JP7248626B2 - 排ガス浄化触媒システム - Google Patents
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Description
メタルハニカム基材、及び前記メタルハニカム基材上の第1の触媒コート層を含む、第1の排ガス浄化触媒装置と、
ヒーターと、
コージェライトハニカム基材、及び前記コージェライトハニカム基材上の第2の触媒コート層を含む、第2の排ガス浄化触媒装置と
をこの順に有する排ガス浄化触媒システムであって、
前記第1の触媒コート層は、NOx、HC、及びCOのうちの1種又は2種以上を吸着し得る吸着材を含み、
前記第2の触媒コート層は、無機酸化物粒子及び前記無機酸化物粒子に担持されている触媒貴金属粒子を含む、
排ガス浄化触媒システム。
《態様2》前記ヒーターがヒートディスクである、態様1に記載の排ガス浄化触媒システム。
《態様3》前記ヒーターが、前記メタルハニカム基材の排ガス流れ下流端に固定されている、態様1又は2に記載の排ガス浄化触媒システム。
《態様4》前記ヒーターが、前記メタルハニカム基材の排ガス流れ下流側と一体的に形成されている、態様1又は2に記載の排ガス浄化触媒システム。
《態様5》前記吸着材が無機酸化物粒子を含む、態様1~4のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒システム。
《態様6》前記吸着材がゼオライト粒子を含む、態様5に記載の排ガス浄化触媒システム。
《態様7》前記ゼオライト粒子が、BEA型ゼオライト、AEI型ゼオライト、MFI型ゼオライト、EMT型ゼオライト、ERI型ゼオライト、MOR型ゼオライト、FER型ゼオライト、FAU型ゼオライト、CHA型ゼオライト、LEV型ゼオライト、MWW型ゼオライト、CON型ゼオライト、及びEUO型ゼオライトから選択される1種又は2種以上を含む、態様6に記載の排ガス浄化触媒システム。
《態様8》前記第1の触媒コート層が、
前記基材上に、下層及び上層がこの順に積層された2層構成の触媒コート層であって、
前記下層が、吸着材、前記吸着材以外の無機酸化物粒子、並びに触媒貴金属粒子を含み、この触媒貴金属粒子は、前記吸着材、及び前記吸着材以外の無機酸化物粒子のうちの少なくとも一方に担持されており、
前記上層が、吸着材以外の無機酸化物粒子、及び触媒貴金属粒子を含み、この触媒貴金属は、前記吸着材以外の無機酸化物粒子に担持されていている、
触媒コート層である、
態様1~7のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒システム。
《態様9》前記第2の触媒コート層において、排ガス流れ上流側半分の触媒貴金属粒子の質量が、排ガス流れ下流側半分の触媒貴金属粒子の質量よりも多い、態様1~8のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒システム。
《態様10》前記第2の触媒コート層において、排ガス流れ上流側半分の触媒貴金属粒子の質量が、前記第2の触媒コート層の触媒貴金属粒子の合計質量を基準として、50質量%超90質量%以下である、態様9に記載の排ガス浄化触媒システム。
《態様11》前記第2の触媒コート層が、
前記基材上に、下層及び上層がこの順に積層された2層構成の触媒コート層であって、
前記下層が、無機酸化物粒子、並びに触媒貴金属粒子を含み、この触媒貴金属粒子は、前記無機酸化物粒子に担持されており、
前記上層が、無機酸化物粒子、及び触媒貴金属粒子を含み、この触媒貴金属粒子は、前記無機酸化物粒子に担持されている、
触媒コート層である、
態様1~10のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒システム。
排ガス流れの上流側から、
メタルハニカム基材、及び前記メタルハニカム基材上の第1の触媒コート層を含む、第1の排ガス浄化触媒装置と、
ヒーターと、
コージェライトハニカム基材、及び前記コージェライトハニカム基材上の第2の触媒コート層を含む、第2の排ガス浄化触媒装置と
をこの順に有する排ガス浄化触媒システムであって、
前記第1の触媒コート層は、NOx、HC、及びCOのうちの1種又は2種以上を吸着し得る吸着材を含み、
前記第2の触媒コート層は、無機酸化物粒子及び前記無機酸化物粒子に担持されている触媒貴金属粒子を含む、
排ガス浄化触媒システムである。
メタルハニカム基材、及び該基材上の第1の触媒コート層を含む、第1の排ガス浄化触媒装置
ヒーター(EHC)、並びに
コージェライトハニカム基材、及び該基材上の第2の触媒コートを含む、第2の排ガス浄化触媒装置
をこの順に配置する。
第1の排ガス浄化触媒装置の第1の触媒コート層は、NOx、HC、及びCOのうちの1種又は2種以上を吸着し得る吸着材を含み、
第2の排ガス浄化触媒装置の第2の触媒コート層は、無機酸化物粒子及びこの無機酸化物粒子に担持されている触媒貴金属粒子を含む。
排ガス流れの上流側から、第1の排ガス浄化触媒装置(100)、ヒーター(300)、及び第2の排ガス浄化触媒装置(200)を、この順に有すること;
第1の排ガス浄化触媒装置(100)が、メタルハニカム基材(110)、及びメタルハニカム基材(110)上の第1の触媒コート層(120)を含むこと;
第1の触媒コート層(120)が、吸着材(130)を含んでいること;
第2の排ガス浄化触媒装置(200)が、コージェライトハニカム基材(210)、及びコージェライトハニカム基材(210)上の第2の触媒コート層(220)を含むこと;
第2の触媒コート層(220)が、無機酸化物粒子及び無機酸化物粒子に担持されている触媒貴金属粒子を含んでいること;並びに
第2の触媒コート層(220)中の無機酸化物粒子が、吸着材以外の無機酸化物粒子であってよいこと;
については、図1の場合と同じである。
第1の排ガス浄化触媒装置は、メタルハニカム基材、及びこのメタルハニカム基材上の第1の触媒コート層を含む。
メタルハニカム基材は、例えば、金属製の平板と波板とを積層して、ロール状に巻回して得られたハニカム構造体であってよい。この場合、平板と波板との非接触部が、ハニカムの長さ方向に貫通するセルを構成してよい。
第1の排ガス浄化触媒装置の第1の触媒コート層は、NOx、HC、及びCOのうちの1種又は2種以上を吸着し得る吸着材を含む。
基材上に、下層及び上層がこの順に積層された2層構成の触媒コート層であって、
下層が、吸着材、吸着材以外の無機酸化物粒子、並びに触媒貴金属粒子を含み、この触媒貴金属粒子は、吸着材、及び吸着材以外の無機酸化物粒子のうちの少なくとも一方に担持されており、
上層が、吸着材以外の無機酸化物粒子、及び触媒貴金属粒子を含み、この触媒貴金属は、吸着材以外の無機酸化物粒子に担持されていている、
触媒コート層であってよい。
基材上に、排ガス流れ上流側触媒層及び下流側触媒層が配置されたゾーン構成の触媒コート層であって、
下流側触媒層が、吸着材、吸着材以外の無機酸化物粒子、並びに触媒貴金属粒子を含み、この触媒貴金属粒子は、吸着材、及び吸着材以外の無機酸化物粒子のうちの少なくとも一方に担持されており、
上流側触媒層が、吸着材以外の無機酸化物粒子、及び触媒貴金属粒子を含み、この触媒貴金属粒子は、吸着材以外の無機酸化物粒子に担持されている、
触媒コート層であってよい。
本発明の排ガス浄化触媒システムにおいて、ヒーターは、第1の排ガス浄化触媒装置の排ガス流れ下流側、かつ、第2の排ガス浄化触媒装置の排ガス流れ上流側に配置される。
本発明の排ガス浄化触媒システムにおける第2の排ガス浄化触媒装置は、コージェライトハニカム基材、及びこのコージェライトハニカム基材上の第2の触媒コート層を含む、
本発明の排ガス浄化触媒システムの、第2の排ガス浄化触媒装置におけるコージェライトハニカム基材としては、例えば、自動車の排ガス浄化触媒装置のハニカム基体として公知のコージェライトハニカム基材を使用してよい。
第2の排ガス浄化触媒装置の第2の触媒コート層は、無機酸化物粒子及びこの無機酸化物粒子に担持されている触媒の粒子を含む。
基材上に、下層及び上層がこの順に積層された2層構成の触媒コート層であって、
下層が、無機酸化物粒子、並びに触媒貴金属粒子を含み、この触媒貴金属粒子は、無機酸化物粒子に担持されており、
上層が、無機酸化物粒子、及び触媒貴金属粒子を含み、この触媒貴金属粒子は、無機酸化物粒子に担持されていている、
触媒コート層であってよい。
下層及び上層のうちの少なくとも一方が、排ガス流れ上流側触媒層と下流側触媒層とに分割されており、かつ、
排ガス流れ上流側触媒層の、基材単位容量当たりの貴金属粒子の質量が、下流側触媒層の、基材単位容量当たりの貴金属粒子の質量よりも多い、
触媒コート層であってよい。
基材上に、排ガス流れ上流側触媒層及び下流側触媒層が配置されたゾーン構成の触媒コート層であって、
下流側触媒層が、無機酸化物粒子、並びに触媒貴金属粒子を含み、この触媒貴金属粒子は、無機酸化物粒子に担持されており、
上流側触媒層が、無機酸化物粒子、及び触媒貴金属粒子を含み、この触媒貴金属粒子は、無機酸化物粒子に担持されている、
触媒コート層であってよい。
1-1.Pd触媒層形成用塗工液の調製
イオン交換水に硝酸パラジウムを溶解して得られた溶液に、アルミナ粒子、セリウム-ジルコニウム複合酸化物粒子、及びアルミナバインダーゾルを分散させることにより、Pd触媒層形成用塗工液を調製した。
硝酸パラジウムの使用量を1.5倍量に増加した他は、上記「1-1.Pd触媒層形成用塗工液の調製」と同様にして、Pd富化層形成用塗工液を調製した。
イオン交換水の硝酸パラジウムを溶解して得られた溶液に、アルミナ粒子、セリウム-ジルコニウム複合酸化物粒子、及びアルミナバインダーゾルを分散させた後、更に、BEA型ゼオライトの粒子を加えて分散させることにより、Pd触媒/吸着層形成用塗工液を調製した。
イオン交換水に硝酸ロジウムを溶解して得られた溶液に、アルミナ粒子、セリウム-ジルコニウム複合酸化物粒子、及びアルミナバインダーゾルを分散させることにより、Rh触媒層形成用塗工液を調製した。
基材としては、ステンレス製のメタルハニカム基材(600セル、直径118.4mm、長さ50.0mm、容量約0.551L)、コージェライトハニカム基材(600セル、直径118.4mm、長さ50.0mm、容量約0.551L)、及びヒートディスクに、それぞれ、各実施例及び比較例所定のコート層を形成して用いた。比較例3及び4においては、同種のメタルハニカム基材を2個、及びヒートディスクに、それぞれ、所定のコート層を形成して用いた。
3-1.吸着機能付きメタル触媒装置の作製
メタルハニカム基材に、Pd触媒/吸着層形成用塗工液をコートし、乾燥及び焼成して、Pd触媒/吸着層を形成した。このPd触媒/吸着層上に、Rh触媒層形成用塗工液をコートし、乾燥及び焼成して、Rh触媒層を形成した。以上の操作により、メタルハニカム基材上に、Pd触媒/吸着層及びRh触媒層をこの順に有する、吸着機能付きメタル触媒装置を作製した。
メタルハニカム基材に、Pd触媒層形成用塗工液をコートし、乾燥及び焼成して、Pd触媒層を形成した。このPd触媒層上に、Rh触媒層形成用塗工液をコートし、乾燥及び焼成して、Rh触媒層を形成した。以上の操作により、メタルハニカム基材上に、Pd触媒層及びRh触媒層をこの順に有する、メタル触媒装置を作製した。
コージェライトハニカム基材に、Pd触媒層形成用塗工液をコートし、乾燥及び焼成して、Pd触媒層を形成した。このPd触媒層上に、Rh触媒層形成用塗工液をコートし、乾燥及び焼成して、Rh触媒層を形成した。以上の操作により、コージェライトハニカム基材上に、Pd触媒層及びRh触媒層をこの順に有する、コージェライト触媒装置を作製した。
コージェライトハニカム基材のうちの、排ガス流れ方向の下流端から基材長さの50%までの領域に、Pd触媒層形成用塗工液をコートして、乾燥させた。Pd触媒層形成用塗工液コート後の基材のうちの、排ガス流れ方向の上流端から基材長さの50%までの領域に、Pd富化層形成用塗工液をコートして、乾燥させた。その後、コート後の基材を焼成して、Pd富化層付きPd触媒層を形成した。次いで、このPd富化層付きPd触媒層上に、Rh触媒層形成用塗工液をコートし、乾燥及び焼成して、Rh触媒層を形成した。以上の操作により、コージェライトハニカム基材上に、Pd富化層付きPd触媒層及びRh触媒層をこの順に有する、Pd富化層付きコージェライト触媒装置を作製した。
ヒートディスク(「EMICAT」)に、Pd触媒/吸着層形成用塗工液をコートし、乾燥及び焼成して、Pd触媒/吸着層を形成した。このPd触媒/吸着層上に、Rh触媒層形成用塗工液をコートし、乾燥及び焼成して、Rh触媒層を形成した。以上の操作により、ヒートディスク上に、Pd触媒/吸着層及びRh触媒層をこの順に有する、コート層付きヒートディスクを作製した。
排ガス浄化触媒システムは、耐久後、コールドスタート比率100%のWLTCモード運転によって評価した。
コート層付きヒートディスクを、吸着機能付きメタル触媒装置(第1の排ガス浄化触媒装置)の排ガス流れ下流側に、ビスで直接固定した。このコート層付きヒートディスクの更に排ガス流れ下流側に、コージェライト触媒装置(第2の排ガス浄化触媒装置)を配置することにより、実施例1の排ガス浄化触媒システムを構成し、評価を行った。
第2の排ガス浄化触媒装置として、Pd富化層付きコージェライト触媒装置を用いた他は、実施例1と同様にして排ガス浄化触媒システムを構成し、評価を行った。
比較例1では、第1の排ガス浄化触媒装置及び第2の排ガス浄化触媒装置の双方に、メタル触媒装置を用いて、評価を行った。
コート層付きヒートディスクを、第1の排ガス浄化触媒装置の排ガス流れ上流側にビスで直接固定した他は、実施例1と同様にして排ガス浄化触媒システムを構成し、評価を行った。
コート層付きヒートディスクの固定位置を、第1の排ガス浄化触媒装置であるメタル触媒装置の、排ガス流れ下流側とした他は、比較例1と同様にして排ガス浄化触媒システムを構成し、評価を行った。
コート層付きヒートディスクの固定位置を、第1の排ガス浄化触媒装置である吸着機能付きメタル触媒装置の、排ガス流れ下流側とした他は、比較例2と同様にして排ガス浄化触媒システムを構成し、評価を行った。
これらの参考例では、ステンレス製のメタルハニカム基材(直径103mm、長さ110mm)(参考例1)、及びコージェライトハニカム基材(直径103mm、長さ110mm)(参考例2)のそれぞれに、同じコート層を形成したものについて、高温のガスを流入させたときの基材内部の温度の上がり方を調べた。
110 メタルハニカム基材
120 第1の触媒コート層
121 下層
122 上層
130 吸着材
131、132 無機酸化物粒子
141、142 触媒貴金属粒子
200 第2の排ガス浄化触媒装置
210 コージェライトハニカム基材
220 第2の触媒コート層
221 下層
222 上層
230、231、232 無機酸化物粒子
240、241、242 触媒貴金属粒子
300 ヒーター
Claims (11)
- 排ガス流れの上流側から、
メタルハニカム基材、及び前記メタルハニカム基材上の第1の触媒コート層を含む、第1の排ガス浄化触媒装置と、
ヒーターと、
コージェライトハニカム基材、及び前記コージェライトハニカム基材上の第2の触媒コート層を含む、第2の排ガス浄化触媒装置と
をこの順に有する排ガス浄化触媒システムであって、
前記メタルハニカム基材は、ステンレス鋼から構成され、
前記メタルハニカム基材の熱容量は、前記コージェライトハニカム基材の熱容量よりも大きく、
前記第1の触媒コート層は、NOx、HC、及びCOのうちの1種又は2種以上を吸着し得る吸着材を含み、
前記第2の触媒コート層は、無機酸化物粒子及び前記無機酸化物粒子に担持されている触媒貴金属粒子を含む、
自動車用排ガス浄化触媒システム。 - 前記ヒーターがヒートディスクである、請求項1に記載の排ガス浄化触媒システム。
- 前記ヒーターが、前記メタルハニカム基材の排ガス流れ下流端に固定されている、請求項1又は2に記載の排ガス浄化触媒システム。
- 前記ヒーターが、前記メタルハニカム基材の排ガス流れ下流側と一体的に形成されている、請求項1又は2に記載の排ガス浄化触媒システム。
- 前記吸着材が無機酸化物粒子を含む、請求項1~4のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒システム。
- 前記吸着材がゼオライト粒子を含む、請求項5に記載の排ガス浄化触媒システム。
- 前記ゼオライト粒子が、BEA型ゼオライト、AEI型ゼオライト、MFI型ゼオライト、EMT型ゼオライト、ERI型ゼオライト、MOR型ゼオライト、FER型ゼオライト、FAU型ゼオライト、CHA型ゼオライト、LEV型ゼオライト、MWW型ゼオライト、CON型ゼオライト、及びEUO型ゼオライトから選択される1種又は2種以上を含む、請求項6に記載の排ガス浄化触媒システム。
- 前記第1の触媒コート層が、
前記基材上に、下層及び上層がこの順に積層された2層構成の触媒コート層であって、
前記下層が、吸着材、前記吸着材以外の無機酸化物粒子、並びに触媒貴金属粒子を含み、この触媒貴金属粒子は、前記吸着材、及び前記吸着材以外の無機酸化物粒子のうちの少なくとも一方に担持されており、
前記上層が、吸着材以外の無機酸化物粒子、及び触媒貴金属粒子を含み、この触媒貴金属は、前記吸着材以外の無機酸化物粒子に担持されていている、
触媒コート層である、
請求項1~7のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒システム。 - 前記第2の触媒コート層において、排ガス流れ上流側半分の触媒貴金属粒子の質量が、排ガス流れ下流側半分の触媒貴金属粒子の質量よりも多い、請求項1~8のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒システム。
- 前記第2の触媒コート層において、排ガス流れ上流側半分の触媒貴金属粒子の質量が、前記第2の触媒コート層の触媒貴金属粒子の合計質量を基準として、50質量%超90質量%以下である、請求項9に記載の排ガス浄化触媒システム。
- 前記第2の触媒コート層が、
前記基材上に、下層及び上層がこの順に積層された2層構成の触媒コート層であって、
前記下層が、無機酸化物粒子、並びに触媒貴金属粒子を含み、この触媒貴金属粒子は、前記無機酸化物粒子に担持されており、
前記上層が、無機酸化物粒子、及び触媒貴金属粒子を含み、この触媒貴金属粒子は、前記無機酸化物粒子に担持されている、
触媒コート層である、
請求項1~10のいずれか一項に記載の排ガス浄化触媒システム。
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