JP7175149B2 - 露光装置および露光方法 - Google Patents

Description

本発明は、フレキシブルプリント基板などの長尺基板（ワークピース）を、ロールトゥロール搬送系（Roll to Roll carrier、以下、ＲｔｏＲ搬送系という）によって搬送する露光装置に関する。

ＲｔｏＲ搬送系を備えた露光装置では、露光ステージの上流側に供給リール（巻出しロール）、下流側に巻取リール（巻取ロール）がそれぞれ配置され、プリント配線基板などの長尺基板を供給リール、巻取リールに巻き回した後、上流側～下流側へ搬送しながら露光を行う。

具体的には、長尺基板の裏面を吸着支持する露光ステージを長尺基板搬送方向に沿って移動させながら、長尺基板上方に設置された露光ヘッドによって投影エリア（露光対象エリア）の位置に応じたパターン光を投影する。露光ステージが露光完了位置まで移動すると、露光ステージが降下して最初の露光位置へ帰還する。同じ露光動作を繰り返すことで、長尺基板全体に対してパターンを形成する（例えば、特許文献１、２参照）。

特開２０１５－２２２３７０号公報 特開２００９－２７６５２２号公報

ＲｔｏＲ搬送系を備えた露光装置は、その搬送系の構造上、基板送り方向にスペースを必要とする。これは、ガイドローラ、ダンサーローラ、ニップローラなど、テンション維持、基板支持のために多数のローラを配置する必要があるからである。しかしながら、プリント配線基板製造ラインに設置される露光装置に対して広大なスペースを確保することは、物理的に制限のある製造ライン全体のスペースに対し極めて困難であり、また、ライン全体の生産効率を低下させる。

したがって、設置スペースを抑えたＲｔｏＲ搬送系の露光装置を構成することが求められる。

本発明の露光装置は、少なくとも１つの長尺基板を保持する露光ステージと、露光ステージを間にして対向配置され、長尺基板を搬送する少なくとも１つのリール対と、長尺基板に対して露光する露光部とを備える。例えば、露光ステージが基板搬送方向に沿って往復移動可能である。

本発明では、露光ステージおよびリール対とを、露光部に対し、基板搬送方向に直交する方向に沿って相対移動させる相対移動手段を備えている。露光部は、露光ステージの相対移動するとき、長尺基板に対して露光する。ここでの相対移動する方向は、厳密に基板搬送方向に直交する方向に限定されるわけではなく、およそ直交する方向に沿っている場合も含まれる。例えば、リール対と露光ステージとを、装置基台に対し、基板搬送方向に直交する方向に沿って移動させる第１移動機構を備える。

例えば、長尺基板のアライメント調整時に使用される複数のアライメント用カメラは、長尺基板の位置を検出する。この場合、アライメントカメラは、基板搬送方向に沿って並列に配置可能である。また、アライメント用カメラの位置情報を得るためのカメラスケール部は、露光ステージの基板搬送方向に沿った側面付近に設置可能である。

本発明の他の態様である露光装置は、少なくとも１つの長尺基板を保持する露光ステージと、露光ステージを間にして対向配置され、長尺基板を搬送する少なくとも１つのリール対と、長尺基板に対して露光する露光部とを備え、そして、露光ステージおよびリール対を、露光部に対し、基板搬送方向に沿った方向および基板搬送方向に直交する方向に沿って相対移動させる相対移動部を備えている。露光部は、露光ステージの相対移動のとき、長尺基板に対して露光する。

例えば相対移動部は、露光ステージおよびリール対を、装置基台に対し、基板搬送方向に沿って移動させる第２移動機構と、露光部を、装置基台に対し、基板搬送方向に直交する方向に沿って移動させる第３移動機構とを備えることができる。

本発明の他の態様である露光方法は、露光ステージおよびリール対を、露光部に対し、基板搬送方向に直交する方向に沿って相対移動させ、露光部によって、露光ステージの相対移動の間、長尺基板を露光する。

本発明の他の態様である露光方法は、露光ステージおよびリール対を、露光部に対し、基板搬送方向に沿った方向および基板搬送方向に直交する方向に沿って相対移動させ、
露光部によって、露光ステージの相対移動の間、長尺基板を露光する。

本発明によれば、設置スペースを抑えたＲｔｏＲ搬送系の露光装置を構成することができる。

本実施形態である露光装置の概略的構成図である。 露光装置の一部を模式的に示した斜視図である。 露光装置の概略的ブロック図である。 露光開始時と露光完了時の露光ステージおよび搬送系の位置を示した図である。 第２の実施形態である露光装置を上から見た概略的平面図である。 第２の実施形態である露光装置を側面から見た概略的平面図である。 第２の実施形態である露光装置の概略的ブロック図である。 第３の実施形態である露光装置の概略的ブロック図である。 第３の実施形態である露光装置の露光動作を示した図である。 第３の実施形態である露光装置の露光動作を示した図である。

以下では、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。

図１は、本実施形態である露光装置の概略的構成図である。図２は、露光装置の一部を模式的に示した斜視図である。図３は、露光装置の概略的ブロック図である。

露光装置１０は、ロール状に巻かれた長尺基板Ｗを搬送しながら露光動作を行うＲｔｏＲ搬送系を備えた露光装置であり、基板供給装置２０、基板巻取装置３０、露光部４０を備える。長尺基板Ｗは、ここでは長尺フィルムに銅薄膜層を形成した上にフォトレジストなどの感光材料を塗布した（あるいは貼り付けた）長尺シート状の基板が巻回されてロール状に形成されている。図２に示すように、長尺基板Ｗは、幅同一の２条（一対）の基板Ｗ１、Ｗ２から構成されている。

露光ステージ（テーブル）１５は、長尺基板Ｗの裏面を吸着して平坦に保持するとともに、裏面吸着位置と裏面から離れた所定の離間位置との間でＺ方向に昇降可能であり、図示しない昇降機構によって昇降する。露光ステージ１５は、後述するようにステージ移動機構５０に支持され、Ｘ方向に沿って移動可能である。なお、以下では、長尺基板Ｗの搬送方向Ｍに沿った方向を“Ｘ”、搬送方向Ｍに直交する方向（基板幅方向）を“Ｙ”、そして、Ｘ、Ｙに垂直な方向（鉛直方向）を“Ｚ”で表す。また、－Ｘ方向も含めて搬送方向Ｍを定義する。

露光部４０は、長尺基板Ｗ１、Ｗ２からＺ方向に所定距離離れた場所に配置され、不図示のフレームを介してベース（基台）１０Ｂに固定されている。図３に示すように、露光部４０は、半導体レーザなどの光源４１と、照明光学系４２と、複数のマイクロミラーをマトリクス配列させたＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）４３と、結像光学系４４などをそれぞれ備えた複数の露光ヘッドから構成され、各露光ヘッドには、搬送方向Ｍに沿った露光領域が規定されている。光源４１は光源制御部１１０によって駆動される。

各露光ヘッドのＤＭＤは、露光制御部１２０から送られてくる露光エリア位置に応じた描画データ（ラスタデータ）に基づいてマイクロミラーの姿勢を位置決めし、これによってパターン光が長尺基板Ｗ１、Ｗ２に投影される。露光部４０に対する長尺基板Ｗ１、Ｗ２の相対移動に応じてマイクロミラーの姿勢を切り替えることにより、長尺基板Ｗ１、Ｗ２の感光材料に対する露光（多重露光など）が行われ、これによってパターンが形成される。コントローラ１００（図３参照）は、露光装置１０の露光動作全体を制御する。なお、マスクを用いた露光部によって構成することも可能である。

基板供給装置２０は、露光ステージ１５の上流側に配置される供給リール２２Ａ、２２Ｂと、支持ローラ２４と、供給リール２２Ａ、２２Ｂをそれぞれ軸回転させる駆動機構（図示せず）を備えている。駆動機構は、例えばステッピングモータなどで構成される。基板供給装置２０によって片持ち支持される供給リール２２Ａ、２２Ｂは、それぞれ長尺基板Ｗ１、Ｗ２の未露光部分をロール状に巻いた状態で保持、固定し、また、軸回転することによって下流側に向けて長尺基板Ｗを送り出すことができる。なお、露光ステージ１５から見て供給リール２２Ａ、２２Ｂ側を“上流側”、巻取リール３２Ａ、３２Ｂ側を“下流側”とする。

基板巻取装置３０は、露光ステージ１５の下流側に配置される巻取リール３２Ａ、３２Ｂ、支持ローラ３４と、巻取リール３２Ａ、３２Ｂをそれぞれ軸回転させる駆動機構（図示せず）を備えている。巻取リール３２Ａ、３２Ｂは、それぞれ長尺基板Ｗ１、Ｗ２の露光済み部分をロール状に巻いた状態で保持、固定し、また、軸回転することによって長尺基板Ｗ１、Ｗ２を巻き取ることができる。基板供給装置２０、基板巻取装置３０による長尺基板Ｗ１、Ｗ２の巻き取り処理などは、搬送制御部１３０（図３参照）によって制御されている。

供給リール２２Ａ、２２Ｂ、巻取リール３２Ａ、３２Ｂと露光ステージ１５との間にそれぞれ配置される支持ローラ２４、３４は、長尺基板Ｗ１、Ｗ２を支持し、長尺基板Ｗ１、Ｗ２が搬送されるときに軸回転するフリーローラとして構成されている。支持ローラ２４、３４は、長尺基板Ｗ１、Ｗ２が露光面高さもしくは露光面高さより僅かに低い位置で下流側へ移動するようにその高さが調整されており、それぞれ基板供給装置２０、基板巻取装置３０によって片持ち支持されている。長尺基板Ｗ１、Ｗ２には、支持ローラ２４、３４の区間Ｔ（図１参照）の架け渡し部分に適度なテンションがかかっており、長尺基板Ｗ１、Ｗ２は皺や伸びがない状態で搬送されていく。

供給リール２２Ａ、２２Ｂおよび巻取リール３２Ａ、３２Ｂは、長尺基板Ｗ１、Ｗ２のロール状巻回部分を基板装着時に固定する周知の駆動機構２６Ａ、２６Ｂ、および３６Ａ、３６Ｂを備える。また、基板供給装置２０、基板巻取装置３０それぞれの駆動機構は、供給リール２２Ａと巻取リール３２Ａ、供給リール２２Ｂと巻取リール３２Ｂとをそれぞれ同期回転させ、長尺基板Ｗ１、Ｗ２を所定長さだけ間欠的に搬送させる。

ステージ移動機構５０は、露光ステージ１５を片持ち支持する昇降機構（図示しない）を装備した移動部材５２と、ベース１０Ｂに設置された一対のガイドレール５４Ａ、５４Ｂおよびアクチュエータ５５を備えている。一対のガイドレール５４Ａ、５４Ｂは、Ｘ方向に沿って延び、移動部材５２はガイドレール５４Ａ、５４Ｂに沿ってＸ方向およびその逆方向に移動可能である。アクチュエータ５５は、例えばボールネジによって構成される。

搬送部移動機構６０は、プレート状の移動部材６２と、ベース１０Ｂに設置された一対のガイドレール６４Ａ、６４Ｂおよびアクチュエータ６５を備えている。基板供給装置２０と基板巻取装置３０は、移動部材６２の上に搭載されており、一体となって移動する（連動する）。一対のガイドレール６４Ａ、６４Ｂは、Ｘ方向に沿って延び、移動部材６２はガイドレール６４Ａ、６４Ｂに沿ってＸ方向およびその逆方向に移動可能である。

ベース１０Ｂに設けられた移動制御部７０は、アクチュエータ５５、６５の駆動を制御し、搬送系（基板供給装置２０および基板巻取装置３０）と露光ステージ１５との相対的位置関係を維持する、すなわち相対的距離間隔が一定となるように、露光ステージ１５と基板供給装置２０、基板巻取装置３０の移動をフィードバック制御する。

露光ステージ１５と基板供給装置２０（基板巻取装置３０）との搬送方向Ｍに沿った相対的距離間隔は、アクチュエータ５５、６５に内蔵されるサーボモータの同期制御によって保たれている。また、この相対距離間隔を監視するため、位置検出用フォトセンサ９０が、基板供給装置２０の露光ステージ１５と対向する側面に配置されている（図２参照）。位置検出用フォトセンサ９０はＬＥＤなどの光源を内蔵し、露光ステージ１５の側面を照射する。露光ステージ１５側面は、光の照射位置が基準位置とそれ以外の位置との間で光量差が生じるように形成されている。移動制御部７０は、露光ステージ１５と基板供給装置２０の移動中、検出光量によって適正な相対的距離間隔が保たれているか監視する。

露光ステージ１５の支持ローラ２４側には、長尺基板Ｗ１、Ｗ２それぞれの端面位置を検出する位置センサ８０が設けられている。位置センサ８０は、例えばラインセンサなどの透過型フォトセンサによって構成することが可能である。基板供給措置２０と基板巻取装置３０は、それぞれ供給リール２２Ａ、２２Ｂと巻取リール３２Ａ、３２Ｂの軸方向位置を制御する機構（図示せず）を備えており、検出された端面位置に応じてリール軸方向位置を調整し、蛇行走行を補正することが可能である。

図４は、露光開始時と露光完了時の露光ステージおよび搬送系の位置を示した図である。

露光開始前、露光ステージ１５は長尺基板Ｗ１、Ｗ２を吸着保持し、供給リール２２Ａ、２２Ｂと巻取リール３２Ａ、３２Ｂは、駆動されないため静止状態となっている。露光開始に伴い、露光ステージ１５はＸ方向に沿って所定速度で移動していく。このとき、基板供給装置２０および基板巻取装置３０は、露光ステージ１５の移動に合わせて移動する。

すなわち、露光ステージ１５と同期して移動開始し、基板供給装置２０および基板巻取装置３０と露光ステージ１５との相対的位置関係を保つように、露光ステージ１５と同一速度でＸ方向に移動していく（並走する）。したがって、長尺基板Ｗ１、Ｗ２は、露光ステージ１５の移動前および露光ステージ１５の移動中の間、下流側へ送り出されず、露光ステージ１５に対して静止している。露光ステージ１５の移動中、各露光ヘッドの露光エリア位置に応じたパターン光が、露光部４０から投影される。

露光ステージ１５と、基板供給装置２０および基板巻取装置３０が露光完了位置に到達すると、露光ステージ１５は長尺基板Ｗ１、Ｗ２の吸着支持を解除し、降下する。そして、供給リール２２Ａ、２２Ｂおよび巻取リール３２Ａ、３２Ｂが同期回転し、長尺基板Ｗ１、Ｗ２は所定長さ分だけ巻取リール３２Ａ、３２Ｂに巻き取られる。

巻取リール３２Ａ、３２Ｂ側への巻き取りが終了すると、露光ステージ１５と基板供給装置２０および基板巻取装置３０が同期移動し、露光開始位置へ戻る。この間、供給リール２２Ａ、２２Ｂと巻取リール３２Ａ、３２Ｂは、駆動されないために静止状態となっている。上述した露光動作を繰り返すことによって、長尺基板Ｗ１、Ｗ２全体に対してパターンが形成されていく。

このように本実施形態によれば、長尺基板Ｗ１、Ｗ２を搬送するＲｔｏＲ搬送系を備えた露光装置１０において、露光ステージ１５の上流側に設けられた供給リール２２Ａ、２２Ｂを保持する基板供給装置２０と、下流側に設けられた巻取リール３２Ａ、３２Ｂを保持する基板巻取装置３０が設けられている。露光動作のとき、露光ステージ１５はステージ移動機構５０によってＸ方向に移動し、同時に、基板供給装置２０および基板巻取装置３０が、搬送部移動機構６０によってＸ方向へともに移動する。

基板搬送系（基板供給装置２０、基板巻取装置３０）が露光ステージ１５と一緒に移動するため、長尺基板Ｗ１、Ｗ２が露光ステージ１５の移動開始前および移動中に下流側へ送り出されない。そのため、従来の搬送系のような露光中の蛇行走行が抑制され、蛇行走行に起因する露光位置ずれ、あるいは基板の皺より、反りなどが生じない。また、このような基板搬送系を構成することによって、ダンサーローラなどの機構を設ける必要がなく、簡易な構成で基板搬送系を構築することが可能となる。

基板供給装置２０と基板巻取装置３０は、露光中、長尺基板Ｗを下流側の一方向のみ送り出せばよく、巻き戻しを行う必要がない。そのため、長尺基板Ｗの蛇行を抑えたパターン露光を実現することができる。特に、蛇行調整が困難な２条の長尺基板Ｗ１、Ｗ２を搬送する露光装置に好適である。

基板搬送系が移動するため、基板搬送長（供給リール２２Ａ、２２Ｂと巻取リール３２Ａ、３２Ｂ間の基板長さ）を短く構成することができる。基板搬送長が短くなることで、長尺基板Ｗ１、Ｗ２の皺、伸びなどが生じにくく、精度よくパターンを形成することができる。特に、１つの支持ローラ２４、３４を設けるだけで長尺基板Ｗ１、Ｗ２を送り出す搬送系を構成することができる。

また、露光動作完了後、露光ステージ１５が長尺基板Ｗ１、Ｗ２を吸着支持していない間に長尺基板Ｗ１、Ｗ２を下流側に送り出して巻き取るため、巻き取りをスムーズに行うことができる。このとき基板搬送長が短いため、短時間での巻き取りが可能となる。

本実施形態では、露光ステージ１５と基板搬送系（基板供給装置２０、基板巻取装置３０）は、それぞれステージ移動機構５０、搬送部移動機構６０によって別々に駆動されている。長尺基板Ｗ１、Ｗ２に関して言うと、供給リール２２Ａ、２２Ｂのロール状部分、巻取リール３２Ａ、３２Ｂのロール状部分の巻径は、長尺基板Ｗ１、Ｗ２が基板巻取装置３０に巻取られていく過程で逐次変化し、重量バランスが一定とならない。

しかしながら、ステージ移動機構５０とは異なる搬送部移動機構６０を設けることにより、長尺基板Ｗ１、Ｗ２の重量バランス変化があっても露光ステージ１５の移動制御に影響が出るのを防いでいる。また、従来のステージ移動機構を利用したまま搬送系を構築することが可能となる。

一方、基板供給装置２０と基板巻取装置３０は、同じ移動部材６２に固定支持されており、一体となって移動する。基板供給装置２０と基板巻取装置３０が連動するため、基板供給装置２０と基板巻取装置３０との間で相対的位置関係に変化が生じず、露光ステージ１５との相対的維持関係を維持させることが容易となる。また、搬送部移動機構６０を１つの駆動系でまとめることができる。

一方で、移動制御部７０が、露光ステージ１５の移動中、露光ステージ１５と基板供給装置２０および基板巻取装置３０との相対的位置関係を保つように、アクチュエータ５５、６５を駆動制御している。これによって、供給リール２２Ａ、２２Ｂ、巻取リール３２Ａ、３２Ｂが露光ステージ１５に近づき、長尺基板Ｗ１、Ｗ２の伸び、反りなどが生じるのを抑え、また、露光位置ずれを防ぐことができる。

なお、移動制御部７０は、距離間隔が閾値以上となったときに移動速度、加速度を制御するようにしてもよい。あるいは、供給リール２２Ａ、２２Ｂおよび／または巻取リール３２Ａ、３２Ｂを軸回転制御して、長尺基板Ｗ１、Ｗ２に適切なテンションがかかるように調整してもよい。

２条の長尺基板Ｗ１、Ｗ２だけでなく、より多くの複数の長尺基板を並列させて同時搬送させることも可能であり、また、１つの長尺基板で構成することも可能である。基板供給装置２０と基板巻取装置３０については、機械的に連結させず、別々の移動機構で移動させるようにしてもよい。また、露光ステージ１５と基板供給装置２０、基板巻取装置３０とを同じ移動機構で移動させるようにしてもよい。

以上の実施形態では、露光ステージ１５の上流側に基板供給装置２０と下流側に基板巻取装置３０を設けて、長尺基板Ｗ１、Ｗ２を同方向に移動させように供給リール２２Ａ、２２Ｂと巻取リール３２Ａ、３２Ｂを駆動していたが、長尺基板Ｗ１とＷ２とがお互いに逆方向に移動するようにしてもよい。

すなわち、露光ステージ１５の両側に２対のリールを設け、一方のリール対をＸ方向に向けて巻き取るように供給リール、巻取リールを設置する一方、他方のリール対を－Ｘ方向に向けて巻き取るように供給リール、巻取リールを設けることが可能である。この場合、基板供給装置と基板巻取装置の機能を組み合わせた一対の搬送装置を露光ステージに対して移動させる。このように長尺基板Ｗ１とＷ２とがお互いに逆方向に移動するように構成すると、露光ステージの上流側と下流側における長尺基板の重量バランスの変化を軽減することが可能となる。

次に、図５～７を用いて、第２の実施形態である露光装置について説明する。第２の実施形態では、露光ステージと搬送系が、ともに搬送方向（Ｍ）に直交する方向（Ｙ）に沿って移動する。

図５は、第２の実施形態における露光装置の上から見た概略的平面図である、図６は、第２の実施形態における露光装置の側面から見た概略的平面図である。図７は、第２の実施形態における露光装置の概略的ブロック図である。

露光装置１０’は、露光部１４０と、基板供給・巻取部１５０とを備える。露光部１４０は、ここでは、６つの露光ヘッド１４０Ａ～１４０Ｆから構成され、搬送方向Ｍに沿って千鳥配列されている。光源４１からの光が各露光ヘッドへ導かれ、定められた露光領域に各露光ヘッドからパターン光が投影される。

基板供給・巻取部１５０は、供給リール２２、巻取リール３２、支持ローラ２４、３４とを備え、第１の実施形態と同様、長尺基板Ｗの送り出し、巻き取りを行う。基板供給・巻取部１５０５３および露光ステージ１５は、ともに中間ベース１７０に設置されている。

ステージ・搬送部移動機構（第１移動機構）１６０は、露光ステージおよび基板供給・巻取部１５０を搬送方向Ｍと交差する方向に移動させるための機構である。第１移動機構１６０は、搬送方向Ｍに直交する方向に延びるガイドレール１６２Ａ、１６２Ｂと、図示しないアクチュエータ（例えばリニアモータ）を備える。中間ベース１７０は、ベース１０Ｂに設置されるステージ・搬送部移動機構１６０によって、搬送方向Ｍに直交する方向Ｙに往復移動可能である。

中間ベース１７０が露光装置１０’のベース１０Ｂに対して移動することにより、露光ステージ１５と、供給リール２２、巻取リール３２を含む基板供給・搬送部２０とが、露光部４０に対して相対的に移動する。露光部４０は、露光ステージ１５が相対移動する間、パターン光を投影する。

複数のアライメントカメラ８２は、露光ステージ１５の搬送方向Ｍに沿った端面付近に配置され、長尺基板Ｗの露光位置を検出する。また、カメラ基準位置の測定マークを設けたカメラスケールや、露光ヘッドの露光位置の誤差を測定し描画データを補正するためのセンサユニットなどを備えるカメラスケール部８４も、露光ステージ１５の搬送方向Ｍに沿った端面付近に配置されている。

露光開始後、中間ベース１７０が露光部１４０に対して相対移動し、露光が終了すると、中間ベース１７０が元の位置に戻る。そして、長尺基板Ｗが所定長さだけ搬送されると、露光動作が開始される。これを繰り返し行い、長尺基板Ｗにパターンを形成していく。

このように本実施形態によれば、露光部１４０と、基板供給・巻取部１５０とを備える露光装置１０’において、基板供給・巻取部１５０と露光ステージ１５が、一体となって基板搬送方向Ｍに直交する方向に沿って往復移動する。露光部１４０は、露光ステージ１５の相対移動に応じて長尺基板Ｗを露光する。

このように露光部１３０が基板搬送方向Ｍに直交する方向に走査することによって、露光装置１０’をコンパクトにすることができる。また、露光部１４０が露光ステージ１５の上方に設置されていないため、露光部１４０の構成を自由に設定することができる。また、アライメントカメラ８２を長尺基板Ｗの上方に設置しないため、露光ステージ１５の搬送方向長さを短くすることができる。さらに、カメラスケール部８４を長尺基板Ｗの上方に配置する必要がなくなり、長尺基板Ｗを退避させるようなＵ字型経路を設けずに済み、長尺基板Ｗにストレスがかからない。

第２の実施形態では露光ステージ１５および基板供給・搬送部１５０が移動することで長尺基板Ｗと露光部１４０との相対移動を実現し露光を行っていたが、露光ステージ１５がベース１０Ｂに固定され、露光部４０が不図示の移動装置によって搬送方向Ｍに直交する方向に移動するようにしてもよい。また、長尺基板Ｗを第１の実施形態のように２条の基板で構成してもよい。この場合、露光部４０は２条の基板を同時に露光する。

次に、図８～９を用いて、第３の実施形態について説明する。第３の実施形態では、搬送系が基板搬送方向に沿って移動するとともに、露光部が基板搬送方向に直交する方向に沿って移動する。

図８は、第３の実施形態における露光装置のブロック図である。露光装置１０”は、２つの長尺基板Ｗ１、Ｗ２に対して露光を行う露光装置であり、露光部２４０と、基板供給・巻取部２５０とを備える。露光部２４０は、ここでは、４つの露光ヘッド２４０Ａ～２４０Ｄから構成され、搬送方向Ｍに沿って千鳥配列されている。

基板供給・巻取部２２０は、供給リール２２、巻取リール３２、支持ローラ２４、３４とを備え、第１の実施形態と同様、長尺基板Ｗ１、Ｗ２の送り出し、巻き取りを行う。基板供給・巻取部２２０および露光ステージ１５は、ともに中間ベース２７０に設置されている。

ステージ・搬送部移動機構（第２移動機構）２６０は、搬送方向Ｍに沿って延びるガイドレール２６２Ａ、２６２Ｂを備え、ベース１０Ｂに設置されている。中間ベース２７０は、ステージ・搬送部移動機構２６０によって、搬送方向Ｍに沿って往復移動可能である。露光部移動機構（第３移動機構）２５０は、露光部４０を搬送方向Ｍに直交する方向に沿って移動させる。

図９Ａ、図９Ｂは、第３の実施形態における露光装置の露光動作を示した図である。

露光部２４０が静止した状態で中間ベース２７０が搬送方向Ｍに沿って移動するとき、露光部２４０が走査することによって、長尺基板Ｗ１の領域ＥＡ１に対しパターンが形成される（（Ａ）、（Ｂ）参照）。その後、中間ベース２７０が静止した状態で露光部４０が搬送方向Ｍに直交する方向に沿って移動し、長尺基板Ｗ２の上方で停止する（（Ｃ）参照）。

中間ベース２７０は、今度は搬送方向Ｍとは逆方向に沿って移動する。この間、露光部２４０が露光領域Ｅ２に対してパターンを形成する（（Ｄ）参照）。露光部４０が長尺基板Ｗ１の上方へ再び移動すると、中間ベース２７０が搬送方向Ｍに沿って移動する。その間、露光部３４０は、露光領域ＥＡ３にパターンを形成する（（Ｅ）、（Ｆ）参照）。

続けて露光部２４０は長尺基板Ｗ２に移動し、中間ベース２０が搬送方向Ｍと逆方向に移動する。この間、露光部２４０が露光領域ＥＡ４にパターンを形成する（（Ｇ）、（Ｈ）参照）。このような露光部２４０と中間ベース２７０の交互移動を繰り返し続けることで、長尺基板Ｗ１、Ｗ２両方にパターンが順次形成されていく。

このように第３の実施形態によれば、露光部２４０と露光ステージ１５とがＸ、Ｙ方向に関して移動することにより、露光領域が比較的小さい露光部４０の構成でも、長尺基板Ｗ１、Ｗ２両方を露光することができる。

なお、露光ステージ１５および基板供給・巻取部２２０が基板搬送方向Ｍに直交する方向に移動し、露光部２４０が基板搬送方向Ｍに沿って移動するようにしてもよい。また、基板供給・巻取部２２０が基板搬送方向Ｍおよびそれに直交する方向に移動してもよく、逆に、露光部２４０が、基板搬送方向Ｍおよびそれに直交する方向に移動してもよい。

１０’ 露光装置
１０” 露光装置
１５ 露光ステージ
２２ 供給リール
３２ 巻取リール
１４０ 露光部
１５０ 基板供給・巻取部
１６０ ステージ・搬送部移動機構（第１移動機構）
２２０ 基板供給・巻取部
２４０ 露光部
２５０ 露光部移動機構（第３移動機構）
２６０ ステージ・搬送部移動機構（第２移動機構）

Claims (6)

1. 少なくとも１つの長尺基板を保持する露光ステージと、
   前記露光ステージを間にして対向配置され、前記長尺基板を搬送する少なくとも１つのリール対と、
   前記長尺基板に対して露光する露光部と、
   露光動作の際に、前記露光ステージおよび前記リール対を、前記露光部に対し、基板搬送方向に沿った方向および基板搬送方向に直交する方向に沿って相対移動させる相対移動部と
   を備えることを特徴とする露光装置。
2. 前記相対移動部が、前記リール対と前記露光ステージとを、基台に対し、基板搬送方向に直交する方向に沿って移動させる第１移動機構を備えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記長尺基板の位置を検出し前記基板搬送方向に沿って並列に配置される複数のアライメント用カメラをさらに備えることを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
4. 前記露光ステージの基板搬送方向に沿った側面付近に設置され、前記アライメント用カメラの位置情報を得るためのカメラスケール部をさらに備えることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の露光装置。
5. 前記相対移動部が、前記露光ステージおよび前記リール対を、基台に対し、基板搬送方向に沿って移動させる第２移動機構と、
   前記露光部を、前記基台に対し、基板搬送方向に直交する方向に沿って移動させる第３移動機構と
   を備えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
6. 露光ステージおよびリール対を、露光部に対し、基板搬送方向に沿った方向および基板搬送方向に直交する方向に沿って相対移動させ、
   前記露光部によって、前記露光ステージの相対移動の間、前記長尺基板を露光することを特徴とする露光方法。

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