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JP7256939B2 - 発光装置 - Google Patents

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JP7256939B2 JP2018164946A JP2018164946A JP7256939B2 JP 7256939 B2 JP7256939 B2 JP 7256939B2 JP 2018164946 A JP2018164946 A JP 2018164946A JP 2018164946 A JP2018164946 A JP 2018164946A JP 7256939 B2 JP7256939 B2 JP 7256939B2
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Description

本発明の実施形態は、発光装置に関する。
近年、エネルギー消費量の削減を目的とする取り組みが重要視されている。このような背景から、消費電力が比較的少ないLED(Light Emitting Diode)が次世代の光源として注目されている。LEDは、小型で発熱量が少なく、応答性もよい。このため、種々の光学装置に幅広く利用されている。
例えば、近年では、可撓性及び透光性を有する基板に配置されたLEDを光源とする発光装置が提案されている。この種の発光装置を屋外や自動車などに使用する場合には、高温で多湿となる場所での使用に耐え得るような基板や樹脂を用いて発光装置を構成する必要がある。
特に、基板に対して発光素子を保持する樹脂は、温度や湿度が変化すると粘弾性などの特性が顕著に変化する。樹脂の粘弾性の大きな変化は、基板の導体層とLEDの電極の間で生じる接触不良の要因となる。
特開2012-084855号公報
本発明は、上述の事情の下になされたもので、信頼性の高い発光装置を提供することを課題とする。
上述の課題を達成するために、本実施形態に係る発光装置は、光透過性及び可撓性を有し、導電層が形成された第1基板と、光透過性及び可撓性を有し、前記第1基板に対向して配置される第2基板と、前記導電層に接続される電極を有し、前記第1基板と前記第2基板の間に配置される複数の発光素子と、光透過性及び可撓性を有し、前記第1基板及び前記第2基板の間に配置され、複数の前記発光素子を保持する樹脂層と、を備え、前記樹脂層を構成する樹脂は、-50℃における貯蔵弾性率に対する100℃の貯蔵弾性率が-26%以上であり、湿度が25%~85%の範囲において、25℃のときの貯蔵弾性率の平均値から85℃のときの貯蔵弾性率の平均値への低下率が、30.6%以下であり、損失弾性率の温度変化は、130℃以上でピークを有し、動的粘弾性における機械的損失正接tanδが最大となるときのピーク温度tanδmaxが135℃以上、180℃以下であり、前記機械的損失正接tanδのピーク強度が1.01以上であり、前記機械的損失正接tanδの変化量は、湿度が50%以上、85%以下の範囲で、9.05×10 -03 以下であり、温度が85℃、湿度が40%以上、85%以下の範囲における膨張率が0.45%以下であり、温度が85℃、ひずみ量が5.0%における曲げ応力が65.71MPa以上であり、温度25℃、ひずみ量5.0%における曲げ応力から、温度85℃、ひずみ量5.0%における前記曲げ応力への変化率が-30.8%以より大きい。
発光装置の斜視図である。 発光装置の展開斜視図である。 発光パネルの側面図である。 発光装置の平面図である。 導体層に接続される発光素子を示す図である。 発光素子の斜視図である。 フレキシブルケーブルの側面図である。 発光パネルとフレキシブルケーブルの接続要領を説明するための図である。 発光パネルの製造要領を説明するための図である。 発光パネルの製造要領を説明するための図である。 発光パネルの製造要領を説明するための図である。 ジャンクション温度と良品数との関係を示す図である。 樹脂A~Cの温度と貯蔵弾性率との関係を示す図である。 樹脂A~Cの温度と損失弾性率との関係を示す図である。 樹脂A~Cの温度と損失正接tanδとの関係を示す図である。 発光装置を1000時間駆動したときの良品数を表す表を示す図である。 樹脂Aの湿度と貯蔵弾性率との関係を示す図である。 樹脂Aの湿度と損失正接tanδとの関係を示す図である。 樹脂Bの湿度と貯蔵弾性率との関係を示す図である。 樹脂Bの湿度と損失正接tanδとの関係を示す図である。 樹脂A,Bの湿度と膨張率との関係を示す図である。 ジャンクション温度Tjと環境温度との差ΔTjと、樹脂層の損失正接tanδが最大となるときのピーク温度tanδmaxとの関係を示す図である。 樹脂A~Cの曲げ応力の測定結果を表す表を示す図である。 発光パネルの変形例を示す図である。 発光パネルの変形例を示す図である。
以下、本発明の実施形態を、図面を用いて説明する。説明には、相互に直交するX軸、Y軸、Z軸からなるXYZ座標系を用いる。
図1は本実施形態に係る発光装置10の斜視図である。また、図2は発光装置10の展開斜視図である。図1及び図2を参照するとわかるように、発光装置10は、長手方向をX軸方向とする発光パネル20と、発光パネル20に接続されるフレキシブルケーブル40と、フレキシブルケーブル40に設けられるにコネクタ50及び補強板60を有している。
図3は、発光パネル20の側面図である。図3に示されるように、発光パネル20は、1組の基板21,22、基板21,22の間に形成された樹脂層24、樹脂層24の内部に配置された8個の発光素子30~30を有している。
基板21,22は、長手方向をX軸方向とするフィルム状の部材である。基板21,22は、厚さが50~300μm程度であり、可視光に対して透過性を有する。基板21、22の全光線透過率は、5~95%程度であることが好ましい。なお、全光線透過率とは、日本工業規格JISK7375:2008に準拠して測定された全光透過率をいう。
基板21,22は、可撓性を有し、その曲げ弾性率は、0~320kgf/mm程度(ゼロを除く)である。なお、曲げ弾性率とは、ISO178(JIS K7171:2008)に準拠する方法で測定された値である。
基板21,22の素材としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンサクシネート(PES)、アートン(ARTON)、アクリル樹脂などを用いることが考えられる。
上記1組の基板21,22のうち、基板21の下面(図3における-Z側の面)には、厚さが0.05μm~10μm程度の導体層23が形成されている。導体層23は、例えば、蒸着膜や、スパッタ膜である。また、導体層23は、金属膜を接着剤で貼り付けたものであってもよい。導体層23が、蒸着膜やスパッタ膜である場合は、導体層23の厚さは0.05~2μm程度である。導体層23が、接着された金属膜である場合は、導体層23の厚さは2~10μm、或いは2~7μm程度である。導体層23は、銅(Cu)や銀(Ag)などの金属材料からなる金属層である。
図4は、発光装置10の平面図である。図4を参照するとわかるように、導体層23は、基板21の+Y側の外縁に沿って形成されるL字状の導体パターン23aと、基板21の-Y側の外縁に沿って配列される長方形の導体パターン23b~23iからなる。発光装置10では、導体パターン23a~23i同士の距離Dは、約100μm以下である。
図5は、導体パターン23a,23bの一部を拡大して示す図である。図5に示されるように、導体パターン23a~23iは、線幅が約5μmのラインパターンからなるメッシュパターンである。X軸に平行なラインパターンは、Y軸に沿って約150μm間隔で形成されている。また、Y軸に平行なラインパターンは、X軸に沿って約150μm間隔で形成されている。各導体パターン23a~23iには、発光素子30~30の電極が接続されるパッド23Pが形成されている。
発光装置10では、基板22の方が、基板21よりもX軸方向の長さが短い。このため、図3及び図4を参照するとわかるように、導体層23を構成する導体パターン23aと導体パターン23iの+X側端が露出した状態になっている。
図3に示されるように、樹脂層24は、基板21と基板22の間に形成された絶縁体である。樹脂層24は、例えば、透光性を有するエポキシ系の熱硬化性樹脂からなる。樹脂層24は、例えば、硬化前の最低溶融粘度VC1が80~160℃の範囲で10~10000Pa・sであることが好ましい。また、硬化前の最低溶融粘度VC1における温度T1(最軟化温度)に到達するまでの溶融粘度変化率VRが1/1000以下(1000分の1以下)であることが好ましい。さらに、樹脂層24は、加熱されることにより最低溶融粘度に到達した後、すなわち、硬化した後のビカット軟化温度T2が80~160℃の範囲であり、0℃から100℃の範囲での引張貯蔵弾性率EMが0.01~1000GPaであることが好ましい。また、樹脂層24は、100~160℃のガラス転移温度T3を有することが好ましい。
溶融粘度は、JIS K7233に記載の方法に従って、測定対象物の温度を50℃~180℃まで変化させて求められる値である。ビカット軟化温度は、JIS K7206(ISO 306:2004)に記載のA50に従って、試験荷重10N、昇温速度50℃/時間の条件で求められる値である。ガラス転移温度と融解温度は、JIS K7121(ISO 3146)に準拠した方法に従って、示差走査熱量測定により求められる値である。引張貯蔵弾性率は、JlS K7244-1(ISO 6721)に準拠した方法に従って求められる値である。具体的には、-100℃から200℃まで1分間に1℃ずつ等速昇温される測定対象物を、動的粘弾性自動測定器を用いて周波数10Hzでサンプリングすることにより得られる値である。
樹脂層24の厚さT2は、導体層23とバンプ37,38とが良好に接触するように、発光素子30~30の高さT1より小さくなっている。樹脂層24と密着している基板21,22は、発光素子30~30が配置されている部分が外側に突出し、発光素子30~30同士の間の部分が窪むように湾曲した形状を有している。このように基板21,22が湾曲することで、基板21,22によって、導体層23がバンプ37,38に押し付けられた状態になっている。したがって、導体層23とバンプ37,38との電気的な接続性やその信頼性を高めることが可能になる。
なお、樹脂層24は、透過率が少なくとも5%以上で、熱硬化性を有する樹脂を主成分とする材料からなることが好ましいが、必要に応じて他の樹脂成分等を含んでいてもよい。熱硬化性を有する樹脂としては、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、エステル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂等が知られている。一方、熱可塑性樹脂としては、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、アクリル樹脂、テフロン(登録商標)樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリロニトルブダジエンスチレン樹脂、ポリアミドイミド樹脂等が知られている。これらのうち、エポキシ系樹脂は、透光性、電気絶縁性、可撓性等に加えて、軟化時の流動性、硬化後の接着性、耐候性等に優れることから、樹脂層24の構成材料として好適である。もちろん、樹脂層24は、エポキシ系樹脂以外の他の樹脂から構成されていてもよい。
発光素子30は、正方形のLEDチップである。図6に示されるように、発光素子30は、ベース基板31、N型半導体層32、活性層33、P型半導体層34からなる4層構造のLEDチップである。発光素子30の定格電流は約50mAである。
ベース基板31は、GaAsやSiやGaP等からなる正方形板状の半導体基板である。ベース基板31の上面には、当該ベース基板31と同形状のN型半導体層32が形成されている。そして、N型半導体層32の上面には、順に、活性層33、P型半導体層34が積層されている。N型半導体層32に積層される活性層33、及びP型半導体層34は、-Y側かつ-X側のコーナー部分に切欠きが形成され、N型半導体層の表面が露出している。
N型半導体層32の、活性層33とP型半導体層34から露出する部分には、N型半導体層32と電気的に接続されるパッド36が形成されている。また、P型半導体層34の+X側かつ+Y側のコーナー部分には、P型半導体層34と電気的に接続されるパッド35が形成されている。パッド35,36は、銅(Cu)、金(Au)からなり、上面には、バンプ37,38が形成されている。バンプ37,38は、半田からなり、半球状に整形されている。半田バンプのかわりに金(Au)や金合金などの金属バンプを用いてもよい。発光素子30では、バンプ37が、カソード電極として機能し、バンプ38が、アノード電極として機能する。
上述のように構成される発光素子30は、図5に示されるように、導体パターン23a,23bの間に配置され、バンプ37が導体パターン23aのパッド23Pに接続され、バンプ38が導体パターン23bのパッド23Pに接続される。
他の発光素子30~30も、発光素子30と同等の構成を有している。そして、発光素子30が、導体パターン23b,23cの間に配置され、バンプ37,38が導体パターン23b,23cにそれぞれ接続される。以下同様に、発光素子30は、導体パターン23c,23dにわたって配置される。発光素子30は、導体パターン23d,23eにわたって配置される。発光素子30は、導体パターン23e,23fにわたって配置される。発光素子30は、導体パターン23f,23gにわたって配置される。発光素子30は、導体パターン23g,23hにわたって配置される。発光素子30は、導体パターン23h,23iにわたって配置される。これにより、導体パターン23a~23i、及び発光素子30~30が直列に接続される。発光パネル20では、発光素子30~30が、約10mm間隔で配置される。
図7は、フレキシブルケーブル40の側面図である。図7に示されるように、フレキシブルケーブル40は、基材41、導体層43、カバーレイ42から構成されている。
基材41は、長手方向をX軸方向とする長方形の部材である。この基材41は、例えばポリイミドからなり、上面に導体層43が形成されている。導体層43は、ポリイミドの上面に張り付けられた銅箔をパターニングすることにより形成される。本実施形態では、導体層43は、図4に示されるように、2つの導体パターン43a,43bからなる。
図7に戻り、基材41の上面に形成された導体層43は、真空熱圧着されたカバーレイ42によって被覆されている。このカバーレイ42は、基材41よりもX軸方向の長さが短い。このため、導体層43を構成する導体パターン43a,43bの-X側端部は、露出した状態になっている。また、カバーレイ42には、開口部42aが設けられ、この開口部42aからは、導体パターン43a,43bの+X側端部が露出している。
図4及び図8を参照するとわかるように、上述のように構成されたフレキシブルケーブル40は、カバーレイ42から露出する導体パターン43a,43bが、発光パネル20の導体パターン23a,23iの+X側端部に接触した状態で、発光パネル20に接着される。
図2に示されるように、コネクタ50は、直方体状の部品で、直流電源から引き回されるケーブルが接続される。コネクタ50は、フレキシブルケーブル40の+X側端部上面に実装される。コネクタ50がフレキシブルケーブル40に実装されると、図8に示されるように、コネクタ50の一対の端子50aそれぞれが、カバーレイ42に設けられた開口部42aを介して、フレキシブルケーブル40の導体層43を構成する導体パターン43a,43bに接続される。
図2に示されるように、補強板60は、長手方向をX軸方向とする長方形板状の部材である。補強板60は、例えばエポキシ樹脂やアクリルからなる。この補強板60は、図8に示されるように、フレキシブルケーブル40の下面に張り付けられる。このため、フレキシブルケーブル40は、補強板60の-X側端と発光パネル20の+X側端の間で屈曲させることができる。
次に、上述した発光装置10を構成する発光パネル20の製造方法について説明する。まず、図9に示されるように、PETからなる基板21を用意する。そして、基板21の表面に、導体パターン23a~23iからなる導体層23を形成する。導体パターン23a~23iの形成方法としては、例えばサブトラクト法又はアディティブ法等を用いることができる。
次に、図10に示されるように、導体パターン23a~23iが形成された基板21の表面に熱硬化性を有する樹脂シート241を設ける。この樹脂シート241の厚みは、発光素子30のバンプ37,38の高さとほぼ同等である。樹脂シート241の素材としては、例えば、エポキシ系樹脂が用いられる。樹脂シート241は、例えば熱硬化性を有するエラストマーである。樹脂シート241は、硬化温度まで昇温されることにより重合して、以後、熱可塑性を有するようになる。
次に、発光素子30~30を、樹脂シート241の上に配置する。このとき発光素子30のバンプ37,38の直下に、導体パターン23a~23iのパッド23Pが位置するように、発光素子30~30が位置決めされる。
次に、図11に示されるように、下面に熱硬化性を有する樹脂シート242が張り付けられた基板22を、基板21の上面側に配置する。樹脂シート242は、樹脂シート241と同等の性質を有する。
次に、基板21,22それぞれを、真空雰囲気下で加熱し圧着させる。これにより、まず、発光素子30に形成されたバンプ37,38が、樹脂シート241を突き抜けて、導体層23に達し、各導体パターン23a~23iに電気的に接続される。また、加熱されることで柔らかくなった樹脂シート241,242が、発光素子30の周囲に隙間なく充填される。
その後、樹脂シート241,242が硬化する。これにより、樹脂シート241及び樹脂シート242は、図3に示されるように、基板21,22の間で発光素子30~30を保持する樹脂層24となる。これにより、発光パネル20が完成する。
上述のように構成された発光パネル20に、図8に示されるように、補強板60が張り付けられたフレキシブルケーブル40を接続し、このフレキシブルケーブル40に、コネクタ50を実装することで、図1に示される発光装置10が完成する。
発光装置10では、コネクタ50を介して、図4に示される導体パターン43a,43bに直流電圧が印加されると、発光パネル20を構成する発光素子30~30が発光する。
上述した発光装置10の発光パネル20は、PETからなる基板21,22が、樹脂層24によって接着される構造になっている。発光装置10を、屋外や高温多湿になるような過酷な環境下で使用すると、温度や湿度の影響で経年劣化が比較的早く進行する。そのため、高温で多湿な環境に耐性を有する樹脂を用いて樹脂層24を構成する必要がある。また、温度や湿度の変化が激しい場所などでは、温度の変化に応じて樹脂層24の粘弾性も変化する。このため、樹脂層24に保持される発光素子30~30のバンプ37,38と、導体パターン23a~23iのパッド23Pとの間で、数十μm以下オーダーの電気的接合が得られている微小領域周囲を樹脂で固められた箇所において、パッド23Pとバンプ37,38が離間して電気的接触が失われる事により、場合によっては、発光素子30~30が消灯してしまうことがある。そこで、樹脂層24に最適な樹脂の選定を行った。
選定にあたっては、発光装置10を屋外で使用することを想定し、温度が85℃で湿度が85%の環境下で例えば10個の発光装置10を1000時間点灯させた。そして、異常なく点灯を継続した発光装置10の数を比較した。
なお、ここで使用した発光装置10の基板21,22の厚さは100μmである。導体層23は、銅からなり厚さは2μmである。導体パターン23a~23iは、線幅5μmで配列ピッチが300μmのラインパターンからなるメッシュパターンである。樹脂層24の厚さは120μmであり、厚さが60μの樹脂シート241,242から形成されたものである。
樹脂層24を構成する樹脂が、それぞれ樹脂A,樹脂B,樹脂Cからなる3種類の発光装置10を、それぞれ10個ずつ準備した。そして、上述した環境下で1000時間点灯させた。
図12は、発光装置10を1000時間駆動したときのジャンクション温度Tjと良品数との関係を示す図である。曲線a1は、樹脂層24として樹脂Aが用いられた発光装置10における良品数とジャンクション温度との関係を示す。曲線b1は、樹脂層24として樹脂Bが用いられた発光装置10における良品数とジャンクション温度との関係を示す。曲線c1は、樹脂層24として樹脂Cが用いられた発光装置10における良品数とジャンクション温度との関係を示す。
以下、便宜上、樹脂層24が樹脂Aからなる発光装置を発光装置10A、樹脂層24が樹脂Bからなる発光装置を発光装置10B、樹脂層24が樹脂Cからなる発光装置を発光装置10Cと表示する。また、温度85℃かつ湿度85%の環境を、ここでは試験環境と定義する。そして、この試験環境下では、ジャンクション温度Tjは105℃であるものとする。
図12に示されるように、試験環境下で、発光装置10A,10B,10Cを故障なく1000時間駆動しようとすると、発光装置10Aでは、発光素子の温度を100℃以下にする必要がある。また、発光装置10B,10Cでは、発光素子の温度を110℃以下、120℃以下にする必要がある。
しかしながら、発光装置10では、発光素子30~30に実用的な値の電流を供給した場合には、発光素子30~30の温度が概ね110℃となる。そのため、発光装置10の樹脂層24に用いる樹脂として樹脂Aは不適格であるといえる。樹脂層24の樹脂としては樹脂B及び樹脂Cを用いる必要がある。
図13は、樹脂A~Cの温度と貯蔵弾性率(Pa)との関係を示す図である。曲線a2は、樹脂Aの貯蔵弾性率の温度依存性を示す。曲線b2は、樹脂Bの貯蔵弾性率の温度依存性を示す。曲線c2は、樹脂Cの貯蔵弾性率の温度依存性を示す。
図13に示されるように、樹脂B,Cの貯蔵弾性率は-100℃から100℃までほぼ一定であるのに対して、樹脂Aの貯蔵弾性率は-50℃から100℃にかけて低下する。そして、100℃を超えると更に低下する度合いが高くなる。
-50℃のときの貯蔵弾性率に対する100℃のときの貯蔵弾性率は、樹脂Aでは-99.7%であった。樹脂B,樹脂Cでは、それぞれ-26.1%、-24.5%であった。したがって、図12の結果となる高温中の試験環境下で、故障なく発光装置10を1000時間駆動しようとすると、樹脂層24の-50℃における貯蔵弾性率に対する100℃の貯蔵弾性率が、―99%より大きいことがよく、-50%以上であればなおよく、-26%以上であるのが最適である。
図14は、樹脂A~Cの温度と損失弾性率(Pa)との関係を示す図である。曲線a3は、樹脂Aの損失弾性率の温度依存性を示す。曲線b4は、樹脂Bの損失弾性率の温度依存性を示す。曲線c3は、樹脂Cの損失弾性率の温度依存性を示す。図14に示されるように、樹脂B、樹脂Cの損失弾性率は-50℃から100℃付近まではほぼ一定である。樹脂B,樹脂Cの損失弾性率は、120℃から140℃の間でピークとなる。
一方、樹脂Aの損失弾性率は-50~40℃まで上昇し、約40℃付近でピークとなる。樹脂Aの損失弾性率は、樹脂Aが40℃以上になると徐々に低下する。したがって、図12の結果となる高温中の試験環境下で、発光装置10を故障なく1000時間駆動しようとすると、40℃以上の温度のときに樹脂層の損失弾性率のピークがあればよい。また、110℃以上の温度のときに樹脂層の損失弾性率のピークがあればなおよく、130℃以上のときに樹脂層の損失弾性率のピークがあるのが最適である。
図15は、樹脂A~Cの温度と損失正接tanδとの関係を示す図である。曲線a4は、樹脂Aの損失正接tanδの温度依存性を示す。曲線b4は、樹脂Bの損失正接tanδの温度依存性を示す。曲線c4は、樹脂Cの損失正接tanδの温度依存性を示す。曲線a4に示されるように、樹脂Aの損失正接tanδが最大になるときの温度は117℃である。また、樹脂Bの損失正接tanδが最大になるときの温度は135℃であり、樹脂Cの損失正接tanδが最大になるときの温度は150℃である。
樹脂A~Cの損失正接tanδがピークになるときの温度は、それぞれ117℃,135℃,150℃である。そのため、発光装置10では、樹脂層24を構成する樹脂の損失正接tanδが最大になるときの温度が高い程、試験環境下での不良品の発生が少ないといえる。
図16の表は、温度が85℃で、湿度が25%,60%,85%の3つの条件1,条件2,条件3の下で、ジャンクション温度Tjを105℃とし、それぞれ10個の発光装置10A,10B,10Cを1000時間駆動したときの良品数を示す。湿度が25%のときには、発光装置10Aの良品数が8個で、発光装置10B,10Cの良品数が10であった。湿度が60%のときには、発光装置10Aの良品数が6個で、発光装置10B,10Cの良品数が10であった。湿度が85%のときには、発光装置10Aの良品数が5個で、発光装置10B,10Cの良品数が10であった。
なお、樹脂A~Cの温度を25℃及び60℃として、同様に、発光装置10A,10B,10Cを1000時間駆動したときには、発光装置の故障は発生しなかった。
図16に示されるように、樹脂層24が樹脂Bからなる発光装置10は、試験環境下で1000時間駆動したときにも、不良品の発生がない。したがって、樹脂層24に用いる樹脂は、損失正接tanδが最大となるときの温度が117℃より高いことが好ましく、130℃以上であるときがさらに好ましく、135℃以上であることが最も好ましいといえる。
更に、tanδのピーク強度は、一般的に粘弾性特性の粘性の寄与度を示していることが知られている。これは弾性が弾性限界を超えた塑性変形領域における靭性が高いため、弾性限界以上でも粘弾性変化に伴う樹脂の変形量が低いことを表している。これは、樹脂の弾性が弾性限界以上になったときの温度でも、接着した樹脂が壊れにくいことを示し、図12に示される結果となる高温高湿環境下の試験で、導体層と発光素子の電気的接続部を保持している樹脂が安定し、デバイスが故障し難いことを示す。
図12に示される試験結果においては、tanδのピーク強度は、樹脂Aが0.64、樹脂B,樹脂Cはそれぞれ1.01,1.08である(図15参照)。tanδのピーク強度が0.64である樹脂Aよりも、tanδのピーク強度が1以上である樹脂B、Cの方が故障の発生が少ない。したがって、tanδのピーク強度は0.64以上であるのがよく、tanδのピーク強度が0.8以上であればなおよく、tanδのピーク強度が1.01以上であることが最適である。
実施例においては、可撓性及び光透過性のある発光装置10を発明の本旨としており、損失正接tanδが最大になるときの温度が180℃より大きくなると、本発明の特徴である可撓性及び光透過性を有する発光装置という特徴がやや失われることも見出した。
図16の表に示されるように、樹脂Aに着目すると、湿度が高くなるにつれて、1000時間の駆動により点灯しなくなる発光装置が増加して、良品と判断される発光装置が減少していくことがわかる。
図17は、樹脂Aの湿度と貯蔵弾性率(Pa)との関係を示す図である。曲線a25は、温度が25℃の樹脂Aの貯蔵弾性率の湿度依存性を示す。曲線a60は、温度が60℃の樹脂Aの貯蔵弾性率の湿度依存性を示す。曲線a85は、温度が85℃の樹脂Aの貯蔵弾性率の湿度依存性を示す。
また、図18は、樹脂Aの湿度と損失正接tanδとの関係を示す図である。曲線at25は、温度が25℃の樹脂Aの損失正接tanδの湿度依存性を示す。曲線at60は、温度が60℃の樹脂Aの損失正接tanδの湿度依存性を示す。曲線at85は、温度が85℃の樹脂Aの損失正接tanδの湿度依存性を示す。
樹脂Aの貯蔵弾性率の湿度依存性を示す曲線a25,a60,a85は、ほぼ一定の値となるが、樹脂Aの損失正接tanδの温度依存性を示す曲線at25,at60,at85は、樹脂Aの温度が高い程右上がりの勾配が大きくなる。特に、曲線at85は、右上がりの勾配が大きい。
図16の表に示されるように、樹脂Aの温度が85℃と高温である場合には、湿度の増加にともなって良品の数が減ることを考えると、良品の数の減少と曲線at85の勾配の増加には相関関係があると考えられる。そのため、高温で用いられる発光装置10の樹脂層24は、損失正接tanδの湿度依存性を示す曲線の勾配が小さいものを選択する必要がある。
曲線at85では、湿度が20%から85%の範囲での変化量が5.55E-02である。また、湿度が50%から85%の範囲での変化量が4.27E-02である。曲線at85の特性を示す樹脂Aでは、図16の表に示されるように、条件3の下では、10個の発光装置10Aのうち5個の発光装置が良品と判断された。このため、発光装置10の樹脂層24を構成する樹脂においては、湿度が20%から85%の範囲での変化量と、湿度が50%から85%の範囲での変化量が、それぞれ5.55E-02、4.27E-02を下回れば、過半数の発光装置が条件3の下で良品と判断されると考えられる。
次に、樹脂Bに着目すると、図16の表に示されるように、条件3の下で良品の数は10であり、すべての発光装置10Bが良品であると判断された。
図19は、樹脂Bの湿度と貯蔵弾性率(Pa)との関係を示す図である。曲線b25は、温度が25℃の樹脂Bの貯蔵弾性率の湿度依存性を示す。曲線b60は、温度が60℃の樹脂Bの貯蔵弾性率の湿度依存性を示す。曲線b85は、温度が85℃の樹脂Bの貯蔵弾性率の湿度依存性を示す。
また、図20は、樹脂Bの湿度と損失正接tanδとの関係を示す図である。曲線bt25は、温度が25℃の樹脂Bの損失正接tanδの湿度依存性を示す。曲線bt60は、温度が60℃の樹脂Bの損失正接tanδの湿度依存性を示す。曲線bt85は、温度が85℃の樹脂Bの貯蔵弾性率の湿度依存性を示す。
更に、湿度によって発光装置10の良品数に差が生じることがないようにするためには、湿度の変化に対する影響が小さい、即ち湿度が変化したときの貯蔵弾性率の変化が少ない樹脂を選択する必要がある。
図17に示される曲線a25,a60,a85を比較すると、樹脂Aの貯蔵弾性率は、25℃のときよりも85℃のときの方が小さいことがわかる。同様に、図19に示される曲線b25,b60,b85を比較すると、樹脂Bの貯蔵弾性率は、25℃のときよりも85℃のときの方が小さいことがわかる。
湿度が25%~85%の範囲では、25℃の樹脂Aの貯蔵弾性率の平均値から85℃の樹脂Aの貯蔵弾性率の平均値への低下率は、69.1%である。また、25℃の樹脂
Bの貯蔵弾性率の平均値から85℃の樹脂Bの貯蔵弾性率の平均値への低下率は、30.6%である。樹脂Bにおける平均値の低下率(30.6%)は、樹脂Aにおける平均値の低下率(69.1%)の半分であることがわかる。
したがって、湿度が25%~85%の範囲において、樹脂層24を構成する樹脂は、25℃のときの貯蔵弾性率の平均値から85℃のときの貯蔵弾性率の平均値への低下率が、69%以下であることがよく、30.6%以下であることが最適である。
樹脂Aの場合と同様に、樹脂Bの貯蔵弾性率の湿度依存性を示す曲線b25,b60,b85に示されるように、樹脂Bの貯蔵弾性率は、ほぼ一定の値となる。しかし、樹脂Bの損失正接tanδの温度依存性を示す曲線bt25,bt60,bt85は、樹脂Bの温度が高い程右上がりの勾配がやや大きくなる。そして、曲線bt85においては、湿度が20%から85%の範囲での変化量が1.35E-02で、湿度が50%から85%の範囲での変化量が9.05E-03である。
樹脂Aでは温度が60℃のときに、湿度30%、50%、85%では全て良品であったことから、図18のat60のtanδの湿度が20%から85の範囲の変化量が2.97E-02以下で、湿度が50%から85%の範囲の変化量が1.63E-02以下であればなおよい。
したがって、湿度が20%から85%の範囲での変化量が5.55E-02以下で、湿度が50%から85%の範囲での変化量が4.27E-02以下の樹脂であることがよく、湿度が20%から85%の範囲での変化量が2.97E-02以下で、湿度が50%から85%の範囲での変化量が1.63E-02以下であればなおよい。更に湿度が20%から85%の範囲での変化量が1.35E-02、湿度が50%から85%の範囲での変化量が9.05E-03である樹脂を発光装置10の樹脂層として用いることで、条件1乃至3における良品数をサンプル数の過半数以上とすることができると考えられる。
発光装置10を構成する樹脂層24が湿度の影響を受けて吸湿して膨張すると、樹脂層24に保持される発光素子30~30のバンプ37,38と、導体パターン23a~23iのパッド23Pとの間で、数十μm以下オーダーの電気的接合が得られている微小領域周囲を樹脂で固められた箇所において、パッド23Pとバンプ37,38が離間して電気的接触が失われる。その結果として、導体層23とバンプ37,38の接触不良が生じる。そのため、発光装置10の信頼性を向上するためには、樹脂層24の膨張率を所定の値以下とする必要がある。
なお、樹脂の膨張率は、JIS K 7197に準拠し、[NETZSCH 日本製]の湿度制御型熱機械分析装置TMAによって計測された値である。
図21は、樹脂A,Bの湿度と膨張率との関係を示す図である。曲線a4は、85℃の温度の樹脂Aの膨張率と湿度依存性を示す。曲線b4は、85℃の温度の樹脂Bの膨張率と湿度依存性を示す。図16の表に示されるように、樹脂Aを用いた発光装置10Aでは、湿度が高くなるにつれて、1000時間の駆動により点灯しなくなる発光装置が増加して、良品と判断される発光装置が減少していくことがわかる。したがって、良品の数の減少と曲線a4の勾配の増加には相関関係があると考えられる。
樹脂Aの膨張率と湿度依存性を示す曲線a4に示されるように、湿度85%のときには、樹脂Aの膨張率は21.3%となる。図16に示されるように、膨張率が21.3%のとき、すなわち湿度が85%のときには、良品の数は5となる。このため、発光装置10の樹脂層24を構成する樹脂の膨張率を21.3%未満とすれば、過半数のサンプルが良品と判断されると考えられる。このため、樹脂層24の樹脂の膨張率は21.3%未満であることが良い。
図16より、樹脂Aの湿度30%における良品数は、湿度85%における良品数より多い。このため、図21で、湿度が40%以下の部分をグラフに外挿すると、湿度が30%のときの樹脂Aの膨張率は約2.0%であることがわかる。このため、樹脂の膨張率は2.0%以下であることがなお良い。
また、樹脂Bの膨張率と湿度依存性を示す曲線b4に示されるように、湿度85%のときには、樹脂Bの膨張率は0.45%となる。図16に示されるように、樹脂Bでは、湿度85%のときに、すべてのサンプルが良品と判断された。このため、樹脂層24の樹脂の膨張率は0.45%以下であることが最も好ましいと考えられる。
また、発光装置10を使用する際には、発光装置10の使用環境に応じた特性を有する樹脂を樹脂層24として用いることができる。例えば、85℃の環境下で発光装置10を用いる場合には、発光素子のジャンクション温度Tjと環境温度との差ΔTj、及び、樹脂層24の損失正接tanδが最大となるときのピーク温度tanδmaxの関係が、以下の式(1),(2)で示される条件を満たせばよい。なお、αは、樹脂層24の厚さの製造バラツキ因子を示す係数である。本実施形態で開示される製造方法では、0.92~1.08である。TMは、環境温度(℃)である。
tanδmax≧1.65ΔTj+α×D …(1)
α×D=1.65×TM-47.5・・・(2)
図22は、環境温度が85℃のときの上記式(1)で示される範囲を示す。また、上記式の右辺は、図12における良品の数が10となるときの各樹脂の最大ジャンクション温度に対応する損失正接tanδのピーク温度を示す。したがって、上記式(1)によって示される条件を満たすように、発光装置10の樹脂層24の樹脂を選定することで、試験環境下で不良と判断される発光装置をほぼ零にすることができる。
以上説明したように、本実施形態に係る発光装置では、前記樹脂層の動的粘弾性における損失正接tanδが最大となるときのピーク温度tanδmaxと、前記発光素子のジャンクション温度と環境温度の差ΔTとの関係が式(1)で示される樹脂を樹脂層として用いることで、信頼性の高い発光装置を提供することが可能となる。
本実施形態に係る発光装置では、動的粘弾性における損失正接tanδが最大になるときの温度が115℃以上である樹脂を樹脂層として用いることで、信頼性の高い発光装置を提供することが可能となる。
本実施形態に係る発光装置では、動的粘弾性における損失正接tanδの変化量が、湿度が20%以上で85%の以下の範囲で、5.55E-02以下である樹脂を樹脂層として用いることで、信頼性の高い発光装置を提供することが可能となる。
本実施形態に係る発光装置では、動的粘弾性における損失正接tanδの変化量が、湿度が50%以上で85%の以下の範囲で、4.27E-02以下である樹脂を樹脂層として用いることで、信頼性の高い発光装置を提供することが可能となる。
本実施形態に係る発光装置では、温度が85℃で、湿度が40%以上で85%以下の範囲における膨張率が21.3%未満である樹脂を樹脂層として用いることで、信頼性の高い発光装置を提供することが可能となる。
また、樹脂層24は、発光素子30~30の厚みが90~300μmである場合には、厚さが90~350μmであることが好ましい。線膨張率は40~80ppm/℃の範囲であることが好ましい。ヤング率は、ポリエチレンやポリスチレンを素材とするときは、0.3~10GPaであり、エポキシを素材とするときは2.4GPa程度であることが好ましい。弾性率は、1900~4900MPaであることが好ましい。ヘイズは10%以下であることが好ましい。また、bは、0.5~5であることが好ましい。光線透過率は、30%以上であることが好ましい。
発光装置10の高温(85℃)における使用を想定した場合、発光装置を曲げるような、外部からの応力が与えられた場合、樹脂層の曲げ応力値が高い方が発光素子を保持するための接続安定性が担保される。一方、過剰な応力に対しては、樹脂層が塑性変形して安定性が失われる。曲げ応力値が低い場合には、樹脂層が外部応力によりすぐに塑性変形してしまい、接続安定性が失われる。
高温時の曲げ応力値だけでだけでなく、夏の室内から屋外への持ち出しなど、サーマルショックが加わるような発光装置の使用では、低温から高温へ移行したときの曲げ応力の変化率の絶対値が大きいと、接続安定性が低くなる。逆に、曲げ応力の変化率が小さいと接続安定性が高くなる。
図23は、23℃と85℃における、樹脂A、BおよびCの曲げ応力の測定結果を示す表である。測定は、厚さ120μmの発光パネル20を、間隔3mmの両持ち冶具の上に置き、所定温度雰囲気中で挿入圧子を基板へ押圧したときのひずみ率と荷重を測定することにより行った。なお、図23の表に示される曲げ応力の値は、ひずみ量が5%になったときのものである。測定には、Instron社製 デジタル材料試験機を使用した。
表に示されるように、樹脂A,B,Cの23℃における曲げ応力は、それぞれ5.95MPa,94.92MPa,123.67MPaであった。樹脂Bの曲げ応力の値は、樹脂Aの曲げ応力の値の1桁高い値となる。また、樹脂Cの曲げ応力の値は、樹脂Aの曲げ応力の値の2桁高い値となる。
また、樹脂A,B,Cの23℃のときの曲げ応力から、85℃のときの曲げ応力までの変化率は、それぞれ-75.2%、-30.8%、-19.8%であった。すべての樹脂で変化率はマイナスの値となるが、樹脂Aの変化率だけが突出して低下している。
したがって、樹脂層24は、ひずみ量が5%のときの曲げ応力が、85℃のときに1.48MPaより大きいことがよく、65.71MPa以上であればなおよく、99.2MP以上であることが最適である。また、室温と同程度の温度23℃と85℃の間の温度範囲では、曲げ応力の変化率が-75.2%より大きいことがよく、-30.8%以上であればなおよく、-19.8%以上であることが最適である。
基板21,22の厚さについては、基板21,22が薄いと発光素子30~30のバンプが貫通してしまうことがある。そのため、以下の条件を満たすことが好ましい。基板21,22の厚さは、30~300μmであることが好ましい。耐熱温度は100℃以上であることが好ましい。線膨張係数は4~9(1/℃)であることが好ましい。弾性率は、2000~4100MPaであることが好ましい。光線透過率は、90%以上であることが好ましい。熱伝導率は0.1~0.4W/m・kであることが好ましい。ヘイズは2%以下であることが好ましい。また、bは、2以下であることが好ましい。
発光素子30~30としては、厚みが30~1000μmであり、一辺の長さが30~3000μmであることが好ましい。
発光素子30~30のバンプ37,38については、発光装置10の製造過程において、熱圧着前では、高さが30~100μmである。熱圧着後では、高さが20~90μmである。バンプ37,38は、高さ及び幅が30~100μmの範囲であることが好ましい。
導体層23は、厚すぎると発光装置10の湾曲時にクラックが生じることがある。また、薄すぎると電気抵抗が高くなる。また、導体層23を構成するメッシュパターンは、線幅が広いと透過性が失われる。また、線幅が狭いと電気抵抗が高くなったり、断線しやすくなる。導体層23については、厚みが10μm以下であることが好ましい。また、導体層23を構成するメッシュパターンは、線幅が20μm以下であることが好ましい。導体層23のシート抵抗値は300Ω/□以下であることが好ましい。光線透過率は、50%以上であることが好ましい。熱伝導率は0.2~0.33W/m・kであることが好ましい。ヘイズは5%以下であることが好ましい。また、bは、2以下であることが好ましい。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態によって限定されるものではない。例えば、上記各実施形態では、8個の発光素子30を備える発光装置10について説明した。これに限らず、発光装置10は、9個以上或いは7個以下の発光素子を備えていてもよい。
上記実施形態では、導体層23が金属からなる場合について説明した。これに限らず、導体層23は、ITOなどの透明導電材料から構成されていてもよい。
上記実施形態では、樹脂層24を2つの樹脂シート241,242から形成する場合について説明した。これに限らず、樹脂層24は、1つの樹脂シートから形成されていてもよい。
上記実施形態では、基板21,22の間に隙間なく樹脂層24が形成されている場合について説明した。これに限らず、樹脂層24は、基板21,22の間に部分的に形成されていてもよい。例えば、発光素子の周囲にのみ形成されていてもよい。また、例えば図24に示されるように、樹脂層24は、発光素子30を包囲するスペーサを構成するように形成されていてもよい。
上記実施形態では、発光装置10の発光パネル20が、基板21,22と、樹脂層24を備えている場合について説明した。これに限らず、図25に示されるように、発光パネル20は、基板21と発光素子30を保持する樹脂層24のみから構成されていてもよい。
また、発光素子のバンプ37,38が、導体層23と接続されていれば、樹脂層24は、図11に示される樹脂シート241のみから構成されていてもよい。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施しうるものであり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
10 発光装置
20 発光パネル
21,22 基板
23 導体層
23P パッド
23a~23i 導体パターン
24 樹脂層
30 発光素子
31 ベース基板
32 N型半導体層
33 活性層
34 P型半導体層
35,36 パッド
37,38 バンプ
40 フレキシブルケーブル
41 基材
42 カバーレイ
42a 開口部
43 導体層
43a,43b 導体パターン
50 コネクタ
50a 端子
60 補強板
241,242 樹脂シート

Claims (1)

  1. 光透過性及び可撓性を有し、導電層が形成された第1基板と、
    光透過性及び可撓性を有し、前記第1基板に対向して配置される第2基板と、
    前記導電層に接続される電極を有し、前記第1基板と前記第2基板の間に配置される複数の発光素子と、
    光透過性及び可撓性を有し、前記第1基板及び前記第2基板の間に配置され、複数の前記発光素子を保持する樹脂層と、
    を備え、
    前記樹脂層を構成する樹脂は、
    -50℃における貯蔵弾性率に対する100℃の貯蔵弾性率が-26%以上であり、
    湿度が25%~85%の範囲において、25℃のときの貯蔵弾性率の平均値から85℃のときの貯蔵弾性率の平均値への低下率が、30.6%以下であり、
    損失弾性率の温度変化は、130℃以上でピークを有し、
    動的粘弾性における機械的損失正接tanδが最大となるときのピーク温度tanδmaxが135℃以上、180℃以下であり、前記機械的損失正接tanδのピーク強度が1.01以上であり、
    前記機械的損失正接tanδの変化量は、湿度が50%以上、85%以下の範囲で、9.05×10 -03 以下であり、
    温度が85℃、湿度が40%以上、85%以下の範囲における膨張率が0.45%以下であり、
    温度が85℃、ひずみ量が5.0%における曲げ応力が65.71MPa以上であり、
    温度25℃、ひずみ量5.0%における曲げ応力から、温度85℃、ひずみ量5.0%における前記曲げ応力への変化率が-30.8%以より大きい、発光装置。
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