JP6879099B2 - 水処理システムの制御装置 - Google Patents
水処理システムの制御装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6879099B2 JP6879099B2 JP2017141872A JP2017141872A JP6879099B2 JP 6879099 B2 JP6879099 B2 JP 6879099B2 JP 2017141872 A JP2017141872 A JP 2017141872A JP 2017141872 A JP2017141872 A JP 2017141872A JP 6879099 B2 JP6879099 B2 JP 6879099B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- injection device
- drug
- water
- drug injection
- abnormality
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 130
- 239000003814 drug Substances 0.000 claims description 102
- 229940079593 drug Drugs 0.000 claims description 102
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 92
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 92
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 86
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 86
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 86
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 claims description 48
- 239000008400 supply water Substances 0.000 claims description 48
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 33
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 29
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 20
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 19
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 14
- 230000008569 process Effects 0.000 description 10
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 8
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 8
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 6
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 238000001802 infusion Methods 0.000 description 3
- 230000010349 pulsation Effects 0.000 description 3
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011440 grout Substances 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000000645 desinfectant Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 231100000219 mutagenic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003505 mutagenic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004045 organic chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Description
最初に、図1及び図2を参照することにより、本発明に係る制御装置を備える水処理システムの全体構成について説明する。
より具体的には、異常判定部102が計測した回数が、上記の第1の設定回数を超えた場合には、薬注装置5が供給水W11に対して薬剤を注入する回数は所定回数のまま、注入する薬剤の量を増加させるよう、薬注装置制御部103は薬注装置5を制御する。あるいは、薬注装置5が供給水W11に対して所定量の薬剤を注入する回数を増加させるよう、薬注装置制御部103は薬注装置5を制御してもよい。
一方で、異常判定部102が計測した回数が、上記の第2の設定回数を下回る場合には、薬注装置5が供給水W11に対して薬剤を注入する回数は所定回数のまま、注入する薬剤の量を減少させるよう、薬注装置制御部103は薬注装置5を制御する。あるいは、薬注装置5が供給水W11に対して所定量の薬剤を注入する回数を減少させるよう、薬注装置制御部103は薬注装置5を制御してもよい。
上述した制御装置100によれば、例えば、以下のような効果が奏される。
本発明の制御装置100は、塩素濃度計測装置6が計測する塩素濃度が第1の閾値をスパイク状に超えた回数を計測する回数計測部101と、所定時間内に回数計測部101が計測した回数が、第1の設定回数を超えた場合に、水処理システム1の異常を判定する異常判定部102とを備える。
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は、上述した実施形態に限定されることなく、種々の形態で実施することができる。
2 水源
5 薬注装置
6 塩素濃度計測装置
8 加圧ポンプ
9 インバータ
11 ROモジュール
12 定流量弁
17 排水弁
20 水処理システム
21 SBS薬注装置
22 残留塩素計
23 RO装置
25 貯留タンク
100 制御装置
101 回数計測部
102 異常判定部
103 薬注装置制御部
104 警報部
Claims (7)
- ろ過膜装置と、前記ろ過膜装置に供給水を供給する給水ラインと、前記給水ラインを流通する供給水に対し塩素を除去する薬剤を注入する薬注装置と、前記薬注装置と前記ろ過膜装置との間で、前記供給水の塩素濃度を計測する塩素濃度計測装置とを備える水処理システムの制御装置であって、
前記塩素濃度計測装置が計測する塩素濃度が第1の閾値をスパイク状に超えた回数を計測する回数計測部と、
所定時間内に前記回数計測部が計測した前記回数が、第1の設定回数を超えた場合に、前記水処理システムの異常を判定する異常判定部と、
を備える制御装置。 - 前記薬注装置を制御する薬注装置制御部を更に備え、
前記回数が前記第1の設定回数を超えたために、前記異常判定部が異常を判定した場合に、前記薬注装置制御部は、前記薬注装置が注入する薬剤の量を増加するよう、前記薬注装置を制御する、請求項1に記載の制御装置。 - 前記薬注装置を制御する薬注装置制御部を更に備え、
前記回数が前記第1の設定回数を超えたために、前記異常判定部が異常を判定した場合に、前記薬注装置制御部は、所定時間内に前記薬注装置が所定量の薬剤を注入する回数を増加するよう、前記薬注装置を制御する、請求項1に記載の制御装置。 - 前記異常判定部は、前記回数が、前記第1の設定回数よりも少ない第2の設定回数未満となった場合に、異常を判定し、
前記回数が前記第2の設定回数よりも低いために、前記異常判定部が異常を判定した場合に、前記薬注装置制御部は、前記薬注装置が注入する薬剤の量を減少させるよう、前記薬注装置を制御する、請求項2又は3に記載の制御装置。 - 前記異常判定部は、前記回数が、前記第1の設定回数よりも少ない第2の設定回数未満となった場合に、異常を判定し、
前記回数が前記第2の設定回数よりも低いために、前記異常判定部が異常を判定した場合に、前記薬注装置制御部は、所定時間内に前記薬注装置が所定量の薬剤を注入する回数を減少するよう、前記薬注装置を制御する、請求項2又は3に記載の制御装置。 - 前記回数が、前記第1の設定回数よりも多い第3の設定回数を超えた場合に、アラームを発報する警報部を更に備える、請求項1〜5のいずれか1項に記載の制御装置。
- 前記回数計測部は、前記水処理システムへの供給水の給水開始、及び/又は、前記水処理システムの運転条件変更から所定時間、前記回数の計測を停止する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の制御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017141872A JP6879099B2 (ja) | 2017-07-21 | 2017-07-21 | 水処理システムの制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017141872A JP6879099B2 (ja) | 2017-07-21 | 2017-07-21 | 水処理システムの制御装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019018185A JP2019018185A (ja) | 2019-02-07 |
JP6879099B2 true JP6879099B2 (ja) | 2021-06-02 |
Family
ID=65354579
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017141872A Active JP6879099B2 (ja) | 2017-07-21 | 2017-07-21 | 水処理システムの制御装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6879099B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7211177B2 (ja) * | 2019-03-14 | 2023-01-24 | 栗田工業株式会社 | 純水製造装置の制御方法 |
AU2020432994B2 (en) * | 2020-03-03 | 2024-04-04 | Mitsubishi Electric Corporation | State detection system |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07171565A (ja) * | 1993-12-20 | 1995-07-11 | Toyobo Co Ltd | 海水淡水化の前処理方法 |
JP2002143849A (ja) * | 2000-08-31 | 2002-05-21 | Toray Ind Inc | 造水方法 |
JP2004033800A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-02-05 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 残留塩素濃度の管理方法、超純水の製造方法および注入塩素濃度の管理方法 |
KR101724166B1 (ko) * | 2009-02-16 | 2017-04-18 | 주식회사 쿠라레 | 여과 유닛 및 이것을 구비한 밸러스트수 제조 장치 |
-
2017
- 2017-07-21 JP JP2017141872A patent/JP6879099B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019018185A (ja) | 2019-02-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101980383B1 (ko) | 전기분해식 온-사이트 발전기 | |
JP6737661B2 (ja) | 逆浸透膜処理システム及び逆浸透膜処理システムの運転方法 | |
JP6879099B2 (ja) | 水処理システムの制御装置 | |
US9731059B2 (en) | Sensor and method of sensing for dialysis machine | |
KR20160112229A (ko) | 스마트 염소처리시스템 | |
US20220194819A1 (en) | In-line water hardness sensor and water softener control system | |
JP5998721B2 (ja) | 水処理システム | |
JP6822164B2 (ja) | 水処理システム | |
JP6969123B2 (ja) | 逆浸透膜モジュールの洗浄方法 | |
JP2017039104A (ja) | 電解水生成器 | |
JP6897380B2 (ja) | 水処理システム | |
JP2017064599A (ja) | 逆浸透膜モジュールの洗浄方法 | |
JP2018153789A (ja) | 水処理システム | |
JP6136750B2 (ja) | 水処理システム | |
JP2007245104A (ja) | 膜ろ過プロセスの膜損傷検出方法 | |
US20230335417A1 (en) | Wafer cleaning water supply system and wafer cleaning water supply method | |
JP2020054969A (ja) | 水処理システム | |
JP3507544B2 (ja) | イオン水生成器 | |
JP3225980U (ja) | 殺菌水の製造装置 | |
KR20140050979A (ko) | 역삼투막의 역세척 방법 및 그 시스템 | |
RU2727601C1 (ru) | Способ и система регулирования дозирования химических продуктов | |
EP3974008A1 (en) | Blood purification device | |
JPH02293090A (ja) | 下水処理の消毒液過注入検出装置 | |
KR20230168585A (ko) | 여과 장치, 디스플레이용 유리 기판의 제조 장치, 여과 방법 및 디스플레이용 유리 기판의 제조 방법 | |
JP2023059384A (ja) | 水処理システム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200420 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210324 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210330 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210412 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6879099 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |