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JP6655514B2 - 基板検査方法及び基板検査装置 - Google Patents

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Description

本発明は基板検査方法及び基板検査装置に関する。
多数の半導体デバイスが形成されたウエハの検査を行うために、検査装置としてプローバが用いられている。プローバはウエハと対向するプローブカードを備え、プローブカードは板状の基部と、基部においてウエハの半導体デバイスにおける各電極パッドや各半田バンプと対向するように配置される複数の柱状接触端子であるコンタクトプローブ(プローブ針)とを備える(例えば、特許文献1参照。)。
プローバでは、ウエハを載置するステージを用いてプローブカードへウエハを押圧させることにより、プローブカードの各コンタクトプローブを半導体デバイスにおける電極パッドや半田バンプと接触させ、各コンタクトプローブから各電極パッドや各半田バンプに接続された半導体デバイスの電気回路へ電気を流すことによって該電気回路の導通状態等の電気的特性を検査する。
また、ステージを用いてウエハをプローブカードへ押圧させる場合、ステージの押圧荷重に対抗するためにステージ及びプローブカードの両方とも高剛性化が必要であり、高剛性化に伴ってコストが上昇する。そこで、図7(A)に示すように、ウエハWを板状部材からなるチャック70に載置し、チャック70とプローブカード71の間をシール部材72で囲んで密閉空間Sを形成して当該密閉空間Sを減圧することにより、密閉空間Sを収縮させてウエハWをチャック70ごとプローブカード71へ引き寄せ(図7(B))、ウエハWをプローブカード71へ接触させる基板検査装置が提案されている(例えば、特許文献2参照。)。この基板検査装置では、ステージを用いてウエハWをプローブカード71へ押圧させる必要が無いため、プローブカード71やチャック70をステージの押圧荷重に対抗させるための高剛性化を行う必要を無くすことができる。
特開2002−22768号公報 国際公開第2012/026036号
しかしながら、ウエハWにおいて検査対象となる半導体デバイスが当該ウエハWの中心からオフセットした位置に形成される場合がある。通常、ウエハWはその中心がチャック70の中心と一致するようにチャック70に載置されるため、この場合、チャック70中心からオフセットした位置にプローブカード71の各コンタクトプローブ73からの反力が作用する。その結果、チャック70にモーメントが作用して傾くことがある(図7(C))。また、各コンタクトプローブ73がカンチレバータイプの場合、各コンタクトプローブ73からの反力はウエハWへ斜めに付加されるため、チャック70を押し下げるだけでなくチャック70を横へ移動させることがある(図7(D)中の破線参照)。
その結果、各コンタクトプローブ73は各電極パッドや各半田バンプと適切に接触することができず、半導体デバイスの電気的特性を正確に検査することができないおそれがある。
本発明の目的は、検査を正確に行うことができる基板検査方法及び基板検査装置を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明の基板検査方法は、デバイスが形成された基板を載置する板状部材と、該板状部材の上方において前記板状部材へ対向するように配置されるプローブカードとを備え、前記プローブカードは前記基板へ向けて突出する複数の針状のコンタクトプローブを有する基板検査装置において、前記板状部材を前記プローブカードへ接近させて各前記コンタクトプローブを前記デバイスへ接触させる基板検査方法であって、各前記コンタクトプローブを囲むように垂下する筒状の伸縮自在なベローズを配置し、前記ベローズに向けて開口する断面コの字状を呈するリップシールを、前記基板を囲むように前記板状部材へ配置し、前記リップシールの内部にストッパを配置し、前記板状部材を前記プローブカードへ接近させる際、各前記コンタクトプローブが前記デバイスへ接触する前に前記ベローズを前記リップシールへ吸着させることを特徴とする。
上記目的を達成するために、本発明の基板検査装置は、デバイスが形成された基板を載置する板状部材と、該板状部材の上方において前記板状部材へ対向するように配置されるプローブカードとを備え、前記プローブカードは前記基板へ向けて突出する複数の針状のコンタクトプローブを有し、前記板状部材を前記プローブカードへ接近させて各前記コンタクトプローブを前記デバイスへ接触させる基板検査装置において、各前記コンタクトプローブを囲むように垂下する筒状の伸縮自在なベローズと、前記基板を囲むように前記板状部材へ配置されたリップシールとを備え、前記リップシールは前記ベローズに向けて開口する断面コの字状を呈し、前記リップシールの内部にはストッパが配置され、前記板状部材を前記プローブカードへ接近させる際、各前記コンタクトプローブが前記デバイスへ接触する前に前記ベローズを前記リップシールへ吸着させることを特徴とする。
本発明によれば、板状部材をプローブカードへ接近させる際、各コンタクトプローブがデバイスへ接触する前に、各コンタクトプローブを囲むようにプローブカード側から垂下する筒状のベローズがリップシールへ吸着するので、各コンタクトプローブがデバイスへ接触する前からベローズを板状部材と剛性的に一体化することでき、各コンタクトプローブがデバイスへ接触した後に各コンタクトプローブからの反力がデバイスを経由して板状部材へ作用しても、当該反力への対抗にベローズの剛性を寄与させることができる。これにより、反力によって板状部材が傾き、若しくは、横へ移動するのを防止することができ、もって、各コンタクトプローブをデバイスの各電極パッドや各半田バンプと適切に接触させることができる。その結果、デバイスの検査を正確に行うことができる。
本発明の実施の形態に係る基板検査装置としてのウエハ検査装置の構成を概略的に示す水平断面図である。 図1における線II−IIに沿う縦断面図である。 図1のウエハ検査装置におけるテスタ下部の拡大部分断面図である。 本発明の実施の形態に係る基板検査方法におけるチャックトップ等の動作を説明するための工程図である。 図3のウエハ検査装置の変形例におけるテスタ下部の拡大部分断面図である。 本発明が適用される他のウエハ検査装置の構成を概略的に示す断面図である。 従来のウエハ検査装置におけるチャックトップ等の動作を説明するための図である。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
まず、本実施の形態に係る基板検査装置としてのウエハ検査装置について説明する。
図1は、本実施の形態に係る基板検査装置としてのウエハ検査装置の構成を概略的に示す水平断面図であり、図2は、図1における線II−IIに沿う縦断面図である。
図1及び図2において、ウエハ検査装置10は検査室11を備え、該検査室11は、ウエハWの半導体デバイスの電気的特性の検査を行う検査領域12と、検査室11に対するウエハWの搬出入を行う搬出入領域13と、検査領域12及び搬出入領域13の間に設けられた搬送領域14とを有する。検査領域12にはウエハ検査用インターフェースとしての複数のテスタ15が配置され、テスタ15の各々の下部にはプローブカード18が装着される。
搬出入領域13は複数の収容空間16に区画され、各収容空間16には複数のウエハWを収容する容器、例えば、FOUP17を受け入れるポート16a、プローブカード18が搬入され且つ搬出されるローダ16cやウエハ検査装置10の各構成要素の動作を制御するコントローラ16dが配置される。
検査領域12では、各テスタ15に対応して、プローブカード18に対向するように、ウエハWを載置して吸着する板状部材からなるチャックトップ20が配置される。チャックトップ20はアライナー21に支持され、アライナー21はチャックトップ20を上下左右に移動させ、チャックトップ20に載置されたウエハWをプローブカード18へ正対させる。
搬送領域14には移動自在な搬送ロボット19が配置される。搬送ロボット19は、搬出入領域13のポート16aからウエハWを受け取って各テスタ15に対応するチャックトップ20へ搬送し、また、半導体デバイスの電気的特性の検査が終了したウエハWを各テスタ15に対応するチャックトップ20からポート16aへ搬送する。さらに、搬送ロボット19は各テスタ15からメンテナンスを必要とするプローブカード18を搬出入領域13のローダ16cへ搬送し、また、新規やメンテナンス済みのプローブカード18をローダ16cから各テスタ15へ搬送する。
このウエハ検査装置10では、各テスタ15が搬送されたウエハの半導体デバイスの電気的特性の検査を行うが、搬送ロボット19が一のテスタ15へ向けてウエハを搬送している間に、他のテスタ15は他のウエハの半導体デバイスの電気的特性の検査を行うことができるので、ウエハの検査効率を向上することができる。
図3は、図1のウエハ検査装置におけるテスタ下部の拡大部分断面図である。
図3において、テスタ15はマザーボード22を内蔵する。マザーボード22は電気的特性が検査される半導体デバイスが搭載されるパソコン等のマザーボードを模した構造を有する。テスタ15はマザーボード22を用い、半導体デバイスがパソコン等のマザーボードに搭載された状態に近い状態を再現して半導体デバイスの電気的特性の検査を行う。
マザーボード22の下方にはポゴフレーム23が配置され、マザーボード22及びポゴフレーム23の間の空間が減圧されてマザーボード22はポゴフレーム23を真空吸着する。また、ポゴフレーム23の下方にはプローブカード18が配置され、ポゴフレーム23及びプローブカード18の間の空間が減圧されてポゴフレーム23はプローブカード18を真空吸着する。
ポゴフレーム23の中央部には枠状のポゴブロック24が配置され、ポゴブロック24はプローブカード18及びマザーボード22を電気的に接続する多数のポゴピン25を保持する。プローブカード18の下方にはチャックトップ20が配置され、プローブカード18はチャックトップ20と対向するように下面に配置された多数のコンタクトプローブ28を有する。ポゴフレーム23には各コンタクトプローブ28を囲むようにチャックトップ20へ向けて垂下する円筒形蛇腹部材であるベローズ26が配置される。なお、ベローズ26はプローブカード18から垂下するように構成されてもよい。
チャックトップ20には、載置されたウエハWを囲み、且つベローズ26へ対向するように、エラストマー部材からなるリップシール27(シール部材)が配置される。また、ベローズ26の上下端にはそれぞれリング状の当接部26a、26bが設けられ、リング状の当接部26aはポゴフレーム23と当接し、リング状の当接部26bはリップシール27に当接する。リップシール27は上方に向けて開口する断面コの字状を呈し、当接部26bと当接する際、当接部26b及びリップシール27によって囲まれる封止空間Pを形成する。封止空間Pは、当該封止空間Pと外部に設けられた第1の減圧ユニット(図示しない)とを連通する減圧経路29によって減圧される。これにより、リップシール27は当接部26bを介してベローズ26へ吸着する。なお、リップシール27の内部には所定の高さを有する硬質部材、例えば、樹脂部材からなるストッパ30が配置され、リップシール27が当接部26bへ吸着される際、所定の高さ未満となるまで潰れるのを防止する。これにより、リップシール27の復元性が過圧縮によって低下するのを防止することができる。
また、ベローズ26は図中上下方向に伸縮自在であり、当接部26bを介してリップシール27を吸着することにより、ポゴフレーム23、ベローズ26、リップシール27及びチャックトップ20で囲まれる密閉空間Sを形成する。ウエハ検査装置10では、ポゴフレーム23に設けられ、密閉空間Sと外部に設けられた第2の減圧ユニット(図示しない)とを連通する吸気経路31により、密閉空間Sが減圧されて密閉空間Sが収縮する。これにより、チャックトップ20がポゴフレーム23へ引きつけられてポゴフレーム23の下方に配置されたプローブカード18の各コンタクトプローブ28が、チャックトップ20に載置されたウエハWの半導体デバイスにおける電極パッドや半田バンプと接触する。このとき、各コンタクトプローブ28から各電極パッドや各半田バンプに接続された半導体デバイスの電気回路へ電気を流すことによって該電気回路の導通状態等の電気的特性の検査が行われる。
図4は、本実施の形態に係る基板検査方法におけるチャックトップ等の動作を説明するための工程図である。
図4において、まず、搬送ロボット19からウエハWを受け取ったチャックトップ20をアライナー21が移動させ、チャックトップ20に載置されたウエハWをプローブカード18へ正対させる(図4(A))。その後、アライナー21が上昇してチャックトップ20をポゴフレーム23(テスタ15)へ接近させると、ベローズ26の当接部26bがリップシール27と当接し、当接部26b及びリップシール27の間に封止空間Pが形成されるとともに、ポゴフレーム23(テスタ15)、ベローズ26、リップシール27及びチャックトップ20で囲まれる密閉空間Sが形成される(図4(B))。このときは、封止空間P及び密閉空間Sのいずれも減圧されない。
次いで、アライナー21が上昇を継続し、ポゴフレーム23の下方に配置されたプローブカード18の各コンタクトプローブ28がチャックトップ20に載置されたウエハWの半導体デバイスへ接触する前であって、各コンタクトプローブ28の下端及び半導体デバイスの各電極パッドや各半田バンプの間の距離Lが、例えば、30μm以下となった後に、第1の減圧ユニットによって封止空間Pが減圧されてベローズ26がリップシール27を介してチャックトップ20へ吸着され、ベローズ26がチャックトップ20と剛性的に一体化される(図4(C))。
さらに、アライナー21は上昇を継続し、各コンタクトプローブ28を半導体デバイスの各電極パッドや各半田バンプへ接触させる。その後も、アライナー21はチャックトップ20をポゴフレーム23(テスタ15)へ向けて押圧(オーバードライブ)して各コンタクトプローブ28を各電極パッドや各半田バンプへ接触させ続けるが、このとき、第2の減圧ユニットによって密閉空間Sが減圧されてチャックトップ20がポゴフレーム23へ引きつけられる(図4(D))。
次いで、アライナー21が下降するが、密閉空間Sが減圧されているため、チャックトップ20はポゴフレーム23(テスタ15)へ引きつけられ続け、各コンタクトプローブ28が半導体デバイスの各電極パッドや各半田バンプと接触し続ける(図4(E))。また、本実施の形態では、各コンタクトプローブ28が各電極パッドや各半田バンプへ接触した後も、封止空間Pの減圧が継続され、ベローズ26がチャックトップ20へ吸着され続ける。これにより、密閉空間Sを確実に密閉し続けることができ、密閉空間Sが昇圧して各コンタクトプローブ28と、各電極パッドや各半田バンプとの接触が中断するのを確実に防止することができる。
本実施の形態に係る基板検査方法によれば、チャックトップ20をポゴフレーム23へ接近させる際、各コンタクトプローブ28がウエハWの半導体デバイスの各電極パッドや各半田バンプへ接触する前に、各コンタクトプローブ28を囲むようにポゴフレーム23から垂下するベローズ26がリップシール27を介してチャックトップ20へ吸着するので、各コンタクトプローブ28が各電極パッドや各半田バンプへ接触する前からベローズ26をチャックトップ20と剛性的に一体化することできる。その結果、各コンタクトプローブ28が各電極パッドや各半田バンプへ接触した後に各コンタクトプローブ28からの反力が各電極パッドや各半田バンプを経由してチャックトップ20へ作用しても、当該反力への対抗にベローズ26の剛性を寄与させることができる。これにより、各コンタクトプローブ28からの反力によってチャックトップ20が傾き、若しくは、横へ移動するのを防止することができ、もって、各コンタクトプローブ28を半導体デバイスの各電極パッドや各半田バンプと適切に接触させることができる。その結果、半導体デバイスの電気的特性を正確に行うことができる。
上述した本実施の形態に係る基板検査方法では、各コンタクトプローブ28が各電極パッドや各半田バンプへ接触した後もベローズ26をチャックトップ20へ吸着させ続けるので、オーバードライブの間も、各コンタクトプローブ28を半導体デバイスの各電極パッドや各半田バンプと適切に接触させ続けることができる。
また、各コンタクトプローブ28が各電極パッドや各半田バンプへ接触するよりもかなり前からベローズ26がチャックトップ20に吸着すると、ベローズ26の剛性がチャックトップ20のポゴフレーム23への接近を阻害し、場合によっては、各コンタクトプローブ28を接触させるべき各電極パッドや各半田バンプからずれさせるおそれがあるが、上述した本実施の形態に係る基板検査方法では、各コンタクトプローブ28の下端及び各電極パッドや各半田バンプの間の距離Lが30μm以下となった後にベローズ26をチャックトップ20へ吸着させる。これにより、ベローズ26の剛性がチャックトップ20のポゴフレーム23への接近を阻害するおそれがある時間を短縮することができ、各コンタクトプローブ28を接触させるべき各電極パッドや各半田バンプへ確実に接触させることができる。
さらに、上述した本実施の形態に係る基板検査方法では、ベローズ26をエラストマー部材からなるリップシール27へ吸着させるので、ベローズ26をチャックトップ20へ直接吸着させるよりも、間接的ではあるものの、ベローズ26をチャックトップ20へ確実に吸着させることができる。また、当接部26b及びリップシール27の間の封止空間Pを減圧するので、ベローズ26をリップシール27へ確実に吸着させることができる。
以上、本発明について、上述した実施の形態を用いて説明したが、本発明は上述した実施の形態に限定されるものではない。
例えば、封止空間Pは当接部26bと、断面コの字状を呈するリップシール27とによって形成されたが、リップシール27の代わりにチャックトップ20の周縁部へ2つのOリング32を設け(図5)、当該2つのOリング32及び当接部26bによって封止空間Pを形成してもよい。
また、ベローズ26の伸縮方向に沿うガイドレール33と、該ガイドレール33に遊合するガイド34とを設け、ガイドレール33の上端を当接部26aへ接合し、ガイド34を当接部26bに接合することにより、ベローズ26の伸縮時における当接部26bのずれ(特に水平方向に関するずれ)の発生を防止してもよい。この場合、ベローズ26がチャックトップ20に吸着した後にベローズ26だけでなくガイドレール33をチャックトップ20と剛性的に一体化することができ、もって、チャックトップ20が傾き、若しくは、横へ移動するのを確実に防止することができる。
さらに、本実施の形態では、複数枚のウエハの半導体デバイスの電気的特性の検査を同時に行うことができるウエハ検査装置へ本発明が適用される場合について説明したが、本発明は、1枚のみのウエハの半導体デバイスの電気的特性の検査を行うウエハ検査装置へも適用することができる。この場合、当該ウエハ検査装置35は1つの検査室36の内部に、例えば、テスタ15(ポゴフレーム23)、プローブカード18、チャックトップ20、ベローズ26及びリップシール27を備える(図6)。
P 封止空間
S 密閉空間
W ウエハ
10,35 ウエハ検査装置
18 プローブカード
20 チャックトップ
23 ポゴフレーム
26 ベローズ
26b 当接部
27 リップシール
32 Oリング
33 ガイドレール
34 ガイド

Claims (8)

  1. デバイスが形成された基板を載置する板状部材と、該板状部材の上方において前記板状部材へ対向するように配置されるプローブカードとを備え、前記プローブカードは前記基板へ向けて突出する複数の針状のコンタクトプローブを有する基板検査装置において、前記板状部材を前記プローブカードへ接近させて各前記コンタクトプローブを前記デバイスへ接触させる基板検査方法であって、
    各前記コンタクトプローブを囲むように垂下する筒状の伸縮自在なベローズを配置し、
    前記ベローズに向けて開口する断面コの字状を呈するリップシールを、前記基板を囲むように前記板状部材へ配置し、
    前記リップシールの内部にストッパを配置し、
    前記板状部材を前記プローブカードへ接近させる際、各前記コンタクトプローブが前記デバイスへ接触する前に前記ベローズを前記リップシールへ吸着させることを特徴とする基板検査方法。
  2. 各前記コンタクトプローブが前記デバイスへ接触した後も前記ベローズを前記リップシールへ吸着させ続けることを特徴とする請求項1記載の基板検査方法。
  3. 各前記コンタクトプローブ及び前記デバイスの間の距離が30μm以下となった後に前記ベローズを前記リップシールへ吸着させることを特徴とする請求項1又は2記載の基板検査方法。
  4. 前記ベローズ及び前記リップシールによって囲まれる封止空間を形成し、該封止空間を減圧することによって前記ベローズを前記リップシールへ吸着させることを特徴とする請求項記載の基板検査方法。
  5. 前記ベローズを前記リップシールへ吸着させて少なくとも前記プローブカード、前記ベローズ、前記リップシール及び前記板状部材で囲まれる密閉空間を形成し、該密閉空間を減圧することによって前記板状部材を前記プローブカードへ引きつけ、各前記コンタクトプローブを前記デバイスへ接触させることを特徴とする請求項1乃至のいずれか1項に記載の基板検査方法。
  6. デバイスが形成された基板を載置する板状部材と、該板状部材の上方において前記板状部材へ対向するように配置されるプローブカードとを備え、前記プローブカードは前記基板へ向けて突出する複数の針状のコンタクトプローブを有し、前記板状部材を前記プローブカードへ接近させて各前記コンタクトプローブを前記デバイスへ接触させる基板検査装置において、
    各前記コンタクトプローブを囲むように垂下する筒状の伸縮自在なベローズと、
    前記基板を囲むように前記板状部材へ配置されたリップシールとを備え、
    前記リップシールは前記ベローズに向けて開口する断面コの字状を呈し、
    前記リップシールの内部にはストッパが配置され、
    前記板状部材を前記プローブカードへ接近させる際、各前記コンタクトプローブが前記デバイスへ接触する前に前記ベローズを前記リップシールへ吸着させることを特徴とする基板検査装置。
  7. 前記ベローズ及び前記リップシールによって囲まれる封止空間を形成し、該封止空間を減圧することによって前記ベローズを前記リップシールへ吸着させることを特徴とする請求項記載の基板検査装置。
  8. 前記ベローズの伸縮方向に沿うガイドレールをさらに備え、
    前記ベローズは伸縮時、前記ガイドレールによってガイドされることを特徴とする請求項又は記載の基板検査装置。
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