JP6847525B2 - Cutting equipment - Google Patents
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- 238000005520 cutting process Methods 0.000 title claims description 102
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 95
- 239000002173 cutting fluid Substances 0.000 claims description 66
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 17
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 claims description 12
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 12
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 12
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 11
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 7
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
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- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Dicing (AREA)
Description
本発明は、被加工物を切削加工する切削装置に関する。 The present invention relates to a cutting apparatus for cutting a workpiece.
デバイスチップの製造プロセスにおいては、シリコンや化合物半導体からなるウェーハの表面にストリートと呼ばれる格子状の分割予定ラインが設定され、該分割予定ラインによって区画される各領域にIC、LSI等のデバイスが形成される。これらのウェーハは分割予定ラインに沿って切削され、個々のデバイスチップに分割される。 In the device chip manufacturing process, grid-like division schedule lines called streets are set on the surface of a wafer made of silicon or compound semiconductor, and devices such as ICs and LSIs are formed in each area partitioned by the division schedule lines. Will be done. These wafers are cut along the planned split line and split into individual device chips.
ウェーハのような被加工物に対する切削加工は、例えば、切削ブレードを備える切削ユニットを有する切削装置により実施される。切削ユニットは、回転の軸となる円柱状のスピンドルと、切削ブレードと、を備える。切削ブレードは、中央に孔を有する円環形状であり該孔に該スピンドルを挿入されて該スピンドルに装着される。 Cutting of a workpiece such as a wafer is performed by, for example, a cutting apparatus having a cutting unit including a cutting blade. The cutting unit includes a cylindrical spindle that serves as an axis of rotation, and a cutting blade. The cutting blade has a ring shape having a hole in the center, and the spindle is inserted into the hole and mounted on the spindle.
切削加工時は、該スピンドルを回転させることで切削ブレードを回転させる。回転する切削ブレードが被加工物に接触すると被加工物が切削される。切削加工時には、切削ブレードと、被加工物と、に切削液が供給される。該切削液は、被加工物の切削加工により発生する切削屑や熱を除去する。 During cutting, the cutting blade is rotated by rotating the spindle. When the rotating cutting blade comes into contact with the workpiece, the workpiece is cut. At the time of cutting, the cutting fluid is supplied to the cutting blade and the workpiece. The cutting fluid removes cutting chips and heat generated by cutting the workpiece.
ところで、被加工物が切削されて個々のチップ等に分割された後も被加工物を容易に取り扱えるように、被加工物は予め環状のフレームに張られた粘着テープで支持される。切削加工時には、被加工物は、該環状のフレーム及び該粘着テープと一体となったフレームユニットの状態で切削装置が備えるチャックテーブルの上に保持される。そして、切削加工が終了した後、該フレームユニットを該チャックテーブルから離脱させる。 By the way, the work piece is supported by an adhesive tape stretched on an annular frame in advance so that the work piece can be easily handled even after the work piece is cut and divided into individual chips and the like. At the time of cutting, the workpiece is held on the chuck table provided in the cutting device in the state of the annular frame and the frame unit integrated with the adhesive tape. Then, after the cutting process is completed, the frame unit is separated from the chuck table.
このとき、該フレームユニットには、切削加工時に供給されて切削屑を取り込んだ切削液が付着しているが、フレームユニットの搬送中に該切削液が落下すると搬送経路を汚染してしまう。そこで、切削加工が終了したフレームユニットの上面に対して洗浄液を噴射する洗浄ノズルを切削装置に設ける(特許文献1参照)。該洗浄ノズルによりウォーターカーテンを形成し、該ウォーターカーテンに該フレームユニット通過させると、該上面に付着した切削液を除去できる。 At this time, the cutting fluid supplied during the cutting process and taking in the cutting chips adheres to the frame unit, but if the cutting fluid drops during the transportation of the frame unit, the transport path is contaminated. Therefore, the cutting device is provided with a cleaning nozzle that injects a cleaning liquid onto the upper surface of the frame unit that has been cut (see Patent Document 1). When a water curtain is formed by the cleaning nozzle and the frame unit is passed through the water curtain, the cutting fluid adhering to the upper surface can be removed.
切削装置のチャックテーブルの上面(保持面)の外径はフレームユニットの外径よりも小さい。そのため、チャックテーブルにフレームユニットが吸引保持されるときフレームユニットの下面の外周部分は該チャックテーブルからはみ出して露出する。すると、切削加工時に切削ブレードや被加工物に供給されて切削屑を含んで飛散する切削液は、該フレームユニットの上面だけでなく、チャックテーブルから露出した下面にも付着する。 The outer diameter of the upper surface (holding surface) of the chuck table of the cutting device is smaller than the outer diameter of the frame unit. Therefore, when the frame unit is sucked and held on the chuck table, the outer peripheral portion of the lower surface of the frame unit protrudes from the chuck table and is exposed. Then, the cutting fluid that is supplied to the cutting blade or the workpiece during cutting and scatters including cutting chips adheres not only to the upper surface of the frame unit but also to the lower surface exposed from the chuck table.
該フレームユニットの下面に付着した切削液は、上述のウォーターカーテンでは除去できないので、フレームユニットの下面に切削液が残留し、その後、該フレームユニットの搬送経路に落下して該搬送経路を汚す場合がある。 Since the cutting fluid adhering to the lower surface of the frame unit cannot be removed by the water curtain described above, the cutting fluid remains on the lower surface of the frame unit and then falls into the transport path of the frame unit to pollute the transport path. There is.
また、切削加工が実施されたフレームユニットは最終的に切削装置に設置されたカセットに収容される。該カセットには、複数のフレームユニットが収容される。そのため、下面に切削液が付着したフレームユニットがカセットに収容されると、カセットの下方に収容された他のフレームユニットに該切削液が落下して、該他のフレームユニットの被加工物を汚す場合がある。 In addition, the frame unit that has been machined is finally housed in a cassette installed in the cutting device. A plurality of frame units are housed in the cassette. Therefore, when the frame unit in which the cutting fluid adheres to the lower surface is housed in the cassette, the cutting fluid falls on the other frame unit housed under the cassette and contaminates the workpiece of the other frame unit. In some cases.
本発明はかかる問題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、フレームユニットの下面のチャックテーブルから露出した部分に付着した切削液を除去できる切削装置を提供することである。 The present invention has been made in view of such a problem, and an object of the present invention is to provide a cutting device capable of removing cutting fluid adhering to a portion exposed from a chuck table on the lower surface of a frame unit.
本発明の一態様によれば、環状のフレーム、該環状のフレームの開口に張られた粘着テープ及び該粘着テープの上面に支持された被加工物を有するフレームユニットを保持面上で吸引保持でき、該保持面に垂直な軸の周りに回転できるチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された該フレームユニットの該被加工物に切削液を供給しながら該被加工物を切削加工する切削ユニットと、該チャックテーブルを該保持面と平行な加工送り方向に移動させる加工送りユニットと、該チャックテーブルに保持された該フレームユニットの下面の該チャックテーブルからはみ出す第1の領域に対面する位置から該第1の領域に向かってエアーを噴出するエアーノズルを有し、該被加工物の切削加工後に該第1の領域に向けてエアーを噴出することで該第1の領域に付着した切削液を除去できる切削液除去ユニットと、を備えることを特徴とする切削装置が提供される。 According to one aspect of the present invention, a frame unit having an annular frame, an adhesive tape stretched on an opening of the annular frame, and a workpiece supported on the upper surface of the adhesive tape can be sucked and held on a holding surface. A chuck table that can rotate around an axis perpendicular to the holding surface, and a cutting unit that cuts the workpiece while supplying cutting fluid to the workpiece of the frame unit held by the chuck table. From the position facing the machining feed unit that moves the chuck table in the machining feed direction parallel to the holding surface and the first region of the lower surface of the frame unit held by the chuck table that protrudes from the chuck table. It has an air nozzle that ejects air toward the first region, and after cutting the workpiece, it ejects air toward the first region to remove the cutting fluid adhering to the first region. Provided is a cutting apparatus comprising a cutting fluid removing unit capable of removing the cutting fluid.
本発明の一態様において、該切削ユニットで切削加工された該フレームユニットの該被加工物を洗浄する洗浄ユニットと、該チャックテーブルと、該洗浄ユニットと、の間で該フレームユニットを搬送する搬送ユニットと、を更に備え、該チャックテーブルの該保持面は、該フレームユニットに負圧を作用させるポーラス部材の上面と、該ポーラス部材を囲繞する枠体の上面と、により構成され、該洗浄ユニットは、該フレームユニットを保持する洗浄保持面を有し、該洗浄保持面に垂直な軸の周りに回転できる洗浄テーブルと、該洗浄テーブルに保持された該フレームユニットの該被加工物に洗浄液を供給する洗浄ノズルと、を備え、該洗浄テーブルの洗浄保持面は、該チャックテーブルの該ポーラス部材の該上面に収まる大きさに形成され、該洗浄ユニットは、該フレームユニットが該チャックテーブルに吸引保持された際に該フレームユニットの下面のうち該枠体により支持された第2の領域を該フレームユニットを該洗浄テーブルに保持した際に露出でき、該洗浄テーブルの回転による遠心力で該第2の領域に付着した該切削液を除去できてもよい。
In one aspect of the present invention, the frame unit is conveyed between the cleaning unit for cleaning the workpiece of the frame unit machined by the cutting unit, the chuck table, and the cleaning unit. The cleaning unit is further provided with a unit, and the holding surface of the chuck table is composed of an upper surface of a porous member that exerts a negative pressure on the frame unit and an upper surface of a frame that surrounds the porous member. Has a cleaning holding surface that holds the frame unit and can rotate around an axis perpendicular to the cleaning holding surface, and a cleaning liquid is applied to the workpiece of the frame unit held by the cleaning table. The cleaning holding surface of the cleaning table is formed to have a size that fits on the upper surface of the porous member of the chuck table, and the cleaning unit is attracted by the frame unit to the chuck table. When held, a second region of the lower surface of the frame unit supported by the frame can be exposed when the frame unit is held on the washing table, and the centrifugal force due to the rotation of the washing table can be used to expose the second region. The cutting liquid adhering to the
本発明の一態様に係る切削装置は、チャックテーブルに保持されたフレームユニットの下面の該チャックテーブルからはみ出す第1の領域に対面する位置から該第1の領域に向かってエアーを噴出するエアーノズル有する切削液除去ユニットを備える。該切削液除去ユニットによると、被加工物の切削加工後に該第1の領域に向けてエアーを噴出することで該第1の領域に付着した切削液を除去できる。 The cutting apparatus according to one aspect of the present invention is an air nozzle that ejects air from a position facing a first region protruding from the chuck table on the lower surface of the frame unit held by the chuck table toward the first region. It is equipped with a cutting fluid removal unit to have. According to the cutting fluid removing unit, the cutting fluid adhering to the first region can be removed by ejecting air toward the first region after cutting the workpiece.
該切削装置では、被加工物の切削加工を実施した後に、該エアーノズルからエアーを噴出させながら加工送りユニットを作動させてチャックテーブルを加工送り方向に移動させる。該エアーノズルの上方を該フレームユニットの下面の第1の領域の一部が通過すると、該エアーにより該一部に付着した切削液が除去される。 In the cutting device, after cutting the workpiece, the machining feed unit is operated while ejecting air from the air nozzle to move the chuck table in the machining feed direction. When a part of the first region on the lower surface of the frame unit passes above the air nozzle, the air removes the cutting fluid adhering to the part.
そして、チャックテーブルを保持面に垂直な軸の周りに回転させた後、該加工送りユニットを作動させて該エアーノズルの上方に該フレームユニットの下面の第1の領域の他の一部を通過させ、該他の一部に付着した切削液を除去する。このように、チャックテーブルの回転と、チャックテーブルの移動と、を複数回行うことで、フレームユニットの下面のチャックテーブルから露出した該第1の領域の全域において切削液が除去される。 Then, after rotating the chuck table around an axis perpendicular to the holding surface, the machining feed unit is operated to pass the other part of the first region of the lower surface of the frame unit above the air nozzle. And remove the cutting fluid adhering to the other part. By rotating the chuck table and moving the chuck table a plurality of times in this way, the cutting fluid is removed in the entire area of the first region exposed from the chuck table on the lower surface of the frame unit.
以上のように、本発明によりフレームユニットの下面のチャックテーブルから露出した部分に付着した切削液を除去できる切削装置が提供される。 As described above, the present invention provides a cutting apparatus capable of removing the cutting fluid adhering to the exposed portion from the chuck table on the lower surface of the frame unit.
添付図面を参照して、本発明の一態様に係る実施形態について説明する。図1は、本実施形態に係る切削装置2の構成例を模式的に示す図である。図1に示すように、切削装置2は、各構造を支持する基台4を備えている。
An embodiment according to one aspect of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration example of a
基台4の前方の角部には、矩形の開口4aが形成されており、この開口4a内には、昇降するカセット支持台6が設けられている。カセット支持台6の上面には、複数のフレームユニット1を収容するカセット8が載せられる。なお、図1では、説明の便宜上、カセット8の輪郭のみを示している。
A
フレームユニット1は、環状のフレーム3と、該環状のフレーム3の開口に張られた粘着テープ5と、該粘着テープ5の上面に支持された被加工物7と、を有する。被加工物7は、例えば、シリコン等の半導体材料でなる円形のウェーハであり、その表面側は、中央のデバイス領域と、デバイス領域を囲む外周余剰領域とに分けられる。デバイス領域は、格子状に配列された分割予定ライン(ストリート)でさらに複数の領域に区画されており、各領域には、IC、LSI等のデバイスが形成されている。
The frame unit 1 has an annular frame 3, an
被加工物7の裏面側には、被加工物7よりも径の大きい粘着テープ5が貼付されている。粘着テープ5の外周部分は、環状のフレーム3に固定されている。すなわち、被加工物7は、粘着テープ5を介して環状のフレーム3に支持されている。
An
なお、被加工物7はシリコン等の半導体材料でなる円形のウェーハ以外でもよく、被加工物7の材質、形状、構造等に制限はない。例えば、セラミックス、樹脂、金属等の材料でなる矩形の基板を被加工物7として用いることもできる。デバイスの種類、数量、配置等にも制限はない。 The workpiece 7 may be a wafer other than a circular wafer made of a semiconductor material such as silicon, and the material, shape, structure, etc. of the workpiece 7 are not limited. For example, a rectangular substrate made of a material such as ceramics, resin, or metal can be used as the workpiece 7. There are no restrictions on the type, quantity, arrangement, etc. of devices.
切削装置2には、該カセット支持台6に載せられたカセット8に収容されたフレームユニット1を取り出して、該フレームユニット1を後述のチャックテーブル14の上に載せる搬送機構(不図示)が設けられている。該搬送機構によると、切削加工が終了した後に該フレームユニット1を該カセット8に収容することもできる。
The
カセット支持台6の側方には、X軸方向(前後方向、加工送り方向)に長い矩形の開口4bが形成されている。この開口4b内には、X軸移動テーブル10、X軸移動テーブル10をX軸方向に移動させるX軸移動機構(不図示)及びX軸移動機構を覆う防塵防滴カバー12が設けられている。
A
X軸移動機構は、X軸方向に平行な一対のX軸ガイドレール(不図示)を備えており、X軸ガイドレールには、X軸移動テーブル10がスライド可能に取り付けられている。X軸移動テーブル10の下面側には、ナット部(不図示)が設けられており、このナット部には、X軸ガイドレールに平行なX軸ボールネジ(不図示)が螺合されている。 The X-axis moving mechanism includes a pair of X-axis guide rails (not shown) parallel to the X-axis direction, and the X-axis moving table 10 is slidably attached to the X-axis guide rails. A nut portion (not shown) is provided on the lower surface side of the X-axis moving table 10, and an X-axis ball screw (not shown) parallel to the X-axis guide rail is screwed into the nut portion.
X軸ボールネジの一端部には、X軸パルスモータ(不図示)が連結されている。X軸パルスモータでX軸ボールネジを回転させることで、X軸移動テーブル10は、X軸ガイドレールに沿ってX軸方向に移動する。 An X-axis pulse motor (not shown) is connected to one end of the X-axis ball screw. By rotating the X-axis ball screw with the X-axis pulse motor, the X-axis moving table 10 moves in the X-axis direction along the X-axis guide rail.
X軸移動テーブル10の上方には、フレームユニット1を保持するためのチャックテーブル14が設けられている。チャックテーブル14は、上方に円形の開口部が形成された枠体14c(図2(A)参照)と、該枠体14cの開口部に収容されたポーラス部材14b(図2(A)参照)と、を有する。該ポーラス部材14bが該開口部に収容された状態で、枠体14cの上面と、該開口物に収容されたポーラス部材14bの上面と、が同一の高さとなるように該ポーラス部材14bが形成される。
A chuck table 14 for holding the frame unit 1 is provided above the X-axis moving table 10. The chuck table 14 has a
該枠体14cの上面と、該ポーラス部材14bの上面と、がフレームユニット1を保持する保持面14aとなる。該ポーラス部材14bは、チャックテーブル14の内部に形成された吸引路14d(図2(A)参照)を介して吸引源14e(図2(A)参照)に接続されている。該保持面14aの上にフレームユニット1を載せ、吸引源14eを作動させて該吸引路14d及び該ポーラス部材14bを通じて該フレームユニット1に負圧を作用させると、フレームユニット1がチャックテーブル14に吸引保持される。
The upper surface of the
チャックテーブル14は、モータ等の回転駆動源(不図示)に連結されており、該保持面14aに垂直な回転軸の周りに回転する。また、チャックテーブル14は、上述のX軸移動機構でX軸方向に加工送りされる。すなわち、該X軸移動機構は加工送りユニットを構成する。
The chuck table 14 is connected to a rotation drive source (not shown) such as a motor, and rotates around a rotation axis perpendicular to the holding
開口4bに近接する位置には、上述したフレームユニット1をチャックテーブル14へと搬送する搬送ユニット(不図示)が設けられている。搬送ユニットで搬送されたフレームユニット1は、例えば、上面側が上方に露出するようにチャックテーブル14の保持面14aに載せられる。
A transport unit (not shown) for transporting the above-mentioned frame unit 1 to the chuck table 14 is provided at a position close to the
基台4の上面には、2組の切削ユニット22a,22bを支持するための門型の支持構造24が、開口4bを跨ぐように配置されている。支持構造24の前面上部には、切削ユニット22a,22bをY軸方向(左右方向、割り出し送り方向)及びZ軸方向に移動させる2組の切削ユニット移動機構26が設けられている。
On the upper surface of the base 4, a gate-shaped
各切削ユニット移動機構26は、支持構造24の前面に配置されY軸方向に平行な一対のY軸ガイドレール28を共通に備えている。Y軸ガイドレール28には、各切削ユニット移動機構26を構成するY軸移動プレート30がスライド可能に取り付けられている。
Each cutting
各Y軸移動プレート30の裏面側(後面側)には、ナット部(不図示)が設けられており、このナット部には、Y軸ガイドレール28に平行なY軸ボールネジ32がそれぞれ螺合されている。各Y軸ボールネジ32の一端部には、Y軸パルスモータ34が連結されている。Y軸パルスモータ34でY軸ボールネジ32を回転させれば、Y軸移動プレート30は、Y軸ガイドレール28に沿ってY軸方向に移動する。
A nut portion (not shown) is provided on the back surface side (rear surface side) of each Y-
各Y軸移動プレート30の表面(前面)には、Z軸方向に平行な一対のZ軸ガイドレール36が設けられている。Z軸ガイドレール36には、Z軸移動プレート38がスライド可能に取り付けられている。
A pair of Z-axis guide rails 36 parallel to the Z-axis direction are provided on the surface (front surface) of each Y-
各Z軸移動プレート38の裏面側(後面側)には、ナット部(不図示)が設けられており、このナット部には、Z軸ガイドレール36に平行なZ軸ボールネジ40がそれぞれ螺合されている。各Z軸ボールネジ40の一端部には、Z軸パルスモータ42が連結されている。Z軸パルスモータ42でZ軸ボールネジ40を回転させれば、Z軸移動プレート38は、Z軸ガイドレール36に沿ってZ軸方向に移動する。
A nut portion (not shown) is provided on the back surface side (rear surface side) of each Z-
各Z軸移動プレート38の下部には、それぞれ切削ユニット22a,22bが設けられている。この切削ユニット22a,22bは、回転軸となるスピンドルの一端側に装着された円環状の切削ブレードを備えている。切削ユニット22a,22bには該切削ブレード及びチャックテーブル14に保持されたフレームユニット1に切削液を供給する切削液供給手段が備えられている。該切削液は、例えば、純水である。
Cutting
また、切削ユニット22a,22bに隣接する位置には、被加工物11等を撮像する撮像カメラ(撮像ユニット)48が設けられている。各切削ユニット移動機構26でY軸移動プレート30をY軸方向に移動させれば、切削ユニット22a,22b及び撮像カメラ48は、Y軸方向に割り出し送りされる。また、各切削ユニット移動機構26でZ軸移動プレート38をZ軸方向に移動させれば、切削ユニット22a,22b及び撮像カメラ48は、昇降する。
Further, an imaging camera (imaging unit) 48 for imaging the workpiece 11 and the like is provided at a position adjacent to the
基台4の上面には、開口4bをX軸方向に垂直なY軸方向(割り出し送り方向)に跨ぐように、上面側ウォーターノズル16と、上面側エアーノズル18と、が配設される。該上面側ウォーターノズル16と、該上面側エアーノズル18と、はそれぞれパイプ状の本体を有する。それぞれの該本体には、該本体の伸長方向に沿って並ぶ下方に向いた複数の噴出口(不図示)が形成されている。
An upper surface side water nozzle 16 and an upper surface side air nozzle 18 are arranged on the upper surface of the base 4 so as to straddle the
上面側ウォーターノズル16の該本体の一端は、図示しない給水源に接続されている。上面側ウォーターノズル16は、該給水源から供給された洗浄液(例えば、純水)を該複数の噴出口から下方に噴出してウォーターカーテンを形成できる。また、上面側エアーノズル18の該本体の一端は、図示しないエアー供給源に接続されている。上面側エアーノズル18は、該エアー供給源から供給されたエアーを該複数の噴出口から下方に噴出してエアカーテンを形成できる。 One end of the main body of the upper surface side water nozzle 16 is connected to a water supply source (not shown). The upper surface side water nozzle 16 can form a water curtain by ejecting a cleaning liquid (for example, pure water) supplied from the water supply source downward from the plurality of spouts. Further, one end of the main body of the upper surface side air nozzle 18 is connected to an air supply source (not shown). The upper surface side air nozzle 18 can form an air curtain by ejecting air supplied from the air supply source downward from the plurality of ejection ports.
また、上面側ウォーターノズル16及び上面側エアーノズル18の下方には、X軸方向に加工送りされるチャックテーブル14を挟むように一対のエアーノズル20が配設される。該一対のエアーノズル20は、該開口4b内において基台4の該Y軸方向に垂直な2つの壁面のそれぞれから該Y軸方向に突出しており、加工送りされるチャックテーブル14に接触しない長さで伸長している。
Further, below the upper surface side water nozzle 16 and the upper surface side air nozzle 18, a pair of
該一対のエアーノズル20は、それぞれ先端が閉じられたパイプ状の本体を有する。それぞれの該本体には、それぞれの本体の伸長方向に沿って並ぶ上方に向いた複数の噴出口(不図示)が形成されている。該一対のエアーノズル20は、それぞれ図示しないエアー供給源に接続されており、該エアー供給源から供給されたエアーを該複数の噴出口から上方に噴出できる。
Each of the pair of
切削装置2において、上面側ウォーターノズル16、上面側エアーノズル18、及び、該一対のエアーノズル20は、チャックテーブル14に付着した切削液を除去する切削液除去ユニットとして機能する。
In the
開口4bに対して開口4aと反対側の位置には、円形の開口4cが形成されている。開口4c内には、切削加工後のフレームユニット1等を洗浄するための洗浄ユニット50が設けられている。基台4の上方には、チャックテーブル14に載るフレームユニット1を洗浄ユニット50に搬送する搬送ユニット44が配設されている。
A
該搬送ユニット44は、フレームユニット1の環状のフレーム3の形状に対応した複数の吸盤46を下面に有している。該搬送ユニット44は、該環状のフレーム3を吸盤46で吸着保持することで該フレームユニット1を洗浄ユニット50に搬送できる。また、搬送ユニット44は、洗浄ユニット50で洗浄されたフレームユニット1を洗浄ユニット50から搬出できる。
The
開口4cの内部に設けられた洗浄ユニット50は、フレームユニット1を保持する洗浄テーブル52と、該洗浄テーブル52に保持されたフレームユニット1の上方から該フレームユニット1に洗浄液を吐出する洗浄ノズル54と、を備える。該洗浄液は、例えば、純水である。 The cleaning unit 50 provided inside the opening 4c includes a cleaning table 52 that holds the frame unit 1 and a cleaning nozzle 54 that discharges cleaning liquid to the frame unit 1 from above the frame unit 1 held by the cleaning table 52. And. The cleaning liquid is, for example, pure water.
洗浄ノズル54は、洗浄テーブル52の外周側から上方に伸長する軸部と、該軸部の先端から水平方向に伸長するパイプ状の本体と、を有する。該軸部は給水源に接続されており、該給水源は該軸部を通じて該本体に洗浄液を供給できる。該パイプ状の本体の先端には吐出口が設けられており、該本体に供給された洗浄液は該吐出口から下方に吐出される。該洗浄ノズル54は、該軸部を軸に回転移動できる。該洗浄ノズル54が回転すると該洗浄テーブル52の上方に該吐出口を移動できる。 The cleaning nozzle 54 has a shaft portion extending upward from the outer peripheral side of the cleaning table 52, and a pipe-shaped main body extending horizontally from the tip of the shaft portion. The shaft portion is connected to a water supply source, and the water supply source can supply a cleaning liquid to the main body through the shaft portion. A discharge port is provided at the tip of the pipe-shaped main body, and the cleaning liquid supplied to the main body is discharged downward from the discharge port. The cleaning nozzle 54 can rotate around the shaft portion. When the cleaning nozzle 54 rotates, the discharge port can be moved above the cleaning table 52.
洗浄テーブル52の内部には、一端が洗浄テーブル52の上面の洗浄保持面52aに通じた吸引路52d(図2(B)参照)が設けられ、該吸引路52dの他端には吸引源52c(図2(B)参照)が接続される。フレームユニット1を洗浄テーブル52の洗浄保持面52aの上に載せ、該吸引源52cを作動させて該フレームユニット1に負圧を作用させると、フレームユニット1は該洗浄テーブル52に吸引保持される。
Inside the cleaning table 52, a
なお、洗浄テーブル52の洗浄保持面52aは、チャックテーブル14のポーラス部材14bの上面に収まる大きさに形成される。つまり、洗浄保持面52aの径は、ポーラス部材14bの上面の径よりも小さい。すると、フレームユニット1が洗浄テーブル52上に保持されたとき、フレームユニット1の下面のうち切削加工時にチャックテーブル14の枠体14cに支持されていた領域が該洗浄テーブル52から露出される。また、洗浄テーブル52は、図示しない回転駆動源に接続されており、保持面52に垂直な軸の周りに回転できる。
The
次に、本実施形態に係る切削装置におけるフレームユニット1の被加工物7の切削加工について説明する。 Next, the cutting process of the workpiece 7 of the frame unit 1 in the cutting device according to the present embodiment will be described.
まず、カセット支持台6上のカセット8に収容されたフレームユニット1を、切削装置2の搬送機構(不図示)により取り出して搬送し、チャックテーブル14の保持面14a上に載せる。そして、チャックテーブル14の吸引源14e(図2(A)参照)を作動させて該吸引路14d及び該ポーラス部材14bを通じて該フレームユニット1に負圧を作用させると、フレームユニット1がチャックテーブル14に吸引保持される。
First, the frame unit 1 housed in the
次に、フレームユニット1の被加工物7の切削加工を実施する。まず、切削ユニット22a,22bのスピンドルを回転させることで切削ブレードを回転させるとともに、該切削ブレードを所定の高さに位置付けて、チャックテーブル14を加工送り方向に加工送りさせると、回転する切削ブレードが被加工物7に接触して被加工物7が切削される。
Next, the work piece 7 of the frame unit 1 is cut. First, the cutting blades are rotated by rotating the spindles of the cutting
切削加工時には、切削ユニット22a,22bの洗浄液供給手段(不図示)から切削ブレードと、被加工物7と、に切削液が供給される。該切削液は、被加工物7の切削加工により発生する切削屑や熱を除去する。
At the time of cutting, the cutting fluid is supplied to the cutting blade and the workpiece 7 from the cleaning liquid supply means (not shown) of the cutting
切削加工の終了直後のフレームユニット1の上面や下面には、該切削液が付着している。該上面に該切削液が付着したまま該切削液が気化すると、該切削液に含まれている切削屑等が該上面に固着して問題となる。そこで、切削加工の終了後にフレームユニット1に付着した切削液を除去する。切削液の除去について図2(A)を用いて説明する。図2(A)は、切削液の除去時の切削装置2の切削液除去ユニットと、チャックテーブル14に保持されたフレームユニット1と、を模式的に示す部分断面図である。
The cutting fluid adheres to the upper surface and the lower surface of the frame unit 1 immediately after the completion of the cutting process. If the cutting fluid is vaporized with the cutting fluid adhering to the upper surface, cutting debris and the like contained in the cutting fluid stick to the upper surface, which causes a problem. Therefore, the cutting fluid adhering to the frame unit 1 is removed after the cutting process is completed. The removal of the cutting fluid will be described with reference to FIG. 2 (A). FIG. 2A is a partial cross-sectional view schematically showing a cutting fluid removing unit of the
切削加工の終了後、チャックテーブル14を加工送り方向に移動させて、上面側ウォーターノズル16及び上面側エアーノズル18の下方を通過させる。このとき、上面側ウォーターノズル16及び上面側エアーノズル18からは、それぞれ洗浄液や高圧エアーが噴出される。すなわち、該洗浄液や高圧エアーによりウォーターカーテンやエアカーテンを形成し、該ウォーターカーテンや該エアカーテンにフレームユニット1を通すとフレームユニット1の上面に付着した切削液を除去できる。 After the cutting process is completed, the chuck table 14 is moved in the processing feed direction to pass below the upper surface side water nozzle 16 and the upper surface side air nozzle 18. At this time, the cleaning liquid and high-pressure air are ejected from the upper surface side water nozzle 16 and the upper surface side air nozzle 18, respectively. That is, when a water curtain or an air curtain is formed by the cleaning liquid or high-pressure air and the frame unit 1 is passed through the water curtain or the air curtain, the cutting fluid adhering to the upper surface of the frame unit 1 can be removed.
また、切削加工時に切削ブレードやフレームユニット1に供給された切削液は、フレームユニット1の下面のうち、該チャックテーブル14の保持面14aからはみ出した領域にも回り込んで付着する。例えば、フレームユニット1の下面に付着した切削液を除去しない場合、搬送等において該切削液がフレームユニット1から落下すると、切削装置2を汚す場合がある。また、切削液が下面に付着したフレームユニット1をカセット8に収納したときに落下して、下方に収納された他のフレームユニット1に付着する場合がある。
Further, the cutting fluid supplied to the cutting blade and the frame unit 1 during the cutting process wraps around and adheres to the region of the lower surface of the frame unit 1 that protrudes from the holding
そこで、本実施形態に係る切削装置2では、エアーノズル20からフレームユニット1の下面の該領域にも高圧エアーを供給して、該領域に付着した切削液を該高圧エアーにより吹き飛ばす。エアーノズル20から高圧エアーが供給されている状態でチャックテーブル14を加工送り方向に移動させると、フレームユニット1の下面に付着した切削液の一部が除去される。
Therefore, in the
該チャックテーブル14を一度加工送り方向に移動させただけでは該高圧エアーを該領域の全域に作用させにくい。そこで、該チャックテーブル14を保持面14aに垂直な軸の周りに所定の角度回転させて高圧エアーを受ける箇所を変更し、再び該チャックテーブル14を加工送り方向に移動させる。これを繰り返して、該領域の全域において該高圧エアーにより付着した切削液を除去する。すると、該領域に付着した切削液が搬送等において落下しなくなり、切削装置2の内部の汚染が抑制される。
It is difficult for the high-pressure air to act on the entire area of the region only by moving the chuck table 14 once in the processing feed direction. Therefore, the chuck table 14 is rotated by a predetermined angle around an axis perpendicular to the holding
切削加工時及び洗浄液の除去時には、フレームユニット1はチャックテーブル14の保持面14a上に吸引保持されている。そして、チャックテーブル14の枠体14cと、フレームユニット1の下面と、の間の微細な隙間等から負圧がリークする。そのため、該微細な隙間から切削液がチャックテーブル14のポーラス部材14b側に進入する場合がある。
At the time of cutting and removing the cleaning liquid, the frame unit 1 is suction-held on the holding
該微細な隙間に進入した切削液が該ポーラス部材14bに到達すると、該負圧により該ポーラス部材14bへと吸い込まれるが、該微細な隙間から進入した切削液の一部は、該枠体14cと、フレームユニット1の下面と、の間に留まる場合がある。つまり、チャックテーブル14への吸引保持を解除してフレームユニット1を搬送するとき、フレームユニット1の下面のうち該枠体14cに支えられていた領域に切削液が残留するおそれがある。
When the cutting fluid that has entered the fine gap reaches the
そこで、本実施形態に係る切削装置2では、フレームユニット1を洗浄ユニット50に搬送して被加工物7を洗浄する際に、フレームユニット1の下面の該枠体14cに支えられていた領域に残留する切削液を除去する。
Therefore, in the
切削加工が実施された被加工物7を含むフレームユニット1は、搬送ユニット44により該チャックテーブル14から洗浄ユニット50の洗浄テーブル52の洗浄保持面52a上に搬送される。次に、吸引源52c(図2(B)参照)を作動させて該吸引路52dを通じて該フレームユニット1に負圧を作用させると、フレームユニット1が洗浄テーブル14に吸引保持される。
The frame unit 1 including the workpiece 7 that has been machined is conveyed from the chuck table 14 onto the
次に、洗浄ノズル54の吐出口から洗浄液を吐出させながら軸部を軸に洗浄ノズル54を回転させて、該吐出口を洗浄テーブル52に吸引保持されたフレームユニット1の上方に移動させる。また、洗浄テーブル52を該洗浄保持面52aに垂直な軸の周りに回転させる。すると、洗浄液が該フレームユニット1の上面に供給されてフレームユニット1の上面が洗浄され、洗浄テーブル52の回転による遠心力で該洗浄液が該上面から排出される。
Next, the cleaning nozzle 54 is rotated around the shaft while discharging the cleaning liquid from the discharge port of the cleaning nozzle 54, and the discharge port is moved above the frame unit 1 sucked and held by the cleaning table 52. Also, the cleaning table 52 is rotated around an axis perpendicular to the
なお、本実施形態に係る切削装置2では、洗浄テーブル52の洗浄保持面52aは、チャックテーブル14のポーラス部材14bの上面に収まる大きさに形成される。すると、フレームユニット1が洗浄テーブル52上に保持されたとき、フレームユニット1の下面のうち切削加工時にチャックテーブル14の枠体14cに支持されていた領域が該洗浄テーブル52から露出される。そのため、洗浄テーブル52の回転により生じる遠心力は、該フレームユニット1の該領域に付着した切削液にも作用して、該切削液も排出される。
In the
該フレームユニット1の下面のうち、チャックテーブル14の保持面14aからはみ出した領域に付着した切削液は、一対のエアーノズル20の作用により除去される。また、該下面のうち、チャックテーブル14のポーラス部材14bに支えられていた領域に進入した切削液は、該ポーラス部材14b側に吸引される。そして、該下面の残りの領域、すなわちチャックテーブル14の枠体14cに支えられていた領域に付着した切削液は、洗浄テーブル52の回転により生じる遠心力の作用により排出される。
The cutting fluid adhering to the region of the lower surface of the frame unit 1 that protrudes from the holding
すなわち、切削加工時にフレームユニット1の下面に付着した切削液は、その下面の全域において排除される。洗浄されたフレームユニット1は該洗浄テーブル52からカセット8に搬送されて収納されるが、フレームユニット1の下面には切削液が残留しないため、該カセット8内に収容された他のフレームユニットを汚染することもない。
That is, the cutting fluid adhering to the lower surface of the frame unit 1 during cutting is eliminated in the entire area of the lower surface. The washed frame unit 1 is transported from the washing table 52 to the
なお、本発明は、上記の実施形態の記載に限定されず、種々変更して実施可能である。例えば、上記の実施形態において、洗浄テーブル52の吸引源52dにより生じさせる負圧(吸引力)を、チャックテーブル14の吸引源14eにより発生する負圧(吸引力)よりも大きくしてもよい。
The present invention is not limited to the description of the above-described embodiment, and can be implemented with various modifications. For example, in the above embodiment, the negative pressure (suction force) generated by the
上記の実施形態に係る切削装置2において、洗浄テーブル52の洗浄保持面52aは、チャックテーブル14の保持面14aよりも小さい。その上、該洗浄テーブル52が該洗浄保持面52aに垂直な軸の周りに回転している状態でフレームユニット1の洗浄が実施される。そのため、吸引源52dにより生じさせる負圧(吸引力)を、吸引源14eにより発生する負圧(吸引力)よりも大きくすることで、フレームユニット1がより確実に吸引保持される。
In the
また、上記の実施形態に係る切削装置2では、フレームユニット1の下面に付着した切削液を除去するためにエアーノズル20が備えられるが、例えば、該切削装置2は、該エアーノズルに代えて該下面に洗浄液を供給する洗浄ノズルを備えてもよい。
Further, the
その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structure, method, etc. according to the above-described embodiment can be appropriately modified and implemented as long as the scope of the object of the present invention is not deviated.
1 フレームユニット
3 フレーム
5 粘着テープ
7 被加工物
2 切削装置
4 基台
4a,4b,4c 開口
6 カセット支持台
8 カセット
10 X軸移動テーブル
12 防塵防滴カバー
14 チャックテーブル
14a 保持面
14b ポーラス部材
14c 枠体
14d,52d 吸引路
14e,52c 吸引源
16 上面側ウォーターノズル
18 上面側エアーノズル
20 エアーノズル
22a,22b 切削ユニット
24 支持構造
26 切削ユニット移動機構
28 Y軸ガイドレール
30 Y軸移動プレート
32 Y軸ボールネジ
34 Y軸パルスモータ
36 Z軸ガイドレール
38 Z軸移動プレート
40 Z軸ボールネジ
42 Z軸パルスモータ
44 搬送ユニット
46 吸盤
48 撮像カメラ(撮像ユニット)
50 洗浄ユニット
52 洗浄テーブル
52a 洗浄保持面
54 洗浄ノズル
1 Frame unit 3
50
Claims (2)
該チャックテーブルに保持された該フレームユニットの該被加工物に切削液を供給しながら該被加工物を切削加工する切削ユニットと、
該チャックテーブルを該保持面と平行な加工送り方向に移動させる加工送りユニットと、
該チャックテーブルに保持された該フレームユニットの下面の該チャックテーブルからはみ出す第1の領域に対面する位置から該第1の領域に向かってエアーを噴出するエアーノズルを有し、該被加工物の切削加工後に該第1の領域に向けてエアーを噴出することで該第1の領域に付着した切削液を除去できる切削液除去ユニットと、
を備えることを特徴とする切削装置。 A frame unit having an annular frame, an adhesive tape stretched on an opening of the annular frame, and a work piece supported on the upper surface of the adhesive tape is sucked and held on a holding surface, and an axis perpendicular to the holding surface. With a chuck table that can rotate around
A cutting unit that cuts the workpiece while supplying cutting fluid to the workpiece of the frame unit held on the chuck table.
A machining feed unit that moves the chuck table in the machining feed direction parallel to the holding surface, and
The work piece has an air nozzle that ejects air from a position facing the first region protruding from the chuck table on the lower surface of the frame unit held by the chuck table toward the first region. A cutting fluid removal unit that can remove the cutting fluid adhering to the first region by ejecting air toward the first region after cutting.
A cutting device characterized by being provided with.
該チャックテーブルと、該洗浄ユニットと、の間で該フレームユニットを搬送する搬送ユニットと、を更に備え、
該チャックテーブルの該保持面は、該フレームユニットに負圧を作用させるポーラス部材の上面と、該ポーラス部材を囲繞する枠体の上面と、により構成され、
該洗浄ユニットは、該フレームユニットを保持する洗浄保持面を有し、該洗浄保持面に垂直な軸の周りに回転できる洗浄テーブルと、該洗浄テーブルに保持された該フレームユニットの該被加工物に洗浄液を供給する洗浄ノズルと、を備え、
該洗浄テーブルの洗浄保持面は、該チャックテーブルの該ポーラス部材の該上面に収まる大きさに形成され、
該洗浄ユニットは、該フレームユニットが該チャックテーブルに吸引保持された際に該フレームユニットの下面のうち該枠体により支持された第2の領域を該フレームユニットを該洗浄テーブルに保持した際に露出でき、該洗浄テーブルの回転による遠心力で該第2の領域に付着した該切削液を除去できることを特徴とする請求項1記載の切削装置。 A cleaning unit that cleans the workpiece of the frame unit that has been machined by the cutting unit, and
A transport unit for transporting the frame unit between the chuck table and the cleaning unit is further provided.
The holding surface of the chuck table is composed of an upper surface of a porous member that exerts a negative pressure on the frame unit and an upper surface of a frame body that surrounds the porous member.
The cleaning unit has a cleaning holding surface for holding the frame unit, a cleaning table that can rotate around an axis perpendicular to the cleaning holding surface, and a workpiece of the frame unit held on the cleaning table. Equipped with a cleaning nozzle that supplies cleaning liquid to
The cleaning holding surface of the cleaning table is formed in a size that fits on the upper surface of the porous member of the chuck table.
When the frame unit is sucked and held by the chuck table, the cleaning unit holds a second region of the lower surface of the frame unit supported by the frame when the frame unit is held by the cleaning table. The cutting apparatus according to claim 1, wherein the cutting fluid can be exposed and the cutting fluid adhering to the second region can be removed by centrifugal force due to the rotation of the washing table.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017096660A JP6847525B2 (en) | 2017-05-15 | 2017-05-15 | Cutting equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017096660A JP6847525B2 (en) | 2017-05-15 | 2017-05-15 | Cutting equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018192546A JP2018192546A (en) | 2018-12-06 |
JP6847525B2 true JP6847525B2 (en) | 2021-03-24 |
Family
ID=64569505
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017096660A Active JP6847525B2 (en) | 2017-05-15 | 2017-05-15 | Cutting equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6847525B2 (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3865237A4 (en) | 2018-10-11 | 2022-07-13 | MOLDINO Tool Engineering, Ltd. | End mill |
JP2021164970A (en) | 2020-04-07 | 2021-10-14 | 株式会社ディスコ | Processing device |
JP7570779B2 (en) | 2020-11-11 | 2024-10-22 | 株式会社ディスコ | Grinding Equipment |
CN114986323A (en) * | 2022-08-04 | 2022-09-02 | 江苏浦莱特实业有限公司 | Automatic collect clastic LED display screen shell burring equipment of polishing |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19522525A1 (en) * | 1994-10-04 | 1996-04-11 | Kunze Concewitz Horst Dipl Phy | Method and device for fine cleaning of surfaces |
JP2009027030A (en) * | 2007-07-20 | 2009-02-05 | Disco Abrasive Syst Ltd | Method of cutting wafer |
JP6199582B2 (en) * | 2013-03-08 | 2017-09-20 | 株式会社ディスコ | Protective film forming device |
JP6317941B2 (en) * | 2014-02-07 | 2018-04-25 | 株式会社ディスコ | Cutting equipment |
JP2015230935A (en) * | 2014-06-04 | 2015-12-21 | 株式会社ディスコ | Silicon wafer processing method |
-
2017
- 2017-05-15 JP JP2017096660A patent/JP6847525B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018192546A (en) | 2018-12-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200306 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210226 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210302 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210302 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6847525 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |