JP7291586B2 - ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
本開示の課題はヨーイングなどのズレの測定が可能な技術を提供することにある。
その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
すなわち、ダイボンディング装置は、(a)移動対象物を第一方向に駆動する一つの駆動軸と、第一方向に延在し移動対象物を第一方向に案内する第一ガイドと、駆動軸よりも下方に位置し第一方向に延在する第一リニアスケールと、第一リニアスケールよりも上方に位置し前記第一方向に延在する第二リニアスケールと、を有する一駆動軸テーブルと、(b)一駆動軸テーブルを制御する制御装置と、を備える。制御装置は、移動対象物の位置を第一リニアスケールにより検出して移動対象物の位置を制御し、第二リニアスケールにより検出した位置と第一リニアスケールにより検出した位置とのずれを移動対象物のヨーイングとして検出するよう構成される。
θ=arctan((mp2-mp1)/d)
の式により算定される。実際に作業する先端部102と制御用スケールとしての第一リニアスケール103f距離から先端部102のずれを算出する。算出した結果から先端部102の位置を補正し、停止精度を改善する。
以下、実施形態の代表的な変形例について、幾つか例示する。以下の変形例の説明において、上述の実施形態にて説明されているものと同様の構成および機能を有する部分に対しては、上述の実施形態と同様の符号が用いられ得るものとする。そして、かかる部分の説明については、技術的に矛盾しない範囲内において、上述の実施形態における説明が適宜援用され得るものとする。また、上述の実施形態の一部、および、複数の変形例の全部または一部が、技術的に矛盾しない範囲内において、適宜、複合的に適用され得る。
実施形態の第一変形例における一駆動軸テーブルについて図2を用いて説明する。図2は実施形態の第一変形例における一駆動軸テーブルについて説明する側面図である。
実施形態の第二変形例における一駆動軸テーブルについて図3を用いて説明する。図3は実施形態の第二変形例における一駆動軸テーブルについて説明する側面図である。
ウェハ11から分割されたダイDが貼付されたダイシングテープ16を保持したウェハリング14をウェハリング供給部19のウェハカセット(不図示)に格納し、ダイボンダ10に搬入する。制御部7はウェハリング14が充填されたウェハカセットからウェハリング14をダイ供給部1に供給する。また、基板Sを準備し、ダイボンダ10に搬入する。制御部7は基板供給部6Kで基板Sを基板搬送爪51に取り付ける。
制御部7は上述したようにダイDを剥離し、剥離したダイDをウェハ11からピックアップする。このようにして、ダイアタッチフィルム18と共にダイシングテープ16から剥離されたダイDは、コレット22に吸着、保持されて次工程(ステップS13)に搬送される。そして、ダイDを次工程に搬送したコレット22がダイ供給部1に戻ってくると、上記した手順に従って、次のダイDがダイシングテープ16から剥離され、以後同様の手順に従ってダイシングテープ16から1個ずつダイDが剥離される。
制御部7はピックアップしたダイを基板S上に搭載または既にボンディングしたダイの上に積層する。制御部7はウェハ11からピックアップしたダイDを中間ステージ31に載置し、ボンディングヘッド41で中間ステージ31から再度ダイDをピックアップし、搬送されてきた基板Sにボンディングする。
制御部7は基板搬出部6Hで基板搬送爪51からダイDがボンディングされた基板Sを取り出す。ダイボンダ10から基板Sを搬出する。
103・・・一駆動軸テーブル
103c・・・駆動部(駆動軸)
103d・・・第一ガイド
103f・・・第一リニアスケール
103g・・・第二リニアスケール
Claims (17)
- 上下方向にその長手方向が延在する移動対象物と、
前記移動対象物を水平方向の第一方向に駆動する一つの駆動軸と、前記第一方向に延在し前記移動対象物を前記第一方向に案内する第一ガイドと、前記駆動軸よりも下方に位置し前記第一方向に延在する第一リニアスケールと、前記第一リニアスケールよりも上方に位置し前記第一方向に延在する第二リニアスケールと、を有する一駆動軸テーブルと、
前記一駆動軸テーブルを制御する制御装置と、
を備え、
制御装置は、
前記移動対象物の位置を前記第一リニアスケールにより検出して前記移動対象物の位置を制御し、
前記第二リニアスケールにより検出した位置と前記第一リニアスケールにより検出した位置とのずれをヨーイングとして検出する
よう構成されるダイボンディング装置。 - 請求項1のダイボンディング装置において、
前記制御装置は、検出した前記ヨーイングが所定値または初期値からの変化閾値を超える場合、故障の前触れと判断するよう構成されるダイボンディング装置。 - 請求項1のダイボンディング装置において、
前記移動対象物の下部側の先端部にダイを吸着するコレットが設けられ、
前記制御装置は、
前記第一リニアスケールにより検出した位置と前記第二リニアスケールにより検出した位置との差からヨーイング角度を算出し、
前記コレットと前記第一リニアスケールとの距離から前記コレットのずれを算出し、
算出した結果から前記移動対象物の位置を補正する
よう構成されるダイボンディング装置。 - 請求項1のダイボンディング装置において、
前記一駆動軸テーブルは、さらに、前記第一ガイドと所定の距離離れて前記第一方向に延在し前記移動対象物を前記第一方向に案内する第二ガイドを有し、
前記駆動軸は前記第一ガイドと前記第二ガイドとの間に設けられるダイボンディング装置。 - 請求項4のダイボンディング装置において、
前記第一リニアスケールは前記第一ガイドに近接して設けられ、
前記第二リニアスケールは前記第二ガイドに近接して設けられるダイボンディング装置。 - 請求項4のダイボンディング装置において、
前記第一リニアスケールは前記第一ガイドの中に設けられ、
前記第二リニアスケールは前記第二ガイドの中に設けられるダイボンディング装置。
- 請求項4のダイボンディング装置において、
前記第二リニアスケールは前記第一リニアスケールの上方に前記第一リニアスケールと一体的に形成されて前記第一ガイドに近接して設けられるダイボンディング装置。 - 請求項1から7の何れか一つのダイボンディング装置において、
前記移動対象物はダイをピックアップして基板に載置するボンディングヘッドであるダイボンディング装置。 - 請求項8のダイボンディング装置において、
前記移動対象物はウェハからダイをピックアップして中間ステージに載置するピックアップヘッドであるダイボンディング装置。 - 請求項9のダイボンディング装置において、
さらに、前記一駆動軸テーブルを水平方向の第二方向に移動せるガイドを有する二つの支持台を備えるダイボンディング装置。 - ダイを吸着するコレットが設けられるボンディングヘッドと、前記ボンディングヘッドを水平方向の第一方向に駆動する一つの駆動軸と、前記第一方向に延在し前記ボンディングヘッドを前記第一方向に案内する第一ガイドと、前記駆動軸よりも下方に位置し前記第一方向に延在する第一リニアスケールと、前記第一リニアスケールよりも上方に位置し前記第一方向に延在する第二リニアスケールと、を有するボンディングテーブルと、を備えるダイボンディング装置に基板を搬入する工程と、
前記ボンディングヘッドがダイをピックアップし、ピックアップした前記ダイを前記基板にボンディングする工程と、
を備え、
前記ボンディングする工程では、
前記ボンディングヘッドの位置が前記第一リニアスケールにより検出されて前記ボンディングヘッドの位置が制御され、
前記第二リニアスケールにより検出した位置と前記第一リニアスケールにより検出した位置とのずれをヨーイングとして検出される半導体装置の製造方法。 - 請求項11の半導体装置の製造方法において、
前記ボンディングする工程では、検出された前記ヨーイングが所定値または初期値からの変化閾値を超える場合、故障の前触れと判断される半導体装置の製造方法。 - 請求項11の半導体装置の製造方法において、
前記ボンディングする工程では、
前記第一リニアスケールにより検出された位置と前記第二リニアスケールにより検出された位置との差からヨーイング角度が算出され、
前記コレットと前記第一リニアスケールとの距離から前記コレットのずれが算出され、
算出された結果から前記ボンディングヘッドの位置が補正される半導体装置の製造方法。 - 請求項11から13のいずれか一つの半導体装置の製造方法において、
前記ボンディングテーブルは、さらに、前記第一ガイドと所定の距離離れて前記第一方向に延在し前記ボンディングヘッドを前記第一方向に案内する第二ガイドを有し、
前記駆動軸は前記第一ガイドと前記第二ガイドとの間に設けられる半導体装置の製造方法。 - 請求項14の半導体装置の製造方法において、
前記第一リニアスケールは前記第一ガイドに近接して設けられ、
前記第二リニアスケールは前記第二ガイドに近接して設けられる半導体装置の製造方法。 - 請求項14の半導体装置の製造方法において、
前記第一リニアスケールは前記第一ガイドの中に設けられ、
前記第二リニアスケールは前記第二ガイドの中に近接して設けられる半導体装置の製造方法。 - 請求項14の半導体装置の製造方法において、
前記第二リニアスケールは前記第一リニアスケールの上方に前記第一リニアスケールと一体的に形成されて前記第一ガイドに近接して設けられる半導体装置の製造方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001267335A (ja) | 2000-03-21 | 2001-09-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品搭載装置および電子部品搭載方法 |
JP2006313839A (ja) | 2005-05-09 | 2006-11-16 | Juki Corp | 部品実装装置 |
JP2010135363A (ja) | 2008-12-02 | 2010-06-17 | Panasonic Corp | 部品実装装置および部品実装装置におけるツール配列データ作成方法 |
US20130298391A1 (en) | 2012-05-11 | 2013-11-14 | Yamaha Hatsudoki Kabushiki Kaisha | Working apparatus for component or board and component mounting apparatus |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0951007A (ja) * | 1995-08-09 | 1997-02-18 | Mitsubishi Electric Corp | ダイボンド装置および半導体装置の製造方法 |
JP4080149B2 (ja) * | 2000-07-11 | 2008-04-23 | 松下電器産業株式会社 | 作業ヘッドの移動装置 |
KR100326757B1 (en) | 2001-08-09 | 2002-03-13 | Justek Corp | Method for correcting error of scaler according to variation of temperature in linear motor |
KR20070016098A (ko) * | 2004-06-03 | 2007-02-07 | 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 | 부품 실장 방법 및 장치 |
JP2006041260A (ja) | 2004-07-28 | 2006-02-09 | Juki Corp | 電子部品搭載装置のノズル位置補正方法 |
JP4130838B2 (ja) * | 2006-06-19 | 2008-08-06 | 住友重機械工業株式会社 | ステージ装置 |
JP2008117968A (ja) * | 2006-11-06 | 2008-05-22 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | プローバ |
KR20130117191A (ko) * | 2012-04-18 | 2013-10-25 | 한미반도체 주식회사 | 작업유닛 이송장치 |
JP5996979B2 (ja) * | 2012-09-07 | 2016-09-21 | ヤマハ発動機株式会社 | 電子部品実装装置および実装位置補正データ作成方法 |
TWI545663B (zh) * | 2014-05-07 | 2016-08-11 | 新川股份有限公司 | 接合裝置以及接合方法 |
JP6510838B2 (ja) * | 2015-03-11 | 2019-05-08 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | ボンディング装置及びボンディング方法 |
SG11201710074TA (en) * | 2015-03-31 | 2018-01-30 | Shinkawa Kk | Wire bonding apparatus and wire bonding method |
JP6573813B2 (ja) * | 2015-09-30 | 2019-09-11 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | ダイボンダおよび半導体装置の製造方法 |
JP6667326B2 (ja) * | 2016-03-17 | 2020-03-18 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | ダイボンダおよびボンディング方法 |
KR102453746B1 (ko) * | 2016-11-09 | 2022-10-12 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 접합 장치, 접합 시스템, 접합 방법 및 컴퓨터 기억 매체 |
TWI684235B (zh) * | 2017-07-12 | 2020-02-01 | 日商新川股份有限公司 | 相對於第二物體來定位第一物體的裝置和方法 |
JP6952368B2 (ja) * | 2017-08-28 | 2021-10-20 | 株式会社新川 | 対象物に対して第1移動体及び第2移動体を直線移動させる装置及び方法 |
JP7033878B2 (ja) * | 2017-10-16 | 2022-03-11 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
-
2019
- 2019-09-19 JP JP2019170339A patent/JP7291586B2/ja active Active
-
2020
- 2020-07-14 TW TW109123687A patent/TWI743887B/zh active
- 2020-09-02 KR KR1020200111635A patent/KR102430824B1/ko active IP Right Grant
- 2020-09-18 CN CN202010988125.5A patent/CN112530839B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001267335A (ja) | 2000-03-21 | 2001-09-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品搭載装置および電子部品搭載方法 |
JP2006313839A (ja) | 2005-05-09 | 2006-11-16 | Juki Corp | 部品実装装置 |
JP2010135363A (ja) | 2008-12-02 | 2010-06-17 | Panasonic Corp | 部品実装装置および部品実装装置におけるツール配列データ作成方法 |
US20130298391A1 (en) | 2012-05-11 | 2013-11-14 | Yamaha Hatsudoki Kabushiki Kaisha | Working apparatus for component or board and component mounting apparatus |
Also Published As
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