JP7379837B2 - R-t-b系永久磁石 - Google Patents
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Description
Rは1種以上の希土類元素、TはFeおよびCo、Bはホウ素であるR-T-B系永久磁石であって、
M,O,CおよびNを含有し、
MはCu,Ga,Mn,ZrおよびAlから選択される3種以上であり、少なくともCu,GaおよびZrを含有し、
前記R-T-B系永久磁石全体を100質量%として、
Rの合計含有量が29.0質量%以上33.5質量%以下、
Coの含有量が0.10質量%以上0.49質量%以下、
Bの含有量が0.80質量%以上0.96質量%以下、
Mの合計含有量が0.63質量%以上4.00質量%以下、
Cuの含有量が0.51質量%以上0.97質量%以下、
Gaの含有量が0.12質量%以上1.07質量%以下、
Zrの含有量が0.80質量%以下(0質量%を含まない)、
Cの含有量が0.065質量%以上0.200質量%以下、
Nの含有量が0.023質量%以上0.323質量%以下、
Oの含有量が0.200質量%より大きく0.500質量%以下であり、
Feが実質的な残部であり、
R2T14B化合物からなる主相粒子と、複数の主相粒子の間に存在する粒界と、を含み、前記粒界は2個の主相粒子の間に存在する二粒子粒界を含み、前記二粒子粒界にZr-B化合物を含む。
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石1について図1を用いて説明する。なお、図1は本実施形態に係るR-T-B系永久磁石1(後述する試料番号1)の断面について1万倍で観察したSEM画像である。本実施形態に係るR-T-B系永久磁石1は、R2T14B型結晶構造を有する結晶粒子(Rは希土類元素の少なくとも1種、TはFeおよびCo、Bはホウ素)から成る主相粒子3および隣り合う2つ以上の主相粒子3によって形成される粒界を有する。
上述したような構成を有する本実施形態に係るR-T-B系永久磁石を製造する方法の一例について説明する。本実施形態に係るR-T-B系永久磁石(R-T-B系焼結磁石)を製造する方法は、以下の工程を有する。
(a)原料合金を準備する合金準備工程
(b)原料合金を粉砕する粉砕工程
(c)得られた合金粉末を成形する成形工程
(d)成形体を焼結し、R-T-B系永久磁石を得る焼結工程
(e)R-T-B系永久磁石を時効処理する時効処理工程
(f)R-T-B系永久磁石を冷却する冷却工程
(g)R-T-B系永久磁石を加工する加工工程
(h)R-T-B系永久磁石の粒界に重希土類元素を拡散させる粒界拡散工程
(i)R-T-B系永久磁石に表面処理する表面処理工程
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石の元となる組成の原料合金を準備する(合金準備工程)。合金準備工程では、本実施形態に係るR-T-B系永久磁石の組成に対応する原料金属を、真空またはArガスなどの不活性ガス雰囲気中で溶解する。その後、溶解した原料金属を用いて鋳造を行うことによって所望の組成を有する原料合金を作製する。なお、本実施形態では、1合金法について説明するが、第1合金と第2合金との2合金を混合して原料粉末を作製する2合金法でもよい。
原料合金を作製した後、原料合金を粉砕する(粉砕工程)。粉砕工程は、粒径が数百μm~数mm程度になるまで粉砕する粗粉砕工程と、粒径が数μm程度になるまで微粉砕する微粉砕工程とがある。
原料合金を粒径が数百μm~数mm程度になるまで粗粉砕する(粗粉砕工程)。これにより、原料合金の粗粉砕粉末を得る。粗粉砕は、例えば原料合金に水素を吸蔵させた後、異なる相間の水素吸蔵量の相違に基づいて水素を放出させ、脱水素を行なうことで自己崩壊的な粉砕を生じさせる(水素吸蔵粉砕)ことによって行うことができる。
原料合金を粗粉砕した後、得られた原料合金の粗粉砕粉末を平均粒子径が数μm程度になるまで微粉砕する(微粉砕工程)。これにより、原料合金の微粉砕粉末を得る。粗粉砕した粉末を更に微粉砕することで、例えば1μm以上10μm以下、または3μm以上5μm以下の粒子を有する微粉砕粉末を得ることができる。
微粉砕粉末を目的の形状に成形する(成形工程)。成形工程では、微粉砕粉末を、電磁石に抱かれた金型内に充填して加圧することによって、微粉砕粉末を任意の形状に成形する。このとき、磁場を印加しながら行い、磁場印加によって微粉砕粉末に所定の配向を生じさせ、結晶軸を配向させた状態で磁場中成形する。これにより成形体が得られる。得られる成形体は、特定方向に配向するので、より磁性の強い異方性を有するR-T-B系永久磁石が得られる。
磁場中で成形し、目的の形状に成形して得られた成形体を真空または不活性ガス雰囲気中で焼結し、R-T-B系永久磁石を得る(焼結工程)。焼結温度は、組成、粉砕方法、粒度と粒度分布の違い等、諸条件により調整する必要がある。成形体に対して、例えば、真空中または不活性ガスの存在下、1000℃以上1200℃以下で1時間以上48時間以下、加熱することにより焼結する。これにより、微粉砕粉末が液相焼結を生じ、主相粒子の体積比率が向上したR-T-B系永久磁石(R-T-B系磁石の焼結体)が得られる。成形体を焼結して焼結体を得た後は、生産効率を向上させる観点から焼結体を急冷してもよい。
成形体を焼結した後、R-T-B系永久磁石を時効処理する(時効処理工程)。焼結後、得られたR-T-B系永久磁石を焼結時よりも低い温度で保持することなどによって、R-T-B系永久磁石に時効処理を施す。時効処理は、例えば、700℃以上1000℃以下の温度で10分から6時間、更に500℃から700℃の温度で10分から6時間加熱する2段階加熱や、600℃付近の温度で10分から6時間加熱する1段階加熱等、時効処理を施す回数に応じて適宜処理条件を調整する。このような時効処理によって、R-T-B系永久磁石の磁気特性を向上させることができる。また、時効処理工程は後述する加工工程の後に行ってもよい。
R-T-B系永久磁石に時効処理を施した後、R-T-B系永久磁石はArガス雰囲気中で急冷を行う(冷却工程)。これにより、本実施形態に係るR-T-B系永久磁石を得ることができる。冷却速度は、特に限定されるものではなく、30℃/min以上としてもよい。
得られたR-T-B系永久磁石は、必要に応じて所望の形状に加工してもよい(加工工程)。加工方法は、例えば切断、研削などの形状加工や、バレル研磨などの面取り加工などが挙げられる。
加工されたR-T-B系永久磁石の粒界に対して、さらに重希土類元素を拡散させてもよい(粒界拡散工程)。粒界拡散の方法には特に制限はない。例えば、塗布または蒸着等により重希土類元素を含む化合物をR-T-B系永久磁石の表面に付着させた後に熱処理を行うことで実施してもよい。また、重希土類元素の蒸気を含む雰囲気中でR-T-B系永久磁石に対して熱処理を行うことで実施してもよい。粒界拡散により、R-T-B系永久磁石のHcJをさらに向上させることができる。
以上の工程により得られたR-T-B系永久磁石は、めっきや樹脂被膜や酸化処理、化成処理などの表面処理を施してもよい(表面処理工程)。
[組成分析]
各実施例および比較例のR-T-B系永久磁石について、蛍光X線分析法、誘導結合プラズマ質量分析法(ICP法)、およびガス分析により組成分析した。酸素の含有量は、不活性ガス融解-非分散型赤外線吸収法により測定した。炭素の含有量は、酸素気流中燃焼-赤外線吸収法により測定した。窒素の含有量は、不活性ガス融解-熱伝導度法により測定した。その結果、いずれのR-T-B系永久磁石の組成も表1に示す磁石組成となっていることが確認できた。
各試料のR-T-B系永久磁石を配向方向に平行な破断面が生じるように破断した。そして、得られた破断面において、粒径(円相当径)150μm以上の主相粒子(異常粒)が存在するか否かについてSEMを用いて確認した。各実施例および比較例について、焼結温度を1040℃から1100℃まで10℃間隔で変更して作成した7つの試料それぞれに異常粒が存在するか確認した。そして、異常粒が存在した試料のうち、最も低い焼結温度を表2の異常粒成長が生じる焼結温度として示す。
各実施例および比較例のR-T-B系永久磁石の角形比として、Hk/HcJをB-Hトレーサーを用いて測定した。なお、本実施例でのHkは、磁化がBr×0.9であるときの磁界の値である。Hk/HcJが95%より大きくなる試料のうち、最も低い焼結温度を表2のHk/HcJ>95%となる焼結温度として示す。
各実施例および比較例において、Hk/HcJ>95%となり、かつ、異常粒成長が生じない温度範囲を焼結可能温度として表2に記載した。そして、焼結可能温度の最高温度から最低温度を引いた値を焼結温度幅として表2に記載した。焼結温度幅が20℃以上である場合を良好とし、40℃以上である場合をさらに良好とした。なお、焼結温度を変更して作成した7つの試料のすべてで異常粒が存在しない場合には、便宜上、焼結可能温度の最高温度を1100℃とした。
各実施例および比較例のうち、焼結可能温度にて焼結したR-T-B系永久磁石を切断し、研磨した。そして、得られた切断面における元素分布をSEM(日立ハイテクノロジーズ社製SU-5000)およびEDS(ホリバ社製EMAXEvolution)で倍率2500倍、視野の大きさ36μm×50μmで分析した。なお、分析は得られた切断面のうち、互いに異なる2か所の視野で行った。
3 主相粒子
11 Zr-B化合物
13 R-Ga-Co-Cu-N濃縮部
15 R-O-C-N濃縮部
Claims (5)
- Rは1種以上の希土類元素、TはFeおよびCo、Bはホウ素であるR-T-B系永久磁石であって、
M,O,CおよびNを含有し、
MはCu,Ga,Mn,ZrおよびAlから選択される3種以上であり、少なくともCu,GaおよびZrを含有し、
前記R-T-B系永久磁石全体を100質量%として、
Rの合計含有量が29.0質量%以上33.5質量%以下、
Coの含有量が0.10質量%以上0.49質量%以下、
Bの含有量が0.80質量%以上0.96質量%以下、
Mの合計含有量が0.78質量%以上4.00質量%以下、
Cuの含有量が0.51質量%以上0.97質量%以下、
Gaの含有量が0.12質量%以上1.07質量%以下、
Zrの含有量が0.15質量%以上0.80質量%以下、
Cの含有量が0.065質量%以上0.200質量%以下、
Nの含有量が0.023質量%以上0.323質量%以下、
Oの含有量が0.201質量%以上0.367質量%以下であり、
Feが実質的な残部であり、
R2T14B化合物からなる主相粒子と、複数の主相粒子の間に存在する粒界と、を含み、前記粒界は2個の主相粒子の間に存在する二粒子粒界を含み、前記二粒子粒界にZr-B化合物を含むR-T-B系永久磁石。 - さらにR-O-C-N濃縮部を含む請求項1に記載のR-T-B系永久磁石。
- さらにR-Ga-Co-Cu-N濃縮部を含む請求項1または2に記載のR-T-B系永久磁石。
- Zr-C化合物を実質的に含まない請求項1~3のいずれかに記載のR-T-B系永久磁石。
- Mnの含有量が0.02質量%以上0.08質量%以下である請求項1~4のいずれかに記載のR-T-B系永久磁石。
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