JP6657269B2 - Pci―32765の結晶型aの調製方法 - Google Patents
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Description
従来の技術問題を解決し、工業的生産に適するPCI―32765の結晶型Aの調製プロセスを提供することが求められている。
PCI―32765の結晶型Aの調製方法は、
1)固体状のPCI―32765の遊離塩基を良溶媒に溶解させることにより、PCI―32765の遊離塩基溶液を調製する第1ステップと、
2)第1ステップにより生成された溶液を貧溶媒に滴下し、滴下が完了した後0〜20℃の温度条件下で攪拌するとともに、PCI―32765の結晶型Aの種結晶を加える、または、第1ステップにより生成された溶液を、0〜20℃の温度条件下でPCI―32765の結晶型Aの種結晶を含む懸濁液に滴下する、第2ステップと、
3)第2ステップから得られた溶液体系をコントロールしながら連続的に攪拌し、完全に結晶になるように熟成させ、結晶スラリーを生成する第3ステップと、
4)第3ステップにより生成された前記結晶スラリーを濾過、洗浄、乾燥し、PCI―32765の結晶型Aの粉末を生成する第4ステップとを含む。
前記良溶媒は、メタノールまたはメタノールを含む混合溶媒であることが好ましい。
本発明において、前記混合溶媒は、体積比が1:0.8〜1.2のメタノール及びジメチルスルホキシドの混合溶媒である。
第1ステップにおいて、PCI―32765の遊離塩基溶液の調製は、10〜50℃の条件下で行うことが好ましい。
用語「貧溶媒」とは、当該技術分野における一般的な意味を差し、本発明においては、PCI―32765の結晶型Aを溶媒に加えて沈殿させ、析出を引き起こす溶媒を指している。
前記貧溶媒は純水であることが好ましい。
第2ステップにおけるPCI―32765の結晶型Aの種結晶の投入質量と第1ステップにおけるPCI―32765の遊離塩基の投入質量との比は、0.01〜0.1:1であることが好ましい。
第1ステップにおいて、前記良溶媒の投入体積と前記PCI―32765の遊離塩基の投入質量との比は、10〜40mL/gであることが好ましい。
第2ステップにおける貧溶媒の投入体積と第1ステップにおけるPCI―32765の遊離塩基の投入質量との比は、30〜80mL/gであることが好ましい。
第2ステップにおいて、前記第1ステップにより生成された溶液を前記貧溶媒または前記懸濁液に滴下する速度は1〜30mL/minであることが好ましい。
第2ステップにおける温度条件は0〜10℃であることが好ましい。
さらに、第2ステップにおける温度条件は0〜5℃であることがより好ましい。
第3ステップにおける熟成の温度は0〜40℃であることが好ましい。
さらに、第3ステップにおける熟成の温度は0〜30℃であることがより好ましい。
更にまた、前記熟成の温度は0〜20℃であることが特に好ましい。
第3ステップにおける熟成の時間は5〜48時間であることが好ましい。
さらに、第3ステップにおける熟成の時間は5〜24時間であることがより好ましい。
更にまた、第3ステップにおける熟成の時間は14〜20時間であることが特に好ましい。
本発明における第3ステップの具体的な方法は、第2ステップにより得られた溶液体系をコントロールしながら連続的に攪拌し、その後0〜5℃の恒温条件下で15〜24時間熟成させ、結晶スラリーを生成する方法、または第2ステップにより得られた溶液体系を0〜5℃の条件下で1〜3時間維持した後、10〜20℃まで昇温させ、10〜20℃の条件下で10〜15時間維持し、結晶スラリーを生成する方法である。
第4ステップにおいて使用される洗浄用の溶媒は純水であることが好ましい。
第4ステップにおける乾燥条件は、洗浄された試料を30〜50℃の真空乾燥箱で質量が一定になるまで乾燥するようにコントロールすることが好ましい。
本発明が提供する結晶型Aの調製方法は、従来技術では大量生産が難しいというボルトネックを突破し、工業的生産上の問題を解決する。
本発明が提供する結晶型Aの調製方法は、プロセスの操作が容易であり、安定したプロセスでコントロールが可能であり、収率が高く、環境に優しく、不純物を除去する能力が優れるという特徴を有する。調製により得られた結晶型Aは、安定に貯蔵することができ、医薬用途として要求される吸湿性、溶解度を満足する。
XRPD:X線粉末回折
DSC:示差走査熱量測定
TGA:熱重量分析
X線反射のパラメータ:CuKα
Kα1Å:1.540598; Kα2Å:1.544426
Kα2/Kα1強度比:0.50
電圧:45キロボルト(kV)
電流:40ミリアンペア(mA)
走査範囲:3.0度〜40.0度
走査速度:10℃/min
保護ガス:窒素ガス
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保護ガス:窒素ガス
PCI―32765の結晶型Aの調製方法を以下に示す。また、容量の異なる第1バッチから第3バッチで生産されるPCI―32765の結晶型Aも、以下の調製方法により生産される。
第2ステップは、10Lのジャケット型結晶釜内に純水1000mLを加えて、攪拌して温度降下の工程を実行して、体系温度を約0℃にコントロールする。そしてPCI―32765の結晶型Aの種結晶3.5gを、結晶釜に投入してから、結晶釜に純水を2520mLまで添加し、攪拌によって結晶型Aの種結晶を含む懸濁液を生成する。
第3ステップは、第1ステップにより生成されたPCI―32765の遊離塩基の溶液を、第2ステップにより生成された懸濁液に、約1時間かけて等速で滴下する。滴下が完了した後、0℃の条件下で2時間維持してから、4時間以内に結晶体系を20℃まで昇温させ、14時間熟成させて結晶スラリーを生成する。このようにして得られた生成物をサンプルリングし、XRPDにより結晶型を検測した結果、完全に結晶型Aになっていることが確認された。
第4ステップは、第3ステップにより生成された結晶スラリーを濾過し、ウェットケーキを形成してから、70mLの純水を散布してウェットケーキを洗浄し、そしてウェットケーキを45℃の真空乾燥箱で約20時間かけて質量が一定になるまで乾燥する。
第2バッチは、容量が50gである。プロセス方法は第1バッチと同様である。第2バッチで生成された固体生成物を計量した結果、質量は50.75g、収率は91.5%、純度は99.8%であった。この生成物は、XRPD検測により、PCI―32765の結晶型Aであることが確認された。
第3バッチは、容量が75gである。プロセス方法は第1バッチと同様である。第3バッチで生成された固体生成物を計量した結果、質量は75.2g、収率は90.3%、純度は99.7%であった。この生成物は、XRPD検測により、PCI―32765の結晶型Aであることが確認された。
PCI―32765の結晶型Aの調製方法を以下に示す。容量の異なる第1バッチから第3バッチで生産されるPCI―32765の結晶型Aも、以下の調製方法により生産される。
第2ステップは、10Lのジャケット型結晶釜内に純水1000mLを加えて、攪拌しながら温度降下の工程を実行して、体系温度を約0℃にコントロールする。そしてPCI―32765の結晶型Aの種結晶5.0gを、結晶釜に投入してから、結晶釜に純水を2600mLまで添加し、攪拌によって結晶型Aの種結晶を含む懸濁液を生成する。
第3ステップは、第1ステップにより生成されたPCI―32765の遊離塩基の溶液を、第2ステップにより生成された懸濁液に、約1時間かけて等速で滴下する。滴下が完了した後、0℃の条件下で20時間維持し、結晶スラリーを生成する。このようにして得られた生成物をサンプルリングし、XRPDにより結晶型を検測した結果、完全に結晶型Aになっていることが確認された。
第4ステップは、第3ステップにより生成された結晶スラリーを濾過し、ウェットケーキを形成してから、100mLの純水を散布することによりウェットケーキを洗浄し、そしてウェットケーキを45℃の真空乾燥箱で約20時間かけて質量が一定になるまで乾燥する。
第2バッチは、容量が5gである。そのプロセス方法は第1バッチと同様である。生成された固体生成物を計量した結果、質量は4.8g、収率は86.0%、純度は100.0%であった。この生成物は、XRPD検測により、PCI―32765の結晶型Aであることが確認された。
第3バッチは、容量が5gである。そのプロセス方法は第1バッチと同様である。生成された固体生成物を計量した結果、質量は4.4g、収率は78.0%、純度は100.0%であった。この生成物は、XRPD検測により、PCI―32765の結晶型Aであることが確認された。
PCI―32765の結晶型Aの調製方法を、以下に示す。
第2ステップは、PCI―32765の結晶型Aの種結晶0.99gを、320mLの純水に加えて懸濁液を生成するとともに、体系温度を約2℃にコントロールする。
第3ステップは、第1ステップにより生成されたPCI―32765の遊離塩基の溶液を、第2ステップにより生成された懸濁液に、約1時間かけて等速で滴下する。滴下が完了した後、2℃で1時間維持してから、1時間以内に結晶体系を40℃まで昇温させ、16時間熟成させて結晶スラリーを生成する。このようにして得られた生成物をサンプルリングし、XRPDにより結晶型を検測した結果、完全に結晶型Aになっていることが確認された。
第4ステップは、第3ステップにより生成された結晶スラリーを濾過しウェットケーキを形成してから、20mLの純水を散布することによりウェットケーキを洗浄し、そしてウェットケーキを50℃の真空乾燥箱で約20時間かけて質量が一定になるまで乾燥する。
本実施例により得られた結晶型のX線粉末回折データを表3に示す。
PCI―32765の結晶型Aの調製方法を、以下に示す。
第2ステップは、PCI―32765の結晶型Aの種結晶101.2mgを、320mLの純水に加えて懸濁液を生成するとともに、体系温度を約5℃にコントロールする。
第3ステップは、第1ステップにより生成されたPCI―32765の遊離塩基の溶液を、第2ステップにより生成された懸濁液に、約1時間かけて等速で滴下する。滴下が完了した後、5℃の条件下で1時間維持してから、1時間以内に結晶体系を40℃まで昇温させ、16時間熟成させて結晶スラリーを生成する。このようにして得られた生成物をサンプルリングし、XRPDにより結晶型を検測した結果、完全に結晶型Aになっていることが確認された。
第4ステップは、第3ステップにより生成された結晶スラリーを濾過してウェットケーキを形成してから、20mLの純水を散布することによってウェットケーキを洗浄し、そしてウェットケーキを50℃の真空乾燥箱で約20時間かけて質量が一定になるまで乾燥する。
本実施例により得られた結晶型のX線粉末回折データを表4に示す。
PCI―32765の結晶型Aの調製方法を、以下に示す。また、容量の異なる第1バッチと第2バッチで生産されるPCI―32765の結晶型Aも、以下の調製方法により生産される。
第2ステップは、PCI―32765の結晶型Aの種結晶100mgに、30mLの純水を加えて懸濁液を生成するとともに、体系温度を約0℃にコントロールする。
第3ステップは、第1ステップにより生成されたPCI―32765の遊離塩基の溶液を、第2ステップにより生成された懸濁液に、約10分間かけて等速で滴下する。滴下が完了した後、0℃の条件下で20時間維持し、結晶スラリーを生成する。このようにして得られた生成物をサンプルリングし、XRPDにより結晶型を検測した結果、完全に結晶型Aになっていることが確認された。
第4ステップは、第3ステップにより生成された結晶スラリーを濾過してウェットケーキを形成してから、2mLの純水を散布することによってウェットケーキを洗浄し、そしてウェットケーキを45℃の真空乾燥箱で約20時間かけて重量が一定になるまで乾燥する。
第2バッチは、容量が0.3gである。そのプロセス方法は第1バッチと同様である。生成された固体生産物を計量した結果、質量は0.27g、収率は80.0%、純度は100.0%であった。この生成物は、XRPD検測により、PCI―32765の結晶型Aであることが確認された。
本実施例から得られた結晶型のX線粉末回折データを表5に示す。
固体状のPCI―32765の遊離塩基粉末5.0gを、150mLのイソプロパノールとn−ヘプタンとの体積比が2:3である混合溶媒に加えて、室温条件下で12h攪拌したが、澄んだ溶液は得られなかった。
固体状のPCI―32765の遊離塩基粉末491mgを、16mLのイソプロパノールとn−ヘプタンとの体積比が1:5である混合溶媒に加えて、50℃条件下で12h攪拌したが、澄んだ溶液は得られなかった。
固体状のPCI―32765の遊離塩基粉末102.4mgを、室温条件下で4mLのアセトンに溶解させ、この溶液に対して予備濾過を行う。そして、その中にゆっくりとn−ヘプタン16mLを加えて一晩攪拌し、製品を生成した。そして得られた製品をX線粉末回折検測したところ、先行技術である特許WO2013184572A1に開示された結晶型Aになっていることが確認された。
本比較例により得られた生成物のX線粉末回折パターンを図4に示す。
Claims (15)
- PCI―32765の結晶型Aの調製方法であって、前記結晶型Aは、CuKα線照射により測定される2θの値が、5.2°±0.2°、17.6°±0.2°、22.1°±0.2°、19.3°±0.2°、22.4°±0.2°および20.8°±0.2°を含み、
1)固体状のPCI―32765の遊離塩基を、メタノールまたはメタノールを含む混合溶媒である良溶媒に溶解させることにより、PCI―32765の遊離塩基溶液を調製する第1ステップと、
2)前記第1ステップにより生成された溶液を、水である貧溶媒に滴下し、滴下が完了した後0〜20℃の温度条件下で攪拌するとともに、PCI―32765の結晶型Aの種結晶を加える、または、第1ステップにより生成された溶液を、0〜20℃の温度条件下でPCI―32765の結晶型Aの種結晶を含む水懸濁液に滴下する、第2ステップと、
3)前記第2ステップにより得られた溶液体系をコントロールしながら連続的に攪拌し、完全に結晶になるよう熟成させ、結晶スラリーを生成する第3ステップと、
4)前記第3ステップにより生成された前記結晶スラリーを濾過、洗浄、乾燥し、PCI―32765の結晶型Aの粉末を生成する第4ステップと、
を含むことを特徴とする、調製方法。 - 前記混合溶媒は、体積比が1:0.8〜1.2であるメタノールとジメチルスルホキシドの混合溶媒であることを特徴とする請求項1に記載の調製方法。
- 前記第1ステップにおいて、10〜50℃の条件下で前記PCI―32765の遊離塩基溶液を調製することを特徴とする請求項1に記載の調製方法。
- 前記第2ステップにおけるPCI―32765の結晶型Aの種結晶の投入質量と、前記第1ステップにおけるPCI―32765の遊離塩基の投入質量との比は、0.01〜0.1:1であることを特徴とする請求項1に記載の調製方法。
- 前記第1ステップにおいて、前記良溶媒の投入体積と前記PCI―32765の遊離塩基の投入質量との比は、10〜40mL/gであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の調製方法。
- 前記第2ステップにおける貧溶媒の投入体積と、前記第1ステップにおけるPCI―32765の遊離塩基の投入質量との比は、30〜80mL/gであることを特徴とする請求項1に記載の調製方法。
- 前記第2ステップにおいて、前記第1ステップにより生成された溶液を前記貧溶媒または前記懸濁液に滴下する速度は、1〜30mL/minであることを特徴とする請求項1に記載の調製方法。
- 前記第2ステップにおける温度条件は、0〜10℃であることを特徴とする請求項1に記載の調製方法。
- 前記第2ステップにおける温度条件は、0〜5℃であることを特徴とする請求項8に記載の調製方法。
- 前記第3ステップにおける熟成の温度は、0〜40℃であることを特徴とする請求項1に記載の調製方法。
- 前記第3ステップにおける熟成の温度は、0〜30℃であることを特徴とする請求項10に記載の調製方法。
- 前記第3ステップにおける熟成の温度は、0〜20℃であることを特徴とする請求項11に記載の調製方法。
- 前記第3ステップの具体的な方法は、
前記第2ステップにより得られた溶液体系をコントロールしながら連続的に攪拌し、その後0〜5℃の恒温条件下で15〜24時間熟成させて結晶スラリーを生成する方法、
または前記第2ステップにより得られた溶液体系を0〜5℃の条件下で1〜3時間維持し、その後10〜20℃まで昇温させ、10〜20℃の条件下で10〜15時間維持して結晶スラリーを生成する方法であることを特徴とする請求項1に記載の調製方法。 - 前記第4ステップにおいて使用される洗浄用の溶媒は、純水であることを特徴とする請求項1に記載の調製方法。
- 前記第4ステップにおける乾燥条件は、洗浄された試料を30〜50℃の真空乾燥箱で質量が一定になるまで乾燥するようにコントロールすることを特徴とする請求項1に記載の調製方法。
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