JP7133354B2 - Polarizing plate with anti-glare layer - Google Patents
Polarizing plate with anti-glare layer Download PDFInfo
- Publication number
- JP7133354B2 JP7133354B2 JP2018095487A JP2018095487A JP7133354B2 JP 7133354 B2 JP7133354 B2 JP 7133354B2 JP 2018095487 A JP2018095487 A JP 2018095487A JP 2018095487 A JP2018095487 A JP 2018095487A JP 7133354 B2 JP7133354 B2 JP 7133354B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- polarizing plate
- reflection
- polarizer
- antireflection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3016—Polarising elements involving passive liquid crystal elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
- G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
- G02B5/3041—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
- G02B5/305—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks including organic materials, e.g. polymeric layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
本発明は、映り込み防止層付偏光板に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a polarizing plate with an anti-glare layer.
画像表示装置(例えば、液晶表示装置、有機EL表示装置、量子ドット表示装置)には、その画像形成方式に起因して、多くの場合、表示セルの少なくとも一方の側に偏光板が配置されている。画像表示装置の視認側に配置される偏光板には、表示画面への外光の映り込みを防止するため、その視認側に反射防止層が設けられる(反射防止処理が施される)こと、および/または、映り込み防止層が設けられることが広く知られている。映り込み防止層は、代表的には、樹脂または粘着剤のマトリクスと当該マトリクス中に分散された微粒子とを含む。ところで、近年、画像表示装置の薄型化の要請に伴い、偏光板の薄型化も強く要請されており、それに付随して映り込み防止層の薄型化も求められている。その結果、液晶化合物の配向固化層である映り込み防止層が検討されている。しかし、このような映り込み防止層は、高温高湿環境下において剥がれやすく、またシワが発生しやすいという問題がある。 Image display devices (for example, liquid crystal display devices, organic EL display devices, and quantum dot display devices) often have a polarizing plate disposed on at least one side of the display cell due to the image forming method thereof. there is The polarizing plate arranged on the viewing side of the image display device is provided with an antireflection layer (antireflection treatment) on the viewing side in order to prevent reflection of external light on the display screen; and/or it is widely known that an anti-glare layer is provided. The anti-glare layer typically includes a resin or adhesive matrix and fine particles dispersed in the matrix. In recent years, along with the demand for thinner image display devices, there is also a strong demand for thinner polarizing plates, and along with this, there is also a demand for thinner anti-reflection layers. As a result, an anti-glare layer, which is an orientation-fixed layer of a liquid crystal compound, has been investigated. However, such a glare-preventing layer has a problem that it is easily peeled off in a high-temperature and high-humidity environment, and wrinkles are likely to occur.
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、高温高湿環境下においても映り込み防止層の剥がれおよびシワが抑制された映り込み防止層付偏光板を提供することにある。 The present invention was made to solve the above problems, and its main object is to provide a polarizing plate with an anti-reflection layer in which peeling and wrinkling of the anti-reflection layer are suppressed even in a high-temperature and high-humidity environment. That's what it is.
本発明の映り込み防止層付偏光板は、偏光子および該偏光子の一方の側に設けられた保護層を有する偏光板と、該保護層に貼り合わせられた液晶化合物の配向固化層である映り込み防止層と、映り込み防止層用基材と、該偏光板と該映り込み防止層との間に設けられた粘着剤層とを備える。本発明の映り込み防止層付偏光板において、上記粘着剤層のクリープ値は40μm/h以上である。
1つの実施形態においては、上記映り込み防止層と上記映り込み防止層用基材との間に配向膜がさらに備えられる。この配向膜はポリビニルアルコール系樹脂を含む。
1つの実施形態においては、上記粘着剤層の厚みは10μm~40μmである。
1つの実施形態においては、本発明の映り込み防止層付偏光板は、反射防止層、および、反射防止層用基材が前記映り込み防止層用基材にさらに積層されている。
The anti-glare layer-attached polarizing plate of the present invention comprises a polarizing plate having a polarizer and a protective layer provided on one side of the polarizer, and an alignment and solidification layer of a liquid crystal compound bonded to the protective layer. It comprises an anti-reflection layer, a substrate for the anti-reflection layer, and an adhesive layer provided between the polarizing plate and the anti-reflection layer. In the anti-glare layer-attached polarizing plate of the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer has a creep value of 40 μm/h or more.
In one embodiment, an alignment film is further provided between the anti-reflection layer and the substrate for the anti-reflection layer. This alignment film contains a polyvinyl alcohol-based resin.
In one embodiment, the pressure-sensitive adhesive layer has a thickness of 10 μm to 40 μm.
In one embodiment, the antireflection layer-attached polarizing plate of the present invention comprises an antireflection layer and an antireflection layer base material further laminated on the antireflection layer base material.
本発明によれば、映り込み防止層付偏光板において、偏光板と映り込み防止層との間に設けられた粘着剤層のクリープ値を40μm/h以上とすることにより、高温高湿環境下においても映り込み防止層の剥がれおよびシワが抑制された映り込み防止層付偏光板を実現することができる。 According to the present invention, in the anti-reflection layer-attached polarizing plate, the pressure-sensitive adhesive layer provided between the polarizing plate and the anti-reflection layer has a creep value of 40 μm/h or more, thereby enabling Also, a polarizing plate with an antireflection layer in which peeling and wrinkling of the antireflection layer are suppressed can be realized.
以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。 Embodiments of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these embodiments.
A.映り込み防止層付偏光板の全体構成
図1は本発明の1つの実施形態による映り込み防止層付偏光板の概略断面図である。映り込み防止層付偏光板100は、偏光子11および偏光子11の一方の側に設けられた保護層12を有する偏光板10と、映り込み防止層20と、映り込み防止層用基材30とをこの順に備える。偏光板10の保護層12と映り込み防止層20とは粘着剤層40を介して貼り合わせられている。映り込み防止層20は、液晶化合物の配向固化層である。本発明の映り込み防止層付偏光板において、粘着剤層40のクリープ値は40μm/h以上である。このような粘着剤層を介して、偏光板10と映り込み防止層20とを貼り合わせることにより、高温高湿環境下においても映り込み防止層の剥がれおよびシワの発生を抑制することができる。本明細書において「配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。なお、「配向固化層」は、液晶モノマーを硬化させて得られる配向硬化層を包含する概念である。映り込み防止層20は、代表的には、映り込み防止層用基材30に形成された配向膜(図示せず)の表面に液晶化合物を含む組成物を塗布し、当該塗布層を固化および/または硬化させることにより
A. Overall Configuration of Polarizing Plate with Anti-Reflection Layer FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a polarizing plate with an anti-reflection layer according to one embodiment of the present invention. A polarizing
本発明の別の実施形態においては、映り込み防止層付偏光板は、反射防止層および反射防止層用基材(図示しない)をさらに備える。この実施形態では、映り込み防止層基材30の映り込み防止層20と接していない側に、反射防止層用基材が積層され、該反射防止層用基材に反射防止層が積層され得る。反射防止層は、反射防止層用基材に直接形成され得る。本明細書において「直接」とは接着層が介在しないことを意味する。1つの実施形態においては、反射防止層用基材は、反射防止層側の表面にハードコート層および/または密着層(いずれも図示せず)を有していてもよい。この構成も、「反射防止層が基材に直接形成されている」形態に包含される。反射防止層の表面には、必要に応じて防汚層(図示せず)がさらに設けられてもよい。
In another embodiment of the present invention, the antiglare layer-attached polarizing plate further comprises an antireflection layer and a base material for the antireflection layer (not shown). In this embodiment, the antireflection layer base material is laminated on the side of the antireflection
図示例では、偏光子11の一方の側のみに保護層12が設けられているが、目的に応じて偏光子11の保護層12と反対側に別の保護層が設けられてもよい。この場合、偏光子の両側に保護層が設けられてもよく、保護層12が省略されて別の保護層のみが設けられてもよい。別の保護層のみが設けられる場合、映り込み防止層用基材30が視認側保護層として機能し得る。さらに、目的に応じて任意の適切な機能層が設けられてもよい。機能層の代表例としては、位相差層、および、導電層が挙げられる。機能層の種類、数、組み合わせ、配置位置、特性(例えば、屈折率特性、面内位相差、厚み方向位相差、Nz係数のような光学特性)は、目的に応じて適切に設定され得る。1つの実施形態においては、偏光子11の保護層12と反対側に、nx>ny>nzの屈折率特性を有する第1の位相差層(図示せず)が設けられ得る。この場合、好ましくは、第1の位相差層の偏光子と反対側に、nz>nx>nyの屈折率特性を有する第2の位相差層がさらに設けられ得る。第1の位相差層が、偏光子の視認側と反対側の保護層を兼ねてもよい。さらに、偏光子11の保護層12と反対側に導電層が設けられてもよい。このような位置に導電層を設けることにより、映り込み防止層付偏光板は、インナータッチパネル型入力表示装置に好適に用いられ得る。この場合、位相差層は存在してもよく、存在しなくてもよい。以下、各構成要素について説明する。
In the illustrated example, the
B.偏光板
偏光板10は、偏光子11およびその一方の面に備えられた保護層12を含む。偏光板10の水分率は、例えば、0.5重量%以上であり、好ましくは0.6重量%以上であり、より好ましくは0.8重量%以上であり、さらに好ましくは1.0重量%以上である。偏光板の水分率は、例えば、2.0重量%以下である。偏光板がこのような高い水分率を有することにより、偏光板の吸湿膨張が顕著に抑制され得る。その結果、高温高湿環境下における偏光板の寸法変化(特に、偏光子の吸収軸方向の寸法変化)が顕著に抑制され得る。映り込み防止層付偏光板がさらに反射防止層を備える場合、反射防止層の水分率を調整することで相乗的な効果により、映り込み防止層付偏光板においては、高温高湿環境下における映り込み防止層(液晶化合物の配向固化層)の剥がれおよびシワがさらに抑制され得る。さらに、偏光板がこのような高い水分率を有することにより、本発明の実施形態による映り込み防止層付偏光板は、高温高湿環境下において仮にカールが発生するとしても、当該カールの向きが通常と逆方向となる。その結果、本発明の実施形態による映り込み防止層付偏光板は、仮にカールが発生したとしても、画像表示装置に与える悪影響が小さくなり得る。以上のように、偏光板が高い水分率を有することによる寸法変化の抑制とカールの向きとの相乗的な効果により、映り込み防止層付偏光板は、画像表示装置に適用された場合に、高温高湿環境下における反り、剥がれ、および/または表示特性の低下を顕著に抑制し得る。
B. Polarizing Plate The polarizing
B-1.偏光子
偏光子11は、代表的には、二色性物質を含む樹脂フィルムで構成される。
B-1. Polarizer The
樹脂フィルムとしては、偏光子として用いられ得る任意の適切な樹脂フィルムを採用することができる。樹脂フィルムは、代表的には、ポリビニルアルコール系樹脂(以下、「PVA系樹脂」と称する)フィルムである。 Any appropriate resin film that can be used as a polarizer can be adopted as the resin film. The resin film is typically a polyvinyl alcohol-based resin (hereinafter referred to as "PVA-based resin") film.
上記PVA系樹脂フィルムを形成するPVA系樹脂としては、任意の適切な樹脂が用いられ得る。例えば、ポリビニルアルコール、エチレン-ビニルアルコール共重合体が挙げられる。ポリビニルアルコールは、ポリ酢酸ビニルをケン化することにより得られる。エチレン-ビニルアルコール共重合体は、エチレン-酢酸ビニル共重合体をケン化することにより得られる。PVA系樹脂のケン化度は、通常85モル%~100モル%であり、好ましくは95.0モル%~99.95モル%、さらに好ましくは99.0モル%~99.93モル%である。ケン化度は、JIS K 6726-1994に準じて求めることができる。このようなケン化度のPVA系樹脂を用いることによって、耐久性に優れた偏光子を得ることができる。ケン化度が高すぎる場合には、ゲル化してしまうおそれがある。 Any appropriate resin may be used as the PVA-based resin forming the PVA-based resin film. Examples thereof include polyvinyl alcohol and ethylene-vinyl alcohol copolymer. Polyvinyl alcohol is obtained by saponifying polyvinyl acetate. An ethylene-vinyl alcohol copolymer is obtained by saponifying an ethylene-vinyl acetate copolymer. The degree of saponification of the PVA-based resin is usually 85 mol% to 100 mol%, preferably 95.0 mol% to 99.95 mol%, more preferably 99.0 mol% to 99.93 mol%. . The degree of saponification can be determined according to JIS K 6726-1994. By using a PVA-based resin having such a degree of saponification, a polarizer with excellent durability can be obtained. If the degree of saponification is too high, gelation may occur.
PVA系樹脂の平均重合度は、目的に応じて適切に選択され得る。平均重合度は、通常1000~10000であり、好ましくは1200~4500、さらに好ましくは1500~4300である。なお、平均重合度は、JIS K 6726-1994に準じて求めることができる。 The average degree of polymerization of the PVA-based resin can be appropriately selected depending on the purpose. The average degree of polymerization is usually 1,000 to 10,000, preferably 1,200 to 4,500, more preferably 1,500 to 4,300. The average degree of polymerization can be determined according to JIS K 6726-1994.
樹脂フィルムに含まれる二色性物質としては、例えば、ヨウ素、有機染料等が挙げられる。これらは、単独で、または、二種以上組み合わせて用いられ得る。好ましくは、ヨウ素が用いられる。 Dichroic substances contained in the resin film include, for example, iodine and organic dyes. These may be used alone or in combination of two or more. Iodine is preferably used.
樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。 The resin film may be a single-layer resin film or a laminate of two or more layers.
単層の樹脂フィルムから構成される偏光子の具体例としては、PVA系樹脂フィルムにヨウ素による染色処理および延伸処理(代表的には、一軸延伸)が施されたものが挙げられる。上記ヨウ素による染色は、例えば、PVA系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは3~7倍である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、PVA系樹脂フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。例えば、染色の前にPVA系樹脂フィルムを水に浸漬して水洗することで、PVA系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、PVA系樹脂フィルムを膨潤させて染色ムラなどを防止することができる。 A specific example of a polarizer composed of a single-layer resin film is a PVA-based resin film that has been dyed with iodine and stretched (typically, uniaxially stretched). The dyeing with iodine is performed by, for example, immersing the PVA-based film in an aqueous iodine solution. The draw ratio of the uniaxial drawing is preferably 3 to 7 times. Stretching may be performed after the dyeing treatment, or may be performed while dyeing. Moreover, you may dye after extending|stretching. If necessary, the PVA-based resin film is subjected to swelling treatment, cross-linking treatment, washing treatment, drying treatment, and the like. For example, by immersing the PVA-based resin film in water and washing it with water before dyeing, it is possible not only to wash away stains and anti-blocking agents on the surface of the PVA-based film, but also to swell the PVA-based resin film to prevent uneven dyeing. etc. can be prevented.
積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたPVA系樹脂層(PVA系樹脂フィルム)との積層体、あるいは、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたPVA系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたPVA系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、PVA系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にPVA系樹脂層を形成して、樹脂基材とPVA系樹脂層との積層体を得ること;当該積層体を延伸および染色してPVA系樹脂層を偏光子とすること;により作製され得る。本実施形態においては、延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温(例えば、95℃以上)で空中延伸することをさらに含み得る。得られた樹脂基材/偏光子の積層体はそのまま用いてもよく(すなわち、樹脂基材を偏光子の保護層としてもよく)、樹脂基材/偏光子の積層体から樹脂基材を剥離し、当該剥離面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。このような偏光子の製造方法の詳細は、例えば特開2012-73580号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。 Specific examples of the polarizer obtained using a laminate include a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer (PVA-based resin film) laminated on the resin substrate, or a resin substrate and the resin A polarizer obtained by using a laminate with a PVA-based resin layer formed by coating on a substrate can be mentioned. A polarizer obtained by using a laminate of a resin base material and a PVA-based resin layer formed by coating on the resin base material is obtained, for example, by applying a PVA-based resin solution to the resin base material and drying the resin base material. forming a PVA-based resin layer thereon to obtain a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer; stretching and dyeing the laminate to use the PVA-based resin layer as a polarizer; obtain. In this embodiment, stretching typically includes immersing the laminate in an aqueous boric acid solution and stretching. Furthermore, stretching may further include stretching the laminate in air at a high temperature (eg, 95° C. or higher) before stretching in an aqueous boric acid solution, if necessary. The obtained resin substrate/polarizer laminate may be used as it is (that is, the resin substrate may be used as a protective layer for the polarizer), or the resin substrate may be peeled off from the resin substrate/polarizer laminate. Then, any appropriate protective layer may be laminated on the release surface according to the purpose. Details of a method for manufacturing such a polarizer are described, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-73580. The publication is incorporated herein by reference in its entirety.
偏光子の厚みは、好ましくは15μm以下であり、より好ましくは1μm~12μmであり、さらに好ましくは3μm~10μmであり、特に好ましくは3μm~8μmである。偏光子の厚みがこのような範囲であれば、加熱時のカールを良好に抑制することができ、良好な加熱時の外観耐久性が得られる。さらに、偏光子の厚みがこのような範囲であれば、映り込み防止層付偏光板(結果として、画像表示装置)の薄型化に貢献し得る。 The thickness of the polarizer is preferably 15 μm or less, more preferably 1 μm to 12 μm, even more preferably 3 μm to 10 μm, particularly preferably 3 μm to 8 μm. If the thickness of the polarizer is within such a range, it is possible to satisfactorily suppress curling during heating, and obtain excellent durability in appearance during heating. Furthermore, if the thickness of the polarizer is within such a range, it can contribute to the reduction in thickness of the polarizing plate with the anti-glare layer (as a result, the image display device).
偏光子は、好ましくは、波長380nm~780nmのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率は、好ましくは43.0%~46.0%であり、より好ましくは44.5%~46.0%である。偏光子の偏光度は、好ましくは97.0%以上であり、より好ましくは99.0%以上であり、さらに好ましくは99.9%以上である。 The polarizer preferably exhibits absorption dichroism at any wavelength of 380 nm to 780 nm. The single transmittance of the polarizer is preferably 43.0% to 46.0%, more preferably 44.5% to 46.0%. The degree of polarization of the polarizer is preferably 97.0% or higher, more preferably 99.0% or higher, still more preferably 99.9% or higher.
B-2.保護層
保護層12としては、任意の適切な樹脂フィルムが用いられる。樹脂フィルムの形成材料としては、例えば、(メタ)アクリル系樹脂、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂、ポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂等のエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、これらの共重合体樹脂等が挙げられる。なお、「(メタ)アクリル系樹脂」とは、アクリル系樹脂および/またはメタクリル系樹脂をいう。
B-2. Protective Layer Any appropriate resin film is used as the
1つの実施形態においては、上記(メタ)アクリル系樹脂として、グルタルイミド構造を有する(メタ)アクリル系樹脂が用いられる。グルタルイミド構造を有する(メタ)アクリル系樹脂(以下、グルタルイミド樹脂とも称する)は、例えば、特開2006-309033号公報、特開2006-317560号公報、特開2006-328329号公報、特開2006-328334号公報、特開2006-337491号公報、特開2006-337492号公報、特開2006-337493号公報、特開2006-337569号公報、特開2007-009182号公報、特開2009-161744号公報、特開2010-284840号公報に記載されている。これらの記載は、本明細書に参考として援用される。 In one embodiment, a (meth)acrylic resin having a glutarimide structure is used as the (meth)acrylic resin. (Meth)acrylic resins having a glutarimide structure (hereinafter also referred to as glutarimide resins) are disclosed, for example, in JP-A-2006-309033, JP-A-2006-317560, JP-A-2006-328329, JP-A-2006-328329, and JP-A-2006-328329. 2006-328334, JP 2006-337491, JP 2006-337492, JP 2006-337493, JP 2006-337569, JP 2007-009182, JP 2009- No. 161744 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-284840. These descriptions are incorporated herein by reference.
保護層12の透湿度は、好ましくは1.0g/m2/24hr以下であり、より好ましくは0.8g/m2/24hr以下であり、さらに好ましくは0.6g/m2/24hr以下であり、特に好ましくは0.4g/m2/24hr以下である。保護層の透湿度がこのような範囲であれば、高温高湿環境下における寸法変化をさらに抑制することができ、結果として、映り込み防止層の剥がれおよびシワをさらに抑制することができる。
The moisture permeability of the
保護層の厚みは、代表的には10μm~100μmであり、好ましくは20μm~40μmである。保護層は、代表的には、接着層(具体的には、接着剤層、粘着剤層)を介して偏光子に積層される。接着剤層は、代表的にはPVA系接着剤や活性化エネルギー線硬化型接着剤で形成される。粘着剤層は、代表的にはアクリル系粘着剤で形成される。このアクリル系粘着剤は、後述する粘着剤層40を構成する粘着剤とは同一であってもよく、異なっていてもよい。
The thickness of the protective layer is typically 10 μm to 100 μm, preferably 20 μm to 40 μm. A protective layer is typically laminated on a polarizer via an adhesive layer (specifically, an adhesive layer, a pressure-sensitive adhesive layer). The adhesive layer is typically formed of a PVA-based adhesive or an activated energy ray-curable adhesive. The adhesive layer is typically formed with an acrylic adhesive. This acrylic pressure-sensitive adhesive may be the same as or different from the pressure-sensitive adhesive forming the pressure-
C.映り込み防止層
映り込み防止層は、画像表示装置の使用者の顔、画像表示装置のキーボード、外光(例えば、蛍光灯)等の映り込みを防止するために設けられる。本発明の実施形態においては、映り込み防止層20は、液晶化合物の配向固化層である。本明細書において「配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。なお、「配向固化層」は、液晶モノマーを硬化させて得られる配向硬化層を包含する概念である。液晶化合物は、棒状液晶化合物であってもよく、ディスコティック(円盤状)液晶化合物であってもよく、それらの組み合わせであってもよい。
C. Anti-Reflection Layer The anti-reflection layer is provided to prevent reflection of the user's face of the image display device, the keyboard of the image display device, external light (for example, fluorescent lamp), and the like. In the embodiment of the present invention, the glare-preventing
1つの実施形態においては、映り込み防止層は、ディスコティック液晶化合物を含む。より詳細には、映り込み防止層は、ディスコティック液晶化合物を所定の方向に配向させた状態で固定化した層である。ディスコティック液晶化合物とは、一般的には、ベンゼン、1,3,5-トリアジン、カリックスアレーンなどのような環状母核を分子の中心に配し、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその側鎖として放射状に置換された円盤状の分子構造を有する液晶化合物をいう。ディスコティック液晶の代表例としては、C.Destradeらの研究報告、Mol.Cryst.Liq.Cryst.71巻、111頁(1981年)に記載されている、ベンゼン誘導体、トリフェニレン誘導体、トルキセン誘導体、フタロシアニン誘導体や、B.Kohneらの研究報告、Angew.Chem.96巻、70頁(1984年)に記載されているシクロヘキサン誘導体、および、J.M.Lehnらの研究報告、J.Chem.Soc.Chem.Commun.,1794頁(1985年)、J.Zhangらの研究報告、J.Am.Chem.Soc.116巻、2655頁(1994年)に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系のマクロサイクルが挙げられる。ディスコティック液晶化合物のさらなる具体例として、例えば特開2006-133652号公報、特開2007-108732号公報、特開2010-244038号公報、特開2014-214177号公報に記載の化合物が挙げられる。上記文献および公報の記載は、本明細書に参考として援用される。ディスコティック液晶化合物を含む映り込み防止層は、代表的には、nx=nz>nyの屈折率特性を有するいわゆるネガティブAプレートであり得る。 In one embodiment, the anti-glare layer comprises a discotic liquid crystal compound. More specifically, the anti-glare layer is a layer in which a discotic liquid crystal compound is fixed while oriented in a predetermined direction. Discotic liquid crystal compounds generally have a cyclic mother nucleus such as benzene, 1,3,5-triazine, or calixarene at the center of the molecule, and a linear alkyl group, alkoxy group, or substituted benzoyl A liquid crystal compound having a discotic molecular structure in which oxy groups and the like are radially substituted as side chains. Representative examples of discotic liquid crystals include C.I. Destrade et al., Mol. Cryst. Liq. Cryst. 71, 111 (1981), benzene derivatives, triphenylene derivatives, truxene derivatives and phthalocyanine derivatives; Kohne et al., Angew. Chem. 96, 70 (1984) and cyclohexane derivatives described in J. Am. M. In the report of Lehn et al., J. Am. Chem. Soc. Chem. Commun. , 1794 (1985); In the report of Zhang et al., J. Am. Am. Chem. Soc. 116, 2655 (1994), azacrown-based and phenylacetylene-based macrocycles. Further specific examples of discotic liquid crystal compounds include compounds described in JP-A-2006-133652, JP-A-2007-108732, JP-A-2010-244038, and JP-A-2014-214177. The descriptions in the above documents and publications are incorporated herein by reference. An anti-glare layer containing a discotic liquid crystal compound can typically be a so-called negative A-plate having a refractive index characteristic of nx=nz>ny.
別の実施形態においては、映り込み防止層は、棒状液晶化合物を含む。より詳細には、映り込み防止層は、棒状液晶化合物が所定の方向(代表的には、遅相軸方向)に並んだ状態で配向している(ホモジニアス配向)。棒状液晶化合物としては、例えば、液晶相がネマチック相である液晶化合物(ネマチック液晶)が挙げられる。このような液晶化合物として、例えば、液晶ポリマーや液晶モノマーが使用可能である。液晶化合物の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。液晶ポリマーおよび液晶モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、組み合わせてもよい。液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、特表2002-533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171、およびGB2280445等に記載の重合性メソゲン化合物等が使用できる。このような重合性メソゲン化合物の具体例としては、例えば、BASF社の商品名LC242、Merck社の商品名E7、Wacker-Chem社の商品名LC-Sillicon-CC3767が挙げられる。液晶モノマーとしては、例えばネマチック性液晶モノマーが好ましい。液晶化合物の具体例は、例えば特開2006-163343号公報に記載されている。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。棒状液晶化合物を含む映り込み防止層は、代表的には、nx>ny=nzの屈折率特性を有するいわゆるポジティブAプレートであり得る。 In another embodiment, the anti-glare layer comprises a rod-shaped liquid crystal compound. More specifically, in the anti-glare layer, the rod-like liquid crystal compounds are aligned in a predetermined direction (typically, the slow axis direction) (homogeneous alignment). Examples of rod-like liquid crystal compounds include liquid crystal compounds whose liquid crystal phase is a nematic phase (nematic liquid crystal). As such a liquid crystal compound, for example, a liquid crystal polymer or a liquid crystal monomer can be used. Either lyotropic or thermotropic mechanism may be used to develop the liquid crystallinity of the liquid crystal compound. The liquid crystal polymer and liquid crystal monomer may be used alone or in combination. Any suitable liquid crystal monomer can be employed as the liquid crystal monomer. For example, polymerizable mesogenic compounds described in JP-T-2002-533742 (WO00/37585), EP358208 (US5211877), EP66137 (US4388453), WO93/22397, EP0261712, DE19504224, DE4408171, and GB2280445 can be used. Specific examples of such polymerizable mesogenic compounds include LC242 (trade name) available from BASF, E7 (trade name) available from Merck, and LC-Sillicon-CC3767 (trade name) available from Wacker-Chem. As the liquid crystal monomer, for example, a nematic liquid crystal monomer is preferable. Specific examples of liquid crystal compounds are described in, for example, JP-A-2006-163343. The description of the publication is incorporated herein by reference. An anti-glare layer containing a rod-shaped liquid crystal compound can typically be a so-called positive A plate having a refractive index characteristic of nx>ny=nz.
映り込み防止層は、代表的にはλ/2板として機能し得る。映り込み防止層がλ/2板として機能する場合、その配向角(または遅相軸方向)を制御することにより、映り込みを良好に防止することができる。このような映り込み防止層の面内位相差Re(550)は220nm~320nmであり、より好ましくは240nm~300nmであり、さらに好ましくは250nm~280nmである。ここで、Re(550)は、23℃における波長550nmの光で測定した面内位相差である。Re(550)は、層(フィルム)の厚みをd(nm)としたとき、Re(550)=(nx-ny)×dによって求められる。nxは面内の屈折率が最大になる方向(すなわち、遅相軸方向)の屈折率であり、nyは面内で遅相軸と直交する方向(すなわち、進相軸方向)の屈折率である。 The anti-glare layer can typically function as a λ/2 plate. When the anti-reflection layer functions as a λ/2 plate, the reflection can be effectively prevented by controlling the orientation angle (or slow axis direction). The in-plane retardation Re(550) of such an anti-glare layer is 220 nm to 320 nm, preferably 240 nm to 300 nm, still more preferably 250 nm to 280 nm. Here, Re(550) is the in-plane retardation measured with light having a wavelength of 550 nm at 23°C. Re(550) is determined by Re(550)=(nx−ny)×d, where d (nm) is the thickness of the layer (film). nx is the refractive index in the direction in which the in-plane refractive index is maximized (that is, the slow axis direction), and ny is the refractive index in the in-plane direction perpendicular to the slow axis (that is, the fast axis direction). be.
映り込み防止層20の遅相軸と偏光子11の吸収軸とがなす角度は、好ましくは35°~55°であり、より好ましくは40°~50°であり、さらに好ましくは約45°である。λ/2板として機能する映り込み防止層をこのような軸角度で配置することにより、映り込みを良好に防止することができる。
The angle formed by the slow axis of the
映り込み防止層の厚みは、好ましくは1μm~5μmであり、より好ましくは1μm~3μmである。本発明の実施形態によれば、このような薄い映り込み防止層であっても、高温高湿環境下における剥がれおよびシワを良好に抑制することができる。 The thickness of the anti-glare layer is preferably 1 μm to 5 μm, more preferably 1 μm to 3 μm. According to the embodiment of the present invention, even such a thin anti-reflection layer can satisfactorily suppress peeling and wrinkling in a high-temperature, high-humidity environment.
液晶化合物の配向に配向膜を用いる場合、映り込み防止層付偏光板は、映り込み防止層20と映り込み防止層用基材30との間に配向膜をさらに備える。配向膜は、一般的には、ポリマー材料を主成分として含む。ポリマー材料の代表例としては、ポリビニルアルコール、ポリイミド、および、それらの誘導体が挙げられる。本発明の実施形態においては、変性または未変性のポリビニルアルコールが好ましい。配向膜として、例えば、WO01/88574A1、特許第3907735号に記載の変性ポリビニルアルコールを用いることができる。配向膜には、代表的には配向処理が施される。配向処理の代表例としては、ラビング処理、光配向処理が挙げられる。ラビング処理は業界で周知であるので、詳細な説明は省略する。光配向処理された配向膜(光配向膜)としては、例えば、WO2005/096041に記載のもの、Rolic echnologies社製の商品名LPP-JP265CPなどを用いることができる。配向膜の厚みは、例えば0.01μm~10μmであり、好ましくは0.01μm~1μmであり、より好ましくは0.01μm~0.5μmである。
When an alignment film is used for aligning the liquid crystal compound, the anti-glare layer-equipped polarizing plate further includes an alignment film between the
映り込み防止層は、例えば、以下の手順で形成され得る。まず、映り込み防止層用基材上に配向膜形成用塗布液を塗布し、乾燥させて塗布膜を形成する。当該塗布膜に所定の方向にラビング処理を施し、映り込み防止層用基材上に配向膜を形成する。当該所定の方向は、得られる映り込み防止層の遅相軸方向に対応し得る。次に、形成された配向膜上に映り込み防止層形成用塗布液(例えば、液晶化合物と必要に応じて架橋性モノマーとを含む溶液)を塗布し加熱する。加熱により、塗布液の溶媒を除去するとともに液晶化合物の配向を進める。加熱は1段階で行ってもよく、温度を変えて多段階で行ってもよい。次いで、紫外線照射により架橋性(または重合性)モノマーを架橋(または重合)させて、液晶化合物の配向を固定化する。このようにして、映り込み防止層用基材上(実質的には、配向膜上)に映り込み防止層が形成される。なお、ディスコティック液晶化合物を配向させる方法は、例えば特開2014-214177号公報に記載され、棒状液晶化合物を配向させる方法は、例えば特開2006-163343号公報に記載されている。これらの公報の記載は、本明細書に参考として援用される。なお、配向膜は、所望の配向状態および液晶化合物の種類等によっては省略され得る。 The anti-glare layer can be formed, for example, by the following procedure. First, a coating solution for forming an alignment film is applied onto a substrate for anti-glare layer and dried to form a coating film. The coating film is rubbed in a predetermined direction to form an alignment film on the anti-glare layer base material. The predetermined direction can correspond to the slow axis direction of the resulting anti-glare layer. Next, a coating solution for forming an anti-glare layer (for example, a solution containing a liquid crystal compound and optionally a cross-linkable monomer) is applied onto the formed alignment film and heated. Heating removes the solvent of the coating liquid and advances the orientation of the liquid crystal compound. Heating may be carried out in one step, or may be carried out in multiple steps by changing the temperature. Next, the crosslinkable (or polymerizable) monomer is crosslinked (or polymerized) by UV irradiation to fix the orientation of the liquid crystal compound. In this way, the anti-reflection layer is formed on the anti-reflection layer substrate (substantially, on the alignment film). A method for orienting a discotic liquid crystal compound is described, for example, in JP-A-2014-214177, and a method for orienting a rod-like liquid crystal compound is described, for example, in JP-A-2006-163343. The descriptions of these publications are incorporated herein by reference. The alignment film may be omitted depending on the desired alignment state, the type of liquid crystal compound, and the like.
D.映り込み防止層用基材
映り込み防止層用基材30は、映り込み防止層20を形成するために用いられる。映り込み防止層用基材としては、任意の適切な樹脂フィルムが用いられる。樹脂フィルムの形成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)等のポリエステル系樹脂、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂、シクロオレフィン(例えば、ノルボルネン)とα-オレフィン(例えば、エチレン)との付加重合により得られる樹脂(COC)、トリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース系樹脂、アクリル系樹脂等が挙げられる。
D. Anti-Reflection Layer Substrate The
映り込み防止層用基材の厚みは、目的に応じて適切に設定され得る。映り込み防止層用基材の厚みは、代表的には20μm~200μmであり、好ましくは25μm~100μmである。 The thickness of the anti-glare layer substrate can be appropriately set according to the purpose. The thickness of the anti-glare layer substrate is typically 20 μm to 200 μm, preferably 25 μm to 100 μm.
E.粘着剤層
粘着剤層40は偏光板10と映り込み防止層20との間に設けられる。図示例では、偏光板10と映り込み防止層20とは保護層12と映り込み防止層20とが粘着剤層40を介して積層されているが、偏光板10が保護層12と反対側に設けられた別の保護層のみを有する場合、偏光子10と映り込み防止層20とが粘着剤層40を介して積層されていてもよい。
E. Adhesive Layer The
本発明の映り込み防止層付偏光板において、粘着剤層40のクリープ値は40μm/h以上である。このような粘着剤層を介して、偏光板10と映り込み防止層20とを貼り合わせることにより、高温高湿環境下においても映り込み防止層の剥がれおよびシワの発生を抑制することができる。粘着剤層40のクリープ値は好ましくは50μm/h以上であり、より好ましくは60μm/h以上である。粘着剤層のクリープ値が40μm/h未満の場合、映り込み防止層の剥がれおよびシワの発生を十分に抑制できない場合がある。また、粘着剤層のクリープ値は、例えば、200μm/h以下である。
In the anti-glare layer-attached polarizing plate of the present invention, the pressure-
粘着剤層のクリープ値は以下のようにして測定することができる。保護層および偏光子を含む偏光板の保護層に粘着剤組成物を塗布して粘着剤層を形成し、粘着剤層付偏光板を作製する。作製した偏光板を幅10mm×長さ50mmに切断する。切断した粘着剤層付偏光板のうち、幅10mm×長さ10mmの部分を粘着剤層を介してステンレス板に貼着し、次いで、オートクレーブ(50℃、5気圧)で15分間処理した後、1時間室温で放置する。放置した後、粘着剤層付偏光板のステンレス板に貼着しなかった側の端部に、23℃下で500gの荷重(引張荷重)を1時間負荷し、負荷をかけた後の粘着剤層のズレ量(変形量)をレーザー式クリープ試験機を用いて測定することにより、粘着剤層のクリープ値を測定することができる。
The creep value of the pressure-sensitive adhesive layer can be measured as follows. A pressure-sensitive adhesive layer is formed by applying a pressure-sensitive adhesive composition to a protective layer of a polarizing plate including a protective layer and a polarizer to prepare a pressure-sensitive adhesive layer-attached polarizing plate. The prepared polarizing plate is cut into 10 mm width×50 mm length. Of the cut polarizing plate with an adhesive layer, a portion of
粘着剤層のクリープ値は任意の適切な方法により調整され得る。例えば、粘着剤層を形成する粘着剤中のベースポリマーの分子量、該粘着剤中の架橋剤の添加量等により調整することができる。より具体的には、該ベースポリマーとして分子量の高いポリマーを用いることおよび/または該架橋剤の添加量を多くすることにより粘着剤層のクリープ値を減少させることができる。また、該ベースポリマーとして分子量の低いポリマーを用いることおよび/または該架橋剤の添加量を少なくすることにより、粘着剤層のクリープ値を増加させることができる。 The creep value of the adhesive layer can be adjusted by any suitable method. For example, it can be adjusted by adjusting the molecular weight of the base polymer in the pressure-sensitive adhesive forming the pressure-sensitive adhesive layer, the addition amount of the cross-linking agent in the pressure-sensitive adhesive, and the like. More specifically, the creep value of the pressure-sensitive adhesive layer can be reduced by using a polymer with a high molecular weight as the base polymer and/or increasing the amount of the cross-linking agent added. In addition, the creep value of the pressure-sensitive adhesive layer can be increased by using a polymer with a low molecular weight as the base polymer and/or by reducing the amount of the cross-linking agent added.
粘着剤層の厚みは、好ましくは1μm~50μmであり、より好ましくは10μm~40μmである。 The thickness of the adhesive layer is preferably 1 μm to 50 μm, more preferably 10 μm to 40 μm.
粘着剤層を形成する粘着剤としては、任意の適切な粘着剤を用いることができる。粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、アクリルウレタン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤、有機無機ハイブリッド系粘着剤等が挙げられる。好ましくは、透明性および耐久性の観点からアクリル系粘着剤である。 Any appropriate adhesive can be used as the adhesive that forms the adhesive layer. Examples of adhesives include acrylic adhesives, acrylic urethane adhesives, urethane adhesives, silicone adhesives, organic-inorganic hybrid adhesives, and the like. Acrylic pressure-sensitive adhesives are preferable from the viewpoint of transparency and durability.
アクリル系粘着剤は、例えば、(メタ)アクリル酸アルキルエステルの1種または2種以上を単量体成分として用いたアクリル系ポリマー、すなわち、(メタ)アクリル酸アルキルエステル由来の構成単位を有するポリマー(ホモポリマーまたはコポリマー)をベースポリマーとするアクリル系粘着剤等が挙げられる。(メタ)アクリル酸アルキルエステルの具体例としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸s-ブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸ヘプチル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸イソデシル、(メタ)アクリル酸ウンデシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸トリデシル、(メタ)アクリル酸テトラデシル、(メタ)アクリル酸ペンタデシル、(メタ)アクリル酸ヘキサデシル、(メタ)アクリル酸ヘプタデシル、(メタ)アクリル酸オクタデシル、(メタ)アクリル酸ノナデシル、(メタ)アクリル酸エイコシル等の(メタ)アクリル酸C1-C20アルキルエステルが挙げられる。なかでも、炭素数が4~18の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルが好ましく用いられ得る。(メタ)アクリル酸アルキルエステル由来の構成単位の含有割合は、ベースポリマー100重量部に対して、好ましくは60重量部以上であり、より好ましくは80重量部以上である。 The acrylic pressure-sensitive adhesive is, for example, an acrylic polymer using one or more of (meth)acrylic acid alkyl esters as a monomer component, that is, a polymer having structural units derived from (meth)acrylic acid alkyl esters. (homopolymer or copolymer) as a base polymer. Specific examples of (meth) acrylic acid alkyl esters include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, (meth) ) isobutyl acrylate, s-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, heptyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate , 2-ethylhexyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, nonyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, (meth)acrylic acid Undecyl, dodecyl (meth)acrylate, tridecyl (meth)acrylate, tetradecyl (meth)acrylate, pentadecyl (meth)acrylate, hexadecyl (meth)acrylate, heptadecyl (meth)acrylate, octadecyl (meth)acrylate , C1-C20 alkyl (meth)acrylates such as nonadecyl (meth)acrylate and eicosyl (meth)acrylate. Among them, (meth)acrylic acid alkyl esters having a linear or branched alkyl group with 4 to 18 carbon atoms are preferably used. The content of structural units derived from (meth)acrylic acid alkyl ester is preferably 60 parts by weight or more, more preferably 80 parts by weight or more, relative to 100 parts by weight of the base polymer.
上記アクリル系ポリマーは、凝集力、耐熱性、架橋性等の改質を目的として、必要に応じて、上記(メタ)アクリル酸アルキルエステルと共重合可能な他の単量体成分に由来する構成単位を含んでいてもよい。このような単量体成分として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシエチルアクリレート、カルボキシペンチルアクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等のカルボキシル基含有モノマー;無水マレイン酸、無水イコタン酸等の酸無水物モノマー;スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、2-(メタ)アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、(メタ)アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸等のスルホン酸基含有モノマー等が挙げられる。 For the purpose of modifying cohesive strength, heat resistance, crosslinkability, etc., the acrylic polymer may be composed of other monomer components copolymerizable with the (meth)acrylic acid alkyl ester, if necessary. May contain units. Examples of such monomer components include carboxyl group-containing monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, carboxyethyl acrylate, carboxypentyl acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, and crotonic acid; maleic anhydride and icotanic anhydride; Acid anhydride monomers such as styrenesulfonic acid, allylsulfonic acid, 2-(meth)acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, (meth)acrylamidopropanesulfonic acid, sulfopropyl (meth)acrylate, (meth)acryloyloxynaphthalene Examples thereof include sulfonic acid group-containing monomers such as sulfonic acid.
1つの実施形態においては、上記単量体成分として、ヒドロキシル基含有モノマーが用いられる。ヒドロキシル基含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸6-ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸8-ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸10-ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸12-ヒドロキシラウリルや(4-ヒドロキシメチルシクロヘキシル)-メチルアクリレート等が挙げられる。架橋剤として、イソシアネート系架橋剤を用いる場合には、イソシアネート基との架橋点を効率よく確保する観点から、これらのなかでもアクリル酸4-ヒドロキシブチルが好適である。ヒドロキシル基含有モノマー由来の構成単位の含有割合は、ベースポリマー100重量部に対して、好ましくは0.1重量部~10重量部であり、より好ましくは0.5重量部~2重量部である。 In one embodiment, a hydroxyl group-containing monomer is used as the monomer component. Examples of hydroxyl group-containing monomers include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, ( 8-Hydroxyoctyl meth)acrylate, 10-hydroxydecyl (meth)acrylate, 12-hydroxylauryl (meth)acrylate, (4-hydroxymethylcyclohexyl)-methyl acrylate and the like can be mentioned. When an isocyanate-based cross-linking agent is used as the cross-linking agent, 4-hydroxybutyl acrylate is preferred among these from the viewpoint of efficiently securing a cross-linking point with an isocyanate group. The content of structural units derived from a hydroxyl group-containing monomer is preferably 0.1 to 10 parts by weight, more preferably 0.5 to 2 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the base polymer. .
架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、過酸化物系架橋剤、メラミン系架橋剤、尿素系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、アミン系架橋剤などが挙げられる。なかでも、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤および/または過酸化物系架橋剤が好ましく用いられる。架橋剤は、単独で用いてもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。 Examples of cross-linking agents include isocyanate-based cross-linking agents, epoxy-based cross-linking agents, peroxide-based cross-linking agents, melamine-based cross-linking agents, urea-based cross-linking agents, metal alkoxide-based cross-linking agents, metal chelate-based cross-linking agents, and metal salt-based cross-linking agents. cross-linking agent, carbodiimide-based cross-linking agent, oxazoline-based cross-linking agent, aziridine-based cross-linking agent, amine-based cross-linking agent, and the like. Among them, isocyanate-based cross-linking agents, epoxy-based cross-linking agents and/or peroxide-based cross-linking agents are preferably used. The cross-linking agents may be used alone or in combination of two or more.
上記イソシアネート系架橋剤としては、任意の適切な架橋剤が用いられ得る。イソシアネート系架橋剤としては、例えば、トリレンジイソシアネート、クロルフェニレンジイソシアナート、テトラメチレンジイソシアナート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添されたジフェニルメタンジイソシアネート等のイソシアネートモノマー;これらイソシアネートモノマーにトリメチロールプロパン等のポリオールを付加して得られるイソシアネート化合物等が挙げられる。 Any appropriate cross-linking agent can be used as the isocyanate-based cross-linking agent. Examples of isocyanate-based cross-linking agents include isocyanate monomers such as tolylene diisocyanate, chlorophenylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, and hydrogenated diphenylmethane diisocyanate; and isocyanate compounds obtained by adding polyols such as.
上記エポキシ系架橋剤としては、任意の適切な架橋剤が用いられ得る。エポキシ系架橋剤としては、例えば、分子内にエポキシ基を2つ以上有するエポキシ系樹脂が用いられ、具体的には、ジグリシジルアニリン、1,3-ビス(N,N-グリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル等が挙げられる。 Any appropriate cross-linking agent can be used as the epoxy-based cross-linking agent. As the epoxy-based cross-linking agent, for example, an epoxy-based resin having two or more epoxy groups in the molecule is used. Specifically, diglycidylaniline and 1,3-bis(N,N-glycidylaminomethyl)cyclohexane are used. , N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylenediamine, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, and the like. be done.
上記過酸化物系架橋剤としては、任意の適切な架橋剤が用いられ得る。過酸化物系架橋剤としては、例えば、ジベンゾイルパーオキシド、ジ(2-エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ(4-t-ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ-sec-ブチルパーオキシジカーボネート、t-ブチルパーオキシネオデカノエート、t-ヘキシルパーオキシピバレート、t-ブチルパーオキシピバレート等が挙げられる。 Any appropriate cross-linking agent can be used as the peroxide-based cross-linking agent. Examples of peroxide-based cross-linking agents include dibenzoyl peroxide, di(2-ethylhexyl)peroxydicarbonate, di(4-t-butylcyclohexyl)peroxydicarbonate, and di-sec-butylperoxydicarbonate. , t-butylperoxyneodecanoate, t-hexylperoxypivalate, t-butylperoxypivalate and the like.
上記架橋剤の添加量は、ベースポリマー100重量部に対して、好ましくは0.01重量部~5重量部であり、より好ましくは0.02重量部~3重量部であり、さらに好ましくは0.1重量部~2.5重量部であり、特に好ましくは0.4重量部~1重量部である。このような範囲であれば、適切なクリープ値を有する粘着剤層を形成することができる。 The amount of the cross-linking agent added is preferably 0.01 to 5 parts by weight, more preferably 0.02 to 3 parts by weight, and still more preferably 0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the base polymer. .1 to 2.5 parts by weight, particularly preferably 0.4 to 1 part by weight. Within such a range, a pressure-sensitive adhesive layer having an appropriate creep value can be formed.
1つの実施形態においては、上記粘着剤層を形成する粘着剤は、シランカップリング剤をさらに含み得る。シランカップリング剤としては、例えば、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ基含有シランカップリング剤;3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3-トリエトキシシリル-N-(1,3-ジメチルブチリデン)プロピルアミン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ基含有シランカップリング剤;(メタ)アクリル基含有シランカップリング剤;イソシアネート基含有シランカップリング剤等が挙げられる。 In one embodiment, the adhesive forming the adhesive layer may further contain a silane coupling agent. Silane coupling agents include, for example, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl). Epoxy group-containing silane coupling agents such as ethyltrimethoxysilane; 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N-(1, 3-dimethylbutylidene)propylamine, amino group-containing silane coupling agents such as N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane; (meth)acrylic group-containing silane coupling agents; isocyanate group-containing silane coupling agents; mentioned.
上記シランカップリング剤の添加量は、ベースポリマー100重量部に対して、好ましくは0.01重量部~1重量部であり、より好ましくは0.05重量部~0.5重量部である。 The amount of the silane coupling agent added is preferably 0.01 to 1 part by weight, more preferably 0.05 to 0.5 part by weight, per 100 parts by weight of the base polymer.
上記粘着剤は、必要に応じて、任意の適切な添加剤をさらに含み得る。該添加剤としては、例えば、粘着付与剤、可塑剤、顔料、染料、充填剤、老化防止剤、導電材、紫外線吸収剤、光安定剤、剥離調整剤、軟化剤、界面活性剤、難燃剤等が挙げられる。 The pressure-sensitive adhesive may further contain any appropriate additive as necessary. The additives include, for example, tackifiers, plasticizers, pigments, dyes, fillers, antioxidants, conductive materials, ultraviolet absorbers, light stabilizers, release modifiers, softeners, surfactants, flame retardants. etc.
F.反射防止層用基材
F-1.反射防止層用基材本体
反射防止層用基材は、反射防止層を形成するために用いられる。後述するように、反射防止層用基材に反射防止層を形成し、反射防止層用基材/反射防止層の積層体を偏光板に貼り合わせることにより、偏光板を反射防止層形成プロセス(代表的には、スパッタリング)に供する必要がなくなる。
F. Base material for antireflection layer F-1. Antireflection Layer Substrate Body The antireflection layer substrate is used to form the antireflection layer. As will be described later, an antireflection layer is formed on a base material for an antireflection layer, and a laminate of the base material for an antireflection layer/antireflection layer is adhered to a polarizing plate, whereby the polarizing plate is subjected to an antireflection layer forming process ( Typically, the need for sputtering) is eliminated.
反射防止層用基材の形成材料および厚みは、上記の映り込み防止層用基材と同様である。 The forming material and thickness of the base material for the antireflection layer are the same as those for the antireflection layer base material.
1つの実施形態においては、反射防止層用基材の水分率は、例えば、2.0重量%以上であり、好ましくは2.4重量%以上であり、より好ましくは2.7重量%以上であり、さらに好ましくは3.0重量%以上であり、特に好ましくは3.5重量%以上である。反射防止層用基材の水分率は、例えば5.0重量%以下である。反射防止層用基材がこのような高い水分率を有することにより、高温高湿環境下における映り込み防止層(液晶化合物の配向固化層)の剥がれおよびシワが抑制され得る。本明細書において「反射防止層用基材の水分率」とは、J項で後述する製造方法において反射防止積層体を貼り合わせる際の反射防止層用基材の水分率をいう。 In one embodiment, the moisture content of the antireflection layer substrate is, for example, 2.0% by weight or more, preferably 2.4% by weight or more, and more preferably 2.7% by weight or more. more preferably 3.0% by weight or more, and particularly preferably 3.5% by weight or more. The moisture content of the antireflection layer substrate is, for example, 5.0% by weight or less. When the base material for an antireflection layer has such a high moisture content, peeling and wrinkling of the anti-glare layer (orientation and solidification layer of the liquid crystal compound) in a high-temperature and high-humidity environment can be suppressed. In the present specification, the term "moisture content of the antireflection layer base material" refers to the moisture content of the antireflection layer base material when the antireflection laminate is laminated in the manufacturing method described later in Section J.
F-2.ハードコート層
反射防止層用基材の反射防止層側の表面には、ハードコート層が形成されていてもよい。ハードコート層を形成することにより、鉛筆硬度の向上という利点がある。さらに、ハードコート層と反射防止層との屈折率差を適切に調整することにより、反射率をさらに低下させることができる。
F-2. Hard Coat Layer A hard coat layer may be formed on the antireflection layer side surface of the antireflection layer substrate. By forming a hard coat layer, there is an advantage of improving the pencil hardness. Furthermore, the reflectance can be further reduced by appropriately adjusting the refractive index difference between the hard coat layer and the antireflection layer.
ハードコート層は、好ましくは、十分な表面硬度、優れた機械的強度、および優れた光透過性を有する。ハードコート層は、このような所望の特性を有する限り、任意の適切な樹脂から形成され得る。樹脂の具体例としては、熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、二液混合型樹脂が挙げられる。紫外線硬化型樹脂が好ましい。簡便な操作および高効率でハードコート層を形成することができるからである。 The hard coat layer preferably has sufficient surface hardness, excellent mechanical strength, and excellent optical transparency. The hard coat layer can be formed from any suitable resin as long as it has such desired properties. Specific examples of resins include thermosetting resins, thermoplastic resins, ultraviolet curing resins, electron beam curing resins, and two-liquid mixed resins. A UV curable resin is preferred. This is because the hard coat layer can be formed with simple operation and high efficiency.
紫外線硬化型樹脂の具体例としては、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン系、エポキシ系の紫外線硬化型樹脂が挙げられる。紫外線硬化型樹脂には、紫外線硬化型のモノマー、オリゴマー、ポリマーが含まれる。好ましい紫外線硬化型樹脂としては、紫外線重合性の官能基を好ましくは2個以上、より好ましくは3~6個有するアクリル系のモノマー成分またはオリゴマー成分を含む樹脂組成物が挙げられる。代表的には、紫外線硬化型樹脂には、光重合開始剤が配合されている。 Specific examples of UV curable resins include polyester, acrylic, urethane, amide, silicone and epoxy UV curable resins. UV-curable resins include UV-curable monomers, oligomers, and polymers. Preferred UV-curable resins include resin compositions containing acrylic monomer or oligomer components having preferably 2 or more, more preferably 3 to 6, UV-polymerizable functional groups. Typically, the UV curable resin contains a photopolymerization initiator.
ハードコート層は、任意の適切な方法により形成され得る。例えば、ハードコート層は、反射防止層用基材上にハードコート層形成用樹脂組成物を塗工し、乾燥させ、乾燥した塗工膜に紫外線を照射して硬化させることにより形成され得る。 A hard coat layer may be formed by any appropriate method. For example, the hard coat layer can be formed by coating a resin composition for forming a hard coat layer on a base material for an antireflection layer, drying it, and curing the dried coating film by irradiating it with ultraviolet rays.
ハードコート層の厚みは、例えば0.5μm~20μm、好ましくは1μm~15μmである。 The thickness of the hard coat layer is, for example, 0.5 μm to 20 μm, preferably 1 μm to 15 μm.
ハードコート層、ならびに、ハードコート層と反射防止層との密着構造についての詳細は、例えば特開2016-224443号公報に記載されている。当該公報の記載は、本明細書に参考として援用される。 Details of the hard coat layer and the adhesion structure between the hard coat layer and the antireflection layer are described in, for example, JP-A-2016-224443. The description of the publication is incorporated herein by reference.
G.反射防止層
反射防止層の構成としては、任意の適切な構成が採用され得る。反射防止層の代表的な構成としては、(1)光学膜厚が120nm~140nmである、屈折率1.35~1.55程度の低屈折率層の単一層;(2)反射防止層用基材側から順に中屈折率層と高屈折率層と低屈折率層とを有する積層体;(3)高屈折率層と低屈折率層との交互多層積層体;が挙げられる。
G. Antireflection Layer Any appropriate configuration can be adopted as the configuration of the antireflection layer. A typical structure of the antireflection layer includes (1) a single layer of a low refractive index layer having an optical thickness of 120 nm to 140 nm and a refractive index of about 1.35 to 1.55; Laminates having medium refractive index layers, high refractive index layers and low refractive index layers in order from the substrate side; (3) alternating multilayer laminates of high refractive index layers and low refractive index layers;
低屈折率層を形成し得る材料としては、例えば、酸化ケイ素(SiO2)、フッ化マグネシウム(MgF2)が挙げられる。低屈折率層の屈折率は、代表的には1.35~1.55程度である。高屈折率層を形成し得る材料としては、例えば、酸化チタン(TiO2)、酸化ニオブ(Nb2O3またはNb2O5)、スズドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、ZrO2-TiO2が挙げられる。高屈折率層の屈折率は、代表的には1.60~2.20程度である。中屈折率層を形成し得る材料としては、例えば、酸化チタン(TiO2)、低屈折率層を形成し得る材料と高屈折率層を形成し得る材料との混合物(例えば、酸化チタンと酸化ケイ素との混合物)が挙げられる。中屈折率層の屈折率は、代表的には1.50~1.85程度である。低屈折率層、中屈折率層および高屈折率層の厚みは、反射防止層の層構造、所望の反射防止性能等に応じた適切な光学膜厚が実現されるように設定され得る。 Materials that can form the low refractive index layer include, for example, silicon oxide (SiO 2 ) and magnesium fluoride (MgF 2 ). The refractive index of the low refractive index layer is typically about 1.35 to 1.55. Materials capable of forming the high refractive index layer include, for example, titanium oxide (TiO 2 ), niobium oxide (Nb 2 O 3 or Nb 2 O 5 ), tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), ZrO 2 —TiO 2 can be mentioned. The refractive index of the high refractive index layer is typically about 1.60 to 2.20. Materials capable of forming the medium refractive index layer include, for example, titanium oxide (TiO 2 ), a mixture of a material capable of forming a low refractive index layer and a material capable of forming a high refractive index layer (for example, titanium oxide and oxide mixtures with silicon). The refractive index of the medium refractive index layer is typically about 1.50 to 1.85. The thicknesses of the low refractive index layer, the medium refractive index layer, and the high refractive index layer can be set so as to realize an appropriate optical film thickness according to the layer structure of the antireflection layer, desired antireflection performance, and the like.
反射防止層は、代表的にはドライプロセスにより形成される。ドライプロセスの具体例としては、PVD(Physical Vapor Deposition)法、CVD(Chemical Vapor Deposition)法が挙げられる。PVD法としては、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト法、スパッタリング法、イオンプレーティング法が挙げられる。CVD法としては、プラズマCVD法が挙げられる。好ましくは、スパッタリング法である。 An antireflection layer is typically formed by a dry process. Specific examples of the dry process include a PVD (Physical Vapor Deposition) method and a CVD (Chemical Vapor Deposition) method. PVD methods include a vacuum deposition method, a reactive deposition method, an ion beam assist method, a sputtering method, and an ion plating method. As the CVD method, there is a plasma CVD method. Sputtering is preferred.
反射防止層の厚みは、例えば20nm~300nm程度である。 The thickness of the antireflection layer is, for example, about 20 nm to 300 nm.
反射防止層は、波長400nm~700nmの範囲における最大反射率と最小反射率の差が、好ましくは2.0%以下であり、より好ましくは1.9%以下であり、さらに好ましくは1.8%以下である。最大反射率と最小反射率の差がこのような範囲であれば、反射光の色づきが良好に防止され得る。 In the antireflection layer, the difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance in the wavelength range of 400 nm to 700 nm is preferably 2.0% or less, more preferably 1.9% or less, and still more preferably 1.8%. % or less. If the difference between the maximum reflectance and the minimum reflectance is in such a range, it is possible to satisfactorily prevent the coloring of the reflected light.
必要に応じて、反射防止層の表面には、防汚層が設けられ得る。防汚層は、例えば、フッ素基含有のシラン系化合物(例えば、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物)またはフッ素基含有の有機化合物を含む。防汚層は、好ましくは、水接触角が110度以上の撥水性を示す。 If necessary, an antifouling layer may be provided on the surface of the antireflection layer. The antifouling layer contains, for example, a fluorine group-containing silane compound (for example, an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group) or a fluorine group-containing organic compound. The antifouling layer preferably exhibits water repellency with a water contact angle of 110 degrees or more.
H.第1の位相差層
第1の位相差層は、目的に応じて任意の適切な光学的特性および/または機械的特性を有する位相差フィルムで構成され得る。1つの実施形態においては、第1の位相差層は、λ/2板として機能し得る。第1の位相差層がλ/2板として機能することにより、λ/4板として機能する第2の位相差層との積層後の波長分散特性(特に、位相差がλ/4を外れる波長範囲)について、位相差が適切に調節され得る。このような第1の位相差層の面内位相差Re(550)は、好ましくは220nm~320nmであり、より好ましくは240nm~300nmであり、さらに好ましくは250nm~280nmである。
H. First Retardation Layer The first retardation layer may be composed of a retardation film having any appropriate optical properties and/or mechanical properties depending on the purpose. In one embodiment, the first retardation layer can function as a λ/2 plate. By the first retardation layer functioning as a λ / 2 plate, the wavelength dispersion characteristics after lamination with the second retardation layer functioning as a λ / 4 plate (in particular, the wavelength where the phase difference is outside λ / 4 range), the phase difference can be adjusted appropriately. The in-plane retardation Re(550) of such a first retardation layer is preferably 220 nm to 320 nm, more preferably 240 nm to 300 nm, still more preferably 250 nm to 280 nm.
第1の位相差層の厚みは、λ/2板として最も適切に機能し得るように設定され得る。言い換えれば、厚みは、所望の面内位相差が得られるように設定され得る。具体的には、厚みは、好ましくは10μm~60μmであり、より好ましくは30μm~50μmである。 The thickness of the first retardation layer can be set so as to function most appropriately as a λ/2 plate. In other words, the thickness can be set to obtain the desired in-plane retardation. Specifically, the thickness is preferably 10 μm to 60 μm, more preferably 30 μm to 50 μm.
第1の位相差層は、好ましくは屈折率特性がnx>ny>nzの関係を示す。第1の位相差層のNz係数は、好ましくは1.1~3.0であり、より好ましくは1.3~2.7である。Nz係数は、Nz=Rth/Reによって求められる。Rthは厚み方向の位相差であり、例えば、Rth(550)は、23℃における波長550nmの光で測定した厚み方向の位相差である。Rth(550)は、Rth=(nx-nz)×dによって求められる。nzは厚み方向の屈折率である。 The first retardation layer preferably exhibits a refractive index characteristic of nx>ny>nz. The Nz coefficient of the first retardation layer is preferably 1.1-3.0, more preferably 1.3-2.7. The Nz coefficient is obtained by Nz=Rth/Re. Rth is the retardation in the thickness direction. For example, Rth(550) is the retardation in the thickness direction measured at 23° C. with light having a wavelength of 550 nm. Rth(550) is obtained by Rth=(nx−nz)×d. nz is the refractive index in the thickness direction.
第1の位相差層は、その遅相軸が偏光子の吸収軸と好ましくは10°~20°、より好ましくは12°~18°、さらに好ましくは約15°の角度をなすようにして配置され得る。なお、本明細書において角度に言及するときは、時計回りおよび反時計回りの両方を包含する。 The first retardation layer is arranged such that its slow axis forms an angle of preferably 10° to 20°, more preferably 12° to 18°, and more preferably about 15° with the absorption axis of the polarizer. can be It should be noted that references herein to angles include both clockwise and counterclockwise.
第1の位相差層は、光弾性係数の絶対値が好ましくは2×10-11m2/N以下、より好ましくは2.0×10-13m2/N~1.5×10-11m2/N、さらに好ましくは1.0×10-12m2/N~1.2×10-11m2/Nの樹脂を含む。光弾性係数の絶対値がこのような範囲であれば、加熱時の収縮応力が発生した場合に位相差変化が生じにくい。したがって、このような光弾性係数の絶対値を有する樹脂を用いて第1の位相差層を形成することにより、映り込み防止層付偏光板を画像表示装置に適用した場合に熱ムラが良好に防止され得る。 The absolute value of the photoelastic coefficient of the first retardation layer is preferably 2×10 −11 m 2 /N or less, more preferably 2.0×10 −13 m 2 /N to 1.5×10 −11 m 2 /N, more preferably 1.0×10 −12 m 2 /N to 1.2×10 −11 m 2 /N of resin. If the absolute value of the photoelastic coefficient is within such a range, the phase difference is less likely to change when shrinkage stress occurs during heating. Therefore, by forming the first retardation layer using a resin having such an absolute value of the photoelastic coefficient, when the polarizing plate with the anti-glare layer is applied to an image display device, the heat unevenness is improved. can be prevented.
第1の位相差層は、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長に応じて小さくなる正の波長分散特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長によってもほとんど変化しないフラットな波長分散特性を示してもよい。フラットな波長分散特性を示すことが好ましい。具体的には、第1の位相差層のRe(450)/Re(550)は好ましくは0.99~1.03であり、Re(650)/Re(550)は好ましくは0.98~1.02である。フラットな波長分散特性を有するλ/2板(第1の位相差層)とλ/4板(第2の位相差層)とを所定の軸角度で配置することにより、理想的な逆波長分散特性に近い特性を得ることが可能であり、結果として、非常に優れた反射防止特性を実現することができる。 The first retardation layer may exhibit a reverse wavelength dispersion characteristic in which the retardation value increases according to the wavelength of the measurement light, or has a positive wavelength dispersion characteristic in which the retardation value decreases according to the wavelength of the measurement light. It may also show a flat wavelength dispersion characteristic in which the phase difference value hardly changes even with the wavelength of the measurement light. It preferably exhibits a flat wavelength dispersion characteristic. Specifically, Re(450)/Re(550) of the first retardation layer is preferably 0.99 to 1.03, and Re(650)/Re(550) is preferably 0.98 to 1.02. By arranging a λ / 2 plate (first retardation layer) and a λ / 4 plate (second retardation layer) having flat wavelength dispersion characteristics at a predetermined axis angle, ideal reverse wavelength dispersion It is possible to obtain characteristics close to the characteristics, and as a result, very excellent antireflection characteristics can be realized.
第1の位相差層は、上記のような特性を満足し得る任意の適切な樹脂フィルムで構成され得る。そのような樹脂の代表例としては、環状オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリル系樹脂が挙げられる。中でも、環状オレフィン系樹脂が好適に用いられ得る。第1の位相差層は、例えば、上記樹脂から形成されたフィルムを延伸することにより得られる。環状オレフィン系樹脂および樹脂フィルムの延伸方法(位相差フィルムの形成方法)の詳細については、例えば、特開2015-210459号公報、特開2016-105166号公報に記載されている。この公報の記載は、本明細書に参考として援用される。 The first retardation layer may be composed of any appropriate resin film that can satisfy the properties as described above. Representative examples of such resins include cyclic olefin-based resins, polycarbonate-based resins, cellulose-based resins, polyester-based resins, polyvinyl alcohol-based resins, polyamide-based resins, polyimide-based resins, polyether-based resins, polystyrene-based resins, and acrylic resins. system resin. Among them, cyclic olefin resins can be preferably used. The first retardation layer is obtained, for example, by stretching a film formed from the above resin. Details of the cyclic olefin resin and the stretching method of the resin film (method of forming the retardation film) are described in, for example, JP-A-2015-210459 and JP-A-2016-105166. The description of this publication is incorporated herein by reference.
I.第2の位相差層
第2の位相差層は、目的に応じて任意の適切な光学的特性および/または機械的特性を有する位相差フィルムで構成され得る。第1の位相差層がλ/2板として機能する場合、第2の位相差層は、代表的にはλ/4板として機能し得る。λ/4板として機能する第2の位相差層の波長分散特性を、上記λ/2板として機能する第1の位相差層の光学特性によって補正することによって、広い波長範囲での円偏光機能を発揮することができる。このような第2の位相差層の面内位相差Re(550)は、好ましくは100nm~180nmであり、より好ましくは110nm~170nmであり、さらに好ましくは120nm~160nmである。
I. Second Retardation Layer The second retardation layer may be composed of a retardation film having any appropriate optical properties and/or mechanical properties depending on the purpose. When the first retardation layer functions as a λ/2 plate, the second retardation layer can typically function as a λ/4 plate. By correcting the wavelength dispersion characteristics of the second retardation layer that functions as a λ / 4 plate by the optical characteristics of the first retardation layer that functions as the λ / 2 plate, a circularly polarized light function in a wide wavelength range can be demonstrated. The in-plane retardation Re(550) of such a second retardation layer is preferably 100 nm to 180 nm, more preferably 110 nm to 170 nm, still more preferably 120 nm to 160 nm.
第2の位相差層の厚みは、λ/4板として最も適切に機能し得るように設定され得る。言い換えれば、厚みは、所望の面内位相差が得られるように設定され得る。具体的には、厚みは、好ましくは10μm~50μmであり、より好ましくは20μm~40μmである。 The thickness of the second retardation layer can be set so as to function most appropriately as a λ/4 plate. In other words, the thickness can be set to obtain the desired in-plane retardation. Specifically, the thickness is preferably 10 μm to 50 μm, more preferably 20 μm to 40 μm.
第2の位相差層は、好ましくは屈折率特性がnz>nx>nyの関係を示す。第2の位相差層のNz係数は、好ましくは-10~-0.1であり、より好ましくは-5~-1である。 The second retardation layer preferably exhibits a refractive index characteristic of nz>nx>ny. The Nz coefficient of the second retardation layer is preferably -10 to -0.1, more preferably -5 to -1.
第2の位相差層は、その遅相軸が偏光子の吸収軸と好ましくは70°~80°、より好ましくは72°~78°、さらに好ましくは約75°の角度をなすようにして配置され得る。 The second retardation layer is arranged such that its slow axis forms an angle of preferably 70° to 80°, more preferably 72° to 78°, more preferably about 75° with the absorption axis of the polarizer. can be
第2の位相差層は、上記のような特性を満足し得る任意の適切な樹脂フィルムで構成され得る。そのような樹脂は、代表的には、負の固有複屈折を有するポリマーであり得る。負の固有複屈折を有するポリマーとは、ポリマーを延伸等により配向させた場合に、その配向方向の屈折率が相対的に小さくなるものを指す。負の固有複屈折を有するポリマーとしては、例えば、芳香族基やカルボニル基などの分極異方性の大きい化学結合や官能基がポリマーの側鎖に導入されているものが挙げられる。具体例としては、変性ポリオレフィン系樹脂(例えば、変性ポリエチレン系樹脂)、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、マレイミド系樹脂、フマル酸エステル系樹脂等が挙げられる。第2の位相差層は、例えば、上記樹脂から形成されたフィルムを適切に延伸することにより得られ得る。 The second retardation layer may be composed of any appropriate resin film that can satisfy the properties as described above. Such resins can typically be polymers with negative intrinsic birefringence. A polymer having negative intrinsic birefringence refers to a polymer whose refractive index in the orientation direction is relatively small when the polymer is oriented by stretching or the like. Examples of polymers having negative intrinsic birefringence include those in which chemical bonds or functional groups with large polarization anisotropy such as aromatic groups and carbonyl groups are introduced into the side chains of the polymer. Specific examples include modified polyolefin-based resins (eg, modified polyethylene-based resins), acrylic resins, styrene-based resins, maleimide-based resins, fumarate-based resins, and the like. The second retardation layer can be obtained, for example, by appropriately stretching a film formed from the above resin.
J.映り込み防止層付偏光板の製造方法
本発明の1つの実施形態による映り込み防止層付偏光板の製造方法は、偏光子および保護層を含む偏光子積層体(偏光板)を作製すること、映り込み防止層用基材に映り込み防止層を形成し、映り込み防止積層体を作製すること、および、該偏光子積層体、および、該映り込み防止積層体を貼り合わせることを含む。映り込み防止層付偏光板が反射防止層および反射防止層用基材をさらに含む場合、映り込み防止層付偏光板の製造方法は、反射防止層用基材に反射防止層を形成し、反射防止積層体を作製すること、および、上記偏光子積層体および映り込み防止積層体と、該反射防止積層体とを貼り合わせる工程をさらに含む。
J. Method for producing a polarizing plate with an anti-glare layer A method for producing a polarizing plate with an anti-glare layer according to one embodiment of the present invention comprises producing a polarizer laminate (polarizing plate) including a polarizer and a protective layer, The method includes forming an anti-reflection layer on a substrate for an anti-reflection layer to prepare an anti-reflection laminate, and bonding the polarizer laminate and the anti-reflection laminate together. When the antireflection layer-attached polarizing plate further includes an antireflection layer and an antireflection layer base material, the method for producing the reflection prevention layer-attached polarizing plate includes forming the antireflection layer on the antireflection layer base material, The method further includes the steps of forming an antireflection laminate, and bonding the polarizer laminate and the antireflection laminate to the antireflection laminate.
偏光子積層体は、任意の適切な方法により作製され得る。単層の樹脂フィルムから構成される偏光子を用いる場合には、偏光子と保護層を構成する樹脂フィルムとを任意の適切な接着層(接着剤層または粘着剤層)を介して貼り合わせればよい。樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたPVA系樹脂層(PVA系樹脂フィルム)との積層体を用いる場合には、当該積層体を染色および延伸処理に供してPVA系樹脂層を偏光子とし、この積層体をそのまま偏光子積層体として用いてもよい。あるいは、この積層体の偏光子表面に保護層を構成する樹脂フィルムを貼り合わせて用いてもよい。この場合、樹脂基材は剥離してもよく、剥離しなくてもよい。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたPVA系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子を用いる場合には、上記B-1項に記載のようにして(例えば、特開2012-73580号公報に記載のようにして)樹脂基材/偏光子の積層体を作製し、この積層体をそのまま偏光子積層体として用いてもよい。あるいは、この積層体の偏光子表面に保護層を構成する樹脂フィルムを貼り合わせて用いてもよい。この場合、樹脂基材は剥離してもよく、剥離しなくてもよい。 A polarizer laminate can be made by any suitable method. When a polarizer composed of a single-layer resin film is used, the polarizer and the resin film that constitutes the protective layer may be laminated via any suitable adhesive layer (adhesive layer or adhesive layer). good. When using a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer (PVA-based resin film) laminated on the resin substrate, the laminate is dyed and stretched to convert the PVA-based resin layer into a polarizer. , and this laminate may be used as it is as a polarizer laminate. Alternatively, a resin film constituting a protective layer may be adhered to the surface of the polarizer of this laminate. In this case, the resin substrate may or may not be peeled off. When using a polarizer obtained by using a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer formed by coating on the resin substrate, as described in the above section B-1 (for example, 2012-73580), and this laminate may be used as it is as the polarizer laminate. Alternatively, a resin film constituting a protective layer may be adhered to the surface of the polarizer of this laminate. In this case, the resin substrate may or may not be peeled off.
映り込み防止積層体は、映り込み防止層用基材に映り込み防止層を形成することにより作製される。映り込み防止層の形成手順は、上記C項に記載のとおりである。 The anti-reflection laminate is produced by forming an anti-reflection layer on a substrate for an anti-reflection layer. The procedure for forming the anti-glare layer is as described in section C above.
反射防止積層体は、反射防止層用基材に反射防止層を形成することにより作製される。反射防止層を形成する際、必要に応じて、反射防止層用基材にあらかじめ表面処理を施しておいてもよい。表面処理としては、例えば、低圧プラズマ処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理が挙げられる。あるいは、反射防止層用基材表面に例えばSiOxからなる密着層を形成してもよい。反射防止層は、上記のとおり、代表的にはドライプロセス(例えば、スパッタリング)により形成される。例えば、反射防止層が高屈折率層と低屈折率層との交互多層積層体である場合、反射防止層用基材表面にスパッタリングにより例えばNb2O5膜(高屈折率層)、SiO2膜(低屈折率層)、Nb2O5膜(高屈折率層)、およびSiO2膜(低屈折率層)を順次製膜することにより、反射防止層が形成され得る。 The antireflection laminate is produced by forming an antireflection layer on a substrate for an antireflection layer. When forming the antireflection layer, if necessary, the base material for the antireflection layer may be surface-treated in advance. Surface treatments include, for example, low-pressure plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona treatment, flame treatment, acid or alkali treatment. Alternatively, an adhesion layer made of, for example, SiOx may be formed on the surface of the antireflection layer substrate. The antireflection layer is typically formed by a dry process (eg, sputtering), as described above. For example, when the antireflection layer is an alternating multilayer laminate of high refractive index layers and low refractive index layers, for example, Nb 2 O 5 film (high refractive index layer), SiO 2 An antireflection layer can be formed by sequentially depositing a film (low refractive index layer), a Nb 2 O 5 film (high refractive index layer), and a SiO 2 film (low refractive index layer).
最後に、偏光子積層体、映り込み防止積層体、必要に応じて反射防止積層体を貼り合わせることにより、映り込み防止層付偏光板が得られ得る。映り込み防止層付偏光板が反射防止層および反射防止層用基材をさらに含む場合、反射防止積層体を、映り込み防止積層体/偏光子積層体の積層体に貼り合わせてもよく、反射防止積層体/映り込み防止積層体の積層体を偏光子積層体に貼り合わせてもよい。映り込み防止層付偏光板は、例えば、偏光子積層体の保護層表面に、上記粘着剤層を介して映り込み防止積層体の映り込み防止層を貼り合わせることにより得られ得る。また、映り込み防止層付偏光板がさらに反射防止層を備える場合、偏光子積層体と映り込み防止層積層体とを貼り合わせた後、次いで、映り込み防止層用基材の表面に、任意の適切な接着層(例えば、接着剤層、粘着剤層)を介して反射防止積層体の反射防止層用基材を貼り合わせることにより得られ得る。 Finally, a polarizing plate with an anti-glare layer can be obtained by laminating a polarizer laminate, an anti-glare laminate, and, if necessary, an anti-reflection laminate. When the anti-glare layer-attached polarizing plate further includes an anti-reflection layer and a base material for an anti-reflection layer, the anti-reflection laminate may be laminated to the anti-glare laminate/polarizer laminate. A laminate of anti-glare laminate/anti-glare laminate may be attached to the polarizer laminate. The anti-reflection layer-attached polarizing plate can be obtained, for example, by bonding the anti-reflection layer of the anti-reflection laminate to the surface of the protective layer of the polarizer laminate via the pressure-sensitive adhesive layer. In the case where the polarizing plate with an anti-glare layer further comprises an anti-reflection layer, after the polarizer laminate and the anti-glare layer laminate are bonded together, an optional can be obtained by laminating the substrate for the antireflection layer of the antireflection laminate via an appropriate adhesive layer (for example, an adhesive layer, a pressure-sensitive adhesive layer) of the antireflection laminate.
K.画像表示装置
本発明の実施形態による映り込み防止層付偏光板は、画像表示装置に適用され得る。代表的には、映り込み防止層が視認側となるようにして画像表示装置の視認側に配置され得る。また、映り込み防止層付偏光板が反射防止層をさらに備える場合、映り込み防止層付偏光板は、反射防止層が視認側となるようにして画像表示装置の視認側に配置され得る。画像表示装置の代表例としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネセンス(EL)表示装置、量子ドット表示装置が挙げられる。
K. Image Display Device The polarizing plate with anti-glare layer according to the embodiment of the present invention can be applied to an image display device. Typically, it can be arranged on the viewing side of the image display device so that the anti-glare layer is on the viewing side. When the polarizing plate with an antireflection layer further includes an antireflection layer, the polarizing plate with an antireflection layer can be arranged on the viewer side of the image display device so that the antireflection layer is on the viewer side. Typical examples of image display devices include liquid crystal display devices, organic electroluminescence (EL) display devices, and quantum dot display devices.
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。なお、各特性の測定方法は以下の通りである。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. In addition, the measuring method of each characteristic is as follows.
(1)粘着剤層のクリープ値
幅10mm×長さ50mmに切断した測定試料の端部(幅10mm×長さ10mm)をステンレス板に、粘着剤層を介して貼着し、50℃、5気圧、15分のオートクレーブ処理後、室温で1時間放置した後、ステンレス板に貼着した端部とは反対側の端部に、23℃下で、500gの荷重(引っ張り加重)を1時間負荷したとき粘着剤層のズレ量(変形量)を測定し、これを粘着剤層のクリープ値とした(レーザー式クリープ試験機)。
(1) Creep value of adhesive layer The edge of the measurement sample (
(2)剥がれおよびシワ
実施例および比較例で得られた映り込み防止層付偏光板を、偏光子の吸収軸方向が短辺となるように300mm×180mmに切り出し、ガラス板に貼り合わせて測定試料とした。この測定試料を加湿条件下(65℃および90%RHのオーブン)に72時間置き、各試料の四隅の剥がれおよびシワの有無を目視で確認した。剥がれおよびシワが発生している場合には、各隅の頂点から剥がれおよびシワまでの距離(R)を定規により測定した。四隅で測定した距離(R)の平均値を偏光板の距離(R)とした。距離(R)が5mm以下である場合、実用に耐え得る。
(2) Peeling and wrinkles The polarizing plates with anti-reflection layers obtained in Examples and Comparative Examples were cut into pieces of 300 mm × 180 mm so that the absorption axis direction of the polarizer is the short side, and the measurement was performed by attaching them to a glass plate. It was used as a sample. This measurement sample was placed under humidified conditions (an oven at 65° C. and 90% RH) for 72 hours, and the presence or absence of peeling and wrinkling at the four corners of each sample was visually confirmed. When peeling and wrinkling occurred, the distance (R) from the apex of each corner to the peeling and wrinkling was measured with a ruler. The average value of the distances (R) measured at the four corners was taken as the distance (R) of the polarizing plate. When the distance (R) is 5 mm or less, it can withstand practical use.
<合成例1>粘着剤1の合成
冷却管、窒素導入管、温度計および撹拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸ブチル100部、アクリル酸5部、アクリル酸2-ヒドロキシエチル0.075部および2,2´-アゾビスイソブチロニトリル0.3部を酢酸エチルと共に加えて溶液を調製した。次いで、この溶液に窒素ガスを吹き込みながら撹拌して、60℃で4時間反応させて、重量平均分子量220万のアクリル系ポリマーを含有する溶液を得た。さらに、このアクリル系ポリマーを含有する溶液に、酢酸エチルを加えて固形分濃度を30%に調整したアクリル系ポリマー溶液(A1)を得た。
得られたアクリル系ポリマー溶液(A1)の固形分100部に対して、架橋剤として、0.6部のイソシアネート基を有する化合物を主成分とする架橋剤(日本ポリウレタン(株)製,商品名「コロネートL」)と、シランカップリング剤として、0.075部のγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製、商品名「KMB-403」)とをこの順に配合して、粘着剤1を調製した。
<Synthesis Example 1> Synthesis of Adhesive 1 100 parts of butyl acrylate, 5 parts of acrylic acid, and 0.075 parts of 2-hydroxyethyl acrylate were added to a reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen inlet tube, a thermometer and a stirring device. and 0.3 parts of 2,2'-azobisisobutyronitrile were added together with ethyl acetate to prepare a solution. Next, this solution was stirred while blowing nitrogen gas, and reacted at 60° C. for 4 hours to obtain a solution containing an acrylic polymer having a weight-average molecular weight of 2,200,000. Further, an acrylic polymer solution (A1) was obtained by adding ethyl acetate to the solution containing the acrylic polymer to adjust the solid content concentration to 30%.
Per 100 parts of the solid content of the obtained acrylic polymer solution (A1), 0.6 parts of a crosslinking agent mainly composed of a compound having an isocyanate group (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd., trade name "Coronate L") and 0.075 parts of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name "KMB-403") as a silane coupling agent were blended in this order. Thus, an adhesive 1 was prepared.
<合成例2>粘着剤2の合成
冷却管、窒素導入管、温度計及び撹拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸ブチル99部、アクリル酸4-ヒドロキシブチル1.0部および2,2´-アゾビスイソブチロニトリル0.3部を酢酸エチルと共に加えて窒素ガス気流下、60℃で4時間反応させた。次いで、反応液に酢酸エチルを加えて、重量平均分子量165万のアクリル系ポリマーを含有する溶液(固形分濃度30%)を得た。
得られたアクリル系ポリマー溶液の固形分100部あたり0.15部のジベンゾイルパーオキシド(日本油脂製(株)製、商品名:ナイパーBO-Y)、0.08部のトリメチロールプロパンキシレンジイソシアネート(三井武田ケミカル(株)製、商品名:タケネートD110N)および0.2部のシランカップリング剤(綜研化学株式会社製、商品名:A-100、アセトアセチル基含有シランカップリング剤)をアクリル系ポリマー溶液に添加して、粘着剤2を調製した。
<Synthesis Example 2> Synthesis of Adhesive 2 99 parts of butyl acrylate, 1.0 part of 4-hydroxybutyl acrylate and 2,2' were added to a reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen inlet tube, a thermometer and a stirring device. -Azobisisobutyronitrile (0.3 part) was added together with ethyl acetate and reacted at 60°C for 4 hours under a nitrogen gas stream. Next, ethyl acetate was added to the reaction solution to obtain a solution (solid concentration: 30%) containing an acrylic polymer with a weight average molecular weight of 1,650,000.
0.15 parts of dibenzoyl peroxide (manufactured by NOF Corporation, trade name: Nyper BO-Y) per 100 parts of the solid content of the obtained acrylic polymer solution, 0.08 parts of trimethylolpropane xylene diisocyanate (manufactured by Mitsui Takeda Chemicals Co., Ltd., trade name: Takenate D110N) and 0.2 parts of a silane coupling agent (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., trade name: A-100, an acetoacetyl group-containing silane coupling agent) to acrylic Adhesive 2 was prepared by adding to the system polymer solution.
<合成例3>粘着剤3の合成
アクリル系ポリマー溶液の固形分100部あたり0.15部のジベンゾイルパーオキシド(日本油脂(株)製、商品名:ナイパーBO-Y)、0.02部のトリメチロールプロパンキシレンジイソシアネート(三井武田ケミカル(株)製、商品名:タケネートD110N)および0.2部のシランカップリング剤(綜研化学株式会社製、商品名:A-100、アセトアセチル基含有シランカップリング剤)をアクリル系ポリマー溶液に添加したこと以外は合成例2と同様にして、粘着剤3を調製した。
<Synthesis Example 3> Synthesis of Adhesive 3 0.15 parts of dibenzoyl peroxide (manufactured by NOF Corporation, trade name: Nyper BO-Y) per 100 parts of the solid content of the acrylic polymer solution, 0.02 parts of trimethylolpropane xylene diisocyanate (manufactured by Mitsui Takeda Chemicals Co., Ltd., trade name: Takenate D110N) and 0.2 parts of a silane coupling agent (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., trade name: A-100, an acetoacetyl group-containing silane Coupling agent) was added to the acrylic polymer solution in the same manner as in Synthesis Example 2 to prepare Adhesive 3.
<合成例4>粘着剤組成物4の合成
冷却管、窒素導入管、温度計および撹拌装置を備えた反応容器に、ブチルアクリレート81.9部、ベンジルアクリレート13部、アクリル酸5部、4-ヒドロキシブチルアクリレート0.1部および重合開始剤として2,2’-アゾビスイソブチロニトリル0.1部を酢酸エチル100部と共に仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入して窒素置換した。次いで、フラスコ内の液温を55℃付近に保って8時間重合反応を行い、アクリル系ポリマー溶液を調製した。
得られたアクリル系ポリマー溶液の固形分100部に対して、0.45部のイソシアネート架橋剤(日本ポリウレタン工業社製、商品名:コロネートL、トリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネートのアダクト体)、0.1部のベンゾイルパーオキシサイド(日本油脂社製、商品名:ナイパーBMT)、および、0.1部のシランカップリング剤(信越化学工業(株)製、商品名:KBM403)をアクリル系ポリマー溶液に添加して、粘着剤4を調製した。
<Synthesis Example 4> Synthesis of Adhesive Composition 4 Into a reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen inlet tube, a thermometer and a stirring device, 81.9 parts of butyl acrylate, 13 parts of benzyl acrylate, 5 parts of acrylic acid, 4- 0.1 part of hydroxybutyl acrylate and 0.1 part of 2,2'-azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator were charged together with 100 parts of ethyl acetate, and nitrogen gas was introduced while gently stirring to replace nitrogen gas. Subsequently, the liquid temperature in the flask was maintained at around 55° C., and the polymerization reaction was carried out for 8 hours to prepare an acrylic polymer solution.
Based on 100 parts of the solid content of the obtained acrylic polymer solution, 0.45 parts of an isocyanate cross-linking agent (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., trade name: Coronate L, an adduct of tolylene diisocyanate of trimethylolpropane), 0 .1 part of benzoyl peroxide (manufactured by NOF Corporation, trade name: Nyper BMT) and 0.1 part of a silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KBM403) are added to an acrylic polymer. Adhesive 4 was prepared by adding to the solution.
[実施例1]
1.偏光板(偏光子積層体)の作製
樹脂基材として、長尺状で、吸水率0.75%、Tg75℃の非晶質のイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタレート(IPA共重合PET)フィルム(厚み:100μm)を用いた。基材の片面に、コロナ処理を施し、このコロナ処理面に、ポリビニルアルコール(重合度4200、ケン化度99.2モル%)およびアセトアセチル変性PVA(重合度1200、アセトアセチル変性度4.6%、ケン化度99.0モル%以上、日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマーZ200」)を9:1の比で含む水溶液を25℃で塗布および乾燥して、厚み11μmのPVA系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
得られた積層体を、120℃のオーブン内で周速の異なるロール間で縦方向(長手方向)に2.0倍に自由端一軸延伸した(空中補助延伸)。
次いで、積層体を、液温30℃の不溶化浴(水100重量部に対して、ホウ酸を4重量部配合して得られたホウ酸水溶液)に30秒間浸漬させた(不溶化処理)。
次いで、液温30℃の染色浴に、偏光板が所定の透過率となるようにヨウ素濃度、浸漬時間を調整しながら浸漬させた。本実施例では、水100重量部に対して、ヨウ素を0.2重量部配合し、ヨウ化カリウムを1.5重量部配合して得られたヨウ素水溶液に60秒間浸漬させた(染色処理)。
次いで、液温30℃の架橋浴(水100重量部に対して、ヨウ化カリウムを3重量部配合し、ホウ酸を3重量部配合して得られたホウ酸水溶液)に30秒間浸漬させた(架橋処理)。
その後、積層体を、液温70℃のホウ酸水溶液(水100重量部に対して、ホウ酸を4重量部配合し、ヨウ化カリウムを5重量部配合して得られた水溶液)に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向(長手方向)に総延伸倍率が5.5倍となるように一軸延伸を行った(水中延伸)。
その後、積層体を液温30℃の洗浄浴(水100重量部に対して、ヨウ化カリウムを4重量部配合して得られた水溶液)に浸漬させた(洗浄処理)。
続いて、積層体のPVA系樹脂層(偏光子)表面に、PVA系樹脂水溶液(日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマー(登録商標)Z-200」、樹脂濃度:3重量%)を塗布して、保護層を構成するメタクリル樹脂フィルム(厚み:25μm、グルタルイミド構造を有する)を貼り合わせ、これを60℃に維持したオーブンで5分間加熱した。その後、樹脂基材をPVA系樹脂層から剥離した。続いて,積層体のPVA系樹脂層表面(樹脂基材剥離面)に、PVA系樹脂水溶液(日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマー(登録商標)Z-200」、樹脂濃度:3重量%)を塗布して、保護層を構成するメタクリル樹脂フィルム(厚み:40μm、グルタルイミド構造を有する)を貼り合わせ、これを60℃に維持したオーブンで5分間加熱した。このようにして、偏光子積層体(保護層/偏光子/保護層の構成を有する偏光板)を得た。なお、偏光子の厚みは5μm、単体透過率は42.3%であった。
[Example 1]
1. Preparation of polarizing plate (polarizer laminate) As a resin substrate, a long, amorphous isophthalic acid-copolymerized polyethylene terephthalate (IPA-copolymerized PET) film with a Tg of 75°C and a water absorption of 0.75% (thickness: 100 μm) was used. One side of the substrate was subjected to corona treatment, and the corona-treated side was coated with polyvinyl alcohol (degree of polymerization: 4,200, degree of saponification: 99.2 mol%) and acetoacetyl-modified PVA (degree of polymerization: 1,200, degree of acetoacetyl modification: 4.6). %, degree of saponification 99.0 mol% or more, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name "GOSEFIMER Z200") at a ratio of 9:1. A PVA-based resin layer was formed to produce a laminate.
The resulting laminate was uniaxially stretched 2.0 times at the free end in the machine direction (longitudinal direction) between rolls with different peripheral speeds in an oven at 120° C. (in-air auxiliary stretching).
Next, the laminate was immersed in an insolubilizing bath (an aqueous boric acid solution obtained by blending 4 parts by weight of boric acid with 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 30° C. for 30 seconds (insolubilizing treatment).
Then, it was immersed in a dyeing bath at a liquid temperature of 30° C. while adjusting the iodine concentration and the immersion time so that the polarizing plate had a predetermined transmittance. In this example, 0.2 parts by weight of iodine was added to 100 parts by weight of water, and 1.5 parts by weight of potassium iodide was added to the resulting iodine aqueous solution for 60 seconds (dyeing treatment). .
Next, it was immersed for 30 seconds in a cross-linking bath at a liquid temperature of 30°C (an aqueous boric acid solution obtained by blending 3 parts by weight of potassium iodide and 3 parts by weight of boric acid with respect to 100 parts by weight of water). (crosslinking treatment).
After that, the laminate is immersed in an aqueous solution of boric acid having a liquid temperature of 70° C. (an aqueous solution obtained by blending 4 parts by weight of boric acid and 5 parts by weight of potassium iodide with respect to 100 parts by weight of water). Meanwhile, the film was uniaxially stretched in the machine direction (longitudinal direction) between rolls with different circumferential speeds so that the total draw ratio was 5.5 (underwater stretching).
After that, the laminate was immersed in a cleaning bath having a liquid temperature of 30° C. (aqueous solution obtained by blending 4 parts by weight of potassium iodide with 100 parts by weight of water) (cleaning treatment).
Subsequently, on the surface of the PVA-based resin layer (polarizer) of the laminate, a PVA-based resin aqueous solution (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name "GOSEFIMER (registered trademark) Z-200", resin concentration: 3% by weight ) was applied, a methacrylic resin film (thickness: 25 μm, having a glutarimide structure) constituting a protective layer was adhered, and this was heated in an oven maintained at 60° C. for 5 minutes. After that, the resin substrate was peeled off from the PVA-based resin layer. Subsequently, a PVA-based resin aqueous solution (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name "GOSEFIMER (registered trademark) Z-200", resin concentration: 3% by weight) was applied, and a methacrylic resin film (thickness: 40 μm, having a glutarimide structure) constituting the protective layer was adhered and heated in an oven maintained at 60° C. for 5 minutes. Thus, a polarizer laminate (a polarizing plate having a structure of protective layer/polarizer/protective layer) was obtained. The polarizer had a thickness of 5 μm and a single transmittance of 42.3%.
2.映り込み防止積層体
映り込み防止層用基材としてのコニカミノルタ株式会社製のTACフィルム(製品名:KC4UY、厚み:40μm)の片面に、特開2014-214177号公報の<実施例1>に記載の方法に準じて配向膜および液晶化合物の配向固化層(映り込み防止層)を形成し、映り込み防止積層体を作製した。なお、映り込み防止層は、面内位相差Re(550)が270nmであり、その遅相軸が偏光子の吸収軸に対して45°の角度をなすように形成した。
2. Anti-reflection laminate On one side of a TAC film (product name: KC4UY, thickness: 40 μm) manufactured by Konica Minolta Co., Ltd. as a base material for the anti-reflection layer, a layer of <Example 1> of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-214177 is applied. An alignment film and an oriented fixed layer of a liquid crystal compound (anti-glare layer) were formed according to the method described above to prepare an anti-glare laminate. The anti-glare layer had an in-plane retardation Re(550) of 270 nm, and was formed so that its slow axis formed an angle of 45° with respect to the absorption axis of the polarizer.
3.反射防止積層体の作製
コニカミノルタ株式会社製のTACフィルム(製品名:KC2UA、厚み:25μm)の片面にハードコート処理によりハードコート(HC)層(厚み:7μm)を形成することにより、HC-TACフィルム(厚み:32μm)を得た。このHC-TACフィルムを反射防止層用基材として用いた。反射防止層用基材のHC層表面に、SiOxからなる密着層(厚み:10nm)をスパッタリングにより形成し、さらに、当該密着層上にNb2O5膜(高屈折率層)、SiO2膜(低屈折率層)、Nb2O5膜(高屈折率層)、およびSiO2膜(低屈折率層)を順次製膜することにより、反射防止層(厚みまたは光学膜厚:200nm)を形成した。さらに、反射防止層上にパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物からなる防汚層(厚み:10nm)を形成し、反射防止積層体を作製した。
3. Preparation of antireflection laminate HC- (HC- A TAC film (thickness: 32 μm) was obtained. This HC-TAC film was used as a substrate for an antireflection layer. An adhesion layer made of SiOx (thickness: 10 nm) was formed by sputtering on the surface of the HC layer of the substrate for the antireflection layer, and a Nb 2 O 5 film (high refractive index layer) and an SiO 2 film were formed on the adhesion layer. (low refractive index layer), Nb 2 O 5 film (high refractive index layer), and SiO 2 film (low refractive index layer) are sequentially formed to form an antireflection layer (thickness or optical film thickness: 200 nm). formed. Furthermore, an antifouling layer (thickness: 10 nm) made of an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group was formed on the antireflection layer to prepare an antireflection laminate.
4.映り込み防止層付偏光板の作製
偏光子積層体(偏光板)の40μm保護層面に、合成例1で得られた粘着剤1を乾燥後の厚みが20μmとなるよう塗布し、映り込み防止積層体の映り込み防止層を貼り合わせた。得られた積層体の映り込み防止層用基材の表面に、粘着剤1を乾燥後の厚みが20μmとなるよう塗布して、反射防止積層体のHC-TACフィルムを貼り合わせ、反射防止層をさらに含む映り込み防止層付偏光板を得た。得られた映り込み防止層付偏光板を上記(1)および(2)の評価に供した。結果を表1に示す。
4. Preparation of polarizing plate with anti-reflection layer On the 40 μm protective layer surface of the polarizer laminate (polarizing plate), the adhesive 1 obtained in Synthesis Example 1 was applied so that the thickness after drying was 20 μm, and the anti-reflection lamination was performed. A body reflection prevention layer was pasted together. Adhesive 1 was applied to the surface of the anti-reflection layer base material of the obtained laminate so that the thickness after drying was 20 μm, and the HC-TAC film of the anti-reflection laminate was laminated to obtain an anti-reflection layer. A polarizing plate with an anti-glare layer further containing The obtained anti-glare layer-attached polarizing plate was subjected to the above evaluations (1) and (2). Table 1 shows the results.
[実施例2]
映り込み防止層積層体と偏光子積層体の貼り合わせに合成例2で得られた粘着剤2を用いた以外は実施例1と同様にして映り込み防止層付偏光板を作製した。得られた偏光板を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
[Example 2]
A polarizing plate with an anti-glare layer was produced in the same manner as in Example 1, except that the adhesive 2 obtained in Synthesis Example 2 was used to bond the anti-glare layer laminate and the polarizer laminate together. The obtained polarizing plate was subjected to the same evaluation as in Example 1. Table 1 shows the results.
[実施例3]
映り込み防止層積層体と偏光子積層体の貼り合わせに合成例3で得られた粘着剤3を用いた以外は実施例1と同様にして映り込み防止層付偏光板を作製した。得られた偏光板を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
[Example 3]
A polarizing plate with an anti-glare layer was produced in the same manner as in Example 1, except that the adhesive 3 obtained in Synthesis Example 3 was used to bond the anti-glare layer laminate and the polarizer laminate together. The obtained polarizing plate was subjected to the same evaluation as in Example 1. Table 1 shows the results.
[実施例4]
映り込み防止用基材として、TACフィルムに代えてアクリル系樹脂フィルム(厚み:40μm)を用いた以外は実施例1と同様にして映り込み防止層付偏光板を作製した。
[Example 4]
A polarizing plate with an anti-reflection layer was produced in the same manner as in Example 1, except that an acrylic resin film (thickness: 40 μm) was used instead of the TAC film as the anti-reflection base material.
[実施例5]
映り込み防止用基材として、TACフィルムに代えてシクロオレフィン系樹脂フィルム(厚み:40μm)を用いた以外は実施例1と同様にして映り込み防止層付偏光板を作製した。
[Example 5]
A polarizing plate with an anti-reflection layer was produced in the same manner as in Example 1, except that a cycloolefin resin film (thickness: 40 μm) was used as the anti-reflection base material instead of the TAC film.
(比較例1)
映り込み防止層積層体と偏光子積層体の貼り合わせに合成例4で得られた粘着剤4を用いた以外は実施例1と同様にして映り込み防止層付偏光板を作製した。得られた偏光板を実施例1と同様の評価に供した。結果を表1に示す。
(Comparative example 1)
A polarizing plate with an anti-reflection layer was produced in the same manner as in Example 1, except that the adhesive 4 obtained in Synthesis Example 4 was used for bonding the anti-reflection layer laminate and the polarizer laminate. The obtained polarizing plate was subjected to the same evaluation as in Example 1. Table 1 shows the results.
表1から明らかなように、本発明の実施例の映り込み防止層付偏光板は、高温高湿環境下における映り込み防止層の剥がれおよびシワの発生率も平均長さも、比較例に比べて顕著に抑制されていた。 As is clear from Table 1, the reflection-preventing layer-attached polarizing plates of the examples of the present invention had lower rates of occurrence of peeling of the reflection-preventing layer and wrinkles in a high-temperature, high-humidity environment, as well as an average length, compared to the comparative examples. was markedly suppressed.
本発明の映り込み防止層付偏光板は、液晶表示装置、有機EL表示装置、量子ドット表示装置のような画像表示装置に好適に用いられる。 The anti-glare layer-attached polarizing plate of the present invention is suitably used for image display devices such as liquid crystal display devices, organic EL display devices and quantum dot display devices.
10 偏光板
11 偏光子
12 保護層
20 映り込み防止層
30 映り込み防止層用基材
40 粘着剤層
100 映り込み防止層付偏光板
REFERENCE SIGNS
Claims (3)
該保護層に貼り合わせられた液晶化合物の配向固化層である映り込み防止層と、
映り込み防止層用基材と、
該偏光板と該映り込み防止層との間に設けられた粘着剤層とを備える映り込み防止層付偏光板であって、
該粘着剤層のクリープ値が40μm/h以上であり、
反射防止層、および、反射防止層用基材が前記映り込み防止層用基材にさらに積層され、該反射防止層用基材の水分率が2.0重量%以上である、映り込み防止層付偏光板。 a polarizing plate having a polarizer and a protective layer provided on one side of the polarizer;
a glare-preventing layer, which is an orientation-fixed layer of a liquid crystal compound attached to the protective layer;
a substrate for anti-reflection layer;
A polarizing plate with an anti-reflection layer, comprising an adhesive layer provided between the polarizing plate and the anti-reflection layer,
The pressure-sensitive adhesive layer has a creep value of 40 μm/h or more ,
An antireflection layer, wherein an antireflection layer and a base material for an antireflection layer are further laminated on the base material for the antireflection layer, and the moisture content of the base material for the antireflection layer is 2.0% by weight or more. With polarizer.
3. The anti-glare layer-attached polarizing plate according to claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive layer has a thickness of 10 μm to 40 μm.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018095487A JP7133354B2 (en) | 2018-05-17 | 2018-05-17 | Polarizing plate with anti-glare layer |
TW108115532A TW201946776A (en) | 2018-05-17 | 2019-05-06 | Polarizing plate with anti-reflection layer capable of suppressing peeling and wrinkling of an anti-reflection layer even in a high temperature and high humidity environment |
CN201910383240.7A CN110568539B (en) | 2018-05-17 | 2019-05-09 | Polarizing plate with reflection preventing layer |
KR1020190057854A KR102281396B1 (en) | 2018-05-17 | 2019-05-17 | Polarization plate with glare preventing layer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018095487A JP7133354B2 (en) | 2018-05-17 | 2018-05-17 | Polarizing plate with anti-glare layer |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019200354A JP2019200354A (en) | 2019-11-21 |
JP7133354B2 true JP7133354B2 (en) | 2022-09-08 |
Family
ID=68612441
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018095487A Active JP7133354B2 (en) | 2018-05-17 | 2018-05-17 | Polarizing plate with anti-glare layer |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7133354B2 (en) |
KR (1) | KR102281396B1 (en) |
CN (1) | CN110568539B (en) |
TW (1) | TW201946776A (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102517502B1 (en) * | 2020-07-13 | 2023-04-03 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | Optical film with antifouling layer |
WO2022014574A1 (en) * | 2020-07-13 | 2022-01-20 | 日東電工株式会社 | Laminate |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014164052A (en) | 2013-02-22 | 2014-09-08 | Dainippon Printing Co Ltd | Retardation film with adhesive layer and optical member using the film |
JP2014214177A (en) | 2013-04-23 | 2014-11-17 | 富士フイルム株式会社 | Liquid crystal composition, retardation plate, circular polarization plate, image display device, production method of retardation plate |
WO2015093149A1 (en) | 2013-12-19 | 2015-06-25 | 日東電工株式会社 | Image display device, phase difference film used in same, and polarizing plates |
WO2018062287A1 (en) | 2016-09-30 | 2018-04-05 | 日東電工株式会社 | Optical adhesive layer, manufacturing method of optical adhesive layer, optical film with adhesive layer, and image display device |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006163343A (en) * | 2004-11-15 | 2006-06-22 | Nitto Denko Corp | Elliptical polarization plate and picture display device using it |
JP2008033222A (en) * | 2006-02-20 | 2008-02-14 | Nitto Denko Corp | Liquid crystal panel and liquid crystal display employing same |
WO2007122889A1 (en) * | 2006-03-29 | 2007-11-01 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Film, process for producing the film, and use of the film |
JP5010994B2 (en) * | 2006-06-28 | 2012-08-29 | 日東電工株式会社 | Adhesive optical film and image display device |
JP2011191428A (en) | 2010-03-12 | 2011-09-29 | Arisawa Mfg Co Ltd | Reflection preventing film |
JP2016062027A (en) * | 2014-09-19 | 2016-04-25 | 日東電工株式会社 | Polarizing plate with pressure-sensitive adhesive layer |
KR101927432B1 (en) * | 2015-02-11 | 2018-12-10 | 동우 화인켐 주식회사 | High durable polarizing plate and display device comprising thereof |
JP6811549B2 (en) * | 2016-05-23 | 2021-01-13 | 日東電工株式会社 | Laminated film and image display device |
-
2018
- 2018-05-17 JP JP2018095487A patent/JP7133354B2/en active Active
-
2019
- 2019-05-06 TW TW108115532A patent/TW201946776A/en unknown
- 2019-05-09 CN CN201910383240.7A patent/CN110568539B/en active Active
- 2019-05-17 KR KR1020190057854A patent/KR102281396B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014164052A (en) | 2013-02-22 | 2014-09-08 | Dainippon Printing Co Ltd | Retardation film with adhesive layer and optical member using the film |
JP2014214177A (en) | 2013-04-23 | 2014-11-17 | 富士フイルム株式会社 | Liquid crystal composition, retardation plate, circular polarization plate, image display device, production method of retardation plate |
WO2015093149A1 (en) | 2013-12-19 | 2015-06-25 | 日東電工株式会社 | Image display device, phase difference film used in same, and polarizing plates |
WO2018062287A1 (en) | 2016-09-30 | 2018-04-05 | 日東電工株式会社 | Optical adhesive layer, manufacturing method of optical adhesive layer, optical film with adhesive layer, and image display device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102281396B1 (en) | 2021-07-23 |
KR20190132274A (en) | 2019-11-27 |
TW201946776A (en) | 2019-12-16 |
CN110568539B (en) | 2022-11-22 |
CN110568539A (en) | 2019-12-13 |
JP2019200354A (en) | 2019-11-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4805240B2 (en) | Adhesive optical film and image display device | |
TWI392591B (en) | An adhesive film for an optical film, a method for manufacturing the same, an adhesive type optical film, and an image display device | |
TWI438504B (en) | Polarizing plate, optical film and image display device | |
JP4780766B2 (en) | Optical adhesive, optical film with adhesive, and image display device | |
WO2018225542A1 (en) | Polarizing plate with retardation layer and image display device | |
JP2006183022A (en) | Pressure-sensitive adhesive for optical film, pressure-sensitive adhesive layer for optical film, its manufacturing method, pressure-sensitive adhesive optical film and image display device | |
JP5694972B2 (en) | Optical film adhesive, optical film adhesive layer, adhesive optical film, and image display device | |
JP2008281637A (en) | Pressure-sensitive adhesive optical film and image display device | |
TWI744787B (en) | Optical laminated body and image display device using the optical laminated body | |
JP4849625B2 (en) | Method for producing pressure-sensitive adhesive layer for optical film and method for producing pressure-sensitive adhesive optical film | |
JP4880315B2 (en) | Adhesive composition, adhesive layer, and optical member with adhesive | |
JP7133354B2 (en) | Polarizing plate with anti-glare layer | |
JP2018155998A (en) | Antireflection layer, polarizing plate having glare prevention layer and manufacturing method thereof | |
JP2011190462A (en) | Optical adhesive, optical film with adhesive and image display device | |
JP7234309B2 (en) | optical laminate | |
JP7257461B2 (en) | optical laminate | |
WO2022224494A1 (en) | Retardation layer-equipped polarizing plate | |
JP2024066848A (en) | Polarizing plate with retardation layer, and image display device having polarizing plate with retardation layer | |
CN109307901B (en) | Optical laminate with touch sensor layer, image display device, and method for manufacturing optical laminate | |
KR20240102689A (en) | Antireflective Polarizing Plate for OLED and Display Device Comprising the Same | |
JP2008203432A (en) | Adhesive optical film and image display device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210422 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220318 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220329 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20220520 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220728 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220816 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220829 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7133354 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |