JP7282886B2 - 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 - Google Patents

Description

本開示は、機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法に関する。

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部（インキ非受容部）として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層（画像記録層）を設けてなる平版印刷版原版（ＰＳ版）が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルムなどの原画を通した露光を行った後、画像記録層の画像部となる部分を残存させ、それ以外の不要な画像記録層をアルカリ性現像液又は有機溶剤によって溶解除去し、親水性の支持体表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。

また、地球環境への関心の高まりから、現像処理などの湿式処理に伴う廃液に関する環境課題がクローズアップされている。
上記の環境課題に対して、現像あるいは製版の簡易化、無処理化が指向されている。簡易な作製方法の一つとしては、「機上現像」と呼ばれる方法が行われている。すなわち、平版印刷版原版を露光後、従来の現像は行わず、そのまま印刷機に装着して、画像記録層の不要部分の除去を通常の印刷工程の初期段階で行う方法である。
本開示において、このような機上現像に用いることができる平版印刷版原版を、「機上現像型平版印刷版原版」という。
従来の平版印刷版原版としては、例えば、特許文献１又は２に記載されたものが挙げられる。

特許文献１には、親水性支持体上に画像記録層を有する平版印刷版原版であって、上記画像記録層が、赤外線露光により分解する赤外線吸収色素及び赤外線露光に起因して発色する発色剤を含有する平版印刷版原版が記載されている。

特許文献２には、その上に、以下：フリーラジカル重合可能な成分、画像形成の放射線に露光される際に、フリーラジカル重合可能な成分の重合を開始するために十分なラジカルを発生することができる開始剤組成物、放射線吸収性化合物、１つ以上のポリマーバインダー、及び疎水性ポリマーのコアと、ポリマーのコアに共有結合した、１つ以上の両性イオン性官能基を含む親水性ポリマーのシェルとを含む、少なくとも５質量％のコア－シェル粒子を含む画像形成性層を有する基材を含む、ネガ型動作用画像形成性要素が記載されている。

特許文献１：国際公開第２０１９／００４４７１号
特許文献２：特表２０１２－５２９６６９号公報

平版印刷版においては、版の印刷可能な枚数（以下、「耐刷性」ともいう。）に優れた平版印刷版が求められている。
特に、近年においては、印刷におけるインキとして、紫外線（ＵＶ）の照射により硬化するインキ（「紫外線硬化型インキ、又は、ＵＶインキ」ともいう。）が用いられる場合がある。
ＵＶインキは、瞬間乾燥可能なため生産性が高い、一般に溶剤の含有量が少ない、又は、無溶剤であるため環境汚染が低減されやすい、熱による乾燥を行わないか、又は、熱による乾燥を短時間として画像を形成できるため、印刷対象などの応用範囲が広がる等の利点を有している。
そのため、ＵＶインキを用いた場合であっても耐刷性に優れる平版印刷版を提供することができる平版印刷版原版は、産業上非常に有用であると考えられる。
本発明者は、鋭意検討した結果、特許文献１又は特許文献２に記載の平版印刷版原版では、特にインキとしてＵＶインキを用いた場合に、得られる平版印刷版の耐刷性が不十分であることを見出した。

本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、ＵＶインキを用いた場合であっても耐刷性に優れる平版印刷版が得られる機上現像型平版印刷版原版を提供することである。
本開示の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記機上現像型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法、又は、平版印刷方法を提供することである。

上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ 支持体、及び、上記支持体上に画像記録層を有し、上記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及び、発色体前駆体を含み、波長８３０ｎｍの赤外線レーザー露光のエネルギー密度１１０ｍＪ／ｃｍ^２で上記画像記録層を露光した場合において、上記画像記録層における未露光領域に対する露光領域のエチレン性不飽和結合消失率が、１０％～４０％である機上現像型平版印刷版原版。
＜２＞ 支持体、及び、上記支持体上に画像記録層を有し、上記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及び、発色体前駆体を含み、波長８３０ｎｍの赤外線レーザー露光のエネルギー密度１１０ｍＪ／ｃｍ^２で上記画像記録層を露光した場合において、上記画像記録層における未露光領域に対する露光領域の重合性化合物消費率が、４０％～９５％である機上現像型平版印刷版原版。
＜３＞ 支持体、及び、上記支持体上に画像記録層を有し、上記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及び、発色体前駆体を含み、上記画像記録層が、下記式Ｎを満たす機上現像型平版印刷版原版。
０．６≦ＮＣ／ＮＣ０≦１．０ 式Ｎ
式Ｎ中、ＮＣは、上記画像記録層のＵＶ耐刷枚数を表し、ＮＣ０は、上記発色体前駆体を除いた以外は上記画像記録層と同一である層のＵＶ耐刷枚数を表す。
＜４＞ 上記発色体前駆体の分子中に存在する全ての水素原子の水素引き抜きエンタルピーが、－６．５ｋｃａｌ／ｍｏｌ以上である＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜５＞ 上記発色体前駆体が、窒素原子に水素原子が直接結合した構造を有しない＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜６＞ 上記発色体前駆体が、酸発色剤である＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜７＞ 上記重合開始剤が、電子供与型重合開始剤、及び、電子受容型重合開始剤を含む＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜８＞ 上記赤外線吸収剤のＨＯＭＯ－上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯの値が、０．７０ｅＶ以下である＜７＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜９＞ 上記重合性化合物が、７官能以上の重合性化合物を含む＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜１０＞ 上記重合性化合物が、１０官能以上の重合性化合物を含む＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜１１＞ 上記重合性化合物が、エチレン性不飽和結合価が５．０ｍｍｏｌ／ｇ以上の化合物を含む＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜１２＞ 上記エチレン性不飽和結合価が５．０ｍｍｏｌ／ｇ以上の化合物が、下記式（Ｉ）で表される化合物である＜１１＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
式（Ｉ） ： Ｘ－（Ｙ）_ｎ
式（Ｉ）中、Ｘは水素結合性基を有するｎ価の有機基を表し、Ｙは２以上のエチレン性不飽和基を有する１価の基を表し、ｎは２以上の整数を表し、Ｘの分子量／（Ｙの分子量×ｎ）が１以下である。
＜１３＞ 上記エチレン性不飽和結合価が５．０ｍｍｏｌ／ｇ以上の化合物が、アダクト構造、ビウレット構造、及びイソシアヌレート構造からなる群より選ばれた少なくとも１種の構造を有する＜１１＞又は＜１２＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜１４＞ 上記重合性化合物が、エチレン性不飽和基を１つ又は２つ有する化合物を含む＜１＞～＜１３＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜１５＞ 上記画像記録層が、分散性基を有する付加重合型樹脂粒子を更に含み、
上記分散性基が、下記式Ｚで表される基を含む＜１＞～＜１４＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＊－Ｑ－Ｗ－Ｙ 式Ｚ
式Ｚ中、Ｑは二価の連結基を表し、Ｗは親水性構造を有する二価の基又は疎水性構造を有する二価の基を表し、Ｙは親水性構造を有する一価の基又は疎水性構造を有する一価の基を表し、Ｗ及びＹのいずれかは親水性構造を有し、＊は他の構造との結合部位を表す。
＜１６＞ 上記画像記録層が、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位を有するポリマーを更に含み、
上記赤外線吸収剤が、赤外線露光により分解する赤外線吸収剤を含む＜１＞～＜１５＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜１７＞ 上記画像記録層が、熱可塑性樹脂粒子を更に含む＜１＞～＜１６＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜１８＞ 上記発色体前駆体が、キサンテン構造を有する＜１＞～＜１５＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜１９＞ 上記発色体前駆体が、下記式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）のいずれかで表される化合物である＜１＞～＜１８＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。

式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）中、ＥＲＧはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、Ｘ_１～Ｘ_４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｘ_５～Ｘ_１０はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基を表し、Ｙ_１及びＹ_２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ_１がＮである場合は、Ｘ_１は存在せず、Ｙ_２がＮである場合は、Ｘ_４は存在せず、Ｒａ_１は、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ_１～Ｒｂ_４はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。

＜２０＞ 上記発色体前駆体が、下記式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）のいずれかで表される化合物である＜１＞～＜１９＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。

式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）中、ＥＲＧはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、Ｘ_１～Ｘ_４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｙ_１及びＹ_２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ_１がＮである場合は、Ｘ_１は存在せず、Ｙ_２がＮである場合は、Ｘ_４は存在せず、Ｒａ_１は、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ_１～Ｒｂ_４はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。

＜２１＞ 上記発色体前駆体が、下記式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）のいずれかで表される化合物である＜１＞～＜２０＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。

式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）中、Ｘ_１～Ｘ_４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｙ_１及びＹ_２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ_１がＮである場合は、Ｘ_１は存在せず、Ｙ_２がＮである場合は、Ｘ_４は存在せず、Ｒａ_１～Ｒａ_４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ_１～Ｒｂ_４はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒｃ_１及びＲｃ_２はそれぞれ独立に、アリール基を表す。

＜２２＞ 上記発色体前駆体が、下記式（Ｌｅ－Ａ）又は式（Ｌｅ－Ｂ）で表される化合物を含む＜１＞～＜２１＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。

式（Ｌｅ－Ａ）及び式（Ｌｅ－Ｂ）中、Ｘ_１～Ｘ_４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｙ_１及びＹ_２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ_１がＮである場合は、Ｘ_１は存在せず、Ｙ_２がＮである場合は、Ｘ_４は存在せず、Ｒａ_１は、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ_１～Ｒｂ_４はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒｃ_１及びＲｃ_２はそれぞれ独立に、アルキル基を表し、Ｒｃ_３及びＲｃ_４はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。

＜２３＞ 上記発色体前駆体が、上記式（Ｌｅ－２）で表される化合物を含む＜１９＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜２４＞ 上記発色体前駆体が、上記式（Ｌｅ－５）で表される化合物を含む＜２０＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜２５＞ 上記発色体前駆体が、上記式（Ｌｅ－８）で表される化合物を含む＜２１＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜２６＞ 上記発色体前駆体が、上記式（Ｌｅ－Ａ）で表される化合物を含む＜２２＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜２７＞ 上記重合開始剤が電子受容型重合開始剤を含み、上記電子受容型重合開始剤が、下記式（II）で表される化合物を含む＜１＞～＜２６＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。

式（II）中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｒ^３はアリール基を表す。

＜２８＞ 上記画像記録層が、バインダーポリマーとしてポリビニルアセタールを更に含有する＜１＞～＜２７＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜２９＞ 上記画像記録層が、フルオロ脂肪族基含有共重合体を更に含有する＜１＞～＜２８＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜３０＞ 上記フルオロ脂肪族基含有共重合体が、下記式（Ｆ１）及び下記式（Ｆ２）のいずれかで表される化合物により形成される構成単位を有する＜２９＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。

式（Ｆ１）及び（Ｆ２）中、Ｒ^Ｆ１は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Ｘは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は－Ｎ（Ｒ^Ｆ２）－を表し、ｍは１～６の整数を表し、ｎは１～１０の整数を表し、ｌは０～１０の整数を表し、Ｒ^Ｆ２は水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表す。

＜３１＞ 上記フルオロ脂肪族基含有共重合体が、ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びポリ（オキシアルキレン）メタクリレートよりなる群から選択される少なくとも１種の化合物により形成される構成単位を更に有する＜３０＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜３２＞ 上記画像記録層上に、オーバーコート層を更に有する＜１＞～＜３１＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜３３＞ 上記オーバーコート層が、疎水性ポリマーを含む＜３２＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜３４＞ 上記オーバーコート層が、発色体前駆体を含む＜３２＞又は＜３３＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜３５＞ 上記オーバーコート層における上記発色体前駆体が、赤外線吸収剤である＜３４＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜３６＞ 上記オーバーコート層における上記発色体前駆体が、赤外線露光に起因して分解する分解性化合物を含む＜３４＞又は＜３５＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜３７＞ 上記支持体が、アルミニウム板と、上記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、上記陽極酸化皮膜が、上記アルミニウム板よりも上記画像記録層側に位置し、上記陽極酸化皮膜が、上記画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、上記マイクロポアの上記陽極酸化皮膜表面における平均径が、１０ｎｍを超え１００ｎｍ以下であり、上記陽極酸化皮膜の上記画像記録層側の表面のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系における明度Ｌ^＊の値が、７０～１００である＜１＞～＜３６＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜３８＞ 上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ１０ｎｍ～１，０００ｎｍの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ２０ｎｍ～２，０００ｎｍの位置までのびる小径孔部とから構成され、上記大径孔部の上記陽極酸化皮膜表面における平均径が、１５ｎｍ～１００ｎｍであり、上記小径孔部の上記連通位置における平均径が、１３ｎｍ以下である＜３７＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜３９＞ 上記発色体前駆体から生成した発色体のモル吸光係数εが、３５，０００～２００，０００である＜１＞～＜３８＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜４０＞ 上記発色体前駆体の下記式で求められる開環率が、４０モル％～９９モル％である＜１＞～＜３９＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
開環率＝上記発色体前駆体に酸を１モル当量添加した際のモル吸光係数／上記発色体前駆体のモル吸光係数ε×１００
＜４１＞ 上記発色体前駆体から生成した発色体の波長３８０ｎｍ～７５０ｎｍの範囲における最大吸収波長が、５００ｎｍ～６５０ｎｍである＜１＞～＜４０＞のいずれか１つに機上現像型平版印刷版原版。
＜４２＞ ＜１＞～＜４１＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む平版印刷版の作製方法。
＜４３＞ ＜１＞～＜４１＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む平版印刷方法。

本開示の一実施形態によれば、ＵＶインキを用いた場合であっても耐刷性に優れる平版印刷版が得られる機上現像型平版印刷版原版を提供することができる。
また、本開示の他の実施形態によれば、上記機上現像型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法又は平版印刷版の印刷方法を提供することができる。

本開示の平版印刷版原版の一実施形態の模式的断面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の一実施形態の模式的断面図である。 図２Ａ中のマイクロポアの１つを拡大した概略断面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の別の一実施形態の模式的断面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の別の一実施形態の模式的断面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の別の一実施形態の模式的断面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の別の一実施形態の模式的断面図である。 第１陽極酸化処理工程から第２陽極酸化処理工程までを工程順に示す陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の模式的断面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における機械的粗面化処理に用いられるブラシグレイニングの工程の概念を示す側面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における陽極酸化処理に用いられる陽極酸化処理装置の概略図である。

以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、数値範囲を示す「～」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
また、本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
本明細書において、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を包含する概念として用いられる語である。
また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。 また、本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
特に限定しない限りにおいて、本開示において組成物中の各成分、又は、ポリマー中の各構成単位は、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上を併用してもよいものとする。
更に、本開示において組成物中の各成分、又は、ポリマー中の各構成単位の量は、組成物中に各成分、又は、ポリマー中の各構成単位に該当する物質又は構成単位が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する該当する複数の物質、又は、ポリマー中に存在する該当する複数の各構成単位の合計量を意味する。
更に、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶媒ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
本開示において、「平版印刷版原版」の用語は、平版印刷版原版だけでなく、捨て版原版を包含する。また、「平版印刷版」の用語は、平版印刷版原版を、必要により、露光、現像などの操作を経て作製された平版印刷版だけでなく、捨て版を包含する。捨て版原版の場合には、必ずしも、露光、現像の操作は必要ない。なお、捨て版とは、例えばカラーの新聞印刷において一部の紙面を単色又は２色で印刷を行う場合に、使用しない版胴に取り付けるための平版印刷版原版である。
また、本開示において、化学構造式における「＊」は、他の構造との結合位置を表す。
以下、本開示を詳細に説明する。

（機上現像型平版印刷版原版）
本開示に係る機上現像型平版印刷版原版（単に「平版印刷版原版」ともいう。）の第一の実施態様は、支持体、及び、上記支持体上に画像記録層を有し、上記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及び、発色体前駆体を含み、波長８３０ｎｍの赤外線レーザー露光のエネルギー密度１１０ｍＪ／ｃｍ^２で上記画像記録層を露光した場合において、上記画像記録層における未露光領域に対する露光領域のエチレン性不飽和結合消失率が、１０％～４０％である。
本開示に係る機上現像型平版印刷版原版の第二の実施態様は、支持体、及び、上記支持体上に画像記録層を有し、上記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及び、発色体前駆体を含み、波長８３０ｎｍの赤外線レーザー露光のエネルギー密度１１０ｍＪ／ｃｍ^２で上記画像記録層を露光した場合において、上記画像記録層における未露光領域に対する露光領域の重合性化合物消費率が、４０％～９５％である。
本開示に係る機上現像型平版印刷版原版の第三の実施態様は、支持体、及び、上記支持体上に画像記録層を有し、上記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及び、発色体前駆体を含み、上記画像記録層が、下記式Ｎを満たす。
０．６≦ＮＣ／ＮＣ０≦１．０ 式Ｎ
式Ｎ中、ＮＣは、上記画像記録層のＵＶ耐刷性を表し、ＮＣ０は、上記発色体前駆体を除いた以外は上記画像記録層と同一である層のＵＶ耐刷性を表す。

なお、本明細書において、特に断りなく、単に「本開示に係る機上現像型平版印刷版原版」又は「本開示に係る平版印刷版原版」という場合は、上記第一の実施態様、上記第二の実施態様及び上記第三の実施態様の全てについて述べるものとする。また、特に断りなく、単に「画像記録層」等という場合は、上記第一の実施態様、上記第二の実施態様及び上記第三の実施態様の全ての画像記録層等について述べるものとする。
また、本開示に係る機上現像型平版印刷版原版は、ネガ型平版印刷版原版であることが好ましい。

従来の特許文献１又は２に記載の平版印刷版原版では、ＵＶインキを用いた場合の耐刷性が十分ではなかった。
本発明者が鋭意検討した結果、得られる平版印刷版において、ＵＶインキを用いた場合であっても耐刷性に優れる平版印刷版原版を提供することができることを見出した。
上記効果が得られる詳細なメカニズムは不明であるが、以下のように推測される。
ネガ型平版印刷版において、耐刷性を決める要因は露光部の膜の架橋度である。露光部の架橋度を示すのが消失率である。消失率が大きいと耐刷性が高い。
加えて、そもそもエチレン性不飽和基を有さない化合物は全て耐刷性を下げる原因となりうるが、中でも耐刷性を下げやすい化合物と下げにくい化合物が存在する。これは平版印刷版原版の画像記録層中でのラジカル重合反応を阻害しやすいか否かによる。特に低分子化合物、中でも色素や発色体前駆体は、ラジカル重合反応を阻害しやすく、耐刷性を低下させる。上記発色体前駆体を用いると、ラジカルが停止されることを抑制し、高い耐刷性を得ることができる。
更に、画像記録層が、上記エチレン性不飽和結合消失率が１０％～４０％であるか、上記重合性化合物消費率が４０％～９５％であるか、又は、画像記録層が上記式Ｎを満たすことにより、耐刷性、特に、ＵＶインキを用いた場合の耐刷性により優れる。
平版印刷版において、版の印刷可能な枚数が多いことを、「耐刷性に優れる」という。ＵＶインキを用いた場合の耐刷性を、以下、「ＵＶ耐刷性」ともいう。
以下、本開示に係る平版印刷版原版における各構成要件の詳細について説明する。

＜画像記録層＞
本開示に係る平版印刷版原版は、支持体上に形成された画像記録層を有する。
本開示における画像記録層は、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及び、発色体前駆体を含む。
本開示に用いられる画像記録層は、ネガ型画像記録層であることが好ましく、水溶性又は水分散性のネガ型画像記録層であることがより好ましい。
本開示に係る平版印刷版原版は、機上現像性の観点から、画像記録層の未露光部が湿し水及び印刷インキの少なくともいずれかにより除去可能であることが好ましい。

本開示に係る機上現像型平版印刷版原版の第一の実施態様は、波長８３０ｎｍの赤外線レーザー露光のエネルギー密度１１０ｍＪ／ｃｍ^２で上記画像記録層を露光した場合において、上記画像記録層における未露光領域に対する露光領域のエチレン性不飽和結合消失率が、１０％～４０％である。上記範囲であると、ＵＶ耐刷性、視認性、及び、平版印刷版原版の面状に優れる。
本開示に係る機上現像型平版印刷版原版の第二又は第三の実施態様は、波長８３０ｎｍの赤外線レーザー露光のエネルギー密度１１０ｍＪ／ｃｍ^２で上記画像記録層を露光した場合において、上記画像記録層における未露光領域に対する露光領域のエチレン性不飽和結合消失率が、ＵＶ耐刷性、視認性、及び、平版印刷版原版の面状の観点から、１０％～４０％であることが好ましい。

本開示に係る機上現像型平版印刷版原版の第一の実施態様は、上記エチレン性不飽和結合消失率が、ＵＶ耐刷性、視認性、及び、平版印刷版原版の面状の観点から、１３％～４０％であることが好ましく、１５％～３０％であることがより好ましい。
本開示に係る機上現像型平版印刷版原版の第二又は第三の実施態様は、上記エチレン性不飽和結合消失率の差の絶対値が、ＵＶ耐刷性、視認性、及び、平版印刷版原版の面状の観点から、１３％～４０％であることがより好ましく、１５％～３０％であることが特に好ましい。

波長８３０ｎｍの赤外線レーザー露光のエネルギー密度１１０ｍＪ／ｃｍ^２で上記画像記録層を露光した場合において、上記画像記録層における未露光領域に対する露光領域のエチレン性不飽和結合消失率の測定は、以下の方法により行う。
フーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ－ＩＲ）を用い、基準ピーク（版素材によるが適宜、露光前後で変化しないピーク）に対する７００ｃｍ^－１付近のＣ＝Ｃ基由来伸縮のピーク面積（相対値）を求める。
後述するＮＣ／ＮＣ０の測定方法と同一の条件で露光した際にできるベタ露光部と未露光部において上述のピーク面積を求め、未露光部面積から露光部面積を引いたものをエチレン性不飽和結合消失率とする。

本開示に係る機上現像型平版印刷版原版の第二の実施態様は、波長８３０ｎｍの赤外線レーザー露光のエネルギー密度１１０ｍＪ／ｃｍ^２で上記画像記録層を露光した場合において、上記画像記録層における未露光領域に対する露光領域の重合性化合物消費率が、４０％～９５％である。上記範囲であると、ＵＶ耐刷性、視認性、及び、平版印刷版原版の面状に優れる。
本開示に係る機上現像型平版印刷版原版の第一又は第三の実施態様は、波長８３０ｎｍの赤外線レーザー露光のエネルギー密度１１０ｍＪ／ｃｍ^２で上記画像記録層を露光した場合において、上記画像記録層における未露光領域に対する露光領域の重合性化合物消費率が、ＵＶ耐刷性、視認性、及び、平版印刷版原版の面状の観点から、４０％～９５％であることが好ましい。

本開示に係る機上現像型平版印刷版原版の第二の実施態様は、上記エチレン性不飽和結合当量の比率が、ＵＶ耐刷性、視認性、及び、平版印刷版原版の面状の観点から、４０％～７０％であることが好ましく、４５％～６５％であることがより好ましい。
本開示に係る機上現像型平版印刷版原版の第一又は第三の実施態様は、上記エチレン性不飽和結合当量の比率が、ＵＶ耐刷性、視認性、及び、平版印刷版原版の面状の観点から、４０％～７０％であることがより好ましく、４５％～６５％であることが特に好ましい。

波長８３０ｎｍの赤外線レーザー露光のエネルギー密度１１０ｍＪ／ｃｍ^２で上記画像記録層を露光した場合において、上記画像記録層における未露光領域に対する露光領域の重合性化合物消費率の測定は、以下の方法により行う。
後述するＮＣ／ＮＣ０の測定方法と同一の条件で露光し、ベタ露光部と未露光部を得る。未露光部と露光部を裁断し、５０ｃｍ^２分の塗布膜を１ｍＬのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に浸して超音波にて重合性化合物を溶出させ、高速液体クロマトグラフィ（ＨＰＬＣ）にて面積を測定する。未露光部から検出された重合性化合物面積で露光部から検出された重合性化合物面積を割った割合を重合性化合物消費率とする。

－式Ｎ－
本開示に係る機上現像型平版印刷版原版の第三の実施態様における画像記録層は、下記式Ｎを満たす。上記態様であると、ＵＶ耐刷性、視認性、及び、平版印刷版原版の面状に優れる。
本開示に係る機上現像型平版印刷版原版の第一又は第二の実施態様における画像記録層は、ＵＶ耐刷性、視認性、及び、平版印刷版原版の面状の観点から、下記式Ｎを満たすことが好ましい。
０．６≦ＮＣ／ＮＣ０≦１．０ 式Ｎ
式Ｎ中、ＮＣは、上記画像記録層のＵＶ耐刷枚数を表し、ＮＣ０は、上記発色体前駆体を除いた以外は上記画像記録層と同一である層のＵＶ耐刷枚数を表す。

ＮＣ、及び、ＮＣ０の値の測定は、以下の方法により測定するものとする。
平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム（株）製Ｌｕｘｅｌ ＰＬＡＴＥＳＥＴＴＥＲ Ｔ－６０００ＩＩＩにて、１１０ｍＪ／ｃｍ^２の露光量になるように露光する。露光画像にはベタ画像、２０μｍドットＦＭスクリーンの５０％網点チャート及び非画像部を含むようにする。
得られた露光済み平版印刷原版を現像処理することなく、（株）小森コーポレーション製印刷機ＬＩＴＨＲＯＮＥ２６の版胴に取り付ける。版胴に対して給水ローラを５％減速させた上で、Ｅｃｏｌｉｔｙ－２（富士フイルム（株）製）／水道水＝２／９８（容量比）の湿し水とＵＶインキ（Ｔ＆Ｋ ＵＶ ＯＦＳ Ｋ－ＨＳ墨ＧＥ－Ｍ（（株）Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ製））とを用い、ＬＩＴＨＲＯＮＥ２６の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時１０，０００枚の印刷速度で、特菱アート（三菱製紙（株）製、連量：７６．５ｋｇ）紙に印刷を５０，０００枚行う。
印刷枚数の増加にともない、徐々に画像記録層が磨耗しインキ受容性が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下する。印刷物におけるＦＭスクリーン３％網点の網点面積率をＸ－Ｒｉｔｅ（Ｘ－Ｒｉｔｅ社製）で計測した値が印刷１００枚目の計測値よりも５％低下したときの印刷部数を刷了枚数としてＵＶ耐刷性（ＮＣ）を評価する。
同様に発色体前駆体を含まない版を用意し、発色体前駆体を含む場合の枚数（ＮＣ）／発色体前駆体を含まない場合の枚数（ＮＣ０）として計算する。

本開示に係る機上現像型平版印刷版原版の第三の実施態様における画像記録層は、ＵＶ耐刷性、視認性、及び、平版印刷版原版の面状の観点から、下記式Ｎ１を満たすことが好ましく、下記式Ｎ２を満たすことがより好ましく、下記式Ｎ３を満たすことが特に好ましい。
本開示に係る機上現像型平版印刷版原版の第一又は第二の実施態様における画像記録層は、ＵＶ耐刷性、視認性、及び、平版印刷版原版の面状の観点から、下記式Ｎ１を満たすことがより好ましく、下記式Ｎ２を満たすことが更に好ましく、下記式Ｎ３を満たすことが特に好ましい。
０．７５≦ＮＣ／ＮＣ０≦１．０ 式Ｎ１
０．８５≦ＮＣ／ＮＣ０≦１．０ 式Ｎ２
０．９０≦ＮＣ／ＮＣ０≦１．０ 式Ｎ３

本開示に係る機上現像型平版印刷版原版の画像記録層におけるＮＣの値は、ＵＶ耐刷性、視認性、及び、平版印刷版原版の面状の観点から、２５，０００以上であることが好ましく、４０，０００以上であることがより好ましく、４７，０００以上であることが特に好ましい。

以下、画像記録層に含まれる各成分の詳細について説明する。

－発色体前駆体－
上記画像記録層は、発色体前駆体を含む。
上記発色体前駆体としては、発色性の観点から、酸発色剤を含むことが好ましい。また、発色体前駆体としては、発色性の観点から、ロイコ化合物を含むことが好ましい。
本開示で用いられる「発色体前駆体」とは、光や酸等の刺激により発色又は消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味し、また、「酸発色剤」とは、電子受容性化合物（例えば酸等のプロトン）を受容した状態で加熱することにより、発色又は消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味する。酸発色剤としては、特に、ラクトン、ラクタム、サルトン、スピロピラン、エステル、アミド等の部分骨格を有し、電子受容性化合物と接触した時に、速やかにこれらの部分骨格が開環若しくは開裂する無色の化合物が好ましい。

上記発色体前駆体の分子中に存在する全ての水素原子の水素引き抜きエンタルピーは、ＵＶ耐刷性の観点から、－６．５ｋｃａｌ／ｍｏｌ以上であることが好ましく、－４．０ｋｃａｌ／ｍｏｌ以上であることがより好ましく、－２．０ｋｃａｌ／ｍｏｌ以上であることが更に好ましく、－２．０ｋｃａｌ／ｍｏｌ～５０ｋｃａｌ／ｍｏｌであることが特に好ましい。
上記水素引き抜きエンタルピーが大きい値であるほど、ラジカル等の重合開始種による上記発色体前駆体からの水素原子の引き抜きが抑制され、重合反応が長く生じるため、硬化性に優れ、耐刷性、特にＵＶ耐刷性により優れる。

本開示における上記発色体前駆体の分子中に存在する全ての水素原子の水素引き抜きエンタルピーは、以下の方法により算出するものとする。
計算プログラムはＧａｕｓｓｉａｎ１６を用い、計算レベルは密度汎関数法（Ｂ３ＬＹＰ／６－３１＋Ｇ＊＊）、溶媒効果はＳＣＲＦ法（溶媒：Ｍｅｔｈａｎｏｌ）として、水素引き抜きによる成長ラジカルとの反応について、反応物と生成物のエンタルピーを各々計算し、両者の差をとることにより、反応エンタルピー計算を実施する。

より具体的には、以下のように実施する。下記化学反応式中、成長ラジカル、ＬｅｕｃｏＤｙｅ－Ｈ、水素付加された成長ラジカル、ＬｅｕｃｏＤｙｅ－ｒａｄｉｃａｌ各々について、Ｇａｕｓｓｉａｎ用プリポストソフトウェアＧａｕｓｓＶｉｅｗ６を用いてモデリングする。計算条件の指定は、＃ｐ ｏｐｔ ｂ３ｌｙｐ／６－３１＋ｇ（ｄ，ｐ） ｓｃｒｆ＝（ｓｏｌｖｅｎｔ＝ｍｅｔｈａｎｏｌとし、ラジカルの場合は電荷０多重度２、ラジカル以外の場合は電荷０多重度１と設定する。＃ｐの指定は詳細ログ出力の指定であり、省略してもよい。
計算を実行して最適化された構造のエネルギー（単位：ｈａｒｔｒｅｅ）から、反応物の生成エンタルピー（成長ラジカルとＬｅｕｃｏＤｙｅ－Ｈのエネルギーの和）、および生成物の生成エンタルピー（水素付加された成長ラジカルとＬｅｕｃｏＤｙｅ－ｒａｄｉｃａｌのエネルギーの和）を求め、生成物の生成エンタルピーから反応物の生成エンタルピーを差し引いた値を水素引抜きエンタルピーとする。単位は、１ｈａｒｔｒｅｅ＝６２７．５１ｋｃａｌ／ｍｏｌとして換算する。

例えば、以下の化合物の各水素原子における水素引き抜きエンタルピーは、以下の通りである。

上記発色体前駆体は、ＵＶ耐刷性の観点から、窒素原子に水素原子が直接結合した構造を有しないことが好ましい。
窒素原子に水素原子が直接結合した構造（Ｎ－Ｈ構造）は、ラジカル等による水素引き抜き反応が生じやすい構造であり、この構造を有しない化合物であると、上記発色体前駆体からの水素原子の引き抜きが抑制され、重合反応が長く生じるため、硬化性に優れ、耐刷性、特にＵＶ耐刷性により優れる。

中でも、本開示に用いられる発色剤は、発色性の観点から、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、スピロラクトン化合物、及び、スピロラクタム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
発色後の色素の色相としては、可視性の観点から、緑、青又は黒であることが好ましい。

また、上記酸発色剤は、発色性、露光部の視認性及びＵＶ耐刷性の観点の観点から、ロイコ色素であることが好ましい。
上記ロイコ色素としては、ロイコ構造を有する色素であれば、特に制限はないが、スピロ構造を有することが好ましく、スピロラクトン環構造を有することがより好ましい。
また、上記ロイコ色素としては、発色性、露光部の視認性及びＵＶ耐刷性の観点の観点から、フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素であることが好ましい。
更に、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、露光部の視認性及びＵＶ耐刷性の観点の観点から、下記式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）のいずれかで表される化合物であることが好ましく、下記式（Ｌｅ－２）で表される化合物であることがより好ましい。

式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）中、ＥＲＧはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、Ｘ_１～Ｘ_４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｘ_５～Ｘ_１０はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基を表し、Ｙ_１及びＹ_２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ_１がＮである場合は、Ｘ_１は存在せず、Ｙ_２がＮである場合は、Ｘ_４は存在せず、Ｒａ_１は、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ_１～Ｒｂ_４はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。

式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）のＥＲＧにおける電子供与性基としては、発色性、露光部の視認性及びＵＶ耐刷性の観点の観点から、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、又は、アルキル基であることが好ましく、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルコキシ基、又は、アリーロキシ基であることがより好ましく、モノアルキルモノアリールアミノ基、又は、ジアリールアミノ基であることが更に好ましく、モノアルキルモノアリールアミノ基であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＸ_１～Ｘ_４はそれぞれ独立に、発色性、露光部の視認性及びＵＶ耐刷性の観点から、水素原子、又は、塩素原子であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
式（Ｌｅ－２）又は式（Ｌｅ－３）におけるＸ_５～Ｘ_１０はそれぞれ独立に、発色性、露光部の視認性及びＵＶ耐刷性の観点から、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基又はシアノ基であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、又は、アリーロキシ基であることがより好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又は、アリール基であることが更に好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＹ_１及びＹ_２は、発色性、露光部の視認性及びＵＶ耐刷性の観点から、少なくとも１方がＣであることが好ましく、Ｙ_１及びＹ_２の両方がＣであることがより好ましい。
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＲａ_１は、発色性、露光部の視認性及びＵＶ耐刷性の観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＲｂ_１～Ｒｂ_４はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。

また、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、露光部の視認性及びＵＶ耐刷性の観点の観点から、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、下記式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）のいずれかで表される化合物であることがより好ましく、下記式（Ｌｅ－５）で表される化合物であることが更に好ましい。

式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）中、ＥＲＧはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、Ｘ_１～Ｘ_４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｙ_１及びＹ_２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ_１がＮである場合は、Ｘ_１は存在せず、Ｙ_２がＮである場合は、Ｘ_４は存在せず、Ｒａ_１は、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ_１～Ｒｂ_４はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。

式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）におけるＥＲＧ、Ｘ_１～Ｘ_４、Ｙ_１、Ｙ_２、Ｒａ_１、及び、Ｒｂ_１～Ｒｂ_４はそれぞれ、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＥＲＧ、Ｘ_１～Ｘ_４、Ｙ_１、Ｙ_２、Ｒａ_１、及び、Ｒｂ_１～Ｒｂ_４と同義であり、好ましい態様も同様である。

更に、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、露光部の視認性及びＵＶ耐刷性の観点から、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、下記式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）のいずれかで表される化合物であることが更に好ましく、下記式（Ｌｅ－８）で表される化合物であることが特に好ましい。

式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）中、Ｘ_１～Ｘ_４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｙ_１及びＹ_２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ_１がＮである場合は、Ｘ_１は存在せず、Ｙ_２がＮである場合は、Ｘ_４は存在せず、Ｒａ_１～Ｒａ_４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ_１～Ｒｂ_４はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒｃ_１及びＲｃ_２はそれぞれ独立に、アリール基を表す。

式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＸ_１～Ｘ_４、Ｙ_１及びＹ_２は、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＸ_１～Ｘ_４、Ｙ_１及びＹ_２と同義であり、好ましい態様も同様である。
式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＲａ_１～Ｒａ_４はそれぞれ独立に、発色性、露光部の視認性及びＵＶ耐刷性の観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＲｂ_１～Ｒｂ_４はそれぞれ独立に、発色性、露光部の視認性及びＵＶ耐刷性の観点から、アルキル基又はアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ－８）におけるＲｃ_１及びＲｃ_２はそれぞれ独立に、発色性、露光部の視認性の観点及びＵＶ耐刷性から、フェニル基、又は、アルキルフェニル基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。
また、式（Ｌｅ－８）において、発色性、露光部の視認性及びＵＶ耐刷性の観点から、Ｘ_１～Ｘ_４が水素原子であり、Ｙ_１及びＹ_２がＣであることが好ましい。
更に、式（Ｌｅ－８）において、発色性、露光部の視認性及びＵＶ耐刷性の観点から、Ｒｂ_１及びＲｂ_２がそれぞれ独立に、アルキル基又はアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましい。

式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－９）におけるアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
また、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－９）におけるアルキル基の炭素数は、１～２０であることが好ましく、１～８であることがより好ましく、１～４であることが更に好ましく、１又は２であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－９）におけるアリール基の炭素数は、６～２０であることが好ましく、６～１０であることがより好ましく、６～８であることが特に好ましい。

また、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－６）における一価の有機基、アルキル基、アリール基、ジアルキルアニリノ基、アルキルアミノ基、アルコキシ基等の各基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、シアノ基等が挙げられる。また、これら置換基は、更にこれら置換基により置換されていてもよい。
また、式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるアルキル基、アリール基、ジアルキルアニリノ基、アルコキシ基等の各基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、シアノ基等が挙げられる。また、これら置換基は、更にこれら置換基により置換されていてもよい。

また、上記発色体前駆体としては、ＵＶ耐刷性、視認性、及び、平版印刷版原版の面状の観点から、キサンテン構造を有することが好ましい。
更に、上記発色体前駆体としては、ＵＶ耐刷性、視認性、及び、平版印刷版原版の面状の観点から、下記式（Ｌｅ－Ａ）又は式（Ｌｅ－Ｂ）で表される化合物を含むことが好ましく、下記式（Ｌｅ－Ａ）で表される化合物を含むことがより好ましい。

式（Ｌｅ－Ａ）及び式（Ｌｅ－Ｂ）中、Ｘ_１～Ｘ_４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｙ_１及びＹ_２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ_１がＮである場合は、Ｘ_１は存在せず、Ｙ_２がＮである場合は、Ｘ_４は存在せず、Ｒａ_１は、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ_１～Ｒｂ_４はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒｃ_１及びＲｃ_２はそれぞれ独立に、アルキル基を表し、Ｒｃ_３及びＲｃ_４はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。

また、式（Ｌｅ－Ａ）及び式（Ｌｅ－Ｂ）におけるＲｂ_１～Ｒｂ_４はそれぞれ独立に、ＵＶ耐刷性、視認性、及び、平版印刷版原版の面状の観点から、アリール基であることが好ましい。
式（Ｌｅ－Ａ）及び式（Ｌｅ－Ｂ）におけるＲｃ_１～Ｒｃ_４はそれぞれ独立に、発色性、露光部の視認性及びＵＶ耐刷性の観点から、フェニル基、又は、アルキルフェニル基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。
また、式（Ｌｅ－Ａ）及び式（Ｌｅ－Ｂ）において、発色性、露光部の視認性及びＵＶ耐刷性の観点から、Ｘ_１～Ｘ_４が水素原子であり、Ｙ_１及びＹ_２がＣであることが好ましい。

式（Ｌｅ－Ａ）及び式（Ｌｅ－Ｂ）におけるアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
また、式（Ｌｅ－Ａ）及び式（Ｌｅ－Ｂ）におけるアルキル基の炭素数は、１～２０であることが好ましく、１～８であることがより好ましく、１～４であることが更に好ましく、１又は２であることが特に好ましい。
式（Ｌｅ－Ａ）及び式（Ｌｅ－Ｂ）におけるアリール基の炭素数は、６～２０であることが好ましく、６～１０であることがより好ましく、６～８であることが特に好ましい。

また、式（Ｌｅ－Ａ）及び式（Ｌｅ－Ｂ）におけるアルキル基、アリール基、ジアルキルアニリノ基、アルコキシ基等の各基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、シアノ基等が挙げられる。また、これら置換基は、更にこれら置換基により置換されていてもよい。

上記発色体前駆体から生じる発色体のモル吸光係数εは、視認性の観点から、３５，０００以上であることが好ましく、３５，０００以上２００，０００以下であることがより好ましく、５０，０００以上１５０，０００以下であることが特に好ましい。

本開示における発色体前駆体から生じる発色体のモル吸光係数εは、以下の方法により測定するものとする。
測定する発色体前駆体０．０４ｍｍｏｌを１００ｍＬメスフラスコに精秤する。
酢酸を９０ｍＬ程度添加し、測定サンプルが完溶していることを目視で確認した後、
酢酸で１００ｍＬにメスアップし、色素溶液Ａを作製する。
別の１００ｍＬメスフラスコに酢酸を８０ｍＬ程度添加した後、イオン交換水５ｍＬ、上記色素液Ａ ５ｍＬをそれぞれ５ｍＬホールピペットを用いて添加し、軽く振り混ぜる。
発色体前駆体の析出がないことを目視で確認した後、酢酸で１００ｍＬにメスアップし、色素溶液Ｂを作製する。色素溶液Ｂは、発色体前駆体の濃度が０．０２ｍｍｏｌ／Ｌである。
色素溶液Ｂを測定セル（石英ガラス、光路幅１０ｍｍ）に充填し、紫外可視分光光度計（（株）島津製作所製、ＵＶ－１８００）を用いて測定を実施する。
ブランクは水：酢酸＝５：９５液とする。
得られたスペクトルから可視光領域（３８０ｎｍ～７５０ｎｍ）における吸収極大波長を読み取り、その波長における吸光度からモル吸光係数εを算出する。

上記発色体前駆体は、下記式で求められる開環率が、視認性の観点から、１５％以上１００％以下であることが好ましく、４０％以上９９％以下であることがより好ましく、６０％以上９９％以下であることが更に好ましく、７５％以上９９％以下であることが特に好ましく、８５％以上９９％以下であることが最も好ましい。
開環率＝発色体前駆体に酸を１モル当量添加した際のモル吸光係数／発色体前駆体から生成する発色体のモル吸光係数ε×１００

上記発色体前駆体から生じる発色体の可視光領域（３８０ｎｍ～７５０ｎｍ）における最大吸光波長λｍａｘが、視認性の観点から、５００ｎｍ～６５０ｎｍであることが好ましく、５２０ｎｍ～６００ｎｍであることがより好ましく、５３０ｎｍ～５８０ｎｍであることが更に好ましく、５４０ｎｍ～５７０ｎｍであることが特に好ましい。

本開示における上記開環率及び上記λｍａｘは、以下の方法により測定するものとする。
－色素溶液Ｃの調製－
発色体前駆体０．１ｍｍｏｌを５０ｍＬメスフラスコに精秤する。
アセトニトリルを４０ｍＬ程度添加し、測定サンプルが完溶していることを目視で確認した後、アセトニトリルで５０ｍＬにメスアップし、色素溶液Ｃを作製する。
－酸溶液Ｄの調製－
１００ｍＬのメスフラスコにＣＳＡ（１０－ｃａｍｐｈｏｒｓｕｌｆｏｎｉｃ ａｃｉｄ）０．２ｍｍｏｌ添加し、アセトニトリル８０ｍＬ程度添加し、ＣＳＡが完溶したことを確認した後に、アセトニトリルで１００ｍＬにメスアップし、酸溶液Ｄを作製する。
－測定液Ｅの調製－
１００ｍＬのメスフラスコに５ｍＬのイオン交換水をホールピペットで添加し、アセトニトリル８０ｍＬを添加する。色素溶液Ｃを１ｍＬ、酸溶液Ｄを１ｍＬ添加し、１００ｍＬにメスアップし、測定液Ｅを調製する。
測定Ｅにおける生じた発色体を含む発色体前駆体の濃度は０．０２ｍｍｏｌ／Ｌである。
色素溶液Ｅを測定セル（石英ガラス、光路幅１０ｍｍ）に充填し、紫外可視分光光度計（（株）島津製作所製、ＵＶ－１８００）を用いて測定を実施する。
ブランクは水：アセトニトリル＝５：９５液とする。
得られたスペクトルから可視光領域（３８０ｎｍ～７５０ｎｍ）における吸収極大波長λｍａｘを読み取り、その波長における吸光度からモル吸光係数εを算出する。
以下の計算式に従って、開環率を算出する。
開環率＝発色体前駆体に酸を１モル当量添加した際のモル吸光係数／発色体前駆体から生成する発色体のモル吸光係数ε×１００

好適に用いられる上記発色体前駆体としては、以下の化合物が挙げられる。

これらの発色体前駆体は、１種単独で用いてもよいし、２種類以上の成分を組み合わせて使用することもできる。
発色体前駆体の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．５質量％～１０質量％であることが好ましく、１質量％～５質量％であることがより好ましい。

〔赤外線吸収剤〕
上記画像記録層は、赤外線吸収剤を含む。
赤外線吸収剤としては、特に制限はなく、例えば、顔料及び染料が挙げられる。
赤外線吸収剤として用いられる染料としては、市販の染料及び例えば、「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が挙げられる。中でも、シアニン色素が特に好ましい。

上記赤外線吸収剤としては、メソ位に酸素又は窒素原子を有するカチオン性のポリメチン色素であることが好ましい。カチオン性のポリメチン色素としては、シアニン色素、ピリリウム色素、チオピリリウム色素、アズレニウム色素等が好ましく挙げられ、入手の容易性、導入反応時の溶剤溶解性等の観点から、シアニン色素であることが好ましい。

シアニン色素の具体例としては、特開２００１－１３３９６９号公報の段落００１７～００１９に記載の化合物、特開２００２－０２３３６０号公報の段落００１６～００２１、特開２００２－０４０６３８号公報の段落００１２～００３７に記載の化合物、好ましくは特開２００２－２７８０５７号公報の段落００３４～００４１、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００８０～００８６に記載の化合物、特に好ましくは特開２００７－９０８５０号公報の段落００３５～００４３に記載の化合物、特開２０１２－２０６４９５号公報の段落０１０５～０１１３に記載の化合物が挙げられる。
また、特開平５－５００５号公報の段落０００８～０００９、特開２００１－２２２１０１号公報の段落００２２～００２５に記載の化合物も好ましく使用することができる。
顔料としては、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００７２～００７６に記載の化合物が好ましい。

また、上記赤外線吸収剤が、分解性赤外線吸収剤であることが好ましく、赤外線露光により分解する赤外線吸収剤であることがより好ましい。
上記赤外線吸収剤として、分解性赤外線吸収剤色素を用いることにより、上記赤外線吸収剤又はその分解物が重合を促進し、また、上記熱可塑性樹脂を用いることにより極性の高い膜を得ることができ、更に、上記赤外線吸収剤の分解物と上記重合性化合物とが相互作用することにより、ＵＶ耐刷性に優れると推定している。
上記分解性赤外線吸収剤は、赤外線露光により、赤外線を吸収し、分解して、発色する機能を有する赤外線吸収剤であることが好ましい。ここで、「発色」とは、赤外線露光前は可視光領域（４００ｎｍ以上７５０ｎｍ未満の波長域）にほとんど吸収がないが、赤外線露光により可視光領域に吸収を生じることを意味し、可視光領域よりも低波長領域の吸収が可視光領域に長波長化することも包含する。
以降、分解性赤外線吸収剤が、赤外線露光により、赤外線を吸収し、分解して形成される発色した化合物を、「分解性赤外線吸収剤の発色体」ともいう。
また、分解性赤外線吸収剤は、赤外線露光により、赤外線を吸収し、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有することが好ましい。
上記分解性赤外線吸収剤は、赤外線波長域（波長７５０ｎｍ～１ｍｍ）の少なくとも１部の光を吸収し、分解するものであればよいが、７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの波長域に極大吸収を有する赤外線吸収剤であることが好ましい。

上記分解性赤外線吸収剤は、赤外線露光に起因する熱、電子移動又はその両方により分解する赤外線吸収剤であることが好ましく、赤外線露光に起因する電子移動により分解する赤外線吸収剤であることがより好ましい。ここで、「電子移動により分解する」とは、赤外線露光によって分解性赤外線吸収剤のＨＯＭＯ（最高被占軌道）からＬＵＭＯ（最低空軌道）に励起した電子が、分子内の電子受容基（ＬＵＭＯと電位が近い基）に分子内電子移動し、それに伴って分解が生じることを意味する。

上記分解性赤外線吸収剤としては、発色性、及び、得られる平版印刷版のＵＶ耐刷性の観点から、赤外線露光により分解する、シアニン色素が好ましい。
上記赤外線吸収剤としては、発色性、及び、得られる平版印刷版のＵＶ耐刷性の観点から、下記式１－１で表される化合物であることがより好ましい。

式１－１中、Ｒ^１は赤外線露光によりＲ^１－Ｌ結合が開裂する基を表し、Ｒ_１１～Ｒ_１８はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、－Ｒａ、－ＯＲｂ、－ＳＲｃ又は－ＮＲｄＲｅを表し、Ｒａ～Ｒｅはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、Ａ_１、Ａ_２及び複数のＲ_１１～Ｒ_１８が連結して単環又は多環を形成してもよく、Ａ_１及びＡ_２はそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を表し、ｎ_１１及びｎ_１２はそれぞれ独立に、０～５の整数を表し、但し、ｎ_１１及びｎ_１２の合計は２以上であり、ｎ_１３及びｎ_１４はそれぞれ独立に、０又は１を表し、Ｌは酸素原子、硫黄原子又は－ＮＲ^１０－を表し、Ｒ^１０は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｚａは電荷を中和する対イオンを表す。

式１－１で表されるシアニン色素は、赤外線で露光されると、Ｒ^１－Ｌ結合が開裂し、Ｌは、＝Ｏ、＝Ｓ又は＝ＮＲ^１０となって、分解性赤外線吸収剤の発色体が形成される。Ｒ^１は離脱して、ラジカル体又はイオン体を形成する。これらは、画像記録層に含まれる重合性を有する化合物の重合に寄与する。

式１－１において、Ｒ_１１～Ｒ_１８は、それぞれ独立に、水素原子、－Ｒａ、－ＯＲｂ、－ＳＲｃ又は－ＮＲｄＲｅが好ましい。
Ｒａ～Ｒｅにおける炭化水素基は、炭素数１～３０の炭化水素基が好ましく、炭素数１～１５の炭化水素基がより好ましく、炭素数１～１０の炭化水素基が更に好ましい。上記炭化水素基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。

式１－１におけるＲ_１１～Ｒ_１４はそれぞれ独立に、水素原子又は炭化水素基が好ましく、水素原子又はアルキル基がより好ましく、水素原子が更に好ましい。
また、Ｌが結合する炭素原子と結合する炭素原子に結合するＲ_１１及びＲ_１３は、アルキル基が好ましく、両者が連結して環を形成することがより好ましい。上記形成される環は５員環又は６員環が好ましく、５員環がより好ましい。
Ａ_１ ^＋が結合する炭素原子に結合するＲ_１２及びＡ_２が結合する炭素原子に結合するＲ_１４は、それぞれ、Ｒ_１５及びＲ_１７と連結して環を形成することが好ましい。

式１－１におけるＲ_１５は、炭化水素基が好ましい。また、Ｒ_１５と、Ａ_１ ^＋が結合する炭素原子に結合するＲ_１２とが連結して環を形成することが好ましい。形成される環としては、インドリウム環、ピリリウム環、チオピリリウム環、ベンゾオキサゾリン環又はベンゾイミダゾリン環が好ましく、発色性の観点から、インドリウム環がより好ましい。
式１－１におけるＲ_１７は、炭化水素基が好ましい。また、Ｒ_１７と、Ａ_２が結合する炭素原子に結合するＲ_１４とが連結して環を形成することが好ましい。形成される環としては、インドール環、ピラン環、チオピラン環、ベンゾオキサゾール環、又は、ベンゾイミダゾール環が好ましく、発色性の観点から、インドール環がより好ましい。
式１－１におけるＲ_１５及びＲ_１７は同一の基であることが好ましく、それぞれが環を形成する場合、同一の環を形成することが好ましい。

式１－１におけるＲ_１６及びＲ_１８は同一の基であることが好ましい。
更に、式１－１により表される化合物の水溶性を向上させる観点から、Ｒ_１６及びＲ_１８はそれぞれ独立に、（ポリ）オキシアルキレン基を有するアルキル基又はアニオン構造を有するアルキル基が好ましく、アルコキシアルキル基、カルボキシレート基又はスルホネート基を有するアルキル基がより好ましく、末端にスルホネート基を有するアルキル基が更に好ましい。上記アルキル基としては、炭素数１～１０のアルキル基が好ましく、炭素数１～４のアルキル基がより好ましい。
上記アニオン構造の対カチオンは、式１－１中のＲ^１－Ｌに含まれうるカチオン又はＡ_１ ^＋であってもよいし、アルカリ金属カチオンやアルカリ土類金属カチオンであってもよい。
上記スルホネート基の対カチオンは、式１－１中のＲ^１－Ｌに含まれうるカチオン又はＡ_１ ^＋であってもよいし、アルカリ金属カチオンやアルカリ土類金属カチオンであってもよい。
また、式１－１により表される化合物の極大吸収波長を長波長化し、また、発色性及び平版印刷版における耐刷性の観点から、Ｒ_１６及びＲ_１８はそれぞれ独立に、アルキル基又は芳香環を有するアルキル基が好ましい。上記アルキル基としては、炭素数１～１０のアルキル基が好ましく、炭素数１～４のアルキル基がより好ましく、メチル基又はエチル基が更に好ましい。芳香環を有するアルキル基としては、末端に芳香環を有するアルキル基が好ましく、２－フェニルエチル基、２－ナフタレニルエチル基又は２－（９－アントラセニル）エチル基がより好ましい。

式１－１におけるｎ_１１及びｎ_１２は同一の０～５の整数が好ましく、１～３の整数がより好ましく、１又は２が更に好ましく、２が特に好ましい。

式１－１におけるＡ_１及びＡ_２は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を表し、窒素原子が好ましい。
式１－１におけるＡ_１及びＡ_２は同一の原子であることが好ましい。

式１－１におけるＺａは、電荷を中和する対イオンを表す。アニオン種を表す場合は、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ｐ－トルエンスルホネートイオン、過塩素酸塩イオン等が挙げられ、ヘキサフルオロホスフェートイオンが好ましい。カチオン種を表す場合は、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、スルホニウムイオン等が挙げられ、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン又はスルホニウムイオンが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン又はアンモニウムイオンがより好ましい。
Ｒ_１１～Ｒ_１８及びＲ^１－Ｌは、アニオン構造やカチオン構造を有していてもよく、Ｒ_１１～Ｒ_１８及びＲ^１－Ｌの全てが電荷的に中性の基であれば、Ｚａは一価の対アニオンであるが、例えば、Ｒ_１１～Ｒ_１８及びＲ^１－Ｌに２以上のアニオン構造を有する場合、Ｚａは対カチオンにもなり得る。
また、式１－１で表されるシアニン色素が、化合物の全体において電荷的に中性な構造であれば、Ｚａは存在しない。

式１－１において、Ｒ^１で表される赤外線露光によりＲ^１－Ｌ結合が開裂する基については、後で詳細に記載する。

上記分解性赤外線吸収剤としては、発色性、及び、得られる平版印刷版のＵＶ耐刷性の観点から、下記式１－Ａで表されるシアニン色素がより好ましい。

式１－Ａ中、Ｒ^１は赤外線露光によりＲ^１－Ｌ結合が開裂する基を表し、Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ^２及びＲ^３が互いに連結して環を形成してもよく、Ａｒ^１及びＡｒ^２はそれぞれ独立に、ベンゼン環又はナフタレン環を形成する基を表し、Ｙ^１及びＹ^２はそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、－ＮＲ^０－又はジアルキルメチレン基を表し、Ｒ^０は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ^４及びＲ^５はそれぞれ独立に、アルキル基、－ＣＯ_２Ｍ基又は－ＰＯ_３Ｍ_２基を表し、Ｍは水素原子、Ｎａ原子、Ｋ原子又はオニウム基を表し、Ｒ^６～Ｒ^９はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｌは酸素原子、硫黄原子又は－ＮＲ^１０－を表し、Ｒ^１０は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｚａは電荷を中和する対イオンを表す。

式１－Ａにおいて、Ｒ^２～Ｒ^９及びＲ^０におけるアルキル基は、炭素数１～３０のアルキル基が好ましく、炭素数１～１５のアルキル基がより好ましく、炭素数１～１０のアルキル基が更に好ましい。上記アルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１－メチルブチル基、イソヘキシル基、２－エチルヘキシル基、２－メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、及び、２－ノルボルニル基が挙げられる。
アルキル基の中で、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。

上記アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、カルボキシレート基、スルホ基、スルホネート基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、及び、これらを組み合わせた基等が挙げられる。

Ｒ^０におけるアリール基は、炭素数６～３０のアリール基が好ましく、炭素数６～２０のアリール基がより好ましく、炭素数６～１２のアリール基が更に好ましい。
上記アリール基は、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、カルボキシレート基、スルホ基、スルホネート基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、及び、これらを組み合わせた基等が挙げられる。
具体的には、例えば、フェニル基、ナフチル基、ｐ－トリル基、ｐ－クロロフェニル基、ｐ－フルオロフェニル基、ｐ－メトキシフェニル基、ｐ－ジメチルアミノフェニル基、ｐ－メチルチオフェニル基、ｐ－フェニルチオフェニル基等が挙げられる。
アリール基の中で、フェニル基、ｐ－メトキシフェニル基、ｐ－ジメチルアミノフェニル基又はナフチル基が好ましい。

Ｒ^２及びＲ^３は、連結して環を形成していることが好ましい。
Ｒ^２及びＲ^３が連結して環を形成する場合、５員環又は６員環が好ましく、５員環が特に好ましい。

Ｙ^１及びＹ^２はそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、－ＮＲ^０－又はジアルキルメチレン基を表し、－ＮＲ^０－又はジアルキルメチレン基が好ましく、ジアルキルメチレン基がより好ましい。
Ｒ^０は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、アルキル基が好ましい。

Ｒ^４又はＲ^５で表されるアルキル基は、置換アルキルであってもよい。Ｒ^４又はＲ^５で表される置換アルキル基としては、下記式（ａ１）～式（ａ４）のいずれかで表される基が挙げられる。

式（ａ１）～式（ａ４）中、Ｒ^Ｗ０は炭素数２～６のアルキレン基を表し、Ｗは単結合又は酸素原子を表し、ｎ_Ｗ１は１～４５の整数を表し、Ｒ^Ｗ１は炭素数１～１２のアルキル基又は－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ^Ｗ５を表し、Ｒ^Ｗ５は炭素数１～１２のアルキル基を表し、Ｒ^Ｗ２～Ｒ^Ｗ４はそれぞれ独立に、単結合又は炭素数１～１２のアルキレン基を表し、Ｍは水素原子、Ｎａ原子、Ｋ原子又はオニウム基を表す。

式（ａ１）において、Ｒ^Ｗ０で表されるアルキレン基の具体例としては、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基、ｎ－ペンチレン基、イソペンチレン基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基等が挙げられ、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基が好ましく、ｎ－プロピレン基が特に好ましい。
ｎ_Ｗ１は１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が特に好ましい。
Ｒ^Ｗ１で表されるアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ドデシル基等が挙げられ、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基が好ましく、メチル基、エチル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。
Ｒ^Ｗ５で表されるアルキル基は、Ｒ^Ｗ１で表されるアルキル基と同様であり、好ましい態様もＲ^Ｗ１で表されるアルキル基の好ましい態様と同様である。

式（ａ１）で表される基の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基を表し、＊は結合部位を表す。

式（ａ２）～式（ａ４）において、Ｒ^Ｗ２～Ｒ^Ｗ４で表されるアルキレン基の具体例としては、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基、ｎ－ペンチレン基、イソペンチレン基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ－オクチレン基、ｎ－ドデシレン基等が挙げられ、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基が好ましく、エチレン基、ｎ－プロピレン基が特に好ましい。
式（ａ３）において、２つ存在するＭは同じでも異なってもよい。

式（ａ２）～式（ａ４）において、Ｍで表されるオニウム基としては、アンモニウム基、ヨードニウム基、ホスホニウム基、スルホニウム基等が挙げられる。

式（ａ１）～式（ａ４）で表される基の中で、式（ａ１）又は式（ａ４）で表される基が好ましい。

式１－Ａにおいて、Ｒ^４及びＲ^５はそれぞれ無置換アルキル基であることが好ましい。Ｒ^４及びＲ^５は、同じ基であることが好ましい。

Ｒ^６～Ｒ^９はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、水素原子が好ましい。
Ａｒ^１及びＡｒ^２はそれぞれ独立に、ベンゼン環又はナフタレン環を形成する基を表す。上記ベンゼン環及びナフタレン環は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、カルボキシレート基、スルホ基、スルホネート基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、ホスホン酸基、及び、これらを組み合わせた基等が挙げられる。置換基としては、アルキル基が好ましい。
また、式１－Ａで表される化合物の極大吸収波長を長波長化し、また、発色性及び平版印刷版の耐刷性を向上させる観点から、Ａｒ^１及びＡｒ^２はそれぞれ独立に、ナフタレン環、又は、アルキル基もしくはアルコキシ基を置換基として有するベンゼン環を形成する基が好ましく、ナフタレン環、又は、アルコキシ基を置換基として有するベンゼン環を形成する基がより好ましく、ナフタレン環、又は、メトキシ基を置換基として有するベンゼン環を形成する基が特に好ましい。

式１－Ａにおいて、Ａｒ^１又はＡｒ^２が、下記式（ｂ１）で表される基を形成する基であることが好ましい。

式（ｂ１）中、Ｒ^１９は炭素数１～１２のアルキル基を表す。ｎ３は１～４の整数を表す。＊は結合部位を表す。

Ｚａは、電荷を中和するための対イオンを表す。但し、式１－Ａで表される化合物が、その構造中に対応するイオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはＺａは必要ない。Ｚａがアニオン種を示す場合は、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ｐ－トルエンスルホネートイオン、過塩素酸塩イオン等が挙げられ、ヘキサフルオロホスフェートイオンが好ましい。Ｚａがカチオン種を示す場合は、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン又はスルホニウムイオン等が挙げられ、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン又はスルホニウムイオンが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン又はアンモニウムイオンがより好ましい。
Ｒ^１～Ｒ^９、Ｒ^０、Ａｒ^１、Ａｒ^２、Ｙ^１及びＹ^２は、アニオン構造やカチオン構造を有していてもよく、Ｒ^１～Ｒ^９、Ｒ^０、Ａｒ^１、Ａｒ^２、Ｙ^１及びＹ^２の全てが電荷的に中性の基であれば、Ｚａは一価の対アニオンであるが、例えば、Ｒ^１～Ｒ^９、Ｒ^０、Ａｒ^１、Ａｒ^２、Ｙ^１及びＹ^２に２以上のアニオン構造を有する場合、Ｚａは対カチオンにもなり得る。

上記式１－１及び式１－Ａにおいて、Ｒ^１で表される赤外線露光によりＲ^１－Ｌ結合が開裂する基について以下に説明する。
式１－１又は式１－ＡにおいてＬが酸素原子である場合、Ｒ^１は、発色性の観点から、下記式（１－１）～式（１－７）のいずれかで表される基が好ましく、下記式（１－１）～式（１－３）のいずれかで表される基がより好ましい。

式（１－１）～（１－７）中、●は、式１－１又は式１－Ａ中のＬで表される酸素原子との結合部位を表し、Ｒ^２０はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、－ＯＲ^２４、－ＮＲ^２５Ｒ^２６又は－ＳＲ^２７を表し、Ｒ^２１はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ^２２はアリール基、－ＯＲ^２４、－ＮＲ^２５Ｒ^２６、－ＳＲ^２７、－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ^２８、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ^２８又はハロゲン原子を表し、Ｒ^２３はアリール基、アルケニル基、アルコキシ基又はオニウム基を表し、Ｒ^２４～Ｒ^２７はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ^２８はアルキル基、アリール基、－ＯＲ^２４、－ＮＲ^２５Ｒ^２６又は－ＳＲ^２７を表し、Ｚ^１は電荷を中和するための対イオンを表す。

Ｒ^２０、Ｒ^２１及びＲ^２４～Ｒ^２８がアルキル基である場合の好ましい態様は、Ｒ^２～Ｒ^９及びＲ^０におけるアルキル基の好ましい態様と同様である。
Ｒ^２０及びＲ^２３におけるアルケニル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０が更に好ましい。
Ｒ^２０～Ｒ^２８がアリール基である場合の好ましい態様は、Ｒ^０におけるアリール基の好ましい態様と同様である。

発色性の観点から、式（１－１）におけるＲ^２０は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、－ＯＲ^２４、－ＮＲ^２５Ｒ^２６又は－ＳＲ^２７が好ましく、アルキル基、－ＯＲ^２４、－ＮＲ^２５Ｒ^２６又は－ＳＲ^２７がより好ましく、アルキル基又は－ＯＲ^２４が更に好ましく、－ＯＲ^２４が特に好ましい。
また、式（１－１）におけるＲ^２０がアルキル基である場合、上記アルキル基は、α位にアリールチオ基、アルキルオキシカルボニル基、又はアリールスルホニル基を有するアルキル基であってもよく、α位にアリールチオ基又はアルキルオキシカルボニル基を有するアルキル基が好ましい。
式（１－１）におけるＲ^２０が－ＯＲ^２４である場合、Ｒ^２４は、アルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基がより好ましく、イソプロピル基又はｔｅｒｔ－ブチル基が更に好ましく、ｔ－ブチル基が特に好ましい。
式（１－１）におけるＲ^２０がアルケニル基である場合、上記アルケニル基は、アリール基、又はヒドロキシアリール基を有するアルケニル基であってもよい。

発色性の観点から、式（１－２）におけるＲ^２１は、水素原子が好ましい。
また、発色性の観点から、式（１－２）におけるＲ^２２は、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^２４、－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲ^２４又はハロゲン原子が好ましく、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^２４又は－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲ^２４がより好ましい。式（１－２）におけるＲ^２２が－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^２４又は－ＯＣ（＝Ｏ）ＯＲ^２４である場合、Ｒ^２４は、アルキル基が好ましい。

発色性の観点から、式（１－３）におけるＲ^２１はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基が好ましく、また、式（１－３）における少なくとも１つのＲ^２１は、アルキル基がより好ましい。
また、Ｒ^２１におけるアルキル基は、炭素数１～１０のアルキル基が好ましく、炭素数３～１０のアルキル基がより好ましい。
更に、Ｒ^２１におけるアルキル基は、分岐又は環構造を有するアルキル基が好ましく、イソプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、又は、ｔｅｒｔ－ブチル基がより好ましい。また、Ｒ^２１におけるアルキル基は、第二級又は第三級アルキル基であることが好ましい。
また、発色性の観点から、式（１－３）におけるＲ^２３は、アリール基、アルコキシ基又はオニウム基が好ましく、ｐ－ジメチルアミノフェニル基又はピリジニウム基がより好ましく、ピリジニウム基が更に好ましい。
Ｒ^２３におけるオニウム基としては、ピリジニウム基、アンモニウム基、スルホニウム基等が挙げられる。オニウム基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、及び、これらを組み合わせた基等が挙げられるが、アルキル基、アリール基及びこれらを組み合わせた基が好ましい。
中でも、ピリジニウム基が好ましく、Ｎ－アルキル－３－ピリジニウム基、Ｎ－ベンジル－３－ピリジニウム基、Ｎ－（アルコキシポリアルキレンオキシアルキル）－３－ピリジニウム基、Ｎ－アルコキシカルボニルメチル－３－ピリジニウム基、Ｎ－アルキル－４－ピリジニウム基、Ｎ－ベンジル－４－ピリジニウム基、Ｎ－（アルコキシポリアルキレンオキシアルキル）－４－ピリジニウム基、Ｎ－アルコキシカルボニルメチル－４－ピリジニウム基、又は、Ｎ－アルキル－３，５－ジメチル－４－ピリジニウム基がより好ましく、Ｎ－アルキル－３－ピリジニウム基、又は、Ｎ－アルキル－４－ピリジニウム基が更に好ましく、Ｎ－メチル－３－ピリジニウム基、Ｎ－オクチル－３－ピリジニウム基、Ｎ－メチル－４－ピリジニウム基、又は、Ｎ－オクチル－４－ピリジニウム基が特に好ましく、Ｎ－オクチル－３－ピリジニウム基、又は、Ｎ－オクチル－４－ピリジニウム基が最も好ましい。
また、Ｒ^２３がピリジニウム基である場合、対アニオンとしては、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ｐ－トルエンスルホネートイオン、過塩素酸塩イオン等が挙げられ、ｐ－トルエンスルホネートイオン、又は、ヘキサフルオロホスフェートイオンが好ましい。

発色性の観点から、式（１－４）におけるＲ^２０は、アルキル基又はアリール基が好ましく、２つのＲ^２０のうち、一方はアルキル基、他方はアリール基がより好ましい。上記２つのＲ^２０は、連結して環を形成していてもよい。
発色性の観点から、式（１－５）におけるＲ^２０は、アルキル基又はアリール基が好ましく、アリール基がより好ましく、ｐ－メチルフェニル基が更に好ましい。
発色性の観点から、式（１－６）におけるＲ^２０はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基が好ましく、メチル基又はフェニル基がより好ましい。
発色性の観点から、式（１－７）におけるＺ^１は、電荷を中和するための対イオンであればよく、化合物全体として、上記Ｚａに含まれてもよい。
Ｚ^１は、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ｐ－トルエンスルホネートイオン、又は、過塩素酸塩イオンが好ましく、ｐ－トルエンスルホネートイオン、又は、ヘキサフルオロホスフェートイオンがより好ましい。

式１－１又は式１－ＡにおいてＬが酸素原子である場合、発色性の観点から、更に好ましくは、Ｒ^１は下記式（５）で表される基である。

式（５）中、Ｒ^１５及びＲ^１６はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｅはオニウム基を表し、＊は式１－１又は式１－Ａ中のＬで表される酸素原子との結合部位を表す。

Ｒ^１５又はＲ^１６で表されるアルキル基は、Ｒ^２～Ｒ^９及びＲ^０におけるアルキル基と同様であり、好ましい態様もＲ^２～Ｒ^９及びＲ^０におけるアルキル基の好ましい態様と同様である。
Ｒ^１５又はＲ^１６で表されるアリール基は、Ｒ^０におけるアリール基と同様であり、好ましい態様も、Ｒ^０におけるアリール基の好ましい態様と同様である。
Ｅで表されるオニウム基は、Ｒ^２３におけるオニウム基と同様であり、好ましい態様もＲ^２３におけるオニウム基の好ましい態様と同様である。

式（５）において、Ｅで表されるオニウム基は、下記式（６）で表されるピリジニウム基が好ましい。

式（６）中、Ｒ^１７はハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基又はアルコキシ基を表し、Ｒ^１７が複数存在する場合、複数のＲ^１７は同じでも異なってもよく、あるいは複数のＲ^１７が連結して環を形成してもよい。ｎ２は０～４の整数を表す。Ｒ^１８はアルキル基又はアリール基を表す。Ｚ_ｂは電荷を中和するための対イオンを表す。

Ｒ^１７又はＲ^１８で表されるアルキル基又はアリール基は、Ｒ^２～Ｒ^９及びＲ^０におけるアルキル基又はＲ^０におけるアリール基と同様であり、好ましい態様もＲ^２～Ｒ^９及びＲ^０におけるアルキル基又はＲ^０におけるアリール基の好ましい態様と同様である。
Ｒ^１７で表されるアルコキシ基は、炭素数１～１０のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基等が挙げられる。
ｎ２は、好ましくは、０である。
Ｚ_ｂで表される電荷を中和するための対イオンは、式（１－７）におけるＺ^１と同様であり、好ましい態様も式（１－７）におけるＺ^１の好ましい態様と同様である。

以下に、式１－１又は式１－ＡにおいてＬが酸素原子の場合、Ｒ^１で表される基の具体例を挙げるが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、ＴｓＯ^－はトシレートアニオンを表し、●は式１－１又は式１－ＡのＬで表される酸素原子との結合部位を表す。

Ｌが酸素原子である場合、Ｒ^１がアリール基又は直鎖のアルキル基であると、赤外線露光によるＲ^１－Ｏ結合の開裂は起こらない。

式１－１又は式１－ＡにおいてＬが硫黄原子である場合、Ｒ^１は、下記式（２－１）で表される基が好ましい。

式（２－１）中、●は、式１－１又は式１－Ａ中のＬで表される硫黄原子との結合部位を表し、Ｒ^２１はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ^２２はアリール基、アルケニル基、アルコキシ基又はオニウム基を表す。

式１－１又は式１－ＡにおいてＬが－ＮＲ^１０－である場合、Ｎに結合するＲ^１は、下記式（３－１）で表わされる基が好ましい。

式（３－１）中、●は、式１－１又は式１－Ａ中のＬに含まれる窒素原子との結合部位を表し、Ｘ^１及びＸ^２はそれぞれ独立に、酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｙは、上記式（２－１）で表される基を表す。

上記式（２－１）において、Ｒ^２１及びＲ^２２で表されるアルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基及びオニウム基については、上記式（１－１）～式（１－７）において記載したアルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基及びオニウム基に関する記載を援用することができる。

式１－１又は式１－Ａにおいて、Ｌが硫黄原子又は－ＮＲ^１０－を表し、Ｒ^１０が水素原子、アルキル基又はアリール基を表すことが、耐刷性の向上という観点から好ましい。

上記式１－１及び式１－ＡにおけるＲ^１は、下記式２で表される基であることが好ましい。
また、上記式２で表される基は、赤外線露光により、式２中のＲ^Ｚ－Ｏ結合が開裂する基であることが好ましい。

式２中、Ｒ^Ｚは、アルキル基を表し、波線部分は、式１－１又は式１－Ａ中のＬで表される基との結合部位を表す。
Ｒ^Ｚで表されるアルキル基としては、上述のＲ^２～Ｒ^９及びＲ^０におけるアルキル基の好ましい態様と同様である。
発色性、及び、得られる平版印刷版のＵＶ耐刷性の観点から、上記アルキル基としては、第二級アルキル基又は第三級アルキル基であることが好ましく、第三級アルキル基であることが好ましい。
また、発色性、及び、得られる平版印刷版のＵＶ耐刷性の観点から、上記アルキル基としては、炭素数１～８のアルキル基であることが好ましく、炭素数３～１０の分岐状のアルキル基であることがより好ましく、炭素数３～６の分岐鎖状のアルキル基であることが更に好ましく、イソプロピル基又はｔｅｒｔ－ブチル基が特に好ましく、ｔ－ブチル基が最も好ましい。

以下に、上記式２で表される基の具体例を挙げるが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、●は式１－１又は式１－ＡのＬとの結合部位を表す。

以下に、赤外線露光により分解する赤外線吸収剤の具体例を挙げるが、本開示はこれらに限定されるものではない。

また、赤外線露光により分解する赤外線吸収剤としては、特表２００８－５４４３２２号公報、又は、国際公開第２０１６／０２７８８６号に記載のものを好適に用いることができる。

赤外線吸収剤は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。また、赤外線吸収剤として顔料と染料とを併用してもよい。
上記画像記録層中の赤外線吸収剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．１質量％～１０．０質量％が好ましく、０．５質量％～５．０質量％がより好ましい。

〔重合性化合物〕
本開示における画像記録層は、重合性化合物を含む。本開示において、重合性化合物とは、重合性基を有する化合物をいう。
本開示において、重合性を有する化合物であっても、上述の熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂、後述するポリマー粒子、及び、後述する熱可塑性樹脂以外のバインダーポリマーに該当する化合物は、重合性化合物には該当しないものとする。
重合性基としては、特に限定されず公知の重合性基であればよいが、エチレン性不飽和基であることが好ましい。
また重合性基としては、ラジカル重合性基であってもカチオン重合性基であってもよいが、ラジカル重合性基であることが好ましい。
ラジカル重合性基としては、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニルフェニル基、ビニル基等が挙げられ、反応性の観点から（メタ）アクリロイル基が好ましい。
重合性化合物の分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）は、５０以上２，５００未満であることが好ましく、５０以上２，０００以下であることがより好ましい。また、ＵＶ耐刷性、インキ着肉性、耐薬品性、及び、経時での非画像部機上現像性の観点から、重合性化合物の分子量が、１，５００以下であることが好ましい。

上記重合性化合物におけるエチレン性不飽和結合１ｍｏｌあたりの質量（「エチレン性不飽和結合当量」ともいう。）は、得られる平版印刷版におけるＵＶ耐刷性の観点から、２００ｇ／ｍｏｌ以下であることが好ましく、５０ｇ／ｍｏｌ以上２００ｇ／ｍｏｌ以下であることがより好ましく、８０ｇ／ｍｏｌ以上１８０ｇ／ｍｏｌ以下であることが更に好ましく、１００ｇ／ｍｏｌ以上１５０ｇ／ｍｏｌ以下であることが特に好ましい。
本開示において、重合性化合物のエチレン性不飽和結合当量を、具体的には例えば、以下のように求めることができる。
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、分子量５７８、エチレン性不飽和結合６個）のエチレン性不飽和結合当量：５７８÷６＝９６．３（ｇ／ｍｏｌ）
・スチレン（分子量１０４、エチレン性不飽和結合１個）のエチレン性不飽和結合当量：１０４÷１＝１０４（ｇ／ｍｏｌ）
・「ＤＰＨＡ１０ｇとスチレン２０ｇとの混合物」のエチレン性不飽和結合当量：（１０＋２０）／｛１０／９６．３＋２０／１０４｝＝１０１（ｇ／ｍｏｌ）
本開示におけるエチレン性不飽和結合当量は、重合性化合物の分子量及びエチレン性不飽和結合の数、並びに、上記画像記録層中における重合性化合物の組成を、公知の方法により特定し、上記計算方法により求めることができる。

本開示に用いられる重合性化合物は、例えば、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する付加重合性化合物（エチレン性不飽和化合物）であることが好ましい。エチレン性不飽和化合物としては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個有する化合物であることが好ましく、末端エチレン性不飽和結合を２個以上有する化合物であることがより好ましい。重合性化合物は、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体若しくはオリゴマー、又は、それらの混合物などの化学的形態をもつ。
中でも、上記重合性化合物としては、ＵＶ耐刷性の観点から、３官能以上の重合性化合物を含むことが好ましく、７官能以上の重合性化合物を含むことがより好ましく、１０官能以上の重合性化合物を含むことが更に好ましい。また、上記重合性化合物は、得られる平版印刷版におけるＵＶ耐刷性の観点から、３官能以上（好ましくは７官能以上、より好ましくは１０官能以上）のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、３官能以上（好ましくは７官能以上、より好ましくは１０官能以上）の（メタ）アクリレート化合物を含むことが更に好ましい。

－オリゴマー－
画像記録層に含まれる重合性化合物は、オリゴマーを含有することが好ましい。
本開示においてオリゴマーとは、分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）が６００以上１０，０００以下であり、かつ、重合性基を少なくとも１つ含む重合性化合物を表す。
耐薬品性、ＵＶ耐刷性及び機上現像カスの抑制性に優れる観点から、オリゴマーの分子量としては、１，０００以上５，０００以下であることが好ましい。

また、耐薬品性及びＵＶ耐刷性を向上させる観点から、１分子のオリゴマーにおける重合性基数は、２以上であることが好ましく、３以上であることがより好ましく、６以上であることが更に好ましく、１０以上であることが特に好ましい。
また、オリゴマーにおける重合性基の上限値は、特に制限はないが、重合性基の数は２０以下であることが好ましい。

耐薬品性、ＵＶ耐刷性及び機上現像カスの抑制性により優れる観点から、オリゴマーとしては、重合性基の数が７以上であり、かつ、分子量が１，０００以上１０，０００以下であることが好ましく、重合性基の数が７以上２０以下であり、かつ、分子量が１，０００以上５，０００以下であることがより好ましい。

耐薬品性及びＵＶ耐刷性により優れる観点から、オリゴマーは、ウレタン結合を有する化合物、エステル結合を有する化合物及びエポキシ残基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種を有することが好ましく、ウレタン結合を有する化合物を有することが好ましい。
本明細書においてエポキシ残基とは、エポキシ基により形成される構造を指し、例えば酸基（カルボン酸基等）とエポキシ基との反応により得られる構造と同様の構造を意味する。

＜＜ウレタン結合を有する化合物＞＞
ウレタン結合を有する化合物としては、特に限定されないが、例えば、ポリイソシアネート化合物と、ヒドロキシ基及び重合性基を有する化合物との反応により得られる化合物が挙げられる。

ポリイソシアネート化合物としては、２官能～５官能のポリイソシアネート化合物が挙げられ、２官能又は３官能のポリイソシアネート化合物が好ましい。
ポリイソシアネート化合物としては、１，３－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、ジイソシアン酸イソホロン、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、１，３－シクロペンタンジイソシアネート、９Ｈ－フルオレン－２，７－ジイソシアネート、９Ｈ－フルオレン－９－オン－２，７－ジイソシアネート、４，４’－ジフェニルメタンジイソシアナート、１，３－フェニレンジイソシアナート、トリレン－２，４－ジイソシアナート、トリレン－２，６－ジイソシアナート、１，３－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、２，２－ビス（４－イソシアナトフェニル）ヘキサフルオロプロパン、１，５－ジイソシアナトナフタレン、これらのポリイソシアネートのダイマー、トリマー（イソシアヌレート結合）等が好ましく挙げられる。また、上記のポリイソシアネート化合物と公知のアミン化合物とを反応させたビウレット体を用いてもよい。

ヒドロキシ基及び重合性基を有する化合物としては、１つのヒドロキシ基と、１以上の重合性基とを有する化合物が好ましく、１つのヒドロキシ基と、２以上の重合性基とを有する化合物がより好ましい。
ヒドロキシ基及び重合性基を有する化合物としては、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

ウレタン結合を有する化合物としては、例えば、下記式（Ａｃ－１）又は式（Ａｃ－２）で表される基を少なくとも有する化合物であることが好ましく、下記式（Ａｃ－１）で表される基を少なくとも有する化合物であることがより好ましい。

式（Ａｃ－１）及び式（Ａｃ－２）中、Ｌ^１～Ｌ^４はそれぞれ独立に、炭素数２～２０の二価の炭化水素基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
Ｌ^１～Ｌ^４としては、それぞれ独立に、炭素数２～２０のアルキレン基であることが好ましく、炭素数２～１０のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数４～８のアルキレン基であることが更に好ましい。また、上記アルキレン基は、分岐又は環構造を有していてもよいが、直鎖アルキレン基であることが好ましい。

式（Ａｃ－１）又は式（Ａｃ－２）における波線部はそれぞれ独立に、下記式（Ａｅ－１）又は式（Ａｅ－２）で表される基における波線部と直接結合することが好ましい。

式（Ａｅ－１）及び式（Ａｅ－２）中、Ｒはそれぞれ独立に、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表し、波線部分は式（Ａｃ－１）及び式（Ａｃ－２）における波線部との結合位置を表す。

また、ウレタン結合を有する化合物として、ポリイソシアネート化合物と、ポリオール化合物と、の反応により得られるポリウレタンに、高分子反応により重合性基を導入した化合物を用いてもよい。例えば、酸基を有するポリオール化合物と、ポリイソシアネート化合物を反応させて得られたポリウレタンオリゴマーに、エポキシ基及び重合性基を有する化合物を反応させることにより、ウレタン結合を有する化合物を得てもよい。

＜＜エステル結合を有する化合物＞＞
また、エステル結合を有する化合物における重合性基の数は、３以上であることが好ましく、６以上であることが更に好ましい。

＜＜エポキシ残基を有する化合物＞＞
エポキシ残基を有する化合物としては、化合物内にヒドロキシ基を含む化合物が好ましい。
また、エポキシ残基を有する化合物における重合性基の数は、２～６であることが好ましく、２～３であることがより好ましい。
上記エポキシ残基を有する化合物としては、例えば、エポキシ基を有する化合物にアクリル酸を反応することにより得ることができる。

耐薬品性、ＵＶ耐刷性及び機上現像カスの抑制性を向上させる観点から、上記画像記録層における上記重合性化合物の全質量に対する上記オリゴマーの含有量は、３０質量％～１００質量％であることが好ましく、５０質量％～１００質量％であることがより好ましく、８０質量％～１００質量％であることが更に好ましい。

重合性化合物は、上記オリゴマー以外の重合性化合物を更に含んでいてもよい。
オリゴマー以外の重合性化合物は、例えば、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、少なくとも１つのエチレン性不飽和基を有する付加重合性化合物（エチレン性不飽和化合物）であることが好ましい。エチレン性不飽和化合物としては、末端にエチレン性不飽和基を少なくとも１つ有する化合物であることが好ましく、末端にエチレン性不飽和基を２つ以上有する化合物であることがより好ましい。
オリゴマー以外の重合性化合物としては、耐薬品性の観点から、低分子重合性化合物であることが好ましい。低分子重合性化合物としては、単量体、２量体、３量体又は、それらの混合物などの化学的形態であってもよい。
また、低分子重合性化合物としては、耐薬品性の観点から、エチレン性不飽和基を３つ以上有する重合性化合物及びイソシアヌル環構造を有する重合性化合物からなる群より選ばれる少なくとも一方の重合性化合物であることが好ましい。

本開示において低分子重合性化合物とは、分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）５０以上６００未満の重合性化合物を表す。
低分子重合性化合物の分子量としては、耐薬品性、ＵＶ耐刷性及び機上現像カスの抑制性に優れる観点から、１００以上６００未満であることが好ましく、３００以上６００未満であることがより好ましく、４００以上６００未満であることが更に好ましい。
重合性化合物が、オリゴマー以外の重合性化合物として低分子重合性化合物を含む場合(２種以上の低分子重合性化合物を含む場合はその合計量）、耐薬品性、ＵＶ耐刷性及び機上現像カスの抑制性の観点から、上記オリゴマーと低分子重合性化合物との比（オリゴマー/低分子重合性化合物）は、質量基準で、１０/１～１/１０であることが好ましく、１０/１～３/７であることがより好ましく、１０/１～７/３であることが更に好ましい。

重合性化合物の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）及び、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル類、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類、又は、アミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類又はエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン原子、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。これらは、特表２００６－５０８３８０号公報、特開２００２－２８７３４４号公報、特開２００８－２５６８５０号公報、特開２００１－３４２２２２号公報、特開平９－１７９２９６号公報、特開平９－１７９２９７号公報、特開平９－１７９２９８号公報、特開２００４－２９４９３５号公報、特開２００６－２４３４９３号公報、特開２００２－２７５１２９号公報、特開２００３－６４１３０号公報、特開２００３－２８０１８７号公報、特開平１０－３３３３２１号公報等に記載されている。

多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、１，３－ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド（ＥＯ）変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステルとして、テトラメチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ビス〔ｐ－（３－メタクリルオキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス〔ｐ－（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、１，６－ヘキサメチレンビスアクリルアミド、１，６－ヘキサメチレンビスメタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。

また、イソシアネートとヒドロキシ基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、その具体例としては、例えば、特公昭４８－４１７０８号公報に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式（Ｍ）で表されるヒドロキシ基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^Ｍ４）ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ（Ｒ^Ｍ５）ＯＨ （Ｍ）
式（Ｍ）中、Ｒ^Ｍ４及びＲ^Ｍ５はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。

また、特開昭５１－３７１９３号公報、特公平２－３２２９３号公報、特公平２－１６７６５号公報、特開２００３－３４４９９７号公報、特開２００６－６５２１０号公報に記載のウレタンアクリレート類、特公昭５８－４９８６０号公報、特公昭５６－１７６５４号公報、特公昭６２－３９４１７号公報、特公昭６２－３９４１８号公報、特開２０００－２５０２１１号公報、特開２００７－９４１３８号公報に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類、米国特許第７１５３６３２号明細書、特表平８－５０５９５８号公報、特開２００７－２９３２２１号公報、特開２００７－２９３２２３号公報に記載の親水基を有するウレタン化合物類も好適である。

オリゴマーの具体例を下記表に示すが、本開示において用いられるオリゴマーはこれに限定されるものではない。

オリゴマーとしては、市販品を用いてもよく、ＵＡ５１０Ｈ、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＵＡ－３０６Ｔ（いずれも共栄社化学（株）製）、ＵＶ－１７００Ｂ、ＵＶ－６３００Ｂ、ＵＶ７６２０ＥＡ（いずれも日本合成化学工業（株）製）、Ｕ－１５ＨＡ（新中村化学工業（株）製）、ＥＢＥＣＲＹＬ４５０、ＥＢＥＣＲＹＬ６５７、ＥＢＥＣＲＹＬ８８５、ＥＢＥＣＲＹＬ８００、ＥＢＥＣＲＹＬ３４１６、ＥＢＥＣＲＹＬ８６０（いずれもダイセルオルネクス（株）製）等が挙げられるが、これに限定されるものではない。

－特定化合物Ｂ１－
重合性化合物は、耐刷性を高める観点から、エチレン性不飽和結合価が５．０ｍｍｏｌ／ｇ以上の化合物（以下、特定化合物Ｂ１ともいう。）を含むことが好ましい。
特定化合物Ｂ１のエチレン性不飽和結合価は、５．５ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、６．０ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより好ましい。特定化合物Ｂ１のエチレン性不飽和結合価の上限は、例えば、１０．０ｍｍｏｌ／ｇ以下が挙げられ、８．５ｍｍｏｌ／ｇ以下であることがより好ましい。

ここで、本開示における化合物のエチレン性不飽和結合価は、以下の方法にて求める。まず、所定のサンプル量（例えば、０．２ｇ）の化合物について、例えば、熱分解ＧＣ／ＭＳ、ＦＴ－ＩＲ、ＮＭＲ、ＴＯＦ－ＳＩＭＳ等を用いて、化合物の構造を特定し、エチレン性不飽和基の総量（ｍｍｏｌ）を求める。求められたエチレン性不飽和基の総量（ｍｍｏｌ）を、化合物のサンプル量（ｇ）にて除することで、化合物におけるエチレン性不飽和結合価が算出される。

特定化合物Ｂ１は、上記Ｃ＝Ｃ価を満たす観点から、下記式（Ｉ）で表される化合物であることが好ましい。
式（Ｉ） ： Ｘ－（Ｙ）ｎ
式（Ｉ）中、Ｘは水素結合性基を有するｎ価の有機基を表し、Ｙは２以上のエチレン性不飽和基を有する１価の基を表し、ｎは２以上の整数を表し、Ｘの分子量／（Ｙの分子量×ｎ）が１以下である。

式（Ｉ）のＸにおける水素結合性基としては特に制限はなく、水素結合可能な基であればよく、水素結合供与性基であっても、水素結合受容型基であっても、その両方であってもよい。上記水素結合性基としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、カルボニル基、スルホニル基、ウレタン基、ウレア基、イミド基、アミド基、スルホンアミド基等が挙げられる。中でも、上記水素結合性基としては、機上現像性及び耐刷性の観点から、ウレタン基、ウレア基、イミド基、アミド基、及びスルホンアミド基からなる群より選ばれた少なくとも１種の基を含むことが好ましく、ウレタン基、ウレア基、イミド基、及びアミド基からなる群より選ばれた少なくとも１種の基を含むことがより好ましく、ウレタン基、ウレア基、及びイミド基からなる群より選ばれた少なくとも１種の基であることが更に好ましく、ウレタン基及びウレア基からなる群より選ばれた少なくとも１種の基を含むことが特に好ましい。

式（Ｉ）におけるＸは、エチレン性不飽和結合を有しない有機基であることが好ましい。
また、式（Ｉ）におけるＸは、機上現像性及び耐刷性の観点から、１価～ｎ価の脂肪族炭化水素基、１価～ｎ価の芳香族炭化水素基、ウレタン結合、ウレア結合、ビウレット結合、及びアロファネート結合からなる群より選ばれた２種以上の構造を組み合わせた基であることが好ましく、１価～ｎ価の脂肪族炭化水素基、１価～ｎ価の芳香族炭化水素基、ウレタン結合、ウレア結合、及びビウレット結合からなる群より選ばれた２種以上の構造を組み合わせた基であることがより好ましい。

式（Ｉ）におけるＸは、機上現像性及び耐刷性の観点から、多官能イソシアネート化合物が多量化した多量化体（トリメチロールプロパンアダクト体等の多官能アルコール化合物のアダクト体を含む。）から末端のイソシアネート基を除いた基であることが好ましく、二官能イソシアネート化合物が多量化した多量化体（多官能アルコール化合物のアダクト体を含む。）から末端のイソシアネート基を除いた基であることがより好ましく、ヘキサメチレンジイソシアネートが多量化した多量化体（多官能アルコール化合物のアダクト体を含む。）から末端のイソシアネート基を除いた基であることが特に好ましい。

式（Ｉ）におけるＸの分子量は、機上現像性及び耐刷性の観点から、１００～１，０００が好ましく、１５０～８００であることがより好ましく、１５０～５００であることが特に好ましい。

式（Ｉ）のＹにおけるエチレン性不飽和基としては特に制限はなく、反応性、機上現像性、及び耐刷性の観点から、ビニルフェニル基、ビニルエステル基、ビニルエーテル基、アリル基、（メタ）アクリロキシ基、及び（メタ）アクリルアミド基からなる群より選ばれた少なくとも１種の基であることが好ましい。上記と同様の観点から、式（Ｉ）のＹにおけるエチレン性不飽和基としては、ビニルフェニル基、（メタ）アクリロキシ基、及び（メタ）アクリルアミド基からなる群より選ばれた少なくとも１種の基であることがより好ましく、（メタ）アクリロキシ基であることが更に好ましい。即ち、式（Ｉ）のＹにおけるエチレン性不飽和基は、機上現像性及び耐刷性の観点から、（メタ）アクリロキシ基を含むことが好ましい。

式（Ｉ）におけるＹは、３つ以上の（メタ）アクリロキシ基を有する基であることが好ましく、５つ以上の（メタ）アクリロキシ基を有する基であることがより好ましく、５つ以上１２つ以下の（メタ）アクリロキシ基を有する基であることが更に好ましい。

式（Ｉ）におけるＹは、機上現像性及び耐刷性の観点から、下記式（Ｙ－１）又は式（Ｙ－２）で表される構造を有していてもよい。

式（Ｙ－１）及び式（Ｙ－２）中、Ｒは、それぞれ独立に、アクリル基又はメタクリル基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。

式（Ｙ－１）又は式（Ｙ－２）においては、Ｒは全て同じ基であることが好ましい。また、式（Ｙ－１）又は式（Ｙ－２）においては、Ｒは、アクリル基であることが好ましい。

更に、式（Ｉ）におけるｎ個のＹは、全て同じ基であることが好ましい。

式（Ｉ）におけるＹの分子量は、機上現像性及び耐刷性の観点から、２００以上１，０００以下であることが好ましく、２５０以上８００以下であることがより好ましい。

式（Ｉ）におけるｎは２以上の整数であり、機上現像性及び耐刷性の観点から、２～３であることがより好ましい。

Ｘの分子量／（Ｙの分子量×ｎ）は１以下であり、機上現像性及び耐刷性の観点から、０．０１～０．８であることが好ましく、０．１～０．５であることがより好ましい。

特定化合物Ｂ１の構造は、上述のように、多官能イソシアネート化合物の多量化体（アダクト体を含む。）の末端イソシアネート基を、エチレン性不飽和基を有する化合物により封止した構造が好ましく挙げられる。中でも、多官能イソシアネート化合物の多量化体としては、２官能イソシアネート化合物の多量化体が好ましい。

また、特定化合物Ｂ１は、機上現像性及び耐刷性の観点から、多官能イソシアネート化合物が多量化した多量化体の末端イソシアネート基に、ヒドロキシ基（水酸基ともいう）を末端に有する多官能エチレン性不飽和化合物を反応させてなる化合物であることが好ましい。また、上記と同様の観点から、特定化合物Ｂ１は、２官能イソシアネート化合物が多量化した多量化体（多官能アルコール化合物のアダクト体を含む）の末端イソシアネート基に、ヒドロキシ基を有する多官能エチレン性不飽和化合物を反応させてなる化合物であることがより好ましい。更に、上記と同様の観点から、特定化合物Ｂ１は、ヘキサメチレンジイソシアネートが多量化した多量化体（多官能アルコール化合物のアダクト体を含む）の末端イソシアネート基に、ヒドロキシ基を有する多官能エチレン性不飽和化合物を反応させてなる化合物であることが特に好ましい。

上記多官能イソシアネート化合物としては、特に制限はなく、公知のものを用いることができ、脂肪族多官能イソシアネート化合物であってもよいし、芳香族多官能イソシアネート化合物であってもよい。上記多官能イソシアネート化合物としては、具体的には、例えば、１，３－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、イソホロンジイソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、１，３－シクロペンタンジイソシアネート、９Ｈ－フルオレン－２，７－ジイソシアネート、９Ｈ－フルオレン－９－オン－２，７－ジイソシアネート、４，４’－ジフェニルメタンジイソシアナート、１，３－フェニレンジイソシアナート、トリレン－２，４－ジイソシアナート、トリレン－２，６－ジイソシアナート、１，３－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、２，２－ビス（４－イソシアナトフェニル）ヘキサフルオロプロパン、１，５－ジイソシアナトナフタレン、これらのポリイソシアネートのダイマー、トリマー（イソシアヌレート結合）等が好ましく挙げられる。また、上記のポリイソシアネート化合物と公知のアミン化合物とを反応させたビウレット体を用いてもよい。
また、上記ヒドロキシ基を有する多官能エチレン性不飽和化合物は、ヒドロキシ基を有する３官能以上のエチレン性不飽和化合物であることが好ましく、ヒドロキシ基を有する５官能以上のエチレン性不飽和化合物であることがより好ましい。上記ヒドロキシ基を有する多官能エチレン性不飽和化合物は、ヒドロキシ基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物であることが好ましい。

特定化合物Ｂ１は、機上現像性及び耐刷性の観点から、アダクト構造、ビウレット構造、及びイソシアヌレート構造よりなる群から選ばれた少なくとも１種の構造を有することが好ましい。上記と同様の観点から、特定化合物Ｂ１は、トリメチロールプロパンアダクト構造、ビウレット構造、及びイソシアヌレート構造よりなる群から選ばれた少なくとも１種の構造を有することがより好ましく、トリメチロールプロパンアダクト構造を有することが特に好ましい。

特定化合物Ｂ１は、機上現像性及び耐刷性の観点から、下記式（Ａ－１）～式（Ａ－３）のいずれかで表される構造を有することが好ましく、下記式（Ａ－１）で表される構造を有することがより好ましい。

式（Ａ－１）中、Ｒ^Ａ１は、水素原子、又は、炭素数１～８のアルキル基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。

式（Ａ－１）におけるＲ^Ａ１は、機上現像性及び耐刷性の観点から、水素原子、又は炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、炭素数１～３のアルキル基であることがより好ましく、メチル基又はエチル基であることが更に好ましく、エチル基であることが特に好ましい。

特定化合物Ｂ１は、機上現像性及び耐刷性の観点から、ウレタン基を有する（メタ）アクリレート化合物、即ち、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーであることが好ましい。

特定化合物Ｂ１は、エチレン性不飽和結合価が５．０ｍｍｏｌ／ｇ以上であれば、ポリエステル結合を有するオリゴマー（以降、ポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマーともいう）であってもよいし、エポキシ残基を有するオリゴマー（以降、エポキシ（メタ）アクリレートオリゴマーともいう）であってもよい。
ここで、エポキシ（メタ）アクリレートオリゴマー中のエポキシ残基は、既述の通りである。

特定化合物Ｂ１であるポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマーにおけるエチレン性不飽和基の数は、３以上であることが好ましく、６以上であることが更に好ましい。

特定化合物Ｂ１であるエポキシ（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、化合物内にヒドロキシ基を含む化合物が好ましい。また、エポキシ（メタ）アクリレートオリゴマーにおけるエチレン性不飽和基の数は、２～６であることが好ましく、２～３であることがより好ましい。上記エポキシ（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、例えば、エポキシ基を有する化合物にアクリル酸を反応することにより得ることができる。

特定化合物Ｂ１の分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）としては、１，０００超が好ましく、１，１００～１０，０００がより好ましく、１，１００～５，０００が更に好ましい。

特定化合物Ｂ１は、合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。
特定化合物Ｂ１の具体例としては、例えば、以下に挙げる市販品が挙げられるが、本開示にて用いられる特定化合物Ｂ１はこれらに限定されるものではない。なお、カッコ内には、エチレン性不飽和基の官能基数（又は平均官能基数）及びＣ＝Ｃ価を示した。
特定化合物Ｂ１の具体例としては、新中村化学工業（株）製のＵ－１０ＨＡ（官能基数：１０、Ｃ＝Ｃ価：８ｍｍｏｌ／ｇ）、Ｕ－１５ＨＡ（官能基数：１５、Ｃ＝Ｃ価：６ｍｍｏｌ／ｇ）、共栄社化学（株）製のＵＡ－５１０Ｈ（官能基数：１０、Ｃ＝Ｃ価：８ｍｍｏｌ／ｇ）、ダイセル・オルネクス（株）製のＫＲＭ８４５２（官能基数：１０、Ｃ＝Ｃ価：７ｍｍｏｌ／ｇ）、サートマー社製のＣＮ８８８５ＮＳ（官能基数：９、Ｃ＝Ｃ価：６ｍｍｏｌ／ｇ）、ＣＮ９０１３ＮＳ（官能基数：９、Ｃ＝Ｃ価：６ｍｍｏｌ／ｇ）等のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーが挙げられる。
また、特定化合物Ｂ１の具体例としては、新中村化学工業（株）製のＮＫオリゴ ＥＡ－７４２０／ＰＧＭＡｃ（官能基数：１０～１５、Ｃ＝Ｃ価：５ｍｍｏｌ／ｇ）、サートマー社製のＣＮ１５３（Ｃ＝Ｃ価：５ｍｍｏｌ／ｇ）等のエポキシ（メタ）アクリレートオリゴマーが挙げられる。
更に、特定化合物Ｂ１の具体例としては、サートマー社製のＣＮ２２６７（Ｃ＝Ｃ価：５ｍｍｏｌ／ｇ）等のポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマーが挙げられる。

特定化合物Ｂ１を用いる場合、画像記録層における重合性化合物の全質量に対する上記特定化合物Ｂ１の含有量は、１０質量％～１００質量％であることが好ましく、５０質量％～１００質量％であることがより好ましく、８０質量％～１００質量％であることが更に好ましい。

－特定化合物Ｂ２－
重合性化合物としては、低分子化合物として、エチレン性不飽和結合基を１つ又は２つ有する化合物（以下、特定化合物Ｂ２ともいう。）を含んでいてもよい。
特定化合物Ｂ２が有するエチレン性不飽和基の好ましい態様は、特定化合物Ｂ１におけるエチレン性不飽和基と同様である。
また、特定化合物Ｂ２は、機上現像性の低下を抑制する観点から、エチレン性不飽和結合基を２つ有する化合物（即ち、２官能の重合性化合物）であることが好ましい。

特定化合物Ｂ２としては、機上現像性及び耐刷性の観点から、メタクリレート化合物、即ち、メタクリロキシ基を有する化合物であることが好ましい。

特定化合物Ｂ２としては、機上現像性の観点から、アルキレンオキシ構造又はウレタン結合を含むことが好ましい。

特定化合物Ｂ２の分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）としては、５０以上１，０００未満であることが好ましく、２００～９００であることがより好ましく、２５０～８００であることが更に好ましい。

特定化合物Ｂ２の具体例を以下に挙げるが、本開示にて用いられる特定化合物Ｂ２はこれらに限定されるものではない。なお、下記（２）の化合物中、例えば、ｎ＋ｍ＝１０である

特定化合物Ｂ２としては、以下に示す市販品を用いてもよいが、本開示にて用いられる特定化合物Ｂ２はこれらに限定されるものではない。
特定化合物Ｂ２の具体例としては、新中村化学工業（株）製のＢＰＥ－８０Ｎ（上記（１）の化合物）、ＢＰＥ－１００、ＢＰＥ－２００、ＢＰＥ－５００、サートマー社製のＣＮ１０４（上記（１）の化合物）等のエトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレートが挙げられる。
また、特定化合物Ｂ２の具体例としては、新中村化学工業（株）製のＡ－ＢＰＥ－１０（上記（２）の化合物）、Ａ－ＢＰＥ－４等のエトキシ化ビスフェノールＡジアクリレートが挙げられる。
更に、特定化合物Ｂ２の具体例としては、ＡＺ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ社製のＦＳＴ ５１０等の２官能メタクリレートが挙げられる。

ここで、上記「ＦＳＴ ５１０」は、１モルの２，２，４－トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートと２モルのヒドロキシエチルメタクリレートの反応生成物あって、上記（３）の化合物のメチルエチルケトン８２質量％溶液である。

特定化合物Ｂ２の含有量は、機上現像性及び耐刷性の観点から、画像記録層の全質量に対して、１質量％～６０質量％であることが好ましく、５質量％～５５質量％であることがより好ましく、５質量％～５０質量％であることが更に好ましい。
特定化合物Ｂ２を用いる場合、画像記録層における重合性化合物の全質量に対する上記特定化合物Ｂ２の含有量は、１０質量％～１００質量％であることが好ましく、５０質量％～１００質量％であることがより好ましく、８０質量％～１００質量％であることが更に好ましい。

重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、任意に設定できる。
中でも、上記画像記録層は、ＵＶ耐刷性の観点から、２種以上の重合性化合物を含むことが好ましい。
重合性化合物の含有量（重合性化合物を２種以上含む場合は、重合性化合物の総含有量）は、画像記録層の全質量に対して、５質量％～７５質量％であることが好ましく、１０質量％～７０質量％であることがより好ましく、１５質量％～６０質量％であることが更に好ましい。
また、上記画像記録層における上記重合性化合物の全質量に対する熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂の含有量は、０質量％を超え４００質量％以下であることが好ましく、２５質量％～３００質量％であることがより好ましく、５０質量％～２００質量％であることが更に好ましい。
画像記録層において、熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂と上記重合性化合物とは、海島構造をとることが好ましい。例えば、熱可塑性樹脂の海（連続相）の中に、上記重合性化合物が島状に分散（不連続層）した構造を採用することができる。上記重合性化合物の全質量に対する上記熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂の含有量を上記範囲内の値とすることにより、海島構造を形成しやすいと考えられる。

〔重合開始剤〕
本開示において用いられる画像記録層は、重合開始剤を含有する。
重合性開始剤としては、特に制限はなく、電子受容型重合開始剤、電子供与型重合開始剤等が挙げられる。

－電子受容型重合開始剤－
上記画像記録層は、電子受容型重合開始剤を含むことが好ましい。
本開示に用いられる電子受容型重合開始剤は、光、熱又はその両方のエネルギーによりラジカルやカチオン等の重合開始種を発生する化合物であって、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを適宜選択して用いることができる。
電子受容型重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましく、オニウム塩化合物がより好ましい。
また、電子受容型重合開始剤としては、赤外線感光性重合開始剤であることが好ましい。
電子受容型重合開始剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
ラジカル重合開始剤としては、例えば、（ａ）有機ハロゲン化物、（ｂ）カルボニル化合物、（ｃ）アゾ化合物、（ｄ）有機過酸化物、（ｅ）メタロセン化合物、（ｆ）アジド化合物、（ｇ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｉ）ジスルホン化合物、（ｊ）オキシムエステル化合物、（ｋ）オニウム塩化合物が挙げられる。

（ａ）有機ハロゲン化物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２２～００２３に記載の化合物が好ましい。
（ｂ）カルボニル化合物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２４に記載の化合物が好ましい。
（ｃ）アゾ化合物としては、例えば、特開平８－１０８６２１号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。
（ｄ）有機過酸化物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２５に記載の化合物が好ましい。
（ｅ）メタロセン化合物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２６に記載の化合物が好ましい。
（ｆ）アジド化合物としては、例えば、２，６－ビス（４－アジドベンジリデン）－４－メチルシクロヘキサノン等の化合物を挙げることができる。
（ｇ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２７に記載の化合物が好ましい。
（ｉ）ジスルホン化合物としては、例えば、特開昭６１－１６６５４４号、特開２００２－３２８４６５号の各公報に記載の化合物が挙げられる。
（ｊ）オキシムエステル化合物としては、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００２８～００３０に記載の化合物が好ましい。

上記電子受容型重合開始剤の中でも好ましいものとして、硬化性の観点から、オキシムエステル化合物及びオニウム塩化合物が挙げられる。中でも、ＵＶ耐刷性の観点から、ヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物又はアジニウム塩化合物が好ましく、ヨードニウム塩化合物又はスルホニウム塩化合物がより好ましく、ヨードニウム塩化合物が更に好ましい。
これら化合物の具体例を以下に示すが、本開示はこれに限定されるものではない。

ヨードニウム塩化合物の例としては、ジアリールヨードニウム塩化合物が好ましく、特に電子供与性基、例えば、アルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩化合物がより好ましく、また、非対称のジフェニルヨードニウム塩化合物が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－メトキシフェニル－４－（２－メチルプロピル）フェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－（２－メチルプロピル）フェニル－ｐ－トリルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－ヘキシルオキシフェニル－２，４，６－トリメトキシフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－ヘキシルオキシフェニル－２，４－ジエトキシフェニルヨードニウム＝テトラフルオロボラート、４－オクチルオキシフェニル－２，４，６－トリメトキシフェニルヨードニウム＝１－ペルフルオロブタンスルホナート、４－オクチルオキシフェニル－２，４，６－トリメトキシフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、ビス（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。

スルホニウム塩化合物の例としては、トリアリールスルホニウム塩化合物が好ましく、特に電子求引性基、例えば、芳香環上の基の少なくとも一部がハロゲン原子で置換されたトリアリールスルホニウム塩化合物が好ましく、芳香環上のハロゲン原子の総置換数が４以上であるトリアリールスルホニウム塩化合物が更に好ましい。具体例としては、トリフェニルスルホニウム＝ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム＝ベンゾイルホルマート、ビス（４－クロロフェニル）フェニルスルホニウム＝ベンゾイルホルマート、ビス（４－クロロフェニル）－４－メチルフェニルスルホニウム＝テトラフルオロボラート、トリス（４－クロロフェニル）スルホニウム＝３，５－ビス（メトキシカルボニル）ベンゼンスルホナート、トリス（４－クロロフェニル）スルホニウム＝ヘキサフルオロホスファート、トリス（２，４－ジクロロフェニル）スルホニウム＝ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。

また、ヨードニウム塩化合物及びスルホニウム塩化合物の対アニオンとしては、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが好ましく、スルホンイミドアニオンがより好ましい。
スルホンアミドアニオンとしては、アリールスルホンアミドアニオンが好ましい。
また、スルホンイミドアニオンとしては、ビスアリールスルホンイミドアニオンが好ましい。
スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンの具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記具体例中、Ｐｈはフェニル基を、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、それぞれ表す。

上記電子受容型重合開始剤と後述の電子供与型重合開始剤とが塩を形成している態様の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。

また、上記電子受容型重合開始剤は、発色性、露光後経時発色性、現像性、及び、得られる平版印刷版原版におけるＵＶ耐刷性の観点から、下記式（Ｉ）で表される化合物を好適に用いることができる。

式中、Ｘはハロゲン原子を表し、具体的には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。これらのうち、塩素原子又は臭素原子は、感度に優れるため好ましく、臭素原子が特に好ましい。
Ａは－ＣＯ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＰＯ－及び－ＰＯ_２－よりなる群から選ばれる２価の連結基を表す。これらのうち、－ＣＯ－、－ＳＯ－及び－ＳＯ_２－がより好ましく、－ＣＯ－及び－ＳＯ_２－が特に好ましい。Ｒ^Ｘ１及びＲ^Ｘ２はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１～２０までの１価の炭化水素基を表す。
炭化水素基を構成する炭化水素としては、特開２００２－１６２７４１号公報の段落００１３～段落００１４に記載の炭化水素等を挙げることができるが、具体的には、炭化水素としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ヘキサン、ノナン、デカン、オクタデカン、シクロペンタン、シクロヘキサン、アダマンタン、ノルボルナン、デカヒドロナフタレン、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン、エチレン、プロピレン、１－ブテン、１－ヘキセン、１－ヘプタデセン、２－ブテン、２－ヘキセン、４－ノネン、７－テトラデセン、ブタジエン、ピペリレン、１，９－デカジエン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロオクテン、１，４－シクロヘキサジエン、１，５－シクロオクタジエン、１，５，９－シクロドデカトリエン、ノルボルニレン、オクタヒドロナフタレン、ピシクロ［２．２．１］ヘプタ－２，５－ジエン、アセチレン、１－プロピン、２－ヘキシン等の炭素数１から３０までの脂肪族炭化水素；ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、インデン、フルオレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
このような炭化水素基を構成する炭素原子は、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子から選ばれるヘテロ原子で１個以上置換されてもよい。

置換基としては水素を除く、１価の非金属原子団を挙げることができ、ハロゲン原子（－Ｆ、－Ｂｒ、－Ｃｌ、－Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ－アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジアルキルアミノ基、Ｎ－アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジアリールアミノ基、Ｎ－アルキル－Ｎ－アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ－アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ－アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ－ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ－ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ－アルキル－Ｎ－アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ－アルキルアシルアミノ基、Ｎ－アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ’－アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’－ジアルキルウレイド基、Ｎ’－アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’－ジアリールウレイド基、Ｎ’－アルキル－Ｎ’－アリールウレイド基、Ｎ－アルキルウレイド基、Ｎ－アリールウレイド基、Ｎ’－アルキル－Ｎ－アルキルウレイド基、Ｎ’－アルキル－Ｎ－アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’－ジアルキル－Ｎ－アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’－ジアルキル－Ｎ－アリールウレイド基、Ｎ’－アリール－Ｎ－アルキルウレイド基、Ｎ’－アリール－Ｎ－アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’－ジアリール－Ｎ－アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’－ジアリール－Ｎ－アリールウレイド基、Ｎ’－アルキル－Ｎ’－アリール－Ｎ－アルキルウレイド基、Ｎ’－アルキル－Ｎ’－アリール－Ｎ－アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ－アルキル－Ｎ－アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ－アルキル－Ｎ－アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ－アリール－Ｎ－アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ－アリール－Ｎ－アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ－アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジアルキルカルバモイル基、Ｎ－アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジアリールカルバモイル基、Ｎ－アルキル－Ｎ－アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（－ＳＯ_３Ｈ）及びその共役塩基基、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ－アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ－ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ－アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ－ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ－アルキル－Ｎ－アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ－アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ－ジアルキルスルファモイル基、Ｎ－アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ－ジアリールスルファモイル基、Ｎ－アルキル－Ｎ－アリールスルファモイル基、Ｎ－アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、Ｎ－アルキルスルホニルスルファモイル基（－ＳＯ_２ＮＨＳＯ_２（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ－アリールスルホニルスルファモイル基（－ＳＯ_２ＮＨＳＯ_２（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ－アルキルスルホニルカルバモイル基（－ＣＯＮＨＳＯ_２（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ－アリールスルホニルカルバモイル基（－ＣＯＮＨＳＯ_２（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、アルコキシシリル基（－Ｓｉ（Ｏａｌｋｙｌ）_３）、アリーロキシシリル基（－Ｓｉ（Ｏａｒｙｌ）_３）、ヒドロキシシリル基（－Ｓｉ（ＯＨ）_３）及びその共役塩基基、ホスホノ基（－ＰＯ_３Ｈ_２）及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノ基（－ＰＯ_３（ａｌｋｙｌ）_２）、ジアリールホスホノ基（－ＰＯ_３（ａｒｙｌ）_２）、アルキルアリールホスホノ基（－ＰＯ_３（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノ基（－ＰＯ_３Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、モノアリールホスホノ基（－ＰＯ_３Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、ホスホノオキシ基（－ＯＰＯ_３Ｈ_２）及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノオキシ基（－ＯＰＯ_３（ａｌｋｙｌ）_２）、ジアリールホスホノオキシ基（－ＯＰＯ_３（ａｒｙｌ）_２）、アルキルアリールホスホノオキシ基（－ＯＰＯ_３（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノオキシ基（－ＯＰＯ_３Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、モノアリールホスホノオキシ基（－ＯＰＯ_３Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、シアノ基、ニトロ基、ジアルキルボリル基（－Ｂ（ａｌｋｙｌ）_２）、ジアリールボリル基（－Ｂ（ａｒｙｌ）_２）、アルキルアリールボリル基（－Ｂ（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、ジヒドロキシボリル基（－Ｂ（ＯＨ）_２）及びその共役塩基基、アルキルヒドロキシボリル基（－Ｂ（ａｌｋｙｌ）（ＯＨ））及びその共役塩基基、アリールヒドロキシボリル基（－Ｂ（ａｒｙｌ）（ＯＨ））及びその共役塩基基、アリール基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
これら置換基は可能であるならば置換基同士、又は置換している炭化水素基と結合して環を形成してもよく、置換基はさらに置換されていてもよい。
好ましい置換基としては、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基が挙げられる。

ｍ^ｘ及びｎ^ｘはそれぞれ１～３までの整数を表す。ただし、ｍ^ｘ＋ｎ^ｘ＝２～４である。感度の点でｍ^ｘ＝１及びｎ^ｘ＝３、又は、ｍ^ｘ＝２及びｎ^ｘ＝２であることが好ましい。ｍ^ｘ及びｎ^ｘが２以上である場合には、（Ｒ１－Ａ）及びＸはそれぞれ異なっていてもよい。また、ｍ^ｘ＝１、及び、ｎ^ｘ＝１である場合にもＲ^ｘ２は互いに異なっていてもよい。
上記式（Ｉ）で表される化合物の中でも、下記式（ＩＩ）又は式（ＩＩＩ）で表される化合物は、視認性に優れるため好ましい。

式（ＩＩ）及び式（ＩＩＩ）において、Ｘは式（Ｉ）におけるものと同義であり、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５はそれぞれ独立して、炭素原子数１～２０までの１価の炭化水素基を表す。
ここで、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は、アリール基であることが好ましく、アリール基がアミド基で置換されているものは、感度と保存性のバランスに優れるため更に好ましい。
上記式（Ｉ）で表される化合物の中でも、式（ＩＶ）で表される化合物が特に好ましい。

式（ＩＶ）において、Ｒ^４及びＲ^５はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１～２０までの１価の炭化水素基を表す。ｐ及びｑは１から５までの整数を表す。ただし、ｐ＋ｑ＝２～６である。
上記式（Ｉ）で表される電子受容型重合開始剤の具体例としては、下記式に示す化合物などが挙げられるが、本開示はこれらに限定されるものではない。

電子受容型重合開始剤の最低空軌道（ＬＵＭＯ）は、耐薬品性及びＵＶ耐刷性の観点から、－３．００ｅＶ以下であることが好ましく、－３．０２ｅＶ以下であることがより好ましい。
また、下限としては、－３．８０ｅＶ以上であることが好ましく、－３．６０ｅＶ以上であることがより好ましい。

電子受容型重合開始剤の含有量は、画像記録層の全質量に対して、０．１質量％～５０質量％であることが好ましく、０．５質量％～３０質量％であることがより好ましく、０．８質量％～２０質量％であることが特に好ましい。

〔電子供与型重合開始剤〕
重合開始剤は、平版印刷版における耐薬品性、及び、ＵＶ耐刷性の向上に寄与する観点から、電子供与型重合開始剤を更に含むことが好ましく、電子供与型重合開始剤及び上記電子供与型重合開始剤の両方を含むことがより好ましい。
電子供与型重合開始剤としては、例えば、以下の５種類が挙げられる。
（ｉ）アルキル又はアリールアート錯体：酸化的に炭素－ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には、ボレート化合物等が挙げられる。
（ｉｉ）アミノ酢酸化合物：酸化により窒素に隣接した炭素上のＣ－Ｘ結合が解裂し、活性ラジカルを生成するものと考えられる。Ｘとしては、水素原子、カルボキシ基、トリメチルシリル基又はベンジル基が好ましい。具体的には、Ｎ－フェニルグリシン類（フェニル基に置換基を有していてもよい。）、Ｎ－フェニルイミノジ酢酸（フェニル基に置換基を有していてもよい。）等が挙げられる。
（ｉｉｉ）含硫黄化合物：上述のアミノ酢酸化合物の窒素原子を硫黄原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。具体的には、フェニルチオ酢酸（フェニル基に置換基を有していてもよい。）等が挙げられる。
（ｉｖ）含錫化合物:上述のアミノ酢酸化合物の窒素原子を錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。
（ｖ）スルフィン酸塩類：酸化により活性ラジカルを生成し得る。具体的は、アリールスルフィン酸ナトリウム等が挙げられる。

これら電子供与型重合開始剤の中でも、画像記録層は、ボレート化合物を含有することが好ましい。ボレート化合物としては、テトラアリールボレート化合物又はモノアルキルトリアリールボレート化合物が好ましく、化合物の安定性の観点から、テトラアリールボレート化合物がより好ましく、テトラフェニルボレート化合物が特に好ましい。
ボレート化合物が有する対カチオンとしては、特に制限はないが、アルカリ金属イオン、又は、テトラアルキルアンモニウムイオンであることが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又は、テトラブチルアンモニウムイオンであることがより好ましい。

ボレート化合物として具体的には、ナトリウムテトラフェニルボレートが好ましく挙げられる。

また、本開示に用いられる電子供与型重合開始剤の最高被占軌道（ＨＯＭＯ）は、耐薬品性及びＵＶ耐刷性の観点から、－６．００ｅＶ以上であることが好ましく、－５．９５ｅＶ以上であることがより好ましく、－５．９３ｅＶ以上であることが更に好ましい。
また、上限としては、－５．００ｅＶ以下であることが好ましく、－５．４０ｅＶ以下であることがより好ましい。

本開示において、最高被占軌道（ＨＯＭＯ）及び最低空軌道（ＬＵＭＯ）の計算は、以下の方法により行う。
まず、計算対象となる化合物における遊離の対イオンは計算対象から除外する。例えば、カチオン性の一電子受容型重合開始剤、カチオン性の赤外線吸収剤では対アニオンを、アニオン性の一電子供与型重合開始剤では対カチオンをそれぞれ計算対象から除外する。ここでいう遊離とは、対象とする化合物とその対イオンが共有結合で連結されていないことを意味する。
量子化学計算ソフトウェアＧａｕｓｓｉａｎ０９を用い、構造最適化はＤＦＴ（Ｂ３Ｌ
ＹＰ／６－３１Ｇ（ｄ））で行う。
ＭＯ（分子軌道）エネルギー計算は、上記構造最適化で得た構造でＤＦＴ（Ｂ３ＬＹＰ／６－３１＋Ｇ（ｄ，ｐ）／ＣＰＣＭ（ｓｏｌｖｅｎｔ＝ｍｅｔｈａｎｏｌ））で行う。
上記ＭＯエネルギー計算で得られたＭＯエネルギーＥｂａｒｅ（単位：ｈａｒｔｒｅｅ）を以下の公式により、本開示においてＨＯＭＯ及びＬＵＭＯの値として用いるＥｓｃａｌｅｄ（単位：ｅＶ）へ変換する。
Ｅｓｃａｌｅｄ＝０．８２３１６８×２７．２１１４×Ｅｂａｒｅ－１．０７６３４
なお、２７．２１１４は単にｈａｒｔｒｅｅをｅＶに変換するための係数であり、０．８２３１６８と－１．０７６３４とは調節係数であり、計算対象となる化合物のＨＯＭＯとＬＵＭＯとを計算が実測の値に合うように定める。

以下に電子供与型重合開始剤の好ましい具体例として、Ｂ－１～Ｂ－８及び他の化合物を示すが、これらに限定されないことは、言うまでもない。また、下記化学式において、Ｂｕはｎ－ブチル基を表し、Ｚは対カチオンを表す。
Ｚ^＋で表される対カチオンとしては、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｎ^＋（Ｂｕ）_４等が挙げられる。上記Ｂｕはｎ－ブチル基を表す。
また、Ｚ^＋で表される対カチオンとしては、上記電子受容型重合開始剤におけるオニウムイオンも好適にあげられる。

電子供与型重合開始剤は、１種のみを添加しても、２種以上を併用してもよい。
電子供与型重合開始剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．０１質量％～３０質量％が好ましく、０．０５質量％～２５質量％がより好ましく、０．１質量％～２０質量％が更に好ましい。

また、本開示における好ましい態様の一つは、上記電子受容型重合開始剤と、上記電子供与型重合開始剤と、が塩を形成している態様である。
具体的には、例えば、上記オニウム塩化合物が、オニウムイオンと、上記電子供与型重合開始剤におけるアニオン（例えば、テトラフェニルボレートアニオン）との塩である態様が挙げられる。また、より好ましくは、上記ヨードニウム塩化合物におけるヨードニウムカチオン（例えば、ジ－ｐ－トリルヨードニウムカチオン）と、上記電子供与型重合開始剤におけるボレートアニオンとが塩を形成した、ヨードニウムボレート化合物が挙げられる。
上記電子受容型重合開始剤と上記電子供与型重合開始剤とが塩を形成している態様の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。

本開示において、画像記録層が、オニウムイオンと、上述の電子供与型重合開始剤におけるアニオンと、を含む場合、画像記録層は電子受容型重合開始剤及び上記電子供与型重合開始剤を含むものとする。

〔電子供与型重合開始剤と、電子受容型重合開始剤と、赤外線吸収剤との関係〕
本開示における画像記録層は、上記電子供与型重合開始剤と、上記電子受容型重合開始剤と、上記赤外線吸収剤と、を含み、上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯが－６．０ｅＶ以上であり、かつ、上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯが－３．０ｅＶ以下であることが好ましい。
上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯ、及び、上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯのより好ましい態様は、それぞれ上述の通りである。
本開示における画像記録層において、上記電子供与型重合開始剤と、上記赤外線吸収剤と、上記電子受容型重合開始剤とは、例えば、下記化学式に記載のようにエネルギーの受け渡しを行っていると推測される。
そのため、上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯが－６．０ｅＶ以上であり、かつ、上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯが－３．０ｅＶ以下であれば、ラジカルの発生効率が向上するため、耐薬品性及びＵＶ耐刷性により優れやすいと考えられる。

ＵＶ耐刷性及び耐薬品性の観点から、上記赤外線吸収剤のＨＯＭＯ－上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯの値は、１．００ｅＶ以下であることが好ましく、０．７００ｅＶ以下であることがより好ましい。また、同様の観点から、上記赤外線吸収剤のＨＯＭＯ－上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯの値は、－０．２００ｅＶ以上であることが好ましく、－０．１００ｅＶ以上であることがより好ましい。
また、同様の観点から、上記赤外線吸収剤のＨＯＭＯ－上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯの値は、１．００ｅＶ～－０．２００ｅＶであることが好ましく、０．７００ｅＶ～－０．１００ｅＶであることがより好ましい。なお、マイナスの値は、上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯが、上記赤外線吸収剤のＨＯＭＯよりも高くなることを意味する。
また、ＵＶ耐刷性及び耐薬品性の観点から、上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯ－上記赤外線吸収剤のＬＵＭＯの値は、１．００ｅＶ以下であることが好ましく、０．７００ｅＶ以下であることがより好ましい。また、同様の観点から、上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯ－上記赤外線吸収剤のＬＵＭＯの値は、－０．２００ｅＶ以上であることが好ましく、－０．１００ｅＶ以上であることがより好ましい。
また、同様の観点から、上記赤外線吸収剤のＬＵＭＯと、上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯ－上記赤外線吸収剤のＬＵＭＯの値は、１．００ｅＶ～－０．２００ｅＶであることが好ましく、０．７００ｅＶ～－０．１００ｅＶであることがより好ましい。なお、マイナスの値は、上記赤外線吸収剤のＬＵＭＯが、上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯよりも高くなることを意味する。

－粒子－
上記画像記録層は、ＵＶ耐刷性の観点から、粒子を含むことが好ましい。
粒子としては、有機粒子であっても、無機粒子であってもよいが、ＵＶ耐刷性の観点から、有機粒子を含むことが好ましく、ポリマー粒子を含むことがより好ましい。
無機粒子としては、公知の無機粒子を用いることができ、シリカ粒子、チタニア粒子等の金属酸化物粒子を好適に用いることができる。

ポリマー粒子は、熱可塑性樹脂粒子、熱反応性樹脂粒子、重合性基を有するポリマー粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及び、ミクロゲル（架橋ポリマー粒子）よりなる群から選ばれることが好ましい。中でも、重合性基を有するポリマー粒子又はミクロゲルが好ましい。特に好ましい実施形態では、ポリマー粒子は少なくとも１つのエチレン性不飽和重合性基を含む。このようなポリマー粒子の存在により、露光部の耐刷性及び未露光部の機上現像性を高める効果が得られる。
また、ポリマー粒子は、ＵＶ耐刷性、及び、機上現像性の観点から、熱可塑性樹脂粒子であることが好ましい。

熱可塑性樹脂粒子としては、１９９２年１月のＲｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ Ｎｏ．３３３０３、特開平９－１２３３８７号公報、同９－１３１８５０号公報、同９－１７１２４９号公報、同９－１７１２５０号公報及び欧州特許第９３１６４７号明細書などに記載の熱可塑性ポリマー粒子が好ましい。
熱可塑性樹脂粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。好ましくは、ポリスチレン、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体、又は、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。熱可塑性樹脂粒子の平均粒径は０．０１μｍ～３．０μｍが好ましい。

熱反応性樹脂粒子としては、熱反応性基を有するポリマー粒子が挙げられる。熱反応性ポリマー粒子は熱反応による架橋及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。

熱反応性基を有するポリマー粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、重合性基であることが好ましく、その例として、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基（例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など）、カチオン重合性基（例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など）、付加反応を行うイソシアナト基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基（例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など）、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などが好ましく挙げられる。

マイクロカプセルとしては、例えば、特開２００１－２７７７４０号公報、特開２００１－２７７７４２号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の少なくとも一部をマイクロカプセルに内包させたものである。画像記録層の構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。マイクロカプセルを含有する画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性の構成成分をマイクロカプセル外に含有する構成が好ましい態様である。

ミクロゲル（架橋ポリマー粒子）は、その表面又は内部の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、ラジカル重合性基をその表面に有する反応性ミクロゲルは、得られる平版印刷版原版の感度、及び、得られる平版印刷版の耐刷性の観点から好ましい。

画像記録層の構成成分をマイクロカプセル化又はミクロゲル化するには、公知の方法が適用できる。

また、ポリマー粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性、耐汚れ性及び保存安定性の観点から、分子中に２個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られるものが好ましい。
上記多価フェノール化合物としては、フェノール性ヒドロキシ基を有するベンゼン環を複数有している化合物が好ましい。
上記活性水素を有する化合物としては、ポリオール化合物、又は、ポリアミン化合物が好ましく、ポリオール化合物がより好ましく、プロピレングリコール、グリセリン及びトリメチロールプロパンよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物が更に好ましい。
分子中に２個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られる樹脂の粒子としては、特開２０１２－２０６４９５号公報の段落００３２～００９５に記載のポリマー粒子が好ましく挙げられる。

更に、ポリマー粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性及び耐溶剤性の観点から、疎水性主鎖を有し、ｉ）上記疎水性主鎖に直接的に結合されたペンダントシアノ基を有する構成ユニット、及び、ｉｉ）親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含むことが好ましい。
上記疎水性主鎖としては、アクリル樹脂鎖が好ましく挙げられる。
上記ペンダントシアノ基の例としては、－［ＣＨ_２ＣＨ（Ｃ≡Ｎ）］－又は－［ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）（Ｃ≡Ｎ）］－が好ましく挙げられる。
また、上記ペンダントシアノ基を有する構成ユニットは、エチレン系不飽和型モノマー、例えば、アクリロニトリル又はメタクリロニトリルから、又は、これらの組み合わせから容易に誘導することができる。
また、上記親水性ポリアルキレンオキシドセグメントにおけるアルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド又はプロピレンオキシドが好ましく、エチレンオキシドがより好ましい。
上記親水性ポリアルキレンオキシドセグメントにおけるアルキレンオキシド構造の繰り返し数は、１０～１００であることが好ましく、２５～７５であることがより好ましく、４０～５０であることが更に好ましい。
疎水性主鎖を有し、ｉ）上記疎水性主鎖に直接的に結合されたペンダントシアノ基を有する構成ユニット、及び、ｉｉ）親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含む樹脂の粒子としては、特表２００８－５０３３６５号公報の段落００３９～００６８に記載のものが好ましく挙げられる。

また、上記ポリマー粒子は、ＵＶ耐刷性、及び、機上現像性の観点から、親水性基を有することが好ましい。
上記親水性基としては、親水性を有する構造であれば、特に制限はないが、カルボキシ基等の酸基、ヒドロキシ基、アミノ基、シアノ基、ポリアルキレンオキシド構造等が挙げられる。
中でも、機上現像性、及び、ＵＶ耐刷性の観点から、ポリアルキレンオキシド構造が好ましく、ポリエチレンオキシド構造、ポリプロピレンオキシド構造、又は、ポリエチレン／プロピレンオキシド構造がより好ましい。
また、機上現像性、及び、機上現像時の現像カス抑制性の観点からは、上記ポリアルキレンオキシド構造として、ポリプロピレンオキシド構造を有することが好ましく、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有することがより好ましい。
また、上記親水性基としては、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、シアノ基を有する構成単位、又は、下記式Ｚで表される基を含むことが好ましく、下記式（ＡＮ）で表される構成単位、又は、下記式Ｚで表される基を含むことがより好ましく、下記式Ｚで表される基を含むことが特に好ましい。
＊－Ｑ－Ｗ－Ｙ 式Ｚ
式Ｚ中、Ｑは二価の連結基を表し、Ｗは親水性構造を有する二価の基又は疎水性構造を有する二価の基を表し、Ｙは親水性構造を有する一価の基又は疎水性構造を有する一価の基を表し、Ｗ及びＹのいずれかは親水性構造を有し、＊は他の構造との結合部位を表す。

式（ＡＮ）中、Ｒ^ＡＮは、水素原子又はメチル基を表す。

上記ポリマー粒子に含まれるポリマーは、ＵＶ耐刷性の観点から、シアノ基を有する化合物により形成される構成単位を含むことが好ましい。
シアノ基は、通常、シアノ基を有する化合物（モノマー）を用いて、シアノ基を含む構成単位として樹脂に導入されることが好ましい。シアノ基を有する化合物としては、アクリロニトリル化合物が挙げられ、（メタ）アクリロニトリルが好適に挙げられる。
シアノ基を有する構成単位としては、アクリロニトリル化合物により形成される構成単位であることが好ましく、（メタ）アクリロニトリルにより形成される構成単位、すなわち、上記式（ＡＮ）で表される構成単位がより好ましい。
上記ポリマーが、シアノ基を有する構成単位を有するポリマーを含む場合、シアノ基を有する構成単位を有するポリマーにおけるシアノ基を有する構成単位、好ましくは上記式（ＡＮ）で表される構成単位の含有量は、ＵＶ耐刷性の観点から、シアノ基を有する構成単位を有するポリマーの全質量に対し、５質量％～９０質量％であることが好ましく、２０質量％～８０質量％であることがより好ましく、３０質量％～６０質量％であることが特に好ましい。

また、上記ポリマー粒子は、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、上記式Ｚで表される基を有するポリマー粒子を含むことが好ましい。

上記式ＺにおけるＱは、炭素数１～２０の二価の連結基であることが好ましく、炭素数１～１０の二価の連結基であることがより好ましい。
また、上記式ＺにおけるＱは、アルキレン基、アリーレン基、エステル結合、アミド結合、又は、これらを２以上組み合わせた基であることが好ましく、フェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であることがより好ましい。

上記式ＺのＷにおける親水性構造を有する二価の基は、ポリアルキレンオキシ基、又は、ポリアルキレンオキシ基の一方の末端に－ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＲ^Ｗ－が結合した基であることが好ましい。なお、Ｒ^Ｗは、水素原子又はアルキル基を表す。
上記式ＺのＷにおける疎水性構造を有する二価の基は、－Ｒ^ＷＡ－、－Ｏ－Ｒ^ＷＡ－Ｏ－、－Ｒ^ＷＮ－Ｒ^ＷＡ－ＮＲ^Ｗ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒ^ＷＡ－Ｏ－、又は、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒ^ＷＡ－Ｏ－であることが好ましい。なお、Ｒ^ＷＡはそれぞれ独立に、炭素数６～１２０の直鎖、分岐若しくは環状アルキレン基、炭素数６～１２０のハロアルキレン基、炭素数６～１２０のアリーレン基、炭素数６～１２０のアルカーリレン基（アルキルアリール基から水素原子を１つ除いた二価の基）、又は、炭素数６～１２０のアラルキレン基を表す。

上記式ＺのＹにおける親水性構造を有する一価の基は、－ＯＨ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＨ、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基、又は、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基の他方の末端に－ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（Ｒ^Ｗ）－が結合した基であることが好ましい。
上記式ＺのＹにおける疎水性構造を有する一価の基は、炭素数６～１２０の直鎖、分岐若しくは環状アルキル基、炭素数６～１２０のハロアルキル基、炭素数６～１２０のアリール基、炭素数６～１２０のアルカーリル基（アルキルアリール基）、炭素数６～１２０のアラルキル基、－ＯＲ^ＷＢ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^ＷＢ、又は、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ^ＷＢであることが好ましい。Ｒ^ＷＢは、炭素数６～２０を有するアルキル基を表す。

上記式Ｚで表される基を有するポリマー粒子は、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、Ｗが親水性構造を有する二価の基であることがより好ましく、Ｑがフェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であり、Ｗは、ポリアルキレンオキシ基であり、Ｙが、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基であることがより好ましい。

また、上記ポリマー粒子は、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、重合性基を有するポリマー粒子を含むことが好ましく、粒子表面に重合性基を有するポリマー粒子を含むことがより好ましい。
更に、上記ポリマー粒子は、耐刷性の観点から、親水性基及び重合性基を有するポリマー粒子を含むことが好まし
上記重合性基は、カチオン重合性基であっても、ラジカル重合性基であってもよいが、反応性の観点からは、ラジカル重合性基であることが好ましい。
上記重合性基としては、重合可能な基であれば特に制限はないが、反応性の観点から、エチレン性不飽和基が好ましく、ビニルフェニル基（スチリル基）、（メタ）アクリロキシ基、又は、（メタ）アクリルアミド基がより好ましく、（メタ）アクリロキシ基が特に好ましい。
また、重合性基を有するポリマー粒子におけるポリマーは、重合性基を有する構成単位を有することが好ましい。
更に、高分子反応によりポリマー粒子表面に重合性基を導入してもよい。

また、上記画像記録層は、ＵＶ耐刷性、及び、機上現像性の観点から、上記ポリマー粒子として、分散性基を有する付加重合型樹脂粒子を含むことが好ましく、上記分散性基が、上記式Ｚで表される基を含むことがより好ましい。

また、上記ポリマー粒子は、耐刷性、着肉性、機上現像性、及び、機上現像時の現像カス抑制性の観点から、ウレア結合を有する樹脂を含むことが好ましく、下記式（Ｉｓｏ）で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有する樹脂を含むことがより好ましく、下記式（Ｉｓｏ）で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有し、かつポリオキシアルキレン構造として、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有する樹脂を含むことが特に好ましい。また、上記ウレア結合を有する樹脂を含む粒子は、ミクロゲルであることが好ましい。

式（Ｉｓｏ）中、ｎは０～１０の整数を表す。

上記式（Ｉｓｏ）で表されるイソシアネート化合物と水との反応の一例としては、下記に示す反応が挙げられる。なお、下記の例は、ｎ＝０、４，４－異性体を使用した例である。
下記に示すように、上記式（Ｉｓｏ）で表されるイソシアネート化合物と水とを反応させると、水によりイソシアネート基の一部が加水分解し、アミノ基が生じ、生じたアミノ基とイソシアネート基とが反応し、ウレア結合が生成し、二量体が形成される。また、下記反応が繰り返され、ウレア結合を有する樹脂が形成される。
また、下記反応において、アルコール化合物、アミン化合物等のイソシアネート基と反応性を有する化合物（活性水素を有する化合物）を添加することにより、アルコール化合物、アミン化合物等の構造をウレア結合を有する樹脂に導入することもできる。
上記活性水素を有する化合物としては、上述したミクロゲルにおいて記載したものが好ましく挙げられる。

また、上記ウレア結合を有する樹脂は、エチレン性不飽和基を有することが好ましく、下記式（ＰＥＴＡ）で表される基を有することがより好ましい。

式（ＰＥＴＡ）中、波線部分は、他の構造との結合位置を表す。

また、上記画像記録層は、ＵＶ耐刷性、及び、機上現像性の観点から、熱可塑性樹脂粒子を含むことが好ましい。
熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂は、特に制限はなく、例えば、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、ポリアクリロニトリル、ポリ酢酸ビニル、それらの共重合体等が挙げられる。熱可塑性樹脂はラテックス状態であってもよい。
本開示に係る熱可塑性樹脂は、後述する露光工程において生成された熱により、熱可塑性樹脂が溶融又は軟化することで、記録層を形成する疎水性の膜の一部又は全部を形成する樹脂であることが好ましい。

上記熱可塑性樹脂としては、インキ着肉性及びＵＶ耐刷性の観点から、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位、及び、シアノ基を有する構成単位を有する樹脂Ａ含むことが好ましい。

熱可塑性樹脂に含まれる樹脂Ａは、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位を有することが好ましい。
芳香族ビニル化合物としては、芳香環にビニル基が結合した構造を有する化合物であればよいが、スチレン化合物、ビニルナフタレン化合物等が挙げられ、スチレン化合物が好ましく、スチレンがより好ましい。
スチレン化合物としては、スチレン、ｐ－メチルスチレン、ｐ－メトキシスチレン、β－メチルスチレン、ｐ－メチル－β－メチルスチレン、α－メチルスチレン、及びｐ－メトキシ－β－メチルスチレン等が挙げられ、スチレンが好ましく挙げられる。
ビニルナフタレン化合物としては、１－ビニルナフタレン、メチル－１－ビニルナフタレン、β－メチル－１－ビニルナフタレン、４－メチル－１－ビニルナフタレン、４－メトキシ－１－ビニルナフタレン等が挙げられ、１－ビニルナフタレンが好ましく挙げられる。

また、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位としては、下記式Ａ１で表される構成単位が好ましく挙げられる。

式Ａ１中、Ｒ^Ａ１及びＲ^Ａ２はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ａｒは芳香環基を表し、Ｒ^Ａ３は置換基を表し、ｎは０以上Ａｒの最大置換基数以下の整数を表す。
式Ａ１中、Ｒ^Ａ１及びＲ^Ａ２はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、いずれも水素原子であることが更に好ましい。
式Ａ１中、Ａｒはベンゼン環又はナフタレン環であることが好ましく、ベンゼン環であることがより好ましい。
式Ａ１中、Ｒ^Ａ３はアルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数１～４のアルコキシ基であることがより好ましく、メチル基又はメトキシ基であることが更に好ましい。
式Ａ１中、Ｒ^Ａ３が複数存在する場合、複数のＲ^Ａ３は同一であってもよいし、それぞれ異なっていてもよい。
式Ａ１中、ｎは０～２の整数であることが好ましく、０又は１であることがより好ましく、０であることが更に好ましい。

熱可塑性樹脂に含まれる樹脂Ａにおいて、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位の含有量は、インキ着肉性の観点から、後述するシアノ基を有する構成単位の含有量よりも多いことが好ましく、熱可塑性樹脂の全質量に対し、１５質量％～８５質量％であることがより好ましく、３０質量％～７０質量％であることが更に好ましい。

熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂Ａは、シアノ基を有する構成単位を含むことが好ましい。
シアノ基は、通常、シアノ基を有する化合物（モノマー）を用いて、シアノ基を含む構成単位として樹脂Ａに導入されることが好ましい。シアノ基を有する化合物としては、アクリロニトリル化合物が挙げられ、（メタ）アクリロニトリルが好適に挙げられる。
シアノ基を有する構成単位としては、アクリロニトリル化合物により形成される構成単位であることが好ましく、（メタ）アクリロニトリルにより形成される構成単位がより好ましい。

また、シアノ基を有する化合物により形成される構成単位としては、下記式Ｂ１で表される構成単位が好ましく挙げられる。

式Ｂ１中、Ｒ^Ｂ１は水素原子又はアルキル基を表す。
式Ｂ１中、Ｒ^Ｂ１は水素原子又は炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましい。

樹脂Ａにおけるシアノ基を有する構成単位の含有量は、インキ着肉性の観点から、上記芳香族ビニル化合物により形成される構成単位の含有量よりも少ないことが好ましく、樹脂Ａの全質量に対し、５５質量％～９０質量％であることがより好ましく、６０質量％～８５質量％であることがより好ましい。

また、熱可塑性樹脂に含まれる樹脂Ａが芳香族ビニル化合物により形成される構成単位及びシアノ基を有する構成単位を含む場合、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位及びシアノ基を有する構成単位の含有量比（芳香族ビニル化合物により形成される構成単位：シアノ基を有する構成単位）としては、質量基準で５：５～９：１であることが好ましく、より好ましくは、６：４～８：２である。

熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂Ａは、ＵＶ耐刷性及び耐薬品性の観点から、Ｎ－ビニル複素環化合物により形成される構成単位を更に有することが好ましい。
Ｎ－ビニル複素環化合物としては、例えば、Ｎ－ビニルピロリドン、Ｎ－ビニルカルバゾール、Ｎ－ビニルピロール、Ｎ－ビニルフェノチアジン、Ｎ－ビニルコハク酸イミド、Ｎ－ビニルフタルイミド、Ｎ－ビニルカプロラクタム、及びＮ－ビニルイミダゾールが挙げられ、Ｎ－ビニルピロリドンが好ましい。

また、Ｎ－ビニル複素環化合物により形成される構成単位としては、下記式Ｃ１で表される構成単位が好ましく挙げられる。

式Ｃ１中、Ａｒ^Ｎは窒素原子を含む複素環構造を表し、Ａｒ^Ｎ中の窒素原子が＊で示した炭素原子と結合する。
式Ｃ１中、Ａｒ^Ｎにより表される複素環構造は、ピロリドン環、カルバゾール環、ピロール環、フェノチアジン環、スクシンイミド環、フタルイミド環、カプロラクタム環、及びイミダゾール環であることが好ましく、ピロリドン環であることがより好ましい。
また、Ａｒ^Ｎにより表される複素環構造は公知の置換基を有していてもよい。

樹脂Ａにおける、Ｎ－ビニル複素環化合物により形成される構成単位の含有量は、樹脂Ａの全質量に対し、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～４０質量％であることがより好ましい。

熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂Ａは、酸性基を有する構成単位を含有してもよいが、機上現像性及びインキ着肉性の観点からは、酸性基を有する構成単位を含有しないことが好ましい。
具体的には、熱可塑性樹脂における酸性基を有する構成単位の含有量は、２０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることがより好ましく、５質量％以下であることが更に好ましい。上記含有量の下限は特に限定されず、０質量％であってもよい。
また、熱可塑性樹脂の酸価は、１６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。上記酸価の下限は特に限定されず、０ｍｇＫＯＨ／ｇであってもよい。
本開示において、酸価はＪＩＳ Ｋ００７０：１９９２に準拠した測定法により求められる。

熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂Ａは、インキ着肉性の観点から、疎水性基を含む構成単位を含有してもよい。
上記疎水性基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。
疎水性基を含む構成単位としては、アルキル（メタ）アクリレート化合物、アリール（メタ）アクリレート化合物、又は、アラルキル（メタ）アクリレート化合物により形成される構成単位が好ましく、アルキル（メタ）アクリレート化合物により形成される構成単位がより好ましい。
上記アルキル（メタ）アクリレート化合物におけるアルキル基の炭素数は、１～１０であることが好ましい。上記アルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、環状構造を有していてもよい。アルキル（メタ）アクリレート化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
上記アリール（メタ）アクリレート化合物におけるアリール基の炭素数は、６～２０であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。また、上記アリール基は公知の置換基を有していてもよい。アリール（メタ）アクリレート化合物としては、フェニル（メタ）アクリレートが好ましく挙げられる。
上記アラルキル（メタ）アクリレート化合物におけるアルキル基の炭素数は、１～１０であることが好ましい。上記アルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、環状構造を有していてもよい。また、上記アラルキル（メタ）アクリレート化合物におけるアリール基の炭素数は、６～２０であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。アラルキル（メタ）アクリレート化合物としては、ベンジル（メタ）アクリレートが好ましく挙げられる。

熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂Ａにおける、疎水性基を有する構成単位の含有量は、樹脂Ａの全質量に対し、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～３０質量％であることがより好ましい。

上記熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂は、ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、親水性基を有することが好ましい。
親水性基としては、親水性を有する構造であれば、特に制限はないが、カルボキシ基等の酸基、ヒドロキシ基、アミノ基、シアノ基、ポリアルキレンオキシド構造等が挙げられる。
上記親水性基としては、ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、ポリアルキレンオキシド構造を有する基、ポリエステル構造を有する基、又は、スルホン酸基であることが好ましく、ポリアルキレンオキシド構造を有する基、又は、スルホン酸基であることがより好ましく、ポリアルキレンオキシド構造を有する基であることが更に好ましい。

上記ポリアルキレンオキシド構造としては、機上現像性の観点から、ポリエチレンオキシド構造、ポリプロピレンオキシド構造、又は、ポリ（エチレンオキシド／プロピレンオキシド）構造であることが好ましい。
また、機上現像性の観点からは、上記親水性基の中でもポリアルキレンオキシド構造として、ポリプロピレンオキシド構造を有することが好ましく、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有することがより好ましい。
上記ポリアルキレンオキシド構造におけるアルキレンオキシド構造の数は、機上現像性の観点から、２以上であることが好ましく、５以上であることがより好ましく、５～２００であることが更に好ましく、８～１５０であることが特に好ましい。

また、機上現像性の観点から、上記親水性基として、上記式Ｚで表される基が好ましい。

熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂Ａは、ＵＶ耐刷性、耐薬品性及び機上現像性の向上の観点から、親水性基を有する構成単位を含むことが好ましい。
上記親水性基としては、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＣＯＮＲ^１Ｒ^２、－ＮＲ^２ＣＯＲ^１（Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルケニル基、又は、アリール基を表す。Ｒ^１とＲ^２とは結合して環を形成してもよい。）－ＮＲ^３Ｒ^４、－Ｎ^＋Ｒ^３Ｒ^４Ｒ^５Ｘ^－（Ｒ^３～Ｒ^５は、それぞれ独立して炭素数１～８のアルキル基を表し、Ｘ^－はカウンターアニオンを表す）、下記式ＰＯにより表される基、上記の熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂が好ましく有する親水性基等が挙げられる。
これら親水性基の中でも、－ＣＯＮＲ^１Ｒ^２又は式ＰＯにより表される基が好ましく、式ＰＯにより表される基がより好ましい。

式ＰＯ中、Ｌ^Ｐはそれぞれ独立に、アルキレン基を表し、Ｒ^Ｐは水素原子又はアルキル基を表し、ｎは１～１００の整数を表す。
式ＰＯ中、Ｌ^Ｐはそれぞれ独立に、エチレン基、１－メチルエチレン基又は２－メチルエチレン基であることが好ましく、エチレン基であることがより好ましい。
式ＰＯ中、Ｒ^Ｐは水素原子又は炭素数１～１８のアルキル基であることが好ましく、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基であることがより好ましく、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基であることが更に好ましく、水素原子又はメチル基であることが特に好ましい。
式ＰＯ中、ｎは１～１０の整数が好ましく、１～４の整数がより好ましい。

樹脂Ａにおける、親水性基を有する構成単位の含有量は、樹脂Ａの全質量に対し、５質量％～６０質量％であることが好ましく、１０質量％～３０質量％であることがより好ましい。

熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂Ａは、その他の構成単位を更に含有してもよい。その他の構成単位としては、上述の各構成単位以外の構成単位を特に限定なく含有することができ、例えば、アクリルアミド化合物、ビニルエーテル化合物等により形成される構成単位が挙げられる。
アクリルアミド化合物としては、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’－ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシブチル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
ビニルエーテル化合物としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ｎ－ブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ－ブチルビニルエーテル、２－エチルヘキシルビニルエーテル、ｎ－ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、４－メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、２－ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、２－ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４－ヒドロキシブチルビニルエーテル、４－ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、クロロブチルビニルエーテル、クロロエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル、フェノキシポリエチレングリコールビニルエーテル、などが挙げられる。

熱可塑性樹脂における、その他の構成単位の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対し、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～３０質量％であることがより好ましい。

熱可塑性樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＵＶ耐刷性及びインキ着肉性の観点から、６０℃～１５０℃であることが好ましく、８０℃～１４０℃であることがより好ましく、９０℃～１３０℃であることが更に好ましい。
熱可塑性樹脂粒子が２種以上の熱可塑性樹脂を含む場合には、後述するＦＯＸ式により求められた値を、熱可塑性樹脂のガラス転移温度という。

本開示において、樹脂のガラス転移温度は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）を用いて測定することができる。
具体的な測定方法は、ＪＩＳ Ｋ ７１２１（１９８７年）又はＪＩＳ Ｋ ６２４０（２０１１年）に記載の方法に順じて行なう。本明細書におけるガラス転移温度は、補外ガラス転移開始温度（以下、Ｔｉｇと称することがある）を用いている。
ガラス転移温度の測定方法をより具体的に説明する。
ガラス転移温度を求める場合、予想される樹脂のＴｇより約５０℃低い温度にて装置が安定するまで保持した後、加熱速度：２０℃／分で、ガラス転移が終了した温度よりも約３０℃高い温度まで加熱し，示差熱分析（ＤＴＡ）曲線又はＤＳＣ曲線を作成する。
補外ガラス転移開始温度（Ｔｉｇ）、すなわち、本明細書におけるガラス転移温度Ｔｇは、ＤＴＡ曲線又はＤＳＣ曲線における低温側のベースラインを高温側に延長した直線と、ガラス転移の階段状変化部分の曲線の勾配が最大になる点で引いた接線との交点の温度として求める。

熱可塑性樹脂粒子が２種以上の熱可塑性樹脂を含む場合、熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂のＴｇは下記のように求められる。
１つ目の熱可塑性樹脂のＴｇをＴｇ１（Ｋ）、熱可塑性樹脂粒子における熱可塑性樹脂成分の合計質量に対する１つ目の熱可塑性樹脂の質量分率をＷ１とし、２つ目のＴｇをＴｇ２（Ｋ）とし、熱可塑性樹脂粒子における熱可塑性樹脂成分の合計質量に対する２つ目の樹脂の質量分率をＷ２としたときに、熱可塑性樹脂粒子のＴｇ０（Ｋ）は、以下のＦＯＸ式にしたがって推定することが可能である。
ＦＯＸ式：１／Ｔｇ０＝（Ｗ１／Ｔｇ１）＋（Ｗ２／Ｔｇ２）
また、熱可塑性樹脂粒子が３種の樹脂を含むか、含まれる熱可塑性樹脂種の異なる３種の熱可塑性樹脂粒子が前処理液に含有される場合、熱可塑性樹脂粒子のＴｇは、ｎ個目の樹脂のＴｇをＴｇｎ（Ｋ）、熱可塑性樹脂粒子における樹脂成分の合計質量に対するｎ個目の樹脂の質量分率をＷｎとしたときに、上記と同様、以下の式にしたがって推定することが可能である。
ＦＯＸ式：１／Ｔｇ０＝（Ｗ１／Ｔｇ１）＋（Ｗ２／Ｔｇ２）＋（Ｗ３／Ｔｇ３）・・・＋（Ｗｎ／Ｔｇｎ）

本明細書において、Ｔｇは、示差走査熱量計（ＤＳＣ：Differential scanning calorimetry）により測定される値である。示差走査熱量計（ＤＳＣ）としては、例えば、エスアイアイ・ナノテクノロジー社のＥＸＳＴＡＲ６２２０を用いることができる。

熱可塑性樹脂粒子の算術平均粒子径は、ＵＶ耐刷性の観点から、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、３ｎｍ以上８０ｎｍ未満であることがより好ましく、１０ｎｍ以上４９ｎｍ以下であることが更に好ましい。

本開示における熱可塑性樹脂粒子における算術平均粒子径は、特に断りのない限り、動的光散乱法（ＤＬＳ）によって測定された値を指す。ＤＬＳによる熱可塑性樹脂粒子の算術平均粒子径の測定は、Ｂｒｏｏｋｈａｖｅｎ ＢＩ－９０（Ｂｒｏｏｋｈａｖｅｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ Ｃｏｍｐａｎｙ製）を用い、上記機器のマニュアルに沿って行われる。

熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂の重量平均分子量は、３，０００～３００，０００であることが好ましく、５，０００～１００，０００であることがより好ましい。

熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂の製造方法は、特に限定されず、公知の方法により製造することができる。
例えば、スチレン化合物と、アクリロニトリル化合物と、必要に応じて上記Ｎ－ビニル複素環化合物、上記エチレン性不飽和基を有する構成単位の形成に用いられる化合物、上記酸性基を有する構成単位の形成に用いられる化合物、上記疎水性基を有する構成単位の形成に用いられる化合物、及び、上記その他の構成単位の形成に用いられる化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物、とを、公知の方法により重合することにより得られる。

熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂の具体例を下記表に示すが、本開示において用いられる熱可塑性樹脂はこれに限定されるものではない。

また、上記具体例中、各構成単位の含有比は、上述の各構成単位の含有量の好ましい範囲に従って、適宜変更可能である。
また、上記具体例に示す各化合物の重量平均分子量は、上述の熱可塑性樹脂の重量平均分子量の好ましい範囲に従って、適宜変更可能である。

上記粒子の平均粒径は、０．０１μｍ～３．０μｍが好ましく、０．０３μｍ～２．０μｍがより好ましく、０．１０μｍ～１．０μｍが更に好ましい。この範囲で良好な解像度と経時安定性が得られる。
本開示における上記粒子の平均一次粒径は、光散乱法により測定するか、又は、粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で粒子の粒径を総計で５，０００個測定し、平均値を算出するものとする。なお、非球形粒子については写真上の粒子面積と同一の粒子面積を有する球形粒子の粒径値を粒径とする。
また、本開示における平均粒径は、特に断りのない限り、体積平均粒径であるものとする。

上記画像記録層は、粒子、特にポリマー粒子を１種単独で含有していても、２種以上を含有していてもよい。
また、上記画像記録層における粒子、特にポリマー粒子の含有量は、機上現像性、及び、ＵＶ耐刷性の観点から、上記画像記録層の全質量に対し、５質量％～９０質量％であることが好ましく、１０質量％～９０質量％であることがより好ましく、２０質量％～９０質量％であることが更に好ましく、５０質量％～９０質量％であることが特に好ましい。
また、上記画像記録層におけるポリマー粒子の含有量は、機上現像性、及び、ＵＶ耐刷性の観点から、上記画像記録層の分子量３，０００以上の成分の全質量に対し、２０質量％～１００質量％であることが好ましく、３５質量％～１００質量％であることがより好ましく、５０質量％～１００質量％であることが更に好ましく、８０質量％～１００質量％であることが特に好ましい。

－バインダーポリマー－
画像記録層は、バインダーポリマーを含んでいてもよい。
上記熱可塑性樹脂粒子、及び、上記ポリマー粒子は、上記他のバインダーポリマーに該当しない。すなわち、他のバインダーポリマーは、粒子形状ではない重合体である。
他のバインダーポリマーとしては、（メタ）アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、又は、ポリウレタン樹脂が好ましい。

中でも、バインダーポリマーは平版印刷版原版の画像記録層に用いられる公知のバインダーポリマーを好適に使用することができる。一例として、機上現像型の平版印刷版原版に用いられるバインダーポリマー（以下、機上現像用バインダーポリマーともいう）について、詳細に記載する。
機上現像用バインダーポリマーとしては、アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーが好ましい。アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーは、ポリ（アルキレンオキシド）部位を主鎖に有していても側鎖に有していてもよい。また、ポリ（アルキレンオキシド）を側鎖に有するグラフトポリマーでも、ポリ（アルキレンオキシド）含有繰返し単位で構成されるブロックと（アルキレンオキシド）非含有繰返し単位で構成されるブロックとのブロックコポリマーでもよい。
ポリ（アルキレンオキシド）部位を主鎖に有する場合は、ポリウレタン樹脂が好ましい。ポリ（アルキレンオキシド）部位を側鎖に有する場合の主鎖のポリマーとしては、（メタ）アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられ、特に（メタ）アクリル樹脂が好ましい。

また、バインダーポリマーの他の好ましい例として、６官能以上１０官能以下の多官能チオールを核として、この核に対しスルフィド結合により結合したポリマー鎖を有し、上記ポリマー鎖が重合性基を有する高分子化合物（以下、星型高分子化合物ともいう。）が挙げられる。星型高分子化合物としては、例えば、特開２０１２－１４８５５５号公報に記載の化合物を好ましく用いることができる。

星型高分子化合物は、特開２００８－１９５０１８号公報に記載のような画像部の皮膜強度を向上するためのエチレン性不飽和結合等の重合性基を、主鎖又は側鎖、好ましくは側鎖に有しているものが挙げられる。重合性基によってポリマー分子間に架橋が形成され、硬化が促進する。
重合性基としては、（メタ）アクリル基、ビニル基、アリル基、ビニルフェニル基（スチリル基）などのエチレン性不飽和基やエポキシ基等が好ましく、（メタ）アクリル基、ビニル基、ビニルフェニル基（スチリル基）が重合反応性の観点でより好ましく、（メタ）アクリル基が特に好ましい。これらの基は高分子反応や共重合によってポリマーに導入することができる。例えば、カルボキシ基を側鎖に有するポリマーとグリシジルメタクリレートとの反応、あるいはエポキシ基を有するポリマーとメタクリル酸などのエチレン性不飽和基含有カルボン酸との反応を利用できる。これらの基は併用してもよい。

バインダーポリマーの分子量は、ＧＰＣ法によるポリスチレン換算値として重量平均分子量（Ｍｗ）が、２，０００以上であることが好ましく、５，０００以上であることがより好ましく、１０，０００～３００，０００であることが更に好ましい。

必要に応じて、特開２００８－１９５０１８号公報に記載のポリアクリル酸、ポリビニルアルコールなどの親水性ポリマーを併用することができる。また、親油的なポリマーと親水的なポリマーとを併用することもできる。

また、上記画像記録層は、ＵＶ耐刷性、及び、機上現像性の観点から、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位を有するポリマーを含むことが好ましく、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位を有するポリマーを含み、かつ赤外線露光により分解する赤外線吸収剤を含むことがより好ましい。

また、本開示に用いられるバインダーポリマーは、例えば、経時による機上現像性の低下を抑制する観点から、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５０℃以上であることが好ましく、７０℃以上であることがより好ましく、８０℃以上であることが更に好ましく、９０℃以上であることが特に好ましい。
また、バインダーポリマーのガラス転移温度の上限としては、画像記録層への水の浸み込みやすさの観点から、２００℃が好ましく、１２０℃以下がより好ましい。

上記のガラス転移温度を有するバインダーポリマーとしては、経時による機上現像性の低下をより抑制する観点から、ポリビニルアセタールが好ましい。

ポリビニルアセタールは、ポリビニルアルコールのヒドロキシ基をアルデヒドにてアセタール化させて得られた樹脂である。
特に、ポリビニルアルコールのヒドロキシ基を、ブチルアルデヒドでアセタール化（即ち、ブチラール化）したポリビニルブチラールが好ましい。
ポリビニルアセタールは、ポリビニルアルコールのヒドロキシ基をアルデヒドにてアセタール化することで、下記（ａ）で表される構成単位を含むことが好ましい。

ここで、Ｒとしては、アセタール化に用いられたアルデヒドの残基を表す。
Ｒとしては、水素原子、アルキル基等の他、後述するエチレン性不飽和基が挙げられる。

上記（ａ）で表される構成単位の含有量（上記（ａ）で表される構成単位に含まれる主鎖のエチレン基量ともいう。また、アセタール化度ともいう。）としては、ポリビニルアセタールの全構成単位（主鎖の全エチレン基量）に対して、５０ｍｏｌ％～９０ｍｏｌ％が好ましく、５５ｍｏｌ％～８５ｍｏｌ％がより好ましく、５５ｍｏｌ％～８０ｍｏｌ％が更に好ましい。
なお、アセタール化度とは、アセタール基が結合しているエチレン基量（上記（ａ）で表される構成単位に含まれる主鎖のエチレン基量）を、主鎖の全エチレン基量で除して求めたモル分率を百分率で示した値である。
また、後述のポリビニルアセタールの各構成単位の含有量においても、同様である。

ポリビニルアセタールは、耐刷性向上の観点から、エチレン性不飽和基を有することが好ましい。
ここで、ポリビニルアセタールが有するエチレン性不飽和基としては特に制限はなく、反応性、機上現像性、及び耐刷性の観点から、ビニルフェニル基（スチリル基）、ビニルエステル基、ビニルエーテル基、アリル基、（メタ）アクリロキシ基、及び（メタ）アクリルアミド基からなる群より選ばれた少なくとも１種の基であることがより好ましく、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロキシ基等が好ましい。

ポリビニルアセタールが、耐刷性向上の観点から、エチレン性不飽和基を有する構成単位を含むことが好ましい。
エチレン性不飽和基を有する構成単位としては、上述のアセタール環を有する構成単位であってもよいし、アセタール環を有する構成単位以外の構成単位であってもよい。
中でも、露光時の架橋密度増加の観点から、ポリビニルアセタールは、アセタール環にエチレン性不飽和基が導入された化合物であることが好ましい。即ち、上述の（ａ）で表される構成単位において、Ｒにエチレン性不飽和基を有することが好ましい。

エチレン性不飽和基を有する構成単位が、アセタール環を有する構成単位以外の構成単位である場合、例えば、アクリレート基を有する構成単位、具体的には、下記（ｄ）で表される構成単位であってもよい。

エチレン性不飽和基を有する構成単位がアセタール環を有する構成単位以外の構成単位である場合、この構成単位の含有量（アクリレート基量ともいう）としては、ポリビニルアセタールの全構成単位に対して、１ｍｏｌ％～１５ｍｏｌ％が好ましく、１ｍｏｌ％～１０ｍｏｌ％がより好ましい。

ポリビニルアセタールとしては、更に、機上現像性等の観点から、ヒドロキシ基を有する構成単位を含むことが好ましい。つまり、上記ポリビニルアセタールは、ビニルアルコールに由来する構成単位を含むことが好ましい。
ヒドロキシ基を有する構成単位としては、下記（ｂ）で表される構成単位が挙げられる。

上記（ｂ）で表される構成単位の含有量（水酸基量ともいう）としては、機上現像性の観点から、ポリビニルアセタールの全構成単位に対して、５ｍｏｌ％～５０ｍｏｌ％が好ましく、１０ｍｏｌ％～４０ｍｏｌ％がより好ましく、２０ｍｏｌ％～４０ｍｏｌ％が更に好ましい。

上記ポリビニルアセタールとしては、更に、その他の構成単位を含んでいてもよい。
その他の構成単位としては、例えば、アセチル基を有する構成単位、具体的には、以下（ｃ）で表される構成単位が挙げられる。

上記（ｃ）で表される構成単位の含有量（アセチル基量ともいう）としては、ポリビニルアセタールの全構成単位に対して、０．５ｍｏｌ％～１０ｍｏｌ％が好ましく、０．５ｍｏｌ％～８ｍｏｌ％がより好ましく、１ｍｏｌ％～３ｍｏｌ％が更に好ましい。

ここで、上記アセタール化度、アクリレート基量、水酸基量、及びアセチル基量、は、以下のようにして求めることができる。
即ち、^１Ｈ ＮＭＲ測定によって、アセタールのメチル又はメチレン部位、アクリレート基のメチル部位、水酸基及びアセチル基のメチル部位のプロトンピーク面積比からｍｏｌ含有率を算出する。

上記ポリビニルアセタールの重量平均分子量としては、１８，０００～１５０，０００が好ましい。

上記ポリビニルアセタールの溶解度パラメータ（ＳＰ値ともいう）は、１７．５ＭＰａ^１／２～２０．０ＭＰａ^１／２であることが好ましく、１８．０ＭＰａ^１／２～１９．５ＭＰａ^１／２であることがより好ましい。
ここで、本開示における「溶解度パラメータ（単位：（ＭＰａ）^１／２）」は、ハンセン（Ｈａｎｓｅｎ）溶解度パラメータを用いるものとする。
ハンセン（Ｈａｎｓｅｎ）溶解度パラメータは、ヒルデブランド（Hildebrand）によって導入された溶解度パラメータを、分散項δｄ、極性項δｐ、水素結合項δｈの３成分に分割し、３次元空間に表したものであるが、本開示においては溶解度パラメータ（以降、ＳＰ値ともいう）をδ（単位：（ＭＰａ）^１／２）で表し、下記式を用いて算出される値を用いる。
δ（ＭＰａ）^１／２＝（δｄ^２＋δｐ^２＋δｈ^２）^１／２
なお、この分散項δｄ、極性項δｐ、及び水素結合項δｈは、ハンセンやその研究後継者らにより多く求められており、Polymer Handbook （fourth edition）、VII－６９８～７１１に詳しく掲載されている。また、ハンセンの溶解度パラメータの値の詳細については、Charles M.Hansen著の文献「Hansen Solubility Parameters; A Users Handbook (CRC Press,2007)」に記載されている。
本開示において、化合物の部分構造におけるハンセン溶解度パラメータは、コンピュータソフトウェア「Hansen Solubility Parameters in Practice(HSPiP ver.4.1.07)」を用いることにより、その化学構造から推算した値を用いることもできる。
また、本開示においては、化合物が付加重合型、重縮合型等のポリマーである場合は、モノマー単位ごとのＳＰ値をモル分率で掛け合わせた総量で示し、化合物がモノマー単位を有しない低分子化合物である場合は、化合物全体のＳＰ値とする。
なお、本開示において、ポリマーのＳＰ値は、ポリマーの分子構造からPolymer Handbook （fourth edition）に記載のＨｏｙ法により計算してもよい。

上記ポリビニルアセタールの具体例［Ｐ－１～Ｐ－３］を以下に挙げるが、本開示に用いられるポリビニルアセタールはこれらに限定されるものではない。
下記構造中、「ｌ」は５０ｍｏｌ％～９０ｍｏｌ％であり、「ｍ」は０．５ｍｏｌ％～１０質量％であり、「ｎ」は５ｍｏｌ％～５０ｍｏｌ％であり、「ｏ」は１ｍｏｌ％～１５ｍｏｌ％である。

上記ポリビニルアセタールとしては、市販品を用いることができる。
ポリビニルアセタールの市販品としては、積水化学工業（株）のエスレックシリーズ（具体的には、エスレック ＢＸ－Ｌ，ＢＸ－１，ＢＸ－５，ＢＬ－７Ｚ，ＢＭ－１，ＢＭ－５，ＢＨ－６，ＢＨ－３等）が挙げられる。

本開示における画像記録層には、フッ素原子を有する樹脂を含有することが好ましく、フルオロ脂肪族基含有共重合体を含有することがより好ましい。
フッ素原子を有する樹脂、特にフルオロ脂肪族基含有共重合体を用いることで、画像記録層の形成時の発泡による面質異常を抑制し、塗布面状を高めることができ、更に、形成された画像記録層のインキの着肉性を高められる。
また、フルオロ脂肪族基含有共重合体を含む画像記録層は、階調が高くなり、例えば、レーザー光に対して高感度となり、散乱光、反射光等によるかぶり性が良好で耐刷性に優れる平版印刷版が得られる。

上記フルオロ脂肪族基含有共重合体は、下記式（Ｆ１）及び下記式（Ｆ２）のいずれかで表される化合物により形成される構成単位を有することが好ましい。

式（Ｆ１）及び（Ｆ２）中、Ｒ^Ｆ１は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Ｘは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は－Ｎ（Ｒ^Ｆ２）－を表し、ｍは１～６の整数を表し、ｎは１～１０の整数を表し、ｌは０～１０の整数を表し、Ｒ^Ｆ２は水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表す。

式（Ｆ１）及び（Ｆ２）におけるＲ^Ｆ２で表される炭素数１～４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、又はｎ－ブチル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。
式（Ｆ１）及び（Ｆ２）におけるＸは、酸素原子であることが好ましい。
式（Ｆ１）におけるｍは１又は２が好ましく、２がより好ましい。
式（Ｆ１）におけるｎは、２、４、６、８、又は１０が好ましく、４又は６がより好ましい。
式（Ｆ１）におけるｌは、０が好ましい。

フッ素原子を有する樹脂に用いられるフッ素原子を有するモノマーの具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。

上記フルオロ脂肪族基含有共重合体は、上記式（Ｆ１）及び式（Ｆ２）のいずれかで表される化合物から形成される構成単位に加え、ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びポリ（オキシアルキレン）メタクリレートよりなる群から選択される少なくとも１種の化合物により形成される構成単位を更に有することが好ましい。

上記ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びポリ（オキシアルキレン）メタクリレート中のポリオキシアルキレン基は、－（ＯＲ^Ｆ３）_ｘ－で表すことができ、Ｒ^Ｆ３はアルキル基を表し、ｘは２以上の整数を表す。Ｒ^Ｆ３としては、直鎖状又は分岐状の炭素数２～４のアルキレン基であることが好ましい。直鎖状又は分岐状の炭素数２～４のアルキレン基としては、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２－、又は－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ（ＣＨ_３）－であることが好ましい。ｘは、２～１００の整数が好ましい。
上記ポリオキシアルキレン基中、ｘ個の「ＯＲ^Ｆ３」は、それぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。つまり、上記ポリオキシアルキレン基は、２種以上の「ＯＲ^Ｆ３」が規則的に又は不規則に結合したものであってもよい。例えば、上記ポリオキシアルキレン基は、直鎖状又は分岐状のオキシプロピレン単位とオキシエチレン単位とが規則的に又は不規則に結合したものであってもよい。より具体的には、上記ポリオキシアルキレン基は、直鎖又は分岐状のオキシプロピレン単位のブロックとオキシエチレン単位のブロックとが結合したものであってもよい。
なお、ポリオキシアルキレン基中には、１つ又は複数の連結基（例えば、－ＣＯＮＨ－Ｐｈ－ＮＨＣＯ－、－Ｓ－等、ここで、Ｐｈはフェニレン基を表す。）を含んでいてもよい。
上記ポリオキシアルキレン基の分子量は、２５０～３，０００が好ましい。

上記ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びポリ（オキシアルキレン）メタクリレートとしては、市販品を用いてもよいし、合成品を用いてもよい。
上記ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びポリ（オキシアルキレン）メタクリレートは、例えば、ヒドロキシポリ（オキシアルキレン）化合物と、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリド、無水アクリル酸等とを公知の方法で反応させることによって合成することができる。
上記ヒドロキシポリ（オキシアルキレン）化合物としては、市販品を用いてもよく、例えば、（株）ＡＤＥＫＡ製のアデカ（登録商標） プルロニック、（株）ＡＤＥＫＡ製のアデカポリエーテル、ユニオン・カーバイド社製のＣａｒｂｏｗａｘ（登録商標）、ダウ・ケミカル社製のＴｒｉｔｏｎ）、第一工業製薬（株）製のＰＥＧ等が挙げられる。
なお、ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びポリ（オキシアルキレン）メタクリレートとしては、公知の方法で合成した、ポリ（オキシアルキレン）ジアクリレート等を用いてもよい。

本開示において用いられる画像記録層においては、バインダーポリマーを１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
バインダーポリマーは、画像記録層中に任意な量で含有させることができるが、バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、１質量％～９０質量％であることが好ましく、５質量％～８０質量％であることがより好ましい。
また、本開示における画像記録層が他のバインダーポリマーを含む場合、上記熱可塑性樹脂粒子と他のバインダーポリマーとの合計質量に対する他のバインダーポリマーの含有量は、０質量％を超え９９質量％以下であることが好ましく、２０質量％～９５質量％であることがより好ましく、４０質量％～９０質量％であることが更に好ましい。

〔連鎖移動剤〕
本開示において用いられる画像記録層は、連鎖移動剤を含有してもよい。連鎖移動剤は、平版印刷版におけるＵＶ耐刷性の向上に寄与する。
連鎖移動剤としては、チオール化合物が好ましく、沸点（揮発し難さ）の観点で炭素数７以上のチオール化合物がより好ましく、芳香環上にメルカプト基を有する化合物（芳香族チオール化合物）が更に好ましい。上記チオール化合物は単官能チオール化合物であることが好ましい。

連鎖移動剤として具体的には、下記の化合物が挙げられる。

連鎖移動剤は、１種のみを添加しても、２種以上を併用してもよい。
連鎖移動剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．０１質量％～５０質量％が好ましく、０．０５質量％～４０質量％がより好ましく、０．１質量％～３０質量％が更に好ましい。

〔感脂化剤〕
画像記録層は、インキ着肉性を向上させるために、感脂化剤を更に含有することが好ましい。
感脂化剤は、ＳＰ値が１８．０未満であることが好ましく、１４～１８未満であることがより好ましく、１５～１７であることが更に好ましく、１６～１６．９であることが特に好ましい。
また、感脂化剤は、分子量（分子量分布があるときは、重量平均分子量）が２，０００以上の化合物であってもよく、分子量が２，０００未満の化合物であってもよい。

本開示におけるＳＰ値（溶解度パラメーター、単位：（ＭＰａ）^１／２））は、ハンセン（Ｈａｎｓｅｎ）溶解度パラメーターを用いるものとする。
ハンセン（Ｈａｎｓｅｎ）溶解度パラメーターは、ヒルデブランド（Ｈｉｌｄｅｂｒａｎｄ）によって導入された溶解度パラメーターを、分散項δｄ、極性項δｐ、水素結合項δｈの３成分に分割し、３次元空間に表したものであるが、本開示においてはＳＰ値をδ（単位：（ＭＰａ）^１／２）で表し、下記式を用いて算出される値を用いる。
δ（ＭＰａ）^１／２＝（δｄ^２＋δｐ^２＋δｈ^２）^１／２
なお、この分散項δｄ、極性項δｐ、及び、水素結合項δｈは、ハンセンやその研究後継者らにより多く求められており、Polymer Handbook (fourth edition)、ＶＩＩ－６９８～７１１に詳しく掲載されている。
また本開示において、ポリマーのＳＰ値は、ポリマーの分子構造からＰｏｌｙｍｅｒ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｆｏｕｒｔｈ ｅｄｉｔｉｏｎに記載のＨｏｙ法により計算する。

上記感脂化剤としては、例えば、オニウム塩化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマー等のアンモニウム化合物などが挙げられる。
特に、オーバーコート層に無機層状化合物を含有させる場合、これら化合物は、無機層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機層状化合物による印刷途中の着肉性低下を抑制することができる。

また、感脂化剤は、着肉性の観点から、オニウム塩化合物であることが好ましい。
オニウム塩化合物としては、ホスホニウム化合物、アンモニウム化合物、スルホニウム化合物等が挙げられ、オニウム塩化合物としては、上記観点から、ホスホニウム化合物及びアンモニウム化合物からなる群より選択される少なくとも１つが好ましい。
また、後述する、現像促進剤又は電子受容型重合開始剤におけるオニウム塩化合物はＳＰ値が１８を超える化合物であり、感脂化剤には含まれない。

ホスホニウム化合物としては、特開２００６－２９７９０７号公報及び特開２００７－５０６６０号公報に記載のホスホニウム化合物が挙げられる。具体例としては、１，４－ビス（トリフェニルホスホニオ）ブタン＝ジ（ヘキサフルオロホスファート）、１，７－ビス（トリフェニルホスホニオ）ヘプタン＝スルファート、１，９－ビス（トリフェニルホスホニオ）ノナン＝ナフタレン－２，７－ジスルホナート等が挙げられる。

アンモニウム化合物としては、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマー等を好ましく挙げることができる。

含窒素低分子化合物としては、アミン塩類、第四級アンモニウム塩類が挙げられる。また、イミダゾリニウム塩類、ベンゾイミダゾリニウム塩類、ピリジニウム塩類、キノリニウム塩類も挙げられる。
中でも、第四級アンモニウム塩類及びピリジニウム塩類が好ましい。
具体例としては、テトラメチルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、ドデシルトリメチルアンモニウム＝ｐ－トルエンスルホナート、ベンジルトリエチルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルオクチルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルドデシルアンモニウム＝ヘキサフルオロホスファート、特開２００８－２８４８５８号公報の段落００２１～００３７に記載の化合物、特開２００９－９０６４５号公報の段落００３０～００５７に記載の化合物等が挙げられる。

アンモニウム基含有ポリマーとしては、その構造中にアンモニウム基を有すればよく、側鎖にアンモニウム基を有する（メタ）アクリレートを共重合成分として５ｍｏｌ％～８０ｍｏｌ％含有するポリマーが好ましい。具体例としては、特開２００９－２０８４５８号公報の段落００８９～０１０５に記載のポリマーが挙げられる。

アンモニウム塩含有ポリマーは、特開２００９－２０８４５８号公報に記載の測定方法に従って求められる還元比粘度（単位：ｍｌ／ｇ）の値が、５～１２０の範囲のものが好ましく、１０～１１０の範囲のものがより好ましく、１５～１００の範囲のものが特に好ましい。上記還元比粘度を重量平均分子量（Ｍｗ）に換算した場合、１０，０００～１５０，０００が好ましく、１７，０００～１４０，０００がより好ましく、２０，０００～１３０，０００が特に好ましい。

以下に、アンモニウム基含有ポリマーの具体例を示す。
（１）２－（トリメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ｐ－トルエンスルホナート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比１０／９０、Ｍｗ４．５万）
（２）２－（トリメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比２０／８０、Ｍｗ６．０万）
（３）２－（エチルジメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ｐ－トルエンスルホナート／ヘキシルメタクリレート共重合体（モル比３０／７０、Ｍｗ４．５万）
（４）２－（トリメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／２－エチルヘキシルメタクリレート共重合体（モル比２０／８０、Ｍｗ６．０万）
（５）２－（トリメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝メチルスルファート／ヘキシルメタクリレート共重合体（モル比４０／６０、Ｍｗ７．０万）
（６）２－（ブチルジメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比２５／７５、Ｍｗ６．５万）
（７）２－（ブチルジメチルアンモニオ）エチルアクリレート＝ヘキサフルオロホスファート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比２０／８０、Ｍｗ６．５万）
（８）２－（ブチルジメチルアンモニオ）エチルメタクリレート＝１３－エチル－５，８，１１－トリオキサ－１－ヘプタデカンスルホナート／３，６－ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体（モル比２０／８０、Ｍｗ７．５万）

感脂化剤の含有量は、画像記録層の全質量に対して、１質量％～４０．０質量％が好ましく、２質量％～２５．０質量％がより好ましく、３質量％～２０．０質量％が更に好ましい。

画像記録層は、感脂化剤を１種単独で含有してもよいし、２種以上を併用してもよい。
本開示において用いられる画像記録層の好ましい態様の一つは、感脂化剤として、２種以上の化合物を含有する態様である。
具体的には、本開示において用いられる画像記録層は、機上現像性及び着肉性を両立させる観点から、感脂化剤としては、ホスホニウム化合物と、含窒素低分子化合物と、アンモニウム基含有ポリマーと、を併用することが好ましく、ホスホニウム化合物と、第四級アンモニウム塩類と、アンモニウム基含有ポリマーと、を併用することがより好ましい。

〔現像促進剤〕
本開示において用いられる画像記録層は、現像促進剤を更に含むことが好ましい。
現像促進剤は、ＳＰ値の極性項の値が６．０～２６．０であることが好ましく、６．２～２４．０であることがより好ましく、６．３～２３．５であることが更に好ましく、６．４～２２．０であることが特に好ましい。

本開示におけるＳＰ値（溶解度パラメーター、単位：（ｃａｌ／ｃｍ^３）^1/2）の極性項の値は、ハンセン（Ｈａｎｓｅｎ）溶解度パラメーターにおける極性項δｐの値を用いるものとする。ハンセン（Ｈａｎｓｅｎ）溶解度パラメーターは、ヒルデブランド（Ｈｉｌｄｅｂｒａｎｄ）によって導入された溶解度パラメーターを、分散項δｄ、極性項δｐ、水素結合項δｈの３成分に分割し、３次元空間に表したものであるが、本開示においては上記極性項δｐを用いる。
δｐ［ｃａｌ／ｃｍ^３］はHansen 溶解度パラメーター双極子間力項、Ｖ［ｃａｌ／ｃｍ^３］はモル体積、μ［Ｄ］は双極子モーメントである。δｐとしては、一般的にはHansenとBeerbowerによって簡素化された下記式が用いられている

現像促進剤としては、親水性高分子化合物又は親水性低分子化合物であることが好ましい。
本開示において、親水性とは、ＳＰ値の極性項の値が６．０～２６．０であることをいい、親水性高分子化合物とは分子量（分子量分布を有する場合は重量平均分子量）が３，０００以上の化合物をいい、親水性低分子化合物とは分子量（分子量分布を有する場合は重量平均分子量）が３，０００未満の化合物をいう。

親水性高分子化合物としては、セルロース化合物等が挙げられ、セルロース化合物が好ましい。
セルロース化合物としては、セルロース、又は、セルロースの少なくとも一部が変性された化合物（変性セルロース化合物）が挙げられ、変性セルロース化合物が好ましい。
変性セルロース化合物としては、セルロースのヒドロキシ基の少なくとも一部が、アルキル基及びヒドロキシアルキル基よりなる群から選ばれた少なくとも一種の基により置換された化合物が好ましく挙げられる。
上記セルロースのヒドロキシ基の少なくとも一部が、アルキル基及びヒドロキシアルキル基よりなる群から選ばれた少なくとも一種の基により置換された化合物の置換度は、０．１～６．０であることが好ましく、１～４であることがより好ましい。
変性セルロース化合物としては、アルキルセルロース化合物又はヒドロキシアルキルセルロース化合物が好ましく、ヒドロキシアルキルセルロース化合物がより好ましい。
アルキルセルロース化合物としては、メチルセルロースが好ましく挙げられる。
ヒドロキシアルキルセルロース化合物としては、ヒドロキシプロピルセルロースが好ましく挙げられる。

親水性高分子化合物の分子量（分子量分布を有する場合は重量平均分子量）は、３，０００～５，０００，０００であることが好ましく、５，０００～２００，０００であることがより好ましい。

親水性低分子化合物としては、グリコール化合物、ポリオール化合物、有機アミン化合物、有機スルホン酸化合物、有機スルファミン化合物、有機硫酸化合物、有機ホスホン酸化合物、有機カルボン酸化合物、ベタイン化合物等が挙げられ、ポリオール化合物、有機スルホン酸化合物又はベタイン化合物が好ましい。

グリコール化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びこれらの化合物のエーテル又はエステル誘導体類が挙げられる。
ポリオール化合物としては、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
有機アミン化合物としては、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン等及びその塩が挙げられる。
有機スルホン酸化合物としては、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等及びその塩が挙げられ、アルキル基の炭素数が１～１０のアルキルスルホン酸が好ましく挙げられる。
有機スルファミン化合物としては、アルキルスルファミン酸等及びその塩が挙げられる。
有機硫酸化合物としては、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等及びその塩が挙げられる。
有機ホスホン酸化合物としては、フェニルホスホン酸等及びその塩、が挙げられる。
有機カルボン酸化合物としては、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸等及びその塩が挙げられる。
ベタイン化合物としては、ホスホベタイン化合物、スルホベタイン化合物、カルボキシベタイン化合物等が挙げられ、トリメチルグリシンが好ましく挙げられる。

親水性低分子化合物の分子量（分子量分布を有する場合は重量平均分子量）は、１００以上３，０００未満であることが好ましく、３００～２，５００であることがより好ましい。

現像促進剤は、環状構造を有する化合物であることが好ましい。
環状構造としては、特に限定されないが、ヒドロキシ基の少なくとも一部が置換されていてもよいグルコース環、イソシアヌル環、ヘテロ原子を有していてもよい芳香環、ヘテロ原子を有していてもよい脂肪族環等が挙げられ、グルコース環又はイソシアヌル環が好ましく挙げられる。
グルコース環を有する化合物としては、上述のセルロース化合物が挙げられる。
イソシアヌル環を有する化合物としては、上述のトリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
芳香環を有する化合物としては、上述のトルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等が挙げられる。
脂肪族環を有する化合物としては、上述のアルキル硫酸であって、アルキル基が環構造を有する化合物等が挙げられる。

また、上記環状構造を有する化合物は、ヒドロキシ基を有することが好ましい。
ヒドロキシ基を有し、かつ、環状構造を有する化合物としては、上述のセルロース化合物、及び、上述のトリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートが好ましく挙げられる。

また、現像促進剤としては、オニウム塩化合物であることが好ましい。
オニウム塩化合物としては、アンモニウム化合物、スルホニウム化合物等が挙げられ、アンモニウム化合物が好ましい。
オニウム塩化合物である現像促進剤としては、トリメチルグリシン等が挙げられる。
また、上記電子受容型重合開始剤におけるオニウム塩化合物はＳＰ値の極性項の値が６．０～２６．０ではない化合物であり、現像促進剤には含まれない。

画像記録層は、現像促進剤を１種単独で含有してもよいし、２種以上を併用してもよい。
本開示において用いられる画像記録層の好ましい態様の一つは、現像促進剤として、２種以上の化合物を含有する態様である。
具体的には、本開示において用いられる画像記録層は、機上現像性及び着肉性の観点から、現像促進剤として、上記ポリオール化合物及び上記ベタイン化合物、上記ベタイン化合物及び上記有機スルホン酸化合物、又は、上記ポリオール化合物及び上記有機スルホン酸化合物を含むことが好ましい。

画像記録層の全質量に対する現像促進剤の含有量は、０．１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以上１５質量％以下がより好ましく、１質量％以上１０質量％以下がより好ましい。

〔その他の成分〕
画像記録層には、その他の成分として、界面活性剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機粒子、無機層状化合物等を含有することができる。具体的には、特開２００８－２８４８１７号公報の段落０１１４～段落０１５９の記載を参照することができる。

〔画像記録層の形成〕
本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落０１４２～段落０１４３に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布液を支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することにより形成することができる。塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、０．３ｇ／ｍ^２～３．０ｇ／ｍ^２が好ましい。この範囲で、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得られる。
溶剤としては、公知の溶剤を用いることができる。具体的には、例えば、水、アセトン、メチルエチルケトン（２－ブタノン）、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメーチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、１－メトキシ－２－プロパノール、３－メトキシ－１－プロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。溶剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。塗布液中の固形分濃度は１質量％～５０質量％であることが好ましい。
塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性を得る観点から、０．３ｇ／ｍ^２～３．０ｇ／ｍ^２が好ましい。
また、本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層の膜厚は、０．１μｍ～３．０μｍであることが好ましく、０．３μｍ～２．０μｍであることがより好ましい。
本開示において、平版印刷版原版における各層の膜厚は、平版印刷版原版の表面に対して垂直な方向に切断した切片を作製し、上記切片の断面を走査型顕微鏡（ＳＥＭ）により観察することにより確認される。

＜支持体＞
本開示に係る平版印刷版原版は、支持体を有する。
支持体としては、親水性表面を有する支持体（「親水性支持体」ともいう。）が好ましい。親水性表面としては、水との接触角が１０°より小さいものが好ましく、５°より小さいものがより好ましい。
本開示における水接触角は、協和界面化学（株）製ＤＭ－５０１によって、２５℃における表面上の水滴の接触角（０．２秒後）として測定される。
本開示に係る平版印刷版原版の支持体は、公知の平版印刷版原版用支持体から適宜選択して用いることができる。支持体としては、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。
以下、本開示に係る平版印刷版原版に用いられる支持体について図面を用いて説明するが、図面の説明中、符号が省略される場合がある。

陽極酸化被膜の厚さは、２００ｎｍ～２，０００ｎｍであることが好ましい。
陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の一実施形態の模式的断面図を図２Ａに示す。図２Ａにおいて、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体１２は、アルミニウム板１８とアルミニウムの陽極酸化皮膜２０（以後、単に「陽極酸化皮膜２０」とも称する）とをこの順に有する。アルミニウム支持体１２中の陽極酸化皮膜２０は、図１における平版印刷版原版１０の画像記録層１６側に位置する。即ち、平版印刷版原版１０は、アルミニウム板１８、陽極酸化皮膜２０、下塗り層１４、及び、画像記録層１６を有する。

〔アルミニウム板〕
アルミニウム板（アルミニウム支持体）は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属、即ち、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる。アルミニウム板は、純アルミニウム板又はアルミニウムを主成分とし微量の異元素を含む合金板からなる。

アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は１０質量％以下である。アルミニウム板としては、純アルミニウム板が好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは製錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含むものでもよい。アルミニウム板１８としては、その組成が限定されるものではなく、公知公用の素材のもの（例えばＪＩＳ Ａ １０５０、ＪＩＳ Ａ １１００、ＪＩＳ Ａ ３１０３、及び、ＪＩＳ Ａ ３００５）を適宜利用することができる。

アルミニウム板の幅は４００ｍｍ～２，０００ｍｍ程度、厚さはおよそ０．１ｍｍ～０．６ｍｍ程度が好ましい。この幅又は厚さは、印刷機の大きさ、印刷版の大きさ、及び、ユーザーの希望により適宜変更できる。

本開示に係る平版印刷版原版に用いられる支持体は、画像記録層側の表面にマイクロポアを有することが好ましく、画像記録層側の表面に陽極酸化被膜を有し、陽極酸化被膜表面に、マイクロポアを有することが好ましい。
平版印刷版原版の画像記録層において、上記赤外線吸収剤と、上記重合開始剤と、上記重合性化合物と、上記熱可塑性樹脂粒子とを併用することによって、熱可塑性樹脂粒子同士の熱融着に加えて、熱可塑性樹脂粒子の熱融着物と混ざり合いながら重合性化合物が重合することにより、より強固な膜が形成されるとともに、陽極酸化被膜表面にマイクロポアを有することで、マイクロポア内でも重合性化合物の上記と同様の重合によって支持体と画像記録層との密着性が向上されることにより、ＵＶ耐刷性に優れると推定している。
上記表面におけるマイクロポアの平均径は、ＵＶ耐刷性の観点から、１３ｎｍを超え１００ｎｍ以下であることが好ましく、１５ｎｍ～８０ｎｍであることがより好ましく、２０ｎｍ～６０ｎｍであることがより好ましい。
本開示において、マイクロポアという用語は、支持体の画像記録層側の表面に形成されたポア、具体的には、陽極酸化皮膜中のポアを表す一般的に使われる用語であり、ポアのサイズを規定するものではない。
アルミニウム支持体の画像記録層側の表面（陽極酸化皮膜の画像記録層側の表面）のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系における明度Ｌ^＊の値は、７０～１００であることが好ましい。中でも、耐刷性及び画像視認性のバランスがより優れる点で、７５～１００が好ましく、７５～９０がより好ましい。
上記明度Ｌ^＊の測定は、エックスライト（株）製、色彩色差計Ｓｐｅｃｔｒｏ Ｅｙｅを用いて測定する。
本開示において用いられるアルミニウム支持体の好ましい態様の一例（本一例に係るアルミニウム支持体を、「支持体（１）」ともいう。）を以下に示す。
即ち、支持体（１）は、アルミニウム板と、上記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、上記陽極酸化皮膜が、上記アルミニウム板よりも上記画像記録層側に位置し、上記陽極酸化皮膜が、上記画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、上記マイクロポアの上記陽極酸化皮膜表面における平均径が１０ｎｍを超え１００ｎｍ以下であり、上記陽極酸化皮膜の上記画像記録層側の表面のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系における明度Ｌ^＊の値が、７０～１００である。
支持体（１）において、上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ１０ｎｍ～１，０００ｎｍの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ２０ｎｍ～２，０００ｎｍの位置までのびる小径孔部とから構成され、上記大径孔部の上記陽極酸化皮膜表面における平均径が１５ｎｍ～１５０ｎｍであり、上記小径孔部の上記連通位置における平均径が１３ｎｍ以下である態様（以下、上記態様に係る支持体を、「支持体（２）」ともいう。）も好ましく挙げられる。

〔陽極酸化皮膜〕
本開示に係る平版印刷版原版に用いられる支持体は、画像記録層側の表面に陽極酸化被膜を有することが好ましい。
図２Ａにおいて、陽極酸化皮膜２０は、陽極酸化処理によってアルミニウム板１８の表面に一般的に作製される、皮膜表面に略垂直であり、個々が均一に分布した極微細なマイクロポア２２を有する陽極酸化アルミニウム皮膜を指す。マイクロポア２２は、陽極酸化皮膜表面から厚み方向（アルミニウム板１８側）に沿ってのびている。
陽極酸化皮膜の厚さＸ１は、２００ｎｍ～２，０００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは５００ｎｍ～１，８００ｎｍ、更に好ましくは７５０ｎｍ～１，５００ｎｍである。

本開示に係る平版印刷版原版に用いられるアルミニウム支持体は、下記態様１～態様３のいずれかの態様であることが好ましい。

（態様１）
上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ１０ｎｍを超える位置までのびており、上記陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポアの平均径に対する、マイクロポア底部の平均径の割合が０．８倍以上１．２倍以下である。
（態様２）
上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ１０ｎｍ～１，０００ｎｍの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ方向に２０ｎｍ～２，０００ｎｍの位置までのびる小径孔部と、から構成され、上記大径孔部の平均径が、１３ｎｍを超え１００ｎｍ以下であり、上記小径孔部の平均径が、上記大径孔部の平均径の５％～８０％である。
（態様３）
上記陽極酸化皮膜表面における上記マイクロポアの平均径が１０ｎｍ～３０ｎｍ以下であり、内部の最大径の平均値が２０ｎｍ～３００ｎｍであり、上記内部の最大径の平均値が上記陽極酸化皮膜表面における上記マイクロポアの平均径よりも大きい。
以下、それぞれの態様について図面を用いて説明する。

〔態様１について〕
図２Ａは、上記態様１の一実施形態を示す断面概略図である。
図２Ａにおいて、マイクロポア２２が、陽極酸化皮膜２０表面から深さ１０ｎｍを超える位置までのびており、上記陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポアの平均径に対する、マイクロポア底部の平均径の割合が０．８倍以上１．２倍以下である。
マイクロポア２２の深さＸ２は１０ｎｍを超え、５０ｎｍ以上であることが好ましく、７５ｎｍ以上であることがより好ましい。
上記マイクロポア２２の深さＸ２は、陽極酸化皮膜２０の断面をＦＥ－ＳＥＭで観察し（１５万倍）、得られた画像において、２５個のマイクロポアの深さを測定し、算術平均値として求められる。

上記陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポア２２の平均径Ｙ１は、１３ｎｍを超え１００ｎｍ以下であることが好ましく、１５ｎｍ以上７５ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
上記陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポア２２の、深さＸ２に対する平均径Ｙ１の割合（Ｘ２／Ｙ１）は、２倍以上１０倍以下が好ましく、２．５倍以上７倍以下がより好ましく、３倍以上６倍以下が更に好ましい。
また、マイクロポア２２の底部の平均径Ｙ２は、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましく、１５ｎｍ以上７５ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポア２２の平均径Ｙ１に対する、マイクロポア２２底部の平均径Ｙ２の割合は、０．８倍以上１．２倍以下であることが好ましく、０．８５倍以上１．１５倍以下であることがより好ましく、０．９倍以上１．１倍以下であることが更に好ましい。
陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポア２２の平均径Ｙ１に対する、マイクロポア２２の底部の平均径Ｙ２の割合は、下記式１Ａにより求められる値である。
式１Ａ：（陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポア２２の平均径Ｙ１）／（マイクロポア２２の底部の平均径Ｙ２）

陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポアの平均径Ｙ１は、陽極酸化皮膜２０の表面を倍率１５万倍の電界放出型走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）でＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポアの径（直径）を測定し、算術平均値として求められる。
陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポアの形状（開口部の形状）が円状でない場合は、円相当径を用いる。
マイクロポア２２の底部の平均径Ｙ２は、陽極酸化皮膜２０表面を倍率１５万倍のＦＥ－ＳＥＭでＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポア２２の底部の径（直径）を測定し、算術平均値として求められる。なお、マイクロポア２２の深さが深い場合は、必要に応じて、陽極酸化皮膜２０上部を陽極酸化被膜と水平に切削し（例えば、アルゴンガスによって切削）、その後陽極酸化皮膜２０表面を上記ＦＥ－ＳＥＭで観察して、マイクロポア２２の底部の平均径Ｙ２を求めてもよい。
なお、マイクロポア底部の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。
また、底部の形状が平面状ではない場合、例えば図２Ｂに記載のＹ２－１を底部の平均径として測定する。
図２Ｂは図２Ａ中のマイクロポアの１つを拡大した概略断面図である。

態様１におけるマイクロポア２２の形状は特に限定されず、例えば、略直管状（略円柱状）、深さ方向（厚み方向）に向かって径が小さくなる円錐状、深さ方向（厚み方向）に向かって径が大きくなる逆円錐状、中央部の径が大きい円柱状、中央部の径が小さい円柱状等が挙げられ、略直管状が好ましい。マイクロポア２２の底部の形状は特に限定されず、曲面状（凹状）であっても、平面状であってもよい。
陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポア２２の平均径Ｙ１に対する、中央部の径Ｙ１Ａの割合は（Ｙ１Ａ／Ｙ１）は、０．８倍以上１．２倍以下であることが好ましい。
マイクロポア２２の中央部の平均径Ｙ１Ａは、陽極酸化皮膜２０表面を倍率１５万倍のＦＥ－ＳＥＭでＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポア２２の中央部の径（直径）を測定し、算術平均値として求められる。なお、マイクロポア２２の深さが深い場合は、必要に応じて、陽極酸化皮膜２０上部を陽極酸化被膜と水平に切削し（例えば、アルゴンガスによって切削）、その後陽極酸化皮膜２０表面を上記ＦＥ－ＳＥＭで観察して、マイクロポア２２の底部の中央部の径Ｙ１Ａを求めてもよい。

－その他の特性－
陽極酸化被膜２０の表面におけるマイクロポア２２の密度は、特に限定されないが、陽極酸化被膜の単位面積に対し、２００個／μｍ^２～２，０００個／μｍ^２であることが好ましく、２００個／μｍ^２～１，０００個／μｍ^２であることがより好ましい。
上記密度は、陽極酸化皮膜２０の表面を倍率１５万倍の電界放出型走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）でＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポアの数を計測し、計測値の算術平均値として算出される。

陽極酸化被膜２０において、上記マイクロポア２２は、陽極酸化被膜の全面に分布していてもよいし、少なくとも一部に分布していてもよいが、全面に分布していることが好ましい。
マイクロポア２２は、陽極酸化皮膜表面２２に略垂直であることが好ましい。
また、マイクロポア２２は、個々が均一に近い状態で分布していることが好ましい。

〔態様２について〕
図３Ａは、上記態様２の一実施形態を示す断面概略図である。
陽極酸化皮膜２０中のマイクロポア２２は、陽極酸化皮膜表面から深さ（深さＡ：図３Ａ参照）が１０ｎｍ～１，０００ｎｍ位置までのびる大径孔部２４と、大径孔部２４の底部と連通し、連通位置から更に深さ方向にのびる小径孔部２６とから構成される。
以下に、大径孔部２４と小径孔部２６について詳述する。

－大径孔部－
陽極酸化皮膜表面の大径孔部に、支持体と接している本開示における画像記録層が一部入り込むことによって、アンカー効果を発揮して画像部と支持体との密着性が高まり、印刷時における画像部の耐刷性が向上すると推察される。
大径孔部２４の陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポアの平均径（平均開口径）は、１０ｎｍ～１００ｎｍ以下であることが好ましい。ＵＶ耐刷性がより優れる点で、マイクロポアの平均径は、１３ｎｍを超え１００ｎｍ以下であることがより好ましく、１５ｎｍ～６０ｎｍが更に好ましく、１８ｎｍ～４０ｎｍが特に好ましい。
上記マイクロポアの平均径が１３ｎｍより大きい場合、ＵＶ耐刷性に優れた平版印刷版が得られやすい。また、上記マイクロポアの平均径が１００ｎｍ以下であれば、放置払い性に優れた平版位刷版が得られやすい。
本明細書において、放置払い性に優れるとは、平版印刷版を用いて印刷を行った後に、印刷を中断（例えば、数時間の中断など）して、印刷を再開したときに、汚れが認められない印刷物が得られるまでに要する印刷枚数が少ないことをいう。
大径孔部２４の平均径は、陽極酸化皮膜２０表面を倍率１５万倍の電界放出型走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）でＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポア（大径孔部）の径（直径）を測定し、算術平均値として求められる。
なお、大径孔部２４の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。

大径孔部２４の底部は、陽極酸化皮膜表面から深さ（以後、「深さＡ」とも称する場合がある）が１０ｎｍ～１，０００ｎｍ位置にあることが好ましい。つまり、大径孔部２４は、陽極酸化皮膜表面から深さ方向（厚み方向）に１０ｎｍ以上のびる孔部であることが好ましい。中でも、本開示の効果がより優れる点で、深さＡは、１０ｎｍを超え１０００ｎｍ以下が好ましく、２５ｎｍ～２００ｎｍがより好ましく、７０ｎｍ～１００ｎｍが更に好ましい。
上記深さＡが１０ｎｍ以上であれば、小点耐刷性、小点の現像ラチチュード、及び、ベタ画像部の耐刷性に優れた平版印刷版がより得られやすい。また、上記深さＡが１，０００ｎ以下であれば、特に放置払い性により優れた平版位刷版が得られやすい。
本明細書において「小点耐刷性」とは、特に小点（例えば、直径（円相当径）が数μｍ～数十μｍ等の画像部）の耐刷性を意味する。
上記陽極酸化皮膜表面からの深さは、陽極酸化皮膜２０の断面をＦＥ－ＳＥＭで観察し（１５万倍）、得られた画像において、２５個の大径孔部の深さを測定し、算術平均値として求められる。

大径孔部２４の形状は特に限定されず、例えば、略直管状（略円柱状）、深さ方向（厚み方向）に向かって径が小さくなる円錐状、深さ方向（厚み方向）に向かって径が大きくなる逆円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。大径孔部の底部における径は、通常、開口部の径と１ｎｍ～１０ｎｍ程度の差があってもよい。大径孔部２４の底部の形状は特に限定されず、曲面状（凹状）であっても、平面状であってもよい。

－小径孔部－
図３Ａに示すように、上記マイクロポアは、大径孔部２４の底部と連通して、連通位置よりさらに深さ方向（厚み方向）に延びる孔部である、小径孔部２６を更に有することが好ましい。
ひとつの小径孔部２６は、通常ひとつの大径孔部２４と連通するが、２つ以上の小径孔部２６がひとつの大径孔部２４の底部と連通していてもよい。
小径孔部２６の連通位置における平均径は特に限定されないが、大径孔部２４の底部と連通における小径孔部２６の平均径は、大径孔部２４の平均径よりも小さく、２０ｎｍ未満であることが好ましく、１５ｎｍ以下がより好ましく、１３ｎｍ以下が更に好ましく、１０ｎｍ以下が特に好ましい。平均径は、５ｎｍ以上であることが好ましい。平均径が２０ｎｍ未満の場合、放置払い性に優れた平版印刷版が得られやすい。

小径孔部２６の平均径は、陽極酸化皮膜２０表面を倍率１５万倍のＦＥ－ＳＥＭでＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポア（小径孔部）の径（直径）を測定し、算術平均値として求められる。
なお、大径孔部の深さが深い場合は、必要に応じて、陽極酸化皮膜２０上部（大径孔部のある領域）を、例えば、アルゴンガス等で切削し、その後陽極酸化皮膜２０表面を上記ＦＥ－ＳＥＭで観察して、小径孔部の平均径を求めてもよい。
なお、小径孔部２６の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。

小径孔部２６の底部は、上記の大径孔部２４との連通位置（上述した深さＡに該当）からさらに深さ方向に、２０ｎｍ～２，０００ｎｍ（より好ましくは１００ｎｍ～１，９４０ｎｍ未満）の場所に位置することが好ましい。言い換えると、小径孔部２６の深さは２０ｎｍ～２，０００ｎｍ（より好ましくは１００ｎｍ～１，９４０ｎｍ未満）であることが好ましい。中でも、本開示の効果がより優れる点で、小径孔部２６は連通位置から深さ３００ｎｍ～１，６００ｎｍの位置までのびることが好ましく、小径孔部２６は連通位置から深さ９００ｎｍ～１，３００ｎｍの位置までのびることがより好ましい。
連通位置からの深さが２０ｎｍ以上の場合、耐傷性に優れた平版印刷版原版が得られやすい。連通位置からの深さが２，０００ｎｍ以下の場合、処理時間が短期化し、生産性及び経済性に優れやすい。
上記小径孔部の深さは、陽極酸化皮膜２０の断面をＦＥ－ＳＥＭで観察し（５万倍）、得られた画像において、２５個の小径孔部の深さを測定し、算術平均値として求められる。

小径孔部２６の形状は特に限定されず、例えば、略直管状（略円柱状）、深さ方向に向かって径が小さくなる円錐状、深さ方向に向かって枝分かれしていく樹枝状が挙げられ、略直管状が好ましい。小径孔部２６の底部における径は、通常、連通位置における径と１～５ｎｍ程度の差があってもよい。小径孔部２６の底部の形状は特に限定されず、曲面状（凹状）であっても、平面状であってもよい。

陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体は、上記連通位置における上記小径孔部の平均径が、上記陽極酸化皮膜表面における上記大径孔部の平均径よりも小さいことが、好ましい。小径孔部の平均径が、上記大径孔部の平均径よりも小さいことにより、耐汚れ性（放置払い性）に優れた平版印刷版が得られやすい。
大径孔部の平均径と小径孔部の平均径に関しては、その比率、即ち、大径孔部の平均径／小径孔部の平均径が、１．１～１２．５が好ましく、１．５～１０がより好ましい。
また、ＵＶ耐刷性に優れる観点から、小径孔部の平均径が、陽極酸化皮膜表面における上記大径孔部の平均径よりも小さいことが好ましく、上記大径孔部の平均径の５％～８０％であることがより好ましく、更に好ましくは１０％～６０％である。

マイクロポアは、図３Ｂのように、大径孔部の底部における平均径が、陽極酸化被膜表面における平均径よりも大きい形状であってもよく、さらに大径孔部の底部に連通する小径孔部を有するようなマイクロポアであってもよい。大径孔部の底部における平均径が、陽極酸化被膜表面における平均径よりも大きい場合、陽極酸化被膜の表面における平均径は１０ｎｍ～１００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１３ｎｍを超え１００ｎｍ以下であり、底部の平均径は２０ｎｍ～３００ｎｍであることが好ましい。
大径孔部の底部における平均径が、陽極酸化被膜表面における平均径よりも大きい形状である場合、陽極酸化被膜の表面におけるマイクロポアの平均径は、１０ｎｍ～１００ｎｍであることが好ましく、耐汚れ性（放置払い性）の観点から、より好ましくは１３ｎｍを超え３０ｎｍである。底部の平均径は、２０ｎｍ～３００ｎｍであれば構わないが、好ましくは４０ｎｍ～２００ｎｍである。
また、陽極酸化被膜表面から深さ方向１０ｎｍ～１００ｎｍの部分の厚さは１０ｎｍ～５００ｎｍであれば好ましいが、耐傷性の観点から５０ｎｍ～３００ｎｍがより好ましい。

－その他の特性－
陽極酸化被膜２０の表面におけるマイクロポア２２の密度は、特に限定されないが、陽極酸化被膜の単位面積に対し、２００個／μｍ^２～２，０００個／μｍ^２であることが好ましく、２００個／μｍ^２～１，０００個／μｍ^２であることがより好ましい。
上記密度は、陽極酸化皮膜２０表面を倍率１５万倍の電界放出型走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）でＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポアの数を計測し、計測値の算術平均値として算出される。

陽極酸化被膜２０において、上記マイクロポア２２は、陽極酸化被膜の全面に分布していてもよいし、少なくとも一部に分布していてもよいが、全面に分布していることが好ましい。
マイクロポア２２は、陽極酸化皮膜表面２２に略垂直であることが好ましい。
また、マイクロポア２２は、個々が均一に近い状態で分布していることが好ましい。

〔態様３について；マイクロポアの平均径〕
図４Ａは、上記態様３の一実施形態を示す断面概略図である。
図４Ａにおいて、上記陽極酸化皮膜表面における上記マイクロポア２２の平均径Ｙ３が１０ｎｍ～３０ｎｍであり、内部の最大径の平均値Ｙ４が２０ｎｍ～３００ｎｍであり、上記内部の最大径の平均値Ｙ４が上記表面孔径上記陽極酸化皮膜表面における上記マイクロポアの平均径Ｙ３よりも大きい。
マイクロポア２２の深さＸ４は１０ｎｍを超え、３０ｎｍ以上であることが好ましく、７５ｎｍ以上であることがより好ましい。
上記マイクロポア２２の深さＸ４は、陽極酸化皮膜２０の断面をＦＥ－ＳＥＭで観察し（１５万倍）、得られた画像において、２５個のマイクロポアの深さを測定し、算術平均値として求められる。

上記陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポア２２の平均径Ｙ３は、１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることが好ましく、１１ｎｍ以上２５ｎｍ以下であることがより好ましく、１２ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
また、マイクロポア内部の最大径の平均値Ｙ４は、１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましく、１５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが更に好ましい。
陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポアの平均径Ｙ３に対する、マイクロポア２２の内部の最大径の平均値Ｙ４の割合は、１．２倍以上１０倍以下であることが好ましく、１．５倍以上８倍以下であることがより好ましく、２倍以上５倍以下であることが更に好ましい。
マイクロポア２２の平均径Ｙ３に対する、マイクロポア２２の内部の最大径の平均値Ｙ４の割合は、下記式１Ｂにより求められる値である。
式１Ｂ：（マイクロポア２２の内部の最大径の平均値Ｙ４）／（陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポア２２の平均径Ｙ３）

陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポアの平均径Ｙ３は、上述の態様１におけるＹ１と同様の方法により求められる
マイクロポア２２内部の最大径の平均値Ｙ４は、陽極酸化皮膜２０表面を倍率１５万倍のＦＥ－ＳＥＭでＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポア２２の径の最大値（直径）を測定し、算術平均値として求められる。なお、マイクロポア２２の深さが深い場合は、必要に応じて、陽極酸化皮膜２０上部を陽極酸化被膜と水平に切削し（例えば、アルゴンガスによって切削）、その後陽極酸化皮膜２０表面を上記ＦＥ－ＳＥＭで観察して、マイクロポア２２の底部の平均径Ｙ４を求めてもよい。
なお、マイクロポア２２の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。

態様３におけるマイクロポア２２の形状は特に限定されず、例えば、略直管状（略円柱状）、深さ方向（厚み方向）に向かって径が小さくなる円錐状、深さ方向（厚み方向）に向かって径が大きくなる逆円錐状、中央部の径が大きい円柱状、中央部の径が小さい円柱状等が挙げられ、略直管状が好ましい。マイクロポア２２の底部の形状は特に限定されず、曲面状（凹状）であっても、平面状であってもよい。
また、図４Ｂに示すように、直径が小さい円柱と、直径が大きい円柱とを組み合わせた形であってもよい。これらの円柱についても、略直管状、円錐状、逆円錐状、中央部の径が大きい円柱状、中央部の径が小さい円柱状であってもよく、略直管状が好ましい。図４に示す形状においても、マイクロポア２２の底部の形状は特に限定されず、曲面状（凹状）であっても、平面状であってもよい。

－その他の特性－
陽極酸化被膜２０の表面におけるマイクロポア２２の密度は、特に限定されないが、陽極酸化被膜の単位面積に対し、２００個／μｍ^２～２，０００個／μｍ^２であることが好ましく、２００個／μｍ^２～１，０００個／μｍ^２であることがより好ましい。
上記密度は、陽極酸化皮膜２０表面を倍率１５万倍の電界放出型走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）でＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポアの数を計測し、計測値の算術平均値として算出される。

陽極酸化被膜２０において、上記マイクロポア２２は、陽極酸化被膜の全面に分布していてもよいし、少なくとも一部に分布していてもよいが、全面に分布していることが好ましい。
マイクロポア２２は、陽極酸化皮膜表面２２に略垂直であることが好ましい。
また、マイクロポア２２は、個々が均一に近い状態で分布していることが好ましい。

〔アルミニウム支持体の製造方法〕
以下に、本開示に係る平版印刷版原版における陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法について説明する。
陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法は特に限定されないが、以下の工程を順番に実施する製造方法が好ましい。
（粗面化処理工程）アルミニウム板に粗面化処理を施す工程
（第１陽極酸化処理工程）粗面化処理されたアルミニウム板を陽極酸化する工程
（ポアワイド処理工程）第１陽極酸化処理工程で得られた陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させ、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる工程
（第２陽極酸化処理工程）ポアワイド処理工程で得られたアルミニウム板を陽極酸化する工程
（親水化処理工程）第２陽極酸化処理工程で得られたアルミニウム板に親水化処理を施す工程
以下に上記各工程について詳述する。なお、粗面化処理工程、親水化処理工程は、必要がなければ実施しなくてもよい。
上記製造方法によれば、上述の態様２に係るアルミニウム支持体が得られる。
第１陽極酸化処理工程から第２陽極酸化処理工程までを工程順に示す陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の模式的断面図を、図５に示す。

〔粗面化処理工程〕
粗面化処理工程は、アルミニウム板の表面に、電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理を施す工程である。粗面化処理工程は、後述する第１陽極酸化処理工程の前に実施されることが好ましいが、アルミニウム板の表面がすでに好ましい表面形状を有していれば、特に実施しなくてもよい。

粗面化処理は、電気化学的粗面化処理のみを施してもよいが、電気化学的粗面化処理と機械的粗面化処理及び／又は化学的粗面化処理とを組み合わせて施してもよい。
機械的粗面化処理と電気化学的粗面化処理とを組み合わせる場合には、機械的粗面化処理の後に、電気化学的粗面化処理を施すのが好ましい。
機械的粗面化処理は、例えば図８に示した装置を使って行われる。具体的には、例えば、パミスの懸濁液（比重１．１ｇ／ｃｍ³）を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行われる。図８において、１はアルミニウム板、２及び４はローラ状ブラシ（束植ブラシ等）、３は研磨スラリー液、５、６、７及び８は支持ローラである。

電気化学的粗面化処理は、硝酸や塩酸の水溶液中で施すのが好ましい。

機械的粗面化処理は、一般的には、アルミニウム板の表面を表面粗さＲａ：０．３５μｍ～１．０μｍとする目的で施される。
機械的粗面化処理の諸条件は特に限定されないが、例えば、特公昭５０－４００４７号公報に記載されている方法に従って施すことができる。機械的粗面化処理は、パミストン懸濁液を使用したブラシグレイン処理により施したり、転写方式で施したりすることができる。
化学的粗面化処理も特に限定されず、公知の方法に従って施すことができる。

機械的粗面化処理の後には、以下の化学エッチング処理を施すことが好ましい。
機械的粗面化処理の後に施される化学エッチング処理は、アルミニウム板の表面の凹凸形状のエッジ部分をなだらかにし、印刷時のインキの引っかかりを防止し、平版印刷版の耐汚れ性（放置払い性）を向上させるとともに、表面に残った研磨材粒子等の不要物を除去するために行われる。
化学エッチング処理としては、酸によるエッチングやアルカリによるエッチングが知られているが、エッチング効率の点で特に優れている方法として、アルカリ溶液を用いる化学エッチング処理（以下、「アルカリエッチング処理」ともいう。）が挙げられる。

アルカリ溶液に用いられるアルカリ剤は、特に限定されないが、例えば、カセイソーダ（水酸化ナトリウム）、カセイカリ、メタケイ酸ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、グルコン酸ソーダ等が好適に挙げられる。
アルカリ剤は、アルミニウムイオンを含有してもよい。アルカリ溶液の濃度は、０．０１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、また、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましい。
アルカリ溶液の温度は室温以上が好ましく、３０℃以上がより好ましく、また、８０℃以下が好ましく、７５℃以下がより好ましい。

エッチング量は、０．１ｇ／ｍ^２以上が好ましく、１ｇ／ｍ^２以上がより好ましく、また、２０ｇ／ｍ^２以下が好ましく、１０ｇ／ｍ^２以下がより好ましい。
処理時間は、エッチング量に対応して２秒～５分が好ましく、生産性向上の点から２秒～１０秒がより好ましい。

機械的粗面化処理後にアルカリエッチング処理を施した場合、アルカリエッチング処理により生じる生成物を除去するために、低温の酸性溶液を用いて化学エッチング処理（以下、「デスマット処理」ともいう。）を施すのが好ましい。
酸性溶液に用いられる酸は、特に限定されないが、例えば、硫酸、硝酸、塩酸が挙げられる。酸性溶液の濃度は、１質量％～５０質量％が好ましい。また、酸性溶液の温度、２０℃～８０℃が好ましい。酸性溶液の濃度及び温度がこの範囲であると、平版印刷版の耐汚れ性（放置払い性）がより向上する。

上記粗面化処理は、所望により機械的粗面化処理及び化学エッチング処理を施した後に、電気化学的粗面化処理を施す処理であるが、機械的粗面化処理を行わずに電気化学的粗面化処理を施す場合にも、電気化学的粗面化処理の前に、カセイソーダ等のアルカリ水溶液を用いて化学エッチング処理を施すことができる。これにより、アルミニウム板の表面近傍に存在する不純物等を除去することができる。

電気化学的粗面化処理は、アルミニウム板の表面に微細な凹凸（ピット）を付与することが容易であるため、印刷性の優れた平版印刷版を作製するのに適している。
電気化学的粗面化処理は、硝酸又は塩酸を主体とする水溶液中で、直流又は交流を用いて行われる。

電気化学的粗面化処理の後には、以下の化学エッチング処理を行うことが好ましい。電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板の表面には、スマットや金属間化合物が存在する。電気化学的粗面化処理の後に行われる化学エッチング処理においては、特にスマットを効率よく除去するため、まず、アルカリ溶液を用いて化学エッチング処理（アルカリエッチング処理）をすることが好ましい。アルカリ溶液を用いた化学エッチング処理の諸条件は、処理温度は２０℃～８０℃が好ましく、処理時間は１秒～６０秒が好ましい。アルカリ溶液中にアルミニウムイオンを含有することが好ましい。

電気化学的粗面化処理後にアルカリ溶液を用いる化学エッチング処理を行った後、それにより生じる生成物を除去するために、低温の酸性溶液を用いて化学エッチング処理（デスマット処理）を行うことが好ましい。
電気化学的粗面化処理後にアルカリエッチング処理を行わない場合においても、スマットを効率よく除去するため、デスマット処理を行うことが好ましい。

上述した化学エッチング処理は、浸せき法、シャワー法、塗布法等により行うことができ、特に限定されない。

〔第１陽極酸化処理工程〕
第１陽極酸化処理工程は、上述した粗面化処理が施されたアルミニウム板に陽極酸化処理を施すことにより、アルミニウム板表面に深さ方向（厚み方向）にのびるマイクロポアを有するアルミニウムの酸化皮膜を形成する工程である。この第１陽極酸化処理により、図５（Ａ）に示されるように、アルミニウム板３１の表面に、マイクロポア３３ａを有するアルミニウムの陽極酸化皮膜３２ａが形成される。

第１陽極酸化処理は、この分野で従来から行われている方法で行うことができるが、上述したマイクロポアを最終的に形成できるように適宜製造条件が設定される。
具体的には、第１陽極酸化処理工程において形成されるマイクロポア３３ａの平均径（平均開口径）は、４ｎｍ～１４ｎｍ程度であることが好ましく、より好ましくは５ｎｍ～１０ｎｍである。上記範囲内であれば、上述した所定の形状を有するマイクロポアが形成しやすく、得られる平版印刷版原版の性能もより優れる。
また、マイクロポア３３ａの深さは、６０ｎｍ～２００ｎｍ未満程度であることが好ましく、より好ましくは７０ｎｍ～１００ｎｍである。上記範囲内であれば、上述した所定の形状を有するマイクロポアが形成しやすく、得られる平版印刷版原版の性能もより優れる。

マイクロポア３３ａのポア密度は特に限定されないが、ポア密度が５０個／μｍ^２～４０００個／μｍ^２であることが好ましく、１００個／μｍ^２～３０００個／μｍ^２であることがより好ましい。上記範囲内であれば、得られる平版印刷版のＵＶ耐刷性及び放置払い性、並びに、平版印刷版原版の現像性に優れる。

第１陽極酸化処理工程により得られる陽極酸化皮膜の膜厚は、７０ｎｍ～３００ｎｍが好ましく、より好ましくは８０ｎｍ～１５０ｎｍである。上記範囲内であれば、得られる平版印刷版のＵＶ耐刷性、放置払い性、耐汚れ性（放置払い性）、並びに、平版印刷版原版の現像性に優れる。
第１陽極酸化処理工程により得られる陽極酸化皮膜の皮膜量は、０．１ｇ／ｍ^２～０．３ｇ／ｍ^２が好ましく、より好ましくは０．１２ｇ／ｍ^２～０．２５ｇ／ｍ^２である。上記範囲内であれば、得られる平版印刷版のＵＶ耐刷性、放置払い性、耐汚れ性（放置払い性）、並びに、平版印刷版原版の現像性に優れる。

第１陽極酸化処理工程においては、硫酸、シュウ酸、リン酸等の水溶液を主に電解浴として用いることができる。場合によっては、クロム酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等又はこれらの二種以上を組み合わせた水溶液又は非水溶液を用いることもできる。上記のような電解浴中でアルミニウム板に直流又は交流を流すと、アルミニウム板表面に陽極酸化皮膜を形成することができる。電解液の種類を変えると大きくポア径が変化する事が知られていて、大まかに言えば、硫酸電解液でのポア径＜シュウ酸電解液でのポア径＜リン酸電解液でのポア径である。
従って、電解液を交換して、２回処理したり、また、処理装置を２連、３連に繋げて、２段、３段に連続して処理を行って、陽極酸化皮膜構造にする事が可能である。
特開２００２－３６５７９１号公報に記載されているような方法で、リン酸電解液を使用して、陽極酸化皮膜の表面口部のポア径を維持したまま、底部のポアが大きい皮膜を得ることができる。

電解浴にはアルミニウムイオンが含まれていてもよい。アルミニウムイオンの含有量は特に限定されないが、１ｇ／Ｌ～１０ｇ／Ｌが好ましい。

陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって適宜設定されるが、一般的には、電解液の濃度が１質量％～８０質量％（好ましくは５質量％～２０質量％）、液温５℃～７０℃（好ましくは１０℃～６０℃）、電流密度０．５Ａ／ｄｍ^２～６０Ａ／ｄｍ^２（好ましくは５Ａ／ｄｍ^２～５０Ａ／ｄｍ^２）、電圧１Ｖ～１００Ｖ（好ましくは５Ｖ～５０Ｖ）、電解時間１秒～１００秒（好ましくは５秒～６０秒）の範囲が適当である。

上記陽極酸化処理のうちでも特に、英国特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている、硫酸中にて高電流密度で陽極酸化する方法が好ましい。

〔ポアワイド処理工程〕
ポアワイド処理工程は、上述した第１陽極酸化処理工程により形成された陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの径（ポア径）を拡大させる処理（孔径拡大処理）である。このポアワイド処理により、図５（Ｂ）に示されるように、マイクロポア３３ａの径が拡大され、より大きな平均径を有するマイクロポア３３ｂを有する陽極酸化皮膜３２ｂが形成される。
ポアワイド処理により、マイクロポア３３ｂの平均径は、１０ｎｍ～１００ｎｍ（好ましくは、１５ｎｍ～６０ｎｍ、より好ましくは、１８ｎｍ～４０ｎｍ）の範囲まで拡大される。マイクロポア３３ｂは、上述した大径孔部２４（図５（Ａ））に該当する部分となる。
ポアワイド処理により、マイクロポア３３ｂの表面からの深さは、上述した深さＡ（図３Ａ）と同程度となるように調整することが好ましい。

ポアワイド処理は、上述した第１陽極酸化処理工程により得られたアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させることにより行う。接触させる方法は、特に限定されず、例えば、浸せき法、スプレー法が挙げられる。中でも、浸せき法が好ましい。

ポアワイド処理工程においてアルカリ水溶液を使用する場合、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、及び水酸化リチウムから選ばれる少なくとも一つのアルカリ水溶液を用いることが好ましい。アルカリ水溶液の濃度は０．１質量％～５質量％が好ましい。
アルカリ水溶液のｐＨを１１～１３に調整した後、１０℃～７０℃（好ましくは２０℃～５０℃）の条件下で、アルミニウム板をアルカリ水溶液に１秒～３００秒（好ましくは１秒～５０秒）接触させることが適当である。
アルカリ処理液中に炭酸塩、硼酸塩、燐酸塩等の多価弱酸の金属塩を含んでもよい。

ポアワイド処理工程において酸水溶液を使用する場合、硫酸、リン酸、硝酸、塩酸等の無機酸又はこれらの混合物の水溶液を用いることが好ましい。酸水溶液の濃度は、１質量％～８０質量％が好ましく、より好ましくは５質量％～５０質量％である。
酸水溶液の液温５℃～７０℃（好ましくは１０℃～６０℃）の条件下で、アルミニウム板を酸水溶液に１秒～３００秒（好ましくは１秒～１５０秒）接触させることが適当である。
アルカリ水溶液又は酸水溶液中にはアルミニウムイオンが含まれていてもよい。アルミニウムイオンの含有量は特に限定されないが、１ｇ／Ｌ～１０ｇ／Ｌが好ましい。

〔第２陽極酸化処理工程〕
第２陽極酸化処理工程は、上述したポアワイド処理が施されたアルミニウム板に陽極酸化処理を施すことにより、深さ方向（厚み方向）にのびたマイクロポアを形成する工程である。この第２陽極酸化処理工程により、図５（Ｃ）に示されるように、深さ方向にのびたマイクロポア３３ｃを有する陽極酸化皮膜３２ｃが形成される。
第２陽極酸化処理工程によって、平均径が拡大されたマイクロポア３３ｂの底部に連通し、平均径がマイクロポア３３ｂ（大径孔部２４に該当）の平均径より小さく、連通位置から深さ方向にのびる新たな孔部が形成される。上記孔部が、上述した小径孔部２６に該当する。

第２陽極酸化処理工程においては、新たに形成される孔部の平均径が０より大きく２０ｎｍ未満で、大径孔部２０との連通位置からの深さが上述した所定範囲になるように処理が実施される。処理に使用される電解浴は上記の第１陽極酸化処理工程と同じであり、処理条件としては使用される材料に応じて適宜設定される。
陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって適宜設定されるが、一般的には、電解液の濃度が１質量％～８０質量％（好ましくは５質量％～２０質量％）、液温５℃～７０℃（好ましくは１０℃～６０℃）、電流密度０．５Ａ／ｄｍ^２～６０Ａ／ｄｍ^２（好ましくは１Ａ／ｄｍ^２～３０Ａ／ｄｍ^２）、電圧１Ｖ～１００Ｖ（好ましくは５Ｖ～５０Ｖ）、電解時間１秒～１００秒（好ましくは５秒～６０秒）の範囲が適当である。

第２陽極酸化処理工程により得られる陽極酸化皮膜の膜厚は、２００ｎｍ～２，０００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは７５０ｎｍ～１,５００ｎｍである。上記範囲内であれば、得られる平版印刷版のＵＶ耐刷性及び放置払い性に優れる。
第２陽極酸化処理工程により得られる陽極酸化皮膜の皮膜量は、２．２ｇ／ｍ^２～５．４ｇ／ｍ^２であることが好ましく、より好ましくは２．２ｇ／ｍ^２～４．０ｇ／ｍ^２である。上記範囲内であれば、得られる平版印刷版のＵＶ耐刷性及び放置払い性、並びに、平版印刷版原版の現像性、耐傷性に優れる。

第１陽極酸化処理工程により得られる陽極酸化皮膜の厚み（皮膜厚み１）と、第２陽極酸化処理工程により得られる陽極酸化皮膜の厚み（皮膜厚み２）との比（皮膜厚み１／皮膜厚み２）は、０．０１～０．１５が好ましく、０．０２～０．１０がより好ましい。上記範囲内であれば、平版印刷版用支持体の耐傷性に優れる。

上述した小径孔部２６（図５（Ａ）参照）の形状を製造するために、第２陽極酸化処理工程の処理中において、印加する電圧を段階的又は連続的に増加させてもよい。印加する電圧が増加することにより、形成される孔部の径が大きくなり、結果として上述した小径孔部２６のような形状が得られる。

〔第３陽極酸化処理工程〕
第２陽極酸化処理工程に続いて、第３陽極酸化処理工程を行ってもよい。
第３陽極酸化処理工程における陽極酸化処理は、第２陽極酸化処理工程と同様の方法により、液成分、電流密度、時間等を、求められる支持体表面の面状に応じて適宜設定することにより行えばよい。

〔親水化処理工程〕
陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法は、上述した極酸化処理工程の後、親水化処理を施す親水化処理工程を有していてもよい。親水化処理としては、特開２００５－２５４６３８号公報の段落０１０９～段落０１１４に開示される公知の方法が使用できる。

ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸漬させる方法等により、親水化処理を行うことが好ましい。

ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液による親水化処理は、米国特許第２，７１４，０６６号明細書及び米国特許第３，１８１，４６１号明細書に記載されている方法及び手順に従って行うことができる。

本開示の陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体としては、上記アルミニウム板に対して、以下のＡ～Ｄの態様に示す各処理を、以下に示す順に施して得られる支持体が好ましく、耐刷性の点から、特にＡ態様が好ましい。以下の各処理の間に水洗を行うことが望ましい。ただし、連続して行う２つの工程（処理）が同じ組成の液を使用する場合は水洗を省いてもよい。

〔Ａ態様〕
（２）アルカリ水溶液中で化学エッチング処理（第１アルカリエッチング処理）
（３）酸性水溶液中で化学エッチング処理（第１デスマット処理）
（４）塩酸又は硝酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理（第１電気化学的粗面化処理）
（５）アルカリ水溶液中で化学エッチング処理（第２アルカリエッチング処理）
（６）酸性水溶液中で化学エッチング処理（第２デスマット処理）
（７）塩酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理（第２電気化学的粗面化処理）
（８）アルカリ水溶液中で化学エッチング処理（第３アルカリエッチング処理）
（９）酸性水溶液中で化学エッチング処理（第３デスマット処理）
（１０）陽極酸化処理（第１陽極酸化処理（硫酸）、ポアワイド処理、第２陽極酸化処理（硫酸））
（１１）親水化処理
上記Ａ態様によれば、上述の態様２に係るアルミニウム支持体が得られる。

〔Ｂ態様〕
（２）アルカリ水溶液中で化学エッチング処理（第１アルカリエッチング処理）
（３）酸性水溶液中で化学エッチング処理（第１デスマット処理）
（１２）塩酸又は硝酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理
（５）アルカリ水溶液中で化学エッチング処理（第２アルカリエッチング処理）
（６）酸性水溶液中で化学エッチング処理（第２デスマット処理）
（１０）陽極酸化処理（第１陽極酸化処理（硫酸）、ポアワイド処理）
（１１）親水化処理
上記Ｂ態様によれば、上述の態様１に係るアルミニウム支持体が得られる。

〔Ｃ態様〕
（２）アルカリ水溶液中で化学エッチング処理（第１アルカリエッチング処理）
（３）酸性水溶液中で化学エッチング処理（第１デスマット処理）
（１２）塩酸又は硝酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理
（５）アルカリ水溶液中で化学エッチング処理（第２アルカリエッチング処理）
（６）酸性水溶液中で化学エッチング処理（第２デスマット処理）
（１０）陽極酸化処理（第１陽極酸化処理（リン酸）、第２陽極酸化処理（硫酸））
（１１）親水化処理
上記Ｃ態様によれば、上述の態様２に係るアルミニウム支持体が得られる。

〔Ｄ態様〕
（２）アルカリ水溶液中で化学エッチング処理（第１アルカリエッチング処理）
（３）酸性水溶液中で化学エッチング処理（第１デスマット処理）
（１２）塩酸又は硝酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理
（５）アルカリ水溶液中で化学エッチング処理（第２アルカリエッチング処理）
（６）酸性水溶液中で化学エッチング処理（第２デスマット処理）
（１０）陽極酸化処理（第１陽極酸化処理（リン酸））
（１１）親水化処理
上記Ｄ態様によれば、上述の態様３に係るアルミニウム支持体が得られる。

上記Ａ～Ｄの態様の（２）の処理の前に、必要に応じて、（１）機械的粗面化処理を実施してもよい。耐刷性などの観点からは、（１）の処理は各態様に含まれないほうが好ましい。
ここで、上記（１）～（１２）における機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理、化学エッチング処理、陽極酸化処理及び親水化処理は、上述した処理方法、条件と同様の方法で行うことができるが、以下に説明する処理方法、条件で施すことが好ましい。

機械的粗面化処理は、毛径が０．２ｍｍ～１．６１ｍｍの回転するナイロンブラシロールと、アルミニウム板表面に供給されるスラリー液で機械的に粗面化処理することが好ましい。研磨剤としては公知の物が使用できるが、珪砂、石英、水酸化アルミニウム又はこれらの混合物が好ましい。スラリー液の比重は１．０５～１．３が好ましい。勿論、スラリー液を吹き付ける方式、ワイヤーブラシを用いる方式、凹凸を付けた圧延ロールの表面形状をアルミニウム板に転写する方式などを用いてもよい。

アルカリ水溶液中での化学エッチング処理（第１～第３アルカリエッチング処理）に用いるアルカリ水溶液の濃度は１質量％～３０質量％が好ましく、アルミニウム及びアルミニウム合金中に含有する合金成分を０質量％～１０質量％含有していてよい。
アルカリ水溶液としては、特に苛性ソーダを主体とする水溶液が好ましい。液温は常温（２５℃）～９５℃で、１秒～１２０秒間処理することが好ましい。
エッチング処理が終了した後には、処理液を次工程に持ち込まないためにニップローラによる液切りとスプレーによる水洗を行うことが好ましい。

第１アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、０．５ｇ／ｍ^２～３０ｇ／ｍ^２が好ましく、１．０ｇ／ｍ^２～２０ｇ／ｍ^２がより好ましく、３．０ｇ／ｍ^２～１５ｇ／ｍ^２が更に好ましい。
第２アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、０．００１ｇ／ｍ^２～３０ｇ／ｍ^２が好ましく、０．１ｇ／ｍ^２～４ｇ／ｍ^２がより好ましく、０．２ｇ／ｍ^２～１．５ｇ／ｍ^２が更に好ましい。
第３アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、０．００１ｇ／ｍ^２～３０ｇ／ｍ^２が好ましく、０．０１ｇ／ｍ^２～０．８ｇ／ｍ^２がより好ましく、０．０２ｇ／ｍ^２～０．３ｇ／ｍ^２が更に好ましい。

酸性水溶液中で化学エッチング処理（第１～第３デスマット処理）では、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸、又はこれらの２以上の酸を含む混酸が好適に用いられる。酸性水溶液の濃度は０．５質量％～６０質量％が好ましい。酸性水溶液中にはアルミニウム及びアルミニウム合金中に含有する合金成分が０質量％～５質量％溶解していてもよい。
液温は常温から９５℃で実施され、処理時間は１秒～１２０秒が好ましい。デスマット処理が終了した後には、処理液を次工程に持ち込まないためにニップローラによる液切りとスプレーによる水洗を行うのが好ましい。

電気化学的粗面化処理に用いられる水溶液について説明する。
第１電気化学的粗面化処理で用いる硝酸を主体とする水溶液は、通常の直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液を使用でき、１ｇ／Ｌ～１００ｇ／Ｌの硝酸水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウムなどの硝酸イオン；塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウムなどの塩酸イオン；等を有する塩酸又は硝酸化合物の１つ以上を１ｇ／Ｌ～飽和濃度まで添加して使用することができる。
硝酸を主体とする水溶液中には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していてもよい。
具体的には、硝酸０．５質量％～２質量％水溶液中にアルミニウムイオンが３ｇ／Ｌ～５０ｇ／Ｌとなるように塩化アルミニウム、硝酸アルミニウムを添加した液を用いるのが好ましい。
液温は１０℃～９０℃が好ましく、４０℃～８０℃がより好ましい。

第２電気化学的粗面化処理で用いる塩酸を主体とする水溶液は、通常の直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液を使用でき、１ｇ／Ｌ～１００ｇ／Ｌの塩酸水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウムなどの硝酸イオン；塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウムなどの塩酸イオン；等を有する塩酸又は硝酸化合物の１つ以上を１ｇ／Ｌ～飽和まで添加して使用することができる。
塩酸を主体とする水溶液中には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していてもよい。
具体的には、塩酸０．５質量％～２質量％水溶液中にアルミニウムイオンが３ｇ／Ｌ～５０ｇ／Ｌとなるように塩化アルミニウム、硝酸アルミニウムを添加した液を用いるのが好ましい。
液温は１０℃～６０℃が好ましく、２０℃～５０℃がより好ましい。なお、次亜塩素酸を添加してもよい。

一方、Ｂ態様における塩酸水溶液中での電気化学的粗面化処理で用いる塩酸を主体とする水溶液は、通常の直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液を使用でき、１ｇ／Ｌ～１００ｇ／Ｌの塩酸水溶液に、硫酸を０ｇ／Ｌ～３０ｇ／Ｌ添加して使用することができる。この水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウムなどの硝酸イオン；塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウムなどの塩酸イオン；等を有する塩酸又は硝酸化合物の１つ以上を１ｇ／Ｌ～飽和まで添加して使用することができる。
塩酸を主体とする水溶液中には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していてもよい。
具体的には、硝酸０．５質量％～２質量％水溶液中に、アルミニウムイオンが３～５０ｇ／Ｌとなるように塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム等を添加した液を用いるのが好ましい。
液温は１０℃～６０℃が好ましく、２０℃～５０℃がより好ましい。なお、次亜塩素酸を添加してもよい。

電気化学的粗面化処理の交流電源波形は、サイン波、矩形波、台形波、三角波などを用いることができる。周波数は０．１Ｈｚ～２５０Ｈｚが好ましい。

陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフを図６に示す。
図６において、ｔａはアノード反応時間、ｔｃはカソード反応時間、ｔｐは電流が０からピークに達するまでの時間、Ｉａはアノードサイクル側のピーク時の電流、Ｉｃはカソードサイクル側のピーク時の電流である。台形波において、電流が０からピークに達するまでの時間ｔｐは１ｍｓ～１０ｍｓが好ましい。
電源回路のインピーダンスの影響のため、ｔｐが１以上であると電流波形の立ち上がり時必要な電源電圧が小さくなり、電源の設備コストの点から好ましい。１０ｍｓ以下であれば、電解液中の微量成分の影響を受けにくくなり均一な粗面化が行われやすくなる。
電気化学的な粗面化に用いる交流の１サイクルの条件は、アルミニウム板のアノード反応時間ｔａとカソード反応時間ｔｃの比ｔｃ／ｔａが１～２０、アルミニウム板がアノード時の電気量Ｑｃとアノード時の電気量Ｑａの比Ｑｃ／Ｑａが０．３～２０、アノード反応時間ｔａが５ｍｓ～１０００ｍｓ、の範囲にあるのが好ましい。ｔｃ／ｔａは２．５～１５がより好ましい。Ｑｃ／Ｑａは２．５～１５がより好ましい。電流密度は台形波のピーク値で電流のアノードサイクル側Ｉａ、カソードサイクル側Ｉｃともに１０Ａ／ｄｍ^２～２００Ａ／ｄｍ^２が好ましい。Ｉｃ／Ｉａは０．３～２０の範囲にあることが好ましい。電気化学的な粗面化が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和は２５Ｃ／ｄｍ^２～１，０００Ｃ／ｄｍ^２が好ましい。

交流を用いた電気化学的な粗面化に用いる電解槽は、縦型、フラット型、ラジアル型など公知の表面処理に用いる電解槽が使用可能であるが、特開平５－１９５３００号公報に記載されているようなラジアル型電解槽が特に好ましい。

交流を用いた電気化学的な粗面化には図７に示した装置を用いることができる。図７は、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。
図７において、５０は主電解槽、５１は交流電源、５２はラジアルドラムローラ、５３ａ，５３ｂは主極、５４は電解液供給口、５５は電解液、５６はスリット、５７は電解液通路、５８は補助陽極、６０は補助陽極槽、Ｗはアルミニウム板である。電解槽を２つ以上用いるときには、電解条件は同じでもよいし、異なっていてもよい。
アルミニウム板Ｗは主電解槽５０中に浸漬して配置されたラジアルドラムローラ５２に巻装され、搬送過程で交流電源５１に接続する主極５３ａ、５３ｂにより電解処理される。電解液５５は電解液供給口５４からスリット５６を通じてラジアルドラムローラ５２と主極５３ａ、５３ｂとの間の電解液通路５７に供給される。主電解槽５０で処理されたアルミニウム板Ｗは次いで補助陽極槽６０で電解処理される。補助陽極槽６０には補助陽極５８がアルミニウム板Ｗと対向配置されており、電解液５５が補助陽極５８とアルミニウム板Ｗとの間の空間を流れるように供給される。

支持体は、必要に応じて、画像記録層とは反対側の面に、特開平５－４５８８５号公報に記載の有機高分子化合物又は特開平６－３５１７４号公報に記載のケイ素のアルコキシ化合物等を含むバックコート層を有していてもよい。

＜下塗り層＞
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層（中間層と呼ばれることもある。）を有することが好ましい。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性の低下を抑制しながら現像性を向上させることに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合に、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ効果も有する。

下塗り層に用いられる化合物としては、支持体表面に吸着可能な吸着性基及び親水性基を有するポリマーが挙げられる。画像記録層との密着性を向上させるために吸着性基及び親水性基を有し、更に架橋性基を有するポリマーが好ましい。下塗り層に用いられる化合物は、低分子化合物でもポリマーであってもよい。下塗り層に用いられる化合物は、必要に応じて、２種以上を混合して使用してもよい。

下塗り層に用いられる化合物がポリマーである場合、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。
支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、－ＰＯ_３Ｈ_２、－ＯＰＯ_３Ｈ_２、－ＣＯＮＨＳＯ_２－、－ＳＯ_２ＮＨＳＯ_２－、－ＣＯＣＨ_２ＣＯＣＨ_３が好ましい。親水性基としては、スルホ基又はその塩、カルボキシ基の塩が好ましい。架橋性基としては、アクリル基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリル基などが好ましい。
ポリマーは、ポリマーの極性置換基と、上記極性置換基と対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。

具体的には、特開平１０－２８２６７９号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平２－３０４４４１号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が好適に挙げられる。特開２００５－２３８８１６号、特開２００５－１２５７４９号、特開２００６－２３９８６７号、特開２００６－２１５２６３号の各公報に記載の架橋性基（好ましくは、エチレン性不飽和結合基）、支持体表面と相互作用する官能基及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物も好ましく用いられる。
より好ましいものとして、特開２００５－１２５７４９号公報及び特開２００６－１８８０３８号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。

下塗り層に用いられるポリマー中のエチレン性不飽和結合基の含有量は、ポリマー１ｇ当たり、好ましくは０．１ｍｍｏｌ～１０．０ｍｍｏｌ、より好ましくは０．２ｍｍｏｌ～５．５ｍｍｏｌである。
下塗り層に用いられるポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、５，０００以上が好ましく、１万～３０万がより好ましい。

下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時による汚れ防止のため、キレート剤、第二級又は第三級アミン、重合禁止剤、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基と支持体表面と相互作用する基とを有する化合物（例えば、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、２，３，５，６－テトラヒドロキシ－ｐ－キノン、クロラニル、スルホフタル酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸など）等を含有してもよい。

下塗り層は、公知の方法で塗布される。下塗り層の塗布量（固形分）は、０．１ｍｇ／ｍ^２～１００ｍｇ／ｍ^２が好ましく、１ｍｇ／ｍ^２～３０ｍｇ／ｍ^２がより好ましい。

＜オーバーコート層＞
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層の、支持体側とは反対の側の面上にオーバーコート層（「保護層」と呼ばれることもある。）を有していてもよい。
上記オーバーコート層の膜厚は、上記画像記録層の膜厚よりも厚いことが好ましい。
オーバーコート層は酸素遮断により画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止及び高照度レーザー露光時のアブレーション防止の機能を有することが好ましい。

このような特性のオーバーコート層については、例えば、米国特許第３，４５８，３１１号明細書及び特公昭５５－４９７２９号公報に記載されている。オーバーコート層に用いられる酸素低透過性のポリマーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて２種類以上を混合して使用することもできるが、機上現像性の観点から、水溶性ポリマーを含むことが好ましい。
本開示において、水溶性ポリマーとは、７０℃、１００ｇの純水に対して１ｇ以上溶解し、かつ、７０℃、１００ｇの純水に対して１ｇのポリマーが溶解した溶液を２５℃に冷却しても析出しないポリマーをいう。
オーバーコート層において用いられる水溶性ポリマーとしては、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリエチレングリコール、ポリ（メタ）アクリロニトリル等が挙げられる。
変性ポリビニルアルコールとしてはカルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開２００５－２５０２１６号公報及び特開２００６－２５９１３７号公報に記載の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。

上記水溶性ポリマーの中でも、ポリビニルアルコールを含むことが好ましく、けん化度が５０％以上であるポリビニルアルコールを含むことが更に好ましい。
上記けん化度は、６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましく、８５％以上が更に好ましい。けん化度の上限は特に限定されず、１００％以下であればよい。
上記けん化度は、ＪＩＳ Ｋ ６７２６：１９９４に記載の方法に従い測定される。
また、オーバーコート層の一態様として、ポリビニルアルコールと、ポリエチレングリコールとを含む態様も好ましく挙げられる。

本開示におけるオーバーコート層が水溶性ポリマーを含む場合、オーバーコート層の全質量に対する水溶性ポリマーの含有量は、１質量％～９９質量％であることが好ましく、３質量％～９７質量％であることがより好ましく、５質量％～９５質量％であることが更に好ましい。

オーバーコート層は、疎水性ポリマーを含むことが好ましい。
疎水性ポリマーとは、１２５℃、１００ｇの純水に対し５ｇ未満で溶解するか、又は、溶解しないポリマーをいう。
疎水性ポリマーとしては、例えば、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル（例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル等）、これらの樹脂の原料モノマーを組み合わせた共重合体等が挙げられる。
また、疎水性ポリマーとしては、ポリビニリデンクロライド樹脂を含むことが好ましい。
更に、疎水性ポリマーとしては、スチレン－アクリル共重合体（スチレンアクリル樹脂ともいう。）を含むことが好ましい。
更にまた、疎水性ポリマーは、機上現像性の観点から、疎水性ポリマー粒子であることが好ましい。

疎水性ポリマーは、１種単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。

オーバーコート層が疎水性ポリマーを含む場合、疎水性ポリマーの含有量は、オーバーコート層の全質量に対して、１質量％～７０質量％であることが好ましく、５質量％～５０質量％であることがより好ましく、１０質量％～４０質量％であることが更に好ましい。

本開示において、疎水性ポリマーのオーバーコート層表面における占有面積率が３０面積％以上であることが好ましく、４０面積％以上であることがより好ましく、５０面積％以上であることが更に好ましい。
疎水性ポリマーのオーバーコート層表面における占有面積率の上限としては、例えば、９０面積％が挙げられる。
疎水性ポリマーのオーバーコート層表面における占有面積率は、以下のようにして測定することができる。
アルバック・ファイ社製ＰＨＩ ｎａｎｏ ＴＯＦII型飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）を用い、オーバーコート層表面に加速電圧３０ｋＶでＢｉイオンビーム（一次イオン）を照射し、表面から放出される疎水部（即ち、疎水性ポリマーによる領域）に相当するイオン（二次イオン）のピークを測定することで、疎水部のマッピングを行い、１μｍ^２あたりに占める疎水部の面積を測定し、疎水部の占有面積率を求め、これを「疎水性ポリマーのオーバーコート層表面における占有面積率」とする。
例えば、疎水性ポリマーがアクリル樹脂である場合は、Ｃ_６Ｈ_１３Ｏ^－のピークにより測定を行う。また、疎水性ポリマーがポリ塩化ビニリデンである場合は、Ｃ_２Ｈ_２Ｃｌ^＋のピークにより測定を行う。
上記占有面積率は、疎水性ポリマーの添加量等によって、調整しうる。

オーバーコート層は、露光部の視認性を高める観点から、発色体前駆体を含むことが好ましい。
発色体前駆体としては、画像記録層において上述したものが好適に挙げられる。
オーバーコート層が発色体前駆体を含むことで、後述する、平版印刷版原版における明度変化ΔＬを２．０以上とすることが容易になる。

ここで、本開示に係る平版印刷版原版は、露光部の視認性を高める観点から、エネルギー密度１１０ｍＪ／ｃｍ^２にて波長８３０ｎｍの赤外線による露光を行った場合の、露光前後の明度変化ΔＬが、２．０以上であることが好ましい。
上記明度変化ΔＬは、３．０以上であることがより好ましく、５．０以上であることが更に好ましく、８．０以上であることが特に好ましく、１０．０以上であることが最も好ましい。
明度変化ΔＬの上限としては、例えば、２０．０が挙げられる。

明度変化ΔＬの測定は、以下の方法により行う。
平版印刷版原版を、波長８３０ｎｍの赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム グラフィックシステムズ（株）製Ｌｕｘｅｌ ＰＬＡＴＥＳＥＴＴＥＲ Ｔ－９８００により、出力９９．５％、外面ドラム回転数２２０ｒｐｍ、解像度２，４００ｄｐｉ（dots per inch、1inch＝２５．４ｍｍ）の条件（エネルギー密度１１０ｍＪ／ｃｍ^２）で露光する。露光は２５℃、５０％ＲＨの環境下で行う。
露光前後の平版印刷版原版の明度変化を測定する。
測定には、Ｘ－Ｒｉｔｅ社製分光測色計ｅＸａｃｔを用いる。Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系のＬ^＊値（明度）を用い、露光後の画像記録層のＬ^＊値と露光前の画像記録層のＬ^＊値との差の絶対値を明度変化ΔＬとする。

発色体前駆体は、１種単独で用いてもよいし、２種類以上の成分を組み合わせて使用してもよい。
オーバーコート層中の発色体前駆体の含有量は、発色性の観点から、オーバーコート層の全質量に対し、０．１０質量％～５０質量％が好ましく、０．５０質量％～３０質量％がより好ましく、１．０質量％～２０質量％が更に好ましい。

上記オーバーコート層の上記発色体前駆体の含有量Ｍ^Ｘと上記画像記録層の上記赤外線吸収剤の含有量Ｍ^Ｙとの比Ｍ^Ｘ／Ｍ^Ｙが、発色性の観点から、０．１以上であることが好ましく、０．２以上がより好ましく、０．３以上３．０以下が特に好ましい。

オーバーコート層は、酸素遮断性を高めるために無機層状化合物を含有してもよい。無機層状化合物は、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、天然雲母、合成雲母等の雲母群、式：３ＭｇＯ・４ＳｉＯ・Ｈ_２Ｏで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウム等が挙げられる。
好ましく用いられる無機層状化合物は雲母化合物である。雲母化合物としては、例えば、式：Ａ（Ｂ，Ｃ）_２－５Ｄ_４Ｏ_１０（ＯＨ，Ｆ，Ｏ）_２〔ただし、Ａは、Ｋ、Ｎａ、Ｃａのいずれか、Ｂ及びＣは、Ｆｅ（ＩＩ）、Ｆｅ（ＩＩＩ）、Ｍｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｖのいずれかであり、Ｄは、Ｓｉ又はＡｌである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群が挙げられる。

雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げられる。合成雲母としてはフッ素金雲母ＫＭｇ_３（ＡｌＳｉ_３Ｏ_１０）Ｆ_２、カリ四ケイ素雲母ＫＭｇ_２．５Ｓｉ_４Ｏ_１０）Ｆ_２等の非膨潤性雲母、及び、ＮａテトラシリリックマイカＮａＭｇ_２．５（Ｓｉ_４Ｏ_１０）Ｆ_２、Ｎａ又はＬｉテニオライト（Ｎａ，Ｌｉ）Ｍｇ_２Ｌｉ（Ｓｉ_４Ｏ_１０）Ｆ_２、モンモリロナイト系のＮａ又はＬｉヘクトライト（Ｎａ，Ｌｉ）_１／８Ｍｇ_２／５Ｌｉ_１／８（Ｓｉ_４Ｏ_１０）Ｆ_２等の膨潤性雲母等が挙げられる。更に合成スメクタイトも有用である。

上記の雲母化合物の中でも、フッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、膨潤性合成雲母は、１０Å～１５Å（１Å＝０．１ｎｍ）程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘土鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にＬｉ^＋、Ｎａ^＋、Ｃａ^２＋、Ｍｇ^２＋等の陽イオンを吸着している。これらの層間に介在している陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換し得る。特に、層間の陽イオンがＬｉ^＋、Ｎａ^＋の場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、特に好ましく用いられる。

雲母化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きい程よい。従って、アスペクト比は、好ましくは２０以上であり、より好ましくは１００以上、特に好ましくは２００以上である。アスペクト比は粒子の厚さに対する長径の比であり、例えば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。

雲母化合物の粒子径は、その平均長径が、好ましくは０．３μｍ～２０μｍ、より好ましくは０．５μｍ～１０μｍ、特に好ましくは１μｍ～５μｍである。粒子の平均の厚さは、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０５μｍ以下、特に好ましくは０．０１μｍ以下である。具体的には、例えば、代表的化合物である膨潤性合成雲母の場合、好ましい態様としては、厚さが１ｎｍ～５０ｎｍ程度、面サイズ（長径）が１μｍ～２０μｍ程度である。

無機層状化合物の含有量は、オーバーコート層の全質量に対して、１質量％～６０質量％が好ましく、３質量％～５０質量％がより好ましい。複数種の無機層状化合物を併用する場合でも、無機層状化合物の合計量が上記の含有量であることが好ましい。上記範囲で酸素遮断性が向上し、良好な感度が得られる。また、着肉性の低下を防止できる。

オーバーコート層は可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御するための無機粒子など公知の添加物を含有してもよい。また、画像記録層において記載した感脂化剤をオーバーコート層に含有させてもよい。

オーバーコート層は公知の方法で塗布される。オーバーコート層の塗布量（固形分）は、０．０１ｇ／ｍ^２～１０ｇ／ｍ^２が好ましく、０．０２ｇ／ｍ^２～３ｇ／ｍ^２がより好ましく、０．０２ｇ／ｍ^２～１ｇ／ｍ^２が特に好ましい。
本開示に係る平版印刷版原版におけるオーバーコート層の膜厚は、０．１μｍ～５．０μｍであることが好ましく、０．３μｍ～４．０μｍであることがより好ましい。
本開示に係る平版印刷版原版におけるオーバーコート層の膜厚は、上記画像記録層の膜厚に対し、１．１倍～５．０倍であることが好ましく、１．５倍～３．０倍であることがより好ましい。

本開示に係る平版印刷版原版は、上述した以外のその他の層を有していてもよい。
その他の層としては、特に制限はなく、公知の層を有することができる。例えば、支持体の画像記録層側とは反対側には、必要に応じてバックコート層が設けられていてもよい。

（平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法）
本開示に係る平版印刷版原版を画像露光して現像処理を行うことで平版印刷版を作製することができる。
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る機上現像型平版印刷版原版を、画像様に露光する工程（以下、「露光工程」ともいう。）と、印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程（以下、「機上現像工程」ともいう。）と、を含むことが好ましい。
本開示に係る平版印刷方法は、本開示に係る機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程（露光工程）と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程（機上現像工程）と、得られた平版印刷版により印刷する工程（印刷工程）と、を含むことが好ましい。
以下、本開示に係る平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法について、各工程の好ましい態様を順に説明する。なお、本開示に係る平版印刷版原版は、現像液によっても現像可能である。
以下、平版印刷版の作製方法における露光工程及び機上現像工程について説明するが、本開示に係る平版印刷版の作製方法における露光工程と、本開示に係る平版印刷方法における露光工程とは同様の工程であり、本開示に係る平版印刷版の作製方法における機上現像工程と、本開示に係る平版印刷方法における機上現像工程とは同様の工程である。

＜露光工程＞
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程を含むことが好ましい。本開示に係る平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光されることが好ましい。
光源の波長は７５０ｎｍ～１，４００ｎｍが好ましく用いられる。７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。赤外線レーザーに関しては、出力は１００ｍＷ以上であることが好ましく、１画素当たりの露光時間は２０マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は１０ｍＪ／ｃｍ^２～３００ｍＪ／ｃｍ^２であるのが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、及びフラットベッド方式等のいずれでもよい。
画像露光は、プレートセッターなどを用いて常法により行うことができる。機上現像の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光を行ってもよい。

＜機上現像工程＞
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する機上現像工程を含むことが好ましい。
以下に、機上現像方式について説明する。

〔機上現像方式〕
機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で油性インキと水性成分とを供給し、非画像部の画像記録層が除去されて平版印刷版が作製されることが好ましい。
すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、何らの現像処理を施すことなくそのまま印刷機に装着するか、あるいは、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、油性インキと水性成分とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された油性インキ及び水性成分のいずれか又は両方によって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、油性インキでもよく、水性成分でもよいが、水性成分が除去された画像記録層の成分によって汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給することが好ましい。このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキ及び湿し水が好適に用いられる。

上記本開示に係る平版印刷版原版を画像露光するレーザーとしては、光源の波長は３００ｎｍ～４５０ｎｍ又は７５０ｎｍ～１，４００ｎｍが好ましく用いられる。３００ｎｍ～４５０ｎｍの光源の場合は、この波長領域に吸収極大を有する増感色素を画像記録層に含有する平版印刷版原版が好ましく用いられ、７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの光源は上述したものが好ましく用いられる。３００ｎｍ～４５０ｎｍの光源としては、半導体レーザーが好適である。

＜印刷工程＞
本開示に係る平版印刷方法は、平版印刷版に印刷インキを供給して記録媒体を印刷する印刷工程を含む。
印刷インキとしては、特に制限はなく、所望に応じ、種々の公知のインキを用いることができる。また、印刷インキとしては、油性インキ又は紫外線硬化型インキ（ＵＶインキ）が好ましく挙げられる。
また、上記印刷工程においては、必要に応じ、湿し水を供給してもよい。
また、上記印刷工程は、印刷機を停止することなく、上記機上現像工程に連続して行われてもよい。
記録媒体としては、特に制限はなく、所望に応じ、公知の記録媒体を用いることができる。

本開示に係る平版印刷版原版からの平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法においては、必要に応じて、露光前、露光中、露光から現像までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。このような加熱により、画像記録層中の画像形成反応が促進され、感度及び耐刷性の向上や感度の安定化等の利点が生じ得る。現像前の加熱は１５０℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。上記態様であると、非画像部が硬化してしまう等の問題を防ぐことができる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用することが好ましく、１００℃～５００℃の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、十分な画像強化作用が得られまた、支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を抑制することができる。

以下、実施例により本開示を詳細に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。なお、本実施例において、「％」、「部」とは、特に断りのない限り、それぞれ「質量％」、「質量部」を意味する。なお、高分子化合物において、特別に規定したもの以外は、分子量は重量平均分子量（Ｍｗ）であり、構成繰り返し単位の比率はモル百分率である。また、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリスチレン換算値として測定した値である。

＜支持体の作製＞
＜＜表面処理Ａ＞＞
（Ａ－ａ）機械的粗面化処理（ブラシグレイン法）
図８に示したような装置を使って、パミスの懸濁液（比重１．１ｇ／ｃｍ^３）を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。図８において、１はアルミニウム板、２及び４はローラ状ブラシ（本実施例において、束植ブラシ）、３は研磨スラリー液、５、６、７及び８は支持ローラである。
機械的粗面化処理は、研磨材のメジアン径（μｍ）を３０μｍ、ブラシ本数を４本、ブラシの回転数（ｒｐｍ）を２５０ｒｐｍとした。束植ブラシの材質は６・１０ナイロンで、ブラシ毛の直径０．３ｍｍ、毛長５０ｍｍであった。ブラシは、φ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の２本の支持ローラ（φ２００ｍｍ）の距離は３００ｍｍであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して１０ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。

（Ａ－ｂ）アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、１０ｇ／ｍ^２であった。

（Ａ－ｃ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は３５℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。

（Ａ－ｄ）電気化学的粗面化処理
硝酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度３５℃、硝酸１０．４ｇ／Ｌの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。交流電源波形は図６に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図７に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ^２、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。電気量（Ｃ／ｄｍ^２）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で１８５Ｃ／ｄｍ^２であった。その後、スプレーによる水洗を行った。

（Ａ－ｅ）アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．５ｇ／ｍ^２であった。

（Ａ－ｆ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌの液を用いた。その液温は、３０℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。

（Ａ－ｇ）電気化学的粗面化処理
塩酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。電解液は、液温３５℃、塩酸６．２ｇ／Ｌの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。交流電源波形は図６に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図７に示すものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ^２であり、塩酸電解における電気量（Ｃ／ｄｍ^２）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で６３Ｃ／ｄｍ^２であった。その後、スプレーによる水洗を行った。

（Ａ－ｈ）アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．１ｇ／ｍ^２であった。

（Ａ－ｉ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。具体的には、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５ｇ／Ｌを溶解）を用い、液温３５℃で４秒間デスマット処理を行った。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。

（Ａ－ｊ）第１段階の陽極酸化処理
図９に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。表１に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。 なお、陽極酸化処理装置６１０において、アルミニウム板６１６は、図９中矢印で示すように搬送される。電解液６１８が貯溜された給電槽６１２にてアルミニウム板６１６は給電電極６２０によって（＋）に荷電される。そして、アルミニウム板６１６は、給電槽６１２においてローラ６２２によって上方に搬送され、ニップローラ６２４によって下方に方向変換された後、電解液６２６が貯溜された電解処理槽６１４に向けて搬送され、ローラ６２８によって水平方向に方向転換される。ついで、アルミニウム板６１６は、電解電極６３０によって（－）に荷電されることにより、その表面に陽極酸化皮膜が形成され、電解処理槽６１４を出たアルミニウム板６１６は後工程に搬送される。陽極酸化処理装置６１０において、ローラ６２２、ニップローラ６２４及びローラ６２８によって方向転換手段が構成され、アルミニウム板６１６は、給電槽６１２と電解処理槽６１４との槽間部において、上記ローラ６２２、６２４及び６２８により、山型及び逆Ｕ字型に搬送される。給電電極６２０と電解電極６３０とは、直流電源６３４に接続されている。

（Ａ－ｋ）ポアワイド処理
上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度３５℃、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液に表１に示す条件にて浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。

（Ａ－ｌ）第２段階の陽極酸化処理
図９に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第２段階の陽極酸化処理を行った。表１に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。

（Ａ－ｍ）第３段階の陽極酸化処理
図９に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第３段階の陽極酸化処理を行った。表１に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。

＜＜表面処理Ｂ＞＞：
〔大径孔部及び小径孔部を有する支持体〕
（Ｂ－ａ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ（水酸化ナトリウム）濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、１．０ｇ／ｍ^２であった。

（Ｂ－ｂ）酸性水溶液中でのデスマット処理（第１デスマット処理）
次に、酸性水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸１５０ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は３０℃であった。デスマット液はスプレーにより吹き付けて、３秒間デスマット処理した。その後、水洗処理を行った。

（Ｂ－ｃ）塩酸水溶液中での電気化学的粗面化処理
次に、塩酸濃度１４ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度１３ｇ／Ｌ、硫酸濃度３ｇ／Ｌの電解液を用い、交流電流を用いて電解粗面化処理を行った。電解液の液温は３０℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は５０Ｈｚ、交流電流１周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は１：１、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で７５Ａ／ｄｍ^２であった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で４５０Ｃ／ｄｍ^２であり、電解処理は１２５Ｃ／ｄｍ^２ずつ４秒間の通電間隔を開けて４回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。

（Ｂ－ｄ）アルカリエッチング処理
電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板を、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度４５℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量は０．２ｇ／ｍ^２であった。その後、水洗処理を行った。

（Ｂ－ｅ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、酸性水溶液中でのデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５．０ｇ／Ｌ溶解）を用いた。液温は３０℃であった。デスマット液はスプレーに吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。

（Ｂ－ｆ）第１段階の陽極酸化処理
図９に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。表１に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。

（Ｂ－ｇ）ポアワイド処理
上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度３５℃、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液に表１に示す条件にて浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。

（Ｂ－ｈ）第２段階の陽極酸化処理
図９に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第２段階の陽極酸化処理を行った。表１に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。

以上の表面処理Ａ又はＢから、表１及び表２に記載の支持体Ｓ１～Ｓ６を得た。
上記で得られた第２陽極酸化処理工程後のマイクロポアを有する陽極酸化皮膜中の大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径（ｎｍ）、小径孔部の連通位置における平均径（ｎｍ）、大径孔部及び小径孔部の深さ（ｎｍ）、ピット密度（マイクロポアの密度、単位；個／μｍ^２）、並びに、小径孔部の底部からアルミニウム板表面までの陽極酸化皮膜の厚み（ｎｍ）を、表２にまとめて示す。
なお、マイクロポアの平均径（大径孔部及び小径孔部の平均径）は、大径孔部表面及び小径孔部表面を倍率１５万倍のＦＥ－ＳＥＭでＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポア（大径孔部及び小径孔部）の径を測定し、平均した値である。なお、大径孔部の深さが深く、小径孔部の径が測定しづらい場合、及び、小径孔部中の拡径孔部の測定を行う場合は、陽極酸化皮膜上部を切削し、その後各種径を求めた。
マイクロポアの深さ（大径孔部及び小径孔部の深さ）は、支持体（陽極酸化皮膜）の断面をＦＥ－ＳＥＭで観察し（大径孔部深さ観察：１５万倍、小径孔部深さ観察：５万倍）、得られた画像において、任意のマイクロポア２５個の深さを測定し、平均した値である。
なお、表１中、第１陽極酸化処理欄の皮膜量（ＡＤ）量と第２陽極酸化処理欄の皮膜量（ＡＤ）とは、各処理で得られた皮膜量を表す。なお、使用される電解液は、表１中の成分を含む水溶液である。

（実施例１～２３、及び、比較例１）
＜平版印刷版原版の形成＞
表３に記載の支持体上に、下記組成の下塗り液１又は２を乾燥塗布量が９２ｍｇ／ｍ^２になるよう塗布し、１００℃３０秒間オーブンで乾燥し、下塗り層を有する支持体を作製した。
下塗り層上に、下記画像記録層塗布液（１）をバー塗布し、１００℃で６０秒間オーブン乾燥して乾燥塗布量０．９０ｇ／ｍ^２（膜厚＝約０．９μｍ）の画像記録層を形成し、平版印刷版原版を得た。
更にその後、画像記録層上に、表３又は表４に記載の下記組成の保護層塗布液をバー塗布し、１２０℃で６０秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量が後述の各保護層塗布液に記載の量になるように保護層を形成し、機上現像型平版印刷版原版を作製した。

〔下塗り液１の組成〕
・下塗り層用化合物（Ｐ－１）：０．１０５部
・グルコン酸ナトリウム：０．０７００部
・界面活性剤（エマレックス７１０、日本エマルジョン（株）製）：０．００１５９部
・防腐剤（バイオホープＬ、ケイ・アイ化成（株）製）：０．００１４９部
・水：２．８５１９部

〔下塗り液２の組成〕
・下塗り層用化合物（Ｐ－１）：０．１０５部
・キレスト４００（キレスト（株）製）：０．０７００部
・界面活性剤（エマレックス７１０、日本エマルジョン（株）製）：０．００１５９部
・防腐剤（バイオホープＬ、ケイ・アイ化成（株）製）：０．００１４９部
・水：２．８５１９部

－下塗り化合物（Ｐ－１）の合成－
＜＜モノマーＭ－１の精製＞＞
ライトエステル Ｐ－１Ｍ（２－メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、共栄社化学（株）製）４２０部、ジエチレングリコールジブチルエーテル１，０５０部及び蒸留水１，０５０部を分液ロートに加え、激しく撹拌した後静置した。上層を廃棄した後、ジエチレングリコールジブチルエーテル１，０５０部を加え、激しく撹拌した後静置した。上層を廃棄してモノマーＭ－１の水溶液（固形分換算１０．５質量％）を１，３００部得た。

＜画像記録層塗布液（１）の組成＞
・表３又は表４に記載の赤外線吸収剤：表３又は表４に記載の量
・表３又は表４に記載の発色体前駆体：表３又は表４に記載の量
・表３又は表４に記載の電子受容型重合開始剤：表３又は表４に記載の量
・表３又は表４に記載のボレート化合物（電子供与性重合開始剤）：表３又は表４に記載の量
・表３又は表４に記載のバインダーポリマー：表３又は表４に記載の量
・表３又は表４に記載の重合性化合物：表３又は表４に記載の量
・表３又は表４に記載の感脂化剤：表３又は表４に記載の量
・アニオン界面活性剤（Ａ－１、下記化合物）：表３又は表４に記載の量
・フッ素系界面活性剤（Ｗ－１、下記化合物）：４．１６部
・２－ブタノン：４，９２０部
・１－メトキシ－２－プロパノール：３，１００部
・メタノール：２，７９０部
・表３又は表４に記載のポリマー粒子：表３又は表４に記載の量

〔赤外線吸収剤〕
ＩＲ－１：下記構造の化合物、ＨＯＭＯ＝－５．３５ｅＶ
ＩＲ－２：下記構造の化合物、ＨＯＭＯ＝－５．３５ｅＶ
ＩＲ－３：下記構造の化合物、ＨＯＭＯ＝－５．３５ｅＶ
ＩＲ－４：下記構造の化合物、ＨＯＭＯ＝－５．２０ｅＶ
ＩＲ－５：下記構造の化合物、ＨＯＭＯ＝－５．４３ｅＶ
ＩＲ－６：下記構造の化合物、ＨＯＭＯ＝－５．３４ｅＶ
ＩＲ－７：下記構造の化合物、ＨＯＭＯ＝－５．３４ｅＶ

〔発色体前駆体〕
Ｓ－１～Ｓ－１２：下記化合物
Ｃ－１：下記化合物

〔電子受容型重合開始剤〕
ＩＡ－１：下記構造の化合物
ＩＡ－２：下記構造の化合物
ＩＡ－３：下記構造の化合物
ＩＡ－４：下記構造の化合物

〔バインダーポリマー〕
＜バインダーポリマー（６）（バインダーポリマーＰ－１）の合成＞
三口フラスコに、１－メトキシ－２－プロパノール：７８．０部を秤取り、窒素気流下、７０℃に加熱した。この反応容器に、ブレンマーＰＭＥ－１００（メトキシジエチレングリコールモノメタクリレート、日本油脂（株）製）：５２．１部、メチルメタクリレート：２１．８部、メタクリル酸：１４．２部、ヘキサキス（３－メルカプトプロピオン酸）ジペンタエリスリトール：２．１５部、Ｖ－６０１（２，２’－アゾビス（イソ酪酸）ジメチル、和光純薬工業（株）製）：０．３８部、１－メトキシ－２－プロパノール：５４部からなる混合溶液を２時間３０分かけて滴下した。滴下終了後、８０℃に昇温し、更に２時間反応を続けた。Ｖ－６０１：０．０４部、１－メトキシ－２－プロパノール：４部からなる混合溶液を加え、９０℃に昇温して２．５時間反応を続けた。反応終了後、室温まで反応液を冷却した。
上記の反応溶液に１－メトキシ－２－プロパノール：１３７．２部、４－ヒドロキシテトラメチルピペリジン－Ｎ－オキシド：０．２４部、グリシジルメタクリレート：２６．０部、テトラエチルアンモニウムブロミド：３．０部を加えてよく撹拌した後、９０℃にて加熱した。
１８時間後、室温（２５℃）まで反応溶液を冷却した後、１－メトキシ－２－プロパノール：９９．４部を加えて希釈した。
こうして得られたバインダーポリマー（６）（バインダーポリマーＰ－１）は、固形分濃度：２３質量％、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算重量平均分子量は３．５万であった。

＜バインダーポリマー（７）（バインダーポリマーＰ－２）の合成＞
三口フラスコに、１－メトキシ－２－プロパノール：７８．００部を秤取り、窒素気流下、７０℃に加熱した。この反応容器に、ブレンマーＰＭＥ－１００（メトキシジエチレングリコールモノメタクリレート、日本油脂（株）製）：５２．８部、メチルメタクリレート：２．８部、メタクリル酸：２５．０部、ヘキサキス（３－メルカプトプロピオン酸）ジペンタエリスリトール：６．４部、Ｖ－６０１（２，２’－アゾビス（イソ酪酸）ジメチル、和光純薬工業（株）製）：１．１部、１－メトキシ－２－プロパノール：５５部からなる混合溶液を２時間３０分かけて滴下した。滴下終了後、８０℃に昇温し、更に２時間反応を続けた。２時間後、Ｖ－６０１：０．１１部、１－メトキシ－２－プロパノール：１部から成る混合溶液を加え、９０℃に昇温して２．５時間反応を続けた。反応終了後、室温まで反応液を冷却した。
上記の反応溶液に１－メトキシ－２－プロパノール：１７７．２部、４－ヒドロキシテトラメチルピペリジン－Ｎ－オキシド：０．２８部、グリシジルメタクリレート：４６．０部、テトラブチルアンモニウムブロミド：３．４部を加えてよく撹拌した後、９０℃にて加熱した。
１８時間後、室温（２５℃）まで反応溶液を冷却した後、４－メトキシフェノールを０．０６部、１－メトキシ－２－プロパノール：１１４．５部を加えて希釈した。
こうして得られたバインダーポリマー（７）（バインダーポリマーＰ－２）は、固形分濃度：２３質量％、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算重量平均分子量は１．５万であった。

〔界面活性剤〕
アニオン界面活性剤（Ａ－１）：下記化合物
フッ素系界面活性剤（Ｗ－１）：下記化合物

＜ポリマー粒子Ｒ－１の調製＞
・ミクロゲル（ポリマー粒子）：２．６４０部
・蒸留水：２．４２５部
上記ミクロゲル液に用いたミクロゲルの調製法を以下に示す。

－多価イソシアネート化合物の調製－
イソホロンジイソシアネート１７．７８部（８０モル当量）と下記多価フェノール化合物（１）７．３５部（２０モル当量）との酢酸エチル（２５．３１部）懸濁溶液に、ビスマストリス（２－エチルヘキサノエート）（ネオスタン Ｕ－６００、日東化成（株）製）０．０４３部を加えて撹拌した。発熱が収まった時点で反応温度を５０℃に設定し、３時間撹拌して多価イソシアネート化合物（１）の酢酸エチル溶液（５０質量％）を得た。

－ミクロゲルの調製－
下記油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて１２，０００ｒｐｍで１０分間乳化した。得られた乳化物を４５℃で４時間撹拌後、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン－オクチル酸塩（Ｕ－ＣＡＴ ＳＡ１０２、サンアプロ（株）製）の１０質量％水溶液５．２０ｇを加え、室温で３０分撹拌し、４５℃で２４時間静置した。蒸留水で、固形分濃度を２０質量％になるように調整し、ミクロゲル（１）の水分散液が得られた。光散乱法により平均粒径を測定したところ、０．２８μｍであった。

～油相成分～
（成分１）酢酸エチル：１２．０部
（成分２）トリメチロールプロパン（６モル当量）とキシレンジイソシアネート（１８モル当量）を付加させ、これに片末端メチル化ポリオキシエチレン（１モル当量、オキシエチレン単位の繰返し数：９０）を付加させた付加体（５０質量％酢酸エチル溶液、三井化学（株）製）：３．７６部
（成分３）多価イソシアネート化合物（１）（５０質量％酢酸エチル溶液として）：１５．０部
（成分４）ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＳＲ－３９９、サートマー社製）の６５質量％酢酸エチル溶液：１１．５４部
（成分５）スルホン酸塩型界面活性剤（パイオニンＡ－４１－Ｃ、竹本油脂（株）製）の１０％酢酸エチル溶液：４．４２部

～水相成分～
蒸留水：４６．８７部

＜ポリマー粒子Ｒ－２の調製＞
多官能イソシアネート化合物（ＰＭ－２００：万華化学社製）：６．６６部と、三井化学（株）製の「タケネート（登録商標）Ｄ－１１６Ｎ（トリメチロールプロパン（ＴＭＰ）とｍ－キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）とポリエチレングリコールモノメチルエーテル（ＥＯ９０）との付加物（下記構造）」の５０質量％酢酸エチル溶液：５．４６部と、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＳＲ－３９９、サートマー社製、下記Ｍ－２）の６５質量％酢酸エチル溶液：１１．５３部と、酢酸エチル：１８．６６部と、竹本油脂（株）製のパイオニン（登録商標）Ａ－４１－Ｃ：０．４５部を混合し、室温（２５℃）で１５分撹拌して油相成分を得た。
得られた油相成分に、水相成分としての純水：４６．８９部を添加して混合し、得られた混合物を、ホモジナイザーを用いて１２，０００ｒｐｍで１２分間乳化させて乳化物を得た。
得られた乳化物を蒸留水１６．６６部に添加し、次いで、撹拌後の液体を４５℃に加熱し、液温を４５℃に保持した状態で４時間攪拌することにより、上記液体から酢酸エチルを留去した。次いで、酢酸エチルを留去した液体を４５℃に加熱し、液温を４５℃に保持した状態で４８時間撹拌することにより、液体中に、重付加型樹脂によるマイクロカプセル型の内包型ポリマー粒子Ｐ－２を得た。次いで、内包型ポリマー粒子Ｐ－２を含む液体を、固形分濃度が２０質量％となるように蒸留水で希釈することにより、内包型ポリマー粒子Ｐ－１の水分散物を得た。
内包型ポリマー粒子Ｐ－２の体積平均粒径を、レーザー回折／散乱式粒子径分布測定装置ＬＡ－９２０（（株）堀場製作所製）により測定したところ、２００ｎｍであった。
また、内包型ポリマー粒子Ｐ－２の全質量に占める重合性化合物Ｍ－２の含有量は、４２質量％であった。

＜ポリマー粒子Ｒ－３＞
４つ口フラスコに、分散ユニット：下記化合物Ｂ－１（ｎ＝４５）：１０．０部、蒸留水８５．０部、及びｎ－プロパノール２４０．０部を加えて、窒素雰囲気下７０℃で加熱撹拌した。
次に、４つ口フラスコに、予め混合された下記化合物Ａ－１：２０．０部、下記化合物Ａ－２：７０．０部及び２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．７部の混合物を２時間かけて滴下した。
滴下終了後５時間そのまま反応を続けた後、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．５部を添加し、８０℃に昇温した。６時間おきに２，２’－アゾビスイソブチロニトリルを０．４部ずつ添加し、計１９時間反応させた。
反応液を室温（２５℃）に放冷し、粒子Ｒ－３の分散液（固形分２３％）を得た。

樹脂粒子Ｒ－３のメジアン径は１５０ｎｍであって、変動係数は２３％であった。
また、樹脂粒子Ｒ－３の分散性について、既述の方法で確認したところ、樹脂粒子Ｒ－３は、水分散性を有する粒子であって、有機溶媒分散性を有する粒子であった。

＜ポリマー粒子Ｒ－４及びＲ－５の調製＞
使用するモノマーの種類及び量を変更する以外は、ポリマー粒子Ｒ－３の調製と同様にして、ポリマー粒子Ｒ－４及びＲ－５をそれぞれ作製した。

〔重合性化合物〕
Ｍ－１：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート ウレタンプレポリマー、ＵＡ－５１０Ｈ 共栄社化学（株）製、官能基数：１０
Ｍ－２：Ｕ－１５ＨＡ（ウレタンアクリレート、新中村化学工業（株）製、官能基数：１５）
Ｍ－３：下記重合性化合物（官能基数：１５）
Ｍ－４：ＣＮ８８８５ＮＳ（サートマー社製、官能基数９）
Ｍ－５：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（東亞合成（株）製、アロニックスＭ－４０３、官能基数：６）
Ｍ－６：ウレタンジメタクリレート（シグマアルドリッチ社製、官能基数：２）
Ｍ－７：ＣＮ １０４（アルケマ社製、官能基数：２）

＜Ｍ－３の合成＞
タケネートＤ－１６０Ｎ（三井化学（株）製）４．７質量部）アロニックスＭ－４０５（東亞合成（株）製）ポリイソシアネートのＮＣＯ価と水酸基含有多官能アクリレートの水酸基価が１：１となる量、ｔ－ブチルベンゾキノン０．０２質量部、メチルエチルケトン１１．５質量部の混合溶液を６５℃に加熱した。反応溶液に、ネオスタンＵ－６００（ビスマス系重縮合触媒、日東化成（株）製）０．１１質量部を加え、同温度で４時間加熱した。反応溶液を室温（２５℃）まで冷却し、メチルエチルケトンを加えることで、固形分が５０質量％のウレタンアクリレート溶液を合成した。

〔感脂化剤〕
Ｃ－１：下記構造の化合物
Ｃ－２：ベンジルジメチルオクチルアンモニウム・ＰＦ_６塩
Ｃ－３：下記構造の化合物

〔電子供与型重合開始剤〕
Ｂ－１～Ｂ－５：下記化合物

＜保護層塗布液１の組成：乾燥塗布量０．１５ｇ／ｍ^２＞
・ポバールＰＶＡ１０５（（株）クラレ製、けん化度８０％以上）：０．６質量部
・ＰＥＧ４０００（東京化成工業（株）製）：０．３９質量部
・界面活性剤（ラピゾールＡ－８０、日油（株）製）：０．０１質量部
・水：全体が１０質量部となる量

＜保護層塗布液２の組成：乾燥塗布量が０．１ｇ／ｍ^２＞
・ゴーセノールＬ－３２６６（（三菱ケミカル（株）製、けん化度８６～８９％以上）：０．１質量部
・界面活性剤（ラピゾールＡ－８０、日油（株）製）：０．０１質量部
・水：０．９質量部

＜保護層塗布液３の組成：乾燥塗布量が０．８ｇ／ｍ^２＞
・ポリビニルアルコール（ＣＫＳ５０、日本合成化学工業（株）製、スルホン酸変性、けん化度９９モル％以上、重合度３００）６質量％水溶液：１０部
・界面活性剤（ラピゾールＡ－８０、日油（株）製：０．００１部
・イオン交換水：６．０部

＜保護層塗布液４の組成：乾燥塗布量が０．１５ｇ／ｍ^２＞
・無機層状化合物分散液（１）〔下記〕：１．５部
・ポリビニルアルコール（ＣＫＳ５０、日本合成化学工業（株）製、スルホン酸変性、けん化度９９モル％以上、重合度３００）６質量％水溶液：０．５５部
・ポリビニルアルコール（ＰＶＡ－４０５、（株）クラレ製、けん化度８１．５モル％、重合度５００）６質量％水溶液：０．０３部
・界面活性剤（ポリオキシエチレンラウリルエーテル、エマレックス７１０、日本エマルジョン（株）製）１質量％水溶液：０．８６部
・イオン交換水：６．０部

無機層状化合物分散液（１）の調製法を以下に記載する。
＜＜無機層状化合物分散液（１）の調製＞＞
イオン交換水１９３．６ｇに合成雲母（ソマシフＭＥ－１００、コープケミカル（株）製）６．４ｇを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径（レーザー散乱法）が３μｍになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は１００以上であった。

＜保護層塗布液５の組成：乾燥塗布量が０．５ｇ／ｍ^２＞
・Ｍｏｗｉｏｌ４－８８（部分加水分解ポリビニルアルコール、Kuraray Europe社製）：０．５質量部
・Ｄｉｏｆａｎ Ａ０５０（ポリ塩化ビニリデン、ソルベイ社製）：０．５質量部
・ＩＲ－４：０．０７重量部
・ｌｕｔｅｎｚｏｌＡ８（ノニオン界面活性剤、ＢＡＳＦ社製）：０．０２重量部
・水：全体が１０質量部となる量

（実施例２４）
＜支持体１の作製＞
厚さ０．３ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム板（アルミニウム合金板）に対し、下記（Ｊ－ａ）～（Ｊ－ｍ）の処理を施し、支持体１を製造した。なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施し、水洗処理の後にはニップローラで液切りを行った。

（Ｊ－ａ）機械的粗面化処理（ブラシグレイン法）
図８に示したような装置を使って、パミスの懸濁液（比重１．１ｇ／ｃｍ^３）を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。
機械的粗面化処理では、研磨材のメジアン径（μｍ）を３０μｍ、ブラシ本数を４本、ブラシの回転数（ｒｐｍ）を２５０ｒｐｍとした。束植ブラシの材質は６・１０ナイロンで、ブラシ毛の直径０．３ｍｍ、毛長５０ｍｍであった。ブラシは、φ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の２本の支持ローラ（φ２００ｍｍ）の距離は、３００ｍｍであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して１０ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。

（Ｊ－ｂ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％及びアルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、１０ｇ／ｍ^２であった。

（Ｊ－ｃ）酸性水溶液を用いたデスマット処理
酸性水溶液として、液温３５℃の次工程の電気化学的粗面化処理に用いた硝酸の廃液をアルミニウム板にスプレーにて３秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。

（Ｊ－ｄ）硝酸水溶液を用いた電気化学的粗面化処理
６０Ｈｚの交流電圧を用いて、連続的に電気化学的粗面化処理を行った。電解液は、硝酸１０．４ｇ／Ｌの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した、液温３５℃の電解液を用いた。交流電源波形は図６に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図７に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ^２、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。電気量（Ｃ／ｄｍ^２）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で１８５Ｃ／ｄｍ^２であった。

（Ｊ－ｅ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２７質量％及びアルミニウムイオン濃度２．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。アルミニウム溶解量は、３．５ｇ／ｍ^２であった。

（Ｊ－ｆ）酸性水溶液を用いたデスマット処理
酸性水溶液として、液温３０℃の硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ及びアルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌの水溶液をアルミニウム板にスプレーにて３秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。

（Ｊ－ｇ）塩酸水溶液を用いた電気化学的粗面化処理
６０Ｈｚの交流電圧を用いて、連続的に電気化学的粗面化処理を行った。電解液は、塩酸６．２ｇ／Ｌの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した、液温３５℃の電解液を用いた。交流電源波形は図６に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図７に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ^２であり、塩酸電解における電気量（Ｃ／ｄｍ^２）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で６３Ｃ／ｄｍ^２であった。

（Ｊ－ｈ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％及びアルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度６０℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。アルミニウム溶解量は、０．２ｇ／ｍ^２であった。

（Ｊ－ｉ）酸性水溶液を用いたデスマット処理
酸性水溶液として、液温３５℃の陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ及びアルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌ）の水溶液をアルミニウム板にスプレーにて４秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。

（Ｊ－ｊ）第１段階の陽極酸化処理
図９に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。電解液として１７０ｇ／Ｌ硫酸水溶液を用い、液温５０℃、電流密度３０Ａ／ｄｍ^２の条件にて陽極酸化処理を行い、皮膜量０．３ｇ／ｍ^２の陽極酸化皮膜を形成した。

（Ｊ－ｋ）ポアワイド処理
陽極酸化処理したアルミニウム板を、カセイソーダ濃度５質量％及びアルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液に、４０℃で３秒間浸漬し、ポアワイド処理を行った。

（Ｊ－ｌ）第２段階の陽極酸化処理
図９に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第２段階の陽極酸化処理を行った。電解液として１７０ｇ／Ｌ硫酸水溶液を用い、液温５０℃、電流密度１３Ａ／ｄｍ^２の条件にて陽極酸化処理を行い、皮膜量２．１ｇ／ｍ^２の陽極酸化皮膜を形成した。

（Ｊ－ｍ）親水化処理
非画像部の親水性を確保するため、アルミニウム板を、２．５質量％３号ケイ酸ソーダ水溶液に５０℃で７秒間浸漬してシリケート処理を施した。Ｓｉの付着量は８．５ｍｇ／ｍ^２であった。マイクロポアの平均径は３０ｎｍであった。
支持体１の陽極酸化皮膜表面のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系における明度Ｌ^＊の値は７２．３であった。

＜下塗り層１の形成＞
支持体１上に、下記組成の下塗り層塗布液（１）を乾燥塗布量が２６ｍｇ／ｍ^２になるよう塗布して、下塗り層１を形成した。

＜＜下塗り層塗布液（１）＞＞
・下塗り層用化合物（２）（下記構造）：０．１３部
・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸：０．０５部
・エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム：０．０５部
・ポリオキシエチレンラウリルエーテル：０．０３部
・水：６１．３９部

上記下塗り層用化合物（２）における各構成単位の括弧の右下の数値は、質量比を表し、エチレンオキシ単位の括弧の右下の数値は、繰り返し数を表す。

＜画像記録層１の形成＞
下塗り層上に、下記組成の画像記録層塗布液（１）をバー塗布し、１００℃で６０秒間オーブン乾燥し、厚さ１．２μｍの画像記録層１を形成した。
画像記録層塗布液（１）は、下記感光液（１）及びミクロゲル液（１）を塗布直前に混合し撹拌することにより得た。

（感光液（１））
・バインダーポリマー（６）（Ｐ－１）２３質量％１－メトキシ－２－プロパノール溶液（下記構造）：０．２８９１部
・バインダーポリマー（７）（Ｐ－１）２３質量％１－メトキシ－２－プロパノール溶液（下記構造）：０．４５７４部
・赤外線吸収剤（１）（下記構造）：０．０２７８部
・ボレート化合物（１）（テトラフェニルホウ酸ナトリウム）：０．０１５部
・重合開始剤（１）（下記構造）：０．２３４８部
・重合性化合物（１）（トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ＮＫエステルＡ－９３００ ４０％２－ブタノン溶液、新中村化学工業（株）製）：０．２８７５部
・発色体前駆体Ｓ－１（上記化合物）：０．０２０部
・低分子親水性化合物（１）（トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート：０．０２８７部
・低分子親水性化合物（２）（トリメチルグリシン）：０．０１４７部
・アニオン性界面活性剤１ ３０質量％水溶液（下記構造）：０．２５部
・紫外線吸収剤（１）（ＴＩＮＵＶＩＮ４０５、ＢＡＳＦ（株）社製）（下記構造）：０．０４部
・フッ素系界面活性剤（１）（下記構造）：０．００４部
・ホスホニウム化合物（１）（下記構造）：０．０２０部
・２－ブタノン：５．３４６部
・１－メトキシ－２－プロパノール：３．１２８部
・メタノール：０．９６４部
・純水：０．０３６部

＜＜ミクロゲル液（１）＞＞
・ミクロゲル（ポリマー粒子）（固形分濃度２１．８質量％）：２．２４３部
・１－メトキシ－２－プロパノール：０．６００部

＜保護層１の形成＞
下記組成の保護層塗布液（１）をバー塗布し、１２０℃で６０秒間オーブン乾燥して厚さ０．１８μｍの保護層１を形成した。

＜＜保護層塗布液（１）の組成＞＞
・無機層状化合物分散液（２）（下記）：２．２１２部
・ポリビニルアルコール（ゴーセランＬ－３２６６、日本合成化学工業（株）製、スルホン酸変性、けん化度８５モル％）６質量％水溶液：１．４４０部
・界面活性剤（パイオニンＡ－３２－Ｂ（下記）、竹本油脂（株）製）４０質量％水溶液）：０．０１４部
・界面活性剤（サーフィノール４６５（下記）、日信化学（株）製）：０．００６部
・純水:３．９５５部

＜＜＜＜無機層状化合物分散液（２）の調製＞＞＞
イオン交換水１９３．６部に合成雲母ソマシフＭＥ－１００（コープケミカル（株）製）６．４部を添加し、ホモジナイザーを用いて体積平均粒子径（レーザー散乱法）が３μｍになるまで分散して無機層状化合物分散液（２）を調製した。分散粒子のアスペクト比は１００以上であった。

〔ＮＣ／ＮＣ０の測定〕
得られた平版印刷版原版を波長８３０ｎｍの赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム（株）製Ｌｕｘｅｌ ＰＬＡＴＥＳＥＴＴＥＲ Ｔ－６０００ＩＩＩにて、１１０ｍＪ／ｃｍ^２の露光量になるように露光した。露光画像にはベタ画像、２０μｍドットＦＭスクリーンの５０％網点チャート及び非画像部を含むようにした。
得られた露光済み平版印刷原版を現像処理することなく、（株）小森コーポレーション製印刷機ＬＩＴＨＲＯＮＥ２６の版胴に取り付けた。版胴に対して給水ローラを５％減速させた上で、Ｅｃｏｌｉｔｙ－２（富士フイルム（株）製）／水道水＝２／９８（容量比）の湿し水とＵＶインキ（Ｔ＆Ｋ ＵＶ ＯＦＳ Ｋ－ＨＳ墨ＧＥ－Ｍ（（株）Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ製））とを用い、ＬＩＴＨＲＯＮＥ２６の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時１０，０００枚の印刷速度で、特菱アート（三菱製紙（株）製、連量：７６．５ｋｇ）紙に印刷を５０，０００枚行った。
印刷枚数の増加にともない、徐々に画像記録層が磨耗しインキ受容性が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下した。印刷物におけるＦＭスクリーン３％網点の網点面積率をＸ－Ｒｉｔｅ（Ｘ－Ｒｉｔｅ社製）で計測した値が印刷１００枚目の計測値よりも５％低下したときの印刷部数を刷了枚数としてＵＶ耐刷性を評価した。
同様に発色体前駆体を含まない版を用意し、発色体前駆体を含む場合の枚数／発色体前駆体を含まない場合の枚数として計算した。

〔画像記録層における露光領域と未露光領域とのエチレン性不飽和結合消失率の測定〕
フーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ－ＩＲ）を用い、基準ピーク（版素材によるが適宜、露光前後で変化しないピーク）に対する７００ｃｍ^－１付近のＣ＝Ｃ基由来伸縮のピーク面積（相対値）を求めた。
上記ＮＣ／ＮＣ０の測定方法と同一の条件で露光した際にできるベタ露光部と未露光部において上述のピーク面積を求め、未露光部面積から露光部面積を引いたものをエチレン性不飽和結合消失率とした。

〔画像記録層における未露光領域に対する露光領域の重合性化合物消失率の測定〕
後述するＮＣ／ＮＣ０の測定方法と同一の条件で露光し、ベタ露光部と未露光部を得た。未露光部と露光部を裁断し、５０ｃｍ^２分の塗布膜を１ｍＬのＴＨＦに浸して超音波にて重合性化合物を溶出させ、ＨＰＬＣにて面積を測定した。未露光部から検出された重合性化合物面積で露光部から検出された重合性化合物面積を割った割合を重合性化合物消費率とした。

〔ＵＶ耐刷性評価〕
得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム（株）製Ｌｕｘｅｌ ＰＬＡＴＥＳＥＴＴＥＲ Ｔ－６０００ＩＩＩにて、外面ドラム回転数１，０００ｒｐｍ、レーザー出力７０％、解像度２，４００ｄｐｉ（ｄｏｔ ｐｅｒ ｉｎｃｈ、１ ｉｎｃｈ＝２．５４ｃｍ）の条件で露光した。露光画像にはベタ画像、２０μｍドットＦＭスクリーンの５０％網点チャート及び非画像部を含むようにした。
得られた露光済み平版印刷原版を現像処理することなく、（株）小森コーポレーション製印刷機ＬＩＴＨＲＯＮＥ２６の版胴に取り付けた。版胴に対して給水ローラを５％減速させた上で、Ｅｃｏｌｉｔｙ－２（富士フイルム（株）製）／水道水＝２／９８（容量比）の湿し水とＵＶインキ（Ｔ＆Ｋ ＵＶ ＯＦＳ Ｋ－ＨＳ墨ＧＥ－Ｍ（（株）Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ製））とを用い、ＬＩＴＨＲＯＮＥ２６の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時１０，０００枚の印刷速度で、特菱アート（三菱製紙（株）製、連量：７６．５ｋｇ）紙に印刷を１５０，０００枚行った。
印刷枚数の増加にともない、徐々に画像記録層が磨耗しインキ受容性が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下した。その様子を目視確認した。
３：１０，０００枚時とほぼ変化がないもの
２：１０，０００枚時と比べ５割ほど画像が残っているもの
１：１０，０００枚時と比べ２割ほど画像が残っているもの
０：ほぼインクが残っていないもの

〔視認性（発色性）評価〕
得られた平版印刷版原版を、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザー搭載のＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＸにより、出力１１．５Ｗ、外面ドラム回転数２２０ｒｐｍ、解像度２，４００ｄｐｉ（ｄｏｔ ｐｅｒ ｉｎｃｈ、１ｉｎｃｈ＝２５．４ｍｍ）の条件で露光した。露光は２５℃、５０％ＲＨの環境下で行った。
露光直後の平版印刷版原版の発色を測定した。測定は、コニカミノルタ（株）製分光測色計ＣＭ２６００ｄとオペレーションソフトＣＭ－Ｓ１００Ｗとを用い、ＳＣＥ（正反射光除去）方式で行った。発色性は、Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系のＬ^＊値（明度）を用い、露光部のＬ^＊値と未露光部のＬ^＊値との差ΔＬにより評価した。ΔＬの値が大きい程、発色性が優れるといえる。

〔塗布面状評価〕
作製した平版印刷版原版の面状、及び、画像記録層を形成した塗布液の状態を目視で確認した。
３：平版印刷版原版の表面に結晶状の欠陥がない
２：平版印刷版原版の表面に結晶状の欠陥が微量存在する
１：平版印刷版原版の表面に結晶状の欠陥が頻繁に存在する
０：塗布液状態で沈殿物がある

表３及び表４に記載した結果から、実施例に係る平版印刷版原版は、比較例に係る平版印刷版原版と比べて、ＵＶ耐刷性に優れた平版印刷版が得られることがわかる。また、本開示に係る平版印刷版原版は、視認性、及び、面状にも優れた平版印刷版が得られることがわかる。

また、使用した発色体前駆体Ｓ－１～Ｓ－１２のε、開環率、及び、λｍａｘをそれぞれ上述した方法により測定した。測定結果を下記表５に示す。

（実施例２５～３２）
＜平版印刷版原版の形成＞
表９に記載の支持体上に、表９に記載の下記組成の下塗り液Ｂ又はＣを乾燥塗布量が２０ｍｇ／ｍ^２になるよう塗布し、１００℃３０秒間オーブンで乾燥し、下塗り層を有する支持体を作製した。
下塗り層上に、下記画像記録層塗布液（２）をバー塗布し、１００℃で６０秒間オーブン乾燥して表９に記載の乾燥塗布量となるように画像記録層を形成し、平版印刷版原版を得た。
更にその後、画像記録層上に、表９に記載の下記組成の保護層塗布液（２）をバー塗布し、１２０℃で６０秒間オーブン乾燥して、表９に記載の乾燥塗布量となるように保護層（オーバーコート層）を形成し、機上現像型平版印刷版原版を作製した。
得られた平版印刷版原版を、実施例１と同様にして、評価を行った。評価結果を表９に示す。

＜支持体Ｘの作製＞
＜＜表面処理Ｄ＞＞：
〔大径孔部及び小径孔部を有する支持体〕
（Ｄ－ａ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ（水酸化ナトリウム）濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、１．０ｇ／ｍ^２であった。

（Ｄ－ｂ）酸性水溶液中でのデスマット処理（第１デスマット処理）
次に、酸性水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸１５０ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は３０℃であった。デスマット液はスプレーにより吹き付けて、３秒間デスマット処理した。その後、水洗処理を行った。

（Ｄ－ｃ）塩酸水溶液中での電気化学的粗面化処理
次に、塩酸濃度１４ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度１３ｇ／Ｌ、硫酸濃度３ｇ／Ｌの電解液を用い、交流電流を用いて電解粗面化処理を行った。電解液の液温は３０℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は５０Ｈｚ、交流電流１周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は１：１、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で７５Ａ／ｄｍ^２であった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で４５０Ｃ／ｄｍ^２であり、電解処理は１２５Ｃ／ｄｍ^２ずつ４秒間の通電間隔を開けて４回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。

（Ｄ－ｄ）アルカリエッチング処理
電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板を、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度４５℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量は０．２ｇ／ｍ^２であった。その後、水洗処理を行った。

（Ｄ－ｅ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、酸性水溶液中でのデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５．０ｇ／Ｌ溶解）を用いた。液温は３０℃であった。デスマット液はスプレーに吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。

（Ｄ－ｆ）第１段階の陽極酸化処理
図９に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。表６に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。

（Ｄ－ｇ）ポアワイド処理
上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度３５℃、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液に表６に示す条件にて浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。

（Ｄ－ｈ）第２段階の陽極酸化処理
図９に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第２段階の陽極酸化処理を行った。表６に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。

以上の表面処理Ｄから、表６及び表７に記載の支持体Ｘを得た。

上記で得られた第２陽極酸化処理工程後のマイクロポアを有する陽極酸化皮膜中の大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径（ｎｍ）、小径孔部の連通位置における平均径（ｎｍ）、大径孔部及び小径孔部の深さ（ｎｍ）、ピット密度（マイクロポアの密度、単位；個／μｍ^２）、並びに、小径孔部の底部からアルミニウム板表面までの陽極酸化皮膜の厚み（ｎｍ）を、表７にまとめて示す。
なお、マイクロポアの平均径（大径孔部及び小径孔部の平均径）は、大径孔部表面及び小径孔部表面を倍率１５万倍のＦＥ－ＳＥＭでＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポア（大径孔部及び小径孔部）の径を測定し、平均した値である。なお、大径孔部の深さが深く、小径孔部の径が測定しづらい場合、及び、小径孔部中の拡径孔部の測定を行う場合は、陽極酸化皮膜上部を切削し、その後各種径を求めた。
マイクロポアの深さ（大径孔部及び小径孔部の深さ）は、支持体（陽極酸化皮膜）の断面をＦＥ－ＳＥＭで観察し（大径孔部深さ観察：１５万倍、小径孔部深さ観察：５万倍）、得られた画像において、任意のマイクロポア２５個の深さを測定し、平均した値である。
なお、表６中、第１陽極酸化処理欄の皮膜量（ＡＤ）量と第２陽極酸化処理欄の皮膜量（ＡＤ）とは、各処理で得られた皮膜量を表す。なお、使用される電解液は、表６中の成分を含む水溶液である。

＜支持体Ｙの作製＞
＜＜処理Ａ＞＞
（Ａ－ａ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％及びアルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面の アルミニウム溶解量は、５ｇ／ｍ^２であった。

（Ａ－ｂ）酸性水溶液を用いたデスマット処理（第１デスマット処理）
次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸１５０ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は３０℃であった。酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて吹き付けて、３秒間デスマット処理を行った。その後、水洗処理を行った。

（Ａ－ｃ）電気化学的粗面化処理
次に、塩酸濃度１４ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度１３ｇ／Ｌ、及び、硫酸濃度３ ｇ／Ｌの電解液を用い、交流電流を用いて電気化学的粗面化処理を行った。電解液の液温は３０℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。
交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は５０Ｈｚ、交流電流１周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は１：１、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で７５Ａ／ｄｍ^２であった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で４５０Ｃ／ｄｍ^２であり、電解処理は１１２．５Ｃ／ｄｍ^２ずつ４秒間の通電間隔を開けて４回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。

（Ａ－ｄ）アルカリエッチング処理
電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％及びアルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度４５℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの 溶解量は０．２ｇ／ｍ^２であった。その後、水洗処理を行った。

（Ａ－ｅ）酸性水溶液を用いたデスマット処理
次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。具体的には、酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて吹き付けて、３秒間デスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ及びアルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は３０℃であった。

（Ａ－ｆ）第１段階の陽極酸化処理
図９に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。表８に示す「第１陽極酸化処理」欄の条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜量の 陽極酸化皮膜を形成した。

（Ａ－ｇ）ポアワイド処理
上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度４０℃、カセイソーダ濃度５質量％及びアルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液に表８に示す時間条件にて浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。

（Ａ－ｈ）第２段階の陽極酸化処理
図９に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第２段階の陽極酸化処理を行った。表８に示す「第２陽極酸化処理」欄の条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜量の陽極酸化皮膜を形成した。

－下塗り層塗布液Ｂの組成－
・ポリマー（Ｕ－１）：０．１８部
・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸：０．１０部
・水：６１．４部

－下塗り層塗布液Ｃの組成－
・ポリマー（Ｕ－１）：０．１４部
・キレスト４００：０．０３５部
・キレスト３ＥＡＦ：０．０３５部
・界面活性剤（エマレックス７１０、日本エマルジョン（株）製）：０．００１６部
・防腐剤（バイオホープＬ、ケイ・アイ化成（株）製）：０．００１５部
・水：３．２９部

－ポリマー（Ｕ－１）の合成－
＜＜モノマーＭ－１の精製＞＞
ライトエステル Ｐ－１Ｍ（２－メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、共栄社化学（株）製）４２０部、ジエチレングリコールジブチルエーテル１，０５０部及び蒸留水１，０５０部を分液ロートに加え、激しく撹拌した後静置した。上層を廃棄した後、ジエチレングリコールジブチルエーテル１，０５０部を加え、激しく撹拌した後静置した。上層を廃棄してモノマーＭ－１の水溶液（固形分換算１０．５質量％）を１，３００部得た。

＜＜ポリマー（Ｕ－１）の合成＞＞
三口フラスコに、蒸留水を５３．７３部、以下に示すモノマーＭ－２を３．６６部加え、窒素雰囲気下で５５℃に昇温した。次に、以下に示す滴下液１を２時間掛けて滴下し、３０分撹拌した後、ＶＡ－０４６Ｂ（富士フイルム和光純薬（株）製）０．３８６部を加え、８０℃に昇温し、１．５時間撹拌した。反応液を室温（２５℃）に戻した後、３０質量％水酸化ナトリウム水溶液を加え、ｐＨを８．０に調整したのち、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシル（４－ＯＨ－ＴＥＭＰＯ）を０．００５部加えた。以上の操作により、ポリマー（Ｕ－１）の水溶液を１８０部得た。ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリエチレングリコール換算値とした重量平均分子量（Ｍｗ）は２０万であった。

＜＜滴下液１の組成＞＞
・上記モノマーＭ－１水溶液：８７．５９部
・上記モノマーＭ－２：１４．６３部
・ＶＡ－０４６Ｂ（２，２’－アゾビス［２－（２－イミダゾリン－２－イル）プロパン］ジスルフェートジハイドレート、富士フイルム和光純薬（株）製）：０．３８６部
・蒸留水：２０．９５部

＜画像記録層塗布液（２）の組成＞
・表９に記載の赤外線吸収剤：表９に記載の量
・表９に記載の発色体前駆体：表９に記載の量
・表９に記載の電子受容型重合開始剤：表９に記載の量
・表９に記載のボレート化合物（電子供与性重合開始剤）：表９に記載の量
・表９に記載のバインダーポリマー：表９に記載の量
・表９に記載の重合性化合物：表９に記載の量
・表９に記載の感脂化剤：表９に記載の量
・アニオン界面活性剤（Ａ－１、下記化合物）：表９に記載の量
・フッ素系界面活性剤（Ｗ－１、下記化合物）：４．１６部
・２－ブタノン：４，９２０部
・１－メトキシ－２－プロパノール：３，１００部
・メタノール：２，７９０部
・表９に記載のポリマー粒子：表９に記載の量

＜保護層塗布液（２）の組成＞
・表９に記載の水溶性ポリマー：表９に記載の量
・表９に記載の疎水性ポリマー粒子：表９に記載の量
・表９に記載の界面活性剤：表９に記載の量
・表９に記載の発色体前駆体：表９に記載の量
・水：６．０部

上述した以外の表９に記載の各略称の詳細を、以下に示す。
なお、下記において、ＴｓＯ^－は、トシレートアニオンを表す。
＜赤外線吸収剤＞
Ｄ’－１～Ｄ’－３：下記化合物

＜電子受容型重合開始剤＞
Ｉ’－１及びＩ’－２：下記化合物

＜電子供与型重合開始剤＞
Ｂ’－１：ナトリウムテトラフェニルボレート
＜重合性化合物＞
Ｍ’－１：下記合成例により合成したウレタンアクリレート
Ｍ’－２：エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート、新中村化学工業（株）製Ａ－９３００
Ｍ’－３：下記化合物
Ｍ’－４：下記化合物

＜Ｍ’－１の合成＞
タケネートＤ－１６０Ｎ（ポリイソシアネート、三井化学（株）製）４．７質量部、アロニックスＭ－４０３（水酸基含多官能アクリレート、東亞合成（株）製）タケネートＤ－１６０ＮのＮＣＯ価とアロニックスＭ－４０３の水酸基価が１：１となる量、ｔ－ブチルベンゾキノン０．０２質量部、メチルエチルケトン１１．５質量部の混合溶液を６５℃に加熱した。反応溶液に、ネオスタンＵ－６００（ビスマス系重縮合触媒、日東化成（株）製）０．１１質量部を加え、同温度で４時間加熱した。反応溶液を室温（２５℃）まで冷却し、メチルエチルケトンを加えることで、固形分が５０質量％のウレタンアクリレート溶液を合成した。
続いて、リサイクル型ＧＰＣ（機器：ＬＣ９０８－Ｃ６０、カラム：ＪＡＩＧＥＬ－１Ｈ－４０及び２Ｈ－４０（日本分析工業（株）製））で、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶離液にて、ウレタンアクリレート溶液の分子量分画を実施し、ウレタンアクリレートＭ’－１を得た。

＜ポリマー粒子＞
Ｒ’－１及びＲ’－２：下記により作製したポリマー粒子

＜ポリマー粒子Ｒ’－１の調製＞
・ミクロゲル（ポリマー粒子Ｒ’－１）：２．６４０部
・蒸留水：２．４２５部
上記ミクロゲルの調製法を以下に示す。

－多価イソシアネート化合物の調製－
イソホロンジイソシアネート１７．７８部（８０モル当量）と下記多価フェノール化合物（１）７．３５部（２０モル当量）との酢酸エチル（２５．３１部）懸濁溶液に、ビスマストリス（２－エチルヘキサノエート）（ネオスタン Ｕ－６００、日東化成（株）製）０．０４３部を加えて撹拌した。発熱が収まった時点で反応温度を５０℃に設定し、３時間撹拌して多価イソシアネート化合物（１）の酢酸エチル溶液（５０質量％）を得た。

－ミクロゲルの調製－
下記油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて１２，０００ｒｐｍで１０分間乳化した。得られた乳化物を４５℃で４時間撹拌後、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン－オクチル酸塩（Ｕ－ＣＡＴ ＳＡ１０２、サンアプロ（株）製）の１０質量％水溶液５．２０ｇを加え、室温で３０分撹拌し、４５℃で２４時間静置した。蒸留水で、固形分濃度を２０質量％になるように調整し、ミクロゲルの水分散液が得られた。光散乱法により平均粒径を測定したところ、０．２０μｍであった。

～油相成分～
（成分１）酢酸エチル：１２．０部
（成分２）トリメチロールプロパン（６モル当量）とキシレンジイソシアネート（１８モル当量）を付加させ、これに片末端メチル化ポリオキシエチレン（１モル当量、オキシエチレン単位の繰返し数：９０）を付加させた付加体（５０質量％酢酸エチル溶液、三井化学（株）製）：３．７６部
（成分３）多価イソシアネート化合物（１）（５０質量％酢酸エチル溶液として）：１５．０部
（成分４）ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＳＲ－３９９、サートマー社製）の６５質量％酢酸エチル溶液：１１．５４部
（成分５）スルホン酸塩型界面活性剤（パイオニンＡ－４１－Ｃ、竹本油脂（株）製）の１０％酢酸エチル溶液：４．４２部

～水相成分～
蒸留水：４６．８７部

＜ポリマー粒子Ｒ’－２の作製＞
－油相成分の調製－
ＷＡＮＮＡＴＥ（登録商標）ＰＭ－２００（多官能イソシアネート化合物：万華化学社製）：６．６６ｇと、タケネート（登録商標）Ｄ－１１６Ｎ（トリメチロールプロパン（ＴＭＰ）とｍ－キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）とポリエチレングリコールモノメチルエーテル（ＥＯ９０）との付加物（下記構造）の５０質量％酢酸エチル溶液：三井化学（株）製）：５．４６ｇと、ＳＲ３９９（ジペンタエリスリトールペンタアクリレート：サートマー社製）の６５質量％酢酸エチル溶液：１１．２４ｇと、酢酸エチル：１４．４７ｇと、パイオニン（登録商標）Ａ－４１－Ｃ（竹本油脂（株）製）：０．４５ｇを混合し、室温（２５℃）で１５分撹拌して油相成分を得た。

－水相成分の準備－
水相成分として、蒸留水４７．２ｇを準備した。

－マイクロカプセル形成工程－
油相成分に水相成分を添加して混合し、得られた混合物を、ホモジナイザーを用いて１２，０００ｒｐｍで１６分間乳化させて乳化物を得た。
得られた乳化物に蒸留水１６．８ｇを添加し、得られた液体を室温で１８０分撹拌した。
次いで、撹拌後の液体を４５℃に加熱し、液温を４５℃に保持した状態で５時間撹拌することにより、上記液体から酢酸エチルを留去した。蒸留水で、固形分濃度を２０質量％になるように調整し、ポリマー粒子Ｒ’－２の水分散液が得られた。Ｒ’－２の体積平均粒径はレーザー回折／散乱式粒子径分布測定装置ＬＡ－９２０（（株）堀場製作所製）により測定したところ、１６５ｎｍであった。

＜バインダーポリマー＞
Ｐ’－１：一部アセチル化されたポリビニルブチラール、積水化学工業（株）製エスレックＢＬ１０
＜親水性化合物＞
Ｔ’－１：下記化合物
＜添加剤＞
Ｏ’－１：下記化合物

＜界面活性剤＞
Ｕ’－１及びＵ’－２：下記化合物

＜水溶性ポリマー＞
ＷＰ’－１：ポリビニルアルコール、三菱ケミカル（株）製ゴーセノールＬ－３２６６、けん化度８６～８９％以上
ＷＰ’－２：Ｍｏｗｉｏｌ ４－８８（ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、シグマアルドリッチ社製）
ＷＰ’－３：Ｍｏｗｉｏｌ ８－８８（ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、シグマアルドリッチ社製）
＜疎水性ポリマー粒子＞
ＷＲ’－１：ＦＳ－１０２、スチレン－アクリル樹脂、日本ペイント・インダストリアルコーティングス（株）製、Ｔｇ＝１０３℃
ＷＲ’－２：ポリ塩化ビニリデン水性ディスパージョン、Ｓｏｌｖｉｎ社製Ｄｉｏｆａｎ（登録商標） Ａ５０
＜界面活性剤＞
Ｖ’－１：界面活性剤、エマレックス７１０、日本エマルジョン（株）製
＜発色体前駆体＞
ｗＩＲ’－１：下記化合物

表９に記載した結果から、実施例に係る平版印刷版原版は、比較例に係る平版印刷版原版と比べて、ＵＶ耐刷性に優れた平版印刷版が得られることがわかる。また、本開示に係る平版印刷版原版は、視認性、及び、面状にも優れた平版印刷版が得られることがわかる。

２０１９年６月２８日に出願された日本国特許出願第２０１９－１２２４７９号の開示、２０１９年８月３０日に出願された日本国特許出願第２０１９－１５８８１２号の開示、２０１９年９月１８日に出願された日本国特許出願第２０１９－１６９８０８号の開示、２０１９年９月３０日に出願された日本国特許出願第２０１９－１８０５７３号の開示、及び、２０２０年１月３１日に出願された日本国特許出願第２０２０－０１５６８１号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び、技術規格は、個々の文献、特許出願、及び、技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

１０：平版印刷版原版、１２：アルミニウム支持体、１６：画像記録層、１４：下塗り層、１８：アルミニウム板、２０：陽極酸化皮膜、２４：大径孔部、２６：小径孔部、３１：アルミニウム板、３２ａ、３２ｂ及び３２ｃ：アルミニウムの陽極酸化皮膜、３３ａ、３３ｂ及び３３ｃ：マイクロポア、５０：主電解槽、５２：ラジアルドラムローラ、５１：交流電源、５３ａ及び５３ｂ：主極、５５：電解液、５４：電解液供給口、５６：スリット、５７：電解液通路、６０：補助陽極槽、５８：補助陽極、Ｅｘ：電解液排出口、Ｓ：給液、Ｗ：アルミニウム板、１：アルミニウム板、２及び４：ローラ状ブラシ、３：研磨スラリー液、５、６、７及び８：支持ローラ、６１０：陽極酸化処理装置、６１２：給電槽、６１４：電解処理槽、６１６：アルミニウム板、６１８：電解液、６２０：給電電極、６２２：ローラ、６２４：ニップローラ、６２６：電解液、６２８：ローラ、６３０：電解電極、６３２：仕切り、６３４：直流電源、Ａ：深さ、Ｗ：アルミニウム板、Ｘ１及びＸ３：陽極酸化皮膜の厚さ、Ｘ２及びＸ４：マイクロポア２２の深さ、Ｙ１及びＹ３：陽極酸化皮膜表面におけるマイクロポア２２の平均径、Ｙ２及びＹ４：マイクロポア２２の底部の平均径、ｔａ：アノード反応時間、ｔｃ：カソード反応時間、ｔｐ：電流が０からピークに達するまでの時間、Ｉａ：アノードサイクル側のピーク時の電流、Ｉｃ：カソードサイクル側のピーク時の電流、ＡＡ：アルミニウム板のアノード反応の電流、ＣＡ：アルミニウム板のカソード反応の電流

Claims (23)

1. 支持体、及び、前記支持体上に画像記録層を有し、
   前記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及び、発色体前駆体を含み、
   空気雰囲気中、波長８３０ｎｍの赤外線レーザー露光のエネルギー密度１１０ｍＪ／ｃｍ^２で前記画像記録層を露光した場合において、前記画像記録層における未露光領域に対する露光領域のエチレン性不飽和結合消失率が、１０％～４０％であり、
   前記支持体が、アルミニウム板と、前記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、
   前記陽極酸化皮膜が、前記アルミニウム板よりも前記画像記録層側に位置し、
   前記陽極酸化皮膜が、前記画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、
   前記マイクロポアの前記陽極酸化皮膜表面における平均径が、１０ｎｍを超え１００ｎｍ以下であり、
   前記陽極酸化皮膜の前記画像記録層側の表面のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系における明度Ｌ^＊の値が、７０～１００であり、
   前記発色体前駆体の分子中に存在する全ての水素原子の水素引き抜きエンタルピーが、
   －４．０ｋｃａｌ／ｍｏｌ以上である
   機上現像型平版印刷版原版。
2. 支持体、及び、前記支持体上に画像記録層を有し、
   前記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及び、発色体前駆体を含み、
   空気雰囲気中、波長８３０ｎｍの赤外線レーザー露光のエネルギー密度１１０ｍＪ／ｃｍ^２で前記画像記録層を露光した場合において、前記画像記録層における未露光領域に対する露光領域の重合性化合物消費率が、４０％～９５％であり、
   前記支持体が、アルミニウム板と、前記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、
   前記陽極酸化皮膜が、前記アルミニウム板よりも前記画像記録層側に位置し、
   前記陽極酸化皮膜が、前記画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、
   前記マイクロポアの前記陽極酸化皮膜表面における平均径が、１０ｎｍを超え１００ｎｍ以下であり、
   前記陽極酸化皮膜の前記画像記録層側の表面のＬ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系における明度Ｌ^＊の値が、７０～１００であり、
   前記発色体前駆体の分子中に存在する全ての水素原子の水素引き抜きエンタルピーが、
   －４．０ｋｃａｌ／ｍｏｌ以上である
   機上現像型平版印刷版原版。
3. 前記発色体前駆体が、窒素原子に水素原子が直接結合した構造を有しない請求項１又は請求項２に記載の機上現像型平版印刷版原版。
4. 前記発色体前駆体が、酸発色剤である請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
5. 前記重合開始剤が、電子供与型重合開始剤、及び、電子受容型重合開始剤を含み、
   前記赤外線吸収剤のＨＯＭＯ－前記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯの値が、０．７０ｅＶ以下である請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
6. 前記重合性化合物が、７官能以上の重合性化合物を含む請求項１～請求項５のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
7. 前記重合性化合物が、エチレン性不飽和結合価が５．０ｍｍｏｌ／ｇ以上の化合物を含む請求項１～請求項６のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
8. 前記エチレン性不飽和結合価が５．０ｍｍｏｌ／ｇ以上の化合物が、アダクト構造、ビウレット構造、及びイソシアヌレート構造からなる群より選ばれた少なくとも１種の構造を有する請求項７に記載の機上現像型平版印刷版原版。
9. 前記重合性化合物が、エチレン性不飽和基を１つ又は２つ有する化合物を含む請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
10. 前記画像記録層が、分散性基を有する付加重合型樹脂粒子を更に含み、
    前記分散性基が、下記式Ｚで表される基を含む請求項１～請求項９のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
    ＊－Ｑ－Ｗ－Ｙ 式Ｚ
    式Ｚ中、Ｑは二価の連結基を表し、Ｗは親水性構造を有する二価の基又は疎水性構造を有する二価の基を表し、Ｙは親水性構造を有する一価の基又は疎水性構造を有する一価の基を表し、Ｗ及びＹのいずれかは親水性構造を有し、＊は他の構造との結合部位を表す。
11. 前記画像記録層が、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位を有するポリマーを更に含み、
    前記赤外線吸収剤が、赤外線露光により分解する赤外線吸収剤を含む請求項１～請求項１０のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
12. 前記画像記録層が、熱可塑性樹脂粒子を更に含む請求項１～請求項１１のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
13. 前記発色体前駆体が、下記式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）のいずれかで表される化合物である請求項１～請求項１２のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
    

    

    
    
    式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）中、ＥＲＧはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、Ｘ_１～Ｘ_４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｘ_５～Ｘ_１０はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基を表し、Ｙ_１及びＹ_２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ_１がＮである場合は、Ｘ_１は存在せず、Ｙ_２がＮである場合は、Ｘ_４は存在せず、Ｒａ_１は、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ_１～Ｒｂ_４はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表す。
14. 前記発色体前駆体が、下記式（Ｌｅ－Ａ）で表される化合物を含む請求項１～請求項１３のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
    

    

    
    
    式（Ｌｅ－Ａ）中、Ｘ_１～Ｘ_４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｙ_１及びＹ_２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ_１がＮである場合は、Ｘ_１は存在せず、Ｙ_２がＮである場合は、Ｘ_４は存在せず、Ｒｂ_１及びＲｂ_２はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Ｒｃ_１及びＲｃ_２はそれぞれ独立に、アルキル基を表す。
15. 前記重合開始剤が電子受容型重合開始剤を含み、
    前記電子受容型重合開始剤が、下記式（II）で表される化合物を含む請求項１～請求項１４のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
    

    

    
    
    式（II）中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｒ^３はアリール基を表す。
16. 前記画像記録層が、バインダーポリマーとしてポリビニルアセタールを更に含有する請求項１～請求項１５のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
17. 前記画像記録層上に、オーバーコート層を更に有し、
    前記オーバーコート層が、疎水性ポリマーを含む請求項１～請求項１６のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
18. 前記オーバーコート層が、発色体前駆体を含む請求項１７に記載の機上現像型平版印刷版原版。
19. 前記発色体前駆体から生成した発色体のモル吸光係数εが、３５，０００～２００，０００である請求項１～請求項１８のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
20. 前記発色体前駆体の下記式で求められる開環率が、４０モル％～９９モル％である請求項１～請求項１９のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
    開環率＝上記発色体前駆体に酸を１モル当量添加した際のモル吸光係数／上記発色体前駆体から生成する発色体のモル吸光係数ε×１００
21. 前記発色体前駆体から生成した発色体の波長３８０ｎｍ～７５０ｎｍの範囲における最大吸収波長が、５００ｎｍ～６５０ｎｍである請求項１～請求項２０のいずれか１項に機上現像型平版印刷版原版。
22. 請求項１～請求項２１のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
    印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む
    平版印刷版の作製方法。
23. 請求項１～請求項２１のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
    印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、
    得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む
    平版印刷方法。

Images