JP7204970B1 - 連続加熱炉および着脱装置 - Google Patents

Abstract

【課題】被処理物の処理効率の向上。【解決手段】連続加熱炉１０Ａは、加熱容器Ａが搬送される連続した搬送空間１２ａを形成する少なくとも１つの炉体１２を有する。搬送空間１２ａは、第１加熱室１０ａと、第２加熱室１０ｃとを有している。第１加熱室１０ａと第２加熱室１０ｃの間には、搬送方向Ｔ１に沿って並べられた搬送ローラ１６と、搬送ローラ１６の上を搬送された被搬送物を昇降させるリフタ２０と、リフタ２０で持ち上げられた被搬送物を保持する保持機構３０とが設けられている。【選択図】図５

Description

本開示は、連続加熱炉および着脱装置に関する。

特開平８－２１９６５２号公報、特開平８－２２６７７４号公報、特開平９－１０５５８５号公報には、第１の加熱空間と第２の加熱空間を有する炉本体と、被焼成物が投入される加熱容器（これらの公報では、匣と称されている。）と、加熱容器を第１の加熱空間から第２の加熱空間に向かって搬送する搬送部とを備えた焼成装置が開示されている。加熱容器は、蓋が載せられた状態で搬送される。

特開平８－２１９６５２号公報に開示されている焼成装置は、第１の加熱空間と第２の加熱空間との境界近傍に蓋閉塞手段を有している。蓋閉塞手段は、蓋が加熱容器の開口を閉塞するように加熱容器と蓋とを相対移動させる押し出し部材と、押し出し部材を加熱容器および蓋に対して前進および後退させる押し出し部材駆動手段とを備えている。加熱容器は、第１の加熱空間では、蓋が開口部の少なくとも一部を開放するように載せられた状態で搬送される。加熱容器が第１の加熱空間と第２の加熱空間との境界に搬送されると、蓋閉塞手段は、加熱容器に載せられた蓋を移動させ、加熱容器の開口部を閉塞する。同公報に開示されている焼成装置によると、脱バインダ処理と本焼成処理との連続処理が可能になるとされている。

特開平８－２２６７７４号公報に開示されている焼成装置に用いられる加熱容器は、加熱容器本体と、開口部が形成され、加熱容器本体の上面を塞ぐ蓋と、蓋上に載置され、蓋の開口部を覆う開口閉塞部材とを備えている。開口閉塞部材は、載置された位置と蓋の開口部を覆う位置との間を移動可能に設けられている。焼成装置は、第１の加熱空間と第２の加熱空間との境界近傍に、開口閉塞部材に当接する当接部材を備えている。開口閉塞部材は、当接部材に当たることによって載置された位置から蓋の開口部を覆う位置に移動し、開口部を塞ぐように構成されている。同公報に開示されている焼成装置によると、脱バインダ処理と本焼成処理とを連続的に行うことができ、装置の簡素化及び焼成処理の効率化を図ることができるとされている。

特開平９－１０５５８５号公報に開示されている焼成装置に用いられる加熱容器は、上面の開口を開閉する搬送方向にスライド自在な蓋を有している。搬送部は、第１の加熱空間と第２の加熱空間との境界部付近に他の部位と異なる速度で加熱容器を移動させる異速度領域を有している。異速度領域では、後方の加熱容器を前方の加熱容器の蓋に押し当てることにより、加熱容器の蓋を順次閉鎖される。加熱容器は、蓋が開いた状態で炉本体の第１の加熱空間を通過し、蓋が閉じた状態で第２の加熱空間を通過するように構成されている。同公報に開示されている焼成装置によると、簡素な構造で脱バインダから本焼成まで１つの炉内で連続処理することができるとされている。

特開平８－２１９６５２号公報 特開平８－２２６７７４号公報 特開平９－１０５５８５号公報

ところで、本発明者は、被処理物を効率的に処理できる連続加熱炉を提供したいと考えている。

ここに開示される連続加熱炉は、加熱容器が搬送される連続した搬送空間を形成する少なくとも１つの炉体を有する。搬送空間は、第１加熱室と、第２加熱室とを有している。第１加熱室と第２加熱室の間には、搬送方向に沿って並べられた搬送ローラと、搬送ローラの上を搬送された被搬送物を昇降させるリフタと、リフタで持ち上げられた被搬送物を保持する保持機構とが設けられている。
かかる連続加熱炉によれば、被処理物を効率的に加熱処理することができる。

第１加熱室と第２加熱室の間には、加熱容器に対して蓋を着脱する着脱室が設けられていてもよい。搬送ローラと、リフタと、保持機構は、着脱室に設けられていてもよい。
連続加熱炉は、制御装置をさらに備えていてもよい。制御装置は、蓋が保持機構に保持される位置まで、蓋が載せられた加熱容器を支持するリフタを上昇させる処理と、蓋を保持機構に保持させる処理と、加熱容器を搬送ローラまで降下させる処理とが実行されるように構成されていてもよい。
制御装置は、蓋が保持機構に保持される位置まで、蓋を支持するリフタを上昇させる処理と、蓋を保持機構に保持させる処理と、保持機構に蓋が保持されている位置まで、蓋が載せられていない加熱容器を支持するリフタを上昇させて加熱容器に蓋を載せる処理とが実行されるように構成されていてもよい。
連続加熱炉は、第１加熱室と着脱室の間と、着脱室と第２加熱室の間とのうち、少なくともいずれかに置換室をさらに有していてもよい。
第１加熱室と第２加熱室は、それぞれ独立した搬送機構を備えていてもよい。
第１加熱室および第２加熱室は、搬送方向に沿って並べられた複数の搬送ローラを備えていてもよい。
着脱室は、ヒータを備えていてもよい。
保持機構は、炉体に挿通された中空のシャフトと、シャフトに取り付けられた保持具と
を有していてもよい。炉体にシャフトが挿通された部位には、シール部材が取り付けられていてもよい。シャフトには、シャフトの中空部に冷媒を供給する冷媒供給装置が接続されていてもよい。
着脱室は、搬送方向と直交する幅方向の両側に一対の側壁を有していてもよい。シャフトは、一対の側壁に回転可能に架け渡されていてもよい。保持具は、シャフトから延びるアーム部と、アーム部の下端から折れ曲がった爪部とを備えていてもよい。
保持機構は、複数の保持具を備えていてもよい。複数の保持具は、シャフトに間隔を空けて配置されていてもよい。
保持具は、ニッケル－クロム－鉄合金またはニッケル基合金から構成されていてもよい。

ここに開示される着脱装置は、加熱容器が搬送される搬送空間を内部に有する。着脱装置は、加熱容器に対して蓋を着脱する。着脱装置は、搬送空間に配置されたヒータと、予め定められた搬送経路に沿って並べられたローラと、搬送ローラの上を搬送された被搬送物を持ち上げるリフタと、リフタで持ち上げられた被搬送物を保持する保持機構とを備えている。保持機構は、隔壁に挿通された中空のシャフトと、シャフトに取り付けられた保持具と、隔壁にシャフトが挿通された部位に取付けられたシール部材と、シャフトに接続され、シャフトの中空部に冷媒を供給する冷媒供給装置とを有している。
隔壁は、搬送方向と直交する幅方向の両側に一対の側壁を有していてもよい。シャフトは、一対の側壁に回転可能に架け渡されていてもよい。保持具は、シャフトから延びるアーム部と、アーム部の下端から折れ曲がり、加熱容器を支える爪部とを備えていてもよい。
シャフトは、搬送方向と直交する幅方向に沿って設けられていてもよい。
保持具は、ニッケル－クロム－鉄合金またはニッケル基合金から構成されていてもよい。
保持具は、加熱容器と当接する面に断熱材を備えていてもよい。

図１は、連続加熱炉１０を模式的に示す縦断面図である。 図２は、連続加熱炉１０の段数変更室１０ｂを模式的に示す横断面図である。 図３Ａは、第１の昇降位置Ｌ１の状態でのリフタ本体２１の位置を示す側面図である。 図３Ｂは、第２の昇降位置Ｌ２の状態でのリフタ本体２１の位置を示す側面図である。 図３Ｃは、第３の昇降位置Ｌ３の状態でのリフタ本体２１の位置を示す側面図である。 図４は、加熱容器Ａの側面図である。 図５は、連続加熱炉１０Ａを模式的に示す縦断面図である。 図６は、連続加熱炉１０Ａの着脱室１０ｂ１を模式的に示す横断面図である。 図７は、蓋Ｂが載せられた加熱容器Ａの側面図である。 図８Ａは、第１の昇降位置Ｌ１の状態でのリフタ本体２１の位置を示す側面図である。 図８Ｂは、第２の昇降位置Ｌ２の状態でのリフタ本体２１の位置を示す側面図である。 図８Ｃは、第３の昇降位置Ｌ３の状態でのリフタ本体２１の位置を示す側面図である。 図９は、着脱装置８０を示す断面図である。

以下、本開示における典型的な実施形態の１つについて、図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、以下の図面においては、同じ作用を奏する部材・部位には同じ符号を付して重複する説明を省略する。また、各図における寸法関係（長さ、幅、厚み等）は実際の寸法関係を反映するものではない。
本明細書において、「連続加熱炉」とは、被処理物を連続的に加熱処理する加熱炉のことを言う。また、本明細書において、被処理物を焼成する際に使用される容器のことを、適宜「加熱容器」と称する。

＜連続加熱炉１０＞
図１は、連続加熱炉１０の縦断面図である。図中の矢印Ｔ１は、加熱容器Ａを搬送する搬送方向を示している。図１では、搬送方向Ｔ１に沿った連続加熱炉１０の縦断面が模式的に示されている。図２は、連続加熱炉１０の段数変更室１０ｂを模式的に示す横断面図である。この実施形態では、加熱容器Ａは、搬送方向Ｔ１と直交する幅方向に３列に並べられ、搬送されている。
連続加熱炉１０は、図１に示されているように、加熱容器Ａが搬送される連続した搬送空間１２ａを形成する少なくとも１つの炉体１２を有している。この実施形態では、被処理物は、加熱容器Ａに収容された状態で搬送空間１２ａを搬送され、連続的に加熱処理される。連続加熱炉１０の搬送空間１２ａは、加熱室１０ａ，１０ｃと、段数変更室１０ｂとを有している。この実施形態では、連続加熱炉１０の搬送空間１２ａは、搬送方向Ｔ１に沿って順に、第１加熱室１０ａと、段数変更室１０ｂと、第２加熱室１０ｃとを有している。また、この実施形態では、第１加熱室１０ａと段数変更室１０ｂの間には、置換室１０ｄが設けられている。また、段数変更室１０ｂと第２加熱室１０ｃの間には、置換室１０ｅが設けられている。以下、かかる連続加熱炉１０を順に説明する。また、連続加熱炉１０は、搬送方向Ｔ１に加熱容器Ａを搬送するための搬送機構１５をさらに備えている。

＜炉体１２＞
炉体１２は、図１に示されている実施形態では、複数の加熱容器Ａを段積みした状態で搬送方向Ｔ１に搬送しうる搬送空間１２ａを内部に有している。搬送空間１２ａには、後述する、搬送ローラ１６と、リフタ２０と、保持機構３０とが設けられている。この実施形態では、炉体１２は、搬送空間１２ａを囲うトンネル型の炉体である。搬送空間１２ａは、段積みされた加熱容器Ａを搬送できる所要の高さを有している。この実施形態では、搬送空間１２ａは、直線状に設定されている。図２に示されているように、炉体１２は、搬送空間１２ａの搬送方向Ｔ１（図１参照）の周りを全周に亘って、断熱材によって構成された炉壁１２ｂ～１２ｄで囲われている。この実施形態では、炉体１２は、搬送方向Ｔ１と直交する幅方向の両側に一対の側壁１２ｂと、天井１２ｃと、床壁１２ｄとを有している。各炉壁１２ｂ～１２ｄは、例えば、セラミックファイバーボードで構成されている。セラミックファイバーボードは、例えば、いわゆるバルクファイバーに無機フィラーと無機・有機結合材とが添加されて板状に成形された板材である。セラミックファイバーボードは、所定の形状に切り出されて重ねられることによって、所要の厚さの炉壁を形成する。炉壁１２ｂ～１２ｄの厚さは、搬送空間１２ａの熱が十分に断熱される程度の所要の厚さに設定されうる。

炉体１２には、搬送空間１２ａの雰囲気を制御するための種々の構成が設けられていてもよい。例えば、図１に示されているように、窒素やアルゴン等を給気できるよう、ガス供給管１２ｆが設けられていてもよい。ガス供給管１２ｆの噴き出し口１２ｆ１には、噴き出すガスが当たり勢いが抑えられるように適宜に遮蔽棒１２ｆ２が設けられていてもよい。雰囲気圧力の調整や排ガスをできるよう、ガス排気管１２ｇが設けられていてもよい。この実施形態では、ガス供給管１２ｆは、床壁１２ｄに設けられている。ガス排気管１２ｇは、天井１２ｃに設けられている。また、炉体１２内には、空間ごとに雰囲気を切り替えるための仕切り１２ｈが設けられていてもよい。炉体１２は、予め定められた高さに設定されたベース１８（図２参照）の上に配置されている。ベース１８は、連続加熱炉１０内の雰囲気を調整するためのガス供給管や搬送機構１５の駆動装置などが設けられる空間を有しているとよい。

＜搬送機構１５＞
搬送機構１５は、搬送方向Ｔ１に加熱容器Ａを搬送する機構である。この実施形態では、搬送機構１５は、炉体１２の内部の搬送空間１２ａに、複数の搬送ローラ１６が搬送方向Ｔ１に沿って並べられた構造を有している。搬送ローラ１６は、加熱容器Ａを搬送するためのローラである。複数の搬送ローラ１６は、円筒形状のローラであり、加熱容器Ａを支持できるように高さを揃え、予め定められたピッチで搬送空間１２ａに並べられている。図２は、連続加熱炉１０のうち段数変更室１０ｂの横断断面図である。搬送ローラ１６は、図２に示されているように、搬送方向Ｔ１と直交する方向に沿って炉体１２の両側の側壁１２ｂの挿通孔１２ｅを貫通している。搬送ローラ１６としては、例えば、セラミックローラや金属ローラ等が用いられる。搬送ローラ１６は、図示しない軸受を介して、炉体１２の外部に設けられた支持板１６ａ，１６ｂに回転可能に支持されている。

この実施形態では、搬送ローラ１６の支持板１６ａ側の端部にはスプロケット１７が取り付けられている。スプロケット１７には、図示しないローラチェーンが取り付けられている。ローラチェーンは、搬送ローラ１６を回転させるモータ等の駆動装置と連結されている。ローラチェーンはさらに、隣り合う搬送ローラ１６を連結している。搬送ローラ１６の支持板１６ｂ側の端部には、スプロケットは取り付けられていない。搬送ローラ１６の支持板１６ｂ側の端部は、支持板１６ａ側の回転に合わせて回転する。このように、ローラチェーンによって連結された搬送ローラ１６は、同じタイミングで同じ速度で回転する。ローラによって製品を搬送する連続式加熱炉は、ローラハースキルン（ＲＨＫ）と称される。ローラハースキルンに用いられるローラは、一般的に、連続加熱炉に用いられる搬送機構の中でも高強度であり、例えば、重量の重い被処理物を焼成する際に好適に用いられうる。また、セラミックローラ間の隙間があることにより、上方および下方から効率よく加熱することができ、例えば、高い焼成温度で焼成する際に好適に用いられうる。

＜ヒータ１４＞
ヒータ１４は、搬送空間１２ａにおいて加熱容器Ａに収容された被処理物を加熱する装置である（図１参照）。ヒータ１４は、図１に示されているように、炉体１２の搬送空間１２ａに配置されている。この実施形態では、ヒータ１４は、複数の搬送ローラ１６の上方および下方に、搬送方向Ｔ１に沿って所定の間隔を空けて並べられている。この実施形態では、ヒータ１４として、円筒形状のセラミック製のヒータが用いられている。ヒータ１４は、側壁１２ｂを貫通している。この実施形態では、ヒータ１４は、搬送ローラ１６の上方および下方に配置されているが、かかる形態に限定されない。ヒータ１４は、加熱容器Ａに収容された被処理物を一方向から加熱できるように、搬送ローラ１６の上方または下方にも配置されてもよい。なお、図２では、ヒータ１４の図示は省略されている。なお、ヒータ１４には、加熱温度等に応じて種々のヒータが用いられうる。ヒータ１４には、セラミック製のヒータの他に、金属シースヒータ等が用いられうる。また、ヒータ１４の形状は特に限定されず、例えば、板状のパネルヒータ等も用いられうる。

＜第１加熱室１０ａ，第２加熱室１０ｃ＞
第１加熱室１０ａと第２加熱室１０ｃは、それぞれ加熱容器Ａに収容された被処理物を加熱するブースである。この実施形態では、第１加熱室１０ａと第２加熱室１０ｃとは、異なる段数で加熱容器Ａが搬送されるように構成されている。図１に示された形態では、第１加熱室１０ａは、複数の加熱容器Ａが段積みされた状態で搬送されるように構成されている。第２加熱室１０ｃでは、加熱容器Ａがばらされた状態で搬送される。図１に示された形態では、第２加熱室１０ｃでは、加熱容器Ａは一段ずつ搬送されている。例えば、第１加熱室１０ａには、仕切り１２ｈが設けられている。第１加熱室１０ａの仕切り１２ｈは、複数の加熱容器Ａが段積みされた状態で通過可能な高さに設定されている。第２加熱室１０ｃにも同様に仕切り１２ｈが設けられている。第２加熱室１０ｃの仕切り１２ｈは、一段ずつ搬送される加熱容器Ａが、仕切り１２ｈの間を通過するように、第１加熱室１０ａに比べて仕切り１２ｈが低い位置まで延びている。このように、第１加熱室１０ａは、複数段に段積みされた加熱容器Ａが搬送されるように構成されており、第２加熱室１０ｃは一段ずつばらされた加熱容器Ａが搬送されるように構成されている。なお、この実施形態では、第１加熱室１０ａと第２加熱室１０ｃには仕切り１２ｈが設けられていたが、かかる形態に限定されない。第１加熱室１０ａと第２加熱室１０ｃのいずれか一方に仕切り１２ｈが設けられていてもよい。また、第１加熱室１０ａと第２加熱室１０ｃのどちらにも仕切りが設けられていなくてもよい。

この実施形態では、第１加熱室１０ａと第２加熱室１０ｃは、搬送ローラ１６を挟むように搬送空間１２ａの上部と下部にそれぞれヒータ１４が並べられている。第１加熱室１０ａと第２加熱室１０ｃは、異なる条件で加熱容器Ａが加熱される。例えば、第１加熱室１０ａでは、複数の加熱容器Ａが段積みされた状態で搬送されて纏めて加熱される。第１加熱室１０ａでは、例えば、脱バイ処理や、予加熱などの処理が行なわれうる。第２加熱室１０ｃでは、加熱容器Ａが１つずつ搬送されて加熱される。このため、加熱容器Ａに収容された被処理物をより精度の高い条件で加熱することができる。第２加熱室１０ｃでは、例えば、本焼成などが行なわれうる。この実施形態では、第１加熱室１０ａと第２加熱室１０ｃには、ガス供給管１２ｆと、ガス排気管１２ｇがそれぞれ設けられている。第１加熱室１０ａと第２加熱室１０ｃには、それぞれ異なる雰囲気ガスが供給されうる。

＜置換室１０ｄ＞
置換室１０ｄは、第１加熱室１０ａと段数変更室１０ｂとの間に設けられている。置換室１０ｄには、段積みされた状態で搬送された加熱容器Ａが導入される。置換室１０ｄには、搬送方向Ｔ１の上流側（第１加熱室１０ａ側）と下流側（段数変更室１０ｂ側）に、それぞれ空間を仕切るシャッタ１０ｄ１，１０ｄ２が設けられている。シャッタ１０ｄ１，１０ｄ２は、断熱材によって構成されている。置換室１０ｄに加熱容器Ａが導入される際には、例えば、段数変更室１０ｂ側のシャッタ１０ｄ２が閉じられた状態で、第１加熱室１０ａ側のシャッタ１０ｄ１が開けられる。この状態で第１加熱室１０ａから置換室１０ｄに段積みされた加熱容器Ａが導入される。次に、第１加熱室１０ａ側のシャッタ１０ｄ１が閉じられて、置換室１０ｄに加熱容器Ａが留められる。

＜置換室１０ｅ＞
置換室１０ｅは、段数変更室１０ｂと第２加熱室１０ｃとの間に設けられている。この実施形態では、置換室１０ｅには、段数変更室１０ｂで段ばらしされた状態で搬送された加熱容器Ａが導入される。置換室１０ｅには、搬送方向Ｔ１の上流側（段数変更室１０ｂ側）と下流側（第２加熱室１０ｃ側）に、それぞれ空間を仕切るシャッタ１０ｅ１，１０ｅ２が設けられている。シャッタ１０ｅ１，１０ｅ２は、断熱材によって構成されている。置換室１０ｅに加熱容器Ａが導入される際には、例えば、第２加熱室１０ｃ側のシャッタ１０ｅ２が閉じられた状態で、段数変更室１０ｂ側のシャッタ１０ｅ１が開けられる。この状態で段数変更室１０ｂから置換室１０ｅに段ばらしされた加熱容器Ａが導入される。次に、段数変更室１０ｂ側のシャッタ１０ｅ１が閉じられて、置換室１０ｅに加熱容器Ａが留められる。なお、シャッタ１０ｅ１，１０ｅ２は、断熱材によって構成されているものに限られず、例えば、内部に冷却水が供給されるような金属製のシャッタ等であってもよい。

置換室１０ｄと置換室１０ｅは、それぞれ室内の雰囲気を調整できる空間でありうる。例えば、置換室１０ｄ，１０ｅのガス組成や温度や圧力などが適宜に調整されるとよい。置換室１０ｄ，１０ｅには、ガス雰囲気を調整するための機構が適宜に組み込まれていてもよい。置換室１０ｄ，１０ｅの雰囲気が調整された後、下流側のシャッタ１０ｄ２，１０ｅ２が開けられて、置換室１０ｄ，置換室１０ｅから加熱容器Ａが搬出される。この実施形態では、置換室１０ｄ，１０ｅは、それぞれ炉体１２の炉壁１２ｂ～１２ｄで囲まれている。連続加熱炉１０は、加熱容器Ａが搬送される連続した搬送空間１２ａを形成する少なくとも１つの炉体１２を有しているとよく、搬送空間１２ａの一部には置換室１０ｄ，１０ｅを有していてもよい。この場合、置換室１０ｄ，１０ｅの搬送空間１２ａは、炉体１２で形成されている。このため、置換室１０ｄ，１０ｅにおいて搬送される加熱容器Ａの温度を高く維持できる。

第１加熱室１０ａと段数変更室１０ｂの間に置換室１０ｄが設けられていることによって、第１加熱室１０ａの雰囲気ガスが、段数変更室１０ｂに及び難くなる。また、段数変更室１０ｂと第２加熱室１０ｃの間に置換室１０ｅが設けられていることによって、段数変更室１０ｂの雰囲気ガスが第２加熱室１０ｃに及び難くなる。この実施形態では、第１加熱室１０ａと段数変更室１０ｂの間と、段数変更室１０ｂと第２加熱室１０ｃの間との両方に、それぞれ置換室１０ｄ，１０ｅが設けられている。第１加熱室１０ａの雰囲気ガスと第２加熱室１０ｃの雰囲気ガスを互いに混ざりにくくするとの観点においては、第１加熱室１０ａと段数変更室１０ｂの間と段数変更室１０ｂと第２加熱室１０ｃの間との少なくともいずれかに置換室が設けられているとよい。この場合も、置換室１０ｄ，１０ｅが炉体１２によって形成される搬送空間１２ａに構成されていることによって、加熱容器Ａの温度を高く維持できる。

また、この実施形態では、第１加熱室１０ａと、段数変更室１０ｂと、第２加熱室１０ｃとは、それぞれ搬送方向Ｔ１に沿って並べられた複数の搬送ローラ１６を備えている。このうち第１加熱室１０ａと第２加熱室１０ｃは、それぞれ独立した搬送機構１５を備えていてもよい。例えば、第１加熱室１０ａと第２加熱室１０ｃとで、搬送ローラ１６は、異なる駆動装置に接続されているとよい。つまり、第１加熱室１０ａでは、複数の加熱容器Ａが段積みされた状態で搬送される。第２加熱室１０ｃでは、段ばらしされた状態で加熱容器Ａが搬送される。このため、第１加熱室１０ａと第２加熱室１０ｃとで、加熱容器Ａを搬送する速度が異なっていてもよい。つまり、複数の加熱容器Ａが段積みされた状態で搬送される第１加熱室１０ａでは、ゆっくりと搬送され、段ばらしされた状態で加熱容器Ａが搬送される第２加熱室１０ｃでは、第１加熱室１０ａよりも速い搬送速度で加熱容器Ａが搬送されるとよい。これによって、加熱容器Ａが第１加熱室１０ａと第２加熱室１０ｃで渋滞することなくスムーズに搬送される。また、置換室１０ｄ，１０ｅは、独立した搬送機構を有していてもよい。置換室１０ｄ，１０ｅは、当該置換室１０ｄ，１０ｅを挟む、第１加熱室１０ａ、段数変更室１０ｂ、第２加熱室１０ｃの搬送機構１５と適宜に連動するように構成されているとよい。

また、第１加熱室１０ａと第２加熱室１０ｃにおける加熱容器Ａの搬送は、搬送ローラ１６に限られない。例えば、いわゆるメッシュベルトキルン（ＭＢＫ）に使用されるような、金属製のベルトコンベヤによって加熱容器Ａを搬送するように構成されていてもよい。

＜段数変更室１０ｂ＞
段数変更室１０ｂは、段数変更手段１１と、ストッパ５０と、幅寄せ機構７０（図２参照）と、ヒータ１４と、搬送ローラ１６とを備えている。段数変更手段１１は、搬送される加熱容器Ａの段数を変更する装置である。段数変更手段１１によって、第１加熱室１０ａと第２加熱室１０ｃには、異なる段数の加熱容器Ａが搬送される。段数変更手段１１は、リフタ２０と、保持機構３０とを備えている。

＜ストッパ５０＞
ストッパ５０は、搬送空間１２ａを搬送される加熱容器Ａを、リフタ２０に合わせて予め定められた位置で停止させる装置である。この実施形態では、ストッパ５０は、ストッパ本体５１と、ストッパ本体５１を支持するシャフト５２と、シャフト５２を通じてストッパ本体５１を昇降させる昇降装置５３とを備えている。ストッパ本体５１は、搬送方向Ｔ１に法線方向を向けられたプレート状の部材であり、リフタ２０に合わせて予め定められた位置で搬送ローラ１６の間隙から搬送ローラ１６の上方に突出するように設けられている。シャフト５２は、ストッパ本体５１を支持するシャフトである。シャフト５２は、ストッパ本体５１の下端を支持しており、炉体１２の床壁１２ｄを上下に貫通している。

昇降装置５３は、シャフト５２を昇降させる装置であり、例えば、シリンダ装置で構成されている。この実施形態では、昇降装置５３としてのシリンダは、ピストンロッドを下方に向けて炉体１２の床壁１２ｄの外側面に取り付けられている。シリンダのピストンロッドの先端には、シャフト５２が連結されている。昇降装置５３のピストンロッドが押し下げられることによって、ストッパ本体５１が下がる。昇降装置５３のピストンロッドが引き上げられることによって、ストッパ本体５１が上がり、加熱容器Ａが所定位置で停止される。

＜幅寄せ機構７０＞
幅寄せ機構７０は、図２に示されているように、幅方向において加熱容器Ａの位置を調整するための機構である。幅寄せ機構７０は、ストッパ５０（図１参照）によって停止された加熱容器Ａの位置が調整される。幅寄せ機構７０は、幅寄せ板７１と、幅寄せ板７１を支持するシャフト７２と、シャフト７２を通じて幅寄せ板７１を駆動する駆動装置７３とを備えている。幅寄せ板７１は、炉体１２の側壁１２ｂと平行なプレート状の部材である。シャフト７２は、幅寄せ板７１の側壁１２ｂと対向する側の面に垂直に取り付けられている。シャフト７２は、側壁１２ｂを貫通し、炉体１２の外側に延びている。駆動装置７３は、シャフト７２を駆動する装置であり、例えば、シリンダ装置で構成されている。この実施形態では、駆動装置７３としてのシリンダは、ピストンロッドを幅方向外側に向けて炉体１２の側壁１２ｂの外側面に取り付けられている。シリンダのピストンロッドの先端には、シャフト７２が連結されている。ピストンロッドが内側に向かって引き入れられることによって、炉体１２内部の幅寄せ板７１が幅方向内側に向かって駆動される。その際、ストッパ５０によって停止させられた加熱容器Ａの位置は、所定の位置に調整される。この実施形態では、幅方向に３列に並べられた加熱容器Ａが接触した状態で位置が調整される。
３列に並べて搬送された加熱容器Ａは、ストッパ５０（図１参照）によって搬送方向Ｔ１における位置が揃えられ、幅寄せ機構７０によって幅方向の位置が揃えられる。なお、加熱容器Ａを搬送する際の列数は被処理物の大きさや加熱容器Ａの寸法等によって適宜設定される。加熱容器Ａを搬送する際の列数は、単列であってもよく、２列以上の複数列であってもよい。

＜リフタ２０＞
リフタ２０は、第１加熱室１０ａ（図１参照）から搬送ローラ１６の上を搬送された加熱容器Ａを昇降させる装置である。この実施形態では、リフタ２０は、炉体１２において保持機構３０と上下に対向する位置に設けられている。リフタ２０は、リフタ本体２１と、昇降装置２４と、ガイド２５とを備えている。

リフタ本体２１は、図１に示されているように、搬送方向Ｔ１に沿って並べられた搬送ローラ１６の間から上方に突出し、加熱容器Ａを持ち上げる部材である。この実施形態では、リフタ本体２１は、第１プレート２１ａと、第２プレート２１ｂと、連結部２１ｃとを有している。第１プレート２１ａと第２プレート２１ｂは、それぞれ矩形のプレートである。第１プレート２１ａと第２プレート２１ｂは、プレートの法線方向を搬送方向Ｔ１に向け、一方の長辺を上、他方の長辺を下に向け、搬送ローラ１６の間隙に挿通されるように配置されている。第１プレート２１ａと第２プレート２１ｂは、３列に並べられた加熱容器Ａを乗せられる程度の幅を有している。

この実施形態では、第１プレート２１ａは、搬送方向Ｔ１の上流側、第２プレート２１ｂは、搬送方向Ｔ１の下流側に配置されている。連結部２１ｃは、搬送ローラ１６の下方で、第１プレート２１ａと第２プレート２１ｂとの下端を繋ぐ部材である。換言すると、第１プレート２１ａと第２プレート２１ｂは、連結部２１ｃから上方に向けて立ち上がっている。連結部２１ｃには、下方に延びる操作ロッド２１ｄが取り付けられている。この実施形態では、図２に示されているように、搬送空間１２ａの幅方向において間隔をあけて、２本の操作ロッド２１ｄが、連結部２１ｃに取り付けられている。操作ロッド２１ｄは、それぞれ床壁１２ｄを上下に貫通し、床壁１２ｄから下方に延びている。２本の操作ロッド２１ｄの下端は、連結バー２１ｅで連結されている。連結バー２１ｅの両端は、床壁１２ｄの外側面から下方に延びたガイド２５にリニアブッシュ２５ａを介して取り付けられているとよい。

昇降装置２４は、連結バー２１ｅを昇降させる装置である。昇降装置２４は、例えば、シリンダ装置で構成されている。昇降装置２４としてのシリンダは、ピストンロッドを下方に向けて炉体１２の床壁１２ｄの外側面に取り付けられている。シリンダのピストンロッドの先端に、連結バー２１ｅが連結されている。昇降装置２４のピストンロッドが引き上げられることによって、連結バー２１ｅが上がり、リフタ本体２１が上昇する。これによって、ストッパ５０によって予め定められた位置に停止している加熱容器Ａが持ち上げられる。昇降装置２４のピストンロッドが押し下げられることによって、連結バー２１ｅが下がり、加熱容器Ａが降ろされる。なお、この実施形態では、昇降装置２４としてシリンダ装置が用いられていたが、かかる形態に限定されない。例えば、昇降装置として、リフタ本体２１を上下させるアクチュエータが用いられてもよい。また、リフタ本体２１の形状は、プレート状に限られず、例えば、柱状などであってもよい。

＜昇降位置Ｌ１～Ｌ３＞
この実施形態では、リフタ２０には、３つの昇降位置Ｌ１～Ｌ３が予め設定されている。ここで、図３Ａは、第１の昇降位置Ｌ１の状態でのリフタ本体２１の位置を示す側面図である。図３Ｂは、第２の昇降位置Ｌ２の状態でのリフタ本体２１の位置を示す側面図である。図３Ｃは、第３の昇降位置Ｌ３の状態でのリフタ本体２１の位置を示す側面図である。

第１の昇降位置Ｌ１では、リフタ本体２１の上端が搬送ローラ１６の上端よりも低くなるように、リフタ本体２１の位置が設定されている。昇降位置Ｌ１では、リフタ本体２１は、搬送ローラ１６の上を搬送される加熱容器Ａに当たらない。例えば、搬送ローラ１６によって加熱容器Ａを搬送させる場合に、リフタ２０は昇降位置Ｌ１に制御されるとよい。

第２の昇降位置Ｌ２では、保持機構３０に保持されている加熱容器Ａの下に重ねられる所定の高さまで加熱容器Ａが持ち上げられるように、リフタ本体２１の位置が設定されている。昇降位置Ｌ２では、例えば、持ち上げた加熱容器Ａに保持機構３０に保持されている加熱容器Ａが重ねられる。この際、保持機構３０の保持を解除しても、リフタ２０で加熱容器Ａを保持できる。

第３の昇降位置Ｌ３では、保持機構３０によって保持される高さまで、加熱容器Ａが持ち上げられるように、リフタ本体２１の位置が設定されている。例えば、リフタ２０によって持ち上げられた加熱容器Ａを保持機構３０に保持させる場合や、保持機構３０で保持された加熱容器Ａを降ろす場合に、リフタ２０は、昇降位置Ｌ３に制御されるとよい。

＜保持機構３０＞
保持機構３０は、図２に示されているように、リフタ２０によって持ち上げられた加熱容器Ａを保持する機構である。保持機構３０は、２本のシャフト３１と、複数の保持具３２（図１参照）とを有している。保持機構３０は、シール部材３３と、冷媒供給装置４０とを有している。この実施形態では、１本のシャフト３１につき３つの保持具３２が所要の間隔を空けて取り付けられている。３つの保持具３２は、３列に並べられた加熱容器Ａのそれぞれの位置に対応する位置に取り付けられているとよい。ここで、図４は、加熱容器Ａの側面図であり、略矩形の浅底のケースである。加熱容器Ａの周縁部には、壁ａ１が立ち上がっている。略矩形の辺に沿った壁ａ１の中央部は凹んでいる。かかる凹みａ２は、加熱容器Ａが重ねられた時に雰囲気ガスが流通する間隙を形成する。

＜シャフト３１＞
２本のシャフト３１は、炉体１２の挿通孔に挿通されている。シャフト３１は、搬送方向Ｔ１と直交する幅方向に沿って設けられている。シャフト３１は、中空構造を有している。シャフト３１は、円筒形状である。シャフト３１は、一方の端から他方の端にわたって空洞が形成されている。シャフト３１としては、耐熱性や強度に優れる金属が用いられ、例えば、ステンレス、後述するニッケル基合金、クロムやモリブデンを合計で２０～３５質量％程度含んだニッケル基合金等が用いられうる。この実施形態では、ステンレス製のシャフト３１が用いられている。シャフト３１は、搬送方向Ｔ１（図１参照）においてリフタ２０によって加熱容器Ａが持ち上げられる予め定められた位置の前後に設けられている。シャフト３１は、搬送方向Ｔ１と直交する幅方向に沿って一対の側壁１２ｂを貫通し、かつ、回転可能に架け渡されている（図２参照）。

保持具３２は、図３Ａ～図３Ｃに示されているように、基部３２ａと、アーム部３２ｂと、爪部３２ｃとを備えている。基部３２ａは、円筒状の部材であり、シャフト３１に装着されている。アーム部３２ｂは、基部３２ａの外周面から下方に向かって延びたプレート状の部位である。この実施形態では、アーム部３２ｂは、搬送方向Ｔ１の前後に設けられたシャフト３１に装着された基部３２ａの外側面のうち、搬送方向Ｔ１に沿って対向する内側の側面に設けられている。これにより、アーム部３２ｂは、リフタ２０によって持ち上げられる加熱容器Ａを前後から挟むように延びている。爪部３２ｃは、アーム部３２ｂの下端から内側に折れ曲がった部位である。爪部３２ｃは、加熱容器Ａの底部を支持しうる。このように、この実施形態では、シャフト３１は、炉体１２の一対の側壁１２ｂに回転可能に架け渡されている。保持具３２は、シャフト３１から延びるアーム部３２ｂと、アーム部３２ｂの下端から折れ曲がった爪部３２ｃとを有している。

かかる保持具３２としては、耐熱性や耐酸化性の高い金属が用いられ、例えば、ニッケル－クロム－鉄合金や、ニッケル基合金等が用いられる。本明細書において、ニッケル－クロム－鉄合金とは、合金全体を１００質量％としたときに、ニッケル、クロムおよび鉄の合計の含有割合が８０質量％以上である合金のことをいう。ニッケル、クロムおよび鉄の合計の含有割合は、９０質量％以上であってもよく、例えば、９５質量％以上であってもよい。ニッケル－クロム－鉄合金に含まれるニッケルの含有割合は、例えば、２０質量％以上３５質量％以下であってもよい。クロムの含有割合は、例えば、２０質量％以上２５質量％以下であってもよい。鉄の含有割合は、例えば、４０質量％以上６０質量％以下であってもよい。また、本明細書において、ニッケル基合金とは、合金全体を１００質量％としたときに、ニッケルの含有割合が５０質量％以上である合金のことをいう。ニッケルの含有割合は、７０質量％以上であってもよい。ニッケル以外の金属としては、例えば、クロムや鉄が含まれていてもよい。合金全体を１００質量％としたときに、クロムの含有割合は、１０質量％以上２５質量％以下であってもよい。鉄の含有割合は、２０質量％以下であってもよく、５質量％以下であってもよい。

＜シール部材３３＞
シール部材３３は、図２に示されているように、炉体１２にシャフト３１が挿通された部位に取り付けられている。この実施形態では、炉体１２は、シャフト３１が挿通された部位の外側にハウジング３４が設けられている。ハウジング３４内には、シール部材３３と軸受３５とが装着されている。シャフト３１は、ハウジング３４内で軸受３５によって回転可能に支持されている。また、シール部材３３は、シャフト３１とハウジング３４との隙間をシールしている。シール部材３３としては、例えば、炭素繊維系のグランドパッキン、ゴム製のオイルシール、シリコン系シール材などが用いられる。シール部材３３によって、炉体１２内部の雰囲気ガスが外部に漏れるのが防止される。

シャフト３１は、ハウジング３４からさらに外側に延びており、シャフト３１の径方向に延びた操作アーム３６を介して駆動装置３７に取り付けられている。ここで駆動装置３７は、シリンダ装置であり、シリンダの一端は、炉体１２の筐体に設けられた支持片３８に固定されている。シャフト３１は、かかる駆動装置３７によって回転操作される。また、シャフト３１の端部には、冷媒供給装置４０に接続されるコネクタ３９が設けられている。コネクタ３９は、シャフト３１の中空部に接続され、シャフト３１の中空部に冷媒を供給する構造を有しているとよい。

保持機構３０は、駆動装置３７によってシャフト３１を周方向に回転させることによって、保持具３２が開閉され、加熱容器Ａを保持できるように構成されている。この実施形態では、保持機構３０は、シャフト３１を回転させると３つの保持具３２が同時に開閉されるように構成されている。そのため、３列に並べられた加熱容器Ａが同時に保持される。

図３Ａ～図３Ｃに示されているように、搬送方向Ｔ１の前後のシャフト３１がそれぞれ内向きに回転することによって、加熱容器Ａを保持するようにシャフト３１に取り付けられたアーム部３２ｂが閉じられる。また、前後のシャフト３１がそれぞれ外向きに回転すると、加熱容器Ａを保持するようにシャフト３１に取り付けられたアーム部３２ｂが開かれる。

前後のシャフト３１のアーム部３２ｂが閉じられた閉状態Ｈ１では、爪部３２ｃが加熱容器Ａの底部を支えるので加熱容器Ａが保持される。前後のシャフト３１のアーム部３２ｂが開かれた開状態Ｈ２では、爪部３２ｃが加熱容器Ａの底部に干渉しない位置に退避する。このように、駆動装置３７が制御されることによって、保持機構３０の保持具３２を閉状態Ｈ１と開状態Ｈ２とに操作できる。なお、図３Ａ～図３Ｃは、模式的に示されている。図３Ａ～図３Ｃでは、炉体１２の側壁１２ｂは、図示が省略されており、保持機構３０の駆動装置３７が図示されている。なお、この実施形態では、保持機構３０は、側壁１２ｂに架け渡されたシャフト３１を有し、一端から他端に向かって冷媒が供給されるように構成されていたが、かかる形態に限定されない。例えば、炉体１２の天井１２ｃを貫通するシャフトが用いられていてもよい。かかるシャフトは、例えば、二重管構造を有し、内側の管から外側の管に向かって冷媒の流れが折り返すように構成されているとよい。かかるシャフトには、端部に保持具が取り付けられているとよい。

＜冷媒供給装置４０＞
冷媒供給装置４０は、図２に示されているように、シャフト３１の内部に冷媒を供給する装置である。冷媒としては、水等を用いることができる。シャフト３１の内部に供給される冷媒の温度は、例えば、常温等、搬送空間１２ａの雰囲気温度よりも低い温度である。冷媒の種類や温度は特に限定されず、搬送空間１２ａの雰囲気温度等に応じて適宜設定される。この実施形態では、シャフト３１の両端にはコネクタ３９が取り付けられている。シャフト３１の一方の端には、コネクタ３９を介して冷媒供給装置４０が接続されている。冷媒供給装置４０によって、シャフト３１の一方の端から他方の端に向かって冷媒が供給される。冷媒供給装置４０によるシャフト３１へ冷媒の供給方法は特に限定されない。例えば、２本のシャフト３１に、それぞれに別の冷媒供給装置が接続され、それぞれのシャフト３１には個別に冷媒が送られるように構成されていてもよい。また、冷媒供給装置として、循環型の冷媒供給装置を用い、２本のシャフト３１を同じ冷媒が循環するように構成されていてもよい。

冷媒供給装置４０は、シャフト３１の内部に適宜に冷媒を供給することができる。例えば、シャフト３１に冷媒を供給しつつ、後述する段積み作業や段ばらし作業を行なうことができる。例えば、段積み作業や段ばらし作業が、高温環境で行なわれる場合など、適宜にシャフト３１に冷媒が供給されるとよい。

図２に示されているように、リフタ２０、保持機構３０およびストッパ５０（図１参照）は、制御装置６０によって制御されるとよい。制御装置６０は、例えば、加熱容器Ａの搬送、リフタ２０の昇降、保持機構３０の保持具３２の開閉を制御するように構成されているとよい。ここで、制御装置６０は、リフタ２０を昇降させる昇降装置２４と、保持機構３０を駆動する駆動装置３７と接続されている。制御手法としては、例えば、シーケンス制御等の種々の制御手法を採用することができる。また、冷媒供給装置４０による冷媒の供給についても、制御装置６０によって制御されてもよい。

上述したリフタ２０および保持機構３０の動作が組み合わされることによって、加熱容器Ａを段積みしたり、重ねられた複数の加熱容器Ａをばらしたりすることができる。ここでは、複数の加熱容器Ａを重ねる作業は、適宜に「段積み」と称される。重ねられた複数の加熱容器Ａをばらす作業は、適宜に「段ばらし」と称される。ここでは、第１加熱室１０ａから搬送方向Ｔ１に搬送された、複数段に重ねられた加熱容器Ａを段ばらしする作業を説明し、その後、段積み作業を説明する。

＜段ばらし作業＞
段ばらし作業では、複数の加熱容器Ａが重ねられた状態で搬送されてくる。これを、所定の枚数ずつ加熱容器Ａをばらす。ここでは、図１に示されているように、加熱容器Ａを１段ずつばらして搬送する作業を例示的に説明する。

図３Ａに示されているように、制御装置６０（図２参照）は、リフタ２０を搬送ローラ１６よりも下の第１の昇降位置Ｌ１で待機させる。また、保持機構３０を２点鎖線で示されているように、アーム部３２ｂが開いた開状態Ｈ２で待機させる。この状態で、制御装置６０は、搬送空間１２ａの所定の位置で加熱容器Ａを検知し、予め定められたタイミングでストッパ５０を上昇させる。これにより、リフタ２０によって持ち上げられる予め定められた位置で、加熱容器Ａが停止する。

制御装置６０は、図３Ｂに示されているように、第２の昇降位置Ｌ２までリフタ２０を上昇させる。この状態で、保持機構３０のアーム部３２ｂが閉状態Ｈ１に閉じられることによって、段積みされた加熱容器Ａのうち一番下の加熱容器Ａよりも上の加熱容器Ａが保持機構３０に保持される。その後、制御装置６０は、図３Ａに示されているように、リフタ２０を降下させて、搬送ローラ１６よりも下の第１の昇降位置Ｌ１でリフタ２０を待機させる。これによって、一番下の加熱容器Ａが降下する。ストッパ５０を下げて開放させることによって、加熱容器Ａは搬送ローラ１６によって搬送される。これにより、段積みされた加熱容器Ａのうち一番下の加熱容器Ａがばらされて搬送される。

次に、制御装置６０は、図３Ｃに示されているように、リフタ２０を第３の昇降位置Ｌ３に上昇させる。これによって、保持機構３０に保持された段積みされた残りの加熱容器Ａがリフタ２０によって支持される。制御装置６０は、保持機構３０を開状態Ｈ２にし、図３Ｂに示されているように、リフタ２０を第２の昇降位置Ｌ２に降下させた後で、保持機構３０を閉状態Ｈ１にする。これによって、段積みされた加熱容器Ａのうち一番下の加熱容器Ａはリフタ２０によって支持される。また、一番下の加熱容器Ａよりも上の加熱容器Ａは保持機構３０によって保持される。この状態で、制御装置６０は、図３Ａに示されているように、リフタ２０を第１の昇降位置Ｌ１に降下させる。これによって、一番下の加熱容器Ａが降下し、搬送ローラ１６によって搬送される。このように、段積みされた加熱容器Ａのうち一番下の加熱容器Ａがばらされる。

以降は、制御装置６０によって、上記の処理が繰り返される。これによって、段積みされた加熱容器Ａは、下から順番にばらされて搬送ローラ１６によって搬送される。加熱容器Ａを２段ずつばらす場合には、リフタ２０の第２の昇降位置Ｌ２の高さが、第３の昇降位置Ｌ３から加熱容器Ａ２つ分の下げた高さに調整されるとよい。これにより、加熱容器Ａは、２段ずつばらされ、２段で段積みされた状態で搬送される。同様に、加熱容器Ａは、複数段（例えば、３段）ずつ段積みされた状態にばらすこともできる。

＜段積み作業＞
搬送方向Ｔ１に搬送された加熱容器Ａを重ねる段積み作業では、以下の手順で、加熱容器Ａの停止、加熱容器Ａの持ち上げ、加熱容器Ａの保持が繰り返される。

図３Ａは、段積み作業において加熱容器Ａを停止させた状態が示されている。ここでは、図３Ａに示されているように、リフタ２０は、リフタ本体２１を搬送ローラ１６の下に位置する昇降位置Ｌ１で待機させる。また、保持機構３０は、加熱容器Ａを保持しておらず、２点鎖線で示されているように、アーム部３２ｂが開いた開状態Ｈ２で待機させる。この状態で、制御装置６０（図２参照）は、搬送空間１２ａの所定の位置で加熱容器Ａを検知すると、予め定められたタイミングでストッパ５０を上昇させる。これにより、リフタ２０によって持ち上げられる予め定められた位置で、加熱容器Ａが停止する。その際、搬送ローラ１６の回転を止めてもよく、搬送ローラ１６の回転を止めずに空転させてもよい。

次に、図３Ｃに示されているように、制御装置６０は、第３の昇降位置Ｌ３までリフタ２０を上昇させる。これによって、保持機構３０で保持可能な高さに加熱容器Ａが持ち上げられる。そして、制御装置６０によって、保持機構３０のアーム部３２ｂが閉状態Ｈ１に閉じられる。これによって、持ち上げられた加熱容器Ａが保持機構３０に保持される。その後、図３Ａに示されているように、制御装置６０は、リフタ２０を降下させて、搬送ローラ１６よりも下の第１の昇降位置Ｌ１でリフタ２０を待機させる。また、保持機構３０を、加熱容器Ａを保持した閉状態Ｈ１で待機させる。これにより、加熱容器Ａが保持機構３０で保持された状態となる。

次に、再びストッパ５０によって加熱容器Ａを予め定められた位置で停止させる。そして、図３Ｂに示されているように、リフタ２０を第２の昇降位置Ｌ２まで上昇させ、加熱容器Ａを保持機構３０に保持された加熱容器Ａの下に重ねる。そして、加熱容器Ａをリフタ２０で支持した状態で、保持機構３０を開状態Ｈ２にして、加熱容器Ａから爪部３２ｃを抜く。この状態で、制御装置６０は、図３Ｃに示されているように、リフタ２０を第３の昇降位置Ｌ３まで上昇させる。これにより、保持機構３０に保持されていた加熱容器Ａとリフタ２０で新たに持ち上げられた加熱容器Ａが重ねられた状態で、保持機構３０に保持される高さまで上昇する。その後、制御装置６０は、保持機構３０を閉状態Ｈ１にする。これにより、リフタ２０で持ち上げられた加熱容器Ａのうち一番下の加熱容器Ａが保持機構３０の爪部３２ｃに支持され、加熱容器Ａが段積みされた状態で保持機構３０に保持される。

そして、図３Ａに示されているように、リフタ２０を降下させ、搬送ローラ１６よりも下の第１の昇降位置Ｌ１で待機させるとよい。その後、ストッパ５０によって加熱容器Ａを停止させる。リフタ２０を第２の昇降位置Ｌ２に上昇させ、加熱容器Ａを持ち上げて、保持機構３０に保持されている加熱容器Ａの下に重ねる（図３Ｂ参照）。保持機構３０を開状態Ｈ２として爪部３２ｃを抜き、リフタ２０を第３の昇降位置Ｌ３に上昇させる（図３Ｃ参照）。保持機構３０を閉状態Ｈ１として、段積みされた加熱容器Ａを保持させる。リフタ２０を第１の昇降位置Ｌ１に降下させて、待機させる。制御装置６０は、これを繰り返す。これにより、加熱容器Ａが一段ずつ段積みされる。

搬送ローラ１６によって、加熱容器Ａが２段ずつ流れてくる場合には、リフタ２０で持ち上げられる加熱容器Ａが保持機構３０で保持された加熱容器Ａの下に重ねられるように、リフタ２０の第２の昇降位置Ｌ２の高さが調整されるとよい。これにより、加熱容器Ａは、２段ずつ段積みすることもできる。同様に、加熱容器Ａは、複数段（例えば、３段）ずつ段積みすることもできる。

このように、リフタ２０は、加熱容器Ａを予め定められた高さに持ち上げ、保持機構３０は、リフタ２０で持ち上げられた加熱容器Ａのうち、下から予め定められた段数以上の加熱容器を保持するように構成することができる。つまり、所望の段数ごとに、段ばらし作業や段積み作業を行うことができる。

以上、段積み作業や段ばらし作業が実行される連続加熱炉について具体的な実施形態を挙げて詳細な説明を行ったが、これらは例示にすぎない。ここで開示される連続加熱炉は、例えば、リフタ、保持機構およびストッパの動作を制御する制御装置の制御を変更することによって、段積み作業や段ばらし作業以外の作業も可能である。以下、他の実施形態として、加熱容器の蓋を着脱させることができる連続加熱炉について説明する。以下では、連続加熱炉１０で説明された部材・部位と同じ作用を奏する部材・部位には同じ符号を付して重複する説明を省略する。

図５は、連続加熱炉１０Ａを模式的に示す縦断面図である。図６は、連続加熱炉１０Ａの着脱室１０ｂ１を模式的に示す横断面図である。連続加熱炉１０Ａは、搬送空間１２ａを有している。搬送空間１２ａでは、被処理物は、加熱容器Ａに蓋Ｂが取り付けられた状態または加熱容器Ａから蓋Ｂが取り外された状態で搬送され、加熱処理される。搬送空間１２ａでは、加熱容器Ａおよび蓋Ｂが搬送されうる。この実施形態では、加熱容器Ａおよび蓋Ｂは、搬送方向Ｔ１に沿って１列で搬送されている。図７は、加熱容器Ａの側面図である。加熱容器Ａには、蓋Ｂが取り付けられる。蓋Ｂは、加熱容器Ａの凹みａ２を覆わない形状であるとよい。この実施形態では、蓋Ｂは、搬送方向Ｔ１および幅方向が加熱容器Ａと同様の寸法の平板状である。

連続加熱炉１０Ａの搬送空間１２ａは、図５に示されているように、搬送方向Ｔ１に沿って順に、第１加熱室１０ａと、着脱室１０ｂ１と、第２加熱室１０ｃとを有している。換言すると、加熱室１０ａ，１０ｃは、着脱室１０ｂ１よりも上流側に設けられた第１加熱室１０ａと、着脱室１０ｂ１よりも下流側に設けられた第２加熱室１０ｃとを有している。この実施形態では、第１加熱室１０ａと着脱室１０ｂ１の間には、置換室１０ｄが設けられている。着脱室１０ｂ１と第２加熱室１０ｃの間には、置換室１０ｅが設けられている。

＜着脱室１０ｂ１＞
着脱室１０ｂ１は、第１加熱室１０ａと、第２加熱室１０ｃとの間に設けられている。この実施形態では、第１加熱室１０ａでは、被処理物は、加熱容器Ａに収容され、蓋Ｂが閉じられた状態で加熱処理される。第２加熱室１０ｃでは、被処理物は、蓋Ｂが取り外されて炉体１２内に開放された状態で加熱処理される。着脱室１０ｂ１では、第１加熱室１０ａから搬送された加熱容器Ａから蓋Ｂが取り外される。着脱室１０ｂ１は、段数変更室１０ｂ（図１参照）と同様、ストッパ５０と、リフタ２０と、保持機構３０とを備えている。着脱室１０ｂ１は、段数変更室１０ｂ（図１参照）と同様、ヒータ１４を備えている。この実施形態では、保持機構３０は、２本のシャフト３１と、炉体１２の幅方向の略中央部においてシャフト３１に取り付けられた保持具３２とを有している（図６参照）。

この実施形態では、ストッパ５０は、蓋Ｂが載せられた加熱容器Ａを、リフタ２０に合わせて予め定められた位置で停止させる。リフタ２０は、第１加熱室１０ａから搬送された加熱容器Ａや蓋Ｂを昇降させる。保持機構３０は、リフタ２０によって持ち上げられた蓋Ｂを保持する。ストッパ５０、リフタ２０および保持機構３０の動作は、制御装置６０（図６参照）によって制御される。

＜昇降位置Ｌ４～Ｌ６＞
この実施形態では、リフタ２０には、３つの昇降位置Ｌ４～Ｌ６が予め設定されている。ここで、図８Ａは、第４の昇降位置Ｌ４の状態でのリフタ本体２１の位置を示す側面図である。図８Ｂは、第５の昇降位置Ｌ５の状態でのリフタ本体２１の位置を示す側面図である。図８Ｃは、第６の昇降位置Ｌ６の状態でのリフタ本体２１の位置を示す側面図である。

第４の昇降位置Ｌ４では、リフタ本体２１の上端が搬送ローラ１６の上端よりも低くなるように、リフタ本体２１の位置が設定されている。昇降位置Ｌ４では、リフタ本体２１は、搬送ローラ１６の上を搬送される加熱容器Ａや蓋Ｂには当たらない。例えば、搬送ローラ１６によって加熱容器Ａや蓋Ｂを搬送させる場合に、リフタ２０は昇降位置Ｌ４に制御されるとよい。なお、第４の昇降位置Ｌ４は、第１の昇降位置Ｌ１（図３Ａ参照）と同様であってもよい。

第５の昇降位置Ｌ５では、加熱容器Ａに載せられた蓋Ｂが保持機構３０に保持される所定の高さまで加熱容器Ａが持ち上げられるように、リフタ本体２１の位置が設定されている。昇降位置Ｌ５では、例えば、保持機構３０に保持されている蓋Ｂに対して、持ち上げられた加熱容器Ａが下に重ねられることによって、加熱容器Ａに蓋Ｂが取り付けられる。昇降位置Ｌ５では、例えば、加熱容器Ａに載せられた蓋Ｂが保持機構３０に保持されることによって、加熱容器Ａから蓋Ｂが取り外される。なお、加熱容器Ａの寸法にもよるが、第５の昇降位置Ｌ５は、第２の昇降位置Ｌ２（図３Ｂ参照）と同様であってもよい。

第６の昇降位置Ｌ６では、保持機構３０に保持される所定の高さまで蓋Ｂが持ち上げられるように、リフタ本体２１の位置が設定されている。昇降位置Ｌ６では、例えば、加熱容器Ａに載せられる蓋Ｂが保持される。昇降位置Ｌ６では、例えば、加熱容器Ａから取り外された蓋Ｂが保持される。なお、第６の昇降位置Ｌ６は、第３の昇降位置Ｌ３（図３Ｃ参照）と同様であってもよい。

上述したリフタ２０および保持機構３０の動作が組み合わされることによって、加熱容器Ａに載せられた蓋Ｂを取り外したり、蓋Ｂが載せられていない加熱容器Ａに蓋Ｂを載せたりすることができる。加熱容器Ａに載せられた蓋Ｂを取り外す作業は、適宜に「取り外し」と称される。蓋Ｂが載せられていない加熱容器Ａに蓋Ｂを載せる作業は、適宜に「取り付け」と称される。以下、第１加熱室１０ａから搬送方向Ｔ１に搬送された加熱容器Ａの蓋Ｂの取り外し作業を説明し、その後、蓋Ｂの取り付け作業を説明する。

＜蓋Ｂの取り外し作業＞
蓋Ｂの取り外し作業では、加熱容器Ａは、蓋Ｂが載せられた状態で第１加熱室１０ａから着脱室１０ｂ１に搬送される。着脱室１０ｂ１では、加熱容器Ａから蓋Ｂが取り外される。ここでは、図５に示されているように、加熱容器Ａから蓋Ｂを取り外し、取り外した蓋Ｂを搬送ローラ１６に載せて搬送する作業を説明する。

図８Ａに示されているように、制御装置６０（図６参照）は、リフタ２０を搬送ローラ１６よりも下の第４の昇降位置Ｌ４で待機させる。また、保持機構３０を、２点鎖線で示されているように、アーム部３２ｂが開いた開状態Ｈ２で待機させる。この状態で、制御装置６０は、搬送空間１２ａの所定の位置で蓋Ｂが載せられた加熱容器Ａを検知し、予め定められたタイミングでストッパ５０を上昇させる。これにより、リフタ２０によって持ち上げられる予め定められた位置で、蓋Ｂが載せられた加熱容器Ａが停止する。

次に、制御装置６０は、図８Ｂに示されているように、第５の昇降位置Ｌ５までリフタ２０を上昇させる。この状態で、保持機構３０のアーム部３２ｂが閉状態Ｈ１に閉じられることによって、加熱容器Ａに載せられた蓋Ｂが保持機構３０に保持される。その後、制御装置６０は、図８Ａに示されているように、リフタ２０を降下させて、搬送ローラ１６よりも下の第４の昇降位置Ｌ４でリフタ２０を待機させる。これによって、加熱容器Ａが降下する。ストッパ５０を下げて開放させることによって、加熱容器Ａは搬送ローラ１６によって搬送される。これにより、蓋Ｂが取り外された状態で加熱容器Ａが搬送される。

次に、制御装置６０は、図８Ｃに示されているように、リフタ２０を第６の昇降位置Ｌ６に上昇させる。これによって、保持機構３０に保持された蓋Ｂがリフタ２０によって支持される。制御装置６０は、保持機構３０を開状態Ｈ２にし、図８Ａに示されているように、リフタ２０を第４の昇降位置Ｌ４に降下させる。制御装置６０は、ストッパ５０を降下させる。これによって、蓋Ｂが降下し、搬送ローラ１６によって搬送される。このように、蓋Ｂが取り外された加熱容器Ａが搬送された後には、続いて蓋Ｂが搬送される。

以降は、制御装置６０によって、上記の処理が繰り返される。これによって、加熱容器Ａから蓋Ｂが順次外されて搬送される。このため、第２加熱室１０ｃでは、被処理物が収容された加熱容器Ａと、加熱容器Ａから取り外された蓋Ｂとが交互に搬送される。

以上のように、制御装置６０では、蓋Ｂが保持機構３０に保持される位置まで、蓋Ｂが載せられた加熱容器Ａを支持するリフタ２０を上昇させる処理と、蓋Ｂを保持機構３０に保持させる処理と、加熱容器Ａを搬送ローラ１６まで降下させる処理とが実行される。これによって、着脱室１０ｂ１では、蓋Ｂの取り外し作業が可能である。

＜蓋Ｂの取り付け作業＞
蓋Ｂの取り付け作業では、蓋Ｂが載せられていない状態で加熱容器Ａが搬送される。この実施形態では、上述した蓋Ｂの取り外し作業とは反対に、蓋Ｂが載せられていない加熱容器Ａと蓋Ｂとが着脱室１０ｂ１に向かって交互に搬送される。ここでは、加熱容器Ａに蓋Ｂを取り付け、蓋Ｂが取り付けられた加熱容器Ａを順次搬送する作業を説明する。

図８Ａに示されているように、制御装置６０は、リフタ２０を搬送ローラ１６よりも下の第４の昇降位置Ｌ４で待機させる。また、保持機構３０を２点鎖線で示されているように、アーム部３２ｂが開いた開状態Ｈ２で待機させる。この状態で、制御装置６０は、搬送空間１２ａの所定の位置で蓋Ｂを検知し、予め定められたタイミングでストッパ５０を上昇させる。これにより、リフタ２０によって持ち上げられる予め定められた位置で、蓋Ｂが停止する。

次に、制御装置６０は、図８Ｃに示されているように、第６の昇降位置Ｌ６までリフタ２０を上昇させる。この状態で、保持機構３０のアーム部３２ｂが閉状態Ｈ１に閉じられることによって、蓋Ｂが保持機構３０に保持される。その後、制御装置６０は、図８Ａに示されているように、リフタ２０を降下させて、搬送ローラ１６よりも下の第４の昇降位置Ｌ４でリフタ２０を待機させる。

次に、制御装置６０は、再びストッパ５０によって加熱容器Ａを予め定められた位置で停止させる。図８Ｂに示されているように、リフタ２０を第５の昇降位置Ｌ５に上昇させる。これによって、保持機構３０に保持された蓋Ｂの下に加熱容器Ａを重ねられ、加熱容器Ａに蓋Ｂが取り付けられる。制御装置６０は、保持機構３０を開状態Ｈ２にし、加熱容器Ａと蓋Ｂの隙間から爪部３２ｃを抜く。この状態で、制御装置６０は、図８Ａに示されているように、リフタ２０を第４の昇降位置Ｌ４に降下させる。制御装置６０は、ストッパ５０を降下させる。これによって、蓋Ｂが載せられた加熱容器Ａが降下し、搬送ローラ１６によって搬送される。

以降は、制御装置６０によって、上記の処理が繰り返される。これによって、加熱容器Ａには、蓋Ｂが取り付けられて順次搬送される。

以上のように、制御装置６０では、蓋Ｂが保持機構３０に保持される位置まで、蓋Ｂを支持する２０リフタを上昇させる処理と、蓋Ｂを保持機構３０に保持させる処理と、保持機構３０に蓋Ｂが保持されている位置まで、蓋Ｂが載せられていない加熱容器Ａを支持するリフタ２０を上昇させて加熱容器Ａに蓋Ｂを載せる処理とが実行される。これによって、着脱室１０ｂ１では、蓋Ｂの取り付け作業が可能である。

上述した実施形態では、連続加熱炉１０，１０Ａの搬送空間１２ａは、第１加熱室１０ａと、第２加熱室１０ｃとを有している。第１加熱室１０ａと第２加熱室１０ｃの間には、搬送方向Ｔ１に沿って並べられた搬送ローラ１６と、搬送ローラ１６の上を搬送された被搬送物（この実施形態では、加熱容器Ａや蓋Ｂ）を昇降させるリフタ２０と、リフタ２０で持ち上げられた被搬送物を保持する保持機構３０とが設けられている。第１加熱室１０ａと、第２加熱室１０ｃとの間で、加熱容器Ａの蓋Ｂの着脱や加熱容器Ａの段数の変更を行う場合、これらの作業に時間を要し、被処理物の温度が下がりやすい。温度が下がった加熱容器Ａを再び加熱温度まで加熱することにも時間を要する。この連続加熱炉１０，１０Ａでは、第１加熱室１０ａと、第２加熱室１０ｃと、リフタ２０および保持機構３０が、少なくとも１つの炉体１２によって形成される搬送空間１２ａに設けられている。このため、段数変更室１０ｂや着脱室１０ｂ１で加熱容器Ａを所要の温度に維持できる。その結果、加熱処理にかかる時間を短縮することができ、被処理物を効率的に加熱処理することができる。

上述した連続加熱炉１０の段数変更室１０ｂや連続加熱炉１０Ａの着脱室１０ｂ１は、ヒータ１４を備えている。これによって、例えば、第１加熱室１０ａと第２加熱室１０ｃの間での被処理物の温度の低下を抑えることができる。そのため、連続加熱炉１０，１０Ａで被処理物が効率的に処理されうる。

ところで、連続加熱炉で被処理物を加熱処理する場合、例えば、被処理物が加熱処理されて発生する気体が炉内を汚染することを抑制するため、被処理物が入れられた加熱容器に蓋が取り付けられた状態で被処理物が加熱処理されることがある。また、連続加熱炉で被処理物を脱バインダ処理や乾燥処理する際等、蓋が取り外された状態で被処理物を加熱処理することが効率的な場合がある。上述した連続加熱炉１０Ａでは、搬送空間１２ａは、加熱室１０ａ，１０ｃと、加熱容器Ａに対して蓋Ｂを着脱する着脱室１０ｂ１とを有している。搬送ローラ１６と、リフタ２０と、保持機構３０は、着脱室１０ｂ１に設けられている。かかる構成によって、連続加熱炉１０Ａ内で加熱容器Ａに対して蓋Ｂを着脱することができる。これによって、加熱条件や被処理物の処理条件に合わせて蓋の開閉が制御され、被処理物が効率的に処理されうる。

上述した実施形態では、蓋Ｂが加熱容器Ａに載せられていない時には、蓋Ｂは、搬送ローラ１６上に載せられている。このとき、加熱容器Ａの上部は開放されている。蓋Ｂが加熱容器Ａの上部を覆っていないことによって、被処理物が炉内の雰囲気に曝されやすくなる。これによって例えば、被処理物と炉内の雰囲気とのガス交換を効率よくすることができる。その結果、被処理物が効率的に処理されうる。

この実施形態では、連続加熱炉１０，１０Ａは、第１加熱室１０ａと着脱室１０ｂ１の間に、置換室１０ｄを有している。また、連続加熱炉１０，１０Ａは、着脱室１０ｂ１と第２加熱室１０ｃの間に、置換室１０ｅを有している。このように、第１加熱室１０ａと着脱室１０ｂ１の間と、着脱室１０ｂ１と第２加熱室１０ｃの間のうち、少なくともいずれかに置換室を有することによって、第１加熱室１０ａと第２加熱室１０ｃで加熱条件が大きく異なる時でも、一方の雰囲気が他方に漏れることを防止することができる。

この実施形態では、第１加熱室１０ａおよび第２加熱室１０ｃは、搬送方向Ｔ１に沿って並べられた複数の搬送ローラ１６を備えている。かかる構成によって、より多くの被処理物の加熱処理を行うことができ、設備を省スペース化することができる。また、連続加熱炉１０，１０Ａをより高い温度での加熱にも使用することができる。

上述した実施形態では、保持機構３０のシャフト３１は、中空のシャフトであり、冷媒供給装置４０に接続されている。このため、シャフト３１を冷却しつつ、段積み作業や段ばらし作業を行なうことができる。この実施形態では、保持機構３０は、連続加熱炉１０，１０Ａ内の高温環境下に設けられている。けれども、冷媒供給装置４０によって供給される冷媒によってシャフト３１が冷却されているので、シール部材３３のシール性が保たれる。このため、連続加熱炉１０，１０Ａ内の高温環境下で、加熱容器Ａの蓋Ｂの着脱や加熱容器Ａの段数の変更が行なわれても、シャフト３１を通じて内部の雰囲気ガスが外に流出しにくい。また、シャフト３１が冷却されることによってシール部材３３の劣化が抑制されるので、シール部材３３の長寿命化が図られる。かかる構成は、被処理物を高い温度で連続的に焼成する連続加熱炉に好適に用いられる。

この実施形態では、シャフト３１に取り付けられた保持具３２は、シャフト３１から延びたアーム部３２ｂと、アーム部３２ｂの下端から折れ曲った爪部３２ｃとを備えている（図３Ａ～図３Ｃ参照）。この場合、加熱容器Ａは、アーム部３２ｂの下端の爪部３２ｃで保持されているので、冷媒によって冷やされるシャフト３１に熱が奪われにくい。

なお、保持具３２は、加熱容器Ａと当接する面に断熱材を備えていてもよい。この実施形態では、加熱容器Ａと当接する面は、爪部３２ｃである。爪部３２ｃの、加熱容器Ａが当接する面が断熱材を備えていることによって、保持具３２を通して加熱容器Ａが冷却されることを抑えることができる。なお、ここで用いられる断熱材は特に限定されないが、例えば、セラミック製の断熱材等を用いることができる。

図２に示されている実施形態では、保持機構３０は、複数の保持具３２を備えている。複数の保持具３２は、シャフト３１に間隔を空けて配置されている。かかる構成によって、複数の列に並べられた加熱容器Ａを同時に加熱処理し、および、加熱容器Ａの蓋Ｂの着脱や加熱容器Ａの段数の変更することができる。その結果、被処理物の処理時間を短縮することができる。

この実施形態では、保持具３２は、ニッケル－クロム－鉄合金またはニッケル基合金から構成されている。かかる構成によって、保持具３２は酸化雰囲気、還元雰囲気、窒化雰囲気等の雰囲気下においても耐久性が良好である。また、高温環境下で使用されても耐久性が良好である。

図９は、着脱装置８０を示す断面図である。連続加熱炉１０Ａのうち、リフタ２０と保持機構３０を有する部分は、モジュール化されて着脱装置８０を構成してもよい。図９に示されているように、着脱装置８０は、加熱容器Ａを搬送する搬送空間１２ａを内部に有する隔壁１２と、ヒータ１４と、リフタ２０と、保持機構３０とを備えている。着脱装置８０は、搬入口８０ａと、搬出口８０ｂとを備えている。ヒータ１４と、リフタ２０と、保持機構３０とは、それぞれ上述されているので、ここでは、詳しい説明を省略する。着脱装置８０の隔壁１２は、連続加熱炉１０Ａの炉体１２と同様に、搬送空間１２ａの搬送方向Ｔ１の周りを全周に亘って、断熱材によって構成された炉壁１２ｂ～１２ｄで囲われているとよい。着脱装置８０は、加熱容器Ａに蓋Ｂが載せられていない状態で搬入および搬出され、着脱装置８０内でのみ蓋Ｂが載せられて被処理物が加熱処理されるように構成されていてもよい。また、着脱装置８０は、加熱容器Ａに蓋Ｂが載せられた状態で搬入および搬出され、着脱装置８０内でのみ蓋Ｂが取り外されて被処理物が加熱処理されるように構成されていてもよい。着脱装置８０の前後には、雰囲気を切り替えるためのシャッタや置換室が設けられていてもよい。着脱装置８０は、搬入口８０ａと搬出口８０ｂとのうち、少なくともいずれか一方が、被処理物を加熱処理するための加熱炉と、密封して接続されるように構成されていてもよい。

かかる着脱装置８０は、連続加熱炉の一部をなすモジュールとして利用可能である。着脱装置８０は、連続加熱炉の他の構成や他のモジュールと組み合わせて被処理物を加熱する際に、適切な位置や温度で蓋Ｂの着脱作業が行えるように連続加熱炉を構成することができる。ここで、連続加熱炉の他のモジュールとしては、例えば、置換室や焼成室を構成するモジュールなどが挙げられうる。ここで開示される着脱装置８０によれば、保持機構３０のシャフト３１に冷媒が供給されるので、蓋Ｂの着脱作業が行なわれる隔壁１２の内部の搬送空間１２ａが高い温度でも、シール部材のシール性が高く維持される。このため、被処理物の温度を下げずに、蓋Ｂの着脱作業が行える。このため、連続加熱炉全体としての処理時間が短縮される。また、このように着脱装置８０がモジュール化され、他のモジュールと接続することによって、蓋Ｂを着脱可能な任意の連続加熱炉を提供できる。このため、例えば、モジュールを選定し、モジュールの順番を決定して組み合わせることによって、蓋Ｂの着脱機構を備えた連続加熱炉を提供できる。このため、蓋Ｂの着脱機構を備えた連続加熱炉の設計が容易になる。

以上、具体的な実施形態を挙げて詳細な説明を行ったが、これらは例示にすぎず、請求の範囲を限定するものではない。このように、請求の範囲に記載の技術には、以上に記載した実施形態を様々に変形、変更したものが含まれる。また、上記実施形態で例示された複数の技術の一部を連続加熱炉または着脱装置に採用することも可能である。

１０，１０Ａ 連続加熱炉
１０ａ 第１加熱室
１０ｂ 段数変更室
１０ｂ１ 着脱室
１０ｃ 第２加熱室
１０ｄ，１０ｅ 置換室
１２ 炉体（隔壁）
１２ａ 搬送空間
１２ｂ 側壁（炉壁）
１２ｃ 天井（炉壁）
１２ｄ 床壁（炉壁）
１２ｅ 挿通孔
１２ｆ ガス供給管
１２ｇ ガス排気管
１２ｈ 仕切り
１４ ヒータ
１６ 搬送ローラ
１６ａ，１６ｂ 支持板
１７ スプロケット
１８ ベース
２０ リフタ
２１ リフタ本体
２１ａ 第１プレート
２１ｂ 第２プレート
２１ｃ 連結部
２１ｄ 操作ロッド
２１ｅ 連結バー
２４ 昇降装置
２５ ガイド
２５ａ リニアブッシュ
３０ 保持機構
３１ シャフト
３２ 保持具
３２ａ 基部
３２ｂ アーム部
３２ｃ 爪部
３３ シール部材
３４ ハウジング
３５ 軸受
３６ 操作アーム
３７ 駆動装置
３８ 支持片
３９ コネクタ
４０ 冷媒供給装置
５０ ストッパ
５１ ストッパ本体
５２ シャフト
５３ 昇降装置
６０ 制御装置
７０ 幅寄せ機構
７１ 幅寄せ板
７２ シャフト
７３ 駆動装置
８０ 着脱装置
Ａ 加熱容器
Ｂ 蓋
ａ１ 壁
ａ２ 凹み
Ｈ１ 閉状態
Ｈ２ 開状態
Ｌ１～Ｌ６ 昇降位置

Claims (21)

1. 加熱容器および前記加熱容器に対して着脱される蓋が搬送される連続した搬送空間を形成する少なくとも１つの炉体を有する連続加熱炉であって、
   前記搬送空間は、第１加熱室と、第２加熱室とを有しており、
   前記第１加熱室と前記第２加熱室の間には、
   搬送方向に沿って並べられた搬送ローラと、
   前記搬送ローラの上を搬送された前記蓋および前記加熱容器のうち少なくともいずれか一方を昇降させるリフタと、
   前記リフタで持ち上げられた前記蓋を保持する保持機構と
   が設けられており、
   前記リフタと前記保持機構を制御する制御装置を備え、
   前記制御装置は、
   前記蓋が前記保持機構に保持される位置まで、前記蓋が載せられた前記加熱容器を支持する前記リフタを上昇させる処理と、
   前記蓋を前記保持機構に保持させる処理と、
   前記リフタを降下させ、前記加熱容器を前記搬送ローラまで降下させる処理と
   が実行されるように構成された、連続加熱炉。
2. 前記制御装置は、
   前記第１加熱室において前記蓋が載せられた前記加熱容器が搬送された場合に、
   前記第２加熱室において前記搬送方向に沿って、前記蓋と、前記蓋が取り外された前記加熱容器とが交互に搬送されるように、
   前記蓋が前記保持機構に保持される位置まで、前記蓋が載せられた前記加熱容器を支持する前記リフタを上昇させる処理と、
   前記蓋を前記保持機構に保持させる処理と、
   前記リフタを降下させ、前記加熱容器を前記搬送ローラまで降下させる処理と、
   前記保持機構に保持されている前記蓋が前記リフタに支持される位置まで前記リフタを上昇させる処理と、
   前記保持機構による前記蓋の保持を解除した状態で前記リフタを降下させ、前記蓋を前記搬送ローラまで降下させる処理と
   が繰り返し実行されるように構成された、請求項１に記載された連続加熱炉。
3. 加熱容器および前記加熱容器に対して着脱される蓋が搬送される連続した搬送空間を形成する少なくとも１つの炉体を有する連続加熱炉であって、
   前記搬送空間は、第１加熱室と、第２加熱室とを有しており、
   前記第１加熱室と前記第２加熱室の間には、
   搬送方向に沿って並べられた搬送ローラと、
   前記搬送ローラの上を搬送された前記蓋および前記加熱容器のうち少なくともいずれか一方を昇降させるリフタと、
   前記リフタで持ち上げられた前記蓋を保持する保持機構と
   が設けられており、
   前記リフタと前記保持機構を制御する制御装置を備え、
   前記制御装置は、
   前記蓋が前記保持機構に保持される位置まで、前記蓋を支持する前記リフタを上昇させる処理と、
   前記蓋を前記保持機構に保持させる処理と、
   前記保持機構に前記蓋が保持されている位置まで、前記蓋が載せられていない前記加熱容器を支持する前記リフタを上昇させて前記加熱容器に前記蓋を載せる処理と
   が実行されるように構成された、連続加熱炉。
4. 前記制御装置は、
   前記第１加熱室において前記蓋と前記加熱容器が交互に搬送された場合に、
   前記第２加熱室において前記蓋が載せられた前記加熱容器が搬送されるように、
   前記蓋が前記保持機構に保持される位置まで、前記蓋を支持する前記リフタを上昇させる処理と、
   前記蓋を前記保持機構に保持させる処理と、
   前記保持機構に前記蓋が保持されている位置まで、前記蓋が載せられていない前記加熱容器を支持する前記リフタを上昇させて前記加熱容器に前記蓋を載せる処理と、
   前記保持機構による前記蓋の保持を解除した状態で前記リフタを降下させ、前記蓋が載せられた前記加熱容器を前記搬送ローラまで降下させる処理と
   が繰り返し実行されるように構成された、請求項３に記載された連続加熱炉。
5. 前記制御装置は、
   前記蓋が前記保持機構に保持される位置まで、前記蓋が載せられた前記加熱容器を支持する前記リフタを上昇させる処理と、
   前記蓋を前記保持機構に保持させる処理と、
   前記リフタを降下させ、前記加熱容器を前記搬送ローラまで降下させる処理と
   がさらに実行されるように構成された、請求項３に記載された連続加熱炉。
6. 前記第１加熱室と前記第２加熱室の間には、前記加熱容器に対して前記蓋を着脱する着脱室が設けられており、
   前記搬送ローラと、前記リフタと、前記保持機構は、前記着脱室に設けられている、請求項１～５のいずれか一項に記載された連続加熱炉。
7. 前記第１加熱室と前記着脱室の間と、前記着脱室と前記第２加熱室の間とのうち、少なくともいずれかに置換室をさらに有している、請求項６に記載された連続加熱炉。
8. 前記着脱室は、ヒータを備える、請求項６または７に記載された連続加熱炉。
9. 前記第１加熱室と前記第２加熱室は、それぞれ独立した搬送機構を備えている、請求項１～８のいずれか一項に記載された連続加熱炉。
10. 前記第１加熱室および前記第２加熱室は、前記搬送方向に沿って並べられた複数の前記搬送ローラを備える、請求項１～９のいずれか一項に記載された連続加熱炉。
11. 前記保持機構は、
    前記炉体に挿通された中空のシャフトと、
    前記シャフトに取り付けられた保持具と
    を有し、
    前記炉体に前記シャフトが挿通された部位には、シール部材が取り付けられており、
    前記シャフトには、前記シャフトの中空部に冷媒を供給する冷媒供給装置が接続されている、請求項１～１０のいずれか一項に記載された連続加熱炉。
12. 前記炉体は、前記搬送方向と直交する幅方向の両側に一対の側壁を有し、
    前記シャフトは、前記一対の側壁に回転可能に架け渡されており、
    前記保持具は、
    前記シャフトから延びるアーム部と、
    前記アーム部の下端から折れ曲がった爪部と
    を備える、請求項１１に記載された連続加熱炉。
13. 前記保持機構は、複数の前記保持具を備え、
    前記複数の保持具は、前記シャフトに間隔を空けて配置されている、請求項１１または１２に記載された連続加熱炉。
14. 前記保持具は、ニッケル－クロム－鉄合金またはニッケル基合金から構成されている、請求項１１～１３のいずれか一項に記載された連続加熱炉。
15. 加熱容器および前記加熱容器に対して着脱される蓋が搬送される搬送空間を内部に有する隔壁と、
    前記搬送空間に配置されたヒータと、
    予め定められた搬送方向に沿って並べられた搬送ローラと、
    前記搬送ローラの上を搬送された前記蓋および前記加熱容器のうち少なくともいずれか一方を持ち上げるリフタと、
    前記リフタで持ち上げられた前記蓋を保持する保持機構と、
    前記リフタと前記保持機構を制御する制御装置と
    を備え、
    前記制御装置は、
    前記蓋が前記保持機構に保持される位置まで、前記蓋が載せられた前記加熱容器を支持する前記リフタを上昇させる処理と、
    前記蓋を前記保持機構に保持させる処理と、
    前記リフタを降下させ、前記加熱容器を前記搬送ローラまで降下させる処理と
    が実行されるように構成され、
    前記保持機構は、
    前記隔壁に挿通された中空のシャフトと、
    前記シャフトに取り付けられた保持具と、
    前記隔壁に前記シャフトが挿通された部位に取付けられたシール部材と、
    前記シャフトに接続され、前記シャフトの中空部に冷媒を供給する冷媒供給装置とを有する着脱装置。
16. 加熱容器および前記加熱容器に対して着脱される蓋が搬送される搬送空間を内部に有する隔壁と、
    前記搬送空間に配置されたヒータと、
    予め定められた搬送方向に沿って並べられた搬送ローラと、
    前記搬送ローラの上を搬送された前記蓋および前記加熱容器のうち少なくともいずれか一方を持ち上げるリフタと、
    前記リフタで持ち上げられた前記蓋を保持する保持機構と、
    前記リフタと前記保持機構を制御する制御装置と
    を備え、
    前記制御装置は、
    前記蓋が前記保持機構に保持される位置まで、前記蓋を支持する前記リフタを上昇させる処理と、
    前記蓋を前記保持機構に保持させる処理と、
    前記保持機構に前記蓋が保持されている位置まで、前記蓋が載せられていない前記
    加熱容器を支持する前記リフタを上昇させて前記加熱容器に前記蓋を載せる処理と
    が実行されるように構成され、
    前記保持機構は、
    前記隔壁に挿通された中空のシャフトと、
    前記シャフトに取り付けられた保持具と、
    前記隔壁に前記シャフトが挿通された部位に取付けられたシール部材と、
    前記シャフトに接続され、前記シャフトの中空部に冷媒を供給する冷媒供給装置とを有する着脱装置。
17. 前記制御装置は、
    前記蓋が前記保持機構に保持される位置まで、前記蓋が載せられた前記加熱容器を支持する前記リフタを上昇させる処理と、
    前記蓋を前記保持機構に保持させる処理と、
    前記リフタを降下させ、前記加熱容器を前記搬送ローラまで降下させる処理と
    がさらに実行されるように構成された、請求項１６に記載された着脱装置。
18. 前記隔壁は、前記搬送方向と直交する幅方向の両側に一対の側壁を有し、
    前記シャフトは、前記一対の側壁に回転可能に架け渡されており、
    前記保持具は、
    前記シャフトから延びるアーム部と、
    前記アーム部の下端から折れ曲がり、前記加熱容器を支える爪部と
    を備える、請求項１５～１７のいずれか一項に記載された着脱装置。
19. 前記シャフトは、前記搬送方向と直交する幅方向に沿って設けられている、請求項１５～１８のいずれか一項に記載された着脱装置。
20. 前記保持具は、ニッケル－クロム－鉄合金またはニッケル基合金から構成されている、請求項１５～１９のいずれか一項に記載された着脱装置。
21. 前記保持具は、前記加熱容器と当接する面に断熱材を備える、請求項１５～２０のいずれか一項に記載された着脱装置。

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