JP6824947B2 - 処理チャンバおよび基板処理装置 - Google Patents
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Description
10 処理チャンバ
11 チャンバ本体
12 天板(蓋部、板状体)
13 支持機構
14 シール部
15 ホットプレート(加熱部)
16 ガスノズル(気流形成部)
120 フレーム部
121 内側フレーム(枠体)
122 外側フレーム(補強部材)
123 補強材(枠体)
124 上側パネル(平板体)
125 下側パネル(平板体)
126 補強板(補強部材)
141 本体側パッキン(本体側シール材)
142 天板側パッキン(蓋側シール材)
Ps シール位置
S 基板(被処理基板)
Claims (9)
- 被処理基板に加熱処理を施すための処理チャンバであって、
上部に開口を有し、前記被処理基板および前記被処理基板を加熱する熱源を収容するチャンバ本体と、
前記開口に対し開閉可能な蓋部と、
前記開口に対し閉状態の前記蓋部と前記チャンバ本体との間で前記開口を取り囲んで前記蓋部と前記チャンバ本体との隙間をシールするシール部と
を備え、
前記蓋部は、平面視において周縁が前記シール部と接するシール位置より外側に突出した板状体を有し、
前記板状体は、枠体を1対の平板体で挟み込んだ中空構造物であり、平面視において前記枠体の外側に、前記シール位置よりも外側で前記周縁に沿って延びる補強部材が結合されている、処理チャンバ。 - 平面視において、前記枠体の外周縁は前記シール位置よりも内側に収まる請求項1に記載の処理チャンバ。
- 前記蓋部は、前記枠体としての内側フレームと、平面視において前記内側フレームの周囲を取り囲む、前記補強部材としての外側フレームとを有する請求項1または2に記載の処理チャンバ。
- 被処理基板に加熱処理を施すための処理チャンバであって、
上部に開口を有し、前記被処理基板および前記被処理基板を加熱する熱源を収容するチャンバ本体と、
前記開口に対し開閉可能な蓋部と、
前記開口に対し閉状態の前記蓋部と前記チャンバ本体との間で前記開口を取り囲んで前記蓋部と前記チャンバ本体との隙間をシールするシール部と
を備え、
前記蓋部は、平面視において周縁が前記シール部と接するシール位置より外側に突出した板状体を有し、前記板状体には、前記シール位置よりも外側で前記周縁に沿って延びる補強部材が結合されており、
前記補強部材として、矩形断面を有する中空パイプを有する処理チャンバ。 - 被処理基板に加熱処理を施すための処理チャンバであって、
上部に開口を有し、前記被処理基板および前記被処理基板を加熱する熱源を収容するチャンバ本体と、
前記開口に対し開閉可能な蓋部と、
前記開口に対し閉状態の前記蓋部と前記チャンバ本体との間で前記開口を取り囲んで前記蓋部と前記チャンバ本体との隙間をシールするシール部と
を備え、
前記蓋部は、平面視において周縁が前記シール部と接するシール位置より外側に突出した板状体を有し、前記板状体には、前記シール位置よりも外側で前記周縁に沿って延びる補強部材が結合されており、
前記補強部材として、前記板状体の側面に取り付けられた、断面における鉛直方向のサイズが水平方向のサイズより大きい棒状または板状の部材を有する処理チャンバ。 - 被処理基板に加熱処理を施すための処理チャンバであって、
上部に開口を有し、前記被処理基板および前記被処理基板を加熱する熱源を収容するチャンバ本体と、
前記開口に対し開閉可能な蓋部と、
前記開口に対し閉状態の前記蓋部と前記チャンバ本体との間で前記開口を取り囲んで前記蓋部と前記チャンバ本体との隙間をシールするシール部と
を備え、
前記蓋部は、平面視において周縁が前記シール部と接するシール位置より外側に突出した板状体を有し、前記板状体には、前記シール位置よりも外側で前記周縁に沿って延びる補強部材が結合されており、
前記シール部は、
弾性材料により形成され、前記開口の周囲に沿って前記開口を取り囲むように前記チャンバ本体に設けられた本体側シール材と、
弾性材料により形成され、前記蓋部の下面のうち前記本体側シール材と対向する位置に設けられた蓋側シール材とを有し、
前記閉状態では前記本体側シール材と前記蓋側シール材とが当接することで前記隙間をシールする処理チャンバ。 - 請求項1ないし6のいずれかに記載の処理チャンバと、
前記処理チャンバの内部に配置された前記熱源としての加熱部と
を備える基板処理装置。 - 前記加熱部は、昇温された上面に被処理基板が載置されるホットプレートを有する請求項7に記載の基板処理装置。
- 前記処理チャンバ内で、前記蓋部の下面に沿って加熱気体を流通させる気流形成部を有する請求項7または8に記載の基板処理装置。
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