[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP6731852B2 - Adhesive sheet and method for manufacturing processed product - Google Patents

Adhesive sheet and method for manufacturing processed product Download PDF

Info

Publication number
JP6731852B2
JP6731852B2 JP2016562422A JP2016562422A JP6731852B2 JP 6731852 B2 JP6731852 B2 JP 6731852B2 JP 2016562422 A JP2016562422 A JP 2016562422A JP 2016562422 A JP2016562422 A JP 2016562422A JP 6731852 B2 JP6731852 B2 JP 6731852B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure
sensitive adhesive
adhesive sheet
base material
plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016562422A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2016088677A1 (en
Inventor
茂之 山下
茂之 山下
優智 中村
優智 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lintec Corp
Original Assignee
Lintec Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lintec Corp filed Critical Lintec Corp
Publication of JPWO2016088677A1 publication Critical patent/JPWO2016088677A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6731852B2 publication Critical patent/JP6731852B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09J133/06Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09J133/10Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09J133/06Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09J133/10Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • C09J133/12Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22Plastics; Metallised plastics
    • C09J7/24Plastics; Metallised plastics based on macromolecular compounds obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09J7/241Polyolefin, e.g.rubber
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/30Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier
    • C09J2301/312Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier parameters being the characterizing feature

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Dicing (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Description

本発明は、板状部材にレーザー光を照射して改質部を形成し、その板状部材を個片化してチップ状の加工物を得る粘着シートに関する。また、本発明は、上記の粘着シートを用いてチップなどの加工物を製造する方法に関する。 The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive sheet for irradiating a plate-shaped member with a laser beam to form a modified portion, and separating the plate-shaped member into individual pieces to obtain a chip-shaped processed product. The present invention also relates to a method for producing a processed product such as a chip using the above-mentioned pressure-sensitive adhesive sheet.

半導体ウエハは表面に回路が形成された後、ウエハの裏面側に研削加工を施し、ウエハの厚さを調整する裏面研削工程およびウエハを所定のチップサイズに個片化するダイシング工程が行われる。 After a circuit is formed on the front surface of a semiconductor wafer, the back surface side of the wafer is ground to perform a back grinding step of adjusting the thickness of the wafer and a dicing step of singulating the wafer into a predetermined chip size.

近年の電子機器筐体のサイズダウンや多積層チップを用いた半導体装置の需要の増加にともない、その構成部材である半導体チップの薄型化が進められている。このため、従来350μm程度の厚みであったウエハを、50〜100μmあるいはそれ以下まで薄くすることが求められるようになった。 Along with the recent size reduction of electronic device housings and the increasing demand for semiconductor devices using multi-layered chips, semiconductor chips, which are the constituent members, are being made thinner. For this reason, it has become necessary to reduce the thickness of a wafer, which has conventionally been about 350 μm, to 50 to 100 μm or less.

脆質部材であるウエハは、薄くなるにつれて、加工や運搬の際、破損する危険性が高くなる。このような極薄ウエハは、高速回転するダイシングブレードにより切断されると、半導体ウエハの特に裏面側にチッピング等が生じ、チップの抗折強度が著しく低下する。 As the wafer, which is a brittle member, becomes thinner, the risk of breakage during processing and transportation increases. When such an ultra-thin wafer is cut by a dicing blade that rotates at a high speed, chipping or the like occurs particularly on the back surface side of the semiconductor wafer, and the bending strength of the chip is significantly reduced.

このため、レーザー光を半導体ウエハの内部に照射して選択的に改質部を形成させながらダイシングラインを形成して改質部を起点として半導体ウエハを切断する、いわゆるステルスダイシング法が提案されている(特許文献1)。ステルスダイシング法によれば、レーザー光を半導体ウエハの内部に照射して改質部を形成後、極薄の半導体ウエハを基材と粘着剤層とからなる粘着シート(ダイシングシート)に貼付し、ダイシングシートをエキスパンドすることで、ダイシングラインに沿って半導体ウエハを分割(ダイシング)し、半導体チップを歩留まりよく生産することができる。また、半導体ウエハをダイシングシートに貼付した後に、レーザー光の照射により改質部を形成することも提案されている。このようなプロセスを採用することで、改質部が形成されて脆弱になったウエハにダイシングテープを貼るという工程がないために、脆弱化したウエハが破損するリスクを低減できる。この場合において、レーザーは通常ウエハの回路非形成面から照射されるため、ダイシングシートを通過させてレーザーを照射する必要が生じる。 Therefore, a so-called stealth dicing method has been proposed in which a semiconductor wafer is cut by irradiating the inside of a semiconductor wafer with a laser beam to selectively form a modified portion while forming a dicing line and starting the modified portion. (Patent Document 1). According to the stealth dicing method, after irradiating the inside of a semiconductor wafer with a laser beam to form a modified portion, an extremely thin semiconductor wafer is attached to an adhesive sheet (dicing sheet) including a base material and an adhesive layer, By expanding the dicing sheet, the semiconductor wafer can be divided (diced) along the dicing line, and semiconductor chips can be produced with high yield. It has also been proposed to form a modified portion by irradiating laser light after attaching a semiconductor wafer to a dicing sheet. By adopting such a process, there is no step of attaching the dicing tape to the wafer that has become fragile due to the formation of the modified portion, so that the risk of damaging the fragile wafer can be reduced. In this case, since the laser is normally irradiated from the circuit non-forming surface of the wafer, it is necessary to pass the laser through the dicing sheet.

上記のような、ダイシング工程において加工手段としてレーザーが用いられる場合もあれば、ダイシング工程の際に半導体ウエハなどの板状部材を正確にアライメントするためのツールとしてもレーザーが用いられる場合もある。これらの場合のような、ダイシング工程においてレーザー光を用いる場合に使用される粘着シート(本明細書において、この粘着シートを「レーザーダイシングシート」ともいう。)は、その使用にあたりこのレーザーダイシングシートをレーザーが透過する場合には、レーザー光に対する優れた透過性を有していなければならない。 A laser may be used as a processing means in the dicing process as described above, or a laser may be used as a tool for accurately aligning a plate-shaped member such as a semiconductor wafer during the dicing process. In such a case, the pressure-sensitive adhesive sheet used in the case of using a laser beam in the dicing step (in the present specification, this pressure-sensitive adhesive sheet is also referred to as “laser dicing sheet”), the laser dicing sheet is If the laser is transparent, it must have excellent transparency to the laser light.

かかる要求に応えるために、例えば、特許文献2には、基材と、その片面に形成された粘着剤層とからなるレーザーダイシングシートであって、300〜400nmの波長領域における全光線透過率が60%以上であり、ヘイズが20%以下であり、光学くしの幅が0.25mmにおける透過鮮明度が30以上であるレーザーダイシングシートが開示されている。 In order to meet such a demand, for example, in Patent Document 2, a laser dicing sheet comprising a substrate and an adhesive layer formed on one surface thereof has a total light transmittance in a wavelength range of 300 to 400 nm. Disclosed is a laser dicing sheet having a haze of 60% or more, a haze of 20% or less, and a transmission definition of 30 or more at an optical comb width of 0.25 mm.

特開2005−229040号公報JP, 2005-229040, A 特許第5124778号公報Japanese Patent No. 5124778

特許文献2には、上記のレーザーダイシングシートであって、該基材の片面の中心線平均粗さRaが他面の中心線平均粗さRaよりも大きく、中心線平均粗さRaの大きい面に粘着剤層が形成されてなるものとして、中心線平均粗さRaが0.3〜0.7μmである面を粘着剤層形成面とし、基材における当該面と反対側の面の中心線平均粗さRaが0.14μmであるレーザーダイシングシートが開示されている(特許文献2実施例)。 Patent Document 2 discloses the above laser dicing sheet, in which the center line average roughness Ra of one surface of the substrate is larger than the center line average roughness Ra of the other surface, and the surface having a large center line average roughness Ra. The pressure-sensitive adhesive layer is formed on the surface of the base material having a center line average roughness Ra of 0.3 to 0.7 μm as a pressure-sensitive adhesive layer forming surface, and the center line of the surface opposite to the surface of the base material. A laser dicing sheet having an average roughness Ra of 0.14 μm is disclosed (Patent Document 2 Example).

このようなレーザーダイシングシートは、レーザーが入射する側の面である、基材における粘着剤層形成面と反対側の面が平滑面とされているため、基材表面でのレーザー光の散乱が防止され、レーザー光の有効利用が図られている。 Since such a laser dicing sheet has a smooth surface on the side on which the laser is incident, that is, the surface on the side opposite to the pressure-sensitive adhesive layer forming surface of the base material, scattering of laser light on the base material surface is prevented. It is prevented and effective use of laser light is achieved.

ところで、レーザーダイシングシートを用いて半導体ウエハなどの板状部材から製造される半導体チップなどの加工物は、その厚さがさらに薄くなる傾向がある。また、近年、実装の高密度化が進み、シリコンウエハを基板の代わりとし、その上にSi貫通電極(TSV、Through−Silicon Via)を用いてチップを積層する場合がある。このように加工物が薄かったり、加工物がTSVに基づく構造を有していたりする場合には、レーザーダイシングシートの粘着剤層は、その粘着剤層に付着している加工物から容易に剥離しうる(ピックアップ性に優れる)ことが好ましい。 By the way, a processed product such as a semiconductor chip manufactured from a plate-shaped member such as a semiconductor wafer using a laser dicing sheet tends to have a thinner thickness. Further, in recent years, the packaging density has increased, and a silicon wafer may be used as a substrate instead of which a chip may be stacked using a Si through electrode (TSV, Through-Silicon Via). When the processed product is thin or the processed product has a structure based on TSV, the adhesive layer of the laser dicing sheet is easily peeled from the processed product attached to the adhesive layer. It is preferable that it is capable (excellent in pick-up property).

一方で、特許文献2に記載されたレーザーダイシングシートでは、粘着剤層が基材上に適切に形成されない部分が生じる場合があった。このような部分は、レーザーダイシングシートの平面視で欠点として観測され、板状部材を加工するために入射したレーザーの板状部材の到達光に不均一性をもたらすおそれがある。 On the other hand, in the laser dicing sheet described in Patent Document 2, there are cases where the pressure-sensitive adhesive layer is not properly formed on the substrate. Such a portion is observed as a defect in a plan view of the laser dicing sheet, and there is a possibility that the laser beam incident on the plate-shaped member for processing the plate-shaped member may have non-uniformity.

本発明は、ダイシング工程においてレーザー光を用いる場合に使用される粘着シートであって、欠点が生じにくく、優れたピックアップ性を有する粘着シートを提供すること、およびかかる粘着シートを用いて、板状部材から加工物を製造する方法を提供することを目的とする。 The present invention provides a pressure-sensitive adhesive sheet used when a laser beam is used in a dicing process, which is less likely to cause defects and has excellent pickup properties, and a plate-shaped pressure-sensitive adhesive sheet using the pressure-sensitive adhesive sheet. It is an object to provide a method for manufacturing a work piece from a member.

上記目的を達成するために本発明者らが検討したところ、粘着剤層の厚さを2μm以上12μm以下とし、基材の双方の面の算術平均粗さRaを0.2μm以下とすることにより、欠点が発生する可能性を安定的に低減しつつ、優れたピックアップ性を有する粘着シートが得られるとの新たな知見を得た。
上記知見に基づき完成された本発明は次のとおりである。
In order to achieve the above object, the present inventors have studied and found that the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 2 μm or more and 12 μm or less, and the arithmetic average roughness Ra of both surfaces of the base material is 0.2 μm or less. The present inventors have obtained a new finding that a pressure-sensitive adhesive sheet having excellent pickup properties can be obtained while stably reducing the possibility that defects will occur.
The present invention completed based on the above findings is as follows.

(1)板状部材にレーザー光を照射して改質部を形成し、前記板状部材を分割してチップ化することに用いる粘着シートであって、基材と、前記基材の一方の面に設けられた粘着剤層とを備え、前記基材は、前記一方の面および前記一方の面と反対側の面の双方について、JIS B0601:2013(ISO 4287:1997)に規定される算術平均粗さRaが0.01μm以上0.2μm以下であり、前記粘着剤層の厚さが2μm以上12μm以下であることを特徴とする粘着シート。 (1) A pressure-sensitive adhesive sheet used for irradiating a plate-shaped member with a laser beam to form a modified portion, and dividing the plate-shaped member into chips, which comprises a base material and one of And a pressure-sensitive adhesive layer provided on a surface of the base material, and the base material is provided on both of the one surface and the surface on the opposite side of the one surface with the arithmetic prescribed in JIS B0601:2013 (ISO 4287:1997). A pressure-sensitive adhesive sheet, wherein the average roughness Ra is 0.01 μm or more and 0.2 μm or less, and the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 2 μm or more and 12 μm or less.

(2)前記粘着シートは、JIS K7136:2000(ISO 14782:1999)に規定されるヘイズが、基材側を入射側としたときに、0.01%以上10%以下である、上記(1)に記載の粘着シート。 (2) The pressure-sensitive adhesive sheet has a haze defined by JIS K7136:2000 (ISO 14782:1999) of 0.01% or more and 10% or less when the substrate side is the incident side. ) Adhesive sheet described in.

(3)前記粘着剤層はアクリル系重合体を含有し、前記アクリル系重合体はガラス転移温度Tgが−40℃以上−10℃以下である、上記(1)または(2)に記載の粘着シート。 (3) The pressure-sensitive adhesive layer according to (1) or (2) above, wherein the pressure-sensitive adhesive layer contains an acrylic polymer, and the glass transition temperature Tg of the acrylic polymer is −40° C. or higher and −10° C. or lower. Sheet.

(4)前記アクリル系重合体はメチルメタクリレートに由来する構成単位を含み、前記アクリル系重合体を与える単量体全体に対するメチルメタクリレートの質量比率は、5質量%以上20質量%以下である、上記(3)に記載の粘着シート。 (4) The acrylic polymer contains a structural unit derived from methyl methacrylate, and the mass ratio of methyl methacrylate to the total monomers giving the acrylic polymer is 5% by mass or more and 20% by mass or less. The pressure-sensitive adhesive sheet according to (3).

(5)前記アクリル系重合体は、エネルギー線重合性基を有する、上記(3)または(4)に記載の粘着シート。 (5) The pressure-sensitive adhesive sheet according to (3) or (4) above, wherein the acrylic polymer has an energy ray-polymerizable group.

(6)前記基材はポリオレフィン系材料を含有する、上記(1)から(5)のいずれかに記載の粘着シート。 (6) The pressure-sensitive adhesive sheet according to any one of (1) to (5) above, wherein the base material contains a polyolefin material.

(7)前記基材の前記算術平均粗さRaは前記基材をロール加圧することを含んで設定されたものである、上記(1)から(6)のいずれかに記載の粘着シート。 (7) The pressure-sensitive adhesive sheet according to any one of (1) to (6), wherein the arithmetic average roughness Ra of the base material is set to include roll pressing of the base material.

(8)前記ロール加圧に用いられたロールは金属材料からなる表面を有するロールである、上記(7)に記載の粘着シート。 (8) The pressure-sensitive adhesive sheet according to (7), wherein the roll used for pressing the roll is a roll having a surface made of a metal material.

(9)上記(1)から(8)のいずれかに記載される粘着シートの前記基材よりも前記粘着剤層に近位な面を、板状部材を含む被着体の一方の面に貼付して、前記粘着シートおよび前記板状部材を備える第1の積層体を得る貼付工程;前記第1の積層体が備える前記基材を伸長することにより、前記粘着シート上の前記板状部材を分割して、前記板状部材の分割体を備えるチップの複数が前記粘着シート上に配置されてなる第2の積層体を得る分割工程;および前記第2の積層体が備える前記複数のチップのそれぞれを前記粘着シートから分離して、前記チップを加工物として得るピックアップ工程を備え、前記分割工程が開始されるまでに、前記板状部材の内部に設定された焦点に集束されるようにレーザー光を照射して、前記板状部材の内部に改質部を形成する改質部形成工程が行われることを特徴とする加工物の製造方法。 (9) A surface of the pressure-sensitive adhesive sheet according to any one of (1) to (8), which is closer to the pressure-sensitive adhesive layer than the base material, is provided on one surface of an adherend including a plate-shaped member. A step of sticking to obtain a first laminate including the pressure-sensitive adhesive sheet and the plate-like member; a plate-like member on the pressure-sensitive adhesive sheet by extending the base material included in the first laminate. A dividing step for obtaining a second laminated body in which a plurality of chips each including the divided body of the plate-shaped member are arranged on the adhesive sheet; and the plurality of chips included in the second laminated body. Each of which is separated from the pressure-sensitive adhesive sheet, and comprises a pickup step of obtaining the chips as a workpiece, and by the time the division step is started, the chips are focused at a focus set inside the plate-shaped member. A method of manufacturing a processed product, comprising performing a modified portion forming step of forming a modified portion inside the plate-shaped member by irradiating a laser beam.

(10)前記分割工程に供される前記第1の積層体は、前記粘着剤層と前記板状部材との間に付加層を備え、前記分割工程によって前記付加層も分割され、前記ピックアップ工程によって前記粘着シートから分離するチップは、前記板状部材の分割体および当該板状部材の分割体の前記粘着シートに近位な面上に形成された前記付加層の分割体を備える、上記(9)に記載の加工物の製造方法。 (10) The first laminated body provided in the dividing step includes an additional layer between the pressure-sensitive adhesive layer and the plate-shaped member, and the additional layer is also divided by the dividing step, and the pickup step. The chip separated from the adhesive sheet by means of the divided body of the plate-like member and the divided body of the additional layer formed on the surface of the divided body of the plate-like member proximal to the adhesive sheet, The method for producing a processed product according to 9).

(11)前記付加層は保護層を備える、上記(10)に記載の加工物の製造方法。 (11) The method for manufacturing a processed product according to (10), wherein the additional layer includes a protective layer.

(12)前記分割工程が開始されるまでに、前記第1の積層体が備える前記保護層を保護膜形成フィルムから形成する保護膜形成工程を備える、上記(11)に記載の加工物の製造方法。 (12) Manufacture of the processed product according to (11) above, which includes a protective film forming step of forming the protective layer of the first laminate from a protective film forming film before the division step is started. Method.

(13)前記付加層はダイボンディング層を備える、上記(10)に記載の加工物の製造方法。 (13) The method for manufacturing a processed product according to (10), wherein the additional layer includes a die bonding layer.

本発明によれば、欠点が生じにくく、優れたピックアップ性を有する粘着シートが提供される。また、かかる粘着シートを用いることにより、板状部材から加工物を安定的に製造することが可能となる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the pressure-sensitive adhesive sheet which is hard to produce a defect and has the outstanding pick-up property is provided. Moreover, by using such an adhesive sheet, it becomes possible to stably manufacture a processed product from a plate-shaped member.

以下、本発明の実施形態について説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.

1.粘着シート
本発明の一実施形態に係る粘着シートは、基材および粘着剤層を備える。
1. Adhesive Sheet An adhesive sheet according to an embodiment of the present invention includes a base material and an adhesive layer.

(1)基材
本実施形態に係る粘着シートの基材は、粘着剤層に対向する側の面(本明細書において「粘着剤加工面」ともいう。)および粘着剤加工面と反対側の面(本明細書において「レーザー入射面」ともいう。)の双方について、JIS B0601:2013(ISO 4287:1997)に規定される算術平均粗さRa(以下、ことわりのない「算術平均粗さRa」はこの意味で用いる。)が0.2μm以下である。これらの面の算術平均粗さRaが0.2μm以下であることにより、粘着シートの平面視で欠点が観測されにくい。このため、粘着シートの基材側から入射されたレーザー光が、粘着シートが貼付された板状部材に均一に到達しやすい。かかるレーザー光が板状部材に不均一に到達する場合には、例えば、板状部材内に適切に改質部が形成されていない部分が生じ、この部分で板状部材の個片化が適切に行われないといった不具合が生じる可能性が高まる。上記の入射レーザー光の均一性を高める観点から、粘着剤加工面およびレーザー入射面の双方について、算術平均粗さRaは、0.18μm以下であることが好ましく、0.16μm以下であることがより好ましく、0.14μm以下であることがさらに好ましく、0.12μm以下であることが特に好ましい。平面視で欠点が生じにくい粘着シートを得る観点からは、粘着剤加工面について、算術平均粗さRaの下限は限定されない。製造安定性を維持する観点などから、粘着剤加工面およびレーザー入射面の双方について、算術平均粗さRaは0.01μm以上とすることが好ましい。
(1) Substrate The substrate of the pressure-sensitive adhesive sheet according to the present embodiment has a surface facing the pressure-sensitive adhesive layer (also referred to as “pressure-sensitive adhesive processed surface” in the present specification) and a surface opposite to the pressure-sensitive adhesive processed surface. For both surfaces (also referred to as “laser incidence surface” in the present specification), the arithmetic mean roughness Ra (hereinafter, “arithmetic mean roughness Ra”, which is not specified, is defined in JIS B0601:2013 (ISO 4287:1997). Is used in this sense.) is 0.2 μm or less. Since the arithmetic average roughness Ra of these surfaces is 0.2 μm or less, it is difficult to observe defects in the plan view of the pressure-sensitive adhesive sheet. Therefore, the laser light incident from the base material side of the adhesive sheet easily reaches the plate-shaped member to which the adhesive sheet is attached uniformly. When such a laser beam reaches the plate-shaped member unevenly, for example, a portion in which the modified portion is not appropriately formed is formed in the plate-shaped member, and it is appropriate to separate the plate-shaped member at this portion. There is a high possibility that problems such as not being performed will occur. From the viewpoint of improving the uniformity of the incident laser light, the arithmetic mean roughness Ra is preferably 0.18 μm or less, and is 0.16 μm or less for both the pressure-sensitive adhesive processed surface and the laser incident surface. It is more preferably 0.14 μm or less, still more preferably 0.12 μm or less. From the viewpoint of obtaining a pressure-sensitive adhesive sheet that is less likely to cause defects in plan view, the lower limit of the arithmetic mean roughness Ra of the pressure-sensitive adhesive processed surface is not limited. From the viewpoint of maintaining manufacturing stability, it is preferable that the arithmetic mean roughness Ra of both the pressure-sensitive adhesive processed surface and the laser incident surface is 0.01 μm or more.

本発明の一実施形態に係る基材の構成材料は、上記の算術平均粗さRaに関する条件を満たすことができ、レーザーダイシングシートの基材として使用しうる、すなわち、所望の波長のレーザー光を実用的な範囲の透過率で透過することが可能であり、面内方向に伸長されたり、局所的に厚さ方向に突き出されたりした場合であっても破断しにくいという要請を満たす限り、特に限定はされない。本発明の一実施形態に係る基材は、通常、樹脂系材料を主材とするフィルムから構成される。このフィルムは単層であってもよいし、積層体であってもよい。 The constituent material of the base material according to the embodiment of the present invention can satisfy the above conditions regarding the arithmetic mean roughness Ra and can be used as a base material of a laser dicing sheet, that is, a laser beam having a desired wavelength can be used. It is possible to transmit with a transmittance within a practical range, as long as it satisfies the request that it is difficult to break even if it is stretched in the in-plane direction or locally projected in the thickness direction. There is no limitation. The base material according to the embodiment of the present invention is usually composed of a film containing a resin material as a main material. This film may be a single layer or a laminate.

かかるフィルムに含有される樹脂系材料の具体例として、ランダムコポリマーポリプロピレン、ブロックコポリマーポリプロピレン等のポリプロピレン、低密度ポリエチレン(LDPE)、直鎖低密度ポリエチレン(LLDPE)、高密度ポリエチレン(HDPE)等のポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、エチレン−ノルボルネン共重合体等のエチレン系共重合体、ノルボルネン樹脂等のシクロオレフィンポリマー(COP)ポリブテン、ポリブタジエン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系材料;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等のポリ塩化ビニル系材料;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系材料;ポリウレタン系材料;ポリイミド系材料;アイオノマー樹脂系材料;アルキル(メタ)アクリレートの単独重合体、アルキル(メタ)アクリレートの共重合体等のポリアクリル系材料;ポリスチレン系材料;ポリカーボネート系材料;フッ素樹脂系材料;ならびにこれらの樹脂系材料の水添加物および変性物を主材とする樹脂系材料などが挙げられる。樹脂系材料は上記の材料と架橋剤との架橋物であってもよい。なお、本明細書における「(メタ)アクリル酸」は、アクリル酸およびメタクリル酸の両方を意味する。他の類似用語についても同様である。上記の基材を与える樹脂系材料は1種単独でもよいし2種以上の混合物であってもよい。高いレーザー透過性、面内方向の伸長や厚さ方向の局所的な変形のしやすさ、低い環境負荷などの観点から、本発明の一実施形態に係る基材は、ポリオレフィン系材料を含有することが好ましく、ポリオレフィン系材料の中でも、ランダムコポリマーポリプロピレン等のポリプロピレンを含有することがより好ましい。 Specific examples of the resin material contained in the film include polypropylene such as random copolymer polypropylene and block copolymer polypropylene, polyethylene such as low density polyethylene (LDPE), linear low density polyethylene (LLDPE), and high density polyethylene (HDPE). Ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-(meth)acrylic acid copolymer, ethylene-(meth)acrylic acid ester copolymer, ethylene-norbornene copolymer and other ethylene-based copolymers, norbornene resin, etc. Cycloolefin polymer (COP) Polyolefin materials such as polybutene, polybutadiene and polymethylpentene; Polyvinyl chloride materials such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymer; Polyester materials such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate; Polyurethane materials Materials; Polyimide materials; Ionomer resin materials; Polyacrylic materials such as alkyl (meth)acrylate homopolymers and alkyl (meth)acrylate copolymers; Polystyrene materials; Polycarbonate materials; Fluororesin materials; In addition, resin-based materials whose main materials are water additives and modified products of these resin-based materials, and the like. The resin material may be a cross-linked product of the above material and a cross-linking agent. In addition, in this specification, "(meth)acrylic acid" means both acrylic acid and methacrylic acid. The same applies to other similar terms. The resin-based material that provides the above-mentioned substrate may be a single type or a mixture of two or more types. The substrate according to one embodiment of the present invention contains a polyolefin-based material from the viewpoint of high laser transparency, easy in-plane extension and local deformation in the thickness direction, and low environmental load. Among the polyolefin-based materials, it is more preferable to contain polypropylene such as random copolymer polypropylene.

基材に含有される樹脂系材料がポリオレフィン系材料である場合には、一般的に、基材の双方の面の算術表面粗さRaの制御は、2つのロールを用いて基材を挟み込むロール加圧によって行われる。これらのロールの表面を構成する材料やその表面の粗さを調整することによって、基材の双方の面の算術表面粗さRaは設定される。従来は、これらのロールの表面は、一方が金属からなり、他方がゴムのような弾性材料からなる場合が一般的であった。このため、金属の面からなるロールに接した基材の面の算術表面粗さRaは比較的容易に低い値とすることが可能であったが、弾性材料からなるロールに接した基材の面の算術表面粗さRaを低い値にすることが困難であった。そこで、本実施形態に係る基材のように、基材の双方の面の算術表面粗さRaを低下させたい場合には、ロール加圧に求められるロールの双方について、金属からなる面とすることが好ましい。ただし、この場合には、一方のロールの表面が弾性材料からなる場合に比べて、双方のロールおよび基材の相対配置をより厳密に制御することが必要とされる。基材に含有される樹脂系材料がポリ塩化ビニル系材料である場合には、インフレーション成形により基材を製造することが可能であるため、基材の双方の面の算術表面粗さRaを低い値に設定することは容易である。しかしながら、ポリ塩化ビニル系材料はハロゲン元素を含むため、環境負荷の低減が求められる場合には、基材の材料として使用しない方が好ましい。 When the resin-based material contained in the base material is a polyolefin-based material, generally, the arithmetic surface roughness Ra of both surfaces of the base material is controlled by two rolls sandwiching the base material. It is performed by pressurization. The arithmetic surface roughness Ra of both surfaces of the base material is set by adjusting the material constituting the surface of these rolls and the roughness of the surface. In the past, the surface of these rolls was generally made of one metal and the other elastic material such as rubber. For this reason, although the arithmetic surface roughness Ra of the surface of the base material in contact with the roll made of a metal surface could be made to be a relatively low value relatively easily, the arithmetic surface roughness Ra of the base material in contact with the roll made of an elastic material was It was difficult to reduce the arithmetic surface roughness Ra of the surface to a low value. Therefore, when it is desired to reduce the arithmetic surface roughness Ra of both surfaces of the base material like the base material according to the present embodiment, both of the rolls required for roll pressurization are surfaces made of metal. It is preferable. However, in this case, it is necessary to more strictly control the relative arrangement of both rolls and the base material as compared with the case where the surface of one roll is made of an elastic material. When the resin-based material contained in the base material is a polyvinyl chloride-based material, the base material can be manufactured by inflation molding, and therefore the arithmetic surface roughness Ra of both surfaces of the base material is low. It is easy to set the value. However, since the polyvinyl chloride-based material contains a halogen element, it is preferable not to use it as the material of the base material when it is required to reduce the environmental load.

基材は、上記の樹脂系材料を主材とするフィルム内に、着色剤、難燃剤、可塑剤、帯電防止剤、滑剤、フィラー等の各種添加剤が含まれていてもよい。着色剤としては、例えば、二酸化チタン、カーボンブラック等の顔料や、種々の染料等が挙げられる。また、フィラーとして、メラミン樹脂のような有機系材料、ヒュームドシリカのような無機系材料およびニッケル粒子のような金属系材料が例示される。こうした添加剤の含有量は特に限定されないが、基材が所望の機能、特にレーザーを透過する機能を発揮し、所望の平滑性や柔軟性を失わない範囲に留めるべきである。 The base material may contain various additives such as a colorant, a flame retardant, a plasticizer, an antistatic agent, a lubricant, and a filler in the film containing the resin material as a main material. Examples of the colorant include pigments such as titanium dioxide and carbon black, and various dyes. Examples of the filler include organic materials such as melamine resin, inorganic materials such as fumed silica, and metal materials such as nickel particles. The content of such an additive is not particularly limited, but it should be kept within a range in which the substrate exhibits a desired function, particularly a laser transmitting function, and does not lose desired smoothness and flexibility.

粘着剤層を硬化するために照射するエネルギー線として紫外線を用いる場合には、基材は紫外線に対して透過性を有することが好ましい。なお、エネルギー線として電子線を用いる場合には基材は電子線の透過性を有していることが好ましい。 When ultraviolet rays are used as the energy rays for irradiating to cure the pressure-sensitive adhesive layer, it is preferable that the substrate has transparency to ultraviolet rays. When an electron beam is used as the energy beam, the base material preferably has electron beam permeability.

基材の厚さは粘着シートが前述の各工程において適切に機能できる限り、限定されない。好ましくは20〜450μm、より好ましくは25〜200μm、特に好ましくは50〜150μmの範囲にある。 The thickness of the substrate is not limited as long as the pressure-sensitive adhesive sheet can properly function in each of the above steps. It is preferably in the range of 20 to 450 μm, more preferably 25 to 200 μm, and particularly preferably 50 to 150 μm.

基材は、ヤング率が50〜500MPaであることが好ましい。ヤング率をこの範囲とすることで、良好な伸張性を維持しつつ、基材の機械強度を向上させ、粘着剤層を形成する際の工程適性を良好にできる。例えば、基材となるポリオレフィン系樹脂を含有するフィルムをコーターにセットする際、張力をかけた場合の基材の意図しない伸長を防止することができる。
上記ヤング率は、ブロッキング等を発生しにくくし、また、機械強度を向上させつつエキスパンド性をより良好にする観点から、60〜450MPaであることがより好ましく、100〜420MPaであることがさらに好ましく、150〜300MPaであることがよりさらに好ましい。
The base material preferably has a Young's modulus of 50 to 500 MPa. By setting the Young's modulus within this range, it is possible to improve the mechanical strength of the base material while maintaining good extensibility and to improve the process suitability when forming the pressure-sensitive adhesive layer. For example, it is possible to prevent unintended elongation of the base material when tension is applied when setting a film containing the base material polyolefin-based resin in a coater.
The Young's modulus is more preferably 60 to 450 MPa, further preferably 100 to 420 MPa, from the viewpoint of making blocking less likely to occur and improving the expandability while improving the mechanical strength. , 150 to 300 MPa is even more preferable.

(2)粘着剤層
本実施形態に係る粘着シートが備える粘着剤層は、その厚さが2μm以上12μm以下である。粘着剤層の厚さが上記の範囲内にあり、基材の双方の面の算術平均粗さRaが前述の範囲内にあることにより、平面視で欠点が生じにくく、優れたピックアップ性を有する粘着シートを得ることができる。上記の欠点が生じる可能性をより安定的に低減させる観点から、粘着剤層の厚さは3μm以上であることが好ましく、4μm以上であることがより好ましい。優れたピックアップ性を有する粘着シートを得ることをより安定的に実現する観点から、粘着剤層の厚さは、10μm以下であることが好ましく、8μm以下であることがより好ましく、6μm以下であることが特に好ましい。
(2) Pressure-sensitive adhesive layer The pressure-sensitive adhesive layer included in the pressure-sensitive adhesive sheet according to the present embodiment has a thickness of 2 μm or more and 12 μm or less. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is within the above range and the arithmetic average roughness Ra of both surfaces of the base material is within the above range, defects are less likely to occur in plan view and excellent pick-up properties are provided. An adhesive sheet can be obtained. From the viewpoint of more stably reducing the possibility of the above defects, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 3 μm or more, more preferably 4 μm or more. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 10 μm or less, more preferably 8 μm or less, and more preferably 6 μm or less, from the viewpoint of more stably realizing the pressure-sensitive adhesive sheet having excellent pickup properties. Is particularly preferable.

本実施形態に係る粘着シートが備える粘着剤層を形成するための粘着剤組成物は、限定されない。かかる粘着剤組成物に含有される粘着剤として、ゴム系、アクリル系、シリコーン系、ポリビニルエーテル等の粘着剤が例示される。以下、粘着剤層を形成するための粘着剤組成物がアクリル系の粘着剤を含有する場合を例として、説明する。アクリル系の粘着剤は透明性に優れるため、レーザー光線を透過しやすい。 The pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer included in the pressure-sensitive adhesive sheet according to the present embodiment is not limited. Examples of the pressure-sensitive adhesive contained in the pressure-sensitive adhesive composition include rubber-based, acrylic-based, silicone-based, polyvinyl ether, and other pressure-sensitive adhesives. Hereinafter, the case where the pressure-sensitive adhesive composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer contains an acrylic pressure-sensitive adhesive will be described as an example. Since the acrylic adhesive has excellent transparency, it easily transmits a laser beam.

アクリル系の粘着剤は、アクリル系重合体を含有する。アクリル系重合体は、アクリル系化合物に基づく構成単位をその骨格を構成する単位として含む重合体である。アクリル系重合体は、1種類の単量体が重合してなる単独重合体であってもよいし、複数種類の単量体が重合してなる共重合体であってもよい。重合体の物理的特性や化学的特性を制御しやすい観点から、アクリル系重合体は共重合体であることが好ましい。 The acrylic pressure-sensitive adhesive contains an acrylic polymer. The acrylic polymer is a polymer containing a structural unit based on an acrylic compound as a unit constituting its skeleton. The acrylic polymer may be a homopolymer formed by polymerizing one kind of monomer or a copolymer formed by polymerizing a plurality of kinds of monomers. From the viewpoint of easily controlling the physical properties and chemical properties of the polymer, the acrylic polymer is preferably a copolymer.

アクリル系重合体は、ガラス転移温度Tgが−40℃以上−10℃以下であることが好ましい。ガラス転移温度Tgが−40℃以上であるアクリル系重合体を粘着剤組成物が含有することにより、粘着剤層の粘着性が低下し、ピックアップ性をより向上させることが可能となる。かかるピックアップ性を向上させる効果をより安定的に得る観点から、アクリル系重合体のガラス転移温度Tgは、−35℃以上であることがより好ましい。ウエハのチップへの分割後に、チップを保持する性能を維持することが容易となる観点から、アクリル系重合体のガラス転移温度Tgは−20℃以下であることが好ましい。 The glass transition temperature Tg of the acrylic polymer is preferably -40°C or higher and -10°C or lower. When the pressure-sensitive adhesive composition contains an acrylic polymer having a glass transition temperature Tg of −40° C. or higher, the pressure-sensitive adhesive layer has reduced adhesiveness, and the pickup property can be further improved. From the viewpoint of more stably obtaining the effect of improving the pickup property, the glass transition temperature Tg of the acrylic polymer is more preferably −35° C. or higher. The glass transition temperature Tg of the acrylic polymer is preferably −20° C. or lower from the viewpoint of easily maintaining the performance of holding the chip after dividing the wafer into chips.

アクリル系重合体の重量平均分子量(Mw)は限定されない。通常、10万〜200万であることが好ましく、30万〜150万であることがより好ましい。また、分子量分布(Mw/Mn、Mnは数平均分子量)も限定されない。通常、1.0〜10であることが好ましく、1.0〜3.0であることがより好ましい。 The weight average molecular weight (Mw) of the acrylic polymer is not limited. Usually, it is preferably 100,000 to 2,000,000, and more preferably 300,000 to 1,500,000. Further, the molecular weight distribution (Mw/Mn, Mn is a number average molecular weight) is not limited. Generally, it is preferably 1.0 to 10 and more preferably 1.0 to 3.0.

アクリル系重合体を与える単量体の具体的な種類は限定されない。かかる単量体として、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル、アクリロニトリルなどが例示される。(メタ)アクリル酸エステルの具体例として、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ペンタデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、等のアルキル基の炭素数が1〜18であるアルキル(メタ)アクリレート;シクロアルキル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、イミドアクリレート等の環状骨格を有する(メタ)アクリレート;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等の水酸基を有する(メタ)アクリレート;グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート等のエポキシ基を有する(メタ)アクリレートなどが挙げられる。 The specific type of the monomer that gives the acrylic polymer is not limited. Examples of such a monomer include (meth)acrylic acid, (meth)acrylic acid ester, and acrylonitrile. Specific examples of the (meth)acrylic acid ester include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, nonyl (meth)acrylate, dodecyl. (Meth)acrylate, pentadecyl (meth)acrylate, octadecyl (meth)acrylate, etc., alkyl (meth)acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms; cycloalkyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, iso (Meth)acrylate having a cyclic skeleton such as bornyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentenyl oxyethyl acrylate, and imide acrylate; 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth ) A (meth)acrylate having a hydroxyl group such as acrylate; and a (meth)acrylate having an epoxy group such as glycidyl methacrylate and glycidyl acrylate.

アクリル系重合体は、そのガラス転移温度Tgを上昇させる観点から、メチルメタクリレートを含有することが好ましい。アクリル系重合体がメチルメタクリレートを含有することによりもたらされる効果をより安定的に享受する観点から、アクリル系重合体を与える単量体全体に対するメチルメタクリレートの質量比率は、5質量%以上20質量%以下であることが好ましく、7質量%以上15質量%以下であることがより好ましい。 The acrylic polymer preferably contains methyl methacrylate from the viewpoint of increasing its glass transition temperature Tg. From the viewpoint of more stably enjoying the effect brought by the acrylic polymer containing methyl methacrylate, the mass ratio of methyl methacrylate to the total amount of monomers giving the acrylic polymer is from 5% by mass to 20% by mass. It is preferably at most 7% by mass and more preferably at most 15% by mass.

アクリル系重合体は、酢酸ビニル、スチレン、ビニルアセテートなどを単量体として含む共重合体であってもよい。 The acrylic polymer may be a copolymer containing vinyl acetate, styrene, vinyl acetate or the like as a monomer.

アクリル系重合体は、エネルギー線重合性基と、架橋剤と反応しうる反応性官能基(以下、「反応性官能基」と略記する。)との少なくとも一方を有していてもよい。 The acrylic polymer may have at least one of an energy ray-polymerizable group and a reactive functional group capable of reacting with a crosslinking agent (hereinafter abbreviated as “reactive functional group”).

アクリル系重合体がエネルギー線重合性基を含有する場合には、粘着剤層にエネルギー線を照射することにより、被着体に対する粘着性を低下させることができ、優れたピックアップ性を有する粘着シートを得ることが容易となる。エネルギー線重合性基としては、重合性二重結合を含む基が例示される。エネルギー線重合性基を有するアクリル系重合体の調製方法は限定されない。かかる調製方法の一例として、水酸基、カルボン酸基、アミノ基などの活性水素を有する官能基を有するアクリル系重合体に対して、イソシアネート基など上記の官能基と反応しうる官能基およびエネルギー線重合性基を有する物質(具体例として、(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネートが挙げられる。)を反応させることが挙げられる。なお、アクリル系の粘着剤が、このような調整方法によりエネルギー線重合性基を含有するアクリル系重合体を含有する場合には、上述のアクリル系重合体のガラス転移温度Tgは、上記の官能基と反応しうる官能基およびエネルギー線重合性基を有する物質を反応させる前のTgを指す。 When the acrylic polymer contains an energy ray-polymerizable group, by irradiating the adhesive layer with energy rays, the adhesiveness to an adherend can be reduced, and the adhesive sheet has excellent pickup properties. Will be easier to obtain. Examples of the energy ray-polymerizable group include groups containing a polymerizable double bond. The method for preparing the acrylic polymer having an energy ray-polymerizable group is not limited. As an example of such a preparation method, for an acrylic polymer having a functional group having active hydrogen such as a hydroxyl group, a carboxylic acid group, an amino group, a functional group capable of reacting with the above functional group such as an isocyanate group and energy ray polymerization It is possible to react a substance having a functional group (a specific example thereof is (meth)acryloyloxyethyl isocyanate). In addition, when the acrylic pressure-sensitive adhesive contains an acrylic polymer containing an energy ray-polymerizable group by such an adjusting method, the glass transition temperature Tg of the above-mentioned acrylic polymer is Indicates Tg before reacting a substance having a functional group capable of reacting with a group and an energy ray-polymerizable group.

アクリル系重合体が反応性官能基を有する場合には、この反応性官能基と架橋剤とを反応させることにより、粘着剤層の凝集性を調整して、粘着シートの剥離後に被着体に残渣が発生することを抑制したり、粘着剤層の粘着性を低下させて、ピックアップ性をさらに向上させたりすることが容易となる。反応性官能基と架橋剤との組み合わせは限定されない。反応性官能基として、水酸基、カルボン酸基、アミノ基などの活性水素を有する基などが例示される。架橋剤として、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤、金属キレート系架橋剤などが例示される。
イソシアネート系架橋剤は、複数のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物を少なくとも含有する。ポリイソシアネート化合物の具体例として、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート;ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート、シクロペンチレンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート等の脂環式イソシアネート化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート等の非環式脂肪族イソシアネートおよびそのビウレット体やイソシアヌレート体、イソシアネート基を有する化合物と、エチレングリコール、トリメチロールプロパン、ヒマシ油等の非芳香族性低分子活性水素含有化合物との反応物であるアダクト体などの変性体などが挙げられる。
When the acrylic polymer has a reactive functional group, the cohesiveness of the pressure-sensitive adhesive layer is adjusted by reacting this reactive functional group with a cross-linking agent, and the adhesive sheet is adhered to the adherend after peeling. It becomes easy to suppress the generation of a residue and to lower the adhesiveness of the adhesive layer to further improve the pickup property. The combination of the reactive functional group and the crosslinking agent is not limited. Examples of the reactive functional group include a group having active hydrogen such as a hydroxyl group, a carboxylic acid group and an amino group. Examples of the crosslinking agent include isocyanate crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, and metal chelate crosslinking agents.
The isocyanate crosslinking agent contains at least a polyisocyanate compound having a plurality of isocyanate groups. Specific examples of the polyisocyanate compound include aromatic polyisocyanates such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, and xylylene diisocyanate; dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate, bicycloheptane triisocyanate, cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, methyl. Alicyclic isocyanate compounds such as cyclohexylene diisocyanate and hydrogenated xylylene diisocyanate; acyclic aliphatic isocyanates such as hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate and lysine diisocyanate, and their biuret and isocyanurate bodies, and compounds having isocyanate groups And a modified product such as an adduct which is a reaction product of a non-aromatic low-molecular-weight active hydrogen-containing compound such as ethylene glycol, trimethylolpropane, or castor oil.

エポキシ系架橋剤としては、例えば、1,3−ビス(N,N’−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシリレンジアミン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルアミンなどが挙げられる。 Examples of the epoxy cross-linking agent include 1,3-bis(N,N′-diglycidylaminomethyl)cyclohexane, N,N,N′,N′-tetraglycidyl-m-xylylenediamine, ethylene glycol diglycidyl. Examples thereof include ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, trimethylolpropane diglycidyl ether, diglycidyl aniline, and diglycidyl amine.

アジリジン系架橋剤としては、例えば、ジフェニルメタン−4,4’−ビス(1−アジリジンカーボキサミド)、トリメチロールプロパントリ−β−アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタントリ−β−アジリジニルプロピオネート、トルエン−2,4−ビス(1−アジリジンカーボキサミド)、トリエチレンメラミン、ビスイソフタロイル−1−(2−メチルアジリジン)、トリス−1−(2−メチルアジリジン)フォスフィン、トリメチロールプロパントリ−β−(2−メチルアジリジン)プロピオネートなどが挙げられる。 Examples of the aziridine-based cross-linking agent include diphenylmethane-4,4′-bis(1-aziridinecarboxamide), trimethylolpropane tri-β-aziridinyl propionate, and tetramethylolmethane tri-β-aziridinyl. Propionate, toluene-2,4-bis(1-aziridinecarboxamide), triethylenemelamine, bisisophthaloyl-1-(2-methylaziridine), tris-1-(2-methylaziridine)phosphine, Trimethylolpropane tri-β-(2-methylaziridine)propionate and the like can be mentioned.

金属キレート系架橋剤には、金属原子がアルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、鉄、スズなどのキレート化合物がある。これらの中でも、アルミニウムキレート化合物が性能に優れるため好ましい。アルミニウムキレート化合物としては、例えば、ジイソプロポキシアルミニウムモノオレイルアセトアセテート、モノイソプロポキシアルミニウムビスオレイルアセトアセテート、モノイソプロポキシアルミニウムモノオレエートモノエチルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノラウリルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノステアリルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノイソステアリルアセトアセテートなどが挙げられる。 Examples of the metal chelate-based cross-linking agent include chelate compounds having metal atoms such as aluminum, zirconium, titanium, zinc, iron and tin. Among these, aluminum chelate compounds are preferable because of their excellent performance. Examples of the aluminum chelate compound include diisopropoxy aluminum monooleyl acetoacetate, monoisopropoxy aluminum bisoleyl acetoacetate, monoisopropoxy aluminum monooleate monoethyl acetoacetate, diisopropoxy aluminum monolauryl acetoacetate, diisopropoxy. Examples thereof include aluminum monostearyl acetoacetate and diisopropoxy aluminum monoisostearyl acetoacetate.

粘着剤組成物がアクリル系重合体を含有する場合において、粘着剤組成物はアクリル系重合体以外の成分を含有してもよい。そのような材料の例として、エネルギー線重合性化合物が挙げられる。エネルギー線重合性化合物は、紫外線、電子線等のエネルギー線の照射を受けると重合する化合物である。このエネルギー線重合性化合物の例としては、エネルギー線重合性基を有する低分子量化合物(単官能、多官能のモノマーおよびオリゴマー)が挙げられ、具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートあるいは1,4−ブチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ジシクロペンタジエンジメトキシジアクリレート、イソボルニルアクリレート等の環状脂肪族骨格含有アクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、オリゴエステルアクリレート、ウレタンアクリレートオリゴマー、エポキシ変性アクリレート、ポリエーテルアクリレートなどのアクリレート系化合物が用いられる。このような化合物は、分子内に少なくとも1つの重合性二重結合を有し、通常は、分子量が100〜30000、好ましくは300〜10000程度である。粘着剤組成物が、アクリル系の粘着剤であり、エネルギー線重合性基を含有するアクリル系重合体を含有する場合には、粘着剤組成物がエネルギー線重合性基を有する低分子量化合物を含有しなくても、または少量しか含有しなくても、粘着剤層にエネルギー線を照射することにより、被着体に対する粘着性を低下させることができる。粘着剤組成物におけるエネルギー線重合性基を有する低分子量化合物の含有量が多い場合には、ピックアップ性が低下する傾向がある。そのため、粘着剤組成物が、アクリル系粘着剤であり、エネルギー線重合性基を含有するアクリル系重合体を含有することによって、エネルギー線重合性基を有する低分子量化合物の使用量を低減し、ピックアップ性をさらに向上させることができる。粘着剤組成物がアクリル系の粘着剤である場合には、粘着剤組成物は、アクリル系重合体100質量部に対して、エネルギー線重合性化合物を0〜30質量部含有することが好ましく、0〜15質量部含有することがより好ましく、0〜10質量部含有することがさらに好ましい。 When the pressure-sensitive adhesive composition contains an acrylic polymer, the pressure-sensitive adhesive composition may contain components other than the acrylic polymer. Examples of such materials include energy ray-polymerizable compounds. The energy ray-polymerizable compound is a compound that polymerizes when irradiated with energy rays such as ultraviolet rays and electron rays. Examples of the energy ray-polymerizable compound include low molecular weight compounds having an energy ray-polymerizable group (monofunctional and polyfunctional monomers and oligomers), and specific examples include trimethylolpropane triacrylate and tetramethylolmethane. Tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate or 1,4-butylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, dicyclopentadiene dimethoxydiacrylate, isobornyl Acrylate compounds such as acrylate-containing cycloaliphatic skeleton-containing acrylate, polyethylene glycol diacrylate, oligoester acrylate, urethane acrylate oligomer, epoxy-modified acrylate, and polyether acrylate are used. Such a compound has at least one polymerizable double bond in the molecule, and usually has a molecular weight of 100 to 30,000, preferably about 300 to 10,000. When the pressure-sensitive adhesive composition is an acrylic pressure-sensitive adhesive and contains an acrylic polymer having an energy ray-polymerizable group, the pressure-sensitive adhesive composition contains a low molecular weight compound having an energy ray-polymerizable group. Even if it does not contain it or contains only a small amount, the adhesiveness to the adherend can be lowered by irradiating the adhesive layer with energy rays. When the content of the low molecular weight compound having an energy ray-polymerizable group in the pressure-sensitive adhesive composition is large, the pick-up property tends to be deteriorated. Therefore, the pressure-sensitive adhesive composition is an acrylic pressure-sensitive adhesive, and by containing an acrylic polymer having an energy ray-polymerizable group, the amount of the low molecular weight compound having an energy ray-polymerizable group is reduced, The pickup property can be further improved. When the pressure-sensitive adhesive composition is an acrylic pressure-sensitive adhesive, the pressure-sensitive adhesive composition preferably contains 0 to 30 parts by mass of the energy ray-polymerizable compound with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer, The content is more preferably 0 to 15 parts by mass, further preferably 0 to 10 parts by mass.

粘着剤組成物が、エネルギー線重合性基を有するアクリル系重合体を含有していたり、エネルギー線重合性化合物を含有する場合には、光重合開始剤も含有することが好ましい。光重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、アセトフェノン化合物、アシルフォスフィンオキサイド化合物、チタノセン化合物、チオキサントン化合物、パーオキサイド化合物等の光開始剤、アミンやキノン等の光増感剤などが挙げられ、具体的には、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ジベンジル、ジアセチル、β−クロールアンスラキノン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドなどが例示できる。光重合開始剤を含有させることにより、エネルギー線として紫外線を用いる場合に、その照射時間、照射量を少なくすることができる。 When the pressure-sensitive adhesive composition contains an acrylic polymer having an energy ray-polymerizable group or contains an energy ray-polymerizable compound, it is preferable to also contain a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include benzoin compounds, acetophenone compounds, acylphosphine oxide compounds, titanocene compounds, thioxanthone compounds, photoinitiators such as peroxide compounds, and photosensitizers such as amines and quinones. Examples include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzyl diphenyl sulfide, tetramethyl thiuram monosulfide, azobisisobutyronitrile, dibenzyl, diacetyl, β-chloranthraquinone. 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and the like can be exemplified. By including a photopolymerization initiator, when ultraviolet rays are used as energy rays, the irradiation time and irradiation amount can be reduced.

エネルギー線重合性基やエネルギー線重合性化合物を反応させるためのエネルギー線としては、電離放射線、すなわち、X線、紫外線、電子線などが挙げられる。これらのうちでも、比較的照射設備の導入の容易な紫外線が好ましい。 Examples of the energy ray for reacting the energy ray-polymerizable group or the energy ray-polymerizable compound include ionizing radiation, that is, X-rays, ultraviolet rays, electron rays and the like. Among these, ultraviolet rays, which are relatively easy to introduce irradiation equipment, are preferable.

電離放射線として紫外線を用いる場合には、取り扱いのしやすさから波長200〜380nm程度の紫外線を含む近紫外線を用いればよい。紫外線の光量としては、粘着剤層に含有されるエネルギー線重合性基やエネルギー線重合性化合物の種類や粘着剤層の厚さに応じて適宜選択すればよく、通常50〜500mJ/cm程度であり、100〜450mJ/cmが好ましく、150〜400mJ/cmがより好ましい。また、紫外線照度は、通常50〜500mW/cm程度であり、100〜450mW/cmが好ましく、150〜400mW/cmがより好ましい。紫外線源としては特に制限はなく、例えば高圧水銀ランプ、メタルハライドランプなどが用いられる。When ultraviolet rays are used as the ionizing radiation, near ultraviolet rays including ultraviolet rays having a wavelength of about 200 to 380 nm may be used for easy handling. The amount of ultraviolet light may be appropriately selected according to the type of energy ray-polymerizable group or energy ray-polymerizable compound contained in the pressure-sensitive adhesive layer and the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer, and is usually about 50 to 500 mJ/cm 2. And 100 to 450 mJ/cm 2 is preferable, and 150 to 400 mJ/cm 2 is more preferable. The ultraviolet illumination is usually 50 to 500 mW / cm 2 or so, preferably from 100~450mW / cm 2, 150~400mW / cm 2 is more preferable. The ultraviolet ray source is not particularly limited, and for example, a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp or the like is used.

電離放射線として電子線を用いる場合には、その加速電圧については、粘着剤層に含有されるエネルギー線重合性基やエネルギー線重合性化合物の種類や粘着剤層の厚さに応じて適宜選定すればよく、通常加速電圧10〜1000kV程度であることが好ましい。また、照射線量は、粘着剤層に含有されるエネルギー線重合性基やエネルギー線重合性化合物の反応が適切に進行する範囲に設定すればよく、通常10〜1000kradの範囲で選定される。電子線源としては、特に制限はなく、例えばコックロフトワルトン型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、あるいは直線型、ダイナミトロン型、高周波型などの各種電子線加速器を用いることができる。 When an electron beam is used as the ionizing radiation, its accelerating voltage may be appropriately selected according to the type of energy ray-polymerizable group or energy ray-polymerizable compound contained in the pressure-sensitive adhesive layer and the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer. It is sufficient that the acceleration voltage is usually about 10 to 1000 kV. Further, the irradiation dose may be set in a range in which the reaction of the energy ray-polymerizable group or the energy ray-polymerizable compound contained in the pressure-sensitive adhesive layer appropriately proceeds, and is usually selected in the range of 10 to 1000 krad. The electron beam source is not particularly limited, and for example, various electron beam accelerators such as Cockloft-Walton type, Van de Graft type, resonance transformer type, insulating core transformer type, or linear type, dynamitron type, high frequency type, etc. are used. be able to.

(3)光学特性
本発明の一実施形態に係る粘着シートは、JIS K7136:2000(ISO 14782:1999)に規定されるヘイズが、粘着剤層よりも基材に近位な面を入射面としたときに、0.01%以上10%以下であることが好ましい。当該ヘイズが10%以下であることにより、粘着シートに入射されたレーザー光の有効活用が可能となる。粘着シートに入射されたレーザー光をより安定的に有効に活用することを可能とする観点から、上記のヘイズは、5%以下であることが好ましく、2.5%以下であることがより好ましい。粘着シートに入射されたレーザー光の有効活用の観点からは、上記のヘイズの下限は設定されない。製造安定性を高める観点などから、上記のヘイズは0.01%以上程度とすることが好ましい。
(3) Optical Properties In the pressure-sensitive adhesive sheet according to one embodiment of the present invention, the haze defined in JIS K7136:2000 (ISO 14782:1999) is such that the surface closer to the base material than the pressure-sensitive adhesive layer is the incident surface. When it does, it is preferable that it is 0.01% or more and 10% or less. When the haze is 10% or less, the laser light incident on the adhesive sheet can be effectively used. The haze is preferably 5% or less, more preferably 2.5% or less, from the viewpoint of enabling more stable and effective utilization of the laser light incident on the adhesive sheet. .. From the viewpoint of effectively utilizing the laser light incident on the adhesive sheet, the above-mentioned lower limit of haze is not set. From the viewpoint of enhancing manufacturing stability, the haze is preferably set to about 0.01% or more.

本発明の一実施形態に係る粘着シートは、JIS K7375:2000に規定される全光線透過率が、粘着剤層よりも基材に近位な面を入射面としたときに、85%以上であることが好ましい。当該全光線透過率が85%以上であることにより、粘着シートに入射されたレーザー光の有効活用が可能となる。粘着シートに入射されたレーザー光をより安定的に有効に活用することを可能とする観点から、上記の全光線透過率は、90%以上であることが好ましい。粘着シートに入射されたレーザー光の有効活用の観点からは、上記の全光線透過率の上限は設定されない。製造安定性を高める観点などから、上記の全光線透過率は99.99%以下程度とすることが好ましい。 The pressure-sensitive adhesive sheet according to one embodiment of the present invention has a total light transmittance of 85% or more when the surface closer to the base material than the pressure-sensitive adhesive layer is the incident surface, as defined by JIS K7375:2000. It is preferable to have. When the total light transmittance is 85% or more, the laser light incident on the adhesive sheet can be effectively used. From the viewpoint of enabling more stable and effective utilization of the laser light incident on the adhesive sheet, the total light transmittance is preferably 90% or more. From the viewpoint of effectively utilizing the laser light incident on the adhesive sheet, the upper limit of the total light transmittance is not set. From the viewpoint of improving the manufacturing stability, the total light transmittance is preferably about 99.99% or less.

(4)付加層
本発明の一実施形態に係る粘着シートは、粘着剤層側の面に、付加層が設けられていて、粘着シートの使用の際には、粘着シートの被着体である板状部材に上記の付加層が貼付されてもよい。付加層の構成は限定されない。付加層の具体例として、付加層が保護膜形成フィルムを備える場合や、付加層がダイボンディング層を備える場合が挙げられる。
(4) Additional layer The pressure-sensitive adhesive sheet according to one embodiment of the present invention is provided with an additional layer on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer and is an adherend of the pressure-sensitive adhesive sheet when the pressure-sensitive adhesive sheet is used. The above additional layer may be attached to the plate member. The structure of the additional layer is not limited. Specific examples of the additional layer include a case where the additional layer includes a protective film forming film and a case where the additional layer includes a die bonding layer.

保護膜形成フィルムは、熱などの外部エネルギーにより硬化して、保護膜を形成可能な材料から構成される。保護膜形成フィルムまたは保護膜は、その分割体が、板状部材が個片化されてなるチップ状部材に付着した状態で粘着剤層から分離される。したがって、付加層が保護膜形成フィルムである場合には、チップ状部材の一方の面に保護膜形成フィルムまたは保護膜の分割体が積層されてなる加工物を得ることができる。 The protective film forming film is made of a material capable of forming a protective film by being cured by external energy such as heat. The protective film forming film or the protective film is separated from the pressure-sensitive adhesive layer in a state where the divided body is attached to the chip-shaped member formed by dividing the plate-shaped member into individual pieces. Therefore, when the additional layer is a protective film forming film, it is possible to obtain a processed product in which the protective film forming film or a divided body of the protective film is laminated on one surface of the chip-shaped member.

付加層がダイボンディング層である場合も、板状部材が個片化されてなるチップ状部材にダイボンディング層の分割体が付着した状態で粘着剤層から分離される。したがって、付加層がダイボンディング層である場合には、チップ状部材の一方の面にダイボンディング層の分割体が積層されてなる加工物を得ることができる。 Even when the additional layer is a die bonding layer, it is separated from the pressure-sensitive adhesive layer in a state in which the divided pieces of the die bonding layer are attached to the chip-shaped member obtained by dividing the plate-shaped member into individual pieces. Therefore, when the additional layer is the die bonding layer, it is possible to obtain a processed product in which the divided pieces of the die bonding layer are laminated on one surface of the chip-shaped member.

(5)剥離シート
本発明の一実施形態に係る粘着シートは、粘着剤層または付加層を被着体である板状部材に貼付するまでの間において粘着剤層または付加層を保護する目的で、粘着シートの基材よりも粘着剤層に近位な面、具体的には粘着剤層の面または付加層の面に、剥離シートの剥離面が貼合されていてもよい。剥離シートの構成は任意であり、プラスチックフィルムに剥離剤を塗布したものが例示される。プラスチックフィルムの具体例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、およびポリプロピレンやポリエチレンなどのポリオレフィンフィルムが挙げられる。剥離剤としては、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系などを用いることができるが、これらの中で、安価で安定した性能が得られるシリコーン系が好ましい。上記の剥離シートのプラスチックフィルムに代えて、グラシン紙、コート紙、上質紙などの紙基材または紙基材にポリエチレンなどの熱可塑性樹脂をラミネートしたラミネート紙を用いてもよい。該剥離シートの厚さについては特に制限はないが、通常20μm以上250μm以下程度である。
(5) Release Sheet The pressure-sensitive adhesive sheet according to one embodiment of the present invention is for the purpose of protecting the pressure-sensitive adhesive layer or the additional layer until the pressure-sensitive adhesive layer or the additional layer is attached to the plate-shaped member that is the adherend. The release surface of the release sheet may be attached to the surface of the pressure-sensitive adhesive sheet which is closer to the pressure-sensitive adhesive layer than the base material, specifically, the surface of the pressure-sensitive adhesive layer or the surface of the additional layer. The constitution of the release sheet is arbitrary, and a plastic film coated with a release agent is exemplified. Specific examples of the plastic film include polyester films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate, and polyolefin films such as polypropylene and polyethylene. As the release agent, a silicone-based agent, a fluorine-based agent, a long-chain alkyl-based agent, or the like can be used, and among these, a silicone-based agent that is inexpensive and can obtain stable performance is preferable. Instead of the plastic film of the release sheet, a paper base material such as glassine paper, coated paper, high-quality paper or a laminated paper obtained by laminating a thermoplastic resin such as polyethylene on a paper base material may be used. The thickness of the release sheet is not particularly limited, but is usually about 20 μm or more and 250 μm or less.

2.加工物の製造方法
上記の本発明の一実施形態に係る粘着シートを用いることにより、次に説明するように、板状部材から加工物を製造することが可能である。
2. Method for Manufacturing Workpiece By using the pressure-sensitive adhesive sheet according to one embodiment of the present invention, it is possible to manufacture a workpiece from a plate-shaped member as described below.

(1)貼付工程
まず、上記の本発明の一実施形態に係る粘着シートにおける、基材より粘着剤層に近位な面、具体的には、粘着剤層の面または付加層の面を、板状部材を含む被着体の一方の面に貼付して、粘着シートおよび板状部材を備える第1の積層体を得る。板状部材は限定されない。シリコンウエハなどの半導体ウエハ、TSVに基づく構造を有する積層体などが例示される。板状部材の厚さも限定されない。数十μm〜数百μmの範囲が例示される。
(1) Pasting Step First, in the pressure-sensitive adhesive sheet according to one embodiment of the present invention, the surface closer to the pressure-sensitive adhesive layer than the base material, specifically, the surface of the pressure-sensitive adhesive layer or the surface of the additional layer, It is attached to one surface of an adherend including a plate member to obtain a first laminated body including an adhesive sheet and a plate member. The plate member is not limited. Examples thereof include semiconductor wafers such as silicon wafers and laminated bodies having a structure based on TSV. The thickness of the plate member is also not limited. The range of several tens μm to several hundreds μm is exemplified.

第1の積層体は、付加層を備えていていもよい。付加層として、保護膜形成フィルム、保護膜形成フィルムから形成された保護膜、ダイボンディング層などが例示される。付加層は、粘着シートの一部として板状部材に貼付されてもよいし、板状部材の一方の面にあらかじめ付加層が積層されていてもよい。後者の場合には、付加層の板状部材に対向する面と反対側の面が、板状部材を含む被着体の一方の面として、粘着シートが貼付される面となる。 The first laminated body may include an additional layer. Examples of the additional layer include a protective film forming film, a protective film formed from the protective film forming film, and a die bonding layer. The additional layer may be attached to the plate-shaped member as a part of the pressure-sensitive adhesive sheet, or the additional layer may be previously laminated on one surface of the plate-shaped member. In the latter case, the surface of the additional layer opposite to the surface facing the plate-shaped member is the surface to which the adhesive sheet is attached as one surface of the adherend including the plate-shaped member.

(2)分割工程
第1の積層体が備える基材を伸長することにより、粘着シート上の板状部材を分割して、板状部材の分割体を備えるチップの複数が粘着シート上に配置されてなる第2の積層体を得る。第1の積層体が付加層を備える場合には、基材を伸長することによって付加層も分割される。分割工程が行われた後に、基材における伸長の程度が大きい部分について、加熱などの手段によって収縮させ、粘着シートに過度の弛みが生じることを解消してもよい。
(2) Dividing Step The plate-shaped member on the pressure-sensitive adhesive sheet is divided by extending the base material included in the first laminated body, and a plurality of chips having the divided body of the plate-shaped member are arranged on the pressure-sensitive adhesive sheet. To obtain a second laminated body. If the first laminate comprises additional layers, the additional layers are also split by stretching the substrate. After the dividing step is performed, a portion of the base material having a large degree of extension may be shrunk by means such as heating to eliminate excessive slack in the pressure-sensitive adhesive sheet.

(3)改質部形成工程
上記の分割工程が開始されるまでに、板状部材の内部に設定された焦点に集束されるようにレーザー光を照射して、板状部材の内部に改質部を形成する。このレーザー光の波長や照射方法は、板状部材の組成、厚さなどの構造などに応じて適宜設定される。上記の貼付工程が行われた後に改質部形成工程が行われる場合には、レーザー光の板状部材への照射が、粘着シートを介して行われる場合もある。そのような場合であっても、本発明の一実施形態に係る粘着シートは平面視で欠点が生じにくいため、欠点およびその近傍でレーザー光の照射の程度が変動して、結果的に、板状部材内における改質部の生成が局所的に不適切になってしまう不具合が生じにくい。このように、板状部材内に改質物が局所的に不適切に形成されると、上記の分割工程において、板状部材の分割が適切に行われなくなるおそれがある。板状部材の分割が不適切に行われると、加工物の品質が低下する可能性が高まる。
(3) Step of forming modified portion By the start of the above dividing step, laser light is irradiated so as to be focused on a focal point set inside the plate-shaped member to reform the inside of the plate-shaped member. To form a part. The wavelength of the laser light and the irradiation method are appropriately set according to the composition such as the composition and thickness of the plate-shaped member. When the modified portion forming step is performed after the attaching step is performed, the plate-shaped member may be irradiated with laser light via the adhesive sheet. Even in such a case, since the pressure-sensitive adhesive sheet according to an embodiment of the present invention is less likely to cause a defect in a plan view, the degree of irradiation of laser light varies in the defect and the vicinity thereof, resulting in a plate. It is unlikely that the generation of the modified portion in the cylindrical member becomes locally inappropriate. As described above, if the reformed material is locally formed inadequately in the plate-shaped member, the plate-shaped member may not be properly divided in the above dividing step. Improper division of the plate-shaped member increases the possibility that the quality of the workpiece will deteriorate.

(4)ピックアップ工程
第2の積層体が備える複数のチップのそれぞれを粘着シートから分離することにより、チップを加工物として得ることができる。分離方法は限定されない。通常、粘着シートにおけるチップに対向する側と反対側の面から、ピンなどを突き上げて局所的に粘着シートを変形させることにより、分離予定のチップに対する粘着剤層の粘着性を低減させる。次いで、真空コレットなどを用いて、分離予定のチップを粘着シートから引き剥がすことにより、チップの粘着シートからの分離は行われる。この場合には、ピンを突き上げたときや、真空コレットでチップを引き上げたときに、チップから粘着剤層を引き剥がそうとする力が付与されることになる。チップが薄かったり、TSVに基づく構造を有していたりする場合には、この引き剥がしの際にチップに割れが生じるおそれがある。しかしながら、本発明の一実施形態に係る粘着シートは、粘着剤層の厚さが適切に制御されているため、この引き剥がしの際にチップが割れる可能性が適切に低減されている。すなわち、本発明の一実施形態に係る粘着シートはピックアップ性に優れる。
(4) Pickup Step By separating each of the plurality of chips included in the second laminate from the adhesive sheet, the chips can be obtained as a processed product. The separation method is not limited. Usually, the adhesiveness of the adhesive layer to the chip to be separated is reduced by pushing up a pin or the like from the surface of the adhesive sheet opposite to the chip to locally deform the adhesive sheet. Next, the chip to be separated is separated from the adhesive sheet by peeling off the chip to be separated from the adhesive sheet using a vacuum collet or the like. In this case, when the pin is pushed up or the chip is pulled up by the vacuum collet, a force for peeling off the adhesive layer from the chip is applied. If the chip is thin or has a structure based on TSV, the chip may be cracked during this peeling. However, in the pressure-sensitive adhesive sheet according to one embodiment of the present invention, since the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is appropriately controlled, the possibility that the chip will break during this peeling is appropriately reduced. That is, the pressure-sensitive adhesive sheet according to one embodiment of the present invention has excellent pick-up properties.

第1の積層体が付加層を備える場合には、このピックアップ工程によって粘着シートから分離するチップは、板状部材の分割体およびこの板状部材の分割体の粘着シートに近位な面上に形成された付加層の分割体を備える。すなわち、ピックアップ工程では、粘着剤層と付加層の分割体との間で剥離が生じて、加工物が粘着シートから分離される。 When the first laminated body includes an additional layer, the chip separated from the adhesive sheet by the pickup step is provided on the divided body of the plate-shaped member and on the surface of the divided body of the plate-shaped member proximal to the adhesive sheet. The divided body of the formed additional layer is provided. That is, in the pickup step, peeling occurs between the pressure-sensitive adhesive layer and the divided body of the additional layer, and the processed product is separated from the pressure-sensitive adhesive sheet.

付加層の分割体を与える付加層が保護膜である場合には、保護膜が保護膜形成フィルムから形成される時期は限定されない。第1の積層体が備える付加層は保護膜形成フィルムであって、分離工程の開始までに保護膜形成フィルムから保護膜を形成する作業が行われてもよい。付加層の分割体を与える付加層は保護膜形成フィルムであって、加工物が備える保護膜形成フィルムの分割体から保護膜を形成してもよい。 When the additional layer that provides the divided body of the additional layer is the protective film, the time when the protective film is formed from the protective film-forming film is not limited. The additional layer included in the first laminate is a protective film forming film, and the work of forming the protective film from the protective film forming film may be performed before the start of the separation step. The additional layer that provides the divided body of the additional layer is a protective film-forming film, and the protective film may be formed from the divided body of the protective film-forming film included in the workpiece.

以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。 The embodiments described above are described to facilitate the understanding of the present invention, and are not described to limit the present invention. Therefore, each element disclosed in the above-described embodiment is intended to include all design changes and equivalents within the technical scope of the present invention.

以下、実施例等により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and the like, but the scope of the present invention is not limited to these Examples and the like.

〔実施例1〕
(1)基材の作製
小型Tダイ押出機(東洋精機製作所社製「ラボプラストミル」)によって、ランダムコポリマーポリプロピレン樹脂からなる樹脂組成物を用いて押し出し成形を行い、一方の面(粘着剤加工面に相当する。)の算術表面粗さRaが0.03μm、他方の面(レーザ入射面に相当する。)の算術表面粗さRaが0.03μmであるフィルムを作製して、基材とした。なお、基材の表面粗さは、表面粗さ測定機(ミツトヨ社製「SV−3000」)を用いて測定した。
[Example 1]
(1) Fabrication of base material A small T-die extruder (“Laboplast Mill” manufactured by Toyo Seiki Seisaku-sho, Ltd.) was used to perform extrusion molding using a resin composition composed of a random copolymer polypropylene resin, and one side (adhesive processing Surface) Ra having an arithmetic surface roughness Ra of 0.03 μm and the other surface (corresponding to a laser incident surface) having an arithmetic surface roughness Ra of 0.03 μm. did. The surface roughness of the base material was measured using a surface roughness measuring device (“SV-3000” manufactured by Mitutoyo Corporation).

(2)粘着剤組成物の調製
62質量部のブチルアクリレートと10質量部のメチルメタクリレートと28質量部の2−ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)とを共重合して得た共重合体(ガラス転移温度Tg−34℃)に、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(MOI)を、共重合体のHEAに対して80mol%反応させて、エネルギー線重合性基を有するアクリル系重合体(重量平均分子量50万)を得た。
上記のアクリル系重合体100質量部に対して、光重合開始剤(BASF社製「イルガキュア184」、濃度:100%)3.0質量部、イソシアネート化合物(東洋インキ社製「BHS‐8515」)1.0質量部を配合し、溶媒で希釈された粘着剤組成物を得た。
(2) Preparation of adhesive composition Copolymer obtained by copolymerizing 62 parts by mass of butyl acrylate, 10 parts by mass of methyl methacrylate and 28 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) (glass transition temperature Tg-34° C.) and 80 mol% of methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI) are reacted with HEA of the copolymer to obtain an acrylic polymer (weight average molecular weight 500,000) having an energy ray-polymerizable group. It was
With respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer, 3.0 parts by mass of a photopolymerization initiator (“IRGACURE 184” manufactured by BASF, concentration: 100%), an isocyanate compound (“BHS-8515” manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.) 1.0 part by mass was blended to obtain a pressure-sensitive adhesive composition diluted with a solvent.

(3)粘着シートの作製
剥離シートの剥離面上に、上記の粘着剤組成物を塗布した。得られた塗膜を剥離シートごと80℃の環境を1分間経過させることにより、剥離シートと粘着剤層(測定した厚さは10μmであった。)とからなる積層体を得た。
前述の基材の粘着剤加工面に、上記の積層体の粘着剤層側の面を貼付して、基材と粘着剤層とからなる粘着シートを、粘着剤層側の面に剥離シートがさらに積層された状態で得た。
(3) Preparation of pressure-sensitive adhesive sheet The above-mentioned pressure-sensitive adhesive composition was applied onto the release surface of the release sheet. The obtained coating film was allowed to stand together with the release sheet in an environment of 80° C. for 1 minute to obtain a laminate including the release sheet and the pressure-sensitive adhesive layer (the measured thickness was 10 μm).
On the pressure-sensitive adhesive processed surface of the above-mentioned base material, the pressure-sensitive adhesive layer side surface of the above-mentioned laminate is stuck, and a pressure-sensitive adhesive sheet comprising the base material and the pressure-sensitive adhesive layer is formed on the pressure-sensitive adhesive layer side surface. It was obtained in a further laminated state.

〔実施例2〕
粘着剤層の厚さを5μmとしたこと以外は実施例1と同様にして、粘着シートを、粘着剤層側の面に剥離シートが積層された状態で得た。
[Example 2]
A pressure-sensitive adhesive sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer was 5 μm, with the release sheet laminated on the surface on the pressure-sensitive adhesive layer side.

〔実施例3〕
次の変更点以外は実施例1と同様にして、粘着シートを、粘着剤層側の面に剥離シートが積層された状態で得た。
(変更点)基材の成形条件を変更して、基材の粘着剤加工面の算術表面粗さRaを0.16μm、レーザー入射面の算術表面粗さRaを0.03μmとした。
[Example 3]
A pressure-sensitive adhesive sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except for the following changes, with a release sheet laminated on the pressure-sensitive adhesive layer side surface.
(Changes) By changing the molding conditions of the base material, the arithmetic surface roughness Ra of the pressure-sensitive adhesive processed surface of the base material was 0.16 μm, and the arithmetic surface roughness Ra of the laser incident surface was 0.03 μm.

〔比較例1〕
粘着剤層の厚さを15μmとしたこと以外は実施例3と同様にして、粘着シートを、粘着剤層側の面に剥離シートが積層された状態で得た。
[Comparative Example 1]
A pressure-sensitive adhesive sheet was obtained in the same manner as in Example 3 except that the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer was 15 μm, with the release sheet laminated on the surface on the pressure-sensitive adhesive layer side.

〔比較例2〕
次の変更点1および2以外は実施例1と同様にして、粘着シートを、粘着剤層側の面に剥離シートが積層された状態で得た。
(変更点1)基材の成形条件を変更して、基材の粘着剤加工面の算術表面粗さRaを1.3μm、レーザー入射面の算術表面粗さRaを0.04μmとした。
(変更点2)粘着剤層の厚さを15μmとした。
[Comparative Example 2]
A pressure-sensitive adhesive sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except for the following changes 1 and 2, with the release sheet laminated on the pressure-sensitive adhesive layer side surface.
(Change point 1) By changing the molding conditions of the base material, the arithmetic surface roughness Ra of the pressure-sensitive adhesive processed surface of the base material was 1.3 μm and the arithmetic surface roughness Ra of the laser incident surface was 0.04 μm.
(Change point 2) The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer was set to 15 μm.

〔比較例3〕
粘着剤層の厚さを10μmとしたこと以外は、比較例2と同様にして、粘着シートを、粘着剤層側の面に剥離シートが積層された状態で得た。
[Comparative Example 3]
A pressure-sensitive adhesive sheet was obtained in the same manner as in Comparative Example 2 except that the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer was 10 μm, with the release sheet laminated on the surface on the pressure-sensitive adhesive layer side.

〔比較例4〕
次の変更点以外は実施例1と同様にして、粘着シートを、粘着剤層側の面に剥離シートが積層された状態で得た。
(変更点)基材の成形条件を変更して、基材の粘着剤加工面の算術表面粗さRaを0.04μm、レーザー入射面の算術表面粗さRaを1.3μmとした。
[Comparative Example 4]
A pressure-sensitive adhesive sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except for the following changes, with a release sheet laminated on the pressure-sensitive adhesive layer side surface.
(Changes) By changing the molding conditions of the base material, the arithmetic surface roughness Ra of the adhesive processed surface of the base material was 0.04 μm, and the arithmetic surface roughness Ra of the laser incident surface was 1.3 μm.

〔試験例1〕<ヘイズの測定>
実施例および比較例により製造された粘着シートから剥離シートを剥がし、適切な大きさに切断して得られた試験片のヘイズを、JIS K7136:2000に準拠し、HAZE METER(日本電色工業社製「NDH−5000」)を用いて測定した。測定光は粘着シートの基材側の面から入射した。結果を表1に示す。
[Test Example 1] <Measurement of haze>
The haze of the test piece obtained by peeling off the release sheet from the pressure-sensitive adhesive sheets produced in Examples and Comparative Examples and cutting into an appropriate size was measured according to JIS K7136:2000, and HAZE METER (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) was used. Manufactured by "NDH-5000"). The measurement light was incident from the surface of the adhesive sheet on the base material side. The results are shown in Table 1.

〔試験例2〕<欠点の観察>
実施例および比較例により製造された粘着シートから剥離シートを剥がし、それぞれの粘着シートの粘着剤層側の面の任意の100mm×100mmの範囲を観察範囲とした。これらの観察範囲のそれぞれについて、光学顕微鏡を用いて観察し、欠点の存在の程度に基づいて、次の基準で評価した。結果を表1に示す。
A:観察範囲において欠点は認められなかった。
B:観察範囲内に5個以下の欠点が観察された。
C:観察範囲内に6個以下の欠点が観察された。
[Test Example 2] <Observation of defects>
The release sheet was peeled off from the pressure-sensitive adhesive sheets produced in Examples and Comparative Examples, and an arbitrary range of 100 mm×100 mm on the pressure-sensitive adhesive layer side surface of each pressure-sensitive adhesive sheet was set as an observation range. Each of these observation ranges was observed using an optical microscope, and based on the degree of existence of defects, the following criteria were used for evaluation. The results are shown in Table 1.
A: No defect was observed in the observation range.
B: Five or less defects were observed within the observation range.
C: Six or less defects were observed within the observation range.

〔試験例3〕<ピックアップ性評価>
実施例および比較例により製造された粘着シートを平面視で円形に切断し、剥離シートを剥がし、シリコンウエハ(厚さ:100μm)およびリングフレームに粘着シートの粘着剤層の面を貼付した。
[Test Example 3] <Evaluation of pickup property>
The pressure-sensitive adhesive sheets produced in Examples and Comparative Examples were cut into a circle in a plan view, the release sheet was peeled off, and the surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet was attached to a silicon wafer (thickness: 100 μm) and a ring frame.

レーザー照射装置を用いて、シリコンウエハの粘着剤層に対向している面側から粘着シート越しに、ウエハ内部で集光するレーザーを、8mm×8mmのチップが形成されるように設定された切断予定ラインに沿って走査させながら照射した。全ての切断予定ラインにレーザーを照射した後、エキスパンド装置を用いて、速度10mm/秒で10mm粘着シートを引き落とし、粘着シートの粘着剤層側の面におけるシリコンウエハが貼付された領域を主面内外向き方向に伸長させた。 A laser irradiation device is used to cut a laser focused on the inside of the wafer from the side facing the adhesive layer of the silicon wafer through the adhesive sheet so that a chip of 8 mm x 8 mm is formed. Irradiation was performed while scanning along the planned line. After irradiating all the planned cutting lines with a laser, the expander is used to pull down the 10 mm pressure sensitive adhesive sheet at a speed of 10 mm/sec, and the area where the silicon wafer is bonded on the surface of the pressure sensitive adhesive layer side of the pressure sensitive adhesive sheet is inside or outside the main surface. Stretched in the direction of orientation.

この状態で、紫外線を、次の照射条件で粘着シートに照射した。
照度:220mW/cm
光量:190mJ/cm
In this state, the pressure-sensitive adhesive sheet was irradiated with ultraviolet rays under the following irradiation conditions.
Illuminance: 220 mW/cm 2
Light intensity: 190mJ/cm 2

続いて、アイコーエンジニアリング社製プッシュプルゲージ(突き上げ治具:1ピン)にてピックアップの際の荷重を測定した。突き上げに要した荷重を測定し、この測定値に基づいて、次の基準によりピックアップ性を評価した。結果を表1に示す。
A:1.7N以下
B:1.7Nより大きい
Then, the load at the time of pickup was measured with a push-pull gauge (push-up jig: 1 pin) manufactured by Aiko Engineering. The load required for pushing up was measured, and the pickup property was evaluated according to the following criteria based on the measured value. The results are shown in Table 1.
A: 1.7N or less B: 1.7N or more

Figure 0006731852
Figure 0006731852

表1から分かるように、本発明の条件を満たす実施例の粘着シートは、ヘイズが低く、かつ欠点が生じにくく、しかもピックアップ性に優れ、レーザーダイシングシートとして好適なものであった。 As can be seen from Table 1, the pressure-sensitive adhesive sheets of Examples satisfying the conditions of the present invention had low haze, were less likely to cause defects, and were excellent in pick-up properties, and were suitable as laser dicing sheets.

本発明に係る粘着シートは、レーザーダイシングシートとして好適に用いられる。 The pressure-sensitive adhesive sheet according to the present invention is preferably used as a laser dicing sheet.

Claims (11)

板状部材にレーザー光を照射して改質部を形成し、前記板状部材を分割してチップ化することに用いる粘着シートであって、
基材と、前記基材の一方の面に設けられた粘着剤層とを備え、
前記基材は、前記一方の面および前記一方の面と反対側の面の双方について、JIS B0601:2013(ISO 4287:1997)に規定される算術平均粗さRaが0.01μm以上0.2μm以下であり、
前記基材は、ポリオレフィン系材料からなり、
前記粘着剤層は、アクリル系重合体を含有し、前記アクリル系重合体は、ガラス転移温度Tgが−40℃以上−10℃以下であり、
前記アクリル系重合体は、エネルギー線重合性基を有し、
前記粘着剤層の厚さが2μm以上12μm以下であること
を特徴とする粘着シート。
A pressure-sensitive adhesive sheet used for irradiating a plate member with a laser beam to form a modified portion, and dividing the plate member into chips.
A base material and an adhesive layer provided on one surface of the base material,
The base material has an arithmetic average roughness Ra of 0.01 μm or more and 0.2 μm or less defined by JIS B0601:2013 (ISO 4287:1997) on both the one surface and the surface opposite to the one surface. Is less than
The base material is made of a polyolefin material,
The pressure-sensitive adhesive layer contains an acrylic polymer, and the acrylic polymer has a glass transition temperature Tg of −40° C. or higher and −10° C. or lower,
The acrylic polymer has an energy ray-polymerizable group,
A pressure-sensitive adhesive sheet, wherein the pressure-sensitive adhesive layer has a thickness of 2 μm or more and 12 μm or less.
前記粘着シートは、JIS K7136:2000(ISO 14782:1999)に規定されるヘイズが、基材側を入射側としたときに、0.01%以上10%以下である、請求項1に記載の粘着シート。 The pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1, wherein the haze defined by JIS K7136:2000 (ISO 14782:1999) is 0.01% or more and 10% or less when the substrate side is the incident side. Adhesive sheet. 前記アクリル系重合体はメチルメタクリレートに由来する構成単位を含み、前記アクリル系重合体を与える単量体全体に対するメチルメタクリレートの質量比率は、5質量%以上20質量%以下である、請求項1または2に記載の粘着シート。 2. The acrylic polymer contains a constituent unit derived from methyl methacrylate, and the mass ratio of methyl methacrylate to all the monomers giving the acrylic polymer is 5% by mass or more and 20% by mass or less. The pressure-sensitive adhesive sheet according to item 2. 前記アクリル系重合体は、エネルギー線重合性基を有する低分子量化合物を含まない、請求項1から3のいずれか一項に記載の粘着シート。 The pressure-sensitive adhesive sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the acrylic polymer does not contain a low molecular weight compound having an energy ray-polymerizable group. 前記基材の前記算術平均粗さRaは前記基材をロール加圧することを含んで設定されたものである、請求項1からのいずれか一項に記載の粘着シート。 The pressure-sensitive adhesive sheet according to any one of claims 1 to 4 , wherein the arithmetic average roughness Ra of the base material is set to include rolling the base material. 前記ロール加圧に用いられたロールは金属材料からなる表面を有するロールである、請求項に記載の粘着シート。 The pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 5 , wherein the roll used for pressing the roll is a roll having a surface made of a metal material. 請求項1からのいずれかに記載される粘着シートの前記基材よりも前記粘着剤層に近位な面を、板状部材を含む被着体の一方の面に貼付して、前記粘着シートおよび前記板状部材を備える第1の積層体を得る貼付工程;
前記第1の積層体が備える前記基材を伸長することにより、前記粘着シート上の前記板状部材を分割して、前記板状部材の分割体を備えるチップの複数が前記粘着シート上に配置されてなる第2の積層体を得る分割工程;および
前記第2の積層体が備える前記複数のチップのそれぞれを前記粘着シートから分離して、前記チップを加工物として得るピックアップ工程を備え、
前記分割工程が開始されるまでに、前記板状部材の内部に設定された焦点に集束されるようにレーザー光を照射して、前記板状部材の内部に改質部を形成する改質部形成工程が行われること
を特徴とする加工物の製造方法。
The surface of the pressure-sensitive adhesive sheet according to any one of claims 1 to 6 that is closer to the pressure-sensitive adhesive layer than the base material is affixed to one surface of an adherend including a plate-shaped member to form the pressure-sensitive adhesive sheet. A sticking step of obtaining a first laminated body including a sheet and the plate-shaped member;
By extending the base material included in the first stacked body, the plate-shaped member on the pressure-sensitive adhesive sheet is divided, and a plurality of chips each including the divided body of the plate-shaped member are arranged on the pressure-sensitive adhesive sheet. And a pickup step of separating each of the plurality of chips included in the second laminated body from the adhesive sheet to obtain the chips as a processed product,
A reforming unit that irradiates a laser beam so as to be focused at a focus set inside the plate-shaped member and forms a reforming unit inside the plate-shaped member by the time the dividing step is started. A method of manufacturing a processed product, which comprises performing a forming step.
前記分割工程に供される前記第1の積層体は、前記粘着剤層と前記板状部材との間に付加層を備え、前記分割工程によって前記付加層も分割され、前記ピックアップ工程によって前記粘着シートから分離するチップは、前記板状部材の分割体および当該板状部材の分割体の前記粘着シートに近位な面上に形成された前記付加層の分割体を備える、請求項に記載の加工物の製造方法。 The first laminate provided in the dividing step includes an additional layer between the pressure-sensitive adhesive layer and the plate-shaped member, the additional layer is also divided by the dividing step, and the adhesive layer is obtained by the picking-up step. chip separating from the sheet comprises a split body of said plate-like member divided body and the plate-like member the additional layer in the adhesive sheet of the divided bodies are formed on the proximal surface of the, according to claim 7 Of manufacturing processed products of. 前記付加層は保護層を備える、請求項に記載の加工物の製造方法。 9. The method of manufacturing a work piece according to claim 8 , wherein the additional layer comprises a protective layer. 前記分割工程が開始されるまでに、前記第1の積層体が備える前記保護層を保護膜形成フィルムから形成する保護膜形成工程を備える、請求項に記載の加工物の製造方法。 The method for manufacturing a workpiece according to claim 9 , further comprising: a protective film forming step of forming the protective layer of the first laminated body from a protective film forming film before the dividing step is started. 前記付加層はダイボンディング層を備える、請求項に記載の加工物の製造方法。 The method of manufacturing a work piece according to claim 8 , wherein the additional layer comprises a die bonding layer.
JP2016562422A 2014-12-02 2015-11-27 Adhesive sheet and method for manufacturing processed product Active JP6731852B2 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014244009 2014-12-02
JP2014244009 2014-12-02
PCT/JP2015/083414 WO2016088677A1 (en) 2014-12-02 2015-11-27 Adhesive sheet, and method for manufacturing processed article

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2016088677A1 JPWO2016088677A1 (en) 2017-09-07
JP6731852B2 true JP6731852B2 (en) 2020-07-29

Family

ID=56091621

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016562422A Active JP6731852B2 (en) 2014-12-02 2015-11-27 Adhesive sheet and method for manufacturing processed product

Country Status (6)

Country Link
JP (1) JP6731852B2 (en)
KR (1) KR102447759B1 (en)
CN (1) CN106795396B (en)
SG (1) SG11201704347YA (en)
TW (3) TWI811763B (en)
WO (1) WO2016088677A1 (en)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG11201705157WA (en) * 2014-12-25 2017-07-28 Denka Company Ltd Adhesive sheet for laser dicing and method for manufacturing semiconductor device
JP6980684B2 (en) * 2016-11-02 2021-12-15 リンテック株式会社 Dicing sheet
KR102481244B1 (en) * 2017-07-03 2022-12-26 린텍 가부시키가이샤 Method for manufacturing adhesive sheet for stealth dicing and semiconductor device
JP7109918B2 (en) * 2017-12-28 2022-08-01 日東電工株式会社 Dicing tape integrated semiconductor back adhesion film
JP7296944B2 (en) * 2018-03-29 2023-06-23 リンテック株式会社 Work processing sheet
CN111989764A (en) * 2018-04-18 2020-11-24 琳得科株式会社 Sheet for processing workpiece
KR20210148068A (en) * 2019-03-27 2021-12-07 린텍 가부시키가이샤 Sheet for work processing
KR102426261B1 (en) * 2019-09-26 2022-07-29 주식회사 엘지화학 Adhesive composition for dicing tape and dicing tape comprising the same
CN111693368A (en) * 2020-06-15 2020-09-22 苏州高泰电子技术股份有限公司 Test method for microscopic characterization performance of wafer cutting adhesive tape

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5124778B2 (en) 1971-12-22 1976-07-27
JP2005229040A (en) 2004-02-16 2005-08-25 Denki Kagaku Kogyo Kk Pressure-sensitive adhesive sheet for fixing semiconductor base
JP4712468B2 (en) * 2004-11-30 2011-06-29 古河電気工業株式会社 Dicing die bond tape
JP4762671B2 (en) * 2005-10-26 2011-08-31 古河電気工業株式会社 Dicing tape and semiconductor wafer dicing method
JP5019619B2 (en) * 2008-03-27 2012-09-05 古河電気工業株式会社 Wafer surface protection tape
JP5124778B2 (en) * 2008-09-18 2013-01-23 リンテック株式会社 Laser dicing sheet and semiconductor chip manufacturing method
JP2011040449A (en) * 2009-08-07 2011-02-24 Du Pont Mitsui Polychem Co Ltd Substrate for dicing tape, the dicing tape, and method for manufacturing semiconductor device
JP5603757B2 (en) * 2009-12-04 2014-10-08 リンテック株式会社 Laser dicing adhesive sheet and method for manufacturing semiconductor device
JP2012079936A (en) * 2010-10-01 2012-04-19 Nitto Denko Corp Dicing, die-bonding film and method for manufacturing semiconductor device
US20130260140A1 (en) * 2010-12-06 2013-10-03 Kimoto Co., Ltd. Auxiliary sheet for laser dicing
JP6071712B2 (en) * 2013-04-05 2017-02-01 日東電工株式会社 Adhesive tape

Also Published As

Publication number Publication date
TW202014490A (en) 2020-04-16
TW202144516A (en) 2021-12-01
TWI738633B (en) 2021-09-11
SG11201704347YA (en) 2017-06-29
TW201629171A (en) 2016-08-16
KR102447759B1 (en) 2022-09-27
KR20170091578A (en) 2017-08-09
TWI811763B (en) 2023-08-11
WO2016088677A1 (en) 2016-06-09
JPWO2016088677A1 (en) 2017-09-07
CN106795396B (en) 2020-12-18
CN106795396A (en) 2017-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6731852B2 (en) Adhesive sheet and method for manufacturing processed product
US11322385B2 (en) Adhesive tape for semiconductor processing, and semiconductor device manufacturing method
US20070054469A1 (en) Pressure-sensitive adhesive sheet and method of processing articles
US11842916B2 (en) Semiconductor processing adhesive tape and method of manufacturing semiconductor device
US20070059903A1 (en) Pressure-sensitive adhesive sheet and method of processing articles
TWI580755B (en) Cutting pieces
US11942353B2 (en) Adhesive tape for semiconductor processing and method for producing semiconductor device
TWI657550B (en) Extensible sheet and method for manufacturing laminated wafer
JP6744930B2 (en) Dicing sheet and chip manufacturing method using the dicing sheet
JP6317744B2 (en) Dicing sheet
CN107078038B (en) Dicing sheet, method for manufacturing dicing sheet, and method for manufacturing die chip
WO2016017265A1 (en) Dicing sheet, method for manufacturing dicing sheet, and method for manufacturing molded chip
JP2011225706A (en) Adhesive sheet and method for manufacturing electronic component
KR102642079B1 (en) Adhesive tape for semiconductor processing
CN107236474B (en) Adhesive sheet for glass cutting and method for producing same
JP7296944B2 (en) Work processing sheet
CN118974890A (en) Adhesive tape for semiconductor processing
WO2019008810A1 (en) Adhesive sheet for stealth dicing, and production method for semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180828

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190618

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190808

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20200114

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200406

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20200415

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200616

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200707

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6731852

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250