JP7025165B2 - 露光装置、搬送装置及び物品の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、露光装置、搬送装置及び物品の製造方法に関する。

半導体デバイスや液晶表示素子は、リソグラフィ工程を経て製造される。リソグラフィ工程で用いられる露光装置は、基板を保持して移動する基板ステージと、マスク（原版）を保持して移動するマスクステージとを有し、マスクのパターンを投影光学系を介して基板に投影して基板を露光する。

露光装置は、マスクのパターンの全体を一括して（同時に）基板上に転写するステッパーと、マスクステージと基板ステージとを同期走査しながらマスクのパターンを連続的に基板上に転写するスキャナーとに大別される。液晶表示素子を製造する場合には、表示領域の大型化が要求されるため、主に、スキャナーが用いられている。

露光装置において、マスクは、一般的に、その周辺部のみで保持（支持）される。スキャナーでは、近年、マスクの大型化が進んでいるため、マスクの自重による撓みが発生し、投影光学系の焦点深度のマージンがマスク側で消費されてしまう。従って、基板側のマージン（平面度など）を確保することが難しくなり、その結果、高い解像力を得ることが困難になってきている。

そこで、マスクステージに保持されたマスクの撓みを補正する技術が提案されている（特許文献１参照）。特許文献１には、マスク上に補正板を載置し、マスクと補正板との間の空間の圧力を調整することで、マスクの形状を高精度に制御する技術が開示されている。

特開２００６－１３５０８５号公報

デバイスの製造工程においては、様々なマスクを用いて露光が行われるため、マスクごとに撓みを補正する必要がある。１つのマスクに対して１つの補正板を用意することが可能であればよいが、補正板は高額であるため、実際には、マスクよりも少ない補正板で複数のマスクの撓みの補正を行っている。従って、マスクを交換する場合には、前の露光で用いていた補正板を、次の露光に用いるマスクの上に載置する必要がある。この際、前の露光で用いていたマスクと補正板とが互いに張り付いている（密着している）場合があるため、マスクステージ上でマスクと補正板とを分離する動作を行っている。しかしながら、このような動作は、マスクの交換（マスクアンロード）のタクトに悪影響を与えてしまう。

本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、マスクをステージからアンロードするのに有利な露光装置を提供することを例示的目的とする。

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、マスクのパターンを基板に転写する露光装置であって、前記マスクと、前記マスクの上に載置されて前記マスクの形状を補正するための補正板とを保持するステージと、前記マスクを保持する第１保持部と、前記補正板を保持する第２保持部と、前記第１保持部及び前記第２保持部のそれぞれを駆動する駆動部とを含み、前記ステージから前記マスク及び前記補正板を持ち上げる搬送部と、を有し、前記搬送部は、前記ステージから前記マスク及び前記補正板を持ち上げる際に、前記マスクと前記補正板とが引き離されるように、前記駆動部を動作させることを特徴とする。

本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。

本発明によれば、例えば、マスクをステージからアンロードするのに有利な露光装置を提供することができる。

本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。 図１に示す露光装置の搬送部の構成を示す概略図である。 本実施形態におけるマスクのアンロードの処理の流れを示す図である。 本実施形態におけるマスクのアンロードの処理の流れを示す図である。 本実施形態におけるマスクのアンロードの処理の流れを示す図である。 第１駆動部の具体的な構成の一例を示す図である。 第２駆動部の具体的な構成の一例を示す図である。 第１保持部及び第２保持部の構成の一例を示す図である。 第１保持部及び第２保持部の構成の一例を示す図である。 マスク及び補正板の位置検知又は位置非検知の判定を説明するための図である。

以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。

図１は、本発明の一側面としての露光装置ＥＸの構成を示す概略図である。
露光装置ＥＸは、半導体デバイスや液晶表示素子の製造工程であるリソグラフィ工程に採用されるリソグラフィ装置である。露光装置ＥＸは、原版であるマスクＭに形成されたパターン（例えば、ＴＦＴ回路など）を、感光剤（フォトレジスト）が塗布された基板Ｓに転写する（基板Ｓを露光する）。露光装置ＥＸは、本実施形態では、レンズや大型の凹面ミラーを含み、マスクＭのパターンを基板Ｓに投影する反射型の投影光学系ＰＯを有するミラースキャン型の露光装置として具現化される。

露光装置ＥＸは、光源からの光でマスクＭを照明する照明光学系ＩＬと、マスクＭやマスクＭの上に載置される補正板ＭＢを保持するマスクステージＭＳと、投影光学系ＰＯと、基板Ｓを保持する基板ステージＳＳとを有する。また、露光装置ＥＸは、圧力調整部ＰＵと、計測部ＭＵと、搬送部ＣＵと、制御部ＣＮとを有する。制御部ＣＮは、ＣＰＵやメモリなどを含み、プログラムに従って露光装置ＥＸの各部を統括的に制御する。なお、以下では、鉛直方向にＺ軸を定義し、Ｚ軸に垂直な平面内でマスクＭ及び基板Ｓの走査方向にＹ軸を定義し、Ｙ軸に直交する非走査方向にＸ軸を定義する。

光源は、例えば、超高圧水銀ランプなどを含み、露光光となる光を射出する。照明光学系ＩＬは、光学素子を含み、光源からの光をマスクＭに集光する。

マスクステージＭＳは、マスクＭを吸着するための吸着部を含み、補正板ＭＢが載置されたマスクＭを保持しながら移動可能なステージ装置である。マスクステージＭＳは、照明光学系ＩＬに対してマスクＭを走査駆動するように構成され、Ｙ軸方向に長いストロークを有し、Ｘ軸方向にマスクＭの位置を微調整するのに必要なストロークを有する。補正板ＭＢは、マスクＭの形状、具体的には、マスクステージＭＳに保持されたマスクＭの撓みを補正（矯正）するための板状部材である。マスクＭの上に補正板ＭＢを載置し、マスクＭと補正板ＭＢとの間の空間の圧力を圧力調整部ＰＵで調整することで、マスクＭの形状を高精度に制御することができる。また、マスクステージＭＳの近傍には、マスクステージＭＳに保持されたマスクＭの位置及びマスクＭの上に載置された補正板ＭＢの位置を計測する計測部ＭＵが配置されている。計測部ＭＵは、例えば、レーザー干渉計を含む。

投影光学系ＰＯは、マスクＭからの光を、その偏光特性を反射ミラーで変化させながら基板上に結像する。投影光学系ＰＯは、例えば、台形ミラー、凸面ミラー、凹面ミラーなどを含み、マスクＭのパターン（マスクＭの照明領域に存在するパターン）の像を基板上に形成する。基板上での投影領域は、所定の形状、例えば、円弧形状に設定される。

基板ステージＳＳは、基板Ｓを保持しながら、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向の３次元方向に移動可能なステージ装置である。基板ステージＳＳに保持された基板Ｓと、マスクステージＭＳに保持されたマスクＭとは、投影光学系ＰＯを介して、共役な位置関係に配置される。

搬送部ＣＵは、投影光学系ＰＯの近傍に配置されている。搬送部ＣＵは、基板Ｓに形成すべきパターンの変更などで、マスクステージＭＳに保持されたマスクＭを交換する場合に、マスクステージＭＳからマスクＭ及び補正板ＭＢを持ち上げて搬送する搬送装置である。

図２は、搬送部ＣＵの構成を示す概略図である。搬送部ＣＵは、図２に示すように、露光装置内でマスクＭ及び補正板ＭＢを保管するストッカＳＴと、マスクストッカＳＴとマスクローダＭＬとの間でマスクＭ及び補正板ＭＢを搬送する搬送ロボットＭＲとを含む。また、搬送部ＣＵは、搬送ロボットＭＲとマスクステージＭＳとの間でマスクＭ及び補正板ＭＢを搬送するマスクローダＭＬと、マスクローダＭＬの搬送経路上でマスクＭ及び補正板ＭＢを一時的に待機させる待機室ＢＳとを含む。

ストッカＳＴは、複数のマスクＭ及び補正板ＭＢを同時に保管可能な保管棚であって、複数のマスクＭ及び補正板ＭＢを、Ｚ軸方向に間隔を有して収納する。また、ストッカＳＴは、マスクＭや補正板ＭＢをカセットＣＳに収納した状態で保管することも可能である。

搬送ロボットＭＲは、ストッカＳＴに保管されたカセットＣＳを搬入及び搬出する機能、及び、カセットＣＳに収納されているマスクＭ及び補正板ＭＢをマスクローダＭＬに受け渡す機能を有する。

マスクローダＭＬは、マスクＭを保持（把持）する第１保持部２１と、補正板ＭＢを保持（把持）する第２保持部２２と、第１保持部２１及び第２保持部２２のそれぞれをＺ軸方向に駆動する第１駆動部４０とを含む。第１駆動部４０は、第１保持部２１及び第２保持部２２を、それぞれのストロークで上昇及び下降させることが可能である。また、マスクローダＭＬは、マスクＭ及び補正板ＭＢを保持するために第１保持部２１及び第２保持部２２を駆動する第２駆動部３０と、第１保持部２１、第２保持部２２、第２駆動部３０及び第１駆動部４０を支持してＸ軸方向に移動可能なベース５０を含む。

ここで、マスクＭの交換（アンロード）について説明する。本実施形態では、１つのマスクＭに対して１つの補正板ＭＢを用意していないため、マスクＭを交換する場合には、これまでのマスクＭに載置されていた補正板ＭＢを、次のマスクＭの上に載置しなければならない。この際、マスクＭと補正板ＭＢとが互いに張り付いている（密着している）場合があるため、マスクＭと補正板ＭＢとを分離する動作が必要となる。

従来技術では、マスクローダは、マスクＭや補正板ＭＢを保持する保持部を１つしか有していない。そこで、従来技術では、まず、マスクＭ及び補正板ＭＢをマスクローダに受け渡し可能な位置までマスクステージを移動させる。そして、マスクステージは、マスクＭを吸着した状態で、マスクローダへの受け渡しまで待機する。次いで、マスクローダを下降させて、マスクＭの上に載置された補正板ＭＢのみをマスクローダに保持させて上昇させる。これにより、マスクＭと補正板ＭＢとが引き離される。そして、補正板ＭＢを保持した状態でマスクローダを下降させて補正板ＭＢをマスクＭの上に再び載置する。次に、マスクステージによるマスクＭの吸着を解除し、マスクローダにマスクＭ及び補正板ＭＢを保持させる（回収する）。マスクローダに保持されたマスクＭ及び補正板ＭＢは、搬送ロボットに受け渡される。次いで、補正板ＭＢのみをマスクローダに保持させて、待機室に待機している次のマスクＭに載置する。そして、待機室で補正板ＭＢが載置されたマスクＭ（即ち、マスクＭ及び補正板ＭＢ）をマスクローダで保持してマスクステージに搬送する。

このように、従来技術では、マスクＭと補正板ＭＢとを引き離すために、マスクステージ上でマスクローダの上下駆動が２回必要となるため、マスクＭのアンロードのタクトに悪影響を与えてしまう。そこで、本実施形態では、第１保持部２１と、第２保持部２２と、第１保持部２１及び第２保持部２２のそれぞれを駆動する第１駆動部４０とを含むマスクローダＭＬを構成している。これにより、マスクＭと補正板ＭＢとの引き離しが容易となり、マスクＭのアンロードを短縮することができる。

図３乃至図５を参照して、本実施形態におけるマスクＭのアンロードについて具体的に説明する。図３乃至図５は、本実施形態におけるマスクＭのアンロードの処理の流れを示す図である。

図３は、マスクＭのアンロードの開始時のマスクローダＭＬの状態を示している。まず、マスクローダＭＬは、マスクＭを交換するために、マスクＭ及び補正板ＭＢを保持するマスクステージＭＳの上に移動する。本実施形態では、図３に示すように、第１保持部２１は、マスクＭの下面の周縁部を支持するための第１爪部（第１ハンド部）２１ａを含み、第２保持部２２は、補正板ＭＢの下面の周縁部を支持するための第２爪部（第２ハンド部）２２ａを含む。また、第２駆動部３０は、第１爪部２１ａをマスクＭの下面の周縁部に駆動し、第２爪部２２ａを補正板ＭＢの下面の周縁部に駆動する。具体的には、第２駆動部３０は、第１爪部２１ａ及び第２爪部２２ａをＸ軸方向に開閉する開閉機構で構成されている。第２駆動部３０は、第１爪部２１ａを開状態に駆動することで第１爪部２１ａによるマスクＭの支持を開放し、第１爪部２１ａを閉状態に駆動することで第１爪部２１ａにマスクＭを支持させる。同様に、第２駆動部３０は、第２爪部２２ａを開状態に駆動することで第２爪部２２ａによる補正板ＭＢの支持を解放し、第２爪部２２ａを閉状態に駆動することで第２爪部２２ａに補正板ＭＢを支持させる。なお、マスクＭのアンロードの開始時には、第２駆動部３０は、第１爪部２１ａ及び第２爪部２２ａを開状態に駆動する。

図４は、マスクＭ及び補正板ＭＢの保持時のマスクローダＭＬの状態を示している。マスクローダＭＬは、マスクＭ及び補正板ＭＢを保持する前、即ち、マスクステージＭＳからマスクＭ及び補正板ＭＢを持ち上げる前に、マスクＭ及び補正板ＭＢに対して第１保持部２１及び第２保持部２２を位置決めする。本実施形態では、計測部ＭＵで計測されたマスクＭの位置及び補正板ＭＢの位置に基づいて、マスクＭ及び補正板ＭＢを保持可能な位置に第１保持部２１及び第２保持部２２のそれぞれを位置決めするように、第１駆動部４０及び第２駆動部３０を動作させる。かかる位置決めは、制御部ＣＮの制御下で行われる。なお、計測部ＭＵで計測されたマスクＭの位置及び補正板ＭＢの位置ではなく、マスクステージＭＳにおけるマスクＭの設計位置及び補正板ＭＢの設計位置に基づいて、第１保持部２１及び第２保持部２２のそれぞれを位置決めしてもよい。第１保持部２１及び第２保持部２２のそれぞれを位置決めしたら、第２駆動部３０によって、第１爪部２１ａ及び第２爪部２２ａを閉状態に駆動し、第１保持部２１でマスクＭを保持し、第２保持部２２で補正板ＭＢを保持する。

図５は、マスクＭ及び補正板ＭＢの持ち上げ時のマスクローダＭＬの状態を示している。第１保持部２１及び第２保持部２２のそれぞれでマスクＭ及び補正板ＭＢを保持したら、第１駆動部４０によって、マスクＭを保持した第１保持部２１及び補正板ＭＢを保持した第２保持部２２を上昇させる。そして、マスクローダＭＬは、マスクステージＭＳからマスクＭ及び補正板ＭＢを持ち上げる際に、マスクＭと補正板ＭＢとが引き離されるように、第１駆動部４０を動作させる。マスクＭと補正板ＭＢとを引き離すための動作は、制御部ＣＮの制御下で行われる。本実施形態では、マスクステージＭからマスクＭを持ち上げる際の第１保持部２１のＺ軸方向の速度と、マスクステージＭから補正板ＭＢを持ち上げる際の第２保持部２２のＺ軸方向の速度との間に速度差を生じさせるように、第１駆動部４０を動作させる。具体的には、補正板ＭＢを持ち上げる際の第２保持部２２のＺ軸方向の速度がマスクＭを持ち上げる際の第１保持部２１のＺ軸方向の速度よりも速くなるように、第１駆動部４０を動作させる。これにより、第１保持部２１と第２保持部２２とがＺ軸方向の間隔を変えながら上昇するため、マスクＭと補正板ＭＢとを引き離すことができる。マスクＭと補正板ＭＢとが引き離された後、第１保持部２１及び第２保持部２２は、マスクローダＭＬのＸ軸方向に移動可能な位置まで上昇する。この間、第１保持部２１のＺ軸方向の速度と第２保持部２２とがＺ軸方向の速度とが等しくなるように、第１駆動部４０を動作させてもよい。これにより、マスクＭと補正板ＭＢとをＺ軸方向に一定の間隔を有したまま上昇させることができる。

第１保持部２１及び第２保持部２２をマスクローダＭＬのＸ軸方向に移動可能な位置まで上昇させたら、第１保持部２１に保持されたマスクＭを搬送ロボットＭＲに受け渡す。この際、第２保持部２２は、補正板ＭＢの保持を継続する。次いで、第２保持部２２に保持された補正板ＭＢを、待機室ＢＳに待機している次のマスクＭに載置する。そして、待機室ＢＳで補正板ＭＢが載置されたマスクＭを第１保持部２１に保持させてマスクステージＭＳに搬送する。

図６は、第１駆動部４０の具体的な構成の一例を示す図である。第１駆動部４０は、第１保持部２１及び第２保持部２２のそれぞれを独立してＺ軸方向に駆動するために、第１保持部２１と連結する第１駆動軸４１と、第２保持部２２と連結する第２駆動軸４２とを含む。第１駆動軸４１及び第２駆動軸４２は、第１駆動軸４１及び第２駆動軸４２のそれぞれを独立してＺ軸方向に駆動可能な駆動機構（アクチュエータ）に接続されている。

図７（ａ）及び図７（ｂ）は、第２駆動部３０の具体的な構成の一例を示す図である。第２駆動部３０は、第１爪部２１ａ及び第２爪部２１ｂのそれぞれを独立して開閉するために、第１爪部２１ａと連結する第１アクチュエータ（開閉軸）３１と、第２爪部２２ａと連結する第２アクチュエータ（開閉軸）３２とを含む。第１アクチュエータ３１は、図７（ａ）に示すように、第１爪部２１ａをマスクＭの下面の周縁部に駆動する（第１爪部２１ａを閉状態に駆動する）。第２アクチュエータ３２は、図７（ｂ）に示すように、第２爪部２２ａを補正板ＭＢの下面の周縁部に駆動する（第２爪部２２ａを閉状態に駆動する）。

また、図８に示すように、第１保持部２１に保持されたマスクＭ及び第２保持部２２に保持された補正板ＭＢを固定してもよい。図８は、第１保持部２１及び第２保持部２２の構成の一例を示す図である。第１保持部２１は、第１爪部２１ａで支持されたマスクＭの側面及び上面の周縁部を固定する第１固定部２１ｂを含む。第２保持部２２は、第２爪部２２ａで支持された補正板ＭＢの側面及び上面の周縁部を固定する第２固定部２２ｂを含む。第１固定部２１ｂ及び第２固定部２２ｂのそれぞれは、第１爪部２１ａや第２爪部２２ａとは独立したアクチュエータを用いた駆動が可能である。また、第１固定部２１ｂ及び第２固定部２２ｂのそれぞれは、制御部ＣＮの制御下において、計測部ＭＵで計測されたマスクＭの位置及び補正板ＭＢの位置に基づいて駆動することが可能である。

また、図９に示すように、マスクステージＭＳからマスクＭ及び補正板ＭＢを持ち上げる前に、第１保持部２１がマスクＭを保持しているかどうか、及び、第２保持部２２が補正板ＭＢを保持しているかどうかを検知してもよい。図９は、第１保持部２１及び第２保持部２２の構成の一例を示す図である。第１検知部２１ｃは、例えば、第１爪部２１ａと第１固定部２１ｂとの間に配置され、第１保持部２１がマスクＭを保持しているかどうかを検知する。第２検知部２２ｃは、例えば、第２爪部２２ａと第２固定部２２ｂとの間に配置され、第２保持部２２が補正板ＭＢを保持しているかどうかを検知する。第１検知部２１ｃ及び第２検知部２２ｃに適用可能なセンサは、接触式センサであってもよいし、非接触式センサであってもよい。本実施形態では、ファイバセンサなどの非接触式センサが第１検知部２１ｃや第２検知部２２ｃに適用されることを想定している。

制御部ＣＮは、第１検知部２１ｃ及び第２検知部２２ｃによる検知結果に基づいて、第１駆動部４０及び第２駆動部３０を制御する。例えば、第１検知部２１ｃにより第１保持部２１がマスクＭを保持していないことが検知された場合、又は、第２検知部２２ｃにより第２保持部２２が補正板ＭＢを保持していないことが検知された場合を考える。このような場合、マスクＭのアンロードを継続することが難しいため、マスクステージＭＳからマスクＭ及び補正板ＭＢを持ち上げることを中止する。

なお、第１固定部２１ｂや第２固定部２２ｂが吸着パッドである場合には、第１検知部２１ｃ及び第２検知部２２ｃに圧力センサや流量センサを適用することで、マスクＭ及び補正板ＭＢの固定状態、位置及び異常状態を検知することができる。例えば、図１０を参照するに、パターン１では、吸着時に任意に設定した圧力を検知し、その際、流量が流れていない場合には、吸着による固定ができるため、マスクＭ及び補正板ＭＢは正常な位置に位置していると検知することができる。従って、保持状態は正常と判定することができるため、マスクＭ及び補正板ＭＢは正常な位置で保持（固定）されている（位置検知）とする。パターン２では、吸着時に任意に設定した圧力を検知し、その際、流量が流れている場合には、吸着状態ではあるが、リークにより流量を検知していると考えられる。従って、固定状態ではなく、マスクＭ及び補正板ＭＢは正常な位置に位置していないため、マスクＭ及び補正板ＭＢは正常な位置で保持（固定）されていない（位置非検知）とする。

本実施形態によれば、マスクＭの交換（アンロード）において、マスクＭと補正板ＭＢとを引き離しに要する時間を短縮することができるため、マスクＭをマスクステージＭＳからアンロードするのに有利である。なお、マスクＭと補正板ＭＢとの引き離しは、第１保持部２１及び第２保持部２２を上昇させている間に行うとよい。但し、第１保持部２１及び第２保持部２２は、上述したように、独立してＺ軸方向に駆動することが可能である。従って、第１保持部２１及び第２保持部２２を上昇させた後、マスクローダＭＬをＸ軸方向に移動させている間にマスクＭと補正板ＭＢとの引き離しを行ってもよい。

本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、デバイス（半導体素子、磁気記憶媒体、液晶表示素子など）などの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、露光装置ＥＸを用いて、感光剤が塗布された基板を露光する工程と、露光された基板を現像する工程を含む。また、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど）を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。

ＥＸ：露光装置 Ｍ：マスク ＭＢ：補正板 Ｓ：基板 ＭＳ：マスクステージ ＣＵ：搬送部 ２１：第１保持部 ２２：第２保持部 ４０：第１駆動部

Claims (9)

1. マスクのパターンを基板に転写する露光装置であって、
   前記マスクと、前記マスクの上に載置されて前記マスクの形状を補正するための補正板とを保持するステージと、
   前記マスクを保持する第１保持部と、前記補正板を保持する第２保持部と、前記第１保持部及び前記第２保持部のそれぞれを駆動する駆動部とを含み、前記ステージから前記マスク及び前記補正板を持ち上げる搬送部と、を有し、
   前記搬送部は、前記ステージから前記マスク及び前記補正板を持ち上げる際に、前記マスクと前記補正板とが引き離されるように、前記駆動部を動作させることを特徴とする露光装置。
2. 前記搬送部は、前記ステージから前記マスクを持ち上げる際の前記第１保持部の鉛直方向の速度と、前記ステージから前記補正板を持ち上げる際の前記第２保持部の鉛直方向の速度との間に速度差が生じるように、前記駆動部を動作させることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記搬送部は、前記マスクと前記補正板とが引き離された後、前記第１保持部の鉛直方向の速度と、前記第２保持部の鉛直方向の速度とが等しくなるように、前記駆動部を動作させることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
4. 前記ステージに保持された前記マスクの位置及び前記マスクの上に載置された前記補正板の位置を計測する計測部を更に有し、
   前記搬送部は、前記ステージから前記マスク及び前記補正板を持ち上げる前に、前記計測部で計測された前記マスクの位置及び前記補正板の位置に基づいて、前記マスク及び前記補正板を保持可能な位置に前記第１保持部及び前記第２保持部のそれぞれを位置決めするように、前記駆動部を動作させることを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の露光装置。
5. 前記第１保持部は、前記マスクの下面の周縁部を支持するための第１ハンド部を含み、
   前記第２保持部は、前記補正板の下面の周縁部を支持するための第２ハンド部を含み、
   前記駆動部は、前記第１ハンド部を前記マスクの下面の周縁部に駆動する第１アクチュエータと、前記第２ハンド部を前記補正板の下面の周縁部に駆動する第２アクチュエータとを含むことを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の露光装置。
6. 前記第１保持部は、前記第１ハンド部で支持された前記マスクの側面及び上面の周縁部を固定する第１固定部を含み、
   前記第２保持部は、前記第２ハンド部で支持された前記補正板の側面及び上面の周縁部を固定する第２固定部を含むことを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
7. 前記ステージから前記マスクを持ち上げる前に、前記第１保持部が前記マスクを保持しているかどうかを検知する第１検知部と、
   前記ステージから前記補正板を持ち上げる前に、前記第２保持部が前記補正板を保持しているかどうかを検知する第２検知部と、
   を更に有し、
   前記搬送部は、前記第１検知部により前記第１保持部が前記マスクを保持していないことが検知された場合、又は、前記第２検知部により前記第２保持部が前記補正板を保持していないことが検知された場合には、前記ステージから前記マスク及び前記補正板を持ち上げることを中止することを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の露光装置。
8. 基板に転写すべきパターンを有するマスクと、前記マスクの上に載置されて前記マスクの形状を補正するための補正板とを保持するステージから、前記マスク及び前記補正板を搬送する搬送装置であって、
   前記マスクを保持する第１保持部と、前記補正板を保持する第２保持部と、前記第１保持部及び前記第２保持部のそれぞれを駆動する駆動部とを含み、前記ステージから前記マスク及び前記補正板を持ち上げる搬送部を有し、
   前記搬送部は、前記ステージから前記マスク及び前記補正板を持ち上げる際に、前記マスクと前記補正板とが引き離されるように、前記駆動部を動作させることを特徴とする搬送装置。
9. 請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
   露光した前記基板を現像する工程と、
   現像された前記基板から物品を製造する工程と、
   を有することを特徴とする物品の製造方法。

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