JP6885066B2 - Compounds, compounds for light emitting elements, light emitting elements, light emitting devices, light sources, authentication devices and electronic devices - Google Patents
Compounds, compounds for light emitting elements, light emitting elements, light emitting devices, light sources, authentication devices and electronic devices Download PDFInfo
- Publication number
- JP6885066B2 JP6885066B2 JP2017004631A JP2017004631A JP6885066B2 JP 6885066 B2 JP6885066 B2 JP 6885066B2 JP 2017004631 A JP2017004631 A JP 2017004631A JP 2017004631 A JP2017004631 A JP 2017004631A JP 6885066 B2 JP6885066 B2 JP 6885066B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light emitting
- group
- formula
- aromatic ring
- compound represented
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 194
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 295
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 71
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 51
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 44
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 37
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 31
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 25
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000001484 phenothiazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 claims description 12
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 11
- 125000001644 phenoxazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 claims description 8
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 257
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 83
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 65
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 64
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 64
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 description 34
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 33
- XBDYBAVJXHJMNQ-UHFFFAOYSA-N Tetrahydroanthracene Natural products C1=CC=C2C=C(CCCC3)C3=CC2=C1 XBDYBAVJXHJMNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 28
- IFLREYGFSNHWGE-UHFFFAOYSA-N tetracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=C21 IFLREYGFSNHWGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 27
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 23
- 150000004867 thiadiazoles Chemical class 0.000 description 22
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 19
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 18
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 16
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 15
- 229920003026 Acene Polymers 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 8
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 8
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000004768 lowest unoccupied molecular orbital Methods 0.000 description 7
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 7
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000004770 highest occupied molecular orbital Methods 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 6
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 6
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 5
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- STTGYIUESPWXOW-UHFFFAOYSA-N 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline Chemical compound C=12C=CC3=C(C=4C=CC=CC=4)C=C(C)N=C3C2=NC(C)=CC=1C1=CC=CC=C1 STTGYIUESPWXOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical class C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- NSMJMUQZRGZMQC-UHFFFAOYSA-N 2-naphthalen-1-yl-1H-imidazo[4,5-f][1,10]phenanthroline Chemical compound C12=CC=CN=C2C2=NC=CC=C2C2=C1NC(C=1C3=CC=CC=C3C=CC=1)=N2 NSMJMUQZRGZMQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 239000008280 blood Substances 0.000 description 3
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 description 3
- 125000000609 carbazolyl group Chemical class C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical group C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 3
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 210000003462 vein Anatomy 0.000 description 3
- UHXOHPVVEHBKKT-UHFFFAOYSA-N 1-(2,2-diphenylethenyl)-4-[4-(2,2-diphenylethenyl)phenyl]benzene Chemical group C=1C=C(C=2C=CC(C=C(C=3C=CC=CC=3)C=3C=CC=CC=3)=CC=2)C=CC=1C=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 UHXOHPVVEHBKKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZMSYXZUNZXBOL-UHFFFAOYSA-N 10H-phenoxazine Chemical group C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3OC2=C1 TZMSYXZUNZXBOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VFUDMQLBKNMONU-UHFFFAOYSA-N 9-[4-(4-carbazol-9-ylphenyl)phenyl]carbazole Chemical group C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2N1C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)C=C1 VFUDMQLBKNMONU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100394073 Caenorhabditis elegans hil-1 gene Proteins 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GCTFWCDSFPMHHS-UHFFFAOYSA-M Tributyltin chloride Chemical compound CCCC[Sn](Cl)(CCCC)CCCC GCTFWCDSFPMHHS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001454 anthracenes Chemical class 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005536 corrosion prevention Methods 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 239000008103 glucose Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 2
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 2
- HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N phenylboronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC=CC=C1 HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 2
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003518 tetracenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000005556 thienylene group Chemical group 0.000 description 2
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- FIOJWGRGPONADF-UHFFFAOYSA-N (sulfinylamino)benzene Chemical compound O=S=NC1=CC=CC=C1 FIOJWGRGPONADF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGQSLSMAEVWNPU-YTEMWHBBSA-N 1,2-bis[(e)-2-phenylethenyl]benzene Chemical class C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1\C=C\C1=CC=CC=C1 NGQSLSMAEVWNPU-YTEMWHBBSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical class NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical class C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCCUXODGPMAHRL-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-4-iodobenzene Chemical compound BrC1=CC=C(I)C=C1 UCCUXODGPMAHRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOLVTMISRQOMPW-UHFFFAOYSA-N 10-(4-bromophenyl)phenothiazine Chemical compound C1=CC(Br)=CC=C1N1C2=CC=CC=C2SC2=CC=CC=C21 KOLVTMISRQOMPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVWPVABZQQJTPL-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylcyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical class O=C1C=CC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 MVWPVABZQQJTPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEVOZPRNEPMHAF-UHFFFAOYSA-N 4,7-dibromo-5,6-dinitro-2,1,3-benzothiadiazole Chemical compound BrC1=C([N+]([O-])=O)C([N+](=O)[O-])=C(Br)C2=NSN=C21 XEVOZPRNEPMHAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGZKTEULWPQREH-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-5,6-dinitro-7-phenyl-2,1,3-benzothiadiazole Chemical compound [N+](=O)([O-])C=1C(=C(C=2C(=NSN=2)C=1Br)C1=CC=CC=C1)[N+](=O)[O-] ZGZKTEULWPQREH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIVZFUBWFAOMCW-UHFFFAOYSA-N 4-n-(3-methylphenyl)-1-n,1-n-bis[4-(n-(3-methylphenyl)anilino)phenyl]-4-n-phenylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CC1=CC=CC(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=C(C)C=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=C(C)C=CC=2)=C1 DIVZFUBWFAOMCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000251468 Actinopterygii Species 0.000 description 1
- 229910017073 AlLi Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910016036 BaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- XNMRINBJAOIWFD-XMCUXHSSSA-N CC[C@H](C)[C@H](C)C1[IH]CCC1 Chemical compound CC[C@H](C)[C@H](C)C1[IH]CCC1 XNMRINBJAOIWFD-XMCUXHSSSA-N 0.000 description 1
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000000453 Skin Neoplasms Diseases 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 210000000577 adipose tissue Anatomy 0.000 description 1
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001615 alkaline earth metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 150000001562 benzopyrans Chemical class 0.000 description 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K bis[(2-methylquinolin-8-yl)oxy]-(4-phenylphenoxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC([O-])=CC=C1C1=CC=CC=C1 UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000036772 blood pressure Effects 0.000 description 1
- 210000004204 blood vessel Anatomy 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L caesium carbonate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]C([O-])=O FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000024 caesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001716 carbazoles Chemical class 0.000 description 1
- 210000005056 cell body Anatomy 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- OPHUWKNKFYBPDR-UHFFFAOYSA-N copper lithium Chemical compound [Li].[Cu] OPHUWKNKFYBPDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000001727 in vivo Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOBCFUWDNJPFHB-UHFFFAOYSA-N indolizine Chemical compound C1=CC=CN2C=CC=C21 HOBCFUWDNJPFHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910001867 inorganic solvent Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003049 inorganic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 150000002790 naphthalenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- AHLBNYSZXLDEJQ-FWEHEUNISA-N orlistat Chemical compound CCCCCCCCCCC[C@H](OC(=O)[C@H](CC(C)C)NC=O)C[C@@H]1OC(=O)[C@H]1CCCCCC AHLBNYSZXLDEJQ-FWEHEUNISA-N 0.000 description 1
- 229960003540 oxyquinoline Drugs 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N pentacene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC4=CC5=CC=CC=C5C=C4C=C3C=C21 SLIUAWYAILUBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002990 phenothiazines Chemical class 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003230 pyrimidines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003248 quinolines Chemical class 0.000 description 1
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N quinoxaline Chemical class N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N rubrene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 201000000849 skin cancer Diseases 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N sodium tert-butoxide Chemical compound [Na+].CC(C)(C)[O-] MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229940042055 systemic antimycotics triazole derivative Drugs 0.000 description 1
- 150000004772 tellurides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005579 tetracene group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
Description
本発明は、ベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物、発光素子用化合物、発光素子、発光装置、光源、認証装置および電子機器に関するものである。 The present invention relates to a benzo-bis-thiadiazole compound, a compound for a light emitting element, a light emitting element, a light emitting device, a light source, a certification device, and an electronic device.
有機エレクトロルミネッセンス素子(いわゆる有機EL素子)は、陽極と陰極との間に少なくとも1層の発光性有機層を介挿した構造を有する発光素子である。このような発光素子では、陰極と陽極との間に電界を印加することにより、発光層に陰極側から電子が注入されるとともに陽極側から正孔が注入され、発光層中で電子と正孔が再結合することにより励起子が生成され、この励起子が基底状態に戻る際に、そのエネルギー分が光として放出される。 An organic electroluminescence device (so-called organic EL device) is a light emitting device having a structure in which at least one luminescent organic layer is interposed between an anode and a cathode. In such a light emitting element, by applying an electric field between the cathode and the anode, electrons are injected into the light emitting layer from the cathode side and holes are injected from the anode side, and electrons and holes are injected in the light emitting layer. Excitons are generated by recombination, and when these excitons return to the ground state, the energy component is emitted as light.
このような発光素子としては、700nmを超える長波長域で発光するものが知られている(例えば、特許文献1、2参照)。 As such a light emitting element, one that emits light in a long wavelength region exceeding 700 nm is known (see, for example, Patent Documents 1 and 2).
例えば、特許文献1、2に記載の発光素子では、分子内に官能基として電子供与体であるアミンと電子受容体であるニトリル基を共存させた材料を発光層のドーパントとして用いることにより、発光波長を長波長化している。 For example, in the light emitting elements described in Patent Documents 1 and 2, a material in which an amine as an electron donor and a nitrile group as an electron acceptor coexist as functional groups in the molecule is used as a dopant in the light emitting layer to emit light. The wavelength is lengthened.
また、発光層の発光材料として、ベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物を用いることも報告されている(例えば、非特許文献1参照)。 It has also been reported that a benzo-bis-thiadiazole-based compound is used as the light emitting material of the light emitting layer (see, for example, Non-Patent Document 1).
しかし、従来では、幅広い波長領域における近赤外域で発光する高効率かつ長寿命な素子を実現することはできなかった。 However, conventionally, it has not been possible to realize a highly efficient and long-life element that emits light in the near-infrared region in a wide wavelength region.
また、近赤外域で面発光する高効率かつ長寿命な発光素子は、例えば、静脈、指紋等の生体情報を用いて個人を認証する生体認証用の光源、さらには、各種発光装置、生体センサーの光源および電子機器の光源として、その実現が望まれている。 In addition, a highly efficient and long-life light emitting element that emits surface light in the near infrared region includes, for example, a light source for biometric authentication that authenticates an individual using biometric information such as veins and fingerprints, various light emitting devices, and a biosensor. It is desired to realize it as a light source of the above and a light source of electronic devices.
本発明の目的は、発光素子が備える発光層に含まれることで、幅広い波長領域における近赤外域で発光する高効率かつ長寿命な発光素子を得ることができる化合物および発光素子用化合物、幅広い波長領域における近赤外域で発光する高効率かつ長寿命な発光素子、この発光素子を備える発光装置、光源、認証装置および電子機器を提供することにある。 An object of the present invention is a compound capable of obtaining a highly efficient and long-life light emitting element that emits light in a near infrared region in a wide wavelength region by being included in a light emitting layer included in the light emitting element, a compound for a light emitting element, and a wide range of wavelengths. An object of the present invention is to provide a highly efficient and long-life light emitting element that emits light in the near infrared region in the region, a light emitting device, a light source, an authentication device, and an electronic device provided with the light emitting element.
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の化合物(ベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物)は、下記一般式IRDで表わされることを特徴とする。
The compound of the present invention (benzo-bis-thiadiazole-based compound) is characterized by being represented by the following general formula IRD.
前記一般式IRDで表わされる化合物(ベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物)を、発光素子が備える発光層に含まれる発光材料として用いることにより、この発光素子は、幅広い波長領域における近赤外域、具体的には、700nm以上1150nm以下の発光ピーク波長域で、高効率に発光し得るものとなる。 By using the compound represented by the general formula IRD (benzo-bis-thiadiazole-based compound) as a light emitting material contained in the light emitting layer included in the light emitting element, the light emitting element can be specifically in the near infrared region in a wide wavelength region. It is possible to emit light with high efficiency in the emission peak wavelength region of 700 nm or more and 1150 nm or less.
本発明の発光素子用化合物(ベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物)は、下記一般式IRDで表わされることを特徴とする。
前記一般式IRDで表わされる発光素子用化合物(ベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物)を、発光素子が備える発光層に含まれる発光材料として用いることにより、この発光素子は、幅広い波長領域における近赤外域、具体的には、700nm以上1150nm以下の発光ピーク波長域で、高効率に発光し得るものとなる。 By using the compound for a light emitting element (benzo-bis-thiadiazole-based compound) represented by the general formula IRD as a light emitting material contained in the light emitting layer included in the light emitting element, this light emitting element has a near infrared region in a wide wavelength region. Specifically, it is possible to emit light with high efficiency in the emission peak wavelength region of 700 nm or more and 1150 nm or less.
本発明の発光素子は、陽極と、
陰極と、
前記陽極と前記陰極との間に設けられ、前記陽極と前記陰極との間に通電することにより発光する発光層と、を有し、
前記発光層は、発光材料として下記一般式IRDで表わされる化合物を含んで構成されることを特徴とする。
With the cathode
It has a light emitting layer provided between the anode and the cathode and emitting light when energized between the anode and the cathode.
The light emitting layer is characterized by containing a compound represented by the following general formula IRD as a light emitting material.
このように構成された発光素子によれば、発光材料として前記一般式IRDで表わされる化合物(ベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物)を用いているので、幅広い波長領域における近赤外域、具体的には、700nm以上1150nm以下の発光ピーク波長域で、高効率に発光し得る発光素子とすることができる。 According to the light emitting device configured in this way, since the compound represented by the general formula IRD (benzo-bis-thiadiazole-based compound) is used as the light emitting material, the near infrared region in a wide wavelength region, specifically, A light emitting element capable of emitting light with high efficiency in the emission peak wavelength region of 700 nm or more and 1150 nm or less can be obtained.
本発明の発光素子では、前記発光材料を保持するホスト材料として下記式IRH1で表わされる化合物(テトラセン系材料)を含んで構成されることが好ましい。
ホスト材料としてテトラセン系材料を用いることから、ホスト材料から発光材料へエネルギーを効率的に移動させることができる。そのため、発光素子の発光効率を優れたものとすることができる。 Since a tetracene-based material is used as the host material, energy can be efficiently transferred from the host material to the light emitting material. Therefore, the luminous efficiency of the light emitting element can be made excellent.
また、テトラセン系材料は電子およびホールに対する安定性(耐性)に優れるため、発光層の長寿命化、ひいては、発光素子の長寿命化を図ることができる。 Further, since the tetracene-based material is excellent in stability (resistance) to electrons and holes, it is possible to extend the life of the light emitting layer and, by extension, the life of the light emitting element.
本発明の発光素子では、前記発光材料を保持するホスト材料として下記式IRH2で表わされる化合物(アントラセン系材料)を含んで構成されることが好ましい。
ホスト材料としてアントラセン系材料を用いることから、ホスト材料から発光材料へエネルギーを効率的に移動させることができる。そのため、発光素子の発光効率を優れたものとすることができる。 Since an anthracene-based material is used as the host material, energy can be efficiently transferred from the host material to the luminescent material. Therefore, the luminous efficiency of the light emitting element can be made excellent.
また、アントラセン系材料は電子およびホールに対する安定性(耐性)に優れるため、発光層の長寿命化、ひいては、発光素子の長寿命化を図ることができる。 Further, since the anthracene-based material is excellent in stability (resistance) to electrons and holes, it is possible to extend the life of the light emitting layer and, by extension, the life of the light emitting element.
本発明の発光素子では、前記ホスト材料は、炭素原子および水素原子で構成されていることが好ましい。 In the light emitting device of the present invention, the host material is preferably composed of carbon atoms and hydrogen atoms.
これにより、ホスト材料と発光材料との不本意な相互作用が生じるのを防止することができる。そのため、発光素子の発光効率を高めることができる。また、電位および正孔に対するホスト材料の耐性を高めることができる。そのため、発光素子の長寿命化を図ることができる。 This makes it possible to prevent an undesired interaction between the host material and the light emitting material. Therefore, the luminous efficiency of the light emitting element can be increased. It can also increase the resistance of the host material to potentials and holes. Therefore, the life of the light emitting element can be extended.
本発明の発光素子では、前記発光層中における前記発光材料の含有量は、0.5wt%以上5.0wt%以下であることが好ましい。 In the light emitting device of the present invention, the content of the light emitting material in the light emitting layer is preferably 0.5 wt% or more and 5.0 wt% or less.
これにより、発光素子の発光効率と寿命とのバランスを優れたものとすることができる。 As a result, the balance between the luminous efficiency and the life of the light emitting element can be improved.
本発明の発光素子では、前記発光層と前記陰極との間に設けられ、アントラセン骨格を有する化合物を含んで構成されている電子輸送層を備えることが好ましい。 The light emitting device of the present invention preferably includes an electron transport layer provided between the light emitting layer and the cathode and composed of a compound having an anthracene skeleton.
これにより、発光層へ電子を効率的に輸送・注入することができる。その結果、発光素子の発光効率を高めることができるとともに、耐久性の向上が図られる。 As a result, electrons can be efficiently transported and injected into the light emitting layer. As a result, the luminous efficiency of the light emitting element can be improved and the durability can be improved.
本発明の発光素子では、前記発光層の厚さは、10nm以上50nm以下であることが好ましい。 In the light emitting device of the present invention, the thickness of the light emitting layer is preferably 10 nm or more and 50 nm or less.
これにより、発光素子の駆動電圧を抑制しつつ、発光素子の長寿命化を図ることができる。 As a result, the life of the light emitting element can be extended while suppressing the driving voltage of the light emitting element.
本発明の発光装置は、本発明の発光素子を備えることを特徴とする。
このような発光装置は、近赤外域での発光が可能である。また、高効率および長寿命な発光素子を備えるので、信頼性に優れる。
The light emitting device of the present invention is characterized by including the light emitting element of the present invention.
Such a light emitting device can emit light in the near infrared region. Further, since it is provided with a light emitting element having high efficiency and long life, it is excellent in reliability.
本発明の光源は、本発明の発光素子を備えることを特徴とする。
このような光源は、近赤外域での発光が可能である。また、高効率および長寿命な発光素子を備えるので、信頼性に優れる。
The light source of the present invention is characterized by including the light emitting element of the present invention.
Such a light source can emit light in the near infrared region. Further, since it is provided with a light emitting element having high efficiency and long life, it is excellent in reliability.
本発明の認証装置は、本発明の発光素子を備えることを特徴とする。
このような認証装置は、近赤外光を用いて生体認証を行うことができる。また、高効率および長寿命な発光素子を備えるので、信頼性に優れる。
The authentication device of the present invention is characterized by including the light emitting element of the present invention.
Such an authentication device can perform biometric authentication using near infrared light. Further, since it is provided with a light emitting element having high efficiency and long life, it is excellent in reliability.
本発明の電子機器は、本発明の発光素子を備えることを特徴とする。
このような電子機器は、高効率および長寿命な発光素子を備えるので、信頼性に優れる。
The electronic device of the present invention is characterized by comprising the light emitting element of the present invention.
Such an electronic device is excellent in reliability because it includes a light emitting element having high efficiency and long life.
以下、本発明の化合物、発光素子用化合物、発光素子、発光装置、光源、認証装置および電子機器を添付図面に示す好適な実施形態について説明する。 Hereinafter, preferred embodiments in which the compound of the present invention, a compound for a light emitting element, a light emitting element, a light emitting device, a light source, a certification device, and an electronic device are shown in the accompanying drawings will be described.
図1は、本発明の実施形態に係る発光素子を模式的に示す断面図である。なお、以下では、説明の都合上、図1中の上側を「上」、下側を「下」として説明を行う。 FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a light emitting device according to an embodiment of the present invention. In the following, for convenience of explanation, the upper side in FIG. 1 will be referred to as “upper” and the lower side will be referred to as “lower”.
発光素子(エレクトロルミネッセンス素子)1は、本実施形態では、図1に示すように、陽極3と正孔注入層4と発光層5と電子輸送層6と電子注入層7と陰極8とがこの順に積層されてなるものである。すなわち、発光素子1では、陽極3と陰極8との間に、陽極3側から陰極8側へ正孔注入層4と発光層5と電子輸送層6と電子注入層7とがこの順で積層された積層体14が介挿されている。
In the present embodiment, the light emitting element (electroluminescence element) 1 includes an
そして、発光素子1は、その全体が基板2上に設けられるとともに、封止部材9で封止されている。 The light emitting element 1 is entirely provided on the substrate 2 and is sealed by the sealing member 9.
このような発光素子1にあっては、陽極3と陰極8とこれら同士の間に設けられた発光層5とを有し、陽極3および陰極8に駆動電圧が印加され、陽極3と陰極8との間、すなわち発光層5に通電されることにより、発光層5に対し、それぞれ、陰極8側から電子が供給(注入)されるとともに、陽極3側から正孔が供給(注入)される。そして、発光層5では、正孔と電子とが再結合し、この再結合に際して放出されたエネルギーによりエキシトン(励起子)が生成され、エキシトンが基底状態に戻る際にエネルギー(蛍光やりん光)を放出(発光)する。これにより、発光素子1(発光層5)は、発光する。
Such a light emitting element 1 has an
特に、この発光素子1は、後述するように発光層5の発光材料として本発明の化合物(好ましい例として発光素子用化合物)、すなわち、後述する一般式IRDで表わされるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物を用いることにより、幅広い波長領域における近赤外域、具体的には、700nm以上1150nm以下の発光ピーク波長域で、高効率に発光する。なお、本明細書において、「近赤外域」とは、700nm以上1500nm以下の波長域を言う。
In particular, the light emitting element 1 is a compound of the present invention (a compound for a light emitting element as a preferable example) as a light emitting material of the
基板2は、陽極3を支持するものである。本実施形態の発光素子1は、基板2側から光を取り出す構成(ボトムエミッション型)であるため、基板2および陽極3は、それぞれ、実質的に透明(無色透明、着色透明または半透明)とされている。
The substrate 2 supports the
基板2の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレートのような樹脂材料や、石英ガラス、ソーダガラスのようなガラス材料等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the constituent material of the substrate 2 include resin materials such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polypropylene, cycloolefin polymer, polyamide, polyether sulfone, polymethylmethacrylate, polycarbonate, and polyarylate, quartz glass, and soda glass. Examples of glass materials such as the above, and one or a combination of two or more of these can be used.
このような基板2の平均厚さは、特に限定されないが、0.1mm以上30mm以下程度であるのが好ましく、0.1mm以上10mm以下程度であるのがより好ましい。 The average thickness of such a substrate 2 is not particularly limited, but is preferably about 0.1 mm or more and 30 mm or less, and more preferably about 0.1 mm or more and 10 mm or less.
なお、発光素子1が基板2と反対側から光を取り出す構成(トップエミッション型)の場合、基板2には、透明基板および不透明基板のいずれも用いることができる。 When the light emitting element 1 has a configuration in which light is extracted from the side opposite to the substrate 2 (top emission type), either a transparent substrate or an opaque substrate can be used for the substrate 2.
不透明基板としては、例えば、アルミナのようなセラミックス材料で構成された基板、ステンレス鋼のような金属基板の表面に酸化膜(絶縁膜)を形成したもの、樹脂材料で構成された基板等が挙げられる。 Examples of the opaque substrate include a substrate made of a ceramic material such as alumina, a metal substrate such as stainless steel having an oxide film (insulating film) formed on the surface, and a substrate made of a resin material. Be done.
また、このような発光素子1では、陽極3と陰極8との間の距離(すなわち積層体14の平均厚さ)は、100nm以上500nm以下であるのが好ましく、100nm以上300nm以下であるのがより好ましく、100nm以上250nm以下であるのがさらに好ましい。これにより、簡単かつ確実に、発光素子1の駆動電圧を実用的な範囲内にすることができる。
Further, in such a light emitting element 1, the distance between the
以下、発光素子1を構成する各部を順次説明する。
(陽極)
陽極3は、正孔注入層4に正孔を注入する電極である。この陽極3の構成材料としては、仕事関数が大きく、導電性に優れる材料を用いるのが好ましい。
Hereinafter, each part constituting the light emitting element 1 will be described in sequence.
(anode)
The
陽極3の構成材料としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、In2O3、SnO2、Sb含有SnO2、Al含有ZnO等の酸化物、Au、Pt、Ag、Cuまたはこれらを含む合金等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
Examples of the constituent material of the
特に、陽極3は、ITOで構成されているのが好ましい。ITOは、透明性を有するとともに、仕事関数が大きく、導電性に優れる材料である。これにより、陽極3から正孔注入層4へ効率的に正孔を注入することができる。
In particular, the
また、陽極3の正孔注入層4側の面(図1にて上面)は、プラズマ処理が施されているのが好ましい。これにより、陽極3と正孔注入層4との接合面の化学的および機械的な安定性を高めることができる。その結果、陽極3から正孔注入層4への正孔注入性を向上させることができる。なお、かかるプラズマ処理については、後述する発光素子1の製造方法の説明において詳述する。
Further, it is preferable that the surface of the
このような陽極3の平均厚さは、特に限定されないが、10nm以上200nm以下程度であるのが好ましく、50nm以上150nm以下程度であるのがより好ましい。
The average thickness of such an
(陰極)
一方、陰極8は、後述する電子注入層7を介して電子輸送層6に電子を注入する電極である。この陰極8の構成材料としては、仕事関数の小さい材料を用いるのが好ましい。
(cathode)
On the other hand, the cathode 8 is an electrode that injects electrons into the
陰極8の構成材料としては、例えば、Li、Mg、Ca、Sr、La、Ce、Er、Eu、Sc、Y、Yb、Ag、Cu、Al、Cs、Rbまたはこれらを含む合金等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて(例えば、複数層の積層体、複数種の混合層等として)用いることができる。 Examples of the constituent material of the cathode 8 include Li, Mg, Ca, Sr, La, Ce, Er, Eu, Sc, Y, Yb, Ag, Cu, Al, Cs, Rb, and alloys containing these. , One or two or more of these can be used in combination (for example, as a laminate of a plurality of layers, a mixed layer of a plurality of types, etc.).
特に、陰極8の構成材料として合金を用いる場合には、Ag、Al、Cu等の安定な金属元素を含む合金、具体的には、MgAg、AlLi、CuLi等の合金を用いるのが好ましい。かかる合金を陰極8の構成材料として用いることにより、陰極8の電子注入効率および安定性の向上を図ることができる。 In particular, when an alloy is used as the constituent material of the cathode 8, it is preferable to use an alloy containing stable metal elements such as Ag, Al and Cu, specifically, an alloy such as MgAg, AlLi and CuLi. By using such an alloy as a constituent material of the cathode 8, it is possible to improve the electron injection efficiency and stability of the cathode 8.
このような陰極8の平均厚さは、特に限定されないが、100nm以上10000nm以下程度であるのが好ましく、100nm以上500nm以下程度であるのがより好ましい。 The average thickness of such a cathode 8 is not particularly limited, but is preferably about 100 nm or more and 10,000 nm or less, and more preferably about 100 nm or more and 500 nm or less.
なお、本実施形態の発光素子1は、ボトムエミッション型であるため、陰極8に、光透過性は、特に要求されない。また、トップエミッション型である場合には、陰極8側から光を透過させる必要があるので、陰極8の平均厚さは、1nm以上50nm以下程度であるのが好ましい。 Since the light emitting element 1 of the present embodiment is a bottom emission type, the cathode 8 is not particularly required to have light transmission. Further, in the case of the top emission type, since it is necessary to transmit light from the cathode 8 side, the average thickness of the cathode 8 is preferably about 1 nm or more and 50 nm or less.
(正孔注入層)
正孔注入層4は、陽極3からの正孔注入効率を向上させる機能を有する(すなわち正孔注入性を有する)ものである。これにより、発光素子1の発光効率を高めることができる。ここで、正孔注入層4は、陽極3から注入された正孔を発光層5まで輸送する機能をも有する(すなわち正孔輸送性を有する)ものである。したがって、正孔注入層4は、前述したように正孔輸送性を有することから、正孔輸送層であるということもできる。なお、正孔注入層4と発光層5との間に、正孔注入層4とは異なる材料(例えばベンジジン誘導体等のアミン系化合物)で構成された正孔輸送層を別途設けてもよい。
この正孔注入層4は、正孔注入性を有する材料(正孔注入性材料)を含んでいる。
(Hole injection layer)
The hole injection layer 4 has a function of improving the hole injection efficiency from the anode 3 (that is, has a hole injection property). As a result, the luminous efficiency of the light emitting element 1 can be increased. Here, the hole injection layer 4 also has a function of transporting holes injected from the
The hole injection layer 4 contains a material having a hole injecting property (hole injecting material).
この正孔注入層4に含まれる正孔注入性材料としては、特に限定されず、例えば、銅フタロシアニンや、4,4’,4’’−トリス(N,N−フェニル−3−メチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(m−MTDATA)、N,N’−ビス−(4−ジフェニルアミノ−フェニル)−N, N’−ジフェニル−ビフェニル−4−4’−ジアミン等のアミン系材料が挙げられる。 The hole-injecting material contained in the hole-injecting layer 4 is not particularly limited, and is, for example, copper phthalocyanine or 4,4', 4''-tris (N, N-phenyl-3-methylphenylamino). ) Amine-based materials such as triphenylamine (m-MTDATA), N, N'-bis- (4-diphenylamino-phenyl) -N, N'-diphenyl-biphenyl-4-4'-diamine can be mentioned.
中でも、正孔注入層4に含まれる正孔注入性材料としては、正孔注入性および正孔輸送性に優れるという観点から、アミン系材料を用いるのが好ましく、ジアミノベンゼン誘導体、ベンジジン誘導体(ベンジジン骨格を有する材料)、分子内に「ジアミノベンゼン」ユニットと「ベンジジン」ユニットとの両方を有するトリアミン系化合物、テトラアミン系化合物(具体的には、例えば、下記式HIL−1〜HIL−27で表されるような化合物)を用いるのがより好ましい。 Among them, as the hole-injecting material contained in the hole-injecting layer 4, it is preferable to use an amine-based material from the viewpoint of excellent hole-injecting property and hole-transporting property, and a diaminobenzene derivative and a benzidine derivative (benzidine) are preferable. A material having a skeleton), a triamine compound having both a "diaminobenzene" unit and a "benzidine" unit in the molecule, and a tetraamine compound (specifically, for example, represented by the following formulas HIL-1 to HIL-27). It is more preferable to use a compound such as that used.
また、正孔注入層4の構成材料のLUMOは、発光層5に用いるホスト材料のLUMOとの差が0.5eV以上であることが好ましい。これにより、電子が発光層5から正孔注入層4へ抜けてしまうのを低減し、発光効率を高めることができる。
Further, the LUMO of the constituent material of the hole injection layer 4 preferably has a difference of 0.5 eV or more from the LUMO of the host material used for the
また、正孔注入層4の構成材料のHOMOは、4.7eV以上5.8eV以下であることが好ましく、また、正孔注入層4の構成材料のLUMOは、2.2eV以上3.0eV以下であることが好ましい。 The HOMO of the constituent material of the hole injection layer 4 is preferably 4.7 eV or more and 5.8 eV or less, and the LUMO of the constituent material of the hole injection layer 4 is 2.2 eV or more and 3.0 eV or less. Is preferable.
このような正孔注入層4の平均厚さは、特に限定されないが、5nm以上90nm以下程度であるのが好ましく、10nm以上70nm以下程度であるのがより好ましい。 The average thickness of such a hole injection layer 4 is not particularly limited, but is preferably about 5 nm or more and 90 nm or less, and more preferably about 10 nm or more and 70 nm or less.
(発光層)
発光層5は、前述した陽極3と陰極8との間に通電することにより、発光するものである。
(Light emitting layer)
The
この発光層5は、発光材料を含んで構成されている。本発明では、この発光層5は、発光材料として本発明の化合物(発光素子用化合物)である下記一般式IRDで表わされるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物(以下、単に「ベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物」とも言う)すなわち、1つのベンゾ−ビス−チアジアゾール骨格と、窒素原子と硫黄原子または酸素原子とを備える芳香族環を含む官能基(具体的には、フェノチアジン骨格またはフェノキサジン骨格)を少なくとも1つ有する集合体である官能基群Groupとを含んで構成されている。
The
本発明では、前記一般式IRD中、官能基群Groupは、窒素原子と、硫黄原子または酸素原子とを備える、芳香族環を含む官能基を少なくとも1つ有する集合体である。 In the present invention, in the general formula IRD, the functional group group Group is an aggregate having at least one functional group containing an aromatic ring, which comprises a nitrogen atom and a sulfur atom or an oxygen atom.
この官能基(以下、「官能基1」と言うこともある。)は、窒素原子と、硫黄原子または酸素原子とを備える芳香族環を含むものであればいかなる構成をなすものであってもよいが、窒素原子と、硫黄原子または酸素原子とを備える芳香族縮合環を含むものであることが好ましい。 This functional group (hereinafter, also referred to as "functional group 1") may have any constitution as long as it contains an aromatic ring having a nitrogen atom and a sulfur atom or an oxygen atom. However, it preferably contains an aromatic fused ring containing a nitrogen atom and a sulfur atom or an oxygen atom.
また、この官能基の炭素数は、好ましくは1〜50、より好ましくは10〜30に設定される。さらに、官能基における窒素原子、および、硫黄原子または酸素原子の数は、それぞれ、好ましくは1〜3、より好ましくは1〜2に設定される。これらのことから、この官能基の具体例としては、フェノチアジン基、フェノキサジン基等が挙げられる。 The carbon number of this functional group is preferably set to 1 to 50, more preferably 10 to 30. Further, the number of nitrogen atoms and sulfur atoms or oxygen atoms in the functional group is preferably set to 1 to 3, more preferably 1 to 2, respectively. From these facts, specific examples of this functional group include a phenothiazine group, a phenoxazine group and the like.
また、官能基群Groupは、窒素原子と、硫黄原子または酸素原子とを備える、芳香族環を含む官能基1の他、窒素原子を備え、硫黄原子および酸素原子を備えない、芳香族環を含む官能基(以下、「官能基2」と言うこともある。)を有していてもよい。この官能基の炭素数は、好ましくは1〜50、より好ましくは10〜20に設定される。このような官能基としては、例えば、アミノ基もしくはアミン性窒素原子が好ましく、具体的には、アリールアミノ基、アルキル置換アミノ基、カルバゾリル基等が挙げられ、中でも、ジフェニルアミノ基またはカルバゾリル基であることが好ましい。 Further, the functional group group includes a functional group 1 containing a nitrogen atom and a sulfur atom or an oxygen atom and containing an aromatic ring, and an aromatic ring having a nitrogen atom and not having a sulfur atom and an oxygen atom. It may have a functional group containing (hereinafter, may also be referred to as "functional group 2"). The carbon number of this functional group is preferably set to 1 to 50, more preferably 10 to 20. Examples of such a functional group are preferably an amino group or an amine nitrogen atom, and specific examples thereof include an arylamino group, an alkyl-substituted amino group and a carbazolyl group, and among them, a diphenylamino group or a carbazolyl group. It is preferable to have.
さらに、官能基群Groupにおける、官能基1および官能基2の合計の数は、特に限定されないが、1〜10であることが好ましく、1〜5であることがより好ましく、1〜3であることがさらに好ましい。 Further, the total number of functional groups 1 and 2 in the functional group group is not particularly limited, but is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, and 1 to 3. Is even more preferable.
そこで、前記一般式IRDは、例えば、官能基1を1つ備える下記一般式IRD−I−1〜2、官能基1を1つ備える下記一般式IRD−II−1〜2、1つの官能基1を必須とし官能基1または官能基2を2つ備える下記一般式IRD−III−1〜5、1つの官能基1を必須とし官能基1または官能基2を2つ備える下記一般式IRD−IV−1〜8、1つの官能基1を必須とし官能基1または官能基2を3つ備える下記一般式IRD−V−1〜5、または、1つの官能基1を必須とし官能基1または官能基2を3つ備えるIRD−VI−1〜3で表わされるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物で示すことができる。 Therefore, the general formula IRD is, for example, the following general formula IRD-I-1 to 2 having one functional group and the following general formula IRD-II-1 to 2 having one functional group 1 and one functional group. The following general formula IRD-III-1 to 5 with 1 as an essential and two functional groups 1 or 2; the following general formula IRD-with one functional group 1 as essential and two functional groups 1 or 2 IV-1 to 8, the following general formula IRD-V-1 to 5 containing one functional group 1 as essential and having three functional groups 1 or 2 or one functional group 1 as essential and functional group 1 or It can be represented by a benzo-bis-thiazazole-based compound represented by IRD-VI-1 to 3 having three functional groups 2.
前記一般式IRD(前記一般式IRD−I−1〜一般式IRD−IV−3)中、基Zは、ベンゾ−ビス−チアジアゾール基に連結する、置換基を有していても良い芳香族環を含む炭素数1〜20の置換基であるが、芳香族環が炭素原子単独で構成されるもの、芳香族環が炭素原子と硫黄原子とで構成されるもの、芳香族環が炭素原子と窒素原子とで構成されるもの、または、芳香族環が窒素原子を介して連結されたもの(例えば、ジフェニルアミノ基を有しているフェニル基のようなフェニルアミノ基構造)であることが好ましく、具体的には、例えば、下記化学式Z1〜化学式Z11で表されるものが挙げられる。 In the general formula IRD (the general formula IRD-I-1 to the general formula IRD-IV-3), the group Z may have a substituent which is linked to a benzo-bis-thiazol group. It is a substituent having 1 to 20 carbon atoms including, but the aromatic ring is composed of a carbon atom alone, the aromatic ring is composed of a carbon atom and a sulfur atom, and the aromatic ring is a carbon atom. It is preferably composed of a nitrogen atom or an aromatic ring linked via a nitrogen atom (for example, a phenylamino group structure such as a phenyl group having a diphenylamino group). Specifically, for example, those represented by the following chemical formulas Z1 to Z11 can be mentioned.
なお、下記化学式Z1〜化学式Z11中、炭素原子に連結する水素原子は、それぞれ、メチル基またはフェニル基に置換されていてもよい。 In the following chemical formulas Z1 to Z11, the hydrogen atom linked to the carbon atom may be substituted with a methyl group or a phenyl group, respectively.
また、前記一般式IRD−I−1〜2、前記一般式IRD−III−1〜5および前記一般式IRD−V−1〜5中、基Y1は、芳香族環を含む炭素数1〜20の連結基であり、ベンゾ−ビス−チアジアゾール基と、官能基1または官能基2とを結合(連結)する結合基、さらには、これら同士の間の離間距離を適切な大きさに設定するスペーサーとして機能し、芳香族環が炭素原子単独で構成されるもの、芳香族環が炭素原子と硫黄原子とで構成されるもの、芳香族環が炭素原子と窒素原子とで構成されるもの、または、これらの組み合わせであることが好ましい。具体的には、フェニレン基、ナフチレン基、チエニレン基、ピリジンジイル基、ピリミジンジイル基、ピラジンジイル基等のうちの1種または2種以上(好ましくは2種もしくは3種)を組み合わせたものが挙げられ、例えば、下記化学式Y11〜化学式Y19で表されるものが挙げられる。 Further, in the general formula IRD-I-1 to 2, the general formula IRD-III-1 to 5 and the general formula IRD-V-1 to 5, the group Y1 has 1 to 1 carbon atoms including an aromatic ring. 20 linking groups, a linking group that binds (links) the benzo-bis-thiadiazole group to the functional group 1 or the functional group 2, and further sets the separation distance between them to an appropriate size. It functions as a spacer, and the aromatic ring is composed of carbon atoms alone, the aromatic ring is composed of carbon atoms and sulfur atoms, and the aromatic ring is composed of carbon atoms and nitrogen atoms. Alternatively, a combination of these is preferable. Specifically, one or a combination of one or more (preferably two or three) of a phenylene group, a naphthylene group, a thienylene group, a pyridinediyl group, a pyrimidinediyl group, a pyrazinediyl group and the like can be mentioned. For example, those represented by the following chemical formulas Y11 to Y19 can be mentioned.
なお、前記化学式Y11〜化学式Y17中、左側に位置する結合手が、前記一般式IRD−I−1〜2、前記一般式IRD−III−1〜5および前記一般式IRD−V−1〜5中の基Y1に隣接する窒素原子に連結し、右側に位置する結合手が、前記一般式IRD−I−1〜2、前記一般式IRD−III−1〜5および前記一般式IRD−V−1〜5中の基Y1に隣接する炭素原子に連結している構造が好ましいが、逆でもよい。 In the chemical formulas Y11 to Y17, the bonds located on the left side are the general formula IRD-I-1 to 2, the general formula IRD-III-1 to 5, and the general formula IRD-V-1 to 5. linked to the nitrogen atom adjacent to group Y 1 in a bond which is located on the right side, the general formula IRD-I-1 to 2, wherein the general formula IRD-III-1 to 5 and formula IRD-V A structure linked to a carbon atom adjacent to the group Y1 in -1 to 5 is preferable, but the reverse is also possible.
また、前記一般式IRD−II−1〜2および前記一般式IRD−IV−1〜4中、基Y2は、芳香族環を含む炭素数1〜20のベンゾ−ビス−チアジアゾール基に置換する置換基であり、芳香族環が炭素原子単独で構成されるもの、芳香族環が炭素原子と硫黄原子とで構成されるもの、芳香族環が炭素原子と窒素原子とで構成されるもの、または、これらの組み合わせであることが好ましい。具体的には、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、チエニル基(2−メチルチオフェン−5−イル等のアルキル置換体含む)、ベンゾチオフェン−2−イル基、ピリジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基等のうちの1種または2種以上(好ましくは2種もしくは3種)を組み合わせたものが挙げられ、例えば、下記化学式Y21〜化学式Y28で表されるものが挙げられる。 Further, in the general formula IRD-II-1 to 2 and the general formula IRD-IV-1 to 4, the group Y 2 is replaced with a benzo-bis-thiadiazole group having 1 to 20 carbon atoms containing an aromatic ring. Substituents, those in which the aromatic ring is composed of carbon atoms alone, those in which the aromatic ring is composed of carbon atoms and sulfur atoms, those in which the aromatic ring is composed of carbon atoms and nitrogen atoms, Alternatively, a combination of these is preferable. Specifically, a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, a thienyl group (including an alkyl substituent such as 2-methylthiophen-5-yl), a benzothiophen-2-yl group, a pyridinyl group, a pyrimidinyl group, a pyrazinyl group, etc. One or a combination of two or more of them (preferably two or three) is mentioned, and examples thereof include those represented by the following chemical formulas Y21 to Y28.
さらに、前記一般式IRD−IV−5〜8および前記一般式IRD−VI−1〜3中、基Y3は、芳香族環を含む炭素数1〜20の置換基であり、官能基1同士、官能基2同士または官能基1と官能基2とを結合する結合基、さらには、これら同士の間の離間距離を適切な大きさに設定するスペーサーとして機能し、芳香族環が炭素原子単独で構成されるもの、芳香族環が炭素原子と硫黄原子とで構成されるもの、芳香族環が炭素原子と窒素原子とで構成されるもの、または、これらの組み合わせであることが好ましい。具体的には、フェニレン基、ナフチレン基、チエニレン基、ピリジンジイル基、ピリミジンジイル基、ピラジンジイル基等のうちの1種または2種以上(好ましくは2種もしくは3種)を組み合わせたものが挙げられ、例えば、下記化学式Y31〜化学式Y39で表されるものが挙げられる。 Further, in the general formula IRD-IV-5 to 8 and the formula IRD-VI-1 to 3, radicals Y 3 is a substituted group having 1 to 20 carbon atoms containing an aromatic ring, functional group 1 to each other , A bonding group that binds the functional groups 2 to each other or the functional group 1 and the functional group 2, and further functions as a spacer that sets the separation distance between these groups to an appropriate size, and the aromatic ring is a single carbon atom. It is preferable that the aromatic ring is composed of a carbon atom and a sulfur atom, the aromatic ring is composed of a carbon atom and a nitrogen atom, or a combination thereof. Specifically, one or a combination of one or more (preferably two or three) of a phenylene group, a naphthylene group, a thienylene group, a pyridinediyl group, a pyrimidinediyl group, a pyrazinediyl group and the like can be mentioned. For example, those represented by the following chemical formulas Y31 to Y39 can be mentioned.
なお、前記化学式Y31〜化学式Y39中、左側に位置する結合手が、前記一般式IRD−IV−5〜8および前記一般式IRD−VI−1〜3中の基Y3の左側で隣接する窒素原子に連結し、前記化学式Y31〜化学式Y39中、右側に位置する結合手が、前記一般式IRD−IV−5〜8および前記一般式IRD−VI−1〜3中の基Y3の右側で隣接する窒素原子に連結している。 Here, in Formula Y31~ formula Y39, bond on the left side is adjacent the left side of the formula IRD-IV-5 to 8 and group Y 3 in the general formula IRD-VI-1 to 3 nitrogen The bond that is linked to the atom and is located on the right side of the chemical formulas Y31 to Y39 is on the right side of the group Y3 in the general formulas IRD-IV-5 to 8 and the general formulas IRD-VI-1 to 3 . It is linked to an adjacent nitrogen atom.
前記一般式IRD−I−1〜一般式IRD−IV−3を、かかる構成の基Zおよび基Y1〜3を備える構成のものとすることで、これらの化合物は、電子ドナーとして機能するフェノチアジン基、フェノキサジン基、カルバゾール基またはジフェニルアミン基が1つ、2つまたは3つ連結したもの(少なくとも1つのフェノチアジン基、フェノキサジン基を含む)、すなわち、電子ドナーとして機能するフェノチアジン、フェノキサジン、カルバゾールまたはジフェニルアミンを含む1量体、2量体または3量体(少なくとも1つのフェノチアジン基、フェノキサジン基を含む)が、基Y1〜3を備えた状態で、電子アクセプターとして機能する1つのベンゾ−ビス−チアジアゾール骨格が基Zを備えた状態で連結する構造を有するものとなる。このような電子アクセプターと電子ドナーとの組み合わせとすることで、化合物中におけるバンドギャップを狭め、このベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物を発光材料における発光ドーパントとして含む発光層5を、高効率な近赤外域の発光が実現されたものとし得る。また、このベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物を発光材料における発光ドーパントとして含む発光層5は、700nm以上の波長域(近赤外域)のうち、幅広い波長領域において発光し得るもの、具体的には、700nm以上1150nm以下の発光ピーク波長域での発光をし得るものとなる。
By making the general formula IRD-I-1 to the general formula IRD-IV-3 having a structure having a group Z and a group Y 1-3 having such a structure, these compounds are phenothiazines that function as electron donors. One, two or three linkages of a group, a phenothiazine group, a carbazole group or a diphenylamine group (including at least one phenothiazine group and a phenoxazine group), that is, a phenothiazine, a phenothiazine, a carbazole that functions as an electron donor. Alternatively, a benzo- in which a monomer, a dimer or a trimer containing diphenylamine (including at least one phenothiazine group and a phenothiazine group) functions as an electron acceptor with the groups Y 1-3. It has a structure in which the bi-thiazine skeleton is connected with the group Z. By combining such an electron acceptor and an electron donor, the band gap in the compound is narrowed, and the
特に、官能基1としてフェノチアジン骨格を備えるもの、基Zとして、前記化学式Z4、Z5のように芳香族環に硫黄原子を含むもの、および、基Y1〜3として、前記化学式Y13、前記化学式Y14、前記化学式Y22〜前記化学式Y24、前記化学式Y32〜前記化学式Y34のように芳香族環に硫黄原子を含むもののうち少なくとも一方を、ベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物として用いた場合、このものを発光ドーパントとして含む発光層5は、特に長波長域において発光し得るもの、具体的には、810nm以上1150nm以下程度の発光ピーク波長域での発光をし得るものとなる。なお、このような傾向は、官能基1、基Y1〜3および基Zの全てに、上記のものを用いた場合に、より顕著に認められる。
In particular, those having a phenothiazine skeleton as the functional group 1, those containing a sulfur atom in the aromatic ring as the group Z as in the chemical formulas Z4 and Z5, and those having the chemical formula Y13 and the chemical formula Y14 as the groups Y1 to 3 When at least one of those containing a sulfur atom in the aromatic ring, such as the chemical formulas Y22 to Y24 and the chemical formulas Y32 to Y34, is used as a benzo-bis-thiazazole compound, this is a luminescent dopant. The
また、官能基1としてフェノキサジン骨格を備えるものをベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物として用いた場合、または、基Zとして、前記化学式Z6〜Z11のように窒素原子を含むもの、および、基Y1〜3として、前記化学式Y16、前記化学式Y17、前記化学式Y26、前記化学式Y27、前記化学式Y36〜前記化学式Y39のように芳香族環に窒素原子を含むものをベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物として用いた場合、このものを発光ドーパントとして含む発光層5は、優れた発光効率(EQE)で発光し得るものとなる。
Further, those having a phenoxazine skeleton as a functional group 1 benzo - bis - when used as a thiadiazole compound, or as group Z, those containing nitrogen atoms as Formula Z6~Z11, and groups Y 1 As ~ 3 , those containing a nitrogen atom in the aromatic ring such as the chemical formula Y16, the chemical formula Y17, the chemical formula Y26, the chemical formula Y27, the chemical formula Y36 to the chemical formula Y39 were used as the benzo-bis-thiazazole-based compound. In this case, the
上記のことから、官能基1および官能基2として、2つ以上のものを含む構成とした場合、これらを互いに異なる2種以上を含むものとすることにより、より長波長で、かつ、高効率で発光し得るものとなる。 From the above, when the functional group 1 and the functional group 2 are configured to contain two or more functional groups, by including two or more different functional groups, they emit light at a longer wavelength and with higher efficiency. It will be possible.
さらに、上記のことから、以下に示すような傾向を示すと考えられる。
すなわち、ベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物中において、ベンゾ−ビス−チアジアゾール骨格に対する硫黄原子の数が多くなるとベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物の長波長化が図られ、これに対して、硫黄原子の数が少なくなるとベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物の発光効率(EQE)が高くなる傾向を示す。
Furthermore, from the above, it is considered that the tendency shown below is exhibited.
That is, in the benzo-bis-thiadiazole-based compound, when the number of sulfur atoms with respect to the benzo-bis-thiadiazole skeleton increases, the wavelength of the benzo-bis-thiadiazole-based compound is lengthened, whereas the number of sulfur atoms is increased. As the amount decreases, the luminescence efficiency (EQE) of the benzo-bis-thiadiazole-based compound tends to increase.
また、ベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物中において、硫黄原子が含まれる場合、ベンゾ−ビス−チアジアゾール骨格に対して硫黄原子が遠くに存在していると、同じ数の硫黄原子が含まれる場合と比較して、近くに存在しているときよりも発光効率が高くなる傾向を示す。 In addition, when a sulfur atom is contained in the benzo-bis-thiadiazole compound, if the sulfur atom is far from the benzo-bis-thiadiazole skeleton, it is compared with the case where the same number of sulfur atoms are contained. As a result, the light emission efficiency tends to be higher than when it is present nearby.
さらに、ベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物を、上記一般式IRDで示すように、ベンゾ−ビス−チアジアゾールに対して官能基群Groupおよび基Zが連結した非対称性構造を有するものとすることで、分子内極性が大きくなり長波長化し易く、蛍光性が大きくなる傾向を示す。 Further, the benzo-bis-thiadiazole-based compound has an asymmetric structure in which the functional group group Group and the group Z are linked to the benzo-bis-thiadiazole as shown by the above general formula IRD. The internal polarity becomes large, the wavelength tends to be long, and the fluorescence tends to increase.
上記のような基Y1、基Zを備える上記式IRD−I−1で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y1の前記化学式Y11〜前記化学式Y17と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDI−1−1〜下記式IRDI−1−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Bis - - group Y 1 as described above, benzo represented by the above formula IRD-I-1 with a group Z as the thiadiazole compounds, specifically, Formula Y11~ Formula Y17 groups Y 1 and As a combination of the group Z with the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11, a compound represented by the following formula IRDI-1-1 to the following formula IRDI-1-57 or a derivative thereof can be mentioned.
また、上記のような基Y1、基Zを備える上記式IRD−I−2で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y1の前記化学式Y11〜前記化学式Y17と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDI−2−1〜下記式IRDI−2−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, benzo represented by the above formula IRD-I-2 comprises a group Y 1, group Z as described above - bis - The thiadiazole compounds, specifically, Formula Y11~ Formula radicals Y 1 Examples of the combination of Y17 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDI-2-1 to the following formula IRDI-2-57 or a derivative thereof.
さらに、上記のような基Y2、基Zを備える上記式IRD−II−1で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y2の前記化学式Y21、前記化学式Y22、前記化学式Y24、前記化学式Y26、前記化学式Y27と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDII−1−1〜下記式IRDII−1−35で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, as the benzo-bis-thiazol-based compound represented by the above formula IRD-II-1 having the above group Y 2 and the group Z, specifically, the said chemical formula Y21 of the group Y 2 and the said chemical formula. As a combination of Y22, the chemical formula Y24, the chemical formula Y26, the chemical formula Y27, and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z, a compound represented by the following formula IRDII-1-1 to the following formula IRDII-1-35 or The derivative is mentioned.
また、上記のような基Y2、基Zを備える上記式IRD−II−2で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y2の前記化学式Y21、前記化学式Y22、前記化学式Y24、前記化学式Y26、前記化学式Y27と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDII−2−1〜下記式IRDII−2−35で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, as the benzo-bis-thiazol-based compound represented by the above formula IRD-II-2 having the above group Y 2 and the group Z, specifically, the said chemical formula Y21 of the group Y 2 and the said chemical formula. As a combination of Y22, the chemical formula Y24, the chemical formula Y26, the chemical formula Y27, and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z, a compound represented by the following formula IRDII-2-1 to the following formula IRDII-2-35 or The derivative is mentioned.
さらに、上記のような基Y1、基Zを備える上記式IRD−III−1で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y1の前記化学式Y11〜前記化学式Y17と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDIII−1−1〜下記式IRDIII−1−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, benzo represented by formula IRD-III-1 with a group Y 1, group Z as described above - bis - The thiadiazole compounds, specifically, Formula Y11~ Formula radicals Y 1 Examples of the combination of Y17 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDIII-1-1 to the following formula IRDIII-1-57 or a derivative thereof.
また、上記のような基Y1、基Zを備える上記式IRD−III−2で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y1の前記化学式Y11〜前記化学式Y17と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDIII−2−1〜下記式IRDIII−2−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, benzo represented by formula IRD-III-2 comprising a group Y 1, group Z as described above - bis - The thiadiazole compounds, specifically, Formula Y11~ Formula radicals Y 1 Examples of the combination of Y17 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDIII-2-1 to the following formula IRDIII-2-57 or a derivative thereof.
さらに、上記のような基Y1、基Zを備える上記式IRD−III−3で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y1の前記化学式Y11〜前記化学式Y17と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDIII−3−1〜下記式IRDIII−3−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, benzo represented by formula IRD-III-3 with a group Y 1, group Z as described above - bis - The thiadiazole compounds, specifically, Formula Y11~ Formula radicals Y 1 Examples of the combination of Y17 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDIII-3-1 to the following formula IRDIII-3-57 or a derivative thereof.
また、上記のような基Y1、基Zを備える上記式IRD−III−4で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y1の前記化学式Y11〜前記化学式Y17と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDIII−4−1〜下記式IRDIII−4−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, benzo represented by formula IRD-III-4 with a group Y 1, group Z as described above - bis - The thiadiazole compounds, specifically, Formula Y11~ Formula radicals Y 1 Examples of the combination of Y17 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDIII-4-1 to the following formula IRDIII-4-57 or a derivative thereof.
さらに、上記のような基Y1、基Zを備える上記式IRD−III−5で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y1の前記化学式Y11〜前記化学式Y17と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDIII−5−1〜下記式IRDIII−5−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, benzo represented by formula IRD-III-5 with a group Y 1, group Z as described above - bis - The thiadiazole compounds, specifically, Formula Y11~ Formula radicals Y 1 Examples of the combination of Y17 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDIII-5-1 to the following formula IRDIII-5-57 or a derivative thereof.
また、上記のような基Y2、基Zを備える上記式IRD−IV−1で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y2の前記化学式Y21〜前記化学式Y27と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDIV−1−1〜下記式IRDIV−1−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, as the benzo-bis-thiadiazole-based compound represented by the above formula IRD-IV-1 having the above group Y 2 and the group Z, specifically, the above chemical formula Y21 to the above chemical formula of the group Y 2. Examples of the combination of Y27 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDIV-1-1 to the following formula IRDIV-1-57 or a derivative thereof.
さらに、上記のような基Y2、基Zを備える上記式IRD−IV−2で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y2の前記化学式Y21〜前記化学式Y27と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDIV−2−1〜下記式IRDIV−2−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, benzo represented by the formula IRD-IV-2 with the group Y 2, group Z as described above - bis - The thiadiazole compounds, specifically, Formula Y21~ Formula group Y 2 Examples of the combination of Y27 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDIV-2-1 to the following formula IRDIV-2-57 or a derivative thereof.
さらに、上記のような基Y2、基Zを備える上記式IRD−IV−3で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y2の前記化学式Y21〜前記化学式Y27と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDIV−3−1〜下記式IRDIV−3−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, benzo represented by the formula IRD-IV-3 with a group Y 2, group Z as described above - bis - The thiadiazole compounds, specifically, Formula Y21~ Formula group Y 2 Examples of the combination of Y27 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDIV-3-1 to the following formula IRDIV-3-57 or a derivative thereof.
また、上記のような基Y2、基Zを備える上記式IRD−IV−4で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y2の前記化学式Y21〜前記化学式Y27と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDIV−4−1〜下記式IRDIV−4−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, benzo represented by the formula IRD-IV-4 with a group Y 2, group Z as described above - bis - The thiadiazole compounds, specifically, Formula Y21~ Formula group Y 2 Examples of the combination of Y27 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDIV-4-1 to the following formula IRDIV-4-57 or a derivative thereof.
さらに、上記のような基Y3、基Zを備える上記式IRD−IV−5で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y3の前記化学式Y31〜前記化学式Y37と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDIV−5−1〜下記式IRDIV−5−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, benzo represented by the formula IRD-IV-5 with a group Y 3, group Z as described above - bis - The thiadiazole compounds, specifically, Formula Y31~ Formula radicals Y 3 Examples of the combination of Y37 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDIV-5-1 to the following formula IRDIV-5-57 or a derivative thereof.
また、上記のような基Y3、基Zを備える上記式IRD−IV−6で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y3の前記化学式Y31〜前記化学式Y37と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDIV−6−1〜下記式IRDIV−6−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, benzo represented by the formula IRD-IV-6 with a group Y 3, group Z as described above - bis - The thiadiazole compounds, specifically, Formula Y31~ Formula radicals Y 3 Examples of the combination of Y37 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDIV-6-1 to the following formula IRDIV-6-57 or a derivative thereof.
さらに、上記のような基Y3、基Zを備える上記式IRD−IV−7で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y3の前記化学式Y31〜前記化学式Y37と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDIV−7−1〜下記式IRDIV−7−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, benzo represented by the formula IRD-IV-7 with a group Y 3, group Z as described above - bis - The thiadiazole compounds, specifically, Formula Y31~ Formula radicals Y 3 Examples of the combination of Y37 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDIV-7-1 to the following formula IRDIV-7-57 or a derivative thereof.
また、上記のような基Y3、基Zを備える上記式IRD−IV−8で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y3の前記化学式Y31〜前記化学式Y37と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDIV−8−1〜下記式IRDIV−8−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, benzo represented by the formula IRD-IV-8 with a group Y 3, group Z as described above - bis - The thiadiazole compounds, specifically, Formula Y31~ Formula radicals Y 3 Examples of the combination of Y37 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDIV-8-1 to the following formula IRDIV-8-57 or a derivative thereof.
さらに、上記のような基Y1、基Zを備える上記式IRD−V−1で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y1の前記化学式Y11〜前記化学式Y17と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDV−1−1〜下記式IRDV−1−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, benzo represented by the above formula IRD-V-1 with a group Y 1, group Z as described above - bis - The thiadiazole compounds, specifically, Formula Y11~ Formula radicals Y 1 Examples of the combination of Y17 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDV-1-1 to the following formula IRDV-1-57 or a derivative thereof.
また、上記のような基Y1、基Zを備える上記式IRD−V−2で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y1の前記化学式Y11〜前記化学式Y17と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDV−2−1〜下記式IRDV−2−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, benzo represented by the above formula IRD-V-2 comprises a group Y 1, group Z as described above - bis - The thiadiazole compounds, specifically, Formula Y11~ Formula radicals Y 1 Examples of the combination of Y17 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDV-2-1 to the following formula IRDV-2-57 or a derivative thereof.
さらに、上記のような基Y1、基Zを備える上記式IRD−V−3で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y1の前記化学式Y11〜前記化学式Y17と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDV−3−1〜下記式IRDV−3−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, benzo represented by the above formula IRD-V-3 with a group Y 1, group Z as described above - bis - The thiadiazole compounds, specifically, Formula Y11~ Formula radicals Y 1 Examples of the combination of Y17 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDV-3-1 to the following formula IRDV-3-57 or a derivative thereof.
また、上記のような基Y1、基Zを備える上記式IRD−V−4で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y1の前記化学式Y11〜前記化学式Y17と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDV−4−1〜下記式IRDV−4−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, benzo represented by the above formula IRD-V-4 with a group Y 1, group Z as described above - bis - The thiadiazole compounds, specifically, Formula Y11~ Formula radicals Y 1 Examples of the combination of Y17 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDV-4-1 to the following formula IRDV-4-57 or a derivative thereof.
さらに、上記のような基Y1、基Zを備える上記式IRD−V−5で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y1の前記化学式Y11〜前記化学式Y17と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDV−5−1〜下記式IRDV−5−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, benzo represented by the above formula IRD-V-5 with a group Y 1, group Z as described above - bis - The thiadiazole compounds, specifically, Formula Y11~ Formula radicals Y 1 Examples of the combination of Y17 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDV-5-1 to the following formula IRDV-5-57 or a derivative thereof.
また、上記のような基Y3、基Zを備える上記式IRD−VI−1で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y3の前記化学式Y31〜前記化学式Y37と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDVI−1−1〜下記式IRDVI−1−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 The base Y 3 as described above, represented by the above formula IRD-VI-1 with a group Z benzo - bis - The thiadiazole compounds, specifically, Formula Y31~ Formula radicals Y 3 Examples of the combination of Y37 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDVI-1-1 to the following formula IRDVI-1-57 or a derivative thereof.
さらに、上記のような基Y3、基Zを備える上記式IRD−VI−2で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y3の前記化学式Y31〜前記化学式Y37と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDVI−2−1〜下記式IRDVI−2−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, a group Y 3 as described above, represented by the above formula IRD-VI-2 with the group Z benzo - bis - The thiadiazole compounds, specifically, Formula Y31~ Formula radicals Y 3 Examples of the combination of Y37 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDVI-2-1 to the following formula IRDVI-2-57 or a derivative thereof.
また、上記のような基Y3、基Zを備える上記式IRD−VI−3で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物としては、具体的には、基Y3の前記化学式Y31〜前記化学式Y37と、基Zの前記化学式Z1〜前記化学式Z11との組み合わせとして、下記式IRDVI−3−1〜下記式IRDVI−3−57で表わされる化合物またはその誘導体が挙げられる。 Further, benzo represented by the above formula IRD-VI-3 with a group Y 3, group Z as described above - bis - The thiadiazole compounds, specifically, Formula Y31~ Formula radicals Y 3 Examples of the combination of Y37 and the chemical formula Z1 to the chemical formula Z11 of the group Z include a compound represented by the following formula IRDVI-3-1 to the following formula IRDVI-3-57 or a derivative thereof.
なお、発光層5は、上述した発光材料以外の発光材料(各種蛍光材料、各種燐光材料)が含まれていてもよい。
The
また、発光層5は、本実施形態では、前述したような発光材料に加えて、この発光材料がゲスト材料(ドーパント)として添加(担持)されるホスト材料を含んで構成されていることが好ましい。このホスト材料は、正孔と電子とを再結合して励起子を生成するとともに、その励起子のエネルギーを発光材料に移動(フェルスター移動またはデクスター移動)させて、発光材料を励起する機能を有する。そのため、発光層5を、発光材料(ゲスト材料)の他に、ホスト材料を含有する構成とすることで、発光素子1の発光効率を高めることができる。このようなホスト材料は、例えば、ゲスト材料である発光材料をドーパントとしてホスト材料にドープして用いることができる。
Further, in the present embodiment, the
このようなホスト材料としては、用いるゲスト材料に対して前述したような機能を発揮するものであれば、特に限定されないが、例えば、ジスチリルアリーレン誘導体、ナフタセン誘導体、アントラセン誘導体などのアセン系材料、ペリレン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアミン誘導体、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(p−フェニルフェノラト)アルミニウム(BAlq)、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体(Alq3)等のキノリノラト系金属錯体、トリフェニルアミンの4量体等のトリアリールアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ルブレンおよびその誘導体、シロール誘導体、ジカルバゾール誘導体、オリゴチオフェン誘導体、ベンゾピラン誘導体、トリアゾール誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、キノリン誘導体、4,4’−ビス(2,2’−ジフェニルビニル)ビフェニル(DPVBi)、3−フェニル−4−(1’−ナフチル)−5−フェニルカルバゾール、4,4’−N,N’−ジカルバゾールビフェニル(CBP)等のカルバゾール誘導体等が挙げられ、これらのうち1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることもできる。 Such a host material is not particularly limited as long as it exhibits the above-mentioned functions with respect to the guest material to be used, but for example, an acene-based material such as a distyrylarylene derivative, a naphthacene derivative, or an anthracene derivative. Kinolinolato such as perylene derivative, distyrylbenzene derivative, distyrylamine derivative, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (p-phenylphenolato) aluminum (BAlq), tris (8-quinolinolato) aluminum complex (Alq 3 ) Triarylamine derivatives such as system metal complexes and tetramers of triphenylamine, oxadiazole derivatives, rubrene and its derivatives, silol derivatives, dicarbazole derivatives, oligothiophene derivatives, benzopyran derivatives, triazole derivatives, benzoxazole derivatives, benzo Thiazol derivative, quinoline derivative, 4,4'-bis (2,2'-diphenylvinyl) biphenyl (DPVBi), 3-phenyl-4- (1'-naphthyl) -5-phenylcarbazole, 4,4'-N , N'-Dicarbazolebiphenyl (CBP) and other carbazole derivatives can be mentioned, and one of these can be used alone or in combination of two or more.
これらの中でも、ホスト材料としては、アセン系材料、または、キノリノラト系金属錯体を用いるのが好ましく、アセン系材料を用いるのがより好ましい。 Among these, as the host material, it is preferable to use an acene-based material or a quinolinolato-based metal complex, and it is more preferable to use an acene-based material.
アセン系材料は、前述したようなゲスト材料との不本意な相互作用が少ない。また、ホスト材料としてアセン系材料(特にアントラセン系材料、テトラセン系材料)を用いると、ホスト材料からゲスト材料(発光材料)へのエネルギー移動を効率的に行うことができ、そのため、発光素子1の発光効率を優れたものとすることができる。これは、(a)アセン系材料の三重項励起状態からのエネルギー移動によるゲスト材料の一重項励起状態の生成が可能となること、(b)アセン系材料のπ電子雲とゲスト材料の電子雲との重なりが大きくなること、等によるものと考えられる。 The acene-based material has less unintentional interaction with the guest material as described above. Further, when an acene-based material (particularly anthracene-based material or tetracene-based material) is used as the host material, energy can be efficiently transferred from the host material to the guest material (light emitting material), and therefore, the light emitting element 1 can be subjected to energy transfer. The luminous efficiency can be made excellent. This means that (a) it is possible to generate a singlet excited state of the guest material by energy transfer from the triplet excited state of the ascene material, and (b) the π electron cloud of the asen material and the electron cloud of the guest material. It is considered that this is due to the fact that the overlap with is large.
このようなことから、ホスト材料としてアセン系材料を用いると、発光素子1の発光効率を高めることができる。 Therefore, when an acene-based material is used as the host material, the luminous efficiency of the light emitting element 1 can be improved.
また、アセン系材料は、電子および正孔に対する耐性に優れる。また、アセン系材料は、熱安定性にも優れる。そのため、発光層5ひいては発光素子1の長寿命化を図ることができる。また、アセン系材料は、熱安定性に優れるため、気相成膜法を用いて発光層5を形成する場合に、成膜時の熱によるホスト材料の分解を防止することができる。そのため、優れた膜質を有する発光層5を形成することができ、その結果、この点でも、発光素子1の発光効率を高めるとともに長寿命化を図ることができる。
In addition, acene-based materials have excellent resistance to electrons and holes. In addition, the acene-based material is also excellent in thermal stability. Therefore, the life of the
さらに、アセン系材料は、それ自体発光しにくいので、ホスト材料が発光素子1の発光スペクトルに悪影響を及ぼすのを防止することもできる。 Further, since the acene-based material itself does not easily emit light, it is possible to prevent the host material from adversely affecting the emission spectrum of the light emitting element 1.
このようなアセン系材料は、アセン骨格を有し、かつ、前述したような効果を発揮するものであれば、特に限定されず、例えば、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、ナフタセン誘導体(テトラセン誘導体)、ペンタセン誘導体が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができるが、アントラセン系材料(アントラセン誘導体)またはテトラセン系材料(テトラセン誘導体)を用いるのが好ましく、テトラセン系材料を用いるのがより好ましい。 Such an acene-based material is not particularly limited as long as it has an acene skeleton and exerts the above-mentioned effects, and is, for example, a naphthalene derivative, an anthracene derivative, naphthacene derivative (tetracene derivative), or pentacene. Derivatives can be mentioned, and one or a combination of two or more of these can be used, but it is preferable to use an anthracene-based material (anthracene derivative) or a tetracene-based material (tetracene derivative), and a tetracene-based material is used. Is more preferable.
テトラセン系材料としては、1つの分子内に少なくとも1つのテトラセン骨格を有し、かつ、前述したようなホスト材料としての機能を発揮し得るものであれば、特に限定されないが、例えば、下記式IRH1で表わされる化合物を用いるのが好ましい。 The tetracene-based material is not particularly limited as long as it has at least one tetracene skeleton in one molecule and can exhibit the function as a host material as described above. For example, the following formula IRH1 It is preferable to use the compound represented by.
前述したようなベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物は、極性が高い(分極が大きい)ため、発光材料として用いた場合、発光層中の濃度が高いときに、発光材料の分子同士の相互作用により発光効率が低下する現象である濃度消光を生じやすい。 Since the benzo-bis-thiazazole compound as described above has high polarity (high polarity), when used as a light emitting material, when the concentration in the light emitting layer is high, it emits light due to the interaction between the molecules of the light emitting material. Concentration quenching, which is a phenomenon of reduced efficiency, is likely to occur.
一方、前記テトラセン系材料は、極性が低い(分極が小さい)。そのため、テトラセン系材料をホスト材料として用いることにより、前述したような発光材料の分子同士の相互作用を低減し、濃度消光性を低減することができる。 On the other hand, the tetracene-based material has low polarity (small polarization). Therefore, by using the tetracene-based material as the host material, it is possible to reduce the interaction between the molecules of the light emitting material as described above and reduce the concentration quenching property.
これに対し、例えば、極性が高い(分極が大きい)Alq3をホスト材料として用いた場合、ホスト材料および発光材料の双方の極性が高く(分極が大きく)なるため、発光材料の分子同士の相互作用が生じやすく、濃度消光性が高くなってしまう。 On the other hand, for example, when Alq 3 having a high polarity (large polarization) is used as the host material, both the host material and the light emitting material have high polarities (large polarization), so that the molecules of the light emitting material interact with each other. The action is likely to occur, and the concentration quenching property becomes high.
また、テトラセン系材料と同じアセン系材料であるアントラセン系材料は、ホスト材料として用いた場合、濃度消光性を低減する効果があるものの、テトラセン系材料をホスト材料として用いた場合と比べて、発光効率が低くなる。これは、アントラセン系材料をホスト材料として用いると、ホスト材料から発光材料へのエネルギー移動が十分でないこと、および、ホスト材料のLUMOに注入された電子が陽極側へ突き抜ける確率が高いことが原因であると推察される。かかる点を考慮すると、アントラセン系材料とテトラセン系材料とを比較すると、テトラセン系材料がホスト材料として特に好ましく用いられる。 Further, the anthracene-based material, which is the same acene-based material as the tetracene-based material, has an effect of reducing the concentration quenching property when used as the host material, but emits light as compared with the case where the tetracene-based material is used as the host material. It is less efficient. This is because when an anthracene-based material is used as the host material, the energy transfer from the host material to the luminescent material is insufficient, and the electrons injected into the LUMO of the host material have a high probability of penetrating toward the anode side. It is presumed that there is. Considering this point, when comparing the anthracene-based material and the tetracene-based material, the tetracene-based material is particularly preferably used as the host material.
よって、ホスト材料としてテトラセン系材料(アセン系材料)を用いることにより、発光素子1の発光効率を高めることができる。 Therefore, by using a tetracene-based material (acene-based material) as the host material, the luminous efficiency of the light emitting element 1 can be increased.
また、テトラセン系材料は、電子および正孔に対する耐性に優れる。また、テトラセン系材料は、熱安定性にも優れる。そのため、発光素子1は、長寿命化を図ることができる。また、テトラセン系材料は、熱安定性に優れるため、気相成膜法を用いて発光層5を形成する場合に、成膜時の熱によるホスト材料の分解を防止することができる。そのため、優れた膜質を有する発光層5を形成することができ、その結果、この点でも、発光素子1の発光効率を高めるとともに長寿命化を図ることができる。
In addition, the tetracene-based material has excellent resistance to electrons and holes. In addition, the tetracene-based material is also excellent in thermal stability. Therefore, the life of the light emitting element 1 can be extended. Further, since the tetracene-based material is excellent in thermal stability, it is possible to prevent decomposition of the host material due to heat during film formation when the
さらに、テトラセン系材料は、それ自体発光しにくいので、ホスト材料が発光素子1の発光スペクトルに悪影響を及ぼすのを防止することもできる。 Further, since the tetracene-based material itself does not easily emit light, it is possible to prevent the host material from adversely affecting the emission spectrum of the light emitting element 1.
また、ホスト材料として用いるテトラセン系材料としては、前記式IRH1で表され、かつ、前述したようなホスト材料としての機能を発揮し得るものであれば、特に限定されないが、下記式IRH1−Aで表わされる化合物を用いるのが好ましく、下記IRH1−Bで表わされる化合物を用いるのがより好ましい。 The tetracene-based material used as the host material is not particularly limited as long as it is represented by the above formula IRH1 and can exhibit the function as the host material as described above, but the following formula IRH1-A can be used. It is preferable to use the compound represented by the above, and it is more preferable to use the compound represented by IRH1-B below.
また、テトラセン系材料すなわちホスト材料は、炭素原子および水素原子で構成されているのが好ましい。これにより、ホスト材料の極性を低くし、ホスト材料と発光材料との不本意な相互作用が生じるのを防止することができる。そのため、発光素子1の発光効率を高めることができる。また、電位および正孔に対するホスト材料の耐性を高めることができる。そのため、発光素子1の長寿命化を図ることができる。 Further, the tetracene-based material, that is, the host material is preferably composed of a carbon atom and a hydrogen atom. As a result, the polarity of the host material can be lowered, and an undesired interaction between the host material and the light emitting material can be prevented. Therefore, the luminous efficiency of the light emitting element 1 can be increased. It can also increase the resistance of the host material to potentials and holes. Therefore, the life of the light emitting element 1 can be extended.
具体的には、テトラセン系材料としては、例えば、下記式IRH1−1〜IRH1−27で表される化合物を用いるのが好ましい。 Specifically, as the tetracene-based material, for example, it is preferable to use a compound represented by the following formulas IRH1-1 to IRH1-27.
なお、アントラセン系材料としては、1つの分子内に少なくとも1つのアントラセン骨格を有し、かつ、前述したようなホスト材料としての機能を発揮し得るものであれば、特に限定されないが、例えば、下記式IRH2で表わされる化合物が好ましく用いられ、例えば、下記式IRH2−A、下記式IRH2−B、下記式IRH2−Cまたは下記式IRH2−Dで表される化合物が挙げられる。より具体的には、例えば、下記式IRH2−1〜56で表される化合物が挙げられる。 The anthracene-based material is not particularly limited as long as it has at least one anthracene skeleton in one molecule and can exhibit the function as the host material as described above. A compound represented by the formula IRH2 is preferably used, and examples thereof include a compound represented by the following formula IRH2-A, the following formula IRH2-B, the following formula IRH2-C, or the following formula IRH2-D. More specifically, for example, a compound represented by the following formula IRH2-1 to 56 can be mentioned.
また、発光層5に用いるホスト材料のHOMOは、5.0eV以上5.8eV以下であることが好ましく、また、このホスト材料のLUMOは、2.5eV以上3.6eV以下であることが好ましい。
The HOMO of the host material used for the
このような発光材料およびホスト材料を含む発光層5中における発光材料の含有量(ドープ量)は、0.5wt%以上5.0wt%以下であるのが好ましく、0.75wt%以上2.0wt%以下であるのがより好ましく、1.5wt%以上2.0wt%以下であるのがさらに好ましい。発光材料の含有量が前記下限値未満では、ホスト材料の種類によってはホストからの発光が強くなる傾向を示し、また、前記上限値超では、ホスト材料の種類によっては濃度消光による発光効率低下が顕著となる傾向を示すことがあるため、発光材料の含有量を前記範囲内に設定することにより、発光素子1の発光効率と寿命とのバランスを優れたものとすることができる。
The content (doping amount) of the light emitting material in the
また、発光層5の平均厚さは、10nm以上50nm以下であるのが好ましく、25nm以上50nm以下であるのがより好ましい。発光層5の平均厚さが前記下限値未満では、発光材料の種類によっては、発光層5の周辺層での再結合が増大する傾向を示し、不要な発光が増大してしまうおそれがある。また、前記上限値超では、発光材料の種類によっては、発光層5における電圧が徐々に上昇する傾向を示し、発光層5の発光効率の低下を招くおそれがあるため、発光層5の厚さを前記範囲内に設定することにより、発光素子1の駆動電圧を抑制しつつ、高効率および長寿命な発光素子1とすることができる。
The average thickness of the
なお、本実施形態では、本発明の発光素子用化合物を、発光層5が備える発光材料に適用する場合について説明したが、本発明の発光素子用化合物は、これに限らず、正孔注入層4が備える正孔注入材料または電子輸送層6が備える電子輸送材料として含有されていてもよい。
In the present embodiment, the case where the compound for a light emitting element of the present invention is applied to the light emitting material included in the
(電子輸送層)
電子輸送層6は、陰極8から電子注入層7を介して注入された電子を発光層5に輸送する機能を有するものである。
(Electronic transport layer)
The
電子輸送層6の構成材料(電子輸送性材料)としては、例えば、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(BCP)等のフェナントロリン誘導体、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq3)等の8−キノリノールないしその誘導体を配位子とする有機金属錯体などのキノリン誘導体、アザインドリジン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ペリレン誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、キノキサリン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、ニトロ置換フルオレン誘導体、アントラセン系材料等のアセン系材料等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
Examples of the constituent material (electron transporting material) of the
これらの中でも、電子輸送層6に用いる電子輸送性材料としては、アントラセン骨格を有する化合物を用いることが好ましい。また、フェナントロリン誘導体、フェナントロリン誘導体のように骨格中に窒素原子を備える含窒素化合物を用いることが好ましい。これらのことから、特に、アザインドリジン骨格およびアントラセン骨格の双方を分子内に有するアザインドリジン系化合物(以下、単に「アザインドリジン系化合物」ともいう)を用いることがより好ましい。これにより、発光層5へ電子を効率的に輸送・注入することができる。その結果、発光素子1の発光効率を高めることができる。
Among these, as the electron transporting material used for the
また、電子輸送層6は、前述したような電子輸送性材料のうち2種以上を組み合わせて用いる場合、2種以上の電子輸送性材料を混合した混合材料で構成されていてもよいし、異なる電子輸送性材料で構成された複数の層を積層して構成されていてもよい。本実施形態では、図1に示すように、電子輸送層6は、第1電子輸送層6bと、第1電子輸送層6bと発光層5との間に設けられた第2電子輸送層6aと、を有している。
Further, when the
第1電子輸送層6bの構成材料として用いるアントラセン骨格を有する化合物は、アザインドリジン骨格およびアントラセン骨格の双方を分子内に有するアザインドリジン系化合物であることが好ましい。また、第2電子輸送層6aの構成材料として用いるアントラセン骨格を有する化合物は、アントラセン骨格を分子内に有し、かつ、炭素原子および水素原子で構成されているアントラセン系化合物であることが好ましい。これにより、発光層5へ電子を効率的に輸送・注入するとともに、電子輸送層6の劣化を低減することができる。その結果、発光素子1の発光効率を高めるとともに、発光素子1の長寿命化を図ることができる。
The compound having an anthracene skeleton used as a constituent material of the first
ここで、光学的な光取り出しに必要な電子輸送層6の厚さを第2電子輸送層6aにより確保しつつ、第1電子輸送層6bの厚さを薄くして長寿命化を図ることができる。
Here, it is possible to extend the life by reducing the thickness of the first
電子輸送層6に用いるアザインドリジン系化合物は、1つの分子内に含まれるアザインドリジン骨格およびアントラセン骨格の数がそれぞれ1つまたは2つであるのが好ましい。これにより、電子輸送層6の電子輸送性および電子注入性を優れたものとすることができる。
The number of azaindridine skeletons and anthracene skeletons contained in one molecule of the azaindridine-based compound used in the
具体的には、電子輸送層6に用いるアザインドリジン系化合物としては、例えば、下記式ETL1−1〜24で表わされるような化合物、下記式ETL1−25〜36で表わされるような化合物、下記式ETL1−37〜56で表わされる化合物を用いるのが好ましい。
Specifically, examples of the azaindlizine-based compound used for the
このようなアザインドリジン系化合物は、電子輸送性および電子注入性に優れる。そのため、発光素子1の発光効率を向上させることができる。 Such azaindolizine compounds are excellent in electron transportability and electron injection property. Therefore, the luminous efficiency of the light emitting element 1 can be improved.
このようなアザインドリジン系化合物の電子輸送性および電子注入性が優れるのは、以下のような理由によるものと考えられる。 It is considered that the excellent electron transporting property and electron injecting property of such an azaindolizine compound are due to the following reasons.
前述したようなアザインドリジン骨格およびアントラセン骨格を分子内に有するアザインドリジン系化合物は、その分子全体がπ共役系で繋がっているため、電子雲が分子全体に亘って拡がっている。 In the azaindridine-based compound having the azaindridine skeleton and the anthracene skeleton in the molecule as described above, the entire molecule is connected by a π-conjugated system, so that the electron cloud spreads over the entire molecule.
そして、かかるアザインドリジン系化合物のアザインドリジン骨格の部分は、電子を受け入れる機能と、その受け取った電子をアントラセン骨格の部分へ送り出す機能とを有する。一方、かかるアザインドリジン系化合物のアントラセン骨格の部分は、アザインドリジン骨格の部分から電子を受け入れる機能と、その受け入れた電子を、電子輸送層6の陽極3側に隣接する層、すなわち発光層5へ受け渡す機能とを有する。
The azaindlizine skeleton portion of the azaindridine compound has a function of accepting electrons and a function of sending the received electrons to the anthracene skeleton portion. On the other hand, the anthracene skeleton portion of the azaindolizine compound has a function of accepting electrons from the azaindlizine skeleton portion and a layer adjacent to the
より具体的に説明すると、かかるアザインドリジン系化合物のアザインドリジン骨格の部分は、2つの窒素原子を有し、その一方(アントラセン骨格の部分に近い側)の窒素原子がsp2混成軌道を有し、他方(アントラセン骨格の部分に遠い側)の窒素原子がsp3混成軌道を有する。sp2混成軌道を有する窒素原子は、アザインドリジン系化合物の分子の共役系の一部を構成するとともに、炭素原子よりも電気陰性度が高く、電子を引き付ける強さが大きいため、電子を受け入れる部分として機能する。一方、sp3混成軌道を有する窒素原子は、通常の共役系ではないが、非共有電子対を有するため、その電子がアザインドリジン系化合物の分子の共役系に向けて電子を送り出す部分として機能する。 More specifically, the part of the azaindrin skeleton of such an azaindrin-based compound has two nitrogen atoms, and one of the nitrogen atoms (the side closer to the part of the anthracene skeleton) has an sp 2 hybrid orbital. a nitrogen atom of the other (the side far from the portion of the anthracene skeleton) has a sp 3 hybrid orbital. Nitrogen atoms with sp 2 hybrid orbitals form part of the conjugated system of molecules of azidolizine compounds, and accept electrons because they have higher electronegativity and higher electron-attracting strength than carbon atoms. Functions as a part. On the other hand, the nitrogen atom having an sp 3 hybrid orbital is not a normal conjugated system, because it has an unshared electron pair, functions that electrons as part for feeding the electrons toward the conjugated molecules of azaindolizine compounds To do.
一方、かかるアザインドリジン系化合物のアントラセン骨格の部分は、電気的に中性であるため、アザインドリジン骨格の部分から電子を容易に受け入れることができる。また、かかるアザインドリジン系化合物のアントラセン骨格の部分は、発光層5の構成材料、特にホスト材料(テトラセン系材料)と軌道の重なりが大きいため、発光層5のホスト材料へ電子を容易に受け渡すことができる。
On the other hand, since the anthracene skeleton portion of the azaindridine compound is electrically neutral, electrons can be easily accepted from the azaindlizine skeleton portion. Further, since the anthracene skeleton portion of the azaindridine compound has a large orbital overlap with the constituent material of the
また、かかるアザインドリジン系化合物は、前述したように電子輸送性および電子注入性に優れるため、結果として、発光素子1の駆動電圧を低電圧化することができる。 Further, since such an azindolidin-based compound is excellent in electron transporting property and electron injecting property as described above, as a result, the driving voltage of the light emitting element 1 can be lowered.
また、アザインドリジン骨格の部分は、sp2混成軌道を有する窒素原子が還元されても安定であり、sp3混成軌道を有する窒素原子が酸化されても安定である。そのため、かかるアザインドリジン系化合物は、電子および正孔に対する安定性が高いものとなる。その結果、発光素子1の長寿命化を図ることができる。 Further, the portion of the azaindlizine skeleton is stable even when the nitrogen atom having the sp 2 hybrid orbital is reduced, and is stable even when the nitrogen atom having the sp 3 hybrid orbital is oxidized. Therefore, such an azine indolizine-based compound has high stability against electrons and holes. As a result, the life of the light emitting element 1 can be extended.
また、電子輸送層6(第2電子輸送層6aを有する場合、特に第2電子輸送層6a)に用いるアントラセン系化合物としては、前述した発光層5に含まれるホスト材料として挙げた上記式IRH2で表される化合物であればよいが、上記式IRH2−A、上記式IRH2−B、上記式IRH2−Cまたは上記式IRH2−Dで表される化合物であることが好ましく、より具体的には、例えば、上記式IRH2−1〜56で表される化合物であることが好ましい。
Further, the anthracene-based compound used for the electron transport layer 6 (when the second
また、電子輸送層6(より具体的には、第2電子輸送層6a)の構成材料のHOMOは、発光層5に用いるホスト材料のHOMOとの差が0.2eV以上であることが好ましい。これにより、正孔が発光層5から電子輸送層6へ抜けてしまうのを低減し、発光効率を高めることができる。
Further, the HOMO of the constituent material of the electron transport layer 6 (more specifically, the second
また、第2電子輸送層6aの構成材料のHOMOは、5.5eV以上6.0eV以下であることが好ましく、また、第2電子輸送層6aの構成材料のLUMOは、2.5eV以上3.0eV以下であることが好ましい。
Further, the HOMO of the constituent material of the second
また、第1電子輸送層6bの構成材料のHOMOは、5.8eV以上6.5eV以下であることが好ましく、また、第1電子輸送層6bの構成材料のLUMOは、2.8eV以上3.5eV以下であることが好ましい。
Further, the HOMO of the constituent material of the first
また、第2電子輸送層6aの厚さは、第1電子輸送層6bの厚さよりも厚いことが好ましい。これにより、発光素子1の駆動電圧を抑制しつつ、発光層5へ電子を効率的に輸送・注入するとともに、電子輸送層6の劣化を低減することができる。
Further, the thickness of the second
また、第2電子輸送層6aの具体的な厚さは、30nm以上150nm以下であることが好ましく、70nm以上90nm以下であることがより好ましい。これにより、発光素子1の駆動電圧を抑制しつつ、発光層5へ電子を効率的に輸送・注入するとともに、電子輸送層6の劣化を低減することができる。
The specific thickness of the second
さらに、電子輸送層6全体の厚さは、55nm以上200nm以下であることが好ましく、70nm以上95nm以下であることがより好ましい。これにより、発光素子1の駆動電圧を抑制しつつ、発光層5へ電子を効率的に輸送・注入することができる。
Further, the thickness of the entire
なお、第2電子輸送層6aは、第1電子輸送層6bと発光層5との構成材料の組み合わせ等によっては、省略してもよい。
The second
(電子注入層)
電子注入層7は、陰極8からの電子注入効率を向上させる機能を有するものである。
(Electron injection layer)
The electron injection layer 7 has a function of improving the electron injection efficiency from the cathode 8.
この電子注入層7の構成材料(電子注入性材料)としては、例えば、各種の無機絶縁材料、各種の無機半導体材料が挙げられる。 Examples of the constituent material (electron-injectable material) of the electron-injecting layer 7 include various inorganic insulating materials and various inorganic semiconductor materials.
このような無機絶縁材料としては、例えば、アルカリ金属カルコゲナイド(酸化物、硫化物、セレン化物、テルル化物)、アルカリ土類金属カルコゲナイド、アルカリ金属のハロゲン化物およびアルカリ土類金属のハロゲン化物等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらを主材料として電子注入層7を構成することにより、電子注入性をより向上させることができる。特にアルカリ金属化合物(アルカリ金属カルコゲナイド、アルカリ金属のハロゲン化物等)は仕事関数が非常に小さく、これを用いて電子注入層7を構成することにより、発光素子1は、高い輝度が得られるものとなる。 Examples of such inorganic insulating materials include alkali metal chalcogenides (oxides, sulfides, serenes, tellurides), alkaline earth metal chalcogenides, alkali metal halides and alkaline earth metal halides. And one or more of these can be used in combination. By forming the electron injection layer 7 using these as the main materials, the electron injection property can be further improved. In particular, alkali metal compounds (alkali metal chalcogenides, alkali metal halides, etc.) have a very small work function, and by forming the electron injection layer 7 using these, the light emitting element 1 can obtain high brightness. Become.
アルカリ金属カルコゲナイドとしては、例えば、Li2O、LiO、Na2S、Na2Se、NaO等が挙げられる。 Examples of the alkali metal chalcogenide include Li 2 O, LiO, Na 2 S, Na 2 Se, Na O and the like.
アルカリ土類金属カルコゲナイドとしては、例えば、CaO、BaO、SrO、BeO、BaS、MgO、CaSe等が挙げられる。 Examples of the alkaline earth metal chalcogenide include CaO, BaO, SrO, BeO, BaS, MgO, CaSe and the like.
アルカリ金属のハロゲン化物としては、例えば、CsF、LiF、NaF、KF、LiCl、KCl、NaCl等が挙げられる。 Examples of the alkali metal halide include CsF, LiF, NaF, KF, LiCl, KCl, NaCl and the like.
アルカリ土類金属のハロゲン化物としては、例えば、CaF2、BaF2、SrF2、MgF2、BeF2等が挙げられる。 Examples of the halide of the alkaline earth metal include CaF 2 , BaF 2 , SrF 2 , MgF 2 , BeF 2 and the like.
また、無機半導体材料としては、例えば、Li、Na、Ba、Ca、Sr、Yb、Al、Ga、In、Cd、Mg、Si、Ta、SbおよびZnのうちの少なくとも1つの元素を含む酸化物、窒化物または酸化窒化物等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 Further, as the inorganic semiconductor material, for example, an oxide containing at least one element of Li, Na, Ba, Ca, Sr, Yb, Al, Ga, In, Cd, Mg, Si, Ta, Sb and Zn. , Nitride, oxide nitride and the like, and one or more of these can be used in combination.
電子注入層7の平均厚さは、特に限定されないが、0.1nm以上1000nm以下程度であるのが好ましく、0.2nm以上100nm以下程度であるのがより好ましく、0.2nm以上50nm以下程度であるのがさらに好ましい。 The average thickness of the electron injection layer 7 is not particularly limited, but is preferably 0.1 nm or more and 1000 nm or less, more preferably 0.2 nm or more and 100 nm or less, and 0.2 nm or more and 50 nm or less. It is even more preferable to have it.
なお、この電子注入層7は、陰極8および電子輸送層6の構成材料や厚さ等によっては、省略してもよい。
The electron injection layer 7 may be omitted depending on the constituent materials and thickness of the cathode 8 and the
(封止部材)
封止部材9は、陽極3、積層体14、および陰極8を覆うように設けられ、これらを気密的に封止し、酸素や水分を遮断する機能を有する。封止部材9を設けることにより、発光素子1の信頼性の向上や、変質・劣化の防止(耐久性向上)等の効果が得られる。
(Sealing member)
The sealing member 9 is provided so as to cover the
封止部材9の構成材料としては、例えば、Al、Au、Cr、Nb、Ta、Tiまたはこれらを含む合金、酸化シリコン、各種樹脂材料等を挙げることができる。なお、封止部材9の構成材料として導電性を有する材料を用いる場合には、短絡を防止するために、封止部材9と陽極3、積層体14および陰極8との間には、必要に応じて、絶縁膜を設けるのが好ましい。
Examples of the constituent material of the sealing member 9 include Al, Au, Cr, Nb, Ta, Ti, alloys containing these, silicon oxide, and various resin materials. When a conductive material is used as the constituent material of the sealing member 9, it is necessary between the sealing member 9 and the
また、封止部材9は、平板状として、基板2と対向させ、これらの間を、例えば熱硬化性樹脂等のシール材で封止するようにしてもよい。 Further, the sealing member 9 may be formed into a flat plate shape so as to face the substrate 2 and the space between them may be sealed with a sealing material such as a thermosetting resin.
以上のように構成された発光素子1によれば、発光層5の発光材料としてベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物を用いるとともに、発光層5のホスト材料としてテトラセン系材料を用いることにより、近赤外域での発光を可能とするとともに、高効率化および長寿命化を図ることができる。
According to the light emitting device 1 configured as described above, the benzo-bis-thiadiazole-based compound is used as the light emitting material of the
なお、本発明の発光素子は、上述した発光素子1の構成に限らず、陽極3と発光層5と陰極13とを有し、発光層5に発光材料として前記一般式IRDで表わされるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物を含有するものであれば、いかなる構成のものであってもよく、例えば、陽極3、発光層5および陰極13以外の層が省略されていてもよいし、他の任意の層が任意の数で追加されていてもよい。具体的には、任意の層が追加されている発光素子1としては、例えば、近赤外域で発光する発光層5の他に可視光域または紫外域で発光する発光層を有するものであってもよい。さらに、この場合、近赤外域で発光する発光層5と可視光域または紫外域で発光する発光層とは積層されているものであってもよいし、領域を分離して並列に並べられたものであってもよく、さらに、これらが組み合わされたものであってもよい。
The light emitting device of the present invention is not limited to the configuration of the light emitting element 1 described above, and has an
以上のような発光素子1は、例えば、次のようにして製造することができる。
[1] まず、基板2を用意し、この基板2上に陽極3を形成する。
The light emitting element 1 as described above can be manufactured, for example, as follows.
[1] First, a substrate 2 is prepared, and an
陽極3は、例えば、プラズマCVD、熱CVDのような化学蒸着法(CVD)、真空蒸着等の乾式メッキ法、電解メッキ等の湿式メッキ法、溶射法、ゾル・ゲル法、MOD法、金属箔の接合等を用いて形成することができる。
The
[2] 次に、陽極3上に正孔注入層4を形成する。
正孔注入層4は、例えば、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセスにより形成するのが好ましい。
[2] Next, the hole injection layer 4 is formed on the
The hole injection layer 4 is preferably formed by a vapor phase process using, for example, a CVD method, a vacuum vapor deposition, a dry plating method such as sputtering, or the like.
なお、正孔注入層4は、例えば、正孔注入性材料を溶媒に溶解または分散媒に分散してなる正孔注入層形成用材料を、陽極3上に供給した後、乾燥(脱溶媒または脱分散媒)することによっても形成することができる。
In the hole injection layer 4, for example, a material for forming a hole injection layer formed by dissolving a hole injectable material in a solvent or dispersing it in a dispersion medium is supplied onto the
正孔注入層形成用材料の供給方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、インクジェット印刷法等の各種塗布法を用いることもできる。かかる塗布法を用いることにより、正孔注入層4を比較的容易に形成することができる。 As a method for supplying the material for forming the hole injection layer, for example, various coating methods such as a spin coating method, a roll coating method, and an inkjet printing method can be used. By using such a coating method, the hole injection layer 4 can be formed relatively easily.
正孔注入層形成用材料の調製に用いる溶媒または分散媒としては、例えば、各種無機溶媒や、各種有機溶媒、または、これらを含む混合溶媒等が挙げられる。 Examples of the solvent or dispersion medium used for preparing the material for forming the hole injection layer include various inorganic solvents, various organic solvents, and mixed solvents containing these.
なお、乾燥は、例えば、大気圧または減圧雰囲気中での放置、加熱処理、不活性ガスの吹付け等により行うことができる。 The drying can be performed by, for example, leaving in an atmosphere of atmospheric pressure or reduced pressure, heat treatment, spraying of an inert gas, or the like.
また、本工程に先立って、陽極3の上面には、酸素プラズマ処理を施すようにしてもよい。これにより、陽極3の上面に親液性を付与すること、陽極3の上面に付着する有機物を除去(洗浄)すること、陽極3の上面付近の仕事関数を調整すること等を行うことができる。
Further, prior to this step, the upper surface of the
ここで、酸素プラズマ処理の条件としては、例えば、プラズマパワー100W以上800W以下程度、酸素ガス流量50mL/min以上100mL/min以下程度、被処理部材(陽極3)の搬送速度0.5mm/sec以上10mm/sec以下程度とするのが好ましい。 Here, the conditions for oxygen plasma treatment include, for example, a plasma power of 100 W or more and 800 W or less, an oxygen gas flow rate of 50 mL / min or more and 100 mL / min or less, and a transport speed of the member to be processed (anode 3) of 0.5 mm / sec or more. It is preferably about 10 mm / sec or less.
[3] 次に、正孔注入層4上に、発光層5を形成する。
発光層5は、例えば、真空蒸着等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセスにより形成することができる。
[3] Next, the
The
[4] 次に、発光層5上に、電子輸送層6(第1電子輸送層6bおよび第2電子輸送層6a)を形成する。
[4] Next, an electron transport layer 6 (first
電子輸送層6(第1電子輸送層6bおよび第2電子輸送層6a)は、例えば、真空蒸着等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセスにより形成するのが好ましい。
The electron transport layer 6 (first
なお、電子輸送層6は、例えば、電子輸送性材料を溶媒に溶解または分散媒に分散してなる電子輸送層形成用材料を、発光層5上に供給した後、乾燥(脱溶媒または脱分散媒)することによっても形成することができる。
In the
[5] 次に、電子輸送層6上に、電子注入層7を形成する。
電子注入層7の構成材料として無機材料を用いる場合、電子注入層7は、例えば、CVD法や、真空蒸着、スパッタリング等の乾式メッキ法等を用いた気相プロセス、無機微粒子インクの塗布および焼成等を用いて形成することができる。
[5] Next, the electron injection layer 7 is formed on the
When an inorganic material is used as the constituent material of the electron injection layer 7, the electron injection layer 7 is subjected to, for example, a vapor phase process using a CVD method, a dry plating method such as vacuum vapor deposition or sputtering, coating and firing of inorganic fine particle ink. Etc. can be formed by using.
[6] 次に、電子注入層7上に、陰極8を形成する。
陰極8は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、金属箔の接合、金属微粒子インクの塗布および焼成等を用いて形成することができる。
[6] Next, the cathode 8 is formed on the electron injection layer 7.
The cathode 8 can be formed by, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, joining of metal foils, coating and firing of metal fine particle ink, and the like.
以上のような工程を経て、発光素子1が得られる。
最後に、得られた発光素子1を覆うように封止部材9を被せ、基板2に接合する。
The light emitting element 1 is obtained through the above steps.
Finally, the sealing member 9 is covered so as to cover the obtained light emitting element 1, and the bonding member 9 is bonded to the substrate 2.
(発光装置)
次に、本発明の発光装置の実施形態について説明する。
(Light emitting device)
Next, an embodiment of the light emitting device of the present invention will be described.
図2は、本発明の発光装置を適用したディスプレイ装置の実施形態を示す縦断面図である。 FIG. 2 is a vertical cross-sectional view showing an embodiment of a display device to which the light emitting device of the present invention is applied.
図2に示すディスプレイ装置100は、基板21と、複数の発光素子1Aと、各発光素子1Aをそれぞれ駆動するための複数の駆動用トランジスター24とを有している。ここで、ディスプレイ装置100は、トップエミッション構造のディスプレイパネルである。
The
基板21上には、複数の駆動用トランジスター24が設けられ、これらの駆動用トランジスター24を覆うように、絶縁材料で構成された平坦化層22が形成されている。
A plurality of driving
各駆動用トランジスター24は、シリコンからなる半導体層241と、半導体層241上に形成されたゲート絶縁層242と、ゲート絶縁層242上に形成されたゲート電極243と、ソース電極244と、ドレイン電極245とを有している。
Each
平坦化層上には、各駆動用トランジスター24に対応して発光素子1Aが設けられている。
A
発光素子1Aは、平坦化層22上に、反射膜32、腐食防止膜33、陽極3、積層体(有機EL発光部)14、陰極13、陰極カバー34がこの順に積層されている。本実施形態では、各発光素子1Aの陽極3は、画素電極を構成し、各駆動用トランジスター24のドレイン電極245に導電部(配線)27により電気的に接続されている。また、各発光素子1Aの陰極13は、共通電極とされている。
図2における発光素子1Aは、近赤外域で発光するものである。
In the
The
隣接する発光素子1A同士の間には、隔壁31が設けられている。また、これらの発光素子1A上には、これらを覆うように、エポキシ樹脂で構成されたエポキシ層35が形成されている。
そして、エポキシ層35上には、これらを覆うように封止基板20が設けられている。
A
A sealing
以上説明したようなディスプレイ装置100は、例えば軍事用途等の近赤外線ディスプレイとして用いることができる。
The
このようなディスプレイ装置100によれば、近赤外域での発光が可能である。また、幅広い波長領域における近赤外域で発光し得る高効率および長寿命な発光素子1を備えるので、信頼性に優れる。
According to such a
(認証装置)
次に、本発明の認証装置の実施形態を説明する。
図3は、本発明の認証装置の実施形態を示す図である。
(Authentication device)
Next, an embodiment of the authentication device of the present invention will be described.
FIG. 3 is a diagram showing an embodiment of the authentication device of the present invention.
図3に示す認証装置1000は、生体F(本実施形態では指先)の生体情報を用いて個人を認証する生体認証装置である。
The
この認証装置1000は、光源100Bと、カバーガラス1001と、マイクロレンズアレイ1002と、受光素子群1003と、発光素子駆動部1006と、受光素子駆動部1004と、制御部1005とを有する。
The
光源100Bは、前述した発光素子1を複数備えるものであり、撮像対象物である生体Fへ向けて、近赤外域の光を照射する。例えば、この光源100Bの複数の発光素子1は、カバーガラス1001の外周部に沿って配置される。
カバーガラス1001は、生体Fが接触または近接する部位である。
The
The
マイクロレンズアレイ1002は、カバーガラス1001の生体Fが接触または近接する側と反対側に設けられている。このマイクロレンズアレイ1002は、複数のマイクロレンズがマトリクス状に配列して構成されている。
The
受光素子群1003は、マイクロレンズアレイ1002に対してカバーガラス1001とは反対側に設けられている。この受光素子群1003は、マイクロレンズアレイ1002の複数のマイクロレンズに対応してマトリクス状に設けられた複数の受光素子で構成されている。この受光素子群1003の各受光素子としては、例えば、CCD(Charge Coupled Device)、CMOS等を用いることができる。
The light
発光素子駆動部1006は、光源100Bを駆動する駆動回路である。
受光素子駆動部1004は、受光素子群1003を駆動する駆動回路である。
The light emitting
The light receiving
制御部1005は、例えば、MPUであり、発光素子駆動部1006および受光素子駆動部1004の駆動を制御する機能を有する。
The
また、制御部1005は、受光素子群1003の受光結果と、予め記憶された生体認証情報との比較により、生体Fの認証を行う機能を有する。
Further, the
例えば、制御部1005は、受光素子群1003の受光結果に基づいて、生体Fに関する画像パターン(例えば静脈パターン)を生成する。そして、制御部1005は、その画像パターンと、生体認証情報として予め記憶された画像パターンとを比較し、その比較結果に基づいて、生体Fの認証(例えば静脈認証)を行う。
For example, the
このような認証装置1000によれば、近赤外光を用いて生体認証を行うことができる。また、幅広い波長領域における近赤外域で発光し得る高効率および長寿命な発光素子1を備えるので、信頼性に優れる。
このような認証装置1000は、各種の電子機器に組み込むことができる。
According to such an
Such an
(電子機器)
図4は、本発明の電子機器を適用したモバイル型(またはノート型)のパーソナルコンピューターの構成を示す斜視図である。
(Electronics)
FIG. 4 is a perspective view showing the configuration of a mobile (or notebook) personal computer to which the electronic device of the present invention is applied.
この図において、パーソナルコンピューター1100は、キーボード1102を備えた本体部1104と、表示部を備える表示ユニット1106とにより構成され、表示ユニット1106は、本体部1104に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
In this figure, the
このパーソナルコンピューター1100において、本体部1104には、前述した認証装置1000が設けられている。
In the
このようなパーソナルコンピューター1100によれば、幅広い波長領域における近赤外域で発光し得る高効率および長寿命な発光素子1を備えるので、信頼性に優れる。
Such a
なお、本発明の電子機器は、図4のパーソナルコンピューター(モバイル型パーソナルコンピューター)の他にも、例えば、スマートフォン、タブレット端末、時計、携帯電話機、ディジタルスチルカメラ、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、ラップトップ型パーソナルコンピューター、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳(通信機能付も含む)、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、POS端末、タッチパネルを備えた機器(例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機)、医療機器(例えば電子体温計、血圧計、血糖計、脈拍計測装置、脈波計測装置、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置)、魚群探知機、各種測定機器、計器類(例えば、車両、航空機、船舶の計器類)、フライトシミュレータ、その他各種モニタ類、プロジェクター等の投射型表示装置等に適用することができる。 In addition to the personal computer (mobile personal computer) shown in FIG. 4, the electronic device of the present invention includes, for example, a smartphone, a tablet terminal, a clock, a mobile phone, a digital still camera, a television, a video camera, and a viewfinder type. , Monitor direct-view video tape recorder, laptop personal computer, car navigation device, pager, electronic notebook (including communication function), electronic dictionary, calculator, electronic game equipment, word processor, workstation, videophone, security TV monitors, electronic binoculars, POS terminals, devices equipped with touch panels (for example, cash dispensers of financial institutions, automatic ticket vending machines), medical devices (for example, electronic thermometers, blood pressure monitors, blood glucose meters, pulse measuring devices, pulse wave measuring devices, hearts) Electronic display device, ultrasonic diagnostic device, display device for endoscope), fish finder, various measuring devices, instruments (for example, instruments for vehicles, aircraft, ships), flight simulators, other various monitors, projectors, etc. It can be applied to the projection type display device and the like.
また、本発明の電子機器は、前述した認証装置1000を備えるものである場合の他、前述した光源100Bを備える構成のものであってもよい。このように光源100Bを備える電子機器としては、例えば、血中酸素濃度測定器、血糖値測定器、肌診断機(肌水分量測定器)、体脂肪測定器、体内蛍光物質観察器等の生体成分分析機器、皮膚癌診断機器、瞳観察装置、血管観察機器のような医療機器(生体センサー)、赤外スキャナー機器、欠陥検査機器等が挙げられる。
Further, the electronic device of the present invention may be provided with the above-mentioned
以上、本発明の化合物、発光素子用化合物、発光素子、発光装置、光源、認証装置および電子機器を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものでない。
また、本発明の発光素子および発光装置は照明用の光源として用いてもよい。
Although the compound of the present invention, the compound for a light emitting element, the light emitting element, the light emitting device, the light source, the authentication device and the electronic device have been described above based on the illustrated embodiments, the present invention is not limited thereto.
Further, the light emitting element and the light emitting device of the present invention may be used as a light source for illumination.
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
1−1.発光材料の製造
以下の工程1〜7により、前記式IRDI−1−1で表されるベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物を合成した。
Next, specific examples of the present invention will be described.
1-1. Production of Luminescent Material The benzo-bis-thiadiazole-based compound represented by the above formula IRDI-1-1 was synthesized by the following steps 1 to 7.
[工程1] [Step 1]
まず、5リットルのフラスコに発煙硝酸1500mlを入れ冷却した。そこへ10〜50℃に保つようにして硫酸1500mlを分割添加した。さらにそこへ原料のジブロモベンゾチアジアゾールである化合物(a)150gを1時間かけて少量ずつ添加した。その際に溶液温度は5℃以下になるように行った。全量添加後、室温(25℃)において20時間反応させた。反応後、氷3kgに反応液を注ぎ、一晩攪拌した。その後、ろ過してメタノール、ヘプタンで洗浄した。 First, 1500 ml of fuming nitric acid was placed in a 5 liter flask and cooled. 1500 ml of sulfuric acid was added thereto in portions so as to keep the temperature at 10 to 50 ° C. Further, 150 g of the raw material dibromobenzothiadiazole compound (a) was added little by little over 1 hour. At that time, the solution temperature was adjusted to 5 ° C. or lower. After the total amount was added, the reaction was carried out at room temperature (25 ° C.) for 20 hours. After the reaction, the reaction solution was poured into 3 kg of ice and stirred overnight. Then, it was filtered and washed with methanol and heptane.
次いで、ろ過して残った物を200mlのトルエンで熱溶解させた後、室温まで徐冷後にろ過し、残ったものを少量のトルエンで洗浄後、減圧乾燥させた。
これにより、HPLC純度95%の化合物(b)(4、7−ジブロモ−5、6−ジニトロ−ベンゾ[1、2、5]チアジアゾール)60gを得た。
Then, the remaining material after filtration was thermally dissolved with 200 ml of toluene, slowly cooled to room temperature, filtered, and the remaining material was washed with a small amount of toluene and then dried under reduced pressure.
As a result, 60 g of compound (b) (4,7-dibromo-5,6-dinitro-benzo [1,2,5] thiadiazole) having an HPLC purity of 95% was obtained.
[工程2] [Step 2]
まず、Ar下、5リットルのフラスコに、得られたジブロモ体である化合物(b)30gとフェニルボロン酸(市販品)9.5g、トルエン2500ml、テトラキストリフェニルホスフィンPd(0)錯体3g、2M炭酸セシウム水溶液(152g/(蒸留水)234ml)を入れ、90℃で一晩反応させた。反応後ろ過、分液、濃縮し、得られた粗体52gをシリカゲルカラム(SiO2 5kg)で分離し、赤紫色固体を得た。 First, in a 5 liter flask under Ar, 30 g of the obtained dibromo compound (b), 9.5 g of phenylboronic acid (commercially available), 2500 ml of toluene, 3 g of tetrakistriphenylphosphine Pd (0) complex, 2M. An aqueous solution of cesium carbonate (152 g / (234 ml of distilled water)) was added and reacted at 90 ° C. overnight. After the reaction, the mixture was filtered, separated and concentrated, and 52 g of the obtained crude product was separated by a silica gel column (SiO25 kg) to obtain a magenta solid.
これにより、HPLC純度96%の化合物(c)(5、6−ジニトロ−4−ブロモ−7−フェニル−ベンゾ[1、2、5]チアジアゾール)6gを得た。 As a result, 6 g of compound (c) (5,6-dinitro-4-bromo-7-phenyl-benzo [1, 2, 5] thiadiazole) having an HPLC purity of 96% was obtained.
[工程3] [Step 3]
まず、アルゴンガス気流下、3リットルコルベンにフェノチアジン(72g、360mmol)と1−ブロモ−4−ヨードベンゼン(102g、360mmol)をキシレン(1.7リットル)へ加えた。内温105℃まで昇温し、tBu3P・HBF4(4.18g、14.4mmol)とPd2(dba3)(6.59g、7.20mmol)を加えた後、tBuONa(41.6g、433mmol)を分割添加した。その後、115℃まで昇温、1時間攪拌した。 First, phenothiazine (72 g, 360 mmol) and 1-bromo-4-iodobenzene (102 g, 360 mmol) were added to xylene (1.7 liters) to 3 liters of corben under an argon gas stream. The temperature is raised to 105 ° C., tBu 3 P · HBF 4 (4.18 g, 14.4 mmol) and Pd 2 (dba 3 ) (6.59 g, 7.20 mmol) are added, and then tBuONa (41.6 g) is added. 433 mmol) was added in portions. Then, the temperature was raised to 115 ° C., and the mixture was stirred for 1 hour.
室温まで冷却後、水(1.8リットル)へ反応液を加え、有機層を分取した。有機層を水(500mL)を用いて洗浄、分液し、減圧下濃縮した。得られた粗体(107g)をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(2kg、展開:トルエン/ヘプタン=1/2)にて精製し、目的物を得た(収量47g、収率37%)。 After cooling to room temperature, the reaction solution was added to water (1.8 liters), and the organic layer was separated. The organic layer was washed with water (500 mL), separated, and concentrated under reduced pressure. The obtained crude product (107 g) was purified by silica gel column chromatography (2 kg, development: toluene / heptane = 1/2) to obtain the desired product (yield 47 g, yield 37%).
[工程4] [Step 4]
次いで、Arガス下、1リットルの三口フラスコに10−(4−ブロモフェニル)フェノチアジン(27g、77mmol)を脱水THF(500ml)に溶解し、−78℃まで冷却した。そこへ1.6Mn−BuLiヘキサン溶液(52.5ml、84.5mmol)を内温−60℃以下で滴下し、そのまま30分間撹拌した。その後、塩化トリブチルすず(IV)(25.1g、77mmol)を内温−60℃以下で滴下した。滴下後、室温まで上昇させ、一晩撹拌した。 Then, under Ar gas, 10- (4-bromophenyl) phenothiazine (27 g, 77 mmol) was dissolved in dehydrated THF (500 ml) in a 1 liter three-necked flask and cooled to −78 ° C. A 1.6 Mn-BuLihexane solution (52.5 ml, 84.5 mmol) was added dropwise thereto at an internal temperature of −60 ° C. or lower, and the mixture was stirred as it was for 30 minutes. Then, tributyltin chloride (IV) (25.1 g, 77 mmol) was added dropwise at an internal temperature of −60 ° C. or lower. After the dropping, the temperature was raised to room temperature and the mixture was stirred overnight.
次いで、NaF(4.20g、100mmol)を水(500ml)に溶解し、そこへ反応液を注ぎ入れた。トルエン(250ml)を加えて1時間撹拌した後、有機層を分取し、再度有機層を水(250ml×2)を用いて洗浄した。得られた有機層を減圧下濃縮操作を行うことによって、目的物を得た(収量25g)。 Then, NaF (4.20 g, 100 mmol) was dissolved in water (500 ml), and the reaction solution was poured into the solution. After adding toluene (250 ml) and stirring for 1 hour, the organic layer was separated, and the organic layer was washed again with water (250 ml × 2). The obtained organic layer was concentrated under reduced pressure to obtain the desired product (yield 25 g).
[工程5] [Step 5]
まず、Arガス下、500mlの3つ口フラスコにブロモ体(工程2の成果物)(5g、13mmol)とスズ体(工程4の成果物)(9g、16mmol)をジオキサン(350ml)に溶解し、そこへPd(PPh3)4(0.5g、0.43mmol)を加え、内温95℃まで昇温し、一晩撹拌した。 First, under Ar gas, a bromo compound (product of step 2) (5 g, 13 mmol) and a tin compound (deliverable of step 4) (9 g, 16 mmol) were dissolved in dioxane (350 ml) in a 500 ml three-necked flask. , Pd (PPh 3 ) 4 (0.5 g, 0.43 mmol) was added thereto, the temperature was raised to an internal temperature of 95 ° C., and the mixture was stirred overnight.
次いで、室温まで冷却後、反応液を減圧下濃縮した。得られた固体をトルエンにて洗浄し、その後、トルエン400mlを用いて再結晶を行うことにより目的物を得た(収量4.5g、収率60%)。 Then, after cooling to room temperature, the reaction solution was concentrated under reduced pressure. The obtained solid was washed with toluene, and then recrystallized from 400 ml of toluene to obtain the desired product (yield 4.5 g, yield 60%).
[工程6] [Step 6]
まず、Arガス下、300mlの3つ口フラスコに酢酸(200ml)とFe(10.2g、182mmol)を加えて、内温65℃まで昇温した。そこへ工程5で得られたニトロ体(4.5g、7.8mmol)をゆっくりと分割添加し、80℃まで昇温、3時間そのまま撹拌した。
First, acetic acid (200 ml) and Fe (10.2 g, 182 mmol) were added to a 300 ml three-necked flask under Ar gas, and the temperature was raised to an internal temperature of 65 ° C. The nitro compound (4.5 g, 7.8 mmol) obtained in
次いで、反応液を室温まで冷却後、水(300ml)へ注ぎ入れた。その後、固体(Fe含む)を濾過した。その固体からTHF(300ml)を用いて有機物を抽出し、減圧下濃縮した。得られた残渣にトルエン(150ml)を加え、再度減圧濃縮することによって目的物を得た(収量2g、収率50%)。 Then, the reaction solution was cooled to room temperature and then poured into water (300 ml). Then, the solid (including Fe) was filtered. Organic matter was extracted from the solid using THF (300 ml) and concentrated under reduced pressure. Toluene (150 ml) was added to the obtained residue, and the mixture was concentrated again under reduced pressure to obtain the desired product (yield 2 g, yield 50%).
[工程7] [Step 7]
Arガス下、300mlの3つ口フラスコに工程4で得られたアミン体(2g、3.9mmol)を脱水ピリジン(150ml)に溶解し、N−チオニルアニリン(1.2g、8.4mmol)とトリメチルシリルクロリド(5g、46mmol)を加えた。その後、内温80℃まで昇温、一晩撹拌した。 Under Ar gas, the amine compound (2 g, 3.9 mmol) obtained in step 4 was dissolved in dehydrated pyridine (150 ml) in a 300 ml three-necked flask, and N-thionylaniline (1.2 g, 8.4 mmol) was added. Trimethylsilyl chloride (5 g, 46 mmol) was added. Then, the temperature was raised to an internal temperature of 80 ° C., and the mixture was stirred overnight.
反応液を室温まで冷却後、水(200ml)に注ぎ入れた。析出した結晶をろ過して取り出し、固体をTHFにて洗浄し、2gの固体(結晶)を得た。 After cooling the reaction solution to room temperature, it was poured into water (200 ml). The precipitated crystals were filtered out, and the solid was washed with THF to obtain 2 g of a solid (crystal).
シリカゲルクロマトグラフィー(シリカゲル100g、展開溶媒クロロベンゼン)にて精製を行った。 Purification was performed by silica gel chromatography (silica gel 100 g, developing solvent chlorobenzene).
最後にキシレンを用いた再沈殿法により精製を行うことで、目的物である前記式IRDI−1−1で表わされる化合物を得た(収量0.5g、収率24%)。 Finally, purification was carried out by a reprecipitation method using xylene to obtain a target compound represented by the above formula IRDI-1-1 (yield 0.5 g, yield 24%).
1−2.ホスト材料の製造
前記式IRH1−5等で表されるテトラセン系ホスト材料および前記式IRH2−30等で表されるアントラセン系ホスト材料は、それぞれ、特開2013−177327および特開2013−179123に記載の製造方法を参照して合成した。
1-2. Production of Host Material The tetracene-based host material represented by the formula IRH1-5 and the like and the anthracene-based host material represented by the formula IRH2-30 and the like are described in JP2013-177327 and JP2013-179123, respectively. Was synthesized with reference to the production method of.
2.発光素子の製造
(実施例1)
<1> まず、平均厚さ0.5mmの透明なガラス基板を用意した。次に、この基板上に、スパッタ法により、平均厚さ100nmのITO電極(陽極)を形成した。
2. Manufacture of light emitting element (Example 1)
<1> First, a transparent glass substrate having an average thickness of 0.5 mm was prepared. Next, an ITO electrode (anode) having an average thickness of 100 nm was formed on this substrate by a sputtering method.
そして、基板をアセトン、2−プロパノールの順に浸漬し、超音波洗浄した後、酸素プラズマ処理およびアルゴンプラズマ処理を施した。これらのプラズマ処理は、それぞれ、プラズマパワー100W、ガス流量20sccm、処理時間5secで行った。 Then, the substrate was immersed in acetone and 2-propanol in this order, ultrasonically cleaned, and then subjected to oxygen plasma treatment and argon plasma treatment. These plasma treatments were carried out at a plasma power of 100 W, a gas flow rate of 20 sccm, and a treatment time of 5 sec, respectively.
<2> 次に、ITO電極上に、前記式HIL−1で表わされる化合物を真空蒸着法により蒸着させ、平均厚さ70nmの正孔注入層(HIL)を形成した。 <2> Next, the compound represented by the formula HIL-1 was vapor-deposited on the ITO electrode by a vacuum vapor deposition method to form a hole injection layer (HIL) having an average thickness of 70 nm.
<3> 次に、正孔注入層上に、発光層の構成材料を真空蒸着法により蒸着させ、平均厚さ25nmの発光層を形成した。発光層の構成材料としては、発光材料(ゲスト材料)として前記式IRDI−1−1で表わされる化合物(ベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物)を用い、ホスト材料として前記式IRH1−5で表わされる化合物(テトラセン系材料)を用いた。また、発光層中の発光材料(ドーパント)の含有量(ドープ濃度)を2.0wt%とした。 <3> Next, the constituent material of the light emitting layer was vapor-deposited on the hole injection layer by a vacuum vapor deposition method to form a light emitting layer having an average thickness of 25 nm. As a constituent material of the light emitting layer, a compound represented by the above formula IRDI-1-1 (benzo-bis-thiadiazole-based compound) is used as a light emitting material (guest material), and a compound represented by the above formula IRH1-5 is used as a host material. (Tetracene-based material) was used. Further, the content (doping concentration) of the light emitting material (dopant) in the light emitting layer was set to 2.0 wt%.
<4> 次に、発光層上に、前記ETL1−3で表される化合物(アザインドリジン系化合物)を真空蒸着法により成膜し、平均厚さ95nmの電子輸送層(第1電子輸送層;ETL1)を形成した。 <4> Next, a compound represented by ETL1-3 (azaindolidin-based compound) is formed on the light emitting layer by a vacuum vapor deposition method, and an electron transport layer having an average thickness of 95 nm (first electron transport layer) is formed. ETL1) was formed.
<5> 次に、電子輸送層上に、フッ化リチウム(LiF)を真空蒸着法により成膜し、平均厚さ1nmの電子注入層を形成した。 <5> Next, lithium fluoride (LiF) was formed on the electron transport layer by a vacuum vapor deposition method to form an electron injection layer having an average thickness of 1 nm.
<6> 次に、電子注入層上に、Alを真空蒸着法により成膜した。これにより、Alで構成される平均厚さ100nmの陰極を形成した。 <6> Next, Al was formed on the electron injection layer by a vacuum vapor deposition method. As a result, a cathode having an average thickness of 100 nm composed of Al was formed.
<7> 次に、形成した各層を覆うように、ガラス製の保護カバー(封止部材)を被せ、エポキシ樹脂により固定、封止した。
以上の工程により、発光素子を製造した。
<7> Next, a protective cover (sealing member) made of glass was covered so as to cover each of the formed layers, and the mixture was fixed and sealed with an epoxy resin.
A light emitting element was manufactured by the above steps.
(実施例2)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDI−1−8で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Example 2)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 described above, except that the compound represented by the formula IRDI-1-8 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例3)
前記工程<2>で形成する正孔注入層の平均厚さを110nmとし、前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDI−1−13で表わされる化合物を用い、さらに、前記工程<4>で形成する電子輸送層の平均厚さを115nmとしたこと以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Example 3)
The average thickness of the hole injection layer formed in the step <2> is 110 nm, and the compound represented by the formula IRDI-1-13 is used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>. A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 described above, except that the average thickness of the electron transport layer formed in step <4> was 115 nm.
(実施例4)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDI−1−55で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例3と同様にして発光素子を製造した。
(Example 4)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 3 described above, except that the compound represented by the formula IRDI-1-55 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例5)
前記工程<2>で形成する正孔注入層の平均厚さを30nmとし、前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDI−2−1で表わされる化合物を用い、さらに、前記工程<4>で形成する電子輸送層の平均厚さを75nmとしたこと以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Example 5)
The average thickness of the hole injection layer formed in the step <2> is 30 nm, and the compound represented by the formula IRDI-2-1 is used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>. A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 described above, except that the average thickness of the electron transport layer formed in step <4> was 75 nm.
(実施例6)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDI−2−8で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例5と同様にして発光素子を製造した。
(Example 6)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 5 described above, except that the compound represented by the formula IRDI-2-8 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例7)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDIII−1−1で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Example 7)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 described above, except that the compound represented by the formula IRDIII-1-1 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例8)
前記工程<2>で形成する正孔注入層の平均厚さを90nmとし、前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDIII−1−4で表わされる化合物を用い、さらに、前記工程<4>で形成する電子輸送層の平均厚さを105nmとしたこと以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Example 8)
The average thickness of the hole injection layer formed in the step <2> is 90 nm, and the compound represented by the formula IRDIII-1--4 is used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>. A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 described above, except that the average thickness of the electron transport layer formed in step <4> was 105 nm.
(実施例9)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDIII−1−12で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例3と同様にして発光素子を製造した。
(Example 9)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 3 described above, except that the compound represented by the formula IRDIII-1-12 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例10)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDIII−2−1で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例5と同様にして発光素子を製造した。
(Example 10)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 5 described above, except that the compound represented by the formula IRDIII-2-1 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例11)
前記工程<2>で形成する正孔注入層の平均厚さを50nmとし、前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDIII−2−12で表わされる化合物を用い、さらに、前記工程<4>で形成する電子輸送層の平均厚さを85nmとしたこと以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Example 11)
The average thickness of the hole injection layer formed in the step <2> is 50 nm, and the compound represented by the formula IRDIII-2-12 is used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>. A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 described above, except that the average thickness of the electron transport layer formed in step <4> was 85 nm.
(実施例12)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDIII−3−1で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Example 12)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 described above, except that the compound represented by the formula IRDIII-3-1 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例13)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDIII−3−12で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例3と同様にして発光素子を製造した。
(Example 13)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 3 described above, except that the compound represented by the formula IRDIII-3-12 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例14)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDIII−4−1で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Example 14)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 described above, except that the compound represented by the formula IRDIII-4-1 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例15)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDIII−4−12で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例8と同様にして発光素子を製造した。
(Example 15)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 8 described above, except that the compound represented by the formula IRDIII-4-12 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例16)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDIII−5−1で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Example 16)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 described above, except that the compound represented by the formula IRDIII-5-1 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例17)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDIII−5−12で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例8と同様にして発光素子を製造した。
(Example 17)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 8 described above, except that the compound represented by the formula IRDIII-5-12 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例18)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDIV−2−8で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Example 18)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 described above, except that the compound represented by the formula IRDIV-2-8 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例19)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDIV−4−1で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例1と同様にし、発光素子を製造した。
(Example 19)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 described above, except that the compound represented by the formula IRDIV-4-1 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例20)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDIV−4−4で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例8と同様にして発光素子を製造した。
(Example 20)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 8 described above, except that the compound represented by the formula IRDIV-4-4 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例21)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDIV−8−1で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Example 21)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 described above, except that the compound represented by the formula IRDIV-8-1 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例22)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDIV−8−12で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例8と同様にして発光素子を製造した。
(Example 22)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 8 described above, except that the compound represented by the formula IRDIV-8-12 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例23)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDIV−8−15で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例8と同様にして発光素子を製造した。
(Example 23)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 8 described above, except that the compound represented by the formula IRDIV-8-15 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例24)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDV−1−1で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例8と同様にして発光素子を製造した。
(Example 24)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 8 described above, except that the compound represented by the above formula IRDV-1-1 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例25)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDV−1−12で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例3と同様にして発光素子を製造した。
(Example 25)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 3 described above, except that the compound represented by the formula IRDV-1-12 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例26)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDV−1−15で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例3と同様にして発光素子を製造した。
(Example 26)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 3 described above, except that the compound represented by the formula IRDV-1-15 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例27)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDV−2−12で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例3と同様にして発光素子を製造した。
(Example 27)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 3 described above, except that the compound represented by the formula IRDV-2-12 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例28)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDV−3−1で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例8と同様にして発光素子を製造した。
(Example 28)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 8 described above, except that the compound represented by the formula IRDV-3-1 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例29)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDV−3−12で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例3と同様にして発光素子を製造した。
(Example 29)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 3 described above, except that the compound represented by the formula IRDV-3-12 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例30)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDV−3−15で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例3と同様にして発光素子を製造した。
(Example 30)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 3 described above, except that the compound represented by the formula IRDV-3-15 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例31)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDV−4−1で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Example 31)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 described above, except that the compound represented by the formula IRDV-4-1 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例32)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDV−4−12で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例8と同様にして発光素子を製造した。
(Example 32)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 8 described above, except that the compound represented by the formula IRDV-4-12 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例33)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDV−5−1で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Example 33)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 described above, except that the compound represented by the formula IRDV-5-1 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例34)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDV−5−12で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例8と同様にして発光素子を製造した。
(Example 34)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 8 described above, except that the compound represented by the formula IRDV-5-12 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例35)
前記工程<3>で用いるホスト材料として前記式IRH2−30で表わされる化合物(アントラセン系材料)を用い、前記工程<4>で用いるアザインドリジン系化合物として前記式ETL1−10で表わされる化合物を用いたこと以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Example 35)
A compound represented by the formula IRH2-30 (anthracene-based material) is used as the host material used in the step <3>, and a compound represented by the formula ETL1-10 is used as the azaindolizine-based compound used in the step <4>. A light emitting element was manufactured in the same manner as in Example 1 described above except that it was used.
(実施例36)
前記工程<3>で用いるホスト材料として前記式IRH2−30で表わされる化合物(アントラセン系材料)を用い、前記工程<4>で用いるアザインドリジン系化合物として前記式ETL1−10で表わされる化合物を用いたこと以外は、前述した実施例3と同様にして発光素子を製造した。
(Example 36)
A compound represented by the formula IRH2-30 (anthracene-based material) is used as the host material used in the step <3>, and a compound represented by the formula ETL1-10 is used as the azaindolizine-based compound used in the step <4>. A light emitting element was manufactured in the same manner as in Example 3 described above except that it was used.
(実施例37)
前記工程<3>で用いるホスト材料として前記式IRH2−30で表わされる化合物(アントラセン系材料)を用い、前記工程<4>で用いるアザインドリジン系化合物として前記式ETL1−10で表わされる化合物を用いたこと以外は、前述した実施例13と同様にして発光素子を製造した。
(Example 37)
A compound represented by the formula IRH2-30 (anthracene-based material) is used as the host material used in the step <3>, and a compound represented by the formula ETL1-10 is used as the azaindolizine-based compound used in the step <4>. A light emitting element was manufactured in the same manner as in Example 13 described above except that it was used.
(実施例38)
前記工程<3>で用いるホスト材料として前記式IRH2−30で表わされる化合物(アントラセン系材料)を用い、前記工程<4>で用いるアザインドリジン系化合物として前記式ETL1−10で表わされる化合物を用いたこと以外は、前述した実施例24と同様にして発光素子を製造した。
(Example 38)
A compound represented by the formula IRH2-30 (anthracene-based material) is used as the host material used in the step <3>, and a compound represented by the formula ETL1-10 is used as the azaindolizine-based compound used in the step <4>. A light emitting element was manufactured in the same manner as in Example 24 described above except that it was used.
(実施例39)
前記工程<3>で用いるホスト材料として前記式IRH2−30で表わされる化合物(アントラセン系材料)を用い、前記工程<4>で用いるアザインドリジン系化合物として前記式ETL1−10で表わされる化合物を用いたこと以外は、前述した実施例25と同様にして発光素子を製造した。
(Example 39)
A compound represented by the formula IRH2-30 (anthracene-based material) is used as the host material used in the step <3>, and a compound represented by the formula ETL1-10 is used as the azaindolizine-based compound used in the step <4>. A light emitting element was manufactured in the same manner as in Example 25 described above except that it was used.
(実施例40)
前記工程<3>で用いるホスト材料として前記式IRH2−30で表わされる化合物(アントラセン系材料)を用い、前記工程<4>で用いるアザインドリジン系化合物として前記式ETL1−10で表わされる化合物を用いたこと以外は、前述した実施例29と同様にして発光素子を製造した。
(Example 40)
A compound represented by the formula IRH2-30 (anthracene-based material) is used as the host material used in the step <3>, and a compound represented by the formula ETL1-10 is used as the azaindolizine-based compound used in the step <4>. A light emitting element was manufactured in the same manner as in Example 29 described above except that it was used.
(実施例41)
前記工程<3>で用いるホスト材料として前記式IRH1−2で表わされる化合物(テトラセン系材料)を用い、前記工程<4>において、さらに、発光層と電子輸送層(第1電子輸送層)との間に第2電子輸送層(ETL2)を設けた以外は、前述した実施例3と同様にして発光素子を製造した。
(Example 41)
A compound (tetracene-based material) represented by the formula IRH1-2 is used as the host material used in the step <3>, and in the step <4>, a light emitting layer and an electron transporting layer (first electron transporting layer) are further added. A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 3 described above, except that a second electron transport layer (ETL2) was provided between the two.
なお、第2電子輸送層の形成は、第1電子輸送層上に、前記IRH2−30で表される化合物(アントラセン系化合物)を真空蒸着法により成膜することにより行った。また、第1電子輸送層の厚さを15nm、第2電子輸送層の厚さを100nmとした。 The second electron transport layer was formed by forming a film of the compound represented by IRH2-30 (anthracene-based compound) on the first electron transport layer by a vacuum vapor deposition method. The thickness of the first electron transport layer was 15 nm, and the thickness of the second electron transport layer was 100 nm.
(実施例42)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDIII−3−12で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例41と同様にして発光素子を製造した。
(Example 42)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 41 described above, except that the compound represented by the formula IRDIII-3-12 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例43)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDV−1−12で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例41と同様にして発光素子を製造した。
(Example 43)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 41 described above, except that the compound represented by the formula IRDV-1-12 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例44)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として前記式IRDV−3−12で表わされる化合物を用いた以外は、前述した実施例41と同様にして発光素子を製造した。
(Example 44)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 41 described above, except that the compound represented by the formula IRDV-3-12 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(実施例45)
前記工程<3>で用いるホスト材料としてAlq3を用いたこと以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Example 45)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 described above, except that Alq 3 was used as the host material used in the step <3>.
(実施例46)
前記工程<3>で用いるホスト材料としてAlq3を用いたこと以外は、前述した実施例3と同様にして発光素子を製造した。
(Example 46)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 3 described above, except that Alq 3 was used as the host material used in the step <3>.
(実施例47)
前記工程<3>で用いるホスト材料としてAlq3を用いたこと以外は、前述した実施例13と同様にして発光素子を製造した。
(Example 47)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 13 described above, except that Alq 3 was used as the host material used in the step <3>.
(実施例48)
前記工程<3>で用いるホスト材料としてAlq3を用いたこと以外は、前述した実施例24と同様にして発光素子を製造した。
(Example 48)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 24 described above, except that Alq 3 was used as the host material used in the step <3>.
(実施例49)
前記工程<3>で用いるホスト材料としてAlq3を用いたこと以外は、前述した実施例25と同様にして発光素子を製造した。
(Example 49)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 25 described above, except that Alq 3 was used as the host material used in the step <3>.
(実施例50)
前記工程<3>で用いるホスト材料としてAlq3を用いたこと以外は、前述した実施例29と同様にして発光素子を製造した。
(Example 50)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 29 described above, except that Alq 3 was used as the host material used in the step <3>.
(比較例1)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として下記式NIR−C1で表わされる化合物を用い、ホスト材料としてAlq3を用いたこと以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Comparative Example 1)
A light emitting device is manufactured in the same manner as in Example 1 described above, except that the compound represented by the following formula NIR-C1 is used as the light emitting material (dopant) used in the step <3> and Alq 3 is used as the host material. did.
(比較例2)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として下記式NIR−C2で表わされる化合物を用い、ホスト材料としてAlq3を用いたこと以外は、前述した実施例3と同様にして発光素子を製造した。
(Comparative Example 2)
A light emitting device is manufactured in the same manner as in Example 3 described above, except that the compound represented by the following formula NIR-C2 is used as the light emitting material (dopant) used in the step <3> and Alq 3 is used as the host material. did.
(比較例3)
前記工程<3>で用いる発光材料(ドーパント)として下記式NIR−C1で表わされる化合物を用いたこと以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Comparative Example 3)
A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 described above, except that the compound represented by the following formula NIR-C1 was used as the light emitting material (dopant) used in the step <3>.
(比較例4)
前記工程<3>で用いるホスト材料として前記式IRH2−30で表わされる化合物(アントラセン系材料)を、発光材料(ドーパント)として下記式NIR−C3で表わされる化合物を用い、前記工程<4>において、さらに、発光層と電子輸送層(第1電子輸送層)との間に第2電子輸送層(ETL2)を設けた以外は、前述した実施例1と同様にして発光素子を製造した。
(Comparative Example 4)
In the step <4>, a compound represented by the formula IRH2-30 (anthracene-based material) is used as the host material used in the step <3>, and a compound represented by the following formula NIR-C3 is used as the light emitting material (dopant). Further, a light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 described above, except that the second electron transport layer (ETL2) was provided between the light emitting layer and the electron transport layer (first electron transport layer).
なお、第2電子輸送層の形成は、第1電子輸送層上に、前記IRH2−30で表される化合物(アントラセン系化合物)を真空蒸着法により成膜することにより行った。また、第1電子輸送層の厚さを15nm、第2電子輸送層の厚さを80nmとした。 The second electron transport layer was formed by forming a film of the compound represented by IRH2-30 (anthracene-based compound) on the first electron transport layer by a vacuum vapor deposition method. The thickness of the first electron transport layer was 15 nm, and the thickness of the second electron transport layer was 80 nm.
(参考例)
非特許文献1(Adv. Mater. 2009, 21, 111-116)を参考にして、以下に示す発光素子を製造した。
(Reference example)
The following light emitting device was manufactured with reference to Non-Patent Document 1 (Adv. Mater. 2009, 21, 111-116).
<1’> まず、前記工程<1>と同様にして、ガラス基板上に、スパッタ法により、平均厚さ100nmのITO電極(陽極)を形成した。 <1'> First, in the same manner as in the above step <1>, an ITO electrode (anode) having an average thickness of 100 nm was formed on the glass substrate by a sputtering method.
<2’> 次に、ITO電極上に、MoO3を真空蒸着法により蒸着させ、平均厚さ8nmの正孔注入層(HIL)を形成した。 <2'> Next, MoO 3 was vapor-deposited on the ITO electrode by a vacuum vapor deposition method to form a hole injection layer (HIL) having an average thickness of 8 nm.
<3’> 次に、正孔注入層上に、N,N-di(naphthalene-1-yl)-N,N-diphenyl-benzidene(NPB)を真空蒸着法により蒸着させ、平均厚さ40nmの発光層を形成した。 <3'> Next, N, N-di (naphthalene-1-yl) -N, N-diphenyl-benzidene (NPB) was vapor-deposited on the hole injection layer by a vacuum vapor deposition method to have an average thickness of 40 nm. A light emitting layer was formed.
<4’> 次に、発光層上に、下記neatで表される化合物(ベンゾ−ビス−チアジアゾール系化合物)を真空蒸着法により成膜し、平均厚さ20nmの第2電子輸送層(ETL2)を形成した。なお、形成される発光素子において、この第2電子輸送層が近赤外域で発光する。 <4'> Next, a compound represented by the following neat (benzo-bis-thiadiazole-based compound) was formed on the light emitting layer by a vacuum vapor deposition method, and a second electron transport layer (ETL2) having an average thickness of 20 nm was formed. Was formed. In the formed light emitting device, the second electron transport layer emits light in the near infrared region.
<5’> 次に、第2電子輸送層上に、Bathocuproine(BCP)を真空蒸着法により成膜し、平均厚さ20nmの第1電子輸送層(ETL1)を形成した。 <5'> Next, Bathocuproine (BCP) was formed on the second electron transport layer by a vacuum vapor deposition method to form a first electron transport layer (ETL1) having an average thickness of 20 nm.
<6’> 次に、電子輸送層上に、Alq3を真空蒸着法により成膜し、平均厚さ30nmの電子注入層を形成した。 <6'> Next, Alq 3 was formed on the electron transport layer by a vacuum vapor deposition method to form an electron injection layer having an average thickness of 30 nm.
<7’> 次に、電子注入層上に、Alを真空蒸着法により成膜した。これにより、Alで構成される平均厚さ100nmの陰極を形成した。 <7'> Next, Al was formed on the electron injection layer by a vacuum vapor deposition method. As a result, a cathode having an average thickness of 100 nm composed of Al was formed.
<8’> 次に、形成した各層を覆うように、ガラス製の保護カバー(封止部材)を被せ、エポキシ樹脂により固定、封止した。
以上の工程により、発光素子を製造した。
<8'> Next, a protective cover (sealing member) made of glass was covered so as to cover each of the formed layers, and the mixture was fixed and sealed with an epoxy resin.
A light emitting element was manufactured by the above steps.
3.評価
各実施例、各比較例および参考例について、一定電流電源(株式会社東陽テクニカ製 KEITHLEY2400)を用いて、発光素子に100mA/cm2の定電流を流し、そのときの発光ピーク波長を高速分光放射計(相馬光学製 S-9000)を用いて測定した。また、光パワー測定機(株式会社エーディーシー製 光パワーメーター 8230)または薄型フォトダイオードパワーセンサ(ソーラボ製 S132C)を用いて、680nm〜1180nmの波長域における外部量子効率(発光効率)EQE(%)も測定した。
3. 3. Evaluation For each Example, each Comparative Example, and Reference Example, a constant current of 100 mA / cm 2 was passed through the light emitting element using a constant current power source (KEITHLEY 2400 manufactured by Toyo Technica Co., Ltd.), and the emission peak wavelength at that time was separated by high speed spectroscopy. The measurement was performed using a radiometer (S-9000 manufactured by Soma Optical Co., Ltd.). In addition, using an optical power measuring machine (optical power meter 8230 manufactured by ADC Co., Ltd.) or a thin photodiode power sensor (S132C manufactured by Sorabo), the external quantum efficiency (luminous efficiency) EQE (%) in the wavelength range of 680 nm to 1180 nm. Was also measured.
さらに、発光素子に100mA/cm2の定電流を流し、輝度が初期の輝度の50%となる時間(LT50)も測定した。 Further, a constant current of 100 mA / cm 2 was passed through the light emitting element, and the time (LT50) at which the brightness became 50% of the initial brightness was also measured.
これらの測定結果を表1に示す。
また、各実施例、各比較例および参考例におけるピーク波長と発光効率(EQE)との関係を図5に示す。
The results of these measurements are shown in Table 1.
Further, FIG. 5 shows the relationship between the peak wavelength and the luminous efficiency (EQE) in each Example, each Comparative Example, and Reference Example.
表1および図5から明らかなように、各実施例の発光素子は、700nm以上1150nm以下の幅広い波長領域を有する近赤外域で発光するととともに、長波長領域になるほど発光効率(EQE)が小さくなる傾向をしめすものの、比較例の発光素子に比し、実施例45〜実施例50を除き、発光効率が大幅に改善され、発光効率と寿命とのバランスに優れる。 As is clear from Table 1 and FIG. 5, the light emitting element of each embodiment emits light in the near infrared region having a wide wavelength region of 700 nm or more and 1150 nm or less, and the luminous efficiency (EQE) becomes smaller as the wavelength region becomes longer. Although there is a tendency, the luminous efficiency is significantly improved except for Examples 45 to 50 as compared with the light emitting element of the comparative example, and the balance between the luminous efficiency and the life is excellent.
また、実施例35〜実施例40の発光素子と実施例45〜実施例50の発光素子とを比較すると、実施例35〜実施例40の発光素子は、実施例45〜実施例50の発光素子に比べて、外部量子効率(発光効率)が高く、濃度消光性を低減することができる。 Further, comparing the light emitting elements of Examples 35 to 40 with the light emitting elements of Examples 45 to 50, the light emitting elements of Examples 35 to 40 are the light emitting elements of Examples 45 to 50. The external quantum efficiency (luminous efficiency) is higher than that of the above, and the concentration quenching property can be reduced.
1…発光素子、1A…発光素子、2…基板、3…陽極、4…正孔注入層、5…発光層、6…電子輸送層、6a…第2電子輸送層、6b…第1電子輸送層、7…電子注入層、8…陰極、9…封止部材、13…陰極、14…積層体、20…封止基板、21…基板、22…平坦化層、24…駆動用トランジスター、27…導電部、31…隔壁、32…反射膜、33…腐食防止膜、34…陰極カバー、35…エポキシ層、100…ディスプレイ装置、100B…光源、241…半導体層、242…ゲート絶縁層、243…ゲート電極、244…ソース電極、245…ドレイン電極、1000…認証装置、1001…カバーガラス、1002…マイクロレンズアレイ、1003…受光素子群、1004…受光素子駆動部、1005…制御部、1006…発光素子駆動部、1100…パーソナルコンピューター、1102…キーボード、1104…本体部、1106…表示ユニット、F…生体 1 ... light emitting element, 1A ... light emitting element, 2 ... substrate, 3 ... anode, 4 ... hole injection layer, 5 ... light emitting layer, 6 ... electron transport layer, 6a ... second electron transport layer, 6b ... first electron transport Layer, 7 ... electron injection layer, 8 ... cathode, 9 ... sealing member, 13 ... cathode, 14 ... laminate, 20 ... sealing substrate, 21 ... substrate, 22 ... flattening layer, 24 ... driving transistor, 27 ... Conductive part, 31 ... partition wall, 32 ... reflective film, 33 ... corrosion prevention film, 34 ... cathode cover, 35 ... epoxy layer, 100 ... display device, 100B ... light source, 241 ... semiconductor layer, 242 ... gate insulating layer, 243 ... Gate electrode, 244 ... Source electrode, 245 ... Drain electrode, 1000 ... Authentication device, 1001 ... Cover glass, 1002 ... Microlens array, 1003 ... Light receiving element group, 1004 ... Light receiving element drive unit, 1005 ... Control unit, 1006 ... Light emitting element drive unit, 1100 ... personal computer, 1102 ... keyboard, 1104 ... main body unit, 1106 ... display unit, F ... living body
Claims (13)
陰極と、
前記陽極と前記陰極との間に設けられ、前記陽極と前記陰極との間に通電することにより発光する発光層と、を有し、
前記発光層は、発光材料として下記一般式IRDで表わされる化合物を含んで構成されることを特徴とする発光素子。
With the cathode
It has a light emitting layer provided between the anode and the cathode and emitting light when energized between the anode and the cathode.
The light emitting layer is a light emitting device comprising a compound represented by the following general formula IRD as a light emitting material.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017004631A JP6885066B2 (en) | 2017-01-13 | 2017-01-13 | Compounds, compounds for light emitting elements, light emitting elements, light emitting devices, light sources, authentication devices and electronic devices |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017004631A JP6885066B2 (en) | 2017-01-13 | 2017-01-13 | Compounds, compounds for light emitting elements, light emitting elements, light emitting devices, light sources, authentication devices and electronic devices |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018111676A JP2018111676A (en) | 2018-07-19 |
JP6885066B2 true JP6885066B2 (en) | 2021-06-09 |
Family
ID=62910880
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017004631A Active JP6885066B2 (en) | 2017-01-13 | 2017-01-13 | Compounds, compounds for light emitting elements, light emitting elements, light emitting devices, light sources, authentication devices and electronic devices |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6885066B2 (en) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016024567A1 (en) * | 2014-08-13 | 2016-02-18 | 宇部興産株式会社 | Benzobis(thiadiazole) derivative, ink containing same, and organic electronic device using same |
JP6372317B2 (en) * | 2014-11-14 | 2018-08-15 | 宇部興産株式会社 | Thermoelectric conversion material containing benzobis (thiadiazole) derivative and thermoelectric conversion element using the same |
JP2017025047A (en) * | 2015-07-28 | 2017-02-02 | 宇部興産株式会社 | Benzobis(thiadiazole)derivative, ink comprising the same, and organic electronics device using the same |
-
2017
- 2017-01-13 JP JP2017004631A patent/JP6885066B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018111676A (en) | 2018-07-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7043733B2 (en) | Light emitting elements, light emitting devices, light sources, authentication devices and electronic devices | |
TWI586669B (en) | Thiadiazole, light-emitting element, light-emitting apparatus, authentication apparatus, and electronic device | |
JP6613595B2 (en) | LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, AUTHENTICATION DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE | |
JP6693053B2 (en) | Light emitting element, light emitting device, authentication device, and electronic device | |
KR20120116360A (en) | Thiadiazole-based compound, compound for light emitting device, light emitting device, authentication device and electronic apparatus | |
JP2012224567A (en) | Thiadiazole-based compound, compound for light-emitting element, light-emitting element, light-emitting device, authentication device and electronic device | |
JP5682429B2 (en) | Thiadiazole compounds, compounds for light emitting devices, light emitting devices, light emitting devices, authentication devices, and electronic devices | |
JP6885065B2 (en) | Compounds, compounds for light emitting elements, light emitting elements, light emitting devices, light sources, authentication devices and electronic devices | |
JP6331779B2 (en) | LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, AUTHENTICATION DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE | |
JP6809240B2 (en) | Compounds, compounds for light emitting elements, light emitting elements, light emitting devices, light sources, authentication devices and electronic devices | |
JP2018111675A (en) | Compound, compound for light emitting element, light emitting element, light emitting device, light source, authentication device and electronic apparatus | |
JP5879804B2 (en) | LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, AUTHENTICATION DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE | |
JP6142498B2 (en) | Light emitting element, light emitting device, authentication device, and electronic device | |
JP6145989B2 (en) | Thiadiazole compounds, compounds for light emitting devices, light emitting devices, light emitting devices, authentication devices, and electronic devices | |
JP5983289B2 (en) | Thiadiazole compounds, compounds for light emitting devices, light emitting devices, light emitting devices, authentication devices, and electronic devices | |
JP2018111674A (en) | Compound, light emitter compound, light emitter, light-emitting device, light source, authentication device, and electronic apparatus | |
JP6206477B2 (en) | LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE | |
JP6171304B2 (en) | Thiadiazole compounds, compounds for light emitting devices, light emitting devices, light emitting devices, authentication devices, and electronic devices | |
JP2012222248A (en) | Light-emitting element, light-emitting device, authentication device, and electronic appliance | |
JP6885066B2 (en) | Compounds, compounds for light emitting elements, light emitting elements, light emitting devices, light sources, authentication devices and electronic devices | |
JP5793925B2 (en) | LIGHT EMITTING ELEMENT, LIGHT EMITTING DEVICE, AUTHENTICATION DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE | |
JP6809241B2 (en) | Compounds, compounds for light emitting elements, light emitting elements, light emitting devices, light sources, authentication devices and electronic devices | |
JP2019147752A (en) | Compound, compound for light-emitting element, light-emitting element, light-emitting device, light source, authentication device, and electronic device | |
JP2019147751A (en) | Compound, light emitter compound, light emitter, light-emitting device, light source, authentication device, and electronic apparatus | |
JP2018111679A (en) | Compound, light emitter compound, light emitter, light-emitting device, light source, authentication device, and electronic apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191108 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20201008 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20201110 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210106 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210413 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210426 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6885066 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |