JP6510821B2 - 洗浄装置および洗浄方法 - Google Patents

Description

本発明は、光学素子の洗浄装置および洗浄方法に関する。

ガラスやプラスチック製の光学素子の製造工程においては、各工程の前、途中、後などに洗浄をすることが多い。
例えば、ガラスレンズなどの光学素子の製造工程では、ガラス母材を光学素子の形状に加工した後に、洗浄槽および乾燥槽を備えた洗浄装置によって光学素子の洗浄が行われる。洗浄が終了した光学素子は、必要に応じて表面コート処理などが行われる。
また、上記ガラスレンズなどの光学素子の形状の加工は、砥粒を変えるなどして行われる複数の研磨工程を含むことが多い。各研磨工程では、前工程によって付着した砥粒や研磨時の汚れが残った状態で行われると、レンズ面が傷つく等の不具合があるため、各研磨工程の終了時にも洗浄工程を行うことが好ましい。
加工途中の洗浄は、加工場所から離れて設置されている洗浄装置を用いると、加工場所との間の運搬作業が必要となって非効率的である。また、加工途中での洗浄は、最終の仕上げに用いられる洗浄装置のような高度の洗浄能力は不要である。
このため、加工途中の光学素子を加工場所の近くで容易に洗浄できるコンパクトな洗浄装置が強く望まれている。このような光学素子の洗浄装置では、少なくとも、水をエアーとともに吐出する洗浄と、水切りとが行えることが好ましい。
このような簡素な機能を有する洗浄装置は、光学素子の洗浄以外の用途では知られている。
例えば、特許文献１には、液体の吸引吐出に用いられるノズルを洗浄するノズル洗浄ユニットであって、ノズルのうち少なくとも洗浄対象部分が収容される洗浄槽と、洗浄槽内において、洗浄液を噴射する洗浄液噴射手段と、ノズルの外側面に付着した洗浄液を洗浄槽内に吹き飛ばすべくエアーを噴射する乾燥用噴射手段と、ノズルを洗浄液噴射手段および乾燥用噴射手段に対して相対的に昇降させる移動手段と、少なくとも、洗浄液噴射手段、乾燥用噴射手段、および、移動手段の動作を制御する制御手段と、を備えるノズル洗浄ユニットが記載されている。

特開２０１１−７８８８１号公報

しかしながら、上記のような従来の洗浄装置には、以下のような問題があった。
特許文献１に記載のノズル洗浄ユニットは、小さなノズルを洗浄すればよいため、小型の洗浄層内にノズルを移動して、洗浄槽内に封止した状態で洗浄することができる。したがって、洗浄液が洗浄槽の外部に飛び出すことなく洗浄することが容易である。
しかし、光学素子の加工の場合、同じ加工場所で複数の品種の光学素子が加工されることが多い。また、光学素子の大きさはノズルよりも格段に大きいのが一般的である。このため、洗浄槽に、より大きな開口を設け、この開口を通して光学素子を出し入れすることが必要になる。この場合、洗浄液が洗浄槽の外部に飛び出さないようにするには、例えば、開口を開閉するための機構が必要になる。このため、洗浄装置が大型化し、加工装置のそばに配置できなくなることが懸念される。
また、洗浄装置の開口を開閉すると、その分の動作時間も必要となる。このため、単位時間当たりに洗浄可能な個数が少なくなってしまう。
一方、開口をあけたままにしておくと、洗浄槽内の洗浄液が、開口から外部に飛散する。このため、洗浄装置の周囲を汚染してしまうおそれがある。例えば、洗浄装置の周囲に、洗浄済みの光学素子を一時的に置くような場合、洗浄済みの光学素子を汚してしまうことが懸念される。
洗浄液が外部に漏れない程度に、洗浄槽の内部空間を拡げることも考えられるが、この場合には、洗浄装置が大型化してしまうという問題がある。

本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、コンパクトであっても装置の外部に洗浄用の流体を飛散させることなく、光学素子を容易に洗浄することができる洗浄装置および洗浄方法を提供することを目的とする。

上記の課題を解決するために、本発明の第１の態様の洗浄装置は、光学素子を洗浄する洗浄装置であって、前記光学素子が通過できる大きさの開口が形成された洗浄槽と、前記洗浄槽内において、水を含む流体を流体吐出領域に吐出し、前記流体吐出領域にて、前記光学素子を洗浄する流体吐出部と、前記洗浄槽内において前記流体吐出領域と前記開口との間を横断するエアー吐出領域に、エアーを吐出するエアー吐出部と、を備え、前記エアー吐出部は、前記流体吐出部から前記流体が吐出される間、前記エアーを吐出でき、複数のエアー吐出ノズルが互いに対向して配置され、前記複数のエアー吐出ノズルからの前記エアーは、それぞれの先端部が、互いに対向もしくは互いに交差するように吐出される構成とする。
このようにすれば、少なくとも前記流体吐出部から流体が吐出されている間は、前記エアー吐出部からエアーが吐出されるように構成でき、流体が開口から洗浄槽の外部に飛散することを当該エアーによって抑制できる。
また、エアーから光学素子が受ける圧力が相殺されるので、光学素子の移動が容易となる。

上記洗浄装置においては、前記エアー吐出部は、前記光学素子が前記開口と前記流体吐出領域との間を移動する間、前記エアーを吐出できてもよい。
このようにすれば、光学素子が前記光学素子が前記開口と前記流体吐出領域との間を移動する間は、前記流体吐出領域と前記開口との間を横断するエアー吐出領域にエアーが吐出されるように構成できるので、光学素子が当該移動途中に当該エアーを浴び、表面の付着物の除去や乾燥ができる。

上記洗浄装置においては、前記開口は、前記洗浄槽の上部に形成され、前記流体吐出領域は、前記開口の下方に形成され、前記流体吐出領域よりも下方となる前記洗浄槽の下部に、吐出された前記流体を排出するドレインが設けられていてもよい。
このようにすれば、洗浄装置が縦型に構成できるので、設置スペースが小さくて済み、設置が容易となる。

上記洗浄装置においては、前記開口は、前記洗浄槽の側面に形成され、前記流体吐出領域は、前記開口を水平に通過する経路上に形成され、前記流体吐出領域よりも下方となる前記洗浄槽の下部に、吐出された前記流体を排出するドレインが設けられていてもよい。
このようにすれば、光学素子の移動方向が水平方向になるので、例えばコンベア等を使って、光学素子の搬送を容易にできる。また、自動化に有利である。

上記洗浄装置においては、前記開口は、第１の開口と，第２の開口と、を含み、前記エアー吐出部は、前記洗浄槽内において、前記流体吐出領域と前記第１の開口との間を横断する第１のエアー吐出領域に、エアーを吐出する第１のエアー吐出部と、前記洗浄槽内において、前記流体吐出領域と前記第２の開口との間を横断する第２のエアー吐出領域に、エアーを吐出する第２のエアー吐出部と、を含んでもよい。
このようにすれば、光学素子が一つの開口から洗浄槽内に入り別の開口から洗浄槽外に出るように構成出来るので、洗浄槽内での光学素子の移動経路でUターンが不要となり、効率的な光学素子の移動が可能となる。

前記第１の開口、前記第１のエアー吐出領域、前記流体吐出領域、前記第２のエアー吐出領域、および前記第２の開口を含む上記洗浄装置においては、前記第１の開口、前記第１のエアー吐出領域、前記流体吐出領域、前記第２のエアー吐出領域、および前記第２の開口は、前記光学素子が一直線上に沿う直線経路を移動することによって前記光学素子が通過できる位置にあってもよい。
このようにすれば、光学素子の移動経路が一直線にできるので、効率がよい。

前記光学素子が前記直線経路を移動することによって前記光学素子が通過できる位置に前記第１の開口、前記第１のエアー吐出領域、前記流体吐出領域、前記第２のエアー吐出領域、および前記第２の開口がある上記洗浄装置においては、前記直線経路は、水平方向に延びる経路であってもよい。
このようにすれば、光学素子の移動経路が水平な直線なので、光学素子の搬送が容易である。

上記洗浄装置においては、前記洗浄槽内に配置され、前記洗浄槽内に移動された前記光学素子と接触して前記光学素子の汚れを落とす洗浄部材を、備えてもよい。
このようにすれば、洗浄部材により光学素子の汚れをさらに確実に落とすことが出来る。

上記洗浄装置においては、前記流体は、水の粒状体と、エアーと、が混在する流体であってもよい。
このようにすれば、粒状の水がエアーに加勢されて勢いよく光学素子の表面に当たるので、少ない水で高効率な洗浄ができる。

上記洗浄装置においては、前記流体吐出部から前記流体を吐出する際に、前記エアー吐出部からも前記エアーを吐出するように、前記流体吐出部および前記エアー吐出部を制御する制御部を、備えてもよい。
このようにすれば、制御部による精緻な制御が可能となる。

上記洗浄装置においては、前記光学素子を保持し、前記光学素子を、前記開口と前記流体吐出領域との間で、移動する移動部を備えてもよい。
このようにすれば、光学素子の移動が効率的に安定して行なえる。

上記洗浄装置においては、前記流体吐出部は、複数の流体吐出ノズルが互いに対向して配置され、前記流体は、前記複数の流体吐出ノズルから、前記複数の流体吐出ノズルの対向方向に吐出されてもよい。
このようにすれば、流体から光学素子が受ける圧力が相殺されるので、光学素子の移動が容易となる。

本発明の第２の態様の洗浄方法は、光学素子を洗浄する洗浄方法であって、洗浄槽内において、水を含む流体を流体吐出領域に吐出することと、前記流体が吐出される間、前記流体吐出領域と前記洗浄槽の開口との間を横断するエアー吐出領域にエアーを複数の吐出ノズルから、それぞれの先端部が、互いに対向もしくは互いに交差するように吐出することと、前記光学素子を、前記開口から前記エアー吐出領域を経由して前記流体吐出領域に移動することと、前記流体吐出領域に移動された前記光学素子に前記流体を当てて、前記光学素子を洗浄することと、洗浄された前記光学素子を、前記流体吐出領域から前記エアー吐出領域を経由して前記開口を通して前記洗浄槽から取り出すことと、を含む方法とする。
このようにすれば、前記開口から流体が洗浄槽外に飛散するのをエアーによって抑制できる。
また、エアーから光学素子が受ける圧力が相殺されるので、光学素子の移動が容易となる。

上記洗浄方法においては、前記光学素子が前記開口と前記流体吐出領域との間を通過する間、前記エアー吐出領域にエアーを吐出することを含んでもよい。
このようにすれば、光学素子が前記開口と前記流体吐出領域との間を移動する間は、前記流体吐出領域と前記開口との間を横断するエアー吐出領域にエアーが吐出されるので、光学素子が当該移動途中にエアーを浴び、表面の付着物の除去や乾燥ができる。

本発明の洗浄装置および洗浄方法によれば、光学素子を洗浄する流体が吐出される間、流体吐出領域と洗浄槽の開口との間を横断するエアー吐出領域にエアーを吐出できるため、コンパクトであっても装置の外部に洗浄用の流体を飛散させることなく、光学素子を容易に洗浄することができるという効果を奏する。

本発明の第１の実施形態の洗浄装置の構成を示す模式的な平面図である。 図１におけるＡ−Ａ断面図である。 本発明の第１の実施形態の洗浄装置の主要部の構成を示すブロック図である。 本発明の第１の実施形態の洗浄装置の動作を説明するタイミングチャートである。 本発明の第１の実施形態の洗浄装置の模式的な動作説明図である。 本発明の第１の実施形態の洗浄装置の作用を説明する模式図である。 本発明の第１の実施形態の変形例（第１変形例）の洗浄装置を説明するタイミングチャートである。 本発明の第１の実施形態の変形例（第２変形例）の洗浄装置の主要部の構成を示すブロック図である。 本発明の第１の実施形態の変形例（第３変形例）の洗浄装置の構成を示す模式的な平面図である。 本発明の第１の実施形態の変形例（第３変形例）の洗浄装置の主要部の構成を示すブロック図である。 本発明の第１の実施形態の変形例（第４変形例）の洗浄装置の構成を示す模式的な平面図である。 本発明の第１の実施形態の洗浄装置の変形例（第４変形例）の構成を示す模式的なＢ−Ｂ断面図である。 本発明の第１の実施形態の洗浄装置の変形例（第４変形例）に用いるエアー吐出ノズルによるエアー吐出領域を説明する平面図、そのＣ−Ｃ断面図、およびＤ視図である。 本発明の第２の実施形態の洗浄装置の構成を示す縦断面の部分断面図である。 図１４におけるＥ−Ｅ断面図である。 本発明の第２の実施形態の洗浄装置の主要部の構成を示すブロック図である。 本発明の第２の実施形態の洗浄装置の動作を説明するタイミングチャートである。 本発明の第２の実施形態の変形例（第５変形例）の洗浄装置の構成を示す縦断面の部分断面図である。 図１８におけるＦ−Ｆ断面図である。 本発明の第２の実施形態の変形例（第５変形例）の洗浄装置の主要部の構成を示すブロック図である。 本発明の第３の実施形態の洗浄装置の構成を示す縦断面の部分断面図である。 図２１におけるＧ−Ｇ断面図である。 本発明の第３の実施形態の洗浄装置の主要部の構成を示すブロック図である。 本発明の第３の実施形態の洗浄装置の動作を説明するタイミングチャートである。 本発明の各実施形態および各変形例に用いることができるエアー吐出部の変形例（第６変形例）を示す模式図である。 本発明の各実施形態および各変形例に用いることができるエアー吐出部の変形例（第７変形例）を示す模式図である。 本発明の各実施形態および各変形例に用いることができるエアー吐出部の変形例（第８変形例）を示す模式図である。 本発明の各実施形態および各変形例に用いることができるエアー吐出部の変形例（第９変形例）の構成を示す模式的な断面図である。

以下では、本発明の実施形態について添付図面を参照して説明する。すべての図面において、実施形態が異なる場合であっても、同一または相当する部材には同一の符号を付し、共通する説明は省略する。

［第１の実施形態］
本発明の第１の実施形態の洗浄装置について説明する。
図１は、本発明の第１の実施形態の洗浄装置の構成を示す模式的な平面図である。図２は、図１におけるＡ−Ａ断面図である。図３は、本発明の第１の実施形態の洗浄装置の主要部の構成を示すブロック図である。
なお、各図面は模式図のため、形状や寸法は誇張されている（以下の図面も同様）。

図１、２に示すように本実施形態の洗浄装置２００は、光学素子Ｌを洗浄する装置である。
光学素子Ｌは、光学素子であれば特に限定されない。洗浄装置２００で洗浄することができる光学素子Ｌの例としては、例えば、レンズ、プリズム、ミラー、フィルターなどを挙げることができる。
図１、２は、模式図のため、光学素子Ｌを両凸レンズ状に描いている。ただし光学素子Ｌの形状は、両凸レンズ状には限定されない。例えば、光学素子Ｌがレンズの場合にも、例えば、平凸レンズ、両凹レンズ、平凹レンズ、メニスカスレンズ等の種々の形状が可能である。また、光学素子Ｌがレンズ以外の光学素子の場合、例えば、円板状、矩形板状をはじめとする適宜の立体形状も可能である。
光学素子Ｌのうち、例えば、ガラス研磨レンズは、所定の形状に加工されるまでに、研磨加工を多段階に繰り返す必要がある。洗浄装置２００は、このような加工工程の途中で、前工程の加工で光学素子Ｌに付着する研磨材などを落とし、表面がきれいな状態で次工程の加工を開始する用途に用いることが可能である。

洗浄装置２００は、洗浄槽２、流体吐出部３、およびエアー吐出部１０を備える。
洗浄槽２は、内部において光学素子Ｌを洗浄する容器である。
本実施形態における洗浄槽２は、平面視矩形状の底面部２Ｅ（洗浄槽の下部）の外縁部から鉛直上方に第１側壁２Ａ、第２側壁２Ｂ、第３側壁２Ｃ、および第４側壁２Ｄが立設されている。
ここで、互いに向かい合う側壁は、第１側壁２Ａおよび第２側壁２Ｂと、第３側壁２Ｃおよび第４側壁２Ｄと、である。第２側壁２Ｂは、第１側壁２Ａから第２側壁２Ｂを見るとき、向かって左側に位置する。

洗浄槽２には、光学素子Ｌを洗浄槽２の上側から出し入れするための開口２ａが形成されている。本実施形態における開口２ａは、第１側壁２Ａ、第２側壁２Ｂ、第３側壁２Ｃ、および第４側壁２Ｄの上部の内周面で囲まれた矩形状に形成されている。
洗浄槽２は、上側に開口２ａが形成された略直方体状の筐体である。

このような開口２ａの形状は一例である。開口２ａの形状は、光学素子Ｌが出し入れできれば特に限定されない。例えば、第１側壁２Ａ、第２側壁２Ｂ、第３側壁２Ｃ、および第４側壁２Ｄの上端部に、天板を配置し、この天板に、貫通孔を設けることにより、開口２ａを形成してもよい。
開口２ａの形状および大きさは、光学素子Ｌを通過させることができる形状および大きさとする。光学素子Ｌを移動する際に、光学素子Ｌの外形からはみ出す形状の保持治具などを用いる場合には、保持治具も通過できる大きさおよび形状とする。
本実施形態の洗浄槽２では、開口２ａは、光学素子Ｌを手に持って出し入れできる大きさを有している。

洗浄槽２の底面部２Ｅの中心部には、ドレイン２Ｆが形成されている。
ドレイン２Ｆは、光学素子Ｌを洗浄する際に吐出される水および水に含まれる光学素子Ｌの汚れを、洗浄槽２の外部に排出するための管路である。本実施形態では、一例として下方に突出するすり鉢状の凹部の中心に排水口２ｂが貫通された形状を有する。
ドレイン２Ｆの排水口２ｂは、図示略の排水処理槽に接続されている。
ドレイン２Ｆよりも外周側の底面部２Ｅ上と、第１側壁２Ａ、第２側壁２Ｂ、第３側壁２Ｃ、および第４側壁２Ｄの下端部と、には、減衰材９が配置されている。
減衰材９は、洗浄が行われる際に、底面部２Ｅ、第１側壁２Ａ、第２側壁２Ｂ、第３側壁２Ｃ、および第４側壁２Ｄにおいて、水が跳ね返って飛び散るのを防止する部材である。
減衰材９として用いることができる部材としては、飛来する水の運動エネルギーを減衰できる適宜の材料を採用することができる。
減衰材９に使用できる材料としては、例えば、水滴を付着、吸収する、網目状、パイル状などの繊維質部材、スポンジ等の多孔質部材、繊維を植設または結束したマット状部材などを挙げることができる。例えば、減衰材９は、人工芝マットを採用することもできる。

流体吐出部３は、洗浄槽２内において、水を含む流体ｆを後述する流体吐出領域Ｓｆに吐出し、流体吐出領域Ｓｆにて光学素子Ｌを洗浄する装置部分である。
流体吐出部３は、本実施形態では、図３に示すように、エアー供給源７、タンク５、第１流体吐出ノズル４Ａ、および第２流体吐出ノズル４Ｂを備える。

エアー供給源７は、配管７ａ、７ｂを介して、圧縮エアーを供給するコンプレッサー等の装置部分である。
エアー供給源７から吐出される圧縮エアーは、塵埃が除去された清浄なエアーである。このような清浄なエアーを供給するため、本実施形態では、エアー供給源７に図示略の防塵フィルターが設けられている。
ただし、エアー供給源７における圧縮エアーのクリーン度は、洗浄装置２００を用いる工程によって変えることができる。例えば、仕上げ工程に近い工程で洗浄を行う場合には、エアーＡＲのクリーン度を上げる必要があるが、粗加工工程で洗浄を行う場合には、クリーン度を下げることができる。

配管７ａは、先端において配管４ａ、４ｂに分岐している。配管７ｂの先端は、配管１１ａ、１１ｂに分岐している。本実施形態では、エアー供給源７は、流体吐出部３と、後述するエアー吐出部１０とに、共通使用されている。配管７ｂに供給される圧縮エアーは、後述するエアー吐出部１０に使用される。
配管７ａには、エアー供給源７からの圧縮エアーの供給量を制御する電磁弁６が設けられている。電磁弁６は、後述する弁操作部８と電気的に接続されている。
配管７ｂには、エアー供給源７からの圧縮エアーの供給量を制御する電磁弁１２が設けられている。電磁弁１２は、後述する弁操作部８と電気的に接続されている。
エアー供給源７は、配管７ａを介して、第１流体吐出ノズル４Ａおよび第２流体吐出ノズル４Ｂに圧縮エアーを供給する。
エアー供給源７は、配管７ｂを介して、第１エアー吐出ノズル１１Ａおよび第２エアー吐出ノズル１１Ｂに圧縮エアーを供給する。

タンク５は、流体ｆに含まれる水を、第１流体吐出ノズル４Ａおよび第２流体吐出ノズル４Ｂに供給する装置部分である。
本実施形態では、タンク５には、水として純水が満たされている。タンク５は、配管５ａから分岐する配管５ｂ、５ｃを介して、それぞれ配管４ａ、４ｂに接続されている。
本実施形態では、タンク５は、第１流体吐出ノズル４Ａおよび第２流体吐出ノズル４Ｂのノズル部よりも高い位置に配置されている。タンク５は、サイフォン方式により、配管４ａ、４ｂを介して、第１流体吐出ノズル４Ａおよび第２流体吐出ノズル４Ｂに純水を供給する。
このように、タンク５は、ポンプを使用することなく純水を供給できる。このため、洗浄装置２００の小型化、省電力化が可能である。
ただし、タンク５と、第１流体吐出ノズル４Ａおよび第２流体吐出ノズル４Ｂとの間にポンプを備える構成としてもよい。

第１流体吐出ノズル４Ａは、配管４ａに接続され、配管４ａから供給される純水および圧縮エアーが混在した流体ｆを洗浄槽２の内部に吐出する装置部分である。
第１流体吐出ノズル４Ａは、図１、２に示すように、洗浄槽２の第１側壁２Ａにおいて、第１側壁２Ａの高さ方向の中間部に貫通して設けられている。
第１流体吐出ノズル４Ａの配置位置は、光学素子Ｌの洗浄位置に応じて適宜設定することができる。本実施形態では、一例として第１側壁２Ａの中心に配置されている。

第１流体吐出ノズル４Ａにおいて、洗浄槽２の内部に位置する先端部には、純水および圧縮エアーを吐出するノズル部を備える。第１流体吐出ノズル４Ａにおいて、洗浄槽２の外部に位置する基端部には、配管４ａに接続されている。
第１流体吐出ノズル４Ａのノズル部は、圧縮エアーを円錐状の領域に噴射する形状を有している。このため、圧縮エアーとともにノズル部を通過する純水は、細かい粒状体となって圧縮エアー中に混ざることにより、円錐状の領域内に分散して吐出される。
本実施形態では、流体ｆの吐出方向は、第２側壁２Ｂに向かう水平方向である。
また、流体ｆの吐出範囲は、洗浄槽２の中心部において、光学素子Ｌを覆うことができる範囲になっている。このため、第１流体吐出ノズル４Ａの位置が固定されていても、光学素子Ｌの全体を洗浄することが可能である。

第２流体吐出ノズル４Ｂは、配管４ｂから供給される純水および圧縮エアーが混在した流体ｆを洗浄槽２の内部に吐出する装置部分である。
第２流体吐出ノズル４Ｂは、第１流体吐出ノズル４Ａと同様な構成を有し、配置位置のみが異なる。第２流体吐出ノズル４Ｂは、図１、２に示すように、洗浄槽２の第２側壁２Ｂにおいて、第２側壁２Ｂの高さ方向の中間部に貫通して設けられている。
第２流体吐出ノズル４Ｂの配置位置は、光学素子Ｌの洗浄位置に応じて適宜設定することができる。本実施形態では、一例として、第１側壁２Ａおよび第２側壁２Ｂの間の中心面Ｐに関して、第１流体吐出ノズル４Ａと面対称に配置されている。
このため、第２流体吐出ノズル４Ｂは、第１流体吐出ノズル４Ａと水平方向に対向する位置に配置されている。
この結果、第２流体吐出ノズル４Ｂから吐出される流体ｆは、第１流体吐出ノズル４Ａから吐出される流体ｆと同軸な円錐状の範囲に拡がる。
第１流体吐出ノズル４Ａおよび第２流体吐出ノズル４Ｂから吐出される流体ｆは、２つの円錐の底面が合わさった形状の流体吐出領域Ｓｆに吐出される。
流体吐出領域Ｓｆの中心部は、光学素子Ｌの全体を覆うことが可能な直径を有する円状に拡がっている。

エアー吐出部１０は、洗浄槽２内において、流体吐出領域Ｓｆと開口２ａとの間を横断するエアー吐出領域ＳａにエアーＡＲを吐出する装置部分である。
エアー吐出部１０は、本実施形態では、図３に示すように、エアー供給源７、第１エアー吐出ノズル１１Ａ、および第２エアー吐出ノズル１１Ｂを備える。

第１エアー吐出ノズル１１Ａは、配管１１ａに接続され、配管１１ａから供給される圧縮エアーを洗浄槽２の内部にエアーＡＲとして吐出する装置部分である。
第１エアー吐出ノズル１１Ａは、図１、２に示すように、第１側壁２Ａに設けられた支持部材２ｃに固定されている。第１エアー吐出ノズル１１Ａは、洗浄槽２内の上部において、第１側壁２Ａの近傍に配置されている。第１エアー吐出ノズル１１Ａは、第１流体吐出ノズル４Ａの上方に配置されている。
第１エアー吐出ノズル１１Ａのノズル部は、第１側壁２Ａの中心から±Ｗ／２の範囲に形成されており、幅Ｗの層状のエアーＡＲを吐出できるようになっている。幅Ｗは、流体吐出領域Ｓｆを上方から覆うことができる大きさである。
層状に吐出されるエアーＡＲの層厚さは、下方において飛散する流体ｆと、流体ｆとともに飛散する光学素子Ｌの付着物とが、洗浄槽２の外部に飛び出さない流速および圧力が得られる厚さであれば特に限定されない。
ただし、エアーＡＲの層厚さは、光学素子Ｌ上で水平面に沿う略線状（細長い帯状）に当たる程度であることがより好ましい。例えば、光学素子Ｌ上に当たる略線状の幅が、１ｍｍ以上、１０ｍｍ以下であることがより好ましい。この場合、光学素子Ｌ上の付着物を光学素子Ｌの表面から除去しやすくなる。

第１エアー吐出ノズル１１Ａの吐出方向は、平面視では、洗浄槽２の中心に向かう方向である。
鉛直面内における第１エアー吐出ノズル１１Ａの吐出方向は、洗浄槽２の中心部におけるエアーＡＲが、流体吐出領域Ｓｆの上方に位置していれば、特に限定されない。
ただし、第１エアー吐出ノズル１１Ａの吐出方向は、鉛直面内では、洗浄槽２の中心に向かうにつれて斜め下方に進む方向であることがより好ましい。この場合、光学素子ＬにエアーＡＲが当たったときに、光学素子Ｌ上の水滴や汚れを、洗浄槽２の内部に確実に吹き飛ばすことができる。
本実施形態では、第１エアー吐出ノズル１１Ａから吐出されるエアーＡＲの吐出中心は、第１エアー吐出ノズル１１Ａから洗浄槽２の中心に向かうにつれて、水平面に対して角度θだけ下向きに傾斜している。
角度θは、例えば、０°以上、４５°以下が好ましい。本実施形態では、一例として、角度θは、１０°である。

第２エアー吐出ノズル１１Ｂは、配管１１ｂに接続され、配管１１ｂから供給される圧縮エアーを洗浄槽２の内部にエアーＡＲとして吐出する装置部分である。
第２エアー吐出ノズル１１Ｂは、第１エアー吐出ノズル１１Ａと同様な構成を有し、第２側壁２Ｂに設けられた支持部材２ｃに固定されている。第２エアー吐出ノズル１１Ｂは、第１エアー吐出ノズル１１Ａと配置位置のみが異なる。
第２エアー吐出ノズル１１Ｂは、図１、２に示すように、洗浄槽２内の上部において第２側壁２Ｂの近傍に配置されている。第２エアー吐出ノズル１１Ｂは、第２流体吐出ノズル４Ｂの上方に配置されている。
第２エアー吐出ノズル１１Ｂは、中心面Ｐに関して、第１エアー吐出ノズル１１Ａと面対称に配置されている。

このような本実施形態の構成により、エアー吐出部１０は、第１エアー吐出ノズル１１Ａおよび第２エアー吐出ノズル１１Ｂが互いに対向して配置され、第１エアー吐出ノズル１１Ａおよび第２エアー吐出ノズル１１ＢからのエアーＡＲは、それぞれの先端部が互いに交差するように吐出される。
ただし、本実施形態において、θ＝０°としてもよい。この場合には、第１エアー吐出ノズル１１Ａおよび第２エアー吐出ノズル１１ＢからのエアーＡＲは、それぞれの先端部が互いに対向するように吐出される。

流体吐出部３およびエアー吐出部１０に用いる電磁弁６、１２は、弁操作部８によって、それぞれ独立に開状態、閉状態を切り換えることが可能である。
弁操作部８は、洗浄装置２００の操作者が操作可能な操作スイッチからなる。弁操作部８の種類は特に限定されない。弁操作部８は、例えば、フットスイッチなどを採用することができる。
弁操作部８の操作スイッチは、電磁弁６、１２を完全に独立に操作する構成とすることができる。ただし、本実施形態では、一例として、弁操作部８は、電磁弁６、１２を同時に開状態または閉状態に切り換える方式を採用している。

次に、洗浄装置２００の動作について、洗浄装置２００を用いた本実施形態の洗浄方法とともに説明する。
図４は、本発明の第１の実施形態の洗浄装置の動作を説明するタイミングチャートである。図５は、本発明の第１の実施形態の洗浄装置の模式的な動作説明図である。図６（ａ）、（ｂ）は、本発明の第１の実施形態の洗浄装置の作用を説明する模式図である。
図４において、時刻ｔの添字は、図示の範囲内でより大きな数字の時刻が、より後の時刻を示す。すなわち、ｎ＞ｍならばｔｎ＞ｔｍである（以下の他のタイミングチャートの表記も同様）。

洗浄装置２００によって、光学素子Ｌを洗浄するには、図４に折れ線３０１、３０２に示すように、時刻ｔ１において、弁操作部８を操作して、電磁弁６、１２を開状態とする。これにより、流体吐出部３における流体ｆの吐出と、エアー吐出部１０におけるエアーＡＲの吐出とが開始される。

流体吐出部３において、電磁弁６が開状態になると、配管７ａから送出される圧縮エアーが、配管４ａ、４ｂに流入する。このため、タンク５から供給される純水が、圧縮エアーと混合されて、それぞれ第１流体吐出ノズル４Ａおよび第２流体吐出ノズル４Ｂから流体ｆとして吐出される。このとき、圧縮エアーによって、純水は、粒状体となって、エアーとともに噴射される。
第１流体吐出ノズル４Ａおよび第２流体吐出ノズル４Ｂから吐出された流体ｆは、図５に示すように、第１流体吐出ノズル４Ａおよび第２流体吐出ノズル４Ｂの前方において円錐状の範囲に拡がる。
第１流体吐出ノズル４Ａおよび第２流体吐出ノズル４Ｂから吐出された流体ｆは、洗浄槽２の中心面Ｐにおいて対向し、それぞれの圧力が釣り合う。
中心面Ｐで衝突した流体ｆは、互いに反発して圧力が低下しながら周囲に拡散する。また、流体ｆ中の水は、エアーとともに速度を落として飛散するか、または粒状体同士が凝集して液滴として落下する。
落下した水は、排水ｗとして、ドレイン２Ｆに吸い込まれる。ドレイン２Ｆに落下した排水ｗは、排水口２ｂを通して、洗浄槽２の外部に流出する。
このため、第１流体吐出ノズル４Ａおよび第２流体吐出ノズル４Ｂの間には、２つの円錐がそれぞれの底面で接合したような立体形状の流体吐出領域Ｓｆに、定常的な流体ｆの流れが形成される。

一方、エアー吐出部１０において、電磁弁１２が開状態になると、配管７ｂから送出される圧縮エアーが、配管１１ａ、１１ｂに流入するため、エアー供給源７から供給される圧縮エアーが、それぞれ第１エアー吐出ノズル１１Ａおよび第２エアー吐出ノズル１１Ｂから吐出される。
第１エアー吐出ノズル１１Ａおよび第２エアー吐出ノズル１１Ｂから吐出されたエアーＡＲは、図５に示すように、第１エアー吐出ノズル１１Ａおよび第２エアー吐出ノズル１１Ｂの前方において斜め下方に向かって、層状に吐出される。
第１エアー吐出ノズル１１Ａおよび第２エアー吐出ノズル１１Ｂから吐出されたエアーＡＲは、洗浄槽２の中心面Ｐにおいて交差し、下方に拡散する。
このようにして、第１エアー吐出ノズル１１Ａおよび第２エアー吐出ノズル１１Ｂの間には、断面Ｖ字状の層状のエアー吐出領域Ｓａに、定常的はエアーＡＲの流れが形成される。

エアー吐出領域Ｓａに吐出されたエアーＡＲは、洗浄槽２の開口２ａを横断するエアーカーテンの作用を有する。このため、エアー吐出領域Ｓａの下方における、飛散物、浮遊物が、上方に通り抜けることが抑制される。
本実施形態では、エアー吐出領域Ｓａは、流体吐出領域Ｓｆよりも上方において、流体吐出領域Ｓｆの全体を覆っている。
このため、流体ｆ同士が衝突するなどして、上方に飛散しても、飛散した流体ｆは、エアー吐出領域ＳａにエアーＡＲが吐出されている間は、エアー吐出領域Ｓａの上方に通り抜けることができなくなる。

電磁弁６、１２を開状態にしたら、図５に示すように、洗浄槽２の上方から光学素子Ｌを洗浄槽２の内部に導入する。具体的には、光学素子Ｌを開口２ａの中心部の上方に保持して（図示Ｌ０参照）、洗浄槽２の中心軸線Ｏに沿って下降させる。

光学素子Ｌは、特に洗浄すべき面、例えば、レンズのような板状部材の場合には、レンズ面を、それぞれ第１側壁２Ａ側か第２側壁２Ｂ側に向けて保持する。そして、光学素子Ｌの厚さ方向の中心が、第１側壁２Ａおよび第２側壁２Ｂの間の中心面Ｐに沿う姿勢で、中心軸線Ｏに沿って移動させる。
光学素子Ｌは、再び洗浄槽２の外部に取り出すまでの間、図示略の保持治具に保持してもよいし、保持治具を用いることなく、操作者が手で保持してもよい。
光学素子Ｌが下降するにつれて、エアー吐出領域Ｓａの中心部を下方に通過する（図示Ｌ１参照）。
このとき、光学素子Ｌには、第１側壁２Ａ側の表面と、第２側壁２Ｂ側の表面とに、中心面Ｐに関して対称に吐出されるエアーＡＲが当たるため、水平方向に作用する外力成分が相殺される。このため、エアーＡＲの圧力が高くても安定して移動することが可能である。

図６（ａ）に、エアー吐出領域Ｓａと交差した位置の光学素子Ｌの近傍の様子を示す。
洗浄槽２に導入される光学素子Ｌの表面には、例えば、研磨加工などによって、種々の付着物が付着している。付着物としては、例えば、加工に用いる研磨材、加工で生じた研磨粉などの固形の付着物ｍ１を挙げることができる。他の付着物としては、研磨液のような流体状の付着物ｍ２を挙げることができる。
光学素子Ｌがエアー吐出領域Ｓａを通過すると、光学素子Ｌの表面には、通過方向に対して斜め上方から斜め下方に向かってエアーＡＲが吹き付けられる。吹き付けられたエアーＡＲは、図示奥行き方向にわたって略線状の狭い領域に集中して当たる。エアーＡＲは、光学素子Ｌの表面で、反射し、斜め下方に飛散する。

このとき、光学素子Ｌ上に付着した付着物ｍ１、ｍ２は、エアーＡＲの運動エネルギーを受けて、光学素子Ｌの表面から掻き取られ、エアーＡＲの反射成分とともに、下方に飛散する。流体からなる付着物ｍ２の場合、粒状に掻き取られ粒状体ｍ２’として、光学素子Ｌの表面からかき落とされる。
このように、光学素子Ｌがエアー吐出領域Ｓａを上方から下方に移動することで、光学素子Ｌの表面の付着物ｍ１，ｍ２等が、エアーＡＲからの圧力によって、除去される。
このとき、エアー吐出領域Ｓａが、水平面に対して、角度θだけ下方に傾斜しているため、付着物ｍ１、ｍ２には、鉛直下方に向く外力成分が作用する。
このため、掻き取られた付着物ｍ１および粒状体ｍ２’は、エアー吐出領域Ｓａの下方側に確実に飛散される。
ただし、光学素子Ｌの表面には、エアーＡＲの吹き付けのみによっては、除去されない付着物ｍ１、ｍ２も存在する。

さらに、光学素子Ｌを下方に移動すると、図５に示すように、光学素子Ｌの下端が、流体吐出領域Ｓｆに到達する（図示Ｌ１参照）。この状態に達する時刻を、以下、時刻ｔ２で表す。
光学素子Ｌが流体吐出領域Ｓｆに進入すると、光学素子Ｌの表面には、流体ｆが吹き付けられていく。
流体ｆは、純水の粒状体がエアーと混在した流体である。このため、光学素子Ｌの表面に残存する付着物ｍ１の一部は、純水の粒状体の運動エネルギーを受けることにより、光学素子Ｌの表面から除去される。
また、光学素子Ｌの表面に純水が凝縮していくことで、付着物ｍ１、ｍ２を含む液滴が形成される。光学素子Ｌの表面の液滴は、純水とともに吹き付けられるエアーの圧力によって、下方に押し流される。
光学素子Ｌに吹き付けられる流体ｆの純水は、光学素子Ｌの表面に付着物を含んだ状態で、下方に落下する。
洗浄槽２の底面部２Ｅおよび第１側壁２Ａ、第２側壁２Ｂ、第３側壁２Ｃ、および第４側壁２Ｄの下端部には、減衰材９が配置されているため、下方に飛散した流体ｆ等は、減衰材９に当たると運動エネルギーが吸収されて、流体ｆ中の純水が液滴となる。このため、流体ｆ等が洗浄槽２の内周面に反射するなどして、再び飛び散ることが抑制される。
このようにして、純水および純水に含まれる付着物等は、底面部２Ｅにおいて排水ｗとして合流する。排水ｗは、ドレイン２Ｆに流れ、排水口２ｂから洗浄槽２の外部に排水される。

光学素子Ｌ全体を、流体吐出領域Ｓｆの内部に移動したら（図示Ｌ２参照）、表面の洗浄が完了するために必要な時間だけ、流体吐出領域Ｓｆ内に光学素子Ｌをとどめる。その際、流体ｆが光学素子Ｌに満遍なく当たるように、適宜光学素子Ｌの姿勢を変えたり、鉛直方向または水平方向に移動したりしてもよい。

光学素子Ｌの表面が洗浄されたら、導入時と反対方向に光学素子Ｌを引き上げていく。光学素子Ｌの下端が流体吐出領域Ｓｆを抜ける時刻を、以下、時刻ｔ３とする。

光学素子Ｌの上端がエアー吐出領域Ｓａに達すると、導入時と同様に、光学素子ＬにエアーＡＲが吹き付けられる。さらに、光学素子Ｌを上方に移動すると、光学素子Ｌが、下方からエアー吐出領域Ｓａの上方に抜けていく。
この様子を図６（ｂ）に示す。光学素子Ｌの表面には、清浄な表面に薄い水の層が広がる濡れ部ｎ１や、表面から隆起した液適部ｎ２などが、形成されている。
このような光学素子Ｌの表面にエアーＡＲが吹き付けられることにより、例えば、濡れ部ｎ１の水分が蒸発する。このように、エアーＡＲには、薄層の濡れ部ｎ１を乾燥させる作用がある。
また、液適部ｎ２は、エアー吐出領域Ｓａに上方から進入した場合に付着物ｍ２を下方に飛散させたのと同様にして、液適部ｎ２の一部を下方に掻き落とし、粒状体ｎ２’として落下させる作用もある。
液適部ｎ２には、水に溶け込んだ付着物が含まれるため、光学素子Ｌの表面から付着物を除去する作用もある。

このように、エアー吐出領域Ｓａを下方から通過することで、光学素子Ｌの表面に付着した水分がある程度除去された状態となる。すなわち、エアー吐出領域Ｓａには、洗浄後の光学素子Ｌを水切りする作用がある。

光学素子Ｌを開口２ａから引き上げると、光学素子Ｌの洗浄が終了する。他の光学素子Ｌを洗浄しない場合には、操作者は、弁操作部８を操作して、電磁弁６、１２を閉状態とする（図４の時刻ｔ４参照）。
以上で、洗浄装置２００を用いた光学素子Ｌの洗浄が終了する。

以上に説明したように、本実施形態の洗浄方法は、以下の動作[１]〜[５]を含む。
動作[１]は、洗浄槽２内において、水を含む流体ｆを流体吐出領域Ｓｆに吐出することである。
動作[２]は、流体ｆが吐出される間、流体吐出領域Ｓｆと洗浄槽２の開口２ａとの間を横断するエアー吐出領域ＳａにエアーＡＲを吐出することである。
動作[３]は、光学素子Ｌを、開口２ａからエアー吐出領域Ｓａを経由して流体吐出領域Ｓｆに移動することである。
動作[４]は、流体吐出領域Ｓｆに移動された光学素子Ｌに流体ｆを当てて、光学素子Ｌを洗浄することである。
動作[５]は、洗浄された光学素子Ｌを、流体吐出領域Ｓｆからエアー吐出領域Ｓａを経由して開口２ａを通して洗浄槽２から取り出すことである。

洗浄装置２００を用いた本実施形態の洗浄方法では、光学素子Ｌを洗浄する流体ｆが吐出される間、流体吐出領域Ｓｆと洗浄槽２の開口２ａとの間を流体吐出領域Ｓｆを覆う範囲で横断するエアー吐出領域ＳａにエアーＡＲを吐出できる。
このため、流体吐出領域Ｓｆおよびその周辺で飛散する液滴および固形物は、エアー吐出領域Ｓａを超えて外部には飛散しない。
したがって、洗浄装置２００によれば、コンパクトであっても装置の外部に洗浄用の流体を飛散させることなく、光学素子を容易に洗浄することができる。
このため、例えば、洗浄装置２００の近くに洗浄済みの光学素子Ｌを置いたとしても、光学素子Ｌを汚染するおそれがない。
また、洗浄槽２から、洗浄用の流体が飛散しないように、開口２ａに複雑な開閉機構を設けることなく、開口２ａを簡素な貫通孔のみで構成することができる。このため、開口２ａを開閉操作したりすることなく、容易に光学素子Ｌを出し入れすることができる。
また、洗浄用の流体が開口２ａから外部に漏れないように洗浄槽２を大型化しなくてもよいため、コンパクトな構成とすることができる。

このように、洗浄装置２００をコンパクトに構成することができるため、洗浄装置２００は、光学素子Ｌの加工ラインの近くに配置することが容易となる。このため、加工が終わった光学素子Ｌを迅速に洗浄することができ、加工後の洗浄作業を効率的に行うことができる。

［第１変形例］
次に、上記第１の実施形態の変形例（第１変形例）の洗浄装置について説明する。

図３に示すように、本変形例の洗浄装置２０１は、上記第１の実施形態の洗浄装置２００の弁操作部８に代えて、弁操作部１８を備える。
図１、２に示すように、洗浄装置２０１において、弁操作部１８を除く装置部分は、洗浄装置２００と同様である。
以下、上記第１の実施形態と異なる点を中心に説明する。

本変形例における弁操作部１８は、洗浄の開始操作と、洗浄の終了操作とを行う。
洗浄の開始操作では、電磁弁１２のみを開状態とする。電磁弁６は、電磁弁１２を開状態とした後、時間差ΔＴ１を設けて、開状態とする。
時間差ΔＴ１は、洗浄槽２の内部への光学素子Ｌの移動を開始してから光学素子Ｌの下端が流体吐出領域Ｓｆに到達する時間を想定して予め設定される。
洗浄の終了操作では、電磁弁６のみを閉状態とする。電磁弁１２は、電磁弁６を閉状態とした後、時間差ΔＴ２を設けて、閉状態とする。
時間差ΔＴ２は、洗浄槽２内の光学素子Ｌを上方に移動を開始してから光学素子Ｌの下端がエアー吐出領域Ｓａを抜け出すと想定される時間よりも長い時間が予め設定される。

次に、洗浄装置２０１の動作について、上記第１の実施形態と異なる点を中心に説明する。
図７は、本発明の第１の実施形態の変形例（第１変形例）の洗浄装置を説明するタイミングチャートである。

洗浄装置２０１によって、光学素子Ｌを洗浄するには、図７に折れ線３０３に示すように、時刻ｔ１１において、弁操作部１８を操作して、洗浄の開始操作を行う。まず、電磁弁１２が開状態とされ、エアー吐出部１０におけるエアーＡＲの吐出が開始される。このため、開口２ａの近傍のエアー吐出領域Ｓａに、エアーＡＲが吐出される。
次に、操作者は、上記第１の実施形態と同様にして、光学素子Ｌを開口２ａから下降する。
一方、時間が、ΔＴ１経過した時刻ｔ１２になると、電磁弁１２が自動的に開状態とされる。これにより、流体吐出部３における流体ｆの吐出が開始される。流体ｆは、流体吐出領域Ｓｆに吐出される。
時間差ΔＴ１は、光学素子Ｌの下端がエアー吐出領域Ｓａに到達する時間を想定して設定されている。したがって、光学素子Ｌの移動速度にバラツキによっては、光学素子Ｌの下端が流体吐出領域Ｓｆの領域に到達する際、流体ｆが吐出後の場合もあれば、吐出前の場合もある。
しかし、本変形例では、このようなタイミングのバラツキがあっても、洗浄の終了操作は、操作者が行うことができる。このため、操作者は、流体ｆの吐出開始を確認してから、必要な正味の洗浄時間の間、洗浄を行うことができる。

操作者は、必要な時間だけ、光学素子Ｌを洗浄したら、例えば、時刻ｔ１３において、弁操作部１８により洗浄終了動作を行う。
これにより、まず、電磁弁６が閉状態とされ、流体ｆの吐出が停止される。操作者が光学素子Ｌを上方に移動すると、エアーＡＲは吐出され続けるため、上記第１の実施形態と同様に、光学素子Ｌの表面から、洗浄用の流体等が除去される。
電磁弁１２は、光学素子Ｌを開口２ａの上方に引き上げるのに充分な時間ΔＴ２が経過したときに、自動的に閉状態に切り換えられる。これにより、エアーＡＲの吐出が停止される。
このようにして、洗浄された光学素子Ｌが開口２ａから取り出されてから、洗浄装置２０１が停止される。

本変形例によれば、エアー吐出領域ＳａにエアーＡＲの吐出を開始した後に、流体吐出領域Ｓｆにおける流体ｆの吐出が開始され、流体ｆの吐出が終了した後に、エアーＡＲお吐出が終了する。
このように、流体ｆは、光学素子Ｌを実質的に洗浄している時間帯のみ吐出される。このため、本変形例の洗浄装置２０１によれば、洗浄性能を損なうことなく、流体ｆの供給量を低減することができる。
また、このような電磁弁６、１２のそれぞれの切り換え操作を、弁操作部１８の２回の切り換え操作のみで行えるため、操作者の操作が容易となる。
また、上記第１の実施形態と比べて、流体ｆが吐出されている時間が短いため、流体ｆが洗浄槽２の外部に飛散する可能性がより低減される。

［第２変形例］
次に、上記第１の実施形態の変形例（第２変形例）の洗浄装置について説明する。

図８に示すように、本変形例の洗浄装置２０２は、上記第１の実施形態の第１変形例の洗浄装置２０１の弁操作部１８に代えて、制御部２８を備える。
以下、上記第１変形例と異なる点を中心に説明する。

本変形例における制御部２８は、上記第１変形例の弁操作部１８と同様の洗浄の開始操作と、洗浄の終了操作とを自動的に行う装置部分である。
制御部２８の装置構成は、ハードウェアのみで構成してもよいし、適宜のハードウェアと、ＣＰＵ、メモリ、入出力インターフェース、外部記憶装置などからなるコンピュータとから構成してもよい。
制御部２８の制御開始タイミングは、操作者が操作する図示略の操作スイッチにより設定される。
図７に折れ線３０５で示すように、操作者が、時刻ｔ２１において、図示略の操作スイッチを操作すると、制御部２８は、電磁弁１２のみを開状態として、エアーＡＲの吐出を開始する。
さらに、制御部２８は、折れ線３０６で示すように、ΔＴ１後の時刻ｔ２２に、電磁弁６を開状態とすることにより、第１流体吐出ノズル４Ａおよび第２流体吐出ノズル４Ｂから流体ｆの吐出を開始する。
電磁弁１２、６がともに開状態とされる時間は、予め制御部２８に、例えば、ΔＴ３のように設定されている。このため、制御部２８は、時刻ｔ２２からΔＴ３だけ経過した時刻ｔ２３になると、電磁弁６が閉状態に切り換える。このため、流体ｆの吐出が停止される。
さらに時刻ｔ２３からΔＴ２だけ経過すると、制御部２８は、電磁弁１２も閉状態として、エアーＡＲの吐出を終了させる。

本変形例によれば、予め記憶された動作シーケンスに従って、制御部２８による制御が行われる点を除いて、上記第１変形例と同様に光学素子Ｌを洗浄することができる。
本変形例によれば、操作者は、洗浄を開始する前に図示略の操作スイッチを操作するのみでよいため、容易に光学素子Ｌの洗浄を行うことができる。
また、光学素子Ｌの洗浄を一定の時間内の行うため、特に複数の光学素子Ｌを順次洗浄する場合に、効率的に洗浄を行うことができる。

［第３変形例］
次に、上記第１の実施形態の変形例（第３変形例）の洗浄装置について説明する。
図９は、本発明の第１の実施形態の変形例（第３変形例）の洗浄装置の構成を示す模式的な平面図である。図１０は、本発明の第１の実施形態の変形例（第３変形例）の洗浄装置の主要部の構成を示すブロック図である。

図９、１０に示すように、本変形例の洗浄装置２０３は、上記第１の実施形態の第１変形例の洗浄装置２０１の流体吐出部３に代えて、流体吐出部３３を備え、第１エアー吐出ノズル１１Ａ、第２エアー吐出ノズル１１Ｂの配置位置を変更したものである。
以下、上記第１変形例と異なる点を中心に説明する。

本変形例における流体吐出部３３は、図１０に示すように、上記第１変形例における流体吐出部３に、第１流体吐出ノズル３４Ａ、第２流体吐出ノズル３４Ｂ、および電磁弁３６を追加したものである。第１流体吐出ノズル３４Ａ、第２流体吐出ノズル３４Ｂ、および電磁弁３６は、それぞれ、第１流体吐出ノズル４Ａ、第２流体吐出ノズル４Ｂ、および電磁弁６と同様の構成を有する。

本変形例のエアー供給源７には、配管７ａ、７ｂの他に配管７ｃが接続されている。配管７ｃ上には、電磁弁３６が設けられている。
配管７ｃの先端は、配管３４ａ、３４ｂに分岐している。配管３４ａ、３４ｂは、それぞれ第１流体吐出ノズル３４Ａ、第２流体吐出ノズル３４Ｂに接続されている。
本変形例のタンク５の配管５ａには、配管５ｂ、５ｃの他に、配管５ｄ、５ｅが分岐している。配管５ｄ、５ｅは、それぞれ配管３４ａ、３４ｂに接続されている。

図９に示すように、第１流体吐出ノズル３４Ａ（第２流体吐出ノズル３４Ｂ）は、洗浄槽２の第３側壁２Ｃ（第４側壁２Ｄ）において、第３側壁２Ｃ（第４側壁２Ｄ）の高さ方向の中間部に貫通して設けられている。
第１流体吐出ノズル３４Ａ（第２流体吐出ノズル３４Ｂ）の配置位置は、光学素子Ｌの洗浄位置に応じて適宜設定することができる。本実施形態では、一例として第３側壁２Ｃ（第４側壁２Ｄ）の中心に配置されている。
このような構成により、第１流体吐出ノズル３４Ａおよび第２流体吐出ノズル３４Ｂは、第１流体吐出ノズル４Ａおよび第２流体吐出ノズル４Ｂと同一の高さに配置されている。
このため、本変形例のタンク５は、サイフォン方式により、第１流体吐出ノズル４Ａおよび第２流体吐出ノズル４Ｂの他に、配管３４ａ、３４ｂを介して、第１流体吐出ノズル３４Ａおよび第２流体吐出ノズル３４Ｂにも純水を供給する。

電磁弁３６は、弁操作部１８と電気的に接続されている。
本変形例における弁操作部１８は、電磁弁６、３６の動作を、上記第１変形例と同様に操作することが可能である。

図９に示すように、本変形例における第１エアー吐出ノズル１１Ａおよび第２エアー吐出ノズル１１Ｂの配置位置は、上記第１変形例における平面視の配置を、図示時計回りに４５°回転した点のみが上記第１変形例と異なる。
すなわち、本変形例における第１エアー吐出ノズル１１Ａ（第２エアー吐出ノズル１１Ｂ）は、支持部材２ｃにより、第１側壁２Ａおよび第３側壁２Ｃ（第２側壁２Ｂおよび第４側壁２Ｄ）のなす角部に跨がって固定されている。
本変形例における第１エアー吐出ノズル１１Ａおよび第２エアー吐出ノズル１１Ｂは、開口２ａの対角線に沿う方向において互いに対向している。
本変形例における第１エアー吐出ノズル１１Ａおよび第２エアー吐出ノズル１１Ｂの高さは、上記第１変形例と同様の高さである。

次に、洗浄装置２０３の動作について、上記第１変形例と異なる点を中心に説明する。
洗浄装置２０３によれば、第１流体吐出ノズル４Ａ、第２流体吐出ノズル４Ｂに加えて、第１流体吐出ノズル３４Ａ、第２流体吐出ノズル３４Ｂを備える。
このため、弁操作部１８を操作して、電磁弁６、３６を開状態にすると、第１流体吐出ノズル４Ａ、第２流体吐出ノズル４Ｂ、第１流体吐出ノズル３４Ａ、および第２流体吐出ノズル３４Ｂから、それぞれ円錐状の範囲に流体ｆが吐出される。この結果、図９に示すように、洗浄槽２の中心部で十字状に交錯し、洗浄槽２の中心部において、平面視略八角形上の流体吐出領域Ｓｆに、４方向からの各流体ｆが吐出される。
このような本変形例における流体吐出領域Ｓｆの大きさもまた、光学素子Ｌよりも大きいため、光学素子Ｌを流体吐出領域Ｓｆ内に配置することで、光学素子Ｌの全体を洗浄できる。
その際、本変形例の流体吐出領域Ｓｆでは、光学素子Ｌの表面に種々の方向から流体ｆが当たるため、光学素子Ｌの形状が複雑であっても、効率的に洗浄することができる。

本変形例における第１エアー吐出ノズル１１Ａおよび第２エアー吐出ノズル１１Ｂから吐出されるエアーＡＲのエアー吐出領域Ｓａは、平面視の位置が、上記第１変形例の位置から図示時計回りに４５°回転した位置に形成される点を除いて、上記第１変形例と同様である。
このため、本変形例におけるエアー吐出領域Ｓａもまた、流体吐出領域Ｓｆの上方を覆う領域に形成される。このため、流体吐出領域Ｓｆにおける流体ｆの飛散が上記第１変形例と同様に防止される。

本変形例において、弁操作部１８の操作による、エアーＡＲ、流体ｆの吐出タイミングが上記第１変形例と同様である。このため、洗浄装置２０３による洗浄動作は、流体吐出領域Ｓｆの形状を除くと、上記第１変形例と同様である。
このため、本変形例の洗浄装置２０３は、上記第１変形例の洗浄装置２０１と同様に、コンパクトであっても装置の外部に洗浄用の流体を飛散させることなく、光学素子を容易に洗浄することができる。

［第４変形例］
次に、上記第１の実施形態の変形例（第４変形例）の洗浄装置について説明する。
図１１は、本発明の第１の実施形態の変形例（第４変形例）の洗浄装置の構成を示す模式的な平面図である。図１２は、本発明の第１の実施形態の洗浄装置の変形例（第４変形例）の構成を示す模式的なＢ−Ｂ断面図である。図１３（ａ）は、本発明の第１の実施形態の洗浄装置の変形例（第４変形例）に用いるエアー吐出ノズルによるエアー吐出領域を説明する平面図である。図１３（ｂ）は、図１３（ａ）におけるＣ−Ｃ断面図である。図１３（ｃ）は、図１３（ａ）におけるＤ視図である。

図１１、１２に示すように、本変形例の洗浄装置２０４は、上記第１の実施形態の洗浄装置２００の流体吐出部３、エアー吐出部１０に代えて、それぞれ、流体吐出部４３、エアー吐出部４０を備える。
以下、上記第１の実施形態と異なる点を中心に説明する。

本変形例における流体吐出部４３は、上記第１実施形態における第１流体吐出ノズル４Ａ（第２流体吐出ノズル４Ｂ）を、第１側壁２Ａ（第２側壁２Ｂ）に対して、移動可能に支持するノズル移動部４５Ａ（４５Ｂ）を備える。流体吐出部４３における配管等の構成は、上記第１の実施形態と同様である（図３参照）。

ノズル移動部４５Ａは、第１流体吐出ノズル４Ａを移動して、第１流体吐出ノズル４Ａによる流体吐出領域Ｓｆを移動する装置部分である。
ノズル移動部４５Ａによる第１流体吐出ノズル４Ａの移動は、例えば、平行移動、揺動、およびこれらの組み合わせを挙げることができる。移動方向としては、水平面内の移動、鉛直面内の移動、およびこれらの組み合わせを挙げることができる。
本変形例では、一例としてとして、水平面内および鉛直面内における揺動を採用している。ノズル移動部４５Ａの揺動範囲および揺動周期は、時間とともに変化させることもできるが、本変形例では、それぞれ予め一定値に固定されている。

ノズル移動部４５Ｂは、第２流体吐出ノズル４Ｂを移動して、第２流体吐出ノズル４Ｂによる流体吐出領域Ｓｆを移動する装置部分である。
ノズル移動部４５Ｂは、中心面Ｐに関して、面対称な位置に配置されて、第２流体吐出ノズル４Ｂを支持する点を除いて、ノズル移動部４５Ａと同様の構成を備える。
このため、ノズル移動部４５Ａ、４５Ｂは、第１流体吐出ノズル４Ａおよび第２流体吐出ノズル４Ｂを、中心面Ｐに関して面対称に移動させることが可能である。ただし、ノズル移動部４５Ａ、４５Ｂは、独立に駆動することが可能である。このため、例えば、第１流体吐出ノズル４Ａ、第２流体吐出ノズル４Ｂを互いに正反対の方向に移動することも可能である。

エアー吐出部４０は、上記第１の実施形態におけるエアー吐出部１０の第１エアー吐出ノズル１１Ａ、第２エアー吐出ノズル１１Ｂに代えて、第１エアー吐出ノズル４１Ａ、第２エアー吐出ノズル４１Ｂを備える。
第１エアー吐出ノズル４１Ａ（第２エアー吐出ノズル４１Ｂ）は、図１３（ａ）、（ｂ）に示すように、平面視扇形状の範囲にエアーＡＲを吐出する点が、上記第１の実施形態の第１エアー吐出ノズル１１Ａ（第２エアー吐出ノズル１１Ｂ）と異なる。
このような第１エアー吐出ノズル４１Ａ、第２エアー吐出ノズル４１Ｂは、図１３（ｃ）に第１エアー吐出ノズル４１Ａの例を図示するように、筒状のノズル本体の先端に細長い矩形状のノズル開口Ｎを備える。
第１エアー吐出ノズル４１Ａ、第２エアー吐出ノズル４１Ｂは、図１１、１２に示すように、支持部材２ｃにより、洗浄槽２に対して、第１エアー吐出ノズル１１Ａ、第２エアー吐出ノズル１１Ｂと同様に対向する位置に固定されている。

このため、第１エアー吐出ノズル４１Ａ、第２エアー吐出ノズル４１ＢからエアーＡＲが吐出されると、エアーＡＲは、平面視では、第１側壁２Ａおよび第２側壁２Ｂの中心から内側に向かって扇状に拡がって進み、中心面Ｐで互いに交差する（図１１参照）。
一方、エアーＡＲは、鉛直面では、図１２に示すように、上記第１の実施形態と同様、水平面に対して角度θだけ傾いた平面を中心として、層状に吐出される。
このような構成により、第１エアー吐出ノズル４１Ａ、第２エアー吐出ノズル４１Ｂによれば、平面視では、中心面Ｐ上で幅が最大となる略菱形状に広がり、中心面Ｐに直交する鉛直面内では、下方に凸のＶ字状をなすエアー吐出領域Ｓａに、エアーＡＲが吐出される。
本変形例におけるエアー吐出領域Ｓａは、平面視では、ノズル移動部４５Ａ、４５Ｂを最大限移動して、流体吐出領域Ｓｆの範囲を変えたときにも、流体吐出領域Ｓｆを上方から覆うことができる範囲に形成される。

このような構成の洗浄装置２０４によれば、エアー吐出領域Ｓａの平面視形状が上記第１の実施形態と異なるものの、流体吐出領域Ｓｆと開口２ａとの間を流体吐出領域Ｓｆを覆う範囲で横断するエアー吐出領域ＳａにエアーＡＲを吐出できる。
このため、上記第１の実施形態と同様に、流体吐出領域Ｓｆおよびその周辺で飛散する液滴および固形物は、エアーＡＲが吐出されている間は、エアー吐出領域Ｓａを超えて外部には飛散しない。
したがって、コンパクトであっても装置の外部に洗浄用の流体を飛散させることなく、光学素子を容易に洗浄することができる。

さらに、本変形例によれば、ノズル移動部４５Ａ、４５Ｂによって、第１流体吐出ノズル４Ａ、第２流体吐出ノズル４Ｂを移動して、流体ｆの吐出方向を変化させることができるため、光学素子Ｌの全体を満遍なく洗浄することができる。このため、光学素子Ｌの位置、姿勢を洗浄槽２の内部で固定して洗浄を行っても、流体ｆの当たりのムラを低減できるため、容易かつ効率的に洗浄を行うことができる。

［第２の実施形態］
本発明の第２の実施形態の洗浄装置について説明する。
図１４は、本発明の第２の実施形態の洗浄装置の構成を示す縦断面の部分断面図である。図１５は、図１４におけるＥ−Ｅ断面図である。図１６は、本発明の第２の実施形態の洗浄装置の主要部の構成を示すブロック図である。

上記第１の実施形態の洗浄装置２００は、光学素子Ｌを鉛直方向に進退させて、洗浄を行う装置である。これに対して、図１４、１５に示すように、本実施形態の洗浄装置２０５は、光学素子Ｌを、水平方向の一直線上に延びる直線経路Ｑに沿って移動して洗浄する装置である。
洗浄装置２０５は、上記第１の実施形態における洗浄槽２、エアー吐出部１０、および弁操作部８に代えて、洗浄槽５２、エアー吐出部５０、および制御部５８（図１６参照）を備える。
洗浄装置２０５は、さらに、接触洗浄部５５と、移動部５６とが追加されている。
以下、上記第１の実施形態と異なる点を中心に説明する。

洗浄槽５２は、直線経路Ｑを囲み、直線経路Ｑに沿って第１端部Ｅ１から第２端部Ｅ２まで延びる略矩形状の筐体からなる。洗浄槽５２には、後述する移動部５６が、第１端部Ｅ１から第２端部Ｅ２まで、水平方向に沿って挿通されている。
洗浄槽５２は、底面部５２Ｅ（洗浄槽の下部）、ドレイン５２Ｆ、第１側壁５２Ａ、第２側壁５２Ｂ、左側側壁５２Ｃ、右側側壁５２Ｄ、および天面部５２Ｇを備える。

第１側壁５２Ａは、洗浄槽５２の延在方向の第１端部Ｅ１に設けられた側壁部である。第１側壁５２Ａの中央部には、第１の開口５２ａが貫通されている。第１の開口５２ａの大きさおよび形状は、後述する移動部５６と、移動部５６とともに移動する光学素子Ｌとが通過できる大きさおよび形状とされる。
本実施形態では、光学素子Ｌは、直線経路Ｑに沿って、第１端部Ｅ１から第２端部Ｅ２に向かう方向を見たとき、光学素子Ｌの厚さ方向が左右の方向となる姿勢で移動される。その際、光学素子Ｌは、移動部５６よりも下側に保持された状態で移動される。
このため、第１の開口５２ａは、一例として、縦長の矩形開口で構成される。

第２側壁５２Ｂは、洗浄槽５２の第２端部Ｅ２において、第１側壁５２Ａと水平方向に対向して配置された側壁部である。第２側壁５２Ｂの中央部には、第１の開口５２ａと同形状の第２の開口５２ｂが、第１の開口５２ａと対向する位置に貫通されている。

底面部５２Ｅは、第１側壁５２Ａの下端部から第２側壁５２Ｂ下端部に延びる板状部からなる。図１４に示すように、底面部５２Ｅには、下方に凸の傾斜面からなる。底面部５２Ｂの最下部には、ドレイン５２Ｆが形成されている。
ドレイン５２Ｆは、光学素子Ｌを洗浄する際に吐出される水および水に含まれる光学素子Ｌの汚れを、洗浄槽２の外部に排出するための管路である。ドレイン５２Ｆは、図示略の排水処理槽に接続されている。
ドレイン５２Ｆの配置位置は、排水が円滑に行えれば、特に限定されないが、排水の発生源に近い場所に設けることが好ましい。例えば、ドレイン５２Ｆは、後述する本実施形態の流体吐出部３の直下、あるいは、流体吐出部３と接触洗浄部５５との間に設けることが可能である。
ドレイン５２Ｆは、上記第１の実施形態におけるドレイン２Ｆと同様に、下方に凸のすり鉢状の凹部の中心に排水口が設けられている。
ドレイン５２Ｆは１箇所には限定されず、底面部５２Ｅ内の複数箇所に設けられていてもよい。

左側側壁５２Ｃは、底面部５２Ｅ上において、第１側壁５２Ａの左側の端部と第２側壁５２Ｂの左側の端部との間に立設された側壁部である。
右側側壁５２Ｄは、底面部５２Ｅ上において、第１側壁５２Ａの右側の端部と第２側壁５２Ｂの右側の端部との間に立設された側壁部である。
天面部５２Ｇは、底面部５２Ｅと対向して配置された板状部である。天面部５２Ｇは、第１側壁５２Ａ、第２側壁５２Ｂ、左側側壁５２Ｃ、および右側側壁５２Ｄの各上端部に接続されている。

エアー吐出部５０は、洗浄槽５２内において後述する流体吐出領域Ｓｆと開口との間を横断するエアー吐出領域に、エアーを吐出する装置部分である。
ただし、本実施形態では、開口が、第１の開口５２ａと、第２の開口５２ｂとからなるため、エアー吐出部５０は、第１のエアー吐出部５０Ａと、第２のエアー吐出部５０Ｂとからなる。

第１のエアー吐出部５０Ａは、洗浄槽５２内において、後述する流体吐出領域Ｓｆと第１の開口５２ａとの間を横断する第１のエアー吐出領域ＳＡａに、エアーを吐出する装置部分である。
図１６に示すように、第１のエアー吐出部５０Ａは、エアー供給源７、第１エアー吐出ノズル５１Ａ、および第２エアー吐出ノズル５１Ｂを備える。
本実施形態におけるエアー供給源７は、配管７ｂと、配管７ｂ上に設けられた電磁弁１２Ａとを有する。電磁弁１２Ａは、後述する制御部５８によって、開状態と閉状態との切り換えが可能である。電磁弁１２Ａが開状態とされると、配管７ｂを通して、第１のエアー吐出部５０Ａに圧縮エアーが供給される。
配管７ｂの先端は、配管５１ａ、５１ｂに分岐している。配管５１ａは、第１エアー吐出ノズル５１Ａに接続されている。配管５１ｂは、第２エアー吐出ノズル５１Ｂに接続されている。
ただし、本実施形態におけるエアー供給源７は、後述する第２のエアー吐出部５０Ｂおよび本実施形態の流体吐出部３にも共通使用される。

第１エアー吐出ノズル５１Ａおよび第２エアー吐出ノズル５１Ｂは、それぞれ、上記第１の実施形態の第１エアー吐出ノズル１１Ａおよび第２エアー吐出ノズル１１Ｂと同様の構成を有し、上記第１の実施形態と配置位置および姿勢が異なる。
第１エアー吐出ノズル５１Ａは、幅ＷにわたってエアーＡＲを吐出するノズル部の先端が鉛直方向に沿う姿勢（図１４参照）で、直線経路Ｑと左側側壁５２Ｃとの間に配置される（図１５参照）。
平面視における第１エアー吐出ノズル５１ＡからのエアーＡＲの吐出方向は、図１５に示すように、直線経路Ｑに直交する鉛直面に対して、図示反時計回りに角度θだけ回転させた方向に合わされている。
ここで角度θは、上記第１の実施形態における第１エアー吐出ノズル１１Ａと水平面との傾斜角度と同じである。
第２エアー吐出ノズル５１Ｂは、直線経路Ｑを通る鉛直面に関して、第１エアー吐出ノズル５１Ａと面対称となる位置関係に配置されている。

このような配置により、平面視では、第１の開口５２ａの近傍において、第１の開口５２ａから第２の開口５２ｂに向かう方向（図示左から右に向かう方向）に凸のＶ字状の層状領域である第１のエアー吐出領域ＳＡａに、第１エアー吐出ノズル５１Ａおよび第２エアー吐出ノズル５１ＢからエアーＡＲが吐出される。
すなわち、図１５における第１のエアー吐出領域ＳＡａは、図２に示すエアー吐出領域Ｓａを図示時計回りに９０°回転したのと同様である。直線経路Ｑを含む鉛直面は、上記第１の実施形態における中心面Ｐと同様の位置関係にある。
本実施形態において、第１エアー吐出ノズル５１Ｃおよび第２エアー吐出ノズル５１Ｄから吐出されるエアーＡＲは、直線経路Ｑを含む鉛直面上で交わる。
第２のエアー吐出領域ＳＢａの側面視の形状は、特に図示しないが、第１エアー吐出ノズル５１Ｃと第２エアー吐出ノズル５１Ｄとの間に延びる幅Ｗの矩形状の領域である。

第２のエアー吐出部５０Ｂは、洗浄槽５２内において、後述する流体吐出領域Ｓｆと第２の開口５２ｂとの間を横断する第２のエアー吐出領域ＳＢａに、エアーを吐出する装置部分である。
図１６に示すように、第２のエアー吐出部５０Ｂは、エアー供給源７、第１エアー吐出ノズル５１Ｃ、および第２エアー吐出ノズル５１Ｄを備える。
本実施形態におけるエアー供給源７は、配管７ｃと、配管７ｃ上に設けられた電磁弁１２Ｂとを有する。電磁弁１２Ｂは、後述する制御部５８によって、開状態と閉状態との切り換えが可能である。電磁弁１２Ｂが開状態とされると、配管７ｃを通して、第２のエアー吐出部５０Ｂに圧縮エアーが供給される。
配管７ｃの先端は、配管５１ｃ、５１ｄに分岐している。配管５１ｃは、第１エアー吐出ノズル５１Ｃに接続されている。配管５１ｄは、第２エアー吐出ノズル５１Ｄに接続されている。

第１エアー吐出ノズル５１Ｃおよび第２エアー吐出ノズル５１Ｄは、それぞれ、第１エアー吐出ノズル５１Ａおよび第２エアー吐出ノズル５１Ｂと同様の構成を有し、直線経路Ｑに沿う水平方向において、第１エアー吐出ノズル５１Ａおよび第２エアー吐出ノズル５１Ｂとそれぞれ対応して配置されている。
第１エアー吐出ノズル５１Ｃおよび第２エアー吐出ノズル５１Ｄの配置姿勢は、角度θの傾斜方向が逆になっている以外は、第１の開口５２ａに対する第１エアー吐出ノズル５１Ａおよび第２エアー吐出ノズル５１Ｂの配置姿勢と同様である。

第１エアー吐出ノズル５１Ｃは、幅ＷにわたってエアーＡＲを吐出するノズル部の先端が鉛直方向に沿う姿勢（図１４参照）で、直線経路Ｑと左側側壁５２Ｃとの間に配置される（図１５参照）。
平面視における第１エアー吐出ノズル５１ＣからのエアーＡＲの吐出方向は、図１５に示すように、直線経路Ｑに直交する鉛直面に対して、図示時計回りに角度θだけ回転させた方向に合わされている。ここで角度θは、上記第１の実施形態における第１エアー吐出ノズル１１Ａの傾斜角度と同じである。
第２エアー吐出ノズル５１Ｄは、直線経路Ｑを通る鉛直面に関して、第１エアー吐出ノズル５１Ｃと面対称となる位置関係に配置されている。

このような配置により、平面視では、第２の開口５２ｂの近傍において、第２の開口５２ｂから第１の開口５２ａに向かう方向（図示右から左に向かう方向）に凸のＶ字状の層状領域である第２のエアー吐出領域ＳＢａに、第１エアー吐出ノズル５１Ｃおよび第２エアー吐出ノズル５１ＤからエアーＡＲが吐出される。
すなわち、図１５における第２のエアー吐出領域ＳＢａは、図２に示すエアー吐出領域Ｓａを図示時計回りに９０°回転したのと同様の状態に形成される。直線経路Ｑを含む鉛直面は、上記第１の実施形態における中心面Ｐと同様の位置関係にある。第１エアー吐出ノズル５１Ａおよび第２エアー吐出ノズル５１Ｂから吐出されるエアーＡＲは、直線経路Ｑを含む鉛直面上で交わる。
第１のエアー吐出領域ＳＡａの側面視の形状は、特に図示しないが、第１エアー吐出ノズル５１Ａと第２エアー吐出ノズル５１Ｂとの間に延びる幅Ｗの矩形状の領域である。

図１５に示すように、第１のエアー吐出領域ＳＡａと第２のエアー吐出領域ＳＢａとの間には、本実施形態の流体吐出部３と、接触洗浄部５５とがこの順に配置される。
本実施形態の流体吐出部３は、光学素子Ｌが直線経路Ｑに沿って水平方向に移動されることに対応して、上記第１の実施形態の流体吐出部３を、直線経路Ｑを挟むように配置した点のみが異なる。すなわち、上記第１の実施形態における中心面Ｐの位置が、直線経路Ｑを含む鉛直面に一致するように、第１流体吐出ノズル４Ａおよび第２流体吐出ノズル４Ｂを配置する。第１流体吐出ノズル４Ａは、直線経路Ｑと左側側壁５２Ｃとの間に配置する。第２流体吐出ノズル４Ｂは、直線経路Ｑと右側側壁５２Ｄとの間に配置する。
また、本実施形態の流体吐出部３において、図１６に示すように、電磁弁６は、後述する制御部５８と電気的に接続され、制御部５８によって、開状態と閉状態とが切り換えられる。

電磁弁６が開状態とされると、図１５に示すように、第１流体吐出ノズル４Ａおよび第２流体吐出ノズル４Ｂの間の流体吐出領域Ｓｆに流体ｆが吐出される。
第１流体吐出ノズル４Ａおよび第２流体吐出ノズル４Ｂの配置位置は、流体吐出領域Ｓｆが第１のエアー吐出領域ＳＡａよりも洗浄槽５２の内側になるとともに、直線経路Ｑに沿って第１の開口５２ａを見たとき、第１のエアー吐出領域ＳＡａの範囲内に流体吐出領域Ｓｆが重なる位置に設定する。

接触洗浄部５５は、流体吐出領域Ｓｆを通過して流体ｆによる洗浄が終了した光学素子Ｌの表面に洗浄部材５５Ａ、５５Ｂを接触させて光学素子Ｌの表面の汚れを落とす装置部分である。
洗浄部材５５Ａ、５５Ｂとしては、例えば、光学素子Ｌを傷つけない柔軟な繊維で構成されたブラシ、光学素子Ｌを傷つけない柔軟なスポンジ等の多孔質体あるいは起毛体を表面に有するローラなどを採用することができる。本実施形態では、一例として、円筒状の領域において径方向に延びる繊維が多数配置されたブラシを採用している。
洗浄部材５５Ａ（５５Ｂ）の中心には、図示略の軸受により、回転可能に支持された回転軸５５ａ（５５ｂ）が設けられている。回転軸５５ａ（５５ｂ）の端部は、図示略の伝動機構を介して、洗浄部材駆動モータ５５ｃ（図１６参照）に連結されている。
洗浄部材駆動モータ５５ｃは、後述する制御部５８と通信可能に接続され、制御部５８からの制御信号に基づいて駆動される。

回転軸５５ａ、５５ｂは、直線経路Ｑを挟んで互いに水平方向に離間した位置において、それぞれ鉛直方向に沿って延ばされている。
回転軸５５ａ、５５ｂの間隔は、少なくとも、光学素子Ｌが間を通過する際には、洗浄部材５５Ａ、５５Ｂの外周部が光学素子Ｌの表面とそれぞれ接触する間隔になっている。

回転軸５５ａ、５５ｂの間隔は、固定されていてもよいし、調整可能になっていてもよい。回転軸５５ａ、５５ｂの間隔が固定される場合には、洗浄部材５５Ａ、５５Ｂの外周部が、例えば、光学素子Ｌの最小厚さ以下の隙間をあけて対向するか、もしくは、隙間をあけることなく対向する間隔にする。
回転軸５５ａ、５５ｂの間隔を調整可能とする場合には、例えば、回転軸５５ａ、５５ｂをそれぞれ回転する洗浄部材駆動モータ５５ｃを別々に設け、各洗浄部材駆動モータ５５ｃを、リニアガイド等の移動機構によって移動可能に支持する構成を採用することができる。この場合には、移動機構は、後述する制御部５８と通信可能に接続され、制御部５８からの制御信号によって回転軸５５ａ、５５ｂの間隔が調整される。
回転軸５５ａ、５５ｂの間隔は、光学素子Ｌの種類によって、厚さが変化するごとに、変えることができる。
また、光学素子Ｌの厚さが、場所によって、変化する場合には、光学素子Ｌの厚さに応じて、回転軸５５ａ、５５ｂの間隔を動的に変えてもよい。また、光学素子Ｌの厚さがあまり変わらない場合でも、場所により洗浄力を変える目的で、回転軸５５ａ、５５ｂの間隔を変えてもよい。

回転軸５５ａ、５５ｂの回転方向は、光学素子Ｌに対して相対移動することにより、光学素子Ｌの汚れを落とすことができれば、特に限定されない。より低速で回転させることができる点では、光学素子Ｌの移動方向の反対方向に移動する回転方向であることが好ましい。

洗浄部材５５Ａ、５５Ｂは、光学素子Ｌと接触して洗浄を行う際に、光学素子Ｌと接触する領域に純水を放出する構成としてもよい。例えば、純水を供給する管路を回転軸５５ａ、５５ｂの内部に設け、回転軸５５ａ、５５ｂの表面に放水穴を空ける構成が可能である。
この場合、光学素子Ｌの表面と洗浄部材５５Ａ、５５Ｂの間に純水が供給されることで、洗浄部材５５Ａ、５５Ｂによる洗浄効果をさらに高めることができる。
洗浄部材５５Ａ、５５Ｂおよび光学素子Ｌから下方に落下した水は、底面部５２Ｅ上に落下して、ドレイン５２Ｆを通して、洗浄槽５２の外部に排出される。

移動部５６は、光学素子Ｌを保持し、光学素子Ｌを、直線経路Ｑに沿って、第１の開口５２ａの外側から、洗浄槽５２の内部を通過して、第２の開口５２ｂの外側に移動する装置部分である。
移動部５６は、図１４に示すように、ガイド部材５６ａ、移動体５６ｂ、および保持部５７を備える。

ガイド部材５６ａは、後述する移動体５６ｂの移動をガイドする部材である。ガイド部材５６ａは、第１の開口５２ａおよび第２の開口５２ｂの上部を通って、直線経路Ｑと平行に配置された真直に延ばされている。
移動体５６ｂは、ガイド部材５６ａに沿って、ガイド部材５６ａ上を移動する部材である。
ガイド部材５６ａおよび移動体５６ｂの構成は特に限定されない。例えば、電動軸ロボットやロボシリンダを有するような構成や、ボールネジとステッピングモーターとガイドレールを組み合わせたような構成や、ラックアンドピニオンとステッピングモーターを組み合わせたような構成や、スカラーロボットや多間接ロボットのような構成としてもよい。移動体５６ｂは、自走してもよいし、外部の駆動部から動力が供給されて移動してもよい。また、ガイド部材５６ａ自体が移動体５６ｂを移動する移動機構を備えてもよい。
移動部５６は、後述する制御部５８と通信可能に接続され、制御部５８からの制御信号によって移動体５６ｂの移動位置および移動速度が制御される。
以下では、一例として、ガイド部材５６ａがリニアガイドであり、移動体５６ｂがガイド部材５６ａ上を移動するスライダであるとして説明する。

保持部５７は、移動体５６ｂに固定され、光学素子Ｌを保持する装置部分である。本実施形態では、移動体５６ｂから鉛直下方に延ばされた保持アーム５７ａと、保持アーム５７ａに、光学素子Ｌを把持する把持部５７ｂ、５７ｃとを備える。
把持部５７ｂ、５７ｃは、本実施形態では、光学素子Ｌの厚さ方向を、直線経路Ｑに直交する水平軸に平行となる向きに、光学素子Ｌの外周部を把持する。
把持部５７ｂ、５７ｃの把持間隔は、光学素子Ｌの外形の大きさに合わせて調整できるようになっている。

制御部５８は、洗浄装置２０５の動作を制御する装置部分である。
洗浄装置２０５の動作の制御としては、洗浄動作の制御と、光学素子Ｌの移動動作の制御とを挙げることができる。
洗浄動作の制御は、電磁弁６、１２Ａ、１２Ｂの開閉制御と、接触洗浄部５５の動作制御とを行う。
光学素子Ｌの移動動作の制御としては、移動部５６の移動制御を行う。
それぞれの制御の詳細については、洗浄装置２０５の動作説明の中で説明する。
制御部５８の装置構成は、適宜のハードウェアと、ＣＰＵ、メモリ、入出力インターフェース、外部記憶装置などからなるコンピュータとを備える。制御部５８は、後述する制御機能を、各制御機能に対応する制御プログラムを、コンピュータで実行することで実現する。

次に、洗浄装置２０５の動作について、上記第１の実施形態と異なる点を中心に説明する。
図１７は、本発明の第２の実施形態の洗浄装置の動作を説明するタイミングチャートである。

洗浄装置２０５を用いて行う本実施形態の洗浄方法は、水平方向における直線経路Ｑに沿って、光学素子Ｌを移動することにより、直線経路Ｑ上に配置された第１の開口５２ａ、流体吐出領域Ｓｆ、および第２の開口５２ｂを順次通過させることにより行う。
さらに、本実施形態の洗浄方法は、流体ｆによる洗浄を行った後に、光学素子Ｌの表面に洗浄部材５５Ａ、５５Ｂを接触させる洗浄動作を行う。
光学素子Ｌの移動は、制御部５８によって制御された移動部５６によって行われる。

洗浄装置２０５によって光学素子Ｌを洗浄するには、図１４、１５に示すように、予め、移動部５６を第１の開口５２ａの近傍の洗浄槽５２の外部に移動しておく（位置Ｐ１という）。そして、位置Ｐ１において、保持部５７に光学素子Ｌを保持させる（図１４、１５のＬ１参照）。
次に、操作者が、時刻ｔ５１において、図示略の操作スイッチを操作すると、制御部５８による洗浄装置２０５の動作制御が開始される。
図１７に示すように、制御部５８は、移動部５６を制御して、時刻ｔ５１から時刻ｔ５６の間に、光学素子Ｌが保持された保持部５７を位置Ｐ１から位置Ｐ６まで移動させる。
ここで、位置Ｐ６は、光学素子Ｌ全体が第２の開口５２ｂを通して、洗浄槽５２の外部に出た状態となる位置である（図１４、１５のＬ６参照）。

時刻ｔ５１から時刻ｔ５６までの移動部５６による移動体５６ｂの移動速度は、適宜設定することができる。例えば、移動体５６ｂの移動速度は、流体吐出領域Ｓｆを通過する時間や、接触洗浄部５５を通過する時間は、必要な洗浄を行うために適切な時間となるように、移動中に変化させることができる。移動速度の変化は、移動体５６ｂの移動を一時停止する場合を含む。さらに、例えば、移動体５６ｂが流体吐出領域Ｓｆの範囲で往復移動を繰り返すように移動速度を変化させてもよい。
予め、流体吐出領域Ｓｆの大きさや接触洗浄部５５の洗浄力を適宜に設定しておけば、移動体５６ｂは等速度で移動することも可能である。
以下では、制御部５８は、一例として、図１７の直線３１０で示すように、移動体５６ｂを等速度で移動する場合の例で説明する。

さらに、制御部５８は、折れ線３１１、３１４で示すように、時刻ｔ５１において、電磁弁１２Ａ、１２Ｂを開状態とすることにより、第１のエアー吐出部５０Ａおよび第２のエアー吐出部５０Ｂの第１のエアー吐出領域ＳＡａおよび第２のエアー吐出領域ＳＢａに、エアーＡＲの吐出を開始する。
第１のエアー吐出領域ＳＡａおよび第２のエアー吐出領域ＳＢａは、流体吐出領域Ｓｆと第１の開口５２ａおよび第２の開口５２ｂとの間を横断している。このため、流体吐出領域Ｓｆに流体ｆが吐出されても、第１の開口５２ａおよび第２の開口５２ｂから外部への、流体ｆ等の飛散を抑制することができる。
さらに、第２のエアー吐出領域ＳＢａは、接触洗浄部５５と第２の開口５２ｂとの間も横断している。このため、接触洗浄部５５による洗浄が開始されて、洗浄部材５５Ａ、５５Ｂの回転により光学素子Ｌの付着物が周囲に飛散しても、第２の開口５２ｂから外部への、付着物等の飛散を抑制することができる。

移動体５６ｂが移動して、光学素子Ｌが第１のエアー吐出領域ＳＡａに達すると第１のエアー吐出領域ＳＡａに吐出されるエアーＡＲを横切って進む（図１４、１５のＬ２参照）。その際、上記第１の実施形態とまったく同様に、エアーＡＲによって、光学素子Ｌ上に付着した付着物の一部が除去される。
このとき、エアーＡＲは、光学素子Ｌの移動方向と同方向の洗浄槽５２の内側に向かって傾斜しているため、除去された付着物は、洗浄槽５２内に飛散される。

光学素子Ｌは、時刻ｔ５２において、光学素子Ｌにおける移動方向の先端（以下、単に先端と称する）が流体吐出領域Ｓｆに到達する（位置Ｐ２という）。
制御部５８は、折れ線３１２で示すように、時刻ｔ５２において、電磁弁６を開状態とすることにより、第１流体吐出ノズル４Ａおよび第２流体吐出ノズル４Ｂから流体ｆの吐出を開始する。これにより、流体吐出領域Ｓｆに進入した光学素子Ｌ（図１４、１５のＬ３参照）が、上記第１の実施形態と同様にして、流体ｆによって洗浄される。光学素子Ｌに吹き付けられた流体ｆは、反射されて飛散されるか、または光学素子Ｌの表面に凝縮した後、表面の汚れ等とともに、下方に落下する。底面部５２Ｅに落下した流体ｆ等は、ドレイン５２Ｆを通して、洗浄槽５２の外部に排出される。

光学素子Ｌは、時刻ｔ５３において、先端が接触洗浄部５５と接触可能な位置に到達する（位置Ｐ３という）。
制御部５８は、折れ線３１３で示すように、時刻ｔ５３において、洗浄部材駆動モータ５５ｃの駆動を開始することにより、洗浄部材５５Ａ、５５Ｂの回転を開始する。
洗浄部材５５Ａ、５５Ｂの間に進入した光学素子Ｌ（図１４、１５のＬ４参照）の表面には、回転駆動される洗浄部材５５Ａ、５５Ｂが接触する。これにより、光学素子Ｌに残存する付着物に対して洗浄部材５５Ａ、５５Ｂと接触しつつ相対移動するため、光学素子Ｌに残存する付着物が除去される。
洗浄部材５５Ａ、５５Ｂから純水を放出する場合には、付着物と光学素子Ｌとの付着力が低減され、付着物が純水とともに押し流される作用もあるため、さらに付着物を除去しやすくなる。

このように、洗浄部材５５Ａ、５５Ｂを回転接触させる場合、光学素子Ｌの表面に、例えば、砥粒などの大きな付着物が存在すると、光学素子Ｌが傷つくおそれもある。しかし、本実施形態では、洗浄部材５５Ａ、５５Ｂによる洗浄を開始する前に、流体ｆによる洗浄を行うことで、光学素子Ｌの表面の大きな付着物は除去されている。このため、光学素子Ｌが傷つくことが防止される。

光学素子Ｌは、時刻ｔ５４において、光学素子Ｌにおける移動方向の後端（以下、単に後端という）が流体吐出領域Ｓｆの範囲外に到達する（位置Ｐ４という）。
制御部５８は、折れ線３１２で示すように、時刻ｔ５４において、電磁弁６を閉状態にすることにより、流体吐出領域Ｓｆにおける流体ｆの吐出を停止する。このため、上記第１変形例と同様に、洗浄性能を損なうことなく、流体ｆの供給量を低減することができる。

なお、本実施形態では、洗浄槽５２に小型化を図るために、流体吐出領域Ｓｆと接触洗浄部５５との間の距離を光学素子Ｌの移動方向の幅よりも短くしている。このため、接触洗浄部５５を始動してから流体ｆの吐出を停止している。
しかし、流体吐出領域Ｓｆと接触洗浄部５５との間の距離は、光学素子Ｌの移動方向の幅よりも長くしてもよい。この場合には、光学素子Ｌが流体吐出領域Ｓｆを抜けてから、接触洗浄部５５の洗浄が行われる。このため、流体ｆを停止してから接触洗浄部５５を始動するようにする。

光学素子Ｌは、時刻ｔ５５において、後端が接触洗浄部５５と接触可能な領域の範囲外に到達する（位置Ｐ５という）。
制御部５８は、折れ線３１３で示すように、時刻ｔ５５において、洗浄部材駆動モータ５５ｃの駆動を停止することにより、洗浄部材５５Ａ、５５Ｂの回転を停止する。これにより、接触洗浄部５５による洗浄動作が終了する。

その後、光学素子Ｌは、さらに第２の開口５２ｂに向かって移動される。光学素子Ｌは、第２のエアー吐出領域ＳＢａを横切って進む（図１４、１５のＬ５参照）。その際、第１のエアー吐出領域ＳＡａと通過する際と同様に、エアーＡＲによって、光学素子Ｌ上に付着した付着物の一部が除去される。ただし、第２のエアー吐出領域ＳＢａでは、エアーＡＲは、光学素子Ｌの移動方向と反対方向の洗浄槽５２の内側に向かって傾斜しているため、除去された付着物が、洗浄槽５２内に飛散される。

光学素子Ｌは、時刻ｔ５６において、第２のエアー吐出領域ＳＢａおよび第２の開口５２ｂを通り抜けて、第２の開口５２ｂの近傍における洗浄槽５２の外部の位置（位置Ｐ６という）に到達する（図１４、１５のＬ６参照）。
以上で、洗浄装置２０５を用いた光学素子Ｌの洗浄が終了する。

洗浄装置２０５を用いた本実施形態の洗浄方法では、光学素子Ｌを直線経路Ｑに沿って一方向に移動する間に、光学素子Ｌの流体ｆによる洗浄と、洗浄部材５５Ａ、５５Ｂによる洗浄とを順次自動的に行うことができる。
その際、いずれの洗浄が行われている間にも、第１の開口５２ａと流体吐出領域Ｓｆとの間を横断する第１のエアー吐出領域ＳＡａにエアーＡＲが吐出される。また、第２の開口５２ｂと、流体吐出領域Ｓｆおよび接触洗浄部５５との間の横断する第２のエアー吐出領域ＳＢａにエアーＡＲが吐出される。
このため、流体吐出領域Ｓｆおよび接触洗浄部５５の周辺で飛散する液滴および固形物は、第１のエアー吐出領域ＳＡａおよび第２のエアー吐出領域ＳＢａを超えて外部に飛散することを抑制できる。
したがって、洗浄装置２０５によれば、コンパクトであっても装置の外部に洗浄用の流体を飛散させることなく、光学素子を容易に洗浄することができる。
このため、例えば、洗浄装置２０５の近くに洗浄済みの光学素子Ｌを置いたとしても、光学素子Ｌを汚染するおそれがない。
また、洗浄槽５２から、洗浄用の流体が飛散しないように、第１の開口５２ａ、第２の開口５２ｂに複雑な開閉機構を設けることなく、第１の開口５２ａ、第２の開口５２ｂを簡素な貫通孔のみで構成することができる。このため、第１の開口５２ａ、第２の開口５２ｂを開閉操作したりすることなく、容易に光学素子Ｌを出し入れすることができる。
また、洗浄用の流体が第１の開口５２ａ、第２の開口５２ｂから外部に漏れないように洗浄槽５２を大型化しなくてもよいため、コンパクトな構成とすることができる。

このように、洗浄装置２０５をコンパクトに構成することができるため、洗浄装置２０５は、光学素子Ｌの加工ラインの近くに配置することが容易となる。このため、加工が終わった光学素子Ｌを迅速に洗浄することができ、加工後の洗浄作業を効率的に行うことができる。

［第５変形例］
次に、上記第２の実施形態の変形例（第５変形例）の洗浄装置について説明する。
図１８は、本発明の第２の実施形態の変形例（第５変形例）の洗浄装置の構成を示す縦断面の部分断面図である。図１９は、図１８におけるＦ−Ｆ断面図である。図２０は、本発明の第２の実施形態の変形例（第５変形例）の洗浄装置の主要部の構成を示すブロック図である。

図１８、１９、２０に示すように、本変形例の洗浄装置２０６は、上記第２の実施形態の洗浄装置２０５の接触洗浄部５５を削除し、洗浄槽５２、制御部５８に代えて、洗浄槽６２、制御部６８を備える。
以下、上記第２の実施形態と異なる点を中心に説明する。

図１８、１９に示すように、洗浄槽６２は、上記第２の実施形態における洗浄槽５２の第１端部Ｅ１から第２端部Ｅ２までの長さを短縮した点が、上記第２実施形態の洗浄槽５２と異なる。
洗浄槽６２は、上記第２の実施形態における洗浄槽５２の左側側壁５２Ｃ、右側側壁５２Ｄ、底面部５２Ｅ、および天面部５２Ｇに代えて、直線経路Ｑに沿う方向の長さが短縮された左側側壁６２Ｃ、右側側壁６２Ｄ、底面部６２Ｅ（洗浄槽の下部）、および天面部６２Ｇを備える。
洗浄槽５２から短縮する長さは、接触洗浄部５５を削除することにより、不要となったスペースの直線経路Ｑに沿う方向の長さである。
本変形例では、水平方向におけるドレイン５２Ｆの位置は、流体吐出領域Ｓｆの直下に移動されている。

図２０に示すように、制御部６８は、接触洗浄部５５が削除されたことに対応して、接触洗浄部５５の制御機能が削除された点が、上記第２の実施形態の制御部５８と異なる。
ただし、直線経路Ｑ上の光学素子Ｌの移動距離が異なるため、移動部５６、電磁弁６、１２Ａ、１２Ｂに対する制御タイミングは適宜変更されている。

本変形例の洗浄装置２０６によれば、接触洗浄部５５による洗浄を行わない点を除いて、上記第２の実施形態と同様にして、光学素子Ｌを洗浄することができる。
洗浄装置２０６によれば、接触洗浄部５５が削除されているため、よりコンパクトな構成となる。

［第３の実施形態］
本発明の第３の実施形態の洗浄装置について説明する。
図２１は、本発明の第３の実施形態の洗浄装置の構成を示す縦断面の部分断面図である。図２２は、図２１におけるＧ−Ｇ断面図である。図２３は、本発明の第３の実施形態の洗浄装置の主要部の構成を示すブロック図である。

上記第２の実施形態の洗浄装置２０５は、光学素子Ｌを水平方向に延びる直線経路Ｑに沿って一方向に光学素子Ｌを移動して、洗浄を行う装置である。これに対して、図２１、２２に示すように、本実施形態の洗浄装置２０７は、光学素子Ｌを水平方向延びる直線経路Ｑに沿って往復移動して洗浄する装置である。
洗浄装置２０７は、上記第２の実施形態における洗浄槽５２、エアー吐出部５０、および制御部５８に代えて、洗浄槽７２、エアー吐出部７０、および制御部７８（図２３参照）を備える。
以下、上記第２の実施形態と異なる点を中心に説明する。

洗浄槽７２は、上記第２の実施形態における洗浄槽５２の第１端部Ｅ１から第２端部Ｅ２までの長さを短縮した点と、洗浄槽５２から第２の開口５２ｂを削除した点とが、上記第２実施形態の洗浄槽５２と異なる。
洗浄槽７２は、上記第２の実施形態における洗浄槽５２の左側側壁５２Ｃ、右側側壁５２Ｄ、底面部５２Ｅ、および天面部５２Ｇに代えて、直線経路Ｑに沿う方向の長さが短縮された左側側壁７２Ｃ、右側側壁７２Ｄ、底面部７２Ｅ（洗浄槽の下部）、および天面部７２Ｇを備える。
洗浄槽５２から短縮する長さは、上記第２の実施形態において第２のエアー吐出部５０Ｂがしめるスペースの直線経路Ｑに沿う方向の長さである。
さらに、洗浄槽７２は、第２側壁５２Ｂに代えて、第２側壁５２Ｂから第２の開口５２ｂを削除して、貫通孔を有しない板状の第２側壁７２Ｂを備える。このため、洗浄槽７２において、光学素子Ｌが通過できる大きさの開口は、第１端部Ｅ１における第１の開口５２ａのみである。

エアー吐出部７０は、上記第２の実施形態におけるエアー吐出部５０のうち、第２のエアー吐出部５０Ｂを削除したものである。
すなわち、エアー吐出部７０は、上記第２の実施形態における第１のエアー吐出部５０Ａと同様の構成を備える。

図２３に示すように、制御部７８は、第２のエアー吐出部５０Ｂが削除されたことに対応して、電磁弁６、１２Ａ、移動部５６、および洗浄部材駆動モータ５５ｃのみを制御する点が、上記第２の実施形態における制御部５８と異なる。
制御部７８の制御動作については、洗浄装置２０７の動作説明の中で説明する。

次に、洗浄装置２０７の動作について、上記第２の実施形態と異なる点を中心に説明する。
図２４は、本発明の第３の実施形態の洗浄装置の動作を説明するタイミングチャートである。

洗浄装置２０７を用いて行う本実施形態の洗浄方法は、水平方向における直線経路Ｑに沿って、光学素子Ｌを往復移動することにより行う。往路では、光学素子Ｌは、直線経路Ｑ上に配置された第１の開口５２ａ、第１のエアー吐出領域ＳＡａ、流体吐出領域Ｓｆ、および接触洗浄部５５を通過する。復路では、光学素子Ｌは、これらを逆順に通過して、洗浄槽７２の外部に移動される。
光学素子Ｌの移動は、制御部７８で制御された移動部５６によって行われる。

図２４に示すように、制御部７８は、移動部５６を制御して、時刻ｔ７１から時刻ｔ７８の間に、光学素子Ｌが保持された保持部５７を位置Ｐ１と位置Ｐ５との間を往復させる。ここで、位置Ｐ５は、上記第２の実施形態と同様、光学素子Ｌの後端が接触洗浄部５５と接触可能な領域の範囲外に到達する位置である。

洗浄装置２０７における往路の位置Ｐ１から位置Ｐ４までの動作は、第２のエアー吐出部５０Ｂに関する動作が行われない点を除くと、上記第２の実施形態において、光学素子Ｌが位置Ｐ１から位置Ｐ４に到るまでの動作と同様である。
すなわち、図２１、２２に示すように、位置Ｐ１において、光学素子Ｌを保持部５７に光学素子Ｌを保持させる（図２１、２２のＬ１参照）。
次に、操作者が、時刻ｔ７１において、図示略の操作スイッチを操作すると、制御部７８による洗浄装置２０７の動作制御が開始される。
なお、本実施形態において、制御部７８が移動体５６ｂの移動速度を変化させてもよいことは上記第２の実施形態と同様である。
以下では、制御部７８は、一例として、図２３の折れ線３２０で示すように、往路と復路とでは、同一の速さで移動し、移動方向のみが変更される場合の例で説明する。

さらに、制御部７８は、折れ線３２１で示すように、時刻ｔ７１において、電磁弁１２Ａを開状態とすることにより、第１のエアー吐出部５０Ａの第１のエアー吐出領域ＳＡａに、エアーＡＲの吐出を開始する。
第１のエアー吐出領域ＳＡａは、流体吐出領域Ｓｆと第１の開口５２ａとの間を横断している。このため、流体吐出領域Ｓｆに流体ｆが吐出されても、第１の開口５２ａから外部への、流体ｆ等の飛散を抑制することができる。
一方、本実施形態では、接触洗浄部５５は、流体吐出領域Ｓｆよりも内側にあって、第２端部Ｅ２側では、洗浄槽７２に囲まれている。このため、接触洗浄部５５による洗浄が開始されて、洗浄部材５５Ａ、５５Ｂの回転により光学素子Ｌの付着物が周囲に飛散しても、洗浄槽７２の外部には、付着物等が飛散することはない。

移動体５６ｂが、上記第２の実施形態と同様の位置Ｐ２，Ｐ３、Ｐ４に移動すると、それぞれ、折れ線３２２、３２３で示す動作が行われる。
すなわち、光学素子Ｌは、第１のエアー吐出領域ＳＡａに吐出されるエアーＡＲを横切って移動し（図２１、２２のＬ２参照）、時刻ｔ７２に位置Ｐ２に到達する。時刻ｔ７２では、制御部７８が、電磁弁６を開状態とされることにより、流体吐出部３による流体ｆの吐出を開始する。
流体吐出領域Ｓｆにおける光学素子Ｌ（図２１、２２のＬ３参照）は、上記第２の実施形態と同様にして、流体ｆによって洗浄される。
光学素子Ｌは、時刻ｔ７３において、位置Ｐ３に到達する。時刻ｔ７３では、制御部７８は、洗浄部材駆動モータ５５ｃの駆動を開始することにより、洗浄部材５５Ａ、５５Ｂの回転を開始する。
これにより、光学素子Ｌ（図２１、２２のＬ４参照）の表面が、上記第２の実施形態と同様に、洗浄部材５５Ａ、５５Ｂによって洗浄される。
光学素子Ｌは、時刻ｔ７４において、位置Ｐ４に到達する。時刻ｔ７４では、制御部７８は、折れ線３２２で示すように、電磁弁６を閉状態にすることにより、流体ｆの吐出を停止する。

光学素子Ｌは、時刻ｔ７５において、位置Ｐ５に到達する。上記第２の実施形態では、位置Ｐ５では、洗浄部材駆動モータ５５ｃを停止した。しかし本実施形態では、制御部７８は、洗浄部材駆動モータ５５ｃの駆動を続ける。
時刻ｔ７５において、制御部７８は、移動体５６ｂの移動を停止し、移動体５６ｂの移動方向を切り換える。
光学素子Ｌは、位置Ｐ５から上記と逆の経路をたどって、位置Ｐ１に戻される。
この復路の動作は、往路の動作を逆に繰り返すのみであるため、説明は省略する。
光学素子Ｌが位置Ｐ１に戻ると、制御部７８は、洗浄装置２０７の動作を停止する。
以上で、光学素子Ｌの洗浄が終了する。

洗浄装置２０７を用いた本実施形態の洗浄方法では、光学素子Ｌを直線経路Ｑに沿って往復移動する間に、光学素子Ｌの流体ｆによる洗浄と、洗浄部材５５Ａ、５５Ｂによる洗浄とが、それぞれ２回ずつ自動的に行われる。
その際、いずれの洗浄が行われている間にも、第１の開口５２ａと流体吐出領域Ｓｆとの間を横断する第１のエアー吐出領域ＳＡａにエアーＡＲが吐出される。
このため、流体吐出領域Ｓｆおよび接触洗浄部５５の周辺で飛散する液滴および固形物は、第１のエアー吐出領域ＳＡａを超えて外部には飛散することを抑制できる。

特に、本実施形態の洗浄装置２０７よれば、エアー吐出部が、エアー吐出部７０のみであるため、上記第２の実施形態の洗浄装置２０５に比べて、洗浄槽７２の大きさを小型化することができる。
また、上記第２の実施形態の洗浄装置２０５に比べて、エアー吐出部の数が少ないため、部品コストを低減することができる。また、エアー供給源７からの配管が簡素化され、エアー制御も容易となる。
さらに、洗浄槽７２の内部を往復することにより、複数回の洗浄を行うことができるため、上記第２の実施形態よりも小さな洗浄槽７２を用いて、２倍の洗浄を行うことができる。このため、よりコンパクト化しつつ、洗浄能力を向上することができる。

以上、第１〜第３の実施形態および第１変形例〜第５変形例について説明した。以下では、これら各実施形態および各変形例のいずれにも用いることができるエアー吐出部の変形例（第６〜第９変形例）について説明する。

[第６変形例]
上記各実施形態および各変形例の洗浄装置におけるエアー吐出部に代えて用いることができる第６変形例のエアー吐出部について説明する。
図２５は、本発明の各実施形態および各変形例に用いることができるエアー吐出部の変形例（第６変形例）を示す模式図である。

図２５に示すように、本変形例のエアー吐出部８０は、第１エアー吐出ノズル８１Ｃと、第２エアー吐出ノズル８１Ｄとを、図示略のエアー供給源に接続した構成を備える。エアー供給源から供給される圧縮エアーは、適宜の電磁弁等によって供給タイミングが制御される。
第１エアー吐出ノズル８１Ｃ（第２エアー吐出ノズル８１Ｄ）は、例えば、上記第１の実施形態における第１エアー吐出ノズル１１Ａ（第２エアー吐出ノズル１１Ｂ）と同様の構成、もしくは上記第４変形例の第１エアー吐出ノズル４１Ａ（第２エアー吐出ノズル４１Ｂ）と同様の構成を採用することができる。

エアー吐出部８０は、上記各実施形態および各変形例のエアー吐出部に代えて用いることができる。エアー吐出部８０は、光学素子Ｌを洗浄槽に導入する開口または光学素子Ｌを洗浄槽の外部に移動する開口の近傍に配置される。
エアー吐出部８０の第１エアー吐出ノズル８１Ｃおよび第２エアー吐出ノズル８１Ｄは、光学素子Ｌの移動方向Ｍに直交する方向において互いに正対する位置から、移動方向Ｍにおける相対位置が距離ｄ１だけずれた位置に配置されている。図２５に示す例では、第１エアー吐出ノズル８１Ｃに対する第２エアー吐出ノズル８１Ｄの位置が、移動方向Ｍに向かってｄ１だけずれている。距離ｄ１は、移動方向Ｍにおける光学素子Ｌの幅ｄ_Ｌよりも短い。

第１エアー吐出ノズル８１Ｃ（第２エアー吐出ノズル８１Ｄ）からエアーＡＲが吐出されると、光学素子Ｌの移動経路に向かう層状のエアー吐出領域ＳＣａ（ＳＤａ）に吐出される。
エアー吐出領域ＳＣａ、ＳＤａは、互いに平行または略平行に配置されることで、互いに交差しない位置に形成される。図２５には、一例として、エアー吐出領域ＳＣａ、ＳＤａは、移動方向Ｍに直交する方向に沿って,互いに平行に形成される場合の例を示している。

本変形例のエアー吐出部８０によれば、図示略の開口と図示略の洗浄槽における流体吐出領域Ｓｆとの間が、エアー吐出領域ＳＣａ、ＳＤａに吐出されるエアーＡＲによって、互いに反対方向から二重に横断される。
このため、光学素子Ｌがエアー吐出領域ＳＣａ、ＳＤａを通過しない間は、図示略の開口が二重のエアーＡＲの層によって塞がれた状態になる。このため、流体吐出領域Ｓｆから飛散する流体ｆ等が、開口から飛散することを抑制することができる。
さらに、光学素子Ｌがエアー吐出領域ＳＣａ、ＳＤａを通過する場合にも、まず、エアー吐出領域ＳＣａの一部が光学素子Ｌで遮られてから、エアー吐出領域ＳＤａの一部が光学素子Ｌで遮られる。このため、光学素子Ｌよりも下流側でエアーＡＲの層が乱れても、移動方向Ｍから見ると、第１エアー吐出ノズル８１Ｃから、光学素子Ｌまでは、エアー吐出領域ＳＣａにおけるエアーＡＲの層が開口を覆っている。また、第２エアー吐出ノズル８１Ｄから、光学素子Ｌまでは、エアー吐出領域ＳＤａにおけるエアーＡＲの層が開口を覆っている。すなわち、移動方向Ｍから見ると、開口と重なる領域は、光学素子Ｌを挟むエアー吐出領域ＳＣａ、ＳＤａにおけるエアーＡＲの層によって塞がれた状態になる。
このため、流体吐出領域Ｓｆから飛散する流体ｆ等が、開口から飛散することを抑制することができる。

[第７変形例]
上記各実施形態および各変形例の洗浄装置におけるエアー吐出部に代えて用いることができる第７変形例のエアー吐出部について説明する。
図２６は、本発明の各実施形態および各変形例に用いることができるエアー吐出部の変形例（第７変形例）を示す模式図である。

図２６に示すように、本変形例のエアー吐出部９０は、上記第６変形例のエアー吐出部８０における第１エアー吐出ノズル８１Ｃと第２エアー吐出ノズル８１Ｄとの間の移動方向Ｍにおける距離を、ｄ１からｄ２に変更したものである。
距離ｄ２は、移動方向Ｍにおける光学素子Ｌの幅ｄ_Ｌよりも長い。

本変形例のエアー吐出部９０によれば、光学素子Ｌを移動方向Ｍに沿って移動する場合、光学素子Ｌがエアー吐出領域ＳＣａを通過し終わるまで、エアー吐出領域ＳＤａが光学素子Ｌによって遮られることがない。また、光学素子Ｌがエアー吐出領域ＳＤａを通過する間、エアー吐出領域ＳＣａが光学素子Ｌによって遮られることがない。
このため、光学素子Ｌがエアー吐出領域ＳＣａ、ＳＤａを横切る間、光学素子Ｌの移動方向から見ると、開口と重なる領域は、エアー吐出領域ＳＣａ、ＳＤａのいずれか一方のエアーＡＲの層が横断している。このため、光学素子Ｌが通過する方のエアー吐出領域が、光学素子Ｌの通過によって乱れても、光学素子Ｌが通過していない方のエアー吐出領域のエアーＡＲの層によって、流体吐出領域Ｓｆから飛散する流体ｆ等が、開口から飛散することを確実に抑制することができる。

[第８変形例]
上記各実施形態および各変形例の洗浄装置におけるエアー吐出部に代えて用いることができる第８変形例のエアー吐出部について説明する。
図２７は、本発明の各実施形態および各変形例に用いることができるエアー吐出部の変形例（第８変形例）を示す模式図である。

図２７に示すように、本変形例のエアー吐出部１００は、上記第６変形例のエアー吐出部８０に、吸気部１０１Ｃ、１０１Ｄを追加したものである。
吸気部１０１Ｃは、第１エアー吐出ノズル８１Ｃから吐出されたエアーＡＲを、エアーＡＲが吐出された層状の範囲において、吸引する装置部分である。
吸気部１０１Ｃは図示略の吸引管路と接続されている。吸引管路には、適宜の吸引ポンプが接続されている。このため、吸気部１０１Ｃは、第１エアー吐出ノズル８１ＣからエアーＡＲが吐出される間は、エアーＡＲを吸引する。
吸気部１０１Ｃは、第２エアー吐出ノズル８１Ｄに隣り合う位置において、第１エアー吐出ノズル８１Ｃと対向する位置に配置されている。
吸気部１０１Ｄは、第２エアー吐出ノズル８１Ｄから吐出されたエアーＡＲを、エアーＡＲが吐出された層状の範囲において、吸引する装置部分である。吸気部１０１Ｄは図示略の吸引管路と接続されている。吸引管路には適宜の吸引ポンプが接続されている。このため、吸気部１０１Ｄは、第２エアー吐出ノズル８１ＤからエアーＡＲが吐出される間は、エアーＡＲを吸引する。
吸気部１０１Ｄは、第１エアー吐出ノズル８１Ｃに隣り合う位置において、第２エアー吐出ノズル８１Ｄと対向する位置に配置されている。

本変形例のエアー吐出部１００によれば、第１エアー吐出ノズル８１Ｃと吸気部１０１Ｃとの間、および第２エアー吐出ノズル８１Ｄと吸気部１０１Ｄとの間に、エアーＡＲが吐出されると、定常的な層流によるエアーカーテンが形成される。
このため、エアー吐出領域ＳＣａ、ＳＤａに吐出されるエアーＡＲの層によって、より確実に、流体吐出領域Ｓｆから飛散する流体ｆ等が、開口から飛散することを抑制することができる。

[第９変形例]
上記各実施形態および各変形例の洗浄装置におけるエアー吐出部に代えて用いることができる第９変形例のエアー吐出部について説明する。
図２８は、本発明の各実施形態および各変形例に用いることができるエアー吐出部の変形例（第９変形例）の構成を示す模式的な断面図である。

図２８に示すように、本変形例のエアー吐出部１１０は、上記第６変形例のエアー吐出部８０において、第２エアー吐出ノズル８１Ｄを削除したものである。このため、エアー吐出部１１０におけるエアー吐出ノズルは、第１エアー吐出ノズル８１Ｃのみである。
例えば、エアー吐出部１１０を上記第１の実施形態のエアー吐出部１０に代えて用いる場合、図示略の開口と、流体吐出領域Ｓｆとの間には、エアー吐出領域ＳＣａのみが横断することになる。
本変形例では、エアー吐出領域ＳＣａと、流体吐出領域Ｓｆとの間の距離が、移動方向Ｍにおける光学素子Ｌの長さよりも大きくなるように、エアー吐出部１１０を配置する。

本変形例のエアー吐出部１１０によれば、光学素子Ｌが移動方向Ｍに沿って移動すると、光学素子Ｌによってエアー吐出領域ＳＣａにおけるエアーＡＲの一部が遮られる。このとき、図示略の開口を移動方向Ｍにおいて外部から見ると、光学素子ＬよりもエアーＡＲの下流側（図示右側）では、流体吐出領域Ｓｆの領域の一部がエアーＡＲに覆われないことになる。
しかし、このように光学素子ＬがエアーＡＲを遮った状態では、光学素子Ｌは流体吐出領域Ｓｆに進入していない。したがって、流体吐出領域Ｓｆにおける流体ｆの流れが光学素子Ｌに乱されることがない。このため、流体吐出領域Ｓｆからの流体ｆの飛散は少ない。

さらに、光学素子Ｌを移動して、流体吐出領域Ｓｆ内に光学素子Ｌが移動すると、流体ｆが、光学素子Ｌの表面で反射したり、飛散されたりする。このため、光学素子Ｌの周りに流体ｆの流れが拡がり、上方に向かう流体ｆが増大する。
しかし、このとき、光学素子Ｌはエアー吐出領域ＳＣａを下方側に抜けているため、光学素子Ｌおよび流体吐出領域Ｓｆの上方には、エアー吐出領域ＳＣａの全体にエアーＡＲが流れている。
このため、光学素子Ｌの周囲の流体ｆの流れが上方に向かっても、流体ｆおよび流体ｆによって飛散された光学素子Ｌの付着物などは、エアー吐出領域ＳＣａを超えて上方に飛散することがない。

このように、本変形例では、エアー吐出部１１０のエアー吐出ノズルが第１エアー吐出ノズル８１Ｃのみであっても、光学素子Ｌを洗浄する流体ｆが吐出される間、流体吐出領域Ｓｆと洗浄槽の開口との間を横断するエアー吐出領域ＳＣａにエアーＡＲを吐出できる。このため、エアー吐出部１１０を備える洗浄装置は、コンパクトであっても装置の外部に洗浄用の流体を飛散させることなく、光学素子を容易に洗浄することができる。

なお、上記各実施形態および各変形例の説明では、１つの光学素子Ｌを洗浄する場合の例で説明した。しかし、複数の光学素子Ｌが、開口および流体吐出領域Ｓｆを通過できる大きさの範囲に保持されれば、複数の光学素子Ｌを同時に洗浄することも可能である。
また、例えば、上記第２の実施形態および上記第５変形例において、移動部５６が、複数の移動体５６ｂおよび保持部５７を順次移動できる構成とすれば、複数の光学素子Ｌを順次、洗浄槽５２内を移動して、複数の光学素子Ｌを連続的に移動して洗浄を行うことも可能である。
この場合、移動部５６のガイド部材５６ａは、洗浄槽５２を通過する部分のみに、直線経路Ｑを備え、洗浄槽５２の外部をループ状に周回して、全体として閉ループ状に構成してもよい。このような構成とすれば、移動体５６ｂおよび保持部５７をガイド部材５６ａ上で循環させて、多数の光学素子Ｌを順次連続的に洗浄することができる。

上記各実施形態および各変形例では、エアー吐出部が、流体吐出領域Ｓｆと洗浄槽の開口との間のみに設けられた場合の例で説明した。しかし、エアー吐出部は、洗浄槽の内部のさらに追加して設けてもよい。
この場合、追加されたエアー吐出部からエアーＡＲが吐出されることで、洗浄槽の内部が小領域に仕切られる。このため、小領域間を跨ぐ流体の飛散を防止できる。
例えば、上記第２の実施形態において、流体吐出部３と接触洗浄部５５との間にエアー吐出部を追加すれば、流体吐出領域Ｓｆで、光学素子Ｌに当たって飛散した流体が、接触洗浄部５５の領域に飛散しない。さらに、接触洗浄部５５によって周囲に飛散した流体が流体吐出領域Ｓｆにまで飛散することもない。
このため、光学素子Ｌの洗浄中の再汚染を防止できる。
さらに、光学素子Ｌが、追加されたエアー吐出部を通過する際には、光学素子Ｌの表面の付着物を除去する作用も加わる。このため、光学素子Ｌが接触洗浄部５５に到達する際の光学素子Ｌの表面の付着物をさらに低減することができる。

上記各実施形態および各変形例では、洗浄槽に１つの流体吐出部が設けられた場合の例で説明した。しかし、流体吐出部は、洗浄槽に何個設けられていてもよい。
例えば、必要な洗浄時間に合わせて、複数個の流体吐出部を光学素子Ｌの移動経路に沿って配置すれば、光学素子Ｌの移動を減速または停止することなく、必要な洗浄時間を確保できる。
また、複数の流体吐出部は、流体ｆの吐出方向を変えて配置してもよい。この場合、光学素子Ｌの移動中に姿勢を変えたり、流体吐出部の流体吐出ノズルの向きを変えたりしなくても、光学素子Ｌを種々の方向から洗浄することができる。
例えば、上記第３変形例において、第１流体吐出ノズル４Ａおよび第２流体吐出ノズル４Ｂと、第１流体吐出ノズル３４Ａおよび第２流体吐出ノズル３４Ｂの配置高さを変えたような構成が可能である。
また、複数の流体吐出部は、例えば、吐出圧を変えたり、純水の量を変えたりして、洗浄力が異なるものを配置してもよい。

上記第２の実施形態および上記第５変形例では、光学素子Ｌの移動経路が、一直線上に沿っている場合の例で説明した。しかし、光学素子Ｌの移動経路は、このような直線経路Ｑには限定されない。
光学素子Ｌの移動経路は、エアー吐出部５０、流体吐出部３等の光学素子Ｌが通過すべき装置部分の配置に合わせて適宜の経路を採用することができる。
例えば、光学素子Ｌは、Ｕ字のような曲線、円弧、折れ線などの種々の線上に沿って移動させることが可能である。

上記第２および第３の実施形態では、洗浄を行う間、エアーＡＲが連続的に吐出され、流体ｆは、光学素子Ｌが流体吐出領域Ｓｆを通過する間のみ、吐出される場合の例で説明した。しかし、流体ｆの吐出タイミングは、エアーＡＲが吐出されている期間内であれば、適宜設定することができる。
例えば、光学素子Ｌが流体吐出領域Ｓｆに入る前に流体ｆの吐出を開始してもよい。さらに光学素子Ｌが流体吐出領域Ｓｆに出た後に流体ｆの吐出を停止してもよい。
また、光学素子Ｌが流体吐出領域Ｓｆに進入した後に流体ｆの吐出を開始してもよい。さらに光学素子Ｌが流体吐出領域Ｓｆを出る前に流体ｆの吐出を停止してもよい。

上記第２および第３の実施形態では、光学素子Ｌの光軸が水平となる向きで水平方向に移動する場合の例で説明した。この場合、光学素子Ｌのレンズ面等の光学面が略鉛直方向に沿うため、洗浄用の流体が下降しやすい。
しかし、光学素子Ｌを水平方向に移動する場合に、光学素子Ｌの光軸が水平でない姿勢で水平方向に移動する構成としてもよい。
例えば、水平面に対して、光学素子Ｌの光軸が角度φだけ回転した姿勢で光学素子Ｌを移動してもよい。
この場合、例えば、上記第２の実施形態においては、移動部５６、第１の開口５２ａ、第１のエアー吐出部５０Ａ、流体吐出部３、接触洗浄部５５、第２のエアー吐出部５０Ｂ、および第２の開口５２ｂの向きを、光学素子Ｌの姿勢に合わせて直線経路Ｑを中心としてφ回転させた構成とすればよい。

例えば、上記第３の実施形態においては、移動部５６、第１の開口５２ａ、エアー吐出部７０、流体吐出部３、および接触洗浄部５５の向きを、光学素子Ｌの姿勢に合わせて直線経路Ｑを中心としてφ回転させた構成とすればよい。
特に、φとして９０°とすれば、光学素子Ｌを保持する際、光学素子Ｌの下面を下方から支持する載置部があればよいため、保持部５７の構成が簡素化される。また、光学素子Ｌは、このような載置部に載置すれば自重でも位置が安定するため、光学素子Ｌの移動部に対する着脱が容易となる。

また、上記第２の実施形態の第５変形例の場合には、移動部５６、第１の開口５２ａ、および第２の開口５２ｂの向きのみを、直線経路Ｑを中心としてφ回転させた構成としてもよい。
これは、エアー吐出部７０、流体吐出部３は、光学素子Ｌの通過が直線経路Ｑ回りに回転しても、光学素子Ｌの通過に支障がないためである。
これに対して、上記第２および第３の実施形態では、接触洗浄部５５における洗浄部材５５Ａ、５５Ｂの対向方向を光学素子Ｌの厚さ方向（光軸に沿う方向）に合わせないと、洗浄部材５５Ａ、５５Ｂの洗浄効果が低下してしまう。
ただし、流体吐出部３の洗浄効果や、エアー吐出部７０による付着物の除去効果もある程度は低下する。このため、第５変形例でも、上記第２の実施形態と同様に、エアー吐出部７０および流体吐出部３の向きも光学素子Ｌの向きに合わせてφ回転することより好ましい。

上記第１の実施形態の第１変形例では、流体ｆを吐出するタイミングが予め決められている場合の例で説明した。しかし、例えば、光学素子Ｌの位置を検出するセンサを設けておき、光学素子Ｌが特定の位置に到達したことを検出して、流体ｆの吐出を開始したり、停止したりしてもよい。

上記に説明したすべての構成要素は、本発明の技術的思想の範囲で適宜組み合わせたり、削除したりして実施することができる。
例えば、上記第２変形例における第１エアー吐出ノズル１１Ａ、第２エアー吐出ノズル１１Ｂは、他の実施形態および変形例における、第１流体吐出ノズル４Ａ、第２流体吐出ノズル４Ｂに代えて用いることができる。
例えば、上記第２変形例におけるノズル移動部４５Ａ、４５Ｂを、他の実施形態および変形例に用いることができる。
例えば、上記第２の実施形態における移動部５６を、上記第１の実施形態およびその各変形例に用いることができる。

２、５２、６２、７２ 洗浄槽
２ａ 開口
２Ｅ、５２Ｅ、６２Ｅ、７２Ｅ 底面部（洗浄槽の下部）
２Ｆ、５２Ｆ ドレイン
３、３３、４３ 流体吐出部
４Ａ、３４Ａ 第１流体吐出ノズル
４Ｂ、３４Ｂ 第２流体吐出ノズル
８、１８ 弁操作部
１０、４０、５０、７０、８０、９０、１００、１１０ エアー吐出部
１１Ａ、４１Ａ、５１Ａ、５１Ｃ、８１Ｃ 第１エアー吐出ノズル
１１Ｂ、４１Ｂ、５１Ｂ、５１Ｄ、８１Ｄ 第２エアー吐出ノズル
２８、５８、６８、７８ 制御部
４５Ａ、４５Ｂ ノズル移動部
５０Ａ 第１のエアー吐出部
５０Ｂ 第２のエアー吐出部
５２ａ 第１の開口
５２ｂ 第２の開口
５５ 接触洗浄部
５５Ａ、５５Ｂ 洗浄部材
５６ 移動部
１０１Ｃ、１０１Ｄ 吸気部
２００、２０１、２０２、２０３、２０４、２０５、２０６、２０７ 洗浄装置
ＡＲ エアー
ｆ 流体
Ｌ 光学素子
Ｍ 移動方向
Ｏ 中心軸線
Ｐ 中心面
Ｑ 直線経路
Ｓａ、ＳＣａ、ＳＤａ エアー吐出領域
ＳＡａ 第１のエアー吐出領域
ＳＢａ 第２のエアー吐出領域
Ｓｆ 流体吐出領域

Claims (14)

1. 光学素子を洗浄する洗浄装置であって、
   前記光学素子が通過できる大きさの開口が形成された洗浄槽と、
   前記洗浄槽内において、水を含む流体を流体吐出領域に吐出し、前記流体吐出領域にて、前記光学素子を洗浄する流体吐出部と、
   前記洗浄槽内において前記流体吐出領域と前記開口との間を横断するエアー吐出領域に、エアーを吐出するエアー吐出部と、
   を備え、
   前記エアー吐出部は、
   前記流体吐出部から前記流体が吐出される間、前記エアーを吐出でき、複数のエアー吐出ノズルが互いに対向して配置され、前記複数のエアー吐出ノズルからの前記エアーは、それぞれの先端部が、互いに対向もしくは互いに交差するように吐出される、
   洗浄装置。
2. 前記エアー吐出部は、
   前記光学素子が前記開口と前記流体吐出領域との間を移動する間、前記エアーを吐出できる、
   請求項１に記載の洗浄装置。
3. 前記開口は、前記洗浄槽の上部に形成され、
   前記流体吐出領域は、前記開口の下方に形成され、
   前記流体吐出領域よりも下方となる前記洗浄槽の下部に、吐出された前記流体を排出するドレインが設けられている、
   請求項１に記載の洗浄装置。
4. 前記開口は、前記洗浄槽の側面に形成され、
   前記流体吐出領域は、前記開口を水平に通過する経路上に形成され、
   前記流体吐出領域よりも下方となる前記洗浄槽の下部に、吐出された前記流体を排出するドレインが設けられている、
   請求項１記載の洗浄装置。
5. 前記開口は、
   第１の開口と、
   第２の開口と、
   を含み、
   前記エアー吐出部は、
   前記洗浄槽内において、前記流体吐出領域と前記第１の開口との間を横断する第１のエアー吐出領域に、エアーを吐出する第１のエアー吐出部と、
   前記洗浄槽内において、前記流体吐出領域と前記第２の開口との間を横断する第２のエアー吐出領域に、エアーを吐出する第２のエアー吐出部と、
   を含む、
   請求項１から４のいずれか１項に記載の洗浄装置。
6. 前記第１の開口、前記第１のエアー吐出領域、前記流体吐出領域、前記第２のエアー吐出領域、および前記第２の開口は、
   前記光学素子が一直線上に沿う直線経路を移動することによって前記光学素子が通過できる位置にある、
   請求項５に記載の洗浄装置。
7. 前記直線経路は、
   水平方向に延びる経路である、
   請求項６に記載の洗浄装置。
8. 前記洗浄槽内に配置され、前記洗浄槽内に移動された前記光学素子と接触して前記光学素子の汚れを落とす洗浄部材を、備える、
   請求項１から７のいずれか１項に記載の洗浄装置。
9. 前記流体は、
   水の粒状体と、エアーと、が混在する流体である、
   請求項１から８のいずれか１項に記載の洗浄装置。
10. 前記流体吐出部から前記流体を吐出する際に、前記エアー吐出部からも前記エアーを吐出するように、前記流体吐出部および前記エアー吐出部を制御する制御部を、備える、請求項１から９のいずれか１項に記載の洗浄装置。
11. 前記光学素子を保持し、前記光学素子を、前記開口と前記流体吐出領域との間で、移動する移動部を備える、
    請求項１から１０のいずれか１項に記載の洗浄装置。
12. 前記流体吐出部は、
    複数の流体吐出ノズルが互いに対向して配置され、前記流体は、前記複数の流体吐出ノズルから、前記複数の流体吐出ノズルの対向方向に吐出される、
    請求項１から１１のいずれか１項に記載の洗浄装置。
13. 光学素子を洗浄する洗浄方法であって、
    洗浄槽内において、水を含む流体を流体吐出領域に吐出することと、
    前記流体が吐出される間、前記流体吐出領域と前記洗浄槽の開口との間を横断するエアー吐出領域にエアーを複数の吐出ノズルから、それぞれの先端部が、互いに対向もしくは互いに交差するように吐出することと、
    前記光学素子を、前記開口から前記エアー吐出領域を経由して前記流体吐出領域に移動することと、
    前記流体吐出領域に移動された前記光学素子に前記流体を当てて、前記光学素子を洗浄することと、
    洗浄された前記光学素子を、前記流体吐出領域から前記エアー吐出領域を経由して前記開口を通して前記洗浄槽から取り出すことと、
    を含む、洗浄方法。
14. 前記光学素子が前記開口と前記流体吐出領域との間を通過する間、前記エアー吐出領域にエアーを吐出すること、
    を含む、請求項１３に記載の洗浄方法。

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