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JP7340954B2 - Exhaust gas purification device and its manufacturing method - Google Patents

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JP7340954B2 JP2019087527A JP2019087527A JP7340954B2 JP 7340954 B2 JP7340954 B2 JP 7340954B2 JP 2019087527 A JP2019087527 A JP 2019087527A JP 2019087527 A JP2019087527 A JP 2019087527A JP 7340954 B2 JP7340954 B2 JP 7340954B2
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Description

本発明は、排ガス浄化装置及びその製造方法に関する。 The present invention relates to an exhaust gas purification device and a manufacturing method thereof.

一般的に、排ガス浄化装置は、コージェライト等で構成されたハニカム基材上に触媒層が形成される。触媒層は、貴金属触媒粒子、貴金属触媒粒子を担持する担体粒子、及び助触媒粒子を含む。助触媒粒子の1つとして、酸素貯蔵能(OSC)を有するセリア-ジルコニア複合酸化物を用いることが知られている。 Generally, in an exhaust gas purification device, a catalyst layer is formed on a honeycomb base material made of cordierite or the like. The catalyst layer includes noble metal catalyst particles, carrier particles supporting the noble metal catalyst particles, and promoter particles. It is known to use ceria-zirconia composite oxide having oxygen storage capacity (OSC) as one of the co-catalyst particles.

近年、助触媒粒子のセリア-ジルコニア複合酸化物粒子を、触媒層で用いるのではなく、ハニカム基材の構成材料の1種として用いることが検討されている。例えば、特許文献1は、ハニカム基材がセリア-ジルコニア複合酸化物粒子を含む、排ガス浄化装置を開示している。この排ガス浄化装置には、触媒層が存在しておらず、貴金属を含む溶液にハニカム基材を含浸させることによって、貴金属触媒粒子をハニカム基材に直接添着している。このような排ガス浄化装置は、触媒層が存在していないため熱容量が小さく、ハニカム基材の温度を上昇させやすく、高い暖機性能を得ることができる。 In recent years, consideration has been given to using ceria-zirconia composite oxide particles as co-catalyst particles not in the catalyst layer but as one of the constituent materials of the honeycomb base material. For example, Patent Document 1 discloses an exhaust gas purification device in which a honeycomb base material contains ceria-zirconia composite oxide particles. This exhaust gas purification device does not have a catalyst layer, and noble metal catalyst particles are directly attached to the honeycomb base material by impregnating the honeycomb base material with a solution containing the noble metal. Since such an exhaust gas purification device does not have a catalyst layer, its heat capacity is small, and the temperature of the honeycomb base material can be easily increased and high warm-up performance can be obtained.

このようなハニカム基材及び排ガス浄化装置は、特許文献2及び3においても開示されている。 Such a honeycomb base material and an exhaust gas purification device are also disclosed in Patent Documents 2 and 3.

なお、一般的なコージェライト等で構成されたハニカム基材に触媒層を形成するためのコーティング方法として、特許文献4及び5に記載のような方法が知られている。 Incidentally, as a coating method for forming a catalyst layer on a honeycomb base material made of general cordierite or the like, methods such as those described in Patent Documents 4 and 5 are known.

特開2015-85241号公報Japanese Patent Application Publication No. 2015-85241 特開2015-77543号公報Japanese Patent Application Publication No. 2015-77543 特開2016-34781号公報JP2016-34781A 特開2008-302304号公報Japanese Patent Application Publication No. 2008-302304 国際公開第2010/114132号International Publication No. 2010/114132

本発明は、高い排ガス浄化性能を有し、かつセリア-ジルコニア複合酸化物粒子を構成材料の1種として含むハニカム基材を使用した排ガス浄化装置を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide an exhaust gas purification device that has high exhaust gas purification performance and uses a honeycomb base material containing ceria-zirconia composite oxide particles as one of the constituent materials.

本発明者らは、以下の態様を有する本発明により、上記課題を解決できることを見出した。
《態様1》
多孔質壁で隔てられた複数の排ガス流路を有するハニカム基材、及び前記ハニカム基材に担持されている1種又は2種以上の触媒貴金属を有する排ガス浄化装置であって、
前記ハニカム基材は、セリア-ジルコニア複合酸化物粒子を構成材料の1種として含み、
前記触媒貴金属は、白金、パラジウム、及びロジウムから成る群から選択され、かつ
前記ハニカム基材は、
前記1種又は2種以上の触媒貴金属のうちの1種である特定貴金属についての、貴金属50質量%担持深さが、前記多孔質壁の表面から前記多孔質壁の内部の中心までの距離の50%未満である貴金属濃化表面部を有しており、
前記貴金属50質量%担持深さは、前記多孔質壁の表面から前記多孔質壁の内部の中心までに担持されている前記特定貴金属の量を基準として、前記特定貴金属の50質量%が担持されている深さである、
排ガス浄化装置。
《態様2》
前記特定貴金属が、白金又はパラジウムである、態様1に記載の排ガス浄化装置。
《態様3》
前記特定貴金属が、白金又はパラジウムであり、
前記触媒貴金属がロジウムを含む、
態様2に記載の排ガス浄化装置。
《態様4》
前記ハニカム基材は、前記排ガス流路の入口側から、前記ハニカム基材の全長に対して60%以下の入口側部と、それ以外の本体部とから構成されており、前記貴金属濃化表面部が、前記本体部に少なくとも存在している、態様1~3のいずれか一項に記載の排ガス浄化装置。
《態様5》
前記ハニカム基材を構成する前記入口側部の長さが、前記ハニカム基材の全長に対して10%以上である、態様4に記載の排ガス浄化装置。
《態様6》
前記ハニカム基材は、前記排ガス流路の入口側から30mm以下の入口側部と、それ以外の本体部とから構成されており、前記貴金属濃化表面部が、前記本体部に少なくとも存在している、態様1~5のいずれか一項に記載の排ガス浄化装置。
《態様7》
前記ハニカム基材を構成する前記入口側部の長さが10mm以上である、態様6に記載の排ガス浄化装置。
《態様8》
前記ハニカム基材の前記入口側部に担持されている前記特定貴金属の量が、前記本体部に担持されている前記特定貴金属の量よりも多い、態様4~7のいずれか一項に記載の排ガス浄化装置。
《態様9》
前記ハニカム基材の入口側部における、前記特定貴金属についての貴金属50質量%担持深さが、前記本体部の前記特定貴金属についての貴金属50質量%担持深さよりも大きい、態様4~8のいずれか一項に記載の排ガス浄化装置。
《態様10》
前記ハニカム基材の気孔率が、30~70%である、態様1~9のいずれか一項に記載の排ガス浄化装置。
《態様11》
前記排ガス流路の少なくとも一部が触媒層を有していない、態様1~10のいずれか一項に記載の排ガス浄化装置。
《態様12》
以下の(a)~(c)を少なくとも含む、排ガス浄化装置の製造方法:
(a)多孔質壁で隔てられた複数の排ガス流路を有するハニカム基材の一方の開口側から、1種又は2種以上の触媒貴金属の塩及び増粘剤を含む溶液を提供すること、ここで前記溶液は、せん断速度380s-1における粘度が10~400mPaであり、前記触媒貴金属は、白金、パラジウム、及びロジウムから成る群から選択される;
(b)前記提供された溶液を、前記ハニカム基材の前記溶液が提供された方とは反対の開口側から吸引すること及び/又は前記ハニカム基材の前記溶液が提供された方の開口側から圧送すること;及び
(c)前記ハニカム基材を乾燥及び/又は焼成すること。
《態様13》
さらに、以下の(d)を含む、態様12に記載の方法:
(d)前記ハニカム基材の排ガス流路の入口からその全長の30mm以下の入口側部を含むように、前記触媒貴金属の塩を含む溶液に前記ハニカム基材を浸漬した後、前記ハニカム基材を乾燥及び/又は焼成し、それにより前記入口側部に担持されている前記触媒貴金属の量を、前記入口側部以外の本体部に担持されている前記触媒貴金属の量よりも多くすること。
The present inventors have discovered that the above problems can be solved by the present invention having the following aspects.
Aspect 1》
An exhaust gas purification device comprising a honeycomb base material having a plurality of exhaust gas flow paths separated by a porous wall, and one or more catalytic noble metals supported on the honeycomb base material,
The honeycomb base material includes ceria-zirconia composite oxide particles as one type of constituent material,
the catalytic noble metal is selected from the group consisting of platinum, palladium, and rhodium, and the honeycomb substrate comprises:
The 50% by mass support depth of the noble metal for the specific noble metal that is one of the one or more catalytic noble metals is equal to the distance from the surface of the porous wall to the center of the inside of the porous wall. having a precious metal enriched surface area of less than 50%;
The 50% by mass supported noble metal depth is defined as the depth at which 50% by mass of the specific noble metal is supported, based on the amount of the specific noble metal supported from the surface of the porous wall to the center of the inside of the porous wall. The depth of
Exhaust gas purification equipment.
Aspect 2》
The exhaust gas purification device according to aspect 1, wherein the specific noble metal is platinum or palladium.
《Aspect 3》
The specific precious metal is platinum or palladium,
the catalytic noble metal includes rhodium;
The exhaust gas purification device according to aspect 2.
《Aspect 4》
The honeycomb base material is composed of an inlet side part that accounts for 60% or less of the total length of the honeycomb base material from the inlet side of the exhaust gas flow path, and the other body part, and the noble metal enriched surface The exhaust gas purification device according to any one of aspects 1 to 3, wherein the exhaust gas purification device is present at least in the main body portion.
《Aspect 5》
The exhaust gas purification device according to aspect 4, wherein the length of the inlet side portion constituting the honeycomb base material is 10% or more of the total length of the honeycomb base material.
《Aspect 6》
The honeycomb base material is composed of an inlet side part that is 30 mm or less from the inlet side of the exhaust gas flow path and the other main body part, and the noble metal enriched surface part is present at least in the main body part. The exhaust gas purification device according to any one of aspects 1 to 5, wherein
《Aspect 7》
The exhaust gas purification device according to aspect 6, wherein the length of the inlet side portion constituting the honeycomb base material is 10 mm or more.
《Aspect 8》
According to any one of aspects 4 to 7, the amount of the specific noble metal supported on the inlet side portion of the honeycomb base material is greater than the amount of the specific noble metal supported on the main body portion. Exhaust gas purification equipment.
《Aspect 9》
Any one of aspects 4 to 8, wherein a 50% by mass support depth of the specific noble metal on the inlet side of the honeycomb base material is greater than a 50% by mass support depth of the specific noble metal in the main body. The exhaust gas purification device according to item 1.
Aspect 10》
The exhaust gas purification device according to any one of aspects 1 to 9, wherein the honeycomb base material has a porosity of 30 to 70%.
《Aspect 11》
The exhaust gas purification device according to any one of aspects 1 to 10, wherein at least a portion of the exhaust gas flow path does not have a catalyst layer.
《Aspect 12》
A method for manufacturing an exhaust gas purification device, including at least the following (a) to (c):
(a) providing a solution containing one or more catalytic noble metal salts and a thickener from one open side of a honeycomb substrate having a plurality of exhaust gas channels separated by porous walls; wherein the solution has a viscosity of 10 to 400 mPa at a shear rate of 380 s −1 and the catalytic noble metal is selected from the group consisting of platinum, palladium, and rhodium;
(b) suctioning the provided solution from an opening side of the honeycomb substrate opposite to the side to which the solution was provided and/or an opening side of the honeycomb substrate to which the solution was provided; and (c) drying and/or firing the honeycomb substrate.
《Aspect 13》
The method according to aspect 12, further comprising (d):
(d) After immersing the honeycomb base material in a solution containing the salt of the catalytic noble metal so as to include the inlet side part of the exhaust gas flow path of the honeycomb base material within 30 mm or less of the total length thereof, the honeycomb base material drying and/or calcining, thereby increasing the amount of the catalytic noble metal supported on the inlet side portion than the amount of the catalytic noble metal supported on the main body portion other than the inlet side portion.

図1(a)は、本発明の排ガス浄化装置の一態様を概略的に示した斜視図である。図1(b)は、本発明の排ガス浄化装置の一態様を概略的に示した側面断面図である。FIG. 1(a) is a perspective view schematically showing one embodiment of the exhaust gas purification device of the present invention. FIG. 1(b) is a side sectional view schematically showing one embodiment of the exhaust gas purification device of the present invention. 図2は、本発明の排ガス浄化装置のハニカム基材の多孔質壁を拡大して概略的に示した図である。FIG. 2 is an enlarged view schematically showing the porous wall of the honeycomb base material of the exhaust gas purification device of the present invention.

《排ガス浄化装置》
本発明の排ガス浄化装置は、多孔質壁で隔てられた複数の排ガス流路を有するハニカム基材、及びハニカム基材に担持されている1種又は2種以上の触媒貴金属を有する。
《Exhaust gas purification device》
The exhaust gas purification device of the present invention includes a honeycomb base material having a plurality of exhaust gas flow paths separated by a porous wall, and one or more catalytic noble metals supported on the honeycomb base material.

本発明の排ガス浄化装置における触媒貴金属は、白金族元素であってよく、具体的には例えば、白金、パラジウム、及びロジウムから成る群から選択される1種又は2種以上であってよい。本発明における触媒貴金属は、白金及び/又はパラジウムを含む貴金属であってよく、白金又はパラジウムを含む貴金属であってよく、白金及び/又はパラジウムとロジウムとを含む貴金属であってよく、特に、白金又はパラジウムと、ロジウムとを含む貴金属であってよい。 The catalytic noble metal in the exhaust gas purification device of the present invention may be a platinum group element, specifically, for example, one or more selected from the group consisting of platinum, palladium, and rhodium. The catalytic noble metal in the present invention may be a noble metal containing platinum and/or palladium, may be a noble metal containing platinum or palladium, may be a noble metal containing platinum and/or palladium, and rhodium, particularly platinum. Alternatively, it may be a noble metal containing palladium and rhodium.

本発明の排ガス浄化装置におけるハニカム基材は、
セリア-ジルコニア複合酸化物粒子を構成材料の1種として含んでおり、かつ
1種又は2種以上の触媒貴金属のうちの1種である特定貴金属についての、貴金属50質量%担持深さが多孔質壁の表面から前記多孔質壁の内部の中心までの距離の50%未満である、貴金属濃化表面部を有している。
The honeycomb base material in the exhaust gas purification device of the present invention is
A porous material containing ceria-zirconia composite oxide particles as one of the constituent materials and having a supporting depth of 50% by mass of a specific noble metal that is one of one or more catalytic noble metals. The noble metal enriched surface area is less than 50% of the distance from the surface of the wall to the center of the interior of the porous wall.

本発明者らは、セリア-ジルコニア複合酸化物粒子を構成材料の1種として含むハニカム基材に貴金属触媒粒子を担持させる検討を行っていたところ、触媒貴金属の塩を含む溶液の粘度を調整してハニカム基材に塗工することによって、これらの触媒貴金属粒子が担持される基材表面からの深さが変わることを発見した。それに対して、本発明者らが検討したところ、特許文献1に記載の方法では、すなわち、例えばパラジウム塩の溶液にハニカム基材を含浸させることによってパラジウムをハニカム基材に担持させる方法では、ハニカム基材の内部にまで均一にパラジウムが担持されていることがわかった。 The present inventors were considering supporting noble metal catalyst particles on a honeycomb base material containing ceria-zirconia composite oxide particles as one of the constituent materials, and found that the viscosity of the solution containing the catalyst noble metal salt was adjusted. It was discovered that by coating the honeycomb substrate with catalytic metal particles, the depth from the substrate surface to which these catalytic precious metal particles are supported changes. On the other hand, the present inventors investigated and found that in the method described in Patent Document 1, for example, in the method of supporting palladium on a honeycomb base material by impregnating the honeycomb base material with a solution of palladium salt, the honeycomb base material It was found that palladium was evenly supported even inside the base material.

そこで、本発明者らは、触媒貴金属の塩を含む溶液の粘度を調整することで、基材の排ガス流路の表面近傍に高い濃度で触媒貴金属を担持させたところ、排ガス浄化装置の浄化率を向上できることを見出した。これは、触媒貴金属が、排ガス流路の表面に高い濃度で存在していることで、排ガスと触媒貴金属との接触確率が高くなったためと考えられる。 Therefore, by adjusting the viscosity of a solution containing salts of catalytic precious metals, the present inventors supported a high concentration of catalytic noble metals near the surface of the exhaust gas flow path of the base material. We found that it is possible to improve This is considered to be because the catalytic noble metal is present at a high concentration on the surface of the exhaust gas flow path, which increases the probability of contact between the exhaust gas and the catalytic noble metal.

本発明は、ハニカム基材は、1種又は2種以上の触媒貴金属のうちの1種である特定貴金属についての、貴金属50質量%担持深さが、多孔質壁の表面から多孔質壁の内部の中心までの距離の50%未満である貴金属濃化表面部を有していることを要件とする。 The present invention is characterized in that the honeycomb substrate has a specific noble metal, which is one of one or more catalytic noble metals, supported at a depth of 50% by mass from the surface of the porous wall to the inside of the porous wall. The requirement is that the noble metal-enriched surface area is less than 50% of the distance to the center of the metal.

本明細書において、「貴金属50質量%担持深さ」とは、任意の位置の、多孔質壁の表面から多孔質壁の内部の中心までに担持されている特定貴金属の量を基準として、特定貴金属の50質量%が担持されている深さである。図2に示すように、多孔質壁の表面から壁の中心までの間に、貴金属50質量%担持深さが存在している。特定貴金属が、多孔質壁の深さ方向に完全に均一の濃度で担持されている場合には、貴金属50質量%担持深さは、多孔質壁の表面から壁の中心までの間の中間位置の深さになる。貴金属50質量%担持深さが、壁の表面から壁の中心までの距離の50%よりも小さいこと(換言すると、壁の厚さの25%よりも小さいこと)は、多孔質壁の表面側に、より多くの特定貴金属が担持されていることを意味する。 In this specification, the "precious metal 50% by mass supported depth" refers to the amount of a specific noble metal supported from the surface of the porous wall to the center of the interior of the porous wall at an arbitrary position. This is the depth at which 50% by mass of the precious metal is supported. As shown in FIG. 2, there is a support depth of 50% by mass of noble metal between the surface of the porous wall and the center of the wall. When the specific noble metal is supported at a completely uniform concentration in the depth direction of the porous wall, the 50 mass% noble metal supported depth is the intermediate position between the surface of the porous wall and the center of the wall. depth. The fact that the 50 mass % noble metal support depth is less than 50% of the distance from the wall surface to the center of the wall (in other words, less than 25% of the wall thickness) means that This means that more specific precious metals are supported.

貴金属濃化表面部において、特定貴金属についての貴金属50質量%担持深さは、多孔質壁の表面から多孔質壁の内部の中心までの距離の50%未満、46%以下、40%以下、35%以下、30%以下、又は25%以下であってもよい。これらの数値を、多孔質壁の厚さ基準で表すと、貴金属濃化表面部において、特定貴金属についての貴金属50質量%担持深さは、多孔質壁の厚さの25%未満、23%以下、20%以下、17.5%以下、15%以下、又は12.5%以下であってもよい。具体的には、貴金属濃化表面部において、特定貴金属についての貴金属50質量%担持深さは、平均で、25μm以内、22.5μm以内、20μm以内、17.5μm以内、15μm以内、12.5μm以内、又は10μm以内であってもよい。 In the noble metal enriched surface portion, the depth of supporting 50% by mass of the specific noble metal is less than 50%, 46% or less, 40% or less, 35% of the distance from the surface of the porous wall to the center of the interior of the porous wall. % or less, 30% or less, or 25% or less. Expressing these values on the basis of the thickness of the porous wall, the depth at which 50% by mass of the specific precious metal is supported in the noble metal enriched surface area is less than 25% and 23% or less of the thickness of the porous wall. , 20% or less, 17.5% or less, 15% or less, or 12.5% or less. Specifically, in the noble metal enriched surface area, the depth of supporting 50% by mass of the specific noble metal is, on average, within 25 μm, within 22.5 μm, within 20 μm, within 17.5 μm, within 15 μm, and 12.5 μm. or within 10 μm.

貴金属濃化表面部において、特定貴金属についての貴金属50質量%担持深さは、3箇所以上の位置における平均値とすることができる。 In the noble metal enriched surface portion, the depth of supporting 50% by mass of a specific noble metal can be an average value at three or more positions.

貴金属濃化表面部は、ハニカム基材の排ガス流路の全体に渡って存在していてもよく、その一部に存在していてもよい。例えば、貴金属濃化表面部は、ハニカム基材の排ガス流路の全長の1/10以上、1/5以上、1/3以上、1/2以上又は2/3以上の長さにわたっていてもよく、2/3以下、1/2以下、1/3以下、1/5以下、又は1/10以下の長さにわたっていてもよい。 The noble metal enriched surface portion may be present throughout the exhaust gas flow path of the honeycomb base material, or may be present in a portion thereof. For example, the precious metal enriched surface portion may extend over 1/10 or more, 1/5 or more, 1/3 or more, 1/2 or more, or 2/3 or more of the total length of the exhaust gas flow path of the honeycomb base material. , 2/3 or less, 1/2 or less, 1/3 or less, 1/5 or less, or 1/10 or less.

ハニカム基材の排ガス流路の入口側から所定の長さまでの部分を、ハニカム基材の入口側部とし、それ以外の部分を、ハニカム基材の本体部と定義した場合、貴金属濃化表面部は、少なくとも本体部に存在していることが好ましい。ハニカム基材の入口側部の長さは、排ガス流路の全長の10%以上、20%以上、30%以上、40%以上、50%以上、又は60%以上であってよく、排ガス流路の全長の60%以下、50%以下、40%以下、30%以下、20%以下、又は10%以下であってよい。ハニカム基材の入口側部の長さは、例えば10mm以上であってよく、例えば30mm以下であってもよい。ガス流路の全長を80mmとした場合、入口側部の長さ10mmはガス流路全長の12.5%に相当入口側部の長さ30mmはガス流路全長の37.5%に相当する。 If the part of the honeycomb base material up to a predetermined length from the inlet side of the exhaust gas flow path is defined as the inlet side part of the honeycomb base material, and the other part is defined as the main body part of the honeycomb base material, the precious metal enriched surface part is preferably present at least in the main body. The length of the inlet side of the honeycomb base material may be 10% or more, 20% or more, 30% or more, 40% or more, 50% or more, or 60% or more of the total length of the exhaust gas flow path. It may be 60% or less, 50% or less, 40% or less, 30% or less, 20% or less, or 10% or less of the total length of. The length of the inlet side of the honeycomb substrate may be, for example, 10 mm or more, and may be, for example, 30 mm or less. When the total length of the gas flow path is 80 mm, the length of the inlet side of 10 mm corresponds to 12.5% of the total length of the gas flow path.The length of the inlet side of 30 mm corresponds to 37.5% of the total length of the gas flow path. .

貴金属濃化表面部における特定貴金属は、白金、パラジウム、及びロジウムから成る群から選択される1種であってよく、白金又はパラジウムであってよい。 The specific noble metal in the noble metal enriched surface portion may be one selected from the group consisting of platinum, palladium, and rhodium, and may be platinum or palladium.

また、本発明者らは、排ガスの入口側に多くの触媒貴金属を担持させることによって、本発明の排ガス浄化装置がより有利になることを見出した。排ガスの入口側に多くの触媒貴金属を担持させた場合、本発明の排ガス浄化装置の暖機性能を非常に高めることができた。これは、排ガス浄化装置は、その使用中に、入口側から温度が上がっていくため、入口側に触媒貴金属が多く存在していることで、運転初期においても比較的高い温度で、排ガスと触媒貴金属とを反応させることができ、より効果的に排ガスを浄化させることができると考えられる。 Further, the present inventors have found that the exhaust gas purification device of the present invention becomes more advantageous by supporting a large amount of catalytic noble metal on the exhaust gas inlet side. When a large amount of catalytic noble metal was supported on the exhaust gas inlet side, the warm-up performance of the exhaust gas purification device of the present invention could be greatly improved. This is because while the exhaust gas purification device is in use, the temperature rises from the inlet side, so the presence of a large amount of catalytic precious metals on the inlet side causes the exhaust gas and catalyst to remain at a relatively high temperature even in the early stages of operation. It is thought that it can react with precious metals and purify exhaust gas more effectively.

したがって、触媒貴金属は、ハニカム基材の入口側部に多く担持されていることが好ましく、入口側部に担持されている触媒貴金属の量は、本体部に担持されている触媒貴金属の量よりも多いことが好ましい。 Therefore, it is preferable that a large amount of the catalytic noble metal is supported on the inlet side of the honeycomb substrate, and the amount of the catalytic noble metal supported on the inlet side is greater than the amount of the catalytic noble metal supported on the main body. A large number is preferable.

例えば、入口側部に担持されている触媒貴金属の量は、本体部に担持されている触媒貴金属の量の、1.1倍以上、1.3倍以上、1.5倍以上、2.0倍以上、3.0倍以上、又は5.0倍以上であってもよく、10倍以下、5.0倍以下、3.0倍以下、又は2.0倍以下であってもよい。 For example, the amount of catalytic precious metal supported on the inlet side is 1.1 times or more, 1.3 times or more, 1.5 times or more, 2.0 times the amount of catalytic precious metal supported on the main body. It may be 10 times or more, 3.0 times or more, or 5.0 times or more, or 10 times or less, 5.0 times or less, 3.0 times or less, or 2.0 times or less.

さらに、排ガス浄化装置の入口側部では、本体部よりも、触媒貴金属を深い位置にまで担持させることが、特に効果的であることがわかった。これは、排ガス浄化装置の入口側部を流れる排ガスには、浄化すべき排ガス成分がより多く含まれているのに対して、本体部を流れる排ガスには、浄化すべき排ガス成分がより少なくなっていることから、入口側部において、ハニカム基材の多孔質壁の内部にまで触媒貴金属を担持させて排ガスをしっかりと浄化し、少なくとも本体部に存在する貴金属濃化表面部において、残りの排ガスを浄化することが、貴金属の分配の観点から有利であるためである。 Furthermore, it has been found that it is particularly effective to support the catalytic noble metal at a deeper position on the inlet side of the exhaust gas purification device than in the main body. This is because the exhaust gas flowing through the inlet side of the exhaust gas purification device contains more exhaust gas components that should be purified, whereas the exhaust gas flowing through the main body contains fewer exhaust gas components that should be purified. Therefore, at the inlet side, the catalyst precious metal is supported even inside the porous wall of the honeycomb base material to thoroughly purify the exhaust gas, and the remaining exhaust gas is purified at least on the precious metal enriched surface area in the main body. This is because purifying the precious metal is advantageous from the viewpoint of precious metal distribution.

したがって、入口側部の貴金属50質量%担持深さは、本体部の貴金属50質量%担持深さよりも大きいことが好ましく、例えば入口側部の貴金属50質量%担持深さは、本体部の貴金属50質量%担持深さの1.05倍、1.1倍、1.2倍、1.3倍、1.5倍、又は2.0倍であってもよく、3.0倍以下、2.5倍以下、2.0倍以下、又は1.5倍以下であってもよい。 Therefore, the depth of supporting 50% by mass of precious metal on the inlet side is preferably larger than the depth of supporting 50% by mass of precious metal on the main body. It may be 1.05 times, 1.1 times, 1.2 times, 1.3 times, 1.5 times, or 2.0 times, and not more than 3.0 times, 2. It may be 5 times or less, 2.0 times or less, or 1.5 times or less.

排ガス浄化装置の入口側部において、本体部よりも深い位置にまで担持させる触媒貴金属は、白金、パラジウム、及びロジウムから成る群から選択される1種であってよく、白金又はパラジウムであってよい。排ガス浄化装置の入口側部で本体部よりも深い位置にまで担持させる触媒貴金属は、基材の貴金属濃化表面部における特定貴金属と同種のものであってもよいし、異なる種類のものであっていてもよい。 The catalytic precious metal supported at a deeper position than the main body at the inlet side of the exhaust gas purification device may be one selected from the group consisting of platinum, palladium, and rhodium, and may be platinum or palladium. . The catalytic precious metal supported at a deeper position than the main body at the inlet side of the exhaust gas purification device may be of the same kind as the specific precious metal on the precious metal-enriched surface of the base material, or may be of a different kind. You can leave it there.

しかしながら、入口側部でハニカム基材の多孔質壁の内部にまで触媒貴金属を担持させて排ガスをしっかりと浄化し、次いで貴金属濃化表面部で残りの排ガスを浄化するとの観点からは、排ガス浄化装置の入口側部で本体部よりも深い位置にまで担持させる触媒貴金属は、貴金属濃化表面部における特定貴金属と同種のものであってよい。 However, from the viewpoint of thoroughly purifying the exhaust gas by supporting the catalytic noble metal inside the porous wall of the honeycomb base material at the inlet side, and then purifying the remaining exhaust gas at the precious metal enriched surface, it is difficult to purify the exhaust gas. The catalytic noble metal supported deeper than the main body on the inlet side of the device may be of the same type as the specific noble metal on the noble metal enriched surface.

したがって、
ハニカム基材の入口側部に担持されている特定貴金属の量は、本体部に担持されている特定貴金属の量よりも多くてよく、 ハニカム基材の入口側部における、前記特定貴金属についての貴金属50質量%担持深さが、前記本体部の前記特定貴金属についての貴金属50質量%担持深さよりも大きくてよい。
therefore,
The amount of the specific noble metal supported on the inlet side of the honeycomb base material may be greater than the amount of the specific noble metal supported on the main body, and the amount of the specific noble metal supported on the inlet side of the honeycomb base material is The 50% by mass support depth may be greater than the 50% by mass support depth of the noble metal for the specific noble metal of the main body.

図1(a)は、本発明の排ガス浄化装置の一態様を概略的に示した斜視図であり、図1(b)は、本発明の排ガス浄化装置の一態様を概略的に示した側面断面図である。排ガス浄化装置10は、ハニカム基材の多孔質壁1で隔てられた複数の排ガス流路2を有するハニカム基材を有する。ハニカム基材の排ガス流路2の入口側からその全長の例えば1/4以下を、ハニカム基材の入口側部aとし、それ以外の部分を、ハニカム基材の本体部bとすることができ、入口側部aに担持されている触媒貴金属、例えば白金及び/又はパラジウム、特に白金又はパラジウムの量は、本体部bに担持されている触媒貴金属、例えば白金及び/又はパラジウム、特に白金又はパラジウムの量よりも多いことが好ましい。図1(b)の破線の丸印を拡大した部分が、図2に示されている。 FIG. 1(a) is a perspective view schematically showing one embodiment of the exhaust gas purification device of the present invention, and FIG. 1(b) is a side view schematically showing one embodiment of the exhaust gas purification device of the present invention. FIG. The exhaust gas purification device 10 has a honeycomb base material having a plurality of exhaust gas passages 2 separated by a porous wall 1 of the honeycomb base material. For example, 1/4 or less of the total length from the inlet side of the exhaust gas flow path 2 of the honeycomb base material can be used as the inlet side part a of the honeycomb base material, and the other part can be used as the main body part b of the honeycomb base material. , the amount of the catalytic noble metal, such as platinum and/or palladium, in particular platinum or palladium, supported on the inlet side a is greater than the amount of the catalytic noble metal, such as platinum and/or palladium, in particular platinum or palladium, supported on the body part b. It is preferable that the amount is greater than the amount of . An enlarged portion of the broken line circle in FIG. 1(b) is shown in FIG.

〈ハニカム基材〉
本発明の排ガス浄化装置で用いられるハニカム基材は、セリア-ジルコニア複合酸化物粒子を構成材料の1種として含む。すなわち、そのハニカム基材は、現在用いられているようなコージェライト製のハニカム基材とは異なり、例えば、特許文献1~3に開示されているようなハニカム基材である。
<Honeycomb base material>
The honeycomb base material used in the exhaust gas purification device of the present invention contains ceria-zirconia composite oxide particles as one of its constituent materials. That is, the honeycomb base material is different from the currently used honeycomb base material made of cordierite, and is, for example, a honeycomb base material as disclosed in Patent Documents 1 to 3.

例えば、ハニカム基材は、セリア-ジルコニア複合酸化物粒子を20質量%以上、30質量%以上、40質量%以上、50質量%以上、60質量%以上、又は70質量%以上で含んでいてもよく、95質量%以下、90質量%以下、80質量%以下、70質量%以下、60質量%以下、50質量%以下、又は40質量%以下で含んでいてもよい。 例えば、ハニカム基材は、セリア-ジルコニア複合酸化物粒子を30質量%以上95質量%以下又は50質量%以上90質量%以下で含んでいてもよい。セリア-ジルコニア複合酸化物粒子は、排ガス浄化装置の分野において、酸素貯蔵材として用いられる粒子であり、セリアとジルコニアとの固溶体の粒子であってもよい。この固溶体には、さらにランタン(La)、イットリウム(Y)等の希土類元素が固溶していてもよい。 For example, the honeycomb base material may contain ceria-zirconia composite oxide particles in an amount of 20% by mass or more, 30% by mass or more, 40% by mass or more, 50% by mass or more, 60% by mass or more, or 70% by mass or more. It may be contained in an amount of 95% by mass or less, 90% by mass or less, 80% by mass or less, 70% by mass or less, 60% by mass or less, 50% by mass or less, or 40% by mass or less. For example, the honeycomb base material may contain ceria-zirconia composite oxide particles in an amount of 30% by mass to 95% by mass, or 50% by mass to 90% by mass. Ceria-zirconia composite oxide particles are particles used as an oxygen storage material in the field of exhaust gas purification devices, and may be particles of a solid solution of ceria and zirconia. This solid solution may further contain a rare earth element such as lanthanum (La) or yttrium (Y).

また、ハニカム基材は、従来技術において貴金属触媒粒子の担体として用いられていたような担体粒子、例えばアルミナ粒子を含んでいてもよく、さらにアルミナ、ジルコニア、イットリア、チタニア、シリカ等の無機バインダーを含んでいてもよい。さらに、ハニカム基材は、特許文献1に記載のようなθ層のアルミナ粒子、及び/又は特許文献2に記載のようなタングステン複合酸化物粒子を含んでいてもよい。 The honeycomb substrate may also contain carrier particles, such as alumina particles, such as those used in the prior art as carriers for noble metal catalyst particles, as well as inorganic binders such as alumina, zirconia, yttria, titania, and silica. May contain. Furthermore, the honeycomb base material may include alumina particles of the θ layer as described in Patent Document 1 and/or tungsten composite oxide particles as described in Patent Document 2.

ハニカム基材は、多孔質壁で隔てられた複数の排ガス流路を有する。排ガス流路は、各流路が直線状かつ平行に並んで、格子状に配置されている複数のセルを有し、これら複数のセルは、入り口側及び出口側の双方に開口している、いわゆるストレートフロー型のハニカム基材であってもよい。また、多孔質の隔壁によって区画された複数のセルを有し、これら複数のセルは、入口側が開口して出口側が封止された入口側セルと、出口側が開口して入口側が封止された出口側セルとから構成される、いわゆるウォールフロー型のハニカム基材であってもよい。 The honeycomb substrate has a plurality of exhaust gas channels separated by porous walls. The exhaust gas flow path has a plurality of cells arranged in a lattice shape with each flow path lined up linearly and in parallel, and these plurality of cells are open to both the inlet side and the outlet side. A so-called straight flow type honeycomb base material may also be used. In addition, it has a plurality of cells partitioned by porous partition walls, and these cells include an inlet side cell whose inlet side is open and an outlet side sealed, and an outlet side cell which is open and an inlet side sealed. It may be a so-called wall flow type honeycomb base material composed of outlet side cells.

排ガス流路の数は、セル数と呼ばれており、平方インチ当たりの排ガス流路の数で表される。ハニカム基材のセル数は、30セル/inch以上、50セル/inch以上、100セル/inch以上、200セル/inch以上、300セル/inch以上、400セル/inch以上、600セル/inch以上、又は800セル/inch以上であってもよく、1200セル/inch以下、1000セル/inch以下、800セル/inch以下、500セル/inch以下、又は300セル/inch以下であってもよい。例えば、ハニカム基材のセル数は、100セル/inch以上1200セル/inch以下、又は200セル/inch以上1000セル/inch以下であってもよい。 The number of exhaust gas passages is called the cell number and is expressed in the number of exhaust gas passages per square inch. The number of cells of the honeycomb base material is 30 cells/inch 2 or more, 50 cells/inch 2 or more, 100 cells/inch 2 or more, 200 cells/inch 2 or more, 300 cells/inch 2 or more, 400 cells/inch 2 or more, 600 cells/inch 2 or more, or 800 cells/inch 2 or more, 1200 cells/inch 2 or less, 1000 cells/inch 2 or less, 800 cells/inch 2 or less, 500 cells/inch 2 or less, or 300 cells/inch 2 or less Cells/inch may be 2 or less. For example, the number of cells of the honeycomb base material may be 100 cells/inch 2 or more and 1200 cells/inch 2 or less, or 200 cells/inch 2 or more and 1000 cells/inch 2 or less.

ハニカム基材の排ガス流路の長さ又はハニカム基材の長さは、50mm以上、60mm以上、80mm以上、100mm以上、120mm以上、又は150mm以上であってもよく、300mm以下、250mm以下、200mm以下、150mm以下、又は120mm以下であってもよい。例えば、ハニカム基材の排ガス流路の長さ又はハニカム基材の長さは、50mm以上300mm以下、又は60mm以上200mm以下であってもよい。 The length of the exhaust gas flow path of the honeycomb base material or the length of the honeycomb base material may be 50 mm or more, 60 mm or more, 80 mm or more, 100 mm or more, 120 mm or more, or 150 mm or more, and 300 mm or less, 250 mm or less, or 200 mm. Below, it may be 150 mm or less, or 120 mm or less. For example, the length of the exhaust gas flow path of the honeycomb base material or the length of the honeycomb base material may be 50 mm or more and 300 mm or less, or 60 mm or more and 200 mm or less.

ハニカム基材の断面積は、60cm以上、80cm以上、100cm以上、120cm以上、又は150cm以上であってもよく、300cm以下、250cm以下、200cm以下、150cm以下、又は120cm以下であってもよい。例えば、ハニカム基材の断面積は、60cm以上300cm以下、又は100cm以上250cm以下であってもよい。 The cross-sectional area of the honeycomb substrate may be 60 cm 2 or more, 80 cm 2 or more, 100 cm 2 or more, 120 cm 2 or more, or 150 cm 2 or more, and 300 cm 2 or less, 250 cm 2 or less, 200 cm 2 or less, 150 cm 2 or less, Or it may be 120 cm 2 or less. For example, the cross-sectional area of the honeycomb base material may be 60 cm 2 or more and 300 cm 2 or less, or 100 cm 2 or more and 250 cm 2 or less.

ハニカム基材の容量は、500cc以上、600cc以上、800cc以上、1000cc以上、又は1500cc以上であってもよく、3000cc以下、2500cc以下、2000cc以下、1500cc以下、又は1200cc以下であってもよい。例えば、ハニカム基材の容量は、500cc以上3000cc以下、又は600cc以上1500cc以下であってもよい。 The capacity of the honeycomb base material may be 500 cc or more, 600 cc or more, 800 cc or more, 1000 cc or more, or 1500 cc or more, and may be 3000 cc or less, 2500 cc or less, 2000 cc or less, 1500 cc or less, or 1200 cc or less. For example, the capacity of the honeycomb base material may be 500 cc or more and 3000 cc or less, or 600 cc or more and 1500 cc or less.

ハニカム基材の多孔質壁の厚さは、特に限定されないが、50μm以上、70μm以上、80μm以上、100μm以上、120μm以上、又は150μm以上であってもよく、300μm以下、200μm以下、150μm以下、又は120μm以下であってもよい。例えば、ハニカム基材の多孔質壁の厚さは、50μm以上300μm以下、又は70μm以上150μm以下であってもよい。 The thickness of the porous wall of the honeycomb base material is not particularly limited, but may be 50 μm or more, 70 μm or more, 80 μm or more, 100 μm or more, 120 μm or more, or 150 μm or more, and 300 μm or less, 200 μm or less, 150 μm or less, Alternatively, it may be 120 μm or less. For example, the thickness of the porous wall of the honeycomb base material may be 50 μm or more and 300 μm or less, or 70 μm or more and 150 μm or less.

ハニカム基材の気孔率は、特に限定されないが、例えば30%以上、40%以上、50%以上、又は60%以上であってもよく、80%以下、70%以下、又は60%以下であってもよい。気孔率は、多孔質体の材質による理論的な中実体の重量に対する、多孔質体の重量の割合から求めることができる。例えば、ハニカム基材の気孔率は、30%以上70%以下、又は40%以上60%以下であってもよい。 The porosity of the honeycomb base material is not particularly limited, but may be, for example, 30% or more, 40% or more, 50% or more, or 60% or more, and 80% or less, 70% or less, or 60% or less. It's okay. The porosity can be determined from the ratio of the weight of the porous body to the theoretical solid weight based on the material of the porous body. For example, the porosity of the honeycomb base material may be 30% or more and 70% or less, or 40% or more and 60% or less.

ハニカム基材の比表面積は、特に限定されないが、例えば10m/g以上、20m/g以上、又は30m/g以上であってもよく、200m/g以下、100m/g以下、又は50m/g以下であってもよい。比表面積は、窒素吸着法を用いる、Macsorb(商標) HM model-1230(株式会社マウンテック)によってBET流動法から求めることができる。例えば、ハニカム基材の比表面積は、10m/g以上200m/g以下、又は20m/g以上100m/g以下であってもよい。 The specific surface area of the honeycomb base material is not particularly limited, but may be, for example, 10 m 2 /g or more, 20 m 2 /g or more, or 30 m 2 /g or more, and 200 m 2 / g or less, 100 m 2 /g or less, Or it may be 50 m 2 /g or less. The specific surface area can be determined from the BET flow method using Macsorb™ HM model-1230 (Mountech Co., Ltd.) using a nitrogen adsorption method. For example, the specific surface area of the honeycomb base material may be 10 m 2 /g or more and 200 m 2 /g or less, or 20 m 2 /g or more and 100 m 2 /g or less.

〈触媒貴金属粒子〉
本発明の排ガス浄化装置における触媒貴金属は、例えば、白金、パラジウム、及びロジウムから成る群から選択される1種以上であってよい。
<Catalytic precious metal particles>
The catalytic noble metal in the exhaust gas purification device of the present invention may be, for example, one or more selected from the group consisting of platinum, palladium, and rhodium.

本発明の排ガス浄化装置は、触媒貴金属粒子として、例えば、ハニカム基材に担持された白金及び/又はパラジウムを少なくとも有していてよい。白金及び/又はパラジウムは、ハニカム基材に、ハニカム基材全体の容量を基準として、0.10g/L以上、0.30g/L以上、0.50g/L以上、0.80g/L以上、1.00g/L以上、1.50g/L以上、2.00g/L以上、又は3.00g/L以上で担持されていてもよく、6.00g/L以下、4.00g/L以下、3.00g/L以下、2.00g/L以下、1.50g/L以下、1.20g/L以下、又は1.00g/L以下で担持されていてもよい。例えば、白金及び/又はパラジウムは、ハニカム基材全体の容量を基準として、0.30g/L以上6.00g/L以下、又は0.50g/L以上3.00g/L以下で担持されていてもよい。 The exhaust gas purification device of the present invention may include at least platinum and/or palladium supported on a honeycomb substrate, for example, as catalyst noble metal particles. Platinum and/or palladium is added to the honeycomb base material, based on the capacity of the entire honeycomb base material, at least 0.10 g/L, at least 0.30 g/L, at least 0.50 g/L, at least 0.80 g/L, It may be supported at 1.00 g/L or more, 1.50 g/L or more, 2.00 g/L or more, or 3.00 g/L or more, and 6.00 g/L or less, 4.00 g/L or less, It may be supported at 3.00 g/L or less, 2.00 g/L or less, 1.50 g/L or less, 1.20 g/L or less, or 1.00 g/L or less. For example, platinum and/or palladium is supported in an amount of 0.30 g/L or more and 6.00 g/L or less, or 0.50 g/L or more and 3.00 g/L or less, based on the capacity of the entire honeycomb substrate. Good too.

白金及び/又はパラジウムは、ハニカム基材の入口側部に、入口側部の容量を基準として、0.80g/L以上、1.00g/L以上、1.50g/L以上、2.00g/L以上、又は3.00g/L以上で担持されていてもよく、8.00g/L以下、6.00g/L以下、5.00g/L以下、4.00g/L以下、又は3.00g/L以下で担持されていてもよい。例えば、白金及び/又はパラジウムは、ハニカム基材の入口側部に、入口側部の容量を基準として、1.00g/L以上8.00g/L以下、又は2.00g/L以上5.00g/L以下で担持されていてもよい。また、白金及び/又はパラジウムは、ハニカム基材の本体部に、本体部の容量を基準として、0.50g/L以上、0.30g/L以上、0.50g/L以上、0.80g/L以上、1.00g/L以上、1.50g/L以上、2.00g/L以上、又は3.00g/L以上で担持されていてもよく、6.00g/L以下、4.00g/L以下、3.00g/L以下、2.00g/L以下、1.50g/L以下、1.20g/L以下、又は1.00g/L以下で担持されていてもよい。例えば、白金及び/又はパラジウムは、ハニカム基材の本体部に、本体部の容量を基準として、0.30g/L以上6.00g/L以下、又は0.50g/L以上3.00g/L以下で担持されていてもよい。 Platinum and/or palladium is added to the inlet side of the honeycomb base material, based on the capacity of the inlet side, at least 0.80 g/L, at least 1.00 g/L, at least 1.50 g/L, and at 2.00 g/L. L or more, or 3.00 g/L or more may be supported, and 8.00 g/L or less, 6.00 g/L or less, 5.00 g/L or less, 4.00 g/L or less, or 3.00 g /L or less may be supported. For example, platinum and/or palladium is added to the inlet side of the honeycomb base material in a range of 1.00 g/L to 8.00 g/L, or 2.00 g/L to 5.00 g, based on the capacity of the inlet side. /L or less may be supported. Furthermore, platinum and/or palladium is added to the main body of the honeycomb base material, based on the capacity of the main body, at least 0.50 g/L, at least 0.30 g/L, at least 0.50 g/L, and at least 0.80 g/L. L or more, 1.00 g/L or more, 1.50 g/L or more, 2.00 g/L or more, or 3.00 g/L or more may be supported, and 6.00 g/L or less, 4.00 g/L It may be supported in an amount of L or less, 3.00 g/L or less, 2.00 g/L or less, 1.50 g/L or less, 1.20 g/L or less, or 1.00 g/L or less. For example, platinum and/or palladium may be added to the main body of the honeycomb base material from 0.30 g/L to 6.00 g/L, or from 0.50 g/L to 3.00 g/L, based on the capacity of the main body. It may be supported by:

本発明の排ガス浄化装置は、触媒貴金属粒子として、さらにロジウムを有することができる。ロジウムは、ハニカム基材全体の容量を基準として、0.10g/L以上、0.30g/L以上、0.50g/L以上、0.80g/L以上、又は1.00g/L以上で担持されていてもよく、1.50g/L以下、1.20g/L以下、1.00g/L以下、0.80g/L以下、又は0.50g/L以下で担持されていてもよい。例えば、ロジウムは、ハニカム基材全体の容量を基準として、0.10g/L以上1.50g/L以下、又は0.30g/L以上1.00g/L以下で担持されていてもよい。 The exhaust gas purification device of the present invention can further include rhodium as the catalytic noble metal particles. Rhodium is supported at 0.10 g/L or more, 0.30 g/L or more, 0.50 g/L or more, 0.80 g/L or more, or 1.00 g/L or more based on the capacity of the entire honeycomb base material. It may be supported at 1.50 g/L or less, 1.20 g/L or less, 1.00 g/L or less, 0.80 g/L or less, or 0.50 g/L or less. For example, rhodium may be supported in an amount of 0.10 g/L or more and 1.50 g/L or less, or 0.30 g/L or more and 1.00 g/L or less, based on the capacity of the entire honeycomb substrate.

〈触媒層〉
本発明の排ガス浄化装置の少なくとも一部には、従来技術においてコージェライト系のハニカム基材等に形成されていたような触媒層を有していないことが好ましい。したがって、本発明の排ガス浄化装置には、ハニカム基材の排ガス流路の少なくとも一部に、そのハニカム基材と実質的に異なる組成を有する触媒層が存在していない。
<Catalyst layer>
It is preferable that at least a part of the exhaust gas purification device of the present invention does not have a catalyst layer, which is formed on a cordierite honeycomb substrate or the like in the prior art. Therefore, in the exhaust gas purification device of the present invention, a catalyst layer having a composition substantially different from that of the honeycomb base material is not present in at least a portion of the exhaust gas flow path of the honeycomb base material.

《排ガス浄化装置の製造方法》
本発明の排ガス浄化装置の製造方法は、多孔質壁で隔てられた複数の排ガス流路を有するハニカム基材の一方の開口側から、触媒貴金属の塩及び増粘剤を含む溶液を提供すること;提供された溶液を、ハニカム基材の前記溶液が提供された方とは反対の開口側から吸引すること及び/又はハニカム基材の前記溶液が提供された方の開口側から圧送すること;及びハニカム基材を乾燥及び/又は焼成することを含み、ここで溶液は、せん断速度380s-1における粘度が10~400mPaである。本発明の排ガス浄化装置の製造方法は、例えば、ハニカム基材の入口側から、触媒貴金属の塩及び増粘剤を含む溶液を提供すること;提供された溶液を、ハニカム基材の出口側から吸引すること及び/又はハニカム基材の入口側から圧送すること;及びハニカム基材を乾燥及び/又は焼成することを含んでいてよい。
《Manufacturing method of exhaust gas purification device》
The method for manufacturing an exhaust gas purification device of the present invention includes providing a solution containing a catalytic precious metal salt and a thickener from one opening side of a honeycomb base material having a plurality of exhaust gas flow paths separated by a porous wall. suctioning the provided solution from the open side of the honeycomb substrate opposite to the side to which the solution was provided and/or pumping the provided solution from the open side of the honeycomb substrate to which the solution was provided; and drying and/or calcining the honeycomb substrate, wherein the solution has a viscosity of 10 to 400 mPa at a shear rate of 380 s -1 . The method for manufacturing an exhaust gas purification device of the present invention includes, for example, providing a solution containing a catalytic precious metal salt and a thickener from the inlet side of a honeycomb base material; and supplying the provided solution from the outlet side of the honeycomb base material. It may include suctioning and/or pumping from the inlet side of the honeycomb substrate; and drying and/or calcining the honeycomb substrate.

触媒貴金属の塩を含む溶液に増粘剤を加えることによって、溶液の粘度を調整して、貴金属50質量%担持深さを小さくすることができ、すなわち多孔質壁の表面側に触媒貴金属を濃化させることができる。その溶液のせん断速度380s-1における粘度は、粘度計TV-33型粘度計(東機産業株式会社製)を用いて、25℃で、回転数を1~100rpmで変更をし、1°34’×R24の円錐平板型のコーンを使用して測定した場合に、10mPa以上、50mPa以上、又は100mPa以上であってもよく、400mPa以下、300mPa以下、又は200mPa以下であってもよい。また、その溶液のせん断速度4s-1における粘度は、粘度計TVE-30H(東機産業株式会社製)を用いて常温で測定して、100mPa以上、500mPa以上、1000mPa以上、3000mPa以上、又は5000mPa以上であってもよく、30000mPa以下、10000mPa以下、7000mPa以下、5000mPa以下、又は3000mPa以下であってもよい。 By adding a thickener to a solution containing a salt of a catalytic noble metal, the viscosity of the solution can be adjusted and the depth of supporting 50% by mass of the noble metal can be reduced, that is, the catalytic noble metal can be concentrated on the surface side of the porous wall. can be made into The viscosity of the solution at a shear rate of 380 s -1 was determined using a viscometer TV-33 type viscometer (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) at 25°C and the rotation speed was changed from 1 to 100 rpm to 1°34 When measured using a cone-shaped cone of '×R24, it may be 10 mPa or more, 50 mPa or more, or 100 mPa or more, and may be 400 mPa or less, 300 mPa or less, or 200 mPa or less. In addition, the viscosity of the solution at a shear rate of 4 s -1 is measured at room temperature using a viscometer TVE-30H (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) and is 100 mPa or more, 500 mPa or more, 1000 mPa or more, 3000 mPa or more, or 5000 mPa or more. or more, and may be 30,000 mPa or less, 10,000 mPa or less, 7,000 mPa or less, 5,000 mPa or less, or 3,000 mPa or less.

触媒貴金属のうち、白金及び/又はパラジウムの塩としては、白金及び/又はパラジウムの強酸塩を挙げることができ、特に白金及び/又はパラジウムの硝酸塩又は硫酸塩を挙げることができる。また、その溶液にロジウムの塩を含有させる場合、同様の塩を用いることができる。また、溶液は、従来技術において触媒貴金属の担体として用いられてきたアルミナ、シリカ、セリア-ジルコニア複合酸化物等の無機酸化物の担体粒子を含有しなくてもよい。 Among the catalytic noble metals, examples of salts of platinum and/or palladium include strong acid salts of platinum and/or palladium, particularly nitrates or sulfates of platinum and/or palladium. Further, when the solution contains a salt of rhodium, a similar salt can be used. Further, the solution does not need to contain carrier particles of inorganic oxides such as alumina, silica, and ceria-zirconia composite oxides, which have been used as carriers for catalytic noble metals in the prior art.

増粘剤としては、ヒドロキシルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ポリビニルアルコール等の水溶性高分子を挙げることができる。 Examples of thickeners include water-soluble polymers such as hydroxyl ethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, methyl cellulose, and polyvinyl alcohol.

触媒貴金属の塩及び増粘剤を含む溶液をハニカム基材に塗工する方法については、特許文献4を参照することができる。 For a method of applying a solution containing a catalytic precious metal salt and a thickener to a honeycomb substrate, reference can be made to Patent Document 4.

ハニカム基材を乾燥する際には、乾燥温度は、例えば50℃以上、100℃以上、150℃以上であってもよく、200℃以下、又は150℃以下であってもよい。例えば、乾燥温度は、100℃以上200℃以下であってもよい。乾燥時間は、1時間以上、2時間以上、又は5時間以上であってもよく、10時間以下又は5時間以下であってもよい。例えば、乾燥時間は、1時間以上10時間以下であってもよい。また、ハニカム基材を焼成する際には、焼成温度は、例えば400℃以上、500℃以上、550℃以上、又は600℃以上であってもよく、1000℃以下、800℃以下、又は700℃以下であってもよい。例えば、焼成温度は、400℃以上1000℃以下、又は500℃以上800℃以下であってもよい。焼成時間は、30分以上、1時間以上、2時間以上、又は4時間以上であってもよく、12時間以下、10時間以下、又は8時間以下であってもよい。例えば、焼成時間は、30分以上12時間以下、又は1時間以上8時間以下であってもよい。 When drying the honeycomb base material, the drying temperature may be, for example, 50°C or higher, 100°C or higher, 150°C or higher, or 200°C or lower, or 150°C or lower. For example, the drying temperature may be 100°C or more and 200°C or less. The drying time may be 1 hour or more, 2 hours or more, or 5 hours or more, and may be 10 hours or less or 5 hours or less. For example, the drying time may be 1 hour or more and 10 hours or less. Further, when firing the honeycomb base material, the firing temperature may be, for example, 400°C or higher, 500°C or higher, 550°C or higher, or 600°C or higher, or 1000°C or lower, 800°C or lower, or 700°C. It may be the following. For example, the firing temperature may be 400°C or more and 1000°C or less, or 500°C or more and 800°C or less. The firing time may be 30 minutes or more, 1 hour or more, 2 hours or more, or 4 hours or more, and may be 12 hours or less, 10 hours or less, or 8 hours or less. For example, the firing time may be 30 minutes or more and 12 hours or less, or 1 hour or more and 8 hours or less.

本発明の排ガス浄化装置の製造方法によって得られる排ガス浄化装置は、上述した本発明の排ガス浄化装置であってもよい。また、本発明の排ガス浄化装置の製造方法の各構成については、本発明の排ガス浄化装置に関して上述した各構成を参照することができる。 The exhaust gas purification device obtained by the method for manufacturing an exhaust gas purification device of the present invention may be the exhaust gas purification device of the present invention described above. Further, for each configuration of the method for manufacturing an exhaust gas purification device of the present invention, each configuration described above regarding the exhaust gas purification device of the present invention can be referred to.

本発明の排ガス浄化装置の製造方法は、ハニカム基材の排ガス流路の入口から所定の長さの入口側部を含むように、触媒貴金属の塩を含む溶液にハニカム基材を浸漬した後、溶液から取り出し、ハニカム基材を乾燥及び/又は焼成すること、をさらに含んでもよい。この場合において、入口側部の一部又は全てをその溶液に浸漬してもよく、また入口側部以外の本体部の一部までを含めて、その溶液に浸漬させてもよい。 The method for manufacturing an exhaust gas purification device of the present invention includes: immersing a honeycomb base material in a solution containing a salt of a catalytic precious metal so as to include the inlet side portion of the honeycomb base material having a predetermined length from the inlet of the exhaust gas flow path; It may further include removing from the solution and drying and/or firing the honeycomb substrate. In this case, part or all of the inlet side may be immersed in the solution, or even a part of the main body other than the inlet side may be immersed in the solution.

この工程を含むことによって、ハニカム基材の入口側部に、本体部よりも多くの触媒貴金属を担持させることができる。また、ハニカム基材を溶液に浸漬させて触媒貴金属を担持させるため、入口側部の貴金属50質量%担持深さのみを大きくすることができる。これによって、得られる排ガス浄化装置に、高い暖機性能を与えることができ、また貴金属の分配を効率化させることができる。この工程によって用いられる溶液については、上述の塗工に用いられる溶液と同一であってもよいが、増粘剤を含まなくてよい。 By including this step, more catalytic noble metal can be supported on the inlet side of the honeycomb substrate than on the main body. Furthermore, since the honeycomb base material is immersed in a solution to support the catalytic noble metal, only the depth at which 50% by mass of the noble metal is supported on the inlet side can be increased. As a result, high warm-up performance can be provided to the resulting exhaust gas purification device, and precious metal distribution can be made more efficient. The solution used in this step may be the same as the solution used in the coating described above, but may not contain a thickener.

この工程は、ハニカム基材を乾燥及び/又は焼成する工程の後に行ってもよく、乾燥及び/又は焼成をする工程の前に行ってもよい。この工程を、ハニカム基材を乾燥及び/又は焼成する工程の後に行う場合には、この工程の後に、さらに上述のようなハニカム基材を乾燥及び/又は焼成する工程を行うことができる。 This step may be performed after the step of drying and/or firing the honeycomb base material, or may be performed before the step of drying and/or firing the honeycomb base material. When this step is performed after the step of drying and/or firing the honeycomb base material, the step of drying and/or firing the honeycomb base material as described above can be performed after this step.

本発明を以下の実施例でさらに具体的に説明をするが、本発明はこれによって限定されるものではない。 The present invention will be explained in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited thereto.

《製造例》
〈実施例1〉
基材として、容量860cc、基材長さ80mm、直径117mm、セル数400セル/inch、壁厚120μmで、かつセリア換算重量21重量%及びジルコニア換算重量25重量%でセリア-ジルコニア複合酸化物を含む、セリア-ジルコニア系(CZ系)のモノリス型ハニカム基材を用いた。セル形状は四角であった。特許文献4に記載方法で、このハニカム基材にコーティング溶液を流し込み、ブロワーを用いて不要な溶液を吹き払った。ここで、そのコーティング溶液は、純水中に、ハニカム基材単位容量あたりの質量として、パラジウム(Pd)換算量0.12wt%の硝酸パラジウム、ロジウム(Rh)換算量0.06wt%の硝酸ロジウム、及び増粘剤(ヒドロキシエチルセルロース、株式会社ダイセル)を含有しており、粘度計TV33型粘度計(東機産業株式会社製)を用いて、25℃で、回転数を1~100rpmで変更し、1°34’×R24の円錐平板型のコーンを使用して測定したせん断速度380s-1における粘度が300mPaであった。その後、120℃の乾燥機中で2時間乾燥させ、次いで500℃の電気炉中で2時間の焼成を行った。その際の、基材上のパラジウム及びロジウムの担持量は、それぞれ0.51g/L及び0.24g/Lであった。
《Manufacturing example》
<Example 1>
The base material is a ceria-zirconia composite oxide with a capacity of 860 cc, a base length of 80 mm, a diameter of 117 mm, a cell count of 400 cells/inch 2 , a wall thickness of 120 μm, and a ceria equivalent weight of 21% and a zirconia equivalent weight of 25% by weight. A ceria-zirconia-based (CZ-based) monolithic honeycomb base material was used. The cell shape was square. A coating solution was poured onto this honeycomb substrate by the method described in Patent Document 4, and unnecessary solution was blown away using a blower. Here, the coating solution contains palladium nitrate in an amount of 0.12 wt% in terms of palladium (Pd) and rhodium nitrate in an amount of 0.06 wt% in terms of rhodium (Rh), as mass per unit volume of the honeycomb base material in pure water. , and a thickener (hydroxyethylcellulose, Daicel Co., Ltd.), and using a viscometer TV33 type viscometer (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.), the rotation speed was changed from 1 to 100 rpm at 25°C. The viscosity at a shear rate of 380 s −1 was 300 mPa, as measured using a conical plate type cone of 1°34'×R24. Thereafter, it was dried for 2 hours in a dryer at 120°C, and then fired for 2 hours in an electric furnace at 500°C. At that time, the amounts of palladium and rhodium supported on the substrate were 0.51 g/L and 0.24 g/L, respectively.

その後、ハニカム基材の排ガス流路の入口側から20mmまでの位置に、ハニカム基材1個当たりのパラジウム量として、1.1g/個のパラジウムをさらに担持させるために、ハニカム基材の前側を、硝酸パラジウム水溶液に漬けて吸水担持させた。その後、ハニカム基材を溶液から取り出して、ブロワーを用いて不要な溶液を吹き払った後、120℃の乾燥機中で2時間乾燥させ、次いで500℃の電気炉中で2時間の焼成を行った。これにより、実施例1の排ガス浄化装置を得た。 After that, in order to further support 1.1 g of palladium per honeycomb base material at a position up to 20 mm from the inlet side of the exhaust gas flow path of the honeycomb base material, the front side of the honeycomb base material was It was immersed in a palladium nitrate aqueous solution to absorb water and carry it. After that, the honeycomb base material was taken out from the solution, unnecessary solution was blown away using a blower, and then it was dried in a dryer at 120°C for 2 hours, and then fired for 2 hours in an electric furnace at 500°C. Ta. Thereby, the exhaust gas purification device of Example 1 was obtained.

〈実施例2〉
ハニカム基材の排ガス流路の入口側から32mmまでの位置に、ハニカム基材1個当たりのパラジウム量として、1.1g/個のパラジウムをさらに担持させたこと以外は、実施例1と同様に、実施例2の排ガス浄化装置を得た。
<Example 2>
The same procedure as in Example 1 was carried out, except that 1.1 g/piece of palladium was further supported on the honeycomb substrate at a position up to 32 mm from the inlet side of the exhaust gas flow path. , the exhaust gas purification device of Example 2 was obtained.

〈実施例3〉
コーティング溶液の増粘剤を増量して、せん断速度380s-1における粘度を200mPaとしたこと以外は、実施例1と同様に、実施例3の排ガス浄化装置を得た。
<Example 3>
The exhaust gas purification device of Example 3 was obtained in the same manner as Example 1, except that the amount of thickener in the coating solution was increased to have a viscosity of 200 mPa at a shear rate of 380 s -1 .

〈比較例1〉
基材として、容量875cc、直径118mm、600セル4角、壁厚3milのコージェライト系(Co系)のモノリス型ハニカム基材を用いた。硝酸パラジウム、酸化ランタン複合化アルミナ、セリア-ジルコニア複合酸化物、硝酸バリウム、アルミナゾル系バインダーを含む下層用スラリーを調製し、特許文献4に記載の方法で、ハニカム基材に下層用スラリーを流し込み、ブロワーを用いて不要なスラリーを吹き払った。その後、120℃の乾燥機中で2時間乾燥させ、次いで500℃の電気炉中で2時間の焼成を行って、ハニカム基材に下層を形成した。この下層は、ハニカム基材単位容量あたりの質量として、0.7g/Lのパラジウム、50g/Lのアルミナ、50g/Lのセリア-ジルコニア複合酸化物、及び5g/Lの硫酸バリウムを有していた。
<Comparative example 1>
As the base material, a cordierite-based (Co-based) monolith type honeycomb base material having a capacity of 875 cc, a diameter of 118 mm, 600 cells square, and a wall thickness of 3 mil was used. A lower layer slurry containing palladium nitrate, lanthanum oxide composite alumina, ceria-zirconia composite oxide, barium nitrate, and an alumina sol binder is prepared, and the lower layer slurry is poured into a honeycomb base material by the method described in Patent Document 4, A blower was used to blow away unnecessary slurry. Thereafter, it was dried in a dryer at 120°C for 2 hours, and then fired in an electric furnace at 500°C for 2 hours to form a lower layer on the honeycomb base material. This lower layer contains 0.7 g/L of palladium, 50 g/L of alumina, 50 g/L of ceria-zirconia composite oxide, and 5 g/L of barium sulfate as mass per unit volume of honeycomb base material. Ta.

次に、硝酸ロジウム、酸化ランタン複合化アルミナ、セリア-ジルコニア複合酸化物、硝酸バリウム、アルミナゾル系バインダーを含む上層用スラリーを調製し、下層を形成した時と同様にして、下層の上に上層を形成した。この上層は、ハニカム基材単位容量あたりの質量として、0.2g/Lのロジウム、55g/Lのアルミナ、及び50g/Lのセリア-ジルコニア複合酸化物を有していた。これにより、比較例1の排ガス浄化装置を得た。 Next, prepare an upper layer slurry containing rhodium nitrate, lanthanum oxide composite alumina, ceria-zirconia composite oxide, barium nitrate, and an alumina sol binder, and form the upper layer on top of the lower layer in the same manner as when forming the lower layer. Formed. This upper layer had 0.2 g/L of rhodium, 55 g/L of alumina, and 50 g/L of ceria-zirconia composite oxide as mass per unit volume of the honeycomb base material. As a result, an exhaust gas purification device of Comparative Example 1 was obtained.

〈比較例2〉
実施例1で用いた、セリア-ジルコニア複合酸化物を構成材料として含むハニカム基材に、特許文献1に記載の方法でかつ実施例1で用いたのと同じ重量で、パラジウム及びロジウムを担持させた。具体的には、硝酸ロジウムと塩化ロジウムとを必要量分散させた水溶液中に基材を浸漬させて一定時間放置することにより、ハニカム基材にパラジウム及びロジウムを担持させた。
<Comparative example 2>
Palladium and rhodium were supported on the honeycomb base material containing ceria-zirconia composite oxide as a constituent material used in Example 1 by the method described in Patent Document 1 and in the same weight as used in Example 1. Ta. Specifically, the honeycomb substrate was made to support palladium and rhodium by immersing the substrate in an aqueous solution in which rhodium nitrate and rhodium chloride were dispersed in required amounts and leaving it for a certain period of time.

《試験方法》
〈パラジウム(Pd)50%担持深さ〉
基材の壁の表面から壁の中心部までの深さ方向に存在しているパラジウムの全量のうち、50質量%のパラジウムが存在する表面からの貴金属50質量%担持深さを調べた。例えば、表1では、120μmの厚さの壁の実施例1において貴金属50質量%担持深さが20μmとなっているが、これは壁の表面から20μmの範囲に50%のパラジウムが担持されており、表面から20μm超60μmまでの範囲に残りの50%のパラジウムが担持されていることを意味している。表1では、多孔質壁の表面から多孔質壁の中心までの距離(60μm)に対する貴金属50質量%担持深さ、及び多孔質壁の厚さ(120μm)に対する貴金属50質量%担持深さも併せて示した。
"Test method"
<Palladium (Pd) 50% support depth>
Of the total amount of palladium existing in the depth direction from the surface of the wall of the base material to the center of the wall, the depth at which 50% by mass of noble metal was supported from the surface where 50% by mass of palladium was present was investigated. For example, in Table 1, in Example 1 with a wall thickness of 120 μm, the support depth of 50% by mass of noble metal is 20 μm, which means that 50% of palladium is supported within 20 μm from the wall surface. This means that the remaining 50% of palladium is supported in a range of more than 20 μm to 60 μm from the surface. Table 1 also shows the depth of supporting 50% by mass of noble metal with respect to the distance from the surface of the porous wall to the center of the porous wall (60 μm), and the depth of supporting 50% by mass of noble metal with respect to the thickness of the porous wall (120 μm). Indicated.

この担持深さの分析は、排ガス浄化触媒を樹脂埋めして切断し、その多孔質壁について、FE-EPMA(JXA-8530F、日本電子株式会社)を用いて測定した。具体的には、視野倍率400倍、最小のビーム径、20kVの加速電圧、100nAの照射電流、50秒の収集時間として、ピクセル数を256×256として、パラジウムの分布を測定することで、上記のような貴金属50質量%担持深さを決定した。 The supporting depth was analyzed by filling the exhaust gas purification catalyst with resin and cutting it, and measuring the porous wall using FE-EPMA (JXA-8530F, JEOL Ltd.). Specifically, by measuring the distribution of palladium with a field magnification of 400 times, a minimum beam diameter, an accelerating voltage of 20 kV, an irradiation current of 100 nA, and a collection time of 50 seconds, the number of pixels was set to 256 x 256. The supporting depth of 50% by mass of noble metal was determined.

〈暖機特性及びHC浄化率〉
各例の排ガス浄化装置を、V型8気筒エンジンの排気系にそれぞれ装着し、触媒床温950℃で50時間にわたって、ストイキ及びリーンの各雰囲気の排ガスを一定時間ずつ繰り返して流した。
<Warm-up characteristics and HC purification rate>
The exhaust gas purification device of each example was installed in the exhaust system of a V-type 8-cylinder engine, and exhaust gas in stoichiometric and lean atmospheres was repeatedly flowed for a certain period of time at a catalyst bed temperature of 950° C. for 50 hours.

その後、排ガス浄化装置を、直列4気筒エンジンの排気系にそれぞれ装着し直し、空燃比(A/F)14.4、排ガス質量流速Ga=19g/sの排ガスを供給して、炭化水素(HC)の50%浄化率の到達時間(=暖機特性(~500℃))を評価した。 After that, the exhaust gas purification devices were reinstalled into the exhaust systems of the in-line four-cylinder engines, and exhaust gas with an air-fuel ratio (A/F) of 14.4 and an exhaust gas mass flow rate Ga = 19 g/s was supplied to remove hydrocarbons (HC). ) The time to reach 50% purification rate (= warm-up characteristics (~500°C)) was evaluated.

また、空燃比(A/F)14.2、排ガス質量流速Ga=24g/sの排ガスを供給して、触媒床温500℃での炭化水素(HC)浄化率を測定した。 In addition, exhaust gas was supplied at an air-fuel ratio (A/F) of 14.2 and an exhaust gas mass flow rate Ga of 24 g/s, and the hydrocarbon (HC) purification rate at a catalyst bed temperature of 500° C. was measured.

《結果》
その結果を、以下の表に示す:

Figure 0007340954000001
"result"
The results are shown in the table below:
Figure 0007340954000001

1 多孔質壁
2 排ガス流路
a 入口側部
b 本体部
10 排ガス浄化装置
1 Porous wall 2 Exhaust gas flow path a Inlet side b Main body 10 Exhaust gas purification device

Claims (13)

多孔質壁で隔てられた複数の排ガス流路を有するハニカム基材、及び前記ハニカム基材に担持されている1種又は2種以上の触媒貴金属を有する排ガス浄化装置であって、
前記ハニカム基材は、セリア-ジルコニア複合酸化物粒子を構成材料の1種として含み、
前記触媒貴金属は、白金、パラジウム、及びロジウムから成る群から選択され、かつ
前記ハニカム基材は、
前記1種又は2種以上の触媒貴金属のうちの1種である特定貴金属についての、貴金属50質量%担持深さが、前記多孔質壁の表面から前記多孔質壁の内部の中心までの距離の50%未満である貴金属濃化表面部を有しており、
前記貴金属50質量%担持深さは、前記多孔質壁の表面から前記多孔質壁の内部の中心までに担持されている前記特定貴金属の量を基準として、前記特定貴金属の50質量%が担持されている深さであ
前記ハニカム基材は、前記排ガス流路の入口側から、前記ハニカム基材の全長に対して60%以下の入口側部と、それ以外の本体部とから構成されており、前記貴金属濃化表面部が、前記本体部に少なくとも存在しており、
前記ハニカム基材の入口側部における、前記特定貴金属についての貴金属50質量%担持深さが、前記本体部の前記特定貴金属についての貴金属50質量%担持深さよりも大きい、
排ガス浄化装置。
An exhaust gas purification device comprising a honeycomb base material having a plurality of exhaust gas flow paths separated by a porous wall, and one or more catalytic noble metals supported on the honeycomb base material,
The honeycomb base material includes ceria-zirconia composite oxide particles as one type of constituent material,
the catalytic noble metal is selected from the group consisting of platinum, palladium, and rhodium, and the honeycomb substrate comprises:
The 50% by mass support depth of the noble metal for the specific noble metal that is one of the one or more catalytic noble metals is equal to the distance from the surface of the porous wall to the center of the inside of the porous wall. having a precious metal enriched surface area of less than 50%;
The 50% by mass supported noble metal depth is defined as the depth at which 50% by mass of the specific noble metal is supported, based on the amount of the specific noble metal supported from the surface of the porous wall to the center of the inside of the porous wall. depth ,
The honeycomb base material is composed of an inlet side part that accounts for 60% or less of the total length of the honeycomb base material from the inlet side of the exhaust gas flow path, and the other body part, and the noble metal enriched surface is present at least in the main body,
A 50% by mass support depth of the specific noble metal on the inlet side of the honeycomb base material is greater than a 50% by mass support depth of the specific noble metal in the main body.
Exhaust gas purification equipment.
前記特定貴金属が、白金又はパラジウムである、請求項1に記載の排ガス浄化装置。 The exhaust gas purification device according to claim 1, wherein the specific noble metal is platinum or palladium. 前記特定貴金属が、白金又はパラジウムであり、
前記触媒貴金属がロジウムを含む、
請求項2に記載の排ガス浄化装置。
The specific precious metal is platinum or palladium,
the catalytic noble metal includes rhodium;
The exhaust gas purification device according to claim 2.
前記貴金属50質量%担持深さが、前記多孔質壁の表面から前記多孔質壁の内部の中心までの距離の35%以下である、請求項1~3のいずれか一項に記載の排ガス浄化装置。 The exhaust gas purification according to any one of claims 1 to 3, wherein the 50% by mass support depth of the noble metal is 35% or less of the distance from the surface of the porous wall to the center inside the porous wall. Device. 前記ハニカム基材を構成する前記入口側部の長さが、前記ハニカム基材の全長に対して10%以上である、請求項1~4のいずれか一項に記載の排ガス浄化装置。 The exhaust gas purification device according to any one of claims 1 to 4 , wherein the length of the inlet side portion constituting the honeycomb base material is 10% or more of the total length of the honeycomb base material. 前記ハニカム基材は、前記排ガス流路の入口側から30mm以下の入口側部と、それ以外の本体部とから構成されている、請求項1~5のいずれか一項に記載の排ガス浄化装置。 The exhaust gas purification device according to any one of claims 1 to 5, wherein the honeycomb base material is composed of an inlet side part that is 30 mm or less from the inlet side of the exhaust gas flow path, and the other main body part. . 前記ハニカム基材を構成する前記入口側部の長さが10mm以上である、請求項6に記載の排ガス浄化装置。 The exhaust gas purification device according to claim 6, wherein the length of the inlet side portion constituting the honeycomb base material is 10 mm or more. 前記ハニカム基材の前記入口側部に担持されている前記特定貴金属の量が、前記本体部に担持されている前記特定貴金属の量よりも多い、請求項~7のいずれか一項に記載の排ガス浄化装置。 According to any one of claims 1 to 7, the amount of the specific noble metal supported on the inlet side portion of the honeycomb base material is greater than the amount of the specific noble metal supported on the main body portion. exhaust gas purification equipment. 前記ハニカム基材の前記入口側部に担持されている前記特定貴金属の量が、前記本体部に担持されている前記特定貴金属の量の1.5倍以上5.0倍以下である、請求項8に記載の排ガス浄化装置。 The amount of the specific noble metal supported on the inlet side portion of the honeycomb base material is 1.5 times or more and 5.0 times or less the amount of the specific noble metal supported on the main body portion. 8. The exhaust gas purification device according to 8. 前記ハニカム基材の気孔率が、30~70%である、請求項1~9のいずれか一項に記載の排ガス浄化装置。 The exhaust gas purification device according to any one of claims 1 to 9, wherein the honeycomb base material has a porosity of 30 to 70%. 前記排ガス流路の少なくとも一部が触媒層を有していない、請求項1~10のいずれか一項に記載の排ガス浄化装置。 The exhaust gas purification device according to any one of claims 1 to 10, wherein at least a portion of the exhaust gas flow path does not have a catalyst layer. 以下の(a)~(c)を少なくとも含む、請求項1~11のいずれか一項に記載の排ガス浄化装置の製造方法:
(a)多孔質壁で隔てられた複数の排ガス流路を有するハニカム基材の一方の開口側から、1種又は2種以上の触媒貴金属の塩及び増粘剤を含む溶液を提供すること、ここで前記溶液は、せん断速度380s-1における粘度が10~400mPaであり、前記触媒貴金属は、白金、パラジウム、及びロジウムから成る群から選択される;
(b)前記提供された溶液を、前記ハニカム基材の前記溶液が提供された方とは反対の開口側から吸引すること及び/又は前記ハニカム基材の前記溶液が提供された方の開口側から圧送すること;及び
(c)前記ハニカム基材を乾燥及び/又は焼成すること。
The method for manufacturing an exhaust gas purification device according to any one of claims 1 to 11 , comprising at least the following (a) to (c):
(a) providing a solution containing one or more catalytic noble metal salts and a thickener from one open side of a honeycomb substrate having a plurality of exhaust gas channels separated by porous walls; wherein the solution has a viscosity of 10 to 400 mPa at a shear rate of 380 s −1 and the catalytic noble metal is selected from the group consisting of platinum, palladium, and rhodium;
(b) suctioning the provided solution from an opening side of the honeycomb substrate opposite to the side to which the solution was provided and/or an opening side of the honeycomb substrate to which the solution was provided; and (c) drying and/or firing the honeycomb substrate.
さらに、以下の(d)を含む、請求項12に記載の方法:
(d)前記ハニカム基材の排ガス流路の入口からその全長の30mm以下の入口側部を含むように、前記触媒貴金属の塩を含む溶液に前記ハニカム基材を浸漬した後、前記ハニカム基材を乾燥及び/又は焼成し、それにより前記入口側部に担持されている前記触媒貴金属の量を、前記入口側部以外の本体部に担持されている前記触媒貴金属の量よりも多くすること。
The method of claim 12, further comprising (d):
(d) After immersing the honeycomb base material in a solution containing the salt of the catalytic noble metal so as to include the inlet side part of the exhaust gas flow path of the honeycomb base material within 30 mm or less of the total length thereof, the honeycomb base material drying and/or calcining, thereby increasing the amount of the catalytic noble metal supported on the inlet side portion than the amount of the catalytic noble metal supported on the main body portion other than the inlet side portion.
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