JP6862232B2 - 隔膜の製造方法、及びそれを用いた電極ユニットの製造方法 - Google Patents
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前記多孔質膜を前記分散液から取り出す工程と、
前記分散液で被覆された前記多孔質膜を加熱し、前記多孔質膜表面に疎水性のアルミナ水和物層を形成する工程と、
前記アルミナ水和物層が形成された前記多孔質膜を酸性水溶液に浸漬して親水化する工程とを有する隔膜の製造方法が提供される。
図1に、第1の実施形態にかかる隔膜の製造方法を表すフロー図を示す。
BL11では、疎水性の多孔質膜を、含水アルコールで分散された疎水性を有するアルミナ水和物粒子に接触する。アルミナ水和物粒子の含水アルコール分散液は、分散性が良好でゲル化しにくいため、取り扱いが容易である。BL12では、疎水性の多孔質膜表面に、疎水性を有するアルミナ水和物粒子の含水アルコール分散液の塗布層を形成する。BL13では、加熱により、塗布層中のアルミナ水和物粒子が融合して、剥がれにくいアルミナ水和物被覆層となる。BL14では、アルミナ水和物粒子の疎水基が外れて親水性となり、安定化する。第1実施形態にかかるアルミナ水和物が被覆されたフッ素原子を含有する多孔質隔膜が得られる。
アルミナ水和物は、組成式Al2O3・(H2O)x (x=1〜2)で表すことができる。
酸性水溶液が0.1重量%未満であると、疎水性基の脱離に時間がかかる傾向があり、10重量%を超えると、処理時間が飽和する傾向がある。
アルミナ水和物の一次粒子の長径は10nmから100nmにすることができる。 長径が10nmより小さいと多孔質膜への被覆が不十分になる傾向があり、100nmより大きいとイオン透過率が大きすぎる他、剥がれやすい傾向がある。
図2に、実施形態に用いられる電極ユニットの構成の一例を表す概略図を示す。
図4に、第3の実施形態にかかる電極ユニットの製造方法の一例を表す図を示す。
図2に示す隔膜20と同様の隔膜を作製する。
図2で示す電極ユニットと同様の電極ユニットを作製する。
膜厚が60μmで平均孔径が100nmのポリテトラフルオロエチレン多孔質膜を用い、実施例1と同様に表面がシランカップリング剤で疎水化したアルミナ水和物粒子(擬ベーマイト)の含水エタノール分散液に浸漬した後取り出し、大気中で250℃で5分加熱する。
実施例1と同様の多孔質隔膜を水洗後、乾かすことなく15重量%塩化ナトリウム水溶液に浸漬し、大気中に取り出し、そのまま乾燥することにより表面や孔内部に塩化ナトリウムが含有された多孔質隔膜を二つ作製する。
膜厚が100μmで、平均孔径が300nmのポリビニリデンフルオライド多孔質膜を用意する。アルミナ水和物微粒子(擬ベーマイト)(粒径50〜100nm)を用い、30重量%含水のエタノール水溶液で15重量%分散液を調製する。この多孔質膜を得られた分散液に浸漬し、大気中に取り出し、大気中で130℃で5分加熱する。これを2回繰り返す。
膜厚が50μmで、平均孔径が80nmのポリビニリデンフルオライド多孔質膜を用意する。アルミナ水和物微粒子(擬ベーマイト)(粒径10〜30nm)を用い、30重量%含水のエタノール水溶液で10重量%分散液を調製する。大気中に取り出し、大気中で130℃で5分加熱する。これを2回繰り返す。
大気中で沸騰した水中に5分浸漬する代わりに、130℃の水蒸気中に10分間さらすことを除いては実施例1と同様にして多孔質隔膜を作製する。
膜厚が120μmで、平均孔径が330nmのポリビニリデンジフルオライド多孔質膜を用いることを除いては実施例1と同様にして、多孔質隔膜を作製する。
大気中で沸騰した水中に5分浸漬しないことを除いては実施例2と同様にして電極ユニットおよび電解装置を作製する。
大気中で沸騰した水中に浸漬する代わりに60℃の水に浸漬することを除いては実施例2と同様にして電極ユニットおよび電解装置を作製する。
平均孔径が200nmのポリビニリデンフルオライド多孔質膜をアルミナ水和物による処理を行なわず、エタノール浸漬、水洗いすることを除いては実施例2と同様にして電極ユニットおよび電解装置を作製する。初期電解効率は80%と高いが、次亜塩素酸水にナトリウムイオンが1000ppm以上と高濃度に混入する。
大気中130℃で加熱しないことを除いては実施例2と同様にして電極ユニットおよび電解装置を作製する。初期電解効率は83%と高いが、アルミナ水和物が剥離しやすく1000時間の連続運転後で効率は50%と低下する。
塩酸による処理を行わないことを除いては実施例2と同様にして電極ユニットおよび電解装置を作製しようとしても、多孔質隔膜を含水することが困難である。
アルコールを含有しない水分散のアルミナ水和物微粒子を用いるとポリテトラフルオロエチレン多孔質膜が水分散液に濡れにくく多孔質膜の内部はアルミナ水和物コートができない。
塩酸による処理を行わないことを除いては実施例2と同様にして電極ユニットおよび電解装置を作製しようとしても、多孔性隔膜を含水することが困難である。
15重量%塩化ナトリウム水溶液に浸漬しないことを除いては実施例4と同様にして電解装置を作製する。この電解装置を用いて、電圧8Vで予備電解を行い、徐々に電流が増大するが定常になるまで2時間以上かかる。
以下に、本願発明の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
[1]フッ素原子を含有する多孔質膜をアルミナ水和物粒子の含水アルコール分散液に浸漬する工程と、
前記多孔質膜を前記分散液から取り出す工程と、
前記分散液で被覆された前記多孔質膜を加熱し、前記多孔質膜表面にアルミナ水和物層を形成する工程と、
前記アルミナ水和物層が形成された前記多孔質膜を酸性水溶液に浸漬する工程とを有する隔膜の製造方法。
[2]前記アルミナ水和物粒子がベーマイトもしくは擬ベーマイトからなる請求項1に記載の隔膜の製造方法。
[3]前記アルミナ水和物粒子が疎水性基で被覆されている請求項1または2に記載の隔膜の製造方法。
[4]前記多孔質膜を酸性水溶液に浸漬する工程の前に、前記多孔質膜を熱水もしくは水蒸気で加熱する工程をさらに含む請求項1から3のいずれか1項に記載の隔膜の製造方法。
[5]前記酸性水溶液が0.1重量%から10重量%の塩酸である請求項1から4のいずれか1項に記載の隔膜の製造方法。
[6]前記多孔質膜がポリビニリデンジフルオライドもしくはポリテロラフルオロエチレンである請求項1から5のいずれか1項に記載の隔膜の製造方法。
[7]前記多孔質膜を取り出す工程は、引き上げ法である請求項1から6のいずれか1項に記載の隔膜の製造方法。
[8]前記多孔質膜は、100nmから300nmの平均孔径を有する請求項1から7のいずれか1項に記載の隔膜の製造方法。
[9]前記アルミナ水和物粒子の一次粒子の長径は、10nmから100nmである請求項1から7のいずれか1項に記載の隔膜の製造方法。
[10]前記多孔質膜を加熱する工程は、130℃以上の温度で加熱することを含む請求項1から9のいずれか1項に記載の方法。
[11]前記多孔質膜を酸性水溶液に浸漬する工程の後、3重量%以上の濃度を有する塩化ナトリウム水溶液に浸漬し、乾燥させる工程をさらに含む請求項1から10のいずれか1項に記載の隔膜の製造方法。
[12]アルミナ水和物が被覆されたフッ素原子を含有する多孔質膜を親水化し、多孔質隔膜を形成する工程と、
前記多孔質隔膜を、水分を含んだ状態で、複数の貫通孔を有する多孔電極基板と、対向電極との間に配置し、電極ユニットを組み立てる工程を含む電極ユニットの製造方法。
[13]アルミナ水和物が被覆されたフッ素原子を含有する多孔質膜を親水化し、多孔質隔膜を形成する工程は、
フッ素原子を含有する多孔質膜をアルミナ水和物粒子の含水アルコール分散液に浸漬する工程、
前記多孔質膜を前記分散液から取り出す工程、
前記分散液で被覆された前記多孔質膜を加熱し、前記多孔質膜表面にアルミナ水和物層を形成する工程、
前記アルミナ水和物層が形成された多孔質膜を酸性水溶液に浸漬する工程、及び
前記多孔質膜を洗浄して前記酸性水溶液を除去する工程を含む請求項12に記載の電極ユニットの製造方法。
[14]アルミナ水和物に被覆され、塩化ナトリウムが含浸された、フッ素原子を含有する多孔質隔膜を、複数の貫通孔を有する多孔電極基板と、対向電極との間に配置し、電極ユニットを組み立てる工程と、前記電極ユニットを組み込み電解水生成装置を組み立てる工程、及び電解水生成装置の予備運転を行う工程とを含む電極ユニットの製造方法。
[15]前記アルミナ水和物に被覆され、塩化ナトリウムが含浸された、フッ素原子を含有する多孔質隔膜の形成は、
フッ素原子を含有する多孔質膜をアルミナ水和物粒子の含水アルコール分散液に浸漬する工程、
前記多孔質膜を前記分散液から取り出す工程、
前記分散液で被覆された前記多孔質膜を加熱し、前記多孔質膜表面にアルミナ水和物層を形成する工程、
前記アルミナ水和物層が形成された多孔質膜を酸性水溶液に浸漬して親水化し、多孔質隔膜を形成する工程、及び
前記多孔質隔膜を塩化ナトリウム水溶液に浸漬し、乾燥させる工程を含む請求項14に記載の電極ユニットの製造方法。
Claims (13)
- フッ素原子を含有する疎水性の多孔質膜をアルミナ水和物粒子の含水アルコール分散液に浸漬する工程と、
前記多孔質膜を前記分散液から取り出す工程と、
前記分散液で被覆された前記多孔質膜を加熱し、前記多孔質膜表面に疎水性のアルミナ水和物層を形成する工程と、
前記アルミナ水和物層が形成された前記多孔質膜を酸性水溶液に浸漬して親水化する工程とを有する隔膜の製造方法。 - 前記アルミナ水和物粒子がベーマイトもしくは擬ベーマイトからなる請求項1に記載の隔膜の製造方法。
- 前記アルミナ水和物粒子が疎水性基で被覆されている請求項1または2に記載の隔膜の製造方法。
- 前記多孔質膜を酸性水溶液に浸漬する工程の前に、前記多孔質膜を熱水もしくは水蒸気で加熱する工程をさらに含む請求項1から3のいずれか1項に記載の隔膜の製造方法。
- 前記酸性水溶液が0.1重量%から10重量%の塩酸である請求項1から4のいずれか1項に記載の隔膜の製造方法。
- 前記多孔質膜がポリビニリデンジフルオライドもしくはポリテロラフルオロエチレンである請求項1から5のいずれか1項に記載の隔膜の製造方法。
- 前記多孔質膜を取り出す工程は、引き上げ法である請求項1から6のいずれか1項に記載の隔膜の製造方法。
- 前記多孔質膜は、100nmから300nmの平均孔径を有する請求項1から7のいずれか1項に記載の隔膜の製造方法。
- 前記アルミナ水和物粒子の一次粒子の長径は、10nmから100nmである請求項1から7のいずれか1項に記載の隔膜の製造方法。
- 前記多孔質膜を加熱する工程は、130℃以上の温度で加熱することを含む請求項1から9のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記多孔質膜を酸性水溶液に浸漬する工程の後、3重量%以上の濃度を有する塩化ナトリウム水溶液に浸漬し、乾燥させる工程をさらに含む請求項1から10のいずれか1項に記載の隔膜の製造方法。
- フッ素原子を含有する疎水性の多孔質膜をアルミナ水和物粒子の含水アルコール分散液に浸漬する工程と、
前記多孔質膜を前記分散液から取り出す工程と、
前記分散液で被覆された前記多孔質膜を加熱し、前記多孔質膜表面に疎水性のアルミナ水和物層を形成する工程と、
前記アルミナ水和物層が形成された多孔質膜を酸性水溶液に浸漬して親水化する工程と、
前記多孔質膜を洗浄して前記酸性水溶液を除去して、多孔質隔膜を形成する工程と、
前記多孔質隔膜を、水分を含んだ状態で、複数の貫通孔を有する多孔電極基板と、対向電極との間に配置し、電極ユニットを組み立てる工程とを含む電極ユニットの製造方法。 - フッ素原子を含有する疎水性の多孔質膜をアルミナ水和物粒子の含水アルコール分散液に浸漬する工程と、
前記多孔質膜を前記分散液から取り出す工程と、
前記分散液で被覆された前記多孔質膜を加熱し、前記多孔質膜表面に疎水性のアルミナ水和物層を形成する工程と、
前記アルミナ水和物層が形成された前記多孔質膜を酸性水溶液に浸漬して親水化し、多孔質隔膜を形成する工程と、
前記多孔質隔膜を塩化ナトリウム水溶液に浸漬し、乾燥させることにより、前記アルミナ水和物に被覆され、塩化ナトリウムが含浸された、フッ素原子を含有する多孔質隔膜を形成する工程と、
前記アルミナ水和物に被覆され、塩化ナトリウムが含浸された、フッ素原子を含有する多孔質隔膜を、複数の貫通孔を有する多孔電極基板と、対向電極との間に配置し、電極ユニットを組み立てる工程と、
前記電極ユニットを組み込み電解水生成装置を組み立てる工程と、
前記電解水生成装置の予備運転を行う工程とを含む電極ユニットの製造方法。
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