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JP6945450B2 - 光検出装置 - Google Patents

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Description

本開示は、互いの距離が可変とされた第1ミラー及び第2ミラーを有するファブリペロー干渉フィルタを備える光検出装置に関する。
互いの距離が可変とされた第1ミラー及び第2ミラーを有するファブリペロー干渉フィルタと、ファブリペロー干渉フィルタを透過した光を検出する光検出器と、ファブリペロー干渉フィルタ及び光検出器を収容するパッケージと、パッケージの開口を塞ぐようにパッケージの内面に配置された光透過部と、を備える光検出装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。
国際公開第15/064758号
上述したような光検出装置においては、S/N比及び分解能を向上させる観点から、迷光(ファブリペロー干渉フィルタの光透過領域を透過しない光)が光検出器に入射するのを抑制することが極めて重要である。また、ファブリペロー干渉フィルタにおいては、第1ミラーと第2ミラーとの距離を極めて精度良く制御する必要があることから、使用環境温度の変化に起因してファブリペロー干渉フィルタに生じる応力の変動を抑制するために、パッケージ内の温度の均一化を図ることも極めて重要である。
そこで、本開示の一形態は、光検出特性が高い光検出装置を提供することを目的とする。
本開示の一形態に係る光検出装置は、互いの距離が可変とされた第1ミラー及び第2ミラーを有し、第1ミラーと第2ミラーとの距離に応じた光を透過させる光透過領域が所定のライン上に設けられたファブリペロー干渉フィルタと、ライン上においてファブリペロー干渉フィルタの第1の側に配置され、光透過領域を透過した光を検出する光検出器と、ライン上においてファブリペロー干渉フィルタの第2の側に位置する開口を有し、ファブリペロー干渉フィルタ及び光検出器を収容するパッケージと、開口を塞ぐようにパッケージの内面に配置され、光透過領域に入射させる光を透過させるバンドパスフィルタを含む光透過部と、を備え、ラインに平行な方向から見た場合に、ファブリペロー干渉フィルタの外縁は、開口の外縁よりも外側に位置しており、光透過部の外縁は、ファブリペロー干渉フィルタの外縁よりも外側に位置している。
この光検出装置では、ファブリペロー干渉フィルタの外縁がパッケージの開口の外縁よりも外側に位置しており、バンドパスフィルタを含む光透過部の外縁がファブリペロー干渉フィルタの外縁よりも外側に位置している。これにより、パッケージの開口での光の入射角、パッケージの開口での回折等に起因して光透過部の側面(所定のラインに平行な方向において互いに対向する光透過部材の光入射面及び光出射面を除く面)を介して光がパッケージ内に進入して迷光となるのを抑制することができる。また、パッケージの開口での光の入射角、パッケージの開口での回折等に起因して迷光となった光が光検出器に入射するのを抑制することができる。更に、例えば光透過部の外縁がファブリペロー干渉フィルタの外縁よりも内側に位置している場合に比べ、光透過部の熱容量、及び光透過部とパッケージとの熱的な接続面積が大きくなるため、結果として、パッケージ内の温度の均一化を図ることができる。以上により、この光検出装置では、光検出特性が高くなる。
本開示の一形態に係る光検出装置では、光透過部は、バンドパスフィルタが設けられた光透過部材を更に含み、ラインに平行な方向から見た場合に、光透過部材の外縁は、ファブリペロー干渉フィルタの外縁よりも外側に位置していてもよい。つまり、この場合の光検出装置(第1側面の光検出装置)は、互いの距離が可変とされた第1ミラー及び第2ミラーを有し、第1ミラーと第2ミラーとの距離に応じた光を透過させる光透過領域が所定のライン上に設けられたファブリペロー干渉フィルタと、ライン上においてファブリペロー干渉フィルタの一方の側(第1の側)に配置され、光透過領域を透過した光を検出する光検出器と、ライン上においてファブリペロー干渉フィルタの他方の側(第2の側)に位置する開口を有し、ファブリペロー干渉フィルタ及び光検出器を収容するパッケージと、開口を塞ぐようにパッケージの内面に配置された光透過部材と、光透過部材に設けられたバンドパスフィルタと、を備え、ラインに平行な方向から見た場合に、ファブリペロー干渉フィルタの外縁は、開口の外縁よりも外側に位置しており、光透過部材の外縁は、ファブリペロー干渉フィルタの外縁よりも外側に位置している。
この第1側面の光検出装置では、ファブリペロー干渉フィルタの外縁がパッケージの開口の外縁よりも外側に位置しており、光透過部材の外縁がファブリペロー干渉フィルタの外縁よりも外側に位置している。これにより、パッケージの開口での光の入射角、パッケージの開口での回折等に起因して光透過部材の側面(所定のラインに平行な方向において互いに対向する光透過部材の光入射面及び光出射面を除く面)を介して光がパッケージ内に進入して迷光となるのを抑制することができる。また、パッケージの開口での光の入射角、パッケージの開口での回折等に起因して迷光となった光が光検出器に入射するのを抑制することができる。更に、例えば光透過部材の外縁がファブリペロー干渉フィルタの外縁よりも内側に位置している場合に比べ、光透過部材の熱容量、及び光透過部材とパッケージとの熱的な接続面積が大きくなるため、結果として、パッケージ内の温度の均一化を図ることができる。以上により、この第1側面の光検出装置では、光検出特性が高くなる。
第1側面の光検出装置では、ラインに平行な方向から見た場合に、バンドパスフィルタの外縁は、ファブリペロー干渉フィルタの外縁よりも外側に位置していてもよい。これにより、ファブリペロー干渉フィルタの光透過領域に入射する光がバンドパスフィルタを透過したことが保証される。
第1側面の光検出装置では、光透過部材の厚さは、ファブリペロー干渉フィルタと光透過部材との距離に0.5を乗じた値以上の値であってもよい。これにより、光透過部材の熱容量が大きくなる一方でパッケージ内の空間の体積が小さくなるため、パッケージ内の温度の更なる均一化を図ることができる。
第1側面の光検出装置では、ファブリペロー干渉フィルタは、第1ミラー及び第2ミラーを支持するシリコン基板を有し、光検出器は、光電変換領域が形成されたInGaAs基板を有してもよい。光電変換領域が形成されたInGaAs基板を有する光検出器は、例えば、1200nmよりも短い波長を有する光、及び2100nmよりも長い波長を有する光に比べ、1200nm以上2100nm以下の波長を有する光に対して高い感度を有する。しかし、当該光検出器は、2100nmよりも長い波長を有する光に比べると、1200nmよりも短い波長を有する光に対しても高い感度を有する。ここで、シリコン基板は、1200nm以上の波長を有する光に比べ、1200nmよりも短い波長を有する光に対して高い吸収性を有する(シリコン基板の製造方法、厚さ、不純物濃度にもよるが、特に1100nmよりも短い波長を有する光に対して高い吸収性を有する)。したがって、上記構成により、例えば、1200nm以上2100nm以下の波長を有する光を検出すべき場合に、ファブリペロー干渉フィルタのシリコン基板をハイパスフィルタとして機能させることができ、結果として、バンドパスフィルタとの相乗効果により、光検出器がノイズ光(1200nmよりも短い(特に1100nmよりも短い)波長を有する光、及び2100nmよりも長い波長を有する光)を検出するのを確実に抑制することができる。
第1側面の光検出装置では、バンドパスフィルタは、光透過部材の光出射面に設けられていてもよい。これにより、外部からの物理的干渉に起因してバンドパスフィルタに傷等の損傷が生じるのを防止することができる。
第1側面の光検出装置は、パッケージを貫通するリードピンと、ファブリペロー干渉フィルタの端子とリードピンとを電気的に接続するワイヤと、を更に備えてもよい。上述したように、この光検出装置では、ファブリペロー干渉フィルタの外縁がパッケージの開口の外縁よりも外側に位置しており、光透過部材の外縁がファブリペロー干渉フィルタの外縁よりも外側に位置している。そのため、ワイヤが撓んだとしても、ワイヤとパッケージとの接触を防止することができる。
本開示の一形態に係る光検出装置は、接着部材を更に備え、バンドパスフィルタの形状は、多角形板状であり、パッケージは、開口が形成された第1壁部、ファブリペロー干渉フィルタ、バンドパスフィルタ及び光検出器を挟んで第1壁部と対向する第2壁部、並びに、ファブリペロー干渉フィルタ、バンドパスフィルタ及び光検出器を包囲する円筒状の側壁部を有し、接着部材は、第1壁部の内面に対してバンドパスフィルタを固定しており、ラインに平行な方向から見た場合に、バンドパスフィルタの外縁は、ファブリペロー干渉フィルタの外縁よりも外側に位置していてもよい。つまり、この場合の光検出装置(第2側面の光検出装置)は、互いの距離が可変とされた第1ミラー及び第2ミラーを有し、第1ミラーと第2ミラーとの距離に応じた光を透過させる光透過領域が所定のライン上に設けられたファブリペロー干渉フィルタと、ライン上においてファブリペロー干渉フィルタの一方の側(第2の側)に配置され、光透過領域に入射させる光を透過させる多角形板状のバンドパスフィルタと、ライン上においてファブリペロー干渉フィルタの他方の側(第1の側)に配置され、光透過領域を透過した光を検出する光検出器と、ライン上においてバンドパスフィルタの一方の側に位置する開口(光入射開口)が形成された第1壁部、ファブリペロー干渉フィルタ、バンドパスフィルタ及び光検出器を挟んで第1壁部と対向する第2壁部、並びに、ファブリペロー干渉フィルタ、バンドパスフィルタ及び光検出器を包囲する円筒状の側壁部を有するパッケージと、第1壁部の内面に対してバンドパスフィルタを固定する接着部材と、を備え、ラインに平行な方向から見た場合に、ファブリペロー干渉フィルタの外縁は、開口の外縁よりも外側に位置しており、バンドパスフィルタの外縁は、ファブリペロー干渉フィルタの外縁よりも外側に位置している。
背景技術として記載したような光検出装置において、例えば所定の波長範囲の光について分光スペクトルを得るためには、当該波長範囲の光のみをバンドパスフィルタが透過させる必要がある。つまり、光検出装置の光検出特性を向上させるためには、バンドパスフィルタを適切に機能させることが重要である。その点、この第2側面の光検出装置では、パッケージの側壁部の形状が円筒状であるのに対し、バンドパスフィルタの形状が多角形板状である。これにより、バンドパスフィルタの各側面(所定のラインに平行な方向において互いに対向するバンドパスフィルタの光入射面及び光出射面を除く面)と側壁部の内面との距離に比べて、バンドパスフィルタの各角部(隣り合う側面によって形成される角部)と側壁部の内面との距離が小さくなる。したがって、パッケージの第1壁部の内面に対して固定されたバンドパスフィルタは、その各角部によって、高精度に位置決めされた状態となる。ここで、例えばバンドパスフィルタの形状が円形板状である場合に、バンドパスフィルタの高精度な位置決めを実現すべく、バンドパスフィルタの側面と側壁部の内面との距離が小さくなるようにバンドパスフィルタが大径化されると、次のような問題が生じる。すなわち、パッケージの第1壁部の内面と熱的に接続されるバンドパスフィルタの光入射面の面積が大きくなるため、バンドパスフィルタがパッケージからの熱的な影響(熱による変形等)を受け易くなる。これに対して、バンドパスフィルタの形状が多角形板状であると、パッケージの第1壁部の内面と熱的に接続されるバンドパスフィルタの光入射面の面積が、例えばバンドパスフィルタの形状が円形板状である場合に比べて小さくなるため、バンドパスフィルタがパッケージからの熱的な影響を受け難くなる。更に、ファブリペロー干渉フィルタの外縁が開口の外縁よりも外側に位置しており、バンドパスフィルタの外縁がファブリペロー干渉フィルタの外縁よりも外側に位置しているため、ファブリペロー干渉フィルタの光透過領域に入射する光がバンドパスフィルタを透過したことが保証される。以上により、この第2側面の光検出装置によれば、バンドパスフィルタを適切に機能させることができる。
第2側面の光検出装置は、開口を塞ぐように第1壁部の内面に配置された光透過部材を更に備え、バンドパスフィルタは、接着部材によって、光透過部材の内面に固定されており、接着部材は、光透過部材の内面と対向するバンドパスフィルタの光入射面の全領域に配置されていてもよい。この構成によれば、接着部材が、バンドパスフィルタの光入射面の全領域に配置されているため、第1壁部の内面に対してバンドパスフィルタが確実に固定された状態となる。また、製造時に接着部材中に気泡が生じたとしても、バンドパスフィルタの各側面と側壁部の内面との間から当該気泡が抜け易いため、接着部材での光の散乱及び回折等が抑制される。更に、この構成によれば、光透過部材が設けられているため、パッケージの気密性が向上する。また、バンドパスフィルタが光透過部材の内面に固定されているため、パッケージからの熱的な影響をより受け難くなる。
第2側面の光検出装置では、開口を塞ぐように第1壁部の内面に配置された光透過部材を更に備え、バンドパスフィルタは、接着部材によって、光透過部材の内面に固定されており、接着部材は、光透過部材の内面と対向するバンドパスフィルタの光入射面のうち角領域を除く領域に配置されておらず、角領域に配置されていてもよい。この構成によれば、接着部材が、バンドパスフィルタの光入射面のうち角領域を除く領域に配置されていないため、接着部材での光の散乱及び回折等がより確実に抑制される。更に、この構成によれば、光透過部材が設けられているため、パッケージの気密性が向上する。また、バンドパスフィルタが光透過部材の内面に固定されていると共に、接着部材が、バンドパスフィルタの光入射面のうち角領域を除く領域に配置されていないため、パッケージからの熱的な影響をより受け難くなる。
第2側面の光検出装置では、バンドパスフィルタは、接着部材によって、第1壁部の内面に固定されており、接着部材は、第1壁部の内面と対向するバンドパスフィルタの光入射面のうち開口と対向する対向領域を除く領域に配置されていてもよい。この構成によれば、接着部材が、バンドパスフィルタの光入射面のうち開口と対向する対向領域を除く領域に配置されているため、第1壁部の内面に対してバンドパスフィルタが確実に固定された状態となる。また、製造時に接着部材中に気泡が生じたとしても、バンドパスフィルタの各側面と側壁部の内面との間だけでなく開口からも当該気泡が抜け易いため、接着部材での光の散乱及び回折等が抑制される。
第2側面の光検出装置では、バンドパスフィルタは、接着部材によって、第1壁部の内面に固定されており、接着部材は、第1壁部の内面と対向するバンドパスフィルタの光入射面のうち角領域を除く領域に配置されておらず、角領域に配置されていてもよい。この構成によれば、接着部材が、バンドパスフィルタの光入射面のうち角領域を除く領域に配置されていないため、接着部材での光の散乱及び回折等がより確実に抑制される。
第2側面の光検出装置では、接着部材は、ラインに平行な方向から見た場合に、バンドパスフィルタの外縁から外側に突出しており、接着部材のうちバンドパスフィルタの外縁から外側に突出した部分は、バンドパスフィルタの側面に接触していてもよい。この構成によれば、バンドパスフィルタがより確実に固定された状態となる。
第2側面の光検出装置では、ラインに平行な方向から見た場合に、開口の形状は、円形状であってもよい。この構成によれば、パッケージ内に入射する光の強度プロファイルが均一化される。
第2側面の光検出装置では、バンドパスフィルタの形状は、四角形板状であってもよい。この構成によれば、パッケージの第1壁部の内面に対するバンドパスフィルタの固定の安定性を確保しつつ、パッケージからバンドパスフィルタに与えられる熱的な影響を効果的に抑制することができる。
第2側面の光検出装置では、パッケージは、金属材料によって形成されていてもよい。この構成によれば、パッケージの気密性が向上するとともに、電気的なシールドが容易となる。なお、パッケージが金属材料によって形成されていると、パッケージの熱伝導率が高くなるものの、上述したように、パッケージの側壁部の形状が円筒状であるのに対し、バンドパスフィルタの形状が多角形板状であるため、バンドパスフィルタはパッケージからの熱的な影響を受け難い。
本開示の一形態によれば、光検出特性が高い光検出装置を提供することができる。
図1は、第1実施形態の光検出装置の断面図である。 図2は、図1の光検出装置の平面図である。 図3は、図1の光検出装置のファブリペロー干渉フィルタの斜視図である。 図4は、図3のIV−IV線に沿ってのファブリペロー干渉フィルタの断面図である。 図5は、第2実施形態の光検出装置の断面図である。 図6は、第2実施形態の光検出装置の変形例の断面図である。 図7は、第3実施形態の光検出装置の断面図である。 図8は、図7の光検出装置の一部の拡大図である。 図9は、図7の光検出装置の平面図である。 図10は、図7の光検出装置のファブリペロー干渉フィルタの斜視図である。 図11は、図10のXI―XI線に沿ってのファブリペロー干渉フィルタの断面図である。 図12は、第4実施形態の光検出装置の断面図である。 図13は、図12の光検出装置の平面図である。 図14は、第5実施形態の光検出装置の断面図である。 図15は、図14の光検出装置の平面図である。 図16は、第6実施形態の光検出装置の断面図である。 図17は、図16の光検出装置の平面図である。
以下、本開示の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する部分を省略する。
[第1実施形態]
[光検出装置の構成]
図1に示されるように、光検出装置1Aは、パッケージ2を備えている。パッケージ2は、ステム3と、キャップ4と、を有するCANパッケージである。キャップ4は、側壁5及び天壁6によって一体的に構成されている。天壁6は、所定のラインLに平行な方向においてステム3と対向している。ステム3及びキャップ4は、例えば金属からなり、互いに気密に接合されている。
ステム3の内面3aには、配線基板7が固定されている。配線基板7の基板材料としては、例えば、シリコン、セラミック、石英、ガラス、プラスチック等を用いることができる。配線基板7には、光検出器8、及びサーミスタ等の温度補償用素子(図示省略)が実装されている。光検出器8は、ラインL上に配置されている。より具体的には、光検出器8は、その受光部の中心線がラインLに一致するように配置されている。光検出器8は、例えば、InGaAs等が用いられた量子型センサ、サーモパイル又はボロメータ等が用いられた熱型センサ等の赤外線検出器である。紫外、可視、近赤外の各波長域の光を検出する場合には、光検出器8として、例えば、シリコンフォトダイオード等を用いることができる。なお、光検出器8には、1つの受光部が設けられていてもよいし、或いは、複数の受光部がアレイ状に設けられていてもよい。更に、複数の光検出器8が配線基板7に実装されていてもよい。
配線基板7上には、複数のスペーサ9が固定されている。各スペーサ9の材料としては、例えば、シリコン、セラミック、石英、ガラス、プラスチック等を用いることができる。複数のスペーサ9上には、ファブリペロー干渉フィルタ10が例えば接着剤によって固定されている。ファブリペロー干渉フィルタ10は、ラインL上に配置されている。より具体的には、ファブリペロー干渉フィルタ10は、その光透過領域10aの中心線がラインLに一致するように配置されている。なお、スペーサ9は、配線基板7に一体的に構成されていてもよい。また、ファブリペロー干渉フィルタ10は、複数のスペーサ9によってではなく、1つのスペーサ9によって支持されていてもよい。
ステム3には、複数のリードピン11が固定されている。より具体的には、各リードピン11は、ステム3との間の電気的な絶縁性及び気密性が維持された状態で、ステム3を貫通している。各リードピン11には、配線基板7に設けられた電極パッド、光検出器8の端子、温度補償用素子の端子、及びファブリペロー干渉フィルタ10の端子のそれぞれが、ワイヤ12によって電気的に接続されている。これにより、光検出器8、温度補償用素子、及びファブリペロー干渉フィルタ10のそれぞれに対する電気信号の入出力等が可能である。
パッケージ2には、開口2aが設けられている。より具体的には、開口2aは、その中心線がラインLに一致するようにキャップ4の天壁6に設けられている。天壁6の内面6aには、開口2aを塞ぐように光透過部材13が配置されている。光透過部材13は、天壁6の内面6aに気密に接合されている。光透過部材13は、少なくとも光検出装置1Aの測定波長範囲の光を透過させる。光透過部材13は、ラインLに平行な方向において互いに対向する光入射面13a及び光出射面13b、並びに側面13cを含む板状の部材である。光透過部材13は、例えば、ガラス、石英、シリコン、ゲルマニウム、プラスチック等からなる。
光透過部材13の光出射面13bには、バンドパスフィルタ14が設けられている。バンドパスフィルタ14は、例えば、蒸着、貼り付け等によって、光透過部材13の光出射面13bに配置されている。バンドパスフィルタ14は、光検出装置1Aの測定波長範囲の光を選択的に透過させる。バンドパスフィルタ14は、例えば、TiO、Ta等の高屈折材料と、SiO、MgF等の低屈折材料との組合せからなる誘電体多層膜である。
光検出装置1Aにおいては、光透過部材13及びバンドパスフィルタ14によって光透過部100が構成されている。つまり、光透過部100は、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aに入射させる光を透過させるバンドパスフィルタ14を含んでいる。
光検出装置1Aでは、パッケージ2が、配線基板7、光検出器8、温度補償用素子(図示省略)、複数のスペーサ9、及びファブリペロー干渉フィルタ10を収容している。パッケージ2内では、光検出器8が、ラインL上においてファブリペロー干渉フィルタ10の一方の側(第1の側)に位置しており、開口2a及び光透過部材13が、ラインL上においてファブリペロー干渉フィルタ10の他方の側(第2の側)に位置している。
光透過部材13の厚さT(ラインLに平行な方向における厚さ、光入射面13aと光出射面13bとの距離)は、ファブリペロー干渉フィルタ10と光透過部材13との距離D1(ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過部材13側の表面と、光透過部材13の光出射面13bとの距離)に0.5を乗じた値以上の値である。また、光透過部材13の厚さTは、ファブリペロー干渉フィルタ10と光検出器8との距離D2(ファブリペロー干渉フィルタ10の光検出器8側の表面と、光検出器8のファブリペロー干渉フィルタ10側の表面との距離)以上の値である。
ラインLに平行な方向から見た場合における各部の位置関係及び大小関係は、次のとおりである。図2に示されるように、開口2aの中心線、光透過部材13の中心線、バンドパスフィルタ14の中心線、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aの中心線、及び光検出器8の受光部の中心線は、ラインLに一致している。開口2a、及びファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aの外縁は、例えば円形状である。光透過部材13、バンドパスフィルタ14、ファブリペロー干渉フィルタ10、及び光検出器8の外縁は、例えば矩形状である。
ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aの外縁は、光検出器8の外縁よりも外側に位置している。開口2aの外縁は、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aの外縁よりも外側に位置している。バンドパスフィルタ14の外縁は、開口2aの外縁よりも外側に位置している。ファブリペロー干渉フィルタ10の外縁は、開口2aの外縁よりも外側に位置している。ファブリペロー干渉フィルタ10の外縁は、光検出器8の外縁よりも外側に位置している。バンドパスフィルタ14の外縁は、ファブリペロー干渉フィルタ10の外縁よりも外側に位置している。光透過部材13の外縁は、ファブリペロー干渉フィルタ10の外縁よりも外側に位置している。光検出装置1Aでは、光透過部材13の外縁とバンドパスフィルタ14の外縁とが一致している。なお、「所定の方向から見た場合に一の外縁が他の外縁よりも外側に位置している」とは、「所定の方向から見た場合に一の外縁が他の外縁を包囲している」、「所定の方向から見た場合に一の外縁が他の外縁を含んでいる」との意味である。
以上のように構成された光検出装置1Aにおいては、外部から、開口2a、光透過部材13及びバンドパスフィルタ14を介して、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aに光が入射すると、所定の波長を有する光が選択的に透過させられる(詳細は後述する)。ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aを透過した光は、光検出器8の受光部に入射して、光検出器8によって検出される。
[ファブリペロー干渉フィルタの構成]
図3に示されるように、ファブリペロー干渉フィルタ10では、第1ミラーと第2ミラーとの距離に応じた光を透過させる光透過領域10aがラインL上に設けられている。光透過領域10aにおいては、第1ミラーと第2ミラーとの距離が極めて精度良く制御される。つまり、光透過領域10aは、ファブリペロー干渉フィルタ10のうち、所定の波長を有する光を選択的に透過させるために第1ミラーと第2ミラーとの距離を所定の距離に制御することが可能な領域であって、第1ミラーと第2ミラーとの距離に応じた所定の波長を有する光が透過可能な領域である。
図4に示されるように、ファブリペロー干渉フィルタ10は、基板21を備えている。基板21の光入射側の表面21aには、反射防止層31、第1積層体32、中間層33及び第2積層体34がこの順序で積層されている。第1積層体32と第2積層体34との間には、枠状の中間層33によって空隙(エアギャップ)Sが形成されている。基板21は、例えば、シリコン、石英、ガラス等からなる。基板21がシリコンからなる場合には、反射防止層31及び中間層33は、例えば、酸化シリコンからなる。中間層33の厚さは、中心透過波長(すなわち、ファブリペロー干渉フィルタ10が透過させ得る波長範囲の中心波長)の1/2の整数倍であってもよい。
第1積層体32のうち光透過領域10aに対応する部分は、第1ミラー35として機能する。第1ミラー35は、反射防止層31を介して基板21に支持されている。第1積層体32は、複数のポリシリコン層と複数の窒化シリコン層とが一層ずつ交互に積層されることで構成されている。第1ミラー35を構成するポリシリコン層及び窒化シリコン層のそれぞれの光学厚さは、中心透過波長の1/4の整数倍であってもよい。なお、窒化シリコン層の代わりに酸化シリコン層が用いられてもよい。
第2積層体34のうち光透過領域10aに対応する部分は、空隙Sを介して第1ミラー35と対向する第2ミラー36として機能する。第2ミラー36は、反射防止層31、第1積層体32及び中間層33を介して基板21に支持されている。第2積層体34は、複数のポリシリコン層と複数の窒化シリコン層とが一層ずつ交互に積層されることで構成されている。第2ミラー36を構成するポリシリコン層及び窒化シリコン層のそれぞれの光学厚さは、中心透過波長の1/4の整数倍であってもよい。なお、窒化シリコン層の代わりに酸化シリコン層が用いられてもよい。
第2積層体34において空隙Sに対応する部分には、第2積層体34の表面34aから空隙Sに至る複数の貫通孔(図示省略)が設けられている。複数の貫通孔は、第2ミラー36の機能に実質的に影響を与えない程度に形成されている。複数の貫通孔は、エッチングにより中間層33の一部を除去して空隙Sを形成するために用いられたものである。
第1ミラー35には、光透過領域10aを囲むように第1電極22が形成されている。第1ミラー35には、光透過領域10aを含むように第2電極23が形成されている。第1電極22及び第2電極23は、ポリシリコン層に不純物をドープして低抵抗化することで形成されている。第2電極23の大きさは、光透過領域10aの全体を含む大きさであってもよいし、光透過領域10aの大きさと略同一であってもよい。
第2ミラー36には、第3電極24が形成されている。第3電極24は、ラインLに平行な方向において、空隙Sを介して第1電極22及び第2電極23と対向している。第3電極24は、ポリシリコン層に不純物をドープして低抵抗化することで形成されている。
ファブリペロー干渉フィルタ10においては、第2電極23は、ラインLに平行な方向において、第1電極22に対して第3電極24とは反対側に位置している。すなわち、第1電極22と第2電極23とは、第1ミラー35において同一平面上に位置していない。第2電極23は、第1電極22よりも第3電極24から離れている。
端子25は、光透過領域10aを挟んで対向するように一対設けられている。各端子25は、第2積層体34の表面34aから第1積層体32に至る貫通孔内に配置されている。各端子25は、配線22aを介して第1電極22と電気的に接続されている。
端子26は、光透過領域10aを挟んで対向するように一対設けられている。各端子26は、第2積層体34の表面34aから中間層33の手前に至る貫通孔内に配置されている。各端子26は、配線23aを介して第2電極23と電気的に接続されていると共に、配線24aを介して第3電極24と電気的に接続されている。なお、一対の端子25が対向する方向と、一対の端子26が対向する方向とは、直交している(図3参照)。
第1積層体32の表面32aには、トレンチ27,28が設けられている。トレンチ27は、端子26からラインLに平行な方向に沿って延びる配線23aを囲むように環状に延在している。トレンチ27は、第1電極22と配線23aとを電気的に絶縁している。トレンチ28は、第1電極22の内縁に沿って環状に延在している。トレンチ28は、第1電極22と第1電極22の内側の領域とを電気的に絶縁している。各トレンチ27,28内の領域は、絶縁材料であっても、空隙であってもよい。
第2積層体34の表面34aには、トレンチ29が設けられている。トレンチ29は、端子25を囲むように環状に延在している。トレンチ29は、端子25と第3電極24とを電気的に絶縁している。トレンチ28内の領域は、絶縁材料であっても、空隙であってもよい。
基板21の光出射側の表面21bには、反射防止層41、第3積層体42、中間層43及び第4積層体44がこの順序で積層されている。反射防止層41及び中間層43は、それぞれ、反射防止層31及び中間層33と同様の構成を有している。第3積層体42及び第4積層体44は、それぞれ、基板21を基準として第1積層体32及び第2積層体34と対称の積層構造を有している。反射防止層41、第3積層体42、中間層43及び第4積層体44は、基板21の反りを抑制する機能を有している。
反射防止層41、第3積層体42、中間層43及び第4積層体44には、光透過領域10aを含むように開口40aが設けられている。開口40aは、光透過領域10aの大きさと略同一の径を有している。開口40aは、光出射側に開口しており、開口40aの底面は、反射防止層41に至っている。第4積層体44の光出射側の表面には、遮光層45が形成されている。遮光層45は、例えばアルミニウム等からなる。遮光層45の表面及び開口40aの内面には、保護層46が形成されている。保護層46は、例えば酸化アルミニウムからなる。なお、保護層46の厚さを1〜100nm(好ましくは、30nm程度)にすることで、保護層46による光学的な影響を無視することができる。
以上のように構成されたファブリペロー干渉フィルタ10においては、端子25,26を介して第1電極22と第3電極24との間に電圧が印加されると、当該電圧に応じた静電気力が第1電極22と第3電極24との間に発生する。当該静電気力によって、第2ミラー36が、基板21に固定された第1ミラー35側に引き付けられ、第1ミラー35と第2ミラー36との距離が調整される。このように、ファブリペロー干渉フィルタ10では、第1ミラー35と第2ミラー36との距離が可変とされている。
ファブリペロー干渉フィルタ10を透過する光の波長は、光透過領域10aにおける第1ミラー35と第2ミラー36との距離に依存する。したがって、第1電極22と第3電極24との間に印加する電圧を調整することで、透過する光の波長を適宜選択することができる。このとき、第2電極23は、第3電極24と同電位である。したがって、第2電極23は、光透過領域10aにおいて第1ミラー35及び第2ミラー36を平坦に保つための補償電極として機能する。
光検出装置1Aでは、ファブリペロー干渉フィルタ10に印加する電圧を変化させながら(すなわち、ファブリペロー干渉フィルタ10において第1ミラー35と第2ミラー36との距離を変化させながら)、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aを透過した光を光検出器8で検出することで、分光スペクトルを得ることができる。
[作用及び効果]
光検出装置1Aでは、チップ状のファブリペロー干渉フィルタ10の外縁がパッケージ2の開口2aの外縁よりも外側に位置しており、光透過部材13の外縁(光透過部100の外縁)がファブリペロー干渉フィルタ10の外縁よりも外側に位置している。これにより、開口2aでの光の入射角、開口2aでの回折等に起因して光透過部材13の側面13cを介して光がパッケージ2内に進入して迷光となるのを抑制することができる。また、開口2aでの光の入射角、開口2aでの回折等に起因して迷光となった光が光検出器8に入射するのを抑制することができる。更に、例えば光透過部材13の外縁がファブリペロー干渉フィルタ10の外縁よりも内側に位置している場合に比べ、光透過部材13の熱容量、及び光透過部材13とパッケージ2との熱的な接続面積が大きくなるため、結果として、パッケージ2内の温度の均一化を図ることができる。以上により、光検出装置1Aでは、光検出特性が高くなる。
光検出器8への迷光の入射の抑制について、より具体的に説明する。パッケージ2の開口2aに入射した光の一部は、開口2aでの光の入射角、開口2aの側面及び出射側角部(開口2aの側面と天壁6の内面6aとが交差する角部)での回折等に起因して、光透過部材13の側面13cからパッケージ2内に出射される可能性がある。このような光がパッケージ2内で多重反射して光検出器8に入射すると、迷光によるノイズとして出力信号に現れてしまい、光検出特性の劣化に繋がる。特に、光透過部材13の側面13cは、光入射面13a及び光出射面13bに比べて粗い面になっている場合が多いため、光透過部材13の側面13cからパッケージ2内に出射される光は、散乱光となって光検出器8に入射し易い。それに対し、光検出装置1Aでは、ファブリペロー干渉フィルタ10の外縁がパッケージ2の開口2aの外縁よりも外側に位置しており、光透過部材13の外縁がファブリペロー干渉フィルタ10の外縁よりも外側に位置している。これにより、例えば光透過部材13の外縁がファブリペロー干渉フィルタ10の外縁よりも内側に位置している場合に比べ、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10a及び光検出器8から光透過部材13の側面13cが遠ざかる。そのため、光検出器8への迷光の入射が抑制され、S/N比及び分解能が向上する。
パッケージ2内の温度の均一化について、より具体的に説明する。パッケージ2の開口2aが小さくなると、パッケージ2自体の体積が大きくなる。また、光透過部材13が大きくなると、光透過部材13の熱容量、光透過部材13とパッケージ2との熱的な接続面積が大きくなる一方で、パッケージ2内の空間の体積が小さくなる。これにより、次のような作用が奏される。まず、金属からなり、熱伝導率が高く、全体として均一な温度に保たれ易い(全体に熱が広がり易い)パッケージ2自体の体積が大きくなる。また、光透過部材13とパッケージ2との熱的な接続面積が大きいため、パッケージ2から光透過部材13に熱が伝わり易く、光透過部材13もパッケージ2と均一な温度に保たれる。また、パッケージ2内の空間の体積が小さいため、パッケージ2内の空間(及び、そこに配置されたファブリペロー干渉フィルタ10等の構成要素)の温度も、均一な温度に保たれるパッケージ2及び光透過部材13の影響で、均一に保たれる。更に、熱容量が大きい光透過部材13及びパッケージ2によって、時間的な温度の変化が抑制される。これらの作用により、パッケージ2内の温度が熱的に均一な状態となり、光検出装置1Aの熱的特性が安定化する。
また、光検出装置1Aでは、ラインLに平行な方向から見た場合に、バンドパスフィルタ14の外縁が、ファブリペロー干渉フィルタ10の外縁よりも外側に位置していている。これにより、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aに入射する光がバンドパスフィルタ14を透過したことが保証される。
ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aの外縁は、光検出器8の外縁よりも外側に位置している。開口2aの外縁は、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aの外縁よりも外側に位置している。バンドパスフィルタ14の外縁は、開口2aの外縁よりも外側に位置している。これにより、開口2a及びファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aを介して光検出器8に入射する光がバンドパスフィルタ14を透過したことが保証される。
ファブリペロー干渉フィルタ10の外縁は、光検出器8の外縁よりも外側に位置している。これにより、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aを透過しない光が迷光として光検出器8に入射するのを抑制することができる。
また、光検出装置1Aでは、光透過部材13の厚さTが、ファブリペロー干渉フィルタ10と光透過部材13との距離D1に0.5を乗じた値以上の値である。これにより、光透過部材13の熱容量が大きくなる一方でパッケージ2内の空間の体積が小さくなるため、パッケージ2内の温度の更なる均一化を図ることができる。また、光透過部材13がファブリペロー干渉フィルタ10に相対的に近付くことになるため、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aを透過しない光が迷光として光検出器8に入射するのを抑制することができる。なお、パッケージ2内の温度の更なる均一化、及び光検出器8への迷光の入射の更なる抑制を図る上では、厚さTは、距離D1に0.7を乗じた値以上の値であることがより好ましく、距離D1以上の値であることが更に好ましい。
また、光検出装置1Aでは、光透過部材13の厚さTは、ファブリペロー干渉フィルタ10と光検出器8との距離D2以上の値である。これにより、光透過部材13の熱容量が大きくなる一方でパッケージ2内の空間の体積が小さくなるため、パッケージ2内の温度の更なる均一化を図ることができる。
また、光検出装置1Aでは、バンドパスフィルタ14が、光透過部材13の光出射面13bに設けられている。これにより、外部からの物理的干渉に起因してバンドパスフィルタ14に傷等の損傷が生じるのを防止することができる。
また、光検出装置1Aでは、ファブリペロー干渉フィルタ10の各端子25,26と各リードピン11とがワイヤ12によって電気的に接続されている。上述したように、光検出装置1Aでは、ファブリペロー干渉フィルタ10の外縁がパッケージ2の開口2aの外縁よりも外側に位置しており、光透過部材13の外縁がファブリペロー干渉フィルタ10の外縁よりも外側に位置している。そのため、ワイヤ12が撓んだとしても、ワイヤ12とパッケージ2との接触を防止することができる。
ワイヤ12とパッケージ2との接触の防止について、より具体的に説明する。金属からなるパッケージ2にワイヤ12が接触すると、ファブリペロー干渉フィルタ10を制御するための電気信号がパッケージ2にも流れることになり、ファブリペロー干渉フィルタ10の制御が困難になる。これに対し、絶縁性材料からなる光透過部材13にワイヤ12が接触しても、ファブリペロー干渉フィルタ10を制御するための電気信号が光透過部材13に流れることはなく、ファブリペロー干渉フィルタ10の高精度な制御が可能である。ワイヤ12とパッケージ2との接触を防止し得る上記構成は重要である。
また、光検出装置1Aでは、シリコン基板をファブリペロー干渉フィルタ10の基板21に適用し、光電変換領域が形成されたInGaAs基板を光検出器8に適用することで、次のような作用及び効果が奏される。光電変換領域が形成されたInGaAs基板を有する光検出器8は、例えば、1200nmよりも短い波長を有する光、及び2100nmよりも長い波長を有する光に比べ、1200nm以上2100nm以下の波長を有する光に対して高い感度を有する。しかし、当該光検出器8は、2100nmよりも長い波長を有する光に比べると、1200nmよりも短い波長を有する光に対しても高い感度を有する。ここで、シリコン基板は、1200nm以上の波長を有する光に比べ、1200nmよりも短い波長を有する光に対して高い吸収性を有する(シリコン基板の製造方法、厚さ、不純物濃度にもよるが、特に1100nmよりも短い波長を有する光に対して高い吸収性を有する)。したがって、上記構成により、例えば、1200nm以上2100nm以下の波長を有する光を検出すべき場合に、ファブリペロー干渉フィルタ10のシリコン基板をハイパスフィルタとして機能させることができ、結果として、バンドパスフィルタ14との相乗効果により、光検出器8がノイズ光(1200nmよりも短い(特に1100nmよりも短い)波長を有する光、及び2100nmよりも長い波長を有する光)を検出するのを確実に抑制することができる。
[第2実施形態]
[光検出装置の構成]
図5に示されるように、光検出装置1Bは、光透過部材13及びバンドパスフィルタ14の構成において、上述した光検出装置1Aと相違している。光検出装置1Bにおいては、パッケージ2の内面に配置された光透過部材13が、開口2a内及び側壁5の内面5aに至っている。光透過部材13の光入射面13aは、開口2aにおいて天壁6の外面と略面一となっている。このような光透過部材13は、開口2aを下側にした状態でキャップ4の内側にガラスペレットを配置し、そのガラスペレットを溶融させることで、形成される。つまり、光透過部材13は、融着ガラスからなる。バンドパスフィルタ14は、光透過部材13の光出射面13bからキャップ4の側壁5の内面5aの一部に至っている。
光検出装置1Bにおいても、上述した光検出装置1Aと同様に、光透過部材13及びバンドパスフィルタ14によって光透過部100が構成されている。つまり、光透過部100は、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aに入射させる光を透過させるバンドパスフィルタ14を含んでいる。
光検出装置1Bにおいても、光透過部材13の厚さTは、ファブリペロー干渉フィルタ10と光透過部材13との距離D1に0.5を乗じた値以上の値である。また、光透過部材13の厚さTは、ファブリペロー干渉フィルタ10と光検出器8との距離D2以上の値である。
また、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aの外縁は、光検出器8の外縁よりも外側に位置している。開口2aの外縁は、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aの外縁よりも外側に位置している。バンドパスフィルタ14の外縁は、開口2aの外縁よりも外側に位置している。ファブリペロー干渉フィルタ10の外縁は、開口2aの外縁よりも外側に位置している。ファブリペロー干渉フィルタ10の外縁は、光検出器8の外縁よりも外側に位置している。バンドパスフィルタ14の外縁は、ファブリペロー干渉フィルタ10の外縁よりも外側に位置している。光透過部材13の外縁は、ファブリペロー干渉フィルタ10の外縁よりも外側に位置している。
[作用及び効果]
光検出装置1Bによっても、上述した光検出装置1Aと同様の作用及び効果が奏される。特に、光透過部材13の側面13cが側壁5の内面5aに至っているため、開口2aでの光の入射角、開口2aでの回折等に起因して光透過部材13の側面13cを介して光がパッケージ2内に進入して迷光となるのをより確実に抑制することができる。更に、光透過部材13の熱容量、及び光透過部材13とパッケージ2との熱的な接続面積がより大きくなるため、結果として、パッケージ2内の温度の更なる均一化を図ることができる。
また、光検出装置1Bでは、光透過部材13の体積(特に、厚さT)が大きいため、融着ガラスからなる光透過部材13の光入射面13a及び光出射面13bの平面性を向上させることができる。更に、融着ガラスからなる光透過部材13に、形成時に生じた気泡が残存したとしても、光透過部材13の体積(特に、厚さT)が大きいため、その気泡の影響を低減させることができる。
なお、図6に示される光検出装置1Cのように、光透過部材13の光出射面13bに板状のバンドパスフィルタ14が接着剤等で貼り付けられていてもよい。板状のバンドパスフィルタ14は、例えば、シリコン、ガラス等からなる光透過部材の表面に誘電体多層膜が形成されたものである。融着ガラスからなる光透過部材13においては、厚さTが大きいことで光出射面13bの平面性が向上しているため、バンドパスフィルタ14を光出射面13bに好適に配置することができる。光検出装置1Cによれば、板状のバンドパスフィルタ14によって熱容量が大きくなり、且つ、パッケージ2内の空間の体積がより小さくなるため、パッケージ2内の温度のより一層の均一化が図られる。更に、板状のバンドパスフィルタ14を構成する光透過部材の厚さの分だけ、バンドパスフィルタ14とファブリペロー干渉フィルタ10との距離が小さくなるため、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aに入射する光がバンドパスフィルタ14を透過したことがより確実に保証される。
光検出装置1Cにおいても、上述した光検出装置1Aと同様に、光透過部材13及びバンドパスフィルタ14によって光透過部100が構成されている。つまり、光透過部100は、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aに入射させる光を透過させるバンドパスフィルタ14を含んでいる。
[変形例]
以上、本開示の第1実施形態及び第2実施形態について説明したが、本開示の一形態は、上述した第1実施形態及び第2実施形態に限定されるものではない。例えば、各構成の材料及び形状には、上述した材料及び形状に限らず、様々な材料及び形状を採用することができる。
また、バンドパスフィルタ14は、光透過部材13の光入射面13aに設けられていてもよいし、光透過部材13の光入射面13a及び光出射面13bの両方に設けられていてもよい。一例として、図5に示される光検出装置1Bのように、開口2aにおいて天壁6の外面と略面一となっている光透過部材13の光入射面13aに、バンドパスフィルタ14が設けられていてもよい。
また、ファブリペロー干渉フィルタ10は、基板21の光出射側の表面21bに設けられた積層構造(反射防止層41、第3積層体42、中間層43、第4積層体44、遮光層45及び保護層46)を備えていなくてもよい。
また、ラインLに平行な方向から見た場合に、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aの外縁が開口2aの外縁よりも外側に位置していてもよい。この場合、開口2aから入射した光のうち光透過領域10aに入り込む光の割合が増し、開口2aから入射した光の利用効率が高くなる。また、光透過領域10aに対する開口2aの位置が多少ずれたとしても、開口2aからの入射した光が光透過領域10aに入り込むため、光検出装置1A,1B,1Cの組立時における位置精度の要求が緩和される。
[第3実施形態]
[光検出装置の構成]
図7に示されるように、光検出装置1Dは、パッケージ2を備えている。パッケージ2は、ステム(第2壁部)3と、キャップ4と、を有するCANパッケージである。キャップ4は、側壁(側壁部)5及び天壁(第1壁部)6によって一体的に構成されている。ステム3及びキャップ4は、金属材料によって形成されており、互いに気密に接合されている。金属材料によって形成されたパッケージ2において、側壁5の形状は、所定のラインLを中心線とする円筒状である。ステム3及び天壁6は、ラインLに平行な方向において互いに対向しており、側壁5の両端をそれぞれ塞いでいる。
ステム3の内面3aには、配線基板7が固定されている。配線基板7の基板材料としては、例えば、シリコン、セラミック、石英、ガラス、プラスチック等を用いることができる。配線基板7には、光検出器8、及びサーミスタ等の温度補償用素子(図示省略)が実装されている。光検出器8は、ラインL上に配置されている。より具体的には、光検出器8は、その受光部の中心線がラインLに一致するように配置されている。光検出器8は、例えば、InGaAs等が用いられた量子型センサ、サーモパイル又はボロメータ等が用いられた熱型センサ等の赤外線検出器である。紫外、可視、近赤外の各波長域の光を検出する場合には、光検出器8として、例えば、シリコンフォトダイオード等を用いることができる。なお、光検出器8には、1つの受光部が設けられていてもよいし、或いは、複数の受光部がアレイ状に設けられていてもよい。更に、複数の光検出器8が配線基板7に実装されていてもよい。
配線基板7上には、複数のスペーサ9が固定されている。各スペーサ9の材料としては、例えば、シリコン、セラミック、石英、ガラス、プラスチック等を用いることができる。複数のスペーサ9上には、ファブリペロー干渉フィルタ10が例えば接着剤によって固定されている。ファブリペロー干渉フィルタ10は、ラインL上に配置されている。より具体的には、ファブリペロー干渉フィルタ10は、その光透過領域10aの中心線がラインLに一致するように配置されている。なお、スペーサ9は、配線基板7に一体的に構成されていてもよい。また、ファブリペロー干渉フィルタ10は、複数のスペーサ9によってではなく、1つのスペーサ9によって支持されていてもよい。
ステム3には、複数のリードピン11が固定されている。より具体的には、各リードピン11は、ステム3との間の電気的な絶縁性及び気密性が維持された状態で、ステム3を貫通している。各リードピン11には、配線基板7に設けられた電極パッド、光検出器8の端子、温度補償用素子の端子、及びファブリペロー干渉フィルタ10の端子のそれぞれが、ワイヤ12によって電気的に接続されている。これにより、光検出器8、温度補償用素子、及びファブリペロー干渉フィルタ10のそれぞれに対する電気信号の入出力等が可能である。
パッケージ2には、開口(光入射開口)2aが形成されている。より具体的には、開口2aは、その中心線がラインLに一致するようにキャップ4の天壁6に形成されている。ラインLに平行な方向から見た場合に、開口2aの形状は、円形状である。天壁6の内面6aには、開口2aを塞ぐように光透過部材13が配置されている。光透過部材13は、天壁6の内面6aに気密接合されている。光透過部材13は、ラインLに平行な方向において互いに対向する光入射面13a及び光出射面(内面)13b、並びに側面13cを有している。光透過部材13の光入射面13aは、開口2aにおいて天壁6の外面と略面一となっている。光透過部材13の側面13cは、パッケージ2の側壁5の内面5aに接触している。つまり、光透過部材13は、開口2a内及び側壁5の内面5aに至っている。このような光透過部材13は、開口2aを下側にした状態でキャップ4の内側にガラスペレットを配置し、そのガラスペレットを溶融させることで、形成される。つまり、光透過部材13は、融着ガラスによって形成されている。
光透過部材13の光出射面13bには、接着部材15によって、バンドパスフィルタ14が固定されている。つまり、接着部材15は、天壁6の内面6aに接合された光透過部材13を介して、天壁6の内面6aに対してバンドパスフィルタ14を固定している。バンドパスフィルタ14は、光透過部材13を透過した光のうち、光検出装置1Dの測定波長範囲の光(所定の波長範囲の光であって、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aに入射させるべき光)を選択的に透過させる(すなわち、当該波長範囲の光のみを透過させる)。バンドパスフィルタ14の形状は、四角形板状である。より具体的には、バンドパスフィルタ14は、ラインLと平行な方向において互いに対向する光入射面14a及び光出射面14b、並びに4つの側面14cを有している。バンドパスフィルタ14は、光透過性材料(例えば、シリコン、ガラス等)によって四角形板状に形成された光透過部材の表面に、誘電体多層膜(例えば、TiO2、Ta2O5等の高屈折材料と、SiO2、MgF2等の低屈折材料との組合せからなる多層膜)が形成されたものである。
光検出装置1Dにおいては、バンドパスフィルタ14によって光透過部100が構成されている。つまり、光透過部100は、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aに入射させる光を透過させるバンドパスフィルタ14を含んでいる。
接着部材15は、バンドパスフィルタ14の光入射面14aの全領域に配置された第1部分15aを有している。つまり、第1部分15aは、接着部材15のうち、互いに対向する光透過部材13の光出射面13bとバンドパスフィルタ14の光入射面14aとの間に配置された部分である。更に、接着部材15は、ラインLに平行な方向から見た場合にバンドパスフィルタ14の外縁から外側に突出した第2部分15bを有している。第2部分15bは、側壁5の内面5aに至っており、側壁5の内面5aに接触している。また、第2部分15bは、バンドパスフィルタ14の側面14cに接触している。図8に示されるように、ラインLに平行な方向における第2部分15bの厚さは、各側面14cの中央部分に接触している部分において最大となっており、バンドパスフィルタ14の各角部14d(隣り合う側面14cによって形成される角部)に接触している部分において最小となっている。ただし、ラインLに平行な方向における第2部分15bの厚さが、例えば、第2部分15bの表面が凸曲面を呈することで、各側面14cの中央部分から各角部14dに近付くにつれて減少していれば、当該第2部分15bの厚さは、各角部14dに接触している部分において最小となっていなくてもよい。各角部14dに接触している部分において当該第2部分15bの厚さが最大とならなければ、バンドパスフィルタ14の角部14dにクラックが発生するのを抑制することができる。接着部材15の材料としては、光透過性材料(例えば、光透過性樹脂、低融点ガラス等)を用いることができる。なお、図8では、説明の便宜上、パッケージ2及び光透過部材13のみが断面で示されている。
図7に示されるように、光検出装置1Dでは、パッケージ2が、配線基板7、光検出器8、温度補償用素子(図示省略)、複数のスペーサ9、ファブリペロー干渉フィルタ10、及びバンドパスフィルタ14を収容している。また、光検出装置1Dでは、開口2a、光透過部材13及びバンドパスフィルタ14が、ラインL上においてファブリペロー干渉フィルタ10の一方の側(第2の側)に配置しており、光検出器8が、ラインL上においてファブリペロー干渉フィルタ10の他方の側(第1の側)に配置されている。更に、光検出装置1Dでは、ステム3が、ファブリペロー干渉フィルタ10、バンドパスフィルタ14及び光検出器8を挟んで、キャップ4の天壁6と対向しており、キャップ4の側壁5が、ファブリペロー干渉フィルタ10、バンドパスフィルタ14及び光検出器8を包囲している。
光透過部材13の厚さT(ラインLに平行な方向における厚さ、光入射面13aと光出射面13bとの距離)は、ファブリペロー干渉フィルタ10と光透過部材13との距離D1(ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過部材13側の表面と、光透過部材13の光出射面13bとの距離)に0.3を乗じた値以上の値である。また、光透過部材13の厚さTは、ファブリペロー干渉フィルタ10と光検出器8との距離D2(ファブリペロー干渉フィルタ10の光検出器8側の表面と、光検出器8のファブリペロー干渉フィルタ10側の表面との距離)以上の値である。
ラインLに平行な方向から見た場合における各部の位置関係及び大小関係は、次のとおりである。図9に示されるように、開口2aの中心線、光透過部材13の中心線、バンドパスフィルタ14の中心線、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aの中心線、及び光検出器8の受光部の中心線は、ラインLに一致している。開口2a、光透過部材13、接着部材15及びファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aの外縁は、円形状である。バンドパスフィルタ14、ファブリペロー干渉フィルタ10、及び光検出器8の外縁は、四角形状である。
ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aの外縁は、光検出器8の外縁よりも外側に位置している。開口2aの外縁は、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aの外縁よりも外側に位置している。ファブリペロー干渉フィルタ10の外縁は、開口2aの外縁よりも外側に位置している。バンドパスフィルタ14の外縁は、ファブリペロー干渉フィルタ10の外縁よりも外側に位置している。光透過部材13及び接着部材15のそれぞれの外縁は、バンドパスフィルタ14の外縁よりも外側に位置しており、キャップ4の側壁5の内面5aに一致している。なお、「所定の方向から見た場合に一の外縁が他の外縁よりも外側に位置している」とは、「所定の方向から見た場合に一の外縁が他の外縁を包囲している」、「所定の方向から見た場合に一の外縁が他の外縁を含んでいる」との意味である。
以上のように構成された光検出装置1Dにおいては、外部から、開口2a、光透過部材13及び接着部材15を介して、光がバンドパスフィルタ14に入射すると、所定の波長範囲の光が選択的に透過させられる。バンドパスフィルタ14を透過した光がファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aに入射すると、所定の波長範囲の光のうち所定の波長の光が選択的に透過させられる。ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aを透過した光は、光検出器8の受光部に入射して、光検出器8によって検出される。
[ファブリペロー干渉フィルタの構成]
図10に示されるように、ファブリペロー干渉フィルタ10では、第1ミラーと第2ミラーとの距離に応じた光を透過させる光透過領域10aがラインL上に設けられている。光透過領域10aにおいては、第1ミラーと第2ミラーとの距離が極めて精度良く制御される。つまり、光透過領域10aは、ファブリペロー干渉フィルタ10のうち、所定の波長を有する光を選択的に透過させるために第1ミラーと第2ミラーとの距離を所定の距離に制御することが可能な領域であって、第1ミラーと第2ミラーとの距離に応じた所定の波長を有する光が透過可能な領域である。
図11に示されるように、ファブリペロー干渉フィルタ10は、基板21を備えている。基板21の光入射側の表面21aには、反射防止層31、第1積層体32、中間層33及び第2積層体34がこの順序で積層されている。第1積層体32と第2積層体34との間には、枠状の中間層33によって空隙(エアギャップ)Sが形成されている。基板21は、例えば、シリコン、石英、ガラス等からなる。基板21がシリコンからなる場合には、反射防止層31及び中間層33は、例えば、酸化シリコンからなる。中間層33の厚さは、中心透過波長(すなわち、ファブリペロー干渉フィルタ10が透過させ得る波長範囲の中心波長)の1/2の整数倍であってもよい。
第1積層体32のうち光透過領域10aに対応する部分は、第1ミラー35として機能する。第1ミラー35は、反射防止層31を介して基板21に支持されている。第1積層体32は、複数のポリシリコン層と複数の窒化シリコン層とが一層ずつ交互に積層されることで構成されている。第1ミラー35を構成するポリシリコン層及び窒化シリコン層のそれぞれの光学厚さは、中心透過波長の1/4の整数倍であってもよい。なお、窒化シリコン層の代わりに酸化シリコン層が用いられてもよい。
第2積層体34のうち光透過領域10aに対応する部分は、空隙Sを介して第1ミラー35と対向する第2ミラー36として機能する。第2ミラー36は、反射防止層31、第1積層体32及び中間層33を介して基板21に支持されている。第2積層体34は、複数のポリシリコン層と複数の窒化シリコン層とが一層ずつ交互に積層されることで構成されている。第2ミラー36を構成するポリシリコン層及び窒化シリコン層のそれぞれの光学厚さは、中心透過波長の1/4の整数倍であってもよい。なお、窒化シリコン層の代わりに酸化シリコン層が用いられてもよい。
第2積層体34において空隙Sに対応する部分には、第2積層体34の表面34aから空隙Sに至る複数の貫通孔24bが設けられている。複数の貫通孔24bは、第2ミラー36の機能に実質的に影響を与えない程度に形成されている。複数の貫通孔24bは、エッチングにより中間層33の一部を除去して空隙Sを形成するために用いられたものである。
第1ミラー35には、光透過領域10aを囲むように第1電極22が形成されている。第1ミラー35には、光透過領域10aを含むように第2電極23が形成されている。第1電極22及び第2電極23は、ポリシリコン層に不純物をドープして低抵抗化することで形成されている。第2電極23の大きさは、光透過領域10aの大きさと略同一である。
第2ミラー36には、第3電極24が形成されている。第3電極24は、ラインLに平行な方向において、空隙Sを介して第1電極22及び第2電極23と対向している。第3電極24は、ポリシリコン層に不純物をドープして低抵抗化することで形成されている。
ファブリペロー干渉フィルタ10においては、第2電極23は、ラインLに平行な方向において、第1電極22と同一平面上に位置している。第2電極23と第3電極24との距離は、第1電極22と第3電極24との距離と同一である。また、ラインLに平行な方向から見た場合に、第2電極23は、第1電極22によって包囲されている。
端子25は、光透過領域10aを挟んで対向するように一対設けられている。各端子25は、第2積層体34の表面34aから第1積層体32に至る貫通孔内に配置されている。各端子25は、配線22aを介して第1電極22と電気的に接続されている。
端子26は、光透過領域10aを挟んで対向するように一対設けられている。各端子26は、第2積層体34の表面34aから中間層33の手前に至る貫通孔内に配置されている。各端子26は、配線23aを介して第2電極23と電気的に接続されていると共に、配線24aを介して第3電極24と電気的に接続されている。なお、一対の端子25が対向する方向と、一対の端子26が対向する方向とは、直交している(図10参照)。
第1積層体32の表面32aには、トレンチ27,28が設けられている。トレンチ27は、端子26からラインLに平行な方向に沿って延びる配線23aの端子26との接続部を囲むように環状に延在している。トレンチ27は、第1電極22と配線23aとを電気的に絶縁している。トレンチ28は、第1電極22の内縁に沿って環状に延在している。トレンチ28は、第1電極22と第2電極23とを電気的に絶縁している。各トレンチ27,28内の領域は、絶縁材料であっても、空隙であってもよい。
第2積層体34の表面34aには、トレンチ29が設けられている。トレンチ29は、端子25を囲むように環状に延在している。トレンチ29は、端子25と第3電極24とを電気的に絶縁している。トレンチ28内の領域は、絶縁材料であっても、空隙であってもよい。
基板21の光出射側の表面21bには、反射防止層41、第3積層体42、中間層43及び第4積層体44がこの順序で積層されている。反射防止層41及び中間層43は、それぞれ、反射防止層31及び中間層33と同様の構成を有している。第3積層体42及び第4積層体44は、それぞれ、基板21を基準として第1積層体32及び第2積層体34と対称の積層構造を有している。反射防止層41、第3積層体42、中間層43及び第4積層体44は、基板21の反りを抑制する機能を有している。
反射防止層41、第3積層体42、中間層43及び第4積層体44には、光透過領域10aを含むように開口40aが設けられている。開口40aは、光透過領域10aの大きさと略同一の径を有している。開口40aは、光出射側に開口しており、開口40aの底面は、反射防止層41に至っている。第4積層体44の光出射側の表面には、遮光層45が形成されている。遮光層45は、例えばアルミニウム等からなる。遮光層45の表面及び開口40aの内面には、保護層46が形成されている。保護層46は、例えば酸化アルミニウムからなる。なお、保護層46の厚さを1〜100nm(好ましくは、30nm程度)にすることで、保護層46による光学的な影響を無視することができる。
以上のように構成されたファブリペロー干渉フィルタ10においては、端子25,26を介して第1電極22と第3電極24との間に電圧が印加されると、当該電圧に応じた静電気力が第1電極22と第3電極24との間に発生する。当該静電気力によって、第2ミラー36が、基板21に固定された第1ミラー35側に引き付けられ、第1ミラー35と第2ミラー36との距離が調整される。このように、ファブリペロー干渉フィルタ10では、第1ミラー35と第2ミラー36との距離が可変とされている。
ファブリペロー干渉フィルタ10を透過する光の波長は、光透過領域10aにおける第1ミラー35と第2ミラー36との距離に依存する。したがって、第1電極22と第3電極24との間に印加する電圧を調整することで、透過する光の波長を適宜選択することができる。このとき、第2電極23は、第3電極24と同電位である。したがって、第2電極23は、光透過領域10aにおいて第1ミラー35及び第2ミラー36を平坦に保つための補償電極として機能する。
光検出装置1Dでは、ファブリペロー干渉フィルタ10に印加する電圧を変化させながら(すなわち、ファブリペロー干渉フィルタ10において第1ミラー35と第2ミラー36との距離を変化させながら)、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aを透過した光を光検出器8で検出することで、分光スペクトルを得ることができる。
[作用及び効果]
以上説明したように、光検出装置1Dでは、パッケージ2の側壁5の形状が円筒状であるのに対し、バンドパスフィルタ14の形状が四角形板状である。これにより、バンドパスフィルタ14の各側面14cと側壁5の内面5aとの距離に比べて、バンドパスフィルタ14の各角部14dと側壁5の内面5aとの距離が小さくなる。したがって、パッケージ2の天壁6の内面6aに対して固定されたバンドパスフィルタ14は、その各角部14dによって、高精度に位置決めされた状態となる。ここで、例えばバンドパスフィルタ14の形状が円形板状である場合に、バンドパスフィルタ14の高精度な位置決めを実現すべく、バンドパスフィルタ14の側面14cと側壁5の内面5aとの距離が小さくなるようにバンドパスフィルタ14が大径化されると、次のような問題が生じる。すなわち、パッケージ2の天壁6の内面6aと熱的に接続されるバンドパスフィルタ14の光入射面14aの面積が大きくなるため、バンドパスフィルタ14がパッケージ2からの熱的な影響(熱による変形等)を受け易くなる。これに対して、バンドパスフィルタ14の形状が四角形板状であると、パッケージ2の天壁6の内面6aと熱的に接続されるバンドパスフィルタ14の光入射面14aの面積が、例えばバンドパスフィルタ14の形状が円形板状である場合に比べて小さくなるため、バンドパスフィルタ14がパッケージ2からの熱的な影響を受け難くなる。更に、ファブリペロー干渉フィルタ10の外縁が開口2aの外縁よりも外側に位置しており、バンドパスフィルタ14の外縁がファブリペロー干渉フィルタ10の外縁よりも外側に位置しているため、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aに入射する光がバンドパスフィルタ14を透過したことが保証される。以上により、光検出装置1Dによれば、バンドパスフィルタ14を適切に機能させることができる。
ここで、ファブリペロー干渉フィルタ10を備える光検出装置1Dにおいてバンドパスフィルタ14を適切に機能させることの重要性について説明する。ファブリペロー干渉フィルタ10では、一般的にλ=2nd/a(n:屈折率、d:第1ミラー35と第2ミラー36との間の距離、a:整数)を満たす波長λが光透過領域10aを透過する光のピーク波長となる。同じ距離dでも、整数aの値を大きくすると(高次側にすると)、それに対応したピーク波長が短波長側で出現する。このため、光検出装置1Dでは、ファブリペロー干渉フィルタ10に加えて、所定の波長範囲以外の光(特に短波長側の光)をカットするバンドパスフィルタ14が必要となる。
例えば、二次光(a=2)について分光スペクトルを得るための光検出装置においては、特に短波長側に出現する3次以降の多次光をカットする必要がある。また、光検出器8にInGaAs PINフォトダイオード(単素子フォトダイオード)が使用され、光源に安価な白色光(ハロゲンランプ等)が使用される場合が想定される。このため、光源/光検出器8の光軸上のいずれかの位置に、バンドパスフィルタ14を配置する必要がある。バンドパスフィルタ14を備える光検出装置と、バンドパスフィルタ14を備えない光検出装置とを比較したところ、バンドパスフィルタ14を備える光検出装置では、短波長側の高次光がカットされていることが確認された。
以上により、光検出装置1Dがバンドパスフィルタ14を備えることで、ファブリペロー干渉フィルタ10のカスタムを必要としない完成度の高い一般製品として光検出装置1Dを提供することが可能となる。また、光検出器8として単素子フォトダイオードを用いることができるため、光検出装置1Dの製造コストを削減することが可能となる。
次に、パッケージ2の側壁5の形状が円筒状であることのメリットについて説明する。まず、光検出装置1Dでは、パッケージ2の側壁5の形状が円筒状であるため、光検出装置1Dの耐久性が向上する。より具体的には、パッケージ2の側壁5の形状が円筒状であるため、パッケージ2の形状安定性が、例えばパッケージ2の側壁5の形状が多角形筒状である場合に比べて高くなる。
また、光検出装置1Dでは、パッケージ2の側壁5の形状が円筒状であるため、例えばパッケージ2の形状が多角形筒状である場合に比べて、応力集中が生じ難い。パッケージ2の形状が多角形筒状である場合には、パッケージ2に加わった衝撃による応力が角部に集中し易い傾向にあるのに対して、パッケージ2の側壁5の形状が円筒状である場合には、衝撃に応力が一点に集中せずに分散するためである。特に、パッケージ2に収容れているファブリペロー干渉フィルタ10は物理的衝撃に弱い。このため、パッケージ2の側壁5の形状を円筒状にすることにより、ファブリペロー干渉フィルタ10が外部の物理的衝撃から好適に保護される。
また、光検出装置1Dの組立時(接着部材15の熱硬化、ワイヤ12の接続、ステム3の封止等)の熱履歴、及び組立後の温度変化等によって、パッケージ2内に熱応力が発生する場合がある。熱応力は、光検出装置1Dを構成する部材間の熱線膨張係数の差によって発生する。この熱応力が光検出装置1Dの内部の特定の場所又は特定の方向に集中して蓄積されることは避けることが望ましい。特定の場所又は特定の方向に熱応力が集中すると、光検出装置1Dの特性異常又は破損に繋がるためである。光検出装置1Dでは、パッケージ2の側壁5の形状が円筒状であるため、発生した熱応力が一点に集中せずに分散し、その結果、光検出装置1Dに特性異常が発生したり光検出装置1Dが破損したりするのを抑制することができる。
また、光検出装置1Dは、開口2aを塞ぐように天壁6の内面6aに配置された光透過部材13を更に備え、バンドパスフィルタ14は、接着部材15によって、光透過部材13の光出射面(内面)13bに固定されており、接着部材15は、光透過部材13の光出射面13bと対向するバンドパスフィルタ14の光入射面14aの全領域に配置されている。この構成によれば、接着部材15が、バンドパスフィルタ14の光入射面14aの全領域に配置されているため、天壁6の内面6aに対してバンドパスフィルタ14が確実に固定された状態となる。また、製造時に接着部材15中に気泡が生じたとしても、バンドパスフィルタ14の各側面14cと側壁5の内面5aとの間から当該気泡が抜け易いため、接着部材15での光の散乱及び回折等が抑制される。更に、この構成によれば、光透過部材13が設けられているため、パッケージ2の気密性が向上する。また、バンドパスフィルタ14が、光透過部材13の光出射面13bに固定されているため、パッケージ2からの熱的な影響をより受け難くなる。また、バンドパスフィルタ14は、光透過部材13の光出射面13bに固定されているため、開口2aからの物理的干渉に起因してバンドパスフィルタ14に傷等の損傷が生じるのを防止することができる。
ここで、接着部材15での光の散乱及び回折等が抑制される効果について説明する。光透過部材13の光出射面13bは、フラットネスが良好ではなく、曲率を有している場合がある。特に、光透過部材13の光出射面13bのうち開口2aに対向する領域は、開口2a側に凹むように歪んでいる場合がある。これは、当該領域では、焼成時の光透過部材13(溶融ガラスである)の自重により、光透過部材13が開口2a側に凹むように歪むからである。これにより、製造時に接着部材15中において生じた気泡が、光透過部材13の光出射面13bのうち開口2aに対向する領域において抜け難くなり、接着部材15での光の散乱及び不要な回折等の原因となるおそれがある。また、バンドパスフィルタ14の光入射面14aのフラットネスが良好ではない場合がある。これにより、バンドパスフィルタ14が高精度に位置決めされていない状態となるおそれがある。
また、光検出装置1Dでは、バンドパスフィルタ14の各角部14dと側壁5の内面5aとは接触しておらず、離れている。これにより、各角部14dと側壁5の内面5aとの接触によるバンドパスフィルタ14(特に、各角部14d)の破損を防止することができる。また、バンドパスフィルタ14の各角部14dと側壁5の内面5aとは接触しておらず、離れているため、バンドパスフィルタ14がパッケージ2からの熱的な影響を受け難くなる。更に、バンドパスフィルタ14の各角部14dと側壁5の内面5aとは接触しておらず、離れているため、つまり、バンドパスフィルタ14の各角部14dは、パッケージ2のR部(光透過部材13の光出射面13bと側壁5の内面5aとによって形成されるR部)と離れているため、バンドパスフィルタ14がフラットな面である光透過部材13の光出射面13bに確実に固定された状態となる。
光検出装置1Dでは、パッケージ2の側壁5の形状が円筒状であるのに対し、バンドパスフィルタ14の形状が四角形板状である。これにより、上述したように、バンドパスフィルタ14は、その各角部14dによって、高精度に位置決めされた状態となる。ここで、例えばバンドパスフィルタ14の形状が円形板状である場合に、バンドパスフィルタ14の高精度な位置決めを実現すべく、バンドパスフィルタ14の側面14cと側壁5の内面5aとの距離が小さくなるようにバンドパスフィルタ14が大径化されると、次のような問題が生じる。すなわち、接着部材15によって、光透過部材13の光出射面13bに固定されているバンドパスフィルタ14の光入射面14aの面積が大きくなるため、接着部材15において生じた気泡が抜き難くなる。これに対して、バンドパスフィルタ14の形状が四角形板状であると、光透過部材13の光出射面13bに固定されているバンドパスフィルタ14の光入射面14aの面積が、例えばバンドパスフィルタ14の形状が円形板状である場合に比べて小さくなるため、接着部材15中に生じた気泡が、バンドパスフィルタ14の各側面14cと側壁5の内面5aとの間から抜け易くなり、その結果、接着部材15での光の散乱及び回折等が抑制される。
なお、光透過部材13の光出射面13bのうち開口2aに対向する領域が、開口2a側に凹むように歪んでいると、バンドパスフィルタ14の光入射面14aのうち光が入射する領域が、光透過部材13の光出射面13bに物理的に接触することが回避され、当該領域に損傷が生じるのを防止することができる。
また、光検出装置1Dでは、接着部材15は、ラインLに平行な方向から見た場合に、バンドパスフィルタ14の外縁から外側に突出しており、接着部材15のうちバンドパスフィルタ14の外縁から外側に突出した部分は、バンドパスフィルタ14の側面14cに接触している。この構成によれば、バンドパスフィルタ14がより確実に固定された状態となる。
また、光検出装置1Dでは、ラインLに平行な方向における接着部材15の第2部分15bの厚さが、各側面14cの中央部分に接触している部分において最大となっており、バンドパスフィルタ14の各角部14dに接触している部分において最小となっている。この構成によれば、例えば接着部材15の硬化時に、バンドパスフィルタ14の各角部14dに対応する部分で接着部材15にクラックが生じるのを抑制することができる。ただし、ラインLに平行な方向における第2部分15bの厚さが、例えば、第2部分15bの表面が凸曲面を呈することで、各側面14cの中央部分から各角部14dに近付くにつれて減少していれば、当該第2部分15bの厚さは、各角部14dに接触している部分において最小となっていなくてもよい。各角部14dに接触している部分において当該第2部分15bの厚さが最大とならなければ、バンドパスフィルタ14の角部14dにクラックが発生するのを抑制することができる。
また、光検出装置1Dでは、ラインLに平行な方向から見た場合に、開口2aの形状は、円形状である。この構成によれば、パッケージ2内に入射する光の強度プロファイルが均一化される。
また、光検出装置1Dでは、バンドパスフィルタ14の形状は、四角形板状である。この構成によれば、パッケージ2の天壁6の内面6aに対するバンドパスフィルタ14の固定の安定性を確保しつつ、パッケージ2からバンドパスフィルタ14に与えられる熱的な影響を効果的に抑制することができる。また、製造時に接着部材15中において生じた気泡が、バンドパスフィルタ14の各側面14cとパッケージ2の側壁5の内面5aとの間から更に抜け易くなり、接着部材15での光の散乱及び回折等が抑制される。更に、ウエハプロセスによるバンドパスフィルタ14の製造コストが安価となる。
また、光検出装置1Dでは、パッケージ2は、金属材料によって形成されている。この構成によれば、ハーメチック封止が可能となるため、パッケージ2の気密性が、例えばプラスチックによって形成されているパッケージ2に比べて向上する。この結果、パッケージ2の内部に収容された各構成の湿度対策のための処理が不要となり、光検出装置1Dの製造コストが削減される。また、パッケージ2が金属材料によって形成されていると、パッケージ2の強度が、例えばプラスチックによって形成されているパッケージ2に比べて向上するため、パッケージ2の内部に収容されている各構成は、外部からの物理的衝撃から保護される。また、パッケージ2が金属材料によって形成されていると、電気的なシールドが容易となる。なお、パッケージ2が金属材料によって形成されていると、パッケージ2の熱伝導率が高くなるものの、上述したように、パッケージ2の側壁5の形状が円筒状であるのに対し、バンドパスフィルタ14の形状が四角形板状であるため、バンドパスフィルタ14はパッケージ2からの熱的な影響を受け難い。
また、光検出装置1Dでは、ファブリペロー干渉フィルタ10の外縁がパッケージ2の開口2aの外縁よりも外側に位置しており、光透過部材13の外縁がファブリペロー干渉フィルタ10の外縁よりも外側に位置している。これにより、開口2aでの光の入射角、開口2aでの回折等に起因して光透過部材13の側面13cを介して光がパッケージ2内に進入して迷光となるのを抑制することができる。また、開口2aでの光の入射角、開口2aでの回折等に起因して迷光となった光が光検出器8に入射するのを抑制することができる。
光検出器8への迷光の入射の抑制について、より具体的に説明する。パッケージ2の開口2aに入射した光の一部は、開口2aでの光の入射角、開口2aの側面及び出射側角部(開口2aの側面と天壁6の内面6aとが交差する角部)での回折等に起因して、光透過部材13の側面13cからパッケージ2内に出射される可能性がある。このような光がパッケージ2内で多重反射して光検出器8に入射すると、迷光によるノイズとして出力信号に現れてしまい、光検出特性の劣化に繋がる。特に、光透過部材13の側面13cは、光透過部材13の光入射面13a及び光出射面13bに比べて粗い面になっている場合が多いため、光透過部材13の側面13cからパッケージ2内に出射される光は、散乱光となって光検出器8に入射し易い。これに対し、光検出装置1Dでは、ファブリペロー干渉フィルタ10の外縁がパッケージ2の開口2aの外縁よりも外側に位置しており、光透過部材13の外縁がファブリペロー干渉フィルタ10の外縁よりも外側に位置している。また、光透過部材13の外縁、つまり、光透過部材13の側面13cはパッケージ2の側壁5の内面5aに接触している。これにより、例えば光透過部材13の外縁がファブリペロー干渉フィルタ10の外縁よりも内側に位置している場合に比べ、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10a及び光検出器8から光透過部材13の側面13cが遠ざかる。更に、光透過部材13の側面13cは、パッケージ2の側壁5の内面5aに接触しており、内面5aにより覆われている。このため、光検出器8への迷光の入射が抑制され、S/N比及び分解能が向上する。
また、光検出装置1Dでは、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aの外縁は、光検出器8の外縁よりも外側に位置している。開口2aの外縁は、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aの外縁よりも外側に位置している。ファブリペロー干渉フィルタ10の外縁は、開口2aの外縁よりも外側に位置している。バンドパスフィルタ14の外縁は、ファブリペロー干渉フィルタ10の外縁よりも外側に位置している。これにより、開口2a及びファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aを介して光検出器8に入射する光がバンドパスフィルタ14を透過したことが保証される。
また、光検出装置1Dでは、ファブリペロー干渉フィルタ10の外縁は、光検出器8の外縁よりも外側に位置している。これにより、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aを透過しない光が迷光として光検出器8に入射するのを抑制することができる。
また、光検出装置1Dは、光透過部材13を備えている。更に、光検出装置1Dでは、光透過部材13の厚さTが、ファブリペロー干渉フィルタ10と光透過部材13との距離D1に0.3を乗じた値以上の値である。これにより、光透過部材13の熱容量が大きくなる一方でパッケージ2内の空間の体積が小さくなるため、パッケージ2内の温度の均一化を図ることができる。したがって、バンドパスフィルタ14及びファブリペロー干渉フィルタ10等のパッケージ2内に収容された各部は、温度変化の影響を受け難くなる。また、光透過部材13がファブリペロー干渉フィルタ10に相対的に近付くことになるため、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aを透過しない光が迷光として光検出器8に入射するのを抑制することができる。なお、パッケージ2内の温度の均一化、及び光検出器8への迷光の入射の更なる抑制を図る上では、厚さTは、距離D1に0.6を乗じた値以上の値であることがより好ましい。
また、光検出装置1Dでは、光透過部材13の厚さTは、ファブリペロー干渉フィルタ10と光検出器8との距離D2以上の値である。これにより、光透過部材13の熱容量が大きくなる一方でパッケージ2内の空間の体積が小さくなるため、パッケージ2内の温度の更なる均一化を図ることができる。
また、光検出装置1Dでは、ファブリペロー干渉フィルタ10の各端子25,26と各リードピン11とがワイヤ12によって電気的に接続されている。上述したように、光検出装置1Dでは、ファブリペロー干渉フィルタ10の外縁がパッケージ2の開口2aの外縁よりも外側に位置しており、光透過部材13の外縁がファブリペロー干渉フィルタ10の外縁よりも外側に位置している。更に、光透過部材13の外縁、つまり、光透過部材13の側面13cはパッケージ2の側壁5の内面5aに接触している。つまり、光透過部材13は、パッケージ2の天壁6の内面6aの全面を覆っている。このため、ワイヤ12が撓んだとしても、ワイヤ12とパッケージ2の天壁6の内面6aとの接触を防止することができる。
ワイヤ12とパッケージ2との接触の防止について、より具体的に説明する。金属からなるパッケージ2にワイヤ12が接触すると、ファブリペロー干渉フィルタ10を制御するための電気信号がパッケージ2にも流れることになり、ファブリペロー干渉フィルタ10の制御が困難になる。これに対し、絶縁性材料からなる光透過部材13にワイヤ12が接触しても、ファブリペロー干渉フィルタ10を制御するための電気信号が光透過部材13に流れることはなく、ファブリペロー干渉フィルタ10の高精度な制御が可能である。ワイヤ12とパッケージ2との接触を防止し得る上記構成は重要である。
また、光検出装置1Dでは、シリコン基板をファブリペロー干渉フィルタ10の基板21に適用し、光電変換領域が形成されたInGaAs基板を光検出器8に適用することで、次のような作用及び効果が奏される。光電変換領域が形成されたInGaAs基板を有する光検出器8は、例えば、1200nmよりも短い波長を有する光、及び2100nmよりも長い波長を有する光に比べ、1200nm以上2100nm以下の波長を有する光に対して高い感度を有する。しかし、当該光検出器8は、2100nmよりも長い波長を有する光に比べると、1200nmよりも短い波長を有する光に対しても高い感度を有する。ここで、シリコン基板は、1200nm以上の波長を有する光に比べ、1200nmよりも短い波長を有する光に対して高い吸収性を有する(シリコン基板の製造方法、厚さ、不純物濃度にもよるが、特に1100nmよりも短い波長を有する光に対して高い吸収性を有する)。したがって、上記構成により、例えば、1200nm以上2100nm以下の波長を有する光を検出すべき場合に、ファブリペロー干渉フィルタ10のシリコン基板をハイパスフィルタとして機能させることができ、結果として、バンドパスフィルタ14との相乗効果により、光検出器8がノイズ光(1200nmよりも短い(特に1100nmよりも短い)波長を有する光、及び2100nmよりも長い波長を有する光)を検出するのを確実に抑制することができる。
また、光検出装置1Dでは、チップ状のファブリペロー干渉フィルタ10の外縁がパッケージ2の開口2aの外縁よりも外側に位置しており、光透過部100の外縁がファブリペロー干渉フィルタ10の外縁よりも外側に位置している。これにより、開口2aでの光の入射角、開口2aでの回折等に起因して光透過部100の側面を介して光がパッケージ2内に進入して迷光となるのを抑制することができる。また、開口2aでの光の入射角、開口2aでの回折等に起因して迷光となった光が光検出器8に入射するのを抑制することができる。更に、例えば光透過部100の外縁がファブリペロー干渉フィルタ10の外縁よりも内側に位置している場合に比べ、光透過部100の熱容量、及び光透過部100とパッケージ2との熱的な接続面積が大きくなるため、結果として、パッケージ2内の温度の均一化を図ることができる。以上により、光検出装置1Dでは、光検出特性が高くなる。
[第4実施形態]
[光検出装置の構成]
図12及び図13に示されるように、光検出装置1Eは、接着部材15がバンドパスフィルタ14の各角部(隣り合う側面14cによって形成される角部)に対応するように配置されている点で、上述した光検出装置1Dと主に相違している。
光検出装置1Eでは、バンドパスフィルタ14の各角部において、接着部材15の第1部分15aは、バンドパスフィルタ14の光入射面14aのうち角領域14e(光入射面14aのうち、隣り合う側面14cによって形成される角部を含む領域)に配置されている。つまり、第1部分15aは、互いに対向する光透過部材13の光出射面13bとバンドパスフィルタ14の角領域14eとの間に配置されている。バンドパスフィルタ14の各角部において、接着部材15の第2部分15bは、ラインLに平行な方向から見た場合にバンドパスフィルタ14の外縁から外側に突出している。第2部分15bは、側壁5の内面5aに至っており、側壁5の内面5aに接触している。また、第2部分15bは、バンドパスフィルタ14の側面14cに接触している。また、第2部分15bは、バンドパスフィルタ14の光出射面14bのうち角領域14eと対向する領域を覆っている。これにより、バンドパスフィルタ14がより確実に固定された状態となる。この際、バンドパスフィルタ14のうち角領域14eが開口2aから最も遠くなるように位置されているため、光出射面14bのうち角領域14eと対向する領域を覆っている第2部分15bは、光出射面14bのうち光透過領域10aと対向する領域を覆う可能性は低い。また、バンドパスフィルタ14の各角部における接着部材15は互いに離間している。このように、光検出装置1Eでは、接着部材15は、バンドパスフィルタ14の光入射面14aのうち角領域14eを除く領域に配置されておらず、角領域14eに配置されている。なお、光検出装置1Eにおいても、接着部材15は、天壁6の内面6aに接合された光透過部材13を介して、天壁6の内面6aに対してバンドパスフィルタ14を固定している。
光検出装置1Eにおいても、上述した光検出装置1Dと同様に、バンドパスフィルタ14によって光透過部100が構成されている。つまり、光透過部100は、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aに入射させる光を透過させるバンドパスフィルタ14を含んでいる。
なお、光透過部材13の光出射面13bのうち開口2aに対向する領域が、開口2a側に凹むように歪んでいると、バンドパスフィルタ14の光入射面14aのうち光が入射する領域が、光透過部材13の光出射面13bに物理的に接触することが回避され、当該領域に損傷が生じるのを防止することができる。更に、バンドパスフィルタ14の各角部に対応するように配置された接着部材15が、光透過部材13の光出射面13bのうち開口2aに対向する領域に入り込むのを防止することができる。これは、光透過部材13の光出射面13bのうち開口2aに対向する領域を包囲する領域が盛り上がる傾向があるからである。
[作用及び効果]
以上説明したように、光検出装置1Eによれば、上述した光検出装置1Dと同様に、バンドパスフィルタ14を適切に機能させることができる。また、光検出装置1Eでは、上述した光検出装置1Dと同様に、光検出特性が高くなる。
また、光検出装置1Eは、開口2aを塞ぐように天壁6の内面6aに配置された光透過部材13を更に備え、バンドパスフィルタ14は、接着部材15によって、光透過部材13の光出射面13bに固定されており、接着部材15は、光透過部材13の光出射面13bと対向するバンドパスフィルタ14の光入射面14aのうち角領域14eを除く領域に配置されておらず、角領域14eに配置されている。この構成によれば、接着部材15が、バンドパスフィルタ14の光入射面14aのうち角領域14eを除く領域に配置されていないため、接着部材15での光の散乱及び回折等がより確実に抑制される。更に、この構成によれば、光透過部材13が設けられているため、パッケージ2の気密性が向上する。また、バンドパスフィルタ14が光透過部材13の光出射面13bに固定されているため、パッケージ2からの熱的な影響をより受け難くなる。
また、接着部材15が、バンドパスフィルタ14の光入射面14aのうち角領域14eを除く領域に配置されていないため、接着部材15の使用量が削減される。これにより、パッケージ2内に残留するアウトガスの量が少なくなり、ファブリペロー干渉フィルタ10及び光検出器8の受光面へのアウトガスの付着量が少なくなる。このため、ファブリペロー干渉フィルタ10及び光検出器8の光検出特性の変化及び劣化等が起こり難くなる。
[第5実施形態]
[光検出装置の構成]
図14及び図15に示されるように、光検出装置1Fは、光透過部材13を備えていない点で、上述した光検出装置1Dと主に相違している。
光検出装置1Fでは、バンドパスフィルタ14は、接着部材15によって、天壁6の内面6aに直接的に固定されている。つまり、光検出装置1Fにおいては、接着部材15は、他の部材(天壁6の内面6aに接合された光透過部材13等)を介することなく、天壁6の内面6aに対してバンドパスフィルタ14を固定している。接着部材15の第1部分15aは、天壁6の内面6aと対向するバンドパスフィルタ14の光入射面14aのうち開口2aと対向する対向領域14fを除く領域に配置されている。つまり、第1部分15aは、互いに対向する天壁6の内面6aと当該領域(すなわち、バンドパスフィルタ14の光入射面14aのうち対向領域14fを除く領域)との間に配置されている。接着部材15の第2部分15bは、ラインLに平行な方向から見た場合にバンドパスフィルタ14の外縁から外側に突出している。第2部分15bは、側壁5の内面5aに至っており、側壁5の内面5aに接触している。また、第2部分15bは、バンドパスフィルタ14の側面14cに接触している。
光検出装置1Fにおいても、上述した光検出装置1Dと同様に、バンドパスフィルタ14によって光透過部100が構成されている。つまり、光透過部100は、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aに入射させる光を透過させるバンドパスフィルタ14を含んでいる。
[作用及び効果]
以上説明したように、光検出装置1Fによれば、上述した光検出装置1Dと同様に、バンドパスフィルタ14を適切に機能させることができる。また、光検出装置1Fでは、上述した光検出装置1Dと同様に、光検出特性が高くなる。
また、光検出装置1Fでは、バンドパスフィルタ14は、接着部材15によって、天壁6の内面6aに固定されており、接着部材15は、天壁6の内面6aと対向するバンドパスフィルタ14の光入射面14aのうち開口2aと対向する対向領域14fを除く領域に配置されている。この構成によれば、接着部材15が、バンドパスフィルタ14の光入射面14aのうち開口2aと対向する対向領域14fを除く領域に配置されているため、天壁6の内面6aに対してバンドパスフィルタ14が確実に固定された状態となる。また、製造時に接着部材15中に気泡が生じたとしても、バンドパスフィルタ14の各側面14cと側壁5の内面5aとの間だけでなく開口2aからも当該気泡が抜け易いため、接着部材15での光の散乱及び回折等が抑制される。
[第6実施形態]
[光検出装置の構成]
図16及び図17に示されるように、光検出装置1Gは、光透過部材13を備えていない点で、上述した光検出装置1Eと主に相違している。
光検出装置1Gでは、バンドパスフィルタ14は、接着部材15によって、天壁6の内面6aに直接的に固定されている。つまり、光検出装置1Gにおいては、接着部材15は、他の部材(天壁6の内面6aに接合された光透過部材13等)を介することなく、天壁6の内面6aに対してバンドパスフィルタ14を固定している。バンドパスフィルタ14の各角部において、接着部材15の第1部分15aは、バンドパスフィルタ14の光入射面14aのうち角領域14eに配置されている。つまり、第1部分15aは、互いに対向する天壁6の内面6aとバンドパスフィルタ14の角領域14eとの間に配置されている。バンドパスフィルタ14の各角部において、接着部材15の第2部分15bは、ラインLに平行な方向から見た場合にバンドパスフィルタ14の外縁から外側に突出している。第2部分15bは、側壁5の内面5aに至っており、側壁5の内面5aに接触している。また、第2部分15bは、バンドパスフィルタ14の側面14cに接触している。また、第2部分15bは、バンドパスフィルタ14の光出射面14bのうち角領域14eと対向する領域を覆っている。これにより、バンドパスフィルタ14がより確実に固定された状態となる。この際、バンドパスフィルタ14のうち角領域14eが開口2aから最も遠くなるように位置されているため、光出射面14bのうち角領域14eと対向する領域を覆っている第2部分15bは、光出射面14bのうち光透過領域10aと対向する領域を覆う可能性は低い。また、バンドパスフィルタ14の各角部における接着部材15は互いに離間している。このように、光検出装置1Gでは、接着部材15は、バンドパスフィルタ14の光入射面14aのうち角領域14eを除く領域に配置されておらず、角領域14eに配置されている。
光検出装置1Gにおいても、上述した光検出装置1Dと同様に、バンドパスフィルタ14によって光透過部100が構成されている。つまり、光透過部100は、ファブリペロー干渉フィルタ10の光透過領域10aに入射させる光を透過させるバンドパスフィルタ14を含んでいる。
[作用及び効果]
以上説明したように、光検出装置1Gによれば、上述した光検出装置1Dと同様に、バンドパスフィルタ14を適切に機能させることができる。また、光検出装置1Gでは、上述した光検出装置1Dと同様に、光検出特性が高くなる。
また、光検出装置1Gでは、バンドパスフィルタ14は、接着部材15によって、天壁6の内面6aに固定されており、接着部材15は、天壁6の内面6aと対向するバンドパスフィルタ14の光入射面14aのうち角領域14eを除く領域に配置されておらず、角領域14eに配置されている。この構成によれば、接着部材15が、バンドパスフィルタ14の光入射面14aのうち角領域14eを除く領域に配置されていないため、接着部材15での光の散乱及び回折等がより確実に抑制される。
[変形例]
以上、本開示の第3実施形態、第4実施形態、第5実施形態及び第6実施形態について説明したが、本開示の一形態は、上述した各実施形態に限定されるものではない。例えば、各構成の材料及び形状には、上述した材料及び形状に限らず、様々な材料及び形状を採用することができる。
また、各実施形態において、接着部材15は、ラインLに平行な方向から見た場合にバンドパスフィルタ14の外縁から外側に突出していなくてもよい。また、各実施形態において、接着部材15のうちバンドパスフィルタ14の外縁から外側に突出した第2部分15bは、側壁5の内面5aに至っておらず、側壁5の内面5aから離間していてもよい。例えば、接着部材15の材料が光透過性樹脂である場合には、天壁6の内面6aに対するバンドパスフィルタ14の固定強度を向上させる観点から、第2部分15bは、側壁5の内面5aに至っていることが好ましい。しかし、例えば、接着部材15の材料が低融点ガラス、又は硬度が大きい樹脂である場合には、側壁5から接着部材15に応力が作用することによって接着部材15にクラックが生じるのを防止する観点から、第2部分15bは、側壁5の内面5aに至っていないことが好ましい。
また、第3実施形態及び第5実施形態においては、接着部材15の粘度によって、ラインLに平行な方向における接着部材15の第2部分15bの厚さは、側壁5の内面5aに接触している部分において最大となっていてもよい。これにより、例えば接着部材15の硬化時に、バンドパスフィルタ14の各角部14dに対応する部分で接着部材15にクラックが生じることを抑制することができる。また、接着部材15がバンドパスフィルタ14の光出射面14b上へ回り込むことが防止される。
また、第4実施形態、第5実施形態及び第6実施形態においては、ラインL上において開口2aと対向する領域に接着部材15が配置されていないため、接着部材15の材料は、光を透過させない材料であってもよい。
また、第6実施形態においては、角領域14eに配置された接着部材15によって天壁6の内面6aに対してバンドパスフィルタ14を固定した後、ラインLに平行な方向から見た場合にバンドパスフィルタ14の外縁のうち、接着部材15が配置されていない領域から、天壁6の内面6aとバンドパスフィルタ14の光入射面14aとの間に更に接着部材15を充填してもよい。なお、この際、バンドパスフィルタ14の光入射面14aのうち開口2aと対向する対向領域には接着部材15が侵入しないようにする。
また、バンドパスフィルタ14の形状は、四角形板状に限定されず、多角形板状であればよい。その場合にも、各角部によってバンドパスフィルタ14が高精度に位置決めされた状態となり、また、バンドパスフィルタ14がパッケージ2からの熱的な影響を受け難くなる。よって、バンドパスフィルタ14の形状が多角形板状である場合にも、バンドパスフィルタ14を適切に機能させることができる。
また、光検出器8として用いられる受光素子の種類によっては、バンドパスフィルタ14は、短波長側に出現する3次光以降の多次光をカットするだけではなく、長波長(例えば、a=1)側に出現する光をカットする必要がある場合がある。つまり、A次光(a=A)について分光スペクトルを得るための光検出装置においては、短波長側に出現する高次光(a>A)、及び長波長側に出現する低次光(a<A)の双方をカットする必要がある場合がある。
また、パッケージ2は、上述したようなCANパッケージに限定されず、次のようなものであればよい。すなわち、パッケージ2は、開口2aが形成された第1壁部、ファブリペロー干渉フィルタ10、バンドパスフィルタ14及び光検出器8を挟んで第1壁部と対向する第2壁部、並びに、ファブリペロー干渉フィルタ10、バンドパスフィルタ14及び光検出器8を包囲する円筒状の側壁部を有するものであればよい。
1A,1B,1C,1D,1E,1F,1G…光検出装置、2…パッケージ、2a…開口、3…ステム(第2壁部)、5…側壁(側壁部)、6…天壁(第1壁部)、6a…内面、8…光検出器、10…ファブリペロー干渉フィルタ、10a…光透過領域、11…リードピン、12…ワイヤ、13…光透過部材、13b…光出射面(内面)、14…バンドパスフィルタ、14a…光入射面、14c…側面、14e…角領域、14f…対向領域、15…接着部材、35…第1ミラー、36…第2ミラー、L…ライン。

Claims (12)

  1. 互いの距離が可変とされた第1ミラー及び第2ミラーを有し、前記第1ミラーと前記第2ミラーとの距離に応じた光を透過させる光透過領域が所定のライン上に設けられたファブリペロー干渉フィルタと、
    前記ライン上において前記ファブリペロー干渉フィルタの第1の側に配置され、前記光透過領域を透過した光を検出する光検出器と、
    前記ライン上において前記ファブリペロー干渉フィルタの第2の側に位置する開口を有し、前記ファブリペロー干渉フィルタ及び前記光検出器を収容するパッケージと、
    前記開口を塞ぐように前記パッケージの内面に配置された光透過部材及び、前記光透過部材の光出射面に配置され、前記光透過領域に入射させる光を透過させるバンドパスフィルタを含む光透過部と、を備え、
    前記バンドパスフィルタは、前記光透過部材の前記光出射面上において前記バンドパスフィルタの外縁から外側に突出した部分を有する接着部材によって、前記光透過部材の前記光出射面に固定されており、
    前記光透過部は、前記パッケージ内に配置された側面を有し、
    前記ラインに平行な方向から見た場合に、前記ファブリペロー干渉フィルタの外縁は、前記開口の外縁よりも外側に位置しており、前記光透過部の外縁は、前記ファブリペロー干渉フィルタの前記外縁よりも外側に位置している、光検出装置。
  2. 前記ラインに平行な方向から見た場合に、前記バンドパスフィルタの外縁は、前記ファブリペロー干渉フィルタの前記外縁よりも外側に位置している、請求項記載の光検出装置。
  3. 前記光透過部材の厚さは、前記ファブリペロー干渉フィルタと前記光透過部材との距離に0.5を乗じた値以上の値である、請求項又は記載の光検出装置。
  4. 前記ファブリペロー干渉フィルタは、前記第1ミラー及び前記第2ミラーを支持するシリコン基板を有し、
    前記光検出器は、光電変換領域が形成されたInGaAs基板を有する、請求項のいずれか一項記載の光検出装置。
  5. 前記パッケージを貫通するリードピンと、
    前記ファブリペロー干渉フィルタの端子と前記リードピンとを電気的に接続するワイヤと、を更に備える、請求項のいずれか一項記載の光検出装置。
  6. 前記バンドパスフィルタの形状は、多角形板状であり、
    前記パッケージは、前記開口が形成された第1壁部、前記ファブリペロー干渉フィルタ、前記バンドパスフィルタ及び前記光検出器を挟んで前記第1壁部と対向する第2壁部、並びに、前記ファブリペロー干渉フィルタ、前記バンドパスフィルタ及び前記光検出器を包囲する円筒状の側壁部を有る、請求項1〜5のいずれか一項記載の光検出装置。
  7. 前記接着部材は、前記光透過部材の前記光出射面と対向する前記バンドパスフィルタの光入射面の全領域に配置されている、請求項記載の光検出装置。
  8. 前記接着部材は、前記光透過部材の前記光出射面と対向する前記バンドパスフィルタの光入射面のうち角領域を除く領域に配置されておらず、前記角領域に配置されている、請求項記載の光検出装置。
  9. 前記接着部材のうち前記バンドパスフィルタの前記外縁から外側に突出した前記部分は、前記バンドパスフィルタの側面に接触している、請求項7又は8記載の光検出装置。
  10. 前記ラインに平行な方向から見た場合に、前記開口の形状は、円形状である、請求項のいずれか一項記載の光検出装置。
  11. 前記バンドパスフィルタの形状は、四角形板状である、請求項〜1のいずれか一項記載の光検出装置。
  12. 前記パッケージは、金属材料によって形成されている、請求項〜1のいずれか一項記載の光検出装置。
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5987573B2 (ja) 2012-09-12 2016-09-07 セイコーエプソン株式会社 光学モジュール、電子機器、及び駆動方法
JP7039160B2 (ja) * 2016-03-09 2022-03-22 浜松ホトニクス株式会社 光検出装置
JP7142419B2 (ja) 2017-05-01 2022-09-27 浜松ホトニクス株式会社 光計測制御プログラム、光計測システム及び光計測方法
KR102669193B1 (ko) 2017-06-13 2024-05-28 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 광학 필터 시스템
JP6517309B1 (ja) * 2017-11-24 2019-05-22 浜松ホトニクス株式会社 異物除去方法、及び光検出装置の製造方法
JP7313115B2 (ja) 2017-11-24 2023-07-24 浜松ホトニクス株式会社 光検査装置及び光検査方法
JP7351610B2 (ja) * 2018-10-30 2023-09-27 浜松ホトニクス株式会社 光検出装置
JP7388815B2 (ja) * 2018-10-31 2023-11-29 浜松ホトニクス株式会社 分光ユニット及び分光モジュール
DE102018221522A1 (de) 2018-12-12 2020-06-18 Robert Bosch Gmbh Spektrometervorrichtung und Verfahren zum Herstellen einer Spektrometervorrichtung
JP7181784B2 (ja) * 2018-12-18 2022-12-01 浜松ホトニクス株式会社 モニタ装置、光学フィルタシステム、モニタ方法、電流発生装置
DE102019207383A1 (de) * 2019-05-21 2020-11-26 Robert Bosch Gmbh Interferometereinrichtung und Verfahren zum Herstellen einer Interferometereinrichtung
DE102019213270A1 (de) 2019-09-03 2021-03-04 Robert Bosch Gmbh Interferometereinrichtung und Verfahren zum Herstellen einer Interferometereinrichtung
JP2021060249A (ja) * 2019-10-04 2021-04-15 浜松ホトニクス株式会社 分光ユニット及び分光モジュール

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58178647A (ja) 1982-04-12 1983-10-19 Toshiba Corp 位相同期回路
JPS58178647U (ja) * 1982-05-26 1983-11-29 オムロン株式会社 単色光センサ
US6747742B1 (en) * 2001-06-22 2004-06-08 Tanner Research, Inc. Microspectrometer based on a tunable fabry-perot interferometer and microsphere cavities
TWI240794B (en) * 2004-03-02 2005-10-01 Ind Tech Res Inst Wavelength meter
US7417746B2 (en) * 2005-12-29 2008-08-26 Xerox Corporation Fabry-perot tunable filter systems and methods
US20080049228A1 (en) * 2006-08-28 2008-02-28 Novaspectra, Inc. Fabry-perot interferometer array
WO2008149939A1 (ja) * 2007-06-08 2008-12-11 Hamamatsu Photonics K.K. 分光器
FI125817B (fi) * 2009-01-27 2016-02-29 Teknologian Tutkimuskeskus Vtt Oy Parannettu sähköisesti säädettävä Fabry-Perot-interferometri, välituote, elektrodijärjestely ja menetelmä sähköisesti säädettävän Fabry-Perot-interferometrin tuottamiseksi
DE102009035386B4 (de) * 2009-07-30 2011-12-15 Cochlear Ltd. Hörhilfeimplantat
JP5048795B2 (ja) * 2010-01-21 2012-10-17 浜松ホトニクス株式会社 分光装置
CN102789993B (zh) * 2011-05-17 2015-08-19 重庆鹰谷光电有限公司 高效、广角、抗干扰、微型激光接收器的制作方法
JP5878723B2 (ja) * 2011-10-04 2016-03-08 浜松ホトニクス株式会社 分光センサ
JP5966405B2 (ja) * 2012-02-14 2016-08-10 セイコーエプソン株式会社 光学フィルターデバイス、及び光学フィルターデバイスの製造方法
JP5875936B2 (ja) * 2012-05-18 2016-03-02 浜松ホトニクス株式会社 分光センサ
JP2014013339A (ja) * 2012-07-05 2014-01-23 Seiko Epson Corp 波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器
JP6107254B2 (ja) 2013-03-14 2017-04-05 セイコーエプソン株式会社 光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器
JP2015049276A (ja) * 2013-08-30 2015-03-16 セイコーエプソン株式会社 干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、電子機器、及び光学部材
EP3064914B1 (en) * 2013-10-31 2021-11-24 Hamamatsu Photonics K.K. Light-detecting device
JP6290594B2 (ja) * 2013-10-31 2018-03-07 浜松ホトニクス株式会社 光検出装置
US10156473B2 (en) * 2015-09-02 2018-12-18 The Boeing Company Remote target identification using laser Doppler vibrometry

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