JP7353157B2 - Laser processing method - Google Patents
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Description
本発明は、被加工物を加工するレーザー加工方法に関する。 The present invention relates to a laser processing method for processing a workpiece.
被加工物を所望の形状に形成するために、被加工物に対して透過性を有する波長のレーザービームを照射して分割起点を形成し、外力を付与して分割するレーザー加工方法が知られている(特許文献1及び特許文献2参照)。
In order to form a workpiece into a desired shape, a laser processing method is known in which the workpiece is irradiated with a laser beam of a transparent wavelength to form a division starting point, and the workpiece is divided by applying an external force. (See
しかしながら、特許文献1及び特許文献2に示されたレーザー加工方法は、被加工物がレンズのような曲率を有するものであったり、バンプのような曲率を有するものが被加工物の加工予定ライン上に存在する場合、レーザービームが屈折してしまい所望の位置に分割起点を形成するのが困難となるため、分割不良が発生し品質が低下するという課題があった。
However, in the laser processing methods shown in
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、曲率を有する被加工物の分割不良を抑制することができるレーザー加工方法を提供することである。 The present invention has been made in view of such problems, and an object thereof is to provide a laser processing method that can suppress division defects of a workpiece having a curvature.
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明のレーザー加工方法は、曲率を有する被加工物を所望の形状に形成するレーザー加工方法であって、該被加工物を保持する保持ステップと、該保持ステップの後、該被加工物の曲率を有する面が平坦になるように、レーザービームが透過する材料で被覆する被覆ステップと、該被覆ステップの後、該被加工物の該レーザービームが透過する材料で被覆された側から、該材料および該被加工物に対して透過性を有する波長のレーザービームを照射し該被加工物に所定のレーザー加工を施すレーザー加工ステップと、該レーザー加工ステップの後、該被加工物に対して外力を付与して分割する分割ステップと、を含むことを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problems and achieve the objects, the laser processing method of the present invention is a laser processing method for forming a workpiece having a curvature into a desired shape, the method comprising: a holder for holding the workpiece; a coating step of coating the workpiece with a material through which the laser beam passes so that the curved surface of the workpiece becomes flat after the holding step; a laser processing step of irradiating the material and the workpiece with a laser beam of a wavelength that is transparent from the side coated with the material through which the laser beam passes, and performing a predetermined laser processing on the workpiece; After the laser processing step, the method includes a dividing step of applying an external force to the workpiece to divide it.
前記レーザー加工方法は、該分割ステップの前または後に、該被加工物の曲率を有する面に被覆された材料を該被加工物から剥離する剥離ステップを含んでも良い。 The laser processing method may include, before or after the dividing step, a peeling step of peeling off a material coated on a curved surface of the workpiece from the workpiece.
前記レーザー加工方法は、該レーザー加工ステップでは、該被加工物の内部に細孔と該細孔を囲繞する非晶質とを形成しても良い。 In the laser processing method, in the laser processing step, a pore and an amorphous material surrounding the pore may be formed inside the workpiece.
本願発明は、曲率を有する被加工物の分割不良を抑制することができるという効果を奏する。 The present invention has the effect of being able to suppress poor division of a workpiece having a curvature.
本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。 DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Modes (embodiments) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited to the contents described in the following embodiments. Further, the constituent elements described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the configurations described below can be combined as appropriate. Further, various omissions, substitutions, or changes in the configuration can be made without departing from the gist of the present invention.
〔実施形態1〕
本発明の実施形態1に係るレーザー加工方法を図面に基づいて説明する。まず、実施形態1に係るレーザー加工方法の加工対象の被加工物1を説明する。図1は、実施形態1に係るレーザー加工方法の加工対象の被加工物を示す斜視図である。図2は、図1中のII-II線に沿う断面図である。
[Embodiment 1]
A laser processing method according to
(被加工物)
実施形態1に係るレーザー加工方法の加工対象の被加工物1は、図1及び図2に示すように、一方の表面2と、一方の表面2の裏側の他方の表面3との双方が曲率を有する曲面に形成されている。即ち、両表面2,3は、曲率を有する面である。実施形態1では、被加工物1は、透光性を有する材料で構成され、両表面2,3が凸の曲面に形成されているとともに平面形状が円形の凸レンズである。実施形態1では、被加工物1は、ガラスにより構成され、厚みが300μm以上でかつ1mm以下である。また、本発明では、被加工物1の両表面2,3の中心を通る断面において、両表面2,3の曲率の中心を通る直線を、被加工物1の軸心4(図1及び図2中に一点鎖線で示す)と記す。
(Workpiece)
As shown in FIGS. 1 and 2, the
(レーザー加工方法)
実施形態1に係るレーザー加工方法は、被加工物1の平面形状を所望の形状に形成する方法である。実施形態1では、レーザー加工方法は、被加工物1の平面形状を四角形(実施形態1では、正方形)に形成する方法であるが、本発明では、被加工物1を形成する所望の形状は、四角形に限定されない。実施形態1では、レーザー加工方法は、図1中の直線状の点線で示す加工予定ライン5に沿って被加工物1の外縁部を切断する方法である。実施形態1は、加工予定ライン5は、4本設定されている。
(Laser processing method)
The laser processing method according to the first embodiment is a method for forming the planar shape of the
図3は、実施形態1に係るレーザー加工方法の流れを示すフローチャートである。実施形態1に係るレーザー加工方法は、図3に示すように、保持ステップST1と、被覆ステップST2と、レーザー加工ステップST3と、分割ステップST4と、剥離ステップST5とを含む。次に、実施形態1に係るレーザー加工方法の各ステップを説明する。 FIG. 3 is a flowchart showing the flow of the laser processing method according to the first embodiment. As shown in FIG. 3, the laser processing method according to the first embodiment includes a holding step ST1, a covering step ST2, a laser processing step ST3, a dividing step ST4, and a peeling step ST5. Next, each step of the laser processing method according to the first embodiment will be explained.
(保持ステップ)
図4は、図3に示されたレーザー加工方法の保持ステップを一部断面で示す側面図である。保持ステップST1は、被加工物1を保持テーブル10(図4に示す)上に保持するステップである。
(holding step)
FIG. 4 is a side view, partially in section, showing the holding step of the laser processing method shown in FIG. The holding step ST1 is a step of holding the
実施形態1において、保持テーブル10は、外径が被加工物1の直径よりも大きな円盤状のテーブル本体11と、テーブル本体11の外縁部に設けられたリング状の保持部材13とを備える。テーブル本体11は、上面12が水平方向に沿って平坦に形成されている。保持部材13は、内外径が被加工物1の直径よりも小さく形成され、テーブル本体11の上面12上にテーブル本体11と同軸となる位置に配置されている。また、実施形態1では、保持部材13の断面形状は、上方に向けて凸の半円に形成されている。実施形態1において、保持ステップST1では、保持テーブル10の保持部材13上に被加工物1の他方の表面3の外縁部を載置して、軸心4が上面12に対して直交しかつ保持テーブル10と同軸となる位置に被加工物1を保持する。なお、本発明では、保持テーブル10の形状は、実施形態1に記載されたものに限らず、例えば、被加工物1の形状に倣って形を変化させる素材(スポンジやゲルなど)で構成された保持テーブル等でもよい。
In the first embodiment, the holding table 10 includes a disk-shaped table
(被覆ステップ)
図5は、図3に示されたレーザー加工方法の被覆ステップの被加工物の一方の表面上に液状の被覆部材を滴下する状態を一部断面で示す側面図である。図6は、図3に示されたレーザー加工方法の被覆ステップの被加工物の一方の表面上に滴下された被覆部材に押圧部材を対向させた状態を一部断面で示す側面図である。図7は、図3に示されたレーザー加工方法の被覆ステップの被加工物の一方の表面上の液状の被覆部材を平坦に形成した状態を一部断面で示す側面図である。図8は、図7に示された被覆部材と被加工物の屈折率を説明する断面図である。
(Coating step)
FIG. 5 is a side view, partially in cross section, showing a state in which a liquid coating member is dropped onto one surface of a workpiece in the coating step of the laser processing method shown in FIG. FIG. 6 is a side view, partially in cross section, showing a state in which a pressing member is opposed to a coating member dropped onto one surface of a workpiece in the coating step of the laser processing method shown in FIG. FIG. 7 is a side view, partially in section, showing a state in which the liquid coating member on one surface of the workpiece is formed flat in the coating step of the laser processing method shown in FIG. FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating the refractive index of the covering member and the workpiece shown in FIG. 7.
被覆ステップST2は、保持ステップST1の後、被加工物1(図5、図6及び図7に示す)の曲率を有する一方の表面2側が平坦になるように、レーザービーム20(図8に示す)が透過する材料である被覆部材30で被覆するステップである。被覆ステップST2では、被加工物1の一方の表面2上に塗布ノズル31を位置付けた後、図5に示すように、塗布ノズル31から液状の被覆部材30を滴下して、図6に示すように、一方の表面2の全体を被覆部材30で覆う。
In the coating step ST2, after the holding step ST1, a laser beam 20 (as shown in FIG. 8) is applied so that one
被覆部材30は、紫外線が照射されると硬化するとともに、少なくとも硬化後に透光性を有して被加工物1に対して透過性を有する波長(実施形態1では、1030nm)のレーザービーム20を透過するものである。即ちレーザービーム20は、硬化後の被覆部材30および被加工物1に対して透過性を有する波長を有する。なお、滴下された被覆部材30は、表面張力により図5及び図6に示すように、被加工物1の一方の表面2全体を覆うこととなる。また、本発明では、被覆部材30は、滴下した時点で被加工物1の一方の表面2全体を覆っていなくても、図6に示す押圧部材32で押し広げることで、被加工物1の一方の表面2全体を覆う状態にしてもよい。実施形態1において、被覆部材30は、デンカ株式会社製のテンプロック(登録商標)であるが、本発明では、これに限定されない。
The coating
被覆ステップST2では、滴下された被覆部材30が被加工物1の一方の表面2全体を覆うと、図6に示すように、被覆部材30を介して一方の表面2上に押圧部材32を位置付ける。押圧部材32は、被覆部材30を介して一方の表面2と対向する下面33が平坦に形成され、実施形態1では、下面33が保持部材13に保持された被加工物1の軸心4に対して直交している。被覆ステップST2では、押圧部材32を下降させて、下面33を被覆部材30に押圧して、図7に示すように、被覆部材30の上面34を平坦に形成する。なお、本発明では、液状の被覆部材30は、所定の粘度を有している。所定の粘度とは、滴下や押圧によって被加工物1上から垂れてしまうことを防止できる程度の粘度であり、液状の被覆部材30が所定の粘度を有するのは、滴下や押圧によって被加工物1上から垂れてしまうと、平坦な面を形成することが出来ない為である。被覆ステップST2では、被覆部材30に紫外線を照射して、上面34が平坦な状態で被覆部材30を硬化させる。なお、実施形態1では、被覆部材30の上面34は、軸心4に対して直交している。
In the covering step ST2, when the dropped covering
また、本発明では、硬化後の被覆部材30の屈折率(絶対屈折率)は、被加工物1の屈折率(絶対屈折率)と同等である。硬化後の被覆部材30の屈折率が被加工物1の屈折率と同等であるとは、図8に示すように、平坦な上面34から被覆部材30に入射して被覆部材30及び被加工物1を透過し、被加工物1内に集光するレーザービーム20の集光点21が、水平方向(上面34に平行な方向又は軸心4に対して直交する方向)において、上面34のレーザービーム20が入射する範囲22内に位置することをいう。または、本発明では、硬化後の被覆部材30の屈折率が被加工物1の屈折率と同等であるとは、改質層(改質領域)等の形成位置(深さ位置)が狙った位置の±10μm以内に収まっていることをいう。なお、実施形態1では、硬化後の被覆部材30の屈折率と被加工物1の屈折率とは、ともに、1.5程度である。
Further, in the present invention, the refractive index (absolute refractive index) of the
(レーザー加工ステップ)
図9は、図3に示されたレーザー加工方法のレーザー加工ステップにおいて加工予定ラインの一端にレーザービーム照射ユニットを位置付けた状態を一部断面で示す側面図である。図10は、図9に示された加工予定ラインの他端に対向する位置までレーザービーム照射ユニットを移動させた状態を一部断面で示す側面図である。図11は、図10中のXI部を示す断面図である。図12は、図11に示された被加工物に形成されたシールドトンネルの構成を模式的に示す斜視図である。
(Laser processing step)
FIG. 9 is a side view, partially in cross section, showing a state in which the laser beam irradiation unit is positioned at one end of the processing line in the laser processing step of the laser processing method shown in FIG. FIG. 10 is a side view, partially in section, showing a state in which the laser beam irradiation unit has been moved to a position opposite to the other end of the planned processing line shown in FIG. FIG. 11 is a sectional view showing section XI in FIG. 10. FIG. 12 is a perspective view schematically showing the configuration of a shield tunnel formed in the workpiece shown in FIG. 11.
レーザー加工ステップST3は、被覆ステップST2の後、被加工物1のレーザービーム20が被覆部材30で被覆された側から、被覆部材30および被加工物1に対して透過性を有する波長のレーザービーム20を照射し被加工物1に所定のレーザー加工を施すステップである。実施形態1において、レーザー加工ステップST3では、被加工物1に加工予定ライン5に沿って図9に示すレーザービーム20を照射して、所定のレーザー加工として、加工予定ライン5に沿って分割起点である図10に示すシールドトンネル40を形成する加工を被加工物1に施す。
In the laser processing step ST3, after the coating step ST2, the
実施形態1において、レーザー加工ステップST3では、各加工予定ライン5に沿ってレーザービーム20を照射する際には、図9に示すように、加工予定ライン5の一端部上にレーザービーム20を照射するレーザービーム照射ユニット24を位置付け、レーザービーム照射ユニット24が照射するレーザービーム20の集光点21を被加工物1内に設定する。なお、実施形態1では、レーザービーム照射ユニット24が、集光点21を被加工物1内でかつ他方の表面3の近傍に設定するが、一方の表面2の近傍に設定されてもよく、また、一度の加工で被加工物1の厚み方向に十分な加工を施せない場合、集光位置を変えて複数回加工を実施してもよい。また、本発明では、レーザービーム照射ユニット24が球面レンズ又は複数のレンズを備えて、集光点21を被加工物1の内部で軸心4に沿って延在させて集光領域を形成しても良い。
In the first embodiment, in the laser processing step ST3, when irradiating the
実施形態1において、レーザー加工ステップST3では、レーザービーム照射ユニット24からパルス状のレーザービーム20を照射しながら被加工物1とレーザービーム照射ユニット24とを加工予定ライン5に沿って相対的に移動させて、レーザービーム照射ユニット24を加工予定ライン5の他端部上に向けて移動させる。実施形態1において、レーザー加工ステップST3では、図10に示すように、加工予定ライン5の他端部上にレーザービーム照射ユニット24が位置すると、被加工物1とレーザービーム照射ユニット24との相対的な移動、及びレーザービーム20の照射を停止する。
In the first embodiment, in the laser processing step ST3, the
実施形態1において、レーザー加工ステップST3では、被加工物1の内部に加工予定ライン5に沿って図11及び図12に示す細孔41と細孔41を囲繞する非晶質42とを有するシールドトンネル40を複数形成する。細孔41及び非晶質42は、レーザービーム20の集光点21が位置付けられた他方の表面3側からレーザービーム20が入射する被覆部材30の上面34に亘って形成され、細孔41が軸心4と平行に延在しかつ上面34と他方の表面3とに亘って被覆部材30及び被加工物1を貫通しているとともに、非晶質42が、他方の表面3と上面34とに亘って細孔41の周囲に形成される。シールドトンネル40は、加工予定ライン5に沿って所定の間隔をあけて複数形成される。
In the first embodiment, in the laser processing step ST3, a shield having a
なお、実施形態1では、図12に示すように、細孔41の内径411は、1μm程度であり、非晶質42の外径421は、5μm程度である。互いに隣り合う非晶質42同士の間隔は、10μm程度であり、互いに隣り合うシールドトンネル40の非晶質42同士がつながっている。
In the first embodiment, as shown in FIG. 12, the
(分割ステップ)
図13は、図3に示されたレーザー加工方法の分割ステップにおいて被加工物をエキスパンド装置に保持した状態の断面図である。図14は、図3に示されたレーザー加工方法の分割ステップにおいて加工予定ラインに沿って被加工物を分割した状態の断面図である。分割ステップST4は、レーザー加工ステップST3の後、被加工物1に対して外力を付与して加工予定ライン5に沿って分割するステップである。
(split step)
FIG. 13 is a cross-sectional view of the workpiece held in the expanding device in the dividing step of the laser processing method shown in FIG. FIG. 14 is a cross-sectional view of the workpiece divided along the planned processing line in the dividing step of the laser processing method shown in FIG. The dividing step ST4 is a step of applying an external force to the
実施形態1において、分割ステップST4では、被加工物1を保持テーブル10から取り外し、被加工物1よりも大径の円板状の粘着テープ14の外周縁を環状フレーム15に貼着するとともに、粘着テープ14の中央部に被加工物1を被覆した被覆部材30の上面34を貼着する。分割ステップST4では、エキスパンド装置50のフレーム載置プレート51に粘着テープ14を介して環状フレーム15を載置し、エキスパンド装置50が、図13に示すように、クランプ部52でフレーム載置プレート51上の環状フレーム15をクランプする。なお、このとき、実施形態1では、エキスパンド装置50は、拡張ドラム53の上端をフレーム載置プレート51の表面と同一平面上に位置付けて、拡張ドラム53の上端を粘着テープ14に当接させる。
In the first embodiment, in the dividing step ST4, the
実施形態1において、分割ステップST4では、エキスパンド装置50は、図14に示すように、図示しない昇降シリンダで拡張ドラム53を上昇させて、粘着テープ14の外周縁に貼着された環状フレーム15と被加工物1とをこれらの厚み方向に相対的に移動させる。すると、粘着テープ14に拡張ドラム53の上端が当接するために、粘着テープ14が面方向に拡張されて、粘着テープ14に外力である放射状の引張力が作用する。
In the first embodiment, in the dividing step ST4, the expanding
被加工物1を被覆した被覆部材30の上面34に貼着された粘着テープ14に放射状に引張力が作用すると、被加工物1にも引張力が作用する。被加工物1は、レーザー加工ステップST3において加工予定ライン5に沿って所定の間隔をあけてシールドトンネル40が形成されているために、図14に示すように、シールドトンネル40を起点に破断して、加工予定ライン5に沿って分割される。なお、実施形態1において、分割ステップST4において、拡張ドラム53を上昇させて粘着テープ14を拡張したが、本発明は、これに限定されることなく、フレーム載置プレート51を下降させても良く、要するに、拡張ドラム53をフレーム載置プレート51に対して相対的に上昇させ、フレーム載置プレート51を拡張ドラム53に対して相対的に下降させれば良い。
When a tensile force acts radially on the
(剥離ステップ)
図15は、図3に示されたレーザー加工方法の剥離ステップを模式的に示す断面図である。図16は、図3に示されたレーザー加工方法の剥離ステップ後の被加工物の斜視図である。剥離ステップST5は、分割ステップST4の後に、被加工物1の一方の表面2に被覆された被覆部材30を被加工物1から剥離するステップである。
(Peeling step)
FIG. 15 is a cross-sectional view schematically showing the peeling step of the laser processing method shown in FIG. 3. 16 is a perspective view of the workpiece after the peeling step of the laser processing method shown in FIG. 3. FIG. The peeling step ST5 is a step in which the covering
剥離ステップST5では、外縁部が分割された被加工物1を粘着テープ14からピックアップし、図15に示すように、被加工物1を温水槽60内の常温よりも高温に加熱された温水61に浸漬する。すると、被覆部材30が被加工物1の一方の表面2から剥離する。なお、本発明では、被加工物1を温水61に浸漬して被覆部材30を剥離したが、本発明は、被加工物1を薬液に浸漬して被覆部材30を剥離しても良い。被覆部材30が剥離した後、温水槽60内から取り出されて、図16に示す外縁部が除去された被加工物1が得られる。
In the peeling step ST5, the
以上、説明したように、実施形態1に係るレーザー加工方法は、被覆ステップST2において被加工物1の曲率を有する一方の表面2を被覆部材30で被覆して被覆部材30の上面34を平坦に形成するので、レーザー加工ステップST3においてレーザービーム20を照射する際に集光点21を所望の位置に位置付けて、分割起点であるシールドトンネル40を所望の位置に形成することができる。その結果、実施形態1に係るレーザー加工方法は、被加工物1の分割不良の発生及び品質の低下を抑制でき、表面2,3に曲率を有する被加工物1の分割不良を抑制することができるという効果を奏する。
As described above, in the laser processing method according to the first embodiment, in the covering step ST2, one
また、実施形態1に係るレーザー加工方法は、硬化後の被覆部材30の屈折率と被加工物1の屈折率とが同等であるため、所望の位置に分割起点であるシールドトンネル40を形成することができる。
Further, in the laser processing method according to the first embodiment, since the refractive index of the
〔実施形態2〕
本発明の実施形態2に係るレーザー加工方法を図面に基づいて説明する。図17は、実施形態2に係るレーザー加工方法の流れを示すフローチャートである。なお、図17は、実施形態1と同一部分に同一符号を付して説明を省略する。
[Embodiment 2]
A laser processing method according to
実施形態2に係るレーザー加工方法は、剥離ステップST5を分割ステップST4の前に実施すること以外、実施形態1と同じである。実施形態2に係るレーザー加工方法は、剥離ステップST5は、分割ステップST4の前に、実施形態1と同様に、被加工物1の一方の表面2に被覆された被覆部材30を被加工物1から剥離する。
The laser processing method according to the second embodiment is the same as the first embodiment except that the peeling step ST5 is performed before the dividing step ST4. In the laser processing method according to the second embodiment, in the peeling step ST5, before the dividing step ST4, the coating
実施形態2に係るレーザー加工方法は、被覆ステップST2において被加工物1の曲率を有する一方の表面2を被覆部材30で被覆して被覆部材30の上面34を平坦に形成するので、分割起点であるシールドトンネル40を所望の位置に形成することができ、実施形態1と同様に、表面2,3に曲率を有する被加工物1の分割不良を抑制することができるという効果を奏する。
In the laser processing method according to the second embodiment, in the coating step ST2, one
〔実施形態3〕
本発明の実施形態3に係るレーザー加工方法を図面に基づいて説明する。図18は、実施形態3に係るレーザー加工方法の加工対象の被加工物を示す斜視図である。図19は、図18に示された被加工物の要部の断面図である。
[Embodiment 3]
A laser processing method according to
実施形態3に係るレーザー加工方法は、加工対象の被加工物1-3が異なる事以外、実施形態1及び実施形態2と同様である。
The laser processing method according to
実施形態3に係るレーザー加工方法の加工対象の被加工物1-3は、シリコン、サファイア、SiC(炭化ケイ素)又はガリウムヒ素等を基板70とする円板状の半導体ウエーハ、光デバイスウエーハ等のウエーハである。被加工物1-3は、図18に示すように、基板70の表面71に格子状に形成される複数の加工予定ライン72によって区画された各領域にデバイス73が形成されている。デバイス73は、IC(Integrated Circuit)、あるいやLSI(Large Scale Integration)等の集積回路である。実施形態3では、被加工物1-3は、図19に示すように、デバイス73の表面に球状のバンプ74が複数搭載されている。バンプ74は、デバイス73の表面から突出している。被加工物1-3は、デバイス73の表面に球状のバンプ74を搭載することによって曲率を有する曲面が形成されている。実施形態3に係るレーザー加工方法の加工対象の被加工物1-3は、加工予定ライン72の近傍にバンプ74のような曲率を有する面が形成されていると、レーザービーム20を集光する際にバンプ74に当たってしまう場合がある。これにより、レーザービーム20が屈折してしまうため、所望の位置(深さ)に加工できない場合がある。
The workpiece 1-3 to be processed in the laser processing method according to the third embodiment is a disk-shaped semiconductor wafer, an optical device wafer, etc. whose
実施形態3に係るレーザー加工方法は、被覆ステップST2において被加工物1の曲率を有する一方の表面2を被覆部材30で被覆して被覆部材30の上面34を平坦に形成するので、分割起点であるシールドトンネル40を所望の位置に形成することができ、実施形態1と同様に、表面2,3に曲率を有する被加工物1の分割不良を抑制することができるという効果を奏する。
In the laser processing method according to the third embodiment, in the coating step ST2, one
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。実施形態では、所定のレーザー加工として、加工予定ライン5に沿って所定の間隔をあけてシールドトンネル40を形成する加工を施したが、本発明は、これに限定されずに、加工予定ライン5に沿って被加工物1の内部に改質層を形成する加工を施しても良い。なお、改質層とは、密度、屈折率、機械的強度やその他の物理的特性が周囲のそれとは異なる状態になった領域のことを意味し、溶融処理領域、クラック領域、絶縁破壊領域、屈折率変化領域、及びこれらの領域が混在した領域等を例示できる。改質層は、被加工物1の他の部分よりも機械的な強度が低い。
Note that the present invention is not limited to the above embodiments. That is, various modifications can be made without departing from the gist of the invention. In the embodiment, the
また、本発明は、保持部材13の構成が実施形態に記載されたものに限定されずに、他方の表面3側を前述した実施形態と同様に保持できるものであれば良い。また、本発明は、エキスパンド装置50が粘着テープ14を拡張するものに限定されずに、例えば、加工予定ライン5に沿って分割するブレーキング装置でも良い。
Further, in the present invention, the structure of the holding
1 被加工物
2 一方の表面(曲率を有する面)
3 他方の表面(曲率を有する面)
20 レーザービーム
30 被覆部材(レーザービームが透過する材料)
41 細孔
42 非晶質
ST1 保持ステップ
ST2 被覆ステップ
ST3 レーザー加工ステップ
ST4 分割ステップ
ST5 剥離ステップ
1
3 Other surface (surface with curvature)
20
41
Claims (3)
該被加工物を保持する保持ステップと、
該保持ステップの後、該被加工物の曲率を有する面が平坦になるように、レーザービームが透過する材料で被覆する被覆ステップと、
該被覆ステップの後、該被加工物の該レーザービームが透過する材料で被覆された側から、該材料および該被加工物に対して透過性を有する波長のレーザービームを照射し該被加工物に所定のレーザー加工を施すレーザー加工ステップと、
該レーザー加工ステップの後、該被加工物に対して外力を付与して分割する分割ステップと、
を含むことを特徴とする、レーザー加工方法。 A laser processing method for forming a workpiece having a curvature into a desired shape, the method comprising:
a holding step of holding the workpiece;
After the holding step, a coating step of coating the workpiece with a material that is transparent to the laser beam so that the curved surface of the workpiece is flat;
After the coating step, the workpiece is irradiated with a laser beam having a wavelength that is transparent to the material and the workpiece from the side of the workpiece coated with the material through which the laser beam is transmitted. a laser processing step for performing predetermined laser processing on the
After the laser processing step, a dividing step of applying an external force to the workpiece to divide it;
A laser processing method characterized by comprising:
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