JP6609998B2 - Light irradiation apparatus and light irradiation method - Google Patents
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Description
本発明は、ワークステージ上のワークに光を照射する光照射装置および光照射方法に関する。 The present invention relates to a light irradiation apparatus and a light irradiation method for irradiating a work on a work stage with light.
近年、液晶パネルをはじめとする液晶表示素子の配向膜や、視野角補償フィルムの配向層などの配向処理に関し、所定の波長の偏光光を照射して配向を行う、光配向と呼ばれる技術が採用されている。
光配向に用いる光照射装置は、光照射領域の幅に相当する長さを有する線状の光源と、当該光源からの光を偏光する偏光素子とを備え、光源の長手方向に対して直交する方向に搬送されるワークに対して偏光光を照射する。
このような光照射装置として、例えば特許文献1に記載の技術がある。この技術は、2つのステージが灯具の下を往復しあう、所謂ツインステージ方式を採用したものである。このように、2つのステージを交互に照射領域に移動して、ステージ上のワークにそれぞれ光を照射することで、ステージを1つしか備えていない場合と比較してタクトタイムを削減することができる。
In recent years, a technique called photo-alignment has been adopted in which alignment is performed by irradiating polarized light of a predetermined wavelength with respect to alignment processing of alignment films for liquid crystal display elements such as liquid crystal panels and alignment layers for viewing angle compensation films. Has been.
The light irradiation device used for photo-alignment includes a linear light source having a length corresponding to the width of the light irradiation region, and a polarizing element that polarizes light from the light source, and is orthogonal to the longitudinal direction of the light source. Irradiate polarized light to the workpiece conveyed in the direction.
As such a light irradiation apparatus, there exists a technique of patent document 1, for example. This technique employs a so-called twin stage system in which two stages reciprocate under a lamp. In this way, by moving the two stages to the irradiation region alternately and irradiating the work on the stage with light, the tact time can be reduced compared to the case where only one stage is provided. it can.
光配向処理は、テレビ画面用の液晶パネルのような大型の基板のみならず、スマートフォン用など中小型の液晶ディスプレイにも展開されてきている。しかしながら、このような中小型の基板に対しては、従前の装置は設置占有面積(フットプリント)が過大である。
そこで、本発明は、フットプリントあたりの処理効率を向上させることができる光照射装置および光照射方法を提供することを課題としている。
Photo-alignment processing has been developed not only for large substrates such as liquid crystal panels for television screens, but also for small and medium liquid crystal displays such as for smartphones. However, the installation area (footprint) of the conventional apparatus is excessive for such small and medium substrates.
Then, this invention makes it the subject to provide the light irradiation apparatus and light irradiation method which can improve the processing efficiency per footprint.
上記課題を解決するために、本発明に係る光照射装置の一態様は、予め設定された照射領域を通過するワークに偏光光を照射する光照射装置であって、前記照射領域を通る搬送軸が延在する第一方向に直交する第二方向に離間して並設され、前記第一方向及び前記第二方向を含む平面と平行に、ワークがそれぞれ載置される載置面を有する複数のステージと、前記複数のステージを、前記第一方向に個別に移動できないように共通して固定し、前記複数のステージを、前記搬送軸上における前記照射領域外に設定された待機領域から前記照射領域へ向けて、同時に移動させる第一の移動機構と、前記複数のステージにそれぞれ個別に設けられ、前記複数のステージを、前記載置面に対して直交する軸回りに個別に回転する回転機構と、を備える。
これにより、複数のワークを同時に光照射処理することができる。また、ツインステージ方式の光照射装置と比較して、X方向のフットプリントを小さくすることができる。したがって、フットプリントあたりの処理効率を向上し、生産性を向上させることができる。
In order to solve the above-described problem, an aspect of the light irradiation apparatus according to the present invention is a light irradiation apparatus that irradiates polarized light onto a workpiece that passes through a preset irradiation region, and a conveyance axis that passes through the irradiation region. And a plurality of mounting surfaces on which workpieces are respectively placed in parallel to a plane including the first direction and the second direction, spaced apart from each other in a second direction orthogonal to the extending first direction. The stage and the plurality of stages are fixed in common so that they cannot be individually moved in the first direction, and the plurality of stages are moved from the standby area set outside the irradiation area on the transport axis. A first moving mechanism that moves simultaneously toward the irradiation region, and a rotation that is individually provided on each of the plurality of stages, and that individually rotates the plurality of stages around an axis orthogonal to the placement surface. And a mechanism .
Thereby, a several workpiece | work can be light-irradiated simultaneously. Further, the footprint in the X direction can be reduced as compared with a twin-stage type light irradiation device. Therefore, the processing efficiency per footprint can be improved and productivity can be improved.
また、上記の光照射装置において、前記第二方向は、前記偏光光を照射する線状光源の延在する方向であってもよい。これにより、フットプリントを増大することなく処理効率を向上させることができる。
さらに、上記の光照射装置において、前記待機領域の前記第二方向における一方の側に、前記待機領域にある前記複数のステージに対して前記第二方向から前記ワークを搬入及び搬出するための搬送領域をさらに備えてもよい。このように、第一方向における待機領域と搬送領域との位置を同位置とするので、ワークがロードされた位置からすぐに光照射処理の開始動作を行ったり、光照射処理を終えた位置からすぐにワークのアンロードを開始したりすることができる。また、第二方向からワークを搬入及び搬出するので、第一方向のフットプリントの増大を抑制することができる。
In the light irradiation apparatus, the second direction may be a direction in which a linear light source that irradiates the polarized light extends. Thereby, the processing efficiency can be improved without increasing the footprint.
Furthermore, in said light irradiation apparatus, the conveyance for carrying in and carrying out the said workpiece | work from said 2nd direction with respect to said several stage in said waiting area to one side in said 2nd direction of said waiting area An area may be further provided. In this way, since the positions of the standby area and the conveyance area in the first direction are the same position, the light irradiation process starts immediately from the position where the workpiece is loaded, or from the position where the light irradiation process is completed. You can start unloading the workpiece immediately. Moreover, since the work is carried in and out from the second direction, an increase in the footprint in the first direction can be suppressed.
また、上記の光照射装置において、前記複数のステージに共通して設けられ、前記複数のステージを、前記第二方向に同時に移動する第二の移動機構をさらに備えてもよい。これにより、複数のステージが個別に移動することに起因するステージ同士の接触を回避することができる。
さらに、上記の光照射装置において、前記待機領域の前記第二方向における一方の側に、前記待機領域にある前記複数のステージに対して前記第二方向から前記ワークを搬入及び搬出するための搬送領域をさらに備え、前記第二の移動機構は、前記ワークを搬入及び搬出するとき、前記複数のステージを前記第二方向に同時に移動し、当該複数のステージを前記搬送領域に移動してもよい。これにより、外部の搬送装置からワークの受け渡しを行う場合には、複数のステージを搬送装置に近づけることができる。したがって、ワークの交換処理を迅速且つ安定して行うことができる。
The light irradiation apparatus may further include a second moving mechanism that is provided in common to the plurality of stages and moves the plurality of stages simultaneously in the second direction. Thereby, the contact of the stages resulting from a several stage moving individually can be avoided.
Furthermore, in said light irradiation apparatus, the conveyance for carrying in and carrying out the said workpiece | work from said 2nd direction with respect to said several stage in said waiting area to one side in said 2nd direction of said waiting area The second moving mechanism may further move the plurality of stages simultaneously in the second direction and move the plurality of stages to the transfer region when loading and unloading the workpiece. . Thereby, when delivering a workpiece | work from an external conveying apparatus, a some stage can be closely approached to a conveying apparatus. Therefore, the workpiece replacement process can be performed quickly and stably.
また、上記の光照射装置において、前記複数のステージにそれぞれ個別に設けられ、前記複数のステージを、前記第二方向に個別に移動する第二の移動機構をさらに備えてもよい。これにより、第二方向における複数のステージのステージ間距離を調整することができる。
さらに、上記の光照射装置において、前記待機領域は、前記搬送軸上における前記照射領域に近接した位置に設定されていてもよい。これにより、第一方向におけるフットプリントをさらに小さくすることができる。また、照射領域外のワークの搬送時間を短縮することができ、タクトタイムを短縮することができる。
The light irradiation apparatus may further include a second moving mechanism that is individually provided on each of the plurality of stages and moves the plurality of stages individually in the second direction. Thereby, the distance between the stages of the plurality of stages in the second direction can be adjusted.
Further, in the light irradiation apparatus, the standby area may be set at a position close to the irradiation area on the transport axis. Thereby, the footprint in the first direction can be further reduced. Moreover, the conveyance time of the workpiece | work outside an irradiation area | region can be shortened, and a tact time can be shortened.
また、上記の光照射装置において、前記搬送軸上を移動可能であり、前記照射領域において前記偏光光を測定する偏光測定部をさらに備え、前記待機領域は、前記照射領域と前記偏光測定部の前記偏光光の非測定時における退避領域との間に設定されていてもよい。
このように、偏光測定部を備えることで、偏光光の偏光軸が所望の偏光軸となっているか否かを確認することができる。また、偏光光の非測定時には偏光測定部を光照射処理の影響のない位置に退避することができる。
The light irradiation apparatus may further include a polarization measuring unit that is movable on the transport axis and measures the polarized light in the irradiation region, and the standby region includes the irradiation region and the polarization measuring unit. It may be set between the retracted area when the polarized light is not measured.
As described above, by providing the polarization measuring unit, it is possible to confirm whether or not the polarization axis of the polarized light is a desired polarization axis. In addition, when the polarized light is not measured, the polarization measuring unit can be retracted to a position that is not affected by the light irradiation process.
さらに、上記の光照射装置において、前記複数のステージに対応してそれぞれ設けられ、当該複数のステージ上の前記ワークに設けられたアライメントマークをそれぞれ検出する複数のアライメントマーク検出部をさらに備えてもよい。これにより、各ステージ上に載置されるワークに対して、それぞれアライメント処理を実施することができる。各ステージは回転機構により個別に回転可能であるため、アライメント処理により各ワークをそれぞれ所望の向きに修正することができる。
また、上記の光照射装置において、前記アライメントマーク検出部は、前記第一方向および前記第二方向の少なくとも一方の方向に並んで配置され、前記ワークに設けられた少なくとも一対のアライメントマークを検出する少なくとも一対の検出器を備えてもよい。これにより、各ステージ上に載置されるワークの向きを、第一方向や第二方向を基準として適切に修正することができる。
さらに、上記の光照射装置において、前記複数のステージに載置された複数のワークに対して、前記待機領域から前記照射領域へ向かう往路移動と、前記照射領域から前記待機領域へ向かう復路移動の双方で前記偏光光を照射してもよい。これにより、エネルギーの無駄無く光照射処理を行うことができる。
Furthermore, the light irradiation apparatus may further include a plurality of alignment mark detection units that are provided corresponding to the plurality of stages and that respectively detect alignment marks provided on the workpiece on the plurality of stages. Good. Thereby, an alignment process can be performed on each workpiece placed on each stage. Since each stage can be individually rotated by a rotation mechanism, each workpiece can be corrected to a desired direction by an alignment process.
In the light irradiation apparatus, the alignment mark detection unit is arranged side by side in at least one of the first direction and the second direction, and detects at least a pair of alignment marks provided on the workpiece. At least a pair of detectors may be provided. Thereby, the direction of the workpiece placed on each stage can be appropriately corrected based on the first direction and the second direction.
Further, in the above light irradiation apparatus, the forward movement from the standby area to the irradiation area and the backward movement from the irradiation area to the standby area for a plurality of works placed on the plurality of stages. You may irradiate the said polarized light by both. Thereby, a light irradiation process can be performed without wasting energy.
本発明の光照射装置では、第二方向に離間して並設され、第一方向に同時に往復移動可能な複数のステージを備え、これら複数のステージ上にそれぞれ載置されたワークに同時に偏光光を照射する。したがって、フットプリントあたりの処理効率を向上させることができる。また、複数のステージは、それぞれ個別に回転可能であるため、適切に光配向処理を行うことができる。 The light irradiation apparatus of the present invention includes a plurality of stages that are arranged side by side in the second direction and can reciprocate simultaneously in the first direction, and polarized light is simultaneously applied to the workpieces respectively placed on the plurality of stages. Irradiate. Therefore, the processing efficiency per footprint can be improved. Further, since the plurality of stages can be individually rotated, the optical alignment process can be appropriately performed.
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
(第一の実施形態)
図1は、本実施形態の偏光光照射装置100を示す概略構成図である。
偏光光照射装置100は、光照射部10A及び10Bと、ワークWを搬送する搬送部20とを備える。ここで、ワークWは、光配向膜が形成された、例えば液晶パネルの大きさに整形された矩形状の基板である。本実施形態におけるワークWは、例えばスマートフォン用や産業用モニタ、医療用モニタ、車載用モニタなど、中小型の液晶ディスプレイに用いる基板である。
偏光光照射装置100は、光照射部10A及び10Bから所定の波長の偏光光(偏光した光)を照射しながら、搬送部20によってワークWを直線移動させ、ワークWの光配向膜に上記偏光光を照射して光配向処理をする。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
(First embodiment)
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a polarized
The polarized
The polarized
光照射部10A及び10Bは、線状の光源であるランプ11と、ランプ11の光を反射するミラー12とをそれぞれ備える。また、光照射部10A及び10Bは、その光出射側に配置された偏光子ユニット13をそれぞれ備える。さらに、光出射部10A及び10Bは、ランプ11、ミラー12及び偏光子ユニット13を収容するランプハウス14をそれぞれ備える。
光照射部10A及び光照射部10Bは、ランプ11の長手方向をワークWの搬送方向(第一方向:X方向)に直交する方向(第二方向:Y方向)に一致させた状態で、ワークWの搬送方向(X方向)に沿って並設されている。なお、図1では、灯具(光照射部)を2灯としているが、1灯でもよいし3灯以上でもよい。
Each of the
The
以下、光照射部10A及び10Bの具体的構成について説明する。
ランプ11は長尺状のいわゆるロングアーク放電ランプであり、その発光部が、ワークWの搬送方向に直交する方向の幅に対応する長さを有する。このランプ11は、例えば、高圧水銀ランプや、水銀に他の金属とハロゲンとを加えたメタルハライドランプ、水銀以外の金属とハロゲンとが封入されたメタルハライドランプ等の放電ランプであり、封入発光種に応じて波長200nm〜400nmの紫外光を放射する。
光配向膜の材料としては、波長254nmの光で配向されるもの、波長313nmの光で配向されるもの、波長365nmの光で配向されるものなどが知られており、光源の種類は必要とされる波長に応じて適宜選択する。
なお、光源としては、紫外光を放射するLEDやLDを直線状に並べて配置した線状光源を用いることもできる。その場合、LEDやLDを並べる方向がランプの長手方向に相当する。
Hereinafter, specific configurations of the
The
As materials for the photo-alignment film, those that are aligned by light having a wavelength of 254 nm, those that are aligned by light having a wavelength of 313 nm, and materials that are aligned by light having a wavelength of 365 nm are known. It selects suitably according to the wavelength to be performed.
As the light source, a linear light source in which LEDs or LDs that emit ultraviolet light are arranged in a straight line can be used. In that case, the direction in which the LEDs and LDs are arranged corresponds to the longitudinal direction of the lamp.
ミラー12は、ランプ11からの放射光を所定の方向に反射するものであり、その断面が楕円形または放物線状の樋状集光鏡である。ミラー12は、その長手方向がランプ11の長手方向と一致するように配置されている。
ランプハウス14は、その底面に、ランプ11からの放射光およびミラー12による反射光が通過する光出射口を有する。偏光子ユニット13は、ランプハウス14の光出射口に取り付けられ、当該光出射口を通過する光を偏光する。
偏光子ユニット13は、複数の偏光子をランプ11の長手方向に沿って並んで配置した構成を有する。これら複数の偏光子は、例えばフレーム等により支持されている。
偏光子は、例えば、ワイヤーグリッド型偏光素子であり、偏光子の個数は、偏光光を照射する領域の大きさに合わせて適宜選択する。なお、各偏光子は、それぞれ透過軸が同一方向を向くように配置されている。
The
The
The polarizer unit 13 has a configuration in which a plurality of polarizers are arranged side by side along the longitudinal direction of the
The polarizer is, for example, a wire grid type polarizing element, and the number of polarizers is appropriately selected according to the size of the region where the polarized light is irradiated. Each polarizer is arranged such that the transmission axis faces the same direction.
搬送部20は、ワークWがそれぞれ載置される第一のステージ21A及び第二のステージ21Bを備える。これら2つのステージ21A,21Bは、真空吸着等の方法によりワークWを吸着保持可能な平板状のステージであり、XY平面と平行に、ワークWが載置される載置面を有する。なお、本実施形態では、各ステージ21A,21B及びワークWを矩形状としているが、これに限定するものではなく、任意の形状とすることができる。また、ワークWを平板状のステージで吸着保持する構成としているが、これに限定するものではなく、複数のピンによってワークWを吸着保持する構成であってもよい。
The
また、搬送部20は、ステージ21A及び21BをX方向に移動するためのX方向駆動機構22と、ステージ21A及び21BをY方向に移動するためのY方向駆動機構23とを備える。
X方向駆動機構22は、X方向に沿って延びる2本のガイド22Aと、X方向駆動機構22を一例として構成する電磁石22Bとを備える。本実施形態では、X方向駆動機構22として、例えば、リニアモータステージを採用する。リニアモータステージは、碁盤目状、若しくは線路状に強磁性体の凸極が設けられた平面状のプラテンの上の移動体に磁力を印加して、移動体とプラテンの凸極との間の磁力を変化させることにより、当該移動体を移動する機構である。なお、X方向駆動機構22としては、例えばボールねじを用いた機構を採用することもできる。
In addition, the
The
Y方向駆動機構23は、例えば、Y方向に延在しX方向駆動機構22上に固定されたガイド23Aと、当該ガイド23Aに沿ってY方向に往復移動可能なスライダ部23Bとを備える。ステージ21A及び21Bは、後述するθ回転機構(図1においては不図示)を介してスライダ部23Bの上面に固定されている。第一のステージ21Aと第二のステージ21Bとは、Y方向に一定距離だけ離間した状態で並んで配置される。
このように、ステージ21A及び21Bは、搬送軸であるガイド22Aに沿って同時にX方向に往復移動可能であると共に、ガイド23Aに沿って同時にY方向に往復移動可能に構成されている。なお、X方向駆動機構23及びY方向駆動機構24の構成は、図1に示す構成に限定されるものではなく、ステージ21A及び21BをX方向及びY方向にそれぞれ移動可能な構成であれば任意の構成を採用することができる。
The Y-
As described above, the
図2は、搬送部20の概略構成を示す側面図である。この図2は、搬送部20をX方向から見た図である。このように、ステージ21A及び21Bは、共通のX方向駆動機構22に固定されている。また、ステージ21A及び21Bは、共通のY方向駆動機構23に、それぞれθ回転機構24A及び24Bを介して固定されている。θ回転機構24Aは、第一のステージ21Aをθ方向(Z軸回り)に回転可能であり、θ回転機構24Bは、第二のステージ21Bをθ方向(Z軸回り)に回転可能である。以上の構成により、ステージ21A及び21Bは、Y方向に並設された状態で同時にX方向及びY方向に移動可能であると共に、それぞれ個別にθ方向に回転可能となる。X方向駆動機構22、Y方向駆動機構23及びθ回転機構24A及び24Bは、それぞれ制御部25によって制御される。
FIG. 2 is a side view illustrating a schematic configuration of the
ステージ21A及び21Bの移動経路は、光照射部10A及び10Bの真下を通るように設計されている。搬送部20は、ワークWを光照射部10A及び10Bによる偏光光の照射領域に搬送し、且つその照射領域を通過させるように構成されている。さらに、搬送部20は、ワークWが照射領域を完全に通過した後、当該ワークWを折り返し、再び当該照射領域を通過させるように構成されている。この往路移動と復路移動の双方で、ワークWの光配向膜が光配向処理される。
The moving paths of the
また、偏光光照射装置100は、図1に示すように、光照射部10A及び10Bから照射される偏光光の偏光軸(光照射面における偏光光の軸)を測定するための偏光測定器30を備える。偏光測定器30は、搬送部20とほぼ同様の構成によりX方向及びY方向に搬送可能である。偏光測定器30は、偏光光を測定する際に、所定の退避位置からガイド22Aに沿って光照射部10A及び10Bによる偏光光の照射領域に搬送される。そして、偏光測定器30は、当該照射領域にある状態で、Y方向(偏光子ユニット13A及び13Bの偏光子の配列方向)に移動しながら各偏光子の直下で偏光軸を測定する。
Further, as shown in FIG. 1, the polarized
図3は、ステージ21A及び21Bの移動区間について説明する図である。
偏光光照射装置100は、図1に示す各部を収容する筐体51を備える。筐体51には、Y方向における側壁に、ワークWを偏光光照射装置100に対して搬入および搬出するための搬送口52が形成されている。ワークWの搬入および搬出は、偏光光照射装置100の外部に配置された搬送ロボット(搬送装置)200によって行われる。搬送ロボット200は、Y方向に移動可能な搬送アーム201を備える。搬送アーム201は、ステージ21A及び21Bに光照射処理前のワークWを搭載したり、ステージ21A及び21Bから光照射処理後のワークWを回収したりする。また、搬送アーム201は、ステージ21A及び21Bとの間でワークWの受け渡しが可能な構成を有する。
FIG. 3 is a diagram for explaining the moving section of the
The polarized
ステージ21A及び21Bは、X方向において、光照射部10A及び10Bによる偏光光の照射領域(有効照射領域)15の一方の側に設定されたワーク待機位置(待機領域)53から、照射領域15の他方の側に設定された折り返し位置54までの区間を往復移動可能である。ここで、ステージ21A及び21Bがワーク待機位置53から折り返し位置54へ向かう移動を往路移動、折り返し位置54からワーク待機位置53へ向かう移動を復路移動とする。また、ワーク待機位置53とは、ワークWの交換作業及びアライメント作業を行う位置であり、折り返し位置54とは、ステージ21A及び21Bの往路移動から復路移動への切替位置である。
The
ワーク待機位置53は、ステージ21A及び21Bがθ方向の回転移動によりいずれの姿勢となっていても、ステージ21A及び21B上のワークWに対し、光照射部10Aからの偏光光が照射しない程度に光照射部10Aに近接した位置に設定されている。同様に、折り返し位置54は、ステージ21A及び21Bがθ方向の回転移動によりいずれの姿勢となっていても、ステージ21A及び21B上のワークWに対し、光照射部10Bからの偏光光が照射しない程度に光照射部10Bに近接した位置に設定されている。さらに、ワーク待機位置53は、図3に示す偏光測定器30の退避位置(退避領域)55と、照射領域15との間に設定されている。
また、搬送口52のX方向位置は、ワーク待機位置53のX方向位置と同等の位置に設定されている。すなわち、ワーク待機位置53のY方向における一方の側に、ワーク待機位置53にある複数のステージ21A及び21Bに対してワークWの搬入及び搬出を行うための搬送領域が設けられている。
The
Further, the X direction position of the
ワーク待機位置53における第一のステージ21Aの上方には、第一のステージ21A上のワークWのアライメント作業を行うための一対のアライメントカメラ41が設けられている。また、ワーク待機位置53における第二のステージ21Bの上方には、第二のステージ21B上のワークWのアライメント作業を行うための一対のアライメントカメラ42が設けられている。
ワークWには、それぞれワークWのアライメント完了位置を規定するための一対のアライメントマークが設けられており、一対のアライメントカメラは、一対のアライメントマークを各々1つずつ検出する。本実施形態では、一対のアライメントカメラ41及び42を、それぞれX方向に平行な軸上に並べて配置する。そして、アライメントマークの検出位置に基づいて、一対のアライメントマークがX方向に平行な軸上に並ぶように、ステージ21A及び21Bをθ方向に回転移動するアライメント処理を実施する。すなわち、本実施形態では、一対のアライメントマークがX方向に平行な軸上に並ぶときのワークWの位置(θ角度)を、アライメント完了位置とする。
Above the first stage 21 </ b> A at the
The workpiece W is provided with a pair of alignment marks for defining the alignment completion position of the workpiece W, and the pair of alignment cameras detect the pair of alignment marks one by one. In the present embodiment, the pair of
ステージ21A及び21Bは、それぞれ一点鎖線で示す円43内において、θ方向に回転移動可能であり、ステージ21A及び21B上にそれぞれ載置されたワークWは、ステージ21A及び21Bと共にθ方向に回転移動可能である。なお、ステージ21A及び21Bは、θ方向の回転移動によりいずれの姿勢となっていても、ステージ21A,21B若しくはワークWが互いに干渉しない程度にY方向に離間して配置するものとする。ここで、ステージ21A及び21BのY方向における離間距離は、ステージ21A及び21Bに対するワークWの載置誤差を考慮して設定することが好ましい。
なお、アライメントカメラは、1枚のワークWに対して少なくとも一対(2個)設けられていればよく、設置台数は上記に限定されない。また、一対のアライメントカメラを並べる方向は、アライメント完了位置における一対のアライメントマークの方向に応じて適宜設定可能である。すなわち、一対のアライメントマークがY方向に平行な軸上に並ぶようにアライメント処理する場合には、一対のアライメントカメラをY方向に平行な軸上に並べて設置する。
Each of the
In addition, the alignment camera should just be provided with at least 1 pair (2 pieces) with respect to the one workpiece | work W, and the number of installation is not limited above. In addition, the direction in which the pair of alignment cameras are arranged can be appropriately set according to the direction of the pair of alignment marks at the alignment completion position. That is, when the alignment process is performed so that the pair of alignment marks are arranged on an axis parallel to the Y direction, the pair of alignment cameras are arranged side by side on an axis parallel to the Y direction.
ステージ21A及び21Bの基本動作は、以下のとおりである。
ステージ21A及び21Bは、ワーク待機位置53において、ワークWの交換処理及びアライメント処理が行われる。アライメント完了後、ステージ21A及び21Bは、θ回転機構24A及び24Bによってそれぞれ予め設定された光照射角度まで回転移動される。これにより、ワークWの向きを偏光光の偏光軸に対して所定の向きにする。
その後、ステージ21A及び21Bは、照射領域15へ向けて同時に往路移動を開始する。そして、照射領域15を通過して折り返し位置54に到達すると、同時に復路移動を開始し、ワーク待機位置53まで引き返す。このワーク待機位置53では、再びワークWの交換処理及びアライメント処理が行われ、アライメント完了後、ステージ21A及び21Bは、再び照射領域15へ向けて同時に往路移動を開始する。この動作を繰り返す。
図2に示す制御部25は、上記のステージ動作を実現するよう搬送部20の各部を制御する。
なお、上記において、X方向駆動機構22が第一の移動機構に対応し、Y方向駆動機構23が第二の移動機構に対応し、θ回転機構24A及び24Bが回転機構に対応している。また、アライメントカメラ41及び42がアライメントマーク検出部に対応している。
The basic operation of the
The stages 21 </ b> A and 21 </ b> B are subjected to workpiece W replacement processing and alignment processing at the
Thereafter, the stages 21 </ b> A and 21 </ b> B simultaneously start the outward movement toward the
The
In the above description, the
以下、本実施形態の動作について、詳細に説明する。
図4は、偏光光照射装置100の動作を示すフローチャートである。
先ずステップS1で、制御部25は、Y方向駆動機構23を駆動制御し、ステージ21A及び21Bを、図5に示すワーク待機位置に位置している状態から搬送口52へ向けて移動する。そして、搬送ロボット200によりワークWを搬入する。このとき、搬送ロボット200は、図5に示すように、2枚のワークWを保持した搬送アーム201をY方向に移動して、搬送口52から筐体51内へ挿入する。そして、例えば図6に示す位置で、搬送アーム201からステージ21A及び21BにワークWを受け渡す。これにより、ワークWは、それぞれステージ21A及び21Bに吸着保持される。
Hereinafter, the operation of this embodiment will be described in detail.
FIG. 4 is a flowchart showing the operation of the polarized
First, in step S1, the
なお、例えば、搬送アーム201の長さが十分にあり、搬送アーム201がステージ21A及び21Bのワーク待機位置まで侵入可能な構成である場合には、ワークWの受け渡しに際し、ステージ21A及び21BはY方向に移動しなくてもよい。ただし、この場合、数メートルの長さを有する搬送アーム201が必要になる。また、この場合、搬送アーム201の先端部においてワークWを保持した片持ち梁状となるため、ワークWの保持が不安定となり、ワークWの搬送精度が低下するおそれがある。
そのため、図5に示すように、ステージ21A及び21BをY方向に移動して搬送アーム201に近づけ、ワークWの受け渡しを行うことが好ましい。このような構成とすることで、ワークWを安定して受け渡すことができると共に、ワークWの交換作業に要する時間を短縮することができる。
For example, when the
Therefore, as shown in FIG. 5, it is preferable to move the stages 21 </ b> A and 21 </ b> B in the Y direction so as to approach the
なお、本実施形態では、搬送ロボット200は、ワークWを2枚同時に搬送し、2枚同時にステージ21A及び21Bに載置可能な構成としている。しかしながら、これに限定するものではなく、搬送ロボット200はワークWを1枚ずつ搬送し、1枚ずつワークステージに載置する構成であってもよい。ただし、複数枚のワークWを同時に搬送載置可能な構成である方が、ワークWの交換作業に要する時間が短縮されるため好ましい。
搬送アーム201からステージ21A及び21BへのワークWの受け渡しが完了すると、次に図4のステップS2において、搬送ロボット200は、図7に示すように搬送アーム201をY方向に移動して、搬送口52から筐体51外へ退避させる。このとき、同時に制御部25は、Y方向駆動機構23を駆動制御し、ステージ21A及び21Bを、図7に示すようにワーク待機位置へ戻す。
In the present embodiment, the
When the delivery of the workpiece W from the
次にステップS3では、アライメントカメラ41及び42によって、ワークWにそれぞれ設けられたアライメントマークを検出する。図8に示すように、搬送ロボット200によるワークWの搬送精度によっては、ワークWをステージ上に載置した際にワークWごとに異なるずれが生じる場合がある。図7に示すアライメントカメラ41及び42は、これらのずれの状況を把握する。アライメントカメラ41は、図8の領域44内において、第一のステージ21Aに載置されたワークWのアライメントマークAMを検出する。また、アライメントカメラ42は、図8の領域45内において、第二のステージ21Bに載置されたワークWのアライメントマークAMを検出する。
Next, in step S3, alignment marks provided on the workpiece W are detected by the
アライメントカメラ41及び42によってアライメントマークAMを検出したら、次に図4のステップS4において、制御部25はアライメント処理を行う。具体的には、制御部25は、X方向駆動機構22、Y方向駆動機構23、θ回転機構24A及び24Bを個別に駆動制御し、各ワークWの一対のアライメントマークAMがそれぞれX方向に並び、且つ各アライメントマークAMがそれぞれ領域44及び45の中央位置にできるだけ近づくように、ステージ21A及び21BをX,Y,θ方向にそれぞれ移動する。
When the alignment mark AM is detected by the
なお、X方向駆動機構22及びY方向駆動機構23は、それぞれ2つのステージ21A及び21Bで共通であり、第一のステージ21Aと第二のステージ21BとはX方向及びY方向に個別に移動できない構成である。したがって、各アライメントマークAMの位置は、それぞれ領域44及び45の中央位置に完全に一致しなくてもよい。すなわち、X方向及びY方向におけるステージ間隔は調整不要である。さらに、光配向処理においては、少なくともθ回転方向のアライメント処理のみを行えばよく、X方向及びY方向のアライメント処理は省略可能である。
The
アライメント処理が完了すると、図4のステップS5において、制御部25はθ回転機構24A及び24Bを駆動制御し、図9に示すように、ワークWをアライメント完了位置から予め設定された光照射角度だけ回転する。ここで、ワークWの光照射角度は、ワークWごとにそれぞれ異なる場合もある。例えば、液晶パネルを構成するTFT(Thin Film Transistor)基板とCF(Color Filter)基板とを、第一のステージ21Aと第二のステージ21Bとにそれぞれ載置して光照射処理する場合、光照射角度はTFT基板とCF基板とで異なる角度となる。例えばTFT基板の回転角度が−10°であるならば、CF基板の回転角度は+10°のように、正負の符号が逆の関係となる。このように、偏光光照射装置100は、TFT基板とCF基板など、種類の異なるワークWを両方同時に光照射処理してもよい。
When the alignment process is completed, in step S5 in FIG. 4, the
ワークWをそれぞれ光照射角度となるよう回転移動すると、ステージ21A及び21Bは往路移動を開始する準備が整った状態となる。すると、図4のステップS6において、制御部25はX方向駆動機構23を駆動制御し、ワークWの光照射処理を行うべくステージ21A及び21BをX方向に同時に移動する。先ず、制御部25は、ステージ21A及び21Bを、図9に示すワーク待機位置から図10に示す折り返し位置へ向けて往路移動する。このとき、照射領域15の通過の過程でワークWが光照射処理される。ステージ21A及び21Bが折り返し位置に到達すると、制御部25は、ステージ21A及び21Bを図10に示す折り返し位置から図11に示すワーク待機位置へ向けて復路移動する。この復路移動においても、照射領域15の通過の過程でワークWが光照射処理される。
When the workpiece W is rotated and moved so as to have the light irradiation angle, the
上記の往復露光に際し、制御部25は、照射領域15内と照射領域15外とでステージ21A及び21Bの移動速度を異なる速度に制御してもよい。例えば、ステージ21A及び21Bを、照射領域15外は比較的高速な第一の移動速度(例えば、最大移動速度)で移動し、照射領域15内は第一の移動速度よりも低速な第二の移動速度で移動するように制御してもよい。ここで、第二の移動速度は、予め設定された所定の露光量が得られる程度の速度に設定する。このように、照射領域15外を照射領域15内よりも高速で移動するようステージ移動速度を制御することで、タクトタイムを短縮することができる。
ワークWの光照射処理が完了し、ステージ21A及び21Bがワーク待機位置へ戻ると、図4のステップS7において、制御部25はθ回転機構24A及び24Bを駆動制御し、ステージ21A及び21BをワークWのアライメント完了位置まで回転する。すなわち、制御部25は、図12に示すように、上記のステップS5においてステージ21A及び21Bを回転移動した分だけ、ステージ21A及び21Bを逆回転する。
During the above-described reciprocal exposure, the
When the light irradiation process of the workpiece W is completed and the
次に図4のステップS8では、搬送ロボット200により光照射処理後のワークWを搬出する。ここでは、上記のステップS1におけるワークWの搬入と逆の動作を行えばよい。すなわち、先ず制御部25は、Y方向駆動機構23を駆動制御し、光照射処理後のワークWをそれぞれ載置したステージ21A及び21Bを搬送口52へ向けて移動する。搬送ロボット200は、ワークWを保持していない搬送アーム201をY方向に移動して、搬送口52から筐体51内へ挿入する。そして、例えば図6に示す位置で、ステージ21A及び21Bから搬送アーム201にワークWを受け渡す。ワークWの受け渡しが完了したら、搬送ロボット200は、搬送アーム201を搬送口52から筐体51外へ退避させる。これにより、光照射処理後のワークWは筐体51外に搬出される。
Next, in step S <b> 8 in FIG. 4, the work W after the light irradiation process is carried out by the
次にステップS9では、制御部25は、光照射処理を終了するか否かを判定し、光照射処理を継続すると判定した場合にはステップS1に戻り、光照射処理を終了すると判定した場合には、そのまま動作を終了する。
以上のように、本実施形態における偏光光照射装置100は、Y方向に離間して並設され、X方向に同時に往復移動可能な2つのワークステージ(第一のステージ21A及び第二のステージ21B)を備え、2つのワークステージ上にそれぞれ載置された基板(ワークW)に同時に偏光光を照射する。ここで、2つのワークステージは、それぞれ個別にθ回転可能に構成されている。
Next, in step S9, the
As described above, the polarized
近年、光配向膜は、それが使用されるテレビ画面用の液晶パネルの大型化と共に大型化している。そのため、偏光光の照射領域の幅は、1500mm以上と幅広化している。一方で、光配向処理はテレビ画面用のみならず、スマートフォン用など中小型の液晶ディスプレイにも展開されてきており、様々な種類、寸法の液晶ディスプレイの生産が期待されている。
そうなると、基板自体の寸法が従前よりも小型である場合が多く発生し、従前の装置では設置占有面積、いわゆるフットプリントが過大である。また、2つのステージが灯具の直下を往復しあう、所謂ツインステージ方式を採用した構造であると、ステージが搬送されるX方向のフットプリントが大きい。とはいえ、単に従前の装置を小型化すればよいというものではなく、中小型液晶ディスプレイ用の様々な寸法の基板を効率良く処理する必要がある。
In recent years, the photo-alignment film has been enlarged along with the enlargement of the liquid crystal panel for television screens in which it is used. Therefore, the width of the irradiation region of the polarized light is widened to 1500 mm or more. On the other hand, photo-alignment processing has been developed not only for television screens but also for small and medium-sized liquid crystal displays such as smartphones, and production of liquid crystal displays of various types and dimensions is expected.
In that case, the size of the substrate itself is often smaller than before, and the installation occupation area, so-called footprint, is excessive in the conventional apparatus. Further, when the so-called twin stage system is adopted in which the two stages reciprocate directly under the lamp, the footprint in the X direction in which the stage is conveyed is large. However, it is not just a matter of downsizing a conventional device, and it is necessary to efficiently process substrates of various sizes for small and medium-sized liquid crystal displays.
本実施形態における偏光光照射装置100は、上述した構成により、ツインステージ方式の偏光光照射装置と比較して、X方向のフットプリントを小さくすることができる。また、ツインステージ方式の偏光光照射装置と比較してタクトタイムを削減し、生産性を向上させることができる。このように、偏光光照射装置100は、フットプリントの最小化と、中小型ディスプレイの効率の良い生産とを実現することができる。以下、この点について説明する。
図13は、ツインステージ方式の偏光光照射装置と、本実施形態における偏光光照射装置100とのフットプリントを比較した図である。図13(a)に示すように、ツインステージ方式の偏光光照射装置1000は、筐体1051内に、第一のワーク待機位置1053、第一の折り返し位置1054、偏光測定器30の退避位置1055、第二のワーク待機位置1056、及び第二の折り返し位置1057が設けられている。
The polarized
FIG. 13 is a diagram comparing the footprints of the twin-stage polarized light irradiation device and the polarized
この偏光光照射装置1000は、第一のワーク待機位置1053と第一の折り返し位置1054との間を往復移動可能な第一のステージ1021Aと、第二のワーク待機位置1056と第二の折り返し位置1057との間を往復移動可能な第二のステージ1021Bと、を備える。そして、偏光光照射装置1000は、第一のステージ1021Aと第二のステージ1021Bとを交互に光照射部10A及び10Bの直下に移動して、ステージ上のワークに光を照射する。さらに、筐体1051には、ステージ1021Aに対してワークを搬入及び搬出するための搬送口1052Aと、ステージ1021Bに対してワークを搬入及び搬出するための搬送口1052Bとが形成されている。
The polarized
これに対して、本実施形態における偏光光照射装置100は、図13(b)に示すように、筐体51内に、ワーク待機位置53、折り返し位置54、及び偏光測定器30の退避位置55のみが設けられている。すなわち、図13(a)に示す偏光光照射装置1000と比較すると、第二のワーク待機位置1056と、第二の折り返し位置1056とに相当する領域が不要になる。また、第二のステージ1021Bに対してワークの搬入及び搬出を行うための搬送口1052Bも不要になる。このように、図13(b)に示す偏光光照射装置100は、図13(a)に示すツインステージ方式の偏光光照射装置1000と比較して、X方向のフットプリントを大幅に小さくすることができる。
On the other hand, as shown in FIG. 13B, the polarized
また、光照射部10A及び10Bのランプ11として用いる放電ランプは、その構成上、長手方向(Y方向)における両端部で照度低下が生じる。そのため、Y方向での照度が均一な有効照射領域を確保するためには、光照射部10A及び10BのY方向の長さが必要である。つまり、光照射処理の対象となるワークのサイズが小さくても、光照射部10A及び10Bの長さは短くすることができない。すなわち、図13(a)に示す偏光光照射装置1000と、図13(b)に示す偏光光照射装置100とでは、Y方向のフットプリントに差はない。
Further, the discharge lamp used as the
本実施形態における偏光光照射装置100は、複数のステージを線状光源であるランプ11の延在する方向(Y方向)に並設するので、ツインステージ方式の偏光光照射装置と比較して、フットプリントあたりの処理効率を向上させることができる。特に、ワークWが中小型ディスプレイ用の基板である場合など、灯具の長手方向の長さの半分以下のサイズのワークWに対して光照射処理を行う場合に有効である。また、偏光光照射装置100は、X方向のフットプリントを小さくすることができるため、例えば工場などへの搬入作業等を容易に行うことができる。
Since the polarized
図14は、方式の異なる偏光光照射装置における処理タクト(タクトタイム)の比較結果である。この図14において、直線Wθは、本実施形態における偏光光照射装置100、直線Sは、1つのステージが灯具の直下を往復するシングルステージ方式の偏光光照射装置、折れ線Tは、2つのステージが灯具の直下を往復するツインステージ方式の偏光光照射装置のタクトタイムを示す。図14の横軸は、照射領域におけるワーク1枚あたりの露光量であり、当該露光量が多いほど照射時間が長い、即ち照射領域内を通過するときのステージ速度が遅いことを示している。また、図14の縦軸はタクトタイム(全体の処理時間)である。
この図14からも明らかなように、本実施形態における偏光光照射装置100(Wθ)は、2つのステージをY方向に並設しているため、シングルステージ方式の偏光光照射装置(S)と比較して、単純にタクトタイムを半減することができる。また、本実施形態における偏光光照射装置100(Wθ)は、ツインステージ方式の偏光光照射装置(T)と比較しても、タクトタイムを短縮できることがわかる。
FIG. 14 is a comparison result of processing tact (tact time) in polarized light irradiation apparatuses of different methods. In FIG. 14, a straight line Wθ is a polarized
As is clear from FIG. 14, the polarized light irradiation apparatus 100 (Wθ) in this embodiment has two stages arranged in parallel in the Y direction, so that it is different from the single-stage polarized light irradiation apparatus (S). In comparison, the tact time can be simply halved. Further, it can be seen that the polarized light irradiation apparatus 100 (Wθ) in this embodiment can shorten the tact time as compared with the twin-stage polarized light irradiation apparatus (T).
ツインステージ方式の偏光光照射装置(T)においては、露光量が比較的少ない(照射時間が比較的短い)場合、偏光光照射装置100(Wθ)と同等のタクトタイムを実現することができる。しかしながら、変曲点Pを境にして、露光量が多くなるほど(照射時間が長くなるほど)、ツインステージ方式の偏光光照射装置(T)の処理タクトは、偏光光照射装置100(Wθ)のタクトタイムよりも長くなる。この変曲点Pは、照射時間とワークの搬送時間とが等しくなる点である。なお、上記搬送時間は、ワークが照射領域外を搬送される時間であり、搬送ロボットによるワークの搬送時間(ステージへの搭載時間)、アライメント処理時間、ワーク待機位置から照射領域に入るまでの時間、照射領域を出てワーク待機位置に戻るまでの時間などを含む。 In the twin stage type polarized light irradiation apparatus (T), when the exposure amount is relatively small (irradiation time is relatively short), a tact time equivalent to that of the polarized light irradiation apparatus 100 (Wθ) can be realized. However, with the inflection point P as a boundary, as the exposure amount increases (the irradiation time becomes longer), the processing tact of the twin stage type polarized light irradiation apparatus (T) is the tact of the polarized light irradiation apparatus 100 (Wθ). It becomes longer than time. This inflection point P is a point at which the irradiation time and the workpiece transfer time become equal. Note that the transfer time is the time during which the workpiece is transferred outside the irradiation area, the transfer time of the work by the transfer robot (mounting time on the stage), the alignment processing time, and the time from the workpiece standby position to the irradiation area. , And the time until it returns from the irradiation area to the workpiece standby position.
このように、ツインステージ方式の偏光光照射装置(T)では、露光量が多いほど(照射時間が長いほど)、次のワークの照射待ち時間が長くなるため、全体のタクトタイムが長くなる。したがって、特に照射領域におけるワーク1枚あたりの露光量が多い場合には、本実施形態における偏光光照射装置100は、ツインステージ方式の偏光光照射装置(T)よりも全体のタクトタイムを短縮することができる。
また、本実施形態の偏光光照射装置100においては、第一のステージ21Aと第二のステージ21Bとは、それぞれ独立してθ回転制御可能である。仮に、面積の広い1つのワークステージに複数のワークWを載置する構成であると、θ回転によってワークステージの中央位置を中心に複数のワークWが回転することになるため、ワークWのXY位置がずれてしまう。本実施形態のように、複数のワークWをそれぞれ独立してワークステージに載置し、それぞれ独立してθ回転可能な構成とすることで、XY位置をずらすことなくワークWを所望の角度にセットすることができる。したがって、ワークWの向きを偏光光の偏光軸に対して適正な向きにセットすることができ、光配向処理を適切に行うことができる。
As described above, in the twin stage type polarized light irradiation apparatus (T), the larger the exposure amount (the longer the irradiation time), the longer the irradiation waiting time for the next workpiece, and the longer the tact time. Therefore, particularly when the exposure amount per workpiece in the irradiation area is large, the polarized
In the polarized
さらに、第一のステージ21Aと第二のステージ21Bとは、共通のY方向駆動機構23によって同時にY方向へ移動する構成である。仮に、2つのワークステージが独立にY方向に移動可能な構成であると、例えばアライメント処理中のY方向移動によりステージ同士が接触するおそれがある。また、複数のワークステージにそれぞれY方向駆動機構を設けると、その分スペースが多く必要になる。本実施形態のように、複数のワークステージを共通の土台(Y方向駆動機構23)の上に設けることで、上記のようなステージ同士の接触を回避することができる。
また、第一のステージ21Aと第二のステージ21Bとの間のY方向の離間距離は、θ方向の回転移動によりいずれの姿勢となっていても、ステージ同士が接触しない距離に設定する。したがって、アライメント処理中のθ回転によりステージ同士が接触することを防止することができる。
Further, the
Further, the separation distance in the Y direction between the
さらに、ワークWは、ワーク待機位置53に位置しているステージ21A及び21Bに対してY方向から搬入及び搬出する。これにより、ワークWがロードされた位置からすぐに光照射処理の開始動作を行ったり、光照射処理を終えた位置からすぐにワークWのアンロードを開始したりすることができる。
また、ワークWの搬入及び搬出に際し、ステージ21A及び21BをY方向に同時に移動し、ステージ21A及び21Bを搬送ロボット200の搬送アーム201に近づける。したがって、ワーク交換処理時間を短縮することができる。
さらに、ワーク待機位置53を照射領域15に近接した位置に設定するので、ワークWがロードされた後、光照射処理の開始動作をしてからワークWが照射領域15に入るまでの時間を最小限とすることができる。したがって、全体のタクトタイムを短縮することができる。
Further, the workpiece W is carried in and out from the Y direction with respect to the
Further, when loading and unloading the workpiece W, the
Furthermore, since the
また、ワーク待機位置53を偏光測定器30の退避位置55と照射領域15との間に設定する。このように、偏光測定部を光照射処理の影響のない位置に退避させて、光照射処理を実施することができる。さらに、ワーク待機位置53のステージ21A及び21Bに対してY方向からワークWを搬入及び搬出するので、上記のようにワーク待機位置53のX方向両側に偏光測定器30と照射領域15とが存在していても、ワークWの交換処理を適切に行うことができる。
また、ステージ21A及び21Bには、それぞれアライメントカメラ41及び42が対応して設けられている。したがって、ステージ21A及び21B上の各ワークWのアライメント処理を適切に行うことができる。さらに、アライメントカメラ41及び42は、X方向及びY方向の少なくとも一方の方向に並んだ一対のアライメントカメラである。したがって、ステージ21A及び21B上にそれぞれ載置されるワークWの向きを、X方向やY方向を基準として適切に修正することができる。
Further, the
In addition,
(変形例)
上記実施形態においては、第一のステージ21Aと第二のステージ21Bとで共通のY方向駆動機構23を設ける場合について説明したが、第一のステージ21Aと第二のステージ21BとにそれぞれY方向駆動機構を設けてもよい。この場合、第一のステージ21Aと第二のステージ21Bとは、個別にY方向に移動可能となる。そのため、例えば、図9に示すアライメント処理が完了した後、図15に示すようにステージ21A及び21Bを接近(または接触)させ、光照射処理を行ってもよい。これにより、放電ランプ11のY方向の長さを短くすることができ、装置のY方向におけるフットプリントを小さくすることができる。
(Modification)
In the above embodiment, the case where the first Y-
また、上記実施形態においては、Y方向に2つのワークステージを配置する場合について説明したが、3つ以上のワークステージを配置してもよい。ワークステージの数は、灯具のY方向の長さや搬送ロボット200によるワークWの搬送能力に応じて設定する。
さらに、上記実施形態においては、ワークWに対して、往路移動と復路移動の双方において偏光光を照射する場合について説明したが、片方のみで偏光光を照射するようにしてもよい。ただし、この場合、ワークWを載置したステージを往路移動して照射領域15を通過させた後、その位置でワークWを搬出する必要があり、ロード用の搬送ロボットとアンロード用の搬送ロボットとが2台必要になる。また、この場合、ワークWをアンロードした後、ステージがワークWを載置していない状態でロード位置(ワーク待機位置)まで戻ることになり、非効率である。したがって、ワークWに対して往路移動と復路移動の双方において偏光光を照射する方が好ましい。
Moreover, in the said embodiment, although the case where two work stages were arrange | positioned in the Y direction was demonstrated, you may arrange | position three or more work stages. The number of work stages is set according to the length of the lamp in the Y direction and the transfer capability of the work W by the
Further, in the above embodiment, the case where the workpiece W is irradiated with the polarized light in both the forward movement and the backward movement has been described. However, the polarized light may be irradiated with only one of the workpieces. However, in this case, it is necessary to move the stage on which the workpiece W is placed on the way and pass through the
10A,10B…光照射部、11…放電ランプ、12…ミラー、13…偏光子ユニット、14…ランプハウス、15…照射領域、20…搬送部、21A…第一のステージ、21B…第二のステージ、22…X方向駆動機構、22A…ガイド、22B…電磁石、23…Y方向駆動機構、24A,24B…θ移動機構、25…制御部、30…偏光測定器、41,42…アライメントカメラ、51…筐体、52…搬送口、53…ワーク待機位置、54…折り返し位置、55…退避位置、100…偏光光照射装置
DESCRIPTION OF
Claims (12)
前記照射領域を通る搬送軸が延在する第一方向に直交する第二方向に離間して並設され、前記第一方向及び前記第二方向を含む平面と平行に、ワークがそれぞれ載置される載置面を有する複数のステージと、
前記複数のステージを、前記第一方向に個別に移動できないように共通して固定し、前記複数のステージを、前記搬送軸上における前記照射領域外に設定された待機領域から前記照射領域へ向けて、同時に移動させる第一の移動機構と、
前記複数のステージにそれぞれ個別に設けられ、前記複数のステージを、前記載置面に対して直交する軸回りに個別に回転する回転機構と、を備えることを特徴とする光照射装置。 A light irradiation device for irradiating polarized light to a workpiece passing through a preset irradiation region,
Separated in a second direction orthogonal to the first direction in which the transport axis passing through the irradiation region extends, the workpiece is placed in parallel with the plane including the first direction and the second direction. A plurality of stages having mounting surfaces;
The plurality of stages are fixed in common so that they cannot be individually moved in the first direction, and the plurality of stages are directed from the standby region set outside the irradiation region on the transport axis to the irradiation region. Te, a first moving mechanism causes simultaneous movement,
A light irradiation apparatus comprising: a rotation mechanism that is individually provided on each of the plurality of stages, and that individually rotates the plurality of stages around an axis orthogonal to the placement surface.
前記第二の移動機構は、
前記ワークを搬入及び搬出するとき、前記複数のステージを前記第二方向に同時に移動し、当該複数のステージを前記搬送領域に移動することを特徴とすることを特徴とする請求項4に記載の光照射装置。 On one side in the second direction of the standby area, further comprising a transfer area for loading and unloading the workpiece from the second direction with respect to the plurality of stages in the standby area,
The second moving mechanism is
5. The method according to claim 4, wherein when the workpiece is loaded and unloaded, the plurality of stages are simultaneously moved in the second direction, and the plurality of stages are moved to the transfer region. Light irradiation device.
前記待機領域は、前記照射領域と前記偏光測定部の前記偏光光の非測定時における退避領域との間に設定されていることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の光照射装置。 A polarization measuring unit that is movable on the transport axis and that measures the polarized light in the irradiation region;
The said waiting | standby area | region is set between the said irradiation area | region and the evacuation area | region at the time of the non-measurement of the said polarized light of the said polarization measuring part, The any one of Claims 1-7 characterized by the above-mentioned. Light irradiation device.
前記第一方向および前記第二方向の少なくとも一方の方向に並んで配置され、前記ワークに設けられた少なくとも一対のアライメントマークを検出する少なくとも一対の検出器を備えることを特徴とする請求項9に記載の光照射装置。 The alignment mark detector
The apparatus according to claim 9, further comprising at least a pair of detectors arranged side by side in at least one of the first direction and the second direction and detecting at least a pair of alignment marks provided on the workpiece. The light irradiation apparatus of description.
前記照射領域を通る搬送軸が延在する第一方向に直交する第二方向に離間して並設され、前記第一方向及び前記第二方向を含む平面と平行に、ワークがそれぞれ載置される載置面を有する複数のステージを、前記載置面に対して直交する軸回りに個別に回転するステップと、
前記複数のステージを、前記第一方向に個別に移動できないように共通して固定した状態で、前記搬送軸上における前記照射領域外に設定された待機領域から前記照射領域へ向けて同時に移動するステップと、を含むことを特徴とする光照射方法。 A light irradiation method for irradiating a workpiece passing through a preset irradiation region with polarized light,
Separated in a second direction orthogonal to the first direction in which the transport axis passing through the irradiation region extends, the workpiece is placed in parallel with the plane including the first direction and the second direction. Rotating a plurality of stages each having a mounting surface individually around an axis perpendicular to the mounting surface;
The plurality of stages are simultaneously moved from the standby area set outside the irradiation area on the transport axis toward the irradiation area in a state where the plurality of stages are fixed in common so that they cannot be individually moved in the first direction. And a light irradiation method comprising the steps of:
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