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JP6799370B2 - Multivalent hydroxy resin, epoxy resin, their manufacturing method, epoxy resin composition and cured product thereof - Google Patents

Multivalent hydroxy resin, epoxy resin, their manufacturing method, epoxy resin composition and cured product thereof Download PDF

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JP6799370B2 JP2015193183A JP2015193183A JP6799370B2 JP 6799370 B2 JP6799370 B2 JP 6799370B2 JP 2015193183 A JP2015193183 A JP 2015193183A JP 2015193183 A JP2015193183 A JP 2015193183A JP 6799370 B2 JP6799370 B2 JP 6799370B2
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  • Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
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Description

本発明は、流動性に優れるとともに、耐湿性、高温低弾性、難燃性、低誘電性に優れた硬化物を与えるエポキシ樹脂、その中間体として適する多価ヒドロキシ樹脂、それらの製造方法、これら用いたエポキシ樹脂組成物並びにその硬化物に関するものであり、半導体封止材、プリント配線板等の電気電子分野の絶縁材料や複合材料等に好適に使用される。 The present invention relates to an epoxy resin that provides a cured product having excellent fluidity, moisture resistance, high temperature and low elasticity, flame retardancy, and low dielectric property, a polyvalent hydroxy resin suitable as an intermediate thereof, a method for producing the same, and the like. It relates to the epoxy resin composition used and a cured product thereof, and is suitably used for insulating materials and composite materials in the electrical and electronic fields such as semiconductor encapsulants and printed wiring boards.

エポキシ樹脂は工業的に幅広い用途で使用されてきているが、その要求性能は近年ますます高度化している。例えば、エポキシ樹脂を主剤とする樹脂組成物の代表的分野に半導体封止材料があるが、半導体素子の集積度の向上に伴い、パッケージサイズは大面積化、薄型化に向かうとともに、実装方式も表面実装化への移行が進展しており、半田耐熱性に優れた材料の開発が望まれている。従って、封止材料としては、低吸湿化に加え、リードフレーム、チップ等の異種材料界面での接着性・密着性の向上が強く求められている。回路基板材料においても同様に、半田耐熱性向上の観点から低吸湿性、高耐熱性、高密着性の向上に加え、誘電損失低減の観点から低誘電性に優れた材料の開発が望まれている。これらの要求に対応するため、様々な新規構造のエポキシ樹脂及び硬化剤が検討されている。更に最近では、環境負荷低減の観点から、ハロゲン系難燃剤排除の動きがあり、より難燃性に優れたエポキシ樹脂及び硬化剤が求められている。 Epoxy resins have been used in a wide range of industrial applications, but their required performance has become more sophisticated in recent years. For example, semiconductor encapsulant materials are a typical field of resin compositions containing epoxy resin as the main component, but as the degree of integration of semiconductor elements increases, the package size is becoming larger and thinner, and the mounting method is also increasing. The transition to surface mounting is progressing, and the development of materials with excellent solder heat resistance is desired. Therefore, as a sealing material, in addition to low hygroscopicity, improvement of adhesiveness and adhesion at the interface between different materials such as lead frames and chips is strongly required. Similarly, for circuit board materials, it is desired to develop a material having excellent low dielectric property from the viewpoint of reducing dielectric loss, in addition to improving low hygroscopicity, high heat resistance, and high adhesion from the viewpoint of improving solder heat resistance. There is. In order to meet these demands, various new structures of epoxy resins and curing agents are being studied. More recently, from the viewpoint of reducing the environmental load, there is a movement to eliminate halogen-based flame retardants, and epoxy resins and curing agents having more excellent flame retardancy are required.

従って、上記背景から種々のエポキシ樹脂及びエポキシ樹脂硬化剤が検討されている。芳香族ビニル化合物を用いた樹脂として、特許文献1には、ノボラック型フェノール樹脂と芳香族ビニル化合物の樹脂組成物が示されているが、これは多官能のノボラック樹脂と芳香族ジビニル化合物から硬化物を得るための組成物であって、生成物は三次元架橋が進行するため溶剤溶解性や成形性を備えていない。そのため、これをエポキシ樹脂の硬化剤として使用することや変性してエポキシ樹脂として使用することができず、更には溶剤溶解性を必要とする電子材料基板用途には使用できなかった。また、特許文献2にはフェノールと、純度90重量%以上のジビニルベンゼンとを反応させるフェノールアラルキル樹脂の製造方法が開示されているが、ここでは純度の高いジビニルベンゼンを使用することでアラルキル樹脂の分子量の増加、多官能化を図ることで耐熱性、耐湿性を向上することが可能となったが、低誘電率化を図ることは難しかった。更に、特許文献3にはフェノールノボラック樹脂にスチレンを反応させた多価ヒドロキシ樹脂が開示されているが、吸湿性や耐熱性の観点で未だ十分とは言えなかった。 Therefore, various epoxy resins and epoxy resin curing agents have been studied from the above background. As a resin using an aromatic vinyl compound, Patent Document 1 discloses a resin composition of a novolak type phenol resin and an aromatic vinyl compound, which is cured from a polyfunctional novolak resin and an aromatic divinyl compound. It is a composition for obtaining a product, and the product does not have solvent solubility or moldability because three-dimensional cross-linking proceeds. Therefore, it cannot be used as a curing agent for an epoxy resin or modified to be used as an epoxy resin, and further, it cannot be used for an electronic material substrate application that requires solvent solubility. Further, Patent Document 2 discloses a method for producing a phenol aralkyl resin in which phenol is reacted with divinylbenzene having a purity of 90% by weight or more. Here, by using divinylbenzene having a high purity, the aralkyl resin can be produced. Although it was possible to improve heat resistance and moisture resistance by increasing the molecular weight and making it polyfunctional, it was difficult to reduce the dielectric constant. Further, Patent Document 3 discloses a polyvalent hydroxy resin obtained by reacting a phenol novolac resin with styrene, but it has not been sufficiently sufficient from the viewpoint of hygroscopicity and heat resistance.

特開平5−117337号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 5-117337 特開平8−73570号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-73570 特開2012−57079号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-57079

本発明の目的は、積層、成形、注型、接着等の用途において、流動性に優れるとともに、耐湿性、高温低弾性、難燃性、低誘電性等に優れた性能を有する多価ヒドロキシ樹脂およびエポキシ樹脂を提供すること、流動性に優れるとともに、耐湿性、低弾性、難燃性、低誘電性等にも優れた硬化物を与える電気・電子部品類の封止、回路基板材料、複合材料等に有用なエポキシ樹脂組成物を提供すること、及びその硬化物を提供することにある。 An object of the present invention is a polyvalent hydroxy resin having excellent fluidity, moisture resistance, high temperature and low elasticity, flame retardancy, low dielectric property, etc. in applications such as lamination, molding, casting, and adhesion. And providing epoxy resin, encapsulation of electrical and electronic parts, circuit board materials, composites that provide a cured product with excellent fluidity and excellent moisture resistance, low elasticity, flame retardancy, low dielectric property, etc. It is an object of the present invention to provide an epoxy resin composition useful for a material or the like, and to provide a cured product thereof.

本発明は、下記一般式(1)で表されるフェノール化合物と、下記一般式(2)および(3)で表される芳香族ビニル化合物を反応させて得られ、下記一般式(4)で表されることを特徴とする多価ヒドロキシ樹脂である。 The present invention is obtained by reacting a phenol compound represented by the following general formula (1) with an aromatic vinyl compound represented by the following general formulas (2) and (3), and the following general formula (4). It is a polyhydric hydroxy resin characterized by being represented.

Figure 0006799370
(R1は水素又は炭素数1〜6の炭化水素基を示す。)
Figure 0006799370
Figure 0006799370
(R 1 indicates hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.)
Figure 0006799370

Figure 0006799370
(R1は水素又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、R2は式(a)で表される置換基を示し、R3およびR4は水素を示し、nは0〜20の数を示す。また、pはR2が置換するベンゼン環1つ当たりの平均の置換数であり、0.1〜3.0の数を示す。)
Figure 0006799370
(R 1 represents hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, R 2 represents a substituent represented by the formula (a), R 3 and R 4 represent hydrogen, and n is 0 to 20. The number is shown. In addition, p is the average number of substitutions per benzene ring substituted by R 2 , and indicates a number of 0.1 to 3.0.)

上記多価ヒドロキシ樹脂の好ましい態様としては、水酸基当量が200〜500g/eq.の範囲であること、又は下記一般式(5)で表される単価ヒドロキシ化合物の含有率が、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC;RI)で検出した時の面積百分率で3%〜20%であることが挙げられる。 A preferred embodiment of the multivalent hydroxy resin has a hydroxyl group equivalent of 200 to 500 g / eq. The content of the unit price hydroxy compound represented by the following general formula (5) is 3% to 20% in terms of area percentage when detected by gel permeation chromatography (GPC; RI). Can be mentioned.

Figure 0006799370
(ここで、p、R1は一般式(4)と同意である。)
Figure 0006799370
(Here, p and R 1 agree with the general formula (4).)

また、本発明は上記一般式(1)で表されるフェノール化合物と、上記一般式(2)および(3)で表される芳香族ビニル化合物とを、10〜1000wtppmの酸触媒の存在下、反応温度40〜180℃で反応させて、上記式(a)で表される置換基をフェノール化合物のベンゼン環に付加させることを特徴とする上記一般式(4)で表される多価ヒドロキシ樹脂の製造方法である。 Further, in the present invention, the phenol compound represented by the general formula (1) and the aromatic vinyl compound represented by the general formulas (2) and (3) are mixed in the presence of an acid catalyst of 10 to 1000 wtppm. A polyvalent hydroxy resin represented by the above general formula (4), which comprises reacting at a reaction temperature of 40 to 180 ° C. to add a substituent represented by the above formula (a) to the benzene ring of the phenol compound. It is a manufacturing method of.

上記多価ヒドロキシ樹脂の製造方法において、一般式(1)で表されるフェノール化合物のヒドロキシ基1モルに対し、一般式(2)で表される芳香族ビニル化合物0.1〜1.0モルを反応させることがよい。 In the method for producing a polyvalent hydroxy resin, 0.1 to 1.0 mol of an aromatic vinyl compound represented by the general formula (2) is obtained with respect to 1 mol of the hydroxy group of the phenol compound represented by the general formula (1). It is good to react.

また、本発明は、エポキシ樹脂及び硬化剤よりなるエポキシ樹脂組成物において、硬化剤の一部又は全部として、上記の多価ヒドロキシ樹脂を必須成分とするエポキシ樹脂組成物である。更に、本発明はこのエポキシ樹脂組成物を硬化してなるエポキシ樹脂硬化物である。 Further, the present invention is an epoxy resin composition composed of an epoxy resin and a curing agent, wherein the above-mentioned polyvalent hydroxy resin is an essential component as a part or all of the curing agent. Furthermore, the present invention is an epoxy resin cured product obtained by curing this epoxy resin composition.

また、本発明は、上記多価ヒドロキシ樹脂とエピクロルヒドリンとの反応で得られることを特徴とするエポキシ樹脂である。更に、本発明は、エポキシ樹脂及び硬化剤よりなるエポキシ樹脂組成物において、このエポキシ樹脂を必須成分として配合してなるエポキシ樹脂組成物、及びこのエポキシ樹脂組成物を硬化してなるエポキシ樹脂硬化物である。 Further, the present invention is an epoxy resin characterized by being obtained by reacting the above-mentioned multivalent hydroxy resin with epichlorohydrin. Further, the present invention is an epoxy resin composition composed of an epoxy resin and a curing agent, an epoxy resin composition containing the epoxy resin as an essential component, and an epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin composition. Is.

本発明のエポキシ樹脂組成物を用いて得られたエポキシ樹脂硬化物は、耐湿性、高温低弾性、難燃性、低誘電性等に優れる。また、このエポキシ樹脂組成物は成形の際に優れた流動性を与える。そのため、本発明のエポキシ樹脂組成物は、パワー半導体の封止材料の用途や高周波対応の回路基板材料の用途に好適に使用することができる。 The epoxy resin cured product obtained by using the epoxy resin composition of the present invention is excellent in moisture resistance, high temperature and low elasticity, flame retardancy, low dielectric property and the like. In addition, this epoxy resin composition gives excellent fluidity during molding. Therefore, the epoxy resin composition of the present invention can be suitably used for applications of encapsulating materials for power semiconductors and applications of circuit board materials compatible with high frequencies.

実施例1で合成した多価ヒドロキシ樹脂のGPCチャートGPC chart of the multivalent hydroxy resin synthesized in Example 1 実施例1で合成した多価ヒドロキシ樹脂のFD−MSチャートFD-MS chart of the multivalent hydroxy resin synthesized in Example 1 比較例1で合成した多価ヒドロキシ樹脂のGPCチャートGPC chart of the multivalent hydroxy resin synthesized in Comparative Example 1 比較例1で合成した多価ヒドロキシ樹脂のFD−MSチャートFD-MS chart of the multivalent hydroxy resin synthesized in Comparative Example 1 実施例3で合成したエポキシ樹脂のGPCチャートGPC chart of epoxy resin synthesized in Example 3 実施例3で合成したエポキシ樹脂のFD−MSチャートFD-MS chart of the epoxy resin synthesized in Example 3 比較例2で合成したエポキシ樹脂のGPCチャートGPC chart of epoxy resin synthesized in Comparative Example 2 比較例2で合成したエポキシ樹脂のFD−MSチャートFD-MS chart of the epoxy resin synthesized in Comparative Example 2

まず、本発明の多価ヒドロキシ樹脂(DVBN−Pともいう。)の製造方法について説明する。本発明の製造方法では、上記一般式(1)で表されるフェノール化合物と、上記一般式(2)および(3)で表される芳香族ビニル化合物とを、10〜1000wtppmの酸触媒の存在下、反応温度40〜180℃で反応させて、上記一般式(4)で表される多価ヒドロキシ樹脂を製造する。 First, a method for producing the multivalent hydroxy resin (also referred to as DVBN-P) of the present invention will be described. In the production method of the present invention, the phenol compound represented by the general formula (1) and the aromatic vinyl compound represented by the general formulas (2) and (3) are present in an acid catalyst of 10 to 1000 wtppm. Below, the reaction is carried out at a reaction temperature of 40 to 180 ° C. to produce a polyhydric hydroxy resin represented by the above general formula (4).

本発明のDVBN−Pを製造する方法で用いるフェノール化合物は、上記一般式(1)で表されるフェノール化合物である。
一般式(1)において、R1は水素又は炭素数1〜6の炭化水素基を示す。好適なフェノール化合物としては、例えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、エチルフェノール類、イソプロピルフェノール類、ターシャリーブチルフェノール類、アリルフェノール類、フェニルフェノール類などが挙げられる。これらのフェノール類は単独でもよいし、2種以上を併用してもよい。
The phenol compound used in the method for producing DVBN-P of the present invention is the phenol compound represented by the above general formula (1).
In the general formula (1), R 1 represents hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. Suitable phenolic compounds include, for example, phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, ethylphenols, isopropylphenols, tertiary butylphenols, allylphenols, phenylphenols and the like. These phenols may be used alone or in combination of two or more.

反応に用いる芳香族ビニル化合物としては、上記一般式(2)および(3)で表されるジビニルベンゼン(DVB)とエチルビニルベンゼン(EVB)の両者である。
ここで、DVBとEVBはそれぞれ、メタ体、パラ体、オルソ体の単独でも、異性体混合物でもよい。DVBはメタ体を主成分とし、メタ体濃度はDVB全異性体中の40%以上が好ましい。より好ましくは、50%以上である。EVBはメタ体を主成分とし、メタ体濃度はEVB全異性体中の40%以上が好ましい。より好ましくは、50%以上である。
The aromatic vinyl compound used in the reaction is both divinylbenzene (DVB) and ethylvinylbenzene (EVB) represented by the above general formulas (2) and (3).
Here, DVB and EVB may be a meta-form, a para-form, an ortho-form alone, or a mixture of isomers, respectively. DVB contains a meta-form as a main component, and the meta-form concentration is preferably 40% or more of the total DVB isomers. More preferably, it is 50% or more. EVB contains a meta-form as a main component, and the meta-form concentration is preferably 40% or more of all EVB isomers. More preferably, it is 50% or more.

芳香族ビニル化合物中のEVBの割合は、得られる樹脂の取り扱い性やエポキシ硬化物作成時の成形性、硬化性の物性バランスを考慮すると、全芳香族ビニル化合物中の10〜50wt%の範囲が好ましい。より好ましくは、15〜45wt%の範囲であり、更に好ましくは20〜40wt%の範囲である。DVBの割合は、全芳香族ビニル化合物中の50〜90wt%の範囲が好ましく、55〜85wt%の範囲である。 The ratio of EVB in the aromatic vinyl compound is in the range of 10 to 50 wt% in the total aromatic vinyl compound in consideration of the handleability of the obtained resin, the moldability at the time of preparing the epoxy cured product, and the physical property balance of the curability. preferable. It is more preferably in the range of 15 to 45 wt%, and even more preferably in the range of 20 to 40 wt%. The proportion of DVB is preferably in the range of 50-90 wt% of the total aromatic vinyl compound, in the range of 55-85 wt%.

また、上記一般式(1)で表されるフェノール化合物と、DVBの使用割合としては、得られる樹脂の取り扱い性やエポキシ硬化物作成時の成形性、硬化性の物性バランスを考慮すると、フェノール化合物1モルに対するDVBのモル割合が0.1〜1.0の範囲が好ましく、0.2〜1.0モルの範囲がより好ましく、更に好ましくは0.3〜0.8モルの範囲である。 Further, as the ratio of the phenol compound represented by the above general formula (1) to DVB, the phenol compound is considered in consideration of the handleability of the obtained resin, the moldability at the time of producing the epoxy cured product, and the physical property balance of the curability. The molar ratio of DVB to 1 mol is preferably in the range of 0.1 to 1.0, more preferably in the range of 0.2 to 1.0 mol, and even more preferably in the range of 0.3 to 0.8 mol.

DVBは、上記一般式(4)において、フェノール環同士を結合する単位(α−ジメチルキシリレン単位)を与えるので、架橋剤として作用する。一方、EVBはフェノール環に置換する基R2、すなわち式(a)で表される置換基(エチルスチレニル基)を与える。この置換基の置換位置は、主として、上記フェノール環のOH基に対し、空位のオルソ及び/又はパラ位である。 In the above general formula (4), DVB gives a unit (α-dimethylxylylene unit) for binding phenol rings to each other, and thus acts as a cross-linking agent. On the other hand, EVB provides a group R 2 that replaces the phenol ring, that is, a substituent (ethylstylenyl group) represented by the formula (a). The substitution position of this substituent is mainly the vacant ortho and / or para position with respect to the OH group of the phenol ring.

上記フェノール化合物と、上記一般式(2)および(3)で表される芳香族ビニル化合物との反応は、酸触媒の存在下に行う。この酸触媒としては、周知の無機酸、有機酸から適宜選択することができる。例えば、塩酸、硫酸、燐酸等の鉱酸や、ギ酸、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸等の有機酸や、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、塩化鉄、三フッ化ホウ素等のルイス酸あるいはイオン交換樹脂、活性白土、シリカ−アルミナ、ゼオライト等の固体酸等が挙げられる。酸触媒の使用量は、上記フェノール化合物と、上記芳香族ビニル化合物の合計に対し、10〜1000wtppmの範囲とすることがよく、好ましくは50〜500wtppmの範囲である。 The reaction between the phenol compound and the aromatic vinyl compound represented by the general formulas (2) and (3) is carried out in the presence of an acid catalyst. As the acid catalyst, a well-known inorganic acid or organic acid can be appropriately selected. For example, mineral acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid, organic acids such as formic acid, oxalic acid, trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, dimethylsulfate and diethylsulfuric acid, zinc chloride, aluminum chloride, iron chloride and trifluoride. Examples thereof include Lewis acids such as boron carbonate, ion exchange resins, active white clay, silica-alumina, and solid acids such as zeolite. The amount of the acid catalyst used is preferably in the range of 10 to 1000 wtppm, preferably in the range of 50 to 500 wtppm with respect to the total of the phenol compound and the aromatic vinyl compound.

また、この反応は通常、10〜250℃で1〜20時間行われる。更に、反応の際には、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のアルコール類や、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族化合物等を溶媒として使用することができる。 In addition, this reaction is usually carried out at 10 to 250 ° C. for 1 to 20 hours. Furthermore, during the reaction, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol, methyl cellosolve and ethyl cellosolve, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, dimethyl ether, diethyl ether and diisopropyl ether, Ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, aromatic compounds such as benzene, toluene, chlorobenzene and dichlorobenzene can be used as the solvent.

この反応を実施する具体的方法としては、全原料を一括装入し、そのまま所定の温度で反応させるか、又はフェノール化合物と酸触媒を装入し、所定の温度に保ちつつ、芳香族ビニル化合物を滴下させながら反応させる方法が一般的である。この際、滴下時間は、通常、1〜10時間であり、5時間以下が好ましい。反応後、溶媒を使用した場合は、必要により、酸触媒成分を取り除いた後、溶媒と未反応物を留去させて本発明の多価ヒドロキシ樹脂を得ることができ、溶媒を使用しない場合は、未反応物を留去することによって目的物である上記一般式(4)で表される多価ヒドロキシ樹脂を得ることができる。 As a specific method for carrying out this reaction, all the raw materials are charged at once and reacted at a predetermined temperature as they are, or a phenol compound and an acid catalyst are charged and the aromatic vinyl compound is maintained at a predetermined temperature. Is generally reacted while dropping. At this time, the dropping time is usually 1 to 10 hours, preferably 5 hours or less. When a solvent is used after the reaction, if necessary, after removing the acid catalyst component, the solvent and the unreacted product can be distilled off to obtain the polyvalent hydroxy resin of the present invention. When no solvent is used, By distilling off the unreacted material, the desired polyvalent hydroxy resin represented by the general formula (4) can be obtained.

本発明の製造方法で得られる多価ヒドロキシ樹脂(DVBN−P)は、2種類の芳香族ビニル化合物(DVBとEVB)の比率に応じて、水酸基当量を制御することができる。つまり、エポキシ樹脂硬化物においては、エポキシ基と水酸基との反応により生成するヒドロキシプロピル基が燃え易いとされているが、水酸基当量を高くすることで、エポキシ基由来の易燃成分の脂肪族炭素率は低くなり、高度な難燃性を発現させることができる。また、芳香族ビニル化合物中のEVBを付加させることにより、芳香族性はより一層向上し、流動性や耐湿性、低誘電性の向上にも効果的である。 The polyvalent hydroxy resin (DVBN-P) obtained by the production method of the present invention can control the hydroxyl group equivalent according to the ratio of two kinds of aromatic vinyl compounds (DVB and EVB). In other words, in a cured epoxy resin product, the hydroxypropyl group generated by the reaction between the epoxy group and the hydroxyl group is said to be easily burned. However, by increasing the hydroxyl group equivalent, the aliphatic carbon of the flammable component derived from the epoxy group is easily burned. The rate is low and a high degree of flame retardancy can be developed. Further, by adding EVB in the aromatic vinyl compound, the aromaticity is further improved, and it is also effective in improving the fluidity, moisture resistance and low dielectric property.

よって、このDVBN−Pを用いて高難燃性のエポキシ樹脂組成物、特に半導体封止材料や回路基板材料用エポキシ樹脂組成物が得られる。すなわち、流動性とともに、耐湿性や低弾性に優れた物性が発現された樹脂組成物得られ、これを用いて信頼性の高い半導体封止材料や回路基板材料が得られる。 Therefore, a highly flame-retardant epoxy resin composition, particularly an epoxy resin composition for a semiconductor encapsulating material or a circuit board material, can be obtained by using this DVBN-P. That is, a resin composition exhibiting excellent physical properties such as moisture resistance and low elasticity as well as fluidity can be obtained, and a highly reliable semiconductor encapsulation material or circuit board material can be obtained by using the resin composition.

更に、本発明のDVBN−Pでは、EVBを付加することで、分子量は増加するが、柔軟鎖構造の導入からエポキシ硬化物作成等に適した溶融粘度範囲を維持できる。このことは半導体封止用材料として使用した場合、良流動性を示すことから良好な成形性が可能であり、回路基板用材料として使用した場合は、有機溶媒への溶解性の向上が可能である。また、それらは低官能基性に寄与して各種物性の向上、例えば、難燃性の向上や更なる低吸水性や低誘電性により信頼性に優れた材料が得られる。 Further, in the DVBN-P of the present invention, although the molecular weight is increased by adding EVB, the melt viscosity range suitable for preparing an epoxy cured product can be maintained from the introduction of the flexible chain structure. This means that when used as a material for encapsulating semiconductors, it exhibits good fluidity, so that good moldability is possible, and when used as a material for circuit boards, it is possible to improve the solubility in organic solvents. is there. Further, they contribute to low functionality and improve various physical properties, for example, improvement of flame retardancy, further low water absorption and low dielectric property, so that a material having excellent reliability can be obtained.

このようにして得られる本発明のDVBN−Pの水酸基当量は、200〜500g/eq.の範囲にあることがよく、より好ましくは230〜400g/eq.の範囲である。水酸基当量がこの範囲より低いと高度な難燃性は得られ難く、この範囲より高いと高度な難燃性は得られるが、硬化性に劣り、上記用途での使用が困難になる傾向がある。 The hydroxyl group equivalent of the DVBN-P of the present invention thus obtained is 200 to 500 g / eq. It is often in the range of 230 to 400 g / eq. Is the range of. If the hydroxyl group equivalent is lower than this range, it is difficult to obtain high flame retardancy, and if it is higher than this range, high flame retardancy can be obtained, but it is inferior in curability and tends to be difficult to use in the above applications. ..

また、本発明のDVBN−Pの150℃における溶融粘度は0.01〜10.0Pa・sの範囲のものが好ましい。作業性の面からは、溶融粘度は上記範囲において、低い程好ましい。 Further, the melt viscosity of DVBN-P of the present invention at 150 ° C. is preferably in the range of 0.01 to 10.0 Pa · s. From the viewpoint of workability, the lower the melt viscosity in the above range, the more preferable.

更には、軟化点は40〜150℃であることがよく、好ましくは50〜100℃の範囲である。ここで、軟化点は、JIS−K−2207の環球法に基づき測定される。これより低いと、これをエポキシ樹脂組成物に配合したとき、硬化物の耐熱性が低下し、これより高いと成形時の流動性が低下する。 Further, the softening point is often 40 to 150 ° C, preferably in the range of 50 to 100 ° C. Here, the softening point is measured based on the ring ball method of JIS-K-2207. If it is lower than this, the heat resistance of the cured product is lowered when it is blended with the epoxy resin composition, and if it is higher than this, the fluidity at the time of molding is lowered.

本発明の製造方法で得られるエポキシ樹脂は、上記一般式(4)で表される。一般式(1)、(4)及び(5)において、共通する記号は同様な意味を有する。
2は上記式(a)で表されるエチルスチレニル基を示す。なお、一般式(4)におけるR3及びR4の一方はHであり、他方はMeである。
pはOH基を有するベンゼン環1個あたりに置換するR2の平均の数を表し、0.1〜3の範囲であり、好ましくは0.2〜2であり、より好ましくは0.3〜1.5の範囲である。1分子中のpの合計は、平均値として1以上であり、更に好ましくは2以上である。そして、1分子中のpの合計は、10以下であることが好ましい。
The epoxy resin obtained by the production method of the present invention is represented by the above general formula (4). In the general formulas (1), (4) and (5), common symbols have the same meaning.
R 2 represents an ethylstyrenyl group represented by the above formula (a). In addition, one of R 3 and R 4 in the general formula (4) is H, and the other is Me.
p represents the average number of R 2 to be substituted with 1 per benzene ring having an OH group, in the range of 0.1 to 3, preferably from 0.2 to 2, more preferably 0.3 It is in the range of 1.5. The total of p in one molecule is 1 or more as an average value, and more preferably 2 or more. The total amount of p in one molecule is preferably 10 or less.

nは繰り返し数であり、nが1〜20のいずれかの化合物単独又はこれらの混合物であるか、又は平均(数平均)として、0〜20であることを意味する。平均としてのnは、好ましくは2〜10である。また、平均(数平均)は、上記エポキシ当量から計算可能であるので、好ましいnもそれから理解される。 n is the number of repetitions, meaning that n is any of the compounds 1 to 20 alone or a mixture thereof, or 0 to 20 on average (number average). N as an average is preferably 2 to 10. Also, since the average (number average) can be calculated from the epoxy equivalents, the preferred n is also understood from it.

そして、このDVBN−Pを、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC;RI)で測定した時、一般式(5)における単価ヒドロキシ化合物が、その面積%で1%〜25%の範囲となることが好ましい。より好ましくは3%〜20%の範囲である。この単価ヒドロキシ化合物は、一般式(4)において、nが0である化合物に該当し、DVBにより架橋されていない化合物であると言える。この単価ヒドロキシ化合物の含有量が、この範囲より少ない場合は、官能基濃度に由来する性質が改良されないままの状態であり、この範囲より多い場合は、官能基密度が低くなり過ぎて硬化性が低下する傾向がある。本発明では、これら芳香族ビニル化合物中のEVBの使用量を変化させることにより、DVBN−Pの水酸基当量を200〜500g/eqに調整することが可能である。この結果、エポキシ樹脂組成物の難燃性、耐湿性、高温低弾性等の優れた物性を発現し、半導体封止材料や回路基板材料等の用途で難燃性及び信頼性等に優れた組成物を与える。このことは半導体封止用材料として使用した場合、流動性から良好な成形性が可能であり、回路基板用材料として使用した場合は、有機溶媒への溶解性の向上が可能である。その結果、各種物性の向上、例えば、難燃性の向上や更なる低吸水性や低誘電性により信頼性に優れた材料が得られる。 Then, when this DVBN-P is measured by gel permeation chromatography (GPC; RI), it is preferable that the unit price hydroxy compound in the general formula (5) is in the range of 1% to 25% in terms of the area% thereof. .. More preferably, it is in the range of 3% to 20%. It can be said that this unit price hydroxy compound corresponds to the compound in which n is 0 in the general formula (4) and is not crosslinked by DVB. If the content of this unit price hydroxy compound is less than this range, the properties derived from the functional group concentration remain unimproved, and if it is more than this range, the functional group density becomes too low and the curability becomes curable. Tends to decline. In the present invention, it is possible to adjust the hydroxyl group equivalent of DVBN-P to 200 to 500 g / eq by changing the amount of EVB used in these aromatic vinyl compounds. As a result, the epoxy resin composition exhibits excellent physical properties such as flame retardancy, moisture resistance, high temperature and low elasticity, and has excellent flame retardancy and reliability in applications such as semiconductor encapsulation materials and circuit board materials. Give things. This means that when used as a semiconductor encapsulating material, good moldability is possible due to its fluidity, and when used as a circuit board material, its solubility in an organic solvent can be improved. As a result, a material having excellent reliability can be obtained by improving various physical properties, for example, improving flame retardancy, further lower water absorption and lower dielectric property.

次に、本発明の多価ヒドロキシ樹脂について説明する。
本発明の多価ヒドロキシ樹脂は、上記一般式(4)で表される。したがって、製造方法が特定されていない限り、本発明の製造方法で得られる多価ヒドロキシエポキシ樹脂と同様な説明となる。有利には、上記フェノール化合物と、一般式(2)および(3)で表される芳香族ビニル化合物を同時に反応させて得られる。
Next, the multivalent hydroxy resin of the present invention will be described.
The polyvalent hydroxy resin of the present invention is represented by the above general formula (4). Therefore, unless the production method is specified, the description is the same as that of the polyvalent hydroxyepoxy resin obtained by the production method of the present invention. Advantageously, it is obtained by simultaneously reacting the above-mentioned phenol compound with an aromatic vinyl compound represented by the general formulas (2) and (3).

すなわち、本発明の多価ヒドロキシ樹脂の水酸基当量、溶融粘度、軟化点及び上記単価ヒドロキシ化合物の含有量は、上記した範囲であることが好ましい。更に、一般式(4)における記号及び好ましい範囲又は基は、上記と同様である。 That is, the hydroxyl group equivalent, melt viscosity, softening point, and content of the unit-valent hydroxy compound of the polyvalent hydroxy resin of the present invention are preferably in the above ranges. Further, the symbols and preferred ranges or groups in the general formula (4) are the same as described above.

次に、本発明のエポキシ樹脂について述べる。
本発明のエポキシ樹脂(DVBN−Eと略す)は、一般式(4)で表される多価ヒドロキシ樹脂(DVBN−P)のOH基をグリジルエーテル化することにより得ることができる。
Next, the epoxy resin of the present invention will be described.
The epoxy resin (abbreviated as DVBN-E) of the present invention can be obtained by converting the OH group of the polyvalent hydroxy resin (DVBN-P) represented by the general formula (4) into a glycyl ether.

本発明のDVBN−Eは、DVBN−Pをエピクロルヒドリンと反応させる反応の他、DVBN−Pとハロゲン化アリルを反応させ、アリルエーテル化合物とした後、過酸化物と反応させる方法で得ることもできる。上記DVBN−Pをエピクロルヒドリンと反応させる反応は、通常のエポキシ化反応と同様に行うことができる。 The DVBN-E of the present invention can be obtained by reacting DVBN-P with epichlorohydrin, or by reacting DVBN-P with allyl halide to obtain an allyl ether compound, and then reacting with a peroxide. .. The reaction of reacting DVBN-P with epichlorohydrin can be carried out in the same manner as a normal epoxidation reaction.

例えば、上記DVBN−Pを過剰のエピクロルヒドリンに溶解した後、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の存在下に、20〜150℃、好ましくは、30〜80℃の範囲で1〜10時間反応させる方法が挙げられる。この際のアルカリ金属水酸化物の使用量は、DVBN−Pの水酸基1モルに対して、0.8〜1.5モル、好ましくは、0.9〜1.2モルの範囲である。また、エピクロルヒドリンはDVBN−P中の水酸基1モルに対して過剰に用いられるが、通常、DVBN−P中の水酸基1モルに対して、1.5〜30モル、好ましくは、2〜15モルの範囲である。反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを留去し、残留物をトルエン、メチルイソブチルケトン等の溶剤に溶解し、濾過し、水洗して無機塩を除去し、次いで溶剤を留去することにより目的のエポキシ樹脂(DVBN−E)を得ることができる。 For example, after dissolving the above DVBN-P in excess epichlorohydrin, 1 in the range of 20 to 150 ° C., preferably 30 to 80 ° C. in the presence of alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide. A method of reacting for 10 hours can be mentioned. The amount of the alkali metal hydroxide used at this time is in the range of 0.8 to 1.5 mol, preferably 0.9 to 1.2 mol, with respect to 1 mol of the hydroxyl group of DVBN-P. Epichlorohydrin is used in excess with respect to 1 mol of hydroxyl groups in DVBN-P, but is usually 1.5 to 30 mol, preferably 2 to 15 mol, relative to 1 mol of hydroxyl groups in DVBN-P. The range. After completion of the reaction, excess epichlorohydrin is distilled off, the residue is dissolved in a solvent such as toluene or methyl isobutyl ketone, filtered, washed with water to remove inorganic salts, and then the solvent is distilled off to obtain the desired epoxy. A resin (DVBN-E) can be obtained.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、少なくともエポキシ樹脂及び硬化剤を含むものであるが、次の3種類がある。
1)エポキシ樹脂の一部又は全部として前記DVBN−Eを配合した組成物。
2)硬化剤の一部又は全部として前記DVBN−Pを配合した組成物。
3)エポキシ樹脂及び硬化剤の一部又は全部として前記DVBN−EとDVBN−Pを配合した組成物。
The epoxy resin composition of the present invention contains at least an epoxy resin and a curing agent, and there are the following three types.
1) A composition containing the DVBN-E as part or all of the epoxy resin.
2) A composition containing the above DVBN-P as a part or all of the curing agent.
3) A composition in which the DVBN-E and DVBN-P are blended as part or all of the epoxy resin and the curing agent.

上記2)及び3)の組成物の場合、DVBN−Pの配合量は、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して2〜200重量部、好ましくは5〜120重量部の範囲である。これより少ないと難燃性及び耐湿性向上の効果が小さく、これより多いと成形性及び硬化物の強度が低下する問題がある。 In the case of the compositions 2) and 3) above, the blending amount of DVBN-P is usually in the range of 2 to 200 parts by weight, preferably 5 to 120 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. If it is less than this, the effect of improving flame retardancy and moisture resistance is small, and if it is more than this, there is a problem that the moldability and the strength of the cured product are lowered.

硬化剤の全量としてDVBN−Pを用いる場合、通常、DVBN−Pの配合量は、DVBN−PのOH基とエポキシ樹脂中のエポキシ基の当量バランスを考慮して配合する。エポキシ樹脂及び硬化剤の当量比は、通常、0.2〜5.0の範囲であり、好ましくは0.5〜2.0の範囲である。これより大きくても小さくても、エポキシ樹脂組成物の硬化性が低下するとともに、硬化物の耐熱性、力学強度等が低下する。 When DVBN-P is used as the total amount of the curing agent, the blending amount of DVBN-P is usually adjusted in consideration of the equivalent balance between the OH group of DVBN-P and the epoxy group in the epoxy resin. The equivalent ratio of the epoxy resin to the curing agent is usually in the range of 0.2 to 5.0, preferably in the range of 0.5 to 2.0. Whether it is larger or smaller than this, the curability of the epoxy resin composition is lowered, and the heat resistance, mechanical strength, etc. of the cured product are lowered.

硬化剤としてDVBN−P以外の硬化剤を併用することができる。その他の硬化剤の配合量は、DVBN−Pの配合量が、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して2〜200重量部、好ましくは5〜80重量部の範囲が保たれる範囲内で決定される。DVBN−Pの配合量がこれより少ないと低吸湿性、密着性及び難燃性向上の効果が小さく、これより多いと成形性及び硬化物の強度が低下する問題がある。 A curing agent other than DVBN-P can be used in combination as the curing agent. The blending amount of the other curing agent is determined within a range in which the blending amount of DVBN-P is usually maintained in the range of 2 to 200 parts by weight, preferably 5 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. Will be done. If the blending amount of DVBN-P is smaller than this, the effect of improving low hygroscopicity, adhesion and flame retardancy is small, and if it is larger than this, there is a problem that the moldability and the strength of the cured product are lowered.

DVBN−P以外の硬化剤としては、一般にエポキシ樹脂の硬化剤として知られているものはすべて使用でき、ジシアンジアミド、酸無水物類、多価フェノール類、芳香族及び脂肪族アミン類等がある。これらの中でも、半導体封止材等の高い電気絶縁性が要求される分野においては、多価フェノール類を硬化剤として用いることが好ましい。以下に、硬化剤の具体例を示す。 As the curing agent other than DVBN-P, all generally known curing agents for epoxy resins can be used, and there are dicyandiamides, acid anhydrides, polyhydric phenols, aromatics, aliphatic amines and the like. Among these, in fields where high electrical insulation is required, such as semiconductor encapsulants, it is preferable to use polyhydric phenols as a curing agent. Specific examples of the curing agent are shown below.

酸無水物硬化剤としては、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル無水ハイミック酸、無水ドデシニルコハク酸、無水ナジック酸、無水トリメリット酸等がある。 Examples of the acid anhydride curing agent include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyl anhydride hymic acid, dodecinyl succinic anhydride, and nadic acid anhydride. There are phthalic anhydride and the like.

多価フェノール類としては、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4'−ビフェノール、2,2'−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の2価のフェノール類、あるいは、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノボラック、o-クレゾールノボラック、ナフトールノボラック、ポリビニルフェノール等に代表される3価以上のフェノール類がある。更には、フェノール類、ナフトール類、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4'−ビフェノール、2,2'−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の2価のフェノール類と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、p−キシリレンジクロライド、ビスクロロメチルビフェニル、ビスクロロメチルナフタレン等の縮合剤により合成される多価フェノール性化合物等がある。 Examples of polyphenols include divalent phenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol, etc. , Tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolac, o-cresol novolac, naphthol novolac, polyvinylphenol, etc. There are phenols. Furthermore, divalent phenols such as phenols, naphthols, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol, etc. There are polyhydric phenolic compounds synthesized by condensing agents such as formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde, p-xylylene dichloride, bischloromethylbiphenyl and bischloromethylnaphthalene.

アミン類としては、4,4'−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノジフェニルプロパン、4,4'−ジアミノジフェニルスルホン、m−フェニレンジアミン、p−キシリレンジアミン等の芳香族アミン類、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、リエチレンテトラミン等の脂肪族アミン類がある。
上記組成物には、これら硬化剤の1種又は2種以上を混合して用いることができる。
Examples of amines include aromatic amines such as 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, m-phenylenediamine, and p-xylylenediamine, ethylenediamine, and the like. There are aliphatic amines such as hexamethylenediamine, diethylenetriamine and riethylenetetramine.
One or a mixture of two or more of these curing agents can be used in the above composition.

上記組成物に使用されるエポキシ樹脂としては、1分子中にエポキシ基を2個以上有するもの中から選択される。例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4'−ビフェノール、2,2'−ビフェノール、テトラブロモビスフェノールA、ハイドロキノン、レゾルシン等の2価のフェノール類、あるいは、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタンや、フェノール、クレゾール、ナフトール等のノボラック樹脂、フェノール、クレゾール、ナフトール等のアラルキル樹脂等の3価以上のフェノール性化合物のグルシジルエーテル化物等がある。これらのエポキシ樹脂は1種又は2種以上を混合して用いることができる。 The epoxy resin used in the above composition is selected from those having two or more epoxy groups in one molecule. For example, divalent phenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, tetrabromobisphenol A, hydroquinone, resorcin, or tris- (4). -Hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, novolak resins such as phenol, cresol, and naphthol, and trivalent or higher phenols such as phenol, cresol, and aralkyl resin such as naphthol. There are glycidyl etherified products of sex compounds. These epoxy resins can be used alone or in admixture of two or more.

上記1)及び3)の組成物の場合、このエポキシ樹脂組成物中には、エポキシ樹脂成分として、DVBN−E以外に別種のエポキシ樹脂を配合してもよい。この場合のエポキシ樹脂としては、分子中にエポキシ基を2個以上有する通常のエポキシ樹脂はすべて使用できる。例を挙げれば、ビスフェノールA、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4'−ビフェノール、2,2'−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン等の2価のフェノール類、あるいは、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック等の3価以上のフェノール類、フェノール系アラルキル樹脂類、ビフェニルアラルキル樹脂類、ナフトール系アラルキル樹脂類又はテトラブロモビスフェノールA等のハロゲン化ビスフェノール類から誘導されるグルシジルエーテル化物等がある。これらのエポキシ樹脂は、1種又は2種以上を混合して用いることができる。そして、本発明のDVBN−Eを必須成分とする組成物の場合、DVBN−Eの配合量はエポキシ樹脂全体中、5〜100%、好ましくは60〜100%の範囲であることがよい。 In the case of the compositions 1) and 3) above, another type of epoxy resin may be blended in the epoxy resin composition in addition to DVBN-E as the epoxy resin component. As the epoxy resin in this case, any ordinary epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule can be used. For example, divalent phenols such as bisphenol A, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, hydroquinone, resorcin, or tris- (4-hydroxyphenyl) methane. , 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolac, o-cresol novolac and other trivalent or higher phenols, phenolic aralkyl resins, biphenylaralkyl resins, naphthol aralkyl resins Alternatively, there are glucidyl etherified products derived from halogenated bisphenols such as tetrabromobisphenol A. These epoxy resins can be used alone or in admixture of two or more. In the case of the composition containing DVBN-E as an essential component of the present invention, the blending amount of DVBN-E is preferably in the range of 5 to 100%, preferably 60 to 100%, in the entire epoxy resin.

本発明のエポキシ樹脂組成物中には、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテル、ポリウレタン、石油樹脂、インデン樹脂、インデン・クマロン樹脂、フェノキシ樹脂等のオリゴマー又は高分子化合物を他の改質剤等として適宜配合してもよい。添加量は、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して、2〜30重量部の範囲である。 In the epoxy resin composition of the present invention, oligomers or polymer compounds such as polyester, polyamide, polyimide, polyether, polyurethane, petroleum resin, inden resin, inden-kumaron resin, and phenoxy resin are used as other modifiers. It may be blended as appropriate. The amount added is usually in the range of 2 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin.

また、本発明のエポキシ樹脂組成物には、無機充填剤、顔料、難然剤、揺変性付与剤、カップリング剤、流動性向上剤等の添加剤を配合できる。無機充填剤としては、例えば、球状あるいは、破砕状の溶融シリカ、結晶シリカ等のシリカ粉末、アルミナ粉末、ガラス粉末、又はマイカ、タルク、炭酸カルシウム、アルミナ、水和アルミナ等が挙げられ、半導体封止材に用いる場合の好ましい配合量は70重量%以上であり、更に好ましくは80重量%以上である。 In addition, the epoxy resin composition of the present invention may contain additives such as an inorganic filler, a pigment, a flame retardant, a rock denaturing agent, a coupling agent, and a fluidity improver. Examples of the inorganic filler include spherical or crushed molten silica, silica powder such as crystalline silica, alumina powder, glass powder, mica, talc, calcium carbonate, alumina, hydrated alumina, and the like, and semiconductor sealing. When used as a stop material, the blending amount is preferably 70% by weight or more, more preferably 80% by weight or more.

顔料としては、有機系又は、無機系の体質顔料、鱗片状顔料等がある。揺変性付与剤としては、シリコン系、ヒマシ油系、脂肪族アマイドワックス、酸化ポリエチレンワックス、有機ベントナイト系等を挙げることができる。 Examples of the pigment include organic or inorganic extender pigments and scaly pigments. Examples of the rocking denaturing agent include silicon-based, castor oil-based, aliphatic amide wax, polyethylene oxide wax, and organic bentonite-based.

更に、本発明のエポキシ樹脂組成物には必要に応じて硬化促進剤を用いることができる。例を挙げれば、アミン類、イミダゾール類、有機ホスフィン類、ルイス酸等があり、具体的には、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールなどの三級アミン、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−へプタデシルイミダゾールなどのイミダゾール類、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフイン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィンなどの有機ホスフィン類、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウム・エチルトリフェニルボレート、テトラブチルホスホニウム・テトラブチルボレートなどのテトラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾール・テトラフェニルボレート、N−メチルモルホリン・テトラフェニルボレートなどのテトラフェニルボロン塩などがある。添加量としては、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して、0.1から5重量部の範囲である。 Further, a curing accelerator can be used in the epoxy resin composition of the present invention, if necessary. Examples include amines, imidazoles, organic phosphines, Lewis acids, etc. Specifically, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, tri. Tertiary amines such as ethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2- Imidazoles such as heptadecylimidazole, organic phosphines such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine, phenylphosphine, tetraphenylphosphonium / tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium / ethyltriphenylborate, tetra There are tetra-substituted phosphonium-tetra-substituted borates such as butylphosphonium and tetrabutylborate, tetraphenylborone salts such as 2-ethyl-4-methylimidazole and tetraphenylborate, and N-methylmorpholine and tetraphenylborate. The amount to be added is usually in the range of 0.1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin.

更に必要に応じて、本発明の樹脂組成物には、カルナバワックス、OPワックス等の離型剤、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等のカップリング剤、カーボンブラック等の着色剤、三酸化アンチモン等の難燃剤、シリコンオイル等の低応力化剤、ステアリン酸カルシウム等の滑剤等を使用できる。 Further, if necessary, the resin composition of the present invention includes a release agent such as carnauba wax and OP wax, a coupling agent such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, a colorant such as carbon black, and trioxide. Flame retardants such as antimony, low stress agents such as silicone oil, lubricants such as calcium stearate, and the like can be used.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、有機溶剤を溶解させたワニス状態とした後に、ガラスクロス、アラミド不織布、液晶ポリマー等のポリエステル不織布、等の繊維状物に含浸させた後に溶剤除去を行い、プリプレグとすることができる。また、場合により銅箔、ステンレス箔、ポリイミドフィルム、ポリエステルフィルム等のシート状物上に塗布することにより積層物とすることができる。 The epoxy resin composition of the present invention is made into a varnish state in which an organic solvent is dissolved, and then impregnated with a fibrous material such as a glass cloth, an aramid non-woven fabric, or a polyester non-woven fabric such as a liquid crystal polymer, and then the solvent is removed to remove the prepreg. Can be. Further, depending on the case, a laminate can be obtained by applying it on a sheet-like material such as a copper foil, a stainless steel foil, a polyimide film, or a polyester film.

本発明のエポキシ樹脂組成物を加熱硬化させれば、エポキシ樹脂硬化物とすることができ、この硬化物は低吸湿性、高耐熱性、密着性、難燃性等の点で優れたものとなる。この硬化物は、エポキシ樹脂組成物を注型、圧縮成形、トランスファー成形等の方法により、成形加工して得ることができる。この際の温度は通常、120〜220℃の範囲である。 If the epoxy resin composition of the present invention is heat-cured, it can be made into an epoxy resin cured product, and this cured product is excellent in terms of low hygroscopicity, high heat resistance, adhesion, flame retardancy and the like. Become. This cured product can be obtained by molding the epoxy resin composition by a method such as casting, compression molding, or transfer molding. The temperature at this time is usually in the range of 120 to 220 ° C.

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明する。
樹脂の評価方法を次に示す。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.
The resin evaluation method is shown below.

1)GPC測定
東ソー株式会社製 TSKgelG4000HXL×1本、TSKgelG2000HXL×3本を直列に備えたものを使用し、カラム温度は40℃にした。また、溶離液にはテトラヒドロフランを用い、1ml/minの流速とし、検出器はRI(示差屈折計)検出器を用いた。サンプル0.03gを10mlのTHFに溶解した。測定した分子量分布から一般式の各nに相当する面積百分率を求めた。各ピークの同定はFD−MS測定結果と関連させた。
1) GPC measurement A TSKgelG4000HXL x 1 and TSKgelG2000HXL x 3 manufactured by Tosoh Corporation were used in series, and the column temperature was set to 40 ° C. Tetrahydrofuran was used as the eluent at a flow rate of 1 ml / min, and an RI (differential refractometer) detector was used as the detector. 0.03 g of the sample was dissolved in 10 ml of THF. From the measured molecular weight distribution, the area percentage corresponding to each n of the general formula was obtained. Identification of each peak was associated with FD-MS measurements.

2)FD−MS
日本電子製JMS−AX505HA装置を用いて電解脱離イオン化質量分析法に従い測定した。得られたFD−MSスペクトルデータとゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定結果と併用して、分子量分布とその各ピークを同定した。
2) FD-MS
The measurement was carried out according to the electrolytic desorption / ionization mass spectrometry using a JMS-AX505HA device manufactured by JEOL Ltd. The obtained FD-MS spectral data and gel permeation chromatography (GPC) measurement results were used in combination to identify the molecular weight distribution and its peaks.

3)軟化点
自動軟化点装置(明峰社製、ASP−M4SP)を用い、JIS−K−2207に従い環球法にて測定した。
3) Softening point An automatic softening point device (manufactured by Meiho Co., Ltd., ASP-M4SP) was used, and the measurement was performed by the ring-ball method according to JIS-K-2207.

4)溶融粘度
BROOKFIELD製、CAP2000H型回転粘度計を用いて、150℃にて測定した。
4) Melt viscosity Measured at 150 ° C. using a CAP2000H type rotational viscometer manufactured by BROOKFIELD.

5)水酸基当量の測定
電位差滴定装置を用い、1,4−ジオキサンを溶媒に用い、1.5mol/L塩化アセチルで100℃、60分の反応条件でアセチル化を行い、過剰の塩化アセチルを水で分解して0.5mol/L−水酸化カリウムを使用して滴定した。
5) Measurement of hydroxyl group equivalent Using a potentiometric titrator, acetylation was performed with 1.5 mol / L acetyl chloride at 100 ° C. for 60 minutes using 1,4-dioxane as a solvent, and excess acetyl chloride was removed with water. And titrated with 0.5 mol / L-potassium hydroxide.

6)エポキシ当量の測定
電位差滴定装置を用い、溶媒としてメチルエチルケトンを使用し、臭素化テトラエチルアンモニウム酢酸溶液を加え、電位差滴定装置にて0.1mol/L過塩素酸−酢酸溶液を用いて測定した。
7)溶剤溶解性
樹脂固形分が50wt%になるようにMEKを加えて溶解させた。一週間静置したときの溶解性を観察した。〇;均一溶解、△;溶液に濁り発生、×;沈殿物有り。
6) Measurement of epoxy equivalent Using a potentiometric titrator, methyl ethyl ketone was used as a solvent, a brominated tetraethylammonium acetic acid solution was added, and the potentiometric titrator was used for measurement using a 0.1 mol / L perchloric acid-acetic acid solution.
7) Solvent solubility MEK was added and dissolved so that the resin solid content was 50 wt%. Solubility was observed when left to stand for one week. 〇; Uniform dissolution, Δ; Turbidity in solution, ×; Precipitate.

実施例1
攪拌機、コンデンサー、温度計及び滴下ロートを備えた1Lの4口フラスコに、フェノール150g及び50%パラトルエンスルホン酸0.045gを加え、100℃まで昇温した。次に、100℃にて攪拌しながら、芳香族ビニル化合物として63%DVB148g(EVB55gを含む)を2時間かけて滴下し反応させた。更に、150℃に昇温保持により反応を完結させた。その後、85℃に降温して約4回水洗を行った。続いて、未反応物を減圧留去した後、多価ヒドロキシ樹脂252gを得た。その軟化点は59℃、150℃での溶融粘度は0.06Pa・s、水酸基当量は252g/eq.であり、単価ヒドロキシ樹脂(一般式(5)の単価ヒドロキシ樹脂)のGPC面積%は11.6であった。この多価ヒドロキシ樹脂をDVBN−P1という。DVBN−P1のGPCチャートを図1、FD−MSチャートを図2に示す。
Example 1
150 g of phenol and 0.045 g of 50% paratoluenesulfonic acid were added to a 1 L 4-neck flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer and a dropping funnel, and the temperature was raised to 100 ° C. Next, while stirring at 100 ° C., 148 g of 63% DVB (including 55 g of EVB) as an aromatic vinyl compound was added dropwise over 2 hours to react. Further, the reaction was completed by keeping the temperature at 150 ° C. Then, the temperature was lowered to 85 ° C. and washing with water was performed about 4 times. Subsequently, the unreacted product was distilled off under reduced pressure to obtain 252 g of a polyvalent hydroxy resin. Its softening point is 59 ° C., its melt viscosity at 150 ° C. is 0.06 Pa · s, and its hydroxyl group equivalent is 252 g / eq. The GPC area% of the unit price hydroxy resin (unit price hydroxy resin of the general formula (5)) was 11.6. This multivalent hydroxy resin is called DVBN-P1. The GPC chart of DVBN-P1 is shown in FIG. 1, and the FD-MS chart is shown in FIG.

実施例2
フェノール150g及び50%パラトルエンスルホン酸0.03gと81%DVB115g(EVB21gを含む)を使用した他は、実施例1と同様にして、多価ヒドロキシ樹脂(DVBN−P2)206gを得た。DVBN−Pの軟化点は68℃、150℃での溶融粘度は0.11Pa・s、水酸基当量は211g/eq.であり、単価ヒドロキシ樹脂のGPC面積%は6.6であった。
Example 2
206 g of a polyvalent hydroxy resin (DVBN-P2) was obtained in the same manner as in Example 1 except that 150 g of phenol, 0.03 g of 50% paratoluenesulfonic acid and 115 g of 81% DVB (including 21 g of EVB) were used. The softening point of DVBN-P was 68 ° C., the melt viscosity at 150 ° C. was 0.11 Pa · s, and the hydroxyl group equivalent was 211 g / eq. The GPC area% of the unit price hydroxy resin was 6.6.

比較例1
攪拌機、コンデンサー、温度計及び滴下ロートを備えた1Lの4口フラスコに、フェノール150g及び50%パラトルエンスルホン酸0.03gを加え、100℃まで昇温した。次に、100℃にて攪拌しながら、96%DVB97g(EVB4gを含む)を使用した他は、実施例1と同様にして、多価ヒドロキシ樹脂(DVBN−P3)185gを得た。DVBN−P3の軟化点は76℃、150℃での溶融粘度は0.18Pa・s、水酸基当量は197g/eq.であり、単価ヒドロキシ樹脂のGPC面積%は1.0であった。DVBN−P3のGPCチャートを図3、FD−MSチャートを図4に示す。
Comparative Example 1
150 g of phenol and 0.03 g of 50% paratoluenesulfonic acid were added to a 1 L 4-neck flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer and a dropping funnel, and the temperature was raised to 100 ° C. Next, 185 g of a multivalent hydroxy resin (DVBN-P3) was obtained in the same manner as in Example 1 except that 97 g of 96% DVB (including 4 g of EVB) was used while stirring at 100 ° C. The softening point of DVBN-P3 was 76 ° C., the melt viscosity at 150 ° C. was 0.18 Pa · s, and the hydroxyl group equivalent was 197 g / eq. The GPC area% of the unit price hydroxy resin was 1.0. The GPC chart of DVBN-P3 is shown in FIG. 3, and the FD-MS chart is shown in FIG.

合成例1(実施例)
攪拌機、コンデンサー、温度計及び滴下ロートを備えた1Lの4口フラスコに、フェノール150g及び50%パラトルエンスルホン酸0.04gを加え、100℃まで昇温した。次に、100℃にて攪拌しながら、57%DVB255g(EVB99gを含む)を使用した他は、実施例1と同様にして、多価ヒドロキシ樹脂(DVBN−P4)373gを得た。DVBN−P4の軟化点は76℃、150℃での溶融粘度は0.40Pa・s、水酸基当量は314g/eq.であり、単価ヒドロキシ樹脂のGPC面積%は7.4であった。
Synthesis Example 1 (Example)
150 g of phenol and 0.04 g of 50% paratoluenesulfonic acid were added to a 1 L 4-neck flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer and a dropping funnel, and the temperature was raised to 100 ° C. Next, 373 g of a multivalent hydroxy resin (DVBN-P4) was obtained in the same manner as in Example 1 except that 255 g of 57% DVB (including 99 g of EVB) was used while stirring at 100 ° C. The softening point of DVBN-P4 was 76 ° C., the melt viscosity at 150 ° C. was 0.40 Pa · s, and the hydroxyl group equivalent was 314 g / eq. The GPC area% of the unit price hydroxy resin was 7.4.

合成例2(実施例)
攪拌機、コンデンサー、温度計及び滴下ロートを備えた1Lの4口フラスコに、フェノール150g及び、50%パラトルエンスルホン酸0.04gを加え、100℃まで昇温した。次に、100℃にて攪拌しながら、63%DVB230g(EVB85gを含む)を使用した他は、実施例1と同様にして、多価ヒドロキシ樹脂(DVBN−P5)359gを得た。DVBN−P5の軟化点は77℃、150℃での溶融粘度は0.47Pa・s、水酸基当量は294g/eq.であり、単価ヒドロキシ樹脂のGPC面積%は7.2であった。
Synthesis Example 2 (Example)
150 g of phenol and 0.04 g of 50% paratoluenesulfonic acid were added to a 1 L 4-neck flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer and a dropping funnel, and the temperature was raised to 100 ° C. Next, 359 g of a multivalent hydroxy resin (DVBN-P5) was obtained in the same manner as in Example 1 except that 230 g of 63% DVB (including 85 g of EVB) was used while stirring at 100 ° C. The softening point of DVBN-P5 was 77 ° C., the melt viscosity at 150 ° C. was 0.47 Pa · s, and the hydroxyl group equivalent was 294 g / eq. The GPC area% of the unit price hydroxy resin was 7.2.

合成例3(実施例)
攪拌機、コンデンサー、温度計及び滴下ロートを備えた1Lの4口フラスコに、フェノール150g及び、50%パラトルエンスルホン酸0.03gを加え、100℃まで昇温した。次に、100℃にて攪拌しながら、81%DVB179g(EVB32gを含む)を使用した他は、実施例1と同様にして、多価ヒドロキシ樹脂(DVBN−P6)296gを得た。DVBN−P6の軟化点は91℃、150℃での溶融粘度は1.37Pa・s、水酸基当量は241g/eq.であり、単価ヒドロキシ樹脂のGPC面積%は4.0であった。
Synthesis Example 3 (Example)
150 g of phenol and 0.03 g of 50% paratoluenesulfonic acid were added to a 1 L 4-neck flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer and a dropping funnel, and the temperature was raised to 100 ° C. Next, 296 g of a multivalent hydroxy resin (DVBN-P6) was obtained in the same manner as in Example 1 except that 179 g of 81% DVB (including 32 g of EVB) was used while stirring at 100 ° C. The softening point of DVBN-P6 is 91 ° C., the melt viscosity at 150 ° C. is 1.37 Pa · s, and the hydroxyl group equivalent is 241 g / eq. The GPC area% of the unit price hydroxy resin was 4.0.

合成例4
攪拌機、コンデンサー、温度計及び滴下ロートを備えた1Lの4口フラスコに、フェノール150g及び、50%パラトルエンスルホン酸0.03gを加え、100℃まで昇温した。次に、100℃にて攪拌しながら、96%DVB151g(EVB6gを含む)を使用した他は、実施例1と同様にして、多価ヒドロキシ樹脂(DVBN−P7)262gを得た。DVBN−P7の軟化点は103℃、150℃での溶融粘度は4.37Pa・s、水酸基当量は213g/eq.であり、単価ヒドロキシ樹脂のGPC面積%は1.0であった。
Synthesis example 4
150 g of phenol and 0.03 g of 50% paratoluenesulfonic acid were added to a 1 L 4-neck flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer and a dropping funnel, and the temperature was raised to 100 ° C. Next, 262 g of a multivalent hydroxy resin (DVBN-P7) was obtained in the same manner as in Example 1 except that 151 g of 96% DVB (including 6 g of EVB) was used while stirring at 100 ° C. The softening point of DVBN-P7 is 103 ° C., the melt viscosity at 150 ° C. is 4.37 Pa · s, and the hydroxyl group equivalent is 213 g / eq. The GPC area% of the unit price hydroxy resin was 1.0.

実施例3
攪拌機、コンデンサー、温度計及び滴下ロートを備えた1Lの4口フラスコに、合成例1で得たDVBN−P4を100g、エピクロルヒドリン411g、ジエチレングリコールジメチルエーテル62gを入れ撹拌溶解させた。均一に溶解後、130mmHgの減圧下65℃に保ち、48%水酸化ナトリウム水溶液32gを4時間かけて滴下し、この滴下中に還流留出した水とエピクロルヒドリンを分離槽で分離しエピクロルヒドリンは反応容器に戻し、水は系外に除いて反応した。反応終了後、濾過により生成した塩を除き、更に水洗したのちエピクロルヒドリンを留去し、エポキシ樹脂(DVBN−E1)106gを得た。得られた樹脂のエポキシ当量は354g/eq.、軟化点は64℃、150℃における溶融粘度は0.26Pa・sであった。DVBN−E1のGPCチャートを図5、FD−MSチャートを図6に示す。
Example 3
100 g of DVBN-P4 obtained in Synthesis Example 1, 411 g of epichlorohydrin, and 62 g of diethylene glycol dimethyl ether were placed in a 1 L 4-neck flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer, and a dropping funnel, and dissolved by stirring. After uniformly dissolving, the temperature was maintained at 65 ° C. under reduced pressure of 130 mmHg, 32 g of a 48% sodium hydroxide aqueous solution was added dropwise over 4 hours, and the water distilled from reflux and epichlorohydrin were separated in a separation tank during the addition, and epichlorohydrin was placed in a reaction vessel. The water reacted except outside the system. After completion of the reaction, the salt produced by filtration was removed, the mixture was further washed with water, and epichlorohydrin was distilled off to obtain 106 g of an epoxy resin (DVBN-E1). The epoxy equivalent of the obtained resin was 354 g / eq. The softening point was 64 ° C., and the melt viscosity at 150 ° C. was 0.26 Pa · s. The GPC chart of DVBN-E1 is shown in FIG. 5, and the FD-MS chart is shown in FIG.

実施例4
攪拌機、コンデンサー、温度計及び滴下ロートを備えた1Lの4口フラスコに合成例2で得たDVBN−P5を100g、エピクロルヒドリン410g、ジエチレングリコールジメチルエーテル62gを入れ撹拌溶解させた。均一に溶解後、130mmHgの減圧下65℃に保ち、48%水酸化ナトリウム水溶液35gを4時間かけて滴下した他は、実施例3と同様にして、エポキシ樹脂(DVBN−E2)107gを得た。得られた樹脂のエポキシ当量は327g/eq.、軟化点は68℃、150℃における溶融粘度は0.34Pa・sであった。
Example 4
100 g of DVBN-P5 obtained in Synthesis Example 2, 410 g of epichlorohydrin, and 62 g of diethylene glycol dimethyl ether were placed in a 1 L 4-neck flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer, and a dropping funnel and dissolved by stirring. After being uniformly dissolved, 107 g of epoxy resin (DVBN-E2) was obtained in the same manner as in Example 3 except that the temperature was maintained at 65 ° C. under reduced pressure of 130 mmHg and 35 g of a 48% sodium hydroxide aqueous solution was added dropwise over 4 hours. .. The epoxy equivalent of the obtained resin was 327 g / eq. The softening point was 68 ° C., and the melt viscosity at 150 ° C. was 0.34 Pa · s.

実施例5
攪拌機、コンデンサー、温度計及び滴下ロートを備えた1Lの4口フラスコに合成例3で得たDVBN−P6を100g、エピクロルヒドリン409g、ジエチレングリコールジメチルエーテル61gを入れ撹拌溶解させた。均一に溶解後、130mmHgの減圧下65℃に保ち、48%水酸化ナトリウム水溶液39gを4時間かけて滴下した他は、実施例3と同様にして、エポキシ樹脂(DVBN−E3)101gを得た。得られた樹脂のエポキシ当量は303g/eq.、軟化点は78℃、150℃における溶融粘度は0.69Pa・sであった。
Example 5
100 g of DVBN-P6 obtained in Synthesis Example 3, 409 g of epichlorohydrin, and 61 g of diethylene glycol dimethyl ether were placed in a 1 L 4-neck flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer, and a dropping funnel and dissolved by stirring. After being uniformly dissolved, 101 g of epoxy resin (DVBN-E3) was obtained in the same manner as in Example 3 except that 39 g of a 48% sodium hydroxide aqueous solution was added dropwise over 4 hours while maintaining the temperature at 65 ° C. under reduced pressure of 130 mmHg. .. The epoxy equivalent of the obtained resin was 303 g / eq. The softening point was 78 ° C., and the melt viscosity at 150 ° C. was 0.69 Pa · s.

比較例2
攪拌機、コンデンサー、温度計及び滴下ロートを備えた1Lの4口フラスコに合成例4で得たDVBN−P7を100g、エピクロルヒドリン443g、ジエチレングリコールジメチルエーテル66gを入れ撹拌溶解させた。均一に溶解後、130mmHgの減圧下65℃に保ち、48%水酸化ナトリウム水溶液42gを4時間かけて滴下した他は、実施例3と同様にして、エポキシ樹脂(DVBN−E4)104gを得た。得られた樹脂のエポキシ当量は280g/eq.、軟化点は85℃、150℃における溶融粘度は1.14Pa・sであった。DVBN−E4のGPCチャートを図7、FD−MSチャートを図8に示す。
Comparative Example 2
100 g of DVBN-P7 obtained in Synthesis Example 4, 443 g of epichlorohydrin, and 66 g of diethylene glycol dimethyl ether were placed in a 1 L 4-neck flask equipped with a stirrer, a condenser, a thermometer, and a dropping funnel and dissolved by stirring. After being uniformly dissolved, 104 g of epoxy resin (DVBN-E4) was obtained in the same manner as in Example 3 except that the temperature was maintained at 65 ° C. under reduced pressure of 130 mmHg and 42 g of a 48% sodium hydroxide aqueous solution was added dropwise over 4 hours. .. The epoxy equivalent of the obtained resin was 280 g / eq. The softening point was 85 ° C., and the melt viscosity at 150 ° C. was 1.14 Pa · s. The GPC chart of DVBN-E4 is shown in FIG. 7, and the FD-MS chart is shown in FIG.

実施例6〜10及び比較例3〜5
エポキシ樹脂成分としてo-クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(OCNE;エポキシ当量202、軟化点74℃)を使用し、硬化剤として実施例1,2、比較例1、合成例1,2,3,4で得た多価ヒドロキシ樹脂、又はフェノールアラルキル樹脂(PA;OH当量175、軟化点67℃)を使用した。硬化促進剤としてトリフェニルホスフィンを表1に示す配合で混練しエポキシ樹脂組成物を得た。このエポキシ樹脂組成物を用いて175℃にて成形し、200℃にて5時間ポストキュアを行い、硬化物試験片を得た後、各種物性測定に供した。結果を表2に示す。配合量の数字は重量部である。
Examples 6-10 and Comparative Examples 3-5
In Example 1, 2, Comparative Example 1, and Synthesis Examples 1, 2, 3, and 4 using an o-cresol novolac type epoxy resin (OCNE; epoxy equivalent 202, softening point 74 ° C.) as an epoxy resin component and as a curing agent. The obtained polyvalent hydroxy resin or phenol aralkyl resin (PA; OH equivalent 175, softening point 67 ° C.) was used. Triphenylphosphine as a curing accelerator was kneaded with the formulations shown in Table 1 to obtain an epoxy resin composition. This epoxy resin composition was molded at 175 ° C., post-cured at 200 ° C. for 5 hours to obtain a cured product test piece, and then subjected to various physical property measurements. The results are shown in Table 2. The compounding amount is the part by weight.

硬化物の評価方法
1)ゲルタイム(GT)
175℃に加熱しておいたゲル化試験機(日新科学(株)製)のプレート上にエポキシ樹脂組成物を添加し、フッ素樹脂棒を用いて一秒間に2回転の速度で攪拌し、エポキシ樹脂組成物が硬化するまでに要したゲル化時間を調べた。
Evaluation method of cured product 1) Gel time (GT)
The epoxy resin composition was added onto a plate of a gelling tester (manufactured by Nissin Scientific Co., Ltd.) heated to 175 ° C., and the mixture was stirred at a rate of 2 rotations per second using a fluororesin rod. The gelation time required for the epoxy resin composition to cure was investigated.

2)スパイラルフロー(SF)
トランスファー成形機を用いて、充填剤として球状シリカ(平均粒径 18μm)を配合したエポキシ樹脂組成物を175℃スパイラルフロー金型内に射出して、流れた距離を測定した。
2) Spiral flow (SF)
Using a transfer molding machine, an epoxy resin composition containing spherical silica (average particle size 18 μm) as a filler was injected into a spiral flow mold at 175 ° C., and the flow distance was measured.

3)TMA測定によるガラス転移点(Tg)、線膨張係数(CTE)
セイコーインスツル製TMA120C型熱機械測定装置により、昇温速度10℃/分の条件で、Tgを求め、α1(Tg以下のCTE)は40〜60℃の範囲の平均値を、またα2(Tg以上のCTE)はTgプラス50℃〜70℃の範囲の平均値から求めた。
3) Glass transition point (Tg) and coefficient of linear expansion (CTE) measured by TMA
Tg was determined by Seiko Instruments' TMA120C type thermomechanical measuring device under the condition of a heating rate of 10 ° C./min, and α1 (CTE of Tg or less) was an average value in the range of 40 to 60 ° C., and α2 (Tg). The above CTE) was determined from the average value in the range of Tg plus 50 ° C. to 70 ° C.

4)DMA測定によるガラス転移点(Tg)、粘弾性(ε’)
セイコーインスツル製DMA熱機械測定装置により、昇温速度4℃/分の条件で、Tgを求め、40℃の粘弾性ε’と260℃の粘弾性ε’を求めた。
4) Glass transition point (Tg) and viscoelasticity (ε') measured by DMA
Tg was determined by a DMA thermomechanical measuring device manufactured by Seiko Instruments Inc. under the condition of a temperature rising rate of 4 ° C./min, and viscoelasticity ε'at 40 ° C. and viscoelasticity ε'at 260 ° C. were determined.

5)TGDTA測定による5wt%重量減少温度(Td5)、10wt%重量減少温度(Td10)
セイコーインスツル製TGDTA熱機械測定装置により、昇温速度10℃/分の条件で、重量減少曲線より5wt%重量減少温度(Td5)、10wt%重量減少温度(Td10)を求めた。
5) 5 wt% weight loss temperature (Td5) measured by TGDTA, 10 wt% weight loss temperature (Td10)
A 5 wt% weight loss temperature (Td5) and a 10 wt% weight loss temperature (Td10) were determined from the weight loss curve under the condition of a temperature rising rate of 10 ° C./min by a TGDTA thermomechanical measuring device manufactured by Seiko Instruments Inc.

6)吸水率
25℃、相対湿度50%の条件を標準状態とし、85℃、相対湿度85%の条件で100時間吸湿させた後の重量変化率とした。
6) The standard condition was a water absorption rate of 25 ° C. and a relative humidity of 50%, and the weight change rate after 100 hours of moisture absorption under the conditions of 85 ° C. and a relative humidity of 85% was used.

7)容量法による誘電率(Dk)、誘電正接(Df)
Agilent社製インピーダンスマテリアルアナライザー装置を用い、25℃、湿度60%の恒温恒湿器内で保管後の硬化物を1GHzで誘電率および誘電正接を測定した。
7) Permittivity by capacitance method (Dk), dielectric loss tangent (Df)
Using an impedance material analyzer manufactured by Agilent, the dielectric constant and dielectric loss tangent of the cured product after storage in a constant temperature and humidity chamber at 25 ° C. and 60% humidity were measured at 1 GHz.

Figure 0006799370
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Figure 0006799370
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実施例11〜14及び比較例5〜7
エポキシ樹脂成分として、実施例3、4、5で得たDVBN−E1、DVBN−E2、DVBN−E3、比較例2で得たDVBN−E4、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂(PA−E;エポキシ当量202、軟化点75℃)、又はビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(BPAR−E;エポキシ当量272、軟化点75℃)、硬化剤成分として、フェノールノボラック樹脂(PN;OH当量108、軟化点 90℃)、又は合成例2で合成したDVBN−P5を用いた。更に、硬化促進剤として2−エチル−4−メチルイミダゾールを用い、表3に示す配合でエポキシ樹脂組成物を得た。表中の数値は配合における重量部を示す。
Examples 11-14 and Comparative Examples 5-7
As the epoxy resin components, DVBN-E1, DVBN-E2, DVBN-E3 obtained in Examples 3, 4 and 5, DVBN-E4 obtained in Comparative Example 2, and phenol aralkyl type epoxy resin (PA-E; epoxy equivalent 202). , Softening point 75 ° C.), or biphenyl aralkyl type epoxy resin (BPAR-E; epoxy equivalent 272, softening point 75 ° C.), phenol novolac resin (PN; OH equivalent 108, softening point 90 ° C.) as a curing agent component, or The DVBN-P5 synthesized in Synthesis Example 2 was used. Further, 2-ethyl-4-methylimidazole was used as a curing accelerator, and an epoxy resin composition was obtained by the formulation shown in Table 3. The numerical values in the table indicate the parts by weight in the formulation.

このエポキシ樹脂組成物を用いて175℃で成形し、更に200℃にて5時間ポストキュアを行い、硬化物試験片を得た後、各種物性測定に供した。結果を表4に示す。 This epoxy resin composition was molded at 175 ° C., post-cured at 200 ° C. for 5 hours to obtain a cured product test piece, and then subjected to various physical property measurements. The results are shown in Table 4.

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Figure 0006799370

Claims (7)

下記一般式(1)で表されるフェノール化合物と、下記一般式(2)および(3)で表される芳香族ビニル化合物(但し、全芳香族ビニル化合物中の一般式(3)で表される芳香族ビニル化合物の割合は、15〜45wt%の範囲である。)を酸触媒の存在下で反応させて得られ、
Figure 0006799370
(R1水素を示す。)
Figure 0006799370
下記一般式(4)
Figure 0006799370
(R1水素を示し、R2は式(a)で表される置換基を示し、R3およびR4は水素またはメチル基を示し、nは0〜20の数を示す。また、pは0.1〜3.0の数を示す。)
で表される多価ヒドロキシ樹脂と、エピクロルヒドリンとを反応させて多価ヒドロキシ樹脂のヒドロキシ基を、グリシジル基としたものであることを特徴とするエポキシ樹脂。
The phenol compound represented by the following general formula (1) and the aromatic vinyl compound represented by the following general formulas (2) and (3) (however, represented by the general formula (3) among all aromatic vinyl compounds). The proportion of the aromatic vinyl compound is in the range of 15 to 45 wt%), which is obtained by reacting in the presence of an acid catalyst .
Figure 0006799370
(R 1 indicates hydrogen .)
Figure 0006799370
The following general formula (4)
Figure 0006799370
(R 1 represents hydrogen , R 2 represents a substituent represented by the formula (a), R 3 and R 4 represent hydrogen or a methyl group, and n represents a number from 0 to 20 and p. Indicates a number of 0.1 to 3.0.)
An epoxy resin characterized in that the hydroxy group of the polyvalent hydroxy resin is made into a glycidyl group by reacting the polyvalent hydroxy resin represented by (1) with epichlorohydrin.
前記多価ヒドロキシ樹脂の水酸基当量が200〜500g/eq.の範囲であることを特徴とする請求項1に記載のエポキシ樹脂。 The hydroxyl group equivalent of the multivalent hydroxy resin is 200 to 500 g / eq. The epoxy resin according to claim 1, wherein the epoxy resin is in the range of 1. 前記多価ヒドロキシ樹脂中の下記一般式(5)
Figure 0006799370
(ここで、pは0.1〜3.0の数を示し、R1水素を示す。)
で表される単価ヒドロキシ化合物の含有率が、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC;RI)で検出したときの面積百分率で3%〜20%であることを特徴とする請求項1または2に記載のエポキシ樹脂。
The following general formula (5) in the multivalent hydroxy resin
Figure 0006799370
(Here, p indicates a number of 0.1 to 3.0, and R 1 indicates hydrogen .)
The first or second claim, wherein the content of the unit price hydroxy compound represented by is 3% to 20% in terms of area percentage when detected by gel permeation chromatography (GPC; RI). Epoxy resin.
下記一般式(1)で表されるフェノール化合物と、下記一般式(2)および(3)で表される芳香族ビニル化合物(但し、全芳香族ビニル化合物中の一般式(3)で表される芳香族ビニル化合物の割合は、15〜45wt%の範囲である。)とを、10〜1000wtppmの酸触媒の存在下、反応温度40〜180℃で反応させて、式(a)で表される置換基をフェノール化合物のベンゼン環に付加させて、下記一般式(4)で表される多価ヒドロキシ樹脂とすること、この多価ヒドロキシ樹脂とエピクロルヒドリンとを反応させて多価ヒドロキシ樹脂のヒドロキシ基を、グリシジル基とすることを特徴とするエポキシ樹脂の製造方法。
Figure 0006799370
(R1水素を示す。)
Figure 0006799370
Figure 0006799370
(R1水素を示し、R2は式(a)で表される置換基を示し、R3およびR4は水素またはメチル基を示し、nは0〜20の数を示す。また、pは0.1〜3.0の数を示す。)
The phenol compound represented by the following general formula (1) and the aromatic vinyl compound represented by the following general formulas (2) and (3) (however, represented by the general formula (3) among all aromatic vinyl compounds). The ratio of the aromatic vinyl compound is in the range of 15 to 45 wt%.) Is reacted at a reaction temperature of 40 to 180 ° C. in the presence of an acid catalyst of 10 to 1000 wtppm, and is represented by the formula (a). The substituent is added to the benzene ring of the phenol compound to obtain a polyvalent hydroxy resin represented by the following general formula (4), and the polyvalent hydroxy resin is reacted with epichlorohydrin to obtain the hydroxy of the polyvalent hydroxy resin. A method for producing an epoxy resin, wherein the group is a glycidyl group.
Figure 0006799370
(R 1 indicates hydrogen .)
Figure 0006799370
Figure 0006799370
(R 1 represents hydrogen , R 2 represents a substituent represented by the formula (a), R 3 and R 4 represent hydrogen or a methyl group, and n represents a number from 0 to 20 and p. Indicates a number of 0.1 to 3.0.)
一般式(1)で表されるフェノール化合物のヒドロキシ基1モルに対し、一般式(2)で表される芳香族ビニル化合物0.1〜1.0モルを反応させることを特徴とする請求項4に記載のエポキシ樹脂の製造方法。 The claim is characterized in that 0.1 to 1.0 mol of an aromatic vinyl compound represented by the general formula (2) is reacted with 1 mol of the hydroxy group of the phenol compound represented by the general formula (1). The method for producing an epoxy resin according to 4. エポキシ樹脂及び硬化剤よりなるエポキシ樹脂組成物において、請求項1〜3のいずれかに記載のエポキシ樹脂を必須成分として配合してなるエポキシ樹脂組成物。 An epoxy resin composition comprising an epoxy resin and a curing agent, wherein the epoxy resin according to any one of claims 1 to 3 is blended as an essential component. 請求項6に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなるエポキシ樹脂硬化物。
An epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 6.
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