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JP7270201B2 - エポキシ樹脂組成物及び樹脂封止基板 - Google Patents

エポキシ樹脂組成物及び樹脂封止基板 Download PDF

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Description

本開示は、一般にエポキシ樹脂組成物及び樹脂封止基板に関し、より詳細にはエポキシ樹脂と硬化剤とを含有するエポキシ樹脂組成物及び樹脂封止基板に関する。
特許文献1は、低光沢熱硬化性エポキシ樹脂組成物を開示している。この低光沢熱硬化性エポキシ樹脂組成物は、1分子中に2個以上のエポキシ基を含むエポキシ樹脂と、エポキシ樹脂硬化剤と、無機充填材と、25℃において固体状の熱可塑性樹脂粒子と、を含んでいる。
また特許文献2は、封止用エポキシ樹脂無機複合シートを開示している。この封止用エポキシ樹脂無機複合シートは、エポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填材を必須の成分とするエポキシ樹脂組成物を、キャリア材の表面に塗布し、加熱乾燥させて半硬化状態に形成させたものである。
特開2018-035292号公報 特開2014-095063号公報
近年、ウェアラブル分野の研究開発が活発化しているが、特許文献1の低光沢熱硬化性エポキシ樹脂組成物及び特許文献2の封止用エポキシ樹脂無機複合シートは、柔軟性及び伸縮性の点でウェアラブル機器への適用は難しい。
本開示の目的は、柔軟性及び伸縮性に優れた成形物を得ることができるエポキシ樹脂組成物及び樹脂封止基板を提供することにある。
本開示の一態様に係るエポキシ樹脂組成物は、基板に搭載された電子部品の封止用に用いられるエポキシ樹脂組成物であって、エポキシ樹脂と、硬化剤と、無機充填材と、を含有する。前記エポキシ樹脂が、下記式(1)で表されるエポキシ樹脂を含む。下記式(1)で表されるエポキシ樹脂の含有量が、前記エポキシ樹脂の全質量に対して50質量%以上である。前記硬化剤が、下記式(2)で表されるフェノール樹脂を含む。前記基板が、柔軟性及び伸縮性を有するフィルムである。
Figure 0007270201000001
本開示の一態様に係る樹脂封止基板は、前記基板と、前記基板上に搭載された電子部品と、前記電子部品を封止する封止樹脂層と、を備える。前記封止樹脂層が、前記エポキシ樹脂組成物の成形物である。
本開示によれば、柔軟性及び伸縮性に優れた成形物を得ることができる。
図1は、本開示の一実施形態に係る樹脂封止基板の斜視図である。 図2は、上記樹脂封止基板の概略断面図である。
1.概要
本実施形態に係るエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、を含有する。
エポキシ樹脂は、下記式(1)で表されるエポキシ樹脂を含む。下記式(1)で表されるエポキシ樹脂の含有量は、エポキシ樹脂の全質量に対して50質量%以上である。
Figure 0007270201000002
硬化剤は、下記式(2)で表されるフェノール樹脂を含む。
Figure 0007270201000003
本実施形態に係るエポキシ樹脂組成物によれば、式(1)で表されるエポキシ樹脂及び式(2)で表されるフェノール樹脂の組合せにより、柔軟性及び伸縮性に優れた成形物を得ることができる。
2.詳細
2.1 エポキシ樹脂組成物
本実施形態に係るエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、を含有する。エポキシ樹脂組成物は常温で液状である。
エポキシ樹脂は、プレポリマー(低重合体又はオリゴマーともいう)である。具体的には、エポキシ樹脂は、下記式(1)で表されるエポキシ樹脂を含む。
式(1)中のR1は、炭素数2以上の2価の有機基であり、主鎖を構成し得る。エポキシ樹脂組成物の成形時における流動性の観点から、R1の炭素数は、好ましくは100以下、より好ましくは50以下である。R1の炭素数が1であると、成形物が伸縮性能を発揮しないおそれがある。
2価の有機基は、例えば、メチレン直鎖である。メチレン直鎖は、2個以上のメチレン基が直列に結合している構造である。メチレン直鎖の少なくとも一部の水素原子は、炭素数1以上20以下のアルキル基などの置換基で置換されていてもよい。主鎖がベンゼン環を含んでいてもよい。成形物の柔軟性及び伸縮性の観点から、R1は長いほど好ましい。
式(1)で表されるエポキシ樹脂は、分子中にエポキシ基を2個含む化合物である。エポキシ基は、主鎖の両端に1個ずつ結合している。好ましくは、R1は、エポキシ基を含まない。このように、R1の部分にエポキシ基が存在しないことで、主鎖の両端以外の部分で架橋しないようにすることができ、成形物の柔軟性及び伸縮性が損なわれることを抑制することができる。
Figure 0007270201000004
好ましくは、R1は、シロキサン結合を含まない。このことで、樹脂封止基板1(図2参照)において、エポキシ樹脂組成物の成形物である封止樹脂層4と、基板2及び電子部品3との間の密着性の低下を抑制することができる。
エポキシ樹脂は、式(1)で表されるエポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂(以下「その他のエポキシ樹脂」という場合がある)を含んでもよい。その他のエポキシ樹脂の具体例として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールA/D型エポキシ樹脂、及びビフェニル型エポキシ樹脂が挙げられる。
エポキシ樹脂が、その他のエポキシ樹脂を含む場合、式(1)で表されるエポキシ樹脂の含有量は、エポキシ樹脂の全質量に対して50質量%以上であり、好ましくは70質量%以上である。式(1)で表されるエポキシ樹脂の含有量が50質量%未満であると、柔軟性及び伸縮性を成形物に付与することができないおそれがある。例えば、その他のエポキシ樹脂が剛直な骨格を有する場合には、その影響が大きくなり、式(1)で表されるエポキシ樹脂による柔軟性及び伸縮性の付与効果が減殺されて、成形物が硬くて脆くなるおそれがある。
硬化剤は、下記式(2)で表されるフェノール樹脂を含む。式(2)中のR2は、炭素数1以上、好ましくは1以上100以下、より好ましくは1以上50以下の2価の有機基であり、主鎖を構成し得る。2価の有機基は、例えば、メチレン直鎖である。メチレン直鎖の少なくとも一部の水素原子は、アルキル基などの置換基で置換されていてもよい。主鎖がベンゼン環を含んでいてもよい。成形物の柔軟性及び伸縮性の観点から、R2は長いほど好ましい。
式(2)で表されるフェノール樹脂は、分子中に、2個以上のフェノール性水酸基を含み、好ましくは1個以上、より好ましくは2個以上のアリル基を含む化合物である。フェノール性水酸基は、主鎖の両端にそれぞれ少なくとも1個ずつ結合している。2個以上のアリル基を含む場合には、主鎖の両端にそれぞれ少なくとも1個ずつのアリル基が結合していることが好ましい。このように、主鎖の両端に結合しているアリル基が、成形物の柔軟性及び伸縮性の向上に関与し得ると推定される。
Figure 0007270201000005
好ましくは、式(2)で表されるフェノール樹脂は、シロキサン結合を含まない。このことで、樹脂封止基板1(図2参照)において、エポキシ樹脂組成物の成形物である封止樹脂層4と、基板2及び電子部品3との間の密着性の低下を抑制することができる。
好ましくは、R2は、エポキシ基を含まない。このように、R2の部分にエポキシ基が存在しないことで、主鎖の両端以外の部分で架橋しないようにすることができ、成形物の柔軟性及び伸縮性が損なわれることを抑制することができる。
硬化剤は、式(2)で表されるフェノール樹脂以外の硬化剤(以下「その他の硬化剤」という場合がある)を含んでもよい。その他の硬化剤の具体例として、酸無水物、アミン及びフェノールノボラック樹脂が挙げられる。
エポキシ樹脂に対する硬化剤の化学量論上の当量比(硬化剤/エポキシ樹脂)は、0.5以上2.0以下の範囲内であることが好ましい。
好ましくは、エポキシ樹脂組成物は、無機充填材を更に含有する。このことで、耐湿性を成形物に付与することができる。つまり、成形物を吸湿しにくくすることができる。耐湿性は、水蒸気透過度などで評価可能である。無機充填材の具体例として、溶融シリカ、結晶性シリカ及びアルミナが挙げられる。エポキシ樹脂組成物の成形時の流動性の観点から、溶融シリカが好ましい。
エポキシ樹脂組成物が無機充填材を更に含有する場合、無機充填材の含有量は、エポキシ樹脂組成物の全質量に対して70質量%以下であることが好ましい。無機充填材の含有量が70質量%以下であることで、成形物の柔軟性及び伸縮性を維持しながら、成形物の耐湿性を向上させることができる。さらに無機充填材の含有量が70質量%以下であれば、エポキシ樹脂組成物の粘度の上昇が抑えられ、流動性を保持することができるので、エポキシ樹脂組成物を狭い隙間にも容易に充填することができる。すなわち、エポキシ樹脂組成物を、基板2と電子部品3との間の隙間を充填する封止樹脂層4を形成するためのアンダーフィル材として使用可能である(図2参照)。無機充填材の含有量の下限値は特に限定されないが、例えば1質量%である。
エポキシ樹脂組成物は、硬化促進剤を更に含有してもよい。硬化促進剤の具体例として、2-エチル-4-メチルイミダゾール、含窒素化合物及びリン化合物が挙げられる。
エポキシ樹脂組成物は、上述のエポキシ樹脂及び硬化剤を適宜の混合装置で混合し、必要に応じてこの混合物に上述の無機充填材及び硬化促進剤を添加して混合することによって調製することができる。
エポキシ樹脂組成物の粘度は、好ましくは100Pa・s以下、より好ましくは20Pa・s以下である。このことで、エポキシ樹脂組成物の流動性が向上し、エポキシ樹脂組成物をアンダーフィル材として好適に用いることができる。エポキシ樹脂組成物を、基板2と電子部品3との間の隙間に充填して封止樹脂層4を形成する際、この封止樹脂層4中にボイドが発生することを抑制することができる。なお、粘度は、室温(25℃)での粘度を意味する。
エポキシ樹脂組成物の成形物は、エポキシ樹脂組成物を加熱して硬化反応させることによって得られる。このようにして得られた成形物は、柔軟性に優れている。すなわち、成形物は、容易に折り曲げることができ、折り曲げても割れにくい。さらに成形物は、伸縮性に優れている。すなわち、成形物は、容易に伸び縮みすることができ、伸ばしたり縮めたりしても元に戻りやすい。このように、本実施形態に係るエポキシ樹脂組成物によれば、柔軟性及び伸縮性に優れた成形物を得ることができる。
エポキシ樹脂組成物の成形物の破断伸び率は、好ましくは30%以上、より好ましくは100%以上、更に好ましくは300%以上である。破断伸び率が30%以上であることで、例えば封止樹脂層4として成形物が、柔軟性及び伸縮性を有する基板2と一体化されている場合には、この基板2の特性を損ないにくくなる。すなわち、基板2と一緒に封止樹脂4も折り曲げたり、伸ばしたり縮めたりすることができる。
ここで、上記の破断伸び率は、引張試験を行うことにより得られる。引張試験では、エポキシ樹脂組成物で試験片を作製し、この試験片に平行な2本の標線をつけ、これらの標線に垂直な方向に、破断するまで引っ張る。そして、標線間距離の増加量を、初めの標線間距離(例えば25mm)で除した値を、破断伸び率とする。標線間距離の増加量は、破断後の標線間距離と初めの標線間距離との差である。破断後の標線間距離は、破断した試験片を突き合わせて測定される。なお、エポキシ樹脂組成物の成形物の破断伸び率の上限値は特に限定されないが、例えば500%である。
好ましくは、エポキシ樹脂組成物は、基板2に搭載された電子部品3の封止用に用いられる。つまり、エポキシ樹脂組成物を液状封止材として用いることが好ましい。比較的安価な設備で液状封止材による樹脂封止を行うことができ、実装形態の多様化への対応が容易であり、少量多品種生産に向いている。
2.2 樹脂封止基板
図1に本実施形態に係る樹脂封止基板1を示す。樹脂封止基板1は、フィルム状又はシート状である。樹脂封止基板1は、基板2と、電子部品3と、封止樹脂層4と、を備える。
基板2は、電気的絶縁性を有する。基板2の厚さ、平面視の形状、大きさ及び材質は特に限定されない。基板2の表面には、導体配線20が形成されている。導体配線20は、例えば、導電性ペーストなどで形成されている。
好ましくは、基板2は、ストレッチャブル樹脂フィルム21である。ストレッチャブル樹脂フィルム21は、柔軟性及び伸縮性を有するフィルムである。例えば、ストレッチャブル樹脂フィルム21の引張り伸びは2.5倍以上である。基板2がストレッチャブル樹脂フィルム21であることで、成形物の伸縮性という真価を十分に発揮させることができる。なお、もちろん基板2は、柔軟性及び伸縮性を有しないものでもよい。
電子部品3は、基板2上に搭載されている。電子部品3の数は特に限定されない。電子部品3には、能動部品(半導体素子など)及び受動部品(チップ抵抗、チップコンデンサ及びチップインダクタなど)が含まれる。さらに電子部品3には、半導体素子等が搭載されたパッケージも含まれる。基板2と電子部品3とは接触していてもよいが、図2に示すようにバンプ31を介して離れていてもよい。バンプ31は、基板2の導体配線20と電子部品3とを電気的に接続している。
封止樹脂層4は、エポキシ樹脂組成物の成形物である。封止樹脂層4は、電子部品3を封止している。より詳細には、封止樹脂層4は、電子部品3を全体的又は部分的に封止している。ここで、電子部品3を全体的に封止するとは、例えば、図2に示すように、電子部品3の全体が封止樹脂層4内に埋もれるように封止することをいう。一方、電子部品3を部分的に封止するとは、例えば、基板2の導体配線20と電子部品3とを電気的に接続している部分(バンプ31など)の周辺のみを封止して、その他の部分を封止しないことをいう。このように電子部品3を全体的又は部分的に封止することで、封止樹脂層4で封止された部分(電子部品3の全体又は一部)は、外部環境から保護される。好ましくは、封止樹脂層4は、導体配線20も封止している。このようにして導体配線20も、外部環境から保護され、断線が抑制される。封止樹脂層4の厚さは、特に限定されないが、例えば、5μm以上10000μm(1cm)以下の範囲内である。
樹脂封止基板1は、次のようにして製造することができる。まず基板2の表面に導電性ペーストなどで導体配線20を形成する。次にこの基板2に、はんだ付けなどの適宜の実装方法により電子部品3を搭載する。これにより基板2の導体配線20と電子部品3とがバンプ31などを介して電気的に接続される(図2参照)。次に電子部品3及び導体配線20を被覆するようにエポキシ樹脂組成物を塗布する。このとき基板2と電子部品3との間の隙間にボイドを残すことなく、エポキシ樹脂組成物を充填することができる。その後、エポキシ樹脂組成物を加熱して硬化反応させることによって封止樹脂層4を形成する。このようにして図1に示すような樹脂封止基板1を製造することができる。
このようにして得られた樹脂封止基板1は、柔軟性に優れている。すなわち、樹脂封止基板1は、容易に折り曲げることができ、折り曲げても割れにくい。
さらに樹脂封止基板1は、伸縮性に優れている。すなわち、樹脂封止基板1は、容易に伸び縮みすることができ、伸ばしたり縮めたりしても元に戻りやすい。
このように、本実施形態に係る樹脂封止基板1は、柔軟性及び伸縮性に優れている。すなわち、特に基板2がストレッチャブル樹脂フィルム21である場合には、電子部品3を保護し、かつ導体配線20の断線などを抑制しつつ、樹脂封止基板1全体を自由に折り曲げたり伸縮させたりすることができる。そのため、様々な自由曲面上に樹脂封止基板1を追従させて設置することができる。したがって、ウェアラブル、センサ、ディスプレイ及びロボットなど幅広い分野において樹脂封止基板1を利用することが可能である。
3.態様
上記実施形態から明らかなように、本開示は、下記の態様を含む。以下では、実施形態との対応関係を明示するためだけに、符号を括弧付きで付している。
第1の態様に係るエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、を含有する。前記エポキシ樹脂が、下記式(1)で表されるエポキシ樹脂を含む。下記式(1)で表されるエポキシ樹脂の含有量が、前記エポキシ樹脂の全質量に対して50質量%以上である。前記硬化剤が、下記式(2)で表されるフェノール樹脂を含む。
Figure 0007270201000006
この態様によれば、柔軟性及び伸縮性に優れた成形物を得ることができる。
第2の態様に係るエポキシ樹脂組成物は、第1の態様において、無機充填材を更に含有する。
この態様によれば、耐湿性を成形物に付与することができる。
第3の態様に係るエポキシ樹脂組成物は、第2の態様において、前記無機充填材の含有量が、前記エポキシ樹脂組成物の全質量に対して70質量%以下である。
この態様によれば、成形物の柔軟性及び伸縮性を維持しながら、成形物の耐湿性を向上させることができる。
第4の態様に係るエポキシ樹脂組成物は、第1~3のいずれかの態様において、前記エポキシ樹脂組成物の成形物の破断伸び率が30%以上である。
この態様によれば、封止樹脂層(4)として成形物が、柔軟性及び伸縮性を有する基板(2)と一体化されている場合には、この基板(2)の特性を損ないにくくなる。
第5の態様に係るエポキシ樹脂組成物は、第1~4のいずれかの態様において、基板(2)に搭載された電子部品(3)の封止用に用いられる。
この態様によれば、比較的安価な設備で液状封止材による樹脂封止を行うことができ、実装形態の多様化への対応が容易であり、少量多品種生産に向いている。
第6の態様に係る樹脂封止基板(1)は、基板(2)と、前記基板(2)上に搭載された電子部品(3)と、前記電子部品(3)を封止する封止樹脂層(4)と、を備える。前記封止樹脂層(4)が、第1~5のいずれかの態様に係るエポキシ樹脂組成物の成形物である。
この態様によれば、特に基板(2)がストレッチャブル樹脂フィルム(21)である場合には、電子部品(3)を保護し、かつ導体配線(20)の断線などを抑制しつつ、樹脂封止基板(1)全体を自由に折り曲げたり伸縮させたりすることができる。
以下、本開示を実施例によって具体的に説明するが、本開示は実施例に限定されない。
[エポキシ樹脂組成物]
表1に示す配合組成(質量%)で各成分を配合し、プラネタリーミキサーで混合し、さらに3本ロールで分散することによって、実施例1~5及び比較例1の液状のエポキシ樹脂組成物を調製した。なお、各成分の詳細は、以下のとおりである。
(エポキシ樹脂)
・エポキシ樹脂1:三菱ケミカル株式会社製「YX7400」、エポキシ当量440g/eq、式(1)で表されるエポキシ樹脂
・エポキシ樹脂2:新日鉄住金化学株式会社製「YDF-8170C」、エポキシ当量155~165g/eq、式(1)で表されるエポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂
(硬化剤)
・明和化成株式会社製「MEH-8000H」、水酸基当量139~143g/eq、式(2)で表されるフェノール樹脂
(無機充填材)
・デンカ株式会社製「FB-5SDC」、溶融シリカ、球状、平均粒子径4.1μm
(硬化促進剤)
・2-エチル-4-メチルイミダゾール(2E4MZ)
[評価試験]
各エポキシ樹脂組成物について、以下の評価試験を行った。各評価試験の結果を表1に示す。
(粘度)
各エポキシ樹脂組成物の粘度を室温(25℃)にてB型粘度計を用いて測定した。
(破断伸び率)
各エポキシ樹脂組成物でダンベル状の試験片(厚さ50μm、6号形、平行部幅4mm、平行部長さ25mm)を作製した。次に、ISO 3384に準拠した引張試験機(株式会社島津製作社製「オートグラフAGS-X」)を用いて、上記の試験片について、引張速度25mm/minで引張試験を行い、破断伸び率を求めた。
(水蒸気透過度)
JIS K7129附属書Bに準拠して、各エポキシ樹脂組成物で試験片を作製し、この試験片について水蒸気透過度を測定した。
Figure 0007270201000007
1 樹脂封止基板
2 基板
3 電子部品
4 封止樹脂層

Claims (4)

  1. 基板に搭載された電子部品の封止用に用いられるエポキシ樹脂組成物であって、
    前記エポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、無機充填材と、を含有し、
    前記エポキシ樹脂が、下記式(1)で表されるエポキシ樹脂を含み、
    下記式(1)で表されるエポキシ樹脂の含有量が、前記エポキシ樹脂の全質量に対して50質量%以上であり、
    前記硬化剤が、下記式(2)で表されるフェノール樹脂を含み、
    前記基板が、柔軟性及び伸縮性を有するフィルムである、
    エポキシ樹脂組成物。
    Figure 0007270201000008
  2. 前記無機充填材の含有量が、前記エポキシ樹脂組成物の全質量に対して70質量%以下である、
    請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
  3. 前記エポキシ樹脂組成物の成形物の破断伸び率が30%以上である、
    請求項1又は2に記載のエポキシ樹脂組成物。
  4. 前記基板と、前記基板上に搭載された電子部品と、前記電子部品を封止する封止樹脂層と、を備え、
    前記封止樹脂層が、請求項1~3のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物の成形物である、
    樹脂封止基板。
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