO2に対して20~35質量%とすることが好ましい。含有量が3質量%未満である場合にはゾル化し難い恐れがあり、60質量%を超える場合には被膜となった際の屈折率が低くなる恐れがある。
本発明に用いられる塩基性添加剤は、シランカップリング剤とともに表面処理されたルチル型酸化チタン粒子を安定して非水溶性溶媒に解膠させるとともに、粘度の経時安定性に優れるオルガノゾルとするためのものである。
また、塩基性添加剤の含有量としては特に限定されないが、チタン(TiO2)に対して0.5~30質量%とすることが好ましく、その中でもTiO2に対して1~20%質量%とすることが好ましい。含有量が0.5質量%未満である場合にはゾル化し難い恐れがあり、30質量%を超える場合には後記する高屈折率被膜形成用組成物とした際に、塩基性添加剤が高屈折率被膜形成用組成物中のバインダーと反応を起こしてゲル化する等の不具合が発生する恐れがある。
本発明に用いられる非水溶性溶媒は、溶解性パラメータ(SP値、Fedors法)が10未満の非水溶性溶媒であれば良く、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノールアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのアセテート類、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシブチルなどのエステル類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類など、各種の非水溶性溶媒を用いることができる。そしてその中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのアセテート類を用いることが好ましい。
本発明の高屈折率被膜形成用組成物は、本発明のルチル型酸化チタンオルガノゾルを含有するものであることから、基材に悪影響を及ぼすことなく、高透明性かつ高屈折率の被膜を形成させることができる。
本発明の高屈折率被膜形成用組成物において、本発明のルチル型酸化チタンオルガノゾルと混合する樹脂は熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、UV硬化樹脂等を使用できるが、特にUV硬化樹脂を使用することが好ましい。UV硬化樹脂にはベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンジオールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングルコールジ(メタ)アクリレート等の単官能および2官能の架橋性モノマーや、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸トリス[エチルオキシ(メタ)アクリレート]等の多官能の架橋性モノマーを挙げることが出来る。なお、これらの単官能、2官能、多官能の架橋性モノマーは1種または2種以上混合して用いることもできる。
なお、本発明の高屈折率被膜形成用組成物における本発明のルチル型酸化チタンオルガノゾルの含有量については、所望する屈折率に応じて適宜決定されることになるが、高屈折率の塗膜を形成させるために30~80質量%とすることが好ましい。
本発明の高屈折率被膜形成用組成物作成において、本発明のルチル型酸化チタンオルガノゾルと混合する樹脂の種類に応じて、重合開始剤を使用することになるが、重合開始剤の種類は特に限定されるものではなく、公知の重合開始剤を用いることができる。重合開始剤の種類としては、ラジカル開始剤、イオン重合開始剤、光重合開始剤が挙げられる。なお、樹脂にUV硬化樹脂を使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。具体的には、ラジカル開始剤として、アゾイソブチルニトリル、1,1‘-アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)、ジ-tert-ブチルペルオキシド、tert-ブチルヒドロペルオキシド、過酸化ベンゾイル、などが挙げられ、光重合開始剤としては1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキサイド、3-ヒドロキシベンゾフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフエノン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプ ロパン-1-オン、モノアシルフォスフィンオキサイド、4,4’-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフエノン、2,4-ジエチルチオキサントン等を挙げることができ、これらの重合開始剤は1種または2種以上混合して用いることもできる。
本発明の光学素子は、本発明の高屈折率被膜形成用組成物による被膜層を有するものであることから、薄膜にもかかわらず高屈折率の被膜が形成された光学素子を得ることができ、光学素子の薄膜化や小型化を図ることができる。
本発明のルチル型酸化チタンオルガノゾルの製造方法は、(1)ルチル型酸化チタンのヒドロゾルを製造する工程、(2)Zr、Ce、Sn、Feから選ばれる少なくとも1種の金属種の水和酸化物でルチル型酸化チタンの表面を処理する工程、(3)表面処理したルチル型酸化チタンのヒドロゾルを非水溶性溶媒に溶媒置換してオルガノ懸濁液とする工程、(4)オルガノ懸濁液に塩基性添加剤およびシランカップリング剤を添加してオルガノゾルを形成する工程を備えるものである。
なお、後記するとおり、本発明の製造方法の各工程における具体的な方法(手法)は一般的なものや公知のものを用いることになるが、本発明の製造方法はその順番が重要となる。
ルチル型酸化チタンのヒドロゾルを製造する方法については、特に限定されるものではなく、公知の方法を用いることができる。一般的には、水溶性スズ化合物(ルチル化剤)を水に溶解して加熱加水分解することによって水溶性スズ化合物の一部を析出させた後、水溶性チタン化合物を添加して加水分解し、塩類を除去した後、強酸または強アルカリを配合して解膠する方法や、水溶性スズ化合物と水溶性チタン化合物を水に溶解して加水分解し、塩類を除去した後、強酸または強アルカリを配合して解膠する方法などが挙げられる。
Zr、Ce、Sn、Feから選ばれる少なくとも1種の金属種の水和酸化物でルチル型酸化チタンの表面を処理する工程についても、方法自体は特に限定されるものではなく、公知の方法を用いることができる。一般的には、ルチル型酸化チタンのヒドロゾルにZr、Ce、Sn、Feから選ばれる少なくとも1種の金属種の水溶性化合物を添加し、その後、酸またはアルカリでpH調整する方法や、ルチル型酸化チタンのヒドロゾルに酸またはアルカリを用いてpHを維持しながらZr、Ce、Sn、Feから選ばれる少なくとも1種の金属種の水溶性化合物の水溶液を添加する方法などが挙げられる。
表面処理したルチル型酸化チタンのヒドロゾルを非水溶性溶媒に溶媒置換してオルガノゾルとする工程(溶媒置換工程)についても、方法自体は特に限定されるものではなく、公知の方法を用いることができる。一般的にはメタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、アセトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)などの水溶性溶媒を用いて、表面処理したルチル型酸化チタンのヒドロゾル(懸濁液)と非水溶性溶媒を相溶させた後、限外ろ過、透析、エバポレーションなどの手法によって、溶媒置換する方法が挙げられる。また、その後、濃縮することによって、表面処理したルチル型酸化チタンの濃度を所定の濃度まで上げることもできる。
オルガノ懸濁液に塩基性添加剤およびシランカップリング剤を添加する工程についても、方法自体は特に限定されるものではなく、同時に添加してもよいし、別々に添加しても構わない。また、一度に添加してもよいし、徐々に添加しても構わない。
オルガノゾルを形成する工程についても、方法自体は特に限定されるものではなく、公知の方法を用いることができる。一般的には、ビーズミル、ディスパー、ホモジナイザーなどの分散器具を用いて、凝集や分散不足(解膠不良)が発生しないようにすることによって形成を行う。
本発明のルチル型酸化チタンオルガノゾルの製造方法は、さらに、コロイド粒子を高温高圧容器中で水熱処理する工程を含んでも良い。係る工程を行うことで、ルチル型酸化チタンの屈折率をより高めることができる。
水熱処理工程を行うタイミングとしては、ルチル型酸化チタンを製造する工程、ルチル型酸化チタンの表面を処理する工程、ルチル型酸化チタンのヒドロゾルを非水溶性溶媒に溶媒置換してオルガノ懸濁液とする工程、オルガノ懸濁液に塩基性添加剤およびシランカップリング剤を添加してオルガノゾルを形成する工程のいずれの工程の後でも構わないが、チタニア粒子の結晶化を促進するという点でルチル型酸化チタンを製造する工程の後が好ましい。
また、水熱処理工程における温度は100~250℃(より好ましくは150~200℃)、圧力は0.1~4MPa(より好ましくは0.5~2MPa)、処理時間は5~72時間(より好ましくは5~24時間)であることが好ましい。
(工程A:ルチル型酸化チタンのヒドロゾルの作製)
まず、硫酸チタニル303g(TiO2として100g)と、硫酸スズ6.2g(SnO2として3.0g、TiO2に対して3質量%)を、1690.8gの水に溶解した後、10%水酸化ナトリウム水溶液を用いてpH7.0に調整した。
次に、析出したチタン水和酸化物とスズ水和酸化物の混合物を濾別、水洗し、固形分12.0%のケーキを作製した。
最後に、このケーキ858.3gに濃塩酸278gと水863.7gを徐々に加え、攪拌しながらケーキを解膠することによって、ルチル型酸化チタンヒドロゾル2000g(TiO2濃度5質量%)を作製した。
工程Aで得られたルチル型酸化チタンヒドロゾルに、金属種の水和酸化物の原料として、オキシ塩化ジルコニウム8水和物26.1g(ZrO2として10g、TiO2に対して10質量%)を添加した。
次に、10%水酸化ナトリウム水溶液を用いてpH6.0に調整し、析出物を濾別、水洗したのち、水を添加することによって、ジルコニウムの水和酸化物で表面処理されたルチル型酸化チタン粒子の懸濁液1000g(TiO2濃度10質量%)を作製した。
工程Bで得られた懸濁液に、イソプロパノール1000gを加え、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート1000gと相溶させた後、段階的にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを添加しながら、限外ろ過を行い、全量が383g(無機系酸化物含有率(酸化物換算)の計算値が30質量%)となるように溶媒置換した。
次に、シランカップリング剤として3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン20g(TiO2に対して20質量%)と、塩基性添加剤としてtert-ブチルアミン5g(TiO2に対して5質量%)を加え、ビーズミルで分散処理を行うことによって、実施例1のルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した。
工程Cにおいて、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシランの添加量を35g(TiO2に対して35質量%)に変更したこと以外は実施例1と同様にして、実施例2のルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した。
工程Bにおいて、オキシ塩化ジルコニウム8水和物の添加量を130.5g(ZrO2として50g、TiO2に対して50質量%)に変更したこと以外は実施例1と同様にして、実施例3のルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した。
工程Bにおいて、金属種の水和酸化物の原料をオキシ塩化ジルコニウム8水和物から塩化スズ17.3g(SnO2として10g、TiO2に対して10質量%)に変更したこと以外は実施例1と同様にして、実施例4のルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した。
工程Cにおいて、tert-ブチルアミンの添加量を10g(TiO2に対して10質量%)に変更したこと以外は実施例4と同様にして、実施例5のルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した。
工程Cにおいて、塩基性添加剤をtert-ブチルアミンからアミン系分散剤(ビックケミー・ジャパン株式会社製:DISPERBYK-108、TiO2に対して5質量%)に変更したこと以外は実施例4と同様にして、実施例6のルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した。
工程Cにおいて、シランカップリング剤を3-アクリロキシプロピルトリメトキシシランから3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシランに変更したこと以外は実施例4と同様にして、実施例7のルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した。
工程Cにおいて、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで、全量が256g(無機系酸化物含有率の計算値が45質量%)になるように溶媒置換すること以外は実施例7と同様にして、実施例8のルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した。
工程Cにおいて、非水溶性溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートからメチルエチルケトンに変更したこと以外は実施例7と同様にして、実施例9のルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した。
工程Cにおいて、非水溶性溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートから酢酸エチルに変更したこと以外は実施例7と同様にして、実施例10のルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した。
工程Cにおいて、非水溶性溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートからメチルイソブチルケトンに変更したこと以外は実施例7と同様にして、実施例11のルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した。
工程Cにおいて、非水溶性溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートからメチルアミルケトンに変更したこと以外は実施例7と同様にして、実施例12のルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した。
工程Cにおいて、非水溶性溶媒をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートからトルエンに変更したこと以外は実施例7と同様にして、実施例13のルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した。
工程Aにおいて、得られたルチル型酸化チタンヒドロゾルを水熱処理(温度:200℃、処理時間:10時間、圧力:1.6MPa、装置名:オーエムラボテック社製高圧マイクロリアクター MMJ-200)したこと以外は実施例7と同様にして、実施例14のルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した。
工程Bにおいて、オキシ塩化ジルコニウム8水和物を添加しなかったこと以外は実施例1と同様にして、比較例1のルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した。
工程Bにおいて、塩化スズの添加量を206g(SnO2として60g、TiO2に対して60質量%)に変更したこと以外は実施例4と同様にして、比較例2のルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した。
工程Cにおいて、塩基性添加物、シランカップリング剤を添加せず、有機系分散剤50g(ビックケミー・ジャパン株式会社製:DISPERBYK-111、TiO2に対して50質量%)を添加したこと以外は実施例1と同様にして、比較例3のルチル型酸化チタンオルガノゾルの製造を試みたが、製造中にゲル化してしまい、ルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製することができなかった。
工程Cにおいて、tert-ブチルアミンを添加しなかったこと以外は実施例4と同様にして、比較例4のルチル型酸化チタンオルガノゾルの製造を試みたが、ゾル化を行うことができず、ルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製することができなかった。
工程Aにおいて、硫酸スズの添加量を155g(SnO2として75g、TiO2に対して75質量%)に変更に変更すること以外は実施例4と同様にしてルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した。
実施例1~14および比較例1~5のルチル型酸化チタンオルガノゾルについて、物性値の測定および粘度の経時安定性およびヘーズ値の評価を行った。各物性値の測定方法を以下に示すとともに、結果を表1に示す。
乾燥固形分:1g程度の一定量(W)のルチル型酸化チタンオルガノゾルを乾燥皿に測り取り、150℃で2時間加熱することで乾固させ、乾固質量(w)を測定し、下式に基づいて計算した。
乾燥固形分(%)=(w/W)×100
強熱残分(酸化物換算):1g程度の一定量(W)のルチル型酸化チタンオルガノゾルを乾燥皿に測り取り、925℃で2時間加熱した後の残分質量(h)を測定し、下式に基づいて計算した。
強熱残分(%)=(h/W)×100
コロイド粒子の表面における金属種の比率:X線光電子分光装置(島津製作所社製:ESCA-3400)を用いて測定した。
平均粒子径:実施例1~14および比較例1~5のルチル型酸化チタンオルガノゾルを、各ルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した際に使用した非水溶性溶媒にて固形分5質量%に希釈し、係る希釈液をゼータ電位計・粒子径測定システム(大塚電子株式会社製:ELSZ-1000)を用いて測定し、D50の値を平均粒子径とした。
粘度:レオメーター(サーモフィッシャ-サイエンティフィック社製:HAAKE MARS60、6cmコーンプレート、回転数60rpm)を用い、25℃における粘度を測定した。
粘度の経時安定性:ルチル型酸化チタンオルガノゾルを密閉容器に入れ、40℃の恒温機にて2週間静置した時、レオメーター(サーモフィッシャ-サイエンティフィック社製:HAAKE MARS60、6cmコーンプレート、回転数60rpm)を用い、25℃における粘度を測定した。
ヘーズ値(HAZE値):実施例1~14および比較例1~5のルチル型酸化チタンオルガノゾルを、各ルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した際に使用した非水溶性溶媒にて固形分5質量%に希釈し、係る希釈液を光路長10mmの石英セルに入れ、ヘーズメーター(日本電色工業株式会社製ヘーズメーター:NDH-4000)でヘーズ値を測定した。
これに対して、比較例1のルチル型酸化チタンオルガノゾルは、硫酸スズ(ルチル化剤)由来のSnは存在するものの金属種(Sn)の割合が低いことから、初期粘度が高く、経時における粘度上昇も大きい、不安定なルチル型酸化チタンオルガノゾルとなった。また、解膠が不十分であることから、コロイド粒子の平均粒子径も大きく、ヘーズ値が高い、透明性についても劣るルチル型酸化チタンオルガノゾルとなった。
比較例2のルチル型酸化チタンオルガノゾルは、金属種の表面比率が高過ぎることから、初期粘度が高く、経時における粘度上昇も大きい、不安定なルチル型酸化チタンオルガノゾルとなった。また、解膠が不十分であることから、コロイド粒子の平均粒子径も大きく、ヘーズ値が高い、透明性についても劣るルチル型酸化チタンオルガノゾルとなった。
比較例3のルチル型酸化チタンオルガノゾルは、分散剤(DISPERBYK-111)を多量に用いていることから、非水溶性溶媒への解膠自体は行うことができたが、シランカップリング剤および塩基性添加剤を用いていないことから、作製中にゲル化を起こしてしまった。
比較例4のルチル型酸化チタンオルガノゾルは、シランカップリング剤は用いているものの塩基性添加剤を用いていないことから、非水溶性溶媒への解膠(ゾル化)自体が出来なかった。
比較例5のルチル型酸化チタンオルガノゾルは、コロイド粒子中のTi比率が低いことから、ヘーズ値が高い、透明性が著しく劣るルチル型酸化チタンオルガノゾルとなった。また、初期粘度が高く、経時における粘度上昇も大きい、不安定なルチル型酸化チタンオルガノゾルとなった。
実施例1~14および比較例1~5の各ルチル型酸化チタンオルガノゾルを用いて、高屈折率被膜形成用組成物を作製した。
まず、UV硬化樹脂(商品名:紫光UV-7605B、三菱ケミカル株式会社製、URL:https://www.m-chemical.co.jp/products/departments/mcc/coating-mat/tech/1205785_9232.html、多官能のウレタンアクリレート樹脂、鉛筆硬度3H~4H)16.7gを、各実施例および各比較例のルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した際に使用した非水溶性溶媒9.0gに溶解した(樹脂A)。
次に、重合開始剤として、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン0.3gとビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキサイド0.3gを、各実施例および各比較例のルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した際に使用した非水溶性溶媒7.0gに溶解した(重合開始剤A)。
次に、樹脂A25.7gと重合開始剤A7.6gを混合してバインダーを作製した。
最後に、実施例1~14および比較例1~5のルチル型酸化チタンオルガノゾル100g、各実施例および各比較例のルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した際に使用した非水溶性溶媒50g、バインダー33.3gを混合することによって、実施例15~28および比較例6~10の高屈折率被膜形成用組成物を作製した。
実施例15~29および比較例6~11の高屈折率被膜形成用組成物について、25℃における粘度と、各実施例および各比較例のルチル型酸化チタンオルガノゾルを作製した際に使用した非水溶性溶媒にて固形分5質量%に希釈し、光路長10mmで測定したときのヘーズ値を表2に示す。
これに対して、比較例6、7の高屈折率被膜形成用組成物は、金属種の割合が低かったり、金属種の表面比率が高過ぎたりすることから、透明性、粘度ともに劣る高屈折率被膜形成用組成物となった。
比較例8、11の高屈折率被膜形成用組成物は、ゲル化したルチル型酸化チタンオルガノゾルを用いていることから、透明性に劣り、粘度が著しく劣る高屈折率被膜形成用組成物となった。
比較例9の高屈折率被膜形成用組成物は、ゾル化が出来なかったルチル型酸化チタンオルガノゾルを用いているため、透明性が著しく劣る高屈折率被膜形成用組成物となった。
比較例10の高屈折率被膜形成用組成物は、コロイド粒子中のTi比率が低いルチル型酸化チタンオルガノゾルを用いているため、透明性、粘度ともに劣る高屈折率被膜形成用組成物となった。
実施例15~29および比較例6~11の各高屈折率被膜形成用組成物を用いて、光学素子を作製した。
まず、実施例15~29および比較例6~11の各高屈折率被膜形成用組成物を、70mm×55mm×1.3mmのミクロスライドガラスプレート(松浪硝子工業株式会社製)に、温度25℃、湿度50%の環境下で、500rpm×3秒の条件でスピンコートした。
次に、80℃で30分乾燥した後、580mJ/cm2の紫外線を照射することによって、表層に膜厚2μmの被膜層を形成した、実施例30~44および比較例12~17の光学素子を作製した。
実施例30~44および比較例12~17の光学素子について、ヘーズ値、屈折率、鉛筆硬度の評価を行った。
具体的には、ヘーズ値については、高屈折率皮膜形成用組成物を塗布したガラス板をヘーズメーター(日本電色工業株式会社製ヘーズメーター:NDH-4000)を用いて測定することによって評価を行った。
屈折率については、高屈折率皮膜形成用組成物を塗布したガラス板をエリプソメーター(株式会社溝尻光学研究所製:DVA-FL3G、波長633nm)にて測定することによって評価を行った。
鉛筆硬度については、JISK5600-5-4に則って評価した。具体的には、電動鉛筆引っかき硬度試験機(株式会社安田精機製作所:No.553-M)を用い、H~9Hの試験用鉛筆で9.8Nの荷重にて引っかき、その後、目視で傷が確認された箇所が0~2箇所であった鉛筆の硬度のうち、最も硬度の高い鉛筆硬度を評価結果とした。
また、被膜層は、ルチル型酸化チタンオルガノゾルの粒子表面に存在するシランカップリング剤がUV硬化樹脂と重合することで強固なネットワークを形成することから、被膜層の鉛筆硬度はUV硬化樹脂自体が持つ鉛筆硬度(4Hや2H)を上回る硬度となる、という優れたものとなった。特に、UV硬化樹脂が単官能型の架橋性モノマーであっても鉛筆硬度が6Hという優れた鉛筆硬度を示すものとなった。
これに対して、比較例12、13、14、16、17の光学素子は、コロイド粒子の凝集が認められ、塗膜のヘーズ値が高いため、大きな屈折率の向上は認められなかった。
さらに、比較例14、17の光学素子は、シランカップリング剤の代わりに有機系分散剤を使用したルチル型酸化チタンオルガノゾルを用いたものであることから、UV硬化樹脂との重合が発生せず、被膜層の鉛筆硬度はUV硬化樹脂自体が持つ鉛筆硬度(4Hや2H)から変わらないまま、という結果となった。
比較例15の光学素子は、膜の平滑性が得られなかったため屈折率が計測できない被膜層が形成された光学素子となった。
Claims (7)
- Zr、Ce、Sn、Feから選ばれる少なくとも1種の金属種の水和酸化物によって表面処理されたルチル型酸化チタン粒子と、
シランカップリング剤と、
解膠剤としての塩基性添加剤と、
非水溶性溶媒とを含有するルチル型酸化チタンオルガノゾルであって、
前記ルチル型酸化チタンオルガノゾル中のコロイド粒子に含まれるTi比率が酸化物換算で60質量%以上であり、
かつX線光電子分光分析による前記コロイド粒子の表面における前記金属種の比率が20~50質量%であり、
さらにX線光電子分光分析による前記コロイド粒子の表面におけるSiの比率が35質量%以下であることを特徴とするルチル型酸化チタンオルガノゾル。
- 前記コロイド粒子の含有比率が酸化物換算で28質量%以上であり、かつ粘度が15mPa・s以下であることを特徴とする請求項1に記載のルチル型酸化チタンオルガノゾル。
- 前記非水溶性溶媒にて質量%で固形分5%に希釈し、光路長10mmで測定したときのヘーズ値が20%以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のルチル型酸化チタンオルガノゾル。
- 前記塩基性添加剤が、
水溶性アミンであることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のルチル型酸化チタンオルガノゾル。
- 請求項1から請求項4のいずれか一項に記載のルチル型酸化チタンオルガノゾルを含有することを特徴とする高屈折率被膜形成用組成物。
- 請求項5に記載の高屈折率被膜形成用組成物による被膜層を有することを特徴とする光学素子。
- 前記被膜層の鉛筆硬度が6H以上であることを特徴とする請求項6に記載の光学素子。
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