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JP7371847B2 - Glass plate with coating film and composition for forming the same - Google Patents

Glass plate with coating film and composition for forming the same Download PDF

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JP7371847B2
JP7371847B2 JP2018242154A JP2018242154A JP7371847B2 JP 7371847 B2 JP7371847 B2 JP 7371847B2 JP 2018242154 A JP2018242154 A JP 2018242154A JP 2018242154 A JP2018242154 A JP 2018242154A JP 7371847 B2 JP7371847 B2 JP 7371847B2
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Description

本発明は、コーティング膜付きガラス板、特にガラス質コーティング膜付き輸送機材用ガラス板に関する。また、本発明は、このガラス板を形成するためのコーティング膜形成用組成物に関する。 The present invention relates to a glass plate with a coating film, particularly a glass plate for transportation equipment with a vitreous coating film. The present invention also relates to a composition for forming a coating film for forming this glass plate.

ガラス板には可視光線を透過させながら紫外線を遮蔽することが求められている。特に輸送機材の窓ガラス用途では、日焼け防止などの要望を背景として、紫外線遮蔽特性を付与したガラス板への需要が高い。ガラス板を構成するガラス組成中の酸化鉄の比率を高めることにより、ガラス板の紫外線遮蔽特性は向上する。しかし、酸化鉄のような無機系紫外線遮蔽成分の添加による紫外線遮蔽特性の向上には限界があり、長波長域の紫外線であるUVAを十分に遮蔽することもできない。このため、有機物により構成された有機系紫外線遮蔽成分を添加したコーティング膜をガラス板上に形成することによって紫外線遮蔽特性を向上させたガラス板が提案されている。 Glass plates are required to block ultraviolet rays while allowing visible rays to pass through. Particularly in the window glass applications of transportation equipment, there is a high demand for glass sheets with ultraviolet-shielding properties, due to demands for sun protection. By increasing the proportion of iron oxide in the glass composition constituting the glass plate, the ultraviolet shielding properties of the glass plate are improved. However, there is a limit to the improvement of the ultraviolet shielding properties by adding an inorganic ultraviolet shielding component such as iron oxide, and it is not possible to sufficiently shield UVA, which is ultraviolet light in the long wavelength range. For this reason, a glass plate has been proposed in which the ultraviolet shielding properties are improved by forming a coating film on the glass plate to which an organic ultraviolet shielding component made of an organic substance is added.

例えば、国際公開第2006/137454号パンフレット(特許文献1)には、ガラス板上に、酸化ケイ素を主成分とすると共に有機系紫外線遮蔽成分および親水性有機ポリマーを含むコーティング膜を形成したガラス板が開示されている。特許文献1ではゾルゲル法により膜が形成され、膜を形成するための溶液の溶媒として極性溶媒である低級アルコールが用いられる。特許文献1では、低級アルコールに溶解する有機系紫外線遮蔽成分が使用されている。 For example, International Publication No. 2006/137454 pamphlet (Patent Document 1) describes a glass plate in which a coating film containing silicon oxide as a main component, an organic ultraviolet shielding component, and a hydrophilic organic polymer is formed on the glass plate. is disclosed. In Patent Document 1, a film is formed by a sol-gel method, and a lower alcohol, which is a polar solvent, is used as a solvent for a solution for forming the film. Patent Document 1 uses an organic ultraviolet shielding component that dissolves in lower alcohol.

特開2009-184882号公報(特許文献2)には、非極性溶媒を含む溶液から形成した、紫外線遮蔽成分を含むコーティング膜を備えたガラス板が開示されている。この膜は低温硬化型のポリシラザンを含む膜形成用溶液から形成され、この溶液の溶媒にはキシレンなどの非極性溶媒が用いられている。特許文献2においても、膜に添加する有機系紫外線遮蔽成分は溶媒に溶解させて使用されている。 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-184882 (Patent Document 2) discloses a glass plate provided with a coating film containing an ultraviolet shielding component formed from a solution containing a nonpolar solvent. This film is formed from a film-forming solution containing low-temperature curing polysilazane, and a non-polar solvent such as xylene is used as the solvent for this solution. Also in Patent Document 2, the organic UV-shielding component added to the film is used after being dissolved in a solvent.

紫外線遮蔽成分を膜に均一に添加するためには、紫外線遮蔽成分を溶質として添加することが有利である。このため、特許文献1および2に開示されているように、有機系紫外線遮蔽剤は、膜形成用溶液に溶解させることが困難である無機系紫外線遮蔽剤とは異なり、膜形成用溶液に溶解させて膜に添加されていた。これに対し、国際公開第2012/107968号パンフレット(特許文献3)には、有機系紫外線遮蔽成分を微粒子として添加したコーティング膜を形成したガラス板が開示されている。微粒子として添加することにより、有機系紫外線遮蔽成分による紫外線遮蔽効果の持続性は大幅に向上する。 In order to uniformly add the UV-shielding component to the film, it is advantageous to add the UV-shielding component as a solute. For this reason, as disclosed in Patent Documents 1 and 2, unlike inorganic UV screening agents that are difficult to dissolve in film-forming solutions, organic UV-screening agents are difficult to dissolve in film-forming solutions. was added to the membrane. On the other hand, International Publication No. 2012/107968 pamphlet (Patent Document 3) discloses a glass plate on which a coating film containing an organic ultraviolet shielding component added as fine particles is formed. By adding it as fine particles, the sustainability of the ultraviolet shielding effect of the organic ultraviolet shielding component is greatly improved.

国際公開第2006/137454号パンフレットInternational Publication No. 2006/137454 pamphlet 特開2009-184882号公報JP2009-184882A 国際公開第2012/107968号パンフレットInternational Publication No. 2012/107968 pamphlet

長波長域の紫外線A波(UVA)は、皮膚の深部にまで到達して皮膚にダメージを与えるため、その効果的な遮蔽が望まれている。特に近年では、長波長側の端部を380nmとする紫外域の透過率TUV380と共に、長波長側の端部を400nmとした波長域300nm~400nmの透過率であるTUV400を十分に低下させうるガラス板が求められている。この要望に応えることができる紫外線遮蔽成分として、特許文献3にはベンゼンチオール銅錯体が開示されている(実施例Bシリーズ参照)。しかし、TUV400が十分に低下する程度にベンゼンチオール銅錯体を添加すると、紫外線遮蔽成分を含むコーティング膜は、可視短波長域の光の補色である黄色系に強く着色するとともに可視光透過率YAが低下する。 Ultraviolet A waves (UVA) in the long wavelength range reach deep into the skin and cause damage to the skin, so effective shielding is desired. Particularly in recent years, in addition to transmittance T UV 380 in the ultraviolet region where the end on the long wavelength side is 380 nm, T UV 400, which is the transmittance in the wavelength range 300 nm to 400 nm with the end on the long wavelength side 400 nm, has been sufficiently increased. There is a need for a glass plate that can be lowered. Patent Document 3 discloses a benzenethiol copper complex as an ultraviolet shielding component that can meet this demand (see Example B series). However, when the benzenethiol copper complex is added to an extent that T UV 400 is sufficiently reduced, the coating film containing the UV-shielding component becomes strongly colored yellow, which is the complementary color of light in the visible short wavelength range, and the visible light transmittance decreases. YA decreases.

一般に、また特に窓ガラス用途では、ガラス板の黄色系への強い着色は望まれない傾向にある。そこで本発明は、黄色系への顕著な着色を抑制しながら波長400nm近傍の光の透過率を低下させることができる、紫外線遮蔽成分を含むコーティング膜付きのガラス板を提供することを目的とする。本発明の別の目的は、上記コーティング膜の形成に適したコーティング膜形成用組成物を提供することにある。 In general, and particularly in window glass applications, strong yellow coloring of glass plates tends to be undesirable. Therefore, an object of the present invention is to provide a glass plate with a coating film containing an ultraviolet shielding component, which can reduce the transmittance of light near a wavelength of 400 nm while suppressing noticeable yellow coloring. . Another object of the present invention is to provide a coating film-forming composition suitable for forming the above-mentioned coating film.

本発明は、その一側面から、
紫外線吸収能を付与する添加剤を含有するガラス質コーティング膜付き輸送機材用ガラス板であって、
ガラス板と、前記ガラス板の主表面に接したコーティング膜と、を有し、
前記コーティング膜が、主成分である酸化ケイ素と、前記添加剤と、を含み、
前記添加剤が有機化合物Aを含み、
前記有機化合物Aが、2-フェニルベンゾトリアゾール骨格と、前記2-フェニルベンゾトリアゾール骨格に接続された少なくとも1つのチオ有機基と、を含む分子構造を有する、ガラス板、を提供する。
ただし、前記チオ有機基は、有機基をRとしたときに、-S-Rにより示される基である。
From one aspect of the present invention,
A glass plate for transportation equipment with a vitreous coating film containing an additive that imparts ultraviolet absorption ability,
comprising a glass plate and a coating film in contact with the main surface of the glass plate,
The coating film contains silicon oxide as a main component and the additive,
the additive contains an organic compound A,
A glass plate is provided, wherein the organic compound A has a molecular structure including a 2-phenylbenzotriazole skeleton and at least one thioorganic group connected to the 2-phenylbenzotriazole skeleton.
However, the thioorganic group is a group represented by -SR, where R is an organic group.

本発明は、その別の一側面から、
紫外線吸収能を付与する添加剤を含有するガラス質コーティング膜付き輸送機材用ガラス板用のコーティング膜形成用組成物であって、
酸化ケイ素前駆体と、紫外線吸収能を付与する添加剤である有機化合物Aとを含み、
前記有機化合物Aが、微粒子の形態を有し、
前記有機化合物Aが、2-フェニルベンゾトリアゾール骨格と、前記2-フェニルベンゾトリアゾール骨格に接続された少なくとも1つのチオ有機基と、を含む分子構造を有する、コーティング膜形成用組成物、を提供する。
ただし、前記チオ有機基は、有機基をRとしたときに、-S-Rにより示される基である。
From another aspect of the present invention,
A composition for forming a coating film for a glass plate for transportation equipment with a vitreous coating film containing an additive that imparts ultraviolet absorption ability,
Contains a silicon oxide precursor and an organic compound A that is an additive that imparts ultraviolet absorption ability,
The organic compound A has the form of fine particles,
Provided is a composition for forming a coating film, wherein the organic compound A has a molecular structure including a 2-phenylbenzotriazole skeleton and at least one thioorganic group connected to the 2-phenylbenzotriazole skeleton. .
However, the thioorganic group is a group represented by -SR, where R is an organic group.

本発明は、その別の一側面から、
紫外線吸収能を付与する添加剤を含有するガラス質コーティング膜付き輸送機材用ガラス板の前記ガラス質コーティング膜の形成に用いる微粒子分散組成物であって、
紫外線吸収能を付与する添加剤である有機化合物Aを含み、
前記有機化合物Aが、平均粒径が150nm以下の微粒子の形態を有し、
前記有機化合物Aが、2-フェニルベンゾトリアゾール骨格と、前記2-フェニルベンゾトリアゾール骨格に接続された少なくとも1つのチオ有機基と、を含む分子構造を有する、微粒子分散組成物。
ただし、前記チオ有機基は、有機基をRとしたときに、-S-Rにより示される基である。
From another aspect of the present invention,
A fine particle dispersion composition used for forming a glassy coating film of a glass plate for transportation equipment with a glassy coating film containing an additive that imparts ultraviolet absorption ability,
Contains organic compound A, which is an additive that imparts ultraviolet absorption ability,
The organic compound A has the form of fine particles with an average particle size of 150 nm or less,
A fine particle dispersion composition, wherein the organic compound A has a molecular structure including a 2-phenylbenzotriazole skeleton and at least one thioorganic group connected to the 2-phenylbenzotriazole skeleton.
However, the thioorganic group is a group represented by -SR, where R is an organic group.

本発明によれば、黄色系への顕著な着色を抑制しながら波長400nm近傍の光の透過率を低下させることに適したコーティング膜付きのガラス板と、このコーティング膜の形成に適した組成物、を提供することが可能になる。 According to the present invention, there is provided a glass plate with a coating film suitable for reducing the transmittance of light in the vicinity of a wavelength of 400 nm while suppressing noticeable yellow coloring, and a composition suitable for forming the coating film. , it becomes possible to provide.

本発明によるガラス板の一形態を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing one form of a glass plate according to the present invention. 本発明によるガラス板をドアガラスとして用いるときの形態を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a form when the glass plate according to the present invention is used as door glass. 本発明によるガラス板をドアガラスとして用いるときの別の形態を示す平面図である。It is a top view which shows another form when the glass plate by this invention is used as door glass. 本発明によるガラス板をドアガラスとして用いるときの形態を示す部分断面平面図である。FIG. 2 is a partially sectional plan view showing a form when the glass plate according to the present invention is used as door glass.

以下に本発明の好ましい実施形態を説明するが、以下の説明は本発明を特定の実施形態に制限する趣旨ではない。 Preferred embodiments of the present invention will be described below, but the following description is not intended to limit the present invention to specific embodiments.

本発明の一側面は、以下のとおりである。
紫外線吸収能を付与する添加剤を含有するコーティング膜付きガラス板であって、
ガラス板と、前記ガラス板の主表面に接したコーティング膜と、を有し、
前記コーティング膜が、主成分である酸化ケイ素と、前記添加剤と、を含み、
前記添加剤が有機化合物Aを含み、
前記有機化合物Aが、2-フェニルベンゾトリアゾール骨格と、前記2-フェニルベンゾトリアゾール骨格に接続された少なくとも1つのチオ有機基と、を含む分子構造を有する、ガラス板。
ただし、前記チオ有機基は、有機基をRとしたときに、-S-Rにより示される基である。
One aspect of the present invention is as follows.
A glass plate with a coating film containing an additive that imparts ultraviolet absorption ability,
comprising a glass plate and a coating film in contact with the main surface of the glass plate,
The coating film contains silicon oxide as a main component and the additive,
the additive contains an organic compound A,
A glass plate, wherein the organic compound A has a molecular structure including a 2-phenylbenzotriazole skeleton and at least one thioorganic group connected to the 2-phenylbenzotriazole skeleton.
However, the thioorganic group is a group represented by -SR, where R is an organic group.

本発明によるガラス板の一形態では、前記有機化合物Aが、以下の式(1)により示される単位を含む。ただし、式(1)において、A1~A9は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、芳香族基、不飽和基、酸素原子含有基、リン原子含有基、および硫黄原子含有基から選ばれる少なくとも1つに該当する原子または基であり、A1~A9の少なくとも1つはチオ有機基である。チオ有機基以外の硫黄原子含有基は、硫黄原子を含有し、かつスルフィド結合(-S-)により2-フェニル-ベンゾトリアゾール骨格に接続していない基である。 In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A includes a unit represented by the following formula (1). However, in formula (1), A 1 to A 9 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, an aromatic group, an unsaturated group, an oxygen atom-containing group, a phosphorus atom-containing group, and a sulfur atom. It is an atom or group corresponding to at least one selected from the containing groups, and at least one of A 1 to A 9 is a thioorganic group. The sulfur atom-containing group other than the thioorganic group is a group that contains a sulfur atom and is not connected to the 2-phenyl-benzotriazole skeleton through a sulfide bond (-S-).

Figure 0007371847000001
Figure 0007371847000001

本発明によるガラス板の一形態では、A6~A9の少なくとも1つがチオ有機基である。本発明によるガラス板の別の一形態では、A1~A5の少なくとも1つがチオ有機基である。 In one form of the glass plate according to the invention, at least one of A 6 to A 9 is a thioorganic group. In another form of the glass plate according to the invention, at least one of A 1 to A 5 is a thioorganic group.

本発明によるガラス板の一形態では、チオ有機基が、水素原子の置換基を有していてもよいチオアルキル基、または水素原子の置換基を有していてもよいチオアリール環基である。ここで、チオアルキル基は、水素原子の置換基を有していてもよいアルキル基をAlkと表示したときに-S-Alkにより示される基であり、チオアリール環基は、水素原子の置換基を有していてもよいアリール環基をAryと表示したときに-S-Aryにより示される基である。ただし、チオ有機基は、チオアルキル基およびチオアリール環基以外であっても構わない。 In one form of the glass plate according to the present invention, the thioorganic group is a thioalkyl group which may have a hydrogen atom substituent, or a thioaryl ring group which may have a hydrogen atom substituent. Here, the thioalkyl group is a group represented by -S-Alk when an alkyl group that may have a hydrogen atom substituent is expressed as Alk, and the thioaryl ring group is a group represented by -S-Alk, which may have a hydrogen atom substituent. This is a group represented by -S-Ary when the optional aryl ring group is represented by Ary. However, the thioorganic group may be other than a thioalkyl group and a thioaryl ring group.

本発明によるガラス板の一形態では、チオアルキル基に含まれる水素原子の置換基を有していてもよいアルキル基が、炭素数1~18のアルキル基、または水素原子の置換基としてフェニル基を有する炭素数1~6のアルキル基である。アルキル基は、非環式でも環式でもよく、非環式、すなわち鎖状であるときは直鎖アルキル基であっても分岐を有するアルキル基であってもよい。 In one form of the glass plate according to the present invention, the alkyl group which may have a substituent for the hydrogen atom contained in the thioalkyl group is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a phenyl group as a substituent for the hydrogen atom. It is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. The alkyl group may be acyclic or cyclic, and when it is acyclic, that is, chain-like, it may be a straight-chain alkyl group or a branched alkyl group.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、2つの2-フェニルベンゾトリアゾール骨格を含み、2つの2-フェニルベンゾトリアゾール骨格が、チオ有機基を介して接続され、チオ有機基が、2つの2-フェニルベンゾトリアゾール骨格のそれぞれとスルフィド結合を介して接続している。 In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A includes two 2-phenylbenzotriazole skeletons, the two 2-phenylbenzotriazole skeletons are connected via a thioorganic group, and the thioorganic group is It is connected to each of the two 2-phenylbenzotriazole skeletons via a sulfide bond.

2つの2-フェニルベンゾトリアゾール骨格の間に介在するチオ有機基は、水素原子の置換基を有していてもよいアルキレン基を(Alk)、水素原子の置換基を有していてもよいアリーレン環基を(Ary)と表示したときに、以下のいずれかにより示される基であってもよい。
・-S-(Alk)-S-
・-S-(Ary)-S-
・-S-(Ary)-(Ary)-S-
・-S-(Ary)-S-(Ary)-S-
・-S-(Ary)-(Alk)-(Ary)-S-
・-S-(Ary)-S-(Ary)-S-(Ary)-S-
The thioorganic group interposed between two 2-phenylbenzotriazole skeletons is an alkylene group (Alk) which may have a substituent on a hydrogen atom, an arylene group (Alk) which may have a substituent on a hydrogen atom, When a cyclic group is represented as (Ary), it may be a group represented by any of the following.
・-S-(Alk)-S-
・-S-(Ary)-S-
・-S-(Ary)-(Ary)-S-
・-S-(Ary)-S-(Ary)-S-
・-S-(Ary)-(Alk)-(Ary)-S-
・-S-(Ary)-S-(Ary)-S-(Ary)-S-

本発明によるガラス板の一形態では、チオ有機基が、チオアリール環基である。 In one form of the glass plate according to the invention, the thioorganic group is a thioaryl ring group.

本発明によるガラス板の一形態では、チオアリール環基が、水素原子の置換基として炭素数4~9のアルキル基を有する。アルキル基は、直鎖アルキル基であってもよく、分岐を有する鎖状アルキル基であってもよい。本発明によるガラス板の一形態では、チオアリール環基が、置換基として、四級炭素原子を含み、かつ炭素数4~9の分岐を有する鎖状アルキル基を有する。 In one form of the glass plate according to the present invention, the thioaryl ring group has an alkyl group having 4 to 9 carbon atoms as a substituent for the hydrogen atom. The alkyl group may be a straight chain alkyl group or a branched chain alkyl group. In one form of the glass plate according to the present invention, the thioaryl ring group has a branched chain alkyl group containing a quaternary carbon atom and having 4 to 9 carbon atoms as a substituent.

本発明によるガラス板の一形態では、チオアリール環基に含まれるアリール環が、ベンゼン環および/またはナフタレン環である。 In one form of the glass plate according to the present invention, the aryl ring contained in the thioaryl ring group is a benzene ring and/or a naphthalene ring.

本発明によるガラス板の一形態では、チオアルキル基に含まれるアルキル基が、水素原子の置換基を有していてもよいシクロヘキシル基である。この場合、チオアルキル基は、チオヘキシル環基であり、水素原子の置換基を有していてもよいシクロヘキシル基をCyと表示したときに、-S-Cyにより示される基である。 In one form of the glass plate according to the present invention, the alkyl group contained in the thioalkyl group is a cyclohexyl group which may have a hydrogen atom substituent. In this case, the thioalkyl group is a thiohexyl ring group, and is a group represented by -S-Cy when a cyclohexyl group which may have a hydrogen atom substituent is represented by Cy.

本発明によるガラス板の一形態では、チオアルキル基に含まれるアルキル基およびチオアリール環基に含まれるアリール環基の炭素数が1~18の範囲にある。 In one embodiment of the glass plate according to the present invention, the number of carbon atoms in the alkyl group contained in the thioalkyl group and the aryl ring group contained in the thioaryl ring group is in the range of 1 to 18.

本発明によるガラス板の一形態では、チオアルキル基またはチオアリール環基に含まれていてもよい水素原子の置換基が、ハロゲン原子、炭化水素基、芳香族基、不飽和基、酸素原子含有基、リン原子含有基、および硫黄原子含有基から選ばれる少なくとも1つに該当する原子または基である。チオアルキレン基またはチオアリーレン環基に含まれていてもよい水素原子の置換基、および後述する水素原子の置換基についても同様である。 In one form of the glass plate according to the present invention, the hydrogen atom substituent that may be included in the thioalkyl group or thioaryl ring group is a halogen atom, a hydrocarbon group, an aromatic group, an unsaturated group, an oxygen atom-containing group, An atom or group corresponding to at least one selected from a phosphorus atom-containing group and a sulfur atom-containing group. The same applies to the substituents on the hydrogen atom that may be included in the thioalkylene group or the thioarylene ring group, and the substituents on the hydrogen atom described below.

環状のチオ有機基、特にチオアリール環基またはチオヘキシル環基に含まれていてもよい水素原子の置換基は、炭素数1~18の炭化水素基、炭素数1~18のアルコキシ基、またはヒドロキシ基であってもよい。炭化水素基およびヒドロキシ基の炭素数は、2以上、3以上、特に4以上が好適であり、12以下、9以下、特に8以下が好適である。炭化水素基は、非環式であっても環式であってもよく、例えば炭素数4~9、3~8または4~8の直鎖のまたは分岐を有する鎖状アルキル基、特に分岐を有する鎖状アルキル基である。環状のチオ有機基に含まれていてもよい水素原子の置換基の数は、0~5、さらには1~5、特に1~2が好ましい。 A substituent for a hydrogen atom that may be contained in a cyclic thioorganic group, particularly a thioaryl ring group or a thiohexyl ring group, is a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, or a hydroxy group. It may be. The number of carbon atoms in the hydrocarbon group and the hydroxy group is preferably 2 or more, 3 or more, especially 4 or more, and 12 or less, 9 or less, especially 8 or less. The hydrocarbon group may be acyclic or cyclic, for example a linear or branched alkyl group having 4 to 9 carbon atoms, 3 to 8 carbon atoms, or 4 to 8 carbon atoms, especially a branched chain alkyl group. It is a chain alkyl group having The number of hydrogen atom substituents that may be included in the cyclic thioorganic group is preferably 0 to 5, more preferably 1 to 5, and particularly preferably 1 to 2.

2つの2-フェニルベンゾトリアゾール骨格の間に介在するチオ有機基が-S-(Ary)-(Alk)-(Ary)-S-により示される場合、(Alk)により示されるアルキレン基は、炭素数3~12の直鎖のまたは分岐を有する鎖状アルキレン基、さらには分岐を有するアルキレン基であることが好ましく、四級炭素原子を含むアルキレン基であってもよい。 When the thioorganic group interposed between two 2-phenylbenzotriazole skeletons is represented by -S-(Ary)-(Alk)-(Ary)-S-, the alkylene group represented by (Alk) is carbon It is preferably a linear or branched alkylene group of 3 to 12, and more preferably a branched alkylene group, and may also be an alkylene group containing a quaternary carbon atom.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、次式(2-1)~(2-3)のいずれかで表わされる、水素原子の置換基を有していてもよいチオアリール環基またはチオヘキシル環基を有する2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体である。
PhBzT1a-S-X1a-(R1al (2-1)
(式中、PhBzT1aは、水素原子の前記置換基を有していてもよい、チオアリール環基(-S-X1a-…)が結合した2-フェニルベンゾトリアゾール骨格を示し、X1aはフェニル環またはナフチル環の残基を示し、l個のR1aはそれぞれ独立に炭素数1~18の炭化水素基、炭素数1~18のアルコキシ基、またはヒドロキシ基を示し、lは0~5の整数を示す。)
PhBzT1b-S-Cy-(R1bm (2-2)
(式中、PhBzT1bは、水素原子の前記置換基を有していてもよい、チオシクロヘキシル環基(-S-Cy-…)が結合した2-フェニルベンゾトリアゾール骨格を示し、Cyはシクロヘキシル環残基を示し、m個のR1bはそれぞれ独立に炭素数1~18の炭化水素基、炭素数1~18のアルコキシ基、またはヒドロキシ基を示し、mは0~5の整数を示す。)
PhBzT1c-S-A1c-S-PhBzT2c (2-3)
(式中、PhBzT1cおよびPhBzT2cは、それぞれ独立に前記置換基を有していてもよい、チオアリール環基(-S-A1c-S-)が結合した2-フェニルベンゾトリアゾール骨格を示し、A1cは次式:
-[X1c-(R1cn]-(A2cq-[X2c-(R2cp]-
(式中、X1cとX2cはそれぞれ独立にフェニル環またはナフチル環の残基を示し、n個のR1cとp個のR2cはそれぞれ独立に炭素数1~18の炭化水素基、炭素数1~18のアルコキシ基、またはヒドロキシ基を示し、nとpは0~4の整数を示し、A2cは、芳香族基、不飽和基、窒素原子含有基、硫黄原子含有基、酸素原子含有基、リン原子含有基、脂環式基、およびハロゲン原子から選ばれる1価もしくは2価の基により、水素原子が置換されるか、両端の少なくともいずれかが中断されるか、または炭素-炭素結合が中断されていてもよい炭素数1~20の2価の炭化水素基、2価の芳香族基、またはスルフィド結合を示し、qは0または1の整数を示す。)で表される基であるか、あるいはフェニル環またはナフチル環残基を示す。)
In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A is a thioaryl ring group optionally having a substituent for a hydrogen atom, represented by any one of the following formulas (2-1) to (2-3). Or a 2-phenylbenzotriazole derivative having a thiohexyl ring group.
PhBzT 1a -S-X 1a -(R 1a ) l (2-1)
(In the formula, PhBzT 1a represents a 2-phenylbenzotriazole skeleton to which a thioaryl ring group (-S-X 1a -...), which may have the above-mentioned substituent for a hydrogen atom, is bonded, and X 1a is phenyl Represents a ring or naphthyl ring residue, l R 1a each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, or a hydroxy group, and 1 represents a residue of 0 to 5 carbon atoms. (Indicates an integer.)
PhBzT 1b -S-Cy-(R 1b ) m (2-2)
(In the formula, PhBzT 1b represents a 2-phenylbenzotriazole skeleton to which a thiocyclohexyl ring group (-S-Cy-...), which may have the above-mentioned substituent for a hydrogen atom, is bonded, and Cy is a cyclohexyl ring (m R 1b each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, or a hydroxy group, and m represents an integer of 0 to 5.)
PhBzT 1c -S-A 1c -S-PhBzT 2c (2-3)
(In the formula, PhBzT 1c and PhBzT 2c each independently represent a 2-phenylbenzotriazole skeleton to which a thioaryl ring group (-S-A 1c -S-) is bonded, which may have the above-mentioned substituent, A 1c is the following formula:
- [X 1c - (R 1c ) n ] - (A 2c ) q - [X 2c - (R 2c ) p ] -
(In the formula, X 1c and X 2c each independently represent a phenyl ring or naphthyl ring residue, and n R 1c and p R 2c each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, a carbon It represents an alkoxy group or a hydroxy group of numbers 1 to 18, n and p represent integers of 0 to 4, and A 2c is an aromatic group, an unsaturated group, a nitrogen atom-containing group, a sulfur atom-containing group, or an oxygen atom. A hydrogen atom is substituted with a monovalent or divalent group selected from a containing group, a phosphorus atom-containing group, an alicyclic group, and a halogen atom, or at least one of both ends is interrupted, or a carbon- represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a divalent aromatic group, or a sulfide bond, in which the carbon bond may be interrupted, and q represents an integer of 0 or 1.) or represents a phenyl or naphthyl ring residue. )

式(2-1)~(2-3)のいずれかで表わされる2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体においても、水素原子の置換基は、例えば、ハロゲン原子、炭化水素基、芳香族基、不飽和基、酸素原子含有基、リン原子含有基、および硫黄原子含有基から選ばれる少なくとも1つに該当する原子または基である。 Also in the 2-phenylbenzotriazole derivatives represented by any of formulas (2-1) to (2-3), substituents for hydrogen atoms include, for example, halogen atoms, hydrocarbon groups, aromatic groups, and unsaturated groups. , an oxygen atom-containing group, a phosphorus atom-containing group, and a sulfur atom-containing group.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、式(2-1)または式(2-3)により表わされるものであり、X1a、X1cおよびX2cはフェニル環の残基を示し、l、nおよびpは0を示す。 In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A is represented by the formula (2-1) or the formula (2-3), and X 1a , X 1c and X 2c are phenyl ring residues. where l, n and p represent 0.

本発明によるガラス板の一形態では、2-フェニルベンゾトリアゾール骨格のベンゾトリアゾール骨格に接続しているフェニル基が、2位にヒドロキシ基を5位に炭素数1~6のアルキル基をそれぞれ有する。言い換えると、式(1)において、A1がヒドロキシ基であってA4が炭素数1~6のアルキル基である。このアルキル基は、例えばメチル基または1,1-ジメチルエチル基(tert-ブチル基)、特にメチル基である。フェニル基は、4位および6位に水素原子を、3位に炭素数1~6のアルキル基、例えばメチル基またはtert-ブチル基、特にtert-ブチル基を有するものであってもよい。言い換えると、式(1)のフェニル基は、例えば、A1がヒドロキシ基、A2が炭素数1~6のアルキル基、特にtert-ブチル基、A3が水素原子、A4が炭素数1~6のアルキル基、特にメチル基、A5が水素原子である。 In one form of the glass plate according to the present invention, the phenyl group connected to the benzotriazole skeleton of the 2-phenylbenzotriazole skeleton has a hydroxy group at the 2-position and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms at the 5-position. In other words, in formula (1), A 1 is a hydroxy group and A 4 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. This alkyl group is, for example, a methyl group or a 1,1-dimethylethyl group (tert-butyl group), especially a methyl group. The phenyl group may have hydrogen atoms in the 4- and 6-positions and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in the 3-position, such as a methyl group or a tert-butyl group, especially a tert-butyl group. In other words, in the phenyl group of formula (1), for example, A 1 is a hydroxy group, A 2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, especially a tert-butyl group, A 3 is a hydrogen atom, and A 4 is a carbon number 1 -6 alkyl group, especially methyl group, A 5 is a hydrogen atom.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、式(2-1)または式(2-3)により表わされるものであり、X1a、X1cおよびX2cはフェニル環の残基を示し、R1a、R1cおよびR2cは、それぞれ独立に炭素数1~18の直鎖のまたは分岐を有する鎖状アルキル基を示し、l、nおよびpは1~5の整数を示す。 In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A is represented by formula (2-1) or formula (2-3), and X 1a , X 1c and X 2c represent residues of a phenyl ring. R 1a , R 1c and R 2c each independently represent a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and l, n and p represent integers of 1 to 5.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、式(2-1)または式(2-3)により表わされるものであり、X1a、X1cおよびX2cはフェニル環の残基を示し、R1a、R1cおよびR2cは、それぞれ独立に炭素数3~8の分岐を有する鎖状アルキル基を示し、l、nおよびpは1~3の整数を示す。 In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A is represented by formula (2-1) or formula (2-3), and X 1a , X 1c and X 2c represent residues of a phenyl ring. R 1a , R 1c and R 2c each independently represent a branched chain alkyl group having 3 to 8 carbon atoms, and l, n and p represent integers of 1 to 3.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、式(2-1)または式(2-3)により表わされるものであり、X1a、X1cおよびX2cはフェニル環の残基を示し、R1a、R1cおよびR2cは、それぞれ独立に炭素数1~18の直鎖のまたは分岐を有する鎖状アルキル基を示し、l、nおよびpは1を示す。 In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A is represented by the formula (2-1) or the formula (2-3), and X 1a , X 1c and X 2c are phenyl ring residues. R 1a , R 1c and R 2c each independently represent a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and l, n and p represent 1.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、式(2-1)により表わされるものであり、X1aはフェニル環の残基を示し、R1aは炭素数4~9の直鎖のまたは分岐を有する鎖状アルキル基を示す。 In one embodiment of the glass plate according to the present invention, the organic compound A is represented by the formula (2-1), where X 1a represents a phenyl ring residue, and R 1a represents a linear chain having 4 to 9 carbon atoms. or a branched alkyl group.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、式(2-1)または式(2-3)により表わされるものであり、X1a、X1cおよびX2cはフェニル環の残基を示し、R1a、R1cおよびR2cは、それぞれ独立に炭素数1~18の直鎖のまたは分岐を有する鎖状アルキル基を示し、l、nおよびpは2を示す。 In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A is represented by formula (2-1) or formula (2-3), and X 1a , X 1c and X 2c represent residues of a phenyl ring. R 1a , R 1c and R 2c each independently represent a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and l, n and p represent 2.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、式(2-1)または式(2-3)により表わされるものであり、X1a、X1cおよびX2cはフェニル環の残基を示し、R1a、R1cおよびR2cは、それぞれ独立に三級炭素および/または四級炭素を含む炭素数1~18の直鎖のまたは分岐を有する鎖状アルキル基を示し、l、nおよびpは1~5の整数を示す。 In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A is represented by formula (2-1) or formula (2-3), and X 1a , X 1c and X 2c represent residues of a phenyl ring. R 1a , R 1c and R 2c each independently represent a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms containing a tertiary carbon and/or a quaternary carbon; p represents an integer from 1 to 5.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、式(2-1)により表わされるものであり、X1aはフェニル環の残基を示し、R1aは、四級炭素を含む炭素数4~9の分岐を有する鎖状アルキル基を示し、l、nおよびpは1~5の整数を示す。 In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A is represented by formula (2-1), where X 1a represents a residue of a phenyl ring, and R 1a represents the number of carbon atoms including quaternary carbon. It represents a chain alkyl group having 4 to 9 branches, and l, n and p represent integers of 1 to 5.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、式(2-1)または式(2-3)により表わされるものであり、X1a、X1cおよびX2cはフェニル環の残基を示し、R1a、R1cおよびR2cは、それぞれ独立に炭素数1~18の直鎖のまたは分岐を有する鎖状アルキル基を含むアルコキシ基を示す。 In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A is represented by formula (2-1) or formula (2-3), and X 1a , X 1c and X 2c represent residues of a phenyl ring. R 1a , R 1c and R 2c each independently represent an alkoxy group containing a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、式(2-1)または式(2-3)により表わされるものであり、X1a、X1cおよびX2cはフェニル環の残基を示し、R1a、R1cおよびR2cはヒドロキシ基を示す。 In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A is represented by formula (2-1) or formula (2-3), and X 1a , X 1c and X 2c represent residues of a phenyl ring. and R 1a , R 1c and R 2c represent a hydroxy group.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、式(2-1)または式(2-3)により表わされるものであり、X1a、X1cおよびX2cはナフチル環の残基を示す。 In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A is represented by formula (2-1) or formula (2-3), and X 1a , X 1c and X 2c represent residues of a naphthyl ring. show.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、式(2-2)により表わされるものであり、mは0を示す。 In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A is represented by formula (2-2), and m represents 0.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、式(2-2)により表わされるものであり、R1bは炭素数1~18の炭化水素基を示し、mは1~5の整数を示す。 In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A is represented by formula (2-2), R 1b represents a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and m is an integer of 1 to 5. shows.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、式(2-3)により表わされるものであり、X1cおよびX2cはフェニル基の残基を示し、A2cはスルフィド結合を示し、qは1を示す。 In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A is represented by the formula (2-3), where X 1c and X 2c represent phenyl group residues, A 2c represents a sulfide bond, q indicates 1.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、式(2-3)により表わされるものであり、X1cおよびX2cはフェニル基の残基を示し、A2cは炭素数1~8の炭化水素基を示し、qは1を示す。 In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A is represented by formula (2-3), where X 1c and X 2c represent residues of a phenyl group, and A 2c has 1 to 8 carbon atoms. represents a hydrocarbon group, and q represents 1.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、式(2-3)により表わされるものであり、X1cおよびX2cはフェニル基の残基を示し、qは0を示す。 In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A is represented by the formula (2-3), where X 1c and X 2c represent phenyl group residues, and q represents 0.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、式(2-1)により表わされるものであり、X1aはフェニル基の残基を示し、R1aは炭素数1~18の直鎖のまたは分岐を有する鎖状アルキル基を示し、lは0~5の整数を示す。この場合、X1aは2-フェニルベンゾトリアゾール骨格のベンゾトリアゾール骨格に接続しているフェニル基に接続していてもよく、同骨格に直接接続していてもよい。また、R1aは炭素数4~9の直鎖のまたは分岐を有する鎖状アルキル基を示し、lは1または2を示すものであってもよい。また、R1aは炭素数4~9の分岐を有する鎖状アルキル基を示し、R1aの少なくとも1つは四級炭素を含む鎖状アルキル基であってもよい。 In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A is represented by the formula (2-1), where X 1a represents a phenyl group residue, and R 1a represents a linear chain having 1 to 18 carbon atoms. or a branched chain alkyl group, and l represents an integer of 0 to 5. In this case, X 1a may be connected to the phenyl group connected to the benzotriazole skeleton of the 2-phenylbenzotriazole skeleton, or may be directly connected to the same skeleton. Further, R 1a represents a linear or branched alkyl group having 4 to 9 carbon atoms, and 1 may represent 1 or 2. Further, R 1a represents a branched chain alkyl group having 4 to 9 carbon atoms, and at least one of R 1a may be a chain alkyl group containing quaternary carbon.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、式(2-1)により表わされるものであり、X1aは2-フェニルベンゾトリアゾール骨格のベンゾトリアゾール骨格に接続しているフェニル基に接続し、R1aは、炭素数1~18の直鎖のもしくは分岐を有する鎖状アルキル基を含むアルコキシ基、またはヒドロキシ基であり、lは1または2を示す。 In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A is represented by formula (2-1), and X 1a is connected to the phenyl group connected to the benzotriazole skeleton of the 2-phenylbenzotriazole skeleton. R 1a is an alkoxy group containing a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a hydroxy group, and 1 is 1 or 2.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、式(2-1)により表わされるものであり、2-フェニルベンゾトリアゾール骨格のベンゾトリアゾール骨格に接続しているフェニル基に、ヒドロキシ基およびメチル基がそれぞれ接続している。このフェニル基は、2位にヒドロキシ基を、5位にメチル基をそれぞれ有していてもよい。また、このフェニル基に、ヒドロキシ基、1,1-ジメチルエチル基およびメチル基がそれぞれ接続していてもよい。さらに、このフェニル基は、2位にヒドロキシ基を、3位に1,1-ジメチルエチル基(tert-ブチル基)を、5位にメチル基をそれぞれ有していてもよい。 In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A is represented by formula (2-1), and has a hydroxy group and a phenyl group connected to the benzotriazole skeleton of the 2-phenylbenzotriazole skeleton. Methyl groups are connected to each other. This phenyl group may have a hydroxy group at the 2-position and a methyl group at the 5-position. Further, a hydroxy group, a 1,1-dimethylethyl group, and a methyl group may each be connected to this phenyl group. Furthermore, this phenyl group may have a hydroxy group at the 2-position, a 1,1-dimethylethyl group (tert-butyl group) at the 3-position, and a methyl group at the 5-position.

本発明によるガラス板の一形態では、コーティング膜が、有機化合物Bをさらに含み、有機化合物Bが、2-フェニルベンゾトリアゾール骨格を含み、2-フェニルベンゾトリアゾール骨格にチオ有機基が接続されていない分子構造を有する。 In one form of the glass plate according to the present invention, the coating film further includes an organic compound B, the organic compound B includes a 2-phenylbenzotriazole skeleton, and no thioorganic group is connected to the 2-phenylbenzotriazole skeleton. It has a molecular structure.

本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Bが、平均粒径が150nm以下の微粒子の形態を有する。また、本発明によるガラス板の一形態では、有機化合物Aが、平均粒径が150nm以下の微粒子の形態を有する。 In one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound B has the form of fine particles with an average particle size of 150 nm or less. Moreover, in one form of the glass plate according to the present invention, the organic compound A has the form of fine particles with an average particle size of 150 nm or less.

本発明によるガラス板の一形態では、ISO13837(convention A)に従って算出したTUV400が2%以下であり、CIE標準のA光源を用いて測定する可視光透過率YAが70%以上である。本発明によるガラス板の一形態では、CIE標準のC光源からの透過光がL***表色系により表示して、-15以上0以下のa*と12以下のb*とを有する。本発明によるガラス板の一形態では、CIE標準のC光源からの透過光のJIS K7373:2006に規定された黄色度YIが14以下である。本発明によるガラス板の一形態では、波長295~450nm、照度76mW/cm2の紫外線を100時間照射した後の紫外線透過率TUV400から前記紫外線を照射する前の紫外線透過率TUV400を差し引いた差分ΔTUV400が2%以下である。 One form of the glass plate according to the invention has a T UV 400 calculated according to ISO 13837 (convention A) of 2% or less, and a visible light transmittance YA measured using a CIE standard A light source of 70% or more. In one form of the glass plate according to the present invention, transmitted light from a CIE standard C light source is displayed using the L * a * b * color system, and a * of -15 or more and 0 or less and b * of 12 or less are expressed. have In one form of the glass plate according to the present invention, the yellowness YI defined in JIS K7373:2006 of transmitted light from a CIE standard C light source is 14 or less. In one embodiment of the glass plate according to the present invention, the ultraviolet transmittance T UV 400 after irradiation with ultraviolet rays having a wavelength of 295 to 450 nm and an illuminance of 76 mW/cm 2 for 100 hours is determined by the ultraviolet transmittance T UV 400 before irradiating with the ultraviolet rays. The subtracted difference ΔT UV 400 is 2% or less.

本発明の別の一側面は、以下のとおりである。
紫外線吸収能を付与する添加剤を含有するコーティング膜付きガラス板用のコーティング膜形成用組成物であって、
酸化ケイ素前駆体と、紫外線吸収能を付与する添加剤である有機化合物Aとを含み、
前記有機化合物Aが、微粒子の形態を有し、
前記有機化合物Aが、2-フェニルベンゾトリアゾール骨格と、前記2-フェニルベンゾトリアゾール骨格にスルフィド結合を介して接続しているチオ有機基と、を含む分子構造を有する、コーティング膜形成用組成物。
Another aspect of the present invention is as follows.
A composition for forming a coating film for a coated glass plate containing an additive that imparts ultraviolet absorption ability,
Contains a silicon oxide precursor and an organic compound A that is an additive that imparts ultraviolet absorption ability,
The organic compound A has the form of fine particles,
A composition for forming a coating film, wherein the organic compound A has a molecular structure including a 2-phenylbenzotriazole skeleton and a thioorganic group connected to the 2-phenylbenzotriazole skeleton via a sulfide bond.

本発明によるコーティング膜形成用組成物の一形態では、微粒子の平均粒径が150nm以下である。 In one embodiment of the composition for forming a coating film according to the present invention, the average particle size of the fine particles is 150 nm or less.

本発明のまた別の一側面は、以下のとおりである。
紫外線吸収能を付与する添加剤を含有するコーティング膜付きガラス板の前記コーティング膜の形成に用いる微粒子分散組成物であって、
紫外線吸収能を付与する添加剤である有機化合物Aを含み、
前記有機化合物Aが、平均粒径が150nm以下の微粒子の形態を有し、
前記有機化合物Aが、2-フェニルベンゾトリアゾール骨格と、前記2-フェニルベンゾトリアゾール骨格に接続された少なくとも1つのチオ有機基と、を含む分子構造を有する、微粒子分散組成物。
ただし、前記チオ有機基は、有機基をRとしたときに、-S-Rにより示される基である。
Another aspect of the present invention is as follows.
A fine particle dispersion composition used for forming the coating film of a coated glass plate containing an additive that imparts ultraviolet absorption ability,
Contains organic compound A, which is an additive that imparts ultraviolet absorption ability,
The organic compound A has the form of fine particles with an average particle size of 150 nm or less,
A fine particle dispersion composition, wherein the organic compound A has a molecular structure including a 2-phenylbenzotriazole skeleton and at least one thioorganic group connected to the 2-phenylbenzotriazole skeleton.
However, the thioorganic group is a group represented by -SR, where R is an organic group.

以下、図面を参照しながら本発明によるガラス板の一形態をより具体的に説明する。 Hereinafter, one form of the glass plate according to the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.

図1に示す本形態のガラス板は、ガラス板1と、その表面に直接形成された紫外線遮蔽成分を含むコーティング膜2とを備えている。コーティング膜2は酸化ケイ素と有機化合物Aとを含む。コーティング膜2は酸化ケイ素を主成分とすることが好ましい。本明細書において「主成分」は質量基準で50%以上、好ましくは60%以上、を占める成分を意味する用語である。酸化ケイ素は膜2に耐久性と実用上必要な硬さとを付与する成分である。有機化合物Aは紫外線遮蔽成分として機能する。有機化合物Aは、2-フェニルベンゾトリアゾール骨格を含み、この骨格に少なくとも1つのチオ有機基が接続された分子構造を有する。なお、2-フェニルベンゾトリアゾール骨格は式(1)の官能基A1~A9を除く部分である。 The glass plate of this embodiment shown in FIG. 1 includes a glass plate 1 and a coating film 2 containing an ultraviolet shielding component formed directly on the surface of the glass plate 1. Coating film 2 contains silicon oxide and organic compound A. It is preferable that the coating film 2 has silicon oxide as a main component. As used herein, the term "main component" refers to a component that accounts for 50% or more, preferably 60% or more, on a mass basis. Silicon oxide is a component that imparts durability and practically necessary hardness to the film 2. Organic compound A functions as an ultraviolet shielding component. Organic compound A has a molecular structure including a 2-phenylbenzotriazole skeleton and at least one thioorganic group connected to this skeleton. Note that the 2-phenylbenzotriazole skeleton is the portion of formula (1) excluding the functional groups A 1 to A 9 .

コーティング膜の膜質は任意であるが、ガラス質であることが好ましい。本明細書において膜が「ガラス質」であるとは、膜の主成分がガラス状、すなわちアモルファスであることを意味し、膜が結晶を含まないことは意味しない。したがって、「ガラス質」の膜であっても、有機化合物A、後述する有機化合物BおよびITO微粒子などに由来する結晶質成分を含みうる。 Although the quality of the coating film is arbitrary, it is preferably glassy. In this specification, the term "glassy" in a film means that the main component of the film is glassy, ie, amorphous, and does not mean that the film is free of crystals. Therefore, even a "glassy" film may contain crystalline components derived from organic compound A, organic compound B described below, ITO fine particles, and the like.

コーティング膜2は、酸化ケイ素および有機化合物A以外の成分を含んでいてもよい。膜2の任意成分としては、有機化合物Aに該当しない紫外線遮蔽成分である有機化合物B、および親水性有機化合物である有機化合物Cが挙げられる。有機化合物Cはポリマーであってもよい。コーティング膜2は、シランカップリング剤に由来する構造単位などのその他成分をさらに含んでいてもよい。シランカップリング剤に由来する構造単位は、シランカップリング剤が他の有機物および/または無機物と反応して生成したシランカップリング剤誘導体である。 Coating film 2 may contain components other than silicon oxide and organic compound A. Optional components of the film 2 include an organic compound B, which is an ultraviolet shielding component that does not correspond to the organic compound A, and an organic compound C, which is a hydrophilic organic compound. Organic compound C may be a polymer. The coating film 2 may further contain other components such as structural units derived from the silane coupling agent. The structural unit derived from the silane coupling agent is a silane coupling agent derivative produced by the reaction of the silane coupling agent with other organic and/or inorganic substances.

有機化合物Aは微粒子として添加されることが好ましい。微粒子としての添加は、溶質として添加した場合と比較して紫外線遮蔽効果の持続性を向上させる。膜のヘイズ率を抑制するために、微粒子の平均粒径は150μm以下に調整されることが好ましい。有機化合物Aとしては、常温で固体である有機化合物が適している。本明細書において「常温」は25℃を意味する用語である。 It is preferable that organic compound A is added as fine particles. When added as fine particles, the sustainability of the ultraviolet shielding effect is improved compared to when added as a solute. In order to suppress the haze rate of the film, the average particle size of the fine particles is preferably adjusted to 150 μm or less. As the organic compound A, an organic compound that is solid at room temperature is suitable. In this specification, "normal temperature" is a term meaning 25°C.

なお、常温で固体である紫外線遮蔽成分としては、重合可能な紫外線吸収剤を重合させて得たポリマーも知られている。しかし、このような紫外線遮蔽成分は、(メタ)アクリル基などの重合性官能基を導入した紫外線吸収剤を重合して製造されるため、単位質量あたりで比較すると紫外線遮蔽効果が低分子量の紫外線吸収剤に劣る。 In addition, as an ultraviolet shielding component that is solid at room temperature, a polymer obtained by polymerizing a polymerizable ultraviolet absorber is also known. However, such UV-shielding components are manufactured by polymerizing UV absorbers into which polymerizable functional groups such as (meth)acrylic groups are introduced, so when compared per unit mass, the UV-shielding effect is lower than that of low-molecular-weight UV rays. Inferior to absorbent.

有機化合物Aの分子量は、5000以下が好ましく、3000以下がより好ましく、2000以下がさらに好ましく、1500以下が特に好ましく、場合によっては1300以下、さらに1200以下、特に900以下、とりわけ800以下であってもよい。有機化合物Aの分子量は、200以上が好ましく、300以上がより好ましい。有機化合物Aは、分子中に、重合可能な炭素-炭素二重結合を含まないことが好ましい。重合可能な炭素-炭素二重結合としては、ビニル基、ビニレン基、ビニリデン基などの重合性官能基に含まれる二重結合が挙げられる。 The molecular weight of the organic compound A is preferably 5,000 or less, more preferably 3,000 or less, even more preferably 2,000 or less, particularly preferably 1,500 or less, in some cases 1,300 or less, further 1,200 or less, particularly 900 or less, particularly 800 or less. Good too. The molecular weight of organic compound A is preferably 200 or more, more preferably 300 or more. It is preferable that the organic compound A does not contain a polymerizable carbon-carbon double bond in the molecule. Examples of the polymerizable carbon-carbon double bond include double bonds contained in polymerizable functional groups such as vinyl groups, vinylene groups, and vinylidene groups.

有機化合物Aは、例えば以下の式(1)により示される。 Organic compound A is represented by the following formula (1), for example.

Figure 0007371847000002
Figure 0007371847000002

1~A9は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、芳香族基、不飽和基、酸素原子含有基、リン原子含有基および硫黄原子含有基から選ばれる少なくとも1つに該当する原子または基である。ただし、A1~A9の少なくとも1つはチオ有機基である。A1~A9は、チオ有機基に該当しない硫黄原子含有基を含んでいてもよい。チオ有機基に該当しない硫黄原子含有基は、硫黄原子を含有するとともに、2-フェニルベンゾトリアゾール骨格にスルフィド結合(-S-)を介して接続していない基である。 A 1 to A 9 are each independently at least one selected from a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, an aromatic group, an unsaturated group, an oxygen atom-containing group, a phosphorus atom-containing group, and a sulfur atom-containing group. is the applicable atom or group. However, at least one of A 1 to A 9 is a thioorganic group. A 1 to A 9 may contain a sulfur atom-containing group that does not correspond to a thioorganic group. A sulfur atom-containing group that does not correspond to a thioorganic group is a group that contains a sulfur atom and is not connected to the 2-phenylbenzotriazole skeleton via a sulfide bond (-S-).

より正確に述べると、A1~A9は、それぞれ独立に、水素原子若しくはハロゲン原子、または炭化水素基、芳香族基、不飽和基、酸素原子含有基、リン原子含有基および硫黄原子含有基から選ばれる少なくとも1つに該当する基である。A1~A9は、上記の基の2以上に該当していてもよい。例えば、フェニル基は炭化水素基であるとともに芳香族基であり、式:-S-(CH22-OHにより示される基は酸素原子含有基であるとともに硫黄原子含有基であり、チオ有機基にも該当する。A6~A9の少なくとも1つはチオ有機基であることが好ましい。ただし、A6~A9にはチオ有機基が含まれず、A1~A5の少なくとも1つがチオ有機基であってもよい。 To be more precise, A 1 to A 9 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, an aromatic group, an unsaturated group, an oxygen atom-containing group, a phosphorus atom-containing group, and a sulfur atom-containing group. It is a group corresponding to at least one selected from the following. A 1 to A 9 may correspond to two or more of the above groups. For example, a phenyl group is both a hydrocarbon group and an aromatic group, and a group represented by the formula: -S-(CH 2 ) 2 -OH is both an oxygen atom-containing group and a sulfur atom-containing group, and is a thioorganic group. This also applies to the base. Preferably, at least one of A 6 to A 9 is a thioorganic group. However, A 6 to A 9 may not contain a thioorganic group, and at least one of A 1 to A 5 may be a thioorganic group.

なお、有機化合物Aは、1種類の化合物からなっていても、複数種の化合物を含んでいても構わない。 Note that the organic compound A may be composed of one type of compound or may contain multiple types of compounds.

以下、水素原子以外の上記原子および基について説明する。
(ハロゲン原子)
ハロゲン原子の例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられる。
The above atoms and groups other than hydrogen atoms will be explained below.
(halogen atom)
Examples of halogen atoms include fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms.

(炭化水素基)
炭化水素基は、炭素原子および水素原子から構成される基である。炭化水素基は、脂肪族基であっても芳香族基であってもよく、炭素-炭素二重結合のような不飽和基を有していてもよい。炭化水素基である芳香族基については後述するため、ここでは脂肪族基について説明する。脂肪族基は、非環式であっても環式であってもよく、例えば直鎖のもしくは分岐を有するアルキル基、アルケニル基またはアルキニル基であり、また例えば水素原子がアルキル基で置換されていてもよいシクロアルキル基またはシクロアルケニル基である。シクロアルキル基の例には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基およびシクロオクチル基が含まれる。炭化水素基の炭素数は、好ましくは1~20、より好ましくは1~18、さらに好ましくは1~10、特に好ましくは4~9である。炭化水素基の好ましい例には、炭素数1~20、1~9、さらには4~9または1~3である直鎖のまたは分岐を有するアルキル基、特に炭素数4~9の分岐を有するアルキル基と、炭素数3~10、さらには3~8の環式のアルキル基とが含まれる。
(hydrocarbon group)
A hydrocarbon group is a group composed of carbon atoms and hydrogen atoms. The hydrocarbon group may be an aliphatic group or an aromatic group, and may have an unsaturated group such as a carbon-carbon double bond. Since the aromatic group, which is a hydrocarbon group, will be described later, the aliphatic group will be explained here. An aliphatic group may be acyclic or cyclic, for example a straight-chain or branched alkyl group, alkenyl group or alkynyl group, and for example a hydrogen atom may be substituted with an alkyl group. cycloalkyl group or cycloalkenyl group. Examples of cycloalkyl groups include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl and cyclooctyl. The number of carbon atoms in the hydrocarbon group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 18, even more preferably 1 to 10, particularly preferably 4 to 9. Preferred examples of hydrocarbon groups include straight-chain or branched alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, 1 to 9 carbon atoms, even 4 to 9 carbon atoms or 1 to 3 carbon atoms, especially branched alkyl groups having 4 to 9 carbon atoms. It includes an alkyl group and a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and even 3 to 8 carbon atoms.

直鎖のまたは分岐を有するアルキル基は、特に限定されないが、例えば、メチル基、ベンジル基、α,α-ジメチルベンジル基、エタン-1-イル基、プロパン-1-イル基、1-メチルエタン-1-イル基、ブタン-1-イル基、ブタン-2-イル基、2-メチルプロパン-1-イル基、2-メチルプロパン-2-イル基、ペンタン-1-イル基、ペンタン-2-イル基、ヘキサン-1-イル基、ヘプタン-1-イル基、オクタン-1-イル基、1,1,3,3-テトラメチルブタン-1-イル基、ノナン-1-イル基、デカン-1-イル基、ウンデカン-1-イル基、ドデカン-1-イル基、トリデカン-1-イル基、テトラデカン-1-イル基、ペンタデカン-1-イル基、ヘキサデカン-1-イル基、ヘプタデカン-1-イル基、オクタデカン-1-イル基である。直鎖または分岐のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、プロパ-1-エン-1-イル基、アリル基、イソプロペニル基、ブタ-1-エン-1-イル基、ブタ-2-エン-1-イル基、ブタ-3-エン-1-イル基、2-メチルプロパ-2-エン-1-イル基、1-メチルプロパ-2-エン-1-イル基、ペンタ-1-エン-1-イル基、ペンタ-2-エン-1-イル基、ペンタ-3-エン-1-イル基、ペンタ-4-エン-1-イル基、3-メチルブタ-2-エン-1-イル基、3-メチルブタ-3-エン-1-イル基、ヘキサ-1-エン-1-イル基、ヘキサ-2-エン-1-イル基、ヘキサ-3-エン-1-イル基、ヘキサ-4-エン-1-イル基、ヘキサ-5-エン-1-イル基、4-メチルペンタ-3-エン-1-イル基、4-メチルペンタ-3-エン-1-イル基、ヘプタ-1-エン-1-イル基、ヘプタ-6-エン-1-イル基、オクタ-1-エン-1-イル基、オクタ-7-エン-1-イル基、ノナ-1-エン-1-イル基、ノナ-8-エン-1-イル基、デカ-1-エン-1-イル基、デカ-9-エン-1-イル基、ウンデカ-1-エン-1-イル基、ウンデカ-10-エン-1-イル基、ドデカ-1-エン-1-イル基、ドデカ-11-エン-1-イル基、トリデカ-1-エン-1-イル基、トリデカ-12-エン-1-イル基、テトラデカ-1-エン-1-イル基、テトラデカ-13-エン-1-イル基、ペンタデカ-1-エン-1-イル基、ペンタデカ-14-エン-1-イル基、ヘキサデカ-1-エン-1-イル基、ヘキサデカ-15-エン-1-イル基、ヘプタデカ-1-エン-1-イル基、ヘプタデカ-16-エン-1-イル基、オクタデカ-1-エン-1-イル基、オクタデカ-9-エン-1-イル基、オクタデカ-17-エン-1-イル基が挙げられる。直鎖または分岐のアルキニル基としては、例えば、エチニル、プロパ-1-イン-1-イル基、プロパ-2-イン-1-イル基、ブタ-1-イン-1-イル基、ブタ-3-イン-1-イル基、1-メチルプロパ-2-イン-1-イル基、ペンタ-1-イン-1-イル基、ペンタ-4-イン-1-イル基、ヘキサ-1-イン-1-イル基、ヘキサ-5-イン-1-イル基、ヘプタ-1-イン-1-イル基、ヘプタ-6-イン-1-イル基、オクタ-1-イン-1-イル基、オクタ-7-イン-1-イル基、ノナ-1-イン-1-イル基、ノナ-8-イン-1-イル基、デカ-1-イン-1-イル基、デカ-9-イン-1-イル基、ウンデカ-1-イン-1-イル基、ウンデカ-10-イン-1-イル基、ドデカ-1-イン-1-イル基、ドデカ-11-イン-1-イル基、トリデカ-1-イン-1-イル基、トリデカ-12-イン-1-イル基、テトラデカ-1-イン-1-イル基、テトラデカ-13-イン-1-イル基、ペンタデカ-1-イン-1-イル基、ペンタデカ-14-イン-1-イル基、ヘキサデカ-1-イン-1-イル基、ヘキサデカ-15-イン-1-イル基、ヘプタデカ-1-イン-1-イル基、ヘプタデカ-16-イン-1-イル基、オクタデカ-1-イン-1-イル基、オクタデカ-17-イン-1-イル基が挙げられる。 Straight chain or branched alkyl groups are not particularly limited, but include, for example, methyl group, benzyl group, α,α-dimethylbenzyl group, ethan-1-yl group, propan-1-yl group, 1-methylethane-yl group. 1-yl group, butan-1-yl group, butan-2-yl group, 2-methylpropan-1-yl group, 2-methylpropan-2-yl group, pentan-1-yl group, pentan-2-yl group yl group, hexan-1-yl group, heptane-1-yl group, octan-1-yl group, 1,1,3,3-tetramethylbutan-1-yl group, nonan-1-yl group, decane- 1-yl group, undecane-1-yl group, dodecane-1-yl group, tridecane-1-yl group, tetradecane-1-yl group, pentadecane-1-yl group, hexadecane-1-yl group, heptadecan-1-yl group -yl group and octadecane-1-yl group. Examples of linear or branched alkenyl groups include vinyl group, prop-1-en-1-yl group, allyl group, isopropenyl group, but-1-en-1-yl group, but-2-en-yl group, and 1-yl group, but-3-en-1-yl group, 2-methylprop-2-en-1-yl group, 1-methylprop-2-en-1-yl group, pent-1-en-1-yl group yl group, pent-2-en-1-yl group, pent-3-en-1-yl group, pent-4-en-1-yl group, 3-methylbut-2-en-1-yl group, 3 -Methylbut-3-en-1-yl group, hex-1-en-1-yl group, hex-2-en-1-yl group, hex-3-en-1-yl group, hex-4-ene -1-yl group, hex-5-en-1-yl group, 4-methylpent-3-en-1-yl group, 4-methylpent-3-en-1-yl group, hept-1-en-1 -yl group, hept-6-en-1-yl group, oct-1-en-1-yl group, oct-7-en-1-yl group, non-1-en-1-yl group, non- 8-en-1-yl group, dec-1-en-1-yl group, dec-9-en-1-yl group, undec-1-en-1-yl group, undec-10-en-1-yl group yl group, dodec-1-en-1-yl group, dodec-11-en-1-yl group, tridec-1-en-1-yl group, tridec-12-en-1-yl group, tetradec-1 -en-1-yl group, tetradec-13-en-1-yl group, pentadec-1-en-1-yl group, pentadec-14-en-1-yl group, hexadec-1-en-1-yl group group, hexadec-15-en-1-yl group, heptadec-1-en-1-yl group, heptadec-16-en-1-yl group, octadec-1-en-1-yl group, octadec-9- Examples include en-1-yl group and octadec-17-en-1-yl group. Examples of straight-chain or branched alkynyl groups include ethynyl, prop-1-yn-1-yl group, prop-2-yn-1-yl group, but-1-yn-1-yl group, but-3 -yn-1-yl group, 1-methylprop-2-yn-1-yl group, pent-1-yn-1-yl group, pent-4-yn-1-yl group, hex-1-yn-1 -yl group, hex-5-yn-1-yl group, hep-1-yn-1-yl group, hep-6-yn-1-yl group, oct-1-yn-1-yl group, oct- 7-yn-1-yl group, non-1-yn-1-yl group, non-8-yn-1-yl group, deca-1-yn-1-yl group, deca-9-yn-1-yl group yl group, undec-1-yn-1-yl group, undec-10-yn-1-yl group, dodec-1-yn-1-yl group, dodec-11-yn-1-yl group, trideca-1 -yn-1-yl group, tridec-12-yn-1-yl group, tetradec-1-yn-1-yl group, tetradec-13-yn-1-yl group, pentadec-1-yn-1-yl group group, pentadec-14-yn-1-yl group, hexadec-1-yn-1-yl group, hexadec-15-yn-1-yl group, heptadec-1-yn-1-yl group, heptadec-16-yl group Examples thereof include an yn-1-yl group, an octadec-1-yn-1-yl group, and an octadec-17-yn-1-yl group.

好ましい環式のアルキル基の例には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基が含まれる。 Examples of preferred cyclic alkyl groups include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, and cyclooctyl.

(芳香族基)
芳香族基は、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などの芳香環を含む基である。芳香族基の炭素数は、好ましくは6~18、より好ましくは6~14である。芳香族基の例には、フェニル基、2-メチルフェニル基、3-メチルフェニル基、4-メチルフェニル基、2,4-ジメチルフェニル基、2,5-ジメチルフェニル基、3,4-ジメチルフェニル基、3,5-ジメチルフェニル基、2,4,5-トリメチルフェニル基、2,4,6-トリメチルフェニル基、4-ビフェニル基、1-ナフチル基、2-ナフチル基、1-アントラセニル基、2-アントラセニル基、9-アントラセニル基、2-メトキシフェニル基、3-メトキシフェニル基、4-メトキシフェニル基、2-エトキシフェニル基、3-エトキシフェニル基、4-エトキシフェニル基、2-クロロフェニル基、2-フルオロフェニル基および4-フルオロフェニル基が含まれる。
(aromatic group)
The aromatic group is a group containing an aromatic ring such as a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, etc. The aromatic group preferably has 6 to 18 carbon atoms, more preferably 6 to 14 carbon atoms. Examples of aromatic groups include phenyl, 2-methylphenyl, 3-methylphenyl, 4-methylphenyl, 2,4-dimethylphenyl, 2,5-dimethylphenyl, 3,4-dimethyl Phenyl group, 3,5-dimethylphenyl group, 2,4,5-trimethylphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, 4-biphenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 1-anthracenyl group , 2-anthracenyl group, 9-anthracenyl group, 2-methoxyphenyl group, 3-methoxyphenyl group, 4-methoxyphenyl group, 2-ethoxyphenyl group, 3-ethoxyphenyl group, 4-ethoxyphenyl group, 2-chlorophenyl group 2-fluorophenyl and 4-fluorophenyl groups.

(不飽和基)
不飽和基は、不飽和結合を含む基である。不飽和結合は、炭素-炭素二重結合、炭素-炭素三重結合、炭素-酸素二重結合、炭素-窒素二重結合、炭素-窒素三重結合などの炭素-炭素不飽和結合または炭素-ヘテロ原子不飽和結合である。炭素-酸素二重結合は、カルボニル基、アルデヒド基、カルボキシル基などに含まれるものであってよく、炭素-窒素二重結合はイソシアネート基などに含まれるものであってよく、炭素-窒素三重結合はシアノ基、シアナト基などに含まれるものであってもよい。不飽和基に含まれる炭素原子とヘテロ原子との合計数は、好ましくは1~10、より好ましくは1~8である。不飽和基の例には、アクリロイル基、メタクロイル基、マレイン酸モノエステル基、スチリル基、アリル基、ビニル基、アミド基、カルバモイル基、シアノ基およびイソシアネート基が含まれる。
(unsaturated group)
An unsaturated group is a group containing an unsaturated bond. Unsaturated bonds are carbon-carbon unsaturated bonds such as carbon-carbon double bonds, carbon-carbon triple bonds, carbon-oxygen double bonds, carbon-nitrogen double bonds, carbon-nitrogen triple bonds, or carbon-heteroatoms. It is an unsaturated bond. Carbon-oxygen double bonds may be included in carbonyl groups, aldehyde groups, carboxyl groups, etc. Carbon-nitrogen double bonds may be included in isocyanate groups, etc. Carbon-nitrogen triple bonds may be included in a cyano group, cyanato group, etc. The total number of carbon atoms and heteroatoms contained in the unsaturated group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 8. Examples of unsaturated groups include acryloyl, methacryloyl, maleic acid monoester, styryl, allyl, vinyl, amide, carbamoyl, cyano, and isocyanate groups.

(酸素原子含有基)
酸素原子含有基は、酸素原子を含む基である。酸素原子含有基は、通常、酸素原子とともに、炭素原子および/または水素原子を含む。酸素原子含有基に含まれる炭素原子数は、芳香環基および/または脂環式基を含む場合には6~20、特に6~12、芳香環基および脂環式基を含まない場合には0~20、さらには0~12、特に0~6が好ましい。酸素原子含有基の例には、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アセトキシ基、アセチル基、アルデヒド基、カルボキシ基、カルバモイル基、ウレタン基、アミド基、イミド基、尿素基、エーテル基、カルボニル基、エステル基、オキサゾール基およびモルホリン基が含まれる。アルコキシ基の例には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、ナフトキシ基、フェニルメトキシ基およびフェニルエトキシ基が含まれる。好ましい酸素原子含有基の例には、ヒドロキシ基、炭素数1~18のアルコキシ基、炭素数1~18のエーテル基、炭素数1~18のエステル基、炭素数1~20のポリオキシエチレン基が含まれる。
(oxygen atom-containing group)
The oxygen atom-containing group is a group containing an oxygen atom. An oxygen atom-containing group usually contains a carbon atom and/or a hydrogen atom along with an oxygen atom. The number of carbon atoms contained in the oxygen atom-containing group is 6 to 20 when it contains an aromatic ring group and/or an alicyclic group, particularly 6 to 12, and when it does not contain an aromatic ring group and an alicyclic group. 0 to 20, more preferably 0 to 12, particularly preferably 0 to 6. Examples of oxygen atom-containing groups include hydroxy, alkoxy, acetoxy, acetyl, aldehyde, carboxy, carbamoyl, urethane, amide, imide, urea, ether, carbonyl, and ester groups. , oxazole groups and morpholine groups. Examples of alkoxy groups include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, phenoxy, methylphenoxy, dimethylphenoxy, naphthoxy, phenylmethoxy and phenylethoxy. Examples of preferred oxygen atom-containing groups include a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, an ether group having 1 to 18 carbon atoms, an ester group having 1 to 18 carbon atoms, and a polyoxyethylene group having 1 to 20 carbon atoms. is included.

(リン原子含有基)
リン原子含有基は、リン原子を含む基である。リン原子含有基は、通常、リン原子とともに、炭素原子および/または水素原子を含む。リン原子含有基に含まれる炭素原子数は、芳香環基および/または脂環式基を含む場合には6~20、特に6~12、芳香環基および脂環式基を含まない場合には0~20、さらには0~12、特に0~6が好ましい。リン原子含有基の例には、ホスフィン基、ホスファイト基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、トリメチルホスフィン基、トリブチルホスフィン基、トリシクロヘキシルホスフィン基、トリフェニルホスフィン基、トリトリルホスフィン基、メチルホスファイト基、エチルホスファイト基、フェニルホスファイト基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、リン酸基およびリン酸エステル基が含まれる。
(phosphorus atom-containing group)
A phosphorus atom-containing group is a group containing a phosphorus atom. A phosphorus atom-containing group usually contains a carbon atom and/or a hydrogen atom along with a phosphorus atom. The number of carbon atoms contained in the phosphorus atom-containing group is 6 to 20, especially 6 to 12, when it contains an aromatic ring group and/or an alicyclic group, and when it does not contain an aromatic ring group and an alicyclic group. 0 to 20, more preferably 0 to 12, particularly preferably 0 to 6. Examples of phosphorus atom-containing groups include phosphine, phosphite, phosphonic acid, phosphinic acid, trimethylphosphine, tributylphosphine, tricyclohexylphosphine, triphenylphosphine, tritolylphosphine, and methylphosphine. group, ethyl phosphite group, phenyl phosphite group, phosphonic acid group, phosphinic acid group, phosphoric acid group and phosphoric ester group.

(硫黄原子含有基)
硫黄原子含有基は、硫黄原子を含む基である。硫黄原子含有基は、通常、硫黄原子とともに、炭素原子および/または水素原子を含む。硫黄原子含有基に含まれる炭素原子数は、芳香環基および/または脂環式基を含む場合には6~20、さらに6~12、特に6~10、芳香環基および/または脂環式基を含まない場合には0~20、さらに0~12、特に0~10、とりわけ0~6が好ましい、硫黄原子含有基の例には、チオール基、スルフィド基、ジスルフィド基、スルホニル基、スルホ基、チオカルボニル基、チオカルバモイル基、チオ尿素基、チオアルコキシ基、チオカルボキシ基、チオフェン基およびチアゾール基が含まれる。
(Sulfur atom-containing group)
A sulfur atom-containing group is a group containing a sulfur atom. A sulfur atom-containing group usually contains a carbon atom and/or a hydrogen atom along with a sulfur atom. The number of carbon atoms contained in the sulfur atom-containing group is 6 to 20 when it contains an aromatic ring group and/or an alicyclic group, more preferably 6 to 12, especially 6 to 10, and the number of carbon atoms contained in an aromatic ring group and/or an alicyclic group Examples of sulfur atom-containing groups include thiol groups, sulfide groups, disulfide groups, sulfonyl groups, and sulfonyl groups. thiocarbonyl, thiocarbamoyl, thiourea, thioalkoxy, thiocarboxy, thiophene and thiazole groups.

2-フェニルベンゾトリアゾール骨格にスルフィド結合(-S-)を介して接続している硫黄原子含有基は、チオ有機基である。チオ有機基は、例えば、水素原子の置換基を有していてもよいチオアルキル基(-S-Alk)、または水素原子の置換基を有していてもよいチオアリール環基(-S-Ary)である。アルキル基(Alk)は、非環式であっても環式であってもよい。アルキル基が環式アルキル基である場合、チオ有機基は、水素原子の置換基を有していてもよいチオヘキシル環基(-S-Cy)であってもよい。 The sulfur atom-containing group connected to the 2-phenylbenzotriazole skeleton via a sulfide bond (-S-) is a thioorganic group. The thioorganic group is, for example, a thioalkyl group (-S-Alk) which may have a substituent on a hydrogen atom, or a thioaryl ring group (-S-Ary) which may have a substituent on a hydrogen atom. It is. The alkyl group (Alk) may be acyclic or cyclic. When the alkyl group is a cyclic alkyl group, the thioorganic group may be a thiohexyl ring group (-S-Cy) which may have a hydrogen atom substituent.

チオ有機基における水素原子の置換基は、ハロゲン原子、炭化水素基、芳香族基、不飽和基、酸素原子含有基、リン原子含有基および硫黄原子含有基から選ばれる少なくとも1つに該当する原子または基であってもよい。これらの置換基の例は上述したとおりである。 The substituent for the hydrogen atom in the thioorganic group is an atom corresponding to at least one selected from a halogen atom, a hydrocarbon group, an aromatic group, an unsaturated group, an oxygen atom-containing group, a phosphorus atom-containing group, and a sulfur atom-containing group. Or it may be a group. Examples of these substituents are as described above.

波長400nm近傍の光の透過率を長期に亘って低下させることに適したチオ有機基は、水素原子の置換基を有していてもよいチオアリール環基である。このチオアリール環基を含む有機化合物Aは耐光性において優れている。分岐を有する鎖状アルキル基、特に炭素数4~9の鎖状アルキル基をチオアリール環基の水素原子を置換する置換基とすると、耐光性は顕著に向上する。 A thioorganic group suitable for reducing the transmittance of light near a wavelength of 400 nm over a long period of time is a thioaryl ring group which may have a hydrogen atom substituent. Organic compound A containing this thioaryl ring group has excellent light resistance. When a branched chain alkyl group, particularly a chain alkyl group having 4 to 9 carbon atoms, is used as a substituent for the hydrogen atom of the thioaryl ring group, light resistance is significantly improved.

2つの2-フェニルベンゾトリアゾール骨格の間に介在するチオ有機基についても、耐光性の観点からは、-S-(Ary)-(Alk)-で示される単位を含む基が有利である。上述のとおり、(Ary)は水素原子の置換基を有していてもよいアリーレン環基であり、(Alk)は水素原子の置換基を有していてもよいアルキレン基である。この場合も、(Alk)は分岐を有する鎖状アルキル基、特に炭素数4~9の分岐を有する鎖状アルキル基であることが好ましい。 Regarding the thioorganic group interposed between two 2-phenylbenzotriazole skeletons, a group containing a unit represented by -S-(Ary)-(Alk)- is also advantageous from the viewpoint of light resistance. As described above, (Ary) is an arylene ring group which may have a hydrogen atom substituent, and (Alk) is an alkylene group which may have a hydrogen atom substituent. In this case as well, (Alk) is preferably a branched chain alkyl group, particularly a branched chain alkyl group having 4 to 9 carbon atoms.

別の側面から説明すると、有機化合物Aは、式(2-1)~(2-3)のいずれかで表わされる、水素原子の置換基を有していてもよいチオアリール環基またはチオヘキシル環基を有する、2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体であってもよい。この誘導体が有する2-フェニルベンゾトリアゾール骨格(式(2-1)参照)の好ましい置換基を説明する。 To explain from another aspect, organic compound A is a thioaryl ring group or thiohexyl ring group which may have a hydrogen atom substituent and is represented by any one of formulas (2-1) to (2-3). It may also be a 2-phenylbenzotriazole derivative having the following. Preferred substituents of the 2-phenylbenzotriazole skeleton (see formula (2-1)) that this derivative has will be explained.

式(2-1)において、R1~R9は、それぞれ独立に、その少なくとも1つはチオアリール環基またはチオシクロヘキシル環基であり、それ以外は水素原子またはその置換基である。チオアリール環基またはチオシクロヘキシル環基の置換位置は特に限定されず、R1~R9のうちいずれであってもよいが、R6~R9が好ましく、R7、R8がより好ましい。チオアリール環基またはチオシクロヘキシル環基の置換数も特に限定されないが、1~2個、特に1個が好ましい。 In formula (2-1), at least one of R 1 to R 9 is independently a thioaryl ring group or a thiocyclohexyl ring group, and the others are hydrogen atoms or substituents thereof. The substitution position of the thioaryl ring group or thiocyclohexyl ring group is not particularly limited and may be any of R 1 to R 9 , preferably R 6 to R 9 , and more preferably R 7 and R 8 . The number of substitutions of the thioaryl ring group or thiocyclohexyl ring group is also not particularly limited, but is preferably 1 to 2, particularly 1.

なお、有機化合物AのA1~A5の少なくとも1つは酸素原子含有基であることが好ましい。特に少なくともA1またはA5は酸素原子含有基であることが好ましい。好ましい酸素原子含有基はヒドロキシ基である。有機化合物AのA1~A5の少なくとも2つは炭素数1~4のアルキル基であることが好ましい。特に少なくともA2およびA4は炭素数1~4のアルキル基であることが好ましい。A2およびA4はメチル基とtert-ブチル基との組み合わせであってもよい。 Note that at least one of A 1 to A 5 of the organic compound A is preferably an oxygen atom-containing group. In particular, at least A 1 or A 5 is preferably an oxygen atom-containing group. A preferred oxygen atom-containing group is a hydroxy group. At least two of A 1 to A 5 of organic compound A are preferably alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms. In particular, at least A 2 and A 4 are preferably alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms. A 2 and A 4 may be a combination of a methyl group and a tert-butyl group.

耐光性を高める観点からは下記の置換基の組み合わせが好ましい。式(2-1)におけるR6、R7、R8、R9の組み合わせのうち好ましい例を挙げると次のとおりである。
ア-1 式(2-1)、(2-3)のR6、R7、R8、R9のうち少なくともいずれかは、チオアリール環基である。また、式(2-2)のR6、R7、R8、R9のうち少なくともいずれかは、チオシクロヘキシル環基(-S-Cy-…)である。
ア-2 ア-1において、チオアリール環基のX1a、X1c、X2cは、フェニル環もしくはナフチル環の残基である。
ア-3 ア-1、2において、PhBzT1a、PhBzT1b、PhBzT1c、PhBzT2cに、1個のチオアリール環基またはチオシクロヘキシル環基が結合する。
ア-4 ア-1からア-3のいずれかにおいて、1個のチオアリール環基またはチオシクロヘキシル環基はR7またはR8に結合する。
ア-5 ア-1からア-4のいずれかにおいて、チオアリール環基またはチオシクロヘキシル環基以外のR6~R9は全て水素原子である。
ア-6 ア-1からア-5のいずれかにおいて、チオアリール環基のX1a、X1c、X2cはフェニル環の残基である。
ア-7 ア-1からア-5のいずれかにおいて、チオアリール環基のX1a、X1c、X2cはナフチル環の残基である。
From the viewpoint of increasing light resistance, the following combinations of substituents are preferred. Preferred examples of combinations of R 6 , R 7 , R 8 and R 9 in formula (2-1) are as follows.
A-1 At least one of R 6 , R 7 , R 8 and R 9 in formulas (2-1) and (2-3) is a thioaryl ring group. Furthermore, at least one of R 6 , R 7 , R 8 , and R 9 in formula (2-2) is a thiocyclohexyl ring group (-S-Cy-...).
A-2 In A-1, X 1a , X 1c , and X 2c of the thioaryl ring group are phenyl ring or naphthyl ring residues.
A-3 In A-1 and A-2, one thioaryl ring group or thiocyclohexyl ring group is bonded to PhBzT 1a , PhBzT 1b , PhBzT 1c , and PhBzT 2c .
A-4 In any one of A-1 to A-3, one thioaryl ring group or thiocyclohexyl ring group is bonded to R 7 or R 8 .
A-5 In any one of A-1 to A-4, R 6 to R 9 other than the thioaryl ring group or the thiocyclohexyl ring group are all hydrogen atoms.
A-6 In any one of A-1 to A-5, X 1a , X 1c and X 2c of the thioaryl ring group are phenyl ring residues.
A-7 In any one of A-1 to A-5, X 1a , X 1c and X 2c of the thioaryl ring group are naphthyl ring residues.

式(2-1)~(2-3)におけるR1、R2、R3、R4、R5の組み合わせのうち好ましい例を挙げると次のとおりである。なお、式(2-3)におけるPhBzT1cおよびPhBzT2cのR1、R2、R3、R4、R5は、それぞれ独立に異なっても同一でもよい。
イ-1 炭素数1~18の炭化水素基(アルケニル基、アルキニル基を含む炭素数2~18の炭化水素基を含む。)、ヒドロキシ基、炭素数6~18の芳香族基、炭素数1~18のエーテル基、炭素数1~18のアルコキシ基、炭素数1~18のエステル基、(メタ)アクリロイルオキシ基および/または炭素数1~20のポリオキシエチレン基、またはそれらの置換基で水素原子が置換されるか基端が中断されるか炭素-炭素結合が中断されてもよい炭素数1~18の炭化水素基から選ばれる置換基を1つ以上含む。
イ-2 イ-1において、置換基が炭素数1~10の炭化水素基、およびヒドロキシ基から選ばれる少なくとも1種である。
イ-3 イ-2において、置換基が炭素数1~8の炭化水素基、およびヒドロキシ基から選ばれる少なくとも1種である。
イ-4 イ-1からイ-3のいずれかにおいて、置換基の炭化水素基が直鎖または分岐のアルキル基である。
イ-5 イ-4において、置換基がメチル基、t-ブチル基、およびヒドロキシ基から選ばれる少なくとも1種である。
イ-6 イ-5において、置換基がメチル基、t-ブチル基、およびヒドロキシ基から選ばれる少なくとも1種であり、かつヒドロキシ基は1つ以下である。
イ-7 イ-1からイ-6のいずれかにおいて、置換基の数が1~4個である。
イ-8 イ-1からイ-7のいずれかにおいて、R1~R4のいずれかの位置に置換基を有し、それ以外のR1~R5は水素原子である。
イ-9 イ-1からイ-8のいずれかにおいて、R1、R2、R4のいずれかの位置に置換基を有し、それ以外のR1~R5は水素原子である。
イ-10 イ-9において、R1はヒドロキシ基、R2はt-ブチル基、R4はメチル基であり、R3、R5は水素原子である。
イ-11 イ-1からイ-9のいずれかにおいて、R1、R4のいずれかの位置に置換基を有し、それ以外のR1~R5は水素原子である。
イ-12 イ-11においてR1はヒドロキシ基、R4はメチル基であり、R2、R3、R5は水素原子である。
Preferred examples of combinations of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 in formulas (2-1) to (2-3) are as follows. Note that R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 of PhBzT 1c and PhBzT 2c in formula (2-3) may be independently different or the same.
A-1 Hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms (including hydrocarbon groups having 2 to 18 carbon atoms including alkenyl groups and alkynyl groups), hydroxy group, aromatic group having 6 to 18 carbon atoms, 1 carbon number ~18 ether groups, C1-18 alkoxy groups, C1-18 ester groups, (meth)acryloyloxy groups, and/or C1-20 polyoxyethylene groups, or substituents thereof. It contains one or more substituents selected from hydrocarbon groups having 1 to 18 carbon atoms, in which a hydrogen atom may be substituted, a radical end may be interrupted, or a carbon-carbon bond may be interrupted.
I-2 In I-1, the substituent is at least one selected from a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and a hydroxy group.
I-3 In I-2, the substituent is at least one selected from a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms and a hydroxy group.
I-4 In any one of I-1 to I-3, the hydrocarbon group of the substituent is a straight chain or branched alkyl group.
I-5 In I-4, the substituent is at least one selected from a methyl group, a t-butyl group, and a hydroxy group.
I-6 In I-5, the substituent is at least one selected from a methyl group, a t-butyl group, and a hydroxy group, and the number of hydroxy groups is one or less.
I-7 In any one of I-1 to I-6, the number of substituents is 1 to 4.
I-8 In any one of I-1 to I-7, R 1 to R 4 have a substituent at any position, and the other R 1 to R 5 are hydrogen atoms.
I-9 In any one of I-1 to I-8, R 1 , R 2 or R 4 has a substituent at any position, and the other R 1 to R 5 are hydrogen atoms.
I-10 In I-9, R 1 is a hydroxy group, R 2 is a t-butyl group, R 4 is a methyl group, and R 3 and R 5 are hydrogen atoms.
I-11 In any one of I-1 to I-9, R 1 or R 4 has a substituent at either position, and the other R 1 to R 5 are hydrogen atoms.
I-12 In I-11, R 1 is a hydroxy group, R 4 is a methyl group, and R 2 , R 3 and R 5 are hydrogen atoms.

式(2-1)における、それぞれl個のR1aおよびX1aの組み合わせのうち好ましい例を挙げると次のとおりである。
ウ-1 X1aはフェニル環の残基である。
ウ-2 ウ-1において、l=0で、X1aに置換基R1aはなく、X1aにおけるR1aに置換し得る部分はすべて水素原子である。
ウ-3 ウ-1において、l個のR1aは、それぞれ独立に炭素数1~18の炭化水素基であり、炭化水素基は、好ましくは炭素数1~18の直鎖または分岐のアルキル基であり、l=1~5である。
ウ-4 ウ-3において、l=1~3である。
ウ-5 ウ-4において、R1aは、それぞれ独立に少なくとも一つは炭素数3~8の分岐アルキル基である。
ウ-6 ウ-4において、l=1で、R1aは、それぞれ独立に炭素数1~18(好ましくは炭素数1~10)の直鎖または分岐のアルキル基である。
ウ-7 ウ-6において、l=1で、R1aは、それぞれ独立に炭素数1~10の直鎖または分岐のアルキル基であり、当該アルキル基は、好ましくは炭素数1~8、より好ましくは炭素数2~8、さらに好ましくは炭素数3~8、一層好ましくは炭素数3~5、特に好ましくは炭素数4~5、ことさら好ましくは炭素数4である。
ウ-8 ウ-3~7のいずれかにおいて、PhBzT1a-S-に対して、それぞれR1aの少なくとも一つはパラ位に有する。
ウ-9 ウ-4において、l=2で、R1aは、それぞれ独立に炭素数1~18(好ましくは炭素数1~10)の直鎖または分岐のアルキル基である。
ウ-10 ウ-9において、l=2で、R1aは、それぞれ独立に炭素数1~10の直鎖または分岐のアルキル基であり、当該アルキル基の各炭素数は、好ましくは1~5、より好ましくは1~4、さらに好ましくは炭素数1であり、および/またはアルキル基の総炭素数は、好ましくは2~12、より好ましくは2~10、さらに好ましくは2~5、特に好ましくは2である。
ウ-11 ウ-9、10のいずれかにおいて、PhBzT1a-S-に対してl=2のそれぞれのR1aはオルト、パラ位もしくはオルト、メタ位に有する。
ウ-12 ウ-3からウ-11のいずれかにおいて、R1aは、それぞれ独立に三級炭素および/または四級炭素を有する炭化水素基であり、好ましくはアルキル基である。
ウ-13 ウ-1において、l個のR1aは、それぞれ独立に炭素数1~18の直鎖または分岐のアルキル基を持つアルコキシ基であり、好ましくは炭素数1~8の直鎖のアルキル基を持つアルコキシ基、より好ましくは炭素数1~4の直鎖のアルキル基を持つアルコキシ基である。また、好ましくはl=1~3、より好ましくはl=1~2、特に好ましくはl=1である。
ウ-14 ウ-13において、l=1であり、アルコキシ基はPhBzT1a-S-に対してメタ位に有する。
ウ-15 ウ-1において、l個のR1aはヒドロキシ基であり、好ましくはl=1~3、より好ましくはl=1~2、特に好ましくはl=1である。
ウ-16 ウ-15において、l=1であり、ヒドロキシ基はPhBzT1a-S-に対してパラ位に有する。
ウ-17 X1aはナフチル環の残基であり、好ましくはl=0である。
Preferred examples of combinations of l R 1a and X 1a in formula (2-1) are as follows.
U-1 X 1a is a phenyl ring residue.
Wu-2 In Wu-1, l=0, there is no substituent R 1a on X 1a , and all moieties that can be substituted for R 1a in X 1a are hydrogen atoms.
U-3 In U-1, each R 1a is independently a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the hydrocarbon group is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms. and l=1 to 5.
Wu-4 In Wu-3, l=1 to 3.
Wu-5 In Wu-4, R 1a is each independently at least one branched alkyl group having 3 to 8 carbon atoms.
Wu-6 In Wu-4, l=1 and R 1a are each independently a straight chain or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (preferably 1 to 10 carbon atoms).
U-7 In U-6, l=1, R 1a is each independently a straight chain or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and the alkyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms, and more preferably It preferably has 2 to 8 carbon atoms, more preferably 3 to 8 carbon atoms, even more preferably 3 to 5 carbon atoms, particularly preferably 4 to 5 carbon atoms, and even more preferably 4 carbon atoms.
Wu-8 In any one of Wu-3 to Wu-7, at least one R 1a is at the para position with respect to PhBzT 1a -S-.
Wu-9 In Wu-4, l=2 and R 1a are each independently a straight chain or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (preferably 1 to 10 carbon atoms).
U-10 In U-9, l=2, R 1a is each independently a straight chain or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and each alkyl group preferably has 1 to 5 carbon atoms. , more preferably 1 to 4 carbon atoms, still more preferably 1 carbon number, and/or the total carbon number of the alkyl group is preferably 2 to 12 carbon atoms, more preferably 2 to 10 carbon atoms, still more preferably 2 to 5 carbon atoms, and particularly preferably is 2.
Wu-11 In either Wu-9 or Wu-10, each R 1a of PhBzT 1a -S- has l=2 at the ortho or para position or the ortho or meta position.
U-12 In any of U-3 to U-11, R 1a is each independently a hydrocarbon group having a tertiary carbon and/or a quaternary carbon, preferably an alkyl group.
U-13 In U-1, l R 1a are each independently an alkoxy group having a straight chain or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, preferably a straight chain alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. It is an alkoxy group having a group, more preferably an alkoxy group having a straight chain alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Further, preferably l=1 to 3, more preferably l=1 to 2, particularly preferably l=1.
Wu-14 In Wu-13, l=1 and the alkoxy group is in the meta position relative to PhBzT 1a -S-.
U-15 In U-1, l R 1a are hydroxy groups, preferably l=1 to 3, more preferably l=1 to 2, particularly preferably l=1.
Wu-16 In Wu-15, l=1 and the hydroxy group is in the para position to PhBzT 1a -S-.
Wu-17 X 1a is a residue of a naphthyl ring, preferably l=0.

式(2-1)で表される2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体としては、特に限定されないが、例えば、5-フェニルチオ-2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール、5-(4-tert-ブチル-フェニルチオ)-2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール、5-(2,4-ジメチル-フェニルチオ)-2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール、5-(3-メトキシ-フェニルチオ)-2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール、5-(4-(1,1-ジメチル-プロピル)-フェニルチオ)-2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール、5-(4-イソプロピル-フェニルチオ)-2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール、5-(4-(1,1,3,3-テトラメチル-ブチル)-フェニルチオ)-2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール、5-(2-メチル-5-tert-ブチル-フェニルチオ)-2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール、5-(4-メチル-フェニルチオ)-2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール、5-(2,4-ジ(1,1-ジメチルプロピル)-フェニルチオ)-2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール 、5-(4-ヒドロキシ-フェニルチオ)-2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール、5-ナフチルチオ-2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール、5-フェニルチオ-2-(2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。 The 2-phenylbenzotriazole derivative represented by formula (2-1) is not particularly limited, but for example, 5-phenylthio-2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-2H -benzotriazole, 5-(4-tert-butyl-phenylthio)-2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-2H-benzotriazole, 5-(2,4-dimethyl-phenylthio) )-2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-2H-benzotriazole, 5-(3-methoxy-phenylthio)-2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5 -methylphenyl)-2H-benzotriazole, 5-(4-(1,1-dimethyl-propyl)-phenylthio)-2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-2H-benzo Triazole, 5-(4-isopropyl-phenylthio)-2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-2H-benzotriazole, 5-(4-(1,1,3,3- Tetramethyl-butyl)-phenylthio)-2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-2H-benzotriazole, 5-(2-methyl-5-tert-butyl-phenylthio)-2 -(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-2H-benzotriazole, 5-(4-methyl-phenylthio)-2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl )-2H-benzotriazole, 5-(2,4-di(1,1-dimethylpropyl)-phenylthio)-2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-2H-benzotriazole , 5-(4-hydroxy-phenylthio)-2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-2H-benzotriazole, 5-naphthylthio-2-(2-hydroxy-3-tert- Examples include butyl-5-methylphenyl)-2H-benzotriazole, 5-phenylthio-2-(2-hydroxy-5-methylphenyl)-2H-benzotriazole, and the like.

式(2-2)におけるm個のR1bの組み合わせのうち好ましい例を挙げると次のとおりである。
エ-1 m=0で、Cyに置換基R1bはなく、CyにおけるR1bに置換し得る部分はすべて水素原子である。
エ-2 m個のR1bは、それぞれ独立に炭素数1~18の炭化水素基であり、炭化水素基は、好ましくは炭素数1~18の直鎖または分岐のアルキル基であり、m=1~5である。
エ-3 エ-2において、m=1~3である。
エ-4 エ-3において、R1bは、それぞれ独立に少なくとも一つは炭素数3~8の分岐アルキル基である。
エ-5 エ-3において、m=1で、R1bは、炭素数1~18(好ましくは炭素数1~10)の直鎖または分岐のアルキル基である。
エ-6 エ-5において、m=1で、R1bは、炭素数1~10の直鎖または分岐のアルキル基であり、当該アルキル基は、好ましくは炭素数1~8、より好ましくは炭素数2~8、さらに好ましくは炭素数3~8、一層好ましくは炭素数3~5、特に好ましくは炭素数4~5、ことさら好ましくは炭素数4である。
エ-7 エ-2~6のいずれかにおいて、PhBzT1b-S-に対してR1bの少なくとも一つはパラ位に有する。
エ-8 エ-3において、m=2で、R1bは、それぞれ独立に炭素数1~18(好ましくは炭素数1~10)の直鎖または分岐のアルキル基である。
エ-9 エ-8において、m=2で、R1bは、それぞれ独立に炭素数1~10の直鎖または分岐のアルキル基であり、当該アルキル基の各炭素数は、好ましくは1~5、より好ましくは1~4、さらに好ましくは炭素数1であり、および/またはアルキル基の総炭素数は、好ましくは2~12、より好ましくは2~10、さらに好ましくは2~5、特に好ましくは2である。
エ-10 エ-8、9のいずれかにおいて、PhBzT1b-S-に対してm=2のR1bはオルト、パラ位もしくはオルト、メタ位に有する。
エ-11 エ-2からエ-10のいずれかにおいて、R1bは、三級炭素および/または四級炭素を有する炭化水素基であり、好ましくは分岐のアルキル基である。
エ-12 エ-1において、m個のR1bは、それぞれ独立に炭素数1~18の直鎖または分岐のアルキル基を持つアルコキシ基であり、好ましくは炭素数1~8の直鎖のアルキル基を持つアルコキシ基、より好ましくは炭素数1~4の直鎖のアルキル基を持つアルコキシ基である。また、好ましくはm=1~3、より好ましくはm=1~2、特に好ましくはm=1である。
エ-13 ウ-12において、m=1であり、アルコキシ基はPhBzT1b-S-に対してメタ位に有する
エ-14 エ-1において、m個のR1bはヒドロキシ基であり、好ましくはm=1~3、より好ましくはm=1~2、特に好ましくはm=1である。
エ-15 エ-14において、m=1で、ヒドロキシ基はPhBzT1b-S-に対してパラ位に有する。
Preferred examples of combinations of m R 1b in formula (2-2) are as follows.
A-1 m=0, Cy has no substituent R 1b , and all moieties that can be substituted for R 1b in Cy are hydrogen atoms.
A-2 m R 1b 's are each independently a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, the hydrocarbon group is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and m= 1 to 5.
A-3 In A-2, m=1 to 3.
A-4 In A-3, R 1b is each independently at least one branched alkyl group having 3 to 8 carbon atoms.
A-5 In A-3, m=1 and R 1b is a straight chain or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (preferably 1 to 10 carbon atoms).
A-6 In A-5, when m=1, R 1b is a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and the alkyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms, more preferably carbon atoms. It has 2 to 8 carbon atoms, more preferably 3 to 8 carbon atoms, even more preferably 3 to 5 carbon atoms, particularly preferably 4 to 5 carbon atoms, and even more preferably 4 carbon atoms.
A-7 In any one of A-2 to A-6, at least one R 1b is at the para position with respect to PhBzT 1b -S-.
A-8 In A-3, m=2, and R 1b is each independently a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (preferably 1 to 10 carbon atoms).
A-9 In A-8, m=2, R 1b is each independently a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and each alkyl group preferably has 1 to 5 carbon atoms. , more preferably 1 to 4 carbon atoms, still more preferably 1 carbon number, and/or the total carbon number of the alkyl group is preferably 2 to 12 carbon atoms, more preferably 2 to 10 carbon atoms, still more preferably 2 to 5 carbon atoms, and particularly preferably is 2.
A-10 In either A-8 or 9, R 1b with m=2 is at the ortho or para position or the ortho or meta position with respect to PhBzT 1b -S-.
A-11 In any of A-2 to A-10, R 1b is a hydrocarbon group having a tertiary carbon and/or a quaternary carbon, preferably a branched alkyl group.
A-12 In A-1, m R 1b are each independently an alkoxy group having a straight chain or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, preferably a straight chain alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. It is an alkoxy group having a group, more preferably an alkoxy group having a straight chain alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Further, preferably m=1 to 3, more preferably m=1 to 2, particularly preferably m=1.
A-13 In U-12, m = 1, and the alkoxy group is at the meta position with respect to PhBzT 1b -S-. A-14 In A-1, m R 1b are hydroxy groups, preferably m=1 to 3, more preferably m=1 to 2, particularly preferably m=1.
A-15 In A-14, m=1 and the hydroxy group is in the para position to PhBzT 1b -S-.

式(2-2)で表される2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体としては、特に限定されないが、例えば、5-シクロヘキシルチオ-2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール、5-(4-メチル-シクロヘキシル)-チオ-2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール、5-(4-メトキシ-シクロヘキシル)-チオ-2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール、5-(4-イソプロピル-シクロヘキシル)-チオ-2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール、などが挙げられる。 The 2-phenylbenzotriazole derivative represented by formula (2-2) is not particularly limited, but for example, 5-cyclohexylthio-2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)- 2H-benzotriazole, 5-(4-methyl-cyclohexyl)-thio-2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-2H-benzotriazole, 5-(4-methoxy-cyclohexyl) -thio-2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-2H-benzotriazole, 5-(4-isopropyl-cyclohexyl)-thio-2-(2-hydroxy-3-tert- butyl-5-methylphenyl)-2H-benzotriazole, and the like.

式(2-3)において、A2cは芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、およびハロゲン原子から選ばれる1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、両端の少なくともいずれかが中断されるか、または炭素-炭素結合が中断されていてもよい炭素数1~20の2価の炭化水素基、2価の芳香族基、またはスルフィド基-S-を示す。 In formula (2-3), A 2c is a monovalent or divalent group selected from aromatic groups, unsaturated groups, nitrogen-containing groups, sulfur-containing groups, oxygen-containing groups, phosphorus-containing groups, alicyclic groups, and halogen atoms. A divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, in which a hydrogen atom is substituted, at least one of both ends is interrupted, or a carbon-carbon bond is interrupted, 2 represents a valent aromatic group or a sulfide group -S-.

2cにおける炭素数1~20の2価の炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基などが挙げられる。その中でも脂肪族炭化水素基が好ましく、直鎖または分岐のアルキレン基、直鎖または分岐のアルケニレン基、直鎖または分岐のアルキニレン基などが挙げられる。具体的には、特に限定されないが、例えば、メチレン基、1,1-ジメチル-メチレン基、エタン-1,2-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-2,2-ジイル基、1-メチルエタン-1,2-ジイル基、ブタン-1,4-ジイル基、ブタン-1,3-ジイル基、2-メチルプロパン-1,3-ジイル基、ペンタン-1,5-ジイル基、ペンタン-1,4-ジイル基、ヘキサン-1,6-ジイル基、ヘプタン-1,7-ジイル基、オクタン-1,8-ジイル基、ノナン-1,9-ジイル基、デカン-1,10-ジイル基、ウンデカン-1,11-ジイル基、ドデカン-1,12-ジイル基、トリデカン-1,13-ジイル基、テトラデカン-1,14-ジイル基、ペンタデカン-1,15-ジイル基、ヘキサデカン-1,16-ジイル基、ヘプタデカン-1,17-ジイル基、オクタデカン-1,18-ジイル基、ノナデカン-1,19-ジイル基、エイコサン-1,20-ジイル基などが挙げられる。これらの中でも、直鎖または分岐のアルキレン基が好ましく、分岐のアルキレン基がより好ましい。 Examples of the divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in A 2c include aliphatic hydrocarbon groups, alicyclic hydrocarbon groups, and aromatic hydrocarbon groups. Among these, aliphatic hydrocarbon groups are preferred, and examples include straight-chain or branched alkylene groups, straight-chain or branched alkenylene groups, and straight-chain or branched alkynylene groups. Specific examples include, but are not limited to, a methylene group, a 1,1-dimethyl-methylene group, an ethane-1,2-diyl group, a propane-1,3-diyl group, and a propane-2,2-diyl group. , 1-methylethane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, pentane-1,5-diyl group , pentane-1,4-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1, 10-diyl group, undecane-1,11-diyl group, dodecane-1,12-diyl group, tridecane-1,13-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group, pentadecane-1,15-diyl group, Examples include hexadecane-1,16-diyl group, heptadecane-1,17-diyl group, octadecane-1,18-diyl group, nonadecane-1,19-diyl group, and eicosane-1,20-diyl group. Among these, linear or branched alkylene groups are preferred, and branched alkylene groups are more preferred.

2価の炭化水素基が、前記1価もしくは2価の基で、水素原子が置換されるか、両端の少なくともいずれかが中断されるか、または炭素-炭素結合が中断される場合、前記1価もしくは2価の基の数は、特に限定されないが、その例としては、2個以下、あるいは1個以下が挙げられる。前記1価もしくは2価の基の芳香族基、不飽和基、窒素含有基、硫黄含有基、酸素含有基、リン含有基、脂環式基、ハロゲン原子の具体例としては、前記において2-フェニルベンゾトリアゾール骨格のR1~R9の置換基として記載した1価もしくは2価の基と同様のものが挙げられ、その記載が参照される。 When the divalent hydrocarbon group is the monovalent or divalent group, a hydrogen atom is substituted, at least one of both ends is interrupted, or a carbon-carbon bond is interrupted, The number of valent or divalent groups is not particularly limited, but examples thereof include 2 or less, or 1 or less. Specific examples of the aromatic group, unsaturated group, nitrogen-containing group, sulfur-containing group, oxygen-containing group, phosphorus-containing group, alicyclic group, and halogen atom of the monovalent or divalent group include 2- As substituents for R 1 to R 9 of the phenylbenzotriazole skeleton, the same monovalent or divalent groups as described above may be mentioned, and the description thereof is referred to.

2cにおける2価の芳香族基は、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などの芳香環を含み、炭素数が好ましくは6~18、より好ましくは6~14である。2価の芳香族基としては、特に限定されないが、例えば、1,4-フェニレン基、1,3-フェニレン基、1,2-フェニレン基、1,8-ナフチレン基、2,7-ナフチレン基、2,6-ナフチレン基、1,4-ナフチレン基、1,3-ナフチレン基、9,10-アントラセニレン基、1,8-アントラセニレン基、2,7-アントラセニレン基、2,6-アントラセニレン基、1,4-アントラセニレン基、1,3-アントラセニレン基などが挙げられる。 The divalent aromatic group in A 2c includes an aromatic ring such as a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, etc., and preferably has 6 to 18 carbon atoms, more preferably 6 to 14 carbon atoms. The divalent aromatic group is not particularly limited, but includes, for example, 1,4-phenylene group, 1,3-phenylene group, 1,2-phenylene group, 1,8-naphthylene group, 2,7-naphthylene group. , 2,6-naphthylene group, 1,4-naphthylene group, 1,3-naphthylene group, 9,10-anthracenylene group, 1,8-anthracenylene group, 2,7-anthracenylene group, 2,6-anthracenylene group, Examples include 1,4-anthracenylene group and 1,3-anthracenylene group.

式(2-3)における、それぞれn個のR1c及びX1c、p個のR2c及びX2c、q個のA2cの組み合わせのうち好ましい例を挙げると次のとおりである。
オ-1 X1c、X2cはフェニル環の残基である。
オ-2 オ-1において、n、p=0で、X1c、X2cに置換基R1c、R2cはなく、X1c、X2cにおけるR1c、R2cに置換し得る部分はすべて水素原子である。
オ-3 オ-1において、n、p個のR1c、R2cは、それぞれ独立に炭素数1~18の炭化水素基であり、炭化水素基は、好ましくは炭素数1~18の直鎖または分岐のアルキル基であり、n、p=1~5である。
オ-4 オ-3において、n、p=1~3である。
オ-5 オ-4において、R1c、R2cは、それぞれ独立に少なくとも一つは炭素数3~8の分岐アルキル基である。
オ-6 オ-4において、n、p=1で、R1c、R2cは、それぞれ独立に炭素数1~18(好ましくは炭素数1~10)の直鎖または分岐のアルキル基である。
オ-7 オ-6において、n、p=1で、R1c、R2cは、それぞれ独立に炭素数1~10の直鎖または分岐のアルキル基であり、当該アルキル基は、好ましくは炭素数1~8、より好ましくは炭素数2~8、さらに好ましくは炭素数3~8、一層好ましくは炭素数3~5、特に好ましくは炭素数4~5、ことさら好ましくは炭素数4である。
オ-8 オ-4において、n、p=2で、R1c、R2cは、それぞれ独立に炭素数1~18(好ましくは炭素数1~10)の直鎖または分岐のアルキル基である。
オ-9 オ-8において、n、p=2で、R1c、R2cは、それぞれ独立に炭素数1~10の直鎖または分岐のアルキル基であり、当該アルキル基の各炭素数は、好ましくは1~5、より好ましくは1~4、さらに好ましくは炭素数1であり、および/またはアルキル基の総炭素数は、好ましくは2~12、より好ましくは2~10、さらに好ましくは2~5、特に好ましくは2である。
オ-10 オ-3からオ-9のいずれかにおいて、R1c、R2cは、それぞれ独立に三級炭素および/または四級炭素を有する炭化水素基であり、好ましくはアルキル基である。
オ-11 オ-1において、n、p個のR1c、R2cは、それぞれ独立に炭素数1~18の直鎖または分岐のアルキル基を持つアルコキシ基であり、好ましくは炭素数1~8の直鎖のアルキル基を持つアルコキシ基、より好ましくは炭素数1~4の直鎖のアルキル基を持つアルコキシ基である。また、好ましくはn、p=1~3、より好ましくはn、p=1~2、特に好ましくはn、p=1である。
オ-12 オ-1において、n、p個のR1c、R2cはヒドロキシ基であり、好ましくはn、p=1~3、より好ましくはn、p=1~2、特に好ましくはn、p=1である。
オ-13 X1c、X2cはナフチル環の残基であり、好ましくはn、p=0である。
オ-14 オ-1からオ-13のいずれかにおいて、q=1、A2cがスルフィド基である。好ましくは、n、p=0、X1c、X2cに置換基R1c、R2cはなく、X1c、X2cにおけるR1c、R2cに置換し得る部分はすべて水素原子である。
オ-15 オ-1からオ-13のいずれかにおいて、q=1、A2cが炭素数1~8(好ましくは炭素数1~4)の炭化水素基(好ましくは、直鎖または分岐のアルキレン基)である。好ましくは、n、p=0、X1c、X2cに置換基R1c、R2cはなく、X1c、X2cにおけるR1c、R2cに置換し得る部分はすべて水素原子である。
オ-16 オ-1からオ-13のいずれかにおいて、q=0である。好ましくは、n、p=0、X1c、X2cに置換基R1c、R2cはなく、X1c、X2cにおけるR1c、R2cに置換し得る部分はすべて水素原子である。
オ-17 オ-1からオ-16のいずれかにおいて、-(A1cq-は、PhBzT1c-S-、PhBzT2c-S-に対してパラ位に有る。
Preferred examples of combinations of n R 1c and X 1c , p R 2c and X 2c , and q A 2c in formula (2-3) are as follows.
O-1 X 1c and X 2c are phenyl ring residues.
O-2 In O-1, n and p=0, there are no substituents R 1c and R 2c in X 1c and X 2c , and all moieties that can be substituted for R 1c and R 2c in X 1c and X 2c are hydrogen. It is an atom.
O-3 In O-1, n and p R 1c and R 2c are each independently a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and the hydrocarbon group is preferably a linear chain having 1 to 18 carbon atoms. or a branched alkyl group, where n and p=1 to 5.
O-4 In O-3, n and p=1 to 3.
O-5 In O-4, R 1c and R 2c each independently represent at least one branched alkyl group having 3 to 8 carbon atoms.
O-6 In O-4, n and p=1, and R 1c and R 2c are each independently a straight chain or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (preferably 1 to 10 carbon atoms).
O-7 In O-6, n and p=1, R 1c and R 2c are each independently a straight chain or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and the alkyl group preferably has a carbon number of It has 1 to 8 carbon atoms, more preferably 2 to 8 carbon atoms, even more preferably 3 to 8 carbon atoms, even more preferably 3 to 5 carbon atoms, particularly preferably 4 to 5 carbon atoms, and even more preferably 4 carbon atoms.
O-8 In O-4, n and p=2, and R 1c and R 2c are each independently a straight chain or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (preferably 1 to 10 carbon atoms).
O-9 In O-8, n and p=2, R 1c and R 2c are each independently a straight chain or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and each carbon number of the alkyl group is: The number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 4, and even more preferably 1, and/or the total number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 2 to 12, more preferably 2 to 10, and even more preferably 2. -5, particularly preferably 2.
O-10 In any one of O-3 to O-9, R 1c and R 2c are each independently a hydrocarbon group having a tertiary carbon and/or a quaternary carbon, preferably an alkyl group.
O-11 In O-1, n and p R 1c and R 2c are each independently an alkoxy group having a straight chain or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, preferably 1 to 8 carbon atoms. An alkoxy group having a straight chain alkyl group, more preferably an alkoxy group having a straight chain alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Further, preferably n and p=1 to 3, more preferably n and p=1 to 2, particularly preferably n and p=1.
O-12 In O-1, n and p R 1c and R 2c are hydroxy groups, preferably n and p = 1 to 3, more preferably n and p = 1 to 2, particularly preferably n, p=1.
O-13 X 1c and X 2c are naphthyl ring residues, preferably n and p=0.
O-14 In any one of O-1 to O-13, q=1 and A 2c is a sulfide group. Preferably, n, p=0, X 1c and X 2c do not have substituents R 1c and R 2c , and all moieties that can be substituted for R 1c and R 2c in X 1c and X 2c are hydrogen atoms.
O-15 In any one of O-1 to O-13, q=1 and A 2c is a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms (preferably 1 to 4 carbon atoms) (preferably a linear or branched alkylene group). basis). Preferably, n, p=0, X 1c and X 2c do not have substituents R 1c and R 2c , and all moieties that can be substituted for R 1c and R 2c in X 1c and X 2c are hydrogen atoms.
O-16 In any one of O-1 to O-13, q=0. Preferably, n, p=0, X 1c and X 2c do not have substituents R 1c and R 2c , and all moieties that can be substituted for R 1c and R 2c in X 1c and X 2c are hydrogen atoms.
O-17 In any of O-1 to O-16, -(A 1c ) q - is at the para position with respect to PhBzT 1c -S- and PhBzT 2c -S-.

式(2-3)で表される2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体としては、特に限定されないが、例えば、4,4’-チオビス[(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール-5-イル-チオベンゼン]、4,4’-プロパン-2,2-ジイル-ビス[(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール-5-イル-チオベンゼン]、4,4’-ビフェニル-ビス[(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-2H-ベンゾトリアゾール-5-イル-チオ]などが挙げられる。 The 2-phenylbenzotriazole derivative represented by formula (2-3) is not particularly limited, but for example, 4,4'-thiobis[(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)- 2H-benzotriazol-5-yl-thiobenzene], 4,4'-propane-2,2-diyl-bis[(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-2H-benzotriazole-5 -yl-thiobenzene], 4,4'-biphenyl-bis[(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-2H-benzotriazol-5-yl-thio], and the like.

有機化合物Aの好ましい態様をさらに示すと次のとおりである。
・2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体は、式(2-1)または(2-3)で表わされるものであり、式(2-1)または(2-3)においてX1a、X1c、X2cはフェニル環の残基を示し、l、n、pは0である。
特に、2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体は、式(2-1)、(2-3)のいずれかで表わされるものであり、式(2-1)、(2-3)においてX1a、X1c、X2cはフェニル環の残基を示し、l、n、pは0であり、2-フェニルベンゾトリアゾール骨格のR1にヒドロキシ基、R4にメチル基を有する。
Further preferred embodiments of the organic compound A are as follows.
・The 2-phenylbenzotriazole derivative is represented by the formula (2-1) or (2-3), and in the formula (2-1) or (2-3), X 1a , X 1c , and X 2c are It represents a phenyl ring residue, and l, n, and p are 0.
In particular, the 2-phenylbenzotriazole derivative is represented by either formula (2-1) or (2-3), and in formula (2-1) or (2-3), X 1a , X 1c , X 2c represents a phenyl ring residue, l, n, and p are 0, and R 1 of the 2-phenylbenzotriazole skeleton has a hydroxy group and R 4 has a methyl group.

・2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体は、式(2-1)または(2-3)で表わされるものであり、式(2-1)または(2-3)においてX1a、X1c、X2cはフェニル環の残基を示し、l、n、p個のR1a、R1c、R2cはそれぞれ独立に炭素数1~18の直鎖または分岐の炭化水素基を示し、l、n、pは1~5の整数を示す。
特に、式(2-1)または(2-3)においてX1a、X1c、X2cはフェニル環の残基を示し、l、n、p個のR1a、R1c、R2cはそれぞれ独立に少なくとも一つは炭素数3~8の分岐アルキル基を示し、l、n、pは1~3の整数を示す。
あるいは、式(2-1)または(2-3)においてX1a、X1c、X2cはフェニル環の残基を示し、l、n、p個のR1a、R1c、R2cはそれぞれ独立に炭素数1~18の直鎖または分岐のアルキル基を示し、l、n、pは1の整数を示す。
あるいは、式(2-1)または(2-3)においてX1a、X1c、X2cはフェニル環の残基を示し、l、n、p個のR1a、R1c、R2cはそれぞれ独立に炭素数1~18の直鎖または分岐のアルキル基を示し、l、n、pは2の整数を示す。
あるいは、式(2-1)または(2-3)においてX1a、X1c、X2cはフェニル環の残基を示し、l、n、p個のR1a、R1c、R2cはそれぞれ独立に炭素数1~18の三級炭素および/または四級炭素を有する炭化水素基を示し、l、n、pは1~5の整数を示す。
・The 2-phenylbenzotriazole derivative is represented by the formula (2-1) or (2-3), and in the formula (2-1) or (2-3), X 1a , X 1c , and X 2c are Represents a phenyl ring residue, l, n, and p R 1a , R 1c , and R 2c each independently represent a straight-chain or branched hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and l, n, and p are Indicates an integer from 1 to 5.
In particular, in formula (2-1) or (2-3), X 1a , X 1c , and X 2c represent phenyl ring residues, and l, n, and p R 1a , R 1c , and R 2c are each independently At least one of them represents a branched alkyl group having 3 to 8 carbon atoms, and l, n, and p represent integers of 1 to 3.
Alternatively, in formula (2-1) or (2-3), X 1a , X 1c , and X 2c represent phenyl ring residues, and l, n, and p R 1a , R 1c , and R 2c are each independently represents a straight chain or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and l, n, and p represent an integer of 1.
Alternatively, in formula (2-1) or (2-3), X 1a , X 1c , and X 2c represent phenyl ring residues, and l, n, and p R 1a , R 1c , and R 2c are each independently represents a straight chain or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and l, n, and p represent an integer of 2.
Alternatively, in formula (2-1) or (2-3), X 1a , X 1c , and X 2c represent phenyl ring residues, and l, n, and p R 1a , R 1c , and R 2c are each independently represents a hydrocarbon group having tertiary carbon and/or quaternary carbon having 1 to 18 carbon atoms, and l, n, and p represent integers of 1 to 5.

・2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体は、式(2-1)または(2-3)のいずれかで表わされるものであり、式(2-1)または(2-3)においてX1a、X1c、X2cはフェニル環の残基を示し、l、n、p個のR1a、R1c、R2cはそれぞれ独立に炭素数1~18の直鎖または分岐のアルキル基を持つアルコキシ基を示す。 - The 2-phenylbenzotriazole derivative is represented by either formula (2-1) or (2-3), and in formula (2-1) or (2-3), X 1a , X 1c , X 2c represents a phenyl ring residue, and l, n, and p R 1a , R 1c , and R 2c each independently represent an alkoxy group having a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms.

・2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体は、式(2-1)または(2-3)で表わされるものであり、式(2-1)または(2-3)においてX1a、X1c、X2cはフェニル環の残基を示し、l、n、p個のR1a、R1c、R2cはヒドロキシル基を示す。 ・The 2-phenylbenzotriazole derivative is represented by the formula (2-1) or (2-3), and in the formula (2-1) or (2-3), X 1a , X 1c , and X 2c are It represents a phenyl ring residue, and l, n, and p R 1a , R 1c , and R 2c represent a hydroxyl group.

・2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体は、式(2-1)または(2-3)で表わされるものであり、式(2-1)または(2-3)においてX1a、X1c、X2cはナフチル環の残基を示す。 ・The 2-phenylbenzotriazole derivative is represented by the formula (2-1) or (2-3), and in the formula (2-1) or (2-3), X 1a , X 1c , and X 2c are Residues of the naphthyl ring are shown.

・2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体は、式(2-2)で表わされるものであり、式(2-2)において、mは0である。 - The 2-phenylbenzotriazole derivative is represented by formula (2-2), and in formula (2-2), m is 0.

・2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体は、式(2-2)で表わされるものであり、式(2-2)において、R1bはそれぞれ独立に炭素数1~18の炭化水素基を示す。 - The 2-phenylbenzotriazole derivative is represented by formula (2-2), and in formula (2-2), R 1b each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.

・2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体は、式(2-3)で表わされるものであり、式(2-3)においてX1cとX2cはフェニル環の残基を示し、qは1であり、A2cはスルフィド基-S-を示す。 - The 2-phenylbenzotriazole derivative is represented by the formula (2-3), in which X 1c and X 2c represent phenyl ring residues, q is 1, and A 2c represents a sulfide group -S-.

・2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体は、式(2-3)で表わされるものであり、式(2-3)においてX1cとX2cはフェニル環の残基を示し、qは1であり、A2cは炭素数1~8の炭化水素基を示す。 - The 2-phenylbenzotriazole derivative is represented by the formula (2-3), in which X 1c and X 2c represent phenyl ring residues, q is 1, and A 2c represents a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.

・2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体は、式(2-3)で表わされるものであり、式(2-3)においてX1cとX2cはフェニル環の残基を示し、qは0である。 - The 2-phenylbenzotriazole derivative is represented by formula (2-3), where X 1c and X 2c represent phenyl ring residues, and q is 0.

有機化合物Aは、コーティング膜形成用組成物およびコーティング膜中において、結晶状態を保持していることが好ましい。有機化合物が結晶状態を保持していることはX線回折により確認できる。 It is preferable that the organic compound A maintains a crystalline state in the coating film forming composition and the coating film. It can be confirmed by X-ray diffraction that the organic compound maintains a crystalline state.

有機化合物Aは、所定の平均粒径となるように公知の乾式または湿式の粉砕装置を用いて砕いてからコーティング膜形成用組成物に配合するとよい。有機化合物Aが粉砕されて所定の平均粒径に到達する時間は、粉砕装置の種類、投入量、さらには回転数などの粉砕条件に依存する。このため、量産に際しては、予め、粉砕装置による粉砕を適宜中断してサンプリングした粉砕物の平均粒径を確認することを繰り返しながら、所定の平均粒径が得られるまでの時間を定めておくとよい。なお、粉砕に際しては、粉砕するべき有機化合物Aに、界面活性剤、水溶性樹脂などを適宜添加してもよい。 The organic compound A is preferably crushed using a known dry or wet crushing device to a predetermined average particle size, and then blended into the composition for forming a coating film. The time required for the organic compound A to reach a predetermined average particle size after being pulverized depends on the pulverizing conditions such as the type of pulverizer, the input amount, and the number of rotations. For this reason, when mass producing, it is recommended to stop the grinding by the grinding device as appropriate and check the average particle size of the sampled crushed material in advance, and determine the time required to obtain the desired average particle size. good. In addition, at the time of pulverization, a surfactant, a water-soluble resin, etc. may be appropriately added to the organic compound A to be pulverized.

有機化合物Aは、平均粒径が150nm以下、好ましくは10~150nm、より好ましくは50~140nm、特に好ましくは70~140nm、の微粒子として膜に分散させるとよい。微粒子の平均粒径は、大きすぎると膜の透明性を低下させるが、小さすぎると紫外線吸収能が劣化したり、その持続性が低下したりおそれがある。なお、上記「平均粒径」は、後述する実施例の欄における測定値も含め、光子相関法の一種である動的光散乱法による測定値に基づく数値であり、具体的には、球相当径の体積基準による分布において累積頻度が50%となる粒子径である。「平均粒径」は、例えば、日機装社製「マイクロトラック超微粒子粒度分布計9340-UPA150」を用いて測定することができる。 The organic compound A is preferably dispersed in the film as fine particles having an average particle size of 150 nm or less, preferably 10 to 150 nm, more preferably 50 to 140 nm, particularly preferably 70 to 140 nm. If the average particle diameter of the fine particles is too large, the transparency of the film will be reduced, but if it is too small, the ultraviolet absorbing ability may deteriorate or its sustainability may decrease. The above "average particle size" is a value based on the measured value by dynamic light scattering, which is a type of photon correlation method, including the measured value in the Examples section described later. This is the particle diameter at which the cumulative frequency is 50% in the volume-based diameter distribution. The "average particle size" can be measured using, for example, "Microtrac Ultrafine Particle Size Distribution Meter 9340-UPA150" manufactured by Nikkiso Co., Ltd.

膜中に分散した有機化合物Aの微粒子は、走査型電子顕微鏡(SEM)または透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて観察すれば、その存在を確認できる。SEMまたはTEMを用いて観察した膜断面に存在する各微粒子の最大長さの上位10%の平均値Aは、上述の定義による「平均粒径」の値を下回ることはない。したがって、上記平均値Aが150nm以下であれば「平均粒径」を150nm以下とみなすことができる。また、上記膜断面に存在する各微粒子の最大長さを規定する方向と直交する方向についての長さの下位10%の平均値Bは、上述の定義による「平均粒径」の値を上回ることはない。したがって、例えば上記平均値Bが50nm以上であれば「平均粒径」を50nm以上とみなしてもよい。 The presence of the organic compound A fine particles dispersed in the film can be confirmed by observing them using a scanning electron microscope (SEM) or a transmission electron microscope (TEM). The average value A of the top 10% of the maximum length of each fine particle present in the membrane cross section observed using SEM or TEM does not fall below the value of the "average particle size" as defined above. Therefore, if the average value A is 150 nm or less, the "average particle size" can be considered to be 150 nm or less. In addition, the average value B of the lowest 10% of the lengths in the direction orthogonal to the direction that defines the maximum length of each fine particle existing in the membrane cross section must exceed the value of the "average particle diameter" as defined above. There isn't. Therefore, for example, if the average value B is 50 nm or more, the "average particle size" may be considered to be 50 nm or more.

有機化合物Aは、これを溶かしうる有機溶媒に溶解させた溶質として膜に導入することもできる。溶質としての導入は、より容易に実施できる方法であり、コーティング膜における有機化合物Aのより均一な分布を実現するためには望ましい方法でもある。しかし、有機化合物Aを微粒子として膜に導入することにより、膜の紫外線遮蔽能の持続性は向上する。さらに、有機化合物Aを微粒子として添加することにより、溶質としての添加よりも好ましい分光吸収特性が得られる。 The organic compound A can also be introduced into the membrane as a solute dissolved in an organic solvent that can dissolve it. Introduction as a solute is a method that is easier to implement and is also a desirable method for achieving a more uniform distribution of the organic compound A in the coating film. However, by introducing organic compound A into the film in the form of fine particles, the sustainability of the ultraviolet shielding ability of the film is improved. Furthermore, by adding organic compound A as fine particles, more preferable spectral absorption characteristics can be obtained than when adding organic compound A as a solute.

微粒子として添加することにより、分光吸光度曲線における有機化合物Aによる吸収ピークが溶質として添加したときよりも長波長側にシフトすることがある。このシフトにより、波長400nm近傍の光をより効果的に遮蔽することが可能になる。しかし一方で、吸収ピークの長波長側へのシフトによって、コーティング膜の黄色系への着色はより強くなる。有機化合物Aは、コーティング膜の黄色系への強い着色を抑制しながら波長400nm近傍の光の透過率を十分に低下させることに適している。 By adding it as fine particles, the absorption peak of organic compound A in the spectral absorbance curve may be shifted to a longer wavelength side than when it is added as a solute. This shift makes it possible to more effectively block light with a wavelength of around 400 nm. On the other hand, however, due to the shift of the absorption peak to the longer wavelength side, the yellowish coloring of the coating film becomes more intense. Organic compound A is suitable for sufficiently lowering the transmittance of light around a wavelength of 400 nm while suppressing strong yellowish coloring of the coating film.

コーティング膜形成用組成物は、酸化ケイ素前駆体と有機化合物Aとを含む膜形成溶液でありうる。膜形成溶液を構成する溶媒としては、水および低級アルコールが適しているが、水が最も適している。低級アルコールとしては、メタノール、エタノール、イソプロパノールなど炭素数1~3のアルコールが好適である。コーティング膜形成用組成物は、有機化合物B、シランカップリング剤などのコーティング膜に配合してもよい成分を含んでいてもよい。コーティング膜形成用組成物は、必要に応じ、湿潤剤、防腐剤、防カビ剤、消泡剤、安定化剤などの添加剤を含んでいてもよい。 The composition for forming a coating film may be a film forming solution containing a silicon oxide precursor and an organic compound A. Water and lower alcohols are suitable as the solvent constituting the film-forming solution, with water being the most suitable. As the lower alcohol, alcohols having 1 to 3 carbon atoms such as methanol, ethanol, and isopropanol are suitable. The composition for forming a coating film may contain components that may be blended into the coating film, such as organic compound B and a silane coupling agent. The composition for forming a coating film may contain additives such as a wetting agent, a preservative, a fungicide, an antifoaming agent, and a stabilizer, as required.

酸化ケイ素前駆体は、コーティング膜に酸化ケイ素を供給できる限り、その種類に制限はない。後述するゾルゲル法によりコーティング膜を成膜する場合、好ましい酸化ケイ素前駆体は、加水分解性官能基を有するケイ素化合物であり、典型的にはシリコンテトラアルコキシドである。なお、シランカップリング剤に含まれるケイ素原子からも酸化ケイ素が供給される。したがって、シランカップリング剤も酸化ケイ素前駆体として機能する。 The type of silicon oxide precursor is not limited as long as it can supply silicon oxide to the coating film. When forming a coating film by the sol-gel method described below, a preferred silicon oxide precursor is a silicon compound having a hydrolyzable functional group, typically silicon tetraalkoxide. Note that silicon oxide is also supplied from silicon atoms contained in the silane coupling agent. Therefore, the silane coupling agent also functions as a silicon oxide precursor.

コーティング膜中の酸化ケイ素は、膜全体の40質量%以上、50質量%以上(この場合は酸化ケイ素が膜の主成分となる)、場合によっては70質量%以上、を占めていてもよい。コーティング膜は、好ましくは、酸化ケイ素を主成分とし、Si-O結合のネットワーク中に有機化合物Aの微粒子やその他の成分が分散している形態を有する。このような形態を有する膜は、窓ガラスなどとしての屋外での使用に適している。コーティング膜形成用組成物は、その組成物から形成されるコーティング膜の酸化ケイ素の含有率が上記程度になるように酸化ケイ素前駆体を含んでいることが好ましい。 Silicon oxide in the coating film may account for 40% by mass or more, 50% by mass or more of the entire film (in this case, silicon oxide is the main component of the film), and in some cases 70% by mass or more. The coating film preferably contains silicon oxide as a main component, and has a form in which fine particles of organic compound A and other components are dispersed in a network of Si--O bonds. A film having such a configuration is suitable for outdoor use as window glass or the like. The composition for forming a coating film preferably contains a silicon oxide precursor so that the silicon oxide content of the coating film formed from the composition is within the above range.

有機化合物Aは、コーティング膜中の酸化ケイ素に対し、質量%により表示して、1~80%、さらには5~60%、特に5~50%、とりわけ7~30%の範囲で含まれていることが好ましい。これを考慮すると、有機化合物Aは、膜形成溶液の液量に対しては、同じく質量%により表示して、0.5~25%、より好ましくは0.5~15%となるように添加することが好ましい。 The organic compound A is contained in a range of 1 to 80%, further 5 to 60%, particularly 5 to 50%, particularly 7 to 30%, based on the silicon oxide in the coating film. Preferably. Considering this, the organic compound A should be added in an amount of 0.5 to 25%, more preferably 0.5 to 15%, based on the amount of the film forming solution, expressed in mass%. It is preferable to do so.

有機化合物Bは、有機化合物Aに該当しない紫外線遮蔽成分である。有機化合物Bは、2-フェニルベンゾトリアゾール骨格を含み、2-フェニルベンゾトリアゾール骨格に硫黄原子含有基が接続されていない分子構造を有することが好ましい。有機化合物Bも、平均粒径が150nm以下の微粒子の形態を有するようにコーティング膜またはコーティング膜形成用組成物に配合するとよい。 Organic compound B is an ultraviolet shielding component that does not correspond to organic compound A. The organic compound B preferably has a molecular structure that includes a 2-phenylbenzotriazole skeleton and has no sulfur atom-containing group connected to the 2-phenylbenzotriazole skeleton. The organic compound B may also be blended into the coating film or the composition for forming a coating film so that it has the form of fine particles with an average particle size of 150 nm or less.

有機化合物Bは、例えば以下の式(3)により示される。 Organic compound B is represented by the following formula (3), for example.

Figure 0007371847000003
Figure 0007371847000003

1~B9は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、芳香族基、不飽和基、酸素原子含有基、リン原子含有基、およびチオ有機基以外の硫黄原子含有基から選ばれる少なくとも1つに該当する原子または基である。より正確に述べると、B1~B9は、それぞれ独立に、水素原子若しくはハロゲン原子、または炭化水素基、芳香族基、不飽和基、酸素原子含有基、リン原子含有基、およびチオ有機基以外の硫黄原子含有基から選ばれる少なくとも1つに該当する基である。B1~B9は上記の基の2以上に該当していてもよい。ハロゲン原子および各官能基の具体例は、有機化合物Aについて上述したとおりである。 B 1 to B 9 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, an aromatic group, an unsaturated group, an oxygen atom-containing group, a phosphorus atom-containing group, and a sulfur atom-containing group other than a thioorganic group. An atom or group that corresponds to at least one of the following. To be more precise, B 1 to B 9 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, an aromatic group, an unsaturated group, an oxygen atom-containing group, a phosphorus atom-containing group, and a thioorganic group. The group corresponds to at least one sulfur atom-containing group other than sulfur atom-containing groups. B 1 to B 9 may correspond to two or more of the above groups. Specific examples of the halogen atom and each functional group are as described above for organic compound A.

有機化合物Aと同様、有機化合物BのB1~B5の少なくとも1つは、酸素原子含有基であることが好ましい。特に少なくともB1またはB5は酸素原子含有基であることが好ましい。好ましい酸素原子含有基はヒドロキシ基である。有機化合物BのB1~B5の少なくとも2つは炭素数1~4のアルキル基であることが好ましい。B2およびB4はメチル基とtert-ブチル基との組み合わせであってもよい。 Similar to organic compound A, at least one of B 1 to B 5 of organic compound B is preferably an oxygen atom-containing group. In particular, at least B 1 or B 5 is preferably an oxygen atom-containing group. A preferred oxygen atom-containing group is a hydroxy group. At least two of B 1 to B 5 of organic compound B are preferably alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms. B 2 and B 4 may be a combination of a methyl group and a tert-butyl group.

有機化合物Aと同様、有機化合物Bは、コーティング膜形成用組成物およびコーティング膜中において、結晶状態を保持していることが好ましい。有機化合物Bは、所定の平均粒径となるように公知の乾式または湿式の粉砕装置を用いて砕いてからコーティング膜形成用組成物に配合するとよい。有機化合物Bの好ましい平均粒径は、有機化合物Aについて上述したとおりである。有機化合物Bは、有機化合物Aとの合計量が、コーティング膜中の酸化ケイ素に対して有機化合物Aについて上述した比率となるように配合することが好ましい。有機化合物Bは、質量基準で有機化合物A未満、好ましくは有機化合物Aの50%未満となるように添加するとよい。 Like organic compound A, organic compound B preferably maintains a crystalline state in the coating film forming composition and coating film. The organic compound B is preferably crushed using a known dry or wet crushing device so as to have a predetermined average particle size, and then blended into the composition for forming a coating film. The preferred average particle size of organic compound B is as described above for organic compound A. It is preferable that the organic compound B is blended in such a manner that the total amount of the organic compound B and the organic compound A is in the ratio described above for the organic compound A to silicon oxide in the coating film. Organic compound B is preferably added in an amount that is less than organic compound A, preferably less than 50% of organic compound A, on a mass basis.

有機化合物Bは、2以上の2-フェニルベンゾトリアゾール骨格を有していてもよい。2以上の2-フェニルベンゾトリアゾール骨格は、上述した基により接続されていることが好ましい。 Organic compound B may have two or more 2-phenylbenzotriazole skeletons. Two or more 2-phenylbenzotriazole skeletons are preferably connected by the above-mentioned groups.

2つの2-フェニルベンゾトリアゾール骨格を有する有機化合物Bの好ましい一例は、それぞれの骨格のB2に結合したメチレン基により互いに結合した形態を有する。この形態では、それぞれの骨格のB1がヒドロキシ基であり、B4がtert-ブチル基であり、B3およびB5が水素原子であってもよい。 A preferred example of the organic compound B having two 2-phenylbenzotriazole skeletons has a form in which they are bonded to each other through methylene groups bonded to B 2 of each skeleton. In this form, B 1 of each skeleton may be a hydroxy group, B 4 may be a tert-butyl group, and B 3 and B 5 may be hydrogen atoms.

有機化合物Bの別の例は、ベンゾフェノン化合物である。ベンゾフェノン化合物は以下の式(4)を基本骨格とする。ただし、ベンゼン環の水素原子は置換基により置換されていてもよい。置換基はB1~B9を対象として挙げた基であってもよい。ベンゾフェノン化合物である有機化合物Bとしては、2,2’,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4-オクトキシベンゾフェノン、5,5’-メチレンビス(2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン)を例示できる。 Another example of organic compound B is a benzophenone compound. The benzophenone compound has the following formula (4) as its basic skeleton. However, the hydrogen atom of the benzene ring may be substituted with a substituent. The substituents may be the groups listed for B 1 to B 9 . Organic compound B, which is a benzophenone compound, includes 2,2',4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, An example is 5,5'-methylenebis(2-hydroxy-4-methoxybenzophenone).

Figure 0007371847000004
Figure 0007371847000004

有機化合物Cは、親水性有機化合物であり、ポリマーであってもよい。有機化合物Cは、有機化合物Aまたは有機化合物AおよびBであるベンゾトリアゾール系紫外線遮蔽成分のコーティング膜中における分散性の向上に寄与し、ベンゾトリアゾール系紫外線遮蔽成分による光線遮蔽能を高め、さらにはこの成分の劣化を抑制する成分である。コーティング膜をゾルゲル法などの液相成膜により比較的厚く(例えば300nmを超える厚さ、さらには500nm以上の厚さ)形成する際には、膜形成溶液に含まれる液体成分の蒸発に伴ってクラックが発生することがある。有機化合物Cは、クラックの発生を抑制しながら厚膜の形成を可能にする成分でもある。 The organic compound C is a hydrophilic organic compound and may be a polymer. The organic compound C contributes to improving the dispersibility of the benzotriazole-based UV-shielding component, which is the organic compound A or organic compounds A and B, in the coating film, increases the light-shielding ability of the benzotriazole-based UV-shielding component, and further This component suppresses the deterioration of this component. When forming a relatively thick coating film (for example, over 300 nm, or even over 500 nm) by liquid-phase film formation such as a sol-gel method, as the liquid component contained in the film forming solution evaporates, Cracks may occur. The organic compound C is also a component that enables the formation of a thick film while suppressing the occurrence of cracks.

有機化合物Cは、好ましくはポリエーテル化合物、ポリオール化合物、ポリビニルピロリドン類およびポリビニルカプロラクタム類から選ばれる少なくとも1つに該当する。ポリエーテル化合物は2以上のエーテル結合を含む化合物である。ポリオール化合物は2以上のヒドロキシ基を含む化合物である。ポリビニルピロリドン類は、ビニルピロリドンおよびその誘導体を単量体として含む重合体である。ポリビニルカプロラクタム類は、ビニルカプロラクタムおよびその誘導体を単量体として含む重合体である。有機化合物Cの例には、ポリエーテル型の界面活性剤、ポリエポキシ化合物のエポキシ基が反応して生成するポリオール化合物が含まれる。有機化合物Cはポリマーであってもよい。有機化合物Cの例には、ポリカプロラクトンポリオール、ビスフェノールAポリオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールも含まれる。 The organic compound C preferably corresponds to at least one selected from polyether compounds, polyol compounds, polyvinylpyrrolidones, and polyvinylcaprolactams. A polyether compound is a compound containing two or more ether bonds. A polyol compound is a compound containing two or more hydroxy groups. Polyvinylpyrrolidones are polymers containing vinylpyrrolidone and its derivatives as monomers. Polyvinylcaprolactams are polymers containing vinylcaprolactam and derivatives thereof as monomers. Examples of the organic compound C include polyether type surfactants and polyol compounds produced by the reaction of epoxy groups of polyepoxy compounds. Organic compound C may be a polymer. Examples of organic compound C also include polycaprolactone polyol, bisphenol A polyol, polyethylene glycol, and polypropylene glycol.

有機化合物Cは、膜中の酸化ケイ素に対し、質量%で表示して、0~75%、さらには0.05~50%、特に0.1~40%、とりわけ1~30%、場合によっては10%以下、必要に応じて7%以下となるように、膜に添加することが好ましい。 The organic compound C is 0 to 75%, particularly 0.05 to 50%, particularly 0.1 to 40%, particularly 1 to 30%, in some cases, based on the silicon oxide in the film, expressed as mass %. is preferably added to the film in an amount of 10% or less, and if necessary, 7% or less.

シランカップリング剤は、その種類が特に制限されるものではないが、LSiM3で示される有機化合物が好ましい。ここで、Lは、ビニル基、グリシドキシ基、メタクリル基、アミノ基およびメルカプト基から選ばれる少なくとも1つであり、Mは、ハロゲン元素またはアルコキシ基である。シランカップリング剤は、L基がコーティング膜中の有機物と反応し、M基が加水分解して膜中の無機物とそれぞれ反応する。この反応を通じて、シランカップリング剤は、有機化合物Aまたは有機化合物AおよびBである紫外線遮蔽成分の膜中における分散性の向上に寄与し、クラックの発生を抑制しながら厚膜の形成を可能にする効果を奏する。シランカップリング剤は、シランカップリング剤から供給される酸化ケイ素がコーティング膜中の全酸化ケイ素に対し、モル%で表示して、0~30%、好ましくは0.1~20%、より好ましくは1~10%となるように、膜に添加することが好ましい。 The type of silane coupling agent is not particularly limited, but an organic compound represented by LSiM 3 is preferable. Here, L is at least one selected from a vinyl group, a glycidoxy group, a methacryl group, an amino group, and a mercapto group, and M is a halogen element or an alkoxy group. In the silane coupling agent, the L group reacts with the organic substance in the coating film, and the M group hydrolyzes and reacts with the inorganic substance in the film. Through this reaction, the silane coupling agent contributes to improving the dispersibility of the ultraviolet shielding components, which are organic compound A or organic compounds A and B, in the film, making it possible to form a thick film while suppressing the occurrence of cracks. It has the effect of In the silane coupling agent, silicon oxide supplied from the silane coupling agent is expressed in mol% of 0 to 30%, preferably 0.1 to 20%, more preferably 0.1 to 20%, based on the total silicon oxide in the coating film. is preferably added to the film in an amount of 1 to 10%.

なお、シランカップリング剤から供給される酸化ケイ素は、コーティング膜中のシランカップリング剤に由来する構造単位のケイ素原子に結合する酸素原子の数に応じて算出する。例えば、上述のLSiM3で示されるシランカップリング剤から供給される酸化ケイ素は、ケイ素原子が3つの酸素原子に結合しているため、SiO1.5と表示される。 Note that the silicon oxide supplied from the silane coupling agent is calculated according to the number of oxygen atoms bonded to silicon atoms in the structural unit derived from the silane coupling agent in the coating film. For example, silicon oxide supplied from the silane coupling agent represented by LSiM 3 above is expressed as SiO 1.5 because the silicon atom is bonded to three oxygen atoms.

コーティング膜が含んでいてもよいその他の成分としては、インジウム錫酸化物(ITO)微粒子が挙げられる。ITO微粒子は近赤外線の吸収に好ましい成分である。ITO微粒子は、平均粒径が200nm以下、好ましくは5~150nm、の微粒子として膜に分散させるとよい。有機化合物Aの微粒子と同様、粒径が大きすぎると膜の透明性を低下させ、小さすぎると添加による効果が十分得られない。ITO微粒子も予め分散液を調製しておいて、これを膜の形成溶液に添加するとよい。コーティング膜は、酸化ケイ素、ITO微粒子以外の無機成分を含んでいてもよい。このような無機成分としては、ゾルゲル法で用いた酸触媒に由来する成分が挙げられる。 Other components that the coating film may contain include indium tin oxide (ITO) fine particles. ITO fine particles are a preferred component for absorbing near-infrared rays. The ITO fine particles are preferably dispersed in the film as fine particles having an average particle size of 200 nm or less, preferably 5 to 150 nm. As with the fine particles of organic compound A, if the particle size is too large, the transparency of the film will be reduced, and if the particle size is too small, the effect of addition will not be sufficiently obtained. It is preferable to prepare a dispersion of ITO fine particles in advance and add this to the film forming solution. The coating film may contain inorganic components other than silicon oxide and ITO fine particles. Examples of such inorganic components include components derived from acid catalysts used in the sol-gel method.

コーティング膜2は酸化ケイ素を主成分とする。コーティング膜2は、好ましくは、酸化ケイ素を主成分とし、Si-O結合により構成されたネットワーク中に有機化合物Aの微粒子やその他の成分が分散している形態を有する。このような形態を有する膜は、窓ガラスなどとしての屋外での使用に特に適している。 The coating film 2 has silicon oxide as a main component. Preferably, the coating film 2 has a form in which the main component is silicon oxide, and fine particles of the organic compound A and other components are dispersed in a network constituted by Si--O bonds. A membrane having such a morphology is particularly suitable for outdoor use, such as as window glass.

以下、コーティング膜をゾルゲル法により成膜する場合の好ましい方法について説明する。ゾルゲル法に用いる有機溶媒は、シリコンアルコキシドや水との相溶性が高い溶媒が好ましく、炭素数が1~3の低級アルコールが適している。酸化ケイ素前駆体であるシリコンアルコキシドの例には、シリコンテトラメトキシド、シリコンテトラエトキシド(TEOS)およびシリコンテトライソプロポキシドなどのシリコンテトラアルコキシドが含まれる。シリコンアルコキシドの加水分解物を酸化ケイ素前駆体として用いてもよい。ゾルゲル法による形成溶液におけるシリコンアルコキシドの濃度は、シリコンアルコキシドを酸化ケイ素換算したときの酸化ケイ素濃度により表示して、3~15質量%、特に3~13質量%が好ましい。この濃度が高すぎると、膜にクラックが発生することがある。 A preferred method for forming a coating film by the sol-gel method will be described below. The organic solvent used in the sol-gel method is preferably a solvent that is highly compatible with silicon alkoxide or water, and lower alcohols having 1 to 3 carbon atoms are suitable. Examples of silicon alkoxides that are silicon oxide precursors include silicon tetraalkoxides such as silicon tetramethoxide, silicon tetraethoxide (TEOS), and silicon tetraisopropoxide. A hydrolyzate of silicon alkoxide may be used as the silicon oxide precursor. The concentration of silicon alkoxide in the solution formed by the sol-gel method is preferably 3 to 15% by mass, particularly 3 to 13% by mass, expressed as silicon oxide concentration when silicon alkoxide is converted to silicon oxide. If this concentration is too high, cracks may occur in the film.

水は、シリコンアルコキシドに対し、モル比により表示して、4倍以上、具体的には4~40倍、好ましくは4~35倍が好適である。加水分解触媒としては、酸触媒、特に塩酸、硝酸、硫酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸などの強酸を用いることが好ましい。酸触媒に由来する有機物は膜硬度を低下させることがあるため、酸触媒としては無機酸が好ましい。塩酸は、揮発性が高く、膜に残存しにくいため、最も好ましい酸触媒である。酸触媒の濃度は、酸からプロトンが完全に解離したと仮定したときのプロトンの質量モル濃度により表示して0.001~2mol/kgの範囲とすることが好ましい。 The molar ratio of water to silicon alkoxide is preferably 4 times or more, specifically 4 to 40 times, preferably 4 to 35 times. As the hydrolysis catalyst, it is preferable to use an acid catalyst, particularly a strong acid such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, and paratoluenesulfonic acid. Since organic substances derived from acid catalysts may reduce film hardness, inorganic acids are preferable as acid catalysts. Hydrochloric acid is the most preferred acid catalyst because it is highly volatile and does not easily remain in the membrane. The concentration of the acid catalyst is preferably in the range of 0.001 to 2 mol/kg expressed as the mass molar concentration of protons assuming that protons are completely dissociated from the acid.

上記程度に水を過剰に加え、上記程度の濃度となるように酸触媒を加えると、ゾルゲル法により、有機物の分解を防ぐことができる温度域で比較的厚い膜を容易に形成できる。 By adding an excess of water to the above level and adding an acid catalyst to the above concentration, a relatively thick film can be easily formed by the sol-gel method in a temperature range where decomposition of organic matter can be prevented.

上記に挙げた成分を含むゾルゲル法を適用できる溶液を、有機化合物Aなどの微粒子を分散させた分散液と混合し、さらに必要に応じて有機化合物Cなどを添加すれば、コーティング膜の膜形成溶液を準備できる。ただし、膜形成溶液の調製方法がこれに限られるわけではなく、微粒子の分散液にゾルゲル法による成膜に必要な成分を順次添加してもよい。膜形成溶液は、有機化合物Aなどの微粒子と共に、ゾルゲル法以外の方法により膜を形成するために必要な成分、例えばポリシラザン、を含むように調製しても構わない。 A coating film can be formed by mixing a solution containing the above-mentioned components that can be applied to the sol-gel method with a dispersion in which fine particles such as organic compound A are dispersed, and further adding organic compound C etc. as necessary. Can prepare solutions. However, the method for preparing the film forming solution is not limited to this, and components necessary for film formation by the sol-gel method may be sequentially added to the fine particle dispersion. The film-forming solution may be prepared to contain, together with fine particles such as organic compound A, components necessary for forming a film by a method other than the sol-gel method, such as polysilazane.

膜形成溶液の塗布工程では、雰囲気の相対湿度を40%未満、さらには30%以下に保持することが好ましい。相対湿度を低く保持すると、膜が雰囲気から水分を過剰に吸収することを防止できる。雰囲気から水分が多量に吸収されると、膜のマトリックス内に入り込んで残存した水が膜の強度を低下させるおそれがある。 In the step of applying the film forming solution, the relative humidity of the atmosphere is preferably kept below 40%, more preferably below 30%. Keeping the relative humidity low prevents the membrane from absorbing too much moisture from the atmosphere. If a large amount of water is absorbed from the atmosphere, the remaining water that enters the membrane matrix may reduce the strength of the membrane.

膜形成溶液の乾燥工程は、塗布環境下における風乾工程と、加熱を伴う加熱乾燥工程とを含むように実施することが好ましい。風乾工程は、相対湿度を40%未満、さらには30%以下に保持した雰囲気に形成溶液の塗布膜を曝すことにより、実施するとよい。加熱乾燥工程では、加水分解により生成したシラノール基の縮重合反応が進行するとともに、膜に残存する液体成分の除去、特に水の除去、が進行し、酸化ケイ素のマトリックス(Si-O結合のネットワーク)が発達する。加熱乾燥工程では、300℃以下、例えば100~200℃の雰囲気に、塗布膜を曝すことにより、実施するとよい。加熱乾燥工程では特に300℃以下、例えば100~200℃、場合によっては50~100℃の雰囲気に塗布膜を曝して加熱することにより、実施するとよい。加熱乾燥工程における加熱温度は、微粒子として添加する有機化合物AおよびB、特に微粒子として添加する有機化合物Aの融点以下とすることが好ましい。 The drying process of the film forming solution is preferably carried out to include an air drying process in a coating environment and a heat drying process involving heating. The air-drying step is preferably carried out by exposing the coated film of the forming solution to an atmosphere in which the relative humidity is maintained at less than 40%, preferably 30% or less. In the heat drying process, the condensation reaction of silanol groups generated by hydrolysis progresses, and the removal of liquid components remaining in the film, especially water, progresses, and the silicon oxide matrix (Si-O bond network) progresses. ) develops. The heat drying step is preferably carried out by exposing the coating film to an atmosphere of 300° C. or lower, for example 100 to 200° C. The heat drying step is preferably carried out by exposing and heating the coating film to an atmosphere of 300° C. or lower, for example 100 to 200° C., and in some cases 50 to 100° C. The heating temperature in the heat drying step is preferably lower than the melting point of organic compounds A and B added as fine particles, particularly organic compound A added as fine particles.

加熱乾燥工程で膜を加熱する加熱温度は、微粒子として添加する有機化合物Aの融点よりも低い範囲から選択することが好ましい。微粒子として有機化合物Bを添加する場合、加熱温度は、有機化合物Aの融点および有機化合物Bの融点よりも低い範囲から選択することが好ましい。有機化合物Aの融点および有機化合物Bの融点は、65℃以上、特に100℃以上、例えば120~240℃であることが好ましく、140~240℃であってもよい。 The heating temperature at which the film is heated in the heat drying step is preferably selected from a range lower than the melting point of the organic compound A added as fine particles. When adding organic compound B as fine particles, the heating temperature is preferably selected from a range lower than the melting point of organic compound A and the melting point of organic compound B. The melting points of organic compound A and organic compound B are preferably 65°C or higher, particularly 100°C or higher, for example 120 to 240°C, and may be 140 to 240°C.

以上説明した一連の工程、すなわち、a)有機化合物Aの微粒子その他を含むコーティング膜の膜形成溶液の調製工程、b)膜形成溶液のガラス板上への塗布工程、c)膜形成溶液の乾燥工程を順次実施することにより、液相成膜法により、本形態のガラス板を得ることができる。この製造方法は、シリコンアルコキシドなどのシリコン含有化合物を溶質として含み、常温で固体であると共に平均分子量が5000以下である有機化合物Aを平均粒径150nm以下の微粒子として含むコーティング膜の膜形成溶液を調製する工程と、この膜形成溶液をガラス板上に塗布する工程と、このガラス板上において上記膜形成溶液を乾燥させてコーティング膜を形成する工程と、を含む、コーティング膜を有するガラス板の製造方法である。この製造方法は本発明の別の一側面を構成する。 The series of steps explained above, namely, a) step of preparing a film-forming solution for a coating film containing fine particles of organic compound A, etc., b) a step of applying the film-forming solution onto a glass plate, c) drying of the film-forming solution. By sequentially performing the steps, the glass plate of this embodiment can be obtained by a liquid phase film forming method. This manufacturing method uses a film forming solution for a coating film that contains a silicon-containing compound such as silicon alkoxide as a solute, and contains organic compound A, which is solid at room temperature and has an average molecular weight of 5,000 or less, as fine particles with an average particle size of 150 nm or less. A process of preparing a glass plate having a coating film, a process of applying the film-forming solution on a glass plate, and a process of drying the film-forming solution on the glass plate to form a coating film. This is the manufacturing method. This manufacturing method constitutes another aspect of the present invention.

コーティング膜の膜厚は、300nmを超え15μm以下、さらには500nm以上10μm以下、特に1000nm以上5000nm以下、が好ましい。膜が薄すぎると十分な紫外線遮蔽能が得られないことがあり、膜が厚すぎると膜の透過率が低下してガラス板の透明性を損なうことがある。 The thickness of the coating film is preferably more than 300 nm and less than 15 μm, more preferably more than 500 nm and less than 10 μm, particularly more than 1000 nm and less than 5000 nm. If the film is too thin, sufficient ultraviolet shielding ability may not be obtained, and if the film is too thick, the transmittance of the film may decrease, impairing the transparency of the glass plate.

ガラス板は、特に制限されず、ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス板を用いることができる。このガラス板の典型的な組成例を示す。以下において、ガラス板が含む各成分の含有率を示す「%」はすべて質量%である。アルカリ金属酸化物(R2O)は、具体的にはNa2OとK2Oとの合計量である。T-Fe23は、Fe23に換算した全酸化鉄である。また、各組成例は、表示されていない微量成分を含有するものであってもよい。 The glass plate is not particularly limited, and a soda lime silicate glass plate can be used. A typical composition example of this glass plate is shown. In the following, all "%" indicating the content of each component included in the glass plate is mass %. The alkali metal oxide (R 2 O) is specifically the total amount of Na 2 O and K 2 O. T-Fe 2 O 3 is total iron oxide converted to Fe 2 O 3 . Moreover, each composition example may contain trace components that are not displayed.

(クリアガラス)
SiO2:70~73%
Al23:0.6~2.4%
CaO:7~12%
MgO:1.0~4.5%
2O:13~15%
T-Fe23:0.08~0.2%
(clear glass)
SiO 2 :70-73%
Al 2 O 3 :0.6-2.4%
CaO: 7-12%
MgO: 1.0-4.5%
R 2 O: 13-15%
T-Fe 2 O 3 :0.08-0.2%

ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス板としては、0.2%を超え、好ましくは0.4%以上、より好ましくは0.5%以上、例えば0.5~1.3%の酸化鉄を含むガラス組成を有し、波長380nmにおける光線透過率が70%以下、好ましくは50%以下、波長550nmにおける光線透過率が75%以上であるガラス板を用いてもよい。このようなガラス板のいくつかの組成例を以下に例示する。 As a soda lime silicate glass plate, a glass composition containing more than 0.2%, preferably 0.4% or more, more preferably 0.5% or more, for example 0.5 to 1.3% iron oxide A glass plate having a light transmittance of 70% or less at a wavelength of 380 nm, preferably 50% or less, and a light transmittance of 75% or more at a wavelength of 550 nm may be used. Some composition examples of such glass plates are illustrated below.

(グリーンガラス)
SiO2:70~73%
Al23:0.6~2.4%
CaO:7~12%
MgO:1.0~4.5%
2O:13~15%
T-Fe23:0.4~0.6%
(green glass)
SiO 2 :70-73%
Al 2 O 3 :0.6-2.4%
CaO: 7-12%
MgO: 1.0-4.5%
R 2 O: 13-15%
T-Fe 2 O 3 :0.4-0.6%

(熱線吸収ガラス)
SiO2:70~73%
Al23:0.6~2.4%
CaO:7~12%
MgO:1.0~4.5%
2O:13~15%
T-Fe23:0.5~1.1%
(heat ray absorbing glass)
SiO 2 :70-73%
Al 2 O 3 :0.6-2.4%
CaO: 7-12%
MgO: 1.0-4.5%
R 2 O: 13-15%
T-Fe 2 O 3 :0.5-1.1%

(UVカットグリーンガラス)
SiO2:70~73%
Al23:0.6~2.4%
CaO:7~12%
MgO:1.0~4.5%
2O:13~15%
T-Fe23:0.7~1.3%
CeO2:0~2%
TiO2:0~0.5%
(UV cut green glass)
SiO 2 :70-73%
Al 2 O 3 :0.6-2.4%
CaO: 7-12%
MgO: 1.0-4.5%
R 2 O: 13-15%
T-Fe 2 O 3 :0.7-1.3%
CeO2 : 0-2%
TiO2 : 0-0.5%

酸化鉄の含有量が0.1%以下、好ましくは0.01%~0.06%である高透過率ガラス板を用いることもできる。その一例を以下に示す。 It is also possible to use a high transmittance glass plate with an iron oxide content of 0.1% or less, preferably 0.01% to 0.06%. An example is shown below.

(高透過率ガラス)
SiO2:70~73%
Al23:0.6~2.4%
CaO:7~12%
MgO:1.0~4.5%
2O:13~15%
T-Fe23:0.01~0.06%。
(High transmittance glass)
SiO 2 :70-73%
Al 2 O 3 :0.6-2.4%
CaO: 7-12%
MgO: 1.0-4.5%
R 2 O: 13-15%
T-Fe 2 O 3 :0.01-0.06%.

ガラス板は、上記に限らず、可視域における光線透過率が低いものであってもよい。このようなガラス板としては、車両の窓ガラス用として製造されている波長550nmにおける光線透過率が20~60%のガラス板が挙げられる。ガラス板を構成する成分のみでは、特に長波長域の紫外域を十分に遮蔽することが困難であるから、可視光透過率が低いガラス板についても、上記で説明したコーティング膜2の適用は有用である。 The glass plate is not limited to the above, and may have a low light transmittance in the visible range. Examples of such glass plates include glass plates manufactured for vehicle window glasses that have a light transmittance of 20 to 60% at a wavelength of 550 nm. Since it is difficult to sufficiently block ultraviolet light, especially in the long wavelength range, with only the components constituting the glass plate, it is useful to apply the coating film 2 described above even to glass plates with low visible light transmittance. It is.

本形態のガラス板は、ISO9050(1990年度版)に基づく紫外線透過率TUV380が2%以下、好ましくは1%以下、より好ましくは0.5%以下でありうる。また、本形態のガラス板は、ISO13837(convention A)に従って算出した紫外線透過率TUV400が2%以下、好ましくは1.5%以下、特に好ましくは1%以下でありうる。本形態のガラス板は、CIE標準のA光源を用いて測定する可視光透過率YAが70%以上でありうる。本形態のガラス板は、TUV400が2%以下であり、かつYAが70%以上でありうる。 The glass plate of this embodiment may have an ultraviolet transmittance T UV 380 based on ISO 9050 (1990 edition) of 2% or less, preferably 1% or less, and more preferably 0.5% or less. Further, the glass plate of this embodiment may have an ultraviolet transmittance T UV 400 calculated according to ISO13837 (convention A) of 2% or less, preferably 1.5% or less, particularly preferably 1% or less. The glass plate of this embodiment may have a visible light transmittance YA of 70% or more when measured using a CIE standard A light source. The glass plate of this embodiment may have a T UV 400 of 2% or less and a YA of 70% or more.

本形態のガラス板は、CIE標準のC光源からの透過光がL***表色系により表示して、-15以上0以下のa*と12以下のb*とを有しうる。a*は-12以上-7以下、例えば-9以上-8以下であってもよく、b*は10以下、例えば5~10であってもよい。また、本形態のガラス板は、CIE標準のC光源についての透過光の日本工業規格(JIS)K7373:2006に規定された黄色度YIが14以下でありうる。黄色度YIは10以下、さらには8以下であってもよい。また、本形態のガラス板は、CIE標準のC光源についての透過光の主波長は、560nm以下でありうる。主波長は、555nm以下、例えば550~555nmの範囲にあってもよい。本形態のガラス板は、JIS T7330の青色光障害関数に基づくブルーライトのカット率は、41%以下、好ましくは37%以下、特に好ましくは36%以下でありうる。 In the glass plate of this embodiment, the transmitted light from the CIE standard C light source may have a* of -15 or more and 0 or less and b* of 12 or less, as expressed by the L * a * b * color system. . a * may be -12 or more and -7 or less, for example -9 or more and -8 or less, and b * may be 10 or less, for example 5 to 10. Further, the glass plate of this embodiment may have a yellowness YI of 14 or less as defined in Japanese Industrial Standards (JIS) K7373:2006 of transmitted light for CIE standard C light source. The yellowness YI may be 10 or less, or even 8 or less. Further, in the glass plate of this embodiment, the dominant wavelength of transmitted light for the CIE standard C light source may be 560 nm or less. The dominant wavelength may be below 555 nm, for example in the range of 550-555 nm. The glass plate of this embodiment may have a blue light cut rate of 41% or less, preferably 37% or less, particularly preferably 36% or less based on the blue light obstruction function of JIS T7330.

ブルーライトカット率は、太陽光の青色光による網膜損傷に関する実効放射強度(以下、太陽光の実効放射強度)に対する、ガラス板を透過させることにより減少した当該実効放射強度の比、を百分率で表示した値として定義され、具体的には、以下の方法で求めることができる。JIS T7330:2000の付属書Aに記載の青色光障害関数に関する重み関数の重み関数について波長380~550nmを和分し、太陽光の実効放射強度を求める。つぎに上記波長域の各波長におけるガラス板の分光透過率と重み関数の積の総和をとり、当該ガラス板を透過した光の当該実効放射強度(以下、透過光の実効放射強度)を求める。透過光の実効放射強度の、太陽光の実効放射強度に対する比をとり、その値を1から減算して百分率に換算することができる。 The blue light cut rate is expressed as a percentage, which is the ratio of the effective radiant intensity reduced by passing through the glass plate to the effective radiant intensity related to retinal damage caused by blue light from sunlight (hereinafter referred to as the effective radiant intensity of sunlight). Specifically, it can be determined by the following method. The effective radiant intensity of sunlight is determined by integrating the wavelengths of 380 to 550 nm for the weighting function regarding the blue light disturbance function described in Appendix A of JIS T7330:2000. Next, the sum of the products of the spectral transmittance of the glass plate and the weighting function at each wavelength in the above wavelength range is taken to determine the effective radiant intensity of the light transmitted through the glass plate (hereinafter referred to as effective radiant intensity of transmitted light). The ratio of the effective radiant intensity of transmitted light to the effective radiant intensity of sunlight can be taken, and the value can be subtracted from 1 to convert it into a percentage.

本形態のガラス板は、波長295~450nm、照度76mW/cm2の紫外線を100時間照射した後の紫外線透過率TUV400から上記紫外線を照射する前の紫外線透過率TUV400を差し引いた差分ΔTUV400が2%以下、さらには1%以下、特に0.5%以下でありうる。本形態のガラス板は、波長295~450nm、照度76mW/cm2の紫外線を100時間照射した後の可視光透過率YAから上記紫外線を照射する前の可視光透過率YAを差し引いた差分ΔYAが-0.5%以上、特に-0.2%以上でありうる。ΔYAは、-0.5%以上1%以下、さらには-0.2%以上0.5%以下であってもよい。 The glass plate of this embodiment has a difference obtained by subtracting the ultraviolet transmittance T UV 400 before irradiating the ultraviolet rays from the ultraviolet transmittance T UV 400 after being irradiated with ultraviolet rays with a wavelength of 295 to 450 nm and an illuminance of 76 mW/cm 2 for 100 hours. The ΔT UV 400 may be 2% or less, even 1% or less, especially 0.5% or less. The glass plate of this embodiment has a difference ΔYA obtained by subtracting the visible light transmittance YA before irradiating the ultraviolet rays from the visible light transmittance YA after irradiating the ultraviolet rays with a wavelength of 295 to 450 nm and an illuminance of 76 mW/cm 2 for 100 hours. It can be -0.5% or more, especially -0.2% or more. ΔYA may be -0.5% or more and 1% or less, or more preferably -0.2% or more and 0.5% or less.

本形態のガラス板は、建築物および輸送機材、具体的には自動車、鉄道車両、船舶、航空機など輸送機材の窓ガラスとしての使用に適しており、特に自動車の窓ガラスとしての使用に適している。しかし、自動車のドアガラスに代表されるように、昇降または開閉可能な窓ガラスとして使用される場合には、ガラス板の周縁部の表面が、ランチャネルなどと呼ばれる端部保持部材に繰り返し当接することになる。このため、長期にわたる使用期間中に膜が剥離し、窓ガラスの外観が損なわれるおそれがある。したがって、このような用途では、図2および図3に示すように、端部保持部材に当接する周縁領域12においては、窓ガラス10,20を構成するガラス板にコーティング膜11を形成しないことが好ましい。また、コーティング膜11の存在により昇降部材を用いたドアガラスの安定的な保持が困難になる場合には、図2に示すように、昇降部材に接続するための底部領域13,14においても、コーティング膜11を形成しないことが好ましい。ただし、昇降部材とドアガラスとの接続の方法または膜の種類によっては、底部領域13,14における膜の形成が接続に支障を来さないこともある。一般に、水との接触角が50度以下である膜は接続に対する影響が小さい。このような場合は、底部領域13,14からコーティング膜11を除外する必要はない(図3)。以上のように、コーティング膜11は、ガラス板の表面の一部、特に他の部材と接触する周縁部においては形成しないこととしてもよい。ただし、この場合も、窓を閉じたときに室内外を隔てることになるガラス板の主要領域の全面には、紫外線の遮蔽のため、コーティング膜11を形成するべきである。 The glass plate of this embodiment is suitable for use as window glass for buildings and transportation equipment, specifically for transportation equipment such as automobiles, railway vehicles, ships, and aircraft, and is particularly suitable for use as window glass for automobiles. There is. However, when used as a window glass that can be raised and lowered or opened and closed, as typified by automobile door glass, the peripheral surface of the glass plate repeatedly comes into contact with an end holding member called a run channel. It turns out. For this reason, there is a risk that the film may peel off during a long period of use, impairing the appearance of the window glass. Therefore, in such applications, as shown in FIGS. 2 and 3, it is preferable not to form the coating film 11 on the glass plates constituting the window glasses 10 and 20 in the peripheral area 12 that contacts the end holding member. preferable. In addition, if the presence of the coating film 11 makes it difficult to stably hold the door glass using the lifting member, as shown in FIG. Preferably, the coating film 11 is not formed. However, depending on the method of connection between the elevating member and the door glass or the type of membrane, the formation of the membrane in the bottom regions 13 and 14 may not interfere with the connection. Generally, a membrane having a contact angle with water of 50 degrees or less has little effect on connection. In such a case, it is not necessary to exclude the coating film 11 from the bottom regions 13, 14 (FIG. 3). As described above, the coating film 11 may not be formed on a portion of the surface of the glass plate, particularly on the peripheral edge that comes into contact with other members. However, in this case as well, a coating film 11 should be formed on the entire surface of the main area of the glass plate that separates the indoor and outdoor areas when the window is closed, in order to block ultraviolet rays.

ガラス板の表面の一部に膜を形成しない領域を確保する場合には、膜を形成する主要領域から膜を形成しない周縁領域にかけて膜厚が漸減するように、コーティング膜を形成することが好ましい。このように形成すれば、膜を形成する領域と膜を形成しない領域との境界が目立たず、外観の低下を防止できる。膜厚を漸減させた領域を有する窓ガラス(ドアガラス)の一例を図4に示す。図4に示した形態では、ドアガラスとして用いられている窓ガラス10,20が閉じられており、窓ガラス10,20の主要領域(図示左側の室外から図示右側の室内へと紫外線を含む外光が透過する領域)を構成するガラス板15の室内側表面には、コーティング膜11が紫外線遮蔽に望ましい所定膜厚となるように形成されている。他方、ガラス板15とランチャネル30とが接触するガラス板先端Aから周縁Bにかけての周縁領域においては、ガラス板15の表面にコーティング膜11が形成されていない。そして、周縁Cから周縁Bに向かうにつれて、コーティング膜11はその膜厚が徐々に薄くなるように形成されている。図4には、ランチャネル30の先端と周縁Cとが一致している形態(ランチャネルに覆われず露出しているガラス板の表面全域にコーティング膜が一定の膜厚で形成されている形態)を示したが、窓ガラス10,20の主要領域において所望の紫外線遮蔽能が得られる限り、ランチャネル30の先端と周縁Cとが一致している必要はない。また、図示したように、周縁Bからやや周縁C側に後退した位置において漸減した膜厚がゼロになる形態としてもよいが、周縁Bと膜厚がゼロになる位置とが一致しても構わない。なお、図2~図4には、ガラス板の周縁部に膜を形成しないドアガラスを示したが、本発明によるガラス板がこのような形態に限られないことは言うまでもない。ドアガラスとして用いる場合であっても、ガラス板の全面にコーティング膜を形成してもよいし、あるいは端部保持部材に当接する周縁領域12においては膜を形成する一方、底部領域13,14において膜を形成しないこととしても構わない。 When securing an area where no film is formed on a part of the surface of the glass plate, it is preferable to form the coating film so that the film thickness gradually decreases from the main area where the film is formed to the peripheral area where the film is not formed. . By forming in this manner, the boundary between the region where the film is formed and the region where the film is not formed is not noticeable, and deterioration in appearance can be prevented. FIG. 4 shows an example of a window glass (door glass) having a region where the film thickness is gradually reduced. In the form shown in FIG. 4, the window glasses 10 and 20 used as door glasses are closed, and the main area of the window glasses 10 and 20 (the outside including ultraviolet rays from the outside on the left side of the figure to the inside of the right side of the figure) is closed. A coating film 11 is formed on the indoor side surface of the glass plate 15 constituting the light-transmitting area) so as to have a predetermined thickness desirable for shielding ultraviolet rays. On the other hand, the coating film 11 is not formed on the surface of the glass plate 15 in the peripheral region from the glass plate tip A to the peripheral edge B where the glass plate 15 and the run channel 30 are in contact. The coating film 11 is formed so that its thickness gradually decreases from the periphery C toward the periphery B. FIG. 4 shows a configuration in which the tip of the run channel 30 and the periphery C coincide with each other (a configuration in which a coating film is formed with a constant thickness over the entire surface of the glass plate that is exposed and not covered by the run channel). ), but the tip of the run channel 30 and the periphery C do not need to coincide as long as the desired ultraviolet shielding ability can be obtained in the main areas of the window glasses 10 and 20. Further, as shown in the figure, the film thickness may gradually decrease to zero at a position slightly retreated from the periphery B toward the periphery C side, but the periphery B and the position where the film thickness becomes zero may coincide with each other. do not have. Although FIGS. 2 to 4 show a door glass in which no film is formed on the peripheral edge of the glass plate, it goes without saying that the glass plate according to the present invention is not limited to this form. Even when used as door glass, a coating film may be formed on the entire surface of the glass plate, or a film may be formed on the peripheral area 12 that contacts the end holding member, while a coating film may be formed on the bottom areas 13 and 14. It is also possible not to form a film.

以下、実施例により、本発明をさらに詳細に説明する。まず、有機化合物Aとして使用する紫外線遮蔽成分を合成した。
<合成例1> 化合物1の合成
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples. First, an ultraviolet shielding component to be used as organic compound A was synthesized.
<Synthesis Example 1> Synthesis of Compound 1

Figure 0007371847000005
Figure 0007371847000005

2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(25.0g,79.2mmol)、ベンゼンチオール(17.4g,158.3mmol)、炭酸カリウム(24.1g,174.2mmol)およびヨウ化カリウム(0.9g,5.5mmol)を、DMF(N,N-ジメチルホルムアミドを意味する。以下同じ。)62.5g中で、125℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、MeOH(メタノールを意味する。以下同じ。)洗浄、水洗を行い、再結晶、カラム精製をすることにより、化合物1を得た。 2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole (25.0 g, 79.2 mmol), benzenethiol (17.4 g, 158.3 mmol), potassium carbonate (24 .1g, 174.2mmol) and potassium iodide (0.9g, 5.5mmol) were reacted in 62.5g of DMF (meaning N,N-dimethylformamide; the same applies hereinafter) at 125°C for 12 hours. did. After the reaction was completed, the pH was adjusted, followed by filtration, washing with MeOH (meaning methanol; the same applies hereinafter), washing with water, recrystallization, and column purification to obtain Compound 1.

FT-IR(KBr):3000cm-1:O-H伸縮振動 1445, 1390cm-1:トリアゾール環伸縮振動 665cm-1:C-S伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 2.37 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 7.16 (s, 1H), 7.38 (d, 4H), 7.48 (s, 2H), 7.68 (s, 1H), 7.83 (d, 1H), 8.03 (d, 1H), (insg.10arom. CH), 11.55 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 116.8, 118.0, 119.3, 128.3, 128.8, 129.6, 132.7 (CHarom), 125.5, 141.2, 143.2 (Carom), 129.8 (C arom-CH3), 139.2 (C arom-S) , 139.2 (S-C arom), 139.2 (C arom-C(CH3)3), 146.7 (C arom-OH)
FT-IR (KBr): 3000cm -1 : O-H stretching vibration 1445, 1390cm -1 : Triazole ring stretching vibration 665cm -1 : CS stretching vibration
1 H-NMR (CDCl 3 400MHz): δ1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH 3 -C(C H 3 ) 3 ), 2.37 (s, 3H, -Ph-OH-C H 3 - C(CH 3 ) 3 ), 7.16 (s, 1H), 7.38 (d, 4H), 7.48 (s, 2H), 7.68 (s, 1H), 7.83 (d, 1H), 8.03 (d, 1H), (insg.10arom. C H ), 11.55 (s, 1H, -Ph-O H -CH 3 -C(CH 3 ) 3 )
13 C-NMR (CDCl 3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH- CH 3 -C(CH 3 ) 3 ), 29.5 (-Ph-OH-CH 3 -C( CH 3 ) 3 ), 35.4 (-Ph-OH-CH 3 - C (CH 3 ) 3 ), 116.8, 118.0, 119.3, 128.3, 128.8, 129.6, 132.7 (CH arom ), 125.5, 141.2, 143.2 (C arom ), 129.8 ( C arom -CH 3 ), 139.2 ( C arom -S), 139.2 (S- C arom ), 139.2 ( C arom -C(CH 3 ) 3 ), 146.7 ( C arom -OH)

上記において、FT-IR(KBr)とは、KBr錠剤法により調製した試料によるフーリエ変換赤外分光スペクトルにおける吸収波数とその吸収の帰属をしめす。
また、1H-NMR(CDCl3 400MHz)、13C-NMR(CDCl3 400MHz)は、それぞれ1H,13Cの核磁気共鳴スペクトル 核磁気共鳴において、1Hの核磁気共鳴周波数が400MHzである条件で、溶媒を重水素化トリクロロホルムとして調整した試料に対する化学シフトδとその帰属を示す。なお、それらNMRの化学シフトδに続く括弧内において一部の原子に下線を付したのは、その原子の原子核が当該NMRシグナルの由来であることを示している。さらに、1H-NMRにおける化学シフトδに続く括弧内のs,d,t,q,mは、そのNMRシグナルがシングレット,ダブレット,トリプレット,カルテット,マルチプレットであること、s,d,t,q,mに続くnH(nは自然数)は、そのシグナルの積分値がn個の1Hに対応すること、“insg. X arom. C” (Xは自然数)は、芳香族性を有する炭素に結合した1Hに基づくNMRシグナルの積分値がX個の1Hに対応することをしめしている。また、13C-NMRにおける化学シフトδに続く括弧内のCaromは、芳香族性を有する炭素を意味する。
In the above, FT-IR (KBr) refers to the absorption wave number and the attribution of the absorption in the Fourier transform infrared spectra of a sample prepared by the KBr tablet method.
In addition, 1 H-NMR (CDCl 3 400 MHz) and 13 C-NMR (CDCl 3 400 MHz) are nuclear magnetic resonance spectra of 1 H and 13 C, respectively. In nuclear magnetic resonance, the nuclear magnetic resonance frequency of 1 H is 400 MHz. The chemical shift δ and its attribution are shown for the sample prepared using deuterated trichloroform as the solvent under the following conditions. Note that the fact that some atoms are underlined in parentheses following the NMR chemical shift δ indicates that the atomic nucleus of that atom is the origin of the NMR signal. Furthermore, s, d, t, q, m in parentheses following the chemical shift δ in 1 H-NMR indicates that the NMR signal is a singlet, doublet, triplet, quartet, multiplet, s, d, t, nH (n is a natural number) following q and m means that the integral value of the signal corresponds to n 1 H , and “insg. This shows that the integral value of the NMR signal based on 1 H bonded to carbon corresponds to X number of 1 Hs. Further, Carom in parentheses following the chemical shift δ in 13 C-NMR means carbon having aromaticity.

<合成例2> 化合物2の合成 <Synthesis Example 2> Synthesis of Compound 2

Figure 0007371847000006
Figure 0007371847000006

2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(25.0g,79.2mmol)、4-tert-ブチルベンゼンチオール(26.3g,158.3mmol)、炭酸カリウム(24.1g,174.2mmol)およびヨウ化カリウム(0.9g,5.5mmol)を、DMF62.5g中で、125℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、MeOH洗浄、水洗を行い、再結晶、カラム精製をすることにより、化合物2を得た。 2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole (25.0 g, 79.2 mmol), 4-tert-butylbenzenethiol (26.3 g, 158.3 mmol) , potassium carbonate (24.1 g, 174.2 mmol) and potassium iodide (0.9 g, 5.5 mmol) were reacted in 62.5 g of DMF at 125° C. for 12 hours. After the reaction was completed, the pH was adjusted, followed by filtration, washing with MeOH, washing with water, recrystallization, and column purification to obtain Compound 2.

FT-IR(KBr):3000cm-1:O-H伸縮振動 1444, 1390cm-1:トリアゾール環伸縮振動 668cm-1:C-S伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ1.36 (s, 9H, -S-Ph-C(CH 3)3), 1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 2.37 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 7.16 (s, 1H), 7.35 (d, 1H), 7.44 (s, 4H), 7.59 (s, 1H), 7.81 (d, 1H), 8.02 (d, 1H), (insg.9arom. CH), 11.58 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 31.3 (-S-Ph-C(CH3)3), 34.8 (-S-Ph-C(CH3)3), 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 115.4, 117.8, 119.3, 126.8, 128.8, 129.2, 133.2 (CHarom), 125.4, 141.5, 143.3 (Carom), 128.3 (C arom-CH3), 138.5 (C arom-S), 138.5 (S -C arom), 139.1, 152.0 (C arom-C(CH3)3), 146.7 (C arom-OH)
FT-IR (KBr): 3000cm -1 : O-H stretching vibration 1444, 1390cm -1 : Triazole ring stretching vibration 668cm -1 : CS stretching vibration
1 H-NMR (CDCl 3 400MHz): δ1.36 (s, 9H, -S-Ph-C(C H 3 ) 3 ), 1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH 3 -C(C H 3 ) 3 ), 2.37 (s, 3H, -Ph-OH-C H 3 -C(CH 3 ) 3 ), 7.16 (s, 1H), 7.35 (d, 1H), 7.44 (s, 4H), 7.59 (s, 1H), 7.81 (d, 1H), 8.02 (d, 1H), (insg.9arom. C H ), 11.58 (s, 1H, -Ph-O H -CH 3 -C(CH 3 ) 3 )
13 C-NMR (CDCl 3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH- CH 3 -C(CH 3 ) 3 ), 29.5 (-Ph-OH-CH 3 -C( CH 3 ) 3 ), 31.3 (-S-Ph-C( CH 3 ) 3 ), 34.8 (-S-Ph- C (CH 3 ) 3 ), 35.4 (-Ph-OH-CH 3 - C (CH 3 ) 3 ), 115.4 , 117.8, 119.3, 126.8, 128.8, 129.2, 133.2 (CH arom ), 125.4, 141.5, 143.3 (C arom ), 128.3 ( C arom -CH 3 ), 138.5 ( C arom -S), 138.5 (S - C arom ), 139.1, 152.0 ( C arom -C(CH 3 ) 3 ), 146.7 ( C arom -OH)

<合成例3> 化合物3の合成 <Synthesis Example 3> Synthesis of Compound 3

Figure 0007371847000007
Figure 0007371847000007

2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(25.0g,79.2mmol)、2,4-ジメチルベンゼンチオール(21.9g,158.3mmol)、炭酸カリウム(24.1g,174.2mmol)およびヨウ化カリウム(0.9g,5.5mmol)を、DMF62.5g中で、125℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、MeOH洗浄、水洗を行い、再結晶、カラム精製をすることにより、化合物3を得た。 2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole (25.0 g, 79.2 mmol), 2,4-dimethylbenzenethiol (21.9 g, 158.3 mmol) , potassium carbonate (24.1 g, 174.2 mmol) and potassium iodide (0.9 g, 5.5 mmol) were reacted in 62.5 g of DMF at 125° C. for 12 hours. After the reaction was completed, the pH was adjusted, followed by filtration, washing with MeOH, washing with water, recrystallization, and column purification to obtain Compound 3.

FT-IR(KBr):3000cm-1:O-H伸縮振動 1447, 1385cm-1:トリアゾール環伸縮振動 665cm-1:C-S伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ1.47 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 2.38 (s, 9H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3, -Ph-CH 3-CH 3), 7.08 (d, 1H), 7.15 (d, 2H), 7.30 (m, 2H), 7.43 (d, 1H), 7.77 (d, 1H), 8.01 (d, 1H), (insg.8arom. CH), 11.57 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ20.6 (-Ph-CH3-CH3), 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 20.6 (-Ph-CH3-CH3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 113.3, 117.7, 119.2, 128.0, 128.3, 128.6, 135.8 (CHarom), 125.4, 141.3, 143.4, 152.0 (Carom), 128.2, 132.0, 141.9 (C arom-CH3), 138.8 (C arom-C(CH3)3), 139.1 (C arom-S), 139.9 (S -C arom), 146.6 (C arom-OH)
FT-IR (KBr): 3000cm -1 : O-H stretching vibration 1447, 1385cm -1 : Triazole ring stretching vibration 665cm -1 : CS stretching vibration
1 H-NMR (CDCl 3 400MHz): δ1.47 (s, 9H, -Ph-OH-CH 3 -C(C H 3 ) 3 ), 2.38 (s, 9H, -Ph-OH-C H 3 - C(CH 3 ) 3 , -Ph-C H 3 -C H 3 ), 7.08 (d, 1H), 7.15 (d, 2H), 7.30 (m, 2H), 7.43 (d, 1H), 7.77 (d , 1H), 8.01 (d, 1H), (insg.8arom. C H ), 11.57 (s, 1H, -Ph-O H -CH 3 -C(CH 3 ) 3 )
13 C-NMR (CDCl 3 400MHz): δ20.6 (-Ph- C H 3 -CH 3 ), 20.9 (-Ph-OH- C H 3 -C(CH 3 ) 3 ), 20.6 (-Ph-CH 3 - C H 3 ), 29.5 (-Ph-OH-CH 3 -C( C H 3 ) 3 ), 35.4 (-Ph-OH-CH 3 - C (CH 3 ) 3 ), 113.3, 117.7, 119.2, 128.0, 128.3, 128.6, 135.8 (CH arom ), 125.4, 141.3, 143.4, 152.0 (C arom ), 128.2, 132.0, 141.9 ( C arom -CH 3 ), 138.8 ( C arom -C(CH 3 ) 3 ), 139.1 ( C arom -S), 139.9 (S - C arom ), 146.6 ( C arom -OH)

<合成例4> 化合物4の合成 <Synthesis Example 4> Synthesis of Compound 4

Figure 0007371847000008
Figure 0007371847000008

2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(25.0g,79.2mmol)、3-メトキシベンゼンチオール(22.2g,158.3mmol)、炭酸カリウム(24.1g,174.2mmol)およびヨウ化カリウム(0.9g,5.5mmol)を、DMF62.5g中で、125℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、MeOH洗浄、水洗を行い、再結晶、カラム精製をすることにより、化合物4を得た。 2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole (25.0 g, 79.2 mmol), 3-methoxybenzenethiol (22.2 g, 158.3 mmol), carbonic acid Potassium (24.1 g, 174.2 mmol) and potassium iodide (0.9 g, 5.5 mmol) were reacted in 62.5 g of DMF at 125° C. for 12 hours. After the reaction was completed, the pH was adjusted, followed by filtration, MeOH washing, water washing, recrystallization, and column purification to obtain Compound 4.

FT-IR(KBr):3000cm-1:O-H伸縮振動 1450, 1380cm-1:トリアゾール環伸縮振動 660cm-1:C-S伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 2.38 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 3.79 (s, 3H, CH 3O-Ph-S-), 6.90 (d, 1H), 7.00 (s, 1H), 7.06 (d, 1H), 7.17 (s, 1H), 7.30 (s, 1H), 7.40 (d, 1H), 7.74 (s, 1H), 7.84 (s, 1H), 8.04 (s, 1H), (insg.9arom. CH), 11.56 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 55.4 (-S-Ph-O-CH3), 114.1, 117.3, 117.5, 118.0, 119.3, 124.6, 128.9, 130.0, 130.4 (CHarom), 125.4, 141.5, 143.3 (Carom), 128.3 (C arom-CH3), 138.5 (C arom-S), 138.5 (S -C arom), 139.1, (C arom-C(CH3)3), 146.7 (C arom-OH), 159.9 (C arom-OCH3)
FT-IR (KBr): 3000cm -1 : O-H stretching vibration 1450, 1380cm -1 : Triazole ring stretching vibration 660cm -1 : CS stretching vibration
1 H-NMR (CDCl 3 400MHz): δ1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH 3 -C(C H 3 ) 3 ), 2.38 (s, 3H, -Ph-OH-C H 3 - C(CH 3 ) 3 ), 3.79 (s, 3H, C H 3 O-Ph-S-), 6.90 (d, 1H), 7.00 (s, 1H), 7.06 (d, 1H), 7.17 (s, 1H), 7.30 (s, 1H), 7.40 (d, 1H), 7.74 (s, 1H), 7.84 (s, 1H), 8.04 (s, 1H), (insg.9arom. C H ), 11.56 (s , 1H, -Ph-O H -CH 3 -C(CH 3 ) 3 )
13 C-NMR (CDCl 3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH- CH 3 -C(CH 3 ) 3 ), 29.5 (-Ph-OH-CH 3 -C( CH 3 ) 3 ), 35.4 (-Ph-OH-CH 3 - C (CH 3 ) 3 ), 55.4 (-S-Ph-O- C H 3 ), 114.1, 117.3, 117.5, 118.0, 119.3, 124.6, 128.9, 130.0, 130.4 ( CH arom ), 125.4, 141.5, 143.3 (C arom ), 128.3 ( C arom -CH 3 ), 138.5 ( C arom -S), 138.5 (S - C arom ), 139.1, ( C arom -C(CH 3 ) 3 ), 146.7 ( C arom -OH), 159.9 ( C arom -OCH 3 )

<合成例5> 化合物5の合成 <Synthesis Example 5> Synthesis of Compound 5

Figure 0007371847000009
Figure 0007371847000009

4-tert-アミルフェノール(25.0g,152.2mmol)、ジメチルカルバモイルクロリド(28.2g,228.3mmol)、水素化ナトリウム(7.3g,167.4mmol)を、THF(テトラヒドロフランを意味する。以下同じ)50g中で60℃、4時間反応した。反応終了後、トルエンと水を加えた後、塩酸を加えて酸処理を行い、水洗した有機層を減圧留去した。得られた液体をカラム精製することで、固体の中間体5-1を得た。得られた中間体5-1をスルホラン50g中で240℃、4時間反応した。反応終了後、トルエンと水を加えて水洗を行い、減圧留去後を行って液体の中間体5-2を得た。得られた中間体5-2と水酸化カリウムをエタノール中で60℃、3時間攪拌し、冷却後、塩酸を加えて攪拌し、水洗、再結晶、カラム精製を行うことで、4-tert-アミルチオフェノールを得た。
2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(3.8g, 12.0mmol)、4-tert-アミルチオフェノール(2.8g, 15.5mmol)、炭酸カリウム(3.6g,26.4mmol)およびヨウ化カリウム(0.1g,0.8mmol)を、DMF62.5g中で、125℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、MeOH洗浄、水洗を行い、再結晶、カラム精製をすることにより、化合物5を得た。
4-tert-amylphenol (25.0 g, 152.2 mmol), dimethylcarbamoyl chloride (28.2 g, 228.3 mmol), sodium hydride (7.3 g, 167.4 mmol), and THF (tetrahydrofuran). The same applies hereinafter)) The reaction was carried out at 60° C. for 4 hours in 50 g of the mixture. After the reaction was completed, toluene and water were added, followed by acid treatment by adding hydrochloric acid, and the organic layer washed with water was distilled off under reduced pressure. The obtained liquid was purified by column to obtain solid intermediate 5-1. The obtained intermediate 5-1 was reacted in 50 g of sulfolane at 240° C. for 4 hours. After the reaction was completed, toluene and water were added and washed with water, followed by distillation under reduced pressure to obtain a liquid intermediate 5-2. The obtained intermediate 5-2 and potassium hydroxide were stirred in ethanol at 60°C for 3 hours, and after cooling, hydrochloric acid was added and stirred, followed by water washing, recrystallization, and column purification to obtain 4-tert- Amylthiophenol was obtained.
2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole (3.8 g, 12.0 mmol), 4-tert-amylthiophenol (2.8 g, 15.5 mmol) , potassium carbonate (3.6 g, 26.4 mmol) and potassium iodide (0.1 g, 0.8 mmol) were reacted in 62.5 g of DMF at 125° C. for 12 hours. After the reaction was completed, the pH was adjusted, followed by filtration, MeOH washing, water washing, recrystallization, and column purification to obtain Compound 5.

FT-IR(KBr):3000cm-1:O-H伸縮振動 1450, 1380cm-1:トリアゾール環伸縮振動 660cm-1:C-S伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ0.72 (t, 3H, -S-Ph-CCH2CH 3), 1.31 (s, 6H, -S-Ph-C(CH 3)2), 1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 1.66 (q, 2H, -S-Ph-CCH 2CH3), 2.37 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 7.16 (d, 1H), 7.36 (m, 3H), 7.44 (d, 2H), 7.60 (s, 1H), 7.81 (d, 1H), 8.02 (s, 1H), (insg.9arom. CH), 11.58 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ9.18 (-S-Ph-CCH2 CH3), 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 28.3 (-S-Ph-C(CH3)2), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 36.8 (-S-Ph-C(CH3)2), 38.1 (-S-Ph-CCH2CH3), 115.5, 117.8, 119.3, 127.4, 128.8, 129.3, 133.0 (CHarom), 125.4, 141.5, 143.3 (Carom), 128.3 (C arom-CH3), 138.4 (C arom-S), 138.4 (S -C arom), 139.1 (C arom-C(CH3)3), 146.7 (C arom-OH), 150.4 (C arom-C(CH3)2)
FT-IR (KBr): 3000cm -1 : O-H stretching vibration 1450, 1380cm -1 : Triazole ring stretching vibration 660cm -1 : CS stretching vibration
1 H-NMR (CDCl 3 400MHz): δ0.72 (t, 3H, -S-Ph-CCH 2 C H 3 ), 1.31 (s, 6H, -S-Ph-C(C H 3 ) 2 ), 1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH 3 -C(C H 3 ) 3 ), 1.66 (q, 2H, -S-Ph-CC H 2 CH 3 ), 2.37 (s, 3H, -Ph- OH-C H 3 -C(CH 3 ) 3 ), 7.16 (d, 1H), 7.36 (m, 3H), 7.44 (d, 2H), 7.60 (s, 1H), 7.81 (d, 1H), 8.02 (s, 1H), (insg.9arom. C H ), 11.58 (s, 1H, -Ph-O H -CH 3 -C(CH 3 ) 3 )
13 C-NMR (CDCl 3 400MHz): δ9.18 (-S-Ph-CCH 2 C H 3 ), 20.9 (-Ph-OH- C H 3 -C(CH 3 ) 3 ), 28.3 (-S- Ph-C( CH 3 ) 2 ), 29.5 (-Ph-OH-CH 3 -C( CH 3 ) 3 ), 35.4 (-Ph-OH-CH 3 - C (CH 3 ) 3 ), 36.8 ( -S-Ph- C (CH 3 ) 2 ), 38.1 (-S-Ph-C C H 2 CH 3 ), 115.5, 117.8, 119.3, 127.4, 128.8, 129.3, 133.0 (CH arom ), 125.4, 141.5, 143.3 (C arom ), 128.3 ( C arom -CH 3 ), 138.4 ( C arom -S), 138.4 (S - C arom ), 139.1 ( C arom -C(CH 3 ) 3 ), 146.7 ( C arom -OH ), 150.4 ( C arom -C(CH 3 ) 2 )

<合成例6> 化合物6の合成 <Synthesis Example 6> Synthesis of Compound 6

Figure 0007371847000010
Figure 0007371847000010

2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(25.0g, 79.2mmol)、4-イソプロピルベンゼンチオール(24.1g, 158.3mmol)、炭酸カリウム(24.1g, 174.2mmol)およびヨウ化カリウム(0.92g, 5.54mmol)を、DMF62.5g中で、125℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、MeOH洗浄、水洗を行い、再結晶、カラム精製をすることにより、化合物6を得た。 2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole (25.0 g, 79.2 mmol), 4-isopropylbenzenethiol (24.1 g, 158.3 mmol), carbonic acid Potassium (24.1 g, 174.2 mmol) and potassium iodide (0.92 g, 5.54 mmol) were reacted in 62.5 g of DMF at 125° C. for 12 hours. After the reaction was completed, the pH was adjusted, followed by filtration, washing with MeOH, washing with water, recrystallization, and column purification to obtain Compound 6.

FT-IR(KBr):3000cm-1:O-H伸縮振動 1446, 1389cm-1:トリアゾール環伸縮振動 666cm-1:C-S伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ1.30 (d, 6H, (CH 3)2CH-Ph-S-), 1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 2.37 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 2.95 (m, 1H, (CH3)2CH-Ph-S-), 7.16 (s, 1H), 7.28 (s, 2H), 7.36 (d, 1H), 7.45 (s, 2H), 7.57 (s, 1H), 7.81 (d, 1H), 8.02 (d, 1H), (insg.9arom. CH), 11.58 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 23.9 ((CH3)2CH-Ph-S-), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 33.9 ((CH3)2 CH-Ph-S-), 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 115.3, 117.8, 119.3, 127.9, 128.7, 129.2, 129.6, 133.6 (CHarom), 125.4, 141.4, 143.3 (Carom), 128.3 (C arom-CH3), 138.5 (C arom-S), 138.5 (S -C arom), 139.1 (C arom-C(CH3)3), 146.7 (C arom-OH), 149.7 (Carom-CH)
FT-IR (KBr): 3000cm -1 : O-H stretching vibration 1446, 1389cm -1 : Triazole ring stretching vibration 666cm -1 : CS stretching vibration
1 H-NMR (CDCl 3 400MHz): δ1.30 (d, 6H, ( CH 3 ) 2 CH-Ph-S-), 1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH 3 -C( CH 3 ) 3 ), 2.37 (s, 3H, -Ph-OH-C H 3 -C(CH 3 ) 3 ), 2.95 (m, 1H, (CH 3 ) 2 C H -Ph-S-), 7.16 ( s, 1H), 7.28 (s, 2H), 7.36 (d, 1H), 7.45 (s, 2H), 7.57 (s, 1H), 7.81 (d, 1H), 8.02 (d, 1H), (insg. 9arom. C H ), 11.58 (s, 1H, -Ph-O H -CH 3 -C(CH 3 ) 3 )
13 C-NMR (CDCl 3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH- C H 3 -C(CH 3 ) 3 ), 23.9 (( C H 3 ) 2 CH-Ph-S-), 29.5 (- Ph-OH-CH 3 -C( CH 3 ) 3 ), 33.9 ((CH 3 ) 2 C H-Ph-S-), 35.4 (-Ph-OH-CH 3 - C (CH 3 ) 3 ), 115.3, 117.8, 119.3, 127.9, 128.7, 129.2, 129.6, 133.6 (CH arom ), 125.4, 141.4, 143.3 (C arom ), 128.3 ( C arom -CH 3 ), 138.5 ( C arom -S), 138. 5 (S - C arom ), 139.1 ( C arom -C(CH 3 ) 3 ), 146.7 ( C arom -OH), 149.7 (C arom - C H)

<合成例7> 化合物7の合成 <Synthesis Example 7> Synthesis of Compound 7

Figure 0007371847000011
Figure 0007371847000011

4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール(25.0g,121.2mmol)、ジメチルカルバモイルクロリド(22.5g,181.7mmol)、水素化ナトリウム(5.8g,133.3mmol)を、THF50g中で60℃、4時間反応した。反応終了後、トルエンと水を加えた後、塩酸を加えて酸処理を行い、水洗した有機層を減圧留去した。得られた液体をカラム精製することで、固体の中間体7-1を得た。得られた中間体7-1をスルホラン50g中で240℃、4時間反応した。反応終了後、トルエンと水を加えて水洗を行い、減圧留去後を行って液体の中間体7-2を得た。得られた中間体7-2と水酸化カリウムをエタノール中で60℃、3時間攪拌し、冷却後、塩酸を加えて攪拌し、水洗、再結晶、カラム精製を行うことで、4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)チオフェノールを得た。 4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol (25.0g, 121.2mmol), dimethylcarbamoyl chloride (22.5g, 181.7mmol), sodium hydride (5.8g, 133.3mmol) ) was reacted in 50 g of THF at 60°C for 4 hours. After the reaction was completed, toluene and water were added, followed by acid treatment by adding hydrochloric acid, and the organic layer washed with water was distilled off under reduced pressure. The resulting liquid was purified by column to obtain solid Intermediate 7-1. The obtained intermediate 7-1 was reacted in 50 g of sulfolane at 240° C. for 4 hours. After the reaction was completed, toluene and water were added and washed with water, followed by distillation under reduced pressure to obtain a liquid intermediate 7-2. The obtained intermediate 7-2 and potassium hydroxide were stirred in ethanol at 60°C for 3 hours, and after cooling, hydrochloric acid was added and stirred, followed by water washing, recrystallization, and column purification to obtain 4-(1 , 1,3,3-tetramethylbutyl)thiophenol was obtained.

2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(5.5g, 17.3mmol)、4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)チオフェノール(5.0g, 22.5mmol)、炭酸カリウム(5.3g,38.1mmol)およびヨウ化カリウム(0.2g,1.2mmol)を、DMF60g中で、125℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、MeOH洗浄、水洗を行い、再結晶、カラム精製をすることにより、化合物7を得た。 2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole (5.5 g, 17.3 mmol), 4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)thio Phenol (5.0 g, 22.5 mmol), potassium carbonate (5.3 g, 38.1 mmol) and potassium iodide (0.2 g, 1.2 mmol) were reacted in 60 g of DMF at 125° C. for 12 hours. After the reaction was completed, the pH was adjusted, followed by filtration, MeOH washing, water washing, recrystallization, and column purification to obtain Compound 7.

FT-IR(KBr):3000cm-1:O-H伸縮振動 1450, 1380cm-1:トリアゾール環伸縮振動 660cm-1:C-S伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ0.76 (s, 9H, -S-Ph-CCH2C(CH 3)3), 1.40 (s, 6H, -S-Ph-C(CH 3)2), 1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 1.77 (s, 2H, -S-Ph-CCH 2), 2.37 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 7.16 (d, 1H), 7.34 (m, 1H), 7.42 (s, 4H), 7.59 (s, 1H), 7.80 (d, 1H), 8.02 (s, 1H), (insg.9arom. CH), 11.58 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 31.8 (-S-Ph-CCH2C(CH3)3), 31.4 (-S-Ph-C(CH3)2), 32.5 (-S-Ph-C), 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 38.6 (-S-Ph-CCH2 C(CH3)3), 57.0 (-S-Ph-CCH2), 115.4, 117.8, 119.3, 127.6, 128.7, 129.2, 133.0 (CHarom), 125.4, 141.5, 143.3 (Carom), 128.3 (C arom-CH3), 138.5 (C arom-S), 138.5 (S -C arom), 139.1 (C arom-C(CH3)3), 146.7 (C arom-OH), 151.2 (C arom-C(CH2)2)
FT-IR (KBr): 3000cm -1 : O-H stretching vibration 1450, 1380cm -1 : Triazole ring stretching vibration 660cm -1 : CS stretching vibration
1 H-NMR (CDCl 3 400MHz): δ0.76 (s, 9H, -S-Ph-CCH 2 C(C H 3 ) 3 ), 1.40 (s, 6H, -S-Ph-C(C H 3 ) 2 ), 1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH 3 -C(C H 3 ) 3 ), 1.77 (s, 2H, -S-Ph-CC H 2 ), 2.37 (s, 3H, - Ph-OH-C H 3 -C(CH 3 ) 3 ), 7.16 (d, 1H), 7.34 (m, 1H), 7.42 (s, 4H), 7.59 (s, 1H), 7.80 (d, 1H) , 8.02 (s, 1H), (insg.9arom. C H ), 11.58 (s, 1H, -Ph-O H -CH 3 -C(CH 3 ) 3 )
13 C-NMR (CDCl 3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH- CH 3 -C(CH 3 ) 3 ), 29.5 (-Ph-OH-CH 3 -C( CH 3 ) 3 ), 31.8 (-S-Ph-CCH 2 C( C H 3 ) 3 ), 31.4 (-S-Ph-C( C H 3 ) 2 ), 32.5 (-S-Ph- C ), 35.4 (-Ph-OH -CH 3 - C (CH 3 ) 3 ), 38.6 (-S-Ph-CCH 2 C (CH 3 ) 3 ), 57.0 (-S-Ph-C C H 2 ), 115.4, 117.8, 119.3, 127.6, 128.7, 129.2, 133.0 (CH arom ), 125.4, 141.5, 143.3 (C arom ), 128.3 ( C arom -CH 3 ), 138.5 ( C arom -S), 138.5 (S - C arom ), 139.1 ( C arom - C(CH 3 ) 3 ), 146.7 ( C arom -OH), 151.2 ( C arom -C(CH 2 ) 2 )

<合成例8> 化合物8の合成 <Synthesis Example 8> Synthesis of compound 8

Figure 0007371847000012
Figure 0007371847000012

2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(25.0g, 79.2mmol)、5-tert-ブチル-2-メチルベンゼンチオール(28.5g, 158.3mmol)、炭酸カリウム(24.1g, 174.2mmol)およびヨウ化カリウム(0.92g, 5.54mmol)を、DMF62.5g中で、125℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、MeOH洗浄、水洗を行い、再結晶、カラム精製をすることにより、化合物8を得た。 2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole (25.0 g, 79.2 mmol), 5-tert-butyl-2-methylbenzenethiol (28.5 g, 158.3 mmol), potassium carbonate (24.1 g, 174.2 mmol), and potassium iodide (0.92 g, 5.54 mmol) were reacted in 62.5 g of DMF at 125° C. for 12 hours. After the reaction was completed, the pH was adjusted, followed by filtration, washing with MeOH, washing with water, recrystallization, and column purification to obtain Compound 8.

FT-IR(KBr):3000cm-1:O-H伸縮振動 1450, 1385cm-1:トリアゾール環伸縮振動 665cm-1:C-S伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ1.31 (s, 9H, -S-Ph-C(CH 3)3), 1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 2.36 (s, 6H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3, -S-Ph-CH 3), 7.15 (d, 1H), 7.34 (m, 4H), 7.56 (d, 1H), 7.80 (d, 1H), 8.01 (d, 1H), (insg.8arom. CH), 11.57 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ20.1 (-Ph-CH3), 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 31.3 (-Ph-CH3-C(CH3)3), 34.5 (-Ph-CH3-C(CH3)3), 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 113.6, 117.7, 119.2, 126.7, 128.7, 130.4, 130.8, 132.5 (CHarom), 125.4, 141.3, 143.4, 152.0 (Carom), 128.3, 128.4 (C arom-CH3), 138.5 (C arom-S), 139.1 (S -C arom), 138.8, 150.4 (C arom-C(CH3)3), 146.6 (C arom-OH)
FT-IR (KBr): 3000cm -1 : O-H stretching vibration 1450, 1385cm -1 : Triazole ring stretching vibration 665cm -1 : CS stretching vibration
1 H-NMR (CDCl 3 400MHz): δ1.31 (s, 9H, -S-Ph-C(C H 3 ) 3 ), 1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH 3 -C(C H 3 ) 3 ), 2.36 (s, 6H, -Ph-OH-C H 3 -C(CH 3 ) 3 , -S-Ph-C H 3 ), 7.15 (d, 1H), 7.34 (m, 4H) , 7.56 (d, 1H), 7.80 (d, 1H), 8.01 (d, 1H), (insg.8arom. C H ), 11.57 (s, 1H, -Ph-O H -CH 3 -C(CH 3 ) 3 )
13 C-NMR (CDCl 3 400MHz): δ20.1 (-Ph- C H 3 ), 20.9 (-Ph-OH- C H 3 -C(CH 3 ) 3 ), 29.5 (-Ph-OH-CH 3 -C( C H 3 ) 3 ), 31.3 (-Ph-CH 3 -C( C H 3 ) 3 ), 34.5 (-Ph-CH 3 - C (CH 3 ) 3 ), 35.4 (-Ph-OH- CH 3 - C (CH 3 ) 3 ), 113.6, 117.7, 119.2, 126.7, 128.7, 130.4, 130.8, 132.5 (CH arom ), 125.4, 141.3, 143.4, 152.0 (C arom ), 128.3, 128.4 ( C arom - CH 3 ), 138.5 ( C arom -S), 139.1 (S - C arom ), 138.8, 150.4 ( C arom -C(CH 3 ) 3 ), 146.6 ( C arom -OH)

<合成例9> 化合物9の合成 <Synthesis Example 9> Synthesis of Compound 9

Figure 0007371847000013
Figure 0007371847000013

2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(25.0g, 79.2mmol)、p-トルエンチオール(19.7g, 158.3mmol)、炭酸カリウム(24.1g, 174.2mmol)およびヨウ化カリウム(0.92g, 5.54mmol)、DMF62.5g中で、125℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、MeOH洗浄、水洗を行い、再結晶、カラム精製をすることにより、化合物9を得た。 2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole (25.0g, 79.2mmol), p-toluenethiol (19.7g, 158.3mmol), potassium carbonate (24.1 g, 174.2 mmol) and potassium iodide (0.92 g, 5.54 mmol) were reacted in 62.5 g of DMF at 125° C. for 12 hours. After the reaction was completed, the pH was adjusted, followed by filtration, washing with MeOH, washing with water, recrystallization, and column purification to obtain Compound 9.

FT-IR(KBr):3000cm-1:O-H伸縮振動 1444, 1389cm-1:トリアゾール環伸縮振動 667cm-1:C-S伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 2.37 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3) , 2.40 (s, 3H, CH 3-Ph-S-) , 7.16 (s, 1H), 7.23 (s, 2H), 7.32 (d, 1H), 7.43 (s, 2H), 7.56 (s, 1H), 7.81 (d, 1H), 8.02 (d, 1H), (insg.9arom. CH), 11.56 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 21.2 (CH3-Ph-S-), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 115.3, 117.8, 119.3, 128.7, 129.3 130.5, 133.7(CHarom), 125.4, 141.2, 143.4 (Carom), 128.3 (C arom-CH3), 138.9(C arom-S) , 138.7(S -C arom), 139.1(C arom-C(CH3)3), 146.7(C arom-OH)
FT-IR (KBr): 3000cm -1 : O-H stretching vibration 1444, 1389cm -1 : Triazole ring stretching vibration 667cm -1 : CS stretching vibration
1 H-NMR (CDCl 3 400MHz): δ1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH 3 -C(C H 3 ) 3 ), 2.37 (s, 3H, -Ph-OH-C H 3 - C(CH 3 ) 3 ) , 2.40 (s, 3H, C H 3 -Ph-S-) , 7.16 (s, 1H), 7.23 (s, 2H), 7.32 (d, 1H), 7.43 (s, 2H ), 7.56 (s, 1H), 7.81 (d, 1H), 8.02 (d, 1H), (insg.9arom. C H ), 11.56 (s, 1H, -Ph-O H -CH 3 -C(CH 3 ) 3 )
13 C-NMR (CDCl 3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH- C H 3 -C(CH 3 ) 3 ), 21.2 ( C H 3 -Ph-S-), 29.5 (-Ph-OH- CH 3 -C( CH 3 ) 3 ), 35.4 (-Ph-OH-CH 3 - C (CH 3 ) 3 ), 115.3, 117.8, 119.3, 128.7, 129.3 130.5, 133.7(CH arom ), 125.4, 141.2 , 143.4 (C arom ), 128.3 ( C arom -CH 3 ), 138.9( C arom -S) , 138.7(S - C arom ), 139.1( C arom -C(CH 3 ) 3 ), 146.7( C arom - OH)

<合成例10> 化合物10の合成 <Synthesis Example 10> Synthesis of Compound 10

Figure 0007371847000014
Figure 0007371847000014

2,4-ジ-tert-アミルフェノール(25.0g,106.7mmol)、ジメチルカルバモイルクロリド(19.8g,160.0mmol)、水素化ナトリウム(5.1g,117.4mmol)を、THF50g中で60℃、4時間反応した。反応終了後、トルエンと水を加えた後、塩酸を加えて酸処理を行い、水洗した有機層を減圧留去した。得られた液体をカラム精製することで、固体の中間体10-1を得た。得られた中間体10-1をスルホラン50g中で240℃、4時間反応した。反応終了後、トルエンと水を加えて水洗を行い、減圧留去後を行って液体の中間体10-2を得た。得られた中間体10-2と水酸化カリウムをエタノール中で60℃、3時間攪拌し、冷却後、塩酸を加えて攪拌し、水洗、再結晶、カラム精製を行うことで、2,4-ジ-tert-アミルチオフェノールを得た。 2,4-di-tert-amylphenol (25.0 g, 106.7 mmol), dimethylcarbamoyl chloride (19.8 g, 160.0 mmol), and sodium hydride (5.1 g, 117.4 mmol) in 50 g of THF. The reaction was carried out at 60°C for 4 hours. After the reaction was completed, toluene and water were added, followed by acid treatment by adding hydrochloric acid, and the organic layer washed with water was distilled off under reduced pressure. The resulting liquid was purified by column to obtain solid Intermediate 10-1. The obtained intermediate 10-1 was reacted in 50 g of sulfolane at 240° C. for 4 hours. After the reaction was completed, toluene and water were added and washed with water, followed by distillation under reduced pressure to obtain a liquid intermediate 10-2. The obtained intermediate 10-2 and potassium hydroxide were stirred in ethanol at 60°C for 3 hours, and after cooling, hydrochloric acid was added and stirred, followed by water washing, recrystallization, and column purification to obtain 2,4- Di-tert-amylthiophenol was obtained.

2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(2.9g,9.2mmol)、2,4-ジ-tert-アミルチオフェノール(3.0g, 12.0mmol)、炭酸カリウム(2.8g,20.3mmol)およびヨウ化カリウム(0.1g,0.6mmol)を、DMF60g中で、125℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、MeOH洗浄、水洗を行い、再結晶、カラム精製をすることにより、化合物10を得た。 2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole (2.9 g, 9.2 mmol), 2,4-di-tert-amylthiophenol (3.0 g, 12.0 mmol), potassium carbonate (2.8 g, 20.3 mmol), and potassium iodide (0.1 g, 0.6 mmol) were reacted in 60 g of DMF at 125° C. for 12 hours. After the reaction was completed, the pH was adjusted, followed by filtration, MeOH washing, water washing, recrystallization, and column purification to obtain Compound 10.

FT-IR(KBr):3000cm-1:O-H伸縮振動 1450, 1380cm-1:トリアゾール環伸縮振動 660cm-1:C-S伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ0.60 (m, 6H, -S-Ph-(CCH2CH 3)2), 1.23 (s, 6H, -S-Ph-C(CH 3)2), 1.39 (m, 15H, -S-Ph-C(CH 3)2,-Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 1.58 (q, 2H, -S-Ph-CCH 2CH3), 1.96 (q, 2H, -S-Ph-CCH 2CH3), 2.26 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 7.05 (m, 2H), 7.20 (d, 1H), 7.27 (s, 1H), 7.30 (s, 1H), 7.35 (s, 1H), 7.68 (d, 1H), 7.92 (d, 1H), (insg.8arom. CH), 11.50 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ9.22 (-S-Ph-CCH2 CH3), 9.54 (-S-Ph-CCH2 CH3), 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 28.3 (-S-Ph-C(CH3)2), 28.8 (-S-Ph-C(CH3)2), 29.6 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 34.4 (-S-Ph-C), 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 37.0 (-S-Ph-C), 36.8 (-S-Ph-CCH2), 40.5 (-S-Ph-CCH2), 114.0, 117.6, 119.3, 125.0, 126.6, 127.3, 128.6, 128.7, 140.9 (CHarom), 125.4, 141.2, 143.4 (Carom), 128.3 (C arom-CH3), 138.3 (C arom-S), 138.3 (S -C arom), 139.1 (C arom-C(CH3)3), 146.6 (C arom-OH), 150.1 (C arom-C), 150.2 (C arom-C)
FT-IR (KBr): 3000cm -1 : O-H stretching vibration 1450, 1380cm -1 : Triazole ring stretching vibration 660cm -1 : CS stretching vibration
1 H-NMR (CDCl 3 400MHz): δ0.60 (m, 6H, -S-Ph-(CCH 2 C H 3 ) 2 ), 1.23 (s, 6H, -S-Ph-C(C H 3 ) 2 ), 1.39 (m, 15H, -S-Ph-C(C H 3 ) 2 ,-Ph-OH-CH 3 -C(C H 3 ) 3 ), 1.58 (q, 2H, -S-Ph- CC H 2 CH 3 ), 1.96 (q, 2H, -S-Ph-CC H 2 CH 3 ), 2.26 (s, 3H, -Ph-OH-C H 3 -C(CH 3 ) 3 ), 7.05 ( m, 2H), 7.20 (d, 1H), 7.27 (s, 1H), 7.30 (s, 1H), 7.35 (s, 1H), 7.68 (d, 1H), 7.92 (d, 1H), (insg. 8arom. C H ), 11.50 (s, 1H, -Ph-O H -CH 3 -C(CH 3 ) 3 )
13 C-NMR (CDCl 3 400MHz): δ9.22 (-S-Ph-CCH 2 C H 3 ), 9.54 (-S-Ph-CCH 2 C H 3 ), 20.9 (-Ph-OH- C H 3 -C(CH 3 ) 3 ), 28.3 (-S-Ph-C( CH 3 ) 2 ), 28.8 (-S-Ph-C( CH 3 ) 2 ), 29.6 (-Ph-OH-CH 3 -C( C H 3 ) 3 ), 34.4 (-S-Ph- C ), 35.4 (-Ph-OH-CH 3 - C (CH 3 ) 3 ), 37.0 (-S-Ph- C ), 36.8 ( -S-Ph-C C H 2 ), 40.5 (-S-Ph-C C H 2 ), 114.0, 117.6, 119.3, 125.0, 126.6, 127.3, 128.6, 128.7, 140.9 (CH arom ), 125.4, 141.2, 143.4 (C arom ), 128.3 ( C arom -CH 3 ), 138.3 ( C arom -S), 138.3 (S - C arom ), 139.1 ( C arom -C(CH 3 ) 3 ), 146.6 ( C arom -OH ), 150.1 ( C arom -C), 150.2 ( C arom -C)

<合成例11> 化合物11の合成 <Synthesis Example 11> Synthesis of Compound 11

Figure 0007371847000015
Figure 0007371847000015

2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(25.0g, 79.2mmol)、4-ヒドロキシベンゼンチオール(20.0g, 158.3mmol)、炭酸カリウム(24.1g, 174.2mmol)およびヨウ化カリウム(0.92g, 5.54mmol)を、DMF62.5g中で、125℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、MeOH洗浄、水洗を行い、再結晶、カラム精製をすることにより、化合物11を得た。 2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole (25.0g, 79.2mmol), 4-hydroxybenzenethiol (20.0g, 158.3mmol), carbonic acid Potassium (24.1 g, 174.2 mmol) and potassium iodide (0.92 g, 5.54 mmol) were reacted in 62.5 g of DMF at 125° C. for 12 hours. After the reaction was completed, the pH was adjusted, followed by filtration, washing with MeOH, washing with water, recrystallization, and column purification to obtain Compound 11.

FT-IR(KBr):3000cm-1:O-H伸縮振動 1445, 1390cm-1:トリアゾール環伸縮振動 667cm-1:C-S伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 2.36 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 5.02 (s, 1H, -Ph-OH), 6.90 (d, 2H), 7.15 (s, 1H), 7.29 (d, 1H), 7.46 (m, 3H), 7.80 (d, 1H), 8.01 (d, 1H), (insg.9arom. CH), 11.57 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 114.0, 116.9, 117.7, 119.3, 128.3, 136.5 (CHarom), 125.4, 141.3, 143.3 (Carom), 128.7 (C arom-CH3), 139.1 (C arom-C(CH3)3), 139.8 (C arom-S), 139.8 (S -C arom), 146.7, 156.6 (C arom-OH)
FT-IR (KBr): 3000cm -1 : O-H stretching vibration 1445, 1390cm -1 : Triazole ring stretching vibration 667cm -1 : CS stretching vibration
1 H-NMR (CDCl 3 400MHz): δ1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH 3 -C(C H 3 ) 3 ), 2.36 (s, 3H, -Ph-OH-C H 3 - C(CH 3 ) 3 ), 5.02 (s, 1H, -Ph-O H ), 6.90 (d, 2H), 7.15 (s, 1H), 7.29 (d, 1H), 7.46 (m, 3H), 7.80 (d, 1H), 8.01 (d, 1H), (insg.9 arom . C H ), 11.57 (s, 1H, -Ph-O H -CH 3 -C(CH 3 ) 3 )
13 C-NMR (CDCl 3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH- CH 3 -C(CH 3 ) 3 ), 29.5 (-Ph-OH-CH 3 -C( CH 3 ) 3 ), 35.4 (-Ph-OH-CH 3 - C (CH 3 ) 3 ), 114.0, 116.9, 117.7, 119.3, 128.3, 136.5 (CH arom ), 125.4, 141.3, 143.3 (C arom ), 128.7 ( C arom -CH 3 ), 139.1 ( C arom -C(CH 3 ) 3 ), 139.8 ( C arom -S), 139.8 (S - C arom ), 146.7, 156.6 ( C arom -OH)

<合成例12> 化合物12の合成 <Synthesis Example 12> Synthesis of Compound 12

Figure 0007371847000016
Figure 0007371847000016

2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(25.0g, 79.2mmol)、2-ナフタレンチオール(25.4g, 158.3mmol)、炭酸カリウム(24.1g, 174.2mmol)およびヨウ化カリウム(0.92g, 5.54mmol)を、DMF62.5g中で、125℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、MeOH洗浄、水洗を行い、再結晶、カラム精製をすることにより、化合物12を得た。 2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole (25.0g, 79.2mmol), 2-naphthalenethiol (25.4g, 158.3mmol), potassium carbonate (24.1 g, 174.2 mmol) and potassium iodide (0.92 g, 5.54 mmol) were reacted in 62.5 g of DMF at 125° C. for 12 hours. After the reaction was completed, the pH was adjusted, followed by filtration, MeOH washing, water washing, recrystallization, and column purification to obtain Compound 12.

FT-IR(KBr):3000cm-1:O-H伸縮振動 1444, 1389cm-1:トリアゾール環伸縮振動 667cm-1:C-S伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 2.36 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 7.16 (s, 1H), 7.39 (d, 1H), 7.51 (m, 3H), 7.72-7.86 (m, 5H), 8.02 (d, 1H), (insg.12arom.CH), 11.56 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 117.0, 118.0, 119.3, 126.8, 127.6, 127.8, 128.9, 129.4, 131.0, 131.9, 132.8, 133.9 (CHarom), 125.4, 131.0, 133.9, 141.7, 143.2 (Carom), 128.3 (C arom-CH3), 137.2 (C arom-S), 137.2 (S -C arom), 139.2 (C arom-C(CH3)3), 146.7 (C arom-OH)
FT-IR (KBr): 3000cm -1 : O-H stretching vibration 1444, 1389cm -1 : Triazole ring stretching vibration 667cm -1 : CS stretching vibration
1 H-NMR (CDCl 3 400MHz): δ1.48 (s, 9H, -Ph-OH-CH 3 -C(C H 3 ) 3 ), 2.36 (s, 3H, -Ph-OH-C H 3 - C(CH 3 ) 3 ), 7.16 (s, 1H), 7.39 (d, 1H), 7.51 (m, 3H), 7.72-7.86 (m, 5H), 8.02 (d, 1H), (insg.12arom. C H ), 11.56 (s, 1H, -Ph-O H -CH 3 -C(CH 3 ) 3 )
13 C-NMR (CDCl 3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH- CH 3 -C(CH 3 ) 3 ), 29.5 (-Ph-OH-CH 3 -C( CH 3 ) 3 ), 35.4 (-Ph-OH-CH 3 - C (CH 3 ) 3 ), 117.0, 118.0, 119.3, 126.8, 127.6, 127.8, 128.9, 129.4, 131.0, 131.9, 132.8, 133.9 (CH arom ), 125.4, 131.0, 133.9, 141.7, 143.2 (C arom ), 128.3 ( C arom -CH 3 ), 137.2 ( C arom -S), 137.2 (S - C arom ), 139.2 ( C arom -C(CH 3 ) 3 ), 146.7 ( C arom -OH)

<合成例13> 化合物13の合成 <Synthesis Example 13> Synthesis of Compound 13

Figure 0007371847000017
Figure 0007371847000017

2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(25.0g, 79.2mmol)、4,4'-チオビスベンゼンチオール(9.0g, 36.0mmol)、炭酸カリウム(10.9g, 79.2mmol)およびヨウ化カリウム(0.4g, 2.5mmol)を、DMF62.5g中で、125℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、MeOH洗浄、水洗を行い、再結晶、カラム精製をすることにより、化合物13を得た。 2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole (25.0 g, 79.2 mmol), 4,4'-thiobisbenzenethiol (9.0 g, 36. 0 mmol), potassium carbonate (10.9 g, 79.2 mmol), and potassium iodide (0.4 g, 2.5 mmol) were reacted in 62.5 g of DMF at 125° C. for 12 hours. After the reaction was completed, the pH was adjusted, followed by filtration, washing with MeOH, washing with water, recrystallization, and column purification to obtain Compound 13.

FT-IR(KBr):3000cm-1:O-H伸縮振動 1444, 1389cm-1:トリアゾール環伸縮振動 667cm-1:C-S伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ1.48 (s, 18H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 2.37 (s, 6H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 7.17 (s, 2H), 7.32-7.39 (m, 10H), 7.77 (s, 2H), 7.83 (d, 2H), 8.03 (d, 2H), (insg.18arom.CH), 11.53 (s, 2H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 118.0, 118.2, 119.4, 129.0, 130.2, 131.9, 132.6, 133.6 (CHarom), 125.3, 141.8, 143.2 (Carom), 128.4 (C arom-CH3), 135.3 (C arom-S), 136.0 (S -C arom), 139.2 (C arom-C(CH3)3), 146.8 (C arom-OH)
FT-IR (KBr): 3000cm -1 : O-H stretching vibration 1444, 1389cm -1 : Triazole ring stretching vibration 667cm -1 : CS stretching vibration
1 H-NMR (CDCl 3 400MHz): δ1.48 (s, 18H, -Ph-OH-CH 3 -C(C H 3 ) 3 ), 2.37 (s, 6H, -Ph-OH-C H 3 - C(CH 3 ) 3 ), 7.17 (s, 2H), 7.32-7.39 (m, 10H), 7.77 (s, 2H), 7.83 (d, 2H), 8.03 (d, 2H), (insg.18arom. C H ), 11.53 (s, 2H, -Ph-O H -CH 3 -C(CH 3 ) 3 )
13 C-NMR (CDCl 3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH- CH 3 -C(CH 3 ) 3 ), 29.5 (-Ph-OH-CH 3 -C( CH 3 ) 3 ), 35.4 (-Ph-OH-CH 3 - C (CH 3 ) 3 ), 118.0, 118.2, 119.4, 129.0, 130.2, 131.9, 132.6, 133.6 (CH arom ), 125.3, 141.8, 143.2 (C arom ), 128.4 ( C arom -CH 3 ), 135.3 ( C arom -S), 136.0 (S - C arom ), 139.2 ( C arom -C(CH 3 ) 3 ), 146.8 ( C arom -OH)

<合成例14> 化合物14の合成 <Synthesis Example 14> Synthesis of Compound 14

Figure 0007371847000018
Figure 0007371847000018

2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン(24.6g,107.8mmol)、ジメチルカルバモイルクロリド(40.0g,323.6mmol)、水素化ナトリウム(10.4g,238.4mmol)を、THF100g中で60℃、4時間反応した。反応終了後、トルエンと水を加えた後、塩酸を加えて酸処理を行い、水洗した有機層を減圧留去した。得られた液体をカラム精製することで、固体の中間体14-1を得た。得られた中間体14-1をスルホラン50g中で240℃、4時間反応した。反応終了後、トルエンと水を加えて水洗を行い、減圧留去後を行って固体の中間体14-2を得た。得られた中間体14-2と水酸化カリウムをエタノール中で60℃、3時間攪拌し、冷却後、塩酸を加えて攪拌し、水洗、再結晶、カラム精製を行うことで、2,2-ビス(4-メルカプトフェニル)プロパンを得た。 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)propane (24.6 g, 107.8 mmol), dimethylcarbamoyl chloride (40.0 g, 323.6 mmol), sodium hydride (10.4 g, 238.4 mmol), THF 100 g The reaction was carried out at 60° C. for 4 hours. After the reaction was completed, toluene and water were added, followed by acid treatment by adding hydrochloric acid, and the organic layer washed with water was distilled off under reduced pressure. The obtained liquid was purified by column to obtain solid intermediate 14-1. The obtained intermediate 14-1 was reacted in 50 g of sulfolane at 240° C. for 4 hours. After the reaction was completed, toluene and water were added and washed with water, followed by distillation under reduced pressure to obtain solid Intermediate 14-2. The obtained intermediate 14-2 and potassium hydroxide were stirred in ethanol at 60°C for 3 hours, and after cooling, hydrochloric acid was added and stirred, followed by water washing, recrystallization, and column purification to obtain 2,2- Bis(4-mercaptophenyl)propane was obtained.

2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(8.0g, 25.3mmol)、2,2-ビス(4-メルカプトフェニル)プロパン(3.0g, 11.5mmol)、炭酸カリウム(7.0g,50.6mmol)およびヨウ化カリウム(0.3g,1.8mmol)を、DMF60g中で、125℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、MeOH洗浄、水洗を行い、再結晶、カラム精製をすることにより、化合物14を得た。
FT-IR(KBr):3000cm-1:O-H伸縮振動 1450, 1380cm-1:トリアゾール環伸縮振動 660cm-1:C-S伸縮振動
2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole (8.0 g, 25.3 mmol), 2,2-bis(4-mercaptophenyl)propane (3.0 g , 11.5 mmol), potassium carbonate (7.0 g, 50.6 mmol), and potassium iodide (0.3 g, 1.8 mmol) were reacted in 60 g of DMF at 125° C. for 12 hours. After the reaction was completed, the pH was adjusted, followed by filtration, washing with MeOH, washing with water, recrystallization, and column purification to obtain Compound 14.
FT-IR (KBr): 3000cm -1 : O-H stretching vibration 1450, 1380cm -1 : Triazole ring stretching vibration 660cm -1 : CS stretching vibration

1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ1.49 (s, 18H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 1.73 (s, 6H, -S-Ph-C(CH 3)2), 2.37 (s, 6H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 7.16 (d, 2H), 7.29 (m, 4H), 7.37 (m, 2H), 7.41 (m, 4H), 7.67 (s, 2H), 7.81 (d, 2H), 8.02 (s, 2H), (insg.18arom. CH), 11.58 (s, 2H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 30.6 (-S-Ph-C(CH3)2-Ph-S), 5.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 43.0 (-S-Ph-C(CH3)2-Ph-S), 116.3, 117.9, 119.3, 128.1, 128.8, 129.6, 132.7 (CHarom), 125.4, 141.5, 143.3 (Carom), 128.3 (C arom-CH3), 137.6 (C arom-S), 137.6 (S -C arom), 139.2 (C arom-C(CH3)2), 146.7 (C arom-OH)
1 H-NMR (CDCl 3 400MHz): δ1.49 (s, 18H, -Ph-OH-CH 3 -C(C H 3 ) 3 ), 1.73 (s, 6H, -S-Ph-C(C H 3 ) 2 ), 2.37 (s, 6H, -Ph-OH-C H 3 -C(CH 3 ) 3 ), 7.16 (d, 2H), 7.29 (m, 4H), 7.37 (m, 2H), 7.41 (m, 4H), 7.67 (s, 2H), 7.81 (d, 2H), 8.02 (s, 2H), (insg.18arom. C H ), 11.58 (s, 2H, -Ph-O H -CH 3 -C( CH3 ) 3 )
13 C-NMR (CDCl 3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH- CH 3 -C(CH 3 ) 3 ), 29.5 (-Ph-OH-CH 3 -C( CH 3 ) 3 ), 30.6 (-S-Ph-C( CH 3 ) 2 -Ph-S), 5.4 (-Ph-OH-CH 3 - C (CH 3 ) 3 ), 43.0 (-S-Ph- C (CH 3 ) 2 -Ph-S), 116.3, 117.9, 119.3, 128.1, 128.8, 129.6, 132.7 (CH arom ), 125.4, 141.5, 143.3 (C arom ), 128.3 ( C arom -CH 3 ), 137.6 ( C arom -S ), 137.6 (S - C arom ), 139.2 ( C arom -C(CH 3 ) 2 ), 146.7 ( C arom -OH)

<合成例15> 化合物15の合成 <Synthesis Example 15> Synthesis of Compound 15

Figure 0007371847000019
Figure 0007371847000019

ビフェニル-4,4’-ジオール(20.0g,107.4mmol)、ジメチルカルバモイルクロリド(39.8g,322.0mmol)、水素化ナトリウム(10.3g,236.1mmol)を、THF100g中で60℃、4時間反応した。反応終了後、トルエンと水を加えた後、塩酸を加えて酸処理を行い、水洗した有機層を減圧留去した。得られた液体をカラム精製することで、固体の中間体15-1を得た。得られた中間体15-1をスルホラン50g中で240℃、4時間反応した。反応終了後、トルエンと水を加えて水洗を行い、減圧留去後を行って固体の中間体15-2を得た。得られた中間体15-2と水酸化カリウムをエタノール中で60℃、3時間攪拌し、冷却後、塩酸を加えて攪拌し、水洗、再結晶、カラム精製を行うことで、ビフェニル-4,4’-ジチオールを得た。 Biphenyl-4,4'-diol (20.0 g, 107.4 mmol), dimethylcarbamoyl chloride (39.8 g, 322.0 mmol), and sodium hydride (10.3 g, 236.1 mmol) were dissolved in 100 g of THF at 60°C. , reacted for 4 hours. After the reaction was completed, toluene and water were added, followed by acid treatment by adding hydrochloric acid, and the organic layer washed with water was distilled off under reduced pressure. The obtained liquid was purified by column to obtain solid intermediate 15-1. The obtained intermediate 15-1 was reacted in 50 g of sulfolane at 240° C. for 4 hours. After the reaction was completed, toluene and water were added and washed with water, followed by distillation under reduced pressure to obtain solid Intermediate 15-2. The obtained intermediate 15-2 and potassium hydroxide were stirred in ethanol at 60°C for 3 hours, and after cooling, hydrochloric acid was added and stirred, followed by water washing, recrystallization, and column purification to obtain biphenyl-4, 4'-dithiol was obtained.

2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(4.6g, 14.6mmol)、ビフェニル-4,4’-ジチオール(1.5g, 6.9mmol)、炭酸カリウム(4.0g,28.9mmol)およびヨウ化カリウム(0.2g,1.2mmol)を、DMF60g中で、125℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、MeOH洗浄、水洗を行い、再結晶、カラム精製をすることにより、化合物15を得た。 2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole (4.6g, 14.6mmol), biphenyl-4,4'-dithiol (1.5g, 6.9mmol) ), potassium carbonate (4.0 g, 28.9 mmol), and potassium iodide (0.2 g, 1.2 mmol) were reacted in 60 g of DMF at 125° C. for 12 hours. After the reaction was completed, the pH was adjusted, followed by filtration, MeOH washing, water washing, recrystallization, and column purification to obtain Compound 15.

FT-IR(KBr):3000cm-1:O-H伸縮振動 1450, 1380cm-1:トリアゾール環伸縮振動 660cm-1:C-S伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ1.48 (s, 18H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 2.38 (s, 6H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 7.17 (d, 2H), 7.41 (d, 2H), 7.55 (d, 4H), 7.41 (d, 4H), 7.77 (s, 2H), 7.85 (d, 2H), 8.04 (d, 2H), (insg.18arom. CH), 11.56 (s, 2H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 118.1, 119.3, 128.1, 128.4, 128.9, 130.0, 132.8 (CHarom), 125.4, 141.7 143.2 (Carom), 128.4 (C arom-CH3), 136.9 (C arom-S), 136.9 (S -C arom), 139.2 (C arom-C(CH3)3), 146.8 (C arom-OH)
FT-IR (KBr): 3000cm -1 : O-H stretching vibration 1450, 1380cm -1 : Triazole ring stretching vibration 660cm -1 : CS stretching vibration
1 H-NMR (CDCl 3 400MHz): δ1.48 (s, 18H, -Ph-OH-CH 3 -C(C H 3 ) 3 ), 2.38 (s, 6H, -Ph-OH-C H 3 - C(CH 3 ) 3 ), 7.17 (d, 2H), 7.41 (d, 2H), 7.55 (d, 4H), 7.41 (d, 4H), 7.77 (s, 2H), 7.85 (d, 2H), 8.04 (d, 2H), (insg.18arom. C H ), 11.56 (s, 2H, -Ph-O H -CH 3 -C(CH 3 ) 3 )
13 C-NMR (CDCl 3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH- CH 3 -C(CH 3 ) 3 ), 29.5 (-Ph-OH-CH 3 -C( CH 3 ) 3 ), 35.4 (-Ph-OH-CH 3 - C (CH 3 ) 3 ), 118.1, 119.3, 128.1, 128.4, 128.9, 130.0, 132.8 (CH arom ), 125.4, 141.7 143.2 (C arom ), 128.4 ( C arom - CH 3 ), 136.9 ( C arom -S), 136.9 (S - C arom ), 139.2 ( C arom -C(CH 3 ) 3 ), 146.8 ( C arom -OH)

<合成例16> 化合物16の合成 <Synthesis Example 16> Synthesis of compound 16

Figure 0007371847000020
Figure 0007371847000020

2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(32.3g, 0.102mol)、シクロヘキサンチオール(23.8g, 0.205mol)、炭酸カリウム(31.1g, 0.225mol)およびヨウ化カリウム(1.2g, 0.007mol)を、DMF100g中で、125℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、MeOH洗浄、水洗を行い、再結晶、カラム精製をすることによって、化合物16を得た。 2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole (32.3g, 0.102mol), cyclohexanethiol (23.8g, 0.205mol), potassium carbonate (31 .1g, 0.225mol) and potassium iodide (1.2g, 0.007mol) were reacted in 100g of DMF at 125°C for 12 hours. After the reaction was completed, the pH was adjusted, followed by filtration, washing with MeOH, washing with water, recrystallization, and column purification to obtain Compound 16.

FT-IR(KBr):2930cm-1:O-H伸縮振動 1450, 1391cm-1:トリアゾール環伸縮振動 667cm-1:C-S伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ 1.40 (m, 4H, CH2(CH 2)2(CH2)2CH-S), 1.49 (S, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 1.54 (m, 2H, CH 2(CH2)2(CH2)2CH-S), 1.83 (m, 2H, CH2(CH2)2CH2CH 2CH-S), 2.06 (m, 2H, CH2(CH2)2CH 2CH2CH-S), 2.38 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3), 3.29 (m, 1H, CH2CH2CH2CH-S), 7.17 (s, 1H), 7.43 (d, 1H), 7.80 (s, 1H), 7.84 (d, 1H), 8.06 (d, 1H), (insg.5arom. CH), 11.62 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 25.7 (CH2(CH2)2 (CH2)2CH-S), 26.0 (CH2(CH2)2(CH2)2CH-S), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 33.1 (CH2(CH2)2(CH2)2CH-S), 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 46.3 (CH2(CH2)2(CH2)2 CH-S), 117.2, 117.5, 119.3, 128.3, 128.8 (CHarom), 141.5, 143.2 (C arom), 125.4 (C arom-N), 131.2 (C arom-CH3), 136.1 (C arom-S), 139.1 (C arom-C(CH3)3), 146.7 (C arom-OH)
FT-IR (KBr): 2930cm -1 : O-H stretching vibration 1450, 1391cm -1 : Triazole ring stretching vibration 667cm -1 : CS stretching vibration
1 H-NMR (CDCl 3 400MHz): δ 1.40 (m, 4H, CH 2 (C H 2 ) 2 (CH 2 ) 2 CH-S), 1.49 (S, 9H, -Ph-OH-CH 3 -C (C H 3 ) 3 ), 1.54 (m, 2H, C H 2 (CH 2 ) 2 (CH 2 ) 2 CH-S), 1.83 (m, 2H, CH 2 (CH 2 ) 2 CH 2 C H 2 CH-S), 2.06 (m, 2H, CH 2 (CH 2 ) 2 CH 2 CH 2 CH -S), 2.38 (s, 3H, -Ph-OH-C H 3 -C(CH 3 ) 3 ) , 3.29 (m, 1H, CH 2 CH 2 CH 2 C H -S), 7.17 (s, 1H), 7.43 (d, 1H), 7.80 (s, 1H), 7.84 (d, 1H), 8.06 (d , 1H), (insg.5arom. C H ), 11.62 (s, 1H, -Ph-O H -CH 3 -C(CH 3 ) 3 )
13 C-NMR (CDCl 3 400MHz): δ 20.9 (-Ph-OH- CH 3 -C(CH 3 ) 3 ), 25.7 (CH 2 ( CH 2 ) 2 (CH 2 ) 2 CH-S), 26.0 ( CH 2 (CH 2 ) 2 (CH 2 ) 2 CH-S), 29.5 (-Ph-OH-CH 3 -C( CH 3 ) 3 ), 33.1 (CH 2 (CH 2 ) 2 ( C H 2 ) 2 CH-S), 35.4 (-Ph-OH-CH 3 - C (CH 3 ) 3 ), 46.3 (CH 2 (CH 2 ) 2 (CH 2 ) 2 C H-S), 117.2, 117.5, 119.3 , 128.3, 128.8 ( C H arom ), 141.5, 143.2 ( C arom ), 125.4 ( C arom -N), 131.2 ( C arom -CH 3 ), 136.1 ( C arom -S), 139.1 ( C arom -C( CH 3 ) 3 ), 146.7 ( C arom -OH)

<合成例17> 化合物17の合成 <Synthesis Example 17> Synthesis of Compound 17

Figure 0007371847000021
Figure 0007371847000021

トルエン500mL中に2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(59.2g,0.187mol)を加え80℃に加熱した。次に、三塩化アルミニウム(50.0g,0.375mol)を加え、30分攪拌した後、室温まで冷却し、氷冷したイオン交換水500mLをゆっくりと加えた。その後、水層を除去して有機層を水洗し、減圧留去した後、再結晶を行うことで、中間体17-1を得た。得られた中間体17-1(20.0g,0.077mol)、ベンゼンチオール(11.0g, 0.100mol)、炭酸カリウム(23.4g,0.169mol)およびヨウ化カリウム(0.9g,0.005mol)を、DMF80g中で、125℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、MeOH洗浄、水洗を行い、再結晶、カラム精製をすることによって、化合物17を得た。 2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole (59.2 g, 0.187 mol) was added to 500 mL of toluene and heated to 80°C. Next, aluminum trichloride (50.0 g, 0.375 mol) was added and stirred for 30 minutes, then cooled to room temperature, and 500 mL of ice-cooled ion exchange water was slowly added. Thereafter, the aqueous layer was removed, the organic layer was washed with water, evaporated under reduced pressure, and then recrystallized to obtain Intermediate 17-1. The obtained intermediate 17-1 (20.0 g, 0.077 mol), benzenethiol (11.0 g, 0.100 mol), potassium carbonate (23.4 g, 0.169 mol) and potassium iodide (0.9 g, 0.005 mol) was reacted in 80 g of DMF at 125°C for 12 hours. After the reaction was completed, the pH was adjusted, followed by filtration, MeOH washing, water washing, recrystallization, and column purification to obtain Compound 17.

FT-IR(KBr):2950cm-1:O-H伸縮振動 1459, 1388cm-1:トリアゾール環伸縮振動 670cm-1:C-S伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ2.38 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3), 7.09 (d, 1H), 7.14 (d, 1H), 7.38 (d, 4H), 7.48 (d, 2H), 7.69 (s, 1H), 7.83 (d, 1H), 8.14 (d, 1H), (insg.11arom. CH), 10.94 (s, 1H, -Ph-OH-CH3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ20.5 (-Ph-OH-CH3), 116.8, 118.1, 118.8, 121.0, 128.3, 129.6, 131.3, 132.8 (CHarom), 124.8, 141.8, 143.4 (Carom), 129.9 (C arom-CH3), 137.6 (C arom-S) , 139.2 (S-C arom), 147.5 (C arom-OH)
FT-IR (KBr): 2950cm -1 : O-H stretching vibration 1459, 1388cm -1 : Triazole ring stretching vibration 670cm -1 : CS stretching vibration
1 H-NMR (CDCl 3 400MHz): δ2.38 (s, 3H, -Ph-OH-C H 3 ), 7.09 (d, 1H), 7.14 (d, 1H), 7.38 (d, 4H), 7.48 (d, 2H), 7.69 (s, 1H), 7.83 (d, 1H), 8.14 (d, 1H), (insg.11arom. C H ), 10.94 (s, 1H, -Ph-O H -CH 3 )
13C -NMR (CDCl 3 400MHz): δ20.5 (-Ph-OH- C H 3 ), 116.8, 118.1, 118.8, 121.0, 128.3, 129.6, 131.3, 132.8 (CH arom ), 124.8, 141.8, 143.4 ( C arom ), 129.9 ( C arom -CH 3 ), 137.6 ( C arom -S), 139.2 (S- C arom ), 147.5 ( C arom -OH)

<合成例18> 化合物18の合成 <Synthesis Example 18> Synthesis of compound 18

Figure 0007371847000022
Figure 0007371847000022

5-クロロ-2-ニトロアニリン(150.0g,0.869mol)を42%テトラフルオロホウ酸(381.6g,1.825mol)に加えて5~10℃に冷却し、50%亜硝酸ナトリウム水溶液(119.7g,0.869mol)を5~10℃で2時間かけて滴下した。滴下後、1時間攪拌し、ジエチルエーテルを加えて結晶をろ過した後、洗浄を行うことで、中間体18-1を得た。 5-chloro-2-nitroaniline (150.0 g, 0.869 mol) was added to 42% tetrafluoroboric acid (381.6 g, 1.825 mol), cooled to 5-10°C, and mixed with a 50% aqueous sodium nitrite solution. (119.7 g, 0.869 mol) was added dropwise at 5 to 10° C. over 2 hours. After the dropwise addition, the mixture was stirred for 1 hour, diethyl ether was added, and the crystals were filtered and washed to obtain Intermediate 18-1.

4-tert-オクチルフェノール(130.0g,0.630mol)、水酸化ナトリウム(26.5g,0.663mol)、炭酸ナトリウム(35.4g,0.334mol)をメタノール850mLとイオン交換水450mL中に加えて混合し、イオン交換水3240mLに溶解した中間体18-1(171.0g,0.630mol)を4時間かけて5~10℃で滴下した。滴下後、1時間攪拌し、酸処理を行って析出した結晶をろ過後、洗浄を行うことで、中間体18-2を得た。 Add 4-tert-octylphenol (130.0 g, 0.630 mol), sodium hydroxide (26.5 g, 0.663 mol), and sodium carbonate (35.4 g, 0.334 mol) to 850 mL of methanol and 450 mL of ion-exchanged water. Intermediate 18-1 (171.0 g, 0.630 mol) dissolved in 3240 mL of ion-exchanged water was added dropwise at 5 to 10° C. over 4 hours. After the dropwise addition, the mixture was stirred for 1 hour, treated with an acid, and the precipitated crystals were filtered and washed to obtain Intermediate 18-2.

トルエン400mL中に中間体18-2(75.0g,0.192mol)、2MNaOH水溶液(288.5g)、亜鉛粉末(150.99g)を加えて85℃で2時間攪拌した。反応終了後、ろ過、洗浄を行い、再結晶をすることによって、中間体18-3を得た。 Intermediate 18-2 (75.0 g, 0.192 mol), 2M NaOH aqueous solution (288.5 g), and zinc powder (150.99 g) were added to 400 mL of toluene and stirred at 85° C. for 2 hours. After the reaction was completed, intermediate 18-3 was obtained by filtration, washing, and recrystallization.

中間体18-3(5.0g,0.014mol)、4-tert-ブチルベンゼンチオール(3.5g,0.021mol)、炭酸カリウム(4.3g,0.031mol)およびヨウ化カリウム(0.2g,0.001mol)を、DMF50g中で、125℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、MeOH洗浄、水洗を行い、再結晶、カラム精製をすることにより、中間体18-4を得た。 Intermediate 18-3 (5.0 g, 0.014 mol), 4-tert-butylbenzenethiol (3.5 g, 0.021 mol), potassium carbonate (4.3 g, 0.031 mol) and potassium iodide (0.0 g, 0.021 mol). 2g, 0.001mol) was reacted in 50g of DMF at 125°C for 12 hours. After the reaction was completed, the pH was adjusted, followed by filtration, washing with MeOH, washing with water, recrystallization, and column purification to obtain Intermediate 18-4.

中間体18-4(0.20g,0.410mmol)、ホルマリン水溶液(0.05g,0.615mmol)、ジエチルアミン(0.05g,0.697mmol)を1-ブタノール25mLに加え、150℃、17時間反応した。反応終了後、カラム精製をすることにより、中間体18-5を得た。 Intermediate 18-4 (0.20 g, 0.410 mmol), formalin aqueous solution (0.05 g, 0.615 mmol), and diethylamine (0.05 g, 0.697 mmol) were added to 25 mL of 1-butanol, and the mixture was heated at 150°C for 17 hours. I reacted. After the reaction was completed, intermediate 18-5 was obtained by column purification.

中間体18-4(1.00g,2.052mmol)、中間体18-5(1.34g,2.341mmol)、28%ナトリウムメチラートMeOH溶液(1.33g)をキシレン25mLに加え、オートクレーブで175℃、15時間反応した。反応終了後、カラム精製をすることにより、化合物18を得た。 Intermediate 18-4 (1.00 g, 2.052 mmol), Intermediate 18-5 (1.34 g, 2.341 mmol), and 28% sodium methylate MeOH solution (1.33 g) were added to 25 mL of xylene and autoclaved. The reaction was carried out at 175°C for 15 hours. After the reaction was completed, compound 18 was obtained by column purification.

FT-IR(KBr):2953cm-1:O-H伸縮振動 1460, 1389cm-1:トリアゾール環伸縮振動 670cm-1:C-S伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ0.68 (s, 18H, -Ph-OH-CCH2C(CH 3)3), 1.35 (s, 18H, -S-Ph-C(CH 3)3), 1.36 (s, 12H, -Ph-OH-C(CH 3)2CH2C(CH3)3), 1.70 (s, 4H, -Ph-CCH 2C), 4.26 (s, 2H, -Ph-OH-CH 2-OH-Ph-), 7.34 (m, 2H), 7.37 (m, 2H), 7.43 (d, 8H), 7.63 (s, 2H), 7.80 (d, 2H), 8.02 (d, 2H), (insg.18arom. CH), 11.36 (s, 2H, -Ph-OH)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ30.9 (-Ph-OH-CH2-OH-Ph-), 31.3 (-S-Ph-C(CH3)3), 31.7 (-Ph-OH-C(CH3)2CH2C(CH3)3), 31.8 (-Ph-OH-C(CH3)2CH2C(CH3)3), 32.3 (-Ph-OH-C(CH3)2CH2 C(CH3)3), 34.7 (-S-Ph-C(CH3)3), 38.2 (-Ph-OH-C(CH3)2CH2C(CH3)3), 56.6 (-Ph-OH-C(CH3)2 CH2C(CH3)3), 115.9, 116.5, 117.9, 126.7, 129.4, 129.6, 133.0 (CHarom), 124.4, 141.6, 143.4 (Carom), 129.3 (C arom-CH2), 129.9 (C arom-S), 138.1 (S -C arom), 141.4 (C arom-C(CH3)3), 145.6 (C arom-OH), 151.8 (C arom-C(CH3)2)
FT-IR (KBr): 2953cm -1 : O-H stretching vibration 1460, 1389cm -1 : Triazole ring stretching vibration 670cm -1 : CS stretching vibration
1 H-NMR (CDCl 3 400MHz): δ0.68 (s, 18H, -Ph-OH-CCH 2 C(C H 3 ) 3 ), 1.35 (s, 18H, -S-Ph-C(C H 3 ) ) 3 ), 1.36 (s, 12H, -Ph-OH-C(C H 3 ) 2 CH 2 C(CH 3 ) 3 ), 1.70 (s, 4H, -Ph-CC H 2 C), 4.26 (s , 2H, -Ph-OH-C H 2 -OH-Ph-), 7.34 (m, 2H), 7.37 (m, 2H), 7.43 (d, 8H), 7.63 (s, 2H), 7.80 (d, 2H), 8.02 (d, 2H), (insg.18arom. C H ), 11.36 (s, 2H, -Ph-O H )
13 C-NMR (CDCl 3 400MHz): δ30.9 (-Ph-OH- C H 2 -OH-Ph-), 31.3 (-S-Ph-C( C H 3 ) 3 ), 31.7 (-Ph- OH-C( CH 3 ) 2 CH 2 C(CH 3 ) 3 ), 31.8 (-Ph-OH-C(CH 3 ) 2 CH 2 C( CH 3 ) 3 ), 32.3 (-Ph-OH- C(CH 3 ) 2 CH 2 C (CH 3 ) 3 ), 34.7 (-S-Ph- C (CH 3 ) 3 ), 38.2 (-Ph-OH- C (CH 3 ) 2 CH 2 C(CH 3 ) 3 ), 56.6 (-Ph-OH-C(CH 3 ) 2 C H 2 C(CH 3 ) 3 ), 115.9, 116.5, 117.9, 126.7, 129.4, 129.6, 133.0 (CH arom ), 124.4, 141.6, 143.4 (C arom ), 129.3 ( C arom -CH 2 ), 129.9 ( C arom -S), 138.1 (S - C arom ), 141.4 ( C arom -C(CH 3 ) 3 ), 145.6 ( C arom -OH ), 151.8 ( C arom -C(CH 3 ) 2 )

<合成例19> 化合物19の合成 <Synthesis Example 19> Synthesis of Compound 19

Figure 0007371847000023
Figure 0007371847000023

2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(50.0g,0.158mol)、オクタンチオール(46.3g,0.316mol)、炭酸カリウム(48.1g,0.348mol)およびヨウ化カリウム(1.8g,0.011mol)を、DMF125g中で、125℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、MeOH洗浄、水洗を行い、再結晶をすることにより、化合物19を得た。 2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole (50.0 g, 0.158 mol), octanethiol (46.3 g, 0.316 mol), potassium carbonate (48 .1g, 0.348mol) and potassium iodide (1.8g, 0.011mol) were reacted in 125g of DMF at 125°C for 12 hours. After the reaction was completed, the pH was adjusted, followed by filtration, washing with MeOH, washing with water, and recrystallization to obtain Compound 19.

FT-IR(KBr):2956cm-1:O-H伸縮振動 1445, 1392cm-1:トリアゾール環伸縮振動 662cm-1:C-S伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ 0.89 (t, 3H, CH 3(CH2)7-S) , 1.33 (m, 8H, CH3(CH 2)4(CH2)3-S), 1.49 (m, 11H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3, CH3(CH2)4CH 2(CH2)2-S), 1.73 (quin, 2H, CH3(CH2)5CH 2CH2-S), 2.38 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3) , 3.02 (t, 2H, CH3(CH2)5CH2CH 2-S), 7.16 (s, 1H), 7.36 (d, 1H), 7.69 (s, 1H), 7.78 (d, 1H), 8.04 (s, 1H), (insg.5arom. CH), 11.62 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ 14.0 (CH3(CH2)7-S), 20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 22.6 (CH3 CH2(CH2)5CH2-S), 28.7 (CH3CH2(CH2)4CH2CH2-S), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 31.8 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3) , 33.8 (CH3(CH2)5 CH2CH2-S), 35.4 (CH3(CH2)5CH2 CH2-S), 113.6, 117.5, 119.3, 128.7, 129.2 (CHarom), 125.4, 141.2, 143.4 (C arom), 128.3 (C arom-CH3), 138.0(C arom-S), 139.1(C arom-C(CH3)3), 146.7(C arom-OH)
FT-IR (KBr): 2956cm -1 : O-H stretching vibration 1445, 1392cm -1 : Triazole ring stretching vibration 662cm -1 : CS stretching vibration
1 H-NMR (CDCl 3 400MHz): δ 0.89 (t, 3H , CH 3 ( CH 2 ) 7 -S), 1.33 (m, 8H, CH 3 ( CH 2 ) 4 (CH 2 ) 3 -S ), 1.49 (m, 11H, -Ph-OH-CH 3 -C(C H 3 ) 3 , CH 3 (CH 2 ) 4 CH 2 (CH 2 ) 2 -S), 1.73 (quin, 2H, CH 3 (CH 2 ) 5 C H 2 CH 2 -S), 2.38 (s, 3H, -Ph-OH-C H 3 -C(CH 3 ) 3 ), 3.02 (t, 2H, CH 3 (CH 2 ) 5 CH 2 C H 2 -S), 7.16 (s, 1H), 7.36 (d, 1H), 7.69 (s, 1H), 7.78 (d, 1H), 8.04 (s, 1H), (insg.5arom. C H ), 11.62 (s, 1H, -Ph-O H -CH 3 -C(CH 3 ) 3 )
13 C-NMR (CDCl 3 400MHz): δ 14.0 ( CH 3 (CH 2 ) 7 -S), 20.9 (-Ph-OH- CH 3 -C(CH 3 ) 3 ), 22.6 (CH 3 C H 2 (CH 2 ) 5 CH 2 -S), 28.7 (CH 3 CH 2 ( CH 2 ) 4 CH 2 CH 2 -S), 29.5 (-Ph-OH-CH 3 -C( CH 3 ) 3 ) , 31.8 (-Ph-OH-CH 3 - C (CH 3 ) 3 ) , 33.8 (CH 3 (CH 2 ) 5 C H 2 CH 2 -S), 35.4 (CH 3 (CH 2 ) 5 CH 2 C H 2 -S), 113.6, 117.5, 119.3, 128.7, 129.2 ( C H arom ), 125.4, 141.2, 143.4 ( C arom ), 128.3 ( C arom -CH 3 ), 138.0( C arom -S), 139.1( C arom -C(CH 3 ) 3 ), 146.7( C arom -OH)

<合成例20> 化合物20の合成 <Synthesis Example 20> Synthesis of compound 20

Figure 0007371847000024
Figure 0007371847000024

2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(20.0g, 63.3mmol)、ベンジルメルカプタン(15.7g,126.6mmol)、炭酸カリウム(19.3g, 139.4mmol)およびヨウ化カリウム(0.74g, 4.5mmol)を、DMF50.0g中で、125℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、MeOH洗浄、水洗を行い、再結晶をすることにより、化合物20を得た。 2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole (20.0 g, 63.3 mmol), benzyl mercaptan (15.7 g, 126.6 mmol), potassium carbonate (19 .3g, 139.4mmol) and potassium iodide (0.74g, 4.5mmol) were reacted in 50.0g of DMF at 125°C for 12 hours. After the reaction was completed, the pH was adjusted, followed by filtration, washing with MeOH, washing with water, and recrystallization to obtain Compound 20.

FT-IR(KBr):2960cm-1:O-H伸縮振動 1441, 1392cm-1:トリアゾール環伸縮振動 664cm-1:C-S伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ1.49 (s, 9H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 2.38 (s, 3H, -Ph-OH-CH 3-C(CH3)3) , 4.24 (s, 2H, Ph-CH 2-S-) , 7.16 (s, 1H), 7.26~7.38 (m, 6H), 7.72 (s, 1H), 7.80 (d, 1H), 8.04 (d, 1H), (insg.10arom. CH), 11.58 (s, 1H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 35.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 38.6 (Ph-CH2-S-), 115.4, 117.6, 119.3, 128.7, 128.8, 128.8, 129.7, 137.0(CHarom), 125.4, 141.4, 143.4 (C arom), 128.3 (C arom-CH3), 136.5(C arom CH2-S-) , 138.7(S -C arom), 139.1(C arom-C(CH3)3), 146.7(C arom-OH)
FT-IR (KBr): 2960cm -1 : O-H stretching vibration 1441, 1392cm -1 : Triazole ring stretching vibration 664cm -1 : CS stretching vibration
1 H-NMR (CDCl 3 400MHz): δ1.49 (s, 9H, -Ph-OH-CH 3 -C(C H 3 ) 3 ), 2.38 (s, 3H, -Ph-OH-C H 3 - C(CH 3 ) 3 ) , 4.24 (s, 2H, Ph-C H 2 -S-) , 7.16 (s, 1H), 7.26~7.38 (m, 6H), 7.72 (s, 1H), 7.80 (d , 1H), 8.04 (d, 1H), (insg.10 arom . CH), 11.58 (s, 1H, -Ph-O H -CH 3 -C(CH 3 ) 3 )
13 C-NMR (CDCl 3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH- CH 3 -C(CH 3 ) 3 ), 29.5 (-Ph-OH-CH 3 -C( CH 3 ) 3 ), 35.4 (-Ph-OH-CH 3 - C (CH 3 ) 3 ), 38.6 (Ph- C H 2 -S-), 115.4, 117.6, 119.3, 128.7, 128.8, 128.8, 129.7, 137.0( C H arom ) , 125.4, 141.4, 143.4 ( C arom ), 128.3 ( C arom -CH 3 ), 136.5( C arom CH 2 -S-) , 138.7(S - C arom ), 139.1( C arom -C(CH 3 ) 3 ), 146.7( C arom -OH)

<合成例21> 化合物21の合成 <Synthesis Example 21> Synthesis of Compound 21

Figure 0007371847000025
Figure 0007371847000025

2-(2-ヒドロキシ-3-tert-ブチル-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール(10.0g, 31.7mmol)、ヘキサンジチオール(4.76g, 31.7mmol)、炭酸カリウム(8.75g, 63.3mmol)およびヨウ化カリウム(0.37g, 2.2mmol)を、DMF50g中で、130℃、12時間反応した。反応終了後、pHを調整した後、濾過、MeOH洗浄、水洗を行い、再結晶、カラム精製をすることにより、化合物21を得た。 2-(2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole (10.0 g, 31.7 mmol), hexanedithiol (4.76 g, 31.7 mmol), potassium carbonate (8 .75g, 63.3mmol) and potassium iodide (0.37g, 2.2mmol) were reacted in 50g of DMF at 130°C for 12 hours. After the reaction was completed, the pH was adjusted, followed by filtration, MeOH washing, water washing, recrystallization, and column purification to obtain Compound 21.

FT-IR(KBr):3009cm-1:O-H伸縮振動 1431, 1391cm-1:トリアゾール環伸縮振動 656cm-1:C-S伸縮振動
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ1.49 (s, 18H, -Ph-OH-CH3-C(CH 3)3), 1.55 (m, 4H, -S-CH2CH2CH 2CH 2CH2CH2-S-), 1.77 (m, 4H, -S-CH2CH 2CH2CH2CH 2CH2-S-), 2.38(s, 6H, (-Ph-OH-CH 3-C(CH3)3) , 3.04 (t, 4H, -S-CH 2CH2CH2CH2CH2CH 2-S-), 7.16 (s, 2H), 7.37 (d, 2H), 7.70 (s, 2H), 7.81 (d, 2H), 8.05 (s, 2H) (insg.10arom. CH), 11.60 (s, 2H, -Ph-OH-CH3-C(CH3)3)
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 28.4 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 28.6 -S-CH2CH2 CH2 CH2CH2CH2-S-, 29.5 (-Ph-OH-CH3-C(CH3)3), 33.1 -S-CH2 CH2CH2CH2 CH2CH2-S-, 35.4 -S-CH2CH2CH2CH2CH2 CH2-S-, 113.7, 117.6, 119.3, 128.3, 129.3 (CHarom), 141.2, 143.4 (C arom), 125.4(C arom-N), 128.3 (C arom-CH3), 137.7(C arom-S), 139.1(C arom-C(CH3)3, 146.7(C arom-OH)
FT-IR (KBr): 3009cm -1 : O-H stretching vibration 1431, 1391cm -1 : Triazole ring stretching vibration 656cm -1 : CS stretching vibration
1H-NMR (CDCl3 400MHz): δ1.49 (s, 18H, -Ph-OH-CH 3 -C(C H 3 ) 3 ), 1.55 (m, 4H, -S-CH 2 CH 2 C H 2 C H 2 CH 2 CH 2 -S-), 1.77 (m, 4H, -S - CH 2 C H 2 CH 2 CH 2 C H 2 CH 2 -S-), 2.38(s, 6H, (-Ph-OH -C H 3 -C(CH 3 ) 3 ) , 3.04 (t, 4H, -SC H 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -S-), 7.16 (s, 2H), 7.37 (d, 2H), 7.70 (s, 2H), 7.81 (d, 2H), 8.05 (s, 2H) (insg.10arom. CH), 11.60 (s, 2H, -Ph-O H -CH 3 -C(CH 3 ) 3 )
13C-NMR (CDCl3 400MHz): δ20.9 (-Ph-OH- C H 3 -C(CH 3 ) 3 ), 28.4 (-Ph-OH-CH 3 - C (CH 3 ) 3 ), 28.6 -S -CH 2 CH 2 C H 2 C H 2 CH 2 CH 2 -S-, 29.5 (-Ph-OH-CH 3 -C( C H 3 ) 3 ), 33.1 -S-CH 2 C H 2 CH 2 CH 2 C H 2 CH 2 -S-, 35.4 -S- C H 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 C H 2 -S-, 113.7, 117.6, 119.3, 128.3, 129.3 ( C H arom ), 141.2, 143.4 ( C arom ), 125.4( C arom -N), 128.3 ( C arom -CH3), 137.7( C arom -S), 139.1( C arom -C(CH 3 ) 3 , 146.7( C arom -OH)

次に、有機化合物Aとして合成した各化合物の特性を評価した。 Next, the characteristics of each compound synthesized as organic compound A were evaluated.

1.耐光性評価
20wt%アクリル樹脂(パラロイドB72)トルエン溶液に、化合物の溶解度を勘案しながら下記の質量比で化合物1~16,19~21を溶解した後、ソーダガラス板に塗工し、80℃、10分乾燥し評価サンプルを得た。
1. Light resistance evaluation Compounds 1 to 16 and 19 to 21 were dissolved in a toluene solution of 20 wt% acrylic resin (Paraloid B72) at the following mass ratio while taking into account the solubility of the compounds, and then coated on a soda glass plate and heated at 80°C. , and dried for 10 minutes to obtain an evaluation sample.

・化合物1~6,8~11,16,19,20
配合比率(質量比)
20wt%アクリル樹脂トルエン溶液:化合物=3.0:0.1
(アクリル樹脂:化合物=0.6:0.1)
ドライ膜厚:2~3μm
・化合物7,12
配合比率
20wt%アクリル樹脂トルエン溶液:化合物=6.0:0.1
(アクリル樹脂:化合物=1.2:0.1)
ドライ膜厚:4~6μm
・化合物13
配合比率(質量比)
20wt%アクリル樹脂トルエン溶液:化合物=12.0:0.1
(アクリル樹脂:化合物=2.4:0.1)
ドライ膜厚:7~9μm
・化合物14,15,21
配合比率(質量比)
20wt%アクリル樹脂トルエン溶液:化合物=17.0:0.1
(アクリル樹脂:化合物=3.4:0.1)
ドライ膜厚:50μm
・Compounds 1-6, 8-11, 16, 19, 20
Mixing ratio (mass ratio)
20wt% acrylic resin toluene solution: compound = 3.0:0.1
(Acrylic resin: compound = 0.6:0.1)
Dry film thickness: 2~3μm
Compound 7,12
Blending ratio 20wt% acrylic resin toluene solution: compound = 6.0:0.1
(Acrylic resin: compound = 1.2:0.1)
Dry film thickness: 4-6μm
Compound 13
Mixing ratio (mass ratio)
20wt% acrylic resin toluene solution: compound = 12.0:0.1
(Acrylic resin: compound = 2.4:0.1)
Dry film thickness: 7-9μm
・Compounds 14, 15, 21
Mixing ratio (mass ratio)
20wt% acrylic resin toluene solution: compound = 17.0:0.1
(Acrylic resin: compound = 3.4:0.1)
Dry film thickness: 50μm

得られた評価サンプルについて、紫外可視分光光度計(日立製作所製 分光光度計U-3310)で紫外-可視透過スペクトルを測定し、波長400nmの初期(照射前)の紫外線透過率(%T(1)400:%)を読み取った後、紫外線照射装置(スガ試験機製 キセノンウェザーメーターX25FL-Z)を用い、波長300~400nm、照度42W/m2、ブラックパネル温度63℃の条件で紫外線を照射し、照射時間140時間後に、紫外-可視透過スペクトルを測定し、波長400nmの透過率(%T(2)400:%)を読み取り、下記式で透過率の差Δ%T400(%)を算出した(表1A、1B)。 The UV-visible transmission spectrum of the obtained evaluation sample was measured using a UV-visible spectrophotometer (Spectrophotometer U-3310 manufactured by Hitachi, Ltd.), and the initial (before irradiation) UV transmittance at a wavelength of 400 nm (%T (1 )400 :%), irradiate the surface with ultraviolet light using an ultraviolet irradiation device ( Suga Test Instruments Xenon Weather Meter After 140 hours of irradiation time, measure the ultraviolet-visible transmission spectrum, read the transmittance at a wavelength of 400 nm (%T (2)400 :%), and calculate the difference in transmittance Δ%T 400 (%) using the following formula. (Tables 1A and 1B).

透過率の差(Δ%T400) = %T(2)400 -%T(1)400(%) Difference in transmittance (Δ%T 400 ) = %T (2)400 - %T (1)400 (%)

2.融点の評価
化合物1~21の融点は、示差走査熱量計(SII社製 DSC6220)を用いて測定し、DSCピークトップ温度を融点とした(表1A、1B)。また、化合物17の融点は114℃、化合物18の融点は176℃であった。
2. Evaluation of Melting Point The melting points of Compounds 1 to 21 were measured using a differential scanning calorimeter (DSC6220 manufactured by SII), and the DSC peak top temperature was taken as the melting point (Tables 1A and 1B). Further, the melting point of Compound 17 was 114°C, and the melting point of Compound 18 was 176°C.

化合物1~18は、いずれも融点100℃以上であり、化合物1~3,5~12,14~16,18は融点130℃以上、化合物2,5~9,11,12,14~16,18は融点140℃以上、化合物2,6~8,11,12,14,15,18は融点145℃以上であった。特に、化合物2,11,12,14,15,18は融点150℃以上であり、ブリードアウト、ブロッキングの抑制、分散、加熱加工性に優れることを確認した。 Compounds 1 to 18 all have a melting point of 100°C or higher, compounds 1 to 3, 5 to 12, 14 to 16, 18 have a melting point of 130°C or higher, compounds 2,5 to 9, 11, 12, 14 to 16, Compounds 18 had a melting point of 140°C or higher, and compounds 2,6 to 8, 11, 12, 14, 15, and 18 had a melting point of 145°C or higher. In particular, it was confirmed that Compounds 2, 11, 12, 14, 15, and 18 have melting points of 150° C. or higher, and are excellent in suppressing bleed-out and blocking, dispersion, and heat processability.

式(2-1)においてl=1で、チオアルコキシ基の-S-結合に対してパラ位にR1aとして炭化水素基(アルキル基)を有する化合物2,5,6,7,9(融点140~155℃)は、R1aが全て水素原子の化合物1(融点136℃)、およびR1aがアルコキシ基の化合物4(融点115℃)より融点が高く、その中でも、アルキル基の炭素数3~8の化合物2,5,6,7(融点141~155℃)は、炭素数1の化合物9(融点140℃)より高く、さらに、アルキル基の炭素数3~4の化合物2,6(融点148~155℃)は、炭素数1,5,8の化合物5,7,9(融点141,146,140℃)より高く、特に炭素数4の化合物2は融点が高い傾向を確認した。 Compounds 2,5,6,7,9 (melting point 140 to 155°C) has a higher melting point than Compound 1 where all R 1a are hydrogen atoms (melting point 136°C) and Compound 4 where R 1a is an alkoxy group (melting point 115°C). Compounds 2,5,6,7 (melting point 141-155°C) of ~8 are higher than compound 9 (melting point 140°C), which has 1 carbon number, and are furthermore compound 2,6 (melting point 140°C), which has 3-4 carbon atoms in the alkyl group. It was confirmed that the melting point (melting point 148 to 155°C) was higher than that of Compounds 5, 7, 9 (melting points 141, 146, 140°C) having 1, 5, and 8 carbon atoms, and in particular Compound 2 having 4 carbon atoms had a tendency to have a high melting point.

式(2-1)のチオアリール環基を導入した化合物1~12は、チオアルキル基を持つ化合物19と比較して、式(2-3)のA1cを導入し、q=0およびq=1のA2cが炭化水素基の化合物14,15は、A1cがアルキレン基の化合物21と比較して融点が高い傾向を示した。 Compounds 1 to 12 in which the thioaryl ring group of formula (2-1) has been introduced have A 1c of formula (2-3) introduced, and q=0 and q=1, compared to compound 19 having a thioalkyl group. Compounds 14 and 15, in which A 2c is a hydrocarbon group, tended to have higher melting points than Compound 21, in which A 1c was an alkylene group.

また、l=1または2でR1aが炭化水素基の化合物2,3,5~10(融点131~155℃)、R1aの全てが水素原子の化合物1(融点136℃)およびR1aがアルコキシ基の化合物4(融点115℃)と比較して、R1aがヒドロキシ基の化合物11(融点208℃)、化合物14(融点196℃)、化合物15(融点236℃)およびX1aがナフチル基の化合物12(融点161℃)、化合物18(融点176℃)の融点は高く、特に、ブリードアウト、加工性の面で有用性が高い。 In addition, compounds 2, 3, 5 to 10 (melting point 131 to 155°C) where l=1 or 2 and R 1a is a hydrocarbon group, compound 1 where all R 1a are hydrogen atoms (melting point 136°C), and R 1a are Compared to Compound 4 (melting point 115°C), which has an alkoxy group, Compound 11 (melting point 208°C), Compound 14 (melting point 196°C), Compound 15 (melting point 236°C), in which R 1a is a hydroxy group, and Compound 15 (melting point 236°C), and X 1a is a naphthyl group. The melting points of Compound 12 (melting point: 161°C) and Compound 18 (melting point: 176°C) are high, and they are particularly useful in terms of bleed-out and processability.

Figure 0007371847000026
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Figure 0007371847000027
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次に、上記で得た化合物を有機化合物Aとしてコーティング膜付きガラス板を作製し、評価した。評価項目は以下のとおりとした。
<光学特性>
光学特性は分光光度計(島津製作所製、UV-3100PC)を用いて測定した。測定した特性は、CIE標準のA光源を用いて測定するJIS R3212による可視光透過率YA、ISO9050(1990年度版)に従って算出した紫外線透過率TUV380、ISO13837(convention A)に従って算出した紫外線透過率TUV400、前述のJIS T7330の青色光障害関数に基づき算出したブルーライトカット率BLcut、CIE標準のC光源を用いて測定する透過光のJIS Z8729によるL***表色系、CIE標準のC光源を用いて測定する透過光のJIS K7373(2006)による黄色度YI、CIE標準のC光源を用いて測定する透過光のJIS Z8701(1999)による主波長および刺激純度、波長1500nmにおける光線透過率T1500である。なお、TUV380は波長280~380nmにおける光線の透過率に基づいて、TUV400は波長300~400nmにおける光線の透過率に基づいて、ブルーライトカット率は波長380~500nmにおける光線の透過率に基づいて、それぞれ算出される値である。
Next, a glass plate with a coating film was prepared using the compound obtained above as organic compound A, and evaluated. The evaluation items were as follows.
<Optical properties>
The optical properties were measured using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, UV-3100PC). The measured characteristics are visible light transmittance YA according to JIS R3212 measured using CIE standard A light source, ultraviolet transmittance T UV 380 calculated according to ISO9050 (1990 edition), and ultraviolet transmittance calculated according to ISO13837 (convention A). rate T UV 400, blue light cut rate BLcut calculated based on the blue light disturbance function of JIS T7330 mentioned above, L * a * b * color system according to JIS Z8729 of transmitted light measured using CIE standard C light source, Yellowness YI according to JIS K7373 (2006) of transmitted light measured using CIE standard C light source, dominant wavelength and stimulus purity according to JIS Z8701 (1999) of transmitted light measured using CIE standard C light source, wavelength 1500 nm The light transmittance is T1500 at . Note that T UV 380 is based on the transmittance of light in the wavelength range of 280 to 380 nm, T UV 400 is based on the transmittance of light in the wavelength of 300 to 400 nm, and blue light cut rate is the transmittance of light in the wavelength of 380 to 500 nm. These are the values calculated based on the respective values.

<耐光性(耐紫外線特性)>
耐光性(耐紫外線特性)は、岩崎電気社製の紫外線照射装置(EYE SUPER UV TESTER SUV-W13)を用い、波長295~450nm、照度76mW/cm2、ブラックパネル温度83℃、湿度50%RHの条件を適用し、所定時間(100時間)、紫外線を、ガラス板の膜が形成されていない面からコーティング膜付きガラス板に照射することにより実施した。同試験前後の光学特性(YA、TUV400)を測定し、その変化(ΔYA、ΔTUV400)を算出した。
<Light resistance (UV resistance)>
Light resistance (ultraviolet ray resistance) was measured using an ultraviolet irradiation device (EYE SUPER UV TESTER SUV-W13) manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd., at a wavelength of 295 to 450 nm, an illumination intensity of 76 mW/cm 2 , a black panel temperature of 83°C, and a humidity of 50% RH. The test was carried out by applying ultraviolet rays to the coated glass plate from the surface of the glass plate on which the film was not formed for a predetermined period of time (100 hours). The optical properties (YA, T UV 400) before and after the same test were measured, and the changes (ΔYA, ΔT UV 400) were calculated.

(実施例1)
実施例1では有機化合物Aとして化合物16を用いた。具体的には、有機化合物Aである紫外線遮蔽成分を分散質として含み、水を分散媒とする分散液(紫外線遮蔽成分含有率10重量%、平均粒径100nm)を準備した。なお、有機化合物Aは、予め、上記平均粒径となるように、ペイントコンディショナーを用い、ジルコニアビーズと共に混合して粉砕したものを用いた。この分散液と共に、純水、エチルアルコール、テトラエトキシシラン(TEOS)、シランカップリング剤であるグリシドキシプロピルトリメトキシシラン(GPTMS;3-グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン)、ポリオール化合物であるトリエチレングリコール(TEG)、ポリエーテル化合物であるポリエーテルリン酸エステル系ポリマー(日本ルーブリゾール製ソルスパース41000)、ITO微粒子分散液(ITO微粒子を40質量%含むエチルアルコール溶液;三菱マテリアル製;平均粒径(公称)100nm以下)、濃塩酸(35質量%)を混合、攪拌し、コーティング膜の膜形成溶液を得た。TEGおよびソルスパースは有機化合物Cに相当する。膜形成溶液は、各成分の濃度(含有率)が表2の値となるように調製した。表2には、後述する実施例および比較例で調製した膜形成溶液における各成分の濃度も併せて示す。
(Example 1)
In Example 1, Compound 16 was used as the organic compound A. Specifically, a dispersion containing an ultraviolet shielding component, which is organic compound A, as a dispersoid and using water as a dispersion medium (ultraviolet shielding component content: 10% by weight, average particle size: 100 nm) was prepared. The organic compound A was mixed with zirconia beads using a paint conditioner and pulverized in advance so as to have the above-mentioned average particle size. Along with this dispersion, pure water, ethyl alcohol, tetraethoxysilane (TEOS), a silane coupling agent glycidoxypropyltrimethoxysilane (GPTMS; 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane), and a polyol compound triethylene Glycol (TEG), polyether phosphate ester polymer (Solsperse 41000 manufactured by Nippon Lubrizol), ITO fine particle dispersion (ethyl alcohol solution containing 40% by mass of ITO fine particles; manufactured by Mitsubishi Materials; average particle size ( (nominal) 100 nm or less) and concentrated hydrochloric acid (35% by mass) were mixed and stirred to obtain a film-forming solution for a coating film. TEG and Solsperse correspond to organic compound C. The film-forming solution was prepared so that the concentration (content) of each component was as shown in Table 2. Table 2 also shows the concentrations of each component in the film forming solutions prepared in Examples and Comparative Examples described below.

次いで、洗浄したソーダ石灰ケイ酸塩ガラス基板(市販のUVカットグリーンガラス100×100mm、厚さ3.1mm)上に、湿度30%、室温下でこの形成溶液をフローコート法にて塗布した。そのまま室温で約5分程度乾燥した後、予め65℃に昇温したオーブンに投入して15分加熱し、その後冷却して、コーティング膜を形成した。この加熱において、膜付きガラス板の温度は有機化合物の融点を上回ることはなかった。 Next, this forming solution was applied onto a washed soda lime silicate glass substrate (commercially available UV cut green glass 100 x 100 mm, thickness 3.1 mm) at 30% humidity and room temperature using a flow coating method. After drying as it was at room temperature for about 5 minutes, it was placed in an oven preheated to 65° C., heated for 15 minutes, and then cooled to form a coating film. During this heating, the temperature of the glass plate with the film did not exceed the melting point of the organic compound.

なお、用いたUVカットグリーンガラスは、波長380nmにおける光線透過率(T380)が40%、波長550nmにおける光線透過率(T550)が77%である。このUVカットグリーンガラス板は、Fe23に換算した全酸化鉄を0.9質量%程度含有している。 The UV cut green glass used has a light transmittance (T380) of 40% at a wavelength of 380 nm and a light transmittance (T550) of 77% at a wavelength of 550 nm. This UV-cut green glass plate contains about 0.9% by mass of total iron oxide converted to Fe 2 O 3 .

こうして得たコーティング膜付きガラス板について、上記測定を実施した。結果を表2に示す。表2には、後述する実施例および比較例で作製したコーティング膜付きガラス板についての測定結果も示す。 The above measurements were carried out on the glass plate with the coating film thus obtained. The results are shown in Table 2. Table 2 also shows measurement results for glass plates with coating films produced in Examples and Comparative Examples described below.

(実施例2~16)
紫外線遮蔽成分の種類および添加量を表2に示したように調整したことを除いては、実施例1と同様にしてコーティング膜付きガラス板を得た。
(Examples 2 to 16)
A glass plate with a coating film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the type and amount of the ultraviolet shielding component were adjusted as shown in Table 2.

ただし、実施例5では、紫外線遮蔽成分として、有機化合物A(化合物19)と共に有機化合物Bを用いた。有機化合物BとしてはTINUVIN360(チバスペシャリティケミカルズ株式会社製;融点195℃)を用いた。TINUVIN360も、予め上記平均粒径となるように、ペイントコンディショナーを用い、ジルコニアビーズと共に混合して粉砕したものを用いた。TINUVIN360は、上記式(3)において、2つの2-フェニルベンゾトリアゾール骨格がB2に結合したメチレン基により互いに結合した形態を有し、2つの2-フェニルベンゾトリアゾール骨格には、B1としてヒドロキシ基、B4として1,1,3,3-テトラメチルブチル基、B3、B5、B6~B9として水素原子が接続している。 However, in Example 5, organic compound B was used together with organic compound A (compound 19) as the ultraviolet shielding component. As the organic compound B, TINUVIN360 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.; melting point 195°C) was used. TINUVIN360 was also mixed with zirconia beads using a paint conditioner and pulverized in advance so as to have the above average particle size. In the above formula (3), TINUVIN360 has a form in which two 2-phenylbenzotriazole skeletons are bonded to each other through a methylene group bonded to B 2 , and the two 2-phenylbenzotriazole skeletons have hydroxyl as B 1 . A 1,1,3,3-tetramethylbutyl group is connected as the group B 4 , and a hydrogen atom is connected as B 3 , B 5 , B 6 to B 9 .

実施例によっては、有機化合物Cとして、TEGに代えてソルビトールポリグリシジルエーテル(DEN;ナガセケムテックス株式会社製デナコールEX-614)を用いた。ソルビトールポリグリシジルエーテルは、ポリエポキシ化合物であり、膜中ではグリシジル基の反応によって生成したヒドロキシ基を有するポリオール化合物となる。 In some examples, sorbitol polyglycidyl ether (DEN; Denacol EX-614 manufactured by Nagase ChemteX Co., Ltd.) was used as the organic compound C in place of TEG. Sorbitol polyglycidyl ether is a polyepoxy compound, and in the membrane becomes a polyol compound having a hydroxyl group produced by reaction of glycidyl groups.

また、実施例12~14では、加熱乾燥工程におけるオーブンの温度を180℃として有機化合物Aの融点よりも高くした。このため、実施例12~14では有機化合物Aが溶解して膜に添加された。 Further, in Examples 12 to 14, the temperature of the oven in the heat drying step was set to 180° C., which was higher than the melting point of organic compound A. Therefore, in Examples 12 to 14, organic compound A was dissolved and added to the film.

(比較例1)
紫外線遮蔽成分の種類および添加量を表2に示したように調整したことを除いては、実施例1と同様にしてコーティング膜付きガラス板を得た。比較例1では、紫外線遮蔽成分として有機化合物Bのみを添加している。
(Comparative example 1)
A glass plate with a coating film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the type and amount of the ultraviolet shielding component were adjusted as shown in Table 2. In Comparative Example 1, only organic compound B was added as an ultraviolet shielding component.

(比較例2)
紫外線遮蔽成分の種類および添加量を表2に示したように調整したことを除いては、実施例1と同様にしてコーティング膜付きガラス板を得た。比較例2では、有機化合物Aに代えて、ベンゾフェノン骨格を有する紫外線遮蔽成分であるUvinul3050(BASFジャパン株式会社製)を用いた。Uvinul3050は予めエチルアルコールに溶かして膜形成溶液に添加した。また、有機化合物Cとして、ソルスパースに代えて(ポリエーテル変性シリコーン、東レ・ダウコーニング株式会社製)を用いた。
(Comparative example 2)
A glass plate with a coating film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the type and amount of the ultraviolet shielding component were adjusted as shown in Table 2. In Comparative Example 2, instead of organic compound A, Uvinul 3050 (manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), which is an ultraviolet shielding component having a benzophenone skeleton, was used. Uvinul3050 was dissolved in ethyl alcohol in advance and added to the film forming solution. Furthermore, as the organic compound C, Solsperse (polyether-modified silicone, manufactured by Dow Corning Toray Co., Ltd.) was used.

Figure 0007371847000028
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Figure 0007371847000029
Figure 0007371847000029

比較例1からは低いTUV400が得られず、比較例2からは低いTUV400が得られたが黄色度YIが高くなった。一方、各実施例では、黄色系への顕著な着色を抑制しながらTUV400を低下させることができた。また、実施例1~2と実施例12~13との対比から、有機化合物Aを微粒子として添加すると膜の耐光性が向上することが確認できた。また、化合物2、6、7(実施例3~11、16)のように、チオ有機基が、水素原子の置換基として分岐を有する鎖状アルキル基が接続したチオアリール環基を有する有機化合物Aを用いると、これらの化合物単体での長波長紫外線の遮蔽特性や耐光性が必ずしも優れているわけではないのに、膜のΔTUV400を十分に抑制できた(表3:0.1~1.4)。これらの化合物は、ガラス板上のコーティング膜への添加に特に適している。 A low T UV 400 was not obtained from Comparative Example 1, and a low T UV 400 was obtained from Comparative Example 2, but the yellowness index YI was high. On the other hand, in each of the Examples, T UV 400 was able to be lowered while suppressing noticeable yellow coloration. Further, from a comparison between Examples 1 and 2 and Examples 12 and 13, it was confirmed that the addition of organic compound A as fine particles improved the light resistance of the film. In addition, as in Compounds 2, 6, and 7 (Examples 3 to 11, and 16), an organic compound A in which the thioorganic group has a thioaryl ring group to which a branched chain alkyl group is connected as a substituent for the hydrogen atom When using these compounds, the ΔT UV 400 of the film could be sufficiently suppressed, although these compounds alone do not necessarily have excellent long-wavelength ultraviolet shielding properties or light resistance (Table 3: 0.1 to 1). .4). These compounds are particularly suitable for addition to coating films on glass plates.

紫外線の照射強度を比較すると、化合物単体(42J/m2)よりも膜(760J/m2)への照射が桁違いに強い(ガラス板のTUV400が24.6%であることを考慮すると膜には紫外線の1/4程度が到達することになるが、これを考慮しても、膜にはより強い紫外線が照射されている)。紫外線照射の際の温度を比較しても、化合物単体(63℃)よりも膜(83℃)が高い(一般に有機材料の劣化は10℃ごとに約2倍促進されることから、膜には約4倍の劣化が進行する条件が適用されている)。以上を考慮すると、特にコーティング膜中で有機化合物Aを微粒子の状態で保持すると、有機化合物Aの劣化が十分に抑制されることが理解できる。とりわけ、化合物2、6、7(実施例3~11、16)については、ΔTUV400が化合物単体の特性からは想定できない程度に極めて低いレベルに抑制されている。 Comparing the irradiation intensity of ultraviolet rays, the irradiation of the film (760 J/m 2 ) is orders of magnitude stronger than that of the compound itself (42 J/m 2 ) (taking into account that the T UV 400 of the glass plate is 24.6%) This means that about 1/4 of the ultraviolet light reaches the film, but even taking this into account, the film is still irradiated with stronger ultraviolet light). Comparing the temperature during ultraviolet irradiation, the film (83°C) is higher than the compound alone (63°C) (generally, the deterioration of organic materials accelerates about twice as much for every 10°C, so the film has (Conditions are applied where the deterioration progresses approximately four times as much.) Considering the above, it can be understood that deterioration of the organic compound A is sufficiently suppressed, especially when the organic compound A is kept in the form of fine particles in the coating film. In particular, for Compounds 2, 6, and 7 (Examples 3 to 11, and 16), the ΔT UV 400 was suppressed to an extremely low level that could not be expected from the characteristics of the compounds alone.

なお、各実施例から得たコーティング膜付きガラス板について、理学電機社製RAD-RC装置によりX線回折パターンを観測したところ、ITOと、有機化合物の微粒子が含まれる実施例からはその微粒子と、に帰属される鋭い回折ピーク、および広い範囲にわたるハローパターンが観測された。この結果から、各コーティング膜はガラス質であることが確認された。 In addition, when the X-ray diffraction pattern was observed using a RAD-RC device manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd. for the glass plate with the coating film obtained from each example, it was found that from the examples containing ITO and fine particles of an organic compound, the fine particles and A sharp diffraction peak attributed to , and a halo pattern over a wide range were observed. From this result, it was confirmed that each coating film was glassy.

1 ガラス板
2 コーティング膜
1 Glass plate 2 Coating film

Claims (13)

紫外線吸収能を付与する添加剤を含有するガラス質コーティング膜付き輸送機材用ガラス板であって、
ガラス板と、前記ガラス板の主表面に接したコーティング膜と、を有し、
前記コーティング膜が、主成分である酸化ケイ素と、前記添加剤と、を含み、
前記添加剤が、式(2-1)により示される、水素原子の置換基を有していてもよいチオアリール環基を有する2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体である有機化合物Aを含む、ガラス板。
PhBzT1a-S-X1a-(R1al (2-1)
(式中、PhBzT1aは、前記置換基を有していてもよい、チオアリール環基(-S-X1a-…)が結合した2-フェニルベンゾトリアゾール骨格を示し、X1aはフェニル環の残基を示し、R1aは、それぞれ独立に四級炭素を含む炭素数4~9の分岐を有する炭化水素基を示し、lは1~5の整数を示す。)
A glass plate for transportation equipment with a vitreous coating film containing an additive that imparts ultraviolet absorption ability,
comprising a glass plate and a coating film in contact with the main surface of the glass plate,
The coating film contains silicon oxide as a main component and the additive,
A glass plate, wherein the additive includes an organic compound A represented by formula (2-1), which is a 2-phenylbenzotriazole derivative having a thioaryl ring group that may have a substituent for a hydrogen atom.
PhBzT 1a -S-X 1a -(R 1a ) l (2-1)
(In the formula, PhBzT 1a represents a 2-phenylbenzotriazole skeleton to which a thioaryl ring group (-S-X 1a -...), which may have the above-mentioned substituents, is bonded, and X 1a represents the remainder of the phenyl ring. R 1a each independently represents a branched hydrocarbon group having 4 to 9 carbon atoms containing a quaternary carbon, and 1 represents an integer of 1 to 5.)
波長295~450nm、照度76mW/cm2の紫外線を100時間照射した後の紫外線透過率TUV400から前記紫外線を照射する前の紫外線透過率TUV400を差し引いた差分ΔTUV400が2%以下である、請求項に記載のガラス板。 The difference ΔT UV 400 obtained by subtracting the ultraviolet transmittance T UV 400 before irradiating the ultraviolet rays from the ultraviolet transmittance T UV 400 after irradiating ultraviolet rays with a wavelength of 295 to 450 nm and an illuminance of 76 mW/cm 2 for 100 hours is 2% or less. The glass plate according to claim 1 . 前記有機化合物Aが、平均粒径が150nm以下の微粒子の形態を有する、請求項1または2に記載のガラス板。 The glass plate according to claim 1 or 2 , wherein the organic compound A has the form of fine particles with an average particle size of 150 nm or less. ISO13837(convention A)に従って算出したTUV400が2%以下であり、CIE標準のA光源を用いて測定する可視光透過率YAが70%以上である、請求項1~のいずれか1項に記載のガラス板。 Any one of claims 1 to 3 , wherein the T UV 400 calculated according to ISO 13837 (convention A) is 2% or less, and the visible light transmittance YA measured using a CIE standard A light source is 70% or more. The glass plate described in. 前記2-フェニルベンゾトリアゾール骨格のベンゾトリアゾール骨格に接続しているフェニル基が、2位にヒドロキシ基を5位に炭素数1~6のアルキル基をそれぞれ有する、請求項1~のいずれか1項に記載のガラス板。 Any one of claims 1 to 4, wherein the phenyl group connected to the benzotriazole skeleton of the 2-phenylbenzotriazole skeleton has a hydroxy group at the 2-position and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms at the 5 -position, respectively. The glass plate described in section. 前記2-フェニルベンゾトリアゾール骨格の前記フェニル基が、2位にヒドロキシ基を5位にメチル基をそれぞれ有する、請求項に記載のガラス板。 The glass plate according to claim 5 , wherein the phenyl group of the 2-phenylbenzotriazole skeleton has a hydroxy group at the 2-position and a methyl group at the 5-position. 前記コーティング膜が、有機化合物Bをさらに含み、
前記有機化合物Bが、2-フェニルベンゾトリアゾール骨格を含み、2-フェニルベンゾトリアゾール骨格にチオ有機基が接続されていない分子構造を有する、請求項1~のいずれか1項に記載のガラス板。
The coating film further includes an organic compound B,
The glass plate according to any one of claims 1 to 6 , wherein the organic compound B has a molecular structure that includes a 2-phenylbenzotriazole skeleton and has no thioorganic group connected to the 2-phenylbenzotriazole skeleton. .
前記有機化合物Bが、平均粒径が150nm以下の微粒子の形態を有する、請求項に記載のガラス板。 The glass plate according to claim 7 , wherein the organic compound B has the form of fine particles with an average particle size of 150 nm or less. CIE標準のC光源からの透過光がL***表色系により表示して、-15以上0以下のa*と12以下のb*とを有する、請求項1~のいずれか1項に記載のガラス板。 Any one of claims 1 to 8 , wherein the transmitted light from the CIE standard C light source has a* of -15 or more and 0 or less and b* of 12 or less as expressed by the L * a * b * color system. The glass plate according to item 1. CIE標準のC光源からの透過光のJIS K7373:2006に規定された黄色度YIが14以下である、請求項1~のいずれか1項に記載のガラス板。 The glass plate according to any one of claims 1 to 9 , wherein the yellowness YI defined in JIS K7373:2006 of transmitted light from a CIE standard C light source is 14 or less. 紫外線吸収能を付与する添加剤を含有するガラス質コーティング膜付き輸送機材用ガラス板用のコーティング膜形成用組成物であって、
酸化ケイ素前駆体と、前記添加剤である有機化合物Aとを含み、
前記有機化合物Aが、微粒子の形態を有し、
前記有機化合物Aが、式(2-1)により示される、水素原子の置換基を有していてもよいチオアリール環基を有する2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体である、コーティング膜形成用組成物。
PhBzT1a-S-X1a-(R1al (2-1)
(式中、PhBzT1aは、前記置換基を有していてもよい、チオアリール環基(-S-X1a-…)が結合した2-フェニルベンゾトリアゾール骨格を示し、X1aはフェニル環の残基を示し、R1aは、それぞれ独立に四級炭素を含む炭素数4~9の分岐を有する炭化水素基を示し、lは1~5の整数を示す。)
A composition for forming a coating film for a glass plate for transportation equipment with a vitreous coating film containing an additive that imparts ultraviolet absorption ability,
containing a silicon oxide precursor and the organic compound A as the additive,
The organic compound A has the form of fine particles,
A composition for forming a coating film, wherein the organic compound A is a 2-phenylbenzotriazole derivative having a thioaryl ring group optionally having a substituent for a hydrogen atom, represented by formula (2-1).
PhBzT 1a -S-X 1a -(R 1a ) l (2-1)
(In the formula, PhBzT 1a represents a 2-phenylbenzotriazole skeleton to which a thioaryl ring group (-S-X 1a -...), which may have the above-mentioned substituents, is bonded, and X 1a represents the remainder of the phenyl ring. R 1a each independently represents a branched hydrocarbon group having 4 to 9 carbon atoms containing a quaternary carbon, and 1 represents an integer of 1 to 5.)
前記微粒子の平均粒径が150nm以下である、請求項11に記載のコーティング膜形成用組成物。 The composition for forming a coating film according to claim 11 , wherein the fine particles have an average particle size of 150 nm or less. 紫外線吸収能を付与する添加剤を含有するガラス質コーティング膜付き輸送機材用ガラス板に用いる微粒子分散組成物であって、
前記添加剤である有機化合物Aを含み、
前記有機化合物Aが、平均粒径が150nm以下の微粒子の形態を有し、
前記有機化合物Aが、式(2-1)により示される、水素原子の置換基を有していてもよいチオアリール環基を有する2-フェニルベンゾトリアゾール誘導体である、微粒子分散組成物。
PhBzT1a-S-X1a-(R1al (2-1)
(式中、PhBzT1aは、前記置換基を有していてもよい、チオアリール環基(-S-X1a-…)が結合した2-フェニルベンゾトリアゾール骨格を示し、X1aはフェニル環の残基を示し、R1aは、それぞれ独立に四級炭素を含む炭素数4~9の分岐を有する炭化水素基を示し、lは1~5の整数を示す。)
A fine particle dispersion composition for use in a glass plate for transportation equipment with a vitreous coating film containing an additive that imparts ultraviolet absorption ability,
Containing the organic compound A as the additive,
The organic compound A has the form of fine particles with an average particle size of 150 nm or less,
A fine particle dispersion composition in which the organic compound A is a 2-phenylbenzotriazole derivative having a thioaryl ring group optionally having a substituent for a hydrogen atom, represented by formula (2-1).
PhBzT 1a -S-X 1a -(R 1a ) l (2-1)
(In the formula, PhBzT 1a represents a 2-phenylbenzotriazole skeleton to which a thioaryl ring group (-S-X 1a -...), which may have the above-mentioned substituents, is bonded, and X 1a represents the remainder of the phenyl ring. R 1a each independently represents a branched hydrocarbon group having 4 to 9 carbon atoms containing a quaternary carbon, and 1 represents an integer of 1 to 5.)
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