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JP6617024B2 - Light emitting device - Google Patents

Light emitting device Download PDF

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JP6617024B2 JP2015251969A JP2015251969A JP6617024B2 JP 6617024 B2 JP6617024 B2 JP 6617024B2 JP 2015251969 A JP2015251969 A JP 2015251969A JP 2015251969 A JP2015251969 A JP 2015251969A JP 6617024 B2 JP6617024 B2 JP 6617024B2
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resin film
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二郎 藤森
隆介 小島
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Pioneer Corp
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Pioneer Corp
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Description

本発明は、発光装置に関する。   The present invention relates to a light emitting device.

発光装置の光源の一つに、有機EL素子がある。有機EL素子は、陽極となる第1電極と陰極となる第2電極の間に有機層を配置した構成を有している。有機層は水や酸素に弱いため、封止される必要がある。例えば特許文献1には、有機EL素子を熱可塑性の樹脂層で覆い、さらにその上に金属箔を設けることが記載されている。   One of the light sources of a light emitting device is an organic EL element. The organic EL element has a configuration in which an organic layer is disposed between a first electrode serving as an anode and a second electrode serving as a cathode. Since the organic layer is vulnerable to water and oxygen, it needs to be sealed. For example, Patent Document 1 describes that an organic EL element is covered with a thermoplastic resin layer, and further a metal foil is provided thereon.

また特許文献2には、表示部を外気から遮断する封止部として、凹部を有する封止部を用いることが記載されている。特許文献2において、表示部は凹部内に配置されている。封止部の縁は接着剤を用いて表示部の基板に固定されている。そして、この基板と接着剤の間には平坦化層が形成されている。平坦化層は、SiNやSiO等の絶縁材料を用いて形成されている。特許文献2において、平坦化層を形成する目的は、気密性を確保するためである。特許文献2における平坦化層の形成方法は、成膜およびパターニングである。 Patent Document 2 describes that a sealing portion having a recess is used as a sealing portion that shields the display portion from outside air. In patent document 2, the display part is arrange | positioned in the recessed part. The edge of the sealing portion is fixed to the substrate of the display portion using an adhesive. A planarizing layer is formed between the substrate and the adhesive. The planarization layer is formed using an insulating material such as SiN or SiO 2 . In Patent Document 2, the purpose of forming the planarization layer is to ensure airtightness. The method for forming a planarization layer in Patent Document 2 is film formation and patterning.

特開2014−154507号公報JP 2014-154507 A 特開2005−251630号公報JP 2005-251630 A

特許文献1に記載の構造において、有機EL素子の発光部は、樹脂膜、及び金属箔などの金属シートや金属膜を用いて封止されている。本発明者が検討した結果、樹脂は金属と比較して水分や酸素を透過しやすいため、樹脂膜のうち封止構造の端面に位置している部分から封止構造の内部に水分や酸素が侵入する可能性があり当該樹脂膜の端面からの厚みを抑えることで封止構造の性能が向上することが判明した。   In the structure described in Patent Document 1, the light emitting portion of the organic EL element is sealed using a resin film and a metal sheet such as a metal foil or a metal film. As a result of investigation by the present inventors, since the resin is more permeable to moisture and oxygen than metal, moisture and oxygen are introduced from the portion of the resin film located on the end surface of the sealing structure into the sealing structure. It has been found that there is a possibility of intrusion and the performance of the sealing structure is improved by suppressing the thickness from the end face of the resin film.

本発明が解決しようとする課題としては、樹脂膜及び金属シートを用いて有機EL素子の発光部を封止する場合において、樹脂膜のうち封止構造の端面に位置している部分から封止構造の内部に侵入する水分や酸素の量を少なくすることが一例として挙げられる。   As a problem to be solved by the present invention, when a light emitting part of an organic EL element is sealed using a resin film and a metal sheet, the resin film is sealed from a portion located on the end surface of the sealing structure. One example is to reduce the amount of moisture and oxygen that enter the structure.

請求項1に記載の発明は、基板と、
前記基板に形成された発光部と、
前記基板に形成され、前記発光部に電気的に接続している配線部と、
前記配線部の少なくとも一部の上に形成される第1絶縁層と、
前記配線部の少なくとも一部及び前記発光部を覆う樹脂膜と、
前記樹脂膜の上に位置し、前記配線部の少なくとも一部及び前記発光部を覆う金属シートと、
を備え、
前記樹脂膜のうち前記第1絶縁層と重なる領域の少なくとも一部である第1領域は、前記樹脂膜のうち前記発光部と前記第1絶縁層の間に位置する第2領域より薄い発光装置である。
The invention according to claim 1 is a substrate;
A light emitting part formed on the substrate;
A wiring part formed on the substrate and electrically connected to the light emitting part;
A first insulating layer formed on at least a part of the wiring portion;
A resin film covering at least a part of the wiring part and the light emitting part;
A metal sheet located on the resin film and covering at least a part of the wiring part and the light emitting part;
With
The first region which is at least part of the resin film overlapping with the first insulating layer is lighter than the second region of the resin film located between the light emitting portion and the first insulating layer. It is.

実施形態に係る発光装置の構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the light-emitting device which concerns on embodiment. 図1から封止部材及び接続部材を取り除いた図である。It is the figure which removed the sealing member and the connection member from FIG. 図2から第2電極を取り除いた図である。FIG. 3 is a diagram in which a second electrode is removed from FIG. 2. 図3から第2絶縁層及び有機層を取り除いた図である。It is the figure which removed the 2nd insulating layer and the organic layer from FIG. 図4から第1配線部及び導電部を取り除いた図である。It is the figure which removed the 1st wiring part and the electroconductive part from FIG. 図1のA−A断面図である。It is AA sectional drawing of FIG. 発光装置の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of a light-emitting device. 変形例1に係る発光装置の構成及び製造方法を示す断面図である。6 is a cross-sectional view illustrating a configuration and a manufacturing method of a light emitting device according to Modification 1. FIG. 変形例2に係る発光装置の構成及び製造方法を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the light-emitting device which concerns on the modification 2, and a manufacturing method.

以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In all the drawings, the same reference numerals are given to the same components, and the description will be omitted as appropriate.

(実施形態)
図1は、実施形態に係る発光装置10の構成を示す平面図である。図2は、図1から封止部材220及び接続部材200,202を取り除いた図である。図3は、図2から第2電極130を取り除いた図である。図4は、図3から第2絶縁層150及び有機層120を取り除いた図である。図5は、図4から第1配線部114及び導電部160,170を取り除いた図である。
(Embodiment)
FIG. 1 is a plan view showing a configuration of a light emitting device 10 according to the embodiment. FIG. 2 is a view in which the sealing member 220 and the connecting members 200 and 202 are removed from FIG. FIG. 3 is a diagram in which the second electrode 130 is removed from FIG. 2. FIG. 4 is a diagram in which the second insulating layer 150 and the organic layer 120 are removed from FIG. 3. FIG. 5 is a diagram in which the first wiring part 114 and the conductive parts 160 and 170 are removed from FIG. 4.

実施形態に係る発光装置10は、基板100、発光部140、第1配線部114、第1絶縁層155、樹脂膜190、及び金属シート180を備えている。発光部140は基板100に形成されている。第1配線部114は第1電極110に形成されており、発光部140に電気的に接続している。第1絶縁層155は第1配線部114の少なくとも一部の上に形成されている。樹脂膜190は第1配線部114の少なくとも一部及び発光部140を被覆している。金属シート180は樹脂膜190の上に位置しており、第1配線部114の少なくとも一部及び発光部140を覆っている。そして、樹脂膜190のうち第1絶縁層155と重なる領域の少なくとも一部(以下、第1領域192と記載)は、樹脂膜190のうち発光部140と第1絶縁層155の間の領域の上に位置する領域(以下、第2領域194と記載)より薄い。以下、発光装置10について詳細に説明する。   The light emitting device 10 according to the embodiment includes a substrate 100, a light emitting unit 140, a first wiring unit 114, a first insulating layer 155, a resin film 190, and a metal sheet 180. The light emitting unit 140 is formed on the substrate 100. The first wiring part 114 is formed on the first electrode 110 and is electrically connected to the light emitting part 140. The first insulating layer 155 is formed on at least a part of the first wiring part 114. The resin film 190 covers at least a part of the first wiring part 114 and the light emitting part 140. The metal sheet 180 is located on the resin film 190 and covers at least a part of the first wiring part 114 and the light emitting part 140. In addition, at least a part of the resin film 190 overlapping with the first insulating layer 155 (hereinafter referred to as a first region 192) is a region of the resin film 190 between the light emitting unit 140 and the first insulating layer 155. It is thinner than the region located above (hereinafter referred to as second region 194). Hereinafter, the light emitting device 10 will be described in detail.

図1〜図5に示す例において、発光装置10は照明装置である。ただし、発光装置10はディスプレイであってもよい。発光装置10はボトムエミッション型の発光装置であってもよいし、トップエミッション型の発光装置であってもよい。発光装置10は、基板100を用いて形成されている。   In the example shown in FIGS. 1 to 5, the light emitting device 10 is a lighting device. However, the light emitting device 10 may be a display. The light emitting device 10 may be a bottom emission type light emitting device or a top emission type light emitting device. The light emitting device 10 is formed using a substrate 100.

発光装置10がボトムエミッション型である場合、基板100は、例えばガラスや透光性の樹脂などの透光性の材料で形成されている。一方、発光装置10がトップエミッション型である場合、基板100は上述した透光性の材料で形成されていてもよいし、透光性を有さない材料で形成されていてもよい。基板100は、例えば矩形などの多角形である。また、基板100は可撓性を有していてもよい。基板100が可撓性を有している場合、基板100の厚さは、例えば10μm以上1000μm以下である。特に基板100をガラス材料で可撓性を持たせる場合、基板100の厚さは、例えば200μm以下である。基板100を樹脂材料で可撓性を持たせる場合は、基板100の材料として、例えばPEN(ポリエチレンナフタレート)、PES(ポリエーテルサルホン)、PET(ポリエチレンテレフタラート)、又はポリイミドを含ませて形成されている。また、基板100が樹脂材料を含む場合、水分が基板100を透過することを抑制するために、基板100の少なくとも発光面(好ましくは両面)に、SiNやSiONなどの無機バリア膜が形成されている。 When the light emitting device 10 is a bottom emission type, the substrate 100 is formed of a light transmissive material such as glass or a light transmissive resin. On the other hand, when the light emitting device 10 is a top emission type, the substrate 100 may be formed of the above-described translucent material or may be formed of a material that does not have translucency. The substrate 100 is, for example, a polygon such as a rectangle. Further, the substrate 100 may have flexibility. In the case where the substrate 100 has flexibility, the thickness of the substrate 100 is, for example, not less than 10 μm and not more than 1000 μm. In particular, when the substrate 100 is made of a glass material and has flexibility, the thickness of the substrate 100 is, for example, 200 μm or less. In the case where the substrate 100 is made of a resin material and is flexible, the material of the substrate 100 includes, for example, PEN (polyethylene naphthalate), PES (polyethersulfone), PET (polyethylene terephthalate), or polyimide. Is formed. In the case where the substrate 100 includes a resin material, an inorganic barrier film such as SiN x or SiON is formed on at least the light emitting surface (preferably both surfaces) of the substrate 100 in order to suppress moisture from passing through the substrate 100. ing.

基板100には発光部140が形成されている。発光部140は有機EL素子であり、第1電極110、有機層120、及び第2電極130を有している。有機層120は第1電極110と第2電極130の間に位置している。   A light emitting unit 140 is formed on the substrate 100. The light emitting unit 140 is an organic EL element, and includes a first electrode 110, an organic layer 120, and a second electrode 130. The organic layer 120 is located between the first electrode 110 and the second electrode 130.

第1電極110及び第2電極130の少なくとも一方は、光透過性を有する透明電極である。例えば発光装置10がボトムエミッション型の発光装置である場合、少なくとも第1電極110は透明電極である。一方、発光装置10がトップエミッション型の発光装置である場合、少なくとも第2電極130は透明電極である。なお、第1電極110及び第2電極130の双方が透明電極であってもよい。   At least one of the first electrode 110 and the second electrode 130 is a transparent electrode having optical transparency. For example, when the light emitting device 10 is a bottom emission type light emitting device, at least the first electrode 110 is a transparent electrode. On the other hand, when the light emitting device 10 is a top emission type light emitting device, at least the second electrode 130 is a transparent electrode. Note that both the first electrode 110 and the second electrode 130 may be transparent electrodes.

透明電極を構成する透明導電材料は、金属を含む材料、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、IWZO(Indium Tungsten Zinc Oxide)、ZnO(Zinc Oxide)等の金属酸化物である。第1電極110の厚さは、例えば10nm以上500nm以下である。第1電極110は、例えばスパッタリング法又は蒸着法(例えば真空蒸着法)を用いて形成される。なお、第1電極110は、カーボンナノチューブ、又はPEDOT/PSSなどの導電性有機材料であってもよいし、薄い金属電極であってもよい。   The transparent conductive material constituting the transparent electrode is a metal-containing material, for example, a metal oxide such as ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), IWZO (Indium Tungsten Zinc Oxide), or ZnO (Zinc Oxide). is there. The thickness of the first electrode 110 is, for example, not less than 10 nm and not more than 500 nm. The first electrode 110 is formed using, for example, a sputtering method or a vapor deposition method (for example, a vacuum vapor deposition method). The first electrode 110 may be a carbon nanotube, a conductive organic material such as PEDOT / PSS, or a thin metal electrode.

第1電極110及び第2電極130のうち透光性を有していない電極は、例えば、Al、Au、Ag、Pt、Mg、Sn、Zn、及びInからなる第1群の中から選択される金属又はこの第1群から選択される金属の合金からなる金属層を含んでいる。この電極は、例えばスパッタリング法又は蒸着法(例えば真空蒸着法)を用いて形成される。   Of the first electrode 110 and the second electrode 130, the non-transparent electrode is selected from, for example, a first group consisting of Al, Au, Ag, Pt, Mg, Sn, Zn, and In. Or a metal layer made of an alloy of metals selected from this first group. This electrode is formed by using, for example, a sputtering method or a vapor deposition method (for example, a vacuum vapor deposition method).

なお、発光装置10がトップエミッション型の発光装置である場合、第1電極110は、金属層と透明導電層をこの順に積層した構造であってもよい。   When the light emitting device 10 is a top emission type light emitting device, the first electrode 110 may have a structure in which a metal layer and a transparent conductive layer are stacked in this order.

有機層120は、例えば、正孔注入層、発光層、及び電子注入層をこの順に積層させた構成を有している。正孔注入層と発光層との間には正孔輸送層が形成されていてもよい。また、発光層と電子注入層との間には電子輸送層が形成されていてもよい。有機層120は蒸着法(例えば真空蒸着法)で形成されてもよい。また、有機層120のうち少なくとも一つの層、例えば第1電極と接触する層は、インクジェット法、印刷法、又はスプレー法などの塗布法によって形成されてもよい。なお、この場合、有機層120の残りの層は、蒸着法によって形成されている。また、有機層120のすべての層が、塗布法を用いて形成されていてもよい。   The organic layer 120 has a configuration in which, for example, a hole injection layer, a light emitting layer, and an electron injection layer are stacked in this order. A hole transport layer may be formed between the hole injection layer and the light emitting layer. In addition, an electron transport layer may be formed between the light emitting layer and the electron injection layer. The organic layer 120 may be formed by a vapor deposition method (for example, a vacuum vapor deposition method). In addition, at least one layer of the organic layer 120, for example, a layer in contact with the first electrode may be formed by a coating method such as an inkjet method, a printing method, or a spray method. In this case, the remaining layers of the organic layer 120 are formed by vapor deposition. Moreover, all the layers of the organic layer 120 may be formed using the apply | coating method.

第1電極110の上には、導電部116が形成されている。導電部116は、第1電極110よりもシート抵抗が低い材料、例えば金属や合金を用いて形成されており、第1電極110の補助電極として機能する。導電部116は、一つの金属膜を用いて形成されていてもよいし、複数の金属膜を積層した積層膜を用いて形成されていてもよい。導電部116は、例えば、Mo合金、Al合金、及びMo合金をこの順に積層した積層膜であってもよい。なお、後述する導電部160及び導電部170も、導電部116と同様の断面構造を有している。導電部116は、例えばマスクを用いた蒸着法(例えば真空蒸着法)又はスパッタリング法を用いて形成されている。本図に示す例において、第1電極110の上には複数の導電部116が形成されている。複数の導電部116は互いに平行である。   A conductive portion 116 is formed on the first electrode 110. The conductive portion 116 is formed using a material having a sheet resistance lower than that of the first electrode 110, such as a metal or an alloy, and functions as an auxiliary electrode of the first electrode 110. The conductive portion 116 may be formed using one metal film, or may be formed using a stacked film in which a plurality of metal films are stacked. The conductive part 116 may be, for example, a laminated film in which a Mo alloy, an Al alloy, and a Mo alloy are laminated in this order. Note that a conductive portion 160 and a conductive portion 170 described later also have a cross-sectional structure similar to that of the conductive portion 116. The conductive portion 116 is formed using, for example, a vapor deposition method using a mask (for example, a vacuum vapor deposition method) or a sputtering method. In the example shown in this drawing, a plurality of conductive portions 116 are formed on the first electrode 110. The plurality of conductive portions 116 are parallel to each other.

図1〜図5に示す例において、発光装置10はストライプ状の複数の発光部140を有している。第1電極110及び第2電極130は、これら複数の発光部140の共通の電極になっていが、第1電極110および第2電極130がそれぞれ発光部140ごとに分断されて形成されてもよい。また、上記した導電部116は、複数の発光部140のそれぞれに設けられている。第1電極110と発光部140の間には、有機層120の他に、第2絶縁層150が形成されている。   In the example shown in FIGS. 1 to 5, the light emitting device 10 has a plurality of stripe-shaped light emitting portions 140. The first electrode 110 and the second electrode 130 are common electrodes of the plurality of light emitting units 140, but the first electrode 110 and the second electrode 130 may be divided for each light emitting unit 140. . Further, the above-described conductive portion 116 is provided in each of the plurality of light emitting portions 140. In addition to the organic layer 120, a second insulating layer 150 is formed between the first electrode 110 and the light emitting unit 140.

第2絶縁層150は、第1電極110のうち発光部140以外の領域を覆っている。言い換えると、第2絶縁層150には長方形状の開口152が複数形成されている。これら開口152は、有機層120を第1電極110に接触させるために設けられており、また、互いに平行に延在している。第2絶縁層150のうち開口152の間に位置する部分は、導電部116と重なっている。言い換えると、導電部116は第2絶縁層150によって覆われている。   The second insulating layer 150 covers a region other than the light emitting unit 140 in the first electrode 110. In other words, a plurality of rectangular openings 152 are formed in the second insulating layer 150. These openings 152 are provided in order to bring the organic layer 120 into contact with the first electrode 110, and extend in parallel to each other. A portion of the second insulating layer 150 located between the openings 152 overlaps with the conductive portion 116. In other words, the conductive portion 116 is covered with the second insulating layer 150.

第2絶縁層150は、例えばポリイミドなどの感光性の樹脂材料によって形成されている。そして、第2絶縁層150は、第2絶縁層150となる樹脂材料を塗布した後、この樹脂材料を露光及び現像することにより、形成される。この工程は、例えば第1電極110及び導電部116を形成した後、有機層120を形成する前に行われる。また、有機層120の一部を塗布法で形成する場合、第2絶縁膜150に撥液性を持たせると、有機層120を塗布する際に塗布材料が第2絶縁膜150によって撥液される。このため、第2絶縁膜150の縁あるいは第2絶縁膜150と有機層120の境界において有機層120の塗布材料が盛り上がりにくくなり、その結果、有機層120の厚さがばらつくことを抑制できる。   The second insulating layer 150 is made of a photosensitive resin material such as polyimide. The second insulating layer 150 is formed by applying a resin material to be the second insulating layer 150 and then exposing and developing the resin material. This step is performed, for example, after forming the first electrode 110 and the conductive portion 116 and before forming the organic layer 120. In addition, when a part of the organic layer 120 is formed by a coating method, if the second insulating film 150 has liquid repellency, the coating material is repelled by the second insulating film 150 when the organic layer 120 is applied. The For this reason, it is difficult for the coating material of the organic layer 120 to swell at the edge of the second insulating film 150 or at the boundary between the second insulating film 150 and the organic layer 120, and as a result, variation in the thickness of the organic layer 120 can be suppressed.

発光装置10は、第1端子112及び第2端子132を有している。第1端子112は第1電極110に電気的に接続しており、第2端子132は第2電極130に電気的に接続している。第1端子112及び第2端子132は、例えば、第1電極110と同一の材料で形成された層を有している。   The light emitting device 10 has a first terminal 112 and a second terminal 132. The first terminal 112 is electrically connected to the first electrode 110, and the second terminal 132 is electrically connected to the second electrode 130. For example, the first terminal 112 and the second terminal 132 include a layer formed of the same material as that of the first electrode 110.

第1端子112と第1電極110の間には第1配線部114が設けられている。第1配線部114は第1端子112と発光部140(具体的には第1電極110)を電気的に接続する部材である。第2端子132と第2電極130の間にも引出配線が設けられていてもよい。この引出配線を第2配線部134とする。単に配線部と表記した場合、この配線部は、第1配線部114または第2配線部134のいずれでもよい。本実施形態において、第1端子112、第2端子132、及び第1配線部114は第1電極110と同一の材料で形成された層を有している。第1端子112及び第1配線部114のうち第1電極110と同一の材料で形成された層は、第1電極110と一体になっている。一方、第2端子132のうち第1電極110と同一の材料で形成された層は、第1電極110から分離している。   A first wiring part 114 is provided between the first terminal 112 and the first electrode 110. The first wiring part 114 is a member that electrically connects the first terminal 112 and the light emitting part 140 (specifically, the first electrode 110). A lead-out wiring may also be provided between the second terminal 132 and the second electrode 130. This lead wiring is referred to as a second wiring part 134. When simply denoted as a wiring part, this wiring part may be either the first wiring part 114 or the second wiring part 134. In the present embodiment, the first terminal 112, the second terminal 132, and the first wiring portion 114 have a layer formed of the same material as the first electrode 110. Of the first terminal 112 and the first wiring part 114, a layer formed of the same material as the first electrode 110 is integrated with the first electrode 110. On the other hand, the layer formed of the same material as the first electrode 110 in the second terminal 132 is separated from the first electrode 110.

図1〜図5に示す例では基板100は矩形である。そして、第1端子112は、基板100の4辺のうち互いに対向する2辺のそれぞれに沿って設けられており、第2端子132は、基板100の残りの2辺のそれぞれに沿って設けられている。   In the example shown in FIGS. 1 to 5, the substrate 100 is rectangular. The first terminal 112 is provided along each of two opposite sides of the four sides of the substrate 100, and the second terminal 132 is provided along each of the remaining two sides of the substrate 100. ing.

そして、第1端子112及び第1配線部114は導電部160を有しており、第2端子132は導電部170を有している。導電部160,170は、いずれも基板100の互いに異なる辺に沿って延在している。そして、導電部160,170は、導電部116と同一の材料を含む層によって形成されている。   The first terminal 112 and the first wiring part 114 have a conductive part 160, and the second terminal 132 has a conductive part 170. The conductive portions 160 and 170 both extend along different sides of the substrate 100. The conductive portions 160 and 170 are formed of a layer containing the same material as that of the conductive portion 116.

第1端子112には接続部材200が接続されており、第2端子132には接続部材202が接続されている。接続部材200,202は、例えばリート配線又はタブ配線である。接続部材200のうち第1端子112に接続している部分は、第1端子112と同一の方向(第1の方向)に延在しており、また、導電性接着層を介して第1端子112に固定かつ電気的に接続している。接続部材202のうち第2端子132に接続している部分は、第2端子132と同一の方向(第1の方向に交わる方向、例えば第1の方向に直交する方向)に延在しており、また、導電性接着層を介して第2端子132に固定かつ電気的に接続している。導電性接着層は、少なくとも表面が導電性を有する粒子(以下、導電粒子)を複数含んでいる。接続部材200は導電性接着層内の導電粒子を介して第1端子112に電気的に接続しており、接続部材202も導電性接着層内の導電粒子を介して第2端子132に電気的に接続している。   The connection member 200 is connected to the first terminal 112, and the connection member 202 is connected to the second terminal 132. The connection members 200 and 202 are, for example, REIT wiring or tab wiring. A portion of the connecting member 200 that is connected to the first terminal 112 extends in the same direction (first direction) as the first terminal 112, and the first terminal is interposed via a conductive adhesive layer. 112 is fixed and electrically connected. A portion of the connecting member 202 connected to the second terminal 132 extends in the same direction as the second terminal 132 (a direction intersecting the first direction, for example, a direction orthogonal to the first direction). In addition, the second terminal 132 is fixed and electrically connected via a conductive adhesive layer. The conductive adhesive layer includes a plurality of particles having conductivity at least on the surface (hereinafter referred to as conductive particles). The connection member 200 is electrically connected to the first terminal 112 via conductive particles in the conductive adhesive layer, and the connection member 202 is also electrically connected to the second terminal 132 via conductive particles in the conductive adhesive layer. Connected to.

発光装置10は封止部材220を備えている。封止部材220は、金属シート180及び樹脂膜190を有している。   The light emitting device 10 includes a sealing member 220. The sealing member 220 includes a metal sheet 180 and a resin film 190.

金属シート180は、アルミニウムなどの金属を用いて形成されており、シート形状、例えば金属箔や金属膜となっている。金属シートを用いることにより、発光部140を封止することに加えて発光装置10の放熱性能をも向上させることができる。金属シート180の厚さは、例えば0.01μm以上0.5mm以下、特に好ましくは0.05mm以上2mm以下である。金属シート180の縁は、金属シート180の他の部分と比べて下に押し下げられた形状を有している。このようにして、金属シート180の中央側には空間が形成されている。そしてこの空間の内部に、発光部140及び乾燥剤186が配置されている。   The metal sheet 180 is formed using a metal such as aluminum and has a sheet shape, for example, a metal foil or a metal film. By using the metal sheet, in addition to sealing the light emitting unit 140, the heat dissipation performance of the light emitting device 10 can be improved. The thickness of the metal sheet 180 is, for example, not less than 0.01 μm and not more than 0.5 mm, particularly preferably not less than 0.05 mm and not more than 2 mm. The edge of the metal sheet 180 has a shape that is pushed down compared to other portions of the metal sheet 180. Thus, a space is formed on the center side of the metal sheet 180. And the light emission part 140 and the desiccant 186 are arrange | positioned inside this space.

金属シート180のうち基板100に対向する面のほぼ全面には、樹脂膜190が設けられている。樹脂膜190は金属シート180を基板100側に固定するために設けられており、例えば粘着性の樹脂材料又は接着剤によって形成されている。樹脂膜190を構成する材料としては、例えば特許文献1に封止層として記載されている材料を用いることができる。なお、第1端子112、第2端子132、及び接続部材200,202は封止部材220の外に位置している。   A resin film 190 is provided on almost the entire surface of the metal sheet 180 facing the substrate 100. The resin film 190 is provided to fix the metal sheet 180 to the substrate 100 side, and is formed of, for example, an adhesive resin material or an adhesive. As a material constituting the resin film 190, for example, a material described as a sealing layer in Patent Document 1 can be used. Note that the first terminal 112, the second terminal 132, and the connecting members 200 and 202 are located outside the sealing member 220.

図1に示すように、金属シート180の縁には凹部182が形成されている。凹部182は、金属シート180のうち樹脂膜190に向けて突出した部分であり、基板100の厚さ方向において樹脂膜190に入り込んでいる。凹部182の深さは、例えば0.1μm以上20μm以下である。図1に示す例では、凹部182は発光部140を囲んでおり、また、凹部182には切れ目がない。第1端子112の延在方向に直交する方向(図3における上下方向)において、凹部182は、第1配線部114の少なくとも一部と重なっている。また、第2端子132の延在方向に直交する方向(図3における左右方向)において、凹部182は第2端子132の一部と重なっている。   As shown in FIG. 1, a recess 182 is formed on the edge of the metal sheet 180. The recess 182 is a portion of the metal sheet 180 that protrudes toward the resin film 190 and enters the resin film 190 in the thickness direction of the substrate 100. The depth of the recess 182 is, for example, not less than 0.1 μm and not more than 20 μm. In the example shown in FIG. 1, the concave portion 182 surrounds the light emitting unit 140, and the concave portion 182 has no break. In a direction orthogonal to the extending direction of the first terminal 112 (up and down direction in FIG. 3), the recess 182 overlaps at least a part of the first wiring portion 114. In addition, the recess 182 overlaps a part of the second terminal 132 in a direction orthogonal to the extending direction of the second terminal 132 (left-right direction in FIG. 3).

基板100と樹脂膜190の間には、第1絶縁層155が形成されている。図3に示すように、第1絶縁層155は、第1配線部114のうち凹部182と重なる領域の上に形成されている。第1端子112が延在している方向(図3における左右方向)において、第1絶縁層155は第1配線部114の全体を覆っている。一方、第1端子112の延在方向に直交する方向(図3における上下方向)において、第1絶縁層155は第1配線部114の一部のみを覆っていてもよい。   A first insulating layer 155 is formed between the substrate 100 and the resin film 190. As shown in FIG. 3, the first insulating layer 155 is formed on a region of the first wiring portion 114 that overlaps with the recess 182. In the direction in which the first terminal 112 extends (left and right direction in FIG. 3), the first insulating layer 155 covers the entire first wiring portion 114. On the other hand, the first insulating layer 155 may cover only a part of the first wiring portion 114 in a direction (vertical direction in FIG. 3) orthogonal to the extending direction of the first terminal 112.

また、第1絶縁層155は、第2端子132のうち凹部182と重なる領域にも形成されている。第2端子132が延在している方向(図3における上下方向)において、第1絶縁層155は第2端子132の全体を覆っている。一方、第2端子132の延在方向に直交する方向(図3における左右方向)において、第1絶縁層155は第1端子112の一部のみを覆っている。   The first insulating layer 155 is also formed in a region of the second terminal 132 that overlaps with the recess 182. In the direction in which the second terminal 132 extends (the vertical direction in FIG. 3), the first insulating layer 155 covers the entire second terminal 132. On the other hand, the first insulating layer 155 covers only a part of the first terminal 112 in the direction orthogonal to the extending direction of the second terminal 132 (the horizontal direction in FIG. 3).

なお、図3に示す例において、第1絶縁層155は2つの第1配線部114及び2つの第2端子132のそれぞれに分かれている。ただし、これら4つの第1絶縁層155は互いに繋がっていてもよい。この場合、第1絶縁層155は発光部140を切れ目なく囲んでいる。   In the example shown in FIG. 3, the first insulating layer 155 is divided into two first wiring portions 114 and two second terminals 132. However, these four first insulating layers 155 may be connected to each other. In this case, the first insulating layer 155 surrounds the light emitting unit 140 without a break.

第1絶縁層155は、第2絶縁層150と同一の工程で形成されている。このため、第1絶縁層155は第2絶縁層150と同一の材料を用いて形成されており、また、第1絶縁層155の厚さは第2絶縁層150の厚さの80%以上105%以下である。ただし、第1絶縁層155は第2絶縁層150と別の工程で形成されていてもよい。この場合、第1絶縁層155は第2絶縁層150とは異なる材料を用いて形成されており、また、第1絶縁層155は第2絶縁層150と異なる厚さを有していることもある。   The first insulating layer 155 is formed in the same process as the second insulating layer 150. For this reason, the first insulating layer 155 is formed using the same material as the second insulating layer 150, and the thickness of the first insulating layer 155 is not less than 80% of the thickness of the second insulating layer 150. % Or less. However, the first insulating layer 155 may be formed in a separate process from the second insulating layer 150. In this case, the first insulating layer 155 is formed using a material different from that of the second insulating layer 150, and the first insulating layer 155 may have a thickness different from that of the second insulating layer 150. is there.

図6は、図1のA−A断面図である。なお、本図では、説明のため接続部材200及び導電性樹脂層を省略している。本図に示すように、凹部182は金属シート180のうち樹脂膜190及び第1絶縁層155に向けて突出した部分である。凹部182の幅wは、例えば0.1mm以上2mm以下である。また、樹脂膜190のうち凹部182と重なる部分(以下、第1領域192と記載)は、樹脂膜190の他の部分と比較して薄い。例えば、第1領域192は、樹脂膜190のうち発光部140と第1絶縁層155の間に位置する部分(以下、第2領域194と記載)と比較して薄い。また、第1領域192は、樹脂膜190のうち発光部140と重なる部分(以下、第3領域196と記載)よりも薄い。第1領域192の厚さは、例えば第3領域196の厚さの0.25%以上50%以下である。上記したように、凹部182は発光部140を囲んでおり、また凹部182には切れ目がない。このため、第1領域192も発光部140を囲んでおり、また第1領域192にも切れ目がない。   6 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. In this figure, the connecting member 200 and the conductive resin layer are omitted for the sake of explanation. As shown in this figure, the recess 182 is a portion of the metal sheet 180 that protrudes toward the resin film 190 and the first insulating layer 155. The width w of the recess 182 is, for example, not less than 0.1 mm and not more than 2 mm. Further, a portion of the resin film 190 that overlaps with the concave portion 182 (hereinafter referred to as a first region 192) is thinner than other portions of the resin film 190. For example, the first region 192 is thinner than a portion of the resin film 190 located between the light emitting unit 140 and the first insulating layer 155 (hereinafter referred to as a second region 194). The first region 192 is thinner than the portion of the resin film 190 that overlaps the light emitting unit 140 (hereinafter referred to as the third region 196). The thickness of the first region 192 is, for example, not less than 0.25% and not more than 50% of the thickness of the third region 196. As described above, the concave portion 182 surrounds the light emitting portion 140, and the concave portion 182 has no break. For this reason, the first region 192 also surrounds the light emitting unit 140, and the first region 192 is also unbroken.

また、後述するように、凹部182及び第1領域192は、押下部材300を押下することによって形成されている。このため、接続部材200の端面の少なくとも一部において、樹脂膜190は金属シート180の端部の外側に位置している。いいかえると、樹脂膜190の一部は金属シート180の外側に押し出されている。   Further, as will be described later, the recess 182 and the first region 192 are formed by pressing the pressing member 300. Therefore, the resin film 190 is located outside the end portion of the metal sheet 180 on at least a part of the end surface of the connection member 200. In other words, a part of the resin film 190 is pushed out of the metal sheet 180.

上記したように、凹部182は第1絶縁層155と重なっている。このため、第1領域192のうち第1配線部114と重なる部分及び第2端子132と重なる部分のそれぞれは、第1絶縁層155と重なっている。   As described above, the recess 182 overlaps the first insulating layer 155. For this reason, each of the portion overlapping the first wiring portion 114 and the portion overlapping the second terminal 132 in the first region 192 overlaps the first insulating layer 155.

また、有機層120は、第2絶縁層150のうち導電部116を覆っている部分の上にも形成されている。そして、隣り合う発光部140の有機層120は互いに繋がっている。このようにすると、複数の発光部140が有する有機層120を互いに繋げて一つの有機層にすることができる。この場合、有機層120を形成するときに、有機層120を複数の発光部140のそれぞれに分離する必要はなくなる。   The organic layer 120 is also formed on the portion of the second insulating layer 150 that covers the conductive portion 116. The organic layers 120 of the adjacent light emitting units 140 are connected to each other. If it does in this way, the organic layer 120 which the some light emission part 140 has can be connected mutually, and can be made into one organic layer. In this case, when the organic layer 120 is formed, it is not necessary to separate the organic layer 120 into each of the plurality of light emitting units 140.

次に、図7を用いて、発光装置10の製造方法について説明する。まず、基板100上に第1電極110を形成する。この工程において、第1端子112、第1配線部114、及び第2端子132のうち第1電極110と同一の層も形成される。次いで、導電部116及び導電部160,170を互いに同一の工程で形成する。次いで、第2絶縁層150及び第1絶縁層155を互いに同一の工程で形成する。次いで、有機層120及び第2電極130をこの順に形成する。   Next, the manufacturing method of the light-emitting device 10 is demonstrated using FIG. First, the first electrode 110 is formed on the substrate 100. In this step, the same layer as the first electrode 110 among the first terminal 112, the first wiring portion 114, and the second terminal 132 is also formed. Next, the conductive portion 116 and the conductive portions 160 and 170 are formed in the same process. Next, the second insulating layer 150 and the first insulating layer 155 are formed in the same process. Next, the organic layer 120 and the second electrode 130 are formed in this order.

次いで、封止部材220を準備する。この段階で、金属シート180のうち基板100に対向する面には、乾燥剤186及び樹脂膜190が固定されている。次いで、樹脂膜190を用いて封止部材220を基板100に固定する。樹脂膜190が熱可塑性の樹脂で形成されているため、この工程において、加熱プレス処理が行われる。   Next, the sealing member 220 is prepared. At this stage, the desiccant 186 and the resin film 190 are fixed to the surface of the metal sheet 180 facing the substrate 100. Next, the sealing member 220 is fixed to the substrate 100 using the resin film 190. Since the resin film 190 is formed of a thermoplastic resin, a heat press process is performed in this step.

この加熱プレス工程において、図7に示すように、枠状の押下部材300を金属シート180の縁に押し付ける。これにより、金属シート180には凹部182が形成され、また、樹脂膜190の第1領域192は薄くなる。   In this heat pressing process, as shown in FIG. 7, the frame-shaped pressing member 300 is pressed against the edge of the metal sheet 180. As a result, a recess 182 is formed in the metal sheet 180, and the first region 192 of the resin film 190 becomes thin.

その後、第1端子112に接続部材200を接続し、第2端子132に接続部材202を接続する。   Thereafter, the connection member 200 is connected to the first terminal 112, and the connection member 202 is connected to the second terminal 132.

以上、本実施形態において、発光部140は封止部材220によって封止されている。封止部材220は金属シート180及び樹脂膜190を重ねた構成を有している。封止部材220の端面において樹脂膜190は露出しているため、樹脂膜190を介して発光部140に水分が到達する可能性が出てくる。また、酸素に対しても同様の現象が起こり、発光部140に対して大きな損傷を与え、これが原因となりダークスポットなどの発光異常部を発生させる。これに対して本実施形態では、樹脂膜190は第1領域192で薄くなっている。侵入した水分や酸素にとっての経路(パス)の断面上の面積及び体積が小さくなることによって移動が制限される。従って、樹脂膜190を介して発光部140に水分や酸素が到達する可能性は低くなる。また、樹脂膜190の第1領域192は第1絶縁層155と重なっているため、第1領域192と重なる部分で第1配線部114(又は第2端子132)が金属シート180と短絡することを抑制できる。   As described above, in the present embodiment, the light emitting unit 140 is sealed by the sealing member 220. The sealing member 220 has a configuration in which a metal sheet 180 and a resin film 190 are stacked. Since the resin film 190 is exposed at the end surface of the sealing member 220, there is a possibility that moisture may reach the light emitting unit 140 through the resin film 190. In addition, the same phenomenon occurs with oxygen, and the light emitting part 140 is seriously damaged, and this causes light emission abnormal parts such as dark spots. On the other hand, in the present embodiment, the resin film 190 is thin in the first region 192. Movement is limited by the reduced area and volume of the path for the invading moisture and oxygen. Therefore, the possibility that moisture or oxygen reaches the light emitting unit 140 through the resin film 190 is reduced. In addition, since the first region 192 of the resin film 190 overlaps the first insulating layer 155, the first wiring portion 114 (or the second terminal 132) is short-circuited with the metal sheet 180 at the portion overlapping the first region 192. Can be suppressed.

(変形例1)
図8は、変形例1に係る発光装置10の構成及び製造方法を示す断面図であり、実施形態の図7に対応している。本変形例に係る発光装置10は、以下の点を除いて実施形態に係る発光装置10と同様の構成である。
(Modification 1)
FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a configuration and a manufacturing method of the light emitting device 10 according to the first modification, and corresponds to FIG. 7 of the embodiment. The light emitting device 10 according to this modification has the same configuration as the light emitting device 10 according to the embodiment except for the following points.

まず、押下部材300は金属シート180の縁と重なっている。このため、金属シート180の凹部182は金属シート180の縁まで延びている。   First, the pressing member 300 overlaps the edge of the metal sheet 180. For this reason, the recess 182 of the metal sheet 180 extends to the edge of the metal sheet 180.

本変形例によっても、実施形態と同様に、樹脂膜190は第1領域192で薄くなっている。従って、樹脂膜190を介して発光部140に水分や酸素が到達する可能性は低くなる。また、第1領域192は第1絶縁層155と重なっているため、第1領域192と重なる部分で第1配線部114及び第2端子132が金属シート180と短絡することを抑制できる。   Also in this modification, the resin film 190 is thin in the first region 192, as in the embodiment. Therefore, the possibility that moisture or oxygen reaches the light emitting unit 140 through the resin film 190 is reduced. In addition, since the first region 192 overlaps with the first insulating layer 155, it is possible to suppress the first wiring part 114 and the second terminal 132 from being short-circuited with the metal sheet 180 at a portion overlapping the first region 192.

(変形例2)
図9は、変形例2に係る発光装置10の構成及び製造方法を示す断面図であり、実施形態の図7に対応している。本変形例に係る発光装置10は、以下の点を除いて実施形態に係る発光装置10と同様の構成である。
(Modification 2)
FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a configuration and a manufacturing method of the light-emitting device 10 according to Modification Example 2, and corresponds to FIG. 7 of the embodiment. The light emitting device 10 according to this modification has the same configuration as the light emitting device 10 according to the embodiment except for the following points.

まず、押下部材300は、金属シート180に押し当てられる面に少なくとも一つの凸部302を有している。このため、金属シート180の凹部182の底面には、さらに凹部184が形成されている。これにより、第1領域192のうち凹部184と重なる部分は、第1領域192の他の部分と比較して薄くなる。   First, the pressing member 300 has at least one convex portion 302 on the surface pressed against the metal sheet 180. For this reason, a recess 184 is further formed on the bottom surface of the recess 182 of the metal sheet 180. As a result, the portion of the first region 192 that overlaps the recess 184 is thinner than the other portion of the first region 192.

本変形例によっても、実施形態と同様に、樹脂膜190は第1領域192で薄くなっている。また、第1領域192の一部は他の部分よりもさらに薄くなっている。従って、樹脂膜190を介して発光部140に水分や酸素が到達する可能性は、さらに低くなる。また、第1領域192は第1絶縁層155と重なっているため、第1領域192と重なる部分で第1配線部114及び第2端子132が金属シート180と短絡することを抑制できる。   Also in this modification, the resin film 190 is thin in the first region 192, as in the embodiment. In addition, a part of the first region 192 is thinner than the other part. Therefore, the possibility that moisture or oxygen reaches the light emitting unit 140 via the resin film 190 is further reduced. In addition, since the first region 192 overlaps with the first insulating layer 155, it is possible to suppress the first wiring part 114 and the second terminal 132 from being short-circuited with the metal sheet 180 at a portion overlapping the first region 192.

以上、図面を参照して実施形態及び実施例について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。   As mentioned above, although embodiment and the Example were described with reference to drawings, these are illustrations of this invention and can also employ | adopt various structures other than the above.

10 発光装置
100 基板
110 第1電極
114 第1配線部
120 有機層
130 第2電極
132 第2端子
134 第2配線部
140 発光部
150 第2絶縁層
155 第1絶縁層
180 金属シート
182 凹部
184 凹部
190 樹脂膜
192 第1領域
194 第2領域
196 第3領域
220 封止部材
300 押下部材
302 凸部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Light-emitting device 100 Board | substrate 110 1st electrode 114 1st wiring part 120 Organic layer 130 2nd electrode 132 2nd terminal 134 2nd wiring part 140 Light-emitting part 150 2nd insulating layer 155 1st insulating layer 180 Metal sheet 182 Recessed part 184 Recessed part 190 Resin film 192 First region 194 Second region 196 Third region 220 Sealing member 300 Pressing member 302 Convex portion

Claims (8)

基板と、
前記基板に形成された発光部と、
前記基板に形成され、前記発光部に電気的に接続している配線部と、
前記配線部の少なくとも一部の上に形成される第1絶縁層と、
前記配線部の少なくとも一部及び前記発光部を覆う樹脂膜と、
前記樹脂膜の上に位置し、前記配線部の少なくとも一部及び前記発光部を覆う金属シートと、
を備え、
前記樹脂膜の端部のうち少なくとも一部は露出しており、
前記樹脂膜のうち前記第1絶縁層と重なる領域の少なくとも一部である第1領域は、前記樹脂膜のうち前記金属シートの端部と重なる部分の厚さより薄い発光装置。
A substrate,
A light emitting part formed on the substrate;
A wiring part formed on the substrate and electrically connected to the light emitting part;
A first insulating layer formed on at least a part of the wiring portion;
A resin film covering at least a part of the wiring part and the light emitting part;
A metal sheet located on the resin film and covering at least a part of the wiring part and the light emitting part;
With
At least a part of the end portion of the resin film is exposed,
In the light emitting device, a first region that is at least a part of a region of the resin film that overlaps the first insulating layer is thinner than a portion of the resin film that overlaps an end portion of the metal sheet .
請求項1に記載の発光装置において、  The light-emitting device according to claim 1.
前記第1領域は、前記樹脂膜のうち前記発光部と前記第1絶縁層の間に位置する第2領域より薄い発光装置。  The first region is a light emitting device thinner than a second region of the resin film located between the light emitting unit and the first insulating layer.
請求項1又は2に記載の発光装置において、
前記第1領域は、前記樹脂膜のうち前記発光部の上に位置する第3領域よりも薄い発光装置。
The light-emitting device according to claim 1 or 2 ,
The first region is a light emitting device thinner than a third region of the resin film located on the light emitting unit.
請求項1〜3のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記発光部を画定し、前記第1絶縁層と同一の材料からなる第2絶縁層を備える発光装置。
In the light-emitting device as described in any one of Claims 1-3 ,
A light emitting device comprising a second insulating layer that defines the light emitting portion and is made of the same material as the first insulating layer.
請求項に記載の発光装置において、
前記第1絶縁層の厚さは、前記第2絶縁層の厚さの80%以上105%以下である発光装置。
The light-emitting device according to claim 4 .
The thickness of the said 1st insulating layer is a light-emitting device which is 80 to 105% of the thickness of the said 2nd insulating layer.
請求項1〜5のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記金属シートのうち前記第1領域と重なる領域の少なくとも一部は前記樹脂膜に向けて突出している発光装置。
In the light-emitting device as described in any one of Claims 1-5 ,
The light-emitting device in which at least a part of a region of the metal sheet that overlaps the first region protrudes toward the resin film.
請求項1〜6のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記第1領域の一部は、前記第1領域の他の部分より薄い発光装置。
In the light-emitting device as described in any one of Claims 1-6 ,
A part of the first region is a light emitting device thinner than the other part of the first region.
請求項1〜7のいずれか一項に記載の発光装置において、
前記発光部は有機層を有する発光装置。
In the light-emitting device as described in any one of Claims 1-7 ,
The light emitting unit is a light emitting device having an organic layer.
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