JP7016412B2 - 光学積層体の製造方法、表示装置の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、光学積層体の製造方法、および、表示装置の製造方法に関する。

近年、２色性物質を用いて形成される光吸収異方性層について種々の検討が行われている。
例えば、特許文献１では、光吸収異方性層である２色性物質を用いて形成される偏光膜を含むシートと、光学異方性層である位相差膜を含むシートとを用いて、円偏光板を製造する態様が開示されている。

特開２０１６－２７４３１公報

一方で、光吸収異方性層および光学異方性層を含む光学積層体においては、種々の使用環境に応じて、その表面に別途表面フィルムを配置する場合が多い。
そのため、表面フィルム、光吸収異方性層および光学異方性層を含む光学積層体を簡便に製造できる方法が望まれていた。

本発明は、上記実情に鑑みて、表面フィルム、光吸収異方性層および光学異方性層を含む光学積層体を簡便に製造できる、光学積層体の製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、表示装置の製造方法を提供することも目的とする。

本発明者は、従来技術の問題点について鋭意検討した結果、以下の構成により上記目的を達成することができることを見出した。

（１） 第１剥離性支持体と、第１配向膜と、光吸収異方性層とをこの順に有する第１光学積層体の光吸収異方性層側の表面と、第２剥離性支持体と、第２配向膜と、光学異方性層Ａとをこの順に有する第２光学積層体の光学異方性層Ａ側の表面とが対向するように、第１光学積層体と第２光学積層体とを積層し、第１剥離性支持体を剥離して積層体Ｘを得る工程と、
積層体Ｘの第１配向膜側の表面に表面フィルムを積層し、第２剥離性支持体を剥離して、表面フィルム、光吸収異方性層、および、光学異方性層Ａを有する光学積層体を得る工程と、を有し、
光吸収異方性層が、２色性物質および液晶性化合物を含む液晶性組成物を用いて形成され、
第１剥離性支持体の剥離力が、第２剥離性支持体の剥離力よりも小さい、光学積層体の製造方法。
（２） 第２剥離性支持体と、第２配向膜と、光学異方性層Ａとをこの順に有する第２光学積層体の光学異方性層Ａ側の表面と、第３剥離性支持体と、光学異方性層Ｂとをこの順に有する第３光学積層体の光学異方性層Ｂ側の表面とが対向するように、第２光学積層体と第３光学積層体とを積層し、第２剥離性支持体を剥離して積層体Ｙを得る工程と、
積層体Ｙの第２配向膜側の表面と、第１剥離性支持体と、第１配向膜と、光吸収異方性層とをこの順に有する第１光学積層体の光吸収異方性層側の表面とが対向するように、積層体Ｙと第１光学積層体とを積層し、第１剥離性支持体を剥離して積層体Ｚを得る工程と、
積層体Ｚの第１配向膜側の表面に表面フィルムを積層し、第３剥離性支持体を剥離して、表面フィルム、光吸収異方性層、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂを有する光学積層体を得る工程と、を有し、
光吸収異方性層が、２色性物質および液晶性化合物を含む組成物を用いて形成され、
第１剥離性支持体の剥離力が第３剥離性支持体の剥離力よりも小さく、かつ、第２剥離性支持体の剥離力が第３剥離性支持体の剥離力よりも小さい、光学積層体の製造方法。
（３） ２色性物質が、後述する式（１）で表される化合物を含む、（１）または（２）に記載の光学積層体の製造方法。
（４） ２色性物質が、後述する式（２）で表される化合物を含む、（１）～（３）のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
（５） ２色性物質が、後述する式（３）で表される化合物を含む、（１）～（４）のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
（６） 液晶性化合物が、後述する式（４）で表される繰り返し単位を含む高分子液晶性化合物を含み、式（４）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値と、Ｍ１のｌｏｇＰ値との差が、４以上である、（１）～（５）のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
（７） 第１配向膜の波長５５０ｎｍにおける平均屈折率が１．５５～１．８０である、（１）～（６）のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
（８） 光学異方性層Ａがλ／４板である、（１）～（７）のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
（９） 表面フィルムが、基材とハードコート層とを有する、（１）～（８）のいずれかに記載の光学積層体の製造方法。
（１０） 基材が、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、および、ポリエステル系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも一種を含む、（９）に記載の光学積層体の製造方法。
（１１） （１）～（１０）のいずれかに記載の製造方法によって製造された光学積層体の表面フィルム側とは反対側の表面と、表示素子とが対向するように、光学積層体と表示素子とを積層して、表示装置を製造する工程を有する、表示装置の製造方法。
（１２） 光学積層体と表示素子との間に、密着層が配置される、（１１）に記載の表示装置の製造方法。

本発明によれば、表面フィルム、光吸収異方性層および光学異方性層を含む光学積層体を簡便に製造できる、光学積層体の製造方法を提供できる。
また、本発明によれば、表示装置の製造方法を提供できる。

光学積層体の製造方法の第１実施形態の工程を説明するための図である。 光学積層体の製造方法の第１実施形態で得られる積層体Ｘの断面図である。 光学積層体の製造方法の第１実施形態の工程を説明するための図である。 光学積層体の製造方法の第１実施形態で得られる光学積層体の断面図である。 表示装置の第１実施形態の断面図である。 光学積層体の製造方法の第２実施形態の工程を説明するための図である。 光学積層体の製造方法の第２実施形態で得られる積層体Ｙの断面図である。 光学積層体の製造方法の第２実施形態の工程を説明するための図である。 光学積層体の製造方法の第２実施形態で得られる積層体Ｚの断面図である。 光学積層体の製造方法の第２実施形態の工程を説明するための図である。 光学積層体の製造方法の第２実施形態で得られる光学積層体の断面図である。 表示装置の第２実施形態の断面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。まず、本明細書で用いられる用語について説明する。

本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は、それぞれ波長λにおける面内のレタデーションおよび厚み方向のレタデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、５５０ｎｍとする。
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）はＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ＋ｎ_ｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２－ｎ_ｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１で算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。

ＡｘｏＳｃａｎにて用いられる平均屈折率は、アッベ屈折計（ＮＡＲ－４Ｔ、アタゴ（株）製）を使用し、光源にナトリウムランプ（λ＝５８９ｎｍ）を用いて測定する。また、波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ２（アタゴ（株）製）にて、干渉フィルターとの組み合わせで測定できる。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、および、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）。

本明細書において、角度（例えば「９０°」などの角度）、および、その関係（例えば「直交」、「平行」、および「４５°で交差」など）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±１０°の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。

本明細書において、光吸収異方性層の「吸収軸」は、吸光度の最も高い方向を意味する。「透過軸」は、「吸収軸」と９０°の角度をなす方向を意味する。

本明細書において、（メタ）アクリル系樹脂は、メタクリル系樹脂とアクリル系樹脂の両方を含む概念であり、アクリレート／メタクリレートの誘導体、特にアクリレートエステル／メタクリレートエステルの（共）重合体も含まれる。
また、（メタ）アクリロイル基は、アクリロイル基とメタクリロイル基の両方を含む概念である。

＜＜第１実施態様＞＞
以下、本発明の光学積層体の製造方法の第１実施形態について図面を用いて説明する。
本発明の光学積層体の製造方法の第１実施形態は、後述する工程１－１および工程１－２を有する。
以下、各工程について詳述する。

＜工程１－１＞
工程１－１は、第１剥離性支持体と、第１配向膜と、光吸収異方性層とをこの順に有する第１光学積層体の光吸収異方性層側の表面と、第２剥離性支持体と、第２配向膜と、光学異方性層Ａとをこの順に有する第２光学積層体の光学異方性層Ａ側の表面とが対向するように、第１光学積層体と第２光学積層体とを積層し、第１剥離性支持体を剥離して積層体Ｘを得る工程である。
より具体的には、本工程においては、図１に示すように、第１剥離性支持体１２と、第１配向膜１４と、光吸収異方性層１６とをこの順に有する第１光学積層体１０、および、第２剥離性支持体２６と、第２配向膜２４と、光学異方性層Ａ２２とをこの順に有する第２光学積層体２０を用意する。次に、図２に示すように、第１光学積層体１０の光吸収異方性層１６側の表面と、第２光学積層体２０の光学異方性層Ａ２２側の表面とが対向するように、第１光学積層体１０と第２光学積層体２０とを積層し、第１剥離性支持体１２を剥離して積層体Ｘ３０を得る。
以下では、まず、本工程で用いられる各部材について詳述し、その後、工程の手順について詳述する。

（第１剥離性支持体）
第１剥離性支持体は、その表面上に後述する第１配向膜および光吸収異方性層を支持する部材であり、第１配向膜表面と剥離可能に密着する。後述するように、第１剥離性支持体を剥離する際には、第１剥離性支持体と第１配向膜との間で剥離が生じる。

第１剥離性支持体を構成する材料としては、セルロース系樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、グルタル酸無水物系樹脂、グルタルイミド系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂およびこれらから選ばれた複数種の樹脂の混合樹脂が挙げられ、セルロース系樹脂またはポリエステル系樹脂が好ましい。
なお、後述する光吸収異方性層を形成する際の液晶性化合物の相転移には１２０～１５０℃の加温が必要となる場合があり、製造中の第１剥離性支持体の加温による変形を避ける目的で、第１剥離性支持体を構成する材料としては、セルロースアシレート樹脂またはポリエチレンテレフタレートがより好ましい。
さらに、第１剥離性支持体の剥離力を調整する際には、第１剥離性支持体の表面に親水化処理を施す場合がある。そこで、第１剥離性支持体の表面を親水化処理することで剥離力の調整が容易であることから、第１剥離性支持体を構成する材料としては、セルロースアシレートがさらに好ましい。

第１剥離性支持体は、単層構造であっても、多層構造であってもよい。
例えば、第１剥離性支持体が多層構造である場合は、支持体と、支持体上に配置された被覆層とを含む態様が挙げられる。
支持体を構成する材料としては、上述した第１剥離性支持体を構成する材料が例示される。また、支持体の厚みも特に限定されず、後述する第１剥離性支持体の厚みと同様の範囲が挙げられる。
支持体としては、透明支持体が好ましい。
また、被覆層としては、第１配向膜に剥離可能に密着し、後述する第２剥離性支持体の剥離力との関係を満たす層であれば特に限定されないが、樹脂層が挙げられる。
被覆層の厚みとしては、０．１～１０μｍが好ましい。

第１剥離性支持体の厚みは特に限定されず、１００μｍ以下が好ましく、８０μｍ以下がより好ましく、１０～５０μｍがさらに好ましい。

（第１配向膜）
第１配向膜は、第１剥離性支持体上に配置される層であり、光吸収異方性層中の液晶性化合物の配向方向を制御する層である。第１配向膜は、光吸収異方性層と共に、第１剥離性支持体から分離される。
第１配向膜は、２色性物質および液晶性化合物を含む組成物に含まれる液晶性化合物を所望の配向状態とすることができれば、どのような層でもよい。
第１配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、または、ラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与または光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。なかでも、ラビング処理により形成する配向膜、または、光照射により形成される光配向膜が好ましい。

ラビング処理により形成される配向膜に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手できる。本発明においては、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、および、その誘導体（変性体）が好ましい。なかでも、ポリマー材料としては、重合性基を有するポリマー材料が好ましく、重合性基を有するポリビニルアルコールがより好ましい。重合性基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、および、ビニル基などが挙げられる。
配向膜については国際公開ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行～４９頁８行の記載を参照できる。
配向膜の厚さは、０．０１～１０μｍが好ましく、０．０１～１μｍがより好ましい。

光照射により形成される配向膜に用いられる光配向材料としては、多数の文献に記載がある。例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－０７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－０９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２－２６５５４１号公報、特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報、または、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミドもしくはエステルが挙げられる。なかでも、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、または、ポリエステルが好ましい。

上記材料から形成した塗膜に、直線偏光または非偏光照射を施し、光配向膜を製造する。
本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００～７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。

光照射に用いる光源は、例えば、タングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプおよびカーボンアークランプなどのランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザーおよびＹＡＧ（イットリウム－アルミニウム－ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、ならびに、陰極線管が挙げられる。

直線偏光を得る手段としては、偏光板を用いる方法、プリズム系素子もしくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が挙げられる。また、フィルタまたは波長変換素子などを用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。

照射する光は、直線偏光の場合には、塗膜に対して上面または裏面から塗膜表面に対して垂直または斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、０～９０°（垂直）が好ましく、４０～９０°がより好ましい。
非偏光の場合には、塗膜に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０～８０°が好ましく、２０～６０°がより好ましく、３０～５０°がさらに好ましい。
照射時間は、１～６０分間が好ましく、１～１０分間がより好ましい。

なお、第１配向膜の波長５５０ｎｍにおける平均屈折率は特に限定されず、１．４０～２．００の場合が多く、なかでも、表示素子に光学積層体を配置した際の表示性能がより優れる点で、１．５５～１．８０が好ましい。
また、第１配向膜の波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性は特に限定されず、表示素子に光学積層体を配置した際の表示性能がより優れる点で、０．１～０．３が好ましい。
光吸収異方性層が高い屈折率異方性を有する場合が多いため、第１配向膜と光吸収異方性層との間での界面反射を低減する上で、第１配向膜の平均屈折率および屈折率異方性が高いことが好ましい。
なお、平均屈折率は、Ｗｏｏｌｌａｍ社製分光エリプソメトリＭ－２０００Ｕを用いて測定される。面内における屈折率最大となる方向をｘ軸、それに対し直交する方向をｙ軸、面内に対し法線方向をｚ軸とし、それぞれの方向での第１配向膜の屈折率をｎ_ｘ、ｎ_ｙ、ｎ_ｚと定義する。本発明における平均屈折率（ｎ_ａｖｅ）および面内における屈折率異方性（Δｎ）は、それぞれ下記式（１）、（２）で表される。
式（１） ｎ_ａｖｅ ＝（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ＋ｎ_ｚ）／３
式（２） Δｎ＝ ｎ_ｘ－ｎ_ｙ

（光吸収異方性層）
光吸収異方性層は、２色性物質および液晶性化合物を含む組成物を用いて形成される層である。光吸収異方性層は、方向によって光吸収の程度が異なる層であって、通常、吸収軸と偏光軸（透過軸）とを有する。

２色性物質は特に限定されず、可視光吸収物質（２色性色素）、発光物質（蛍光物質、燐光物質）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、および、無機物質（例えば量子ロッド）などが挙げられ、従来公知の２色性物質（２色性色素）を使用できる。
具体的には、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－０１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－０３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－０６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特願２０１５－００１４２５号公報の［００２２］～［００８０］段落、特願２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１段落］、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］～［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］～［００６２］段落、特願２０１６－０４４９０９号公報の［００１４］～［００３３］段落、特願２０１６－０４４９１０号公報の［００１４］～［００３３］段落、特願２０１６－０９５９０７号公報の［００１３］～［００３７］段落、および、特願２０１７－０４５２９６号公報の［００１４］～［００３４］段落などに記載されたものが挙げられる。

本発明においては、２種以上の２色性物質を併用してもよく、例えば、光吸収異方性層を黒色に近づける観点から、波長３７０～５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物と、波長５００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物とを併用してもよい。

２色性物質は、架橋性基を有していてもよい。
架橋性基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、および、スチリル基が挙げられ、なかでも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

２色性物質としては、式（１）で表される化合物が好ましい。

式（１）中、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、置換基を表す。ｍは、１～４の整数を表し、ｍが２～４の整数の場合、複数のＡ^２は互いに同一でも異なっていてもよい。なお、ｍは、１または２が好ましい。

上記式（１）中、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３が表す「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」について説明する。
上記置換基としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報の［０２３７］～［０２４０］段落に記載された置換基群Ｇが挙げられ、なかでも、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、または、アリールオキシカルボニル基が好ましく、アルキル基がより好ましく、炭素数１～５のアルキル基がさらに好ましい。
２価の芳香族基としては、例えば、２価の芳香族炭化水素基および２価の芳香族複素環基が挙げられる。
上記２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、炭素数６～１２のアリーレン基が挙げられ、具体的には、フェニレン基、クメニレン基、メシチレン基、トリレン基、および、キシリレン基が挙げられる。なかでも、フェニレン基が好ましい。
また、上記２価の芳香族複素環基としては、単環または２環性の複素環由来の基が好ましい。芳香族複素環基を構成する炭素原子以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素原子以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。芳香族複素環基としては、具体的には、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、および、チエノチアゾール－ジイル基（以下、「チエノチアゾール基」と略す。）が挙げられる。
上記２価の芳香族基のなかでも、２価の芳香族炭化水素基が好ましい。

ここで、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３のうちいずれか１つが、置換基を有していてもよい２価のチエノチアゾール基であることが好ましい。なお、２価のチエノチアゾール基の置換基の具体例は、上述した「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」における置換基と同じであり、好ましい態様も同じである。
また、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３のうち、Ａ^２が２価のチエノチアゾール基であることがより好ましい。この場合には、Ａ^１およびＡ^３は、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
Ａ^２が２価のチエノチアゾール基である場合には、Ａ^１およびＡ^３の少なくとも一方が置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基であることが好ましく、Ａ^１およびＡ^３の両方が置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基であることがより好ましい。

上記式（１）中、Ｌ^１およびＬ^２が表す「置換基」について説明する。
上記置換基としては、溶解性もしくはネマティック液晶性を高めるために導入される基、色素としての色調を調節するために導入される電子供与性もしくは電子吸引性を有する基、または、配向を固定化するために導入される架橋性基（重合性基）を有する基が好ましい。
例えば、置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、オキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、アゾ基、ヘテロ環基、および、シリル基が挙げられる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。

Ｌ^１およびＬ^２が表す置換基として好ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアシルアミノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニルアミノ基、置換基を有していてもよいスルホニルアミノ基、置換基を有していてもよいスルファモイル基、置換基を有していてもよいカルバモイル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基、置換基を有していてもよいスルホニル基、置換基を有していてもよいウレイド基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基、イミノ基、アゾ基、ハロゲン原子、または、ヘテロ環基であり、より好ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、ニトロ基、イミノ基、または、アゾ基である。

Ｌ^１およびＬ^２の少なくとも一方は、架橋性基（重合性基）を含むことが好ましく、Ｌ^１およびＬ^２の両方に架橋性基を含むことがより好ましい。
架橋性基としては、具体的には、特開２０１０－２４４０３８号公報の［００４０］～［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられ、反応性および合成適性の観点から、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、または、スチリル基が好ましく、アクリロイル基またはメタクリロイル基がより好ましい。

Ｌ^１およびＬ^２の好適な態様としては、上記架橋性基で置換されたアルキル基、上記架橋性基で置換されたジアルキルアミノ基、および、上記架橋性基で置換されたアルコキシ基が挙げられる。

２色性物質としては、式（２）で表される化合物も好ましい。

上記式（２）中、Ｃ^１およびＣ^２は、それぞれ独立に、１価の置換基を表す。ただし、Ｃ^１およびＣ^２の少なくとも一方は、架橋性基を表す。
Ｍ^１およびＭ^２は、それぞれ独立に、２価の連結基を表す。ただし、Ｍ^１およびＭ^２の少なくとも一方は、主鎖の原子の数が４個以上である。
Ａｒ^１およびＡｒ^２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいナフチレン基および置換基を有していてもよいビフェニレン基のいずれかの基を表す。
Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表す。
Ｒ^１は、水素原子または置換基を表す。
Ｒ^２は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。

式（２）において、Ｃ^１およびＣ^２が表す１価の置換基について説明する。
Ｃ^１およびＣ^２が表す１価の置換基としては、アゾ化合物の溶解性またはネマチック液晶性を高めるために導入される基、色素としての色調を調節するために導入される電子供与性や電子吸引性を有する基、または、配向を固定化するために導入される架橋性基（重合性基）が好ましい。
例えば、置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、オキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、アゾ基、ヘテロ環基、および、シリル基が挙げられる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。

式（２）において、Ｃ^１およびＣ^２の少なくとも一方は、架橋性基を表し、光吸収異方性層の耐久性がより優れるという点から、Ｃ^１およびＣ^２の両方が架橋性基であることが好ましい。
架橋性基としては、具体的には、特開２０１０－２４４０３８号公報の［００４０］～［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられ、反応性および合成適性の観点から、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、または、スチリル基が好ましく、アクリロイル基またはメタクリロイル基が好ましい。

式（２）において、Ｍ^１およびＭ^２が表す２価の連結基について説明する。
２価の連結基としては、例えば、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲ^Ｎ－、－Ｏ－ＣＯ－ＮＲ^Ｎ－、－ＳＯ_２－、－ＳＯ－、アルキレン基、シクロアルキレン基、および、アルケニレン基、ならびに、これらの基を２つ以上組み合わせた基などが挙げられる。
なかでも、アルキレン基と、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲ^Ｎ－、－Ｏ－ＣＯ－ＮＲ^Ｎ－、－ＳＯ_２－および－ＳＯ－からなる群より選択される１種以上の基と、を組み合わせた基が好ましい。なお、Ｒ^Ｎは、水素原子またはアルキル基を表す。

また、Ｍ^１およびＭ^２の少なくとも一方は、主鎖の原子の数が４個以上であり、７個以上であることが好ましく、１０個以上であることがより好ましい。また、主鎖の原子の数の上限値は、２０個以下であることが好ましく、１５個以下であることがより好ましい。
ここで、Ｍ^１における「主鎖」とは、式（２）における「Ｃ^１」と「Ａｒ^１」とを直接連結するために必要な部分を指し、「主鎖の原子の数」とは、上記部分を構成する原子の個数のことを指す。同様に、Ｍ^２における「主鎖」とは、式（２）における「Ｃ^２」と「Ｅ」とを直接連結するために必要な部分を指し、「主鎖の原子の数」とは、上記部分を構成する原子の数のことを指す。なお、「主鎖の原子の数」には、後述する分岐鎖の原子の数は含まない。
具体的には、下記式（Ｄ７）においては、Ｍ１の主鎖の原子の数は６個（下記式（Ｄ７）の左側の点線枠内の原子の数）であり、Ｍ２の主鎖の原子の数は７個（下記式（Ｄ７）の右側の点線枠内の原子の数）である。

Ｍ^１およびＭ^２の少なくとも一方が、主鎖の原子の数が４個以上の基であればよく、Ｍ^１およびＭ^２の一方の主鎖の原子の数が４個以上であれば、他方の主鎖の原子数は３個以下であってもよい。
Ｍ^１およびＭ^２の主鎖の原子の数の合計は、５～３０個が好ましく、７～２７個がより好ましい。主鎖の原子の数の合計が５個以上であることで、２色性物質がより重合しやすくなり、主鎖の原子の数の合計が３０個以下であることで、配向度に優れた光吸収異方性層が得られたり、２色性物質の融点が上がり耐熱性に優れた光吸収異方性層が得られたりする。

Ｍ^１およびＭ^２は、分岐鎖を有していてもよい。ここで、Ｍ^１における「分岐鎖」とは、式（２）におけるＣ^１とＡｒ^１とを直接連結するために必要な部分以外の部分をいう。同様に、Ｍ^２における「分岐鎖」とは、式（２）におけるＣ^２とＥとを直接連結するために必要な部分以外の部分をいう。
分岐鎖の原子の数は、３個以下であることが好ましい。分岐鎖の原子の数が３個以下であることで、光吸収異方性層の配向度がより向上するなどの利点がある。なお、分岐鎖の原子の数には、水素原子の数は含まれない。

式（２）におけるＡｒ^１およびＡｒ^２が表す、「置換基を有していてもよいフェニレン基」、「置換基を有していてもよいナフチレン基」、および、「置換基を有していてもよいビフェニレン基」について説明する。
置換基としては、特に限定されず、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、オキシカルボニル基、チオアルキル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルフィニル基、および、ウレイド基などが挙げられる。これらの置換基はさらにこれらの置換基で置換されていてもよい。なかでも、アルキル基が好ましく、炭素数１～５のアルキル基がより好ましく、原材料の入手が容易であることおよび配向度の観点から、メチル基およびエチル基がさらに好ましい。
Ａｒ^１およびＡｒ^２は、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいナフチレン基、または、置換基を有していてもよいビフェニレン基であるが、置換基を有していてもよい原材料の入手が容易であることおよび配向度の観点から、フェニレン基であることが好ましい。
式（２）において、Ａｒ^１と連結する「Ｍ^１」および「Ｎ」は、Ａｒ^１におけるパラ位に位置することが好ましい。また、Ａｒ^２と連結する「Ｅ」および「Ｎ」は、Ａｒ^１におけるパラ位に位置することが好ましい。

上記式（２）中、Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表し、合成適性の観点からは窒素原子であることが好ましい。
また、２色性物質を短波長側に吸収を持つもの（例えば、５００～５３０ｎｍ付近に極大吸収波長を持つもの）にすることが容易になるという観点からは、上記式（２）におけるＥは、酸素原子であることが好ましい。
一方、２色性物質を長波長側に吸収を持つもの（例えば、６００ｎｍ付近に極大吸収波長を持つもの）にすることが容易になるという観点からは、上記式（２）におけるＥは、窒素原子であることが好ましい。

上記式（２）中、Ｒ^１は、水素原子または置換基を表す。
Ｒ^１が表す「置換基」の具体例および好適態様は、上述したＡｒ^１およびＡｒ^２における置換基と同じであり、好ましい態様も同じであるので、その説明を省略する。

上記式（２）中、Ｒ^２は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表し、置換基を有していてもよいアルキル基が好ましい。
置換基としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、エステル基、エーテル基、および、チオエーテル基などが挙げられる。
アルキル基としては、炭素数１～８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が挙げられる。なかでも、炭素数１～６の直鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１～３の直鎖状のアルキル基がより好ましく、メチル基またはエチル基がさらに好ましい。
なお、Ｒ^２は、Ｅが窒素原子である場合に式（２）中で存在する基となる（すなわち、ｎ＝１の場合を意味する）。一方で、Ｒ^２は、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合、式（２）中で存在しない基となる（すなわち、ｎ＝０の場合を意味する）。

上記式（２）中、ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。

２色性物質としては、式（３）で表される化合物も好ましい。

式（３）中、ＡおよびＢは、それぞれ独立に、架橋性基を表す。ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１を表す。ただし、ａ＋ｂ≧１である。ａ＝０の場合にはＬ_１は１価の置換基を表し、ａ＝１の場合にはＬ_１は単結合または２価の連結基を表す。また、ｂ＝０の場合にはＬ_２は１価の置換基を表し、ｂ＝１の場合にはＬ_２は単結合または２価の連結基を表す。Ａｒ_１は（ｎ１＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表し、Ａｒ_２は（ｎ２＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表し、Ａｒ_３は（ｎ３＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表す。Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、それぞれ独立に、１価の置換基を表す。ｎ１≧２である場合には複数のＲ_１は互いに同一でも異なっていてもよく、ｎ２≧２である場合には複数のＲ_２は互いに同一でも異なっていてもよく、ｎ３≧２である場合には複数のＲ_３は互いに同一でも異なっていてもよい。ｋは、１～４の整数を表す。ｋ≧２の場合には、複数のＡｒ_２は互いに同一でも異なっていてもよく、複数のＲ_２は互いに同一でも異なっていてもよい。ｎ１、ｎ２およびｎ３は、それぞれ独立に、０～４の整数を表す。ただし、ｋ＝１の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧０であり、ｋ≧２の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧１である。

式（３）において、ＡおよびＢが表す架橋性基としては、例えば、特開２０１０－２４４０３８号公報の［００４０］～［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられる。なかでも、反応性および合成適性の向上の観点から、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、または、スチリル基が好ましく、溶解性をより向上できるという観点から、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。

式（３）において、ａおよびｂはそれぞれ独立に、０または１を表すが、ａ＋ｂ≧１である。すなわち、式（３）で表される化合物は、末端に少なくとも１つの架橋性基を有する。
ここで、ａおよびｂは両方が１であること、すなわち架橋性基が式（３）で表される化合物の両末端に導入されていることが好ましい。

式（３）において、ａ＝０の場合にはＬ_１は１価の置換基を表し、ａ＝１の場合にはＬ_１は単結合または２価の連結基を表す。また、ｂ＝０の場合にはＬ_２は１価の置換基を表し、ｂ＝１の場合にはＬ_２は単結合または２価の連結基を表す。
Ｌ_１およびＬ_２は、両方が単結合または２価の連結基であることが好ましく、両方が２価の連結基であることがより好ましい。

Ｌ_１およびＬ_２が表す１価の置換基としては、２色性物質の溶解性を高めるために導入される基、または、色素としての色調を調節するために導入される電子供与性または電子吸引性を有する基が好ましい。
例えば、置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、オキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ヘテロ環基、シリル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、および、アゾ基などが挙げられる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
上記置換基がさらに上記置換基によって置換された基としては、例えば、アルコキシ基がアルキル基で置換された基である、Ｒ_Ｂ－（Ｏ－Ｒ_Ａ）_ｎａ－基が挙げられる。ここで、式中、Ｒ_Ａは炭素数１～５のアルキレン基を表し、Ｒ_Ｂは炭素数１～５のアルキル基を表し、ｎａは１～１０（好ましくは１～５、より好ましくは１～３）の整数を表す。
なかでも、Ｌ_１およびＬ_２が表す１価の置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、および、これらの基がさらにこれらの基によって置換された基（例えば、上述したＲ_Ｂ－（Ｏ－Ｒ_Ａ）_ｎａ－基）が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、および、これらの基がさらにこれらの基によって置換された基（例えば、上述したＲ_Ｂ－（Ｏ－Ｒ_Ａ）_ｎａ－基）がより好ましい。

Ｌ_１およびＬ_２が表す２価の連結基としては、例えば、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲ_Ｎ－、－Ｏ－ＣＯ－ＮＲ_Ｎ－、－ＮＲ_Ｎ－ＣＯ－ＮＲ_Ｎ－、－ＳＯ_２－、－ＳＯ－、アルキレン基、シクロアルキレン基、および、アルケニレン基、ならびに、これらの基を２つ以上組み合わせた基などが挙げられる。
なかでも、アルキレン基と、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－および－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－からなる群より選択される１種以上の基と、を組み合わせた基が好ましい。
ここで、Ｒ_Ｎは、水素原子またはアルキル基を表す。Ｒ_Ｎが複数存在する場合には、複数のＲ_Ｎは互いに同一でも異なっていてもよい。

式（３）で表される化合物の溶解性がより向上するという観点からは、Ｌ_１およびＬ_２の少なくとも一方の主鎖の原子の数は、３個以上であることが好ましく、５個以上であることがより好ましく、７個以上であることがさらに好ましく、１０個以上であることが特に好ましい。また、主鎖の原子の数の上限値は、２０個以下であることが好ましく、１２個以下であることがより好ましい。
一方で、光吸収異方性層の配向度がより向上するという観点からは、Ｌ_１およびＬ_２の少なくとも一方の主鎖の原子の数は、１～５個であることが好ましい。
ここで、式（３）におけるＡが存在する場合には、Ｌ_１における「主鎖」とは、Ｌ_１と連結する「Ｏ」原子と、「Ａ」と、を直接連結するために必要な部分を指し、「主鎖の原子の数」とは、上記部分を構成する原子の個数のことを指す。同様に、式（３）におけるＢが存在する場合には、Ｌ_２における「主鎖」とは、Ｌ_２と連結する「Ｏ」原子と、「Ｂ」と、を直接連結するために必要な部分を指し、「主鎖の原子の数」とは、上記部分を構成する原子の数のことを指す。なお、「主鎖の原子の数」には、後述する分岐鎖の原子の数は含まない。
また、Ａが存在しない場合には、Ｌ_１における「主鎖の原子の数」とは、分岐鎖を含まないＬ_１の原子の個数のことをいう。Ｂが存在しない場合には、Ｌ_２における「主鎖の原子の数」とは、分岐鎖を含まないＬ_２の原子の個数のことをいう。
具体的には、下記式（Ｄ１）においては、Ｌ_１の主鎖の原子の数は５個（下記式（Ｄ１）の左側の点線枠内の原子の数）であり、Ｌ_２の主鎖の原子の数は５個（下記式（Ｄ１）の右側の点線枠内の原子の数）である。また、下記式（Ｄ１０）においては、Ｌ_１の主鎖の原子の数は７個（下記式（Ｄ１０）の左側の点線枠内の原子の数）であり、Ｌ_２の主鎖の原子の数は５個（下記式（Ｄ１０）の右側の点線枠内の原子の数）である。

Ｌ_１およびＬ_２は、分岐鎖を有していてもよい。
ここで、式（３）においてＡが存在する場合には、Ｌ_１における「分岐鎖」とは、式（３）におけるＬ_１と連結する「Ｏ」原子と、「Ａ」と、を直接連結するために必要な部分以外の部分をいう。同様に、式（３）においてＢが存在する場合には、Ｌ_２における「分岐鎖」とは、式（３）におけるＬ_２と連結する「Ｏ」原子と、「Ｂ」と、を直接連結するために必要な部分以外の部分をいう。
また、式（３）においてＡが存在しない場合には、Ｌ_１における「分岐鎖」とは、式（３）におけるＬ_１と連結する「Ｏ」原子を起点として延びる最長の原子鎖（すなわち主鎖）以外の部分をいう。同様に、式（３）においてＢが存在しない場合には、Ｌ_２における「分岐鎖」とは、式（３）におけるＬ_２と連結する「Ｏ」原子を起点として延びる最長の原子鎖（すなわち主鎖）以外の部分をいう。
分岐鎖の原子の数は、３以下であることが好ましい。分岐鎖の原子の数が３以下であることで、光吸収異方性層の配向度がより向上するなどの利点がある。なお、分岐鎖の原子の数には、水素原子の数は含まれない。

式（３）において、Ａｒ_１は（ｎ１＋２）価（例えば、ｎ１が１である時は３価）、Ａｒ_２は（ｎ２＋２）価（例えば、ｎ２が１である時は３価）、Ａｒ_３は（ｎ３＋２）価（例えば、ｎ３が１である時は３価）、の芳香族炭化水素基または複素環基を表す。ここで、Ａｒ_１～Ａｒ_３はそれぞれ、ｎ１～ｎ３個の置換基（後述するＲ_１～Ｒ_３）で置換された２価の芳香族炭化水素基または２価の複素環基と換言できる。
Ａｒ_１～Ａｒ_３が表す２価の芳香族炭化水素基としては、単環であっても、２環以上の縮環構造を有していてもよい。２価の芳香族炭化水素基の環数は、溶解性がより向上するという観点から、１～４が好ましく、１～２がより好ましく、１（すなわちフェニレン基であること）がさらに好ましい。
２価の芳香族炭化水素基の具体例としては、フェニレン基、アズレン－ジイル基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、アントラセン－ジイル基およびテトラセン－ジイル基などが挙げられ、溶解性がより向上するという観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。
２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基が好ましい。
２価の芳香族複素環基は、単環であってもよいし、２環以上の縮環構造を有していてもよい。芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、チアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。
上記のなかでも、２価の芳香族複素環基としては、単環または下記構造式で表される２環の縮環構造を有する基が好ましい。なお、下記構造式において、「＊」は、一般式（１）におけるアゾ基または酸素原子との結合位置を示す。

式（３）において、Ａｒ_１～Ａｒ_３は、２価の芳香族炭化水素基が好ましく、フェニレン基が好ましい。
ここで、Ａｒ_１がフェニレン基である場合には、Ａｒ_１に結合する酸素原子とアゾ基とが、メタ位またはパラ位に位置することが好ましく、パラ位に位置することがより好ましい。これにより、光吸収異方性層の配向度がより向上する。同様の観点から、Ａｒ_２がフェニレン基である場合には、Ａｒ_２に結合する２つのアゾ基が、メタ位またはパラ位に位置することが好ましく、パラ位に位置することがより好ましい。同様に、Ａｒ_３がフェニレン基である場合には、Ａｒ_３に結合する酸素原子とアゾ基とが、メタ位またはパラ位に位置することが好ましく、パラ位に位置することがより好ましい。

式（３）において、Ａｒ_１、Ａｒ_２およびＡｒ_３が縮環構造である場合には、縮環構造を構成する複数の環がいずれも、式（３）で表される構造の長手方向に沿って連結していることが好ましい。これにより、２色性物質の分子が長手方向と交差する方向（短手方向）に嵩高くなることを抑制できるので、分子の配向性が良好となり、光吸収異方性層の配向度がより向上する。
ここで、式（３）で表される構造の長手方向とは、式（３）で表される構造の延びる方向のことをいい、具体的には、Ａｒ_１、Ａｒ_２およびＡｒ_３に結合するアゾ基の結合手およびエーテル結合（酸素原子）の結合手が延びる方向のことをいう。
縮環構造を構成する複数の環の全てが式（３）で表される構造の長手方向に沿って連結している態様の具体例として、式（Ａｒ－１）で表される縮環構造を以下に示す。すなわち、Ａｒ_１、Ａｒ_２およびＡｒ_３が縮環構造である場合には、以下の式（Ａ－１）で表される縮環構造を有していることが好ましい。

上記式（Ａｒ－１）において、Ａｒ_Ｘ、Ａｒ_ＹおよびＡｒ_Ｚは、それぞれ独立に、ベンゼン環または単環の複素環を表す。ｎは、０以上の整数を表す。＊は、式（３）におけるアゾ基または酸素原子との結合位置を表す。
上記式（Ａｒ－１）における単環の複素環としては、単環の芳香族複素環が好ましい。単環の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。単環の芳香族複素環としては、具体的には、ピリジン環、チオフェン環、チアゾール環およびオキサゾール環などが挙げられる。
また、Ａｒ_Ｘ、Ａｒ_ＹおよびＡｒ_Ｚは、置換基を有していてもよい。このような置換基としては、後述するＲ_１～Ｒ_３における１価の置換基が挙げられる。
ｎは、０以上の整数を表すが、０～２が好ましく、０～１がより好ましく、０がさらに好ましい。

式（３）において、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、それぞれ独立に、１価の置換基を表す。
Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３が表す１価の置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基、フッ化アルキル基、－Ｏ－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｍ－Ｒ’、－Ｏ－（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）ｍ－Ｒ’、アルキルチオ基、オキシカルボニル基、チオアルキル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルフィニル基、または、ウレイド基が好ましい。ここで、Ｒ’は水素原子、メチル基またはエチル基を表し、ｍは１～６の整数を表す。これらの置換基は、さらにこれらの置換基で置換されていてもよい。
なかでも、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３が表す１価の置換基は、２色性物質の溶解性がより向上するという観点から、フッ素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ヒドロキシ基、トリフルオロメチル基、－Ｏ－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｍ－Ｒ’、または、－Ｏ－（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）ｍ－Ｒ’が好ましく、トリフルオロメチル基、メトキシ基、ヒドロキシ基、－Ｏ－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｍ－Ｒ’、または、－Ｏ－（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）ｍ－Ｒ’がより好ましい。
Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３が表す１価の置換基において、主鎖の原子の数は、２色性物質の溶解性および光吸収異方性層の配向性のバランスの観点から、１～１５が好ましく、１～１２がより好ましい。ここで、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３が表す１価の置換基において、「主鎖の原子の数」とは、分岐鎖を含まないＲ_１、Ｒ_２またはＲ_３の原子の個数のことをいう。また、「分岐鎖」とは、式（１）におけるＡｒ_１～Ａｒ_３のいずれかを起点として延びる最長の原子鎖（すなわち主鎖）以外の部分をいう。

上記式（３）がＲ_１、Ｒ_２およびＲ_３から選択される少なくとも１つ以上の置換基を有する場合において、下記条件（Ｒ１）～条件（Ｒ３）から選択される少なくとも１つの条件を満たすことが好ましい。これにより、式（３）で表される化合物の溶解性がより向上する。
条件（Ｒ１）：Ａｒ_１において、少なくとも１つのＲ_１と、アゾ基と、が隣り合う位置にあること
条件（Ｒ２）：Ａｒ_２において、少なくとも１つのＲ_２と、少なくとも１つのアゾ基と、が隣り合う位置にあること
条件（Ｒ３）：Ａｒ_３において、少なくとも１つのＲ_３と、アゾ基と、が隣り合う位置にあること
条件（Ｒ１）の具体例としては、Ａｒ_１がフェニレン基である場合に、Ａｒ_１に結合するアゾ基に対するオルト位にＲ_１が位置する態様が挙げられる。条件（Ｒ２）の具体例としては、Ａｒ_２がフェニレン基である場合に、少なくとも１つのアゾ基に対するオルト位にＲ_２が位置する態様が挙げられる。条件（Ｒ３）の具体例としては、Ａｒ_３がフェニレン基である場合において、Ａｒ_３に結合するアゾ基に対するオルト位にＲ_３が位置する態様が挙げられる。

式（３）において、ｋは１～４の整数を表す。ここで、優れた溶解性を担保しつつ、耐光性にも優れるという観点からはｋが２以上であることが好ましい。一方で、２色性物質の溶解性により優れるという観点からは、ｋが１であることが好ましい。

式（３）において、ｎ１、ｎ２およびｎ３は、それぞれ独立に、０～４の整数を表すが、０～３が好ましい。
ここで、ｋ＝１の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧０である。すなわち、式（３）がビスアゾ構造を有する場合には、置換基（式（３）のＲ_１～Ｒ_３）の有無に関わらず、十分な溶解性が得られるが、溶解性をより向上する観点からは置換基を有していることが好ましい。
ｋ＝１の場合には、ｎ１＋ｎ２＋ｎ３は、０～９が好ましく、１～９がより好ましく、１～５がさらに好ましい。
一方で、ｋ≧２の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧１である。すなわち、式（３）がトリスアゾ構造、テトラキスアゾ構造、またはペンタキスアゾ構造を有する場合には、置換基（式（３）のＲ_１～Ｒ_３）を少なくとも１つ有する。
ｋ≧２の場合には、ｎ１＋ｎ２＋ｎ３は、１～９が好ましく、１～５がより好ましい。

（液晶性化合物）
液晶性組成物が液晶性化合物を含むことで、２色性物質の析出を抑止しながら、２色性物質を高い配向度で配向させることができる。
液晶性化合物は、２色性を示さない液晶性化合物である。
液晶性化合物としては、低分子液晶性化合物および高分子液晶性化合物のいずれも用いることができる。ここで、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。また、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。
低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報に記載されている液晶性化合物が挙げられる。
高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子が挙げられる。また、高分子液晶性化合物は、末端に架橋性基（例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基）を有していてもよい。
液晶性化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
液晶性化合物の含有量は、液晶性組成物中の２色性物質の含有量１００質量部に対して、２５～２０００質量部が好ましく、３３～１０００質量部がより好ましく、５０～５００質量部がさらに好ましい。液晶性化合物の含有量が上記範囲内にあることで、光吸収異方性層の配向度がより向上する。

液晶性化合物としては、式（４）で表される繰り返し単位（本明細書において、「繰り返し単位（４）」ともいう。）を含む高分子液晶性化合物が好ましい。また、繰り返し単位（４）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値と、Ｍ１のｌｏｇＰ値との差が４以上である。

式（４）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。

Ｐ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、具体的には、例えば、下記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である観点から、下記式（Ｐ１－Ａ）で表される基が好ましい。

式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、「＊」は、式（１）におけるＬ１との結合位置を表す。式（Ｐ１－Ａ）において、Ｒ^１は水素原子またはメチル基を表す。式（Ｐ１－Ｄ）において、Ｒ^２はアルキル基を表す。
式（Ｐ１－Ａ）で表される基は、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｂ）で表される基は、エチレングリコールを重合して得られるポリエチレングリコールにおけるエチレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｃ）で表される基は、プロピレングリコールを重合して得られるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１－Ｄ）で表される基は、シラノールの縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。ここで、シラノールは、式Ｓｉ（Ｒ^２）_３（ＯＨ）で表される化合物である。式中、複数のＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。ただし、複数のＲ^２の少なくとも１つはアルキル基を表す。

Ｌ１は、単結合または２価の連結基である。
Ｌ１が表す２価の連結基としては、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^３－、－ＮＲ^３Ｃ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）_２－、および、－ＮＲ^３Ｒ^４－などが挙げられる。式中、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。上記２価の連結基の具体例において、左側の結合手がＰ１と結合し、右側の結合手がＳＰ１と結合する。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ａ）で表される基である場合には、Ｌ１は－Ｃ（Ｏ）Ｏ－で表される基が好ましい。
Ｐ１が式（Ｐ１－Ｂ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基である場合には、Ｌ１は単結合が好ましい。

ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいこと、および、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが好ましい。
ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊－（ＣＨ_２－ＣＨ_２Ｏ）_ｎ１－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１～２０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。ｎ１は、本発明の効果がより優れる理由から、２～１０の整数であることが好ましく、２～４の整数であることがより好ましく、３であることがさらに好ましい。
また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、＊－（ＣＨ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２Ｏ）_ｎ２－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１～３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、＊－（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－Ｏ）_ｎ３－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、＊－（ＣＦ_２－ＣＦ_２）_ｎ４－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。

Ｍ１が表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に限定されず、例えば、「ＦｌｕｓｓｉｇｅＫｒｉｓｔａｌｌｅ ｉｎ Ｔａｂｅｌｌｅｎ ＩＩ」（ＶＥＢ ＤｅｕｔｓｃｈｅＶｅｒｌａｇ ｆｕｒ Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁～第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基からなる群より選択される少なくとも１種の環状構造を有する基が好ましい。
メソゲン基は、本発明の効果がより優れる理由から、芳香族炭化水素基を有するのが好ましく、２～４個の芳香族炭化水素基を有するのがより好ましく、３個の芳香族炭化水素基を有するのがさらに好ましい。

メソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点、ならびに、本発明の効果がより優れるから、下記式（Ｍ１－Ａ）または下記式（Ｍ１－Ｂ）で表される基が好ましく、式（Ｍ１－Ｂ）で表される基がより好ましい。

式（Ｍ１－Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、アルキル基、フッ化アルキル基またはアルコキシ基などの置換基で置換されていてもよい。
Ａ１で表される２価の基は、４～６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。

Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、アントラセン－ジイル基およびテトラセン－ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。

Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、２色性物質の配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基が好ましい。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。

Ａ１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。

式（Ｍ１－Ａ）中、ａ１は１～１０の整数を表す。ａ１が２以上である場合には、複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。

式（Ｍ１－Ｂ）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ２およびＡ３の具体例および好適態様は、式（Ｍ１－Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２は１～１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＡ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、本発明の効果がより優れる理由から、２以上の整数であることが好ましく、２であることがより好ましい。
式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。ａ２が２である場合、本発明の効果がより優れる理由から、２つのＬＡ１のうち、一方が２価の連結基であり、他方が単結合であることが好ましい。

式（Ｍ１－Ｂ）中、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、－Ｏ－、－（ＣＨ_２）_ｇ－、－（ＣＦ_２）_ｇ－、－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_ｇ－、－（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｇ－（ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）_２－Ｃ（Ｚ’）_２－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）－、－Ｎ（Ｚ”）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（Ｚ、Ｚ’、Ｚ”は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、および、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－などが挙げられる。なかでも、本発明の効果がより優れる理由から、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－が好ましい。ＬＡ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。

Ｔ１が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルチオ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基（ＲＯＣ（Ｏ）－：Ｒはアルキル基）、炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアシルアミノ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１～１０のスルホニルアミノ基、炭素数１～１０のスルファモイル基、炭素数１～１０のカルバモイル基、炭素数１～１０のスルフィニル基、炭素数１～１０のウレイド基、および、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基などが挙げられる。上記（メタ）アクリロイルオキシ基含有基としては、例えば、－Ｌ－Ａ（Ｌは単結合または連結基を表す。連結基の具体例は上述したＬ１およびＳＰ１と同じである。Ａは（メタ）アクリロイルオキシ基を表す）で表される基が挙げられる。
Ｔ１は、本発明の効果がより優れる理由から、炭素数１～１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～５のアルコキシがより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０－２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。
Ｔ１の主鎖の原子数は、本発明の効果がより優れる理由から、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、１～７が特に好ましい。Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、光吸収異方性層の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１おける「主鎖」とは、Ｍ１と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ－ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ－ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。

繰り返し単位（４）の含有量は、本発明の効果がより優れる理由から、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、２０～１００質量％が好ましく、３０～９９．９質量％がより好ましく、４０～９９．０質量％がさらに好ましい。
本発明において、高分子液晶性化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。
繰り返し単位（４）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。高分子液晶性化合物が繰り返し単位（４）を２種以上含むと、高分子液晶性化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。繰り返し単位（４）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

繰り返し単位（４）を２種以上含む場合には、Ｔ１に重合性基を含まない繰り返し単位（４）と、Ｔ１に重合性基を含む繰り返し単位（４）と、を併用してもよい。これにより、光吸収異方性層の硬化性がより向上する。
この場合、高分子液晶性化合物中における、Ｔ１に重合性基を含まない繰り返し単位（１）に対する、Ｔ１に重合性基を含む繰り返し単位（４）の割合（Ｔ１に重合性基を含む繰り返し単位（４）／Ｔ１に重合性基を含まない繰り返し単位（４））が、質量比で０．００５～４が好ましく、０．０１～２．４がより好ましい。質量比が４以下であると、配向度に優れるという利点がある。質量比が０．０５以上であると、光吸収異方性層の硬化性がより向上する。

（ｌｏｇＰ値）
式（４）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値（以下、「ｌｏｇＰ_１」ともいう。）と、Ｍ１のｌｏｇＰ値（以下、「ｌｏｇＰ_２」ともいう。）との差（｜ｌｏｇＰ_１－ｌｏｇＰ_２｜）が４以上であり、光吸収異方性層の配向度がより向上する観点から、４．２５以上が好ましく、４．５以上がより好ましい。
また、上記差の上限値は、液晶相転移温度の調整および合成適性という観点から、１５以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下がさらに好ましい。
ここで、ｌｏｇＰ値は、化学構造の親水性および疎水性の性質を表現する指標であり、親疎水パラメータと呼ばれることがある。ｌｏｇＰ値は、ＣｈｅｍＢｉｏＤｒａｗ ＵｌｔｒａまたはＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)などのソフトウェアを用いて計算できる。また、ＯＥＣＤ Ｇｕｉｄｅｌｉｎｅｓ ｆｏｒ ｔｈｅ Ｔｅｓｔｉｎｇ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｓｅｃｔｉｏｎｓ １，Ｔｅｓｔ Ｎｏ．１１７の方法などにより、実験的に求めることもできる。本発明では特に断りのない限り、ＨＳＰｉＰ(Ｖｅｒ．４．１．０７)に化合物の構造式を入力して算出される値をｌｏｇＰ値として採用する。

上記ｌｏｇＰ_１は、上述したように、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値を意味する。「Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値」とは、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１を一体とした構造のｌｏｇＰ値を意味しており、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のそれぞれのｌｏｇＰ値を合計したものではない。具体的には、ｌｏｇＰ_１は、式（４）におけるＰ１～ＳＰ１までの一連の構造式を上記ソフトウェアに入力することで算出される。
ただし、ｌｏｇＰ_１の算出にあたって、Ｐ１～ＳＰ１までの一連の構造式のうち、Ｐ１で表される基の部分に関しては、Ｐ１で表される基そのものの構造（例えば、上述した式（Ｐ１－Ａ）～式（Ｐ１－Ｄ）など）を用いてもよいし、式（４）で表される繰り返し単位を得るために使用する単量体を重合した後にＰ１になりうる基の構造を用いてもよい。
ここで、後者（Ｐ１になりうる基）の具体例は、次の通りである。Ｐ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られる場合には、ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１）－で表される基（Ｒ^１は、水素原子またはメチル基を表す。）である。また、Ｐ１がエチレングリコールの重合によって得られる場合にはエチレングリコールであり、Ｐ１がプロピレングリコールの重合により得られる場合にはプロピレングリコールである。また、Ｐ１がシラノールの重縮合により得られる場合にはシラノール（式Ｓｉ（Ｒ^２）_３（ＯＨ）で表される化合物。複数のＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。ただし、複数のＲ^２の少なくとも１つはアルキル基を表す。）である。

ｌｏｇＰ_１は、上述したｌｏｇＰ_２との差が４以上であれば、ｌｏｇＰ_２よりも低くてもよいし、ｌｏｇＰ_２よりも高くてもよい。
ここで、一般的なメソゲン基のｌｏｇＰ値（上述したｌｏｇＰ_２）は、４～６の範囲内になる傾向がある。このとき、ｌｏｇＰ_１がｌｏｇＰ_２よりも低い場合には、ｌｏｇＰ_１の値は、１以下が好ましく、０以下がより好ましい。一方で、ｌｏｇＰ_１がｌｏｇＰ_２よりも高い場合には、ｌｏｇＰ_１の値は、８以上が好ましく、９以上がより好ましい。
上記式（１）におけるＰ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られ、かつ、ｌｏｇＰ_１がｌｏｇＰ_２よりも低い場合には、上記式（１）におけるＳＰ１のｌｏｇＰ値は、０．７以下が好ましく、０．５以下がより好ましい。一方、上記式（４）におけるＰ１が（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られ、かつ、ｌｏｇＰ_１がｌｏｇＰ_２よりも高い場合には、上記式（４）におけるＳＰ１のｌｏｇＰ値は、３．７以上が好ましく、４．２以上がより好ましい。
なお、ｌｏｇＰ値が１以下の構造としては、例えば、オキシエチレン構造およびオキシプロピレン構造などが挙げられる。ｌｏｇＰ値が６以上の構造としては、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造などが挙げられる。

繰り返し単位（４）を含む高分子液晶性化合物は、さらに、下記式（５）で表される繰り返し単位（本明細書において、「繰り返し単位（５）」ともいう。）を含んでいてもよい。これにより、高分子液晶性化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。
式（５）において、Ｐ２、Ｌ２およびＳＰ２のｌｏｇＰ値と、Ｍ２のｌｏｇＰ値との差が、４未満である。すなわち、繰り返し単位（２）は、少なくとも構造中のｌｏｇＰ値の差の点において、上記繰り返し単位（１）と異なる。
なお、「Ｐ２、Ｌ２およびＳＰ２のｌｏｇＰ値」の定義は、上述したｌｏｇＰ_１と同様であるので、その説明を省略する。
高分子液晶性化合物が繰り返し単位（５）を含む場合には、高分子液晶性化合物は、繰り返し単位（４）と繰り返し単位（５）との共重合体であり、ブロック重合体、交互重合体、ランダム重合体、および、グラフト重合体など、いずれの重合体であってもよい。

式（５）中、Ｐ２は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ２は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ２はスペーサー基を表し、Ｍ２はメソゲン基を表し、Ｔ２は末端基を表す。
式（５）におけるＰ２、Ｌ２、ＳＰ２、Ｍ２およびＴ２の具体例はそれぞれ、上記式（１）におけるＰ１、Ｌ１、ＳＰ１、Ｍ１およびＴ１と同様である。
ここで、式（５）におけるＴ２は、光吸収異方性層の強度が向上する観点から、重合性基を有することが好ましい。

繰り返し単位（５）を含む場合の含有量は、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、０．５～５０質量％が好ましく、１～４０質量％がより好ましい。
繰り返し単位（５）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（５）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
特に、繰り返し単位（５）におけるＴ２が重合性基を有する場合、Ｔ２が重合性基を有する繰り返し単位（５）の含有量は、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、０．５～６０質量％が好ましく、１～４０質量％がより好ましい。Ｔ２が重合性基を有する繰り返し単位（５）の含有量が０．５質量％以上であると、光吸収異方性層の強度がより向上する。Ｔ２が重合性基を有する繰り返し単位（５）の含有量が６０質量％以下であると、配向度により優れるという利点がある。

繰り返し単位（４）を含む高分子液晶性化合物は、さらに、下記式（６）で表される繰り返し単位（本明細書において、「繰り返し単位（６）」ともいう。）を含んでいてもよい。これにより、高分子液晶性化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。
繰り返し単位（６）は、少なくともメソゲン基を有しないという点で、上記繰り返し単位（４）および上記繰り返し単位（５）と異なる。
高分子液晶性化合物が繰り返し単位（６）を含む場合には、高分子液晶性化合物は、繰り返し単位（４）と繰り返し単位（５）との共重合体であり（さらに、繰り返し単位（５）を含む共重合体であってもよい）、ブロック重合体、交互重合体、ランダム重合体、および、グラフト重合体など、いずれの重合体であってもよい。

式（６）中、Ｐ３は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ３は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ３はスペーサー基を表し、Ｔ３は末端基を表す。
式（６）におけるＰ３、Ｌ３、ＳＰ３およびＴ３の具体例はそれぞれ、上記式（４）におけるＰ１、Ｌ１、ＳＰ１およびＴ１と同様である。
ここで、式（６）におけるＴ３は、光吸収異方性層の強度が向上する観点から、重合性基を有することが好ましい。

繰り返し単位（６）を含む場合の含有量は、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、０．５～４０質量％が好ましく、１～３０質量％がより好ましい。
繰り返し単位（６）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（６）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
特に、繰り返し単位（６）におけるＴ３が重合性基を有する場合、Ｔ３が重合性基を有する繰り返し単位（６）の含有量は、高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、０．５～６０質量％が好ましく、１～４０質量％がより好ましい。Ｔ３が重合性基を有する繰り返し単位（６）の含有量が０．５質量％以上であると、光吸収異方性層の強度がより向上する。Ｔ３が重合性基を有する繰り返し単位（６）の含有量が６０質量％以下であると、配向度に優れるという利点がある。

液晶性組成物は、上述した成分以外に、溶媒、界面改良剤、および、重合開始剤などを含んでいてもよい。

光吸収異方性層の膜厚は特に限定されず、０．１～５．０μｍが好ましく、０．３～１．５μｍがより好ましい。液晶性組成物中の２色性物質の濃度によるが、膜厚が０．１μｍ以上であると、優れた吸光度の光吸収異方性層が得られ、膜厚が５．０μｍ以下であると、優れた透過率の光吸収異方性層が得られる。

光吸収異方性層の製造方法の一例としては、上記液晶性組成物を第１配向膜上に塗布して塗膜を形成する工程（以下、「塗膜形成工程」ともいう。）と、塗膜に含まれる２色性物質を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。

塗膜形成工程は、上記液晶性組成物を第１配向膜上に塗布して塗膜を形成する工程である。
上述した溶媒を含む液晶性組成物を用いたり、液晶性組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、第１配向膜上に液晶性組成物を塗布することが容易になる。
液晶性組成物の塗布方法としては、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。

配向工程は、塗膜に含まれる２色性物質を配向させる工程である。これにより、光吸収異方性層が得られる。以下の例では、２色性物質が液晶性を有する場合を例にして説明する。なお、液晶性化合物は、２色性物質と同様に配向する。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗膜から除去できる。乾燥処理は、塗膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、液晶性組成物に含まれる２色性物質および液晶性化合物は、上述した塗膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、液晶性組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗膜を乾燥して、塗膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗膜（すなわち、光吸収異方性層）が得られる。
乾燥処理が塗膜に含まれる２色性物質の液晶相への転移温度以上の温度により行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。

塗膜に含まれる２色性物質の液晶相への転移温度は、製造適性の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。

配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗膜に含まれる２色性物質を配向させることができるため、加熱処理後の塗膜を光吸収異方性層として好適に使用できる。
加熱処理は、製造適性の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。

配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗膜を室温（２０～２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗膜に含まれる２色性物質の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、光吸収異方性層を得ることができる。
なお、本態様では、塗膜に含まれる２色性物質を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。

光吸収異方性層の製造方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性層を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。これにより、耐久性により優れた光吸収異方性層が得られる。
硬化工程は、例えば、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
露光が加熱しながら行われる場合、露光時の加熱温度は、光吸収異方性層に含まれる２色性物質の液晶相への転移温度にもよるが、２５～１４０℃であることが好ましい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって光吸収異方性層の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。

（第２剥離性支持体）
第２剥離性支持体は、その表面上に後述する第２配向膜および光学異方性層Ａを支持する部材であり、第２配向膜表面と剥離可能に密着する。
第２剥離性支持体としては、第１剥離性支持体で例示した構成が挙げられ、その好適範囲は同じである。

（第２配向膜）
第２配向膜は、第２剥離性支持体上に配置される層であり、光学異方性層中の液晶性化合物の配向方向を制御する層である。第２配向膜は、光学異方性層と共に、第２剥離性支持体から分離される。
第２配向膜としては、第１配向膜で例示した態様が挙げられ、その好適範囲は同じである。

（光学異方性層Ａ）
光学異方性層Ａは、第２配向膜上に配置される層である。
光学異方性層Ａは、この層を通過した光に位相差を生じさせる層である。

光学異方性層Ａの面内レタデーションの値は特に限定されず、光学異方性層Ａはいわゆるλ／４板であることが好ましい。
λ／４板（λ／４機能を有する板）とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する光学異方性層である。より具体的には、所定の波長λｎｍにおける面内レタデーションがλ／４（または、この奇数倍）を示す層である。
なかでも、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）は、１００～２００ｎｍが好ましく、１２０～１６０ｎｍがより好ましい。

光学異方性層Ａは、単層構造であっても、多層構造であってもよい。
光学異方性層Ａが多層構造である場合、例えば、λ／４板とλ／２板とを含む複層型の光学異方性層が挙げられる。

光学異方性層Ａは、順波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて小さくなる特性。）および逆波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて大きくなる特性。）のいずれかの性質を示し、逆波長分散性を示すことが好ましい。

光学異方性層Ａは、重合性液晶性化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて形成される層であることが好ましい。より具体的には、光学異方性層形成用組成物を塗布して形成される塗膜中の重合性液晶性化合物を配向させて、その状態を固定することにより形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。

重合性液晶性化合物とは、重合性基を有する液晶性化合物である。
重合性基の種類は特に限定されず、ラジカル重合またはカチオン重合が可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
カチオン重合性基としては、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基などが挙げられる。

液晶性化合物の種類は特に限定されず、その形状から、棒状タイプ（棒状液晶性化合物）と円盤状タイプ（円盤状液晶性化合物。ディスコティック液晶性化合物）とに分類できる。さらにそれぞれ低分子タイプと高分子タイプとがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。なお、２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、または、棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。

光学異方性層形成用組成物における重合性液晶性化合物の含有量は特に限定されず、光学異方性層形成用組成物中の全固形分に対して、７５質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましい。上限値は特に限定されず、１００質量％が挙げられる。
なお、上記全固形分とは、光学異方性層を形成する成分を意図し、溶媒は含まれない。

光学異方性層形成用組成物には、上記重合性液晶性化合物以外の他の成分が含まれていてもよい。
光学異方性層形成用組成物には、重合開始剤が含まれていてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、および、光重合開始剤が挙げられる。

光学異方性層形成用組成物には、重合性モノマーが含まれていてもよい。重合性モノマーとしては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられる。
光学異方性層形成用組成物には、塗工の均一性の点から、界面活性剤が含まれていてもよい。界面活性剤としては、フッ素系化合物が好ましい。
光学異方性層形成用組成物には溶媒が含まれていてもよく、溶媒としては有機溶媒が好ましい。

さらに、光学異方性層形成用組成物には、上記成分以外に、密着改良剤、可塑剤、および、ポリマーなどが含まれていてもよい。

光学異方性層Ａを形成する具体的な手順の一態様としては、第２配向膜上に光学異方性層形成用組成物を塗布して、第２配向膜上に塗膜を形成して、塗膜中の重合性液晶性化合物を配向させた後、塗膜に対して硬化処理を施して光学異方性層Ａを形成する方法が挙げられる。
第２配向膜上に光学異方性層形成用組成物を塗布する方法としては、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、および、ダイコーティング法などが挙げられる。
光学異方性層形成用組成物を第２配向膜上に塗布後、必要に応じて、光学異方性層形成用組成物が塗布された支持体に対して乾燥処理を施して、溶媒の除去を実施してもよい。

塗膜中の重合性液晶性化合物を配向させる方法（配向処理）は特に限定されず、例えば、塗膜を加熱する方法、および、室温により塗膜を乾燥させる方法が挙げられる。配向処理で形成される液晶相は、サーモトロピック性液晶性化合物の場合、一般に温度の変化により転移させることができる。リオトロピック性液晶性化合物の場合には、溶媒量などの組成比によっても転移させることができる。
なお、塗膜を加熱する場合の条件は特に限定されず、加熱温度としては５０～１５０℃が好ましく、加熱時間としては１０秒間～５分間が好ましい。

次に、重合性液晶性化合物が配向している塗膜に対して硬化処理を施して、光学異方性層を形成する。
硬化処理の方法は特に限定されず、光照射処理および加熱処理が挙げられ、光照射よりが好ましい。露光の際の光の種類は特に限定されず、紫外光が好ましい。

第１光学積層体には、上述した、第１剥離性支持体、第１配向膜、および、光吸収異方性層以外の他の層が含まれていてもよい。
例えば、光吸収異方性層の第１配向膜とは反対側の表面側には、保護層がさらに配置されていてもよい。
また、第１剥離性支持体と第１配向膜との間には、中間層が配置されていてもよい。中間層が配置される場合は、第１剥離性支持体と中間層との間で剥離が生じる。

中間層の材料は、例えば、特開平８－３３８９１３号公報明細書中の［００２２］段落記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ－メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、および、ポリカーボネートなどが挙げられる。なお、シランカップリング剤も用いることができる。
なかでも、水溶性ポリマー（例えば、ポリ（Ｎ－メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールがより好ましく、変性ポリビニルアルコールがさらに好ましい。
ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０～１００％が好ましく、８０～１００％がより好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は１００～５０００が好ましい。

中間層は、架橋剤を用いて架橋されていてもよい。
架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ－メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール、および、ジアルデヒド澱粉が挙げられる。
架橋剤の具体例としては、例えば、特開２００２－０６２４２６号公報明細書中の［００２３］段落～［００２４］段落記載の化合物が挙げられる。
架橋剤としては、反応活性の高い点から、アルデヒドが好ましく、グルタルアルデヒドがより好ましい。
架橋剤は、２種以上を併用してもよい。
架橋剤の添加量は、ポリマーに対して、０．１～２０質量％が好ましく、０．５～１５質量％がより好ましい。中間層に残存する未反応の架橋剤の含有量は、中間層全質量に対して、１．０質量％以下が好ましく、０．５質量％以下がより好ましい。

中間層の形成方法としては、形成材料である上記ポリマー、架橋剤、および、必要に応じて添加される添加剤を含む溶液を基材（例えば、第１剥離性支持体）上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）する方法が挙げられる。
架橋反応は、溶液を塗布した後、任意の時期に行なってよい。
ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを用いる場合、溶媒としては消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール）と水との混合溶媒が好ましい。水とメタノールとの混合質量比率（水：メタノール）は、０：１００～９９：１が好ましく、０：１００～９１：９がより好ましい。上記混合質量比率であれば、泡の発生がより抑えられ、中間層、さらには、光吸収異方性層および光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。

上記溶液の塗布方法としては、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法、または、ロールコーティング法が好ましく、ロッドコーティング法がより好ましい。
加熱乾燥の温度は、２０～１１０℃が好ましく。充分な架橋を形成する点で、６０～１００℃がより好ましく、８０～１００℃がさらに好ましい。
加熱乾燥の時間は、１分間～３６時間が好ましく、１～３０分間がより好ましい。
溶液のｐＨは、使用する架橋剤に応じて最適な値が選択され、例えば、グルタルアルデヒドを使用した場合は、４．５～５．５が好ましい。

第２光学積層体には、上述した、第２剥離性支持体と、第２配向膜と、光学異方性層Ａ以外の他の層が含まれていてもよい。
例えば、光学異方性層Ａの第２配向膜とは反対側の表面側には、保護層がさらに配置されていてもよい。
また、第２剥離性支持体と第２配向膜との間には、中間層が配置されていてもよい。中間層が配置される場合は、第２剥離性支持体と中間層との間で剥離が生じる。

（工程の手順）
本工程では、第１光学積層体の光吸収異方性層側の表面と、第２光学積層体の光学異方性層Ａ側の表面とが対向するように、第１光学積層体と第２光学積層体とを積層し、第１剥離性支持体を剥離して積層体Ｘを得る。
本工程においては、第１光学積層体と第２光学積層体とを積層させた直後に、第１剥離性支持体を剥離してもよいし、第１光学積層体と第２光学積層体とを積層させた後、所定時間経過後、積層体から第１剥離性支持体を剥離してもよい。なお、第１光学積層体と第２光学積層体とを積層させた直後に、第１剥離性支持体を剥離する方法としては、例えば、第１光学積層体と第２光学積層体とをローラー間に通して両者を積層した後、ローラーから積層体が出た直後に第１剥離性支持体を剥離する方法が挙げられる。

第１光学積層体と第２光学積層体とを積層する方法は特に限定されず、公知の方法が挙げられる。例えば、加熱および／または加圧したローラーまたは平板で圧着または加熱圧着して、両者を貼り付ける方法が挙げられる。
また、第１光学積層体と第２光学積層体とを積層する（貼り合せる）際には、必要に応じて、密着層（貼合層）を介して積層してもよい。
密着層を形成する成分としては、粘着剤であっても、接着剤であってもよい。つまり、密着層は、粘着剤を用いて形成される層（粘着剤層）でも、接着剤を用いて形成される層（接着剤層）でもよい。

第１光学積層体と第２光学積層体とを積層する際、第１光学積層体中の光吸収異方性層の偏光軸（吸収軸と直交する軸）と光学異方性層中の遅相軸とのなす角度が、４５°±１０°であることが好ましい。

また、第１剥離性支持体を剥離する方法は特に限定されず、公知の方法が挙げられる。例えば、第１剥離性支持体と第１配向膜との間につめを差し込んで剥離のきっかけを与え、第１剥離性支持体を第１配向膜から遠ざかるように移動させながら、両者を分離する方法が挙げられる。

なお、第１実施形態においては、第１剥離性支持体の剥離力が、後述する第２剥離性支持体の剥離力よりも小さい。第１剥離性支持体の剥離力が、第２剥離性支持体の剥離力よりも大きい場合、第１剥離性支持体の剥離の際に、第２剥離性支持体の剥離が生じるおそれがあり、所定の光学積層体が得られない。
なお、第１剥離性支持体の剥離力とは、第１剥離性支持体と、第１剥離性支持体が隣接する層との間の剥離力（剥離強度）であり、その大きさが小さいほど第１剥離性支持体が剥離しやすいことを表す。なお、第１剥離性支持体が隣接する層としては、例えば、図１に示す形態においては、第１配向膜が該当する。
第１剥離性支持体の剥離力の測定方法としては、第１光学積層体を１５０ｍｍ×２５ｍｍに裁断し、得られた試料の光吸収異方性層側をガラス基板に８０ｍｍ×２５ｍｍ部分のみ貼合し、２５℃環境下にて、速度３００ｍｍ／分で第１剥離性支持体を９０°方向に剥離したときの剥離力をテンシロン万能材料試験機（オリエンテック社製）にて測定する。

第１剥離性支持体の剥離力は特に制限されないが、０．０５～０．５０Ｎ／２５ｍｍの場合が多く、なかでも、０．１０～０．５０Ｎ／２５ｍｍが好ましく、０．２０～０．５０Ｎ／２５ｍｍがより好ましい。
第１剥離性支持体の剥離力が０．５０Ｎ／２５ｍｍ以下であると、ロールツーロール方式によって第１剥離性支持体を剥離する際に、試料の破断が生じにくく、かつ、装置への負荷がかかりにくく、ラインが停止するなどの製造故障が発生しづらい。また、第１剥離性支持体の剥離力が０．１０Ｎ／２５ｍｍ以上であると、長尺状の試料の搬送途中で第１剥離性支持体の剥離が生じにくく、取り扱い性に優れる。

なお、第１実施形態においては、第１剥離性支持体の剥離力は、第１光学積層体と第２光学積層体との積層体における第１剥離性支持体と第１配向膜との間以外の各層間の剥離力よりも小さいことが好ましい。

上記手順によって、第１配向膜、光吸収異方性層、光学異方性層、第２配向膜、および、第２剥離性支持体をこの順に有する積層体Ｘが得られる。

＜工程１－２＞
工程１－２は、積層体Ｘの第１配向膜側の表面に表面フィルムを積層し、第２剥離性支持体を剥離して、表面フィルム、光吸収異方性層、および、光学異方性層Ａを有する光学積層体を得る工程である。
より具体的には、本工程においては、図３に示すように、第１配向膜１４、光吸収異方性層１６、光学異方性層Ａ２２、第２配向膜２４、および、第２剥離性支持体２６をこの順に有する積層体Ｘ３０と、ハードコート層４２および基材４４をこの順に有する表面フィルム４０とを用意する。次に、図４に示すように、積層体Ｘ３０の第１配向膜１４側の表面と、表面フィルム４０の基材４４側の表面とが対向するように、積層体Ｘ３０と表面フィルム４０とを積層し、第２剥離性支持体２６を剥離して、ハードコート層４２、基材４４、第１配向膜１４、光吸収異方性層１６、光学異方性層Ａ２２、および、第２配向膜２４をこの順に有する光学積層体５０を得る。
なお、図３および図４においては、表面フィルム４０がハードコート層４２および基材４４を有する形態について述べるが、後述するように表面フィルム４０はこの形態に限定されない。
以下では、まず、本工程で用いられる各部材について詳述し、その後、工程の手順について詳述する。

（表面フィルム）
表面フィルムは、第１配向膜上に配置される層であり、通常、得られる光学積層体中の最も外側に配置される。
上述したように、図３および４においては、表面フィルムがハードコート層および基材を有する態様について述べる。

基材を構成する材料としては、（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、グルタル酸無水物系樹脂、グルタルイミド系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂およびこれらから選ばれた複数種の樹脂の混合樹脂が挙げられ、なかでも、環状ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、または、ポリエステル系樹脂が好ましい。
基材は、紫外線吸収剤を含んでいてもよい。

（メタ）アクリル系樹脂は、メタクリル系樹脂、アクリル系樹脂の他に、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体も含み、ラクトン環を有する重合体、無水コハク酸環を有する無水マレイン酸系重合体、無水グルタル酸環を有する重合体、グルタルイミド環含有重合体を含む。

ハードコート層は、光学積層体に硬度または耐傷性を付与するための層である。ハードコート層は、例えば、ハードコート層形成用組成物を基材上に塗布し、硬化させることによって形成できる。
また、他の機能を付加することを目的として、ハードコート層上に、他の機能層を積層してもよい。また、ハードコート層にフィラーまたは添加剤を加えることで、機械的、電気的、または、光学的な物理的な性能、および、撥水・撥油性などの化学的な性能をハードコート層自体に付与できる。
ハードコート層は、耐擦傷性に優れるのが好ましい。具体的には、耐擦傷性の指標となる鉛筆硬度試験を実施した場合に、３Ｈ以上を達成するのが好ましい。
ハードコート層の厚みは、０．１～６μｍが好ましく、３～６μｍがより好ましい。

ハードコート層は、硬化性組成物を硬化することで形成するのが好ましい。硬化性組成物は、液状の塗布組成物として調製されるのが好ましい。硬化性組成物の一例は、マトリックス形成バインダー用モノマー、オリゴマー、または、ポリマーと、有機溶媒とを含む。

得られる光学積層体のＫｎｏｏｐ硬度は、２３５Ｎ／ｍｍ^２以上が好ましく、２７０Ｎ／ｍｍ^２以上がより好ましく、２７０～３３０Ｎ／ｍｍ^２がさらに好ましい。

上述したように、本発明において表面フィルムは基材とハードコート層とを有する態様に限定されず、例えば、基材のみであってもよい、ハードコート層のみであってもよい。

（工程の手順）
本工程では、積層体Ｘの第１配向膜側の表面に表面フィルムを積層し、第２剥離性支持体を剥離して、表面フィルム、光吸収異方性層、および、光学異方性層Ａを有する光学積層体を得る。
本工程においては、積層体Ｘと表面フィルムとを積層させた直後に、第２剥離性支持体を剥離してもよいし、積層体Ｘと表面フィルムとを積層させた後、所定時間経過後、得られた積層体から第２剥離性支持体を剥離してもよい。なお、積層体Ｘと表面フィルムとを積層させた直後に、第２剥離性支持体を剥離する方法としては、例えば、積層体Ｘと表面フィルムとをローラー間に通して両者を積層した後、ローラーから積層体が出た直後に第２剥離性支持体を剥離する方法が挙げられる。

積層体Ｘと表面フィルムとを積層する方法は特に限定されず、公知の方法が挙げられる。例えば、加熱および／または加圧したローラーまたは平板で圧着または加熱圧着して、両者を貼り付ける方法が挙げられる。
また、積層体Ｘと表面フィルムとを積層する（貼り合せる）際には、必要に応じて、密着層（貼合層）を介して積層してもよい。
密着層を形成する成分としては、粘着剤であっても、接着剤であってもよい。つまり、密着層は、粘着剤を用いて形成される層（粘着剤層）でも、接着剤を用いて形成される層（接着剤層）でもよい。

また、第２剥離性支持体を剥離する方法は特に限定されず、公知の方法が挙げられる。例えば、第２剥離性支持体と第２配向膜との間につめを差し込んで剥離のきっかけを与え、第２剥離性支持体を第２配向膜から遠ざかるように移動させながら、両者を分離する方法が挙げられる。
第２剥離性支持体の剥離力の測定方法としては、第２光学積層体を１５０ｍｍ×２５ｍｍに裁断し、得られた試料の光学異方性層Ａ側をガラス基板に８０ｍｍ×２５ｍｍ部分のみ貼合し、２５℃環境下にて、速度３００ｍｍ／分で第２剥離性支持体を９０°方向に剥離したときの剥離力をテンシロン万能材料試験機（オリエンテック社製）にて測定する。

第２剥離性支持体の剥離力は特に制限されないが、０．１０～４．００Ｎ／２５ｍｍの場合が多く、なかでも、０．１０～０．５０Ｎ／２５ｍｍが好ましく、０．２０～０．５０Ｎ／２５ｍｍがより好ましい。
第２剥離性支持体の剥離力が０．５０Ｎ／２５ｍｍ以下であると、ロールツーロール方式によって第２剥離性支持体を剥離する際に、試料の破断が生じにくく、かつ、装置への負荷がかかりにくく、ラインが停止するなどの製造故障が発生しづらい。また、第２剥離性支持体の剥離力が０．１０Ｎ／２５ｍｍ以上であると、長尺状の試料の搬送途中で第２剥離性支持体の剥離が生じにくく、取り扱い性に優れる。

なお、第１実施形態においては、第２剥離性支持体の剥離力は、積層体Ｘと表面フィルムとの積層体における第２剥離性支持体と第２配向膜との間以外の各層間の剥離力よりも小さいことが好ましい。

なお、工程１－１および工程１－２は、いわゆるロールツーロール方式にて、各種光学積層体の積層、および、剥離性支持体の剥離を実施してもよい。

上記手順によって、表面フィルム、光吸収異方性層、および、光学異方性層Ａをこの順に有する光学積層体が得られる。
光学異方性層Ａがλ／４板である場合、得られる光学積層体はいわゆる円偏光板として機能し得る。
なお、光学積層体は、表面フィルム、光吸収異方性層、および、光学異方性層Ａ以外の層を有していてもよい。例えば、光学積層体は、光学異方性層Ａの光吸収異方性層側とは反対側の表面側に密着層を有していてもよい。後述するように、この密着層を介して、光学積層体を表示素子上に固定できる。

上述した光学積層体は、表示素子上に配置されて、外光反射の防止機能を表示素子に付与できる。特に、上述したように、光学異方性層Ａがλ／４板である場合、その効果に優れる。
具体的には、図５に示すように、表示装置６０は、光学積層体５０と、表示素子６２とを含む。表示装置６０は、ハードコート層４２側から観察者が視認する。
以下では、主に、表示素子６２について詳述する。

表示素子の種類は特に限定されず、例えば、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示素子、および、液晶表示素子などの画像表示素子が挙げられ、有機ＥＬ表示素子が好適に用いられる。
有機ＥＬ表示素子の構成は特に限定されず、通常、有機発光層と、有機発光層を挟持する一対の電極とを少なくとも含む。

表示装置の製造方法は特に限定されず、密着層を介して、光学積層体および表示素子を積層する方法が挙げられる。

＜＜第２実施形態＞＞
以下、本発明の光学積層体の製造方法の第２実施形態について図面を用いて説明する。
本発明の光学積層体の製造方法の第２実施形態は、後述する工程２－１～工程２－３を有する。
以下、各工程について詳述する。

＜工程２－１＞
工程２－１は、第２剥離性支持体と、第２配向膜と、光学異方性層Ａとをこの順に有する第２光学積層体の光学異方性層Ａ側の表面と、第３剥離性支持体と、光学異方性層Ｂとをこの順に有する第３光学積層体の光学異方性層Ｂ側の表面とが対向するように、第２光学積層体と第３光学積層体とを積層し、第２剥離性支持体を剥離して積層体Ｙを得る工程である。
より具体的には、本工程においては、図６に示すように、第２剥離性支持体２６と、第２配向膜２４と、光学異方性層Ａ２２とをこの順に有する第２光学積層体２０、および、光学異方性層Ｂ７２と第３剥離性支持体７４とをこの順に有する第３光学積層体７０を用意する。次に、図７に示すように、第２光学積層体２０の光学異方性層Ａ２２側の表面と、第３光学積層体７０の光学異方性層Ｂ７２側の表面とが対向するように、第２光学積層体２０と第３光学積層体７０とを積層し、第２剥離性支持体２６を剥離して積層体Ｙ８０を得る。
以下では、まず、本工程で用いられる各部材について詳述し、その後、工程の手順について詳述する。
なお、第２光学積層体を構成する各部材に関しては、第１実施形態で説明した通りであり、その説明を省略する。

（第３剥離性支持体）
第３剥離性支持体は、その表面上に後述する光学異方性層Ｂを支持する部材であり、第２配向膜表面と剥離可能に密着する。
第３剥離性支持体としては、第１剥離性支持体で例示した構成が挙げられ、その好適範囲は同じである。

（光学異方性層Ｂ）
光学異方性層Ｂは、第３剥離性支持体上に配置される層である。
光学異方性層Ｂは、この層を通過した光に位相差を生じさせる層である。

光学異方性層Ｂの面内レタデーションの値は特に限定されず、光学異方性層Ｂはλ／４板またはλ／２板であってもよい。
なかでも、光学異方性層Ｂとしては、ポジティブＣプレートであることが好ましい。
なお、光学異方性層ＢがポジティブＣプレートである場合、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは、０～５ｎｍが好ましい。
また、光学異方性層Ｂの厚み方向のレタデーションの値は特に限定されず、光学異方性層ＢがＣプレートである場合、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションは、－３００～０ｎｍが好ましく、－２００～－６０ｎｍがより好ましい。

Ｃプレートは、ポジティブＣプレート（正のＣプレート）とネガティブＣプレート（負のＣプレート）との２種があり、ポジティブＣプレートは式（Ｃ１）の関係を満たすものであり、ネガティブＣプレートは式（Ｃ２）の関係を満たすものである。なお、ポジティブＣプレートはＲｔｈが負の値を示し、ネガティブＣプレートはＲｔｈが正の値を示す。
式（Ｃ１） ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ
式（Ｃ２） ｎｚ＜ｎｘ≒ｎｙ
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ（ただし、ｄはフィルムの厚みである）が、０～１０ｎｍ、好ましくは０～５ｎｍの場合も「ｎｘ≒ｎｙ」に含まれる。

光学異方性層Ｂは、単層構造であっても、多層構造であってもよい。

光学異方性層Ｂは、重合性液晶性化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて形成される層であることが好ましい。より具体的には、光学異方性層形成用組成物を塗布して形成される塗膜中の重合性液晶性化合物を配向させて、その状態を固定することにより形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
光学異方性層形成用組成物に含まれ得る各成分（重合性液晶性化合物、重合開始剤など）としては、光学異方性層Ａの形成に使用される光学異方性層形成用組成物に含まれ得る成分と同じであり、その好適態様も同じである。
また、光学異方性層Ｂの製造方法は、光学異方性層Ａの製造方法と同様の手順が挙げられる。

第３光学積層体には、上述した、第３剥離性支持体、および、光学異方性層Ｂ以外の他の層が含まれていてもよい。
例えば、第３剥離性支持体と光学異方性層Ｂとの間には、第３配向膜が含まれていてもよい。第３配向膜としては、第１配向膜で例示した態様が挙げられ、その好適範囲は同じである。
また、例えば、光学異方性層Ｂの第３剥離性支持体とは反対側の表面側には、保護層がさらに配置されていてもよい。

（工程の手順）
本工程では、第２光学積層体の光学異方性層Ａ側の表面と、第３光学積層体の光学異方性層Ｂ側の表面とが対向するように、第２光学積層体と第３光学積層体とを積層し、第２剥離性支持体を剥離して積層体Ｙを得る。
本工程においては、第２光学積層体と第３光学積層体とを積層させた直後に、第２剥離性支持体を剥離してもよいし、第２光学積層体と第３光学積層体とを積層させた後、所定時間経過後に、得られた積層体から第２剥離性支持体を剥離してもよい。なお、第２光学積層体と第３光学積層体とを積層させた直後に、第２剥離性支持体を剥離する方法としては、例えば、第２光学積層体と第３光学積層体とをローラー間に通して両者を積層した後、ローラーから積層体が出た直後に第２剥離性支持体を剥離する方法が挙げられる。

第２光学積層体と第３光学積層体とを積層する方法は特に限定されず、公知の方法が挙げられる。例えば、加熱および／または加圧したローラーまたは平板で圧着または加熱圧着して、両者を貼り付ける方法が挙げられる。
また、第２光学積層体と第３光学積層体とを積層する（貼り合せる）際には、必要に応じて、密着層（貼合層）を介して積層してもよい。
密着層を形成する成分としては、粘着剤であっても、接着剤であってもよい。つまり、密着層は、粘着剤を用いて形成される層（粘着剤層）でも、接着剤を用いて形成される層（接着剤層）でもよい。

また、第２剥離性支持体を剥離する方法は特に限定されず、公知の方法が挙げられる。例えば、第２剥離性支持体と第２配向膜との間につめを差し込んで剥離のきっかけを与え、第２剥離性支持体を第２配向膜から遠ざかるように移動させながら、両者を分離する方法が挙げられる。

なお、本第２実施形態において、第２剥離性支持体の剥離力が、後述する第３剥離性支持体の剥離力よりも小さい。第２剥離性支持体の剥離力が、第３剥離性支持体の剥離力よりも大きい場合、第２剥離性支持体の剥離の際に、第３剥離性支持体の剥離が生じるおそれがあり、所定の光学積層体が得られない。
なお、第２剥離性支持体の剥離力とは、第２剥離性支持体と、第２剥離性支持体が隣接する層との間の剥離力（剥離強度）であり、その大きさが小さいほど第２剥離性支持体が剥離しやすいことを表す。なお、第２剥離性支持体が隣接する層としては、例えば、図６に示す形態においては、第２配向膜が該当する。
第２剥離性支持体の剥離力の測定方法は、上述した通りである。
また、第２剥離性支持体の剥離力の範囲は、第１実施形態で述べた範囲が好ましい。

なお、第２実施形態においては、第２剥離性支持体の剥離力は、第２光学積層体と第３光学積層体との積層体中における第２剥離性支持体と第２配向膜との間以外の各層間の剥離力よりも小さいことが好ましい。

上記手順によって、第２配向膜、光学異方性層Ａ、光学積層体Ｂ、および、第３剥離性支持体をこの順に有する積層体Ｙが得られる。

＜工程２－２＞
工程２－２は、積層体Ｙの第２配向膜側の表面と、第１剥離性支持体と、第１配向膜と、光吸収異方性層とをこの順に有する第１光学積層体の光吸収異方性層側の表面とが対向するように、積層体Ｙと第１光学積層体とを積層し、第１剥離性支持体を剥離して積層体Ｚを得る工程である。
より具体的には、本工程においては、図８に示すように、第１剥離性支持体１２と、第１配向膜１４と、光吸収異方性層１６とをこの順に有する第１光学積層体１０、および、第２配向膜２４と、光学異方性層Ａ２２と、光学異方性層Ｂ７２と、第３剥離性支持体７４とをこの順に有する積層体Ｙ８０を用意する。次に、図９に示すように、第１光学積層体１０の光吸収異方性層１６側の表面と、積層体Ｙ８０の第２配向膜２４側の表面とが対向するように、第１光学積層体１０と積層体Ｙ８０とを積層し、第１剥離性支持体１２を剥離して積層体Ｙ９０を得る。
本工程で用いられる第１光学積層体を構成する各部材に関しては、第１実施形態で説明した通りであり、その説明を省略する。

（工程の手順）
本工程では、積層体Ｙの第２配向膜側の表面と、第１光学積層体の光吸収異方性層側の表面とが対向するように、積層体Ｙと第１光学積層体とを積層し、第１剥離性支持体を剥離して積層体Ｚを得る。
本工程においては、積層体Ｙと第１光学積層体とを積層させた直後に、第１剥離性支持体を剥離してもよいし、積層体Ｙと第１光学積層体とを積層させた後、所定時間経過後に、得られた積層体から第１剥離性支持体を剥離してもよい。なお、積層体Ｙと第１光学積層体とを積層させた直後に、第１剥離性支持体を剥離する方法としては、例えば、積層体Ｙと第１光学積層体とをローラー間に通して両者を積層した後、ローラーから積層体が出た直後に第１剥離性支持体を剥離する方法が挙げられる。

積層体Ｙと第１光学積層体とを積層する方法は特に限定されず、公知の方法が挙げられる。例えば、加熱および／または加圧したローラーまたは平板で圧着または加熱圧着して、両者を貼り付ける方法が挙げられる。
また、積層体Ｙと第１光学積層体とを積層する（貼り合せる）際には、必要に応じて、密着層（貼合層）を介して積層してもよい。
密着層を形成する成分としては、粘着剤であっても、接着剤であってもよい。つまり、密着層は、粘着剤を用いて形成される層（粘着剤層）でも、接着剤を用いて形成される層（接着剤層）でもよい。

また、第１剥離性支持体を剥離する方法は特に限定されず、公知の方法が挙げられる。例えば、第１剥離性支持体と第１配向膜との間につめを差し込んで剥離のきっかけを与え、第１剥離性支持体を第１配向膜から遠ざかるように移動させながら、両者を分離する方法が挙げられる。
なお、本第２実施形態において、第１剥離性支持体の剥離力が、後述する第３剥離性支持体の剥離力よりも小さい。第１剥離性支持体の剥離力が、第３剥離性支持体の剥離力よりも大きい場合、第１剥離性支持体の剥離の際に、第３剥離性支持体の剥離が生じるおそれがあり、所定の光学積層体が得られない。
なお、第１剥離性支持体の剥離力とは、第１剥離性支持体と、第１剥離性支持体が隣接する層との間の剥離力（剥離強度）であり、その大きさが小さいほど第１剥離性支持体が剥離しやすいことを表す。なお、第２剥離性支持体が隣接する層としては、例えば、図８に示す形態においては、第１配向膜が該当する。
第１剥離性支持体の剥離力の測定方法は、上述した通りである。
また、第１剥離性支持体の剥離力の範囲は、第１実施形態で述べた範囲が好ましい。

なお、第２実施形態においては、第１剥離性支持体の剥離力は、積層体Ｙと第１光学積層体との積層体中における第１剥離性支持体と第１配向膜との間以外の各層間の剥離力よりも小さいことが好ましい。

上記手順によって、第１配向膜、光吸収異方性層、第２配向膜、光学異方性層Ａ、光学積層体Ｂ、および、第３剥離性支持体をこの順に有する積層体Ｚが得られる。

＜工程２－３＞
工程２－３は、積層体Ｚの第１配向膜側の表面に表面フィルムを積層し、第３剥離性支持体を剥離して、表面フィルム、光吸収異方性層、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂを有する光学積層体を得る工程である。
より具体的には、本工程においては、図１０に示すように、第１配向膜１４、光吸収異方性層１６、第２配向膜２４，光学異方性層Ａ２２、光学異方性層Ｂ７２、および、第３剥離性支持体７４をこの順に有する積層体Ｚ９０と、ハードコート層４２および基材４４をこの順に有する表面フィルム４０とを用意する。次に、図１１に示すように、積層体Ｙ９０の第１配向膜１４側の表面と、表面フィルム４０の基材４４側の表面とが対向するように、積層体Ｙ９０と表面フィルム４０とを積層し、第３剥離性支持体７４を剥離して、ハードコート層４２、基材４４、第１配向膜１４、光吸収異方性層１６、第２配向膜２４、光学異方性層Ａ２２、および、光学異方性層Ｂ７２をこの順に有する光学積層体１００を得る。
なお、図１０および図１１においては、表面フィルム４０がハードコート層４２および基材４４を有する形態について述べたが、上述したように、表面フィルム４０はこの形態に限定されない。
本工程で用いられる表面フィルムを構成する各部材に関しては、第１実施形態で説明した通りであり、その説明を省略する。

（工程の手順）
本工程では、積層体Ｚの第１配向膜側の表面に表面フィルムを積層し、第３剥離性支持体を剥離して、表面フィルム、光吸収異方性層、光学異方性層Ａ、および、光学異方性層Ｂを有する光学積層体を得る。
本工程においては、積層体Ｚと表面フィルムとを積層させた直後に、第３剥離性支持体を剥離してもよいし、積層体Ｚと表面フィルムとを積層させた後、所定時間経過後、得られた積層体から第３剥離性支持体を剥離してもよい。なお、積層体Ｚと表面フィルムとを積層させた直後に、第３剥離性支持体を剥離する方法としては、例えば、積層体Ｚと表面フィルムとをローラー間に通して両者を積層した後、ローラーから積層体が出た直後に第３剥離性支持体を剥離する方法が挙げられる。

積層体Ｚと表面フィルムとを積層する方法は特に限定されず、公知の方法が挙げられる。例えば、加熱および／または加圧したローラーまたは平板で圧着または加熱圧着して、両者を貼り付ける方法が挙げられる。
また、積層体Ｚと表面フィルムとを積層する（貼り合せる）際には、必要に応じて、密着層（貼合層）を介して積層してもよい。
密着層を形成する成分としては、粘着剤であっても、接着剤であってもよい。つまり、密着層は、粘着剤を用いて形成される層（粘着剤層）でも、接着剤を用いて形成される層（接着剤層）でもよい。

また、第３剥離性支持体を剥離する方法は特に限定されず、公知の方法が挙げられる。例えば、第３剥離性支持体と光学異方性層Ｂとの間につめを差し込んで剥離のきっかけを与え、第３剥離性支持体を光学異方性層Ｂから遠ざかるように移動させながら、両者を分離する方法が挙げられる。

第３剥離性支持体の剥離力の測定方法としては、第３光学積層体を１５０ｍｍ×２５ｍｍに裁断し、得られた試料の光学異方性層Ｂ側をガラス基板に８０ｍｍ×２５ｍｍ部分のみ貼合し、２５℃環境下にて、速度３００ｍｍ／分で第３剥離性支持体を９０°方向に剥離したときの剥離力をテンシロン万能材料試験機（オリエンテック社製）にて測定する。
第３剥離性支持体の剥離力は特に制限されないが、０．１０～４．００Ｎ／２５ｍｍの場合が多く、なかでも、０．１０～０．５０Ｎ／２５ｍｍが好ましく、０．２０～０．５０Ｎ／２５ｍｍがより好ましい。
第３剥離性支持体の剥離力が０．５０Ｎ／２５ｍｍ以下であると、ロールツーロール方式によって第３剥離性支持体を剥離する際に、試料の破断が生じにくく、かつ、装置への負荷がかかりにくく、ラインが停止するなどの製造故障が発生しづらい。また、第３剥離性支持体の剥離力が０．１０Ｎ／２５ｍｍ以上であると、長尺状の試料の搬送途中で第３剥離性支持体の剥離が生じにくく、取り扱い性に優れる。

なお、第２実施形態においては、第３剥離性支持体の剥離力は、積層体Ｚと表面フィルムとの積層体における第３剥離性支持体と光学異方性層Ｂとの間以外の各層間の剥離力よりも小さいことが好ましい。

なお、工程２－１～工程２－３は、いわゆるロールツーロール方式にて、各種光学積層体の積層、および、剥離性支持体の剥離を実施してもよい。

上記手順によって、表面フィルム、光吸収異方性層、光学異方性層Ａ、および、光学異方性層Ｂをこの順に有する光学積層体が得られる。
光学異方性層Ａがλ／４板であり、光学異方性層ＢがポジティブＣプレートである場合、得られる光学積層体はいわゆる円偏光板としてより効果的に機能する。
なお、光学積層体は、表面フィルム、光吸収異方性層、光学積層体Ａ、および、光学異方性層Ｂ以外の層を有していてもよい。例えば、光学積層体は、光学異方性層Ｂの光学異方性層Ａ側とは反対側の表面側に密着層を有していてもよい。後述するように、この密着層を介して、光学積層体を表示素子上に固定できる。

上述した光学積層体は、表示素子上に配置されて、外光反射の防止機能を表示素子に付与できる。特に、上述したように、光学異方性層Ａがλ／４板であり、光学異方性層ＢがポジティブＣプレートである場合、その効果に優れる。
具体的には、図１２に示すように、表示装置１１０は、光学積層体１００と、表示素子６２とを含む。表示装置１１０は、ハードコート層４２側から観察者が視認する。
表示素子の構成は、第１実施態様で説明した通りである。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

＜剥離力の評価＞
後段で示す、各光学積層体中の剥離性支持体の剥離力は、以下の手順に従って測定した。
光学積層体を１５０ｍｍ×２５ｍｍに裁断し、得られた試料の光吸収異方性層側または光学異方性層をガラス基板に８０ｍｍ×２５ｍｍ部分のみを貼合した。次に、２５℃環境下にて、速度３００ｍｍ／分で試料中の剥離性支持体を９０°方向に剥離したときの剥離力を、テンシロン万能材料試験機（オリエンテック社製）にて測定した。

＜試料１０１～１０７の作製＞
（試料１０１の作製）
透明支持体として厚み４０μｍのセルロースアシレートフィルム１１（フィルム１１）（ＴＧ４０、富士フイルム社製）を用い、透明支持体上に中間層形成用組成物１を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、中間層形成用組成物１が塗布された透明支持体を１００℃の温風で２分間乾燥することにより、透明支持体上に中間層（厚み：０．８μｍ）を形成した。
なお、中間層形成用組成物１での変性ポリビニルアルコールの固形分濃度は４質量％であった。
また、フィルム１１が、剥離性支持体に該当する。
―――――――――――――――――――――――――
中間層形成用組成物１
―――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール
水 ７０質量部
メタノール ３０質量部
―――――――――――――――――――――――――

変性ポリビニルアルコール

下記構造の光配向材料Ｅ－１（１質量部）に、ブトキシエタノール（４１．６質量部）、ジプロピレングリコールモノメチル（４１．６質量部）、および、純水（１５．８質量部）を加え、得られた溶液を０．４５μｍメンブレンフィルターで加圧ろ過して、光配向膜形成用組成物１を調製した。
次いで、得られた光配向膜形成用組成物１を上記中間層１上に塗布し、６０℃で１分間乾燥した。その後、得られた塗膜に、偏光紫外線露光装置を用いて直線偏光紫外線（照度４．５ｍＷ、照射量４００ｍＪ／ｃｍ^２）を照射し、配向膜１１を得た。

得られた配向膜１１上に、下記の液晶性組成物（光吸収異方性層形成用組成物）１１を＃４のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗膜を得た。次に、塗膜を１４０℃で９０秒間加熱し、室温（２３℃）になるまで冷却した。次に、得られた塗膜を８０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。その後、得られた塗膜に対して、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で６０秒間照射して、配向膜１１上に光吸収異方性層１１を作製し、試料１０１を得た。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶性組成物１１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記イエローアゾ色素Ｙ－１ ７．１質量部
・下記シアンアゾ色素Ｄ－１ ９．１質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｐ－１ １０１．１質量部
・重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） １．０質量部
・下記界面改良剤Ｆ－１ ０．３質量部
・シクロペンタノン ６１７．０質量部
・テトラヒドロフラン ２６４．４質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

（試料１０２の作製）
液晶性組成物１１の高分子液晶性化合物Ｐ－１の代わりに、等質量の下記高分子液晶性化合物Ｐ－２が含まれる液晶性組成物１２を、液晶性組成物１１の代わりに用いた以外は、（試料１０１の作製）と同様の手順に従って、光吸収異方性層１２を有する試料１０２を得た。

高分子液晶性化合物Ｐ－２

（試料１０３の作製）
液晶性組成物１２中のイエローアゾ色素Ｙ－１の代わりに、等質量の下記イエローアゾ色素Ｙ－２を含む液晶性組成物１３を、液晶性組成物１１の代わりに用いた以外は、（試料１０１の作製）と同様の手順に従って、光吸収異方性層１３を有する試料１０３を得た。

イエローアゾ色素Ｙ－２

（試料１０４の作製）
液晶性組成物１３中のシアンアゾ色素Ｄ－１の代わりに、等質量の下記シアンアゾ色素Ｄ－２を含む液晶性組成物１４を、液晶性組成物１１の代わりに用いた以外は、（試料１０１の作製）と同様の手順に従って、光吸収異方性層１４を有する試料１０４を得た。

シアンアゾ色素Ｄ－２

（試料１０５の作製）
液晶性組成物１４中の高分子液晶性化合物Ｐ－１の代わりに、等質量の下記高分子液晶性化合物Ｐ－３を含む液晶性組成物１５を、液晶性組成物１１の代わりに用いた以外は、（試料１０１の作製）と同様の手順に従って、光吸収異方性層１５を有する試料１０５を得た。

高分子液晶性化合物Ｐ－３

（試料１０６の作製）
下記光配向ポリマーＥ－２（２質量部）およびｏ－キシレン（９８質量部）を混合し、８０℃で１時間撹拌して、配向膜形成用組成物１２を得た。

光配向ポリマーＥ－２

（試料１０１の作製）の際の得た中間層１上に、上記配向膜形成用組成物１２を塗布した。配向膜形成用組成物１２が塗布された透明支持体を１００℃で２分間乾燥した後、得られた塗膜に偏光紫外線照射（２０ｍＪ／ｃｍ^２、波長３１３ｎｍ基準）を１回施して、配向膜１２を作製した。
得られた配向膜１２上に、（試料１０４の作製）の際に用いた液晶性組成物１４を用いて、試料１０４の作製の手順と同じ方法にて、試料１０６を得た。

（試料１０７の作製）
Ｌｕｂ eｔ aｌ. Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ－Ｂａｓ，１１５, ３２１－３２８（１９９６）記載の方法で、下記式で表される液晶性化合物Ｍ－１を合成した。

次いで、上記式で表される液晶性化合物Ｍ－１の合成方法を参考に、下記式で表される液晶性化合物Ｍ－２を合成した。

下記の成分を混合し、８０℃で１時間撹拌することで、液晶性組成物１７を調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――
液晶性組成物１７
―――――――――――――――――――――――――――――――
液晶性化合物Ｍ－１ ５０部質量部
液晶性化合物Ｍ－２ ５０部質量部
下記アゾ色素Ｄ－３ ２．５質量部
下記アゾ色素Ｄ－４ ２．５質量部
下記アゾ色素Ｄ－５ ２．５質量部
重合開始剤イルガキュア３６９（ＢＡＳＦ社製） ６質量部
ポリアクリレート化合物
（ＢＹＫ－３６１Ｎ；ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製） １．２質量部
Ｏ－キシレン ２５０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――

（試料１０６の作製）の際に作製した配向膜１２上に、液晶性組成物１７を膜厚が１．８μｍになるように塗布して、塗膜を形成した。その後、塗膜が配置された積層体を１１０℃で２分間加熱乾燥した後、紫外線照射装置を用いて、露光量１０００ｍＪ／ｃｍ^２（波長３６５ｎｍ基準）を照射し、光吸収異方性層１７を有する試料１０７を得た。

＜配向度の評価＞
光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、光吸収異方性層を含む試料１０１～１０７をそれぞれサンプル台にセットし、マルチチャンネル分光器（Ｏｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて、４００～７００ｎｍの波長域における光吸収異方性層の吸光度を測定し、以下の式により配向度を算出した。結果を下記表１に示す。
配向度：Ｓ＝［（Ａｚ０／Ａｙ０）－１］／［（Ａｚ０／Ａｙ０）＋２］
Ａｚ０：光吸収異方性層の吸収軸方向の偏光に対する吸光度
Ａｙ０：光吸収異方性層の偏光軸方向の偏光に対する吸光度

表１の結果から、式（４）に示す高分子液晶性化合物のｌｏｇＰ値の差が４以上である高分子液晶性化合物Ｐ－１およびＰ－２（いずれも４．４）は、ｌｏｇＰ値の差が１未満である高分子液晶性化合物Ｐ－３（０．８９）より配向性に優れていた。

＜第１光学積層体の作製＞
第１光学積層体として、光学積層体１１１～１１２を以下の手順に従って作製した。

（光学積層体１１１の作製）
試料１０４中の光吸収異方性層１４上に、下記保護層組成物１を＃２のワイヤーバーで連続的に塗布し、６０℃で５分間乾燥を行った。
その後、塗膜が配置された試料１０４に対して、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で６０秒間照射し、塗膜を硬化させ、光吸収異方性層１４上に保護層１が形成された光学積層体１１１を作製した。

――――――――――――――――――――――――――――――――
保護層組成物１
――――――――――――――――――――――――――――――――
下記親水性モノマーＨＭ－１ ２９質量部
重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製） １質量部
エタノール ７０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

親水性モノマーＨＭ－１

（光学積層体１１２の作製）
光学積層体１１１において、セルロースアシレートフィルム１１の代わりに、膜厚５０μｍのＰＥＴフィルム（フィルム１２）を用いた以外は、（光学積層体１１１の作製）と同様の手順に従って、フィルム１２、中間層１、配向膜１１、光吸収異方性層１４、および保護層１を含む光学積層体１１２を得た。
なお、フィルム１２は、剥離性支持体に該当する。

＜第２光学積層体の作製＞
第２光学積層体として、光学積層体２０１～２０４を以下の手順に従って作製した。

（光学積層体２０１の作製）
下記組成の光学異方性層形成用組成物２１を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物２１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物Ｌ－３ ４２．００質量部
・下記液晶性化合物Ｌ－４ ４２．００質量部
・下記重合性化合物Ａ－１ １６．００質量部
・下記低分子化合物Ｂ２ ６．００質量部
・下記重合開始剤Ｓ－１（オキシム型） ０．５０質量部
・下記レベリング剤Ｇ－１ ０．２０質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ－２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
・メチルエチルケトン ４２４．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

なお、下記液晶性化合物Ｌ－３およびＬ－４のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、下記液晶性化合物Ｌ－３およびＬ－４は、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。

下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
───────────────────────────────
コア層セルロースアシレートドープ
───────────────────────────────
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ １１質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
・メタノール（第２溶媒） ６４質量部
───────────────────────────────

上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
────────────────────────────────
マット剤溶液
────────────────────────────────
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
・メタノール（第２溶媒） １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ １質量部
────────────────────────────────

上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープとを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルタでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口からバンド流延機を用いて流延した。
次いで、溶媒含有率略２０質量％の状態でフィルムを剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、得られたフィルムを熱処理装置のロール間を搬送して、さらに乾燥し、厚み２０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム２１（以後、フィルム２１とも記す。）とした。得られたセルロースアシレートフィルム２１の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは０ｎｍであった。
なお、フィルム２１は、剥離性支持体に該当する。

作製したセルロースアシレートフィルム２１の片側の面に、下記の配向膜形成用組成物２１をバーコーターで塗布し、得られた塗膜を１１０℃で２分間乾燥した。その後、塗膜に対して、ラビング処理を施して、配向膜２１を形成した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用組成物２１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・変性ビニルアルコール（下記式（ＰＶＡ－１）参照） ２．００質量部
・水 ７４．０８質量部
・メタノール ２３．８６質量部
・光重合開始剤
（ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＢＡＳＦ社製） ０．０６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

次いで、配向膜２１上に、先に調製した光学異方性層形成用組成物２１をバーコーターで塗布し、塗膜を形成した。得られた塗膜を１１０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて配向を安定化させた。
その後、得られた塗膜を６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．３μｍの光学異方性層を形成し、光学積層体２０１を作製した。得られた光学積層体２０１中の光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１４０ｎｍであった。得られた光学異方性層の遅相軸方向はラビング方向に対して平行に配向していた。

（光学積層体２０２～２０４の作製）
セルロースアシレートフィルム２１の代わりに後述する手順にて作製されるセルロースアシレートフィルム２２～２４（以後、フィルム２２～２４とも記す。）を用いた以外は、（光学積層体２０１の作製）と同様の手順に従って、光学積層体２０２～２０４を作製した。
なお、フィルム２２～２４は、剥離性支持体に該当する。

（セルロースアシレートフィルム２２の作製）
セルロースアシレートフィルム２１の長尺フィルムを温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液１を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ^２で塗布した。その後、得られたフィルムを１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、得られたフィルムに純水を３ｍｌ／ｍ^２塗布した。次いで、得られたフィルムに対して、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、得られたフィルムを７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム２２を作製した。
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アルカリ溶液１
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水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
含フッ素界面活性剤ＳＦ－１
（Ｃ_１４Ｈ_２９Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_２０Ｈ） １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
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（セルロースアシレートフィルム２３～２４の作製）
セルロースアシレートフィルム２２において、アルカリ溶液１の水酸化カリウム濃度を調整し、セルロースアシレートフィルム２３～２４を得た。

＜表面フィルム４１の作製＞
特開２０１４―２０６７２５号公報に記載のポリエチレンテレフタレート（以後、ＰＥＴ１とも記す。）（９０質量部）、および、乾燥させた紫外線吸収剤（２，２'－（１，４－フェニレン）ビス（４Ｈ－３，１－ベンズオキサジノン－４－オン））（１０質量部）を混合し、混練押出機を用い、紫外線吸収剤を含むポリエチレンテレフタレート（以後、ＰＥＴ２とも記す）を得た。
ＰＥＴ１（９０質量部）と、ＰＥＴ２（１０質量部）とを、含水率２０ｐｐｍ以下に乾燥させた後、直径５０ｍｍの１軸混練押出機１のホッパー１に投入し、押出機１で３００℃に溶融した。ダイから押出した溶融樹脂は、温度２５℃に設定された冷却キャストドラム上に押出し、剥ぎ取りロールを用いて剥離し、未延伸ポリエステルフィルムを得た。
未延伸ポリエステルフィルムをテンター（横延伸機）に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、９５℃で幅方向に４．７倍に横延伸した。次に、得られたフィルムの膜面温度を１８０℃に制御しながら、熱固定処理を行った。さらに得られたフィルムを１７０℃、幅方向に２％で緩和し、冷却して、厚さ４０μｍのポリエステル系の透明基材４１を得た。

ハードコート層形成用の塗布液として、下記ハードコート層形成用組成物１を調製した。

上記にて作製した透明基材４１の一方の表面を予めコロナ処理した後、上記ハードコート層形成用組成物１を塗布した。次に、得られた塗膜を１００℃で６０秒乾燥し、窒素０．１％以下の条件で紫外線を１．５ｋＷ、３００ｍＪにて照射し、塗膜を硬化させ、厚み５μｍのハードコート層を形成し、透明基材４１とハードコート層とからなる表面フィルム４１を得た。

＜実施例３：円偏光板２１４の作製＞
光学積層体１１１、光学積層体２０４および表面フィルム４１の長尺試料をそれぞれ準備し、以下のロールツーロールの積層を実施した。
光学積層体２０４の光学異方性層側の表面と光学積層体１１１の保護層の表面とを粘着剤を介して貼り合わせながら、貼り合わせた直後に、光学積層体１１１中のフィルム１１を剥離して積層体Ｘを得た。
次に、積層体Ｘ中の配向膜１１の表面と、表面フィルム４１中の透明基材４１の表面とを粘着剤を介して貼り合わせながら、貼り合わせた直後に、光学積層体２０４中のフィルム２４を剥離して、円偏光板２１４を得た。

＜実施例１、２、４：円偏光板２１２、２１３、２１５の作製＞
表３に示す第１光学積層体および第２光学積層体をそれぞれ用い、それぞれの光学積層体に含まれる剥離性支持体の剥離を実施した以外は、（円偏光板２１４の作製）と同様の手順に従って、円偏光板２１２～２１３、円偏光板２１５を得た。

＜比較例１：円偏光板２１１の作製＞
光学積層体２０４の代わりに、光学積層体２０１を用いた以外は、（円偏光板２１４の作製）と同様の手順に従って、円偏光板の作製を試みたところ、フィルム１１の剥離の際にフィルム２１にも剥離がみられ、所定の円偏光板が作製できなかった。

なお、有機ＥＬパネル（有機ＥＬ表示素子）搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ Ｓ５を分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離し、さらにタッチパネルから円偏光板を剥がし、有機ＥＬ表示素子、タッチパネルおよび円偏光板をそれぞれ単離した。次いで、単離したタッチパネルを有機ＥＬ表示素子と再度貼合し、さらに上記作製した円偏光板２１２～２１５を光学異方性層側がパネル側になるようにタッチパネル上に粘着剤を介して貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製した。
作製した有機ＥＬ表示装置について、光学異方性層（λ／４板）として、ピュアエースＷＲ（帝人株式会社製）を用いた場合と同様の評価を行ったところ、外光の反射防止に対し同様の効果が発揮されることを確認した。

なお、円偏光板２１２および２１３の作製の際、フィルム１１を剥離する際にはフィルム２２およびフィルム２３の剥離は生じないものの、フィルム２２およびフィルム２３の剥離力が０．５０Ｎ／２５ｍｍを超えているため、やや剥離がしづらい。
また、光学積層体１１２におけるフィルム１２の剥離力は０．１０Ｎ／２５ｍｍより小さいため、フィルム１２がやや剥離しやすく、光学積層体１１２の取り扱いがややしづらい。
よって、第１光学積層体における第１剥離性支持体の剥離力と、第２光学積層体における第２剥離性支持体の剥離力とは、共に、０．１０～０．５０Ｎ／２５ｍｍであれば、ロールツーロールでの積層時の故障をより低減できる。

＜第３光学積層体の作製＞
第３光学積層体として、光学積層体３０１～３０３を以下の手順に従って作製した。

（光学積層体３０１の作製）
透明支持体として、市販されているトリアセチルセルロースフィルム（以後、フィルム３１とも記す。）「Ｚ－ＴＡＣ」（富士フイルム社製）を用いた。フィルム３１上に、下記の配向膜形成用組成物３１を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。得られた塗膜を６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、配向膜３１を形成した。
なお、フィルム３１は、剥離性支持体に該当する。
───────────────────────────────
配向膜形成用組成物３１
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ポリビニルアルコール（クラレ製、ＰＶＡ１０３） ２．４質量部
イソプロピルアルコール １．６質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
───────────────────────────────

上記で作製した配向膜３１上に、下記光学異方性層形成用組成物３１を塗布した。得られた塗膜を６０℃で熟成させた後に、空気下にて７０ｍＷ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍJ／ｃｍ^２の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、重合性棒状液晶性化合物を垂直配向させ、光学異方性層（ポジティブＣプレートフィルム３０１）を含む光学積層体３０１を得た。なお、ポジティブＣプレートフィルム３０１のＲｔｈ（５５０）は、－６０ｎｍであった。

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光学異方性層形成用組成物３１
──────────────────────────────────
液晶性化合物Ｌ－１ ８０質量部
液晶性化合物Ｌ－２ ２０質量部
垂直配液晶性化合物向剤（Ｓ０１） １質量部
垂直配向剤（Ｓ０２） ０．５質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ８質量部
イルガキュア９０７（ＢＡＳＦ製） ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） １質量部
化合物Ｂ０３ ０．４質量部
メチルエチルケトン １７０質量部
シクロヘキサノン ３０質量部
──────────────────────────────────

（光学積層体３０２および３０３の作製）
フィルム３１に対して、上述した（セルロースアシレートフィルム２３～２４の作製）と同様にアルカリ溶液１の水酸化カリウム濃度を調整してアルカリ鹸化処理を行い、セルロースアシレートフィルム３２～３３（以後、フィルム３２～３３とも記す。）を得た。
次に、フィルム３１の代わりにフィルム３２～３３をそれぞれ用いた以外は、（光学積層体３０１の作製）と同様の手順に従って、光学積層体３０２～３０３を得た。
なお、フィルム３２～３３は、剥離性支持体に該当する。

＜第２光学積層体の作製＞
（光学積層体２０５の作製）
セルロースアシレートフィルム２２において、アルカリ溶液１の水酸化カリウム濃度を調整し、セルロースアシレートフィルム２５（以後、フィルム２５とも記す。）を得た。
セルロースアシレートフィルム２１の代わりにセルロースアシレートフィルム２５を用いた以外は、（光学積層体２０１の作製）と同様の手順に従って、光学積層体２０５を得た。
なお、フィルム２５は、剥離性支持体に該当する。

＜第１光学積層体の作製＞
（光学積層体１１３の作製）
セルロースアシレートフィルム１１において、アルカリ溶液１の水酸化カリウム濃度を調整し、セルロースアシレートフィルム１３（以後、フィルム１３とも記す。）を得た。
セルロースアシレートフィルム１１の代わりにセルロースアシレートフィルム１３を用いた以外は、（光学積層体１１１の製造）と同様の手順に従って、光学積層体１１３を得た。
なお、フィルム１３は、剥離性支持体に該当する。

＜実施例５：円偏光板３１２の作製＞
光学積層体１１１、光学積層体２０１、光学積層体３０２および表面フィルム４１の長尺試料を準備し、以下のロールツーロールの積層を実施した。
光学積層体２０１中の光学異方性層と光学積層体３０２中の光学異方性層とを粘着剤を介して貼り合わせ、貼り合わせた直後に、光学積層体２０１のフィルム２１を剥離して、積層体Ｂを得た。
次に、積層体Ｂ中の光学積層体２０１由来の光学異方性層側の表面と、光学積層体１１１中の保護層の表面とを粘着剤を介して貼り合わせ、貼り合わせた直後に、光学積層体１１１のフィルム１１を剥離した。
さらに、光学積層体１１１の中間層側の表面と、表面フィルム４１中の透明基材４１の表面とを粘着剤を介して貼り合わせ、貼り合わせた直後に、フィルム３２を剥離して、円偏光板３１２を得た。

＜実施例６：円偏光板３１３の作製＞
光学積層体２０１の代わりに光学積層体２０５を用いた以外は、（円偏光板３１２の作製）と同様の手順に従って、円偏光板３１３を得た。

＜比較例２：円偏光板３１１の作製＞
光学積層体３０２の代わりに光学積層体３０１を用いた以外は、（円偏光板３１２の作製）と同様の手順に従って、円偏光板の作製を試みたところ、フィルム２１の剥離の際にフィルム３１にも剥離がみられ、所定の円偏光板が作製できなかった。

＜比較例３：円偏光板３１４の作製＞
光学積層体１１１の代わりに光学積層体１１３を用い、光学積層体３０２の代わりに光学積層体３０３を用いた以外は、（円偏光板３１２の作製）と同様の手順に従って、円偏光板の作製を試みたところ、フィルム１３の剥離の際にフィルム３３にも剥離がみられ、所定の円偏光板が作製できなかった。

上記結果を表４にまとめて示す。

第３剥離性支持体の剥離力と、第１剥離性支持体および第２剥離性支持体の剥離力とが所定の関係である場合、所望の効果が得られることが確認された。

（配向膜形成用組成物１３の調製）
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１００．０質量部、メチルイソブチルケトン５００質量部、および、トリエチルアミン１０．０質量部を仕込み、室温で混合物を撹拌した。次に、脱イオン水１００質量部を滴下漏斗より３０分かけて得られた混合物に滴下した後、還流下で混合物を混合しつつ、８０℃で６時間反応させた。反応終了後、有機相を取り出し、０．２質量％硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで有機相を洗浄した。その後、得られた有機相から減圧下で溶媒および水を留去し、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンについて、^１Ｈ－ＮＭＲ（Ｎｕｃｌｅａｒ Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ）分析を行ったところ、化学シフト（δ）＝３．２ｐｐｍ付近にオキシラニル基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Ｍｗは２，２００、エポキシ当量は１８６ｇ／モルであった。
次に、１００ｍＬの三口フラスコに、上記で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン１０．１質量部、アクリル基含有カルボン酸（東亞合成株式会社、商品名「アロニックスＭ－５３００」、アクリル酸ω－カルボキシポリカプロラクトン（重合度ｎ≒２））０．５質量部、酢酸ブチル２０質量部、特開２０１５－２６０５０号公報の合成例１の方法で得られた桂皮酸誘導体１．５質量部、および、テトラブチルアンモニウムブロミド０．３質量部を仕込み、得られた混合物を９０℃で１２時間撹拌した。撹拌後、得られた混合物と等量（質量）の酢酸ブチルで混合物を希釈し、さらに希釈された混合物を３回水洗した。得られた混合物を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２回繰り返し、最終的に、光配向性基を有するポリオルガノシロキサン（下記重合体Ｃ－２）を含む溶液を得た。この重合体Ｃ－２の重量平均分子量Ｍｗは９，０００であった。また、^１Ｈ－ＮＭＲ分析の結果、重合体Ｃ－２中のシンナメート基を有する成分は２３．７質量％であった。

以下の成分を混合して、光配向膜形成用組成物１３を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――───
光配向膜形成用組成物１３
―――――――――――――――――――――――――――――――───
・重合体Ｃ－２ １０．６７質量部
・低分子化合物Ｒ－１ ５．１７質量部
・添加剤（Ｂ－１） ０．５３質量部
・酢酸ブチル ８２８７．３７質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
２０７１．８５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――───

＜実施例７：円偏光板４０１の作製＞
光配向膜形成用組成物１１の代わりに、光配向膜形成用組成物１３を用いた以外は、（試料１０４の作製）、（光学積層体１１１の作製）および（円偏光板３１２の作製）と同様の手順に従って、円偏光板４０１を得た。

＜表示性能評価＞
有機ＥＬパネル（有機ＥＬ表示素子）搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹＳ５を分解し、有機ＥＬ表示装置から、円偏光板付きタッチパネルを剥離し、さらにタッチパネルから円偏光板を剥がし、有機ＥＬ表示素子、タッチパネルおよび円偏光板をそれぞれ単離した。続いて、単離したタッチパネルを有機ＥＬ表示素子と再度貼合し、さらに上記作製した円偏光板３１２および４０１を空気が入らないようにしてタッチパネル上に粘着剤を介して貼合し、有機ＥＬ表示装置を作製した。
作製した有機ＥＬ表示装置について、明光下にて視認性および表示品位を評価した。表示装置を白表示にして、正面および極角４５度から蛍光灯を映しこんだときの反射光を観察した。表示品位を下記の基準で評価した。評価結果を表５にまとめて示す。
Ａ：黒色で色づきが全く視認されない。
Ｂ：着色が視認され、かつ反射率が高い。

表５に示す「平均屈折率」欄は、光配向膜形成用組成物１１を用いて形成される配向膜、および、光配向膜形成用組成物１３を用いて形成される配向膜の平均屈折率を表す。
表５に示す「屈折率異方性」欄は、光配向膜形成用組成物１１を用いて形成される配向膜、および、光配向膜形成用組成物１３を用いて形成される配向膜の屈折率異方性を表す。
なお、平均屈折率および屈折率異方性の測定方法は、上述した通りである。

（表面フィルム４２および４３の作製）
下記式（Ａ）で表されるアクリル系樹脂９０質量部と、アクリロニトリル－スチレン（ＡＳ）樹脂（トーヨーＡＳ ＡＳ２０、東洋スチレン社製）１０質量部との混合物のペレットを２軸押し出し機に供給し、約２８０℃でシート状に溶融押し出しして、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂シートを得た。この未延伸シートを、１６０℃の温度条件下、縦および横に延伸して膜厚４０μｍの透明支持体４２を得た。

式（Ａ）

上記一般式（６）中、Ｒ^１は水素原子、Ｒ^２およびＲ^３はメチル基であるラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂（共重合モノマー質量比＝メタクリル酸メチル／２－（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル＝８／２、ラクトン環化率約１００％、ラクトン環構造の含有割合１９．４％、質量平均分子量１３３０００、メルトフローレート６．５ｇ／１０分（２４０℃、１０ｋｇｆ）、Ｔｇ１３１℃）。

２軸押出機にて、シクロオレフィン系樹脂（日本ゼオン社製、ガラス転移温度１２３℃）を、特開２０１５―１６０３２４号公報に記載の条件で、シクロオレフィン系樹脂１００部に対してベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（ＬＡ－３１、ＡＤＥＫＡ社製）７．５部を混練した。混練した樹脂を用いて、押し出し成形により、膜厚４０μｍの透明支持体４３を得た。

上記にて作製した透明支持体４２および４３の一方の表面を予めコロナ処理した後、ハードコート層形成用組成物１を塗布し、表面フィルム４１と同様の条件で、厚み５μｍを有するハードコート層を形成し、表面フィルム４２および４３を得た。

＜実施例８～９：円偏光板の作製＞
実施例５の円偏光板３１２において、表面フィルム４１の代わりに、表面フィルム４２および表面フィルム４３をそれぞれ使用した以外は、（円偏光板３１２の作製）と同様の手順に従って、円偏光板５０２および５０３を作製した。
得られた円偏光板５０２および５０３を用いて、上述した＜表示性能評価＞を実施したところ、反射光観察で良好な結果を得た。

なお、上述した実施例においては、試料１０４を用いた態様について述べたが、他の試料１０１～１０３、１０５～１０７を用いた場合も、同様の結果が得られた。

１０ 第１光学積層体
１２ 第１剥離性支持体
１４ 第１配向膜
１６ 光吸収異方性層
２０ 第２光学積層体
２２ 第２剥離性支持体
２４ 第２配向膜
２６ 光学異方性層Ａ
３０ 積層体Ｘ
４０ 表面フィルム
４２ ハードコート層
４４ 基材
５０，１００ 光学積層体
６０，１１０ 表示装置
６２ 表示素子
７０ 第３光学積層体
７２ 光学異方性層Ｂ
７４ 第３剥離性支持体
８０ 積層体Ｙ
９０ 積層体Ｚ

Claims (15)

1. 第１剥離性支持体と、第１配向膜と、光吸収異方性層とをこの順に有する第１光学積層体の前記光吸収異方性層側の表面と、第２剥離性支持体と、第２配向膜と、光学異方性層Ａとをこの順に有する第２光学積層体の前記光学異方性層Ａ側の表面とが対向するように、前記第１光学積層体と前記第２光学積層体とを積層して、前記第１剥離性支持体、前記第１配向膜、前記光吸収異方性層、前記光学異方性層Ａ、前記第２配向膜、および、前記第２剥離性支持体をこの順に有する積層体Ｘ１を得た後、前記積層体Ｘ１から前記第１剥離性支持体を剥離して積層体Ｘを得る工程と、
   前記積層体Ｘの前記第１配向膜側の表面に表面フィルムを積層し、前記第２剥離性支持体を剥離して、前記表面フィルム、前記光吸収異方性層、および、前記光学異方性層Ａを有する光学積層体を得る工程と、を有し、
   前記光吸収異方性層が、２色性物質および液晶性化合物を含む液晶性組成物を用いて形成され、
   前記第１剥離性支持体の剥離力が、前記第２剥離性支持体の剥離力よりも小さい、光学積層体の製造方法。
2. 前記光学積層体を得る工程が、前記積層体Ｘの前記第１配向膜側の表面に表面フィルムを積層して、前記表面フィルム、前記第１配向膜、前記光吸収異方性層、前記光学異方性層Ａ、前記第２配向膜、および、前記第２剥離性支持体をこの順に有する積層体Ｘ２を得た後、前記積層体Ｘ２から前記第２剥離性支持体を剥離して、前記表面フィルム、前記光吸収異方性層、および、前記光学異方性層Ａを有する光学積層体を得る工程である、請求項１に記載の光学積層体の製造方法。
3. 前記光学積層体が、前記表面フィルム、前記第１配向膜、前記光吸収異方性層、前記光学異方性層Ａ、および、前記第２配向膜をこの順に有する、請求項１または２に記載の光学積層体の製造方法。
4. 第２剥離性支持体と、第２配向膜と、光学異方性層Ａとをこの順に有する第２光学積層体の前記光学異方性層Ａ側の表面と、第３剥離性支持体と、光学異方性層Ｂとをこの順に有する第３光学積層体の前記光学異方性層Ｂ側の表面とが対向するように、前記第２光学積層体と前記第３光学積層体とを積層して、前記第２剥離性支持体、前記第２配向膜、前記光学異方性層Ａ、前記光学異方性層Ｂ、および、前記第３剥離性支持体をこの順に有する積層体Ｙ１を得た後、前記積層体Ｙ１から前記第２剥離性支持体を剥離して積層体Ｙを得る工程と、
   前記積層体Ｙの前記第２配向膜側の表面と、第１剥離性支持体と、第１配向膜と、光吸収異方性層とをこの順に有する第１光学積層体の前記光吸収異方性層側の表面とが対向するように、前記積層体Ｙと前記第１光学積層体とを積層し、第１剥離性支持体を剥離して積層体Ｚを得る工程と、
   前記積層体Ｚの前記第１配向膜側の表面に表面フィルムを積層し、前記第３剥離性支持体を剥離して、前記表面フィルム、前記光吸収異方性層、前記光学異方性層Ａおよび前記光学異方性層Ｂを有する光学積層体を得る工程と、を有し、
   前記光吸収異方性層が、２色性物質および液晶性化合物を含む組成物を用いて形成され、
   前記第１剥離性支持体の剥離力が前記第３剥離性支持体の剥離力よりも小さく、かつ、前記第２剥離性支持体の剥離力が前記第３剥離性支持体の剥離力よりも小さい、光学積層体の製造方法。
5. 前記光学積層体を得る工程が、前記積層体Ｚの前記第１配向膜側の表面に表面フィルムを積層して、前記表面フィルム、前記第１配向膜、前記光吸収異方性層、前記第２配向膜、前記光学異方性層Ａ、前記光学異方性層Ｂ、および、前記第３剥離性支持体をこの順に有する積層体Ｚ２を得た後、前記積層体Ｚ２から前記第３剥離性支持体を剥離して、前記表面フィルム、前記第１配向膜、前記光吸収異方性層、前記第２配向膜、前記光学異方性層Ａ、および、前記光学異方性層Ｂを有する光学積層体を得る工程である、請求項４に記載の光学積層体の製造方法。
6. 前記２色性物質が、式（１）で表される化合物を含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の光学積層体の製造方法。
   

   

   
   式（１）中、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
   Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、置換基を表す。
   ｍは、１～４の整数を表し、ｍが２～４の整数の場合、複数のＡ^２は互いに同一でも異なっていてもよい。
7. 前記２色性物質が、式（２）で表される化合物を含む、請求項１～６のいずれか１項に記載の光学積層体の製造方法。
   

   

   
   式（２）中、Ｃ^１およびＣ^２は、それぞれ独立に、１価の置換基を表す。ただし、Ｃ^１およびＣ^２の少なくとも一方は、架橋性基を表す。
   Ｍ^１およびＭ^２は、それぞれ独立に、２価の連結基を表す。ただし、Ｍ^１およびＭ^２の少なくとも一方は、主鎖の原子の数が４個以上である。
   Ａｒ^１およびＡｒ^２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいナフチレン基および置換基を有していてもよいビフェニレン基のいずれかの基を表す。
   Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表す。
   Ｒ^１は、水素原子または置換基を表す。
   Ｒ^２は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
   ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。
8. 前記２色性物質が、式（３）で表される化合物を含む、請求項１～７のいずれか１項に記載の光学積層体の製造方法。
   

   

   
   式（３）中、ＡおよびＢは、それぞれ独立に、架橋性基を表す。
   ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１を表す。ただし、ａ＋ｂ≧１である。
   ａ＝０の場合にはＬ_１は１価の置換基を表し、ａ＝１の場合にはＬ_１は単結合または２価の連結基を表す。また、ｂ＝０の場合にはＬ_２は１価の置換基を表し、ｂ＝１の場合にはＬ_２は単結合または２価の連結基を表す。
   Ａｒ_１は（ｎ１＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表し、Ａｒ_２は（ｎ２＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表し、Ａｒ_３は（ｎ３＋２）価の芳香族炭化水素基または複素環基を表す。
   Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、それぞれ独立に、１価の置換基を表す。ｎ１≧２である場合には複数のＲ_１は互いに同一でも異なっていてもよく、ｎ２≧２である場合には複数のＲ_２は互いに同一でも異なっていてもよく、ｎ３≧２である場合には複数のＲ_３は互いに同一でも異なっていてもよい。
   ｋは、１～４の整数を表す。ｋ≧２の場合には、複数のＡｒ_２は互いに同一でも異なっていてもよく、複数のＲ_２は互いに同一でも異なっていてもよい。
   ｎ１、ｎ２およびｎ３は、それぞれ独立に、０～４の整数を表す。ただし、ｋ＝１の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧０であり、ｋ≧２の場合にはｎ１＋ｎ２＋ｎ３≧１である。
9. 前記液晶性化合物が、式（４）で表される繰り返し単位を含む高分子液晶性化合物を含み、式（４）において、Ｐ１、Ｌ１およびＳＰ１のｌｏｇＰ値と、Ｍ１のｌｏｇＰ値との差が、４以上である、請求項１～８のいずれか１項に記載の光学積層体の製造方法。
   

   

   
   式（４）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表す。Ｌ１は、単結合または２価の連結基を表す。ＳＰ１は、スペーサー基を表す。Ｍ１は、メソゲン基を表す。Ｔ１は、末端基を表す。
10. 前記第１配向膜の波長５５０ｎｍにおける平均屈折率が１．５５～１．８０である、請求項１～９のいずれか１項に記載の光学積層体の製造方法。
11. 前記光学異方性層Ａがλ／４板である、請求項１～１０のいずれか１項に記載の光学積層体の製造方法。
12. 前記表面フィルムが、基材とハードコート層とを有する、請求項１～１１のいずれか１項に記載の光学積層体の製造方法。
13. 前記基材が、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、および、ポリエステル系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも一種を含む、請求項１２に記載の光学積層体の製造方法。
14. 請求項１～１３のいずれか１項に記載の製造方法によって製造された光学積層体の前記表面フィルム側とは反対側の表面と、表示素子とが対向するように、前記光学積層体と前記表示素子とを積層して、表示装置を製造する工程を有する、表示装置の製造方法。
15. 前記光学積層体と前記表示素子との間に、密着層が配置される、請求項１４に記載の表示装置の製造方法。

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