JP6997144B2 - オンザフライ基板センタリングを含む処理装置 - Google Patents
オンザフライ基板センタリングを含む処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6997144B2 JP6997144B2 JP2019153221A JP2019153221A JP6997144B2 JP 6997144 B2 JP6997144 B2 JP 6997144B2 JP 2019153221 A JP2019153221 A JP 2019153221A JP 2019153221 A JP2019153221 A JP 2019153221A JP 6997144 B2 JP6997144 B2 JP 6997144B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- door
- alignment element
- alignment
- processing apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
- H01L21/681—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment using optical controlling means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
- H01L21/67265—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection of substrates stored in a container, a magazine, a carrier, a boat or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67772—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving removal of lid, door, cover
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
- Y10S414/136—Associated with semiconductor wafer handling including wafer orienting means
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
1.分野
例示的な実施形態は、概して基板処理装置に関し、特に、基板センタリングを含む基板処理装置に関するものである。
半導体集積回路の典型的な製造プロセスは、ロボットマニピュレータを利用して基板、例えば円形シリコンウエハ(または任意の他の適当な基板)などを循環させ、完全に自動化された処理装置において所定の作業順序を通じて行われ得る。基板は、スロットに保存された1つ以上の基板からなる一群の基板を収納する標準の搬送カセット内のツールとも呼ばれる基板処理装置に送られ得る。そして各基板はツールに組み込まれ得る特殊のピックアンドプレイスロボットによってカセットから搬送され得る。ロボットは、一般的には基板の背面とエンドエフェクタとの間の摩擦力により基板を保持する。応用例によっては、摩擦力は制御されたサクションカップ・グリッパまたはエンドエフェクタに配設されたアクティブなグリップ部材で強化されてもよい。
開示される実施形態の態様によれば、基板処理装置が提供される。基板処理装置は、以下でより詳細に述べるように、オンザフライ基板センタリング/アライメント及び/又は偏心(本明細書ではアライメントと総称する)検出を行うために通過する基板を検知あるいは検出するように構成された1つ以上のスロット弁又は隔離弁を備えている。アライメントセンサをスロット弁内あるいはスロット弁上に取り付けると、スロット弁が連結されるチャンバの内容積をできるだけ小さくでき、基板及びエンドエフェクタ(ならびにエンドエフェクタが取り付けられるロボットアームの任意の適当な部分)に対して、基板がチャンバからチャンバへ、又はチャンバを通過するのに十分な間隙のみをチャンバ内に設けることができる。開示される実施形態の態様を、図面を参照して説明するが、この開示される実施形態の態様は様々な形で体現され得ることが理解されるべきである。また、任意の適当な寸法、形状、あるいは要素又は材料の種類が用いられ得る。
図1A及び1Bを参照すると、例えば半導体ツールステーション1090のような、開示される実施形態の一態様による処理装置が示されている。図面には1つの半導体ツールが示されているが、本明細書において説明される、開示される実施形態の態様は、ロボットマニピュレータを採用するどんなツールステーション又は用途にも適用することができる。この例においては、ツール1090はクラスタツールとして示されているが、開示される実施形態の態様は、例えば図1C及び1Dに示される線形ツールステーションのような、任意の適当なツールステーションに適用されてもよい。
を備えている。この態様においては、上下に配列されたチャンバ550C1,550C2用のスロット弁500A,500Bが、スロット弁が開く時にドア520A,520Bが互いに離れるように互いに対向するものとして図示されている。対向するスロット弁(及びドアセンサを所定の検知位置に位置決めすることを可能にする、本明細書に記載されるようなドア位置決め用のストップ/センサを含み得るドア駆動部)の適当な配列は、開示内容が先に参照により全体が本明細書に組み込まれている、例えば特許文献10に記載されている。
開示される実施形態の1つ以上の態様によれば、少なくとも1つの検知素子が基板搬送面に面している。
開示される実施形態の1つ以上の態様によれば、弁は基板搬送面が貫通配設されたハウジングを備える。
開示される実施形態の1つ以上の態様によれば、ドア駆動部は、少なくとも1つの基板検知素子が所定の検知位置に位置するように、ドアをハウジング内に位置決めするように構成された機械的ストップを備える。
開示される実施形態の1つ以上の態様によれば、基板処理装置は、ドア駆動部に通信可能に接続された制御部を備え、ドア駆動部は、少なくとも1つの基板検知素子が所定の検知位置に位置するように、ハウジング内のドアの位置決めを制御部とともに実行するように構成された少なくとも1つのエンコーダを備える。
開示される実施形態の1つ以上の態様によれば、少なくとも1つの基板検知素子は、基板搬送面に沿って移動する基板を検知するように構成されたセンサ対を構成する、ドアの側面に配設された第1の検知素子と、ハウジングに配設された第2の検知素子とを備える。
開示される実施形態の1つ以上の態様によれば、第1の検知素子は反射器であり、第2の検知素子は、発光器又は受光器のうちの少なくとも1つを備える。
開示される実施形態の1つ以上の態様によれば、第2の検知素子は反射器であり、第1の検知素子は、発光器又は受光器のうちの少なくとも1つを備える。
開示される実施形態の1つ以上の態様によれば、基板処理装置はクラスタ型基板処理ツールを備える。
開示される実施形態の1つ以上の態様によれば、基板処理装置は、第2のドアを有する第2の隔離弁を備え、ドアは第2のドアと対向配置されており、少なくとも1つの基板検知素子は、ドアの側面に配設された第1の検知素子と、基板搬送面に面する第2のドアの側面に配設された第2の検知素子とを備え、第1及び第2の検知素子は基板搬送面に沿って移動する基板を検知するように構成されたセンサ対を構成する。
開示される実施形態の1つ以上の態様によれば、第2の検知素子は反射器であり、第1の検知素子は、発光器又は受光器のうちの少なくとも1つを備える。
開示される実施形態の1つ以上の態様によれば、基板を基板処理装置内で整列させる方法が提供される。該方法は、少なくとも1つの検知素子がドアに取り付けられた隔離弁を提供することと、少なくとも1つの検知素子がウエハ搬送面に対する所定の検知位置に位置するように、少なくとも1つの検知素子をドアに位置決めすることと、ウエハ搬送面上に位置する基板を少なくとも1つの検知素子を用いて検知することと、基板保持位置に対する基板のアライメントを実行するために、制御部を用いて少なくとも1つの検知素子からデータを受信することと、を備える。
開示される実施形態の1つ以上の態様によれば、方法は、少なくとも1つの基板検知素子が所定の検知位置に位置するように、ドアを電子的に位置決めすることを備える。
開示される実施形態の1つ以上の態様によれば、少なくとも1つの基板検知素子は、光ビーム検知素子、光反射検知素子、誘導検知素子、又は容量検知素子のうちの1つ以上を備える。
開示される実施形態の1つ以上の態様によれば、ドア駆動部は、少なくとも1つの基板検知素子が、基板搬送面上に位置する基板を検知するために基板搬送面に対して所定の検知位置に位置するように孔クロージャを位置決めするように構成されている。
開示される実施形態の1つ以上の態様によれば、ドア駆動部は、少なくとも1つの基板検知素子が所定の検知位置に位置するように孔クロージャを位置決めするように構成された機械的ストップを備える。
開示される実施形態の1つ以上の態様によれば、少なくとも1つの基板検知素子は、光ビーム検知素子、光反射検知素子、誘導検知素子、又は容量検知素子のうちの1つ以上を備える。
開示される実施形態の1つ以上の態様によれば、ドア及び少なくとも1つの基板検知素子は、ユニットとして弁アセンブリから取り外し可能である。
開示される実施形態の1つ以上の態様によれば、ドアは、閉じている時に基板保持チャンバの雰囲気である超高真空を密閉するように構成されている。
Claims (25)
- 基板移送開口部及び基板搬送面が画定されたチャンバを画定するフレームと、
前記フレームに取り付けられ、閉じている時に前記チャンバの雰囲気を密閉するように構成され、前記基板移送開口部を開閉するために移動可能に配設されたドアを有する弁と、
少なくとも1つの基板アライメント素子であって、前記少なくとも1つの基板アライメント素子が前記基板移送開口部を通過する基板と相互作用するように、前記ドアの側面に配設され、前記ドアの移動によって前記基板搬送面上に位置する前記基板を検知するように配向されて位置決めされ、前記少なくとも1つの基板アライメント素子が前記基板搬送面で前記基板移送開口部を通過する前記基板のアライメントを決定する特徴の位置合わせを行うように、前記基板搬送面に位置する、少なくとも1つの基板アライメント素子と、
を備える基板処理装置。 - 前記少なくとも1つの基板アライメント素子は前記基板搬送面に面している、請求項1の基板処理装置。
- 前記弁は、前記基板搬送面が貫通配置されたハウジングを備える、請求項1の基板処理装置。
- 前記少なくとも1つの基板アライメント素子は、前記ドアの側面に配設された第1のアライメント素子と、前記基板搬送面に沿って移動する前記基板との相互作用と連携し、前記基板搬送面で前記基板移送開口部を通過する前記基板のアライメントを決定する特徴の位置合わせを行うように構成された連携アライメント素子を形成するために、前記ハウジングに配設された第2のアライメント素子とを備える、請求項3の基板処理装置。
- 前記第1のアライメント素子は反射器であり、前記第2のアライメント素子は、発光器又は受光器のうちの少なくとも1つを備える、請求項4の基板処理装置。
- 前記第2のアライメント素子は反射器であり、前記第1のアライメント素子は、発光器又は受光器のうちの少なくとも1つを備える、請求項4の基板処理装置。
- 前記弁は、前記少なくとも1つの基板アライメント素子が前記基板搬送面に位置する基板と相互作用するために所定の相互作用位置に位置するように、前記ドアを前記基板搬送面に対して位置決めするように構成されたドア駆動部を備える、請求項1の基板処理装置。
- 前記ドア駆動部は、前記少なくとも1つの基板アライメント素子が前記所定の相互作用位置に位置するように、前記ドアを前記弁のハウジング内に位置決めするように構成された機械的ストップを備える、請求項7の基板処理装置。
- 前記ドア駆動部に通信可能に接続された制御部をさらに備え、前記ドア駆動部は、前記少なくとも1つの基板アライメント素子が前記所定の相互作用位置に位置するように、前記弁のハウジング内の前記ドアの位置決めを前記制御部とともに実行するように構成された少なくとも1つのエンコーダを備える、請求項7の基板処理装置。
- 前記少なくとも1つの基板アライメント素子は、光ビーム検知素子、光反射検知素子、誘導検知素子、又は容量検知素子のうちの1つ以上を備える、請求項1の基板処理装置。
- 前記基板処理装置は直線状に配置された基板処理ツールを備える、請求項1の基板処理装置。
- 前記基板処理装置はクラスタ型基板処理ツールを備える、請求項1の基板処理装置。
- 第2のドアを有する第2の隔離弁をさらに備え、前記ドアは前記第2のドアと対向配置され、前記少なくとも1つの基板アライメント素子は、前記ドアの側面に配設された第1のアライメント素子と、前記基板搬送面に面する前記第2のドアの側面に配設された第2のアライメント素子とを備え、前記第1及び第2のアライメント素子は前記基板搬送面に沿って移動する前記基板との相互作用と連携し、前記基板搬送面で前記基板移送開口部を通過する前記基板のアライメントを決定する特徴の位置合わせを行うように構成された連携アライメント素子を形成する、請求項1の基板処理装置。
- 前記第1のアライメント素子は反射器であり、前記第2のアライメント素子は、発光器又は受光器のうちの少なくとも1つを備える、請求項13の基板処理装置。
- 前記第2のアライメント素子は反射器であり、前記第1のアライメント素子は、発光器又は受光器のうちの少なくとも1つを備える、請求項13の基板処理装置。
- 基板を基板処理装置内で整列させる方法であって、
前記方法は、
基板移送開口部及び基板搬送面が画定されたチャンバを画定するフレームを提供することと、
前記フレームに取り付けられる弁を提供することであって、前記弁は、閉じている時に前記チャンバの雰囲気を密閉し、前記弁は、前記基板移送開口部を開閉するために移動可能に配設されたドアを有する弁を提供することと、
前記ドアの側面に配設された少なくとも1つの基板アライメント素子であって、前記少なくとも1つの基板アライメント素子が、前記基板移送開口部を通過する前記基板と相互作用するように、前記ドアの移動によって前記基板搬送面上に位置する前記基板を検知するように配向されて位置決めされ、前記基板搬送面に位置する少なくとも1つの基板アライメント素子によって、前記基板搬送面で前記基板移送開口部を通過する前記基板のアライメントを決定する特徴の位置合わせを行うことと、
を備える方法。 - 前記少なくとも1つのアライメント素子が所定の相互作用位置に位置するように、機械的ストップを用いて前記ドアを位置決めすることをさらに備える、請求項16の方法。
- 前記少なくとも1つのアライメント素子が所定の相互作用位置に位置するように、前記ドアを電子的に位置決めすることをさらに備える、請求項16の方法。
- 前記少なくとも1つのアライメント素子は、光ビーム検知素子、光反射検知素子、誘導検知素子、又は容量検知素子のうちの1つ以上を備える、請求項16の方法。
- ロード/アンロード孔を塞ぐための孔クロージャを有する基板ステーションであって、前記ロード/アンロード孔が、基板搬送面に沿って基板カセットから基板をロード及びアンロードするように構成された、基板ステーションと、
前記基板カセットのドアを取り外して前記基板カセットを開放し、かつ前記孔クロージャを作動させて前記ロード/アンロード孔を開放するように構成されたドア駆動部を備える装置と、
前記孔クロージャの側面に配設された少なくとも1つの基板アライメント素子と、
を備え、
前記ドア駆動部は、前記基板アライメント素子が前記基板搬送面で前記孔クロージャを通過する前記基板のアライメントを決定する特徴の位置合わせを行うために、前記少なくとも1つの基板アライメント素子が所定の相互作用位置及び配向から基板と相互作用するように、前記孔クロージャを移動させ、前記孔クロージャの移動によって前記基板搬送面上に位置する前記基板を検知するように前記少なくとも1つの基板アライメント素子を所定の相互作用位置及び配向に位置決めするように構成された、基板処理装置。 - 前記少なくとも1つの基板アライメント素子は前記基板搬送面に面している、請求項20の基板処理装置。
- 前記ドア駆動部は、前記少なくとも1つの基板アライメント素子が、前記基板搬送面に位置する基板と相互作用するために前記基板搬送面に対して前記所定の相互作用位置に位置するように前記孔クロージャを位置決めするように構成されている、請求項20の基板処理装置。
- 前記ドア駆動部は、前記少なくとも1つの基板アライメント素子が前記所定の相互作用位置に位置するように前記孔クロージャを位置決めするように構成された機械的ストップを備える、請求項20の基板処理装置。
- 前記ドア駆動部に通信可能に接続された制御部をさらに備え、前記ドア駆動部は、前記少なくとも1つの基板アライメント素子が前記所定の相互作用位置に位置するように、前記制御部とともに前記孔クロージャの位置決めを実行するように構成された少なくとも1つのエンコーダを備える、請求項20の基板処理装置。
- 前記少なくとも1つの基板アライメント素子は、光ビーム検知素子、光反射検知素子、誘導検知素子、又は容量検知素子のうちの1つ以上を備える、請求項20の基板処理装置。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201361843685P | 2013-07-08 | 2013-07-08 | |
US61/843,685 | 2013-07-08 | ||
US14/325,702 US9514974B2 (en) | 2013-07-08 | 2014-07-08 | Process apparatus with on-the-fly substrate centering |
US14/325,702 | 2014-07-08 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016525419A Division JP6577944B2 (ja) | 2013-07-08 | 2014-07-08 | オンザフライ基板センタリングを含む処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019216264A JP2019216264A (ja) | 2019-12-19 |
JP6997144B2 true JP6997144B2 (ja) | 2022-01-17 |
Family
ID=52132923
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016525419A Active JP6577944B2 (ja) | 2013-07-08 | 2014-07-08 | オンザフライ基板センタリングを含む処理装置 |
JP2019153221A Active JP6997144B2 (ja) | 2013-07-08 | 2019-08-23 | オンザフライ基板センタリングを含む処理装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016525419A Active JP6577944B2 (ja) | 2013-07-08 | 2014-07-08 | オンザフライ基板センタリングを含む処理装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (4) | US9514974B2 (ja) |
EP (1) | EP3020065B1 (ja) |
JP (2) | JP6577944B2 (ja) |
KR (2) | KR102338773B1 (ja) |
CN (1) | CN105556652B (ja) |
TW (2) | TWI684229B (ja) |
WO (1) | WO2015006311A1 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2939265B1 (en) * | 2012-12-31 | 2018-10-31 | Flir Systems, Inc. | Wafer level packaging of microbolometer vacuum package assemblies |
US9545724B2 (en) * | 2013-03-14 | 2017-01-17 | Brooks Automation, Inc. | Tray engine with slide attached to an end effector base |
TWI684229B (zh) | 2013-07-08 | 2020-02-01 | 美商布魯克斯自動機械公司 | 具有即時基板定心的處理裝置 |
JP6594304B2 (ja) * | 2013-10-18 | 2019-10-23 | ブルックス オートメーション インコーポレイテッド | 処理装置 |
WO2017011581A1 (en) * | 2015-07-13 | 2017-01-19 | Brooks Automation, Inc. | On the fly automatic wafer centering method and apparatus |
US10607879B2 (en) * | 2016-09-08 | 2020-03-31 | Brooks Automation, Inc. | Substrate processing apparatus |
US10290523B2 (en) * | 2017-03-17 | 2019-05-14 | Asm Ip Holding B.V. | Wafer processing apparatus, recording medium and wafer conveying method |
CN107437522B (zh) * | 2017-07-24 | 2019-11-26 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 传送装置、基板离子植入系统以及方法 |
US11088004B2 (en) | 2018-01-30 | 2021-08-10 | Brooks Automation, Inc. | Automatic wafer centering method and apparatus |
TW202401627A (zh) * | 2018-03-16 | 2024-01-01 | 美商布魯克斯自動機械美國公司 | 基板輸送裝置及用於基板輸送裝置之方法 |
US10957566B2 (en) * | 2018-04-12 | 2021-03-23 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Wafer-level inspection using on-valve inspection detectors |
US11194259B2 (en) * | 2018-08-30 | 2021-12-07 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Equipment module with enhanced protection from airborne contaminants, and method of operation |
CN113571442B (zh) * | 2020-04-29 | 2023-09-29 | 长鑫存储技术有限公司 | 晶圆处理装置及晶圆传送方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001068530A (ja) | 1999-08-26 | 2001-03-16 | Anelva Corp | 基板処理装置 |
JP2003273190A (ja) | 2002-03-14 | 2003-09-26 | Ulvac Japan Ltd | 真空処理装置、ゲ−トバルブ、および欠落被搬送体の検出方法 |
JP2005297072A (ja) | 2002-05-30 | 2005-10-27 | Rorze Corp | 円盤状物の基準位置教示方法、位置決め方法および搬送方法並びに、それらの方法を使用する円盤状物の基準位置教示装置、位置決め装置、搬送装置および半導体製造設備 |
JP2007019110A (ja) | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Hirata Corp | スロットの位置情報作成方法及び載置ユニット |
JP2007311832A (ja) | 2007-09-03 | 2007-11-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板検出方法 |
US20090192633A1 (en) | 2008-01-25 | 2009-07-30 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for an integral local substrate center finder for i/o and chamber slit valves |
Family Cites Families (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4819167A (en) | 1987-04-20 | 1989-04-04 | Applied Materials, Inc. | System and method for detecting the center of an integrated circuit wafer |
US5980194A (en) | 1996-07-15 | 1999-11-09 | Applied Materials, Inc. | Wafer position error detection and correction system |
US6002840A (en) | 1997-09-30 | 1999-12-14 | Brooks Automation Inc. | Substrate transport apparatus |
WO1999028952A2 (en) * | 1997-11-28 | 1999-06-10 | Fortrend Engineering Corporation | Wafer-mapping load port interface |
US6075334A (en) | 1999-03-15 | 2000-06-13 | Berkeley Process Control, Inc | Automatic calibration system for wafer transfer robot |
US6291814B1 (en) * | 1999-06-04 | 2001-09-18 | Utek Semiconductor Corporation | Slit valve with safety detect device |
JP2001007181A (ja) * | 1999-06-17 | 2001-01-12 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
US6553280B2 (en) | 2000-07-07 | 2003-04-22 | Applied Materials, Inc. | Valve/sensor assemblies |
TW444260B (en) * | 2000-07-13 | 2001-07-01 | Ind Tech Res Inst | Wafer mapping method of wafer load port equipment |
US7677859B2 (en) | 2002-07-22 | 2010-03-16 | Brooks Automation, Inc. | Substrate loading and uploading station with buffer |
DE10250353B4 (de) | 2002-10-25 | 2008-04-30 | Brooks Automation (Germany) Gmbh | Einrichtung zur Detektion von übereinander mit einem bestimmten Abstand angeordneten Substraten |
KR100486690B1 (ko) * | 2002-11-29 | 2005-05-03 | 삼성전자주식회사 | 기판 이송 모듈의 오염을 제어할 수 있는 기판 처리 장치및 방법 |
US6990430B2 (en) | 2002-12-20 | 2006-01-24 | Brooks Automation, Inc. | System and method for on-the-fly eccentricity recognition |
JP2004282002A (ja) | 2003-02-27 | 2004-10-07 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
US7255524B2 (en) | 2003-04-14 | 2007-08-14 | Brooks Automation, Inc. | Substrate cassette mapper |
US7458763B2 (en) | 2003-11-10 | 2008-12-02 | Blueshift Technologies, Inc. | Mid-entry load lock for semiconductor handling system |
US7720558B2 (en) * | 2004-09-04 | 2010-05-18 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for mapping carrier contents |
JP4012189B2 (ja) * | 2004-10-26 | 2007-11-21 | Tdk株式会社 | ウエハ検出装置 |
JP4501755B2 (ja) * | 2005-04-05 | 2010-07-14 | 株式会社安川電機 | ロードポートおよびロードポートの制御方法 |
US7904182B2 (en) | 2005-06-08 | 2011-03-08 | Brooks Automation, Inc. | Scalable motion control system |
JP2007005582A (ja) | 2005-06-24 | 2007-01-11 | Asm Japan Kk | 基板搬送装置及びそれを搭載した半導体基板製造装置 |
KR20070000163A (ko) * | 2005-06-27 | 2007-01-02 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 표시패널 구동방법 |
KR20070001636A (ko) * | 2005-06-29 | 2007-01-04 | 삼성전자주식회사 | 센서가 장착된 도어와 이를 구비한 웨이퍼 처리 장치 |
KR20070004230A (ko) * | 2005-07-04 | 2007-01-09 | 삼성전자주식회사 | 반도체 웨이퍼 이송용 로봇 |
US8573919B2 (en) * | 2005-07-11 | 2013-11-05 | Brooks Automation, Inc. | Substrate transport apparatus |
JP2009500869A (ja) | 2005-07-11 | 2009-01-08 | ブルックス オートメーション インコーポレイテッド | オンザフライ(onthefly)ワークピースセンタリングを備えた装置 |
KR20070029032A (ko) * | 2005-09-08 | 2007-03-13 | 주성엔지니어링(주) | 이동식 이송챔버와 이를 포함하는 기판처리장치 |
JP4688637B2 (ja) | 2005-10-28 | 2011-05-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及びバッチ編成装置並びにバッチ編成方法及びバッチ編成プログラム |
US8600150B2 (en) * | 2006-02-13 | 2013-12-03 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Wafer aligning apparatus and related method |
US8398355B2 (en) | 2006-05-26 | 2013-03-19 | Brooks Automation, Inc. | Linearly distributed semiconductor workpiece processing tool |
US7880155B2 (en) | 2006-06-15 | 2011-02-01 | Brooks Automation, Inc. | Substrate alignment apparatus comprising a controller to measure alignment during transport |
US7750818B2 (en) | 2006-11-29 | 2010-07-06 | Adp Engineering Co., Ltd. | System and method for introducing a substrate into a process chamber |
KR20080073914A (ko) * | 2007-02-07 | 2008-08-12 | 세메스 주식회사 | 평판 디스플레이 제조용 장비 |
WO2008144670A1 (en) | 2007-05-18 | 2008-11-27 | Brooks Automation, Inc. | Load lock fast pump vent |
KR101887110B1 (ko) | 2007-05-18 | 2018-08-09 | 브룩스 오토메이션 인코퍼레이티드 | 빠른 교환 로봇을 가진 컴팩트 기판 운송 시스템 |
US7963736B2 (en) | 2008-04-03 | 2011-06-21 | Asm Japan K.K. | Wafer processing apparatus with wafer alignment device |
JP2009218622A (ja) * | 2009-06-29 | 2009-09-24 | Canon Anelva Corp | 基板処理装置及び基板処理装置における基板位置ずれ補正方法 |
TWI684229B (zh) | 2013-07-08 | 2020-02-01 | 美商布魯克斯自動機械公司 | 具有即時基板定心的處理裝置 |
-
2014
- 2014-07-07 TW TW107104772A patent/TWI684229B/zh active
- 2014-07-07 TW TW103123311A patent/TWI623994B/zh active
- 2014-07-08 US US14/325,702 patent/US9514974B2/en active Active
- 2014-07-08 CN CN201480049487.0A patent/CN105556652B/zh active Active
- 2014-07-08 EP EP14744247.9A patent/EP3020065B1/en active Active
- 2014-07-08 KR KR1020167003414A patent/KR102338773B1/ko active IP Right Grant
- 2014-07-08 KR KR1020217040300A patent/KR102512974B1/ko active IP Right Grant
- 2014-07-08 JP JP2016525419A patent/JP6577944B2/ja active Active
- 2014-07-08 WO PCT/US2014/045725 patent/WO2015006311A1/en active Application Filing
-
2016
- 2016-12-05 US US15/369,573 patent/US10879101B2/en active Active
-
2019
- 2019-08-23 JP JP2019153221A patent/JP6997144B2/ja active Active
-
2020
- 2020-12-29 US US17/136,661 patent/US11664259B2/en active Active
-
2023
- 2023-05-30 US US18/325,324 patent/US20230386879A1/en active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001068530A (ja) | 1999-08-26 | 2001-03-16 | Anelva Corp | 基板処理装置 |
JP2003273190A (ja) | 2002-03-14 | 2003-09-26 | Ulvac Japan Ltd | 真空処理装置、ゲ−トバルブ、および欠落被搬送体の検出方法 |
JP2005297072A (ja) | 2002-05-30 | 2005-10-27 | Rorze Corp | 円盤状物の基準位置教示方法、位置決め方法および搬送方法並びに、それらの方法を使用する円盤状物の基準位置教示装置、位置決め装置、搬送装置および半導体製造設備 |
JP2007019110A (ja) | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Hirata Corp | スロットの位置情報作成方法及び載置ユニット |
JP2007311832A (ja) | 2007-09-03 | 2007-11-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板検出方法 |
US20090192633A1 (en) | 2008-01-25 | 2009-07-30 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for an integral local substrate center finder for i/o and chamber slit valves |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6577944B2 (ja) | 2019-09-18 |
CN105556652A (zh) | 2016-05-04 |
TW201832310A (zh) | 2018-09-01 |
KR102512974B1 (ko) | 2023-03-22 |
JP2019216264A (ja) | 2019-12-19 |
KR102338773B1 (ko) | 2021-12-13 |
TWI623994B (zh) | 2018-05-11 |
US20230386879A1 (en) | 2023-11-30 |
US20170084476A1 (en) | 2017-03-23 |
EP3020065B1 (en) | 2018-01-17 |
US20210193495A1 (en) | 2021-06-24 |
US9514974B2 (en) | 2016-12-06 |
TWI684229B (zh) | 2020-02-01 |
US11664259B2 (en) | 2023-05-30 |
KR20160030282A (ko) | 2016-03-16 |
US10879101B2 (en) | 2020-12-29 |
US20150010379A1 (en) | 2015-01-08 |
KR20210152035A (ko) | 2021-12-14 |
JP2016525281A (ja) | 2016-08-22 |
WO2015006311A1 (en) | 2015-01-15 |
CN105556652B (zh) | 2020-09-15 |
EP3020065A1 (en) | 2016-05-18 |
TW201523762A (zh) | 2015-06-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6997144B2 (ja) | オンザフライ基板センタリングを含む処理装置 | |
JP7263642B2 (ja) | ウェハアライナ | |
JP7538847B2 (ja) | 基板搬送部 | |
US20210043494A1 (en) | Substrate transport apparatus | |
US20160325440A1 (en) | Substrate transport apparatus | |
JP2022551815A (ja) | 基板処理装置 | |
US20240178032A1 (en) | Substrate transport apparatus | |
CN111432986B (zh) | 具有单独附件馈通的衬底运输装置 | |
US20240379396A1 (en) | Substrate processing apparatus | |
TWI815869B (zh) | 基板輸送裝置及用於基板輸送裝置之方法 | |
JPWO2020252476A5 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190827 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190827 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20201020 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20210120 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210317 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210629 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210924 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211116 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211216 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6997144 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |