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JP7120819B2 - Laminate of polyimide film and flexible glass - Google Patents

Laminate of polyimide film and flexible glass Download PDF

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JP7120819B2 JP2018112024A JP2018112024A JP7120819B2 JP 7120819 B2 JP7120819 B2 JP 7120819B2 JP 2018112024 A JP2018112024 A JP 2018112024A JP 2018112024 A JP2018112024 A JP 2018112024A JP 7120819 B2 JP7120819 B2 JP 7120819B2
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polyimide film
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Description

本発明は、ポリイミドフィルムとフレキシブルガラスとの積層体に関する。 The present invention relates to a laminate of polyimide film and flexible glass.

近年、フレキシブルディスプレイなどの折り曲げ可能なフレキシブルデバイスや、有機EL照明又は有機ELディスプレイなどの曲面を有するデバイスの開発が進められている。このようなデバイスにおいては、硬質基板ではなく、高分子材料からなる折り曲げ可能なフィルムとフレキシブルガラスとの積層体を、表面保護層、カラーフィルター、タッチパネル、薄膜トランジスタ(TFT)などを形成する基板として用いることが検討されている。 In recent years, bendable flexible devices such as flexible displays and devices with curved surfaces such as organic EL lighting and organic EL displays have been developed. In such devices, instead of a rigid substrate, a laminate of a bendable film made of a polymer material and flexible glass is used as a substrate for forming a surface protective layer, a color filter, a touch panel, a thin film transistor (TFT), and the like. is being considered.

例えば、特許文献1は、ガスや水蒸気のバリア特性及び柔軟性の両立、並びに薄型化といった観点から、高分子材料からなるフィルム基材にガラス基材を貼合した、フレキシブルガラス基板を記載している。フィルム基材の材質として、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン、ポリ尿素、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン樹脂、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂、ポリスチレン、アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂、アクリロニトリルスチレン樹脂、ポリ塩化ビニリデン等の様々な樹脂が挙げられている。 For example, Patent Document 1 describes a flexible glass substrate in which a glass substrate is bonded to a film substrate made of a polymer material from the viewpoint of compatibility between gas and water vapor barrier properties and flexibility, and reduction in thickness. there is Polycarbonate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethersulfone, polyimide, epoxy resin, phenol resin, melamine resin, polyurethane, polyurea, polyethylene, polypropylene, nylon resin, polyvinyl chloride, acrylic resin, Various resins such as polystyrene, acrylonitrile butadiene styrene resin, acrylonitrile styrene resin, polyvinylidene chloride, etc. are mentioned.

特許第4565670号公報Japanese Patent No. 4565670

近年、フレキシブル基板に対する要求はますます高まっており、例えば、TFT製造や透明電極層形成等の高いプロセス温度に耐えうる耐熱性、並びに高い透明性及びレタデーションの低減といった光学的特性等、更にはTFTや有機EL発光層を欠点なく形成できるよう表面の平滑性が求められる。しかしながら、引用文献1は、これらの課題や、それを解決するために具体的にどのような構成を有するフィルムを用いるかについて記載及び示唆がなく、したがって、高いバリア性を有しつつ、耐熱性、光学的特性及び表面平滑性に優れたフレキシブル基板を得ることは困難であった。 In recent years, the demand for flexible substrates has been increasing more and more. The surface is required to be smooth so that the organic EL light-emitting layer can be formed without defects. However, Cited Document 1 does not describe or suggest these problems or how to use a film having a specific configuration to solve them. However, it has been difficult to obtain a flexible substrate having excellent optical properties and surface smoothness.

本願発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、特定の黄色度(YI)有するポリイミドフィルムとフレキシブルガラスとを積層し、積層体の少なくとも片方の面の算術平均粗さ(Ra)を特定範囲にすることにより、上記課題を解決できることを見いだし、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は以下のとおりである。
[1]
少なくとも1層のポリイミドフィルムと、
少なくとも1層のフレキシブルガラスと
が積層された、積層体であって、
上記ポリイミドフィルムの黄色度(YI)が5以下であり、上記積層体の少なくとも片方の面の算術平均粗さ(Ra)が1.5nm以下である、積層体。
[2]
上記ポリイミドフィルムのヘイズ(Haze)が1%以下である、項目1に記載の積層体。
[3]
上記ポリイミドフィルムの厚みが2μm以上100μm以下であり、上記フレキシブルガラスの厚みが30μm以上200μm以下である、項目1又は2に記載の積層体。
[4]
上記ポリイミドフィルムは、下記式(1):

Figure 0007120819000001
{式中、式中、Xは4価の有機基であり、Yは2価の有機基であり、mは正の整数である。mは、特に限定されず、例えば、2~150の整数でよい。}
で表される構造単位を含む、項目1~3のいずれか一項に記載の積層体。
[5]
上記ポリイミドフィルムは、下記式(2):
Figure 0007120819000002
{式中、Xは4価の有機基であり、Yは2価の有機基であり、XはXと同一であっても異なってもよく、YはYと同一であっても異なってもよく、nは2~150の整数であり、そしてR及びRは、それぞれ独立に、水素原子又は1価の有機基である}
で表される構造単位を更に含む、項目4に記載の積層体。
[6]
上記(1)において、Xが、下記式(A1)~(A4)からなる群から選択される四価の有機基の少なくとも1種であり、及び/又はYが、下記式(B1)~(B5)からなる群から選択される二価の有機基の少なくとも1種である、項目4に記載の積層体。
Figure 0007120819000003
Figure 0007120819000004
Figure 0007120819000005
Figure 0007120819000006
Figure 0007120819000007
Figure 0007120819000008
Figure 0007120819000009
Figure 0007120819000010
Figure 0007120819000011
[7]
が式(A1)である、項目6に記載の積層体。
[8]
が式(A2)である、項目6に記載の積層体。
[9]
が式(A3)である、項目6に記載の積層体。
[10]
が式(A4)である、項目6に記載の積層体。
[11]
が式(B1)である、項目6~10のいずれか一項に記載の積層体。
[12]
が式(B2)である、項目6~10のいずれか一項に記載の積層体。
[13]
が式(B3)である、項目6~10のいずれか一項に記載の積層体。
[14]
が式(B4)である、項目6~10のいずれか一項に記載の積層体。
[15]
が式(B5)である、項目6~10のいずれか一項に記載の積層体。
[16]
2層の上記ポリイミドフィルムの間に1層の上記フレキシブルガラスが積層された、項目1~15のいずれか一項に記載の積層体。
[17]
項目1~16のいずれか一項に記載の積層体を有する、フレキシブルデバイス。 The inventors of the present application have made intensive studies to solve the above problems. As a result, a polyimide film having a specific yellowness index (YI) and flexible glass are laminated, and the arithmetic mean roughness of at least one surface of the laminate ( The inventors have found that the above problems can be solved by setting Ra) within a specific range, and have completed the present invention. That is, the present invention is as follows.
[1]
at least one layer of polyimide film;
A laminate in which at least one layer of flexible glass is laminated,
A laminate, wherein the polyimide film has a yellowness index (YI) of 5 or less, and an arithmetic average roughness (Ra) of at least one surface of the laminate of 1.5 nm or less.
[2]
The laminate according to item 1, wherein the polyimide film has a haze of 1% or less.
[3]
3. The laminate according to item 1 or 2, wherein the polyimide film has a thickness of 2 μm or more and 100 μm or less, and the flexible glass has a thickness of 30 μm or more and 200 μm or less.
[4]
The polyimide film has the following formula (1):
Figure 0007120819000001
{wherein X 1 is a tetravalent organic group, Y 1 is a divalent organic group, and m is a positive integer. m is not particularly limited, and may be an integer from 2 to 150, for example. }
4. The laminate according to any one of items 1 to 3, comprising a structural unit represented by
[5]
The polyimide film has the following formula (2):
Figure 0007120819000002
{wherein X 2 is a tetravalent organic group, Y 2 is a divalent organic group, X 2 may be the same as or different from X 1 , and Y 2 is the same as Y 1 ; may be different, n 1 is an integer of 2 to 150, and R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group}
5. The laminate according to item 4, further comprising a structural unit represented by:
[6]
In (1) above, X 1 is at least one tetravalent organic group selected from the group consisting of the following formulas (A1) to (A4), and/or Y 1 is the following formula (B1) 5. The laminate according to item 4, which is at least one divalent organic group selected from the group consisting of (B5).
Figure 0007120819000003
Figure 0007120819000004
Figure 0007120819000005
Figure 0007120819000006
Figure 0007120819000007
Figure 0007120819000008
Figure 0007120819000009
Figure 0007120819000010
Figure 0007120819000011
[7]
7. The laminate according to item 6 , wherein X1 is formula (A1).
[8]
The laminate according to item 6 , wherein X1 is formula (A2).
[9]
The laminate according to item 6 , wherein X1 is formula (A3).
[10]
The laminate according to item 6 , wherein X1 is formula (A4).
[11]
11. The laminate according to any one of items 6 to 10, wherein Y 1 is formula (B1).
[12]
11. The laminate according to any one of items 6 to 10, wherein Y 1 is the formula (B2).
[13]
11. The laminate according to any one of items 6 to 10, wherein Y 1 is the formula (B3).
[14]
11. The laminate according to any one of items 6 to 10, wherein Y 1 is the formula (B4).
[15]
11. The laminate according to any one of items 6 to 10, wherein Y 1 is the formula (B5).
[16]
16. The laminate according to any one of items 1 to 15, wherein one layer of the flexible glass is laminated between two layers of the polyimide film.
[17]
A flexible device comprising the laminate according to any one of items 1-16.

本発明によれば、高いバリア性を有しつつ、耐熱性及び光学的特性に優れたフレキシブル基板を提供することができる。なお、上述の記載は、本発明の全ての実施形態及び本発明に関する全ての利点を開示したものとみなしてはならない。本発明の更なる実施形態及びその利点は、以下の記載及び図面を参照することにより明らかとなる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the flexible substrate excellent in heat resistance and an optical characteristic can be provided, having a high barrier property. It should be noted that the above description should not be considered as disclosing all embodiments of the invention or all advantages associated with the invention. Further embodiments of the invention and its advantages will become apparent with reference to the following description and drawings.

以下、本発明の実施形態(以下、「本実施形態」という。)を例示する目的で詳細に説明するが、本発明は本実施形態に限定されるものではない。本願明細書において、各数値範囲の上限値及び下限値は任意に組み合わせることができる。 An embodiment of the present invention (hereinafter referred to as "the present embodiment") will be described in detail below for the purpose of illustrating, but the present invention is not limited to the present embodiment. In the specification of the present application, the upper limit and lower limit of each numerical range can be arbitrarily combined.

《積層体》
本実施形態の積層体は、少なくとも1層のポリイミドフィルムと、少なくとも1層のフレキシブルガラスとが積層された構造を有する。ポリイミドフィルムとフレキシブルガラスの積層枚数及びその順序は限定されない。本実施形態の積層体は、少なくとも片面がポリイミドフィルムであることが好ましく、例えば、1層のポリイミドフィルムと1層のフレキシブルガラスが積層された構造を有してもよく、機械的強度及びロール状とした際の滑り性の観点から、2層のポリイミドフィルムの間に1層のフレキシブルガラスが積層された構造を有してもよい。
《Laminate》
The laminate of this embodiment has a structure in which at least one layer of polyimide film and at least one layer of flexible glass are laminated. The number of laminated layers of the polyimide film and the flexible glass and the order thereof are not limited. At least one side of the laminate of the present embodiment is preferably a polyimide film. For example, it may have a structure in which one layer of polyimide film and one layer of flexible glass are laminated. From the viewpoint of slipperiness when it is formed, it may have a structure in which one layer of flexible glass is laminated between two layers of polyimide films.

本実施形態の積層体は、少なくとも片方の面の算術平均粗さ(Ra)が1.5nm以下、好ましくは1.0nm以下である。Raが1.5nm以下であることにより光学的特性に優れる。Raの下限値は限定されないが、例えば、0.5nm以上であることにより滑り性が向上し、積層体をロール状にしたときの巻きずれを防止できるためハンドリング性に優れる。積層体の積層構造によって、上記「片方の面」は、ポリイミドフィルムの面であってもよく、フレキシブルガラスの面であってもよい。好ましくは、滑り性の観点から、1.5nm以下のRaを有する面は、ポリイミドフィルムの面であることが好ましい。 At least one surface of the laminate of the present embodiment has an arithmetic mean roughness (Ra) of 1.5 nm or less, preferably 1.0 nm or less. When Ra is 1.5 nm or less, the optical properties are excellent. Although the lower limit of Ra is not limited, for example, when it is 0.5 nm or more, the slipperiness is improved, and it is possible to prevent the winding deviation when the laminate is rolled, so that the handleability is excellent. Depending on the laminate structure of the laminate, the "one side" may be the surface of the polyimide film or the surface of the flexible glass. Preferably, from the viewpoint of slipperiness, the surface having an Ra of 1.5 nm or less is the surface of the polyimide film.

本実施形態の積層体の厚み、すなわち、ポリイミドフィルム及びフレキシブルガラスを含む積層体全体としての厚みは、限定されないが、強度の観点から、好ましくは32μm以上、より好ましくは60μm以上であり、柔軟性の観点から、好ましくは300μm以下、より好ましくは180μm以下である。 The thickness of the laminate of the present embodiment, that is, the thickness of the laminate as a whole including the polyimide film and the flexible glass is not limited, but from the viewpoint of strength, it is preferably 32 μm or more, more preferably 60 μm or more, and flexibility from the point of view, it is preferably 300 μm or less, more preferably 180 μm or less.

〈ポリイミドフィルム〉
本実施形態の積層体は、フレキシブルガラスと積層させるフィルム基材として、ポリイミドフィルムの黄色度(YI)を5以下に調整したポリイミドフィルムを用いる。なお、ポリイミドフィルムは、ポリイミドを主成分として含むフィルムである。本明細書において、フィルムが「ポリイミドを主成分として含む」とは、フィルムの全質量を基準として、ポリイミドを50質量%以上含むことを意味する。ポリイミドフィルムは、フィルムの全質量を基準として、ポリイミドを好ましくは60質量%以上、より好ましくは70質量%以上、更に好ましくは80質量%以上含む。また、ポリイミドフィルムは、任意に添加剤をさらに含んでよい。
<Polyimide film>
In the laminate of the present embodiment, a polyimide film having a yellowness index (YI) adjusted to 5 or less is used as a film base material to be laminated with flexible glass. In addition, a polyimide film is a film containing a polyimide as a main component. In the present specification, the film "containing polyimide as a main component" means that the film contains 50% by mass or more of polyimide based on the total mass of the film. The polyimide film preferably contains 60% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and still more preferably 80% by mass or more of polyimide based on the total mass of the film. In addition, the polyimide film may optionally further contain additives.

ポリイミドフィルムを用いる理由としては、理論に限定されないが、以下のとおりである。従来、フィルム基材としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)及びポリエチレンナフタレート(PEN)が検討されてきた。PET及びPENは製造コストの点で有利であるが、屈曲耐性に劣り、曲率半径が小さい場合や屈曲を繰り返すと曲げ跡、亀裂、破断が生じ易い。また、PET及びPENはガラス転移点(Tg)が約100℃~150℃程度で耐熱性に劣る。さらに、PET及びPENは、レタデーション(Rth)が約400nm~1000nm程度であるため、折り曲げたときや、偏光サングラス越しの目視の角度変化に応じて複屈折が生じ、積層体表面に虹色の縞模様(いわゆる「虹ムラ現象」)が生じる。そのため、近年のフレキシブル基板の要求を満たすことは困難であることが分かった。これに対して、フィルム基材としてポリカーボネート(PC)及びシクロオレフィンポリマー(COP)を用いた場合、Rthが約20nm以下であるため虹ムラ現象を低減することができる。しかしながら、PC及びCOPはTgが約130℃~160℃程度であり、やはり耐熱性において不十分である。フィルム基材としてポリエーテルスルホン(PES)は、Tgが約230℃、Rthが約10nmであるため、耐熱性及び虹ムラ現象において優れているが、YIが高く、光学的特性の要求を満たすことは困難であることが分かった。この点、ポリイミド(PI)は、一般的にTgが高く耐熱性に優れるうえ、耐熱放射性、耐低温性、及び耐薬品性などにも優れた特性を有しているため、折り曲げ可能なフィルムとして採用することを検討した。しかしながら、発明者らの鋭意検討の結果、単にポリイミドを使用するだけでは、得られる積層体の光学的特性等が必ずしも十分ではなく、更なる創意工夫が必要であった。そこで、本願発明者らは、ポリイミドフィルムのYIを5以下に調整すること等により、積層体としての光学的特性等の要求を満たすことに成功した。ポリイミドフィルムのYIは、好ましくは3.0以下、より好ましくは2.5以下、更に好ましくは2.0以下である。 Although not limited to theory, the reason for using the polyimide film is as follows. Conventionally, polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN) have been studied as film substrates. Although PET and PEN are advantageous in terms of manufacturing cost, they are inferior in bending resistance, and when the radius of curvature is small or when bending is repeated, bending traces, cracks, and breaks are likely to occur. Also, PET and PEN have a glass transition point (Tg) of about 100° C. to 150° C. and are inferior in heat resistance. Furthermore, since PET and PEN have a retardation (Rth) of about 400 nm to 1000 nm, birefringence occurs when bent or when viewed through polarized sunglasses, resulting in iridescent stripes on the surface of the laminate. A pattern (the so-called "rainbow unevenness phenomenon") occurs. Therefore, it has been found that it is difficult to satisfy the recent demands for flexible substrates. On the other hand, when polycarbonate (PC) and cycloolefin polymer (COP) are used as the film substrate, Rth is about 20 nm or less, so the rainbow unevenness phenomenon can be reduced. However, PC and COP have a Tg of about 130° C. to 160° C., and are also insufficient in heat resistance. Polyethersulfone (PES) as a film substrate has a Tg of about 230° C. and an Rth of about 10 nm. proved difficult. In this regard, polyimide (PI) generally has a high Tg and excellent heat resistance, as well as excellent heat radiation resistance, low temperature resistance, and chemical resistance. considered adopting. However, as a result of intensive studies by the inventors, it was found that the optical properties of the resulting laminate were not always sufficient by simply using polyimide, and further creative ideas were required. Therefore, the inventors of the present application have succeeded in meeting the requirements for the optical properties of the laminate by adjusting the YI of the polyimide film to 5 or less. YI of the polyimide film is preferably 3.0 or less, more preferably 2.5 or less, and still more preferably 2.0 or less.

本実施形態におけるポリイミドフィルムのヘイズ(Haze)は、透明性の観点から、好ましくは1%以下、より好ましくは0.9%以下である。 The haze of the polyimide film in the present embodiment is preferably 1% or less, more preferably 0.9% or less, from the viewpoint of transparency.

本実施形態において、ポリイミドフィルムの厚みは限定されないが、強度の観点から好ましくは2μm以上、より好ましくは10μm以上であり、柔軟性の観点から好ましくは100μm以下、より好ましくは80μm以下である。 In the present embodiment, the thickness of the polyimide film is not limited, but is preferably 2 μm or more, more preferably 10 μm or more from the viewpoint of strength, and preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less from the viewpoint of flexibility.

本実施形態において、ポリイミドフィルムのレタデーション(Rth)は、虹ムラ防止の観点から、厚み15μm換算で好ましくは200nm以下、より好ましくは50nm以下である。ポリイミドのガラス転移点(Tg)は、耐熱性の観点から、好ましくは200℃以上、より好ましくは250℃以上である。 In the present embodiment, the retardation (Rth) of the polyimide film is preferably 200 nm or less, more preferably 50 nm or less when converted to a thickness of 15 μm, from the viewpoint of preventing iridescent unevenness. From the viewpoint of heat resistance, the glass transition point (Tg) of polyimide is preferably 200° C. or higher, more preferably 250° C. or higher.

本実施形態において、ポリイミドフィルムを構成するポリイミドの構造は、芳香族性と脂肪族性のバランスを取って透明性を確保するという観点から、下記式(A1)~(A4)で表される四価の有機基の少なくとも1種を有することが好ましい。

Figure 0007120819000012
Figure 0007120819000013
Figure 0007120819000014
Figure 0007120819000015
In the present embodiment, the structure of the polyimide constituting the polyimide film is the four represented by the following formulas (A1) to (A4) from the viewpoint of ensuring transparency by balancing aromaticity and aliphaticity. It is preferred to have at least one valent organic group.
Figure 0007120819000012
Figure 0007120819000013
Figure 0007120819000014
Figure 0007120819000015

本実施形態において、ポリイミドフィルムを構成するポリイミドの構造は、上記式(A1)~(A4)で表される有機基に加えて又は代替として、芳香族性と脂肪族性のバランスを取って透明性を確保するという観点から、下記式(B1)~(B5)で表される二価の有機基の少なくとも1種を有することが好ましい。

Figure 0007120819000016
Figure 0007120819000017
Figure 0007120819000018
Figure 0007120819000019
Figure 0007120819000020
In the present embodiment, the structure of the polyimide constituting the polyimide film is, in addition to or as an alternative to the organic groups represented by the above formulas (A1) to (A4), balanced aromaticity and aliphaticity and transparent From the viewpoint of ensuring the properties, it is preferable to have at least one divalent organic group represented by the following formulas (B1) to (B5).
Figure 0007120819000016
Figure 0007120819000017
Figure 0007120819000018
Figure 0007120819000019
Figure 0007120819000020

理論に拘束されることを望まないが、式(A2)、(A3)又は(B5)で表される構造がポリイミドに導入されることにより、相対的に芳香族基の構成単位のモル比が下がると、π-πスタック現象が抑制されて、フィルムの透明性を確保し易くなることが考えられる。 Although not wishing to be bound by theory, by introducing the structure represented by the formula (A2), (A3) or (B5) into the polyimide, the molar ratio of the structural units of the aromatic group is relatively increased. If it is lowered, it is considered that the π-π stacking phenomenon is suppressed, making it easier to ensure the transparency of the film.

理論に拘束されることを望まないが、式(A1)又は(B1)~(B4)で表される構造がポリイミドに導入されることにより、スルホニル基又はフルオロアルキル基などの立体障害基がポリイミドの錯形成を抑制して、透明性を確保し易くなることが考えられる。 Although not wishing to be bound by theory, the introduction of the structures represented by formulas (A1) or (B1) to (B4) into the polyimide causes steric hindrance groups such as sulfonyl groups or fluoroalkyl groups to form polyimides. It is conceivable that the formation of a complex is suppressed, and it becomes easier to ensure transparency.

本実施形態のポリイミドフィルムは、下記式(1):

Figure 0007120819000021
{式中、式中、Xは4価の有機基であり、Yは2価の有機基であり、mは正の整数である。mは、特に限定されず、例えば、2~150の整数でよい。}
で表される構造単位を有することが好ましい。
また、ポリイミドフィルムは、式(1)で表される構造に加え、下記式(2):
Figure 0007120819000022
{式中、Xは4価の有機基であり、Yは2価の有機基であり、XはXと同一であっても異なってもよく、YはYと同一であっても異なってもよく、nは2~150の整数であり、そしてR及びRは、それぞれ独立に、水素原子又は1価の有機基である}
で表される構造単位を有することができる。 The polyimide film of this embodiment has the following formula (1):
Figure 0007120819000021
{wherein X 1 is a tetravalent organic group, Y 1 is a divalent organic group, and m is a positive integer. m is not particularly limited, and may be an integer from 2 to 150, for example. }
It is preferable to have a structural unit represented by
Further, the polyimide film has the following formula (2) in addition to the structure represented by formula (1):
Figure 0007120819000022
{wherein X 2 is a tetravalent organic group, Y 2 is a divalent organic group, X 2 may be the same as or different from X 1 , and Y 2 is the same as Y 1 ; may be different, n 1 is an integer of 2 to 150, and R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group}
It can have a structural unit represented by

ポリイミドフィルムのイミド化率は40%以上が好ましく、50%以上が好ましく、
60%以上が好ましく、70%以上が好ましく、80%以上が好ましく、90%以上が好ましく、95%以上が好ましく、100%が最も好ましい。イミド化率とは、ポリイミドフィルムの式(1)及び式(2)で表される構造単位の合計モル数を基準として、式(1)で表される構造単位のモル分率を意味する。例えば、イミド化率はFT-IR測定によって算出することができる。芳香環はイミド化前後で変化しないため1480cm-1付近の芳香環の吸収ピークを基準として、1375cm-1付近のイミド基のC-N結合特有の吸収ピーク強度の強弱によりイミド化率がわかる。まず測定対象となるポリイミドフィルムのFT-IR測定を実施する。次に、そのフィルムを例えば300~350℃にて1時間~3時間、加熱処理を施した後、FT-IRを測定する。加熱処理後のイミド化率を100%とみなし、加熱処理後のピーク強度と測定対象のピーク強度の比からイミド化率を算出することができる。
The imidization rate of the polyimide film is preferably 40% or more, preferably 50% or more,
60% or more is preferred, 70% or more is preferred, 80% or more is preferred, 90% or more is preferred, 95% or more is preferred, and 100% is most preferred. The imidization rate means the mole fraction of the structural unit represented by formula (1) based on the total number of moles of the structural units represented by formula (1) and formula (2) in the polyimide film. For example, the imidization rate can be calculated by FT-IR measurement. Since the aromatic ring does not change before and after imidization, the imidization rate can be determined from the intensity of the absorption peak characteristic to the C—N bond of the imide group near 1375 cm −1 based on the absorption peak of the aromatic ring near 1480 cm −1 . First, FT-IR measurement is performed on the polyimide film to be measured. Next, the film is heat-treated at, for example, 300 to 350° C. for 1 to 3 hours, and then FT-IR is measured. Assuming that the imidization rate after the heat treatment is 100%, the imidization rate can be calculated from the ratio of the peak intensity after the heat treatment and the peak intensity of the object to be measured.

一般式(1)において、4価の有機基Xは、式(A1)~(A4)からなる群から選択される四価の有機基の少なくとも1種でよく、2価の有機基Yは、式(B1)~(B5)からなる群から選択される二価の有機基の少なくとも1種でよい。一般式(2)において、4価の有機基Xは、Xと同一であっても異なってもよく、式(A1)~(A4)で表される四価の有機基の少なくとも1種でよい。2価の有機基Yは、Yと同一であっても異なってもよく、式(B1)~(B5)で表される二価の有機基の少なくとも1種でよい。また、一般式(2)において、4価の有機基Xは、事後的なイミド化のために、少なくとも1つの酸基、例えば-COOHを有することが好ましく、具体的には、一般式(2)においてR及びRの少なくとも一方は水素原子であることができる。 In general formula (1), the tetravalent organic group X 1 may be at least one tetravalent organic group selected from the group consisting of formulas (A1) to (A4), and the divalent organic group Y 1 may be at least one divalent organic group selected from the group consisting of formulas (B1) to (B5). In general formula (2), the tetravalent organic group X 2 may be the same as or different from X 1 , and at least one of the tetravalent organic groups represented by formulas (A1) to (A4) OK. The divalent organic group Y 2 may be the same as or different from Y 1 and may be at least one divalent organic group represented by formulas (B1) to (B5). In addition, in general formula (2), the tetravalent organic group X 2 preferably has at least one acid group, such as —COOH, for subsequent imidization. Specifically, the general formula ( In 2), at least one of R 1 and R 2 can be a hydrogen atom.

本実施形態におけるポリイミドフィルムは、γ-ブチロラクトンが0.01質量%以上20質量%以下の量で含まれることが好ましい。γ-ブチロラクトンの含有量は、フィルムの黄変を抑制し、無色透明なフィルムを得るという観点から、0.01質量%以上であり、フィルムのスタッキングを抑制するという観点から、20質量%以下である。ポリイミドフィルム中のγ-ブチロラクトンは、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸ワニスの溶媒に由来することができる。 The polyimide film in the present embodiment preferably contains γ-butyrolactone in an amount of 0.01% by mass or more and 20% by mass or less. The content of γ-butyrolactone is 0.01% by mass or more from the viewpoint of suppressing yellowing of the film and obtaining a colorless and transparent film, and 20% by mass or less from the viewpoint of suppressing film stacking. be. γ-Butyrolactone in the polyimide film can be derived from the solvent of polyamic acid varnish, which is a polyimide precursor.

〈フレキシブルガラス〉
本実施形態に用いられるフレキシブルガラスの厚みは、機械的強度の観点から、好ましくは30μm以上、より好ましくは50μm以上であり、柔軟性の観点から、好ましくは200μm以下、より好ましくは100μm以下である。
ガラスの種類は、限定されないが、例えば、アルカリ土類アルミノホウケイ酸塩、アルカリ土類アルミノケイ酸塩、アルカリアルミノリンケイ酸塩、及びアルカリアルミノケイ酸塩などが挙げられる。ガラスは化学的に強化されたガラスであってもよく、非強化ガラスであってもよい。
<Flexible glass>
The thickness of the flexible glass used in the present embodiment is preferably 30 μm or more, more preferably 50 μm or more from the viewpoint of mechanical strength, and preferably 200 μm or less, more preferably 100 μm or less from the viewpoint of flexibility. .
The type of glass is not limited, but examples thereof include alkaline earth aluminoborosilicates, alkaline earth aluminosilicates, alkali aluminophosphosilicates, and alkali aluminosilicates. The glass may be chemically strengthened glass or non-strengthened glass.

《積層体の製造方法》
本実施形態の積層体の製造方法としては、例えば、フレキシブルガラス上に直接ポリイミドフィルムを形成する、下記方法(1)及び(2)のような方法や、ポリイミドフィルムを形成したあと、フレキシブルガラス上に積層する下記方法(3)及び(4)のような方法が挙げられる。
(1)フレキシブルガラス基板上に、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸ワニスを塗工することと;これを加熱してイミド化し、ポリイミドフィルムを形成することとを含む、方法。
(2)ポリイミド前駆体であるポリアミド酸ワニスを加熱してイミド化し、ポリイミド及び溶媒を含有するポリイミドワニスを得ることと;得られたポリイミドワニスを、フレキシブルガラス基板上に塗工し、ワニスの溶媒を乾燥させて、ポリイミドフィルムを形成することとを含む、方法。
(3)任意の支持体上にポリイミド前駆体であるポリアミド酸ワニスを塗工することと;これを加熱してイミド化し、ポリイミドフィルムを形成することと;上記ポリイミドフィルムを上記支持体から剥離した後にフレキシブルガラス基板上に積層すること、又は、上記ポリイミドフィルムをフレキシブルガラス基板上に積層した後に上記支持体を剥離することとを含む、方法。
(4)ポリイミド前駆体であるポリアミド酸ワニスを加熱してイミド化し、ポリイミド及び溶媒を含有するポリイミドワニスを得ることと;得られたポリイミドワニスを、任意の支持体上に塗工し、ワニスの溶媒を乾燥させて、ポリイミドフィルムを形成することと;上記ポリイミドフィルムを上記支持体から剥離した後にフレキシブルガラス基板上に積層すること、又は、上記ポリイミドフィルムをフレキシブルガラス基板上に積層した後に上記支持体を剥離することとを含む、方法。
<<Method for manufacturing laminate>>
Examples of the method for producing the laminate of the present embodiment include methods such as the following methods (1) and (2) in which a polyimide film is formed directly on flexible glass, and after forming a polyimide film, on flexible glass. and the following methods (3) and (4) of laminating the same.
(1) A method comprising coating a flexible glass substrate with polyamic acid varnish, which is a polyimide precursor, and imidizing it by heating to form a polyimide film.
(2) Heating a polyamic acid varnish that is a polyimide precursor to imidize it to obtain a polyimide varnish containing a polyimide and a solvent; drying to form a polyimide film.
(3) Coating a polyamic acid varnish, which is a polyimide precursor, on an arbitrary support; imidizing it by heating to form a polyimide film; and peeling the polyimide film from the support later laminating onto a flexible glass substrate, or peeling the support after laminating the polyimide film onto a flexible glass substrate.
(4) Heating a polyamic acid varnish, which is a polyimide precursor, to imidize it to obtain a polyimide varnish containing a polyimide and a solvent; drying the solvent to form a polyimide film; peeling the polyimide film from the support and then laminating it onto a flexible glass substrate; or laminating the polyimide film onto a flexible glass substrate and then laminating the support. exfoliating the body.

〈ポリアミド酸ワニスの製造〉
ポリイミド前駆体であるポリアミド酸ワニスは、(a)ポリアミド酸と、(b)溶媒と、所望により(c)添加剤とを含む。
<Production of polyamic acid varnish>
Polyamic acid varnish, which is a polyimide precursor, contains (a) polyamic acid, (b) solvent, and optionally (c) additives.

(a)ポリアミド酸
ポリアミド酸は、ポリイミド前駆体として使用されることができ、そのために、アミド部分(-NHCO-)とともに、イミド化反応に供されることができる酸基、例えば-COOHを有してよい。
(a) Polyamic Acids Polyamic acids can be used as polyimide precursors and thus possess an amide moiety (--NHCO--) along with an acid group that can be subjected to an imidization reaction, such as --COOH. You can

ポリアミド酸は、上記式(A1)~(A4)からなる群から選択される四価の有機基の少なくとも一つ、及び/又は式(B1)~(B5)からなる群から選択される二価の有機基の少なくとも一つを有することが好ましい。これによって、得られるポリイミドにこれらの構造が導入される。 Polyamic acid is at least one tetravalent organic group selected from the group consisting of the above formulas (A1) to (A4), and / or a divalent group selected from the group consisting of formulas (B1) to (B5) It is preferred to have at least one organic group of This introduces these structures into the resulting polyimide.

ポリアミド酸において、式(A1)~(A4)からなる群から選択される四価の有機基の少なくとも1種と、式(B1)~(B5)からなる群から選択される二価の有機基の少なくとも1種が、-NHCO-を介して結合してよく、例えば、ポリアミド酸は、下記一般式(2):

Figure 0007120819000023
{式中、Xは4価の有機基であり、Yは2価の有機基であり、XはXと同一であっても異なってもよく、YはYと同一であっても異なってもよく、nは2~150の整数であり、そしてR及びRは、それぞれ独立に、水素原子又は1価の有機基である}
で表される構造単位を有することができる。 In the polyamic acid, at least one tetravalent organic group selected from the group consisting of formulas (A1) to (A4) and a divalent organic group selected from the group consisting of formulas (B1) to (B5) At least one of may be bonded through -NHCO-, for example, polyamic acid has the following general formula (2):
Figure 0007120819000023
{wherein X 2 is a tetravalent organic group, Y 2 is a divalent organic group, X 2 may be the same as or different from X 1 , and Y 2 is the same as Y 1 ; may be different, n 1 is an integer of 2 to 150, and R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group}
It can have a structural unit represented by

一般式(2)において、4価の有機基Xは、式(A1)~(A4)で表される四価の有機基の少なくとも1種でよく、2価の有機基Yは、式(B1)~(B5)で表される二価の有機基の少なくとも1種でよい。また、4価の有機基Xは、事後的なイミド化のために、少なくとも1つの酸基、例えば-COOHを有することが好ましく、具体的には、一般式(2)においてR及びRの少なくとも一方は水素原子であることができる。 In general formula (2), the tetravalent organic group X 2 may be at least one of the tetravalent organic groups represented by formulas (A1) to (A4), and the divalent organic group Y 2 may be represented by the formula At least one divalent organic group represented by (B1) to (B5) may be used. In addition, the tetravalent organic group X 2 preferably has at least one acid group, such as —COOH, for subsequent imidization. At least one of 2 can be a hydrogen atom.

一般に、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸は、X基を有する酸二無水物と、Y基を有するジアミンとの共重合体である。その場合、式(A1)~(A4)で表される四価の有機基は、酸二無水物に由来し、式(B1)~(B5)で表される二価の有機基は、ジアミンに由来することができる。
また、上記一般式(2)で表される構造単位を有する(a)ポリアミド酸と(b)溶媒とを含むワニスを、上記一般式(1)で表される構造単位を有するポリイミドに変換する工程を含むポリイミドの製造方法も本発明の一態様である。
In general, the polyimide precursor polyamic acid is a copolymer of a dianhydride with two X groups and a diamine with two Y groups. In that case, the tetravalent organic groups represented by formulas (A1) to (A4) are derived from acid dianhydrides, and the divalent organic groups represented by formulas (B1) to (B5) are diamines. can be derived from
Further, a varnish containing (a) a polyamic acid having a structural unit represented by the general formula (2) and (b) a solvent is converted to a polyimide having a structural unit represented by the general formula (1). A method for producing a polyimide including steps is also an aspect of the present invention.

例えば、式(A1)で表される四価の有機基は、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物(略称:6FDA)などに由来し、式(A2)で表される四価の有機基は、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物(略称:HPMDA)などに由来し、かつ式(A3)で表される四価の有機基は、ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物(略称:BTA)などに由来する。 For example, the tetravalent organic group represented by formula (A1) is derived from 4,4′-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride (abbreviation: 6FDA) and represented by formula (A2). The tetravalent organic group is derived from 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride (abbreviation: HPMDA) or the like, and the tetravalent organic group represented by formula (A3) is bicyclo[ 2.2.2] is derived from oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride (abbreviation: BTA) and the like.

例えば、式(B1)で表される二価の有機基は、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン(略称:3-DAS)などに由来し、式(B2)で表される二価の有機基は、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン(略称:4-DAS)などに由来し、式(B3)で表される二価の有機基は、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(略称:TFMB)などに由来し、式(B4)で表される二価の有機基は、2,2-ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン(略称:6Fジアミン)などに由来し、かつ式(B5)で表される二価の有機基は、1,4-シクロヘキサンジアミン(trans体、cis体、又はcis-,trans-混合体)(略称:CyHex)などに由来する。 For example, the divalent organic group represented by formula (B1) is derived from 3,3′-diaminodiphenylsulfone (abbreviation: 3-DAS) and the like, and the divalent organic group represented by formula (B2) is derived from 4,4′-diaminodiphenylsulfone (abbreviation: 4-DAS) and the like, and the divalent organic group represented by formula (B3) is 2,2′-bis(trifluoromethyl)benzidine ( Abbreviated name: TFMB) or the like, the divalent organic group represented by formula (B4) is derived from 2,2-bis(4-aminophenyl)hexafluoropropane (abbreviation: 6F diamine) or the like, and The divalent organic group represented by the formula (B5) is derived from 1,4-cyclohexanediamine (trans isomer, cis isomer, or cis-, trans-mixture) (abbreviation: CyHex).

(b)溶媒
溶媒としては、ポリアミド酸又はポリイミドを溶解することができる既知の溶媒を使用してよい。既知の溶媒の中でも、上記で説明されたワニス粘度の制御、約250℃以下の比較的低温でのイミド化、ポリイミドフィルムの透明性などの観点から、エステル基、エーテル基、ケトン基、水酸基、スルホン基及びスルフィニル基から成る群から選択される少なくとも1種を含む溶媒が好ましい。
(b) Solvent As a solvent, a known solvent capable of dissolving polyamic acid or polyimide may be used. Among known solvents, ester group, ether group, ketone group, hydroxyl group, hydroxy group, Solvents containing at least one selected from the group consisting of sulfone groups and sulfinyl groups are preferred.

エステル基を有する溶媒としては、エステル系溶媒、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジメチルなどが挙げられる。
環状エステル基を有する溶媒としては、ラクトン系溶媒、例えば、γ-ブチロラクトン(GBL)、δ-バレロラクトン、ε-カプロラクトン、γ-クロトノラクトン、γ-ヘキサノラクトン、α-メチル-γ-ブチロラクトン、γ-バレロラクトン、α-アセチル-γ-ブチロラクトン、δ-ヘキサノラクトンなどが挙げられる。
エーテル基を有する溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジブチルエーテル、などが挙げられる。
ケトン基を有する溶媒としては、ケトン系溶媒、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどが挙げられる。
水酸基を有する溶媒としては、フェノール系溶媒、例えば、m-クレゾールなどが挙げられる。
スルホン基を有する溶媒としては、メチルスルホン、エチルフェニルスルホン、ジエチルスルホン、ジフェニルスルホン、スルホラン、ビスフェノールS、ソラプソン、ダプソン、ビスフェノールAポリスルホン、スルホランなどが挙げられる。
スルフィニル基を有する溶媒としては、スルホキシド系溶媒、例えば、N,N-ジメチルスルホキシド(DMSO)などが挙げられる。
これらのうち、ポリイミドフィルムの黄変の抑制、約220℃以下の比較的低温でのイミド化、空気中でのイミド化などの観点から、GBLが好ましい。
なお、上記で列挙された溶媒以外に、アミド系溶媒、例えば、N-メチル-2-ピロリドン(NMP)、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N-ジメチルアセトアミド(DMAc)などを使用することができる。
Solvents having an ester group include ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, and dimethyl carbonate.
Solvents having a cyclic ester group include lactone solvents such as γ-butyrolactone (GBL), δ-valerolactone, ε-caprolactone, γ-crotonolactone, γ-hexanolactone, α-methyl-γ-butyrolactone. , γ-valerolactone, α-acetyl-γ-butyrolactone, δ-hexanolactone and the like.
Solvents having an ether group include tetrahydrofuran, dioxane, dibutyl ether, and the like.
Solvents having a ketone group include ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone.
Solvents having a hydroxyl group include phenolic solvents such as m-cresol.
Solvents having a sulfone group include methylsulfone, ethylphenylsulfone, diethylsulfone, diphenylsulfone, sulfolane, bisphenol S, sorapson, dapsone, bisphenol A polysulfone, and sulfolane.
Solvents having a sulfinyl group include sulfoxide solvents such as N,N-dimethylsulfoxide (DMSO).
Among these, GBL is preferable from the viewpoints of suppression of yellowing of the polyimide film, imidization at a relatively low temperature of about 220° C. or less, and imidization in the air.
In addition to the solvents listed above, amide solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), N,N-dimethylformamide (DMF), N,N-dimethylacetamide (DMAc) and the like are used. can do.

(c)添加剤
ポリアミド酸ワニスは、任意に添加剤を含んでもよい。添加剤は、例えば、フィルムの塗工性を改善する為のレベリング剤、分散剤又は界面活性剤、フィルムの支持体からの剥離性若しくは接着性を調整する為の界面活性剤又は密着助剤、フィルムに難燃性を付与する為の難燃剤、フィルムのレタデーションを調整する為の炭酸ストロンチウム等のシリカ以外の無機粒子、ポリスチレン、ポリビニルナフタレン、ポリメチルメタクリレート、セルローストリアセテート、フルオレン誘導体等の有機化合物、酸化防止剤、紫外線防止剤、光安定剤、可塑剤、ワックス類、充填剤、顔料、染料、発泡剤、消泡剤、脱水剤、帯電防止剤、抗菌剤、防カビ剤などでよい。
なお、ワニスに添加された添加剤は、ポリイミドフィルムに残留してよい。
(c) Additives The polyamic acid varnish may optionally contain additives. Additives include, for example, leveling agents, dispersants, or surfactants for improving coatability of the film, surfactants or adhesion aids for adjusting the peelability or adhesiveness of the film from the support, Flame retardant for imparting flame retardancy to the film, inorganic particles other than silica such as strontium carbonate for adjusting the retardation of the film, organic compounds such as polystyrene, polyvinylnaphthalene, polymethyl methacrylate, cellulose triacetate, and fluorene derivatives, Antioxidants, UV inhibitors, light stabilizers, plasticizers, waxes, fillers, pigments, dyes, foaming agents, antifoaming agents, dehydrating agents, antistatic agents, antibacterial agents, antifungal agents and the like may be used.
Additives added to the varnish may remain in the polyimide film.

ポリアミド酸ワニスの製造方法は、(b)溶媒中に、上記で説明されたジアミンと酸二無水物を溶解して、ポリイミド前駆体としての(a)ポリアミド酸を生成することを含む。ポリアミド酸の生成時又は生成後に、(c)添加剤を反応溶媒に加えてよい。反応溶媒に添加された(c)添加剤は、そのままポリイミドフィルムに含有されることができる。得られた反応溶媒は、そのままポリアミド酸ワニスとして使用されるか、又は別の溶媒に置換されることができる。 A method for producing a polyamic acid varnish includes dissolving the diamine and dianhydride described above in (b) a solvent to produce (a) a polyamic acid as a polyimide precursor. The (c) additive may be added to the reaction solvent during or after the formation of the polyamic acid. The (c) additive added to the reaction solvent can be contained in the polyimide film as it is. The obtained reaction solvent can be used as it is as a polyamic acid varnish, or can be replaced with another solvent.

〈イミド化〉
イミド化条件は、特に限定されないが、例えば、反応温度は0℃~180℃でよく、反応時間は3~72時間でよく、反応雰囲気は、アルゴン又は窒素などの不活性雰囲気でよい。所望により、トルエンなどの水と共沸する溶媒をポリアミド酸ワニスに加えて、ポリアミド酸の脱水反応に伴い発生する水の除去を促進してよい。
<Imidation>
The imidization conditions are not particularly limited, but for example, the reaction temperature may be 0° C. to 180° C., the reaction time may be 3 to 72 hours, and the reaction atmosphere may be an inert atmosphere such as argon or nitrogen. If desired, a solvent that is azeotropic with water, such as toluene, may be added to the polyamic acid varnish to facilitate removal of the water generated during the dehydration reaction of the polyamic acid.

〈塗工〉
塗工工程は、フィルムの用途に応じて、各種の塗工装置を用いて行われることができ、例えば、スピンコート、スリットコート、スロットダイコート及びブレードコートなどの公知の塗工方法を用いてよい。
〈Coating〉
The coating process can be carried out using various coating apparatuses depending on the application of the film, and for example, known coating methods such as spin coating, slit coating, slot die coating and blade coating may be used. .

塗工工程の任意の支持体は、使用する場合、例えば、アルカリガラス基板、無アルカリガラス基板(Eagle XG(登録商標)、コーニング社製)、及び、銅基板、アルミ基板、SUS基板等の金属基板、又はUpilex(登録商標)フィルム(宇部興産製)、Kapton(登録商標)フィルム(東レ・デュポン製)、ポリカーボネートフィルム、PETフィルム等のようなプラスチックフィルム、又は銅箔、アルミ箔、SUS箔等のような金属箔であってよい。
また前述の様にフレキシブルガラス基板上に、ポリアミド酸ワニス又はポリイミドワニスを直接塗工し、ポリイミドフィルムを形成してもよい。
Any support in the coating step, when used, includes, for example, an alkali glass substrate, a non-alkali glass substrate (Eagle XG (registered trademark), manufactured by Corning), and metals such as copper substrates, aluminum substrates, and SUS substrates. Substrate, or plastic film such as Upilex (registered trademark) film (manufactured by Ube Industries), Kapton (registered trademark) film (manufactured by Toray DuPont), polycarbonate film, PET film, etc., or copper foil, aluminum foil, SUS foil, etc. It may be a metal foil such as
Alternatively, as described above, polyamic acid varnish or polyimide varnish may be directly applied onto a flexible glass substrate to form a polyimide film.

〈乾燥〉
乾燥工程では、例えば150~350℃の温度で、ポリアミド酸ワニス、又はポリイミドワニスから溶媒を乾燥させて、ポリイミドフィルムを形成する。理論に拘束されることを望まないが、乾燥工程を窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下で行うと、ポリアミド酸ワニスに含まれる溶媒の種類によらず、無色透明なポリイミドフィルムが得られる傾向にある。他方、ポリアミド酸ワニスに含まれる溶媒がγ-ブチロラクトン(GBL)である場合には、経済性及びフィルムの無色透明性の観点から、乾燥工程を空気中で行うことが好ましい。
〈Drying〉
In the drying step, the solvent is dried from the polyamic acid varnish or the polyimide varnish at a temperature of, for example, 150 to 350° C. to form a polyimide film. Although not wishing to be bound by theory, when the drying process is carried out in an inert gas atmosphere such as nitrogen gas, there is a tendency to obtain a colorless and transparent polyimide film regardless of the type of solvent contained in the polyamic acid varnish. be. On the other hand, when the solvent contained in the polyamic acid varnish is γ-butyrolactone (GBL), it is preferable to carry out the drying step in the air from the viewpoint of economy and colorless transparency of the film.

〈延伸〉
ポリイミドフィルムを個別製造した後にフレキシブルガラスと積層させる場合、フレキシブルガラスと積層させる前に、得られたポリイミドフィルムを延伸して、フィルムの薄膜化を行ってもよい。例えば、10μm未満の厚みを有するフィルムを得るためには、膜厚10μm以上のポリイミドフィルムを延伸処理することにより作製することができる。延伸処理は一軸延伸であっても二軸延伸であってもよい。二軸延伸の場合は同時二軸であっても逐次二軸であってもよい。
〈Stretching〉
When the polyimide film is individually produced and then laminated with the flexible glass, the resulting polyimide film may be stretched to thin the film before lamination with the flexible glass. For example, in order to obtain a film having a thickness of less than 10 μm, it can be produced by stretching a polyimide film having a thickness of 10 μm or more. The stretching treatment may be uniaxial stretching or biaxial stretching. In the case of biaxial stretching, simultaneous biaxial stretching or sequential biaxial stretching may be used.

《積層体》
フレキシブルガラス基板上に、ポリアミド酸ワニス又はポリイミドワニスを直接塗工してポリイミドフィルムを形成した場合は、それをそのまま積層体として用いることができる。
ポリイミドフィルムをフレキシブルガラスに積層する場合は、シート状接着剤にてポリイミドフィルムとフレキシブルガラスを接着し、積層体とすることができる。
《Laminate》
When polyamic acid varnish or polyimide varnish is directly coated on a flexible glass substrate to form a polyimide film, it can be used as a laminate as it is.
When the polyimide film is laminated on the flexible glass, the polyimide film and the flexible glass can be adhered with a sheet adhesive to form a laminate.

《フレキシブルデバイス》
本実施形態のフレキシブルデバイスは、本実施形態の積層体を有する。好ましくは、本実施形態の積層体を用いてフレキシブルディスプレイを製造することができる。フレキシブルディスプレイとしては、有機ELディスプレイ、例えば、ボトムエミッション型フレキシブル有機ELディスプレイ、トップエミッション型フレキシブル有機ELディスプレイなど;又はフレキシブル液晶ディスプレイが挙げられる。本実施形態の積層体をフレキシブルデバイスに用いる場合、該フレキシブルデバイスは光源を備え、この光源の光が本実施形態の積層体を通過してフレキシブルデバイスの外部に出力されるように構成されることが好ましい。本実施形態の積層体をフレキシブルデバイスに用いる場合、ポリイミドフィルムがフレキシブルガラスよりも光源側に配置されるように積層体を配置してもよく、フレキシブルガラスがポリイミドフィルムよりも光源側に配置されるように積層体を配置してもよい。
《Flexible Device》
The flexible device of this embodiment has the laminate of this embodiment. Preferably, a flexible display can be manufactured using the laminate of the present embodiment. Flexible displays include organic EL displays such as bottom emission flexible organic EL displays and top emission flexible organic EL displays; or flexible liquid crystal displays. When the laminate of the present embodiment is used in a flexible device, the flexible device is provided with a light source, and the light from the light source passes through the laminate of the present embodiment and is output to the outside of the flexible device. is preferred. When the laminate of the present embodiment is used for a flexible device, the laminate may be arranged so that the polyimide film is arranged closer to the light source than the flexible glass, and the flexible glass is arranged closer to the light source than the polyimide film. Laminates may be arranged as follows.

別の実施形態では、ポリイミドフィルムの表面上に、機能性層を設けてもよい。機能性層は、ポリイミドフィルムの表面上に、例えば透明電極層をスパッタリング装置で成膜することにより得ることができる。本実施形態の積層体が両面にポリイミドフィルムを有する場合、透明電極層は、本実施形態の積層体の両面に形成されていてもよい。このとき、積層体の両面のポリイミドフィルムに、それぞれ、少なくとも1層以上の透明電極層を形成することが好ましい。また、透明電極層とポリイミドフィルムとの間に、平滑性を付与する為のアンダーコート層、表面硬度を付与する為のハードコート層、視認性を向上する為のインデックスマッチング層、ガスバリア性を付与する為のガスバリア層、など他の層を有していてもよい。表面硬度を付与する為のハードコート層、視認性を向上する為のインデックスマッチング層は、透明電極層とポリイミドフィルムの上に積層されていてもよい。本実施の形態の積層体は、透明電極フィルムのようなタッチパネル材料への使用に特に適している。 In another embodiment, a functional layer may be provided on the surface of the polyimide film. The functional layer can be obtained by forming, for example, a transparent electrode layer on the surface of the polyimide film using a sputtering apparatus. When the laminate of the present embodiment has polyimide films on both sides, the transparent electrode layer may be formed on both sides of the laminate of the present embodiment. At this time, it is preferable to form at least one or more transparent electrode layers on each of the polyimide films on both sides of the laminate. In addition, between the transparent electrode layer and the polyimide film, an undercoat layer for imparting smoothness, a hard coat layer for imparting surface hardness, an index matching layer for improving visibility, and gas barrier properties are imparted. You may have other layers, such as a gas barrier layer for carrying out. A hard coat layer for imparting surface hardness and an index matching layer for improving visibility may be laminated on the transparent electrode layer and the polyimide film. The laminate of this embodiment is particularly suitable for use in touch panel materials such as transparent electrode films.

以下、実施例及び比較例により本発明の実施形態を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例及び比較例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, embodiments of the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples and Comparative Examples.

《測定及び評価方法》
〈黄色度(YI)及びヘイズ〉
コニカミノルタ株式会社製分光測色計(CM3600A)及びD65光源を用いて、積層体の黄色度(YI値)及びヘイズを測定した。
得られた黄色度(YI)及びヘイズを下記基準に従ってランク分けした。
(黄色度(YI)ランク)
〇(良好):キュアされたフィルムのYIが5以下である。
×(不良):キュアされたフィルムのYIが5を超える。
(ヘイズランク)
◎(非常に良好):ヘイズが1%以下である。
〇(良好):ヘイズが1.5%以下1%超である。
×(不良):ヘイズが1.5%を超える。
《Measurement and evaluation method》
<Yellowness index (YI) and haze>
Using a Konica Minolta spectrophotometer (CM3600A) and a D65 light source, the yellowness (YI value) and haze of the laminate were measured.
The obtained yellowness index (YI) and haze were ranked according to the following criteria.
(Yellowness index (YI) rank)
◯ (Good): YI of the cured film is 5 or less.
x (defective): YI of the cured film exceeds 5;
(Haze Rank)
A (very good): Haze is 1% or less.
◯ (Good): Haze is 1.5% or less and more than 1%.
x (defective): Haze exceeds 1.5%.

〈算術平均粗さ(Ra)〉
ナノスケールハイブリッド顕微鏡(VN8000、キーエンス株式会社製)を用いて、積層体のフィルム層側の測定面積(50μm×50μm)をスキャンし、の算術平均粗さ(Ra)を測定した。フィルムの表裏でRaに違いがある場合は粗い方の値を評価値とした。
(Raランク)
〇(良好):算術平均粗さが1.5nm以下。
×(不良):算術平均粗さが1.5nmを超える。
<Arithmetic mean roughness (Ra)>
Using a nanoscale hybrid microscope (VN8000, manufactured by Keyence Corporation), the measurement area (50 μm × 50 μm) of the film layer side of the laminate was scanned to measure the arithmetic mean roughness (Ra). When there was a difference in Ra between the front and back of the film, the rougher value was used as the evaluation value.
(Ra rank)
○ (Good): Arithmetic mean roughness of 1.5 nm or less.
x (defective): Arithmetic mean roughness exceeds 1.5 nm.

〈ガスバリア性〉
MOCON法にて積層体の水蒸気透過度を測定し、水蒸気透過係数[g・mm/m・day]を算出した。
(ガスバリア性ランク)
〇(良好):水蒸気透過係数が1×10-3以下。
×(不良):水蒸気透過係数が1×10-3を超える。
<Gas barrier property>
The water vapor transmission rate of the laminate was measured by the MOCON method, and the water vapor transmission coefficient [g·mm/m 2 ·day] was calculated.
(Gas barrier property rank)
◯ (Good): Water vapor permeability coefficient is 1×10 −3 or less.
× (defective): Water vapor permeability coefficient exceeds 1×10 −3 .

〈耐熱性(Tg)〉
フィルム層のガラス転移温度(Tg)の測定は、熱機械分析により行った。支持基材に部分的に切り込みを入れた後、温度23℃、湿度90%RH以上の環境に24時間吸湿し、ポリイミドフィルムを剥離し、これを3mm×20mmの大きさにカットしたものを試験片として用いた。試験片は温度23℃、湿度50%RHにて調湿した後、測定装置としてセイコーインスツル株式会社製(EXSTAR6000)を用い、引張荷重49mN、昇温速度10℃/分及び窒素気流下(流量100ml/分)の条件で、温度50~350℃の範囲における試験片伸びの測定を行った。得られたチャートの変曲点をガラス転移温度とした。
(耐熱性ランク)
〇(良好):Tgが250℃以上。
×(不良):Tgが250℃未満。
<Heat resistance (Tg)>
Measurement of the glass transition temperature (Tg) of the film layer was performed by thermomechanical analysis. After partially incising the support base material, it was allowed to absorb moisture for 24 hours in an environment with a temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% RH or more, and the polyimide film was peeled off. Used as a piece. After conditioning the test piece at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH, using a measuring device (EXSTAR6000) manufactured by Seiko Instruments Inc., a tensile load of 49 mN, a temperature increase rate of 10 ° C./min and under a nitrogen stream (flow rate 100 ml/min), the elongation of the test piece was measured in the temperature range of 50 to 350°C. The inflection point of the obtained chart was taken as the glass transition temperature.
(Heat resistance rank)
◯ (Good): Tg is 250° C. or higher.
x (defective): Tg is less than 250°C.

〈レタデーション(Rth)〉
積層体のRthは王子計測機器株式会社製の位相差測定装置(KOBRA-WR)を用いて、波長589nmにおけるΔnを測定し、ガラスの屈折率には異方性がないとして、下記式によってフィルム層厚み15μm換算のRthを算出した。
Rth=Δn×d
Δn={(Nx+Ny)/2-Nz}
ここで、Nx、Nyは平面方向、Nzは厚み方向の屈折率を指す。
ここで、dは、フィルム層の厚みを指す。本測定においてはd=15μmとしてRth(nm)を算出した。
(Rthランク)
◎(非常に良好):Rthが50nm以下。
〇(良好):Rthが50nmを超え200nm以下。
×(不良):Rthが200nmを超える。
<Retardation (Rth)>
Rth of the laminate is determined by measuring Δn at a wavelength of 589 nm using a phase difference measurement device (KOBRA-WR) manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd., and assuming that the refractive index of the glass is not anisotropic, the film is obtained by the following formula. Rth was calculated in terms of a layer thickness of 15 μm.
Rth=Δn×d
Δn = {(Nx + Ny)/2-Nz}
Here, Nx and Ny indicate the refractive index in the plane direction, and Nz indicates the refractive index in the thickness direction.
where d refers to the thickness of the film layer. In this measurement, Rth (nm) was calculated with d=15 μm.
(Rth rank)
A (very good): Rth is 50 nm or less.
◯ (Good): Rth is more than 50 nm and 200 nm or less.
x (defective): Rth exceeds 200 nm.

《原材料》
〈テトラカルボン酸二無水物〉
6FDA:4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物(A1に該当)
HPMDA:シクロヘキサン-1,2,4,5-テトラカルボン酸二無水物(A2に該当)
BTA:ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物(A3に該当)
ODPA:オキシジフタル酸二無水物(A4に該当)
PMDA:無水ピロメリト酸
"raw materials"
<Tetracarboxylic dianhydride>
6FDA: 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride (corresponding to A1)
HPMDA: Cyclohexane-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride (corresponding to A2)
BTA: bicyclo[2.2.2]oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride (corresponding to A3)
ODPA: oxydiphthalic dianhydride (corresponding to A4)
PMDA: pyromellitic anhydride

〈ジアミン〉
3-DAS:3,3’-ジアミノジフェニルスルホン(B1に該当)
4-DAS:3,3’-ジアミノジフェニルスルホン(B2に該当)
TFMB:2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(B3に該当)
6Fジアミン:2,2-ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン(B4に該当)
CyHex:1,4-シクロヘキサンジアミン(B5に該当)
<Diamine>
3-DAS: 3,3′-diaminodiphenylsulfone (corresponding to B1)
4-DAS: 3,3'-diaminodiphenylsulfone (corresponding to B2)
TFMB: 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine (corresponding to B3)
6F diamine: 2,2-bis(4-aminophenyl)hexafluoropropane (corresponding to B4)
CyHex: 1,4-cyclohexanediamine (corresponding to B5)

〈樹脂フィルム〉
PETフィルム:コスモシャインA4100(登録商標)(東洋紡社製)
PENフィルム:テオネックス(登録商標)(帝人社製)
<Resin film>
PET film: Cosmoshine A4100 (registered trademark) (manufactured by Toyobo Co., Ltd.)
PEN film: Teonex (registered trademark) (manufactured by Teijin)

《合成例》
撹拌棒付き500mLセパラブルフラスコに、窒素ガスを導入しながら、合成としてγ-ブチロラクトン溶媒の存在下、表1に示されるとおり、酸二無水物とジアミンを加え、次にオイルバスを用いて40℃に昇温し適宜3~12時間撹拌した後、オイルバスを外して室温に戻し、ポリアミド酸溶液(以下、ポリアミド酸ワニスともいう。)を得た。
<<Synthesis example>>
Into a 500 mL separable flask equipped with a stirring bar, while introducing nitrogen gas, acid dianhydride and diamine were added in the presence of γ-butyrolactone solvent as shown in Table 1, then using an oil bath for 40 minutes. C. and stirred for 3 to 12 hours, the oil bath was removed and the temperature was returned to room temperature to obtain a polyamic acid solution (hereinafter also referred to as a polyamic acid varnish).

《積層体》
実施例1~実施例2、並びに比較例1及び比較例6~8はフレキシブルガラスを支持体としてポリアミド酸ワニスをキャストし、加熱乾燥を施しポリイミドフィルムを作成した。フレキシブルガラス支持体と作成したポリイミドフィルムをそのまま積層体とした。
比較例2はフィルム層単層である。
比較例3~4はシート状接着剤を用いフレキシブルガラスと樹脂フィルムを積層し積層体とした。
《Laminate》
In Examples 1 and 2, and Comparative Examples 1 and 6 to 8 , polyimide films were prepared by casting polyamic acid varnish using flexible glass as a support, followed by heating and drying. The flexible glass support and the prepared polyimide film were directly used as a laminate.
Comparative Example 2 is a single film layer.
In Comparative Examples 3 and 4, a sheet adhesive was used to laminate flexible glass and a resin film to form a laminate.

Figure 0007120819000024
Figure 0007120819000024

Figure 0007120819000025
Figure 0007120819000025

Claims (13)

少なくとも1層のポリイミドフィルムと、
少なくとも1層のフレキシブルガラスと
が積層された、積層体であって、
前記ポリイミドフィルムは、下記式(1):
Figure 0007120819000026
{式中、式中、X は4価の有機基であり、Y は2価の有機基であり、mは正の整数である。mは2~150の整数である。}
で表される構造単位を含み、
は、下記式(B1)で表される2価の有機基と、下記式(B1)以外の2価の有機基とを含み、
Figure 0007120819000027
前記ポリイミドフィルムの黄色度(YI)が5以下であり、前記積層体の少なくとも片方の面の算術平均粗さ(Ra)が1.5nm以下である、積層体。
at least one layer of polyimide film;
A laminate in which at least one layer of flexible glass is laminated,
The polyimide film has the following formula (1):
Figure 0007120819000026
{wherein X 1 is a tetravalent organic group, Y 1 is a divalent organic group, and m is a positive integer. m is an integer from 2 to 150; }
contains a structural unit represented by
Y 1 includes a divalent organic group represented by the following formula (B1) and a divalent organic group other than the following formula (B1),
Figure 0007120819000027
A laminate, wherein the polyimide film has a yellowness index (YI) of 5 or less, and an arithmetic mean roughness (Ra) of at least one surface of the laminate of 1.5 nm or less.
前記式(B1)以外の2価の有機基が、下記式(B2)~(B5)で表される2価の有機基から選択される少なくとも一つである、請求項1に記載の積層体。 The laminate according to claim 1, wherein the divalent organic group other than the formula (B1) is at least one selected from divalent organic groups represented by the following formulas (B2) to (B5). .
Figure 0007120819000028
Figure 0007120819000028
Figure 0007120819000029
Figure 0007120819000029
Figure 0007120819000030
Figure 0007120819000030
Figure 0007120819000031
Figure 0007120819000031
前記式(B1)以外の2価の有機基が、前記式(B2)で表される2価の有機基である、請求項2に記載の積層体。 3. The laminate according to claim 2, wherein the divalent organic group other than the formula (B1) is a divalent organic group represented by the formula (B2). 前記ポリイミドフィルムのヘイズ(Haze)が1%以下である、請求項1~3のいずれか一項に記載の積層体。 The laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the polyimide film has a haze of 1% or less. 前記ポリイミドフィルムの厚みが2μm以上100μm以下であり、前記フレキシブルガラスの厚みが30μm以上200μm以下である、請求項1~4のいずれか一項に記載の積層体。 The laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the polyimide film has a thickness of 2 µm or more and 100 µm or less, and the flexible glass has a thickness of 30 µm or more and 200 µm or less. 前記ポリイミドフィルムは、下記式(2):
Figure 0007120819000032
{式中、Xは4価の有機基であり、Yは2価の有機基であり、XはXと同一であっても異なってもよく、YはYと同一であっても異なってもよく、nは2~150の整数であり、そしてR及びRは、それぞれ独立に、水素原子又は1価の有機基である}
で表される構造単位を更に含む、請求項1~5のいずれか一項に記載の積層体。
The polyimide film has the following formula (2):
Figure 0007120819000032
{wherein X 2 is a tetravalent organic group, Y 2 is a divalent organic group, X 2 may be the same as or different from X 1 , and Y 2 is the same as Y 1 ; may be different, n 1 is an integer of 2 to 150, and R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group}
The laminate according to any one of claims 1 to 5 , further comprising a structural unit represented by
前記(1)において、Xが、下記式(A1)~(A4)からなる群から選択される四価の有機基の少なくとも1種ある、請求項1~6のいずれか一項に記載の積層体。
Figure 0007120819000033
Figure 0007120819000034
Figure 0007120819000035
Figure 0007120819000036
7. The invention according to any one of claims 1 to 6, wherein in (1), X 1 is at least one tetravalent organic group selected from the group consisting of formulas (A1) to (A4) below. laminate.
Figure 0007120819000033
Figure 0007120819000034
Figure 0007120819000035
Figure 0007120819000036
が式(A1)である、請求項に記載の積層体。 8. The laminate according to claim 7 , wherein X1 is formula (A1). が式(A2)である、請求項に記載の積層体。 8. The laminate according to claim 7 , wherein X1 is formula (A2). が式(A3)である、請求項に記載の積層体。 8. The laminate according to claim 7 , wherein X1 is formula (A3). が式(A4)である、請求項に記載の積層体。 8. The laminate according to claim 7 , wherein X1 is formula (A4). 2層の前記ポリイミドフィルムの間に1層の前記フレキシブルガラスが積層された、請求項1~11のいずれか一項に記載の積層体。 The laminate according to any one of claims 1 to 11 , wherein one layer of said flexible glass is laminated between two layers of said polyimide film. 請求項1~12のいずれか一項に記載の積層体を有する、フレキシブルデバイス。 A flexible device comprising the laminate according to any one of claims 1 to 12 .
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