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JP6612109B2 - Optical member and manufacturing method thereof, display, and image display device - Google Patents

Optical member and manufacturing method thereof, display, and image display device Download PDF

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JP6612109B2
JP6612109B2 JP2015228002A JP2015228002A JP6612109B2 JP 6612109 B2 JP6612109 B2 JP 6612109B2 JP 2015228002 A JP2015228002 A JP 2015228002A JP 2015228002 A JP2015228002 A JP 2015228002A JP 6612109 B2 JP6612109 B2 JP 6612109B2
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liquid crystal
cholesteric liquid
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uneven
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卓弘 林
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Description

本発明は、反射材およびその製造方法に関する。また、本発明は、上記反射材を含む光学部材、上記光学部材を含むディスプレイ、および上記ディスプレイを含む画像表示装置に関する。   The present invention relates to a reflector and a manufacturing method thereof. The present invention also relates to an optical member including the reflective material, a display including the optical member, and an image display device including the display.

画像表示装置のディスプレイに文字または図形等の情報を手書き入力してデジタル化し情報処理装置に入力するシステムの必要性は近年高まっている。上記システムとして、光学ペンと手書き入力シートとを使用する形態では、手書き入力シートとして、情報が光学的パターンとして書き込まれた層と反射材とを有するものを用いることができる。ここで、反射材は、光学ペンから照射された光を上記光学的パターンとして記載された情報を反映させた光として光学ペンに内蔵されている撮像素子に戻すために用いられる。例えば、特許文献1には、一面側からの赤外線を反射すると共に、可視光を透過する特性を有する赤外線反射層が、座標情報および/またはコード情報が繰り返し定義されたパターン状のドットが配置されたドットパターン層とともに設けられた情報入力補助シートについての記載がある。   In recent years, there is an increasing need for a system in which information such as characters or figures is input by handwriting on a display of an image display device, digitized, and input to an information processing device. In the form using an optical pen and a handwritten input sheet as the system, a handwritten input sheet having a layer in which information is written as an optical pattern and a reflective material can be used. Here, the reflective material is used to return the light emitted from the optical pen to the image sensor incorporated in the optical pen as light reflecting the information described as the optical pattern. For example, in Patent Document 1, an infrared reflection layer having a characteristic of reflecting infrared light from one side and transmitting visible light is arranged with pattern-like dots in which coordinate information and / or code information are repeatedly defined. There is a description about an information input auxiliary sheet provided together with the dot pattern layer.

特開2014−098943号公報JP 2014-089443 A

本発明の課題は、新規な反射材を提供することである。本発明は、特に上記システムに用いることができる反射材を提供することを課題とする。本発明は、また、上述の手書き入力シートとして用いることができる新規な光学部材を提供することを課題とする。本発明はさらに、光学ペンによる読み取りの感度の高いディスプレイおよび画像表示装置を提供することを課題とする。   An object of the present invention is to provide a novel reflector. This invention makes it a subject to provide the reflecting material which can be used especially for the said system. Another object of the present invention is to provide a novel optical member that can be used as the above-mentioned handwriting input sheet. It is another object of the present invention to provide a display and an image display device with high sensitivity for reading with an optical pen.

本発明者らは、従来から反射部材として用いることができることが知られているコレステリック液晶相を固定した層を用いて上記課題を解決することを試みた。その過程で、特に光学ペンを傾けて使用する際に感度が低下する問題に直面した。コレステリック液晶相を固定した層は法線方向で所望の波長における最大の反射性を示す特性を有するため、上記の問題は、使用している赤外光の波長においてコレステリック液晶相を固定した層の斜め方向の再帰反射性が低いことに由来すると考えられた。本発明者らは、検討の結果、上記問題の解決に至り、本発明を完成させた。   The inventors of the present invention have attempted to solve the above problems by using a layer in which a cholesteric liquid crystal phase that has been conventionally known to be used as a reflecting member is fixed. In the process, we faced a problem that sensitivity was lowered especially when the optical pen was tilted. Since the layer in which the cholesteric liquid crystal phase is fixed has the property of exhibiting maximum reflectivity at a desired wavelength in the normal direction, the above problem is that of the layer in which the cholesteric liquid crystal phase is fixed at the wavelength of the infrared light used. It was thought to be derived from the low retroreflectivity in the oblique direction. As a result of the study, the present inventors have solved the above problem and completed the present invention.

すなわち、本発明は下記の[1]〜[20]を提供するものである。
[1]円偏光反射層および弾性有機層を含み、
上記円偏光反射層はコレステリック液晶相を固定した層を含み、
上記円偏光反射層は凹凸形状を有し、
上記弾性有機層は、一方の面が上記円偏光反射層に直接接しており、他方の面が平坦面である反射材。
[2]凹凸平坦化層を含み、
上記凹凸平坦化層、上記円偏光反射層および上記弾性有機層がこの順であり、
上記凹凸平坦化層が上記円偏光反射層に直接接している[1]に記載の反射材。
[3]上記凹凸平坦化層がマイクロレンズフィルムである[2]に記載の反射材。
[4]上記凹凸平坦化層がプリズムフィルムまたはレンチキュラーシートである[2]に記載の反射材。
[5]上記弾性有機層の平坦面側に支持体を含む[1]〜[4]のいずれか一項に記載の反射材。
[6]赤外線波長域の光を反射する[1]〜[5]のいずれか一項に記載の反射材。
That is, the present invention provides the following [1] to [20].
[1] including a circularly polarized light reflecting layer and an elastic organic layer,
The circularly polarized light reflection layer includes a layer in which a cholesteric liquid crystal phase is fixed,
The circularly polarized light reflection layer has an uneven shape,
The elastic organic layer is a reflective material in which one surface is in direct contact with the circularly polarized light reflecting layer and the other surface is a flat surface.
[2] including an uneven planarizing layer,
The uneven flattening layer, the circularly polarized light reflecting layer and the elastic organic layer are in this order,
The reflective material according to [1], wherein the uneven flattening layer is in direct contact with the circularly polarized light reflecting layer.
[3] The reflective material according to [2], wherein the uneven flattening layer is a microlens film.
[4] The reflective material according to [2], wherein the uneven flattening layer is a prism film or a lenticular sheet.
[5] The reflective material according to any one of [1] to [4], which includes a support on the flat surface side of the elastic organic layer.
[6] The reflective material according to any one of [1] to [5], which reflects light in an infrared wavelength region.

[7]ヘイズ値が50%以下である[1]〜[6]のいずれか一項に記載の反射材。
[8][1]〜[7]のいずれか一項に記載の反射材と情報提示層とを含む光学部材であって、
上記情報提示層は、上記反射材が反射する光を吸収または反射する材料のパターンを有する光学部材。
[9]上記パターンがドットパターンである[8]に記載の光学部材。
[10]上記パターンが印刷により施されたものである[8]または[9]に記載の光学部材。
[11][8]〜[10]のいずれか一項に記載の光学部材を有するディスプレイ。
[12][11]に記載のディスプレイを有する画像表示装置。
[13][1]〜[7]のいずれか一項に記載の反射材の製造方法であって、
弾性有機層およびコレステリック液晶層を含む積層体10を用意すること、
上記積層体10の上記コレステリック液晶層側の面に凹凸面を有する基材の凹凸面を貼合して、上記弾性有機層に凹凸面を形成すると同時に、上記基材の凹凸面と上記弾性有機層の凹凸面との間で上記コレステリック液晶層を凹凸形状とすることを含み、
上記積層体10の上記コレステリック液晶層が重合性液晶化合物を含む液晶組成物を硬化または半硬化した層である製造方法。
[14]上記貼合が真空貼合である[13]に記載の製造方法。
[7] The reflective material according to any one of [1] to [6], in which a haze value is 50% or less.
[8] An optical member including the reflecting material according to any one of [1] to [7] and an information presentation layer,
The information presentation layer is an optical member having a pattern of a material that absorbs or reflects light reflected by the reflective material.
[9] The optical member according to [8], wherein the pattern is a dot pattern.
[10] The optical member according to [8] or [9], wherein the pattern is formed by printing.
[11] A display having the optical member according to any one of [8] to [10].
[12] An image display device having the display according to [11].
[13] A method for producing a reflecting material according to any one of [1] to [7],
Preparing a laminate 10 comprising an elastic organic layer and a cholesteric liquid crystal layer;
The uneven surface of the substrate having an uneven surface is bonded to the surface of the laminate 10 on the cholesteric liquid crystal layer side to form the uneven surface on the elastic organic layer, and at the same time, the uneven surface of the substrate and the elastic organic Including making the cholesteric liquid crystal layer uneven with the uneven surface of the layer,
The production method, wherein the cholesteric liquid crystal layer of the laminate 10 is a layer obtained by curing or semi-curing a liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound.
[14] The manufacturing method according to [13], wherein the bonding is vacuum bonding.

[15]上記コレステリック液晶層が上記重合性液晶化合物を含む液晶組成物を半硬化した層であって、かつ上記凹凸形状の形成の後に、積層体10を加熱または光照射することを含む[13]または[14]に記載の製造方法。
[16]上記光が紫外線であって、上記光照射が100mJ/cm2以上で行われる[15]に記載の製造方法。
[17]上記コレステリック液晶層の表面に弾性有機層形成材料を塗布して上記弾性有機層を形成することを含む[13]〜[16]のいずれか一項に記載の製造方法。
[18]積層体10が支持体、上記弾性有機層、および上記コレステリック液晶層を含み、
積層体10の上記用意が、仮支持体および上記コレステリック液晶層を含む積層体1と支持体および弾性有機層を含む積層体2とを、上記コレステリック液晶層と上記弾性有機層面とが接触するように積層すること、ならびに
上記積層後上記仮支持体を剥離すること
を含む方法により行われる[13]〜[16]のいずれか一項に記載の製造方法。
[19]上記積層体2の上記弾性有機層の貯蔵弾性率が30℃で103〜106Paである[18]に記載の製造方法。
[20]上記仮支持体の表面に上記重合性液晶化合物を含む液晶組成物を塗布すること、および
上記液晶組成物に50mJ/cm2以下の紫外線照射を行うことにより上記コレステリック液晶層を形成することを含む[18]または[19]に記載の製造方法。
[15] The cholesteric liquid crystal layer is a layer obtained by semi-curing a liquid crystal composition containing the polymerizable liquid crystal compound, and includes heating or irradiating the laminate 10 after the formation of the concavo-convex shape. ] Or the production method according to [14].
[16] The production method according to [15], wherein the light is ultraviolet light and the light irradiation is performed at 100 mJ / cm 2 or more.
[17] The production method according to any one of [13] to [16], comprising forming an elastic organic layer by applying an elastic organic layer forming material to a surface of the cholesteric liquid crystal layer.
[18] The laminate 10 includes a support, the elastic organic layer, and the cholesteric liquid crystal layer,
The preparation of the laminate 10 is such that the laminate 1 including the temporary support and the cholesteric liquid crystal layer and the laminate 2 including the support and the elastic organic layer are in contact with the cholesteric liquid crystal layer and the elastic organic layer surface. The manufacturing method according to any one of [13] to [16], which is performed by a method including laminating and temporary peeling of the temporary support after the laminating.
[19] The production method according to [18], wherein the elastic modulus of the elastic organic layer of the laminate 2 is 10 3 to 10 6 Pa at 30 ° C.
[20] The cholesteric liquid crystal layer is formed by applying a liquid crystal composition containing the polymerizable liquid crystal compound on the surface of the temporary support and irradiating the liquid crystal composition with ultraviolet rays of 50 mJ / cm 2 or less. The production method according to [18] or [19].

本発明により、新規な反射材およびその製造方法が提供される。本発明は、特に画像表示装置のディスプレイに文字または図形等の情報を手書き入力してデジタル化して情報処理装置に入力するシステムに用いることができる反射材を提供する。本反射材を含む光学部材は上述のシステムにおいて、手書き入力シートとして用いることができる。上記光学部材を利用して、光学ペンによる読み取りの感度の高いディスプレイおよび画像表示装置を提供することができる。   According to the present invention, a novel reflecting material and a manufacturing method thereof are provided. In particular, the present invention provides a reflective material that can be used in a system for inputting information such as characters or figures by handwriting on a display of an image display device, digitizing the information, and inputting the information to an information processing device. The optical member including the reflective material can be used as a handwritten input sheet in the above-described system. By using the optical member, it is possible to provide a display and an image display device with high sensitivity of reading with an optical pen.

本発明の反射材の例の断面を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the cross section of the example of the reflecting material of this invention. 凹凸円偏光反射層の断面形状の例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the example of the cross-sectional shape of an uneven | corrugated circularly polarized light reflection layer. 凹凸面を有する基材の凹凸面の形状の例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the example of the shape of the uneven surface of the base material which has an uneven surface. 実施例で行った再帰反射信号強度の測定方法を説明する図である。It is a figure explaining the measuring method of the retroreflection signal strength performed in the Example. 実施例で作製した反射材の円偏光反射層の形状を示す写真である。It is a photograph which shows the shape of the circularly polarized light reflection layer of the reflecting material produced in the Example. ディスプレイ前方に配置された本発明の光学部材の例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the example of the optical member of this invention arrange | positioned ahead of a display.

以下、本発明を詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本明細書において、例えば、「45度」、「平行」、「垂直」あるいは「直交」等の角度は、特に記載がなければ、厳密な角度との差異が5度未満の範囲内であることを意味する。厳密な角度との差異は、4度未満であることが好ましく、3度未満であることがより好ましい。なお、本明細書において、面と面、線と面、または線と線がなす角度は鋭角(90度以下の角度)で表される。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In the present specification, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.
In this specification, for example, an angle such as “45 degrees”, “parallel”, “vertical”, or “orthogonal”, unless otherwise specified, has a difference from an exact angle within a range of less than 5 degrees. Means. The difference from the exact angle is preferably less than 4 degrees, and more preferably less than 3 degrees. Note that in this specification, an angle formed by a surface and a surface, a line and a surface, or a line and a line is represented by an acute angle (an angle of 90 degrees or less).

本明細書において、各数値、数値範囲、および定性的な表現(例えば、「同一」、「一定」、「全面」の表現)については、本技術分野で一般的に許容される誤差を含む数値、数値範囲および性質を示していると解釈されるものとする。例えば、波長について「同一」というときは、差異が5nm以内であることをいう。
円偏光反射層の膜厚(層内の片面の点から他方の面までの距離)について、一定というときは、差異が0.5μm未満であることをいう。
In the present specification, each numerical value, numerical value range, and qualitative expression (for example, the expression “same”, “constant”, “entire”) includes numerical values that generally include an allowable error in this technical field. Are to be interpreted as indicating numerical ranges and properties. For example, when the wavelength is “same”, the difference is within 5 nm.
When the film thickness of the circularly polarized light reflection layer (distance from one point in the layer to the other surface) is constant, it means that the difference is less than 0.5 μm.

本明細書において、層の「面」とは、層の主表面(おもて面、裏面)をいう。
本明細書において、凹凸面について、互いに相補的というときは、互いに凹凸面の全面で直接接触できる関係であることをいう。第1層の凹凸面の凹凸を埋めるように、第2層を形成すると、第1層の凹凸面に相補的な凹凸面を有する第2層が得られる。また、得られた第2層の凹凸面に対し第1層の凹凸面は相補的である。
本明細書における、膜厚、層内の片面の点から他方の面までの距離、傾斜面1間の距離、傾斜面の角度についての値は、レーザー顕微鏡、走査型電子顕微鏡(SEM)、透過型電子顕微鏡(TEM)などの顕微鏡で得られる画像において測定できる値である。
本明細書において、「方位」とは、反射材の法線を中心とする反射材の面内の方向を意味する。
本明細書において、「(メタ)アクリレート」は、「アクリレートおよびメタクリレートのいずれか一方または双方」の意味で使用される。
In this specification, the “surface” of a layer refers to the main surface (front surface, back surface) of the layer.
In this specification, when the concavo-convex surfaces are complementary to each other, it means that the concavo-convex surfaces are in direct contact with each other over the entire concavo-convex surface. When the second layer is formed so as to fill the unevenness of the uneven surface of the first layer, a second layer having an uneven surface complementary to the uneven surface of the first layer is obtained. Further, the uneven surface of the first layer is complementary to the uneven surface of the obtained second layer.
In this specification, the values for the film thickness, the distance from one point in the layer to the other, the distance between the inclined surfaces 1 and the angle of the inclined surface are laser microscope, scanning electron microscope (SEM), transmission It is a value that can be measured in an image obtained with a microscope such as a scanning electron microscope (TEM).
In this specification, the “azimuth” means a direction in the plane of the reflecting material around the normal line of the reflecting material.
In this specification, “(meth) acrylate” is used to mean “one or both of acrylate and methacrylate”.

本明細書において、円偏光につき「センス」というときは、右円偏光であるか、または左円偏光であるかを意味する。円偏光のセンスは、光が手前に向かって進んでくるように眺めた場合に電場ベクトルの先端が時間の増加に従って時計回りに回る場合が右円偏光であり、反時計回りに回る場合が左円偏光であるとして定義される。   In this specification, “sense” for circularly polarized light means right circularly polarized light or left circularly polarized light. The sense of circularly polarized light is right-handed circularly polarized light when the electric field vector tip turns clockwise as time increases when viewed as the light travels toward you, and left when it turns counterclockwise. Defined as being circularly polarized.

本明細書においては、コレステリック液晶の螺旋の捩れ方向について「センス」との用語を用いることもある。コレステリック液晶による選択反射は、コレステリック液晶の螺旋の捩れ方向(センス)が右の場合は右円偏光を反射し、左円偏光を透過し、センスが左の場合は左円偏光を反射し、右円偏光を透過する。   In this specification, the term “sense” may be used for the twist direction of the spiral of the cholesteric liquid crystal. The selective reflection by the cholesteric liquid crystal reflects right circularly polarized light when the twist direction (sense) of the cholesteric liquid crystal spiral is right, transmits left circularly polarized light, and reflects left circularly polarized light when the sense is left, Transmits circularly polarized light.

可視光線は電磁波のうち、ヒトの目で見える波長の光であり、380nm〜780nmの波長域の光を示す。赤外線(赤外光)は可視光線より長く電波より短い波長域電磁波である。赤外線のうち、近赤外光とは780nm〜2500nmの波長域の電磁波である。   Visible light is light having a wavelength visible to the human eye among electromagnetic waves, and indicates light having a wavelength range of 380 nm to 780 nm. Infrared rays (infrared light) are electromagnetic waves in the wavelength range that are longer than visible rays and shorter than radio waves. Among infrared rays, near infrared light is an electromagnetic wave having a wavelength range of 780 nm to 2500 nm.

本明細書において、「ヘイズ値」は、日本電色工業株式会社製のヘイズメーターNDH−2000を用いて測定される値を意味する。
理論上は、ヘイズ値は、以下式で表される値を意味する。
(380〜780nmの非偏光(自然光)の散乱透過率)/(380〜780nmの非偏光の散乱透過率+380〜780nmの非偏光の平行光線透過率)×100%
散乱透過率は分光光度計と積分球ユニットを用いて、得られる全方位透過率から平行光線透過率を差し引いて算出することができる値である。平行光線透過率は、積分球ユニットを用いて測定した値に基づく場合、0度での透過率である。
本明細書において、単に「反射光」または「透過光」というときは、散乱光および回折光を含む意味で用いられる。
In this specification, the “haze value” means a value measured using a haze meter NDH-2000 manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.
Theoretically, the haze value means a value represented by the following formula.
(Scattering transmittance of non-polarized light (natural light) of 380 to 780 nm) / (unpolarized scattering transmittance of 380 to 780 nm + unpolarized parallel light transmittance of 380 to 780 nm) × 100%
The scattering transmittance is a value that can be calculated by subtracting the parallel light transmittance from the obtained omnidirectional transmittance using a spectrophotometer and an integrating sphere unit. The parallel light transmittance is a transmittance at 0 degrees when based on a value measured using an integrating sphere unit.
In the present specification, the term “reflected light” or “transmitted light” is used to mean scattered light and diffracted light.

なお、光の各波長の偏光状態は、円偏光板を装着した分光放射輝度計またはスペクトルメータを用いて測定することができる。この場合、右円偏光板を通して測定した光の強度がIR、左円偏光板を通して測定した光の強度がILに相当する。また、白熱電球、水銀灯、蛍光灯、LED等の通常光源は、ほぼ非偏光を発しているが、これらに装着されたフィルムの偏光を作り出す特性は、例えば、AXOMETRICS社製の偏光位相差解析装置AxoScanなどを用いて測定することができる。
また、照度計やスペクトルメータに、円偏光透過板を取り付けても測定することができる。右円偏光透過板をつけ、右円偏光量を測定、左円偏光透過板をつけ、左円偏光量を測定することにより、比率を測定できる。
In addition, the polarization state of each wavelength of light can be measured using a spectral radiance meter or a spectrometer equipped with a circularly polarizing plate. In this case, the intensity of light measured through the right circularly polarizing plate corresponds to I R , and the intensity of light measured through the left circularly polarizing plate corresponds to I L. In addition, ordinary light sources such as incandescent light bulbs, mercury lamps, fluorescent lamps, and LEDs emit almost non-polarized light. However, the characteristic of producing polarized light of films mounted on these light sources is, for example, a polarization phase difference analyzer manufactured by AXOMETRIC It can be measured using AxoScan or the like.
Moreover, even if a circularly polarized light transmission plate is attached to an illuminometer or a spectrum meter, it can be measured. The ratio can be measured by attaching a right circular polarized light transmission plate, measuring the right circular polarized light amount, attaching a left circular polarized light transmission plate, and measuring the left circular polarized light amount.

本明細書において「透明」であるとは、可視光の波長域において、40%以上、好ましくは50%以上、より好ましくは60%以上、さらに好ましくは70%以上の光透過率を有していることをいう。光透過率は、JIS−K7105に記載された方法で求めた光線透過率とする。   In this specification, “transparent” means having a light transmittance of 40% or more, preferably 50% or more, more preferably 60% or more, and further preferably 70% or more in the visible light wavelength region. It means being. The light transmittance is the light transmittance determined by the method described in JIS-K7105.

<反射材>
反射材はフィルム状、シート状、または板状であればよい。本発明の反射材の断面の例を模式的に図1に示す。
本発明の反射材は、円偏光反射層1および弾性有機層2を含む。本発明の反射材は凹凸平坦化層3を含むことが好ましく、弾性有機層2、円偏光反射層1および凹凸平坦化層3がこの順となるように含まれていればよい。また、本発明の反射材は、支持体4を含んでいてもよく、支持体4、弾性有機層2、円偏光反射層1および凹凸平坦化層3がこの順であることが好ましい。
<Reflecting material>
The reflective material may be a film shape, a sheet shape, or a plate shape. An example of a cross section of the reflector of the present invention is schematically shown in FIG.
The reflective material of the present invention includes a circularly polarized light reflective layer 1 and an elastic organic layer 2. The reflective material of the present invention preferably includes the uneven planarizing layer 3, and it is sufficient that the elastic organic layer 2, the circularly polarized reflective layer 1 and the uneven planarizing layer 3 are included in this order. Moreover, the reflective material of this invention may contain the support body 4, It is preferable that the support body 4, the elastic organic layer 2, the circular-polarized-light reflection layer 1, and the uneven | corrugated planarization layer 3 are this order.

[反射材の光学的性質]
本発明の反射材は、赤外線波長域の光を反射することができる。本発明の反射材が反射する赤外線の波長は特に限定されないが、反射材の透過率スペクトルを確認したときに、780〜2000nmの範囲、好ましくは800〜1500nmの範囲に中心波長を有する反射波長帯域が確認できることが好ましい。上記反射波長は、反射材の用途に応じ、選択されていることも好ましい。例えば、組み合わせて用いられる光学ペンなどの光源の波長や撮像素子のセンサーが感知する赤外線の波長に従って選択されていることが好ましい。反射波長帯域の半値幅は50〜500nm、好ましくは100〜300nmであることが好ましい。
[Optical properties of reflective material]
The reflective material of the present invention can reflect light in the infrared wavelength region. The wavelength of the infrared ray reflected by the reflecting material of the present invention is not particularly limited, but when the transmittance spectrum of the reflecting material is confirmed, the reflected wavelength band having a center wavelength in the range of 780 to 2000 nm, preferably in the range of 800 to 1500 nm. It is preferable that can be confirmed. It is also preferable that the reflection wavelength is selected according to the use of the reflective material. For example, it is preferable that the wavelength is selected according to the wavelength of a light source such as an optical pen used in combination or the wavelength of infrared rays sensed by a sensor of an image sensor. The half width of the reflection wavelength band is 50 to 500 nm, preferably 100 to 300 nm.

本発明の反射材は、反射材の法線から角度をなす方向からの光の入射に対しても、再帰反射性が高い入射面を少なくとも1つ有する。再帰反射は入射した光が入射方向に反射される反射を意味する。高い再帰反射性を有することにより、反射材の法線から角度をなす斜めから光を入射し、同じ方向から反射光を検知する場合であっても、高い感度を得ることができる。例えば、本発明の反射材は、上記入射面において、本発明の反射材の特定の面側から、反射材の法線から45度の角度をなす光が入射するとき、再帰反射光量が最も大きい波長において、標準拡散板(ラブスフィア社製)の再帰反射光量の15%以上の再帰反射光量を有する。上記の再帰反射は、円偏光反射層に対し、弾性有機層側および凹凸平坦化層側のいずれから光を入射させても得ることができる。また、凹凸形状やその向きに応じて、特に目的に沿った再帰反射が得られる配置を選択してもよく、例えば図1の構成の反射材においては、凹凸平坦化層3側から光を入射させることが、より大きい再帰反射光量が得られるため、好ましい。   The reflective material of the present invention has at least one incident surface with high retroreflectivity even when light is incident from a direction that forms an angle with the normal line of the reflective material. Retroreflection means reflection in which incident light is reflected in the incident direction. By having high retroreflectivity, high sensitivity can be obtained even when light is incident from an oblique angle with respect to the normal line of the reflector and the reflected light is detected from the same direction. For example, the reflective material of the present invention has the largest amount of retroreflected light when light having an angle of 45 degrees from the normal of the reflective material is incident on the incident surface from the specific surface side of the reflective material of the present invention. In terms of wavelength, the amount of retroreflected light is 15% or more of the amount of retroreflected light of a standard diffuser (manufactured by Labsphere). Said retroreflection can be obtained even if light is incident on the circularly polarized light reflecting layer from either the elastic organic layer side or the uneven flattening layer side. Further, an arrangement capable of obtaining retroreflection according to the purpose may be selected depending on the uneven shape and its direction. For example, in the reflective material having the configuration shown in FIG. 1, light is incident from the uneven flattening layer 3 side. This is preferable because a larger amount of retroreflected light can be obtained.

本発明の反射材のヘイズ値は50%以下であることが好ましく、30%以下であることがより好ましい。
本発明の反射材は、可視光領域において、透明であることが好ましい。
The haze value of the reflective material of the present invention is preferably 50% or less, and more preferably 30% or less.
The reflective material of the present invention is preferably transparent in the visible light region.

[弾性有機層]
本発明の反射材は弾性有機層を含む。弾性有機層は一方の面が円偏光反射層に直接接しており、他方の面が平坦面である。平坦面は1μm角の平均粗さ(Ra値)として100nm未満、好ましくは50nm未満の平面である。本明細書において、反射材、または反射材中の各層の面内方向というときは、平坦面の面内方向と平行な方向となる。
弾性有機層の円偏光反射層に直接接している面は、円偏光反射層の弾性有機層側の面と相補的な凹凸形状を有する。
[Elastic organic layer]
The reflective material of the present invention includes an elastic organic layer. One surface of the elastic organic layer is in direct contact with the circularly polarized light reflecting layer, and the other surface is a flat surface. The flat surface is a plane having an average roughness (Ra value) of 1 μm square of less than 100 nm, preferably less than 50 nm. In this specification, the in-plane direction of each layer in the reflecting material or the reflecting material is a direction parallel to the in-plane direction of the flat surface.
The surface of the elastic organic layer that is in direct contact with the circularly polarized light reflecting layer has an uneven shape complementary to the surface of the circularly polarized light reflecting layer on the elastic organic layer side.

弾性有機層は、円偏光反射層の凹凸形状形成時に、その凹凸形状に追随できる弾性変形能を有していればよい。なお、円偏光反射層の凹凸形状形成時というとき、後述の、コレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層の凹凸形状形成時を含む意味である。具体的には、弾性有機層は円偏光反射層の凹凸形状形成時に貯蔵弾性率が103〜106Paであることが好ましい。具体的には貯蔵弾性率は、30℃で103〜106Paであることが好ましく、30℃で103〜105Paであることがより好ましく、103〜104Paであることがさらに好ましい。凹凸形状形成、通常20℃〜80℃の範囲で行われるため、この温度範囲で上記の範囲内の貯蔵弾性率を示すことが好ましい。貯蔵弾性率は、例えば、後述の支持体および弾性有機層を含む積層体2につき測定し、その測定値が上記の範囲であればよい。 The elastic organic layer only needs to have an elastic deformability capable of following the uneven shape when forming the uneven shape of the circularly polarized light reflection layer. In addition, the term “when the concave / convex shape of the circularly polarized light reflection layer is formed” means that it includes the later-described step of forming the concave / convex shape of the cholesteric liquid crystal layer or the semi-cured cholesteric liquid crystal layer. Specifically, it is preferable that the elastic organic layer has a storage elastic modulus of 10 3 to 10 6 Pa when forming the uneven shape of the circularly polarized light reflection layer. Specifically, the storage elastic modulus is preferably 10 3 to 10 6 Pa at 30 ° C., more preferably 10 3 to 10 5 Pa at 30 ° C., and 10 3 to 10 4 Pa. Further preferred. Since the concavo-convex shape is formed usually in the range of 20 ° C. to 80 ° C., it is preferable that the storage elastic modulus within the above range is exhibited in this temperature range. The storage elastic modulus is measured, for example, for a laminate 2 including a support and an elastic organic layer, which will be described later, and the measured value may be in the above range.

貯蔵弾性率とは、物体に外力とひずみにより生じたエネルギーのうち物体の内部に保存される成分であり、材料にある正弦周波数で剪断歪みを加えたときに、定常状態に達した場合に現れる剪断応力を歪みと位相の一致する成分(弾性的成分)と、歪みと位相が90°遅れた成分(粘性的成分)に分解した場合に、剪断歪みに位相が一致する応力成分を剪断歪みで除したものである。
貯蔵弾性率はレオメーターにより測定できる。具体的な測定方法の例は、測定対象物を厚さ約1.5mmとなるように成形、積層などした後、レオメーター(例えば、株式会社タイセー製動的粘弾性測定装置NDS−1000)を用い、せん断モード、周波数1Hzおよび昇温速度5℃/分の測定条件下、設定温度範囲内で測定することができる。
Storage elastic modulus is a component stored in the object among the energy generated by external force and strain on the object, and appears when a steady state is reached when shear strain is applied to the material at a sine frequency. When the shear stress is decomposed into a component that is in phase with the strain (elastic component) and a component that is 90 ° behind the strain and phase (viscous component), the stress component that is in phase with the shear strain Divided.
Storage modulus can be measured with a rheometer. A specific example of the measurement method is that a measurement object is molded and laminated so as to have a thickness of about 1.5 mm, and then a rheometer (for example, a dynamic viscoelasticity measuring device NDS-1000 manufactured by Taisei Corporation) is used. It can be measured within a set temperature range under the measurement conditions of shear mode, frequency 1 Hz, and heating rate 5 ° C./min.

本発明の反射部材の弾性有機層は円偏光反射層の凹凸形状形成後に弾性を失ったものを含む。すなわち、本発明の反射部材において弾性有機層は上記の貯蔵弾性率を有していなくてもよい。例えば、弾性有機層は紫外線硬化性の接着剤であることも好ましいが、硬化前に円偏光反射層の凹凸形状が形成され、凹凸形状形成後に硬化され、上記の弾性を失っていてもよい。本明細書においては、凹凸形状形成前後、または硬化前後にかかわらず、弾性有機層という。   The elastic organic layer of the reflective member of the present invention includes a layer that loses elasticity after forming the irregular shape of the circularly polarized light reflective layer. That is, in the reflecting member of the present invention, the elastic organic layer may not have the above storage elastic modulus. For example, the elastic organic layer is preferably an ultraviolet curable adhesive, but the uneven shape of the circularly polarized light reflecting layer may be formed before curing, may be cured after forming the uneven shape, and may lose the elasticity. In this specification, it is called an elastic organic layer regardless of whether the concavo-convex shape is formed or not.

弾性有機層は円偏光反射層の凹凸形状形成時に接着機能または粘着機能を有することも好ましい。弾性有機層は凹凸形状形成時の円偏光反射層と直接接するように貼合されることが好ましいからである。
また、弾性有機層は透明で、円偏光反射層との屈折率差が小さいことが好ましい。凹凸賦形で弾性有機層にも凹凸形状が形成されたときに、屈折率差に起因してヘイズが生じないようにするためである。屈折率差は0.1以下であることが好ましく、0.05以下であることがより好ましく、0.02以下であることがさらに好ましい。
さらに、弾性有機層は低複屈折性であることが好ましい。本明細書において、低複屈折性であるとは、波長550nmにおいて、正面位相差が10nm以下であることを意味する。本明細書において、正面位相差は、Axometrix社製のAxoScanを用いて測定した値である。
It is also preferable that the elastic organic layer has an adhesive function or an adhesive function when forming the uneven shape of the circularly polarized light reflecting layer. This is because the elastic organic layer is preferably bonded so as to be in direct contact with the circularly polarized light reflection layer when the concavo-convex shape is formed.
The elastic organic layer is preferably transparent and has a small difference in refractive index from the circularly polarized reflective layer. This is to prevent haze from occurring due to the difference in refractive index when the irregular shape is formed on the elastic organic layer by the irregular shaping. The difference in refractive index is preferably 0.1 or less, more preferably 0.05 or less, and further preferably 0.02 or less.
Furthermore, the elastic organic layer is preferably low birefringent. In this specification, low birefringence means that the front phase difference is 10 nm or less at a wavelength of 550 nm. In this specification, the front phase difference is a value measured using an AxoScan manufactured by Axometrics.

弾性有機層の材料としては上記の性質を満たす限り、特に限定されない。例えば、紫外線硬化性の接着剤を用いることができる。具体例としては、ケーエスエム株式会社T-100、T-110、T-470、DIC株式会社ファインタックRX-101、RX-102、RX-201、RX-301、東亜合成株式会社アロンタックUVA-1000シリーズ、UVA-2000シリーズ、UVA-3000シリーズ、UVX5457、または東亜合成株式会社UVX5457およびチヌビン400(BASF)の混合物(例えば質量比1:1の混合物)が挙げられる。   The material of the elastic organic layer is not particularly limited as long as the above properties are satisfied. For example, an ultraviolet curable adhesive can be used. Specific examples include KSM Co., Ltd. T-100, T-110, T-470, DIC Corporation Fine Tac RX-101, RX-102, RX-201, RX-301, Toa Gosei Co., Ltd. Aron Tac UVA-1000 Series , UVA-2000 series, UVA-3000 series, UVX5457, or Toa Gosei Co., Ltd. UVX5457 and a mixture of Tinuvin 400 (BASF) (for example, a mixture having a mass ratio of 1: 1).

弾性有機層は、例えば、支持体上に弾性有機層形成材料を塗布することによって、または円偏光反射層(コレステリック液晶層および半硬化コレステリック液晶層を含む)の表面に直接塗布することによって、形成される。材料などによる必要に応じて、紫外線照射などの硬化を行ってもよい。硬化は凹凸形状形成後に行うことが好ましい。凹凸形状形成前に半硬化されてもよい。   The elastic organic layer is formed, for example, by applying an elastic organic layer forming material on a support, or by applying directly to the surface of a circularly polarized reflective layer (including a cholesteric liquid crystal layer and a semi-cured cholesteric liquid crystal layer). Is done. Curing such as ultraviolet irradiation may be performed as necessary depending on the material. Curing is preferably performed after forming the irregular shape. It may be semi-cured before forming the uneven shape.

[円偏光反射層の形状]
本発明の反射材は、円偏光反射層を含む。本発明の反射材における円偏光反射層は凹凸形状である。
円偏光反射層は、円偏光反射層1の面内方向の1つ(面内方向1)において向きが互いに反対である傾斜1および傾斜2を交互に有することが好ましい。面内方向1は下記の性質を満たす限り、いずれの方向でもよい。本明細書において、傾面1および傾斜2は、1つの面内方向において、互いに傾斜の向きが反対であることを示すために用いられており、本明細書において単に「傾斜」というときは、傾斜1および傾斜2のいずれも意味することとする。
[Shape of circularly polarized reflective layer]
The reflecting material of the present invention includes a circularly polarized light reflecting layer. The circularly polarized light reflection layer in the reflective material of the present invention has an uneven shape.
The circularly polarized light reflecting layer preferably has alternately inclined 1 and inclined 2 whose directions are opposite to each other in one of the in-plane directions of the circularly polarized reflecting layer 1 (in-plane direction 1). The in-plane direction 1 may be any direction as long as the following properties are satisfied. In the present specification, the inclined surface 1 and the inclined surface 2 are used to indicate that the directions of inclination are opposite to each other in one in-plane direction. Both slope 1 and slope 2 are meant.

傾斜1は、1μm以上500μm以下で繰り返されていることが好ましい。すなわち、面内方向1において500μmで区切った範囲には全て、少なくとも1つの傾面1と少なくとも1つの傾面2とが存在していることが好ましい。このような構成により、面内方向1を含む入射面で斜めに入射する光に対し、ムラのない再帰反射性を示すことができる。上記の繰り返しは、凹凸形状において隣接する高さの極大値を示す位置間の距離として求めることができる。この距離は上記面内方向1において一定であってもよくランダムに変化していてもよい。
なお、上記の距離は、面内方向1での反射材の断面図の顕微鏡画像で用いて求めるものとする。
It is preferable that the inclination 1 is repeated at 1 μm or more and 500 μm or less. That is, it is preferable that at least one inclined surface 1 and at least one inclined surface 2 exist in the entire range divided by 500 μm in the in-plane direction 1. With such a configuration, the retroreflectivity without unevenness can be shown for light incident obliquely on the incident surface including the in-plane direction 1. The above repetition can be obtained as a distance between positions showing the maximum value of adjacent heights in the concavo-convex shape. This distance may be constant in the in-plane direction 1 or may vary randomly.
In addition, said distance shall be calculated | required using with the microscope image of sectional drawing of a reflector in the in-plane direction 1. FIG.

傾斜1と平坦面とがなす角度の最大値は10度以上60度以下であり、傾斜2と平坦面とがなす角度の最大値は10度以上60度以下であることが好ましい。上記角度はそれぞれ、20度以上50度以下であることがより好ましい。10度以上の傾斜を有することにより、円偏光反射層は反射材の法線方向から角度をなす方向から光が入射したときも高い再帰反射性を示すことができる。上記傾斜は上記のように、面内方向1で、上記傾斜の向きが交互に反対となるように現れる。そのため、互いに直線方向にある少なくとも2方位で、円偏光反射層1は反射材の法線方向から角度をなす方向から光が入射したときも高い再帰反射性を示すことができる。また、60度以下の傾斜であることにより、傾斜に垂直に螺旋軸方向を有するコレステリック構造が得られやすい。
なお、凹凸形状が曲面からなる場合、曲面の接平面(断面図における曲線の接線)の傾斜により判断する。すなわち、いずれかの接平面と平坦面とがなす角度の最大値が10度以上60度以下であればよい。
The maximum value of the angle formed by the inclination 1 and the flat surface is preferably 10 degrees or more and 60 degrees or less, and the maximum value of the angle formed by the inclination 2 and the flat surface is preferably 10 degrees or more and 60 degrees or less. The angles are more preferably 20 degrees or more and 50 degrees or less. By having an inclination of 10 degrees or more, the circularly polarized light reflecting layer can exhibit high retroreflectivity even when light is incident from a direction that makes an angle from the normal direction of the reflecting material. As described above, the inclination appears in the in-plane direction 1 so that the inclination directions are alternately opposite. Therefore, the circularly polarized light reflection layer 1 can exhibit high retroreflectivity even when light is incident from a direction that forms an angle with respect to the normal direction of the reflector in at least two directions that are in a linear direction. Further, since the inclination is 60 degrees or less, a cholesteric structure having a spiral axis direction perpendicular to the inclination is easily obtained.
In the case where the uneven shape is a curved surface, the determination is made based on the inclination of the tangent plane of the curved surface (the tangent to the curve in the cross-sectional view). That is, the maximum value of the angle formed by any tangent plane and the flat surface may be 10 degrees or more and 60 degrees or less.

傾斜1と平坦面とがなす角度の最大値と、傾斜2と平坦面とがなす角度の最大値とは、同一であっても異なっていてもよい。また、傾斜1と平坦面とがなす角度の最大値と、傾斜2と平坦面とがなす角度の最大値とはそれぞれ、上記面内方向1において一定であってもよくランダムに変化していてもよい。
これらの角度は、面内方向1での反射材の断面図の顕微鏡画像で用いて平坦面に対応する線と円偏光反射層の凹凸平坦化層側の面に対応する線の傾斜との角度を測定して求めるものとする。
The maximum value of the angle formed by the inclination 1 and the flat surface and the maximum value of the angle formed by the inclination 2 and the flat surface may be the same or different. In addition, the maximum value of the angle formed by the inclination 1 and the flat surface and the maximum value of the angle formed by the inclination 2 and the flat surface may each be constant in the in-plane direction 1 and are randomly changed. Also good.
These angles are the angle between the line corresponding to the flat surface and the inclination of the line corresponding to the surface of the circularly polarized light reflecting layer on the uneven flattening layer side in the microscopic image of the cross-sectional view of the reflector in the in-plane direction 1 Shall be obtained by measuring.

円偏光反射層は、すなわち、傾斜を交互に有する線と傾斜を交互に有する線とに挟まれた断面を、少なくとも面内の一つの方向(面内方向1)で有する。円偏光反射層のこの断面の例を模式的に図2に示す。例としては、半円が連続した線(図2(a)、(b)、(f)、(g)、(h))、三角波(図2(c))半円と直線の繰り返しの線(図2(d))、正弦波(図2(e))、などが挙げられる。   That is, the circularly polarized light reflection layer has at least one in-plane direction (in-plane direction 1) having a cross section sandwiched between lines having alternately inclined lines and lines having alternately inclined lines. An example of this cross section of the circularly polarized light reflecting layer is schematically shown in FIG. For example, a semi-continuous line (FIGS. 2 (a), (b), (f), (g), (h)), a triangular wave (FIG. 2 (c)), a semi-circular and straight repeating line (FIG. 2D), sine wave (FIG. 2E), and the like.

また凹凸の深さは、2μm以上200μm未満の範囲であればよく、3μm以上100μm未満の範囲であることが好ましい。上記面内方向1における傾斜ごとの凹凸の深さは、一定(図2の(f)以外)であってもよくランダムに変化(図2(f))していてもよい。なお、凹凸の深さは、円偏光反射層の凹凸平坦化層側の面に対応する曲線で測定すればよい。傾斜を交互に有する線は、例えば極大値または極小値において、隣接する凹凸の頂点間の距離(凸の極大値と隣接する凸の極大値の距離)は上記面内方向1において一定(図2の(f)、(g)、(h)以外)であってもよくランダムに変化(図2(f)、(g)、(h))していてもよい。   Further, the depth of the unevenness may be in the range of 2 μm or more and less than 200 μm, and is preferably in the range of 3 μm or more and less than 100 μm. The depth of the unevenness for each inclination in the in-plane direction 1 may be constant (other than (f) in FIG. 2) or may vary randomly (FIG. 2 (f)). In addition, what is necessary is just to measure the depth of an unevenness | corrugation by the curve corresponding to the surface by the side of the uneven | corrugated planarization layer of a circularly polarized light reflection layer. For a line having slopes alternately, for example, in the maximum value or the minimum value, the distance between the vertices of adjacent unevenness (distance between the convex maximum value and the adjacent convex maximum value) is constant in the in-plane direction 1 (FIG. 2). (Except for (f), (g), (h)), or may be changed randomly (FIGS. 2 (f), (g), (h)).

凹凸形状は、断面形状が同一または略相似(相似を含む)である凹部を繰り返している凹凸形状であればよい。繰り返しは連続的であってもよく、上記の隣接する極大値を示す位置間の距離を満たす限り断続的であってもよい。繰り返している断面形状が線対称な形状であることも好ましい。   The concavo-convex shape may be any concavo-convex shape in which concave portions having the same or substantially similar (including similar) cross-sectional shape are repeated. The repetition may be continuous, or may be intermittent as long as the distance between the positions showing the adjacent maximum values is satisfied. It is also preferable that the repeated cross-sectional shape is a line-symmetric shape.

凹凸形状の1態様として、円偏光反射層1の上記面内方向1に垂直な面内方向2においても、上記傾斜1および上記傾斜2を交互に含む面が挙げられる。このような面としては、半球が2次元的に連続した形状、コーナーキューブ、プリズムが2次元的に連続した形状などが挙げられる。半球は平坦面側を球の中心とするものであってもよく、反対側を球の中心とするものであってもよい。
この態様においては、上述のような反射材の法線から角度をなす方向からの光の入射に対する高い再帰反射性を、多方位で得ることができる。
One aspect of the uneven shape includes a surface that alternately includes the slope 1 and the slope 2 in the in-plane direction 2 perpendicular to the in-plane direction 1 of the circularly polarized light reflecting layer 1. Examples of such surfaces include a shape in which a hemisphere is two-dimensionally continuous, a shape in which corner cubes and prisms are two-dimensionally continuous, and the like. The hemisphere may have a flat surface side as the center of the sphere, and may have the opposite side as the center of the sphere.
In this aspect, high retroreflectivity with respect to the incidence of light from the direction that forms an angle from the normal line of the reflector as described above can be obtained in multiple directions.

凹凸形状の別の態様として、円偏光反射層の上記面内方向1に垂直な面内方向2に平行な直線が平坦面からの距離が一定である点の集合である凹凸形状が挙げられる。このような面を与える構造の例としては、レンチキュラー形状(半柱状体の連続形状)、プリズム形状(三角柱の連続形状)、レンチキュラー形状に相補的な形状などが挙げられる。
この態様においては、反射材は再帰反射性の大きさに異方性がある。例えば半柱状体または三角柱の稜線と垂直な反射材面内の方向を含む入射面で、上述のような半柱状体反射材の法線から角度をなす方向からの光の入射に対する再帰反射性を、最も有効に得ることができる。例えば、反射材面内において、上記稜線と直交する直線と入射光または反射光を反射材面に射影した成分とのなす角をφとしたとき、φが10度以上の場合、φが0度の場合の、同じ角度をなす方向からの光の入射に対する再帰反射率に対して50%以下となる。
As another embodiment of the uneven shape, there is an uneven shape that is a set of points where a straight line parallel to the in-plane direction 2 perpendicular to the in-plane direction 1 of the circularly polarized light reflection layer has a constant distance from the flat surface. Examples of the structure for providing such a surface include a lenticular shape (continuous shape of a semi-columnar body), a prism shape (a continuous shape of a triangular prism), a shape complementary to the lenticular shape, and the like.
In this embodiment, the reflective material is anisotropic in the retroreflective size. For example, on the incident surface including the direction in the reflector surface perpendicular to the ridgeline of the half columnar body or the triangular prism, the retroreflectivity with respect to the incidence of light from the direction that makes an angle from the normal line of the semicolumnar reflector as described above. Can be obtained most effectively. For example, when the angle between the straight line orthogonal to the ridge line and the component of the incident light or reflected light projected onto the reflecting material surface is φ in the reflecting material surface, when φ is 10 degrees or more, φ is 0 degree. In this case, the reflectance is 50% or less with respect to the retroreflectance with respect to the incidence of light from the same angle direction.

円偏光反射層の厚みは、50μm以下、30μm以下、20μm以下、または10μm以下であればよく、選択反射波長以上の厚み、であればよい。   The thickness of the circularly polarized light reflection layer may be 50 μm or less, 30 μm or less, 20 μm or less, or 10 μm or less, and may be a thickness of a selective reflection wavelength or more.

[コレステリック液晶相を固定した層]
円偏光反射層はコレステリック液晶相を固定した層を1層または2層以上含む。コレステリック液晶相は、右円偏光または左円偏光のいずれか一方を選択的に反射する円偏光選択反射性を有することが知られている。円偏光選択反射性を示すフィルムとして、液晶化合物を含む液晶組成物から形成されたフィルムは従来から数多く知られており、コレステリック液晶相を固定した層については、それらの従来技術を参照することができる。
[Layer with fixed cholesteric liquid crystal phase]
The circularly polarized light reflection layer includes one or more layers in which the cholesteric liquid crystal phase is fixed. It is known that the cholesteric liquid crystal phase has a circularly polarized light selective reflection property that selectively reflects either right circularly polarized light or left circularly polarized light. Many films formed from a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound have been known as films exhibiting circularly polarized light selective reflectivity. For layers in which a cholesteric liquid crystal phase is fixed, those conventional techniques can be referred to. it can.

コレステリック液晶相を固定した層とは、コレステリック液晶相となっている液晶化合物の配向が保持されている層であればよく、典型的には、重合性液晶化合物をコレステリック液晶相の配向状態としたうえで、紫外線照射、加熱等によって重合、硬化し、流動性が無い層を形成して、同時に、また外場や外力によって配向形態に変化を生じさせることのない状態に変化した層であればよい。なお、コレステリック液晶相を固定した層においては、コレステリック液晶相の光学的性質が層中において保持されていれば十分であり、層中の液晶化合物はもはや液晶性を示していなくてもよい。例えば、重合性液晶化合物は、硬化反応により高分子量化して、もはや液晶性を失っていてもよい。
本明細書においてコレステリック液晶相を固定した層をコレステリック液晶層または液晶層ということがある。また、本明細書においては、液晶化合物を含む液晶組成物の硬化により得られる層であるが、完全に流動性が無い層とはなっていない状態の層もコレステリック液晶層ということがあり、流動性が無く、完全にコレステリック液晶相を固定した層と特に区別して、半硬化コレステリック液晶層ということもある。
The layer in which the cholesteric liquid crystal phase is fixed may be a layer in which the alignment of the liquid crystal compound in the cholesteric liquid crystal phase is maintained, and typically, the polymerizable liquid crystal compound is in the alignment state of the cholesteric liquid crystal phase. On the other hand, if it is a layer that has been polymerized and cured by ultraviolet irradiation, heating, etc. to form a layer having no fluidity, and at the same time, it has been changed to a state that does not cause changes in the orientation form due to an external field or external force Good. In the layer in which the cholesteric liquid crystal phase is fixed, it is sufficient that the optical properties of the cholesteric liquid crystal phase are maintained in the layer, and the liquid crystal compound in the layer may no longer exhibit liquid crystallinity. For example, the polymerizable liquid crystal compound may have a high molecular weight due to a curing reaction and may no longer have liquid crystallinity.
In this specification, a layer in which a cholesteric liquid crystal phase is fixed may be referred to as a cholesteric liquid crystal layer or a liquid crystal layer. Further, in this specification, a layer obtained by curing a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound, a layer that is not a completely non-fluidic layer is sometimes referred to as a cholesteric liquid crystal layer. In particular, a semi-cured cholesteric liquid crystal layer may be distinguished from a layer in which a cholesteric liquid crystal phase is completely fixed.

コレステリック液晶層は、コレステリック液晶の螺旋構造に由来した円偏光選択反射を示す。円偏光選択反射の中心波長λは、コレステリック相における螺旋構造のピッチP(=螺旋の周期)に依存し、コレステリック液晶層の平均屈折率nとλ=n×Pの関係に従う。そのため、この螺旋構造のピッチを調節することによって、円偏光選択反射を示す波長を調整できる。すなわち、n値とP値を調節して、近赤外光波長域において円偏光選択反射を示すようにするために、中心波長λが750nm〜2000nm、好ましくは800nm〜1500nmの波長域となるようにすればよい。コレステリック液晶相のピッチは重合性液晶化合物とともに用いるキラル剤の種類、またはその添加濃度に依存するため、これらを調整することによって所望のピッチを得ることができる。なお、本明細書において、選択反射の中心波長はコレステリック液晶層の法線方向(螺旋軸方向)から測定した時の中心波長を意味する。   The cholesteric liquid crystal layer exhibits circularly polarized light selective reflection derived from the helical structure of the cholesteric liquid crystal. The central wavelength λ of the circularly polarized light selective reflection depends on the pitch P (= spiral period) of the helical structure in the cholesteric phase, and follows the relationship between the average refractive index n of the cholesteric liquid crystal layer and λ = n × P. Therefore, by adjusting the pitch of this spiral structure, the wavelength exhibiting circularly polarized light selective reflection can be adjusted. That is, in order to adjust the n value and the P value so as to exhibit circularly polarized light selective reflection in the near-infrared light wavelength region, the center wavelength λ is in the wavelength region of 750 nm to 2000 nm, preferably 800 nm to 1500 nm. You can do it. Since the pitch of the cholesteric liquid crystal phase depends on the type of chiral agent used together with the polymerizable liquid crystal compound or the concentration of the chiral agent, the desired pitch can be obtained by adjusting these. In the present specification, the center wavelength of selective reflection means the center wavelength when measured from the normal direction (helical axis direction) of the cholesteric liquid crystal layer.

また、コレステリック液晶層の反射円偏光のセンスは螺旋のセンスに一致する。すなわち、螺旋のセンスが右であるコレステリック液晶層は右円偏光反射し、螺旋のセンスが左であるコレステリック液晶層は左円偏光反射する。円偏光反射層は螺旋のセンスが右であるコレステリック液晶層または螺旋のセンスが左であるコレステリック液晶層のいずれか一方を含んでいてもよく、双方を含んでいてもよい。
なお、螺旋のセンスやピッチの測定法については「液晶化学実験入門」日本液晶学会編 シグマ出版2007年出版、46頁、および「液晶便覧」液晶便覧編集委員会 丸善 196頁に記載の方法を用いることができる。
In addition, the sense of the reflected circularly polarized light of the cholesteric liquid crystal layer coincides with the sense of the spiral. That is, a cholesteric liquid crystal layer with a spiral sense on the right reflects right circularly polarized light, and a cholesteric liquid crystal layer with a spiral sense on the left reflects left circularly polarized light. The circularly polarized light reflection layer may include either one of a cholesteric liquid crystal layer having a spiral sense on the right or a cholesteric liquid crystal layer having a spiral sense on the left, or may include both.
For the method of measuring spiral sense and pitch, use the methods described in “Introduction to Liquid Crystal Chemistry Experiments”, edited by the Japanese Liquid Crystal Society, Sigma Publishing 2007, page 46, and “Liquid Crystal Handbook”, Liquid Crystal Handbook Editing Committee, page 196. be able to.

また、円偏光選択反射を示す選択反射帯(円偏光反射帯)の半値幅Δλ(nm)は、Δλが液晶化合物の複屈折Δnと上記ピッチPに依存し、Δλ=Δn×Pの関係に従う。そのため、選択反射帯の幅の制御は、Δnを調整して行うことができる。Δnの調整は重合性液晶化合物の種類やその混合比率を調整したり、配向固定時の温度を制御したりすることで行うことができる。   The half-value width Δλ (nm) of the selective reflection band (circular polarization reflection band) showing the circularly polarized selective reflection follows that ΔΔ depends on the birefringence Δn of the liquid crystal compound and the pitch P, and Δλ = Δn × P. . Therefore, the width of the selective reflection band can be controlled by adjusting Δn. Δn can be adjusted by adjusting the kind of the polymerizable liquid crystal compound and the mixing ratio thereof, or by controlling the temperature at the time of fixing the alignment.

なお、コレステリック液晶層の反射中心波長と半値幅は下記のように求めることができる。
分光光度計UV3150(島津製作所)を用いて反射材の透過スペクトルを測定すると、選択反射領域に透過率の低下ピークがみられる。この最も大きいピーク高さの1/2の高さの透過率となる2つの波長のうち、短波側の波長の値をλ1(nm)、長波側の波長の値をλ2(nm)とすると、反射中心波長と半値幅は下記式で表すことができる。
反射中心波長=(λ1+λ2)/2
半値幅=(λ2−λ1)
In addition, the reflection center wavelength and half value width of a cholesteric liquid crystal layer can be calculated | required as follows.
When the transmission spectrum of the reflective material is measured using a spectrophotometer UV3150 (Shimadzu Corporation), a decrease in transmittance peak is observed in the selective reflection region. Of the two wavelengths having a transmittance of 1/2 the maximum peak height, the wavelength value on the short wave side is λ1 (nm) and the wavelength value on the long wave side is λ2 (nm). The reflection center wavelength and the half width can be expressed by the following formula.
Reflection center wavelength = (λ1 + λ2) / 2
Half width = (λ2−λ1)

円偏光反射帯の半値幅は、通常1種の材料では50nm〜150nm程度である。選択波長域を広げるためには、周期Pを変えた反射光の中心波長が異なるコレステリック液晶層を2種以上積層すればよい。または、1つのコレステリック液晶層内において、周期Pを膜厚方向に対して緩やかに変化させることで制御波長域を広げることもできる。   The half-value width of the circularly polarized light reflection band is usually about 50 nm to 150 nm for one kind of material. In order to widen the selection wavelength range, two or more cholesteric liquid crystal layers having different center wavelengths of reflected light with different periods P may be stacked. Alternatively, in one cholesteric liquid crystal layer, the control wavelength region can be widened by gradually changing the period P in the film thickness direction.

[液晶組成物]
コレステリック液晶層は液晶組成物を材料として作製することができる。液晶組成物は、液晶化合物を含む。液晶化合物は重合性液晶化合物であることが好ましい。液晶組成物は、キラル剤や水平配向剤を含んでいることが好ましい。液晶組成物は、さらに界面活性剤や重合開始剤を含んでいてもよい。
[Liquid crystal composition]
The cholesteric liquid crystal layer can be produced using a liquid crystal composition as a material. The liquid crystal composition includes a liquid crystal compound. The liquid crystal compound is preferably a polymerizable liquid crystal compound. The liquid crystal composition preferably contains a chiral agent and a horizontal alignment agent. The liquid crystal composition may further contain a surfactant or a polymerization initiator.

(重合性液晶化合物)
重合性液晶化合物は、棒状液晶化合物であっても、円盤状液晶化合物であってもよいが、棒状液晶化合物であることが好ましい。
コレステリック液晶層を形成する棒状の重合性液晶化合物の例としては、棒状ネマチック液晶化合物が挙げられる。棒状ネマチック液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物も用いることができる。
(Polymerizable liquid crystal compound)
The polymerizable liquid crystal compound may be a rod-like liquid crystal compound or a disk-like liquid crystal compound, but is preferably a rod-like liquid crystal compound.
Examples of the rod-like polymerizable liquid crystal compound forming the cholesteric liquid crystal layer include a rod-like nematic liquid crystal compound. Examples of rod-like nematic liquid crystal compounds include azomethines, azoxys, cyanobiphenyls, cyanophenyl esters, benzoic acid esters, cyclohexanecarboxylic acid phenyl esters, cyanophenylcyclohexanes, cyano-substituted phenylpyrimidines, alkoxy-substituted phenylpyrimidines. , Phenyldioxanes, tolanes and alkenylcyclohexylbenzonitriles are preferably used. Not only low-molecular liquid crystal compounds but also high-molecular liquid crystal compounds can be used.

重合性液晶化合物は、重合性基を液晶化合物に導入することで得られる。重合性基の例には、不飽和重合性基、エポキシ基、およびアジリジニル基が含まれ、不飽和重合性基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基が特に好ましい。重合性基は種々の方法で、液晶化合物の分子中に導入できる。重合性液晶化合物が有する重合性基の個数は、好ましくは1〜6個、より好ましくは1〜3個である。重合性液晶化合物の例は、Makromol.Chem.,190巻、2255頁(1989年)、Advanced Materials 5巻、107頁(1993年)、米国特許第4683327号明細書、同5622648号明細書、同5770107号明細書、国際公開WO95/22586号公報、同95/24455号公報、同97/00600号公報、同98/23580号公報、同98/52905号公報、特開平1−272551号公報、同6−16616号公報、同7−110469号公報、同11−80081号公報、および特開2001−328973号公報などに記載の化合物が含まれる。2種類以上の重合性液晶化合物を併用してもよい。2種類以上の重合性液晶化合物を併用すると、配向温度を低下させることができる。   The polymerizable liquid crystal compound can be obtained by introducing a polymerizable group into the liquid crystal compound. Examples of the polymerizable group include an unsaturated polymerizable group, an epoxy group, and an aziridinyl group, preferably an unsaturated polymerizable group, and particularly preferably an ethylenically unsaturated polymerizable group. The polymerizable group can be introduced into the molecule of the liquid crystal compound by various methods. The number of polymerizable groups possessed by the polymerizable liquid crystal compound is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3. Examples of polymerizable liquid crystal compounds are described in Makromol. Chem. 190, 2255 (1989), Advanced Materials 5, 107 (1993), US Pat. No. 4,683,327, US Pat. No. 5,622,648, US Pat. No. 5,770,107, International Publication WO95 / 22586. No. 95/24455, No. 97/00600, No. 98/23580, No. 98/52905, JP-A-1-272551, No. 6-16616, and No. 7-110469. 11-80081 and JP-A 2001-328773, and the like. Two or more kinds of polymerizable liquid crystal compounds may be used in combination. When two or more kinds of polymerizable liquid crystal compounds are used in combination, the alignment temperature can be lowered.

また、液晶組成物中の重合性液晶化合物の添加量は、液晶組成物の固形分質量(溶媒を除いた質量)に対して、80〜99.9質量%であることが好ましく、85〜99.5質量%であることがより好ましく、90〜99質量%であることが特に好ましい。   Moreover, it is preferable that the addition amount of the polymeric liquid crystal compound in a liquid-crystal composition is 80-99.9 mass% with respect to solid content mass (mass except a solvent) of a liquid-crystal composition, and 85-99. More preferably, it is 5 mass%, and it is especially preferable that it is 90-99 mass%.

(キラル剤:光学活性化合物)
キラル剤はコレステリック液晶相の螺旋構造を誘起する機能を有する。キラル化合物は、化合物によって誘起する螺旋のセンスまたは螺旋ピッチが異なるため、目的に応じて選択すればよい。
キラル剤としては、特に制限はなく、公知の化合物(例えば、液晶デバイスハンドブック、第3章4−3項、TN、STN用カイラル剤、199頁、日本学術振興会第142委員会編、1989に記載)、イソソルビド、イソマンニド誘導体を用いることができる。
(Chiral agent: optically active compound)
The chiral agent has a function of inducing a helical structure of a cholesteric liquid crystal phase. The chiral compound may be selected according to the purpose because the helical sense or helical pitch induced by the compound is different.
The chiral agent is not particularly limited, and known compounds (for example, liquid crystal device handbook, Chapter 3-4-3, TN, chiral agent for STN, page 199, Japan Society for the Promotion of Science, 142nd edition, 1989) Description), isosorbide, and isomannide derivatives can be used.

キラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もキラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファンおよびこれらの誘導体が含まれる。キラル剤は、重合性基を有していてもよい。キラル剤と液晶化合物とがいずれも重合性基を有する場合は、重合性キラル剤と重合性液晶化合物との重合反応により、重合性液晶化合物から誘導される繰り返し単位と、キラル剤から誘導される繰り返し単位とを有するポリマーを形成することができる。この態様では、重合性キラル剤が有する重合性基は、重合性液晶化合物が有する重合性基と、同種の基であることが好ましい。従って、キラル剤の重合性基も、不飽和重合性基、エポキシ基またはアジリジニル基であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることが特に好ましい。
また、キラル剤は、液晶化合物であってもよい。
液晶組成物における、キラル剤の含有量は、重合性液晶化合物量の0.01質量%〜200質量%が好ましく、1質量%〜30質量%がより好ましい。
A chiral agent generally contains an asymmetric carbon atom, but an axially asymmetric compound or a planar asymmetric compound containing no asymmetric carbon atom can also be used as the chiral agent. Examples of the axial asymmetric compound or the planar asymmetric compound include binaphthyl, helicene, paracyclophane, and derivatives thereof. The chiral agent may have a polymerizable group. When both the chiral agent and the liquid crystal compound have a polymerizable group, they are derived from the repeating unit derived from the polymerizable liquid crystal compound and the chiral agent by a polymerization reaction between the polymerizable chiral agent and the polymerizable liquid crystal compound. A polymer having repeating units can be formed. In this aspect, the polymerizable group possessed by the polymerizable chiral agent is preferably the same group as the polymerizable group possessed by the polymerizable liquid crystal compound. Therefore, the polymerizable group of the chiral agent is also preferably an unsaturated polymerizable group, an epoxy group or an aziridinyl group, more preferably an unsaturated polymerizable group, and an ethylenically unsaturated polymerizable group. Particularly preferred.
The chiral agent may be a liquid crystal compound.
The content of the chiral agent in the liquid crystal composition is preferably 0.01% by mass to 200% by mass and more preferably 1% by mass to 30% by mass with respect to the amount of the polymerizable liquid crystal compound.

(重合開始剤)
液晶組成物は、重合開始剤を含有していることが好ましい。紫外線照射により重合反応を進行させる態様では、使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であることが好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物(米国特許第2367661号、同2367670号の各明細書記載)、アシロインエーテル(米国特許第2448828号明細書記載)、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物(米国特許第2722512号明細書記載)、多核キノン化合物(米国特許第3046127号、同2951758号の各明細書記載)、トリアリールイミダゾールダイマーとp−アミノフェニルケトンとの組み合わせ(米国特許第3549367号明細書記載)、アクリジンおよびフェナジン化合物(特開昭60−105667号公報、米国特許第4239850号明細書記載)およびオキサジアゾール化合物(米国特許第4212970号明細書記載)等が挙げられる。
液晶組成物中の光重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の含有量に対して0.1〜20質量%であることが好ましく、0.5質量%〜5質量%であることがさらに好ましい。
(Polymerization initiator)
The liquid crystal composition preferably contains a polymerization initiator. In the embodiment in which the polymerization reaction is advanced by ultraviolet irradiation, the polymerization initiator to be used is preferably a photopolymerization initiator that can start the polymerization reaction by ultraviolet irradiation. Examples of the photopolymerization initiator include α-carbonyl compounds (described in US Pat. Nos. 2,367,661 and 2,367,670), acyloin ether (described in US Pat. No. 2,448,828), α-hydrocarbon substituted aromatics. Group acyloin compounds (described in US Pat. No. 2,722,512), polynuclear quinone compounds (described in US Pat. Nos. 3,046,127 and 2,951,758), combinations of triarylimidazole dimers and p-aminophenyl ketone (US patents) No. 3549367), acridine and phenazine compounds (JP-A-60-105667, US Pat. No. 4,239,850), oxadiazole compounds (US Pat. No. 4,221,970), and the like. .
The content of the photopolymerization initiator in the liquid crystal composition is preferably 0.1 to 20% by mass, and preferably 0.5 to 5% by mass with respect to the content of the polymerizable liquid crystal compound. Further preferred.

(架橋剤)
液晶組成物は、硬化後の膜強度向上、耐久性向上のため、任意に架橋剤を含有していてもよい。架橋剤としては、紫外線、熱、湿気等で硬化するものが好適に使用できる。
架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等の多官能アクリレート化合物;グリシジル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテル等のエポキシ化合物;2,2−ビスヒドロキシメチルブタノール−トリス[3−(1−アジリジニル)プロピオネート]、4,4−ビス(エチレンイミノカルボニルアミノ)ジフェニルメタン等のアジリジン化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、ビウレット型イソシアネート等のイソシアネート化合物;オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物;ビニルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物などが挙げられる。また、架橋剤の反応性に応じて公知の触媒を用いることができ、膜強度および耐久性向上に加えて生産性を向上させることができる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
架橋剤の含有量は、3質量%〜20質量%が好ましく、5質量%〜15質量%がより好ましい。架橋剤の含有量が、3質量%未満であると、架橋密度向上の効果が得られないことがあり、20質量%を超えると、コレステリック液晶層の安定性を低下させてしまうことがある。
(Crosslinking agent)
The liquid crystal composition may optionally contain a crosslinking agent in order to improve the film strength after curing and improve the durability. As the cross-linking agent, one that can be cured by ultraviolet rays, heat, moisture, or the like can be suitably used.
There is no restriction | limiting in particular as a crosslinking agent, According to the objective, it can select suitably, For example, polyfunctional acrylate compounds, such as a trimethylol propane tri (meth) acrylate and pentaerythritol tri (meth) acrylate; Glycidyl (meth) acrylate , Epoxy compounds such as ethylene glycol diglycidyl ether; aziridine compounds such as 2,2-bishydroxymethylbutanol-tris [3- (1-aziridinyl) propionate], 4,4-bis (ethyleneiminocarbonylamino) diphenylmethane; hexa Isocyanate compounds such as methylene diisocyanate and biuret type isocyanate; polyoxazoline compounds having an oxazoline group in the side chain; vinyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropylto Alkoxysilane compounds such as methoxy silane. Moreover, a well-known catalyst can be used according to the reactivity of a crosslinking agent, and productivity can be improved in addition to membrane strength and durability improvement. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
3 mass%-20 mass% are preferable, and, as for content of a crosslinking agent, 5 mass%-15 mass% are more preferable. When the content of the crosslinking agent is less than 3% by mass, the effect of improving the crosslinking density may not be obtained. When the content exceeds 20% by mass, the stability of the cholesteric liquid crystal layer may be decreased.

(水平配向剤)
液晶組成物中には、安定的にまたは迅速にプレーナー配向のコレステリック液晶層とするために寄与する配向制御剤としての水平配向剤を添加してもよい。水平配向剤の例としては特開2007−272185号公報の段落〔0018〕〜〔0043〕等に記載のフッ素(メタ)アクリレート系ポリマー、特開2012−203237号公報の段落〔0031〕〜〔0034〕等に記載の式(I)〜(IV)で表される化合物などが挙げられる。
なお、水平配向剤としては1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
(Horizontal alignment agent)
In the liquid crystal composition, a horizontal alignment agent as an alignment control agent that contributes to stably or rapidly forming a cholesteric liquid crystal layer having a planar alignment may be added. Examples of the horizontal alignment agent include fluorine (meth) acrylate polymers described in paragraphs [0018] to [0043] of JP-A-2007-272185, and paragraphs [0031] to [0034] of JP-A-2012-203237. Etc.] and the compounds represented by the formulas (I) to (IV).
In addition, as a horizontal alignment agent, 1 type may be used independently and 2 or more types may be used together.

液晶組成物中における、水平配向剤の添加量は、重合性液晶化合物の全質量に対して0.01質量%〜10質量%が好ましく、0.01質量%〜5質量%がより好ましく、0.02質量%〜1質量%が特に好ましい。   The addition amount of the horizontal alignment agent in the liquid crystal composition is preferably 0.01% by mass to 10% by mass, more preferably 0.01% by mass to 5% by mass with respect to the total mass of the polymerizable liquid crystal compound. 0.02% by mass to 1% by mass is particularly preferable.

(その他の添加剤)
その他、液晶組成物は、塗膜の表面張力を調整し膜厚を均一にするための界面活性剤、および重合性モノマー等の種々の添加剤から選ばれる少なくとも1種を含有していてもよい。また、液晶組成物中には、必要に応じて、さらに重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、色材、金属酸化物微粒子等を、光学的性能を低下させない範囲で添加することができる。
(Other additives)
In addition, the liquid crystal composition may contain at least one selected from a surfactant for adjusting the surface tension of the coating film to make the film thickness uniform, and various additives such as a polymerizable monomer. . Further, in the liquid crystal composition, if necessary, a polymerization inhibitor, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a colorant, metal oxide fine particles, and the like may be added as long as the optical performance is not deteriorated. Can be added.

(溶媒)
液晶組成物は溶媒を含んでいてもよい。液晶組成物の調製に使用する溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、有機溶媒が好ましく用いられる。
有機溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばケトン類、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類、エーテル類、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、環境への負荷を考慮した場合にはケトン類が特に好ましい。
(solvent)
The liquid crystal composition may contain a solvent. There is no restriction | limiting in particular as a solvent used for preparation of a liquid-crystal composition, Although it can select suitably according to the objective, An organic solvent is used preferably.
The organic solvent is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, ketones, alkyl halides, amides, sulfoxides, heterocyclic compounds, hydrocarbons, esters, ethers, etc. Is mentioned. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together. Among these, ketones are particularly preferable in consideration of environmental load.

[円偏光反射層の作製方法]
本発明の反射材における円偏光反射層は、例えば、以下のいずれかの手順で作製することができる。
[Production Method of Circularly Polarized Reflective Layer]
The circularly polarized light reflection layer in the reflective material of the present invention can be produced, for example, by any of the following procedures.

(手順1−1)
(1)仮支持体上に液晶組成物を塗布する;
(2)仮支持体上に塗布された液晶組成物を乾燥させる;
(3)乾燥した液晶組成物を硬化させてコレステリック液晶層を設ける;
(4)上記(3)の後に得られるコレステリック液晶層表面に弾性有機層を設ける;
(5)上記弾性有機層の上に支持体を設ける;
(6)仮支持体を剥離する;
(7)上記剥離面に、凹凸面を有する基材の凹凸面表面を貼合して、凹凸面を有する弾性有機層を形成すると同時に上記基材の凹凸面と上記弾性有機層の凹凸面との間でコレステリック液晶層を凹凸形状とする。
(Procedure 1-1)
(1) applying a liquid crystal composition on a temporary support;
(2) drying the liquid crystal composition coated on the temporary support;
(3) curing the dried liquid crystal composition to provide a cholesteric liquid crystal layer;
(4) An elastic organic layer is provided on the surface of the cholesteric liquid crystal layer obtained after (3) above;
(5) providing a support on the elastic organic layer;
(6) peeling off the temporary support;
(7) The uneven surface of the substrate having an uneven surface is bonded to the release surface to form an elastic organic layer having the uneven surface, and at the same time, the uneven surface of the substrate and the uneven surface of the elastic organic layer The cholesteric liquid crystal layer is formed in an uneven shape.

(手順1−2)
(1)仮支持体上に液晶組成物を塗布する;
(2)仮支持体上に塗布された液晶組成物を乾燥させる;
(3)乾燥した液晶組成物を半硬化させて半硬化コレステリック液晶層を設ける;
(4)上記(3)の後に得られる半硬化コレステリック液晶層表面に弾性有機層形成材料を塗布して弾性有機層を設ける;
(5)上記弾性有機層の上に支持体を設ける;
(6)仮支持体を剥離する;
(7)上記剥離面に、凹凸面を有する基材の凹凸面表面を貼合して、凹凸面を有する弾性有機層を形成すると同時に上記基材の凹凸面と上記弾性有機層の凹凸面との間でコレステリック液晶層を凹凸形状とする;
(8)上記(7)の後に得られる積層体を加熱または光照射して半硬化コレステリック液晶層及び/または弾性有機層を硬化して凹凸形状の円偏光反射層を得る。
(Procedure 1-2)
(1) applying a liquid crystal composition on a temporary support;
(2) drying the liquid crystal composition coated on the temporary support;
(3) semi-curing the dried liquid crystal composition to provide a semi-cured cholesteric liquid crystal layer;
(4) An elastic organic layer is provided by applying an elastic organic layer forming material to the surface of the semi-cured cholesteric liquid crystal layer obtained after (3) above;
(5) providing a support on the elastic organic layer;
(6) peeling off the temporary support;
(7) The uneven surface of the substrate having an uneven surface is bonded to the release surface to form an elastic organic layer having the uneven surface, and at the same time, the uneven surface of the substrate and the uneven surface of the elastic organic layer Make the cholesteric liquid crystal layer uneven
(8) The laminated body obtained after the above (7) is heated or irradiated with light to cure the semi-cured cholesteric liquid crystal layer and / or the elastic organic layer to obtain an uneven circularly polarized light reflecting layer.

(手順1−3)
(1)仮支持体上に液晶組成物を塗布する;
(2)仮支持体上に塗布された液晶組成物を乾燥させる;
(3)乾燥した液晶組成物を硬化あるいは半硬化させてコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層を設ける;
(4)上記(3)の後に得られるコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層の表面に弾性有機層形成材料を塗布して弾性有機層を設ける;
(5)上記弾性有機層の上に支持体を設ける;
(6)仮支持体を剥離する;
(7)上記剥離面に、凹凸面を有する基材の凹凸面表面を貼合して、凹凸面を有する弾性有機層を形成すると同時に上記基材の凹凸面と上記弾性有機層の凹凸面との間でコレステリック液晶層を凹凸形状とする;
(8)凹凸面を有する基材を剥離する;
(9)凹凸面を有するコレステリック液晶層の上からオーバーコート層を設ける;
(10)上記(9)の後に得られる積層体を加熱または光照射して半硬化コレステリック液晶層及び/または弾性有機層、ならびにオーバーコート層を硬化して凹凸形状の円偏光反射層を得る。
(Procedure 1-3)
(1) applying a liquid crystal composition on a temporary support;
(2) drying the liquid crystal composition coated on the temporary support;
(3) The dried liquid crystal composition is cured or semi-cured to provide a cholesteric liquid crystal layer or a semi-cured cholesteric liquid crystal layer;
(4) An elastic organic layer-forming material is applied to the surface of the cholesteric liquid crystal layer or semi-cured cholesteric liquid crystal layer obtained after the above (3) to provide an elastic organic layer;
(5) providing a support on the elastic organic layer;
(6) peeling off the temporary support;
(7) The uneven surface of the substrate having an uneven surface is bonded to the release surface to form an elastic organic layer having the uneven surface, and at the same time, the uneven surface of the substrate and the uneven surface of the elastic organic layer Make the cholesteric liquid crystal layer uneven
(8) Peeling the substrate having an uneven surface;
(9) An overcoat layer is provided on the cholesteric liquid crystal layer having an uneven surface;
(10) The laminated body obtained after the above (9) is heated or irradiated with light to cure the semi-cured cholesteric liquid crystal layer and / or the elastic organic layer and the overcoat layer to obtain a concavo-convex circularly polarized reflective layer.

(手順1−4)
(1)仮支持体上に液晶組成物を塗布する;
(2)仮支持体上に塗布された液晶組成物を乾燥させる;
(3)乾燥した液晶組成物を硬化あるいは半硬化させてコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層を設ける;
(4)上記(3)の後に得られるコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層の表面に弾性有機層形成材料を塗布して弾性有機層を設ける;
(5)上記弾性有機層の上に支持体を設ける;
(6)仮支持体を剥離する;
(7)上記剥離面に、凹凸面を有する基材の凹凸面表面を貼合して、凹凸面を有する弾性有機層を形成すると同時に上記基材の凹凸面と上記弾性有機層の凹凸面との間でコレステリック液晶層を凹凸形状とする;
(8)凹凸面を有する基材を剥離する;
(9)凹凸面を有するコレステリック液晶層の上から、粘着剤または接着剤を介してプラスチックフィルムを設ける;
(10)必要に応じて、上記(9)の後に得られる積層体を加熱または光照射して半硬化コレステリック液晶層及び/または弾性有機層、ならびに粘着剤または接着剤を硬化して凹凸形状の円偏光反射層を得る。
(Procedure 1-4)
(1) applying a liquid crystal composition on a temporary support;
(2) drying the liquid crystal composition coated on the temporary support;
(3) The dried liquid crystal composition is cured or semi-cured to provide a cholesteric liquid crystal layer or a semi-cured cholesteric liquid crystal layer;
(4) An elastic organic layer-forming material is applied to the surface of the cholesteric liquid crystal layer or semi-cured cholesteric liquid crystal layer obtained after the above (3) to provide an elastic organic layer;
(5) providing a support on the elastic organic layer;
(6) peeling off the temporary support;
(7) The uneven surface of the substrate having an uneven surface is bonded to the release surface to form an elastic organic layer having the uneven surface, and at the same time, the uneven surface of the substrate and the uneven surface of the elastic organic layer Make the cholesteric liquid crystal layer uneven
(8) Peeling the substrate having an uneven surface;
(9) A plastic film is provided on the cholesteric liquid crystal layer having an uneven surface through an adhesive or an adhesive;
(10) If necessary, the laminate obtained after the above (9) is heated or irradiated with light to cure the semi-cured cholesteric liquid crystal layer and / or the elastic organic layer, and the pressure-sensitive adhesive or adhesive, thereby forming an uneven shape. A circularly polarized light reflection layer is obtained.

(手順2−1)
(1)仮支持体上に液晶組成物を塗布する;
(2)仮支持体上に塗布された液晶組成物を乾燥させる;
(3)乾燥した液晶組成物を硬化あるいは半硬化させてコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層を設ける;
(4)上記(3)の後に得られるコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層の表面に弾性有機層形成材料を塗布して弾性有機層を設ける;
(5)弾性有機層を硬化あるいは半硬化させる;
(6)上記弾性有機層の上に支持体を設ける;
(7)仮支持体を剥離する;
(8)上記剥離面に、凹凸面を有する基材の凹凸面表面を貼合して、凹凸面を有する弾性有機層を形成すると同時に上記基材の凹凸面と上記弾性有機層の凹凸面との間でコレステリック液晶層を凹凸形状とする。
(Procedure 2-1)
(1) applying a liquid crystal composition on a temporary support;
(2) drying the liquid crystal composition coated on the temporary support;
(3) The dried liquid crystal composition is cured or semi-cured to provide a cholesteric liquid crystal layer or a semi-cured cholesteric liquid crystal layer;
(4) An elastic organic layer-forming material is applied to the surface of the cholesteric liquid crystal layer or semi-cured cholesteric liquid crystal layer obtained after the above (3) to provide an elastic organic layer;
(5) Curing or semi-curing the elastic organic layer;
(6) providing a support on the elastic organic layer;
(7) peeling the temporary support;
(8) The uneven surface of the substrate having an uneven surface is bonded to the release surface to form an elastic organic layer having an uneven surface, and at the same time, the uneven surface of the substrate and the uneven surface of the elastic organic layer The cholesteric liquid crystal layer is formed in an uneven shape.

(手順2−2)
(1)仮支持体上に液晶組成物を塗布する;
(2)仮支持体上に塗布された液晶組成物を乾燥させる;
(3)乾燥した液晶組成物を硬化あるいは半硬化させてコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層を設ける;
(4)上記(3)の後に得られるコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層の表面に弾性有機層形成材料を塗布して弾性有機層を設ける;
(5)弾性有機層を硬化あるいは半硬化させる;
(6)上記弾性有機層の上に支持体を設ける;
(7)仮支持体を剥離する;
(8)上記剥離面に、凹凸面を有する基材の凹凸面表面を貼合して、凹凸面を有する弾性有機層を形成すると同時に上記基材の凹凸面と上記弾性有機層の凹凸面との間でコレステリック液晶層を凹凸形状とする;
(9)上記(8)の後に得られる積層体を加熱または光照射して半硬化コレステリック液晶層及び/または半硬化弾性有機層を硬化して凹凸形状の円偏光反射層を得る。
(手順2−3)
(1)仮支持体上に液晶組成物を塗布する;
(2)仮支持体上に塗布された液晶組成物を乾燥させる;
(3)乾燥した液晶組成物を硬化あるいは半硬化させてコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層を設ける;
(4)上記(3)の後に得られるコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層の表面に弾性有機層形成材料を塗布して弾性有機層を設ける;
(5)弾性有機層を硬化あるいは半硬化させる;
(6)上記弾性有機層の上に支持体を設ける;
(7)仮支持体を剥離する;
(8)上記剥離面に、凹凸面を有する基材の凹凸面表面を貼合して、凹凸面を有する弾性有機層を形成すると同時に上記基材の凹凸面と上記弾性有機層の凹凸面との間でコレステリック液晶物層を凹凸形状とする;
(9)凹凸面を有する基材を剥離する;
(10)凹凸面を有するコレステリック液晶層の上からオーバーコート層を設ける;
(11)上記(10)の後に得られる積層体を加熱または光照射して半硬化コレステリック液晶層及び/または半硬化弾性有機層、およびオーバーコート層を硬化して凹凸形状の円偏光反射層を得る。
(Procedure 2-2)
(1) applying a liquid crystal composition on a temporary support;
(2) drying the liquid crystal composition coated on the temporary support;
(3) The dried liquid crystal composition is cured or semi-cured to provide a cholesteric liquid crystal layer or a semi-cured cholesteric liquid crystal layer;
(4) An elastic organic layer-forming material is applied to the surface of the cholesteric liquid crystal layer or semi-cured cholesteric liquid crystal layer obtained after the above (3) to provide an elastic organic layer;
(5) Curing or semi-curing the elastic organic layer;
(6) providing a support on the elastic organic layer;
(7) peeling the temporary support;
(8) The uneven surface of the substrate having an uneven surface is bonded to the release surface to form an elastic organic layer having an uneven surface, and at the same time, the uneven surface of the substrate and the uneven surface of the elastic organic layer Make the cholesteric liquid crystal layer uneven
(9) The laminated body obtained after the above (8) is heated or irradiated with light to cure the semi-cured cholesteric liquid crystal layer and / or the semi-cured elastic organic layer to obtain a concavo-convex circularly polarized reflective layer.
(Procedure 2-3)
(1) applying a liquid crystal composition on a temporary support;
(2) drying the liquid crystal composition coated on the temporary support;
(3) The dried liquid crystal composition is cured or semi-cured to provide a cholesteric liquid crystal layer or a semi-cured cholesteric liquid crystal layer;
(4) An elastic organic layer-forming material is applied to the surface of the cholesteric liquid crystal layer or semi-cured cholesteric liquid crystal layer obtained after the above (3) to provide an elastic organic layer;
(5) Curing or semi-curing the elastic organic layer;
(6) providing a support on the elastic organic layer;
(7) peeling the temporary support;
(8) The uneven surface of the substrate having an uneven surface is bonded to the release surface to form an elastic organic layer having an uneven surface, and at the same time, the uneven surface of the substrate and the uneven surface of the elastic organic layer The cholesteric liquid crystal material layer has an irregular shape between
(9) Peeling the substrate having an uneven surface;
(10) An overcoat layer is provided on the cholesteric liquid crystal layer having an uneven surface;
(11) The laminated body obtained after the above (10) is heated or irradiated with light to cure the semi-cured cholesteric liquid crystal layer and / or the semi-cured elastic organic layer and the overcoat layer, thereby forming a concavo-convex circularly polarized reflective layer. obtain.

(手順2−4)
(1)仮支持体上に液晶組成物を塗布する;
(2)仮支持体上に塗布された液晶組成物を乾燥させる;
(3)乾燥した液晶組成物を硬化あるいは半硬化させてコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層を設ける;
(4)上記(3)の後に得られるコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層の表面に弾性有機層形成材料を塗布して弾性有機層を設ける;
(5)弾性有機層を硬化あるいは半硬化させる;
(6)上記弾性有機層の上に支持体を設ける;
(7)仮支持体を剥離する;
(8)上記剥離面に、凹凸面を有する基材の凹凸面表面を貼合して、凹凸面を有する弾性有機層を形成すると同時に上記基材の凹凸面と上記弾性有機層の凹凸面との間でコレステリック液晶物層または半硬化コレステリック液晶層を凹凸形状とする;
(9)凹凸面を有する基材を剥離する;
(10)凹凸面を有するコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層の上から、粘着剤または接着剤を介してプラスチックフィルムを設ける;
(11)必要に応じて、上記(10)の後に得られる積層体を加熱または光照射して半硬化コレステリック液晶層及び/または弾性有機層、粘着剤または接着剤を硬化して凹凸形状の円偏光反射層を得る。
(Procedure 2-4)
(1) applying a liquid crystal composition on a temporary support;
(2) drying the liquid crystal composition coated on the temporary support;
(3) The dried liquid crystal composition is cured or semi-cured to provide a cholesteric liquid crystal layer or a semi-cured cholesteric liquid crystal layer;
(4) An elastic organic layer-forming material is applied to the surface of the cholesteric liquid crystal layer or semi-cured cholesteric liquid crystal layer obtained after the above (3) to provide an elastic organic layer;
(5) Curing or semi-curing the elastic organic layer;
(6) providing a support on the elastic organic layer;
(7) peeling the temporary support;
(8) The uneven surface of the substrate having an uneven surface is bonded to the release surface to form an elastic organic layer having an uneven surface, and at the same time, the uneven surface of the substrate and the uneven surface of the elastic organic layer Between the cholesteric liquid crystal layer or the semi-cured cholesteric liquid crystal layer,
(9) Peeling the substrate having an uneven surface;
(10) A plastic film is provided on the cholesteric liquid crystal layer or semi-cured cholesteric liquid crystal layer having an uneven surface through an adhesive or an adhesive;
(11) If necessary, the laminate obtained after the above (10) is heated or irradiated with light to cure the semi-cured cholesteric liquid crystal layer and / or the elastic organic layer, the pressure-sensitive adhesive or the adhesive, thereby forming an uneven circle. A polarization reflection layer is obtained.

(手順3−1)
(1)仮支持体上に液晶組成物を塗布する;
(2)仮支持体上に塗布された液晶組成物を乾燥させて積層体1を得る;
(3)積層体1を加熱または光照射して液晶組成物を硬化し、コレステリック液晶層を得る;
(4)支持体および弾性有機層を含む積層体2を用意する;
(5)積層体1のコレステリック液晶層表面に弾性有機層が接触するように積層体2を設ける;
(6)仮支持体を剥離する;
(7)上記剥離面に、凹凸面を有する基材の凹凸面表面を貼合して、凹凸面を有する弾性有機層を形成すると同時に上記基材の凹凸面と上記弾性有機層の凹凸面との間でコレステリック液晶層を凹凸形状とする。
(Procedure 3-1)
(1) applying a liquid crystal composition on a temporary support;
(2) The liquid crystal composition applied on the temporary support is dried to obtain the laminate 1;
(3) The laminate 1 is heated or irradiated with light to cure the liquid crystal composition to obtain a cholesteric liquid crystal layer;
(4) preparing a laminate 2 including a support and an elastic organic layer;
(5) The laminate 2 is provided so that the elastic organic layer contacts the surface of the cholesteric liquid crystal layer of the laminate 1;
(6) peeling off the temporary support;
(7) The uneven surface of the substrate having an uneven surface is bonded to the release surface to form an elastic organic layer having the uneven surface, and at the same time, the uneven surface of the substrate and the uneven surface of the elastic organic layer The cholesteric liquid crystal layer is formed in an uneven shape.

(手順3−2)
(1)仮支持体上に液晶組成物を塗布する;
(2)仮支持体上に塗布された液晶組成物を乾燥させて積層体1を得る;
(3)積層体1を加熱または光照射して液晶組成物を硬化または半硬化し、コレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層を得る;
(4)支持体および弾性有機層を含む積層体2を用意する;
(5)積層体1のコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層表面に弾性有機層が接触するように積層体2を設ける;
(6)仮支持体を剥離する;
(7)上記剥離面に、凹凸面を有する基材の凹凸面表面を貼合して、凹凸面を有する弾性有機層を形成すると同時に上記基材の凹凸面と上記弾性有機層の凹凸面との間でコレステリック液晶層を凹凸形状とする;
(8)上記(7)の後に得られる積層体を加熱または光照射して半硬化コレステリック液晶層及び/または弾性有機層を硬化して凹凸形状の円偏光反射層を得る。
(Procedure 3-2)
(1) applying a liquid crystal composition on a temporary support;
(2) The liquid crystal composition applied on the temporary support is dried to obtain the laminate 1;
(3) The laminate 1 is heated or irradiated with light to cure or semi-cure the liquid crystal composition to obtain a cholesteric liquid crystal layer or a semi-cured cholesteric liquid crystal layer;
(4) preparing a laminate 2 including a support and an elastic organic layer;
(5) The laminate 2 is provided so that the elastic organic layer contacts the cholesteric liquid crystal layer or the semi-cured cholesteric liquid crystal layer surface of the laminate 1;
(6) peeling off the temporary support;
(7) The uneven surface of the substrate having an uneven surface is bonded to the release surface to form an elastic organic layer having the uneven surface, and at the same time, the uneven surface of the substrate and the uneven surface of the elastic organic layer Make the cholesteric liquid crystal layer uneven
(8) The laminated body obtained after the above (7) is heated or irradiated with light to cure the semi-cured cholesteric liquid crystal layer and / or the elastic organic layer to obtain an uneven circularly polarized light reflecting layer.

(手順3−3)
(1)仮支持体上に液晶組成物を塗布する;
(2)仮支持体上に塗布された液晶組成物を乾燥させて積層体1を得る;
(3)積層体1を加熱または光照射して液晶組成物を硬化または半硬化し、コレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層を得る;
(4)支持体および弾性有機層を含む積層体2を用意する;
(5)積層体1のコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層の表面に弾性有機層が接触するように積層体2を設ける;
(6)仮支持体を剥離する;
(7)上記剥離面に、凹凸面を有する基材の凹凸面表面を貼合して、凹凸面を有する弾性有機層を形成すると同時に上記基材の凹凸面と上記弾性有機層の凹凸面との間でコレステリック液晶層を凹凸形状とする;
(8)凹凸面を有する基材を剥離する;
(9)凹凸面を有するコレステリック液晶層の上からオーバーコート層を設ける;
(10)上記(9)の後に得られる積層体を加熱または光照射して半硬化コレステリック液晶層及び/または弾性有機層、ならびにオーバーコート層を硬化して凹凸形状の円偏光反射層を得る。
(Procedure 3-3)
(1) applying a liquid crystal composition on a temporary support;
(2) The liquid crystal composition applied on the temporary support is dried to obtain the laminate 1;
(3) The laminate 1 is heated or irradiated with light to cure or semi-cure the liquid crystal composition to obtain a cholesteric liquid crystal layer or a semi-cured cholesteric liquid crystal layer;
(4) preparing a laminate 2 including a support and an elastic organic layer;
(5) The laminate 2 is provided so that the elastic organic layer is in contact with the surface of the cholesteric liquid crystal layer or the semi-cured cholesteric liquid crystal layer of the laminate 1;
(6) peeling off the temporary support;
(7) The uneven surface of the substrate having an uneven surface is bonded to the release surface to form an elastic organic layer having the uneven surface, and at the same time, the uneven surface of the substrate and the uneven surface of the elastic organic layer Make the cholesteric liquid crystal layer uneven
(8) Peeling the substrate having an uneven surface;
(9) An overcoat layer is provided on the cholesteric liquid crystal layer having an uneven surface;
(10) The laminated body obtained after the above (9) is heated or irradiated with light to cure the semi-cured cholesteric liquid crystal layer and / or the elastic organic layer and the overcoat layer to obtain a concavo-convex circularly polarized reflective layer.

(手順3−4)
(1)仮支持体上に液晶組成物を塗布する;
(2)仮支持体上に塗布された液晶組成物を乾燥させて積層体1を得る;
(3)積層体1を加熱または光照射して液晶組成物を硬化または半硬化し、コレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層を得る;
(4)支持体および弾性有機層を含む積層体2を用意する;
(5)積層体1のコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層の表面に弾性有機層が接触するように積層体2を設ける;
(6)仮支持体を剥離する;
(7)上記剥離面に、凹凸面を有する基材の凹凸面表面を貼合して、凹凸面を有する弾性有機層を形成すると同時に上記基材の凹凸面と上記弾性有機層の凹凸面との間でコレステリック液晶層を凹凸形状とする;
(8)凹凸面を有する基材を剥離する;
(9)凹凸面を有するコレステリック液晶層の上から、粘着剤または接着剤を介してプラスチックフィルムを設ける;
(10)必要に応じて、上記(9)の後に得られる積層体を加熱または光照射して半硬化コレステリック液晶層及び/または弾性有機層、粘着剤または接着剤を硬化して凹凸形状の円偏光反射層を得る。
(Procedure 3-4)
(1) applying a liquid crystal composition on a temporary support;
(2) The liquid crystal composition applied on the temporary support is dried to obtain the laminate 1;
(3) The laminate 1 is heated or irradiated with light to cure or semi-cure the liquid crystal composition to obtain a cholesteric liquid crystal layer or a semi-cured cholesteric liquid crystal layer;
(4) preparing a laminate 2 including a support and an elastic organic layer;
(5) The laminate 2 is provided so that the elastic organic layer is in contact with the surface of the cholesteric liquid crystal layer or the semi-cured cholesteric liquid crystal layer of the laminate 1;
(6) peeling off the temporary support;
(7) The uneven surface of the substrate having an uneven surface is bonded to the release surface to form an elastic organic layer having the uneven surface, and at the same time, the uneven surface of the substrate and the uneven surface of the elastic organic layer Make the cholesteric liquid crystal layer uneven
(8) Peeling the substrate having an uneven surface;
(9) A plastic film is provided on the cholesteric liquid crystal layer having an uneven surface through an adhesive or an adhesive;
(10) If necessary, the laminate obtained after the above (9) is heated or irradiated with light to cure the semi-cured cholesteric liquid crystal layer and / or the elastic organic layer, the pressure-sensitive adhesive or the adhesive, thereby forming an uneven circle. A polarization reflection layer is obtained.

(手順4−1)
(1)仮支持体上に液晶組成物を塗布する;
(2)仮支持体上に塗布された液晶組成物を乾燥させて積層体1を得る;
(3)積層体1を加熱または光照射して液晶組成物を硬化し、コレステリック液晶層を得る;
(4)支持体および弾性有機層を含む積層体2を用意する;
(5)積層体2を硬化あるいは半硬化させる;
(6)積層体1のコレステリック液晶層表面に弾性有機層が接触するように積層体2を設ける;
(7)仮支持体を剥離する;
(8)上記剥離面に、凹凸面を有する基材の凹凸面表面を貼合して、凹凸面を有する弾性有機層を形成すると同時に上記基材の凹凸面と上記弾性有機層の凹凸面との間でコレステリック液晶層を凹凸形状とする。
(Procedure 4-1)
(1) applying a liquid crystal composition on a temporary support;
(2) The liquid crystal composition applied on the temporary support is dried to obtain the laminate 1;
(3) The laminate 1 is heated or irradiated with light to cure the liquid crystal composition to obtain a cholesteric liquid crystal layer;
(4) preparing a laminate 2 including a support and an elastic organic layer;
(5) Curing or semi-curing the laminate 2;
(6) The laminate 2 is provided so that the elastic organic layer is in contact with the surface of the cholesteric liquid crystal layer of the laminate 1;
(7) peeling the temporary support;
(8) The uneven surface of the substrate having an uneven surface is bonded to the release surface to form an elastic organic layer having an uneven surface, and at the same time, the uneven surface of the substrate and the uneven surface of the elastic organic layer The cholesteric liquid crystal layer is formed in an uneven shape.

(手順4−2)
(1)仮支持体上に液晶組成物を塗布する;
(2)仮支持体上に塗布された液晶組成物を乾燥させて積層体1を得る;
(3)積層体1を加熱または光照射して液晶組成物を硬化または半硬化し、コレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層を得る;
(4)支持体および弾性有機層を含む積層体2を用意する;
(5)積層体2を硬化あるいは半硬化させる;
(6)積層体1のコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層の表面に弾性有機層が接触するように積層体2を設ける;
(7)仮支持体を剥離する;
(8)上記剥離面に、凹凸面を有する基材の凹凸面表面を貼合して、凹凸面を有する弾性有機層を形成すると同時に上記基材の凹凸面と上記弾性有機層の凹凸面との間でコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層を凹凸形状とする;
(9)上記(8)の後に得られる積層体を加熱または光照射して半硬化コレステリック液晶層及び/または弾性有機層を硬化して凹凸形状の円偏光反射層を得る。
(Procedure 4-2)
(1) applying a liquid crystal composition on a temporary support;
(2) The liquid crystal composition applied on the temporary support is dried to obtain the laminate 1;
(3) The laminate 1 is heated or irradiated with light to cure or semi-cure the liquid crystal composition to obtain a cholesteric liquid crystal layer or a semi-cured cholesteric liquid crystal layer;
(4) preparing a laminate 2 including a support and an elastic organic layer;
(5) Curing or semi-curing the laminate 2;
(6) The laminate 2 is provided so that the elastic organic layer is in contact with the surface of the cholesteric liquid crystal layer or semi-cured cholesteric liquid crystal layer of the laminate 1;
(7) peeling the temporary support;
(8) The uneven surface of the substrate having an uneven surface is bonded to the release surface to form an elastic organic layer having an uneven surface, and at the same time, the uneven surface of the substrate and the uneven surface of the elastic organic layer Between the cholesteric liquid crystal layer or the semi-cured cholesteric liquid crystal layer,
(9) The laminated body obtained after the above (8) is heated or irradiated with light to cure the semi-cured cholesteric liquid crystal layer and / or the elastic organic layer to obtain a concavo-convex circularly polarized reflective layer.

(手順4−3)
(1)仮支持体上に液晶組成物を塗布する;
(2)仮支持体上に塗布された液晶組成物を乾燥させて積層体1を得る;
(3)積層体1を加熱または光照射して液晶組成物を硬化または半硬化し、コレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層を得る;
(4)支持体および弾性有機層を含む積層体2を用意する;
(5)積層体2を硬化あるいは半硬化させる;
(6)積層体1のコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層の表面に弾性有機層が接触するように積層体2を設ける;
(7)仮支持体を剥離する;
(8)上記剥離面に、凹凸面を有する基材の凹凸面表面を貼合して、凹凸面を有する弾性有機層を形成すると同時に上記基材の凹凸面と上記弾性有機層の凹凸面との間でコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層を凹凸形状とする;
(9)凹凸面を有する基材を剥離する;
(10)凹凸面を有するコレステリック液晶層の上からオーバーコート層を設ける;
(11)上記(10)の後に得られる積層体を加熱または光照射して半硬化コレステリック液晶層及び/または弾性有機層ならびにオーバーコート層を硬化して凹凸形状の円偏光反射層を得る。
(Procedure 4-3)
(1) applying a liquid crystal composition on a temporary support;
(2) The liquid crystal composition applied on the temporary support is dried to obtain the laminate 1;
(3) The laminate 1 is heated or irradiated with light to cure or semi-cure the liquid crystal composition to obtain a cholesteric liquid crystal layer or a semi-cured cholesteric liquid crystal layer;
(4) preparing a laminate 2 including a support and an elastic organic layer;
(5) Curing or semi-curing the laminate 2;
(6) The laminate 2 is provided so that the elastic organic layer is in contact with the surface of the cholesteric liquid crystal layer or semi-cured cholesteric liquid crystal layer of the laminate 1;
(7) peeling the temporary support;
(8) The uneven surface of the substrate having an uneven surface is bonded to the release surface to form an elastic organic layer having an uneven surface, and at the same time, the uneven surface of the substrate and the uneven surface of the elastic organic layer Between the cholesteric liquid crystal layer or the semi-cured cholesteric liquid crystal layer,
(9) Peeling the substrate having an uneven surface;
(10) An overcoat layer is provided on the cholesteric liquid crystal layer having an uneven surface;
(11) The laminated body obtained after the above (10) is heated or irradiated with light to cure the semi-cured cholesteric liquid crystal layer and / or the elastic organic layer and the overcoat layer to obtain a concavo-convex circularly polarized reflective layer.

(手順4−4)
(1)仮支持体上に液晶組成物を塗布する;
(2)仮支持体上に塗布された液晶組成物を乾燥させて積層体1を得る;
(3)積層体1を加熱または光照射して液晶組成物を硬化または半硬化し、コレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層を得る;
(4)支持体および弾性有機層を含む積層体2を用意する;
(5)積層体2を硬化あるいは半硬化させる;
(6)積層体1のコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層の表面に弾性有機層が接触するように積層体2を設ける;
(7)仮支持体を剥離する;
(8)上記剥離面に、凹凸面を有する基材の凹凸面表面を貼合して、凹凸面を有する弾性有機層を形成すると同時に上記基材の凹凸面と上記弾性有機層の凹凸面との間でコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層を凹凸形状とする;
(9)凹凸面を有する基材を剥離する;
(10)凹凸面を有するコレステリック液晶層の上から、粘着剤または接着剤を介してプラスチックフィルムを設ける;
(11)必要に応じて、上記(10)の後に得られる積層体を加熱または光照射して半硬化コレステリック液晶層及び/または弾性有機層ならびに粘着剤または接着剤を硬化して凹凸形状の円偏光反射層を得る。
(Procedure 4-4)
(1) applying a liquid crystal composition on a temporary support;
(2) The liquid crystal composition applied on the temporary support is dried to obtain the laminate 1;
(3) The laminate 1 is heated or irradiated with light to cure or semi-cure the liquid crystal composition to obtain a cholesteric liquid crystal layer or a semi-cured cholesteric liquid crystal layer;
(4) preparing a laminate 2 including a support and an elastic organic layer;
(5) Curing or semi-curing the laminate 2;
(6) The laminate 2 is provided so that the elastic organic layer is in contact with the surface of the cholesteric liquid crystal layer or semi-cured cholesteric liquid crystal layer of the laminate 1;
(7) peeling the temporary support;
(8) The uneven surface of the substrate having an uneven surface is bonded to the release surface to form an elastic organic layer having an uneven surface, and at the same time, the uneven surface of the substrate and the uneven surface of the elastic organic layer Between the cholesteric liquid crystal layer or the semi-cured cholesteric liquid crystal layer,
(9) Peeling the substrate having an uneven surface;
(10) A plastic film is provided on the cholesteric liquid crystal layer having an uneven surface via an adhesive or an adhesive;
(11) If necessary, the laminate obtained after the above (10) is heated or irradiated with light to cure the semi-cured cholesteric liquid crystal layer and / or the elastic organic layer and the pressure-sensitive adhesive or adhesive, thereby forming an uneven circle. A polarization reflection layer is obtained.

上記手順において、支持体および弾性有機層を含む積層体2の用意は、支持体上に弾性有機層形成材料を塗布すること、またはさらに塗布した弾性有機層形成材料を硬化または半硬化することにより、行うことができる。   In the above procedure, the laminate 2 including the support and the elastic organic layer is prepared by applying the elastic organic layer forming material on the support, or further curing or semi-curing the applied elastic organic layer forming material. ,It can be carried out.

コレステリック液晶層を2層以上有する円偏光反射層の作製の際は、液晶組成物の塗布、乾燥および半硬化または硬化の工程を繰り返して複数の半硬化コレステリック液晶層または複数のコレステリック液晶層を形成し、これに対して凹凸面を有する基材の貼合を行えばよい。   When producing a circularly polarizing reflective layer having two or more cholesteric liquid crystal layers, a plurality of semi-cured cholesteric liquid crystal layers or a plurality of cholesteric liquid crystal layers are formed by repeating the steps of applying, drying and semi-curing or curing the liquid crystal composition. And what is necessary is just to bond the base material which has an uneven surface with respect to this.

用いた凹凸面を有する基材は、そのまま凹凸平坦化層となっていてもよく、または凹凸面を有する基材が剥離されて、その剥離面にオーバーコート層が設けられてもよく、その剥離面に粘着剤または接着剤によりプラスチックフィルム等が接着されてもよい。
基材を剥離する場合、その剥離は半硬化コレステリック液晶層の硬化前に行ってもよく、硬化後に行ってもよい。硬化前に基材を剥離する場合、例えば硬化性樹脂によるオーバーコート層形成のための光照射が、上記液晶組成物の硬化のための光照射となっていてもよい。
The substrate having an uneven surface used may be an uneven flattened layer as it is, or the substrate having an uneven surface may be peeled off and an overcoat layer may be provided on the peeled surface. A plastic film or the like may be bonded to the surface with an adhesive or an adhesive.
When peeling a base material, the peeling may be performed before hardening of a semi-hardened cholesteric liquid crystal layer, and may be performed after hardening. When the substrate is peeled before curing, for example, light irradiation for forming an overcoat layer with a curable resin may be light irradiation for curing the liquid crystal composition.

以下、円偏光反射層の作製方法における各工程、および用いられるその他の材料を説明する。   Hereinafter, each step in the method for producing the circularly polarized light reflection layer and other materials used will be described.

(塗布)
液晶組成物の塗布方法は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ワイヤーバーコーティング法、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法などが挙げられる。
(Application)
The application method of the liquid crystal composition is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. For example, a wire bar coating method, a curtain coating method, an extrusion coating method, a direct gravure coating method, a reverse gravure coating method, a die Examples thereof include a coating method, a spin coating method, a dip coating method, a spray coating method, and a slide coating method.

(乾燥、配向)
塗布した液晶組成物の乾燥は、そのまま放置することにより、または加熱により乾燥させればよい。加熱温度は、200℃以下が好ましく、130℃以下がより好ましい。液晶組成物の乾燥の過程で、液晶分子を配向させることができる。
(Drying, orientation)
The applied liquid crystal composition may be dried by leaving it as it is or by heating. The heating temperature is preferably 200 ° C. or lower, and more preferably 130 ° C. or lower. Liquid crystal molecules can be aligned in the course of drying the liquid crystal composition.

(貼合)
貼合は液晶組成物の硬化または半硬化後に得られるコレステリック液晶層を、凹凸面を有する基材または材料の凹凸面表面に直接接触させることにより行えばよい。このとき、凹凸面の窪んだ部分を埋めるようにコレステリック液晶層が凹凸面表面に接触されていればよい。これにより凹凸面を有する基材または材料の凹凸表面形状の全部を、コレステリック液晶層表面に転写することができる。または、凹凸面と液晶組成物の間に空隙があってもよい。これにより凹凸面を有する基材または材料の凹凸表面形状の一部を、コレステリック液晶層表面に転写することができる。
空隙としては、基材の凹凸面の凹部の凹み部分で形成される体積(凹み部分を満たすことができる液体の容積)の0より大きく50%以下の空隙が挙げられる。空隙の場所は限定されないが、例えば、凹み部分の底であればよい。
(Bonding)
Bonding may be performed by bringing the cholesteric liquid crystal layer obtained after curing or semi-curing of the liquid crystal composition into direct contact with the uneven surface of the substrate or material having the uneven surface. At this time, it is only necessary that the cholesteric liquid crystal layer is in contact with the surface of the uneven surface so as to fill the recessed portion of the uneven surface. As a result, the entire uneven surface shape of the substrate or material having the uneven surface can be transferred to the surface of the cholesteric liquid crystal layer. Alternatively, there may be a gap between the uneven surface and the liquid crystal composition. Thereby, a part of the uneven surface shape of the substrate or material having the uneven surface can be transferred to the surface of the cholesteric liquid crystal layer.
Examples of the void include a void larger than 0 and not more than 50% of a volume (volume of liquid that can fill the depressed portion) formed by the depressed portion of the concave portion of the uneven surface of the base material. The location of the gap is not limited, but may be, for example, the bottom of the recessed portion.

液晶組成物の半硬化で得られるコレステリック液晶層(半硬化コレステリック液晶層)は、貼合時に十分な硬化をしておらず、流動性を有するため、効率よく高精度に基材の凹凸面の形状等を転写することができる。ここで、流動性を有する状態とは、指先で軽く圧力をかけると指紋の跡が残り、粘着性を示す状態であることをいう。
効率よく凹凸面表面全面で接触できるように、凹凸面を有する基材または材料、またはコレステリック液晶層面を接触前に加熱してもよい。加熱は40℃〜110℃で行うことが好ましく、50℃〜100℃で行うことがより好ましい。加熱は、コレステリック液晶層および凹凸面を有する基材または材料の双方において行うことがより好ましい。貼合の際は、加圧してもよい。加圧は、例えば0.05〜60MPa、好ましくは、0.05〜20MPaで行えばよい。
The cholesteric liquid crystal layer (semi-cured cholesteric liquid crystal layer) obtained by semi-curing the liquid crystal composition is not sufficiently cured at the time of bonding and has fluidity, so that the uneven surface of the substrate can be efficiently and highly accurately formed. The shape and the like can be transferred. Here, the state having fluidity means a state in which a trace of a fingerprint remains when light pressure is applied with a fingertip and the adhesiveness is exhibited.
The substrate or material having the concavo-convex surface or the cholesteric liquid crystal layer surface may be heated before contact so that the entire surface of the concavo-convex surface can be efficiently contacted. Heating is preferably performed at 40 ° C. to 110 ° C., more preferably 50 ° C. to 100 ° C. More preferably, the heating is performed on both the cholesteric liquid crystal layer and the substrate or material having an uneven surface. You may pressurize in the case of pasting. The pressurization may be performed at, for example, 0.05 to 60 MPa, preferably 0.05 to 20 MPa.

加圧時間は0.01秒以上20秒以下であることが好ましく、0.01秒以上10秒以下であることがより好ましく、0.01秒以上5秒以下であることがさらに好ましい。0.01秒以上では表面形状の転写が十分に行うことができ、また20秒以下とすることで良好な生産性を確保できる。   The pressurization time is preferably 0.01 seconds or more and 20 seconds or less, more preferably 0.01 seconds or more and 10 seconds or less, and further preferably 0.01 seconds or more and 5 seconds or less. If it is 0.01 seconds or longer, the surface shape can be sufficiently transferred, and if it is 20 seconds or less, good productivity can be secured.

また、貼合は真空下で行うことも好ましい。真空貼合は1000Pa以下の低圧力内にて行えばよい。100Pa以下の条件下であることがより好ましい。例えば、温度20〜80℃の範囲内において上記の圧力条件下で、圧力0.01〜1000MPaの範囲内にて0.1〜60分の加圧時間内で真空貼合を行えばよい。真空貼合は、例えばクライムプロダクツ社製真空貼合機V−SE6055aa市販の真空貼合機を用いて行うことができる。   Moreover, it is also preferable to perform bonding under vacuum. What is necessary is just to perform vacuum bonding within the low pressure of 1000 Pa or less. More preferably, the pressure is 100 Pa or less. For example, vacuum bonding may be performed within a pressure time of 0.1 to 60 minutes within a pressure range of 0.01 to 1000 MPa under the above pressure condition within a temperature range of 20 to 80 ° C. The vacuum bonding can be performed using, for example, a vacuum bonding machine V-SE6055aa commercially available from Climb Products.

(硬化)
液晶組成物を硬化してコレステリック液晶層が形成される。半硬化である場合を除き、硬化によって液晶組成物の流動性がない層が形成される。
硬化は、熱硬化、光照射による光硬化のいずれでもよいが、光硬化が好ましい。光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、20mJ/cm2〜50J/cm2が好ましく、100mJ/cm2〜1,500mJ/cm2がより好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下または窒素雰囲気下で光照射を実施してもよい。照射紫外線波長は350nm〜430nmが好ましい。重合反応率は安定性の観点から、高いことが好ましく70%以上が好ましく、80%以上がより好ましい。
硬化による液晶組成物中の重合性液晶化合物の重合反応率は、重合性の官能基の消費割合をIR吸収スペクトルを用いて測定することにより、決定することができる。
(Curing)
The liquid crystal composition is cured to form a cholesteric liquid crystal layer. Except for the case of being semi-cured, a layer having no fluidity of the liquid crystal composition is formed by curing.
Curing may be either thermal curing or photocuring by light irradiation, but photocuring is preferred. It is preferable to use ultraviolet rays for light irradiation. The irradiation energy is preferably 20mJ / cm 2 ~50J / cm 2 , 100mJ / cm 2 ~1,500mJ / cm 2 is more preferable. In order to accelerate the photopolymerization reaction, light irradiation may be performed under heating conditions or in a nitrogen atmosphere. The irradiation ultraviolet wavelength is preferably 350 nm to 430 nm. The polymerization reaction rate is preferably high from the viewpoint of stability, preferably 70% or more, and more preferably 80% or more.
The polymerization reaction rate of the polymerizable liquid crystal compound in the liquid crystal composition by curing can be determined by measuring the consumption ratio of the polymerizable functional group using the IR absorption spectrum.

凹凸形状ではなく、両面が平坦なコレステリック液晶層の形成の際は、上記の乾燥の工程で液晶分子が配向し、重合性液晶化合物が、基材等の表面に対して垂直な方向に螺旋軸を有するように捩れ配向している層が得られる。そしてコレステリック液晶層の上記円偏光選択反射帯での再帰反射光量はコレステリック液晶層の法線方向(=螺旋軸方向)からの光の入射において最大となり、法線方向から角度をなす方向からの光の入射に対しては、ほとんど再帰反射光量がない。すなわち、層の法線方向のみで高い再帰反射性を示す。本発明の反射材においては、コレステリック液晶層に凹凸形状が付与され、円偏光反射層が凹凸形状となっていることにより、螺旋軸方向が反射材の法線方向から角度をなした方向となっている部分構造(例えば、凹凸面の傾斜の法線方向が螺旋軸方向となる構造)が生じ、法線方向から角度をなす方向からの光の入射に対しても再帰反射性の高い反射材を得ることができる。   When forming a cholesteric liquid crystal layer that is flat and not concave and convex, the liquid crystal molecules are aligned in the drying step described above, and the polymerizable liquid crystal compound has a helical axis in a direction perpendicular to the surface of the substrate or the like. A layer that is twisted and oriented to have The amount of retroreflected light in the circularly polarized light selective reflection band of the cholesteric liquid crystal layer becomes maximum when light is incident from the normal direction (= helical axis direction) of the cholesteric liquid crystal layer, and light from a direction that makes an angle from the normal direction. There is almost no retroreflected light amount for the incident light. That is, high retroreflectivity is exhibited only in the normal direction of the layer. In the reflective material of the present invention, the cholesteric liquid crystal layer is provided with a concavo-convex shape, and the circularly polarized light reflective layer has a concavo-convex shape, so that the spiral axis direction is an angle from the normal direction of the reflective material. Reflecting structure (for example, a structure in which the normal direction of the inclined surface of the concavo-convex surface is the spiral axis direction) is generated, and the reflector is highly retroreflective with respect to the incidence of light from a direction that makes an angle from the normal direction. Can be obtained.

(半硬化)
本明細書において、「半硬化」は、硬化される組成物の流動性を残して硬化することを意味する。特に、液晶組成物の「半硬化」は、液晶組成物の「硬化」の一種であるが、液晶組成物の流動性のないコレステリック液晶層の完成に至るまでに追加の加熱または光照射による硬化を必要とする硬化を意味する。液晶組成物の「半硬化」により得られる「半硬化コレステリック液晶層」は液晶組成物中の重合性液晶化合物の重合性基の一部が反応しているが、流動性を有する層を意味する。本発明の反射材の製造においては、半硬化コレステリック液晶層に凹凸面を有する基材を貼合し、凹凸形状形成後、さらに硬化工程に付して、凹凸形状を有する円偏光反射層を形成してもよい。
(Semi-cured)
As used herein, “semi-cured” means cured while leaving the fluidity of the composition to be cured. In particular, the “semi-curing” of the liquid crystal composition is a kind of “curing” of the liquid crystal composition, but the liquid crystal composition is cured by additional heating or light irradiation until the non-flowable cholesteric liquid crystal layer is completed. Means curing. A “semi-cured cholesteric liquid crystal layer” obtained by “semi-curing” a liquid crystal composition means a layer having fluidity, although a part of the polymerizable group of the polymerizable liquid crystal compound in the liquid crystal composition is reacted. . In the production of the reflective material of the present invention, a substrate having an uneven surface is bonded to a semi-cured cholesteric liquid crystal layer, and after forming an uneven shape, it is further subjected to a curing step to form a circularly polarized reflective layer having an uneven shape. May be.

液晶組成物が光重合性液晶組成物である場合は、半硬化は50mJ/cm2以下の紫外線照射により行うことができる。半硬化の際の紫外線照射は、30mJ/cm2以下であることが好ましく、10mJ/cm2以下であることがより好ましく、5mJ/cm2以下であることがさらに好ましい。また、半硬化の際の紫外線照射は、0.1mJ/cm2以上、0.2mJ/cm2以上、または0.3mJ/cm2以上であればよい。紫外線照射の際は酸素濃度が0.005%以上20%以下の雰囲気下とすることが好ましい。また、紫外線は波長350〜430nmの光であればよい。 When the liquid crystal composition is a photopolymerizable liquid crystal composition, semi-curing can be performed by irradiation with ultraviolet rays of 50 mJ / cm 2 or less. UV irradiation during the semi-curing is preferably 30 mJ / cm 2 or less, more preferably 10 mJ / cm 2 or less, and more preferably 5 mJ / cm 2 or less. The ultraviolet radiation during the semi-curing, 0.1 mJ / cm 2 or more, it is sufficient 0.2 mJ / cm 2 or more, or 0.3 mJ / cm 2 or more. In the ultraviolet irradiation, it is preferable that the oxygen concentration is 0.005% or more and 20% or less. Moreover, ultraviolet rays should just be light with a wavelength of 350-430 nm.

(凹凸面を有する基材)
凹凸面を有する基材の凹凸面は、本発明の反射材における円偏光反射層の凹凸形状と相補的なものとなる。凹凸面を有する基材としては、例えば、後述の凹凸平坦化層のうち、凹凸面を有する基材を用いることができる。
また、上記基材を液晶組成物から剥離する場合には、所望の凹凸面を有する任意の材料(金型など)を用いることもできる。
凹凸面の例としては、半球が2次元的に連続した形状、コーナーキューブ、プリズムが2次元的に連続した形状などが挙げられる(図3(a),(b)または、これらいずれかの形状と相補的な凹凸面形状)。また、1次元的な連続形状の凹凸面が挙げられる(図3(c)、(d)、またはこれらいずれかの形状と相補的な凹凸面形状)。
(Base material with uneven surface)
The uneven surface of the substrate having an uneven surface is complementary to the uneven shape of the circularly polarized light reflecting layer in the reflector of the present invention. As a base material which has an uneven surface, the base material which has an uneven surface among the uneven | corrugated planarization layer mentioned later can be used, for example.
Moreover, when peeling the said base material from a liquid-crystal composition, arbitrary materials (metal mold | die etc.) which have a desired uneven surface can also be used.
Examples of the uneven surface include a shape in which a hemisphere is two-dimensionally continuous, a shape in which corner cubes and prisms are two-dimensionally continuous (FIGS. 3A and 3B, or any one of these shapes). Complementary uneven surface shape). Further, there is a one-dimensional continuous uneven surface (FIG. 3 (c), (d), or an uneven surface shape complementary to any one of these shapes).

(仮支持体)
仮支持体は液晶組成物を塗布する基板として用いられる。仮支持体は、後述の貼付後、または硬化後に、剥離されていればよい。本発明の反射材が光学部材の構成部材として用いられる場合には、仮支持体は、仮支持体を有する本発明の反射材に後述の情報提示層が形成された後に剥離されてもよい。
(Temporary support)
The temporary support is used as a substrate on which the liquid crystal composition is applied. The temporary support body should just be peeled off after sticking mentioned below or after hardening. When the reflective material of the present invention is used as a constituent member of an optical member, the temporary support may be peeled off after an information presentation layer described later is formed on the reflective material of the present invention having the temporary support.

仮支持体としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)などのポリエステル、ポリカーボネート、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリオレフィン、セルロース誘導体、シリコーンなどのプラスチックフィルムまたはガラスを用いることができる。
仮支持体の膜厚としては、5μm〜1000μm程度であればよく、好ましくは10μm〜250μmであり、より好ましくは15μm〜90μmである。
As the temporary support, a plastic film such as polyester such as polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate, acrylic resin, epoxy resin, polyurethane, polyamide, polyolefin, cellulose derivative, silicone, or glass can be used.
The film thickness of the temporary support may be about 5 μm to 1000 μm, preferably 10 μm to 250 μm, and more preferably 15 μm to 90 μm.

液晶組成物が塗布される仮支持体の面側には、配向層を形成してもよい。配向層は、ポリマーなどの有機化合物(ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミド、変性ポリアミドなどの樹脂)のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、またはラングミュア・ブロジェット法(LB膜)による有機化合物(例えば、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル)の累積のような手段で、設けることができる。電場の付与、磁場の付与または光照射により、配向機能が生じる配向層を使用してもよい。   An alignment layer may be formed on the surface side of the temporary support to which the liquid crystal composition is applied. The alignment layer has a rubbing treatment of organic compounds such as polymers (resins such as polyimide, polyvinyl alcohol, polyester, polyarylate, polyamideimide, polyetherimide, polyamide, and modified polyamide), oblique deposition of inorganic compounds, and microgrooves. It can be provided by means such as formation of a layer or accumulation of an organic compound (for example, ω-tricosanoic acid, dioctadecylmethylammonium chloride, methyl stearylate) by the Langmuir-Blodgett method (LB film). An alignment layer that generates an alignment function by application of an electric field, application of a magnetic field, or light irradiation may be used.

特にポリマーからなる配向層はラビング処理を行ったうえで、ラビング処理面に液晶組成物を塗布することが好ましい。ラビング処理は、ポリマー層の表面を、紙、布で一定方向に、数回擦ることにより実施することができる。
配向層を設けずに仮支持体表面、または仮支持体をラビング処理した表面に、液晶組成物を塗布してもよい。
仮支持体が剥離される場合は、配向膜は仮支持体とともに剥離されて本発明の反射材を構成する層とはならなくてもよく、仮支持体と配向膜の界面で剥離されて配向膜が本発明の反射材を構成する層とはなっていてもよい。
配向層の厚さは0.01〜5μmであることが好ましく、0.05〜2μmであることがさらに好ましい。
In particular, the alignment layer made of a polymer is preferably subjected to a rubbing treatment and then a liquid crystal composition is applied to the rubbing treatment surface. The rubbing treatment can be performed by rubbing the surface of the polymer layer several times in a certain direction with paper or cloth.
The liquid crystal composition may be applied to the surface of the temporary support without providing the alignment layer, or the surface obtained by rubbing the temporary support.
When the temporary support is peeled off, the alignment film does not have to be peeled off together with the temporary support to form a layer constituting the reflector of the present invention, and is peeled off at the interface between the temporary support and the alignment film. The film may be a layer constituting the reflective material of the present invention.
The thickness of the alignment layer is preferably 0.01 to 5 μm, and more preferably 0.05 to 2 μm.

[凹凸平坦化層]
凹凸平坦化層は、その一面が凹凸面であり、他方が平坦面であって、円偏光反射層の凹凸面に直接接するように設けられる層である。凹凸平坦化層を有する本発明の反射材は、その両面が平坦面となる。本発明の反射材の凹凸平坦化層は、円偏光反射層の凹凸平坦化層側の面の凹凸形状と相補的な凹凸面を有していることが好ましい。
凹凸平坦化層は、円偏光反射層との屈折率差が小さいことが好ましい。屈折率差が小さいとヘイズが生じにくいためである。屈折率差は0.1以下であることが好ましく、0.05以下であることがより好ましく、0.02以下であることがさらに好ましい。
また、凹凸平坦化層は、透明であることが好ましい。さらに、凹凸平坦化層は低複屈折性であることが好ましい。特に円偏光反射層が螺旋のセンスが右であるコレステリック液晶層または螺旋のセンスが左であるコレステリック液晶層のいずれか一方のみを含む場合は、凹凸平坦化層は低複屈折性であることが好ましい。
[Unevenness flattening layer]
The concavo-convex planarization layer is a layer provided so that one surface thereof is an concavo-convex surface and the other is a flat surface and is in direct contact with the concavo-convex surface of the circularly polarized light reflecting layer. The reflecting material of the present invention having an uneven planarizing layer has both surfaces flat. The uneven planarizing layer of the reflective material of the present invention preferably has an uneven surface complementary to the uneven shape of the surface on the uneven planarizing layer side of the circularly polarized light reflecting layer.
It is preferable that the unevenness flattening layer has a small refractive index difference from the circularly polarized light reflecting layer. This is because haze is less likely to occur when the refractive index difference is small. The difference in refractive index is preferably 0.1 or less, more preferably 0.05 or less, and further preferably 0.02 or less.
Moreover, it is preferable that an uneven | corrugated planarization layer is transparent. Further, the uneven planarizing layer is preferably low birefringence. In particular, when the circularly polarized light reflection layer includes only one of a cholesteric liquid crystal layer having a spiral sense on the right or a cholesteric liquid crystal layer having a spiral sense on the left, the uneven flattening layer may have low birefringence. preferable.

凹凸平坦化層は、上記の形状を有するかぎり特に限定されないが、例としては、円偏光反射層の凹凸形状形成時に凹凸面を有する基材として使用される基材、円偏光反射層の凹凸形状形成後、円偏光反射層の凹凸面表面に適用されたオーバーコート層、プラスチックフィルムまたは無機ガラス板等と粘着層または接着層との組み合わせなどが挙げられる。
凹凸平坦化層の膜厚の平均値としては、5μm〜1000μm程度であればよく、好ましくは10μm〜250μmであり、より好ましくは15μm〜150μmである。
The uneven flattening layer is not particularly limited as long as it has the above-mentioned shape, but examples include a substrate used as a substrate having an uneven surface when forming the uneven shape of the circularly polarized light reflecting layer, and the uneven shape of the circularly polarized light reflecting layer. Examples include a combination of an overcoat layer, a plastic film, an inorganic glass plate, or the like applied to the uneven surface of the circularly polarized light reflecting layer and an adhesive layer or an adhesive layer after the formation.
The average value of the unevenness flattening layer may be about 5 μm to 1000 μm, preferably 10 μm to 250 μm, and more preferably 15 μm to 150 μm.

(基材)
基材は、円偏光反射層の凹凸平坦化層側の面の凹凸形状と相補的な凹凸面を有する、基材は他方の面が平坦面であることが好ましい。
基材の例としては、マイクロレンズフィルム、プリズムフィルム、レンチキュラーシートなどが挙げられる。マイクロレンズフィルムとしては例えば、韓国SKC Haas Display Films Co.Ltd.製の ML1またはML4、プリズムフィルムとしては、例えば、韓国SKC Haas Display Films Co.Ltd.製のHD74U、サンテックオプト株式会社製のSPX2、SPX3、SPX6、レンチキュラーシートとしては、例えば、富士膠片(中国)投資有限公司(FUJIFILM (China) Investment Co.,Ltd.)製、LS-200Yを用いることができる。基材の材料は、プラスチックが好ましく、例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)などのポリエステル、ポリカーボネート、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリオレフィン、セルロース誘導体、シリコーンなどが挙げられる。
(Base material)
The substrate preferably has an uneven surface complementary to the uneven shape of the surface on the uneven flattening layer side of the circularly polarized light reflecting layer, and the other surface of the substrate is preferably a flat surface.
Examples of the substrate include a microlens film, a prism film, and a lenticular sheet. As a microlens film, for example, ML1 or ML4 manufactured by Korea SKC Haas Display Films Co. Ltd., and as a prism film, for example, HD74U manufactured by Korea SKC Haas Display Films Co. Ltd., SPX2 manufactured by Suntech Opto Corporation, As SPX3, SPX6, and lenticular sheet, for example, LS-200Y manufactured by FUJIFILM (China) Investment Co., Ltd. can be used. The material of the substrate is preferably plastic, and examples thereof include polyester such as polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate, acrylic resin, epoxy resin, polyurethane, polyamide, polyolefin, cellulose derivative, and silicone.

これらの基材をそのまま用いてもよく、凹凸面の凹部の一部を埋めることで凹凸形状を所望の形状に調整して用いてもよく熱可塑性樹脂で凹凸面が構成されている基材の場合は加熱により凹凸形状を所望の形状に調整して用いてもよい。凹凸面の凹部の一部を埋める方法としては、例えば樹脂の塗布や金属材料の蒸着などを適用できるが、これらに限定されない。
貼合後に上記基材を液晶組成物から剥離する場合には、上記基材の凹凸表面を予め離型処理しておいてもよい。離型処理の方法としては、例えばフッ素系ポリマーやシリコーン樹脂を、塗布やプラズマ処理により凹凸表面に積層する方法を適用できるが、これらに限定されない。
These base materials may be used as they are, or may be used by adjusting the concave / convex shape to a desired shape by filling a part of the concave portion of the concave / convex surface. In such a case, the uneven shape may be adjusted to a desired shape by heating. As a method for filling a part of the concave portion of the concave and convex surface, for example, application of resin or vapor deposition of a metal material can be applied, but is not limited thereto.
When peeling the said base material from a liquid crystal composition after bonding, the uneven | corrugated surface of the said base material may release-process previously. As a release treatment method, for example, a method of laminating a fluorine-based polymer or a silicone resin on an uneven surface by coating or plasma treatment can be applied, but the method is not limited thereto.

(オーバーコート層)
オーバーコート層としては、例えば、紫外線硬化モノマーを含む組成物を円偏光反射層表面に塗布後、それを硬化して設けられる層が挙げられる。
(Overcoat layer)
Examples of the overcoat layer include a layer provided by applying a composition containing an ultraviolet curable monomer to the surface of the circularly polarized light reflection layer and then curing it.

紫外線硬化モノマーの例としては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニルベンゼンおよびその誘導体(例、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例、メチレンビスアクリルアミド)およびメタクリルアミド、エポキシモノマー(ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ジメチロールプロパンジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、およびペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル)等が挙げられる。紫外線硬化モノマーは2種以上の混合物であってもよい。   Examples of UV curable monomers include esters of polyhydric alcohols and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexane diacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate), penta Erythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate), vinylbenzene and its derivatives (eg, 1,4-divinylbenzene). Zen, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloyl ethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinyl sulfone (eg, divinyl sulfone), acrylamide (eg, methylenebisacrylamide) and methacrylamide, epoxy monomer (diethylene glycol diglycidyl ether) Hexanediol diglycidyl ether, dimethylolpropane diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, and pentaerythritol tetraglycidyl ether). The ultraviolet curable monomer may be a mixture of two or more.

(粘着層または接着層とプラスチックフィルムとの組み合わせ)
粘着剤または接着剤によりプラスチックフィルムを円偏光反射層表面に粘接着することによっても凹凸平坦化層を形成することができる。プラスチックフィルムは両面が平坦面であっても、上記基材として例示したような凹凸を有するものであってもよい。
プラスチックフィルムの例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)などのポリエステル、ポリカーボネート、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリオレフィン、セルロース誘導体、シリコーンなどが挙げられる。
また、粘着剤または接着剤としては特に限定はないが、粘着剤としてはアクリル系、シリコーン系、ウレタン系、接着剤としては天然ゴム系、デンプン系、アクリル系、ウレタン系、酢酸ビニル系、塩化ビニル系、シリコーン系、エポキシ系、イソシアネート系などが挙げられる。2種以上の粘着剤、または2種以上の接着剤を混合して用いてもよく、粘着剤粘着剤および接着剤を混合して用いてもよい。接着層(接着剤)としては、後述の光学部材の各層の接着のための接着層と同様の接着層を用いてもよい。
(Adhesive layer or combination of adhesive layer and plastic film)
The uneven flattening layer can also be formed by sticking a plastic film to the surface of the circularly polarized light reflecting layer with an adhesive or an adhesive. Even if both sides are flat surfaces, the plastic film may have irregularities as exemplified as the base material.
Examples of the plastic film include polyester such as polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate, acrylic resin, epoxy resin, polyurethane, polyamide, polyolefin, cellulose derivative, and silicone.
The pressure-sensitive adhesive or adhesive is not particularly limited, but the pressure-sensitive adhesive is acrylic, silicone, urethane, and the adhesive is natural rubber, starch, acrylic, urethane, vinyl acetate, chloride. A vinyl type, a silicone type, an epoxy type, an isocyanate type, etc. are mentioned. Two or more kinds of pressure-sensitive adhesives, or two or more kinds of adhesives may be mixed and used, or a pressure-sensitive adhesive pressure-sensitive adhesive and an adhesive may be mixed and used. As the adhesive layer (adhesive), an adhesive layer similar to the adhesive layer for adhering each layer of the optical member described later may be used.

[支持体]
支持体は可視光領域で透明で円偏光反射層との屈折率差が小さいことが好ましい。屈折率差は0.1以下であることが好ましく、0.05以下であることがより好ましく、0.02以下であることがさらに好ましい。さらに円偏光反射層が螺旋のセンスが右であるコレステリック液晶層または螺旋のセンスが左であるコレステリック液晶層のいずれか一方のみを含む場合は、支持体は低複屈折性であることが好ましい。
可視光領域で透明で低複屈折性の基材の例としては、無機ガラスや高分子樹脂が挙げられる。
高分子樹脂素材の具体例としては、アクリル樹脂(ポリメチル(メタ)アクリレートなどのアクリル酸エステル類など)、ポリカーボネート、シクロペンタジエン系ポリオレフィンやノルボルネン系ポリオレフィンなどの環状ポリオレフィン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、ポリスチレンなどの芳香族ビニルポリマー類、ポリアリレート、セルロースアシレートを挙げることができる。
支持体の厚みは5μm〜1000μm程度であればよく、好ましくは10μm〜250μmであり、より好ましくは15μm〜90μmである。
[Support]
The support is preferably transparent in the visible light region and has a small refractive index difference from the circularly polarized reflective layer. The difference in refractive index is preferably 0.1 or less, more preferably 0.05 or less, and further preferably 0.02 or less. Further, when the circularly polarized light reflection layer includes only one of a cholesteric liquid crystal layer having a spiral sense on the right and a cholesteric liquid crystal layer having a spiral sense on the left, the support preferably has low birefringence.
Examples of the transparent and low birefringent base material in the visible light region include inorganic glass and polymer resin.
Specific examples of polymer resin materials include acrylic resins (acrylic esters such as polymethyl (meth) acrylate), polycarbonate, cyclic polyolefins such as cyclopentadiene polyolefin and norbornene polyolefin, polyolefins such as polypropylene, polystyrene, etc. And aromatic vinyl polymers, polyarylate, and cellulose acylate.
The thickness of the support may be about 5 μm to 1000 μm, preferably 10 μm to 250 μm, and more preferably 15 μm to 90 μm.

<光学部材>
本発明の反射材は、光学部材の構成部材として用いることができる。
光学部材はさらに情報提示層を含む。光学部材はフィルム状またはシート状であればよい。
光学部材の層構成としては、情報提示層、弾性有機層、円偏光反射層がこの順に配置された構成、あるいは情報提示層、円偏光反射層、弾性有機層がこの順に配置された構成が好ましい。
<Optical member>
The reflective material of the present invention can be used as a constituent member of an optical member.
The optical member further includes an information presentation layer. The optical member may be in the form of a film or a sheet.
As the layer configuration of the optical member, a configuration in which the information presentation layer, the elastic organic layer, and the circularly polarized reflective layer are arranged in this order, or a configuration in which the information presentation layer, the circularly polarized reflective layer, and the elastic organic layer are arranged in this order is preferable. .

[情報提示層]
情報提示層は上記反射波長の光を吸収または反射する材料のパターンを有する。すなわち、情報提示層は赤外線を吸収または反射する材料のパターンを有する。パターンは情報提示層の全体にあっても、一部にあってもよい。上記反射波長の光を吸収または反射する材料は、例えば反射材表面にインクジェット法などにより塗布、印刷され、パターンを形成していてもよい。または、例えば、基材表面に一様に塗布されたあと、赤外線レーザーなどを用いて、0.5〜3000μmの単位で印字蒸発され、パターンを形成していてもよい。後者の方法については、例えば特開2011−152652号公報の記載を参照できる。
[Information presentation layer]
The information presentation layer has a pattern of a material that absorbs or reflects light having the reflection wavelength. That is, the information presentation layer has a pattern of a material that absorbs or reflects infrared rays. The pattern may be in the entire information presentation layer or in part. The material that absorbs or reflects the light having the reflection wavelength may be applied and printed on the surface of the reflective material by, for example, an ink jet method to form a pattern. Alternatively, for example, after being uniformly applied to the substrate surface, the pattern may be formed by printing and evaporation in units of 0.5 to 3000 μm using an infrared laser or the like. Regarding the latter method, for example, the description of JP-A-2011-152652 can be referred to.

パターンは一部領域を選択したときに、少なくとも情報提示層における上記選択された一部領域の位置もしくは座標情報を与えうる模様であればよい。選択される一部は、例えば赤外線を出射する光源と赤外線を感知するセンサーとを有するペン型の撮像素子で撮影できる単位であればよい。パターンの例としては、特開2014−98943号公報の段落0123〜0152で説明されるドットパターンなどが挙げられる。   The pattern may be a pattern that can give at least the position or coordinate information of the selected partial region in the information presentation layer when the partial region is selected. The part to be selected may be a unit that can be photographed by a pen-type imaging device having, for example, a light source that emits infrared rays and a sensor that senses infrared rays. Examples of the pattern include a dot pattern described in paragraphs 0123 to 0152 of JP 2014-98943 A.

(赤外線を吸収または反射する材料)
赤外線を吸収または反射する材料としては、例えば、カーボンインク、無機物イオン(銅、鉄、イッテルビウムなどの金属類)を含有するインク、フタロシアニン色素、ジオチール化合物色素、スクアリウム色素、クロコニウム色素、ニッケル錯体色素などの有機色素、そのほか公知の赤外線吸収色素、公知の赤外線反射性粒子等を用いることができる。赤外線を吸収または反射する材料は可視光波長領域において、反射または吸収を有していないことが好ましい。
(Material that absorbs or reflects infrared rays)
Examples of materials that absorb or reflect infrared rays include carbon inks, inks containing inorganic ions (copper, iron, ytterbium and other metals), phthalocyanine dyes, dioctyl compound dyes, squalium dyes, croconium dyes, nickel complex dyes, etc. Other known organic dyes, other known infrared absorbing dyes, known infrared reflective particles, and the like can be used. The material that absorbs or reflects infrared rays preferably has no reflection or absorption in the visible wavelength region.

(接着層)
本発明の光学部材は、各層の接着のための接着層を含んでいてもよい。本発明の反射材が接着層を含んでいてもよい。接着層は接着剤から形成されるものであればよい。
(Adhesive layer)
The optical member of the present invention may include an adhesive layer for bonding the layers. The reflective material of the present invention may include an adhesive layer. The adhesive layer may be formed from an adhesive.

接着剤としては硬化方式の観点からホットメルトタイプ、熱硬化タイプ、光硬化タイプ、反応硬化タイプ、硬化の不要な感圧接着タイプがあり、それぞれ素材としてアクリレート系、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、エポキシ系、エポキシアクリレート系、ポリオレフィン系、変性オレフィン系、ポリプロピレン系、エチレンビニルアルコール系、塩化ビニル系、クロロプレンゴム系、シアノアクリレート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリスチレン系、ポリビニルブチラール系などの化合物を使用することができる。作業性、生産性の観点から、硬化方式として光硬化タイプが好ましく、光学的な透明性、耐熱性の観点から、素材はアクリレート系、ウレタンアクリレート系、エポキシアクリレート系などを使用することが好ましい。   Adhesives include hot melt type, thermosetting type, photocuring type, reactive curing type, and pressure-sensitive adhesive type that does not require curing, from the viewpoint of curing method, and the materials are acrylate, urethane, urethane acrylate, epoxy , Epoxy acrylate, polyolefin, modified olefin, polypropylene, ethylene vinyl alcohol, vinyl chloride, chloroprene rubber, cyanoacrylate, polyamide, polyimide, polystyrene, polyvinyl butyral, etc. can do. From the viewpoint of workability and productivity, the photocuring type is preferable as the curing method, and from the viewpoint of optical transparency and heat resistance, it is preferable to use an acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate, or the like material.

[光学部材の用途]
本発明の光学部材の用途としては特に限定されないが、例えば、手書き情報をデジタル化して情報処理装置に入力する光学ペンを使用したシステムで用いられる手書き入力シートとして用いることができる。使用の際は光学ペンから照射される赤外線の波長が、反射材が反射を示す波長となるように、コレステリック液晶層の組成を調整して用いられる。具体的にはコレステリック液晶相の螺旋ピッチを上述の方法で調整すればよい。光学部材が手書き入力シートとして用いられる場合は、光学部材の情報提示層側から光照射され、かつ光学部材の情報提示層側から反射光が検知されていればよい。
[Use of optical members]
Although it does not specifically limit as an application of the optical member of this invention, For example, it can use as a handwritten input sheet used with the system using the optical pen which digitizes handwritten information and inputs into information processing apparatus. In use, the composition of the cholesteric liquid crystal layer is adjusted so that the wavelength of infrared rays emitted from the optical pen is the wavelength at which the reflective material shows reflection. Specifically, the spiral pitch of the cholesteric liquid crystal phase may be adjusted by the above method. When the optical member is used as a handwritten input sheet, it is sufficient that light is irradiated from the information presentation layer side of the optical member and reflected light is detected from the information presentation layer side of the optical member.

本発明の光学部材は、例えば、画像表示装置のディスプレイ表面または前方に配置され、手書き入力シートとして用いることができる。図6においては、ディスプレイ6前方に配置された反射材11および情報提示層5を含む光学部材12が示されている。ドットパターン13を有する情報提示層5側から光照射され反射材11で反射される光21が検知できる。   The optical member of the present invention is disposed, for example, on the display surface or in front of the image display device, and can be used as a handwriting input sheet. In FIG. 6, the optical member 12 including the reflecting material 11 and the information presentation layer 5 disposed in front of the display 6 is shown. Light 21 irradiated with light from the information presentation layer 5 side having the dot pattern 13 and reflected by the reflector 11 can be detected.

光学部材はディスプレイ表面に直接、または他のフィルム等を介して接着され、ディスプレイと一体化されていてもよく、例えばディスプレイ表面に脱着可能に装着されてもよい。一体化している場合、本発明の光学部材は、画像表示装置の最前面や保護用の前面板と表示用パネルとの間に配置されていればよい。本発明の光学部材は、ディスプレイ表面側から、反射材、情報提示層側が、この順になるように配置されることが好ましい。ディスプレイは、光学ペンの撮像素子で誤検知がないように、光学部材中の反射材の反射波長域の赤外光を発していないことが好ましい。   The optical member may be bonded directly to the display surface or via another film or the like, and may be integrated with the display. For example, the optical member may be detachably attached to the display surface. When integrated, the optical member of the present invention may be disposed between the forefront of the image display device or the protective front plate and the display panel. The optical member of the present invention is preferably arranged so that the reflective material and the information presentation layer side are in this order from the display surface side. It is preferable that the display does not emit infrared light in the reflection wavelength region of the reflective material in the optical member so that there is no false detection with the image sensor of the optical pen.

手書き情報をデジタル化して情報処理装置に入力する手書き入力システムまたは手書き入力シートを装着した画像表示装置については、特開2014−67398号公報、特開2014−98943号公報、特開2008−165385号公報、特開2008−108236号公報の[0021]〜[0032]、特開2008−077451号公報、または、特許第4725417号公報等を参照できる。   Regarding a handwriting input system that digitizes handwritten information and inputs it to an information processing apparatus or an image display device that is equipped with a handwriting input sheet, JP2014-67398A, JP2014-98943A, JP2008-165385A. [0021] to [0032] of Japanese Patent Laid-Open No. 2008-108236, Japanese Patent Laid-Open No. 2008-077451, or Japanese Patent No. 4725417.

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の実施例に限定されるものではない。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, reagents, amounts and ratios of substances, operations, and the like shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the following examples.

<反射材の作製>
[積層体1の作製]
PETフィルム(東洋紡株式会社製コスモシャインA−4100:厚み75μm)の易接着処理していない面上にラビング処理を施し、表1に示す塗布液A−1あるいはA−2を、ラビング処理面に、乾燥後の乾膜の厚みが4μmになるように室温にて塗布した。塗布層を室温にて1分間乾燥させた後、85℃の雰囲気で2分間加熱し、その後30℃でフュージョン製Dバルブ(ランプ90mW/cm)にて表2に記載のUV照射量となるようにUV出力、照射時間を調整してUV照射を行い、コレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層を形成し積層体1を得た。
<Production of reflective material>
[Production of Laminate 1]
A rubbing treatment is performed on the surface of PET film (Toyobo Co., Ltd. Cosmo Shine A-4100: thickness 75 μm) which has not been subjected to an easy adhesion treatment, and coating liquid A-1 or A-2 shown in Table 1 is applied to the rubbing treatment surface. The film was applied at room temperature so that the dry film thickness after drying was 4 μm. After the coating layer is dried at room temperature for 1 minute, it is heated in an atmosphere at 85 ° C. for 2 minutes, and then at 30 ° C. with a fusion D bulb (lamp 90 mW / cm) so that the UV irradiation amount shown in Table 2 is obtained. The UV output and the irradiation time were adjusted to perform UV irradiation to form a cholesteric liquid crystal layer or a semi-cured cholesteric liquid crystal layer to obtain a laminate 1.

[積層体2の作製]
アクリルフィルム(エスカーボシート社製テクノロイS001G)の上に、表1に示す塗布液B、塗布液C、及びUVP−3000(東亜合成)、または水あめ(日本澱粉工業)を、表2に従い乾膜が20μmになるように室温にて塗布した。塗布層を室温にて1分間乾燥させた後、85℃の雰囲気で2分間加熱し、その後30℃でフュージョン製Dバルブ(ランプ90mW/cm)にてUV照射量が10mJ/cm2となるようにUV出力、照射時間を調整して、UV照射を行い、弾性有機層を形成して積層体2を得た。
[Production of Laminate 2]
On acrylic film (Technoloy S001G manufactured by Escarbo Sheet Co., Ltd.), coating liquid B, coating liquid C, and UVP-3000 (Toagosei) or Mizuame (Nippon Starch Industries) shown in Table 1 are dried according to Table 2. Was applied at room temperature so as to be 20 μm. The coating layer is dried at room temperature for 1 minute, then heated in an atmosphere of 85 ° C. for 2 minutes, and then at 30 ° C. with a fusion D bulb (lamp 90 mW / cm) so that the UV irradiation amount becomes 10 mJ / cm 2. The UV output and the irradiation time were adjusted to perform UV irradiation, and an elastic organic layer was formed to obtain a laminate 2.

[積層体10の作製]
ラミネーター(ハーテックス社製、Bio330)を用いて、上記で作製したコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層および弾性有機層が、向かい合わせになるように配置して上記積層体1および積層体2を積層した後、PETフィルムを剥離し、コレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層、弾性有機層、支持体をこの順に有する積層体10を得た。
[Production of Laminate 10]
Using the laminator (Hartex Bio330), the cholesteric liquid crystal layer or semi-cured cholesteric liquid crystal layer and the elastic organic layer prepared above are arranged so as to face each other, and the laminate 1 and laminate 2 are arranged. After the lamination, the PET film was peeled off to obtain a laminate 10 having a cholesteric liquid crystal layer or semi-cured cholesteric liquid crystal layer, an elastic organic layer, and a support in this order.

[反射材の作製:凹凸形状の形成]
表2に示すとおり、以下の方法1〜4いずれかにより凹凸形状を形成し、反射材を作製した。
(方法1)
上記で得られた積層体10に対し、表に示す基材の凹凸面とコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層とが向かい合うように配置し、クライムプロダクツ社製真空貼合機V−SE6055aaにて、温度60℃、圧力0.3MPa、加圧時間5min.の条件にて貼合し、反射材を得る。
[Fabrication of reflective material: formation of irregular shape]
As shown in Table 2, a concavo-convex shape was formed by any of the following methods 1 to 4, and a reflective material was produced.
(Method 1)
It arrange | positions so that the uneven | corrugated surface of the base material shown to a table | surface and a cholesteric liquid crystal layer or a semi-hardened cholesteric liquid crystal layer may face each other with respect to the laminated body 10 obtained by the above, and it is in Crime Products company vacuum bonding machine V-SE6055aa. , Temperature 60 ° C., pressure 0.3 MPa, pressurization time 5 min. It pastes on the conditions of and obtains a reflecting material.

(方法2)
方法1で得られる反射材に対し、30℃でフュージョン製Dバルブ(ランプ90mW/cm)にてUV照射量が300mJ/cm2となるようにUV出力、照射時間を調整し、UV照射を行い、反射材を得る。
(Method 2)
With respect to the reflective material obtained in Method 1, the UV output and irradiation time are adjusted at 30 ° C. with a fusion D bulb (lamp 90 mW / cm) so that the UV irradiation amount is 300 mJ / cm 2, and UV irradiation is performed. Get a reflector.

(方法3)
上記積層体10のコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層の表面に、塗布液Cを乾膜で1μmになるように室温で塗布した。その後、85℃の雰囲気で2分間加熱し、表に示す基材の凹凸面とコレステリック液晶層または半硬化コレステリック液晶層とが向かい合うように配置し、方法1と同じ方法で真空貼合を行う。得られるサンプルに対し、30℃でフュージョン製Dバルブ(ランプ90mW/cm)にてUV照射量が300mJ/cm2となるようにUV出力、照射時間を調整してUV照射を行い、反射材を得る。
(Method 3)
The coating liquid C was applied to the surface of the cholesteric liquid crystal layer or semi-cured cholesteric liquid crystal layer of the laminate 10 at room temperature so as to have a dry film thickness of 1 μm. Then, it heats for 2 minutes in 85 degreeC atmosphere, arrange | positions so that the uneven | corrugated surface of a base material shown to a table | surface and a cholesteric liquid crystal layer or a semi-hardened cholesteric liquid crystal layer may face each other, and vacuum bonding is performed by the same method as the method 1. The obtained sample is subjected to UV irradiation at 30 ° C. with a fusion D bulb (lamp 90 mW / cm) to adjust the UV output and irradiation time so that the UV irradiation amount is 300 mJ / cm 2. obtain.

(方法4)
方法1で得られる反射材に対し、基材を剥がし、はがした面に対し、塗布液Dを乾膜で20μmになるように常温で塗布する。その後、85℃の雰囲気で2分間加熱し、その後30℃でフュージョン製Dバルブ(ランプ90mW/cm)にてUV照射量が300mJ/cm2となるようにUV出力、照射時間を調整してUV照射を行い、反射材を得る。
(Method 4)
The base material is peeled off from the reflective material obtained by the method 1, and the coating solution D is applied to the peeled surface at room temperature so as to have a dry film thickness of 20 μm. Thereafter, heating is performed in an atmosphere of 85 ° C. for 2 minutes, and then UV output and irradiation time are adjusted at 30 ° C. using a fusion D bulb (lamp 90 mW / cm) so that the UV irradiation amount becomes 300 mJ / cm 2. Irradiate to obtain a reflector.

<反射材の評価>
得られた反射材の評価を以下のように行った。結果を表2に示す。
(貯蔵弾性率)
積層体2の状態で、株式会社タイセー製動的粘弾性測定装置NDS-1000を用いてせん断モード、周波数1Hzおよび昇温速度5℃/分の測定条件下、−20〜100℃の温度範囲にて貯蔵弾性率の測定を行った。
(ヘイズ値)
ヘイズ値は日本電色工業株式会社製のヘイズメーターNDH−2000を用いて測定した。測定の際には、支持体であるアクリルフィルム側から入射光が当たるようにして測定を行った。
<Evaluation of reflective material>
The obtained reflecting material was evaluated as follows. The results are shown in Table 2.
(Storage modulus)
In the state of the laminate 2, using a dynamic viscoelasticity measuring device NDS-1000 manufactured by Taisei Co., Ltd. under a shear mode, a frequency of 1 Hz, and a measurement rate of 5 ° C./minute, within a temperature range of −20 to 100 ° C. The storage modulus was measured.
(Haze value)
The haze value was measured using a haze meter NDH-2000 manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. In the measurement, the measurement was performed so that incident light was applied from the side of the acrylic film as the support.

(45度相対再帰反射率)
紫外可視近赤外分光光度計V-670(日本分光社製)に、絶対反射率測定ユニットARV474S(日本分光株式会社製)を組み合わせて用いて、測定を行った。図4に示すように、サンプル101表面の法線方向に対し45度傾けた位置から入射光をあて、その位置から8度(サンプル表面の法線方向に対し53度)の位置での信号を検出し、これを再帰反射信号強度とした。図4中、検出器103は、紫外可視近赤外分光光度計V-670中の、InGaAs検出器であり、近赤外光を検出できる。入射光は、波長850nmに調整し、測定の際は、支持体であるアクリルフィルム側から入射光が当たるようにした。
(45 degree relative retroreflectivity)
Measurement was performed using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer V-670 (manufactured by JASCO Corporation) in combination with an absolute reflectance measurement unit ARV474S (manufactured by JASCO Corporation). As shown in FIG. 4, incident light is applied from a position inclined 45 degrees with respect to the normal direction of the sample 101 surface, and a signal at a position 8 degrees from the position (53 degrees with respect to the normal direction of the sample surface) is obtained. This was detected and used as the retroreflective signal intensity. In FIG. 4, a detector 103 is an InGaAs detector in the ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer V-670, and can detect near-infrared light. Incident light was adjusted to a wavelength of 850 nm, and in the measurement, the incident light was applied from the acrylic film side as a support.

サンプル位置に標準拡散板(ラブスフィア社製)を設置したときの再帰反射信号強度を100%とし、サンプル位置に上記で作製した各反射フィルムを設置したときの再帰反射強度の割合を、相対再帰反射率として以下の式で算出した。

(相対再帰反射率)=(反射材の再帰反射信号強度)/(標準拡散板の再帰反射信号強度)×100
また、レンチキュラーを用いた実施例1〜3については凹凸形状の稜線方向に対して垂直方向から測定を行った。
The retroreflective signal intensity when a standard diffuser (manufactured by Labsphere) is installed at the sample position is 100%, and the ratio of the retroreflective intensity when each of the reflection films prepared above is installed at the sample position is a relative recursion. The reflectance was calculated by the following formula.

(Relative retroreflectivity) = (Retroreflective signal strength of reflector) / (Retroreflected signal strength of standard diffuser) x 100
Moreover, about Examples 1-3 using a lenticular, it measured from the perpendicular | vertical direction with respect to the uneven | corrugated shaped ridgeline direction.

図5に実施例1の反射材の断面を走査型電子顕微鏡(SEM)撮影(株式会社日立ハイテクノロジーズ製超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡 S-5500)した写真を示す。円偏光反射層はコレステリック液晶層中のピッチが積層状に観測されている部分である。円偏光反射層が凹凸形状を示し、弾性有機層の片側表面がその形状に相補的な凹凸面を有し、他方の面が平坦であることがわかる。実施例2〜8の反射材についても同様にSEM撮影を行い、それぞれ、実施例1の反射材と同様に、円偏光反射層が凹凸形状を示し、弾性有機層の片側表面がその形状に相補的な凹凸面を有し他方の面が平坦であることを確認した。   FIG. 5 shows a photograph of the cross section of the reflective material of Example 1 taken with a scanning electron microscope (SEM) (ultra high resolution field emission scanning electron microscope S-5500 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). The circularly polarized light reflection layer is a portion where the pitch in the cholesteric liquid crystal layer is observed in a laminated form. It can be seen that the circularly polarized light reflection layer has an uneven shape, one surface of the elastic organic layer has an uneven surface complementary to the shape, and the other surface is flat. Similarly, the SEM imaging was performed for the reflective materials of Examples 2 to 8, and the circularly polarized reflective layer showed an uneven shape, and the one-side surface of the elastic organic layer was complementary to the shape, similarly to the reflective material of Example 1. As a result, it was confirmed that the other surface was flat.

<光学部材の作製:情報提示層の形成>
上記で作製した反射材の凹凸平坦化層の平面側に、カーボンインキを塗布した。塗布面にYVO4レーザー(波長1064nm)ビーム径10μmの赤外光を照射して、予めデザインしたドットパターンを印字蒸発にて形成した。すなわち、デザインしたドットパターンに従って、カーボンインキを除去した。
<Production of optical member: formation of information presentation layer>
Carbon ink was applied to the flat side of the uneven flattening layer of the reflective material prepared above. The coated surface was irradiated with infrared light having a YVO 4 laser (wavelength: 1064 nm) beam diameter of 10 μm, and a predesigned dot pattern was formed by printing evaporation. That is, the carbon ink was removed according to the designed dot pattern.

1 円偏光反射層
2 弾性有機層
3 凹凸平坦化層
4 支持体
5 情報提示層
6 ディスプレイ
11 反射材
12 光学部材
13 ドットパターン
21 光
101 サンプル
102 ミラー
103 検出器
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Circularly polarized light reflection layer 2 Elastic organic layer 3 Concavity and convexity flattening layer 4 Support body 5 Information presentation layer 6 Display 11 Reflector 12 Optical member 13 Dot pattern 21 Light 101 Sample 102 Mirror 103 Detector

Claims (19)

反射材と情報提示層とを含む光学部材であって、
前記反射材が円偏光反射層および弾性有機層を含み、
前記円偏光反射層はコレステリック液晶相を固定した層を含み、
前記円偏光反射層は凹凸形状を有し、
前記弾性有機層は、一方の面が前記円偏光反射層に直接接しており、他方の面が平坦面であり、
前記円偏光反射層が、前記凹凸形状として、前記円偏光反射層の面内方向の1つにおいて向きが互いに反対である傾斜1および傾斜2を交互に有し、傾斜1は、1μm以上500μm以下で繰り返されており、傾斜1と前記平坦面とがなす角度の最大値が10度以上60度以下であり、傾斜2と前記平坦面とがなす角度の最大値が10度以上60度以下であり、
前記弾性有機層の前記円偏光反射層に直接接している面は、前記円偏光反射層の前記弾性有機層側の面と相補的な凹凸形状を有し、
前記反射材がさらに凹凸平坦化層を含み、
前記凹凸平坦化層、前記円偏光反射層および前記弾性有機層がこの順であり、
前記凹凸平坦化層が前記円偏光反射層の凹凸面に直接接しており、
前記情報提示層は、前記反射材が反射する光を吸収または反射する材料のパターンを有し、
前記反射材が赤外線波長域の光を反射する、前記光学部材。
An optical member including a reflective material and an information presentation layer,
The reflector includes a circularly polarized reflective layer and an elastic organic layer;
The circularly polarized light reflection layer includes a layer in which a cholesteric liquid crystal phase is fixed,
The circularly polarized light reflection layer has an uneven shape,
The elastic organic layer has one surface directly in contact with the circularly polarized light reflecting layer, and the other surface is a flat surface,
The circularly polarized light reflecting layer alternately has a slope 1 and a slope 2 whose directions are opposite to each other in one of the in-plane directions of the circularly polarized light reflecting layer, and the slope 1 is 1 μm or more and 500 μm or less. The maximum value of the angle formed by the inclination 1 and the flat surface is 10 degrees or more and 60 degrees or less, and the maximum value of the angle formed by the inclination 2 and the flat surface is 10 degrees or more and 60 degrees or less. Yes,
The surface of the elastic organic layer that is in direct contact with the circularly polarized reflective layer has a concavo-convex shape complementary to the surface of the circularly polarized reflective layer on the elastic organic layer side,
The reflective material further includes an uneven planarization layer;
The uneven flattening layer, the circularly polarized light reflecting layer and the elastic organic layer are in this order,
The uneven planarizing layer is in direct contact with the uneven surface of the circularly polarized light reflecting layer;
The information presentation layer has a pattern of a material that absorbs or reflects light reflected by the reflective material,
The optical member , wherein the reflective material reflects light in an infrared wavelength region .
前記凹凸平坦化層がマイクロレンズフィルムである請求項1に記載の光学部材。 The optical member according to claim 1 , wherein the uneven flattening layer is a microlens film. 前記凹凸平坦化層がプリズムフィルムまたはレンチキュラーシートである請求項1に記載の光学部材。 The optical member according to claim 1 , wherein the uneven flattening layer is a prism film or a lenticular sheet. 前記弾性有機層の平坦面側に支持体を含む請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学部材。 The optical member as described in any one of Claims 1-3 which contains a support body in the flat surface side of the said elastic organic layer. 前記弾性有機層が紫外線硬化性の接着層である請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学部材。The optical member according to claim 1, wherein the elastic organic layer is an ultraviolet curable adhesive layer. ヘイズ値が50%以下である請求項1〜5のいずれか一項に記載の光学部材。 The optical member according to claim 1 , having a haze value of 50% or less. 前記パターンがドットパターンである請求項1〜6のいずれか一項に記載の光学部材。 The optical member according to claim 1 , wherein the pattern is a dot pattern. 前記パターンが印刷により施されたものである請求項1〜7のいずれか一項に記載の光学部材。 The optical member according to any one of claims 1 to 7, wherein the pattern is formed by printing. 請求項1〜8のいずれか一項に記載の光学部材を有するディスプレイ。 A display comprising the optical member according to claim 1 . 請求項9に記載のディスプレイを有する画像表示装置。 An image display apparatus comprising the display according to claim 9 . 請求項1〜8のいずれか一項に記載の光学部材の製造方法であって、
弾性有機層およびコレステリック液晶層を含む積層体10を用意すること、
積層体10の前記コレステリック液晶層側の面に凹凸面を有する基材の凹凸面を貼合して、前記弾性有機層に凹凸面を形成すると同時に、前記基材の凹凸面と前記弾性有機層の凹凸面との間で前記コレステリック液晶層を凹凸形状とすることを含み、
前記積層体10の前記コレステリック液晶層が重合性液晶化合物を含む液晶組成物を硬化または半硬化した層である製造方法。
It is a manufacturing method of the optical member according to any one of claims 1 to 8 ,
Preparing a laminate 10 comprising an elastic organic layer and a cholesteric liquid crystal layer;
The uneven surface of the substrate having an uneven surface is bonded to the surface of the laminate 10 on the cholesteric liquid crystal layer side to form the uneven surface on the elastic organic layer, and at the same time, the uneven surface of the substrate and the elastic organic layer Including making the cholesteric liquid crystal layer concavo-convex between the concavo-convex surface of
The manufacturing method in which the cholesteric liquid crystal layer of the laminate 10 is a layer obtained by curing or semi-curing a liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound.
前記貼合が真空貼合である請求項11に記載の製造方法。 The manufacturing method according to claim 11 , wherein the bonding is vacuum bonding. 前記貼合が40℃〜110℃で行なわれる請求項11または12に記載の製造方法。 The manufacturing method of Claim 11 or 12 with which the said bonding is performed at 40 to 110 degreeC. 前記コレステリック液晶層が前記重合性液晶化合物を含む液晶組成物を半硬化した層であって、かつ前記凹凸形状の形成の後に、積層体10を加熱または光照射することを含む請求項11〜13のいずれか一項に記載の製造方法。 Wherein a layer cholesteric liquid crystal layer was semi-cured liquid crystal composition containing the polymerizable liquid crystal compound, and after formation of the irregularities, claims 11 to 13 comprising heating or light irradiation laminate 10 The manufacturing method as described in any one of these . 前記光が紫外線であって、前記光照射が100mJ/cm2以上で行われる請求項14に記載の製造方法。 The manufacturing method according to claim 14 , wherein the light is ultraviolet light, and the light irradiation is performed at 100 mJ / cm 2 or more. 前記コレステリック液晶層の表面に弾性有機層形成材料を塗布して前記弾性有機層を形成することを含む請求項11〜15のいずれか一項に記載の製造方法。 The manufacturing method as described in any one of Claims 11-15 including apply | coating an elastic organic layer forming material to the surface of the said cholesteric liquid crystal layer, and forming the said elastic organic layer. 積層体10が支持体、前記弾性有機層、および前記コレステリック液晶層を含み、
積層体10の前記用意が、仮支持体および前記コレステリック液晶層を含む積層体1と支持体および弾性有機層を含む積層体2とを、前記コレステリック液晶層と前記弾性有機層面とが接触するように積層すること、ならびに
前記積層後前記仮支持体を剥離すること
を含む方法により行われる請求項11〜15のいずれか一項に記載の製造方法。
The laminate 10 includes a support, the elastic organic layer, and the cholesteric liquid crystal layer,
The preparation of the laminate 10 is such that the laminate 1 including the temporary support and the cholesteric liquid crystal layer and the laminate 2 including the support and the elastic organic layer are brought into contact with the cholesteric liquid crystal layer and the elastic organic layer surface. The manufacturing method as described in any one of Claims 11-15 performed by the method including laminating | stacking on the said and peeling the said temporary support body after the said lamination | stacking.
前記積層体2の前記弾性有機層の貯蔵弾性率が30℃で103〜106Paである請求項17に記載の製造方法。 The manufacturing method according to claim 17 , wherein the elastic modulus of the elastic organic layer of the laminate 2 is 10 3 to 10 6 Pa at 30 ° C. 前記仮支持体の表面に前記重合性液晶化合物を含む液晶組成物を塗布すること、および
前記液晶組成物に50mJ/cm2以下の紫外線照射を行うことにより前記コレステリック液晶層を形成することを含む請求項17または18に記載の製造方法。
Coating the liquid crystal composition containing the polymerizable liquid crystal compound on the surface of the temporary support, and forming the cholesteric liquid crystal layer by irradiating the liquid crystal composition with ultraviolet rays of 50 mJ / cm 2 or less. The manufacturing method according to claim 17 or 18 .
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