JP7081119B2 - ロードポート装置 - Google Patents

Description

本発明は、ウエハ搬送容器を載置可能なロードポート装置に関する。

半導体の製造工程では、ロードポート装置の載置台にウエハ搬送容器を載置し、イーフェムや処理室に対して半導体ウエハを受け渡す。この際、ロードポート装置周辺には、ウエハ搬送容器内の内部ガスが、ロードポート装置のウエハ搬送容器との接続部分から流出し、ウエハ搬送容器の周りに滞留する場合がある。

ウエハ搬送容器から流出したガスは、窒素などの不活性ガスや、処理済みのウエハ等から生じる化学的に活性なガス（塩素系ガスなど）を含む場合がある。活性なガスを多く含むガスがロードポート装置の特定領域に局所的に滞留すると、ロードポート装置を構成する機械部品の腐食を早めたり、電子部品の寿命を低下させたりするおそれがある。また、不活性なガスであっても、ウエハ搬送容器およびイーフェムの外部へ比較的多量に流出した場合は、ウエハ搬送容器の周辺で、酸素濃度の低下の問題が生じる場合がある。

また、ロードポート装置に設置されたウエハ搬送容器内を陽圧にする場合、特に、ロードポート装置からウエハ搬送容器内に清浄化ガスを供給し、ウエハ搬送容器を清浄化する場合には、ウエハ搬送容器内の内部ガスの流出量が多くなる傾向がある。

特開２００２－１７０８７６号公報

本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、ウエハ搬送容器内から流出したガスによる周辺部材の損傷を防止できるロードポート装置を提供することである。

上記目的を達成するために、本発明に係るロードポート装置は、
ウエハ搬送容器を載置する載置部と、
前記ウエハ搬送容器の容器開口が接続するフレーム開口が形成されているフレーム部と、
前記載置部に載置された前記ウエハ搬送容器より下方であって前記載置部より上方の第１空間および前記フレーム開口部の外周周辺を囲む第２空間の少なくとも一方のガスを排除するガス排除手段と、を有する。

本発明に係るロードポート装置は、ウエハ搬送容器から流出したガスが滞留しやすい第１空間や第２空間からガスを排除するガス排除手段を有するため、これらのガスがロードポート装置を構成する機械部品の腐食を早めたり、電子部品の寿命を低下させたりする問題や、ウエハ搬送容器の周辺での酸素濃度低下の問題を、防止することができる。

また、例えば、本発明に係るロードポート装置は、前記ウエハ搬送容器内に不活性ガスを供給するガス供給手段をさらに有してもよい。

ガス供給手段がウエハ搬送容器内に不活性ガスを供給する際、ウエハ搬送容器内部からのガスの流出量が多くなる傾向にあるが、本発明に係るロードポート装置では、ガス排除手段が、ウエハ搬送容器から流出したガスを排除できるため、流出したガスによる問題を防止しつつ、ウエハ搬送容器内を清浄化することができる。

また、例えば、本発明に係るロードポート装置は、前記ウエハ搬送容器内の内部ガスを排出するガス排出手段をさらに有してもよい。

このようなロードポート装置は、ガス排出手段を有しているため内部ガスの流出を抑制することが可能であり、また、ウエハ搬送容器から流出したガスについてはガス排除手段により第１空間及び第２空間から排除できるため、流出ガスによる問題を効果的に防止できる。

また、例えば、前記ガス排除手段は、前記第１空間および前記第２空間の少なくとも一方のガスを吸引して排除する吸引ノズルを有してもよい。

ガス排除手段が吸引ノズルを有することにより、ガス排除手段は、ウエハ搬送容器から流出したガスを、第１空間や第２空間から吸引して排除し、機械部品の腐食防止や電子部品の寿命低下防止を実現できる。

また、例えば、前記ガス排除手段は、前記第１空間および前記第２空間の少なくとも一方のガスを押し出して排除する気体放出ノズルを有してもよい。

ガス排除手段が気体放出ノズルを有することにより、ガス排除手段は、ウエハ搬送容器から流出して第１空間や第２空間に滞留するガスを押し出して排除し、機械部品の腐食防止や電子部品の寿命低下防止を実現できる。

また、例えば、前記ガス排除手段は、前記載置部に備えられ少なくとも前記第１空間のガスを排除する載置部ガス排除手段を有してもよい。

載置部は第１空間に接しているため、載置部ガス排除手段は、ウエハ搬送容器から流出して第１空間に滞留するガスを、効率的に排除できる。

また、例えば、前記ガス排除手段は、前記フレーム部における前記フレーム開口の側方に備えられ少なくとも前記第２空間のガスを排除するフレーム側方ガス排除手段を有してもよい。

フレーム部におけるフレーム開口の側方部分は、第２空間に接しているため、フレーム側方ガス排除手段は、ウエハ搬送容器から流出して第２空間に滞留するガスを、効率的に排除できる。

前記ガス排除手段は、前記フレーム部における前記フレーム開口の下方に備えられ前記第１空間及び前記第２空間のガスを排除するフレーム下方ガス排除手段を有してもよい。

フレーム部における前記フレーム開口の下方部分は、第１空間と第２空間が重なる部分に接しているため、フレーム下方ガス排除手段は、ウエハ搬送容器から流出して第１空間および第２空間に滞留するガスを、効率的に排除できる。

図１は本発明の一実施形態に係るロードポート装置及びロードポート装置を含むイーフェム（ＥＦＥＭ）を表す概略図である。 図２は、図１に示すロードポート装置の側方からの要部断面図であり、ロードポート装置のドアが閉じている状態を表している。 図３は、図１に示すロードポート装置の側方からの要部断面図であり、ロードポート装置のドアが開いている状態を表している。 図４は、図１に示すロードポート装置の上方からの要部断面図である。 図５は、第２実施形態に係るロードポート装置の側方からの要部断面図である。 図６は、第３実施形態に係るロードポート装置の側方からの要部断面図である。

以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。

図１に示すように、本発明の一実施形態に係るロードポート装置１０は、半導体処理装置（不図示）とウエハ搬送容器２とを連結するイーフェム（ＥＦＥＭ）６０に設けられる。ロードポート装置１０は、ウエハ搬送容器２を載置する載置部１２と、載置部１２から上方に突出するように立設されるフレーム部１１と、フレーム部１１に形成されるフレーム開口１１ａを開閉するドア１６等を有する。なお、図面において、Ｙ軸が可動テーブル１４の移動方向を示し、Ｚ軸が鉛直方向の上下方向を示し、Ｘ軸がこれらのＹ軸およびＺ軸に垂直な方向を示す。

ロードポート装置１０の載置部１２には、収容物としての複数のウエハ１を密封して保管及び搬送するウエハ搬送容器２が、着脱自在に載置可能になっている。ウエハ搬送容器２としては、フープ（ＦＯＰＵ）やフォスビ（ＦＯＳＢ）などが挙げられるが、特に限定されず、ウエハ１を搬送する他のポッドなどを、ウエハ搬送容器２として用いてもよい。

ロードポート装置１０は、ウエハ搬送容器２の内部に収容してあるウエハ１を、クリーン状態を維持しながら、イーフェム６０内部に移し替えるためのインターフェース装置である。後述するように、ウエハ搬送容器２の内部は、ロードポート装置１０によって、イーフェム６０内部と気密に連結され、ウエハ搬送容器２内のウエハ１は、イーフェム６０内のロボットアーム等を用いて、イーフェム６０内部およびイーフェム６０が接続する半導体処理装置へ搬送される。

図２は、ウエハ搬送容器２が載置部１２に載置されたロードポート装置１０を側方から見た要部断面図であり、ドア１６が開放される前の状態のロードポート装置１０を表している。図２に示すように、密封搬送容器２は箱型の外形状を有しており、側面の一つには、ウエハ搬送容器２の内部にウエハ１を出し入れする容器開口２ｃが形成されている。

ウエハ搬送容器２は、容器開口２ｃを開閉する蓋４を有する。後述するように、ロードポート装置１０のドア１６は、蓋４に係合して移動することにより、ウエハ搬送容器２の容器開口２ｃと、ロードポート装置１０のフレーム開口１１ａとを連通させることができる（図３参照）。

また、図２及び図３に示すように、ウエハ搬送容器２の底面には、供給ポート５ａと排出ポート５ｂとが設けられている。供給ポート５ａからは、ロードポート装置１０のボトムガス供給部２４を介して、ウエハ搬送容器２内に清浄化ガスが導入される。これに対して、排出ポート５ｂからは、ロードポート装置１０のボトムガス排出部２２を介して、ウエハ搬送容器２内のガスである内部ガスが排出される。なお、供給ポート５ａと排出ポート５ｂには、図示しない弁が取り付けられている。これらの弁は、ロードポート装置１０のボトムガス供給部２４又はボトムガス排出部２２が接続されていない状態では閉じられているが、ボトムガス供給部２４による清浄化ガスの導入時や、ボトムガス排出部２２による内部ガスの排出時には開くようになっている。

このほか、ウエハ搬送容器２の底面には、位置決めピン１５が係合する位置決め部３が設けられている。

図２及び図３に示すように、ロードポート装置１０の載置部１２は、固定台１３と可動テーブル１４とを有している。可動テーブル１４は、固定台１３の上に設けられており、ウエハ搬送容器２は、可動テーブル１４の上に載置される。可動テーブル１４の上面からは、位置決めピン１５が突出しており、位置決めピン１５がウエハ搬送容器２の底面に設けられた位置決め部３に係合することにより、ウエハ搬送容器２は、可動テーブル１３における所定の位置に設置される。

図１と図２の比較から理解できるように、可動テーブル１４は、Ｙ軸方向に沿って往復移動することができる。図１に示すように、可動テーブル１４がフレーム部１１から離れた位置に停止しているとき、ＯＨＴなどを用いて、可動テーブル１４の上にウエハ搬送容器２が搬送される。また、図２に示すように、可動テーブル１４がフレーム部１１に近づくことにより、フレーム開口１１ａを塞ぐドア１６に蓋４が係合できるようになる。

図１に示すように、ロードポート装置１０のフレーム部１１は、イーフェム６０の壁の一部を構成している。図２及び図３に示すように、フレーム部１１に形成されるフレーム開口１１ａには、ウエハ搬送容器２の容器開口２ｃが接続する。すなわち、図２に示すように、ウエハ搬送容器２の蓋４が、可動テーブル１４の移動に伴いフレーム開口１１ａまで移動することにより、フレーム開口１１ａを塞ぐドア１６に係合する。さらに、図３に示すように、蓋４に係合したドア１６がイーフェム６０内に移動することにより、蓋４をイーフェム６０内に引き込む。このような動作により、ロードポート装置１０は、図３に示すように、容器開口２ｃとイーフェム６０内とを連通させる。これにより、イーフェム６０内のロボットアームがウエハ搬送容器２のウエハ１にアクセスできるようになり、ウエハ搬送容器２からウエハ１を搬出する動作や、ウエハ搬送容器２へウエハ１を搬入する動作を、イーフェム６０内のロボットアームに行わせることが可能になる。

図２及び図３に示すように、ロードポート装置１０は、載置部１２、フレーム部１１およびドア１６の他に、フロントガス供給部２０、ボトムガス供給部２４、ボトムガス排出部２２およびガス排除手段３０を有する。図３に示すように、フロントガス供給部２０は、イーフェム６０に連通されたウエハ搬送容器２に対して、フレーム開口１１ａ及び容器開口２ｃを介して、清浄化ガスを供給する。

図３及び図４に示すように、フロントガス供給部２０は、フレーム部１１のフレーム内面１１ｂに備えられるフロントガス放出ノズルを有している。フロントガス放出ノズルには、不図示のガスタンクから清浄化ガスが供給される。フロントガス放出ノズルは、フレーム開口１１ａの両側部に、Ｚ軸方向に沿って設けられている。ただし、フロントガス供給部２０が有するフロントガス放出ノズルとしてはこれに限定されず、フレーム内面１１ｂの上方又は下方に沿って、フロントガス放出ノズルが設けられていてもよい。

図２に示すように、ボトムガス供給部２４は、ウエハ搬送容器２内に不活性ガスを供給するガス供給手段であり、載置部１２に設けられるボトムガス供給ノズルを有する。ボトムガス供給部２４のボトムガスノズルは、ウエハ搬送容器２の供給ポート５ａに接続し、供給ポート５ａを介してウエハ搬送容器２内に清浄化ガスを供給する。ボトムガス供給ノズルには、不図示のガスタンクから清浄化ガスが供給される。

ボトムガス供給部２４は、ウエハ搬送容器２が載置部１２に載置されていれば、ウエハ搬送容器２の蓋４が閉じているアンドック状態（図２）であっても、ウエハ搬送容器２の蓋４が開いてイーフェム６０と連通しているドック状態（図３）であっても、ウエハ搬送容器２内に清浄化ガスを供給できる。ただし、アンドック状態（図２）においてボトムガス供給部２４から清浄化ガスの供給を行う場合は、ボトムガス排出部２２から内部ガスの一部を排出しながら行うことが、過度な内圧上昇を避け、効率的に正常化ガスを導入する観点から好ましい。

ボトムガス排出部２２は、ウエハ搬送容器２内の内部ガスを排出するガス排出手段であり、載置部１２に設けられるボトムガス排出ノズルを有する。ボトムガス排出部２２のボトムガス排出ノズルは、ウエハ搬送容器２の排出ポート５ｂに接続し、排出ポート５ｂを介してウエハ搬送容器２内のボトムガスを排出する。ボトムガス排出部２２からの内部ガスの排出は、強制排気であってもよく、自然排気であってもよい。

ロードポート装置１０のガス排除手段３０は、図２に示す載置部ガス排除手段３２と、図４に示すフレーム側方ガス排除手段３６とを有する。図２に示すように、載置部ガス排除手段３２は、載置部１２に備えられる吸引ノズル３２ａを有しており、少なくとも載置部１２に載置されたウエハ搬送容器２より下方であって載置部１２より上方の第１空間Ｐ１（図２における影つきの部分）のガスを、吸引して排除する。

吸引ノズル３２ａは、図示しない負圧形成手段に接続されており、第１空間Ｐ１のガスを吸引して排除する。吸引ノズル３２ａは、載置部１２における可動テーブル１４の上面に開口しており、吸引ノズル３２ａの開口はウエハ搬送容器２の底面に対向する。また、吸引ノズル３２ａは、載置部１２におけるＹ軸方向の中央部よりフレーム部１１の近くに配置されているため、ウエハ搬送容器２の容器開口２ｃとフレーム開口１１ａとの接続部分から流出する内部ガスを、効率的に排除できる。

ただし、載置部ガス排除手段３２が有する吸引ノズル３２ａの配置は図２に示す例に限定されず、固定台１３の上面に開口する吸引ノズルを有していてもよい。また、載置部ガス排除手段３２の吸引ノズル３２ａは、複数の開口を有していてもよい。さらに、載置部ガス排除手段３２の吸引ノズル３２ａは、円形の開口を有するものに限定されず、Ｘ軸方向や、Ｙ軸方向に延びるスリット状の開口を有していてもよい。

図２に示すように、載置部ガス排除手段３２は、載置部１２に載置されたウエハ搬送容器２の底面と、載置部１２の上面との間に挟まれる第１空間Ｐ１のガスを、下方である載置部１２内にある配管へ吸引する吸引ノズル３２ａを有しているため、ウエハ搬送容器２内から流出し、第１空間Ｐ１に滞留する内部ガスを、第１空間Ｐ１から効率的に排除できる。そのため、載置部１２およびその周辺に設けられる駆動機構やセンサー類などが、内部ガスにより損傷する問題を防止することができる。

図４に示すように、フレーム側方ガス排除手段３６は、フレーム部１１におけるフレーム開口１１ａの側方に備えられる吸引ノズル３６ａを有しており、少なくともフレーム開口１１ａの外周周辺を囲む第２空間Ｐ２（図４における影付きの部分（図５も参照））のガスを排除する。吸引ノズル３６ａは、フレーム開口１１ａを水平方向（Ｘ軸方向）に挟む両側方に備えられており、ウエハ搬送容器２の容器開口２ｃを塞ぐ蓋４の隙間や、ウエハ搬送容器２とフレーム開口１１ａとの連結部分Ｂ１から流出する内部ガスを、効率的に排除できる。

また、図４に示す吸引ノズル３６ａは、ウエハ搬送容器２の側面に対向する開口を有しており、第２空間Ｐ２のガスを両側方へ吸引して排除する。ただし、フレーム側方ガス排除手段３６が有する吸引ノズル３６ａの配置及び形状は、図４に示す例に限定されない。吸引ノズル３６ａは複数の開口を有していてもよく、吸引ノズル３６ａはＺ軸方向に延びるスリット状の開口を有していてもよい。

図２及び図４に示すガス排除手段３０は、第１空間Ｐ１及び第２空間Ｐ２の少なくとも一方のガスを吸引して排除する吸引ノズル３２ａ、３６ａを有するため、第１空間Ｐ１及び第２空間Ｐ２に流出した化学的に活性なガスによる機械部品や電子部品の損傷を防ぐことができる。また、イーフェム６０内に形成されるミニエンバイロメント内から流出したガスが滞留し、ロードポート装置１０周辺に酸素濃度の低い領域が、局所的に形成されるのを防止するとともに、ミニエンバイロメント内から流出したガスが半導体工場内に拡散することを防止できる。

ロードポート装置１０が有するガス排除手段３０は、第１空間Ｐ１および第２空間Ｐ２の少なくとも一方のガスを排除できればよい。ただし、ロードポート装置１０のように、載置部ガス排除手段３２とフレーム側方ガス排除手段３６の両方を有するガス排除手段３０は、ウエハ搬送容器２やミニエンバイロメントから流出したガスを効果的に排除するとともに、流出したガスがロードポート装置１０の周りに滞留したり、半導体工場内に拡散したりすることを防止できる。

また、ロードポート装置１０が有する吸引ノズル３２ａ、３６ａは、ウエハ搬送容器２やミニエンバイロメントの外部の空間に開口しており、第１空間Ｐ１および第２空間Ｐ２の少なくとも一方のガスを吸引するものであればよいが、第１空間Ｐ１および第２空間Ｐ２の両方のガスを吸引するものであってもよい。たとえば、載置部ガス排除手段３２の吸引ノズル３２ａは、第１空間Ｐ１および第２空間Ｐ２の両方のガスを吸引できる。

ロードポート装置１０が有するガス排除手段３０は、載置部１２の上にウエハ搬送容器２が載置されている間は常にガスの排除を行ってもよいが、ウエハ搬送容器２の載置状態に応じて、ガスの排除実施と排除停止を切り替えてもよい。たとえば、図２に示すように、ウエハ搬送容器２の蓋４が閉じられているアンドック状態では、特にウエハ搬送容器２内が陽圧である場合に内部ガス流出のおそれがあるため、ガス排除手段３０によるガスの排除を行うことができる。

また、図３に示すように、ウエハ搬送容器２の蓋４が開かれ、容器内がイーフェム６０内と連通するドック状態では、内部ガスだけでなく、工場内に対して陽圧に保たれるミニエンバイロメント内のガスが流出するおそれがあるため、ガス排除手段３０によるガスの排除を行うことができる。さらに、ボトムガス供給部２４からウエハ搬送容器２内に清浄化ガスが供給されている場合は、ウエハ搬送容器２内の圧力が上昇して内部ガスが流出するおそれがあるため、ガス排除手段３０によるガスの排除を行うことができる。

第２実施形態
図５は、本発明の第２実施形態に係るロードポート装置１１０の側方からの要部断面図である。第２実施形態に係るロードポート装置１１０は、図３に示すガス排除手段３０とは異なるガス排除手段としてのフレーム下方ガス排除手段１３２を有する点を除き、第１実施形態に係るロードポート装置１０と同様である。したがって、ロードポート装置１１０の説明では、ロードポート装置１０との相違点のみ説明し、共通点については説明を省略する。

図５に示すように、フレーム下方ガス排除手段１３２は、フレーム部１１におけるフレーム開口１１ａの下方に備えられる吸引ノズル１３２ａを有しており、第１空間及び第２空間のガスを排除する。フレーム下方ガス排除手段１３２の吸引ノズル１３２ａは、図示しない負圧形成手段に接続されており、第１空間Ｐ１及び第２空間Ｐ２のガスを吸引して排除する。

吸引ノズル１３２ａは、フレーム開口１１ａの下方における可動テーブル１４側の面に開口しており、吸引ノズル１３２ａの開口は、ウエハ搬送容器２と載置部１２との隙間に配置されている。図５に示すように、吸引ノズル１３２ａは、第１空間Ｐ１と第２空間Ｐ２の重複部分に開口しているため、ウエハ搬送容器２内から流出したガスを、効率的に排除することができる。なお、第２空間Ｐ２のＹ軸方向の範囲は、フレーム開口１１ａの外周から約１０ｃｍ以内の範囲とすることができるが、さらにフレーム開口１１ａから離れた位置に、吸引ノズル１３２ａを配置することも可能である。

図５に示すロードポート装置１１０も、第１実施形態に示すロードポート装置１０と同様の効果を奏する。

第３実施形態
図６は、本発明の第３実施形態に係るロードポート装置１１０の側方からの要部断面図である。第２実施形態に係るロードポート装置１１０は、図２に示すガス吸引ノズル３２ａとは異なり、気体放出ノズル２３２ａを有するガス排除手段としての載置部ガス排除手段２３２を有する点で、第１実施形態に係るロードポート装置１０と同様である。したがって、ロードポート装置２１０の説明では、ロードポート装置１０との相違点のみ説明し、共通点については説明を省略する。

図６に示す載置部ガス排除手段２３２が有する気体放出ノズル２３２ａは、空気などのガスを放出することにより、第１空間Ｐ１に滞留するガスを押し出して排除する。気体放出ノズル２３２ａには、図示しない陽圧タンクや送風ファンなどからガスが供給される。このような気体放出ノズル２３２ａを有する載置部ガス排除手段２３２も、吸引ノズル３２ａを有する載置部ガス排除手段３２（図２参照）と同様に、第１空間Ｐ１に滞留するガスを排除し、機械部品の腐食防止や電子部品の寿命低下防止を実現できる。なお、気体放出ノズル２３２ａの配置は、図２に示す吸引ノズル３２ａと同様である。

図６に示す載置部ガス排除手段２３２は、第１空間Ｐ１と第２空間Ｐ２の重複領域にガスを放出し、第１空間Ｐ１及び第２空間Ｐ２に滞留する内部ガスを排除するが、気体放出ノズル２３２ａの配置としてはこれに限定されない。ガス排除手段が有する放出ノズルは、第１空間Ｐ１及び第２空間Ｐ２の少なくとも一方のガスを押し出して排除できるものであればよく、たとえば、図５に示す吸引ノズル３６ａと同様に、フレーム開口１１ａの側方に配置されていてもよい。

以上、本発明について実施形態を挙げて説明したが、本発明はこれらの実施形態にのみに限定されるものではなく、本発明は、これらの実施形態の一部を変更した多くの変形例を含むことは言うまでもない。たとえば、図２に示すように、それぞれに独立に配置されるボトムガス排出部２２と、載置部ガス排除手段３２とは、共通の負圧形成手段に接続されていてもよく、別々の負圧形成手段に接続されていてもよい。

また、ガス排除手段３０は、吸引ノズル３２ａ、３６ａ、１３２ａと気体放出ノズル２３２ａの一方のみを有していてもよいが、吸引ノズル３２ａ、３６ａ、１３２ａと気体放出ノズル２３２ａの両方を有していてもよい。

１…ウエハ
２…ウエハ搬送容器
２ｃ…容器開口
３…位置決め部
４…蓋
５ａ…供給ポート
５ｂ…排出ポート
１０、１１０、２１０…ロードポート装置
１１…フレーム部
１１ａ…フレーム開口
１２…載置部
１３…固定台
１４…可動テーブル
１５…位置決めピン
１６…ドア
Ｂ１…連結部分
Ｐ１…第１空間
Ｐ２…第２空間
２０…フロントガス供給部
２２…ボトムガス排出部
２４…ボトムガス供給部
３０…ガス排除手段
３２…載置部ガス排除手段
３２ａ…吸引ノズル
３６…フレーム側方ガス排除手段
３６ａ…吸引ノズル
６０…イーフェム
１３２…フレーム下方ガス排除手段
１３２ａ…吸引ノズル
２３２…載置部ガス排除手段
２３２ａ…気体放出ノズル

Claims (10)

1. ウエハ搬送容器を載置する載置部と、
   前記ウエハ搬送容器の容器開口が接続するフレーム開口が形成されているフレーム部と、
   前記載置部に載置された前記ウエハ搬送容器より下方であって前記載置部より上方の第１空間および前記フレーム開口の外周周辺を囲む第２空間の少なくとも一方のガスを排除するガス排除手段と、
   を有し、
   前記ガス排除手段は、前記載置部に備えられ少なくとも前記第１空間のガスを排除する載置部ガス排除手段を有し、
   前記載置部ガス排除手段は、前記フレーム部に接続された前記ウエハ搬送容器の底面と前記載置部とで挟まれた前記第１空間に連通しているロードポート装置。
2. ウエハ搬送容器を載置する載置部と、
   前記ウエハ搬送容器の容器開口が接続するフレーム開口が形成されているフレーム部と、
   前記載置部に載置された前記ウエハ搬送容器より下方であって前記載置部より上方の第１空間および前記フレーム開口の外周周辺を囲む第２空間の少なくとも一方のガスを排除するガス排除手段と、
   を有し、
   前記ガス排除手段は、前記フレーム部における前記フレーム開口の側方に備えられ少なくとも前記第２空間のガスを排除するフレーム側方ガス排除手段を有し、
   前記フレーム側方ガス排除手段は、気体の流出入口である開口部を有し、前記開口部は前記ウエハ搬送容器の外周側面に対向しているロードポート装置。
3. ウエハ搬送容器を載置する載置部と、
   前記ウエハ搬送容器の容器開口が接続するフレーム開口が形成されているフレーム部と、
   前記載置部に載置された前記ウエハ搬送容器より下方であって前記載置部より上方の第１空間および前記フレーム開口の外周周辺を囲む第２空間の少なくとも一方のガスを排除するガス排除手段と、
   を有し、
   前記ガス排除手段は、前記フレーム部における前記フレーム開口の下方に備えられ前記第１空間及び前記第２空間のガスを排除するフレーム下方ガス排除手段を有し、
   前記フレーム下方ガス排除手段は、気体が流出入する管状部を有し、
   前記管状部は、前記フレーム部の表面と裏面を貫通し、前記第１空間及び前記第２空間に連通しているロードポート装置。
4. 前記ウエハ搬送容器内に不活性ガスを供給するガス供給手段をさらに有する請求項１～請求項３のいずれかに記載のロードポート装置。
5. 前記ウエハ搬送容器内の内部ガスを排出するガス排出手段をさらに有する請求項４に記載のロードポート装置。
6. 前記ガス排除手段は、前記第１空間および前記第２空間の少なくとも一方のガスを吸引して排除する吸引ノズルを有することを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれかに記載のロードポート装置。
7. 前記ガス排除手段は、前記第１空間および前記第２空間の少なくとも一方のガスを押し出して排除する気体放出ノズルを有することを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれかに記載のロードポート装置。
8. 前記ガス排除手段は、前記載置部に備えられ少なくとも前記第１空間のガスを排除する載置部ガス排除手段を有することを特徴とする請求項２から請求項７までのいずれかに記載のロードポート装置。
9. 前記ガス排除手段は、前記フレーム部における前記フレーム開口の側方に備えられ少なくとも前記第２空間のガスを排除するフレーム側方ガス排除手段を有することを特徴とする請求項１および請求項３から請求項８までのいずれかに記載のロードポート装置。
10. 前記ガス排除手段は、前記フレーム部における前記フレーム開口の下方に備えられ前記第１空間及び前記第２空間のガスを排除するフレーム下方ガス排除手段を有することを特徴とする請求項１、請求項２および請求項４から請求項９までのいずれかに記載のロードポート装置。

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