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JP6915880B2 - Organic electroluminescent devices, organic electroluminescent devices and electronic devices - Google Patents

Organic electroluminescent devices, organic electroluminescent devices and electronic devices Download PDF

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JP6915880B2 JP2018143540A JP2018143540A JP6915880B2 JP 6915880 B2 JP6915880 B2 JP 6915880B2 JP 2018143540 A JP2018143540 A JP 2018143540A JP 2018143540 A JP2018143540 A JP 2018143540A JP 6915880 B2 JP6915880 B2 JP 6915880B2
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Description

本開示は、有機電界発光素子、有機電界発光装置および電子機器に関する。 The present disclosure relates to organic electroluminescent devices, organic electroluminescent devices and electronic devices.

有機電界発光素子を用いた有機電界発光装置(有機電界発光ディスプレイ)として、種々のものが提案されている(例えば、特許文献1参照)。 Various organic electroluminescent devices (organic electroluminescent displays) using an organic electroluminescent element have been proposed (see, for example, Patent Document 1).

特表2007−533157号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-533157

ところで、有機電界発光装置では、有機電界発光素子の通電安定性を損なうことなく、デバイス特性を改善することが求められている。そのため、通電安定性を損なうことなく、デバイス特性を改善することの可能な有機電界発光素子、有機電界発光装置および電子機器を提供することが望ましい。 By the way, in an organic electroluminescent device, it is required to improve the device characteristics without impairing the energization stability of the organic electroluminescent element. Therefore, it is desirable to provide an organic electroluminescent element, an organic electroluminescent device, and an electronic device capable of improving device characteristics without impairing energization stability.

本開示の一実施の形態に係る有機電界発光素子は、第1反射層と、第2反射層と、第1反射層と第2反射層との間に設けられた単色発光の有機発光層とを備えている。この有機電界発光素子は、さらに、有機発光層と第2反射層との間に設けられたAg電極層と、Ag電極層の有機発光層側に接するYb電子注入層とを備えている。Ag電極層は、前記第2反射層よりも薄くなっており、かつ0.1nm以上10nm以下となっている。第2反射層は、5nm以上30nm以下となっている。 The organic electroluminescent device according to the embodiment of the present disclosure includes a first reflective layer, a second reflective layer, and a monochromatic organic light emitting layer provided between the first reflective layer and the second reflective layer. It has. The organic electroluminescent device further includes an Ag electrode layer provided between the organic light emitting layer and the second reflection layer, and a Yb electron injection layer in contact with the organic light emitting layer side of the Ag electrode layer. The Ag electrode layer is thinner than the second reflective layer and has a thickness of 0.1 nm or more and 10 nm or less. The second reflective layer has a thickness of 5 nm or more and 30 nm or less.

本開示の一実施の形態に係る有機電界発光装置は、複数の有機電界発光素子を備えている。この有機電界発光装置において、複数の有機電界発光素子のうちの少なくとも1つは、上記の有機電界発光素子と同一の構成要素を有している。 The organic electroluminescent device according to the embodiment of the present disclosure includes a plurality of organic electroluminescent devices. In the organic electroluminescent device, at least one of the plurality of organic electroluminescent device has the same components as chromatic electromechanical field emission device described above.

本開示の一実施の形態に係る電子機器は、有機電界発光装置を備えている。この電子機器における有機電界発光装置は、上記の有機電界発光装置と同一の構成要素を有している。 The electronic device according to the embodiment of the present disclosure includes an organic electroluminescent device. The organic electroluminescent device in an electronic device includes a perforated electromechanical field emission device and the same components described above.

本開示の一実施の形態に係る有機電界発光素子、ならびに有機電界発光素子を備えた有機電界発光装置および電子機器によれば、第1反射層と第2反射層との間に、互いに接するYb電子注入層およびAg電極層を有機発光層側からこの順に積層した積層体が設けられているので、通電安定性を損なうことなく、デバイス特性を改善することができる。なお、上記内容は本開示の一例である。本開示の効果は、上述したものに限らず、他の異なる効果であってもよいし、更に他の効果を含んでいてもよい。 Yes electromechanical field emitting elements Ru engaged to an embodiment of the present disclosure, according to chromatic electromechanical field light-emitting element in the organic light emitting device and an electronic device provided as well, between the first reflective layer and the second reflective layer Since the laminated body in which the Yb electron injection layer and the Ag electrode layer in contact with each other are laminated in this order from the organic light emitting layer side is provided, the device characteristics can be improved without impairing the energization stability. The above content is an example of the present disclosure. The effects of the present disclosure are not limited to those described above, and may be other different effects, or may further include other effects.

本開示の第1の実施の形態に係る有機電界発光素子の断面構成の一例を表す図である。It is a figure which shows an example of the cross-sectional structure of the organic electroluminescent element which concerns on 1st Embodiment of this disclosure. 電流および光の経路の一例を表す図である。It is a figure which shows an example of the path of electric current and light. Ag膜厚とシート抵抗との関係の一例を表す図である。It is a figure which shows an example of the relationship between Ag film thickness and sheet resistance. 比較例に係る有機電界発光素子の断面構成の一例を表す図である。It is a figure which shows an example of the cross-sectional structure of the organic electroluminescent element which concerns on a comparative example. 変形例に係る有機電界発光素子の断面構成の一例を表す図である。It is a figure which shows an example of the cross-sectional structure of the organic electroluminescent element which concerns on the modification. Ag膜厚とシート抵抗、Yb電子注入層、Yb保護層の関係の一例を表す図である。It is a figure which shows an example of the relationship between Ag film thickness, sheet resistance, Yb electron injection layer, and Yb protection layer. 変形例に係る有機電界発光素子の断面構成の一例を表す図である。It is a figure which shows an example of the cross-sectional structure of the organic electroluminescent element which concerns on the modification. 変形例に係る有機電界発光素子の断面構成の一例を表す図である。It is a figure which shows an example of the cross-sectional structure of the organic electroluminescent element which concerns on the modification. 変形例に係る有機電界発光素子の断面構成の一例を表す図である。It is a figure which shows an example of the cross-sectional structure of the organic electroluminescent element which concerns on the modification. 変形例に係る有機電界発光素子の断面構成の一例を表す図である。It is a figure which shows an example of the cross-sectional structure of the organic electroluminescent element which concerns on the modification. 本開示の第2の実施の形態に係る有機電界発光装置の概略構成の一例を表す図である。It is a figure which shows an example of the schematic structure of the organic electroluminescent device which concerns on 2nd Embodiment of this disclosure. 図11の画素の回路構成の一例を表す図である。It is a figure which shows an example of the circuit structure of the pixel of FIG. 図11の表示パネルの概略構成の一例を表す平面図である。It is a top view which shows an example of the schematic structure of the display panel of FIG. 本開示の有機電界発光装置を備えた電子機器の外観の一例を斜視的に表す図である。It is a figure which shows an example of the appearance of the electronic device provided with the organic electroluminescent device of this disclosure perspectively. 本開示の有機電界発光素子を備えた照明装置の外観の一例を斜視的に表す図である。It is a figure which shows an example of the appearance of the illuminating apparatus provided with the organic electroluminescent element of this disclosure perspectively.

以下、本開示を実施するための形態について、図面を参照して詳細に説明する。以下に説明する実施の形態は、いずれも本開示の好ましい一具体例を示すものである。したがって、以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態などは、一例であって本開示を限定する主旨ではない。よって、以下の実施の形態における構成要素のうち、本開示の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。なお、各図は、模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。また、各図において、実質的に同一の構成に対しては同一の符号を付しており、重複する説明は省略又は簡略化する。なお、説明は以下の順序で行う。

1.第1の実施の形態(有機電界発光素子)
2.第1の実施の形態の変形例(有機電界発光素子)
3.第2の実施の形態(有機電界発光装置)
4.適用例(電子機器、照明装置)
Hereinafter, embodiments for carrying out the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings. Each of the embodiments described below shows a preferred specific example of the present disclosure. Therefore, the numerical values, shapes, materials, components, arrangement positions of the components, connection forms, and the like shown in the following embodiments are examples and are not intended to limit the present disclosure. Therefore, among the components in the following embodiments, the components not described in the independent claims indicating the highest level concept of the present disclosure will be described as arbitrary components. It should be noted that each figure is a schematic view and is not necessarily exactly illustrated. Further, in each figure, the same reference numerals are given to substantially the same configurations, and duplicate description will be omitted or simplified. The explanation will be given in the following order.

1. 1. First Embodiment (organic electroluminescent device)
2. Modification example of the first embodiment (organic electroluminescent device)
3. 3. Second Embodiment (organic electroluminescent device)
4. Application example (electronic equipment, lighting equipment)

<1.第1の実施の形態>
[構成]
図1は、本開示の第1の実施の形態に係る有機電界発光素子1の断面構成の一例を表したものである。有機電界発光素子1は、例えば、基板10上に設けられたものである。有機電界発光素子1は、例えば、反射層11(陽極、第1反射層)、正孔注入層12、正孔輸送層13、有機発光層14、電子輸送層15、電子注入層16(Yb電子注入層)、陰極17(Ag電極層)、膜厚調整層18および反射層19(第2反射層)を基板10側からこの順に含んで構成された素子構造となっている。正孔注入層12および正孔輸送層13は、有機発光層14の正孔注入側に設けられている。電子輸送層15および電子注入層16は、有機発光層14の電子注入側に設けられている。有機発光層14は、反射層11と反射層19との間に設けられた単色発光の有機発光層である。陰極17は、有機発光層14と反射層19との間に設けられた電極層である。電子注入層16は、陰極17の有機発光層14側に接している。膜厚調整層18は、陰極17と反射層19との間に設けられている。
<1. First Embodiment>
[Constitution]
FIG. 1 shows an example of the cross-sectional configuration of the organic electroluminescent device 1 according to the first embodiment of the present disclosure. The organic electroluminescent element 1 is provided on, for example, the substrate 10. The organic electroluminescent element 1 includes, for example, a reflective layer 11 (anode, first reflective layer), a hole injection layer 12, a hole transport layer 13, an organic light emitting layer 14, an electron transport layer 15, and an electron injection layer 16 (Yb electrons). The element structure includes an injection layer), a cathode 17 (Ag electrode layer), a film thickness adjusting layer 18, and a reflection layer 19 (second reflection layer) in this order from the substrate 10 side. The hole injection layer 12 and the hole transport layer 13 are provided on the hole injection side of the organic light emitting layer 14. The electron transport layer 15 and the electron injection layer 16 are provided on the electron injection side of the organic light emitting layer 14. The organic light emitting layer 14 is a monochromatic light emitting organic light emitting layer provided between the reflective layer 11 and the reflective layer 19. The cathode 17 is an electrode layer provided between the organic light emitting layer 14 and the reflective layer 19. The electron injection layer 16 is in contact with the organic light emitting layer 14 side of the cathode 17. The film thickness adjusting layer 18 is provided between the cathode 17 and the reflective layer 19.

本実施の形態では、有機電界発光素子1には、マイクロキャビティ構造が設けられている。マイクロキャビティ構造は、例えば、反射層11と反射層19との間で生じる光の共振を利用し、特定波長の光を増強させる効果を有する。有機発光層14から発せられた光は、反射層11と反射層19との間で多重反射する。このとき、有機発光層14から発せられた光のうちの特定の波長成分が強められる。反射層11と反射層19との間の光路長が、有機発光層14から発せられる光の発光スペクトルピーク波長に対応している。マイクロキャビティ構造により、有機発光層14から出射された光は、例えば、図2に示したように、反射層11と反射層19との間で所定の光学長の範囲内で反射を繰り返し、光路長に対応した特定の波長の光Lは共振して増強される一方、光路長に対応しない波長の光は弱められる。その結果、外部に取り出される光Lのスペクトルが急峻でかつ高強度になり、輝度および色純度が向上する。従って、反射層11と反射層19との間の距離が、キャビティが生じる光路長となっている。マイクロキャビティ構造では、膜厚が大きくなるにつれて、1次干渉(ファーストキャビティ)、2次干渉(セカンドキャビティ)、3次干渉(サードキャビティ)などが発生する。 In this embodiment, the organic electroluminescent device 1 is provided with a microcavity structure. The microcavity structure has an effect of enhancing light of a specific wavelength by utilizing, for example, the resonance of light generated between the reflection layer 11 and the reflection layer 19. The light emitted from the organic light emitting layer 14 is multiplely reflected between the reflective layer 11 and the reflective layer 19. At this time, a specific wavelength component of the light emitted from the organic light emitting layer 14 is strengthened. The optical path length between the reflective layer 11 and the reflective layer 19 corresponds to the emission spectrum peak wavelength of the light emitted from the organic light emitting layer 14. Due to the microcavity structure, the light emitted from the organic light emitting layer 14 is repeatedly reflected between the reflective layer 11 and the reflective layer 19 within a predetermined optical length range, as shown in FIG. 2, for example, and the optical path is repeated. The light L having a specific wavelength corresponding to the length is resonated and enhanced, while the light having a wavelength not corresponding to the optical path length is weakened. As a result, the spectrum of light L taken out to the outside becomes steep and high in intensity, and the brightness and color purity are improved. Therefore, the distance between the reflective layer 11 and the reflective layer 19 is the optical path length at which the cavity is generated. In the microcavity structure, as the film thickness increases, primary interference (first cavity), secondary interference (second cavity), tertiary interference (third cavity), and the like occur.

基板10は、例えば、透明基板等の光透過性を有する透光基板であり、例えば、ガラス基板である。基板10に用いられるガラス基板の材料としては、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラスまたは石英などが挙げられる。なお、基板10は、ガラス基板に限るものではなく、透光性樹脂基板や、有機EL表示装置のバックプレーンであるTFT(薄膜トランジスタ)基板であってもよい。基板10に用いられる透光性樹脂基板の材料としては、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、またはシリコーン系樹脂などが挙げられる。基板10は、高いフレキシブル性を持った基板であってもよいし、フレキシブル性のほとんど無い剛性の高い基板であってもよい。 The substrate 10 is, for example, a transparent substrate having light transmittance such as a transparent substrate, and is, for example, a glass substrate. Examples of the material of the glass substrate used for the substrate 10 include non-alkali glass, soda glass, non-fluorescent glass, phosphoric acid-based glass, boric acid-based glass, and quartz. The substrate 10 is not limited to a glass substrate, and may be a translucent resin substrate or a TFT (thin film transistor) substrate which is a backplane of an organic EL display device. Examples of the material of the translucent resin substrate used for the substrate 10 include acrylic resin, styrene resin, polycarbonate resin, epoxy resin, polyethylene, polyester, and silicone resin. The substrate 10 may be a substrate having high flexibility, or may be a highly rigid substrate having almost no flexibility.

反射層11は、例えば、基板10の上に形成されている。反射層11は、反射性を有する反射電極(反射性金属層)である。反射電極の材料としては、例えば、アルミニウム(Al)、銀(Ag)、または、アルミニウムもしくは銀の合金等が挙げられる。反射層11は、陽極として用いられる。反射層11は、反射率の高いAgもしくはAg合金で構成されたAg電極層であってもよい。 The reflective layer 11 is formed on, for example, the substrate 10. The reflective layer 11 is a reflective electrode (reflective metal layer) having reflectivity. Examples of the material of the reflective electrode include aluminum (Al), silver (Ag), and an alloy of aluminum or silver. The reflective layer 11 is used as an anode. The reflective layer 11 may be an Ag electrode layer made of Ag or an Ag alloy having a high reflectance.

正孔注入層12は、反射層11(陽極)から注入された正孔を正孔輸送層13、有機発光層14へ注入する機能を有する。正孔注入層12は、例えば、正孔注入性を有する無機材料によって構成されている。正孔注入性を有する無機材料としては、例えば、銀(Ag)、モリブデン(Mo)、クロム(Cr)、バナジウム(V)、タングステン(W)、ニッケル(Ni)、イリジウム(Ir)などの酸化物(無機酸化物)などが挙げられる。正孔注入層12は、例えば、無機酸化物の蒸着膜もしくはスパッタ膜で構成されている。なお、正孔注入層12は、正孔注入性を有する有機材料によって構成されていてもよい。正孔注入性を有する有機材料としては、例えば、PEDOT(ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物)などの導電性ポリマー材料などが挙げられる。正孔注入層12は、例えば、有機材料の塗布膜で構成されている。正孔注入層12は、有機材料の蒸着膜で構成されていてもよい。 The hole injection layer 12 has a function of injecting holes injected from the reflection layer 11 (anode) into the hole transport layer 13 and the organic light emitting layer 14. The hole injection layer 12 is made of, for example, an inorganic material having a hole injection property. Examples of the inorganic material having a hole injecting property include oxidation of silver (Ag), molybdenum (Mo), chromium (Cr), vanadium (V), tungsten (W), nickel (Ni), iridium (Ir) and the like. Things (inorganic oxides) and the like can be mentioned. The hole injection layer 12 is composed of, for example, a vapor-deposited film or a sputtered film of an inorganic oxide. The hole injection layer 12 may be made of an organic material having a hole injection property. Examples of the organic material having a hole injecting property include a conductive polymer material such as PEDOT (a mixture of polythiophene and polystyrene sulfonic acid). The hole injection layer 12 is composed of, for example, a coating film made of an organic material. The hole injection layer 12 may be made of a vapor-deposited film made of an organic material.

正孔輸送層13は、反射層11から注入された正孔を有機発光層14へ輸送する機能を有する。正孔輸送層13は、例えば、反射層11から注入された正孔を有機発光層14へ輸送する機能を有する材料(正孔輸送性材料)によって構成されている。上記の正孔輸送性材料としては、例えば、アリールアミン誘導体、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ブタジエン化合物、ポリスチレン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、テトラフェニルベンジン誘導体等、または、これらの組み合わせからなる材料が挙げられる。 The hole transport layer 13 has a function of transporting the holes injected from the reflection layer 11 to the organic light emitting layer 14. The hole transport layer 13 is composed of, for example, a material (hole transportable material) having a function of transporting holes injected from the reflection layer 11 to the organic light emitting layer 14. Examples of the hole transporting material include arylamine derivatives, triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, and oxazole derivatives. styryl anthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, butadiene compounds, polystyrene derivatives, Application Benefits triphenylmethane derivatives, tetraphenyl benzene derivatives, or materials mentioned consisting of combinations.

有機発光層14は、正孔と電子との再結合により、所定の色の光(単色光)を発する機能を有する。有機発光層14は、正孔と電子との再結合により励起子を生成し発光する有機発光材料を含んで構成されている。有機発光層14は、例えば、塗布膜であり、例えば、上記の有機発光材料を溶質の主成分とする溶液の塗布および乾燥により形成されている。有機発光層14は、蒸着膜で構成されていてもよい。 The organic light emitting layer 14 has a function of emitting light of a predetermined color (monochromatic light) by recombination of holes and electrons. The organic light emitting layer 14 is composed of an organic light emitting material that emits light by generating excitons by recombination of holes and electrons. The organic light emitting layer 14 is, for example, a coating film, and is formed, for example, by applying and drying a solution containing the above organic light emitting material as a main component of the solute. The organic light emitting layer 14 may be made of a vapor-deposited film.

有機発光層14は、例えば、単層の有機発光層、または、積層された複数の有機発光層によって構成されている。有機発光層14が積層された複数の有機発光層によって構成されている場合には、有機発光層14は、例えば、上記の有機発光材料の主成分が互いに共通の複数の有機発光層を積層したものである。 The organic light emitting layer 14 is composed of, for example, a single organic light emitting layer or a plurality of laminated organic light emitting layers. When the organic light emitting layer 14 is composed of a plurality of laminated organic light emitting layers, the organic light emitting layer 14 is, for example, laminated with a plurality of organic light emitting layers in which the main components of the above organic light emitting materials are common to each other. It is a thing.

有機発光層14の原料(材料)である有機発光材料は、例えば、ホスト材料とドーパント材料とが組み合わされた材料である。有機発光層14の原料(材料)である有機発光材料は、ドーパント材料単独であってもよい。ホスト材料は、主に電子又は正孔の電荷輸送の機能を担っており、ドーパント材料は、発光の機能を担っている。ホスト材料およびドーパント材料は1種類のみに限られるものではなく、2種類以上の組み合わせであってもよい。 The organic light emitting material which is a raw material (material) of the organic light emitting layer 14 is, for example, a material in which a host material and a dopant material are combined. The organic light emitting material which is a raw material (material) of the organic light emitting layer 14 may be a dopant material alone. The host material mainly has a function of transporting charges of electrons or holes, and the dopant material has a function of emitting light. The host material and the dopant material are not limited to only one type, and may be a combination of two or more types.

有機発光層14のホスト材料としては、例えば、アミン化合物、縮合多環芳香族化合物、ヘテロ環化合物が用いられる。アミン化合物としては、例えば、モノアミン誘導体、ジアミン誘導体、トリアミン誘導体、テトラアミン誘導体が用いられる。縮合多環芳香族化合物としては、例えば、アントラセン誘導体、ナフタレン誘導体、ナフタセン誘導体、フェナントレン誘導体、クリセン誘導体、フルオランテン誘導体、トリフェニレン誘導体、ペンタセン誘導体、または、ペリレン誘導体等が挙げられる。ヘテロ環化合物としては、例えば、カルバゾール誘導体、フラン誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピロール誘導体、インドール誘導体、アザインドール誘導体、アザカルバゾール、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、または、フタロシアニン誘導体等が挙げられる。 As the host material of the organic light emitting layer 14, for example, an amine compound, a condensed polycyclic aromatic compound, and a heterocyclic compound are used. As the amine compound, for example, a monoamine derivative, a diamine derivative, a triamine derivative, and a tetraamine derivative are used. Examples of the condensed polycyclic aromatic compound include anthracene derivatives, naphthalene derivatives, naphthalene derivatives, phenanthrene derivatives, chrysene derivatives, fluoranthene derivatives, triphenylene derivatives, pentacene derivatives, and perylene derivatives. Examples of the heterocyclic compound include carbazole derivatives, furan derivatives, pyridine derivatives, pyrimidine derivatives, triazine derivatives, imidazole derivatives, pyrazole derivatives, triazole derivatives, oxazole derivatives, oxaziazole derivatives, pyrrole derivatives, indol derivatives, and azaindole derivatives. Examples thereof include azacarbazole, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, and phthalocyanine derivatives.

また、有機発光層14のドーパント材料としては、例えば、ピレン誘導体、フルオランテン誘導体、アリールアセチレン誘導体、フルオレン誘導体、ペリレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アントラセン誘導体、または、クリセン誘導体が用いられる。また、有機発光層14の蛍光ドーパント材料としては、金属錯体が用いられてもよい。金属錯体としては、例えば、イリジウム(Ir)、白金(Pt)、オスミウム(Os)、金(Au)、レニウム(Re)、もしくは、ルテニウム(Ru)等の金属原子と配位子とを有するものが挙げられる。 Further, as the dopant material of the organic light emitting layer 14, for example, a pyrene derivative, a fluorantene derivative, an arylacetylene derivative, a fluorene derivative, a perylene derivative, an oxadiazole derivative, an anthracene derivative, or a chrysene derivative is used. Further, as the fluorescent dopant material of the organic light emitting layer 14, a metal complex may be used. Examples of the metal complex include those having a metal atom such as iridium (Ir), platinum (Pt), osmium (Os), gold (Au), rhenium (Re), or ruthenium (Ru) and a ligand. Can be mentioned.

電子輸送層15は、陰極17から注入された電子を有機発光層14へ輸送する機能を有する。電子輸送層15は、例えば、陰極17から注入された電子を有機発光層14へ輸送する機能を有する材料(電子輸送性材料)を含んで構成されている。電子輸送層15は、例えば、蒸着膜またはスパッタ膜で構成されている。上記の電子輸送性材料としては、例えば、分子内にヘテロ原子を1個以上含有する芳香族ヘテロ環化合物である。芳香族ヘテロ環化合物としては、例えば、ピリジン環、ピリミジン環、トリアジン環、ベンズイミダゾール環、フェナントロリン環、キナゾリン環等を骨格に含む化合物が挙げられる。上記の電子輸送性材料には、電子輸送性を有する金属がドープされている場合がある。この場合、電子輸送層15は、ドープ金属を含む有機電子輸送層である。電子輸送性を有する金属が電子輸送層15に含まれていることで、電子輸送層15の電子輸送性を向上できる。電子輸送層15に含まれるドープ金属としては、例えば、イッテルビウム(Yb)などの遷移金属が挙げられる。 The electron transport layer 15 has a function of transporting electrons injected from the cathode 17 to the organic light emitting layer 14. The electron transport layer 15 is configured to include, for example, a material (electron transportable material) having a function of transporting electrons injected from the cathode 17 to the organic light emitting layer 14. The electron transport layer 15 is composed of, for example, a thin-film deposition film or a sputter film. The electron-transporting material is, for example, an aromatic heterocyclic compound containing one or more heteroatoms in the molecule. Examples of the aromatic heterocyclic compound include compounds having a pyridine ring, a pyrimidine ring, a triazine ring, a benzimidazoline ring, a phenanthroline ring, a quinazoline ring, and the like in the skeleton. The electron-transporting material may be doped with a metal having electron-transporting property. In this case, the electron transport layer 15 is an organic electron transport layer containing a dope metal. Since the electron transport layer 15 contains a metal having an electron transport property, the electron transport property of the electron transport layer 15 can be improved. Examples of the dope metal contained in the electron transport layer 15 include a transition metal such as ytterbium (Yb).

電子注入層16は、陰極17から注入された電子を電子輸送層15、有機発光層14へ注入する機能を有する。電子注入層16は、例えば、陰極17から電子輸送層15、有機発光層14への電子の注入を促進させる機能を有する材料(電子注入性材料)によって構成されている。上記の電子注入性材料としては、例えば、イッテルビウム(Yb)が挙げられる。電子注入層16は、例えば、Ybで構成されたYb層であってもよい。電子輸送層15に含まれるドープ金属が、上記の電子注入性材料と同じ金属であってもよい。電子注入層16の膜厚は、例えば、0.1nm以上、5nm以下である。電子注入層16では、厚さが薄すぎると電子注入を促進させる機能が低下し、厚さが厚すぎると、透過率低下によって発光特性が低下することがある。また、Yb層は、陰極17側に接して形成される陰極17(Ag)の膜質を向上させ、シート抵抗を低抵抗化させる機能を有する。この結果、薄い膜厚の陰極17(Ag)においても通電安定性を損なうことなく、デバイス特性を改善することができる。 The electron injection layer 16 has a function of injecting electrons injected from the cathode 17 into the electron transport layer 15 and the organic light emitting layer 14. The electron injection layer 16 is composed of, for example, a material (electron injectable material) having a function of promoting the injection of electrons from the cathode 17 into the electron transport layer 15 and the organic light emitting layer 14. Examples of the electron-injectable material include ytterbium (Yb). The electron injection layer 16 may be, for example, a Yb layer composed of Yb. The dope metal contained in the electron transport layer 15 may be the same metal as the electron injectable material described above. The film thickness of the electron injection layer 16 is, for example, 0.1 nm or more and 5 nm or less. If the thickness of the electron injection layer 16 is too thin, the function of promoting electron injection is deteriorated, and if the thickness is too thick, the light emitting characteristics may be deteriorated due to a decrease in transmittance. Further, the Yb layer has a function of improving the film quality of the cathode 17 (Ag) formed in contact with the cathode 17 side and lowering the sheet resistance. As a result, the device characteristics can be improved without impairing the energization stability even in the cathode 17 (Ag) having a thin film thickness.

陰極17は、透光性を有する透明電極(透光性金属層)である。透明電極の材料としては、例えば、アルミニウム(Al)、マグネシウム(Mg)、銀(Ag)、アルミニウム−リチウム合金、マグネシウム−銀合金等が用いられる。透明電極として機能する陰極17は、例えば、厚さ0.1nm以上10nm以下のAl層、Mg層、Ag層、AlLi合金層もしくはMgAg合金層である。本実施の形態において、基板10及び反射層11が反射性を有し、陰極17および反射層19が透光性を有している場合には、有機電界発光素子1は、反射層19側から光が放出するトップエミッション構造となっている。 The cathode 17 is a transparent electrode (translucent metal layer) having translucency. As the material of the transparent electrode, for example, aluminum (Al), magnesium (Mg), silver (Ag), aluminum-lithium alloy, magnesium-silver alloy and the like are used. The cathode 17 that functions as a transparent electrode is, for example, an Al layer, an Mg layer, an Ag layer, an AlLi alloy layer, or an MgAg alloy layer having a thickness of 0.1 nm or more and 10 nm or less. In the present embodiment, when the substrate 10 and the reflective layer 11 are reflective and the cathode 17 and the reflective layer 19 are translucent, the organic electroluminescent element 1 is viewed from the reflective layer 19 side. It has a top emission structure that emits light.

陰極17の膜厚を厚くすると陰極17の反射によるキャビティ効果が強くなり、正面輝度が高く、視野角特性が低下する。陰極17の膜厚を薄くすると陰極17によるキャビティ効果は減少し、正面輝度が抑制され、視野角特性が向上する。反射層19においてもキャビティ効果が発生することから、陰極17の膜厚を厚くし、反射性を強くするとキャビティ効果は複雑化する。膜構成の設計に対する仕上がりの膜厚ずれに対する発光特性変化も大きくなる。また、発光特性変化が大きくなることで発光ムラのリスクも高くなる。 When the film thickness of the cathode 17 is increased, the cavity effect due to the reflection of the cathode 17 becomes stronger, the front luminance becomes high, and the viewing angle characteristic deteriorates. When the film thickness of the cathode 17 is reduced, the cavity effect due to the cathode 17 is reduced, the front luminance is suppressed, and the viewing angle characteristic is improved. Since the cavity effect is also generated in the reflective layer 19, the cavity effect is complicated by increasing the film thickness of the cathode 17 and increasing the reflectivity. The change in light emission characteristics due to the difference in the finished film thickness with respect to the design of the film configuration also becomes large. In addition, the risk of uneven light emission increases as the change in light emission characteristics increases.

そこで本実施の形態においては、例えば、陰極17の膜厚は反射19より薄くなっている。例えば、反射19の膜厚は5nm以上30nm以下となっていることが望ましく、陰極17の膜厚は反射19の膜厚よりも薄くなっており、かつ0.1nm以上10nm以下となっていることが望ましい。また、陰極17の膜厚は反射19の膜厚よりも薄くなっており、かつ0.1nm以上5nm以下となっていることがより望ましい。そのようにすることで、陰極17による反射が抑制され、陰極17がキャビティの反射層としてほとんど機能しなくなり、視野角特性の低下、膜厚ずれによるデバイス特性低下を抑制することが出来る。 Therefore, in the present embodiment, for example, the film thickness of the cathode 17 is thinner than that of the reflective layer 19. For example, the film thickness of the reflective layer 19 is preferably 5 nm or more and 30 nm or less, and the film thickness of the cathode 17 is thinner than the film thickness of the reflective layer 19 and is 0.1 nm or more and 10 nm or less. It is desirable to be there. Further, it is more desirable that the film thickness of the cathode 17 is thinner than the film thickness of the reflective layer 19 and is 0.1 nm or more and 5 nm or less. By doing so, the reflection by the cathode 17 is suppressed, the cathode 17 hardly functions as the reflection layer of the cavity, and the deterioration of the viewing angle characteristic and the deterioration of the device characteristic due to the film thickness deviation can be suppressed.

一方、陰極17を薄くすると、シート抵抗が悪化する。つまり、陰極17を出来るだけ薄く、且つシート抵抗の高抵抗化を抑制する構造が必要になる。そこで、本実施の形態においては、陰極17が例えばAg層となっており、かつ電子注入層16が例えばYb層となっている。Ybからなる電子注入層16の上に陰極17を成膜することでシート抵抗の低抵抗化を図ることができ、陰極17が薄くても通電安定性を損なうことなく、デバイス特性を改善することができる。 On the other hand, if the cathode 17 is made thin, the sheet resistance deteriorates. That is, a structure that makes the cathode 17 as thin as possible and suppresses the increase in sheet resistance is required. Therefore, in the present embodiment, the cathode 17 is, for example, an Ag layer, and the electron injection layer 16 is, for example, a Yb layer. By forming the cathode 17 on the electron injection layer 16 made of Yb, the sheet resistance can be lowered, and even if the cathode 17 is thin, the device characteristics can be improved without impairing the conduction stability. Can be done.

膜厚調整層18は、例えば、反射層11と反射層19との間の距離が所定の光路長となるように調整するための層である。膜厚調整層18は、例えば、ITOまたはIZO等の透明導電性材料によって構成されている。膜厚調整層18は、例えば、ITO層またはIZO層である。膜厚調整層18に用いられるITO層またはIZO層の膜厚は、例えば、40nmよりも大きな値となっている。膜厚調整層18は、陰極17よりも高抵抗となっており、電流経路を構成しないようになっている。膜厚調整層18は、金属ノンドープの有機層であってもよいし、金属ドープされた有機層であってもよい。膜厚調整層18が有機電界発光素子1における電流経路を構成しない限りにおいて、膜厚調整層18は、種々の構成を採り得る。 The film thickness adjusting layer 18 is, for example, a layer for adjusting the distance between the reflective layer 11 and the reflective layer 19 so as to have a predetermined optical path length. The film thickness adjusting layer 18 is made of, for example, a transparent conductive material such as ITO or IZO. The film thickness adjusting layer 18 is, for example, an ITO layer or an IZO layer. The film thickness of the ITO layer or the IZO layer used for the film thickness adjusting layer 18 is, for example, a value larger than 40 nm. The film thickness adjusting layer 18 has a higher resistance than the cathode 17, and does not form a current path. The film thickness adjusting layer 18 may be a metal-non-doped organic layer or a metal-doped organic layer. As long as the film thickness adjusting layer 18 does not form a current path in the organic electroluminescent element 1, the film thickness adjusting layer 18 may have various configurations.

反射層19は、透光性を有する透明電極(透光性金属層)である。透明電極の材料としては、例えば、アルミニウム(Al)、マグネシウム(Mg)、銀(Ag)、アルミニウム−リチウム合金、マグネシウム−銀合金等が用いられる。透明電極として機能する反射層19は、例えば、厚さ5nm以上30nm以下のAl層、Mg層、Ag層、AlLi合金層もしくはMgAg合金層である。 The reflective layer 19 is a transparent electrode (translucent metal layer) having translucency. As the material of the transparent electrode, for example, aluminum (Al), magnesium (Mg), silver (Ag), aluminum-lithium alloy, magnesium-silver alloy and the like are used. The reflective layer 19 that functions as a transparent electrode is, for example, an Al layer, an Mg layer, an Ag layer, an AlLi alloy layer, or an MgAg alloy layer having a thickness of 5 nm or more and 30 nm or less.

有機電界発光素子1は、表示パネルの画素として形成されている場合には、基板10上に、表示パネルの各画素を区画するための複数のバンク25を備えている。バンク25は、例えば、絶縁性の有機材料によって形成されている。絶縁性の有機材料としては、例えば、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂などが挙げられる。バンク25は、例えば、耐熱性、溶媒に対する耐性を持つ絶縁性樹脂によって形成されていることが好ましい。バンク25は、例えば、絶縁性樹脂をフォトリソグラフィおよび現像によって所望のパターンに加工することによって形成される。バンク25の断面形状は、例えば、図1に示したような順テーパ型であってもよく、裾が狭くなった逆テーパ型であってもよい。 When the organic electroluminescent element 1 is formed as pixels of a display panel, the organic electroluminescent element 1 is provided with a plurality of banks 25 for partitioning each pixel of the display panel on the substrate 10. The bank 25 is made of, for example, an insulating organic material. Examples of the insulating organic material include an acrylic resin, a polyimide resin, and a novolak type phenol resin. The bank 25 is preferably formed of, for example, an insulating resin having heat resistance and resistance to a solvent. The bank 25 is formed, for example, by processing an insulating resin into a desired pattern by photolithography and development. The cross-sectional shape of the bank 25 may be, for example, a forward taper type as shown in FIG. 1 or a reverse taper type having a narrow hem.

有機電界発光素子1は、反射層11(陽極)および陰極17と電気的に導通した配線21を備えている。この配線21は、反射層11(陽極)と陰極17との間に電流を供給するための配線である。図1には、陰極17、電子注入層16および電子輸送層15のうち、バンク25を超えて延在している部分(図1中の破線で囲んだ部分。以下、「配線層21A」と称する。)と、画素領域20Aを取り囲む周辺領域20Bに形成された電極層21Bとが、反射層11(陽極)と陰極17との間に電流を供給する配線21の一部を構成している様子が例示されている。配線層21Aおよび電極層21Bは、画素領域20Aの周辺の領域(周辺領域20B)に設けられている。電極層21Bは、例えば、反射層11と同一層内に設けられており、例えば、反射層11と共通の材料によって形成されている。画素領域20Aは、有機電界発光素子1のうち、反射層11および陰極17による電流注入によって発光する領域(発光領域14A)と対向する領域を含んでいる。発光領域14Aは、反射層11および陰極17による電流注入によって有機発光層14に生じる。反射層11がその周囲をバンク25で囲まれている場合には、発光領域14Aは、概ね、有機発光層14のうち、バンク25によって開口形成される開口部で反射層11と正孔注入層12とが互いに直接接している箇所と対向する領域に生じる。 The organic electroluminescent element 1 includes a wiring 21 that is electrically conductive with the reflective layer 11 (anode) and the cathode 17. The wiring 21 is a wiring for supplying a current between the reflective layer 11 (anode) and the cathode 17. In FIG. 1, of the cathode 17, the electron injection layer 16 and the electron transport layer 15, a portion extending beyond the bank 25 (a portion surrounded by a broken line in FIG. 1; hereinafter, “wiring layer 21A”” is shown. The electrode layer 21B formed in the peripheral region 20B surrounding the pixel region 20A constitutes a part of the wiring 21 for supplying a current between the reflection layer 11 (anode) and the cathode 17. The situation is illustrated. The wiring layer 21A and the electrode layer 21B are provided in a region (peripheral region 20B) around the pixel region 20A. The electrode layer 21B is provided in the same layer as the reflective layer 11, for example, and is formed of, for example, a material common to the reflective layer 11. The pixel region 20A includes a region of the organic electroluminescent element 1 facing a region (light emitting region 14A) that emits light due to current injection by the reflection layer 11 and the cathode 17. The light emitting region 14A is generated in the organic light emitting layer 14 by the current injection by the reflective layer 11 and the cathode 17. When the reflective layer 11 is surrounded by the bank 25, the light emitting region 14A is generally an opening formed by the bank 25 in the organic light emitting layer 14, and the reflective layer 11 and the hole injection layer are formed. It occurs in a region facing a portion where 12 is in direct contact with each other.

図3は、Ag膜厚とシート抵抗との関係の一例を表したものである。本実施の形態では、陰極17が例えばAg層となっており、かつ電子注入層16が例えばYb層となっている。このとき、陰極17(Ag層)の厚さを20nm以下とするとともに、電子注入層16(Yb層)の厚さを0.1nm以上5nm以下とすることにより、図3に示したように、電子注入層16(Yb層)/陰極17(Ag層)のシート抵抗値は、Ag単層のシート抵抗値よりも小さくなる。また、陰極17(Ag層)の厚さを5nm程度とした場合には、図3に示したように、電子注入層16(Yb層)/陰極17(Ag層)のシート抵抗値は20オーム/sq〜30オーム/sq程度となる。従って、陰極17(Ag層)の厚さを5nm以上20nm以下とし、電子注入層16(Yb層)の厚さを0.1nm以上5nm以下とすることにより、低抵抗な陰極17を実現することができる。この結果、薄い膜厚の陰極17(Ag)においても通電安定性を損なうことなく、デバイス特性を改善することができる。 FIG. 3 shows an example of the relationship between the Ag film thickness and the sheet resistance. In the present embodiment, the cathode 17 is, for example, an Ag layer, and the electron injection layer 16 is, for example, a Yb layer. At this time, by setting the thickness of the cathode 17 (Ag layer) to 20 nm or less and the thickness of the electron injection layer 16 (Yb layer) to 0.1 nm or more and 5 nm or less, as shown in FIG. The sheet resistance value of the electron injection layer 16 (Yb layer) / cathode 17 (Ag layer) is smaller than the sheet resistance value of the Ag single layer. When the thickness of the cathode 17 (Ag layer) is about 5 nm, the sheet resistance value of the electron injection layer 16 (Yb layer) / cathode 17 (Ag layer) is 20 ohms as shown in FIG. It is about / sq to 30 ohms / sq. Therefore, a low resistance cathode 17 can be realized by setting the thickness of the cathode 17 (Ag layer) to 5 nm or more and 20 nm or less and the thickness of the electron injection layer 16 (Yb layer) to 0.1 nm or more and 5 nm or less. Can be done. As a result, the device characteristics can be improved without impairing the energization stability even in the cathode 17 (Ag) having a thin film thickness.

次に、本実施の形態に係る有機電界発光素子1の効果について、比較例も交えて説明する。図4は、比較例に係る有機電界発光素子100の断面構成の一例を表したものである。有機電界発光素子100は、本実施の形態に係る有機電界発光素子1において、陰極17を省略し、かつ膜厚調整層18が金属ドープの有機層によって構成されたものに相当する。比較例では、陰極17の機能は反射層19が担う。比較例では、陰極17の機能を反射層19が担うため、電子注入層16は、膜厚調整層18と反射層19の間に形成される。 Next, the effect of the organic electroluminescent device 1 according to the present embodiment will be described with reference to comparative examples. FIG. 4 shows an example of the cross-sectional configuration of the organic electroluminescent device 100 according to the comparative example. The organic electroluminescent device 100 corresponds to the organic electroluminescent device 1 according to the present embodiment in which the cathode 17 is omitted and the film thickness adjusting layer 18 is composed of a metal-doped organic layer. In the comparative example, the function of the cathode 17 is carried out by the reflective layer 19. In the comparative example, since the reflective layer 19 is responsible for the function of the cathode 17, the electron injection layer 16 is formed between the film thickness adjusting layer 18 and the reflective layer 19.

有機電界発光素子100には、本実施の形態に係る有機電界発光素子1と同様のマイクロキャビティ構造が設けられている。本構造においてホールhは、反射層11から正孔注入層12、正孔輸送層13を通り有機発光層14に向かう。一方、電子eは周辺領域20Bにおいて、電極層21から電子輸送層15、膜厚調整層18、電子注入層16、反射層19を通って画素領域20Aに入り、画素領域20A内で電子注入層16、膜厚調整層18、電子輸送層15を通り有機発光層14に向かう。そして有機発光層14においてホールhと電子eが再結合し、発光が起こる。発光が起こると、金属ドープの有機層によって構成された膜厚調整層18において、ドープ金属が経時的に劣化し、膜厚調整層18が高抵抗化する。その結果、有機電界発光素子100に印加される電圧が高電圧化してしまう。また、膜厚調整層18内のドープ金属が有機発光層14にまで拡散し、消光が起こり発光特性の悪化を引き起こす。このように、有機電界発光素子100では、通電安定性が損なわれ、デバイス特性が悪化してしまう。 The organic electroluminescent device 100 is provided with a microcavity structure similar to that of the organic electroluminescent device 1 according to the present embodiment. In this structure, the hole h passes from the reflection layer 11 through the hole injection layer 12 and the hole transport layer 13 toward the organic light emitting layer 14. On the other hand, electrons e in the peripheral region 20B, the electron transport layer 15 from the electrode layer 21 B, the thickness adjusting layer 18, the electron injection layer 16, enters the pixel region 20A through the reflective layer 19, an electron injection in the pixel area 20A It passes through the layer 16, the film thickness adjusting layer 18, and the electron transport layer 15 toward the organic light emitting layer 14. Then, in the organic light emitting layer 14, the holes h and the electrons e are recombined, and light emission occurs. When light emission occurs, the doped metal deteriorates over time in the film thickness adjusting layer 18 composed of the metal-doped organic layer, and the film thickness adjusting layer 18 becomes highly resistant. As a result, the voltage applied to the organic electroluminescent element 100 becomes high. Further, the dope metal in the film thickness adjusting layer 18 diffuses to the organic light emitting layer 14, causing quenching and deterioration of light emitting characteristics. As described above, in the organic electroluminescent element 100, the energization stability is impaired and the device characteristics are deteriorated.

一方、本実施の形態では、反射層11(陽極)と反射層19との間に、互いに接する電子注入層16(Yb電子注入層)および陰極17(Ag電極層)を有機発光層14側からこの順に積層した積層体が設けられている。本構造においてホールhは、反射層11から正孔注入層12、正孔輸送層13を通り有機発光層14に向かう。一方、電子eは周辺領域20Bにおいて、電極層21から電子輸送層15、電子注入層16、陰極17通って画素領域20Aに入り、画素領域20A内で電子注入層16、電子輸送層15を通り有機発光層14に向かう。そして有機発光層14においてホールhと電子eが再結合し、発光が起こる。つまり、本構造においては、膜厚調整層18に電気は流れていない。つまりドープ金属が経時的に劣化し、膜厚調整層18が高抵抗化することは無い。これにより、通電安定性を損なうことなく、デバイス特性を改善することができる。 On the other hand, in the present embodiment, the electron injection layer 16 (Yb electron injection layer) and the cathode 17 (Ag electrode layer) in contact with each other are placed between the reflection layer 11 (anode) and the reflection layer 19 from the organic light emitting layer 14 side. Laminated bodies laminated in this order are provided. In this structure, the hole h passes from the reflection layer 11 through the hole injection layer 12 and the hole transport layer 13 toward the organic light emitting layer 14. On the other hand, electrons e in the peripheral region 20B, the electron transport layer from the electrode layer 21 B 15, the electron injection layer 16, enters the pixel region 20A through the cathode 17, the electron injection layer 16 in the pixel region 20A, the electron transport layer 15 It goes to the organic light emitting layer 14. Then, in the organic light emitting layer 14, the holes h and the electrons e are recombined, and light emission occurs. That is, in this structure, electricity does not flow through the film thickness adjusting layer 18. That is, the dope metal does not deteriorate over time and the film thickness adjusting layer 18 does not increase in resistance. Thereby, the device characteristics can be improved without impairing the energization stability.

また、本実施の形態では、陰極17(Ag電極層)が反射層19よりも薄くなっている。これにより、低抵抗な陰極17を実現すると同時に、陰極17および電子注入層16をキャビティの反射層としてほとんど機能しないようにすることができる。その結果、通電安定性を損なうことなく、デバイス特性を改善することができる。 Further, in the present embodiment, the cathode 17 (Ag electrode layer) is thinner than the reflective layer 19. As a result, the cathode 17 having low resistance can be realized, and at the same time, the cathode 17 and the electron injection layer 16 can hardly function as the reflection layer of the cavity. As a result, the device characteristics can be improved without impairing the energization stability.

また、本実施の形態では、陰極17(Ag電極層)と反射層19との間に、陰極17(Ag電極層)よりも高抵抗の膜厚調整層18が設けられている。これにより、膜厚調整層18が電流経路を構成しなくなるので、膜厚調整層18が金属ドープされた有機層であった場合であっても、それによる影響はない。また、そもそも、膜厚調整層18に電流が流れないので、膜厚調整層18にドープされた金属が拡散することもない。その結果、通電安定性を損なうことなく、デバイス特性を改善することができる。 Further, in the present embodiment, a film thickness adjusting layer 18 having a higher resistance than that of the cathode 17 (Ag electrode layer) is provided between the cathode 17 (Ag electrode layer) and the reflection layer 19. As a result, the film thickness adjusting layer 18 does not form a current path, so even if the film thickness adjusting layer 18 is a metal-doped organic layer, there is no effect thereof. Further, since no current flows through the film thickness adjusting layer 18 in the first place, the metal doped in the film thickness adjusting layer 18 does not diffuse. As a result, the device characteristics can be improved without impairing the energization stability.

<2.第1の実施の形態の変形例>
[変形例A]
上記実施の形態において、例えば、図5に示したように、陰極17(Ag電極層)の反射層19側に接する保護層28(Yb保護層)が設けられていてもよい。保護層28は、陰極1(Ag電極層)が非常に薄い場合に抵抗値を下げるための低抵抗層として機能する層である。保護層28は、例えば、厚さが0.1nm以上、5nm以下のYb層である。保護層28は、膜厚調整層18よりも低抵抗となっている。
<2. Modification example of the first embodiment>
[Modification example A]
In the above embodiment, for example, as shown in FIG. 5, a protective layer 28 (Yb protective layer) in contact with the reflective layer 19 side of the cathode 17 (Ag electrode layer) may be provided. The protective layer 28 is a layer that functions as a low resistance layer for lowering the resistance value when the cathode 17 (Ag electrode layer) is very thin. The protective layer 28 is, for example, a Yb layer having a thickness of 0.1 nm or more and 5 nm or less. The protective layer 28 has a lower resistance than the film thickness adjusting layer 18.

図6はAg膜厚とシート抵抗、Yb電子注入層、Yb保護層の関係の一例を表したものである。図6において、陰極17が例えばAg層となっており、かつ電子注入層16が例えばYb層となっている。Ag層の膜厚が5nmとなっているとき、Ybからなる電子注入層16が設けられていない場合(比較例)には、シート抵抗値が大幅に増大し、10Mオーム/sq以上になってしまう。一方、Ybからなる電子注入層16が設けられている場合(実施例)には、シート抵抗値は20オーム/sq〜30オーム/sq程度と低抵抗な陰極を実現することが出来る。また、Ag層の膜厚が2nmとなっているとき、Ybからなる電子注入層16が設けられていない場合(比較例)や、Ybからなる電子注入層16が設けられている場合であってもYbからなる保護層28が設けられていない場合(実施例)にはシート抵抗値が大幅に増大し10Mオーム/sq以上になってしまう。一方、Ybからなる電子注入層16が設けられており、且つYbからなる保護層28が設けられている場合(変形例A)には、シート抵抗値は350〜400オーム/sq程度と低抵抗な陰極17を実現することが出来る。このように、本変形例では、陰極17(Ag電極層)の反射層19側に接する保護層28(Yb保護層)が設けられていることにより、低抵抗な陰極17を実現することができる。この結果、薄い膜厚の陰極17(Ag電極層)においても通電安定性を損なうことなく、デバイス特性を改善することができる。 FIG. 6 shows an example of the relationship between the Ag film thickness, the sheet resistance, the Yb electron injection layer, and the Yb protective layer. In FIG. 6, the cathode 17 is, for example, an Ag layer, and the electron injection layer 16 is, for example, a Yb layer. When the film thickness of the Ag layer is 5 nm and the electron injection layer 16 made of Yb is not provided (comparative example), the sheet resistance value is significantly increased to 10 M ohm / sq or more. It ends up. On the other hand, when the electron injection layer 16 made of Yb is provided (Example), a low resistance cathode having a sheet resistance value of about 20 ohms / sq to 30 ohms / sq can be realized. Further, when the film thickness of the Ag layer is 2 nm, the electron injection layer 16 made of Yb is not provided (comparative example), or the electron injection layer 16 made of Yb is provided. If the protective layer 28 made of Yb is not provided (Example), the sheet resistance value is significantly increased to 10 M ohm / sq or more. On the other hand, when the electron injection layer 16 made of Yb is provided and the protective layer 28 made of Yb is provided (modification example A), the sheet resistance value is as low as about 350 to 400 ohms / sq. A good cathode 17 can be realized. As described above, in this modification, the low resistance cathode 17 can be realized by providing the protective layer 28 (Yb protective layer) in contact with the reflective layer 19 side of the cathode 17 (Ag electrode layer). .. As a result, the device characteristics can be improved without impairing the energization stability even in the cathode 17 (Ag electrode layer) having a thin film thickness.

[変形例B]
また、上記実施の形態および変形例Aにおいて、例えば、図7、図8に示したように、反射層19と陰極17(Ag電極層)とが電気的に導通していてもよい。さらに、上記実施の形態において、反射層19が、例えば、陰極17(Ag電極層)の一部に接していてもよい。具体的には、上記実施の形態において、反射層19と陰極17(Ag電極層)とが、有機発光層14の発光領域14Aと厚さ方向において非対向の領域(例えば、バンク25と厚さ方向において対向する領域、または、周辺領域20B)で電気的に導通していてもよい。このように、反射層19と陰極17(Ag電極層)とが電気的に導通していることにより、低抵抗な反射層19が補助配線の役割を担う。そのことでその抵抗影響を小さくすることが出来、パネルが大型化した際に、パネルの中央部に電圧がかかりにくくなる現象(電圧降下)を小さくすることが出来る。また、陰極17(Ag電極層)と反射層19との間に、陰極17(Ag電極層)よりも高抵抗の膜厚調整層18が設けられている構成において、膜厚調整層18が電流経路を構成しなくなる。これにより膜厚調整層18が金属ドープされた有機層であった場合であっても、それによる影響はない。また、そもそも、膜厚調整層18に電流が流れないので、膜厚調整層18にドープされた金属が拡散することもない。その結果、通電安定性を損なうことなく、デバイス特性を改善することができる。
[Modification B]
Further, in the above embodiment and the modified example A, for example, as shown in FIGS. 7 and 8, the reflective layer 19 and the cathode 17 (Ag electrode layer) may be electrically conductive. Further, in the above embodiment, the reflective layer 19 may be in contact with, for example, a part of the cathode 17 (Ag electrode layer). Specifically, in the above embodiment, the reflective layer 19 and the cathode 17 (Ag electrode layer) are not opposed to the light emitting region 14A of the organic light emitting layer 14 in the thickness direction (for example, the bank 25 and the thickness). It may be electrically conductive in the regions facing each other in the direction or the peripheral region 20B). As described above, the reflective layer 19 and the cathode 17 (Ag electrode layer) are electrically conductive, so that the low-resistance reflective layer 19 plays the role of auxiliary wiring. As a result, the influence of the resistance can be reduced, and when the panel is enlarged, the phenomenon (voltage drop) in which the voltage is less likely to be applied to the central portion of the panel can be reduced. Further, in a configuration in which a film thickness adjusting layer 18 having a higher resistance than that of the cathode 17 (Ag electrode layer) is provided between the cathode 17 (Ag electrode layer) and the reflective layer 19, the film thickness adjusting layer 18 is a current. No longer constructs a route. As a result, even if the film thickness adjusting layer 18 is a metal-doped organic layer, there is no effect thereof. Further, since no current flows through the film thickness adjusting layer 18 in the first place, the metal doped in the film thickness adjusting layer 18 does not diffuse. As a result, the device characteristics can be improved without impairing the energization stability.

[変形例C]
また、上記実施の形態、変形例Aおよび変形例Bにおいて、陰極17の膜厚増加による透過率の低下や膜厚ずれに対する発光特性変化を制御することができる場合には、陰極17の膜厚が反射膜19の膜厚と同じか、またはそれよりも厚くなっていてもよい。例えば、図9に示したように、陰極17の膜厚が反射膜19の膜厚と同じか、またはそれよりも厚くなっていてもよい。このようにした場合には、陰極17のシート抵抗を低抵抗化することができ、デバイス特性を改善することができる。
[Modification C]
Further, in the above-described embodiment, the modified example A and the modified example B, when the decrease in the transmittance due to the increase in the film thickness of the cathode 17 and the change in the light emitting characteristics due to the film thickness deviation can be controlled, the film thickness of the cathode 17 is formed. May be the same as or thicker than the film thickness of the reflective film 19. For example, as shown in FIG. 9, the film thickness of the cathode 17 may be the same as or thicker than the film thickness of the reflective film 19. In this case, the sheet resistance of the cathode 17 can be reduced, and the device characteristics can be improved.

[変形例D]
また、上記実施の形態、変形例Aおよび変形例Bにおいて、陰極17の厚さが、例えば、画素領域20Aで相対的に薄くなっており、画素領域20の周辺の領域(周辺領域20B)で相対的に厚くなっていてもよい。例えば、図10に示したように、陰極17の厚さが、画素領域20Aで相対的に薄くなっており、画素領域20の周辺の領域(周辺領域20B)で相対的に厚くなっていてもよい。このようにした場合には、周辺領域20Bでの電圧降下を小さくすることができ、デバイス特性を改善することができる。
[Modification D]
Further, the above embodiment, in the modified example A and modification B, the thickness of the cathode 17, for example, is relatively thin in the pixel region 20A, the periphery of the pixel region 20 A region (peripheral region 20B) May be relatively thick. For example, as shown in FIG. 10, the thickness of the cathode 17 has become relatively thin in the pixel area 20A, it becomes relatively thick in the area around the pixel region 20 A (peripheral region 20B) May be good. In this case, the voltage drop in the peripheral region 20B can be reduced, and the device characteristics can be improved.

<3.第2の実施の形態>
[構成]
図11は、本開示の第2の実施の形態に係る有機電界発光装置2の概略構成の一例を表したものである。図12は、有機電界発光装置2に設けられた各画素23の回路構成の一例を表したものである。有機電界発光装置2は、例えば、表示パネル20、コントローラ30およびドライバ40を備えている。表示パネル20は、画素領域20Aに、行列状に配置された複数の画素23を有している。ドライバ40は、表示パネル20の外縁部分(画素領域20Aの周辺の領域である周辺領域20B)に実装されている。コントローラ30およびドライバ40は、外部から入力された映像信号Dinおよび同期信号Tinに基づいて、表示パネル20を駆動する。
<3. Second Embodiment>
[Constitution]
FIG. 11 shows an example of a schematic configuration of the organic electroluminescent device 2 according to the second embodiment of the present disclosure. FIG. 12 shows an example of the circuit configuration of each pixel 23 provided in the organic electroluminescent device 2. The organic electroluminescent device 2 includes, for example, a display panel 20, a controller 30, and a driver 40. The display panel 20 has a plurality of pixels 23 arranged in a matrix in the pixel area 20A. The driver 40 is mounted on the outer edge portion of the display panel 20 (peripheral area 20B, which is a peripheral area of the pixel area 20A). The controller 30 and the driver 40 drive the display panel 20 based on the video signal Din and the synchronization signal Tin input from the outside.

(表示パネル20)
表示パネル20は、コントローラ30およびドライバ40によって各画素23がアクティブマトリクス駆動されることにより、外部から入力された映像信号Dinおよび同期信号Tinに基づく画像を表示する。表示パネル20は、行方向に延在する複数の走査線WSLと、列方向に延在する複数の信号線DTLと、行方向に延在する複数の電源線DSLと、行列状に配置された複数の画素23とを有している。
(Display panel 20)
The display panel 20 displays an image based on the video signal Din and the synchronization signal Tin input from the outside by driving each pixel 23 in an active matrix by the controller 30 and the driver 40. The display panel 20 is arranged in a matrix with a plurality of scanning lines WSL extending in the row direction, a plurality of signal line DTLs extending in the column direction, and a plurality of power supply lines DSL extending in the row direction. It has a plurality of pixels 23.

走査線WSLは、各画素23の選択に用いられるものであり、各画素23を所定の単位(例えば画素行)ごとに選択する選択パルスを各画素23に供給するものである。信号線DTLは、映像信号Dinに応じた信号電圧Vsigの、各画素23への供給に用いられるものであり、信号電圧Vsigを含むデータパルスを各画素23に供給するものである。電源線DSLは、各画素23に電力を供給するものである。 The scanning line WSL is used for selecting each pixel 23, and supplies a selection pulse for selecting each pixel 23 for each predetermined unit (for example, a pixel row) to each pixel 23. The signal line DTL is used to supply the signal voltage Vsig corresponding to the video signal Din to each pixel 23, and supplies a data pulse including the signal voltage Vsig to each pixel 23. The power supply line DSL supplies electric power to each pixel 23.

複数の画素23は、例えば、赤色光を発する複数の画素23、緑色光を発する複数の画素23および青色光を発する複数の画素23で構成されている。なお、複数の画素23は、例えば、さらに、他の色(例えば、白色や、黄色など)を発する複数の画素23を含んで構成されていてもよい。 The plurality of pixels 23 are composed of, for example, a plurality of pixels 23 that emit red light, a plurality of pixels 23 that emit green light, and a plurality of pixels 23 that emit blue light. The plurality of pixels 23 may be further composed of, for example, a plurality of pixels 23 that emit other colors (for example, white, yellow, etc.).

各信号線DTLは、後述の水平セレクタ41の出力端に接続されている。各画素列には、例えば、複数の信号線DTLが1本ずつ、割り当てられている。各走査線WSLは、後述のライトスキャナ42の出力端に接続されている。各画素行には、例えば、複数の走査線WSLが1本ずつ、割り当てられている。各電源線DSLは、電源の出力端に接続されている。各画素行には、例えば、複数の電源線DSLが1本ずつ、割り当てられている。 Each signal line DTL is connected to the output end of the horizontal selector 41 described later. For example, a plurality of signal line DTLs are assigned to each pixel sequence. Each scanning line WSL is connected to the output end of the light scanner 42 described later. For example, one plurality of scanning lines WSL are assigned to each pixel row. Each power line DSL is connected to the output end of the power supply. For example, a plurality of power supply line DSLs are assigned to each pixel row.

各画素23は、例えば、画素回路23−1と、有機電界発光素子23−2とを有している。有機電界発光素子23−2は、例えば、上記実施の形態およびその変形例に係る有機電界発光素子1である。表示パネル20に含まれる複数の画素23のうち、少なくとも1つは、上記実施の形態およびその変形例に係る有機電界発光素子1を有している。つまり、表示パネル20に含まれる複数の有機電界発光素子23−2のうち、少なくとも1つは、上記実施の形態およびその変形例に係る有機電界発光素子1で構成されている。 Each pixel 23 has, for example, a pixel circuit 23-1 and an organic electroluminescent element 23-2. The organic electroluminescent device 23-2 is, for example, the organic electroluminescent device 1 according to the above embodiment and a modification thereof. At least one of the plurality of pixels 23 included in the display panel 20 has an organic electroluminescent element 1 according to the above embodiment and a modification thereof. That is, at least one of the plurality of organic electroluminescent elements 23-2 included in the display panel 20 is composed of the organic electroluminescent element 1 according to the above embodiment and its modification.

画素回路23−1は、有機電界発光素子23−2の発光・消光を制御する。画素回路23−1は、後述の書込走査によって各画素23に書き込んだ電圧を保持する機能を有している。画素回路23−1は、例えば、駆動トランジスタTr1、書込トランジスタTr2および保持容量Csを含んで構成されている。 The pixel circuit 23-1 controls the light emission / quenching of the organic electroluminescent element 23-2. The pixel circuit 23-1 has a function of holding the voltage written to each pixel 23 by the writing scan described later. The pixel circuit 23-1 includes, for example, a drive transistor Tr1, a write transistor Tr2, and a holding capacitance Cs.

書込トランジスタTr2は、駆動トランジスタTr1のゲートに対する、映像信号Dinに対応した信号電圧Vsigの印加を制御する。具体的には、書込トランジスタTr2は、信号線DTLの電圧をサンプリングするとともに、サンプリングにより得られた電圧を駆動トランジスタTr1のゲートに書き込む。駆動トランジスタTr1は、有機電界発光素子23−2に直列に接続されている。駆動トランジスタTr1は、有機電界発光素子23−2を駆動する。駆動トランジスタTr1は、書込トランジスタTr2によってサンプリングされた電圧の大きさに応じて有機電界発光素子23−2に流れる電流を制御する。保持容量Csは、駆動トランジスタTr1のゲート−ソース間に所定の電圧を保持するものである。保持容量Csは、所定の期間中に駆動トランジスタTr1のゲート−ソース間電圧Vgsを一定に保持する役割を有する。なお、画素回路23−1は、上述の2Tr1Cの回路に対して各種容量やトランジスタを付加した回路構成となっていてもよいし、上述の2Tr1Cの回路構成とは異なる回路構成となっていてもよい。 The writing transistor Tr2 controls the application of the signal voltage Vsig corresponding to the video signal Din to the gate of the driving transistor Tr1. Specifically, the writing transistor Tr2 samples the voltage of the signal line DTL and writes the voltage obtained by the sampling to the gate of the driving transistor Tr1. The drive transistor Tr1 is connected in series with the organic electroluminescent element 23-2. The drive transistor Tr1 drives the organic electroluminescent element 23-2. The drive transistor Tr1 controls the current flowing through the organic electroluminescent element 23-2 according to the magnitude of the voltage sampled by the write transistor Tr2. The holding capacitance Cs holds a predetermined voltage between the gate and the source of the drive transistor Tr1. The holding capacitance Cs has a role of holding the gate-source voltage Vgs of the drive transistor Tr1 constant during a predetermined period. The pixel circuit 23-1 may have a circuit configuration in which various capacitances and transistors are added to the above-mentioned 2Tr1C circuit, or may have a circuit configuration different from the above-mentioned 2Tr1C circuit configuration. good.

各信号線DTLは、後述の水平セレクタ41の出力端と、書込トランジスタTr2のソースまたはドレインとに接続されている。各走査線WSLは、後述のライトスキャナ42の出力端と、書込トランジスタTr2のゲートとに接続されている。各電源線DSLは、電源回路33の出力端と、駆動トランジスタTr1のソースまたはドレインに接続されている。 Each signal line DTL is connected to the output end of the horizontal selector 41 described later and the source or drain of the writing transistor Tr2. Each scanning line WSL is connected to an output terminal of a light scanner 42, which will be described later, and a gate of a writing transistor Tr2. Each power supply line DSL is connected to the output end of the power supply circuit 33 and the source or drain of the drive transistor Tr1.

書込トランジスタTr2のゲートは、走査線WSLに接続されている。書込トランジスタTr2のソースまたはドレインが信号線DTLに接続されている。書込トランジスタTr2のソースおよびドレインのうち信号線DTLに未接続の端子が駆動トランジスタTr1のゲートに接続されている。駆動トランジスタTr1のソースまたはドレインが電源線DSLに接続されている。駆動トランジスタTr1のソースおよびドレインのうち電源線DSLに未接続の端子が有機電界発光素子23−2の陽極(反射層11)に接続されている。保持容量Csの一端が駆動トランジスタTr1のゲートに接続されている。保持容量Csの他端が駆動トランジスタTr1のソースおよびドレインのうち有機電界発光素子23−2側の端子に接続されている。 The gate of the writing transistor Tr2 is connected to the scanning line WSL. The source or drain of the write transistor Tr2 is connected to the signal line DTL. Of the source and drain of the write transistor Tr2, the terminals not connected to the signal line DTL are connected to the gate of the drive transistor Tr1. The source or drain of the drive transistor Tr1 is connected to the power supply line DSL. The terminals of the source and drain of the drive transistor Tr1 that are not connected to the power supply line DSL are connected to the anode (reflection layer 11) of the organic electroluminescent element 23-2. One end of the holding capacitance Cs is connected to the gate of the drive transistor Tr1. The other end of the holding capacitance Cs is connected to the terminal on the organic electroluminescent element 23-2 side of the source and drain of the drive transistor Tr1.

(ドライバ40)
ドライバ40は、例えば、水平セレクタ41およびライトスキャナ42を有している。水平セレクタ41は、例えば、制御信号の入力に応じて(同期して)、コントローラ30から入力されたアナログの信号電圧Vsigを、各信号線DTLに印加する。ライトスキャナ42は、複数の画素23を所定の単位ごとに走査する。
(Driver 40)
The driver 40 has, for example, a horizontal selector 41 and a light scanner 42. The horizontal selector 41 applies, for example, an analog signal voltage Vsig input from the controller 30 to each signal line DTL in response to (synchronously) input of a control signal. The light scanner 42 scans a plurality of pixels 23 in predetermined units.

(コントローラ30)
次に、コントローラ30について説明する。コントローラ30は、例えば、外部から入力されたデジタルの映像信号Dinに対して所定の補正を行い、それにより得られた映像信号に基づいて、信号電圧Vsigを生成する。コントローラ30は、例えば、生成した信号電圧Vsigを水平セレクタ41に出力する。コントローラ30は、例えば、外部から入力された同期信号Tinに応じて(同期して)、ドライバ40内の各回路に対して制御信号を出力する。
(Controller 30)
Next, the controller 30 will be described. For example, the controller 30 performs a predetermined correction on the digital video signal Din input from the outside, and generates a signal voltage Vsig based on the video signal obtained thereby. The controller 30 outputs, for example, the generated signal voltage Vsig to the horizontal selector 41. The controller 30 outputs a control signal to each circuit in the driver 40 in response to (synchronously) the synchronization signal Tin input from the outside, for example.

次に、図13、図1等を参照して、有機電界発光素子23−2について説明する。図13は、表示パネル20の概略構成例を表したものである。 Next, the organic electroluminescent device 23-2 will be described with reference to FIGS. 13 and 1. FIG. 13 shows a schematic configuration example of the display panel 20.

表示パネル20は、行列状に配置された複数の画素23を有している。複数の画素23は、例えば、上述したように、赤色光を発する画素23(23R)、緑色光を発する画素23(23G)、および青色光を発する画素23(23B)を含んで構成されている。複数の画素23において、例えば、画素23R、画素23Gおよび画素23Bが、カラー表示における画素(カラー画素24)を構成している。 The display panel 20 has a plurality of pixels 23 arranged in a matrix. As described above, the plurality of pixels 23 include, for example, a pixel 23 (23R) that emits red light, a pixel 23 (23G) that emits green light, and a pixel 23 (23B) that emits blue light. .. In the plurality of pixels 23, for example, the pixels 23R, the pixels 23G, and the pixels 23B constitute the pixels (color pixels 24) in the color display.

画素23Rは、赤色の光を発する有機電界発光素子23−2を含んで構成されている。画素23Gは、緑色の光を発する有機電界発光素子23−2を含んで構成されている。画素23Bは、青色の光を発する有機電界発光素子23−2を含んで構成されている。画素23R,23G,23Bは、例えば、ストライプ配列となっている。各画素23において、例えば、画素23R,23G,23Bが、列方向に並んで配置されている。さらに、各画素行において、例えば、同一色の光を発する複数の画素23が、行方向に一列に並んで配置されている。 The pixel 23R includes an organic electroluminescent element 23-2 that emits red light. The pixel 23G includes an organic electroluminescent element 23-2 that emits green light. The pixel 23B includes an organic electroluminescent element 23-2 that emits blue light. The pixels 23R, 23G, and 23B have, for example, a striped arrangement. In each pixel 23, for example, pixels 23R, 23G, and 23B are arranged side by side in the column direction. Further, in each pixel row, for example, a plurality of pixels 23 that emit light of the same color are arranged in a row in the row direction.

表示パネル20は、基板10上に、行方向に延在する複数のバンク25(上記第1の実施の形態におけるバンク25)と、列方向に延在する2つのバンク22とを有している。複数のバンク25および2つのバンク22は、表示パネル20の画素領域20Aを区画する。複数のバンク25は、各カラー画素24において、各画素23を区画する。2つのバンク22は、各画素行の端部を規定する。つまり、各画素行は、2つのバンク25および2のバンク22によって区画されている。 The display panel 20 has a plurality of banks 25 extending in the row direction (banks 25 in the first embodiment) and two banks 22 extending in the column direction on the substrate 10. .. The plurality of banks 25 and the two banks 22 partition the pixel area 20A of the display panel 20. The plurality of banks 25 partition each pixel 23 in each color pixel 24. The two banks 22 define the end of each pixel row. That is, each pixel row is partitioned by two banks 25 and two banks 22.

[効果]
本実施の形態では、表示パネル20に含まれる複数の有機電界発光素子23−2のうち、少なくとも1つは、上記実施の形態およびその変形例に係る有機電界発光素子1で構成されている。従って、発光特性に優れ、かつ長寿命の有機電界発光装置2を実現することができる。
[effect]
In the present embodiment, at least one of the plurality of organic electroluminescent elements 23-2 included in the display panel 20 is composed of the organic electroluminescent element 1 according to the above embodiment and its modified example. Therefore, it is possible to realize an organic electroluminescent device 2 having excellent light emitting characteristics and a long life.

<4.適用例>
[適用例その1]
以下では、上記第2の実施の形態で説明した有機電界発光装置2の適用例について説明する。有機電界発光装置2は、テレビジョン装置、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、シート状のパーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
<4. Application example>
[Application example 1]
Hereinafter, an application example of the organic electroluminescent device 2 described in the second embodiment will be described. The organic electric field light emitting device 2 is a video signal input from the outside or a video generated internally, such as a television device, a digital camera, a notebook personal computer, a sheet-shaped personal computer, a mobile terminal device such as a mobile phone, or a video camera. It is possible to apply a signal to a display device of an electronic device in all fields for displaying an image or a moving image.

図14は、本適用例に係る電子機器3の外観を斜視的に表したものである。電子機器3は、例えば、筐体310の主面に表示面320を備えたシート状のパーソナルコンピュータである。電子機器3は、電子機器3の表示面320に、有機電界発光装置2を備えている。有機電界発光装置2は、表示パネル20が外側を向くように配置されている。本適用例では、有機電界発光装置2が表示面320に設けられているので、発光特性に優れ、かつ長寿命の電子機器3を実現することができる。 FIG. 14 is a perspective view of the appearance of the electronic device 3 according to the present application example. The electronic device 3 is, for example, a sheet-shaped personal computer having a display surface 320 on the main surface of the housing 310. The electronic device 3 includes an organic electroluminescent device 2 on the display surface 320 of the electronic device 3. The organic electroluminescent device 2 is arranged so that the display panel 20 faces outward. In this application example, since the organic electroluminescent device 2 is provided on the display surface 320, it is possible to realize an electronic device 3 having excellent light emitting characteristics and a long life.

[適用例その2]
以下では、上記実施の形態およびその変形例に係る有機電界発光素子1の適用例について説明する。有機電界発光素子1は、卓上用もしくは床置き用の照明装置、または、室内用の照明装置など、あらゆる分野の照明装置の光源に適用することが可能である。
[Application example 2]
Hereinafter, an application example of the organic electroluminescent device 1 according to the above embodiment and a modified example thereof will be described. The organic electroluminescent element 1 can be applied to a light source of a lighting device in all fields such as a tabletop or floor-standing lighting device or an indoor lighting device.

図15は、上記実施の形態およびその変形例に係る有機電界発光素子1が適用される室内用の照明装置の外観を表したものである。この照明装置は、例えば、上記実施の形態およびその変形例に係る1または複数の有機電界発光素子1を含んで構成された照明部410を有している。照明部410は、建造物の天井420に適宜の個数および間隔で配置されている。なお、照明部410は、用途に応じて、天井420に限らず、壁430または床(図示せず)など任意の場所に設置することが可能である。 FIG. 15 shows the appearance of an indoor lighting device to which the organic electroluminescent element 1 according to the above embodiment and its modification is applied. This illuminating device has, for example, an illuminating unit 410 configured to include one or a plurality of organic electroluminescent elements 1 according to the above embodiment and a modification thereof. The lighting units 410 are arranged on the ceiling 420 of the building in an appropriate number and at intervals. The lighting unit 410 can be installed not only in the ceiling 420 but also in an arbitrary place such as a wall 430 or a floor (not shown) depending on the application.

これらの照明装置では、上記実施の形態およびその変形例に係る有機電界発光素子1からの光により、照明が行われる。これにより、発光特性に優れ、かつ長寿命の照明装置を実現することができる。 In these illuminating devices, illumination is performed by the light from the organic electroluminescent element 1 according to the above embodiment and its modified example. As a result, it is possible to realize a lighting device having excellent light emitting characteristics and a long life.

以上、実施の形態および適用例を挙げて本開示を説明したが、本開示は実施の形態等に限定されるものではなく、種々変形が可能である。なお、本明細書中に記載された効果は、あくまで例示である。本開示の効果は、本明細書中に記載された効果に限定されるものではない。本開示が、本明細書中に記載された効果以外の効果を持っていてもよい。 Although the present disclosure has been described above with reference to embodiments and application examples, the present disclosure is not limited to the embodiments and the like, and various modifications can be made. The effects described in this specification are merely examples. The effects of the present disclosure are not limited to the effects described herein. The present disclosure may have effects other than those described herein.

また、例えば、本開示は以下のような構成を取ることができる。
(1)
第1反射層と、
第2反射層と、
前記第1反射層と前記第2反射層との間に設けられた単色発光の有機発光層と、
前記有機発光層と前記第2反射層との間に設けられたAg電極層と、
前記Ag電極層の前記有機発光層側に接するYb電子注入層と
を備えた
有機電界発光素子。
(2)
前記Ag電極層の前記第2反射層側に接するYb保護層を更に備えた
(1)に記載の有機電界発光素子。
(3)
前記Ag電極層は、前記第2反射層よりも薄くなっている
(1)または(2)に記載の有機電界発光素子。
(4)
前記Ag電極層と前記第2反射層との間に、前記Ag電極層よりも高抵抗の膜厚調整層を更に備えた
(1)から(3)のいずれか1つに記載の有機電界発光素子。
(5)
前記第1反射層および前記Ag電極層と電気的に導通し、前記第1反射層と前記Ag電極層との間に電流を供給するための配線を更に備えた
(1)から(4)のいずれか1つに記載の有機電界発光素子。
(6)
前記第2反射層と前記Ag電極層とが電気的に導通している
(1)から(5)のいずれか1つに記載の有機電界発光素子。
(7)
前記第2反射層と前記Ag電極層とが、前記有機発光層の発光領域と非対向の領域において電気的に導通している
(6)に記載の有機電界発光素子。
(8)
前記第1反射層と前記第2反射層との間の距離が、キャビティが生じる光路長となっている
(1)から(7)のいずれか1つに記載の有機電界発光素子。
(9)
複数の有機電界発光素子を備え、
前記複数の有機電界発光素子のうちの少なくとも1つは、
第1反射層と、
第2反射層と、
前記第1反射層と前記第2反射層との間に設けられた単色発光の有機発光層と、
前記有機発光層と前記第2反射層との間に設けられたAg電極層と、
前記Ag電極層の前記有機発光層側に接するYb電子注入層と
を有する
有機電界発光装置。
(10)
前記複数の有機電界発光素子は、画素領域に設けられ、
前記第2反射層と前記Ag電極層とが、前記画素領域の周辺の領域で電気的に導通している
(9)に記載の有機電界発光装置。
(11)
複数の有機電界発光素子を有する有機電界発光装置を備え、
前記複数の有機電界発光素子のうちの少なくとも1つは、
第1反射層と、
第2反射層と、
前記第1反射層と前記第2反射層との間に設けられた単色発光の有機発光層と、
前記有機発光層と前記第2反射層との間に設けられたAg電極層と、
前記Ag電極層の前記有機発光層側に接するYb電子注入層と
を有する
電子機器。
(12)
第1反射層と、
第2反射層と、
前記第1反射層と前記第2反射層との間に設けられた単色発光の有機発光層と、
前記有機発光層と前記第2反射層との間に設けられた、膜厚が前記第2反射層よりも薄い電極層と、
前記電極層と前記第2反射層との間に設けられた、前記電極層よりも高抵抗の膜厚調整層と、
前記第1反射層と前記電極層との間に電流を供給するための配線層と
を備えた
有機電界発光素子。
(13)
前記第2反射層と前記電極層とが、画素領域の周辺の領域で電気的に導通している
(12)に記載の有機電界発光素子。
(14)
第1反射層と、
第2反射層と、
前記第1反射層と前記第2反射層との間に設けられた単色発光の有機発光層と、
前記有機発光層と前記第2反射層との間に設けられた電極層と、
前記電極層と前記第2反射層との間に設けられた、前記電極層よりも高抵抗の膜厚調整層と、
前記第1反射層と前記電極層との間に電流を供給するための配線層と
を備えた
有機電界発光素子。
(15)
前記電極層の膜厚が、画素領域で相対的に薄くなっており、前記画素領域の周辺の領域で相対的に厚くなっている
(14)に記載の有機電界発光素子。
Further, for example, the present disclosure may have the following structure.
(1)
The first reflective layer and
The second reflective layer and
A monochromatic organic light emitting layer provided between the first reflective layer and the second reflective layer,
An Ag electrode layer provided between the organic light emitting layer and the second reflective layer,
An organic electroluminescent device including a Yb electron injection layer in contact with the organic light emitting layer side of the Ag electrode layer.
(2)
The organic electroluminescent device according to (1), further comprising a Yb protective layer in contact with the second reflective layer side of the Ag electrode layer.
(3)
The organic electroluminescent device according to (1) or (2), wherein the Ag electrode layer is thinner than the second reflective layer.
(4)
The organic electroluminescence according to any one of (1) to (3), further comprising a film thickness adjusting layer having a higher resistance than the Ag electrode layer between the Ag electrode layer and the second reflective layer. element.
(5)
(1) to (4) further provided with wiring for electrically conducting the first reflective layer and the Ag electrode layer and supplying a current between the first reflective layer and the Ag electrode layer. The organic electroluminescent device according to any one.
(6)
The organic electroluminescent device according to any one of (1) to (5), wherein the second reflective layer and the Ag electrode layer are electrically conductive.
(7)
The second reflective layer and the Ag electrode layer are electrically conductive in a region opposite to the light emitting region of the organic light emitting layer.
The organic electroluminescent device according to (6).
(8)
The organic electroluminescent device according to any one of (1) to (7), wherein the distance between the first reflective layer and the second reflective layer is the optical path length in which the cavity is generated.
(9)
Equipped with multiple organic electroluminescent elements
At least one of the plurality of organic electroluminescent devices
The first reflective layer and
The second reflective layer and
A monochromatic organic light emitting layer provided between the first reflective layer and the second reflective layer,
An Ag electrode layer provided between the organic light emitting layer and the second reflective layer,
An organic electroluminescent device having a Yb electron injection layer in contact with the organic light emitting layer side of the Ag electrode layer.
(10)
The plurality of organic electroluminescent elements are provided in the pixel region.
The organic electroluminescent device according to (9), wherein the second reflective layer and the Ag electrode layer are electrically conductive in a region around the pixel region.
(11)
Equipped with an organic electroluminescent device having a plurality of organic electroluminescent elements,
At least one of the plurality of organic electroluminescent devices
The first reflective layer and
The second reflective layer and
A monochromatic organic light emitting layer provided between the first reflective layer and the second reflective layer,
An Ag electrode layer provided between the organic light emitting layer and the second reflective layer,
An electronic device having a Yb electron injection layer in contact with the organic light emitting layer side of the Ag electrode layer.
(12)
The first reflective layer and
The second reflective layer and
A monochromatic organic light emitting layer provided between the first reflective layer and the second reflective layer,
An electrode layer provided between the organic light emitting layer and the second reflective layer and having a film thickness thinner than that of the second reflective layer,
A film thickness adjusting layer having a higher resistance than the electrode layer, which is provided between the electrode layer and the second reflective layer,
An organic electroluminescent device including a wiring layer for supplying an electric current between the first reflective layer and the electrode layer.
(13)
The organic electroluminescent device according to (12), wherein the second reflective layer and the electrode layer are electrically conductive in a region around a pixel region.
(14)
The first reflective layer and
The second reflective layer and
A monochromatic organic light emitting layer provided between the first reflective layer and the second reflective layer,
An electrode layer provided between the organic light emitting layer and the second reflective layer,
A film thickness adjusting layer having a higher resistance than the electrode layer, which is provided between the electrode layer and the second reflective layer,
An organic electroluminescent device including a wiring layer for supplying an electric current between the first reflective layer and the electrode layer.
(15)
The organic electroluminescent device according to (14), wherein the film thickness of the electrode layer is relatively thin in the pixel region and relatively thick in the region around the pixel region.

1…有機電界発光素子、2…有機電界発光装置、3…電子機器、10…基板、11…反射層、12…正孔注入層、13…正孔輸送層、14…有機発光層、14A…発光領域、15…電子輸送層、16…電子注入層、17…陰極、18…膜厚調整層、19…反射層、20…表示パネル、20A…画素領域、20B…周辺領域、21…電極、21A…配線層、21B…電極層、22,25…バンク、23,23R,23G,23B…画素、23−1…画素回路、23−2…有機電界発光素子、24…カラー画素、25…バンク、28…保護層、30…コントローラ、40…ドライバ、41…水平セレクタ、42…ライトスキャナ、100…有機電界発光素子、310…筐体、320…表示面、410…照明部、420…天井、430…壁、Cs…保持容量、DTL…信号線、DSL…電源線、Tr1…駆動トランジスタ、Tr2…書込トランジスタ、Vgs…ゲート−ソース間電圧、Vsig…信号電圧、WSL…走査線。 1 ... organic electroluminescent element, 2 ... organic electroluminescent device, 3 ... electronic device, 10 ... substrate, 11 ... reflective layer, 12 ... hole injection layer, 13 ... hole transport layer, 14 ... organic light emitting layer, 14A ... Light emitting region, 15 ... electron transport layer, 16 ... electron injection layer, 17 ... cathode, 18 ... film thickness adjusting layer, 19 ... reflective layer, 20 ... display panel, 20A ... pixel region, 20B ... peripheral region, 21 ... electrode, 21A ... wiring layer, 21B ... electrode layer, 22,25 ... bank, 23,23R, 23G, 23B ... pixel, 23-1 ... pixel circuit, 23-2 ... organic electroluminescent element, 24 ... color pixel, 25 ... bank , 28 ... protective layer, 30 ... controller, 40 ... driver, 41 ... horizontal selector, 42 ... light scanner, 100 ... organic electroluminescent element, 310 ... housing, 320 ... display surface, 410 ... lighting unit, 420 ... ceiling, 430 ... wall, Cs ... holding capacity, DTL ... signal line, DSL ... power supply line, Tr1 ... drive transistor, Tr2 ... write transistor, Vgs ... gate-source voltage, Vsig ... signal voltage, WSL ... scanning line.

Claims (10)

第1反射層と、
第2反射層と、
前記第1反射層と前記第2反射層との間に設けられた単色発光の有機発光層と、
前記有機発光層と前記第2反射層との間に設けられたAg電極層と、
前記Ag電極層の前記有機発光層側に接するYb電子注入層と
を備え、
前記Ag電極層は、前記第2反射層よりも薄くなっており、かつ0.1nm以上10nm以下となっており
前記第2反射層は、5nm以上30nm以下となっている
有機電界発光素子。
The first reflective layer and
The second reflective layer and
A monochromatic organic light emitting layer provided between the first reflective layer and the second reflective layer,
An Ag electrode layer provided between the organic light emitting layer and the second reflective layer,
A Yb electron injection layer in contact with the organic light emitting layer side of the Ag electrode layer is provided.
The Ag electrode layer is thinner than the second reflective layer and has a thickness of 0.1 nm or more and 10 nm or less.
The second reflective layer is an organic electroluminescent element having a size of 5 nm or more and 30 nm or less.
前記Ag電極層の前記第2反射層側に接するYb保護層を更に備えた
請求項1に記載の有機電界発光素子。
The organic electroluminescent device according to claim 1, further comprising a Yb protective layer in contact with the second reflective layer side of the Ag electrode layer.
前記Ag電極層と前記第2反射層との間に、前記Ag電極層よりも高抵抗の膜厚調整層を更に備えた
請求項1または請求項2に記載の有機電界発光素子。
The organic electroluminescent device according to claim 1 or 2, further comprising a film thickness adjusting layer having a higher resistance than the Ag electrode layer between the Ag electrode layer and the second reflective layer.
前記第1反射層および前記Ag電極層と電気的に導通し、前記第1反射層と前記Ag電極層との間に電流を供給するための配線を更に備えた
請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の有機電界発光素子。
Claims 1 to 3 further include wiring for electrically conducting the first reflective layer and the Ag electrode layer and supplying a current between the first reflective layer and the Ag electrode layer. The organic electroluminescent element according to any one item.
前記第2反射層と前記Ag電極層とが電気的に導通している
請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の有機電界発光素子。
The organic electroluminescent device according to any one of claims 1 to 4, wherein the second reflective layer and the Ag electrode layer are electrically conductive.
前記第2反射層と前記Ag電極層とが、前記有機発光層の発光領域と非対向の領域において電気的に導通している
請求項5に記載の有機電界発光素子。
The organic electroluminescent device according to claim 5, wherein the second reflective layer and the Ag electrode layer are electrically conductive in a region opposite to the light emitting region of the organic light emitting layer.
前記第1反射層と前記第2反射層との間の距離が、キャビティが生じる光路長となっている
請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の有機電界発光素子。
The organic electroluminescent device according to any one of claims 1 to 6, wherein the distance between the first reflective layer and the second reflective layer is the optical path length in which the cavity is generated.
複数の有機電界発光素子を備え、
前記複数の有機電界発光素子のうちの少なくとも1つは、
第1反射層と、
第2反射層と、
前記第1反射層と前記第2反射層との間に設けられた単色発光の有機発光層と、
前記有機発光層と前記第2反射層との間に設けられたAg電極層と、
前記Ag電極層の前記有機発光層側に接するYb電子注入層と
を有し、
前記Ag電極層は、前記第2反射層よりも薄くなっており、かつ0.1nm以上10nm以下となっており
前記第2反射層は、5nm以上30nm以下となっている
有機電界発光装置。
Equipped with multiple organic electroluminescent elements
At least one of the plurality of organic electroluminescent devices
The first reflective layer and
The second reflective layer and
A monochromatic organic light emitting layer provided between the first reflective layer and the second reflective layer,
An Ag electrode layer provided between the organic light emitting layer and the second reflective layer,
It has a Yb electron injection layer in contact with the organic light emitting layer side of the Ag electrode layer, and has.
The Ag electrode layer is thinner than the second reflective layer and has a thickness of 0.1 nm or more and 10 nm or less.
The second reflective layer is an organic electroluminescent device having a size of 5 nm or more and 30 nm or less.
前記複数の有機電界発光素子は、画素領域に設けられ、
前記第2反射層と前記Ag電極層とが、前記画素領域の周辺の領域で電気的に導通している
請求項8に記載の有機電界発光装置。
The plurality of organic electroluminescent elements are provided in the pixel region.
The organic electroluminescent device according to claim 8, wherein the second reflective layer and the Ag electrode layer are electrically conductive in a region around the pixel region.
複数の有機電界発光素子を有する有機電界発光装置を備え、
前記複数の有機電界発光素子のうちの少なくとも1つは、
第1反射層と、
第2反射層と、
前記第1反射層と前記第2反射層との間に設けられた単色発光の有機発光層と、
前記有機発光層と前記第2反射層との間に設けられたAg電極層と、
前記Ag電極層の前記有機発光層側に接するYb電子注入層と
を有し、
前記Ag電極層は、前記第2反射層よりも薄くなっており、かつ0.1nm以上10nm以下となっており
前記第2反射層は、5nm以上30nm以下となっている
電子機器。
Equipped with an organic electroluminescent device having a plurality of organic electroluminescent elements,
At least one of the plurality of organic electroluminescent devices
The first reflective layer and
The second reflective layer and
A monochromatic organic light emitting layer provided between the first reflective layer and the second reflective layer,
An Ag electrode layer provided between the organic light emitting layer and the second reflective layer,
It has a Yb electron injection layer in contact with the organic light emitting layer side of the Ag electrode layer, and has.
The Ag electrode layer is thinner than the second reflective layer and has a thickness of 0.1 nm or more and 10 nm or less.
The second reflective layer is an electronic device having a thickness of 5 nm or more and 30 nm or less.
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