JP7035376B2 - 偏光光照射装置および偏光光照射方法 - Google Patents
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Description
上記のような光配向処理を行う装置として、例えば特許文献1には、光照射部を傾けて、被処理物であるワーク(基板)に斜めから光を照射する露光装置が開示されている。また、特許文献2には、被処理物(基板)を支持するホルダーを傾けることで被処理物を傾け、被処理物に対して斜めに光を照射する方法が開示されている。
しかしながら、近年、液晶基板は、一辺が2mからそれ以上の大きさとなっており、このような大型の基板に偏光光を照射する装置の光照射部や基板を支持するステージは、基板の大型化に伴い大型で重たいものとなっている。したがって、上記各特許文献に記載の技術のように、光照射部やステージを傾ける構造では、そのための傾斜機構が大型のものとなる。そのため、装置全体が大型化し、装置のコストも高くなる。
そこで、本発明は、装置を大型化することなく、ワークに対して偏光光を斜めから照射することができる偏光光照射装置および偏光光照射方法を提供することを課題としている。
このように、レンズユニットを任意の角度に固定することで、偏光光を被処理物の光照射面に対して斜めから照射するので、光源を含む光照射部全体を傾けたり、被処理物を保持するステージを傾けたりする必要がない。したがって、装置を大型化することなく、被処理物の光照射面に対して偏光光を斜めから照射することができる。
さらに、上記の偏光光照射装置において、前記灯具は、前記光源を複数備え、複数の前記光源にそれぞれ対応して設けられた前記導光ファイバを構成する前記複数のファイバ束の光出射側端部が、所定個ずつ順番に前記一方向に並べて配置されて前記出射端を構成してもよい。この場合、複数の光源間での照度のばらつきが存在する場合であっても、光照射領域における照度のばらつきを抑制し、被処理物に対して均一化された光を照射することができる。
さらに、上記の偏光光照射装置において、前記レンズユニットは、前記導光ファイバの前記出射端から出射される光を入射光とし、当該入射光の照度を均一化する光学系と、前記光学系からの出射光を集光する集光レンズと、をさらに備え、前記偏光素子は、前記集光レンズにより集光された光を偏光してもよい。
この場合、照度が均一化された、一方向に沿った光照射領域を適切に形成することができる。さらに、偏光素子の出射側に他の光学素子を設けずに、偏光素子により偏光された偏光光を直接被処理物に照射するようにすれば、偏光軸の意図しない回転を抑制し、所望の偏光光を適切に照射することができる。
さらにまた、上記の偏光光照射装置において、前記集光レンズは、シリンドリカルレンズであってもよい。この場合、簡易な構成で適切に一方向に沿った線状の光を形成することができる。
また、上記の偏光光照射装置において、前記斜め照射機構は、前記レンズユニットの前記光照射面に対する角度を調整可能に構成されていてもよい。この場合、レンズユニットから出射する光の、被処理物の光照射面に対する入射角度を調整することが可能となる。
このように、レンズユニットを任意の角度に固定することで、偏光光を被処理物の光照射面に対して斜めから照射するので、光源を含む光照射部全体を傾けたり、被処理物を保持するステージを傾けたりする必要がない。したがって、装置を大型化することなく、被処理物の光照射面に対して偏光光を斜めから照射することができる。
(第一の実施形態)
図1は、本実施形態の偏光光照射装置100を示す概略構成図である。
偏光光照射装置100は、第一の灯具(ランプハウス)10A、第二の灯具(ランプハウス)10B、導光ファイバ20およびレンズユニット30を含んで構成される光照射部と、斜め照射機構40と、ワークステージ50と、を備える。偏光光照射装置100の被処理物であるワークWは、例えば光照射面に光配向膜が形成された矩形状の基板である。
偏光光照射装置100は、偏光光(偏光した光)を出射しながらワークステージ50を不図示の搬送部によって直線移動させ、ワークステージ50により搬送されたワークWの光照射面に形成された光配向膜に上記偏光光を照射して光配向処理をする。本実施形態では、偏光光照射装置100は、ワークWの光照射面に対して斜めから偏光光を照射する光配向処理を実施可能であるものとする。
光源11は、例えば、ショートアーク型の超高圧水銀ランプや、メタルハライドランプ等のランプを使用することができ、封入発光種に応じた波長の紫外光を放射する。なお、光源11は、ランプに限定されるものではなく、例えばLEDやLDを使用することもできる。光源11の種類は、必要とされる波長に応じて適宜選択可能である。
なお、本実施形態では、光照射部が2つの灯具10A、10Bを備える場合について説明するが、灯具の数は上記に限定されない。灯具の数は、後述する光照射領域34の大きさや照度等に応じて適宜設定するものとする。
導光ファイバ20のファイバ素線21は、導光ファイバ20の入射端23において、上述したミラー12によって集光される光の形状に合わせて、例えば円形に1つに束ねられている。一方、ファイバ素線21は、導光ファイバ20の出射端22において、一方向に沿って線状(帯状も含む)に束ねられている。
レンズユニット30は、直方体状のガラス板31と、シリンドリカルレンズ32と、偏光板(偏光素子)33と、を備える。これらの部材は、被処理物であるワークWに照射する紫外線を透過する材料、例えば石英により構成されている。
なお、均一照射光学系は、直方体形状のガラス板31に限定されるものではなく、例えば、並べて配置された円柱形状の複数のロッドレンズにより構成することもできる。また、均一化照射光学系は、内面がミラーにより構成された筒状部材であってもよい。
なお、シリンドリカルレンズ32の形状、配置および個数は、上記に限定されるものではなく、ワークWに照射される光照射領域34の形状等に応じて適宜設定可能である。また、集光レンズは、シリンドリカルレンズに限定されるものではなく、円柱形状のロッドレンズを用いることもできる。
偏光光は、光学素子に入射したり光学素子によって反射したりすると、偏光軸の方向が所望の方向からずれる(偏光軸が回転する)。そのため、偏光板33の出射側には、光学素子を設けないことが好ましい。つまり、レンズユニット30は、導光ファイバ20からの光が入射する側から順に、ガラス板31、シリンドリカルレンズ32、偏光板(偏光素子)33を備え、偏光板(偏光素子)33により偏光した偏光光を、光学素子を介することなく直接ワークWの光照射面に照射することが好ましい。
フレーム41は、導光ファイバ20の出射端22とレンズユニット30とを、出射端22とレンズユニット30のガラス板31との相対位置が変化しないように(両者の位置がずれないように)固定する。このフレーム41は、回転軸42に取付けられている。
回転軸42は、基板搬送方向に対して直交する方向の軸であり、回転軸42が回転することにより、フレーム41が回転軸42を中心に回転し、フレーム41に固定されたレンズユニット30が回転軸42を中心に回転する。
なお、本実施形態では、図1に示すように、回転軸42は、レンズユニット30の中央部付近に設けられている。したがって、レンズユニット30が回転軸42を中心に回転した場合、レンズユニット30の下端部の位置は、回転軸42を中心に円弧を描くように移動する。そのため、光照射領域34の位置は、基板搬送方向に移動する。
本実施形態では、灯具10A、10Bとレンズユニット30とは、可撓性を有する導光ファイバ20により接続されている。そのため、レンズユニット30の回転移動によって生じる出射端22の移動は、導光ファイバ20が曲がることで吸収される。導光ファイバ20は、急峻な角度でなければ、水平方向から垂直方向までの曲げに対応可能である。
このような構成により、灯具10A、10Bを傾斜させる必要も、ワークWを保持するワークステージ50を傾斜させる必要もなく、ワークWに対して斜めから偏光光を照射することができる。例えば、ワークWが液晶ディスプレイ(LCD)用の光配向膜が形成された基板である場合、当該基板に対して斜めから偏光光を照射することで、光配向膜にプレチルト角を付与することができる。
例えば、レンズユニット30を、レンズユニット30の傾きがゼロ(ワークWに対して垂直)であるときのワークW上の光照射領域34の位置を中心に回転させる構成であってもよい。この場合、レンズユニット30が回転しても、光照射領域34の位置は変化しないようにすることができる。ただし、この場合、レンズユニット30を回転可能に支持するための円弧状のガイド等が必要となり、斜め照射機構40の構造が複雑化する。
例えば光源11が放電ランプの場合、光照射部全体を傾ける構成の場合、灯具の移動には放電ランプの点灯条件の制約を受ける。つまり、放電ランプが傾くとアークの形状が変形し、不具合を生じさせるおそれがあるため、点灯時には、放電ランプの姿勢を垂直または水平に維持する必要がある。そのため、斜め照射のために光照射部全体を動かす場合、放電ランプの姿勢を維持したまま灯具を移動させる必要がある。したがって、光照射部の傾斜機構が複雑化すると共に、大型のものとなる。
これに対して本実施形態では、灯具を移動させる必要がないため、斜め照射機構40の構成を簡略化することができる。また、本実施形態では、ワークステージ50を傾ける必要もないため、ワークWを安定して保持した状態を維持することができる。このように、装置を大型化することなく、ワークWの光照射面に対して偏光光を斜めから照射することができる。
例えば、光源11からの光を、光学系を用いてレンズユニット30へ導くことも考えられるが、その場合、レンズユニット30の動きに合わせて光学系の細かい位置調整が必要となる。本実施形態では、上述したように導光ファイバ20を用いることで、レンズユニット30の角度設定を容易に行うことができる。
これにより、レンズユニット30は、照度が均一化された、指向性を有する線状の光を出射し、ワークWの光照射面に線状の光照射領域34を適切に形成することができる。また、レンズユニット30の光学系の設計により、光照射領域34の形状(幅や長さ)を容易に所望の形状とすることができる。また、偏光素子の出射側に光学素子を設けないようにすることで、偏光性能の乱れを効果的に抑制することができるとともに、高い消光比を得ることができる。
上記実施形態においては、斜め照射機構40は、回転レバー43を手動で操作することで、ワークWの光照射面に対する偏光光の照射角度を調整可能な構成である場合について説明したが、上記の角度調整は手動調整に限定されない。例えば、モータ等を利用して自動的に角度調整を行うようにしてもよい。
また、上記実施形態においては、斜め照射機構40は、ワークWの光照射面に対する偏光光の照射角度を調整可能な構成である場合について説明したが、当該照射角度は任意の角度で固定されていてもよい。
Claims (9)
- 光源を備える灯具と、
前記光源からの光が入射される入射端と、一方向に沿って配置され、前記入射端から入射された光を出射する出射端と、を有する導光ファイバと、
前記灯具から離隔して配置され、偏光素子を有し、前記導光ファイバの前記出射端から出射される光を前記偏光素子により偏光した偏光光を、前記一方向に沿った線状の光照射領域を形成するように出射するレンズユニットと、
前記偏光光を被処理物の光照射面に対して斜めから照射するように、前記レンズユニットを任意の角度で固定する斜め照射機構と、を備えることを特徴とする偏光光照射装置。 - 前記導光ファイバは、
複数のファイバ素線を所定本数ずつ束ねた複数のファイバ束により構成され、
前記複数のファイバ束の光出射側端部が前記一方向に並べて配置されて前記出射端を構成していることを特徴とする請求項1に記載の偏光光照射装置。 - 前記灯具は、前記光源を複数備え、
複数の前記光源にそれぞれ対応して設けられた前記導光ファイバを構成する前記複数のファイバ束の光出射側端部が、所定個ずつ順番に前記一方向に並べて配置されて前記出射端を構成していることを特徴とする請求項2に記載の偏光光照射装置。 - 前記導光ファイバは、
複数のファイバ素線を1つに束ねた1本のファイバ束により構成され、
前記1本のファイバ束の光出射側端部が前記一方向に延びるように束ねられて前記出射端を構成していることを特徴とする請求項1に記載の偏光光照射装置。 - 前記レンズユニットは、
前記導光ファイバの前記出射端から出射される光を入射光とし、当該入射光の照度を均一化する光学系と、
前記光学系からの出射光を集光する集光レンズと、をさらに備え、
前記偏光素子は、前記集光レンズにより集光された光を偏光することを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の偏光光照射装置。 - 前記光学系は、前記一方向に沿って配置された長辺を有するガラス板であることを特徴とする請求項5に記載の偏光光照射装置。
- 前記集光レンズは、シリンドリカルレンズであることを特徴とする請求項5または6に記載の偏光光照射装置。
- 前記斜め照射機構は、
前記レンズユニットの前記光照射面に対する角度を調整可能に構成されていることを特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載の偏光光照射装置。 - 灯具が備える光源からの光を、導光ファイバの入射端に入射し、一方向に沿って配置された出射端から出射するステップと、
前記導光ファイバの前記出射端から出射された光を、前記灯具から離隔して配置され、偏光素子を有するレンズユニットに入射し、当該入射した光を前記偏光素子により偏光した偏光光を、前記一方向に沿った線状の光照射領域を形成するように出射するステップと、
前記レンズユニットを任意の角度で固定して、前記偏光光を被処理物の光照射面に対して斜めから照射するステップと、を含むことを特徴とする偏光光照射方法。
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