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JP6506529B2 - Resin composition containing oxocarbon-based compound and molded article comprising the same - Google Patents

Resin composition containing oxocarbon-based compound and molded article comprising the same Download PDF

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JP6506529B2
JP6506529B2 JP2014213957A JP2014213957A JP6506529B2 JP 6506529 B2 JP6506529 B2 JP 6506529B2 JP 2014213957 A JP2014213957 A JP 2014213957A JP 2014213957 A JP2014213957 A JP 2014213957A JP 6506529 B2 JP6506529 B2 JP 6506529B2
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正矩 青木
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

本発明は、オキソカーボン系化合物及び樹脂成分を含む樹脂組成物、及びこれからなる成形体に関するものである。   The present invention relates to a resin composition containing an oxocarbon compound and a resin component, and a molded article made of the same.

従来、スクアリリウム骨格やクロコニウム骨格を化合物中に有するオキソカーボン系化合物が提供されている。これらのオキソカーボン系化合物は、一般に、スクアリン酸やクロコン酸を原料とし、この原料の両端に複素環基を導入することで製造される(特許文献1〜5)。   Heretofore, oxocarbon compounds having a squarylium skeleton or a croconium skeleton in the compound have been provided. These oxocarbon compounds are generally produced by using squaric acid or croconic acid as a raw material and introducing heterocyclic groups at both ends of the raw material (Patent Documents 1 to 5).

数あるスクアリリウム系又はクロコニウム系の化合物のうち、近赤外線領域での吸収特性に優れる化合物として代表的な化合物は、下記式で表されるスクアリリウム系又はクロコニウム系の色素である。しかし、下記に示す色素はいずれも光に対する耐性が低いため、光によって分解しやすいという性質を有しており、汎用性に欠けるといった問題を有している。   A typical compound as a compound which is excellent in the absorption characteristic in a near infrared region among the many squalilium type or croconium type compounds is a squarylium type or croconium type pigment | dye represented by a following formula. However, all of the dyes shown below have low resistance to light, and thus have the property of being easily decomposed by light, and have a problem of lack of versatility.

一方、スクアリリウム系又はクロコニウム系の化合物の中で、耐光性に優れるものとしては、例えば、特許文献6〜8に開示される下記の化合物が挙げられる。しかしこれらの化合物は、いずれも650nm以下の領域に極大吸収波長(λmax)を有しており、近赤外線領域(約700nm以上)での吸収特性には劣るものであった。   On the other hand, among the squarylium-based or croconium-based compounds, examples of the compound having excellent light resistance include the following compounds disclosed in Patent Documents 6 to 8. However, each of these compounds has a maximum absorption wavelength (λmax) in the region of 650 nm or less, and is inferior to the absorption characteristics in the near infrared region (about 700 nm or more).

また耐光性は不明であるが、非特許文献1〜4には、近赤外線領域に極大吸収波長を有する化合物等が各種開示されている。   Although the light resistance is unknown, Non-Patent Documents 1 to 4 disclose various compounds having a maximum absorption wavelength in the near infrared region.

特開平1−230674号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 1-230674 特開2008−308602号公報JP, 2008-308602, A 特開2011−208101号公報JP, 2011-208101, A 特開2007−169315号公報JP 2007-169315 A 特開2008−1754号公報JP, 2008-1754, A 特開2001−183522号公報JP 2001-183522 A 特表2005−520835号公報Japanese Patent Application Publication No. 2005-520835 特開2008−184606号公報JP, 2008-184606, A

Raymond、外2名,“Squaraines based on 2−arylpyrroles”,Tetrahedron,August 23(2004),60,pp 8913−8918Raymond, 2 others, "Squaraines based on 2-arylpyrroles", Tetrahedron, August 23 (2004), 60, pp 8913-8918 Luca、外14名,“Assessment of Water−Soluble π−Extended Squaraines as One− and Two−Photon Singlet Oxygen Photosensitizers:Design, Synthesis, and Characterization”,JACS,January 19(2008),130,pp 1894−1902Luca, 14 others, "Assessment of Water-Soluble pi-Extended Squares as One-and Two-Photon Singlet Oxygen Photosensitizers: Design, Synthesis, and Characterization", JACS, January 19 (2008), 130, pp 1894-1902 Fabio、外8名,“A squaraine−phthalocyanine ensemble: towards molecular panchromatic sensitizers in solar cells”,Chem. Commun.,April 20(2009),pp 4500−4502Fabio, 8 others, "A squaraine-phthalocyanine ensemble: towards molecular molecular sensitivity in solar cells", Chem. Commun. , April 20 (2009), pp 4500-4502. Michael、外3名,“Redox−Switchable Squaraines with Extended Conjugation”,Org. Lett.,July 19(2003),5(17),pp 2975−2978Michael, 3 others, "Redox-Switchable Squares with Extended Conjugation", Org. Lett. , July 19 (2003), 5 (17), pp 2975-2978.

前記のように、従来は良好な耐光性を有しながら、近赤外線領域に極大吸収波長(λmax)を有するスクアリリウム系又はクロコニウム系の化合物は広く知られていなかった。またこれらの化合物を含む樹脂組成物にも、同様に耐光性と吸収領域の両立が要求されている。そこで本発明は、スクアリリウム系又はクロコニウム系の色素を含みながら、耐光性と吸収領域を両立できる樹脂組成物を提供することを課題として掲げる。   As described above, conventionally, squarylium-based or croconium-based compounds having a maximum absorption wavelength (λmax) in the near infrared region while having good light resistance have not been widely known. Moreover, coexistence of light resistance and an absorption region is similarly requested | required also to the resin composition containing these compounds. Therefore, the present invention has an object to provide a resin composition capable of achieving both light resistance and an absorption region while containing a squarylium-based or croconium-based dye.

本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定のオキソカーボン系化合物と、樹脂成分とを含んでなる樹脂組成物は、近赤外線領域に極大吸収波長を有し、且つ、耐光性にも優れることを見出し、本発明を完成した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a resin composition comprising a specific oxocarbon compound and a resin component has a maximum absorption wavelength in the near infrared region. And, it found that it was excellent also in light resistance, and completed the present invention.

すなわち、本発明に係る樹脂組成物は、スクアリリウム骨格を有する下記式(1)及び/又はクロコニウム骨格を有する下記式(2):   That is, the resin composition according to the present invention has the following formula (1) having a squarylium skeleton and / or the following formula (2) having a croconium skeleton:

(式(1)及び(2)中、Ra1〜Ra4はそれぞれ独立して、下記式(3)で表される構造単位である。) (In the formulas (1) and (2), R a1 to R a4 are each independently a structural unit represented by the following formula (3).)

[式(3)中、Rb1〜Rb4は互いに独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルキルオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、置換基を有していてもアラルキル基、*−CH=CH−Rc(式中、Rcは脂肪族炭化水素基、アリール基、又は複素環式置換基である)、又は*−CH=N−Rd(式中、Rdは置換基を有していてもよいアミノ基である)である。前記Rb1とRb2、Rb2とRb3、Rb3とRb4は、それぞれ、互いに結合して環を形成していてもよい。
*は結合部位を表す。
ただし、Rb1〜Rb4のうち少なくとも一つは、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、*−CH=CH−Rc(式中、Rcは前記に同じ)、又は*−CH=N−Rd(式中、Rdは前記に同じ)であるか、Rb1とRb2、Rb2とRb3、Rb3とRb4が結合している環が少なくとも1つ以上存在している]で表されるオキソカーボン系化合物と、
樹脂成分を含むことを特徴とする。
更に、前記樹脂組成物は、ケトン類、グリコール誘導体、アミド類、エステル類、ピロリドン類、芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類及びエーテル類から選ばれる少なくとも1種以上の溶媒を含んでいてもよい。
また、前記樹脂成分は、ポリ(アミド)イミド樹脂、フッ素化芳香族ポリマー、(メタ)アクリル系樹脂、ポリアミド樹脂、アラミド樹脂及びポリシクロオレフィン樹脂から選ばれる少なくとも1種以上であることが好ましい。
更に、前記アミド類の使用量は、樹脂組成物100質量%中、80質量%以下であることが好ましい。
また本願は、前記樹脂組成物からなる成形体及び面状成形体も包含する。
[In formula (3), R b1 to R b4 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an alkyloxycarbonyl group which may have a substituent, a substituent An aryloxycarbonyl group which may have, an acyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent, a substituent Or an aralkyl group, * -CH = CH-R c (wherein R c is an aliphatic hydrocarbon group, an aryl group or a heterocyclic substituent), or * -CH = N- R d (wherein, R d is an amino group which may have a substituent). The R b1 and R b2 , R b2 and R b3 , and R b3 and R b4 may be combined with each other to form a ring.
* Represents a binding site.
However, at least one of R b1 to R b4 is an aryl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent, * -CH = CH-R c (wherein R c is as defined above, or * -CH = N-R d (wherein R d is as defined above), R b1 and R b2 , R b2 and R b3 , R b3 and R b4 And at least one ring to which is attached is present] an oxocarbon-based compound represented by
It is characterized by including a resin component.
Furthermore, the resin composition contains at least one or more solvents selected from ketones, glycol derivatives, amides, esters, pyrrolidones, aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons and ethers. Also good.
The resin component is preferably at least one selected from poly (amide) imide resins, fluorinated aromatic polymers, (meth) acrylic resins, polyamide resins, aramid resins and polycycloolefin resins.
Furthermore, it is preferable that the usage-amount of said amides is 80 mass% or less in 100 mass% of resin compositions.
The present application also encompasses a molded body and a planar molded body made of the resin composition.

本発明によれば、耐光性を備えた近赤外領域を吸収する樹脂組成物が得られる。   According to the present invention, a resin composition capable of absorbing a near infrared region having light resistance can be obtained.

耐光性試験前後で測定された実施例1のピーク対比結果である。It is a peak contrast result of Example 1 measured before and behind a light fastness examination. 耐光性試験前後で測定された実施例2のピーク対比結果である。It is the peak contrast result of Example 2 measured before and behind a light resistance test. 耐光性試験前後で測定された実施例3のピーク対比結果である。It is a peak contrast result of Example 3 measured before and behind a light fastness examination. 耐光性試験前後で測定された比較例1のピーク対比結果である。It is a peak contrast result of comparative example 1 measured before and behind a light fastness examination. 耐光性試験前後で測定された比較例2のピーク対比結果である。It is a peak contrast result of comparative example 2 measured before and behind a light fastness examination.

本発明に係る樹脂組成物は、色素として、一般式(1)及び/又は一般式(2)で表されるオキソカーボン系化合物と、樹脂成分とを含む。前記色素は、樹脂組成物中に分散又は溶解されていることが好ましい。なお、色素及び樹脂成分は、それぞれ1種で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。以下に、樹脂組成物に含まれる各成分を詳しく説明する。   The resin composition according to the present invention contains, as a dye, an oxocarbon-based compound represented by the general formula (1) and / or the general formula (2), and a resin component. The dye is preferably dispersed or dissolved in the resin composition. The dye and the resin component may be used alone or in combination of two or more. Below, each component contained in a resin composition is demonstrated in detail.

<1.色素>
まず本発明に係る樹脂組成物に含まれる色素について説明する。
<1. Dye>
First, the pigment contained in the resin composition according to the present invention will be described.

1−1.ピロール系構造単位を有するオキソカーボン系化合物
樹脂組成物には、スクアリリウム骨格を有する下記式(1)及び/又はクロコニウム骨格を有する下記式(2):
1-1. An oxocarbon-based compound having a pyrrole-based structural unit In the resin composition, the following formula (1) having a squarylium skeleton and / or the following formula (2) having a croconium skeleton:

(式(1)及び(2)中、Ra1〜Ra4はそれぞれ独立して、下記式(3)で表される構造単位である。) (In the formulas (1) and (2), R a1 to R a4 are each independently a structural unit represented by the following formula (3).)

[式(3)中、Rb1〜Rb4は互いに独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルキルオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、*−CH=CH−Rc(式中、Rcは脂肪族炭化水素基、アリール基、又は複素環式置換基である)、又は*−CH=N−Rd(式中、Rdは置換基を有していてもよいアミノ基である)である、前記Rb1とRb2、Rb2とRb3、Rb3とRb4は、それぞれ、互いに結合して環を形成していてもよい、
*は結合部位を表す、
ただし、Rb1〜Rb4のうち少なくとも一つは、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、*−CH=CH−Rc(式中、Rcは前記に同じ)、又は*−CH=N−Rd(式中、Rdは前記に同じ)であるか、Rb1とRb2、Rb2とRb3、Rb3とRb4が結合している環が少なくとも1つ以上存在している]で表されるオキソカーボン系化合物が含まれる。
[In formula (3), R b1 to R b4 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an alkyloxycarbonyl group which may have a substituent, a substituent An aryloxycarbonyl group which may have, an acyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent, a substituent Optionally substituted aralkyl group, * -CH = CH-R c (wherein R c is an aliphatic hydrocarbon group, an aryl group, or a heterocyclic substituent), or * -CH = N R b1 and R b2 , R b2 and R b3 , and R b3 and R b4 , which are each other, are each —R d (wherein R d is an amino group which may have a substituent); And may combine to form a ring,
* Represents a binding site,
However, at least one of R b1 to R b4 is an aryl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent, * -CH = CH-R c (wherein R c is as defined above, or * -CH = N-R d (wherein R d is as defined above), R b1 and R b2 , R b2 and R b3 , R b3 and R b4 At least one ring to which is attached is present] is included.

なお、以下で詳述する上記オキソカーボン系化合物は、スクアリリウム骨格又はクロコニウム骨格を有しており、上記式(1)又は(2)で表される化合物には、それぞれ、これらの化合物と共役関係にある化合物が存在している場合がある。共役関係にある化合物としては、例えば、下記(1a)、(1b)、(2a)、(2b)、及び(2c)が挙げられる。以下、本願明細書においては、このような共役関係にある化合物が存在しているオキソカーボン系化合物であっても、式(1)で表される化合物(化合物(1)と称する場合がある)、式(2)で表される化合物(化合物(2)と称する場合がある)として説明するが、この化合物(1)には、下記式(1a)、(1b)で表される化合物が、化合物(2)には、下記式(2a)、(2b)、及び(2c)も含まれることとする。   The oxocarbon-based compound described in detail below has a squarylium skeleton or a croconium skeleton, and the compounds represented by the formulas (1) or (2) have a conjugated relationship with these compounds, respectively. There may be compounds present in Examples of the compound in a conjugated relationship include the following (1a), (1b), (2a), (2b), and (2c). Hereinafter, in the specification of the application, a compound represented by the formula (1) (sometimes referred to as a compound (1)) even if it is an oxocarbon-based compound in which a compound having such a conjugated relationship is present Although the compound represented by the formula (2) (sometimes referred to as a compound (2)) is exemplified, the compound represented by the following formulas (1a) and (1b) is exemplified in the compound (1). The compound (2) also includes the following formulas (2a), (2b) and (2c).

まず前記式(3)の構造について説明する。   First, the structure of the formula (3) will be described.

b1〜Rb4で示されるアルキル基としては、炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基、sec−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、2,2−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、ヘプチル基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、2,2−ジメチルペンチル基、2,3−ジメチルペンチル基、2,4−ジメチルペンチル基、3−エチルペンチル基、2,2,3−トリメチルブチル基、オクチル基、メチルヘプチル基、ジメチルヘキシル基、2−エチルヘキシル基、3−エチルヘキシル基、トリメチルペンチル基、3−エチル−2−メチルペンチル基、2−エチル−3−メチルペンチル基、2,2,3,3−テトラメチルブチル基、ノニル基、メチルオクチル基、3,7−ジメチルオクチル基、ジメチルヘプチル基、3−エチルヘプチル基、4−エチルヘプチル基、トリメチルヘキシル基、3,3−ジエチルペンチル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、等の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。中でも、炭素数1〜15のアルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数1〜12である。また、アルキル基は直鎖又は分岐のいずれであってもよいが、より好ましくは直鎖である。なおこのアルキル基は置換基を有していてもよく、該置換基としては後述するもののうちアルキル基以外のものが使用できる。 The alkyl group represented by R b1 to R b4 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an n-butyl group and a tert-butyl group. Group, sec-butyl group, pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, hexyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, heptyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 2,2-dimethylpentyl group, 2,3-dimethylpentyl group, 2,4-dimethylpentyl group, 3-ethylpentyl group, 2,2,3-trimethylbutyl Group, octyl group, methylheptyl group, dimethylhexyl group, 2-ethylhexyl group, 3-ethylhexyl group, trimethylpentyl group, 3-ethyl -2-methylpentyl group, 2-ethyl-3-methylpentyl group, 2,2,3,3-tetramethylbutyl group, nonyl group, methyloctyl group, 3,7-dimethyloctyl group, dimethylheptyl group, 3 -A linear or branched alkyl group such as -ethylheptyl group, 4-ethylheptyl group, trimethylhexyl group, 3, 3-diethylpentyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group and the like can be mentioned. Among them, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms is preferable, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. The alkyl group may be linear or branched, but is more preferably linear. The alkyl group may have a substituent, and as the substituent, those other than the alkyl group among those described later can be used.

b1〜Rb4で示されるアルキルオキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基等のアルキルオキシカルボニル基が挙げられる。中でも、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等の炭素数1〜5のアルキルオキシカルボニル基が好ましく、より好ましくは、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基又はプロポキシカルボニル基である。またアルキルオキシカルボニル基中のアルキル基は、直鎖又は分岐のいずれであってもよい。なおこのアルキルオキシカルボニル基は置換基を有していてもよく、該置換基としては後述するもののうちアルキル基以外のものが使用できる。置換基を有する例には、トリフルオロメチルオキシカルボニル基などのトリハロ置換体が含まれる。 Examples of the alkyloxycarbonyl group represented by R b1 to R b4 include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, a pentyloxycarbonyl group, a hexyloxycarbonyl group, a heptyloxycarbonyl group, and an octyloxy group. And alkyloxycarbonyl groups such as carbonyl group, decyloxycarbonyl group and octadecyloxycarbonyl group. Among them, an alkyloxycarbonyl group having 1 to 5 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group and a butoxycarbonyl group is preferable, and a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group or a propoxycarbonyl group is more preferable. The alkyl group in the alkyloxycarbonyl group may be either linear or branched. The alkyloxycarbonyl group may have a substituent, and among these described below, ones other than an alkyl group can be used as the substituent. Examples of substituents include trihalo substituents such as trifluoromethyloxycarbonyl group.

b1〜Rb4で示されるアリールオキシカルボニル基としては、例えば、フェノキシカルボニル基、4−ジメチルアミノフェニルオキシカルボニル基、4−ジエチルアミノフェニルオキシカルボニル基、2−クロロフェニルオキシカルボニル基、2−メチルフェニルオキシカルボニル基、2−メトキシフェニルオキシカルボニル基、2−ブトキシフェニルオキシカルボニル基、3−クロロフェニルオキシカルボニル基、3−トリフルオロメチルフェニルオキシカルボニル基、3−シアノフェニルオキシカルボニル基、3−ニトロフェニルオキシカルボニル基、4−フルオロフェニルオキシカルボニル基、4−シアノフェニルオキシカルボニル基、4−メトキシフェニルオキシカルボニル基等のフェニルオキシカルボニル基;1−ナフチルオキシカルボニル基、2−ナフチルオキシカルボニル基等のナフチルオキシカルボニル基;等が挙げられる。なおこのアリールオキシカルボニル基は置換基を有していてもよく、該置換基は後述するものから適宜選択される。 Examples of the aryloxycarbonyl group represented by R b1 to R b4 include phenoxycarbonyl group, 4-dimethylaminophenyloxycarbonyl group, 4-diethylaminophenyloxycarbonyl group, 2-chlorophenyloxycarbonyl group, 2-methylphenyloxy Carbonyl group, 2-methoxyphenyloxycarbonyl group, 2-butoxyphenyloxycarbonyl group, 3-chlorophenyloxycarbonyl group, 3-trifluoromethylphenyloxycarbonyl group, 3-cyanophenyloxycarbonyl group, 3-nitrophenyloxycarbonyl group And phenyloxycarbonyl groups such as 4-fluorophenyloxycarbonyl group, 4-cyanophenyloxycarbonyl group, 4-methoxyphenyloxycarbonyl group and the like; 1-naphthyloxy Naphthyloxycarbonyl group such as carbonyl group and 2-naphthyloxycarbonyl group; and the like. The aryloxycarbonyl group may have a substituent, and the substituent is appropriately selected from those described later.

b1〜Rb4で示されるアシル基としては、例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、トリフルオロアセチル基等のアルカノイル基;ベンゾイル基、1−ナフトイル基、2−ナフトイル基等のアロイル基;が挙げられる。これらの中でも、炭素数2〜15のアシル基が好ましく、炭素数2〜10のものがより好ましい。中でも、アルカノイル基が好ましく、より好ましくは、アセチル基、プロパノイル基又はブタノイル基である。なおこのアシル基は置換基を有していてもよく、該置換基は後述するものから適宜選択される。 The acyl group represented by R b1 to R b4 is, for example, an alkanoyl group such as acetyl group, propanoyl group, butanoyl group, pentanoyl group, hexanoyl group, heptanoyl group, octanoyl group, nonanoyl group, decanoyl group, trifluoroacetyl group and the like And Aroyl groups such as benzoyl group, 1-naphthoyl group and 2-naphthoyl group. Among these, a C2-C15 acyl group is preferable, and a C2-C10 thing is more preferable. Among them, an alkanoyl group is preferable, more preferably an acetyl group, a propanoyl group or a butanoyl group. The acyl group may have a substituent, and the substituent is appropriately selected from those described later.

b1〜Rb4で示されるアリール基としては、炭素数6〜16からなる芳香族炭化水素基が好ましい。アリール基は、1〜5環(より好ましくは1〜3環)を有することが好ましく、具体的に例示すると、フェニル基、ナフチル基、ペンタレニル基、インデニル基、アントラセニル基、フェナントリル基、フルオレニル基、ビフェニレル基、ビフェニル基等が挙げられる。中でも、フェニル基又はナフチル基が好ましい。なおこのアリール基は置換基を有していてもよく、該置換基は後述するものから適宜選択される。 The aryl group represented by R b1 to R b4 is preferably an aromatic hydrocarbon group having 6 to 16 carbon atoms. The aryl group preferably has 1 to 5 rings (more preferably 1 to 3 rings), and specific examples thereof include phenyl group, naphthyl group, pentarenyl group, indenyl group, anthracenyl group, phenanthryl group, fluorenyl group, And biphenylyl group, biphenyl group and the like. Among them, preferred is a phenyl group or a naphthyl group. The aryl group may have a substituent, and the substituent is appropriately selected from those described later.

b1〜Rb4で示される脂環式炭化水素基としては、炭素数3〜16からなる飽和又は不飽和の環式炭化水素基が好ましく、より好ましくは炭素数5〜10である。また脂環式炭化水素基はより好ましくは不飽和である。不飽和の環式炭化水素基としては、例えば、1−シクロペンテニル基、2−シクロペンテニル基、3−シクロペンテニル基、1−シクロヘキセニル基、2−シクロヘキセニル基、3−シクロヘキセニル基等の二重結合が1つのシクロアルケニル基;1,3−シクロヘキサジエン−1−イル基、1,4−シクロヘキサジエン−1−イル基等の二重結合が2個以上のシクロアルケニル基;等が例示できる。なおこの脂環式炭化水素基は置換基を有していてもよく、該置換基は後述するものから適宜選択される。 The alicyclic hydrocarbon group represented by R b1 to R b4 is preferably a saturated or unsaturated cyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, and more preferably 5 to 10 carbon atoms. The alicyclic hydrocarbon group is more preferably unsaturated. As the unsaturated cyclic hydrocarbon group, for example, 1-cyclopentenyl group, 2-cyclopentenyl group, 3-cyclopentenyl group, 1-cyclohexenyl group, 2-cyclohexenyl group, 3-cyclohexenyl group and the like Examples of cycloalkenyl groups having one double bond; cycloalkenyl groups having two or more double bonds such as 1,3-cyclohexadiene-1-yl group and 1,4-cyclohexadiene-1-yl group; it can. In addition, this alicyclic hydrocarbon group may have a substituent, and this substituent is suitably selected from what is mentioned later.

b1〜Rb4で示されるヘテロアリール基としては、炭素数2〜20のヘテロアリール基が好ましく、例えば、チエニル基、チオピラニル基、イソチオクロメニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラリジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、フラニル基、ピラニル基等が例示できる。なおこのヘテロアリール基は置換基を有していてもよく、該置換基は後述するものから適宜選択される。 The heteroaryl group represented by R b1 to R b4 is preferably a heteroaryl group having a carbon number of 2 to 20, and examples thereof include a thienyl group, a thiopyranyl group, an isothiochromenyl group, a pyrrolyl group, an imidazolyl group, a pyrazolyl group and a pyridyl group. And pyrarizinyl groups, pyrimidinyl groups, pyridazinyl groups, thiazolyl groups, isothiazolyl groups, furanyl groups, pyranyl groups and the like. The heteroaryl group may have a substituent, and the substituent is appropriately selected from those described later.

b1〜Rb4で示されるアラルキル基としては、炭素数7〜18のアラルキル基が好ましく、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニルペンチル基等が挙げられ、中でもベンジル基が好ましい。なおこのアラルキル基は置換基を有していてもよく、該置換基は後述するものから適宜選択される。 The aralkyl group represented by R b1 to R b4 is preferably an aralkyl group having a carbon number of 7 to 18, and examples thereof include a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a phenylbutyl group and a phenylpentyl group. Groups are preferred. The aralkyl group may have a substituent, and the substituent is appropriately selected from those described later.

b1〜Rb4で表される各基は、上述した様に、置換基を有していてもよい。置換基とは、その結合元の基と異なるグループに属する原子団を意味し、この置換基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シアノ基が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数1〜10のアルキル基であり、更に好ましくはメチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基、sec−ブチル基である。これらのアルキル基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子で置換されていてもよい。
シクロアルキル基としては、炭素数3〜20のシクロアルキル基が好ましく、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロドデシル基等が挙げられる。シクロアルキル基の環骨格の構成原子数は、3〜15が好ましく、より好ましくは5〜9であり、更に好ましくは6(シクロヘキシル基)である。
またアルコキシ基としては、酸素原子を介してアルキル基が結合している置換基が用いられ、具体的に例示すると炭素数1〜18のものが好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、2−メチルペンチルオキシ基、3−メチルペンチルオキシ基、2,2−ジメチルブトキシ基、2,3−ジメチルブトキシ基、ヘプチルオキシ基、2−メチルヘキシルオキシ基、3−メチルヘキシルオキシ基、2,2−ジメチルペンチルオキシ基、2,3−ジメチルペンチルオキシ基、2,4−ジメチルペンチルオキシ基、3−エチルペンチルオキシ基、2,2,3−トリメチルブチルオキシ基、オクチルオキシ基、メチルヘプチルオキシ基、ジメチルヘキシルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、3−エチルヘキシルオキシ基、トリメチルペンチルオキシ基、3−エチル−2−メチルペンチルオキシ基、2−エチル−3−メチルペンチルオキシ基、2,2,3,3−テトラメチルブトキシシ基、ノニルオキシ基、メチルオクチルオキシ基、3,7−ジメチルオクチルオキシ基、ジメチルヘプチルオキシ基、3−エチルヘプチルオキシ基、4−エチルヘプチルオキシ基、トリメチルヘキシルオキシ基、3,3−ジエチルペンチルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基等が挙げられる。中でも、メトキシ基又はエトキシ基が好ましい。
Each group represented by R b1 to R b4 may have a substituent as described above. The substituent means an atomic group belonging to a group different from the group to which the substituent is attached, and examples of the substituent include an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group and a cyano group.
As an alkyl group, a C1-C20 alkyl group is preferable, More preferably, it is a C1-C10 alkyl group, More preferably, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n -Butyl, tert-butyl and sec-butyl. These alkyl groups may be substituted by a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.
As a cycloalkyl group, a C3-C20 cycloalkyl group is preferable, For example, a cyclopropyl group, cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, cyclooctyl group, cyclododecyl group etc. are mentioned. The number of constituent atoms of the ring skeleton of the cycloalkyl group is preferably 3 to 15, more preferably 5 to 9, and still more preferably 6 (cyclohexyl group).
Further, as the alkoxy group, a substituent in which an alkyl group is bonded via an oxygen atom is used, and specifically exemplified one having 1 to 18 carbon atoms, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group and a propoxy group, Isopropoxy, butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, tert-butoxy, pentyloxy, isopentyloxy, neopentyloxy, hexyloxy, 2-methylpentyloxy, 3-methylpentyloxy , 2,2-dimethylbutoxy, 2,3-dimethylbutoxy, heptyloxy, 2-methylhexyloxy, 3-methylhexyloxy, 2,2-dimethylpentyloxy, 2,3-dimethyl Pentyloxy group, 2,4-dimethyl pentyloxy group, 3-ethyl pentyloxy group, 2 2,3-Trimethylbutyloxy, octyloxy, methylheptyloxy, dimethylhexyloxy, 2-ethylhexyloxy, 3-ethylhexyloxy, trimethylpentyloxy, 3-ethyl-2-methylpentyloxy 2-ethyl-3-methylpentyloxy group, 2,2,3,3-tetramethylbutoxy group, nonyloxy group, methyloctyloxy group, 3,7-dimethyloctyloxy group, dimethylheptyloxy group, 3- Ethyl heptyloxy group, 4-ethyl heptyloxy group, trimethylhexyloxy group, 3, 3-diethyl pentyloxy group, decyloxy group, undecyloxy group, dodecyloxy group etc. are mentioned. Among them, a methoxy group or an ethoxy group is preferable.

*−CH=CH−Rc…(C)(式(C)中、Rcは脂肪族炭化水素基、アリール基、又は複素環式置換基である)で表される基(以下、エチレン含有基(C)という)について説明する。エチレン含有基(C)において、脂肪族炭化水素基としては、例えば、炭素数1〜20のものが好ましく、より好ましくは1〜10のものが挙げられる。 * -CH = CH-R c (C) (in the formula (C), R c is an aliphatic hydrocarbon group, an aryl group or a heterocyclic substituent) (hereinafter referred to as ethylene-containing) The group (C) will be described. In the ethylene-containing group (C), as the aliphatic hydrocarbon group, for example, one having 1 to 20 carbon atoms is preferable, and one having 1 to 10 carbon atoms is more preferable.

前記脂肪族炭化水素基としては、飽和又は不飽和のいずれであってもよいが、より好ましくは不飽和である。このような脂肪族炭化水素基としては、具体的には、−(CH=CH)n−(nは1〜10、より好ましくは1〜5の整数である)で表される繰り返し単位を有する基が好ましく、例えばビニル基が挙げられる。 The aliphatic hydrocarbon group may be either saturated or unsaturated, but is more preferably unsaturated. Specifically, such an aliphatic hydrocarbon group has a repeating unit represented by-(CH = CH) n- (n is an integer of 1 to 10, more preferably 1 to 5). Groups are preferred, including, for example, vinyl groups.

また前記アリール基は、1〜5環(より好ましくは1〜3環)を有することが好ましく、具体的に例示すると、フェニル基、ナフチル基、ペンタレニル基、インデニル基、アントラセニル基、フェナントリル基、フルオレニル基、ビフェニレル基、ビフェニル基等が挙げられる。   The aryl group preferably has 1 to 5 rings (more preferably 1 to 3 rings), and specific examples thereof include phenyl group, naphthyl group, pentarenyl group, indenyl group, anthracenyl group, phenanthryl group, fluorenyl group. And biphenyl group and biphenyl group.

更に前記複素環式置換基としては、例えば、ピロール、ピリジン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、チオフェン、フラン等の含ヘテロ元素複素環式置換基等が挙げられる。   Furthermore, examples of the heterocyclic substituent include hetero-element-containing heterocyclic substituents such as pyrrole, pyridine, pyrrolidine, piperidine, piperazine, thiophene, furan and the like.

エチレン含有基(C)としては、例えば、下記式で表される各基が例示できる。   As ethylene containing group (C), each group represented by a following formula can be illustrated, for example.

更に、*−CH=N−Rd…(D)[式(D)中、Rdは置換基を有していてもよいアミノ基である]で表される基(以下、イミン含有基(D)という)について説明する。Rdの置換基を有していてもよいアミノ基としては、例えば、*−N−Rd1d2(式中、Rd1、Rd2はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基である)で表される基が挙げられる。 Furthermore, a group represented by * -CH = N-R d (D) (in the formula (D), R d is an amino group which may have a substituent) (hereinafter referred to as an imine-containing group I will explain about D). Examples of the amino group which may have a substituent of R d include, for example, * -N-R d1 R d2 (wherein, R d1 and R d2 each independently have a hydrogen atom or a substituent. A group represented by the alkyl group which may be substituted or an aryl group which may have a substituent.

イミン含有基(D)としては、例えば、下記式で表される各基が例示できる。   As an imine containing group (D), each group represented by a following formula can be illustrated, for example.

これらの中でもより好ましいRb1は、水素原子、置換基(例えば、シクロアルキルアルキル基)を有していてもよい炭素数1〜15のアルキル基又は置換基(例えば、CF3、アルコキシ基、シアノ基、直鎖又は分岐のアルキル基)を有していてもアラルキル基であり、中でも、水素原子又は下記式(B1−1)〜(B1−15)で表される基(式中、*は結合部位を表す)が好ましく例示できる。 Among these, more preferable R b1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms which may have a substituent (for example, a cycloalkylalkyl group) or a substituent (for example, CF 3 , an alkoxy group, cyano Group, a linear or branched alkyl group, or an aralkyl group, and among them, a hydrogen atom or a group represented by the following formulas (B1-1) to (B1-15) (wherein * represents A binding site is preferably exemplified.

また好ましいRb2は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルキルオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリール基、*−CH=CH−Rc(式中、Rcは前記に同じ)、又は*−CH=N−Rd(式中、Rdは前記に同じ)であり、中でも、水素原子又は下記式(B2−1)〜(B2−14)で表される基(式中、*は結合部位を表す)が好ましく例示できる。 Further, preferable R b2 is a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an alkyloxycarbonyl group which may have a substituent, an aryloxycarbonyl group which may have a substituent, a substituent An aryl group which may have a group, * -CH = CH-R c (wherein R c is as defined above), or * -CH = N-R d (wherein R d is as defined above) Among them, hydrogen atoms or groups represented by the following formulas (B2-1) to (B2-14) (wherein, * represents a bonding site) can be preferably exemplified.

また好ましいRb3は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルキルオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシル基又は置換基を有していてもよいアリール基であり、より好ましくは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜5の直鎖又は分岐のアルキル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、アセチル基又はプロパノイル基である。 Further, preferable R b3 is a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an alkyloxycarbonyl group which may have a substituent, an aryloxycarbonyl group which may have a substituent, a substituent An acyl group which may have a group or an aryl group which may have a substituent, more preferably a hydrogen atom, a linear chain of 1 to 5 carbon atoms which may have a substituent, or It is a branched alkyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, an acetyl group or a propanoyl group.

更に好ましいRb4は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルキルオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシル基又は置換基を有していてもよいアリール基であり、より好ましくは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜5の直鎖又は分岐のアルキル基、フェニル基、4−ビフェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、アセチル基又はプロパノイル基である。 Further preferable R b4 is a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an alkyloxycarbonyl group which may have a substituent, an aryloxycarbonyl group which may have a substituent, a substituent An acyl group which may have a group or an aryl group which may have a substituent, more preferably a hydrogen atom, a linear chain of 1 to 5 carbon atoms which may have a substituent, or It is a branched alkyl group, a phenyl group, a 4-biphenyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, an acetyl group or a propanoyl group.

また、Rb1とRb2、Rb2とRb3、Rb3とRb4は、それぞれ、互いに結合して環を形成していてもよい。Rb1とRb2が結合して環を形成している例としては、例えば、下記式で表される構造単位(3)が挙げられる(下記式において、*は結合部位である)。これらの環は適宜置換基を有していてもよい。 Also, R b1 and R b2 , R b2 and R b3 , and R b3 and R b4 may be combined with each other to form a ring. As an example in which R b1 and R b2 combine to form a ring, for example, a structural unit (3) represented by the following formula is mentioned (in the following formula, * is a binding site). These rings may optionally have a substituent.

次いで、Rb2とRb3が結合して環を形成している例としては、例えば、下記式で表される構造単位(3)が挙げられる(下記式において、*は結合部位である)。これらの環は適宜置換基を有していてもよい。 Next, as an example in which R b2 and R b3 combine to form a ring, for example, a structural unit (3) represented by the following formula is mentioned (in the following formula, * is a binding site). These rings may optionally have a substituent.

更に、Rb3とRb4が結合して環を形成している例としては、例えば、下記式で表される構造単位(4)が挙げられる(下記式において、*は結合部位である)。 Furthermore, as an example in which R b3 and R b4 combine to form a ring, for example, a structural unit (4) represented by the following formula is mentioned (in the following formula, * is a binding site).

(式(4)中、
Aは、ピロール環のβ位の2つの炭素原子が他の原子と共に形成する環構造を示し、
Xは水素原子又は有機基であり、
Yは水素原子、電子求引性基又は有機置換基であり、
*は結合部位を表す。)
(In the formula (4),
A represents a ring structure formed by two carbon atoms at the β-position of the pyrrole ring with other atoms,
X is a hydrogen atom or an organic group,
Y is a hydrogen atom, an electron withdrawing group or an organic substituent,
* Represents a binding site. )

本発明では、特に、Rb3とRb4が結合して環を形成している前記式(4)で表される構造単位が好ましい。スクアリリウム骨格又はクロコニウム骨格を有するオキソカーボン系化合物であって、更に構造単位(4)を有する化合物は文献に記載されていない新規の化合物である。この化合物は、550〜950nm間に極大吸収波長(λmax)を有し、更に耐光性に優れるという特徴を有する。以下では、この新規のオキソカーボン系化合物について詳述する。 In the present invention, the structural unit represented by the above formula (4) in which R b3 and R b4 are combined to form a ring is particularly preferable. An oxocarbon compound having a squarylium skeleton or a croconium skeleton and further having a structural unit (4) is a novel compound not described in the literature. This compound has a maximum absorption wavelength (λmax) between 550 and 950 nm, and is further characterized by being excellent in light resistance. Hereinafter, the novel oxocarbon-based compound will be described in detail.

新規のオキソカーボン系化合物は、スクアリリウム骨格を有する下記式(1)又はクロコニウム骨格を有する下記式(2)で表されることを特徴とする。   The novel oxocarbon compounds are characterized by being represented by the following formula (1) having a squarylium skeleton or the following formula (2) having a croconium skeleton.

(式(1)及び(2)中、Ra1〜Ra4はそれぞれ独立して、下記式(4)で表される構造単位である。) (In the formulas (1) and (2), R a1 to R a4 are each independently a structural unit represented by the following formula (4).)

(式(4)中、
環Aは、ピロール環のβ位の2つの炭素原子が他の原子と共に形成する環構造を示し、
Xは水素原子又は有機基であり、
Yは水素原子、電子求引性基又は有機置換基であり、
*は結合部位を表す。)
(In the formula (4),
Ring A represents a ring structure formed by two carbon atoms at the β-position of the pyrrole ring with other atoms,
X is a hydrogen atom or an organic group,
Y is a hydrogen atom, an electron withdrawing group or an organic substituent,
* Represents a binding site. )

まずスクアリリウム骨格又はクロコニウム骨格に結合し得る、式(4)で表される構造単位について説明する。式(4)で表される構造単位において、Aはピロール環のβ位の2つの炭素原子が他の原子と共に形成する環構造である。Aは、例えば、5〜7員環であることが好ましく、より好ましくは5員環又は6員環である。   First, a structural unit represented by the formula (4) which can be bonded to a squarylium skeleton or a croconium skeleton will be described. In the structural unit represented by the formula (4), A is a ring structure formed by two carbon atoms at the β-position of the pyrrole ring with other atoms. A is preferably, for example, a 5- to 7-membered ring, more preferably a 5- or 6-membered ring.

なお以下において、Aを環として記載するときには、ピロール環のβ位に位置する2個の炭素原子を含むものとする。   In the following, when A is described as a ring, it includes two carbon atoms located at the β-position of the pyrrole ring.

Aは、ピロール環のβ位の2つの炭素原子が他の原子と共に環を形成している限り特に限定されないが、芳香族環又は脂環式炭化水素環が好ましい。芳香族環としては、例えば、ベンゼン環等の炭素数6〜10の芳香族環が好ましい。また脂環式炭化水素環としては、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン等の炭素数3〜10のシクロアルカン;シクロペンテン、シクロペンタジエン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン(例えば、1,3−シクロヘキサジエン)、シクロヘプテン、シクロヘプタジエン、等の炭素数3〜10のシクロアルケン;等の単環、又はビシクロ[2.2.1]ペンタン、ビシクロ[2.2.1]ペンタ−2−エン、ビシクロ[2.2.2]オクタン、ビシクロ[2.2.2]オクタ−2−エン等の橋架けを有する環式アルカン、等が挙げられる。中でも、炭素数6〜7の芳香族環、炭素数5〜7のシクロアルカン、炭素数5〜7のシクロアルケン、橋架けを有する炭素数5〜9の環式アルカンが好ましい。また好ましくは、五員環(例えば、シクロペンテン(下記A−1)等)、六員環(例えば、シクロヘキサン(下記A−2)、シクロヘキセン(下記A−3)、シクロヘキサジエン(下記A−4)、ビシクロ[2.2.2]オクタン(下記A−5)、ビシクロ[2.2.2]オクタ−2−エン(下記A−6)、ビシクロ[2.1.2]ヘプタン(下記A−7)、ビシクロ[2.1.2]ヘプタ−2−エン(下記A−8)等)である。中でも、下記式(A−1)〜(A−8)から選ばれる構造式が好ましい。なお、下記式(A−1)〜(A−8)において、*はピロール環のβ炭素原子との結合部位であり、2個のβ炭素原子のいずれであってもよい。また前記結合部位はピロール環のβ位に位置する2個の炭素原子と結合して環を形成するものとする。   A is not particularly limited as long as two carbon atoms at the β-position of the pyrrole ring form a ring with other atoms, but an aromatic ring or an alicyclic hydrocarbon ring is preferable. As an aromatic ring, C6-C10 aromatic rings, such as a benzene ring, are preferable, for example. Further, as the alicyclic hydrocarbon ring, for example, cycloalkanes such as cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane and the like having 3 to 10 carbon atoms; cyclopentene, cyclopentadiene, cyclohexene, cyclohexadiene (eg, 1,3-cyclohexadiene), Cycloheptene, cycloheptadiene, etc. Cycloalkene having 3 to 10 carbon atoms such as cycloalkene; etc .; Monocyclic ring such as bicyclo [2.2.1] pentane, bicyclo [2.2.1] pent-2-ene, bicyclo [2 .2.2] Octane, cyclic alkanes having a bridge such as bicyclo [2.2.2] octa-2-ene, and the like. Among them, aromatic rings having 6 to 7 carbons, cycloalkanes having 5 to 7 carbons, cycloalkenes having 5 to 7 carbons, and cyclic alkanes having 5 to 9 carbons having a bridge are preferable. Also preferably, a five-membered ring (for example, cyclopentene (following A-1) and the like), a six-membered ring (for example cyclohexane (following A-2), cyclohexene (following A-3) and cyclohexadiene (following A-4) , Bicyclo [2.2.2] octane (following A-5), bicyclo [2.2.2] octa-2-ene (following A-6), bicyclo [2.1.2] heptane (following A-) 7), bicyclo [2.1.2] hept-2-ene (the following A-8) and the like). Among them, structural formulas selected from the following formulas (A-1) to (A-8) are preferable. In the following formulas (A-1) to (A-8), * is a bonding site to the β carbon atom of the pyrrole ring, and may be any of two β carbon atoms. Further, the bonding site is bonded to two carbon atoms located at the β-position of the pyrrole ring to form a ring.

環Aは、前述した芳香族環又は脂環式炭化水素環を構成する炭素原子の少なくとも1個以上(ただし、ピロール環と共有される炭素原子を除く)が、N(窒素原子)、S(硫黄原子)及びO(酸素原子)から選ばれる少なくとも1種以上の原子に置き換わった複素環であってもよい。このような複素環としては、例えば、炭素数5〜7のシクロアルカン又は炭素数5〜7のシクロアルケンを構成する炭素原子の少なくとも1個以上が、N、S及びOから選ばれる少なくとも1種以上の原子で置換されている複素環が好ましく、より好ましくは、シクロヘキサン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエンを構成する炭素原子の少なくとも1個以上が、N、S及びOから選ばれる少なくとも1種以上の原子で置換されている複素環が好ましい。A1環あたりのN、S、Oの数は、Aを構成する骨格に依存するものの、1個以上(特に1〜2個)であり、2個以上(特に2個)であってもよい。またA1環に含まれるN、S、Oが2個以上のとき、N、S、Oはそれぞれ同一種であっても、異なっていてもよい。このような複素環は、例えば、ピロール環のβ位の炭素原子と結合する原子がN、S又はOである複素環(例えば、下記(B−1)、(B−3)、(B−5)〜(B−17)等)、それ以外の炭素原子がN、S又はOである複素環が例示できる(例えば、下記(B−2)、(B−4)等)。中でも、下記式(B−1)〜(B−17)から選ばれる構造式が好ましい。なお、下記式(B−1)〜(B−17)において、*はピロール環のβ炭素原子との結合部位であり、2個のβ炭素原子のいずれであってもよい。また前記結合部位はピロール環のβ位に位置する2個の炭素原子と結合して環を形成するものとする。   In the ring A, at least one or more of carbon atoms constituting the above-mentioned aromatic ring or alicyclic hydrocarbon ring (with the exception of the carbon atom shared with the pyrrole ring) are N (nitrogen atom), S ( It may be a heterocycle substituted by at least one or more atoms selected from sulfur atom) and O (oxygen atom). As such a heterocyclic ring, for example, at least one or more carbon atoms constituting the cycloalkane having 5 to 7 carbon atoms or the cycloalkene having 5 to 7 carbon atoms is at least one selected from N, S and O. Heterocycles substituted by the above atoms are preferable, and more preferably, at least one or more of carbon atoms constituting cyclohexane, cyclohexene and cyclohexadiene are at least one or more atoms selected from N, S and O. Heterocycles which are substituted are preferred. The number of N, S and O per A1 ring depends on the skeleton constituting A, but is 1 or more (especially 1 or 2), and may be 2 or more (especially 2). When N, S and O contained in A1 ring are 2 or more, N, S and O may be the same or different. Such a heterocyclic ring is, for example, a heterocyclic ring in which the atom bonded to the carbon atom at position β of the pyrrole ring is N, S or O (for example, the following (B-1), (B-3), (B- 5) to (B-17) and the like, and heterocyclic rings in which the other carbon atom is N, S or O can be exemplified (for example, the following (B-2), (B-4) and the like). Among them, structural formulas selected from the following formulas (B-1) to (B-17) are preferable. In the following formulas (B-1) to (B-17), * is a bonding site to the β carbon atom of the pyrrole ring, and may be any of two β carbon atoms. Further, the bonding site is bonded to two carbon atoms located at the β-position of the pyrrole ring to form a ring.

更に環Aは、他の環Bと縮環していてもよい。他の環Bが縮環することで、得られるオキソカーボン系化合物を長波長化できるため、化合物の色調に応じた分子設計を行い易くなる。前記環Bには、例えば、環Aの欄で詳述した芳香族環、脂環式炭化水素環、複素環を適宜選択することができ、中でも、炭素数6〜10の芳香族環、炭素数5〜10のシクロアルカン、炭素数5〜10のシクロアルケン、橋架けを有する炭素数5〜12の環式アルカン、及びこれらの環を構成する炭素原子の少なくとも1個以上が、N、S及びOから選ばれる少なくとも1種以上の原子に置き換わった複素環が好ましい。なおAの欄で環として記載されているものは、Bにおいては、Aに存在している任意の隣接する2個の炭素原子を含むものとして読み替える。また、結合部位を用いて例示されている構造は、Bでは、該結合部位がAに存在している任意の隣接する2個の炭素原子と結合して環を形成するものとして読み替える。   Furthermore, ring A may be fused with another ring B. By condensation of the other ring B, the wavelength of the resulting oxocarbon-based compound can be increased, so that molecular design according to the color tone of the compound can be easily performed. For the ring B, for example, an aromatic ring, an alicyclic hydrocarbon ring or a heterocyclic ring described in detail in the section of the ring A can be appropriately selected, and among them, an aromatic ring having 6 to 10 carbon atoms, carbon A cycloalkane of 5 to 10, a cycloalkene of 5 to 10 carbons, a cyclic alkane of 5 to 12 carbons having a bridge, and at least one of carbon atoms constituting these rings is N, S And a heterocyclic ring substituted by at least one or more atoms selected from O and O is preferable. In addition, what is described as a ring in the column of A is read in B as containing any two adjacent carbon atoms present in A. In addition, the structure exemplified by the binding site is read as B in which the binding site bonds with any two adjacent carbon atoms present in A to form a ring.

環Bが縮環した環Aとしては、例えば、縮合多環炭化水素や(例えば、下記(C−1)、(C−2)、(C−5)、(C−6)、(C−8)、(C−9)等)、縮合ヘテロ多環化合物(例えば、下記(C−3)、(C−4)、(C−7)等)が挙げられ、中でも、下記式(C−1)〜(C−9)から選ばれる構造式が好ましい。なお、下記式(C−1)〜(C−9)において、*はピロール環のβ炭素原子との結合部位であり、2個のβ炭素原子のいずれであってもよい。また前記結合部位はピロール環のβ位に位置する2個の炭素原子と結合して環を形成するものとする。   The ring A in which the ring B is fused is, for example, a fused polycyclic hydrocarbon or (for example, the following (C-1), (C-2), (C-5), (C-6), (C- 8), (C-9), etc., condensed heteropolycyclic compounds (eg, the following (C-3), (C-4), (C-7) etc.), and among them, the following formula (C-) 1) Structural formula selected from (C-9) is preferable. In the following formulas (C-1) to (C-9), * is a bonding site to the β carbon atom of the pyrrole ring, and may be any of two β carbon atoms. Further, the bonding site is bonded to two carbon atoms located at the β-position of the pyrrole ring to form a ring.

前記環A及び/又は環Bの水素原子は、電子求引性基及び/又は有機置換基により置換されていてもよい。   The hydrogen atom of ring A and / or ring B may be substituted by an electron withdrawing group and / or an organic substituent.

前記電子求引性基としては、親電子置換反応で導入できる置換基であれば、特に限定されない。電気求引性基において、電子求引性の指標としては、ハメット則の置換基定数σ等が知られており、ハメット則の置換基定数σが正である官能基が電子求引性基として挙げられる。前記電子求引性基としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン、シアノ基、ニトロ基、チオシアネート基、トリフルオロメチル基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基等が挙げられる。   The electron withdrawing group is not particularly limited as long as it is a substituent that can be introduced by an electrophilic substitution reaction. In the electroattractive group, a Hammett's substituent constant σ or the like is known as an index of electron-withdrawing properties, and a functional group having a positive Hammett's substituent constant σ is an electron withdrawing group. It can be mentioned. Examples of the electron withdrawing group include halogens such as fluorine, chlorine, bromine and iodine, cyano group, nitro group, thiocyanate group, trifluoromethyl group, acyl group, alkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, A sulfo group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group and the like can be mentioned.

前記アシル基としては、例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、トリフルオロアセチル基等の置換又は無置換のアルカノイル基;ベンゾイル基、1−ナフトイル基、2−ナフトイル基等の置換又は無置換のアロイル基;が挙げられる。これらの中でも、炭素数2〜15のアシル基が好ましく、炭素数2〜10のものがより好ましい。   Examples of the acyl group include substituted or unsubstituted alkanoyl groups such as acetyl group, propanoyl group, butanoyl group, pentanoyl group, hexanoyl group, heptanoyl group, octanoyl group, nonanoyl group, decanoyl group, trifluoroacetyl group and the like; And substituted or unsubstituted aroyl groups such as 1-naphthoyl group and 2-naphthoyl group. Among these, a C2-C15 acyl group is preferable, and a C2-C10 thing is more preferable.

前記アルキルオキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、及び、トリフルオロメチルオキシカルボニル基等の置換又は無置換のアルキルオキシカルボニル基が挙げられる。アルキルオキシカルボニル基中のアルキル基は、直鎖又は分岐のいずれであってもよい。   Examples of the alkyloxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, a pentyloxycarbonyl group, a hexyloxycarbonyl group, a heptyloxycarbonyl group, an octyloxycarbonyl group and a decyloxycarbonyl group. And octadecyloxycarbonyl groups, and substituted or unsubstituted alkyloxycarbonyl groups such as trifluoromethyloxycarbonyl groups. The alkyl group in the alkyloxycarbonyl group may be linear or branched.

前記アリールオキシカルボニル基としては、例えば、フェノキシカルボニル基、4−ジメチルアミノフェニルオキシカルボニル基、4−ジエチルアミノフェニルオキシカルボニル基、2−クロロフェニルオキシカルボニル基、2−メチルフェニルオキシカルボニル基、2−メトキシフェニルオキシカルボニル基、2−ブトキシフェニルオキシカルボニル基、3−クロロフェニルオキシカルボニル基、3−トリフルオロメチルフェニルオキシカルボニル基、3−シアノフェニルオキシカルボニル基、3−ニトロフェニルオキシカルボニル基、4−フルオロフェニルオキシカルボニル基、4−シアノフェニルオキシカルボニル基、4−メトキシフェニルオキシカルボニル基等の置換又は無置換のフェニルオキシカルボニル基;1−ナフチルオキシカルボニル基、2−ナフチルオキシカルボニル基等の置換又は無置換のナフチルオキシカルボニル基;等が挙げられる。   As the aryloxycarbonyl group, for example, a phenoxycarbonyl group, 4-dimethylaminophenyloxycarbonyl group, 4-diethylaminophenyloxycarbonyl group, 2-chlorophenyloxycarbonyl group, 2-methylphenyloxycarbonyl group, 2-methoxyphenyl group Oxycarbonyl group, 2-butoxyphenyloxycarbonyl group, 3-chlorophenyloxycarbonyl group, 3-trifluoromethylphenyloxycarbonyl group, 3-cyanophenyloxycarbonyl group, 3-nitrophenyloxycarbonyl group, 4-fluorophenyloxy group Substituted or unsubstituted phenyloxycarbonyl group such as carbonyl group, 4-cyanophenyloxycarbonyl group, 4-methoxyphenyloxycarbonyl group, etc .; 1-naphthyloxy Carbonyl group, a substituted or unsubstituted naphthyl oxycarbonyl group such as a 2-naphthyloxycarbonyl group; and the like.

前記カルバモイル基としては、例えば、カルバモイル基、N−エチルカルバモイル基、N−フェニルカルバモイル基、N,N−ジブチルカルバモイル基、N−(2−ドデシルオキシエチル)カルバモイル基等の置換又は無置換のカルバモイル基が挙げられる。   Examples of the carbamoyl group include substituted or unsubstituted carbamoyl groups such as carbamoyl group, N-ethylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group, N, N-dibutylcarbamoyl group, N- (2-dodecyloxyethyl) carbamoyl group and the like. Groups are mentioned.

前記アルキルスルフィニル基としては、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、ヘキシルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、オクチルスルフィニル基、シアノメチルスルフィニル基、メトキシメチルスルフィニル基の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基等が挙げられる。アルキルスルフィニル基中のアルキル基は、直鎖又は分岐のいずれであってもよい。   Examples of the alkylsulfinyl group include methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, propylsulfinyl group, isopropylsulfinyl group, butylsulfinyl group, hexylsulfinyl group, cyclohexylsulfinyl group, 2-ethylhexylsulfinyl group, octylsulfinyl group, cyanomethylsulfinyl group. And a substituted or unsubstituted alkylsulfinyl group of a methoxymethylsulfinyl group and the like. The alkyl group in the alkylsulfinyl group may be linear or branched.

前記アリールスルフィニル基としては、例えば、フェニルスルフィニル基、2−クロロフェニルスルフィニル基、2−メチルフェニルスルフィニル基、2−メトキシフェニルスルフィニル基、2−ブトキシフェニルスルフィニル基、2−フルオロフェニルスルフィニル基、3−メチルフェニルスルフィニル基、3−クロロフェニルスルフィニル基、3−トリフルオロメチルフェニルスルフィニル基、3−シアノフェニルスルフィニル基、3−ニトロフェニルスルフィニル基、4−メチルフェニルスルフィニル基、4−フルオロフェニルスルフィニル基、4−シアノフェニルスルフィニル基、4−メトキシフェニルスルフィニル基、4−ジメチルアミノフェニルスルフィニル基等の置換又は無置換のフェニルスルフィニル基;1−ナフチルスルフィニル基、2−ナフチルスルフィニル基等の置換又は無置換のナフチルスルフィニル基;等が挙げられる。   Examples of the arylsulfinyl group include phenylsulfinyl group, 2-chlorophenylsulfinyl group, 2-methylphenylsulfinyl group, 2-methoxyphenylsulfinyl group, 2-butoxyphenylsulfinyl group, 2-fluorophenylsulfinyl group, 3-methylphenyl group Phenylsulfinyl group, 3-chlorophenylsulfinyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfinyl group, 3-cyanophenylsulfinyl group, 3-nitrophenylsulfinyl group, 4-methylphenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-cyano A substituted or unsubstituted phenylsulfinyl group such as phenylsulfinyl group, 4-methoxyphenylsulfinyl group, 4-dimethylaminophenylsulfinyl group, etc .; Iniru group, 2-naphthylsulfinyl substituted or unsubstituted naphthylsulfinyl group such as Le group; and the like.

前記アルキルスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、オクチルスルホニル基、シアノメチルスルホニル基、メトキシメチルスルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基等が挙げられる。アルキルスルホニル基中のアルキル基は、直鎖又は分岐のいずれであってもよい。   As the alkylsulfonyl group, for example, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, propylsulfonyl group, isopropylsulfonyl group, butylsulfonyl group, hexylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, octylsulfonyl group, cyanomethylsulfonyl group Groups, methoxymethylsulfonyl group, trifluoromethylsulfonyl group and the like. The alkyl group in the alkylsulfonyl group may be linear or branched.

前記アリールスルホニル基としては、例えば、フェニルスルホニル基、2−クロロフェニルスルホニル基、2−メチルフェニルスルホニル基、2−メトキシフェニルスルホニル基、2−ブトキシフェニルスルホニル基、2−フルオロフェニルスルホニル基、3−メチルフェニルスルホニル基、3−クロロフェニルスルホニル基、3−トリフルオロメチルフェニルスルホニル基、3−シアノフェニルスルホニル基、3−ニトロフェニルスルホニル基、3−フルオロフェニルスルホニル基、4−メチルフェニルスルホニル基、4−フルオロフェニルスルホニル基、4−シアノフェニルスルホニル基、4−メトキシフェニルスルホニル基、4−ジメチルアミノフェニルスルホニル基等の置換又は無置換のフェニルスルホニル基;1−ナフチルスルホニル基、2−ナフチルスルホニル基等の置換又は無置換のナフチルスルホニル基;等が挙げられる。   Examples of the arylsulfonyl group include phenylsulfonyl group, 2-chlorophenylsulfonyl group, 2-methylphenylsulfonyl group, 2-methoxyphenylsulfonyl group, 2-butoxyphenylsulfonyl group, 2-fluorophenylsulfonyl group, 3-methyl Phenylsulfonyl group, 3-chlorophenylsulfonyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfonyl group, 3-cyanophenylsulfonyl group, 3-nitrophenylsulfonyl group, 3-fluorophenylsulfonyl group, 4-methylphenylsulfonyl group, 4-fluorophenyl A substituted or unsubstituted phenylsulfonyl group such as phenylsulfonyl group, 4-cyanophenylsulfonyl group, 4-methoxyphenylsulfonyl group, 4-dimethylaminophenylsulfonyl group, etc .; 1-naphthylsulfone Group, a substituted or unsubstituted naphthylsulfonyl group and a 2-naphthylsulfonyl group; and the like.

前記スルファモイル基としては、スルファモイル基(−SOONH2)中の水素原子が1つ置換されている一置換スルファモイル基であっても、2つ置換されている二置換スルファモイル基であってもよい。一置換スルファモイル基としては、例えば、スルファモイル基;N−メチルスルファモイル基、N−エチルスルファモイル基、N−プロピルスルファモイル基、N−ブチルスルファモイル基、N−ヘキシルスルファモイル基、N−シクロヘキシルスルファモイル基、N−オクチルスルファモイル基、N−2−エチルヘキシルスルファモイル基、N−デシルスルファモイル基等のアルキル基で置換されたスルファモイル基;N−フェニルスルファモイル基、N−2−メチルフェニルスルファモイル基、N−2−クロロフェニルスルファモイル基、N−2−メトキシフェニルスルファモイル基、N−2−イソプロポキシフェニルスルファモイル基、N−3−クロロフェニルスルファモイル基、N−3−ニトロフェニルスルファモイル基、N−3−シアノフェニルスルファモイル基、N−4−メトキシフェニルスルファモイル基、N−4−シアノフェニルスルファモイル基、N−4−ジメチルアミノフェニルスルファモイル基、N−4−メチルスルファニルフェニルスルファモイル基、N−4−フェニルスルファニルフェニルスルファモイル基等の置換又は無置換のアリール基で置換されたスルファモイル基;等が挙げられる。二置換スルファモイル基としては、例えば、N−メチル−N−フェニルスルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基、N,N−ジブチルスルファモイル基、N,N−ジフェニルスルファモイル基等が挙げられる。 The sulfamoyl group may be a monosubstituted sulfamoyl group in which one hydrogen atom in sulfamoyl group (-SOONH 2 ) is substituted or a disubstituted sulfamoyl group in which two hydrogen atoms are substituted. As a monosubstituted sulfamoyl group, for example, sulfamoyl group; N-methylsulfamoyl group, N-ethylsulfamoyl group, N-propylsulfamoyl group, N-butylsulfamoyl group, N-hexylsulfamoyl group N-phenylsulfamoyl group substituted with an alkyl group such as N-cyclohexylsulfamoyl group, N-octylsulfamoyl group, N-2-ethylhexylsulfamoyl group, N-decylsulfamoyl group; Famoyl group, N-2-methylphenylsulfamoyl group, N-2-chlorophenylsulfamoyl group, N-2-methoxyphenylsulfamoyl group, N-2-isopropoxyphenylsulfamoyl group, N- 3-chlorophenylsulfamoyl group, N-3-nitrophenylsulfamoyl group, N-3- Anophenylsulfamoyl group, N-4-methoxyphenylsulfamoyl group, N-4-cyanophenylsulfamoyl group, N-4-dimethylaminophenylsulfamoyl group, N-4-methylsulfanylphenylsulfa And sulfamoyl groups substituted with a substituted or unsubstituted aryl group such as a moyl group, N-4-phenylsulfanylphenylsulfamoyl group, and the like. As a disubstituted sulfamoyl group, for example, N-methyl-N-phenylsulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group, N, N-dibutylsulfamoyl group, N, N-diphenylsulfamoyl group Etc.

また前記環A及び/又は環Bの水素原子を置換し得る前記有機置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、アリール基、アラルキル基、アリールオキシ基、アリールチオオキシ基等が挙げられる。   The organic substituent capable of substituting the hydrogen atom of ring A and / or ring B is, for example, an alkyl group, an alkoxy group, a thioalkoxy group, an aryl group, an aralkyl group, an aryloxy group, an arylthiooxy group, etc. Can be mentioned.

前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基等の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。これらの中でも、炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素数1〜10のものがより好ましく、より好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基又はt−ブチル基であり、更に好ましくはプロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基又はt−ブチル基であり、より好ましくはt−ブチル基である。このアルキル基は置換基を有していてもよい。前記アルキル基が有する置換基としては、ハロゲン、アルコキシ基が挙げられる。   Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, t-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group and undecyl group, Examples thereof include linear or branched alkyl groups such as dodecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl, octadecyl, nonadecyl and icosyl. Among these, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, one having 1 to 10 carbon atoms is more preferable, and a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group or t-butyl is more preferable. And more preferably a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group or a t-butyl group, and more preferably a t-butyl group. This alkyl group may have a substituent. As a substituent which the said alkyl group has, a halogen and an alkoxy group are mentioned.

前記アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、イコシルオキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数1〜20のアルコキシ基が好ましく、炭素数1〜10のものがより好ましい。また、アルコキシ基中のアルキル基は、直鎖又は分岐のいずれであってもよい。   Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a nonyloxy group, a decyloxy group, an undecyloxy group, and a dodecyloxy group. And tridecyloxy, tetradecyloxy, pentadecyloxy, hexadecyloxy, heptadecyloxy, octadecyloxy, nonadecyloxy, icosyloxy, methoxyethoxy, ethoxyethoxy and the like. Among these, a C1-C20 alkoxy group is preferable, and a C1-C10 thing is more preferable. The alkyl group in the alkoxy group may be either linear or branched.

前記チオアルコキシ基としては、例えば、メチルチオオキシ基、エチルチオオキシ基、プロピルチオオキシ基、ブチルチオオキシ基、ペンチルチオオキシ基、ヘキシルチオオキシ基、ヘプチルチオオキシ基、オクチルチオオキシ基、ノニルチオオキシ基、デシルチオオキシ基、ウンデシルチオオキシ基、ドデシルチオオキシ基、トリデシルチオオキシ基、テトラデシルチオオキシ基、ペンタデシルチオオキシ基、ヘキサデシルチオオキシ基、ヘプタデシルチオオキシ基、オクタデシルチオオキシ基、ノナデシルチオオキシ基、イコシルチオオキシ基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数1〜20のチオアルコキシ基が好ましく、炭素数1〜10のものがより好ましい。また、チオアルコキシ基中のアルキル基は、直鎖又は分岐のいずれであってもよい。   As the thioalkoxy group, for example, methylthiooxy group, ethylthiooxy group, propylthiooxy group, butylthiooxy group, pentylthiooxy group, hexylthiooxy group, heptylthiooxy group, octylthiooxy group, nonylthio Oxy group, decylthiooxy group, undecylthiooxy group, dodecylthiooxy group, tridecylthiooxy group, tetradecylthiooxy group, pentadecylthiooxy group, hexadecylthiooxy group, heptadecylthiooxy group, octadecyl A thiooxy group, a nonadecyl thiooxy group, an icosyl thiooxy group etc. are mentioned. Among these, a C1-C20 thioalkoxy group is preferable, and a C1-C10 thing is more preferable. The alkyl group in the thioalkoxy group may be either linear or branched.

前記アリール基としては、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基、インデニル基、アズレニル基、フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、ペンタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、アセナフチレニル基、フェナレニル基、フルオレニル基、フェナントリル基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数6〜30のアリール基が好ましく、炭素数6〜15のものがより好ましい。このアリール基は置換基を有していてもよい。アリール基が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、チオシアネート基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基が挙げられる。   Examples of the aryl group include phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group, pyrenyl group, indenyl group, azulenyl group, fluorenyl group, terphenyl group, quarter phenyl group, pentalenyl group, heptarenyl group, biphenylenyl group. Groups, indasenyl groups, acenaphthylenyl groups, phenalenyl groups, fluorenyl groups, phenanthryl groups and the like. Among these, a C6-C30 aryl group is preferable, and a C6-C15 thing is more preferable. This aryl group may have a substituent. As a substituent which an aryl group has, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen, a cyano group, a nitro group, a thiocyanate group, an acyl group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfo group, an alkylsulfinyl group, an aryl A sulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group and a sulfamoyl group can be mentioned.

前記アラルキル基としては、炭素数7〜18のアラルキル基が好ましく、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニルペンチル基等が挙げられる。このアラルキル基は置換基を有していてもよく、前記置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、チオシアネート基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基が挙げられる。   The aralkyl group is preferably an aralkyl group having a carbon number of 7 to 18, and examples thereof include a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a phenylbutyl group and a phenylpentyl group. The aralkyl group may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen, a cyano group, a nitro group, a thiocyanate group, an acyl group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, A carbamoyl group, a sulfo group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group and a sulfamoyl group can be mentioned.

前記アリールオキシ基としては、例えば、フェニルオキシ基、ビフェニルオキシ基、ナフチルオキシ基、アントリルオキシ基、フェナントリルオキシ基、ピレニルオキシ基、インデニルオキシ基、アズレニルオキシ基、フルオレニルオキシ基、ターフェニルオキシ基、クオーターフェニルオキシ基、ペンタレニルオキシ基、ヘプタレニルオキシ基、ビフェニレニルオキシ基、インダセニルオキシ基、アセナフチレニルオキシ基、フェナレニルオキシ基、フルオレニルオキシ基、フェナントリルオキシ基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数1〜25のアリールオキシ基が好ましく、炭素数1〜15のものがより好ましい。   Examples of the aryloxy group include phenyloxy group, biphenyloxy group, naphthyloxy group, anthryloxy group, phenanthryloxy group, pyrenyloxy group, indenyloxy group, azulenyloxy group, fluorenyloxy group, ter Phenyloxy group, quarter phenyloxy group, pentalenyloxy group, heptarenyloxy group, biphenylenyloxy group, indacenyloxy group, acenaphthyryloxy group, phenarenyloxy group, fluorenyloxy group Groups, phenanthryloxy groups and the like. Among these, a C1-C25 aryloxy group is preferable, and a C1-C15 thing is more preferable.

前記アリールチオオキシ基としては、例えば、フェニルチオオキシ基、ビフェニルチオオキシ基、ナフチルチオオキシ基、アントリルチオオキシ基、フェナントリルチオオキシ基、ピレニルチオオキシ基、インデニルチオオキシ基、アズレニルチオオキシ基、フルオレニルチオオキシ基、ターフェニルチオオキシ基、クオーターフェニルチオオキシ基、ペンタレニルチオオキシ基、ヘプタレニルチオオキシ基、ビフェニレニルチオオキシ基、インダセニルチオオキシ基、アセナフチレニルチオオキシ基、フェナレニルチオオキシ基、フルオレニルチオオキシ基、フェナントリルチオオキシ基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数1〜25のアリールチオオキシ基が好ましく、炭素数1〜15のものがより好ましい。   Examples of the arylthiooxy group include phenylthiooxy group, biphenylthiooxy group, naphthylthiooxy group, anthrylthiooxy group, phenanthrylthiooxy group, pyrenylthiooxy group, indenylthiooxy group, and the like. Renylthiooxy group, fluorenylthiooxy group, terphenylthiooxy group, quarter phenylthiooxy group, pentalenylthiooxy group, heptarenylthiooxy group, biphenylenylthiooxy group, indasenylthiooxy group, acenaphthyreni And luthiooxy group, phenalenylthiooxy group, fluorenylthiooxy group, phenanthrylthiooxy group and the like. Among these, a C1-C25 arylthiooxy group is preferable, and a C1-C15 thing is more preferable.

前記有機置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基が好ましく、より好ましくはアルキル基であり、特に環Aがアセナフテン等の溶解性に劣る環の場合には、溶解性向上の観点から、特に、t−ブチル基又はイソブチル基等の嵩高い基が好ましい。   The organic substituent is preferably an alkyl group, an alkoxy group, a thioalkoxy group, an aryl group or an aryloxy group, more preferably an alkyl group, and in particular, in the case where the ring A is a ring having poor solubility such as acenaphthene In particular, bulky groups such as t-butyl group or isobutyl group are preferable from the viewpoint of solubility improvement.

前記有機置換基の結合位置は特に限定されないが、例えば、環Bに結合していることが好ましい(例えば、式(C−1)〜(C−9)のとき、Rc2〜Rc5、Rc8〜Rc11、Rc13〜Rc40、Rc42〜Rc47、Rc50〜Rc57)。
Although the bonding position of the organic substituent is not particularly limited, for example, it is preferable that it is bonded to ring B (for example, in the case of formulas (C-1) to (C-9), R c2 to R c5 , R c8 ~R c11, R c13 ~R c40 , R c42 ~R c47, R c50 ~R c57).

なお、スクアリリウム骨格を有する化合物(1)におけるRa1、Ra2は、同一であっても異なっていてもよい。製造が容易なことから、Ra1、Ra2は、同一であることが好ましい。同様にクロコニウム骨格を有する化合物(2)において、Ra3、Ra4は同一であっても異なっていてもよく、同一であることがより好ましい態様である。 In addition, R a1 and R a2 in the compound (1) having a squarylium skeleton may be the same or different. It is preferable that R a1 and R a2 be the same because of easy production. Similarly, in the compound (2) having a croconium skeleton, R a3 and R a4 may be the same or different, and the same embodiment is more preferable.

次に、式(4)におけるXについて説明する。Xは水素原子又は有機基であり、前記有機基としては、例えば、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基又はアルコキシアルキル基等が例示できる。   Next, X in equation (4) will be described. X is a hydrogen atom or an organic group, and examples of the organic group include an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group or an alkoxyalkyl group.

前記アルキル基としては、例えば、炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基、sec−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、2,2−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、ヘプチル基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、2,2−ジメチルペンチル基、2,3−ジメチルペンチル基、2,4−ジメチルペンチル基、3−エチルペンチル基、2,2,3−トリメチルブチル基、オクチル基、メチルヘプチル基、ジメチルヘキシル基、2−エチルヘキシル基、3−エチルヘキシル基、トリメチルペンチル基、3−エチル−2−メチルペンチル基、2−エチル−3−メチルペンチル基、2,2,3,3−テトラメチルブチル基、ノニル基、メチルオクチル基、3,7−ジメチルオクチル基、ジメチルヘプチル基、3−エチルヘプチル基、4−エチルヘプチル基、トリメチルヘキシル基、3,3−ジエチルペンチル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、等の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。   As the alkyl group, for example, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, and specifically, methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, tert-butyl group, sec-Butyl group, pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, hexyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, heptyl group, 2- Methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 2,2-dimethylpentyl group, 2,3-dimethylpentyl group, 2,4-dimethylpentyl group, 3-ethylpentyl group, 2,2,3-trimethylbutyl group, Octyl, methylheptyl, dimethylhexyl, 2-ethylhexyl, 3-ethylhexyl, trimethylpentyl, 3-ethyl-2 Methylpentyl group, 2-ethyl-3-methylpentyl group, 2,2,3,3-tetramethylbutyl group, nonyl group, methyloctyl group, 3,7-dimethyloctyl group, dimethylheptyl group, 3-ethylheptyl And linear or branched alkyl groups such as 4-ethylheptyl group, trimethylhexyl group, 3,3-diethylpentyl group, decyl group, undecyl group, and dodecyl group.

前記アリール基としては、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基、インデニル基、アズレニル基、フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、ペンタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、アセナフチレニル基、フェナレニル基、フルオレニル基、フェナントリル基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数6〜30のアリール基が好ましく、炭素数6〜15のものがより好ましい。このアリール基は置換基を有していてもよい。アリール基が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、チオシアネート基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基が挙げられる。   Examples of the aryl group include phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group, pyrenyl group, indenyl group, azulenyl group, fluorenyl group, terphenyl group, quarter phenyl group, pentalenyl group, heptarenyl group, biphenylenyl group. Groups, indasenyl groups, acenaphthylenyl groups, phenalenyl groups, fluorenyl groups, phenanthryl groups and the like. Among these, a C6-C30 aryl group is preferable, and a C6-C15 thing is more preferable. This aryl group may have a substituent. As a substituent which an aryl group has, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen, a cyano group, a nitro group, a thiocyanate group, an acyl group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfo group, an alkylsulfinyl group, an aryl A sulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group and a sulfamoyl group can be mentioned.

前記アラルキル基としては、炭素数7〜18のアラルキル基が好ましく、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニルペンチル基等が挙げられる。このアラルキル基は置換基を有していてもよく、前記置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、チオシアネート基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基が挙げられる。   The aralkyl group is preferably an aralkyl group having a carbon number of 7 to 18, and examples thereof include a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a phenylbutyl group and a phenylpentyl group. The aralkyl group may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen, a cyano group, a nitro group, a thiocyanate group, an acyl group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, A carbamoyl group, a sulfo group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group and a sulfamoyl group can be mentioned.

前記アルキルスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、オクチルスルホニル基、シアノメチルスルホニル基、メトキシメチルスルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基等が挙げられる。アルキルスルホニル基中のアルキル基は、直鎖又は分岐のいずれであってもよい。   As the alkylsulfonyl group, for example, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, propylsulfonyl group, isopropylsulfonyl group, butylsulfonyl group, hexylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, octylsulfonyl group, cyanomethylsulfonyl group Groups, methoxymethylsulfonyl group, trifluoromethylsulfonyl group and the like. The alkyl group in the alkylsulfonyl group may be linear or branched.

前記アリールスルホニル基としては、例えば、フェニルスルホニル基、2−クロロフェニルスルホニル基、2−メチルフェニルスルホニル基、2−メトキシフェニルスルホニル基、2−ブトキシフェニルスルホニル基、2−フルオロフェニルスルホニル基、3−メチルフェニルスルホニル基、3−クロロフェニルスルホニル基、3−トリフルオロメチルフェニルスルホニル基、3−シアノフェニルスルホニル基、3−ニトロフェニルスルホニル基、3−フルオロフェニルスルホニル基、4−メチルフェニルスルホニル基、4−フルオロフェニルスルホニル基、4−シアノフェニルスルホニル基、4−メトキシフェニルスルホニル基、4−ジメチルアミノフェニルスルホニル基等の置換又は無置換のフェニルスルホニル基;1−ナフチルスルホニル基、2−ナフチルスルホニル基等の置換又は無置換のナフチルスルホニル基;等が挙げられる。   Examples of the arylsulfonyl group include phenylsulfonyl group, 2-chlorophenylsulfonyl group, 2-methylphenylsulfonyl group, 2-methoxyphenylsulfonyl group, 2-butoxyphenylsulfonyl group, 2-fluorophenylsulfonyl group, 3-methyl Phenylsulfonyl group, 3-chlorophenylsulfonyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfonyl group, 3-cyanophenylsulfonyl group, 3-nitrophenylsulfonyl group, 3-fluorophenylsulfonyl group, 4-methylphenylsulfonyl group, 4-fluorophenyl A substituted or unsubstituted phenylsulfonyl group such as phenylsulfonyl group, 4-cyanophenylsulfonyl group, 4-methoxyphenylsulfonyl group, 4-dimethylaminophenylsulfonyl group, etc .; 1-naphthylsulfone Group, a substituted or unsubstituted naphthylsulfonyl group and a 2-naphthylsulfonyl group; and the like.

前記アルコキシアルキル基としては、例えば、下記式(6):   Examples of the alkoxyalkyl group include, for example, the following formula (6):

(式中、Z1、Z2はそれぞれ独立してアルキレン基であり、Z3はアルキル基であり、nは0〜4の整数を表す)が挙げられる。
1、Z2は、炭素数1〜10のアルキレン基が好ましく、より好ましくは炭素数2〜5のアルキレン基である。好ましいアルキレン基を例示すると、例えば、−CH2−、−CH2CH2−、−CH2CH2CH2−、−CH2CH2CH2CH2−、−CH(CH2)CH2−、−CH(C25)CH2−、−C(CH22CH2−、−CH2CH2CH2CH2CH2−、−CH2CH2CH2CH2CH2CH2−、等が挙げられる。中でも−CH2−(メチレン基)、−CH2CH2−(エチレン基)、−CH(CH2)CH2−(プロピレン基)又は−CH2CH2CH2−(トリメチレン基)が好ましく、より好ましくは−CH2−(メチレン基)又は−CH2CH2−(エチレン基)である。
また、Z3は、炭素数が1〜20のアルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数1〜10のアルキル基であり、好ましいアルキル基を例示すると、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
nは0〜4の整数であるが、より好ましくは0〜2であり、更に好ましくは0又は1である。
このようなアルコキシアルキル基としては、例えば、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、エトキシエトキシエチル基等が挙げられる。
(Wherein, Z 1 and Z 2 are each independently an alkylene group, Z 3 is an alkyl group, and n is an integer of 0 to 4).
Each of Z 1 and Z 2 is preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and more preferably an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms. To illustrate the preferred alkylene group include, -CH 2 -, - CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, - CH (CH 2) CH 2 - , -CH (C 2 H 5) CH 2 -, - C (CH 2) 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, Etc. are mentioned. Among them, -CH 2- (methylene group), -CH 2 CH 2- (ethylene group), -CH (CH 2 ) CH 2- (propylene group) or -CH 2 CH 2 CH 2- (trimethylene group) is preferable, More preferably, they are -CH 2- (methylene group) or -CH 2 CH 2- (ethylene group).
Further, Z 3 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a preferable alkyl group is exemplified by, for example, a methyl group, an ethyl group, and n-propyl It is a group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, more preferably methyl group or ethyl group.
n is an integer of 0 to 4, more preferably 0 to 2, and still more preferably 0 or 1.
As such an alkoxyalkyl group, a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxymethyl group, a methoxyethoxymethyl group, an ethoxyethoxyethyl group etc. are mentioned, for example.

これらの中でも、本発明においてXは、水素原子、アルキル基、アルコキシアルキル基が好ましく、より好ましくは水素原子である。   Among these, in the present invention, X is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxyalkyl group, and more preferably a hydrogen atom.

次に、式(4)におけるYについて説明する。Yは、水素原子、電子求引性基又は有機置換基であり、電子求引性基としては、例えば、前述したハロゲン、シアノ基、ニトロ基、チオシアネート基、トリフルオロメチル基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基等を選択するとよい。有機置換基も同様に、例えば、前述したアルキル基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、アリール基、アラルキル基、アリールオキシ基、アリールチオオキシ基等を選択するとよい。中でも、炭素数1〜4のアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基が好ましく、より好ましくは、メチル基、エチル基、アルコキシ基で置換された炭素数6〜10のアリール基であり、更に好ましくは、メチル基、エチル基、アルコキシ基で置換されたフェニル基であり、特に好ましくは、メチル基、エチル基、(o−,m−,p−)メトキシフェニル、又は(o−,m−,p−)エトキシフェニルである。   Next, Y in equation (4) will be described. Y is a hydrogen atom, an electron withdrawing group or an organic substituent, and as the electron withdrawing group, for example, the aforementioned halogen, cyano group, nitro group, thiocyanate group, trifluoromethyl group, acyl group, alkyl It is preferable to select an oxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfo group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group and the like. Similarly, as the organic substituent, for example, the alkyl group, alkoxy group, thioalkoxy group, aryl group, aralkyl group, aryloxy group, arylthiooxy group and the like described above may be selected. Among them, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group which may have a substituent is preferable, and more preferably, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms substituted with a methyl group, an ethyl group or an alkoxy group And more preferably a methyl group, an ethyl group, or a phenyl group substituted with an alkoxy group, and particularly preferably a methyl group, an ethyl group, (o-, m-, p-) methoxyphenyl, or (o -, M-, p-) ethoxyphenyl.

このようなオキソカーボン系化合物として、特に好ましい化合物を例示すると、スクアリリウム骨格を有する化合物では、例えば、   As a particularly preferred compound as such an oxocarbon compound, for example, in the compound having a squarylium skeleton,

が例示でき、クロコニウム骨格を有する化合物としては、例えば、 Examples of compounds having a croconium skeleton include, for example,

等が例示できる。 Etc. can be illustrated.

これらのオキソカーボン系化合物の極大吸収波長(λmax)は、スクアリリウム系の色素で550〜1000nmであり、例えば、分子中の橋架けの環式アルカンを芳香族環に変換する等して該化合物を長波長化することにより、600〜800nmとすることも可能である。またクロコニウム系の色素の場合、色素の極大吸収波長(λmax)は700〜1200nmであり、更に分子中の橋架けの環式アルカンを芳香族環に変換する等して該化合物を長波長化することにより、800〜950nmとすることもできる。   The maximum absorption wavelength (λmax) of these oxocarbon-based compounds is 550 to 1000 nm for squarylium-based dyes, and for example, long-wavelength light is produced by converting a cyclic alkane bridged in the molecule to an aromatic ring or the like. It is also possible to set the wavelength to 600 to 800 nm. In the case of a croconium dye, the maximum absorption wavelength (λmax) of the dye is 700 to 1200 nm, and the cyclic alkane of the bridge in the molecule is further converted to an aromatic ring to lengthen the compound. , 800 to 950 nm.

更に、これらのオキソカーボン系化合物は耐光性に優れており、オキソカーボン系化合物を含む塗膜をキセノンウェザーメーターにセットし、60℃雰囲気下で24時間の光照射する耐光性試験を行ったとき、耐光性試験前後で得られるピークトップから求められるピーク残存率は、30%以上、より好ましくは50%以上、更に好ましくは60%以上を達成できる。   Furthermore, these oxocarbon compounds are excellent in light resistance, and when a coating film containing the oxocarbon compound is set in a xenon weather meter and light resistance test is conducted by irradiating light in a 60 ° C. atmosphere for 24 hours. The peak residual ratio obtained from the peak top obtained before and after the light resistance test can achieve 30% or more, more preferably 50% or more, and still more preferably 60% or more.

なお構造単位(4)を有するオキソカーボン系化合物は、下記式(5):   The oxocarbon compound having the structural unit (4) is represented by the following formula (5):

(式(5)中、A、X及びYは前記に同じ)で表されるピロール誘導体と、スクアリン酸又はクロコン酸を反応させることにより製造することができる。 [Wherein, in the formula (5), A, X and Y are as defined above] can be produced by reacting the pyrrole derivative represented by the formula (5) with squaric acid or croconic acid.

スクアリン酸又はクロコン酸と、ピロール誘導体(5)との反応させる工程(以下、「工程1」と称する)において、ピロール誘導体(5)の使用量は、スクアリン酸又はクロコン酸に対し、0.8倍mol以上が好ましく、より好ましくは1.2倍mol以上であり、更に好ましくは1.5倍mol以上であり、5倍mol以下が好ましく、より好ましくは4倍mol以下であり、更に好ましくは3倍mol以下である。   In the step of reacting squaric acid or croconic acid with pyrrole derivative (5) (hereinafter referred to as "step 1"), the amount of pyrrole derivative (5) used is 0.8 relative to squaric acid or croconic acid Double mol or more is preferable, More preferably, it is 1.2 times mol or more, More preferably, it is 1.5 times mol or more, 5 times mol or less is preferable, More preferably, it is 4 times mol or less, More preferably, It is 3 times mol or less.

また本反応は、溶媒存在下に実施することが好ましく、使用できる溶媒としては、例えば、クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;THF、ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジエチルエーテル等のエーテル類;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類;等を挙げることができる。これらの溶媒は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The reaction is preferably carried out in the presence of a solvent, and examples of usable solvents include chlorinated hydrocarbons such as chloroform and methylene chloride; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; THF, Ethers such as dioxane, cyclopentyl methyl ether, diisopropyl ether, diethyl ether and the like; alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol and the like; amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

前記溶媒の使用量(合計)は、スクアリン酸又はクロコン酸に対して、1倍重量以上が好ましく、より好ましくは10倍重量以上であり、更に好ましくは20倍重量以上であり、上限は例えば、100倍重量以下である。   The amount (total) of the solvent used is preferably at least 1 time by weight, more preferably 10 times by weight or more, still more preferably 20 times by weight or more, based on squaric acid or croconic acid, and the upper limit is, for example, It is less than 100 times its weight.

反応温度は適宜設定するとよく、例えば0℃以上が好ましく、より好ましくは25℃以上であり、170℃以下が好ましく、より好ましくは140℃以下である。本反応は、反応生成水を除去するため、還流状態で行ってもよい。また反応時間も特に限定されず、例えば、0.1時間以上が好ましく、より好ましくは0.5時間以上であり、24時間以下が好ましく、より好ましくは12時間以下である。   The reaction temperature may be appropriately set, for example, preferably 0 ° C. or more, more preferably 25 ° C. or more, preferably 170 ° C. or less, more preferably 140 ° C. or less. This reaction may be carried out under reflux to remove reaction product water. The reaction time is also not particularly limited, and is, for example, preferably 0.1 hours or more, more preferably 0.5 hours or more, and preferably 24 hours or less, more preferably 12 hours or less.

工程1は、特に不活性ガス(窒素、アルゴン等)雰囲気下で行うことが推奨される。   It is recommended to carry out step 1 particularly under an inert gas (nitrogen, argon, etc.) atmosphere.

上記反応により得られるオキソカーボン系化合物は、反応後、適宜精製するとよい。精製手段としては、例えば、濾過、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、アルミナカラムクロマトグラフィー、再結晶、晶析、再沈殿等が挙げられる。   The oxocarbon compound obtained by the above reaction may be appropriately purified after the reaction. Examples of the purification means include filtration, silica gel column chromatography, alumina column chromatography, recrystallization, crystallization, reprecipitation and the like.

また、式(4)の環A及び/又は環Bに、橋架けを有する環式アルカンが含まれる場合、工程1により、分子中に橋架けの環式アルカンを有するオキソカーボン系化合物を製造した後、得られたオキソカーボン系化合物に熱処理を施すことにより(以下、「工程2」と称する)、橋架けの環式アルカンを芳香族環に変換することができる。   In addition, when ring A and / or ring B of formula (4) contains a cyclic alkane having a bridge, an oxocarbon compound having a cyclic alkane bridged in the molecule was produced in step 1 Thereafter, the obtained oxocarbon compound is subjected to a heat treatment (hereinafter referred to as “step 2”) to convert the bridged cyclic alkane into an aromatic ring.

この際の熱処理温度は、160℃以上が好ましく、より好ましくは210℃以上であり、280℃以下が好ましく、より好ましくは270℃以下である。また、熱処理時間は、0.2時間以上が好ましく、より好ましくは0.5時間以上であり、10時間以下が好ましく、より好ましくは6時間以下である。   The heat treatment temperature at this time is preferably 160 ° C. or more, more preferably 210 ° C. or more, and preferably 280 ° C. or less, more preferably 270 ° C. or less. The heat treatment time is preferably 0.2 hours or more, more preferably 0.5 hours or more, and preferably 10 hours or less, more preferably 6 hours or less.

工程2は、特に不活性ガス(窒素、アルゴン等)雰囲気下で行うことが推奨される。   It is recommended to carry out step 2 particularly under an inert gas (nitrogen, argon, etc.) atmosphere.

なお前記オキソカーボン系化合物(1)及び(2)は、(1)又は(2)のいずれか一方を樹脂組成物に加えてもよく、(1)と(2)の両方を樹脂組成物に加えてもよい。オキソカーボン系化合物(1)及び(2)の含有量は、本発明の効果を充分に発揮させるため、色素の全量100質量%に対し、40質量%以上が好ましく、より好ましくは60質量%以上であり、更に好ましくは80質量%以上であり、特に好ましくは100質量%であるが、95質量%以下であってもよい。   In the oxocarbon compounds (1) and (2), either one of (1) or (2) may be added to the resin composition, and both (1) and (2) may be added to the resin composition. You may add it. The content of the oxocarbon compounds (1) and (2) is preferably 40% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, based on 100% by mass of the total amount of the dye, in order to exert the effects of the present invention sufficiently. It is more preferably 80% by mass or more, particularly preferably 100% by mass, but may be 95% by mass or less.

1−2.他の色素
本発明に係る樹脂組成物においては、前述したオキソカーボン系化合物(1)及び/又は(2)以外にも、これら以外の他の色素を組み合わせて用いてもよい。すなわち本発明に係る樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない限り、他の色素を含んでいてもよい。本発明の樹脂組成物に含まれていてもよい色素としては、例えば、上記に示す構造単位を有しないスクアリリウム系色素、上記に示す構造単位を有しないクロコニウム系色素、中心金属イオンとして銅(例えば、Cu(II))や亜鉛(例えば、Zn(II))等を有していてもよい環状テトラピロール系色素(ポルフィリン類、クロリン類、フタロシアニン類、コリン類等)、シアニン系色素、クアテリレン系色素、ナフタロシアニン系色素、ニッケル錯体系色素、銅イオン系色素等が挙げられ、これらの1種又は2種以上を組み合わせて使用してもよい。本発明の効果を損なわないよう、これら他の色素は400〜1000nmの波長域に吸収極大波長を有していることが望ましい。
1-2. Other Dyes In the resin composition according to the present invention, in addition to the oxocarbon compounds (1) and / or (2) described above, other dyes other than these may be used in combination. That is, the resin composition according to the present invention may contain other dyes as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of the dye that may be contained in the resin composition of the present invention include squarylium dyes having no structural unit as described above, croconium dyes having no structural unit as described above, copper as a central metal ion , Cu (II), zinc (for example, Zn (II)), etc. Cyclic tetrapyrrole dyes (porphyrins, chlorins, phthalocyanines, cholines, etc.), cyanine dyes, quaterrylene dyes Dyes, naphthalocyanine dyes, nickel complex dyes, copper ion dyes and the like may be mentioned, and one or more of these may be used in combination. It is desirable that these other dyes have an absorption maximum wavelength in the wavelength range of 400 to 1000 nm so as not to impair the effects of the present invention.

上記他の色素の含有量は、本発明の効果を充分に発揮させるため、色素の全量100質量%に対し、60質量%以下が好ましく、より好ましくは40質量%以下であり、更に好ましくは20質量%以下であり、特に好ましくは、これらの他の色素を実質的に含まないことである。   The content of the other dye is preferably 60% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and still more preferably 20% by mass with respect to 100% by mass of the total amount of the dye in order to sufficiently exert the effects of the present invention. It is preferably at most mass%, particularly preferably substantially free of these other dyes.

これらの色素の濃度(含有量)は、樹脂組成物100質量%中、例えば、0.1質量%以上が好ましく、より好ましくは1質量%以上であり、更に好ましくは3質量%以上であり、上限は特に限定されないが、色素濃度が高すぎると、均一な膜厚で成膜が困難となる虞があることから、25質量%以下であることが好ましく、より好ましくは20質量%以下であり、更に好ましくは15質量%以下である。   The concentration (content) of these dyes is, for example, preferably 0.1% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, and still more preferably 3% by mass or more in 100% by mass of the resin composition. The upper limit is not particularly limited, but if the dye concentration is too high, it may be difficult to form a film with a uniform film thickness, so the content is preferably 25% by mass or less, more preferably 20% by mass or less. More preferably, it is 15% by mass or less.

<2.樹脂成分>
本発明に係る樹脂組成物には、樹脂成分が含まれる。樹脂成分としては、前述した各種色素を十分に溶解又は分散できるものが好ましい。このような目的に適した樹脂成分を選択することにより、透過させたい波長域における高透過率と、遮断したい波長域における高吸収性を両立させることができる。
<2. Resin component>
The resin composition according to the present invention contains a resin component. As the resin component, those which can sufficiently dissolve or disperse the various dyes described above are preferable. By selecting a resin component suitable for such purpose, it is possible to achieve both high transmittance in the wavelength range to be transmitted and high absorption in the wavelength range to be blocked.

前記樹脂成分としては、例えば、(メタ)アクリル系樹脂、(メタ)アクリルウレタン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂(例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂)、ポリシクロオレフィン樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、スチレン系樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド樹脂(例えば、ナイロン)、アラミド樹脂、ポリイミド系樹脂、アルキド系樹脂、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂(例えば、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンテレフタレート(PET)等)、ブチラール樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ABS樹脂(アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂)、AS樹脂(アクリロニトリル−スチレン共重合体);(メタ)アクリルシリコーン系樹脂、アルキルポリシロキサン系樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンウレタン樹脂、シリコーンポリエステル樹脂、シリコーンアクリル樹脂等の変性シリコーン樹脂;フッ素化芳香族ポリマー、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、パーフルオロアルコキシフッ素樹脂(PFA)、フッ素化ポリアリールエーテルケトン(FPEK)、フッ素化ポリイミド(FPI)、フッ素化ポリアミド酸(FPAA)、フッ素化ポリエーテルニトリル(FPEN))等のフッ素系樹脂;等が挙げられる。   Examples of the resin component include (meth) acrylic resins, (meth) acrylic urethane resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, polyolefin resins (for example, polyethylene resins, polypropylene resins), polycycloolefin resins Melamine resin, urethane resin, styrene resin, polyvinyl acetate, polyamide resin (for example, nylon), aramid resin, polyimide resin, alkyd resin, phenol resin, epoxy resin, polyester resin (for example, Polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene terephthalate (PET), etc., butyral resin, polycarbonate resin, polyether resin, ABS resin (acrylonitrile butadiene styrene resin), AS resin (acrylonitrile-styrene) (Polymers); (meth) acrylic silicone resins, alkylpolysiloxane resins, silicone resins, silicone urethane resins, silicone polyester resins, modified silicone resins such as silicone acrylic resins; fluorinated aromatic polymers, polytetrafluoroethylene (PTFE) Fluorine-based resins such as perfluoroalkoxy fluorine resin (PFA), fluorinated polyarylether ketone (FPEK), fluorinated polyimide (FPI), fluorinated polyamic acid (FPAA), fluorinated polyether nitrile (FPEN)) And the like.

本発明に係る樹脂組成物は、射出成形等の成形に用いることのできる熱可塑性樹脂組成物であってもよく、スピンコート法や溶媒キャスト法等により塗工できるよう塗料化された樹脂組成物であってもよい。   The resin composition according to the present invention may be a thermoplastic resin composition that can be used for molding such as injection molding, or the like, and a resin composition that has been made into a coating material so that coating can be performed by spin coating method, solvent casting method, etc. It may be

前記熱可塑性樹脂組成物を用いることで、射出成形、押出成形、真空成形、圧縮成形、ブロー成形等により成形品を得ることができる。この方法では、前述した樹脂の中のうち熱可塑性樹脂にオキソカーボン系化合物を混練し、加熱成形することにより成形品が得られる。すなわちベース樹脂の粉体又はペレットにオキソカーボン系化合物を添加し、150〜350℃に加熱、溶解させた後、成形するとよい。成形品の形状は特に限定されるものではないが、厚さ200μm以下のフィルム、厚さ200μm以上の板状物等の面状成形体;異形品等の成形体;が好ましい。また樹脂を混練する際に、紫外線吸収剤、可塑剤等の通常の樹脂成形に用いる添加剤を加えてもよい。   By using the thermoplastic resin composition, a molded article can be obtained by injection molding, extrusion molding, vacuum molding, compression molding, blow molding, and the like. In this method, a molded product is obtained by kneading an oxocarbon-based compound into a thermoplastic resin among the above-mentioned resins and performing heat molding. That is, the oxocarbon compound may be added to the powder or pellet of the base resin, heated at 150 to 350 ° C. for dissolution, and then molded. The shape of the molded product is not particularly limited, but a film having a thickness of 200 μm or less, a planar molded product such as a plate-shaped product having a thickness of 200 μm or more; a molded product such as an irregular product; Further, when the resin is kneaded, an additive used for normal resin molding such as an ultraviolet absorber, a plasticizer and the like may be added.

また、塗料化された樹脂組成物とは、オキソカーボン系化合物を含む液状又はペースト状の組成物であり、この塗料化された樹脂組成物を、樹脂板、フィルム、ガラス板上等に塗工することで、厚さ200μm以下のフィルム、厚さ200μm以上の板状物等の面状成形体を形成することができる。塗料化された樹脂組成物は、例えば、オキソカーボン系化合物を、ベース樹脂を含む溶媒に溶解させて塗料化したものや、オキソカーボン系化合物を数μm以下に微粒化してベース樹脂のエマルジョン中に分散したもの、等が挙げられる。   Further, a resin composition made into a paint is a liquid or paste composition containing an oxocarbon compound, and the resin composition made into a paint is coated on a resin plate, a film, a glass plate, etc. By doing this, it is possible to form a planar molded body such as a film having a thickness of 200 μm or less and a plate-like material having a thickness of 200 μm or more. The resin composition made into a paint is, for example, one obtained by dissolving an oxocarbon-based compound in a solvent containing a base resin to make a paint, or atomizing the oxocarbon-based compound to several μm or less into an emulsion of a base resin. The thing etc. which were disperse | distributed are mentioned.

ベース樹脂となる樹脂成分は、色素を高濃度に溶解又は分散できるよう、色素に対する分散性が高い必要がある。また、本発明の樹脂組成物を用いて、スピンコート法や溶媒キャスト法等による膜の形成も可能なように、塗工性も良好なことが好ましい。これらの観点から、樹脂成分としては、有機溶剤に可溶な溶剤可溶性樹脂、溶剤可溶性樹脂原料及び液状樹脂原料からなる群より選択される少なくとも1種が好ましく用いられる。これらの樹脂であれば比較的低温条件下であっても膜の形成が可能となるためより好ましい。色素の構造によっては、重合時の存在する不純物(例えば、分解を促進させる未反応物、反応性末端、イオン性基、触媒、酸・塩基性基等)により色素の一部又は全部が分解し、耐光性が悪化することがあるため、そのような色素には、既に重合(必要に応じて精製)が完結している溶剤可溶性樹脂を組み合わせることが望ましい。   The resin component to be the base resin needs to have high dispersibility to the pigment so that the pigment can be dissolved or dispersed at a high concentration. In addition, it is preferable that the coatability is also good so that a film can be formed by a spin coating method, a solvent casting method or the like using the resin composition of the present invention. From these viewpoints, as the resin component, at least one selected from the group consisting of solvent-soluble resins soluble in organic solvents, solvent-soluble resin raw materials, and liquid resin raw materials is preferably used. These resins are more preferable because they can form a film even under relatively low temperature conditions. Depending on the structure of the dye, some or all of the dye may be degraded by impurities present during polymerization (eg, unreacted substances that promote decomposition, reactive terminals, ionic groups, catalysts, acid / basic groups, etc.) Since it is possible that the light resistance may deteriorate, it is desirable to combine such a dye with a solvent-soluble resin which has already been polymerized (if necessary, purified).

なお前記「溶剤可溶性樹脂」は、有機溶剤に可溶な樹脂を意味し、例えば後述する各種有機溶剤100質量部に対し、1質量部以上溶解する樹脂が好ましい。
また前記「溶剤可溶性樹脂原料」とは、有機溶剤に可溶な樹脂原料、すなわち樹脂原料であって溶剤可溶性であるものを意味し、例えば、後述する各種有機溶剤100質量部に対し、1質量部以上溶解するものが好ましい。
更に前記「液状樹脂原料」とは、液状の樹脂原料、すなわち樹脂原料であって液状であるものを意味する。物が「液状である」とは、その物自体の粘度が、常温(25℃)において100Pa・s以下であることを意味する。粘度は、B型粘度計により測定することができる。
なお本明細書において、「樹脂原料」には、樹脂の前駆体や該前駆体の原料、更に、樹脂を形成するための単量体(硬化性モノマー等)が含まれるものとする。
In addition, the above-mentioned "solvent soluble resin" means resin soluble in an organic solvent, for example, resin which dissolves 1 mass part or more to 100 mass parts of various organic solvents mentioned below is preferred.
The above-mentioned "solvent-soluble resin raw material" means a resin raw material soluble in an organic solvent, that is, a resin raw material which is solvent-soluble, and for example, 1 mass per 100 mass parts of various organic solvents described later. Those which dissolve in part or more are preferable.
Furthermore, the above-mentioned "liquid resin raw material" means a liquid resin raw material, that is, a resin raw material which is liquid. The substance being “liquid” means that the viscosity of the substance itself is 100 Pa · s or less at normal temperature (25 ° C.). The viscosity can be measured by a B-type viscometer.
In the present specification, the “resin raw material” includes a precursor of a resin, a raw material of the precursor, and a monomer (curable monomer or the like) for forming a resin.

前記溶剤可溶性樹脂としては、例えば、ポリ(アミド)イミド樹脂、フッ素化芳香族ポリマー、(メタ)アクリル系樹脂、ポリアミド樹脂、アラミド樹脂、ポリシクロオレフィン樹脂等が挙げられる。中でも、耐光性により優れる観点から、ポリ(アミド)イミド樹脂、フッ素化芳香族ポリマー、(メタ)アクリル系樹脂又はポリシクロオレフィン樹脂が好ましく、より好ましくはポリイミド樹脂、(メタ)アクリル系樹脂又はポリシクロオレフィン樹脂であり、更に好ましくは(メタ)アクリル系樹脂又はポリシクロオレフィン樹脂である。   Examples of the solvent-soluble resin include poly (amide) imide resin, fluorinated aromatic polymer, (meth) acrylic resin, polyamide resin, aramid resin, polycycloolefin resin and the like. Among them, poly (amide) imide resin, fluorinated aromatic polymer, (meth) acrylic resin or polycycloolefin resin is preferable, and polyimide resin, (meth) acrylic resin or poly is more preferable, from the viewpoint of being more excellent in light resistance. It is a cycloolefin resin, more preferably a (meth) acrylic resin or a polycycloolefin resin.

上記溶剤可溶性樹脂はまた、架橋反応(硬化反応)することが可能な反応性基(例えば、エポキシ基やオキセタン環、エチレンスルフィド基等の開環重合性基や、アクリル基、メタクリル基、ビニル基等のラジカル硬化性基及び/又は付加硬化性基)を有するものであってもよい。
上記樹脂成分として溶剤可溶性樹脂を用いる場合、該溶剤可溶性樹脂がそのまま、上記樹脂層を構成する樹脂成分となっていてもよいし、該溶剤可溶性樹脂が架橋反応等により変化したものが、上記樹脂層を構成する樹脂成分となっていてもよい。
なお、架橋可能な反応性基の量や成膜時の架橋反応をどの程度進めるかは特に限定されるものではないが、樹脂の溶剤可溶性が維持できる程度であることが好ましい。
The solvent-soluble resin may also be a reactive group capable of undergoing a crosslinking reaction (curing reaction) (for example, a ring-opening polymerizable group such as an epoxy group, an oxetane ring, or an ethylene sulfide group, an acrylic group, a methacrylic group, a vinyl group Etc. and may have a radical curable group and / or an addition curable group).
When a solvent-soluble resin is used as the resin component, the solvent-soluble resin may be the resin component constituting the resin layer as it is, or the solvent-soluble resin may be changed by a crosslinking reaction or the like. It may be a resin component constituting a layer.
Although the amount of the crosslinkable reactive group and the degree to which the crosslinking reaction in film formation proceeds is not particularly limited, it is preferable that the solvent solubility of the resin can be maintained.

2−1.ポリ(アミド)イミド樹脂
溶剤可溶性樹脂であるポリ(アミド)イミド樹脂とは、狭義のポリイミド樹脂(イミド結合を含み、アミド結合を含まない樹脂を意味し、ここでいうアミド結合とは、アミック酸の脱水反応によりイミド結合を形成し得ないアミド結合を意味する。)、及び、ポリアミドイミド樹脂(アミック酸の脱水反応によりイミド結合を形成し得ないアミド結合とイミド結合とを含む樹脂を意味する。)のいずれをも包含する。
2-1. Poly (amide) imide resin Poly (amide) imide resin which is solvent soluble resin, is the polyimide resin of narrow sense (the resin which includes the imide bond, does not contain the amide bond, the amide bond here is the amic acid Means an amide bond which can not form an imide bond by dehydration reaction), and a polyamideimide resin (a resin containing an amide bond and an imide bond which can not form an imide bond by a dehydration reaction of an amic acid) ) Is included.

ポリイミド樹脂におけるイミド結合は、通常、アミド結合とそれに隣接するカルボキシル基とを有する結合鎖(本発明では、該結合鎖をアミック酸ともいう。通常は、アミド結合が結合した炭素原子に隣接する炭素原子にカルボキシル基が結合した構造である。)におけるアミド結合とカルボキシル基との脱水反応による形成される。ポリアミック酸から脱水反応によりポリイミド樹脂を生成させる際、分子内に若干量のアミック酸は残存し得る。したがって、本発明で「ポリイミド樹脂」という場合は、イミド結合を含み、アミック酸の脱水反応によりイミド結合を形成し得ないアミド結合は含まないが、アミック酸の脱水反応によりイミド結合を形成し得るアミド結合は含まないか若干量含んでいてもよい。ポリイミド樹脂におけるイミド結合含有率(イミド化反応によりイミド化し得るアミド結合数とイミド結合数の合計量100モル%に対するイミド結合数の割合)が80モル%以上であるポリイミド樹脂が好ましい。より好ましくは90モル%以上、更に好ましくは95モル%以上、特に好ましくは98モル%以上である。   The imide bond in the polyimide resin is usually a bond chain having an amide bond and a carboxyl group adjacent thereto (in the present invention, the bond chain is also referred to as an amic acid. Usually, carbon adjacent to a carbon atom to which the amide bond is bonded) It is a structure in which a carboxyl group is bonded to an atom. When a polyimide resin is produced from polyamic acid by dehydration reaction, some amount of amic acid may remain in the molecule. Therefore, in the present invention, when referred to as "polyimide resin", although it contains an imide bond and does not contain an amide bond which can not form an imide bond by dehydration of an amic acid, it can form an imide bond by dehydration of an amic acid The amide bond may or may not contain a slight amount. Preferred is a polyimide resin having an imide bond content (the ratio of the number of imide bonds to the total of 100 mol% of the number of amide bonds imidizable by imidization and the number of imide bonds) in the polyimide resin is 80 mol% or more. More preferably, it is 90 mol% or more, still more preferably 95 mol% or more, and particularly preferably 98 mol% or more.

またポリアミドイミド樹脂とは、アミック酸の脱水反応によりイミド結合を形成し得ないアミド結合とイミド結合とを含むが、アミック酸の脱水反応によりイミド結合を形成し得るアミド結合は含まないか若干量含んでいてもよい。アミック酸の脱水反応によりイミド結合を形成し得るアミド結合を含む場合、アミド結合数(脱水反応によりイミド結合を形成し得ないアミド結合数と脱水反応によりイミド結合を形成し得るアミド結合数との和)とイミド結合数との合計量100モル%に対する、アミック酸の脱水反応によりイミド結合を形成し得るアミド結合の含有率は、20モル%未満が好ましい。より好ましくは10モル%未満、更に好ましくは5モル%未満、特に好ましくは2モル%未満である。   Moreover, although the polyamide imide resin contains the amide bond and the imide bond which can not form an imide bond by the dehydration reaction of an amic acid, the amide bond which can form an imide bond by the dehydration reaction of the amic acid is not included May be included. In the case of containing an amide bond capable of forming an imide bond by dehydration reaction of an amic acid, the number of amide bonds (a number of amide bonds which can not form an imide bond by dehydration reaction The content of the amide bond capable of forming an imide bond by the dehydration reaction of an amic acid is preferably less than 20 mol% with respect to the total amount of 100 mol% of the sum and the imide bond number. More preferably, it is less than 10 mol%, still more preferably less than 5 mol%, particularly preferably less than 2 mol%.

上記ポリ(アミド)イミド樹脂は、多価カルボン酸化合物と、多価アミン化合物及び/又は多価イソシアネート化合物との反応により得られるポリ(アミド)イミド樹脂の原料(ポリ(アミド)イミド前駆体とも称す。)を、イミド化反応して得ることができる。
上記ポリ(アミド)イミド樹脂はまた、透明性を有することが好ましい。透明性向上のためには、芳香環が少ないほうが好ましい。中でも、芳香環を脂環又は脂肪鎖等で置き換えた構造を有することが好適である。より好ましくは、全重量100%中の芳香環の重量が65%以下、更に好ましくは45%以下、特に好ましくは30%以下である。
The poly (amide) imide resin is a raw material (poly (amide) imide precursor of a poly (amide) imide resin obtained by the reaction of a polyvalent carboxylic acid compound and a polyvalent amine compound and / or a polyvalent isocyanate compound. Can be obtained by imidation reaction.
The poly (amide) imide resin also preferably has transparency. In order to improve transparency, it is preferable that the number of aromatic rings be small. Among them, it is preferable to have a structure in which an aromatic ring is replaced with an alicyclic ring, a fatty chain or the like. More preferably, the weight of the aromatic ring in 100% of the total weight is at most 65%, more preferably at most 45%, particularly preferably at most 30%.

上記ポリ(アミド)イミド樹脂としては、イミド結合を有する化合物であれば特に限定されないが、例えば、下記式(10):   The poly (amide) imide resin is not particularly limited as long as it is a compound having an imide bond, and, for example, the following formula (10):

(式中、Rp1は、同一又は異なって、有機基を表す。)で表される繰り返し単位を有する化合物が好適である。上記式(10)におけるRp1としては、2価の有機基が好ましく、中でも、炭素数2〜39の2価の有機基が好ましい。また、当該有機基は1種又は2種以上の炭化水素骨格を含むものが好ましい。炭化水素骨格としては、脂肪族鎖状炭化水素、脂肪族環状炭化水素又は芳香族炭化水素であることが好ましい。当該有機基はまた、複素環骨格を有するものであってもよい。 A compound having a repeating unit represented by (wherein R p1 is the same or different and represents an organic group) is preferable. As R p1 in the above formula (10), a divalent organic group is preferable, and among them, a divalent organic group having 2 to 39 carbon atoms is preferable. The organic group is preferably one containing one or more hydrocarbon skeletons. The hydrocarbon backbone is preferably an aliphatic chain hydrocarbon, an aliphatic cyclic hydrocarbon or an aromatic hydrocarbon. The organic group may also have a heterocyclic skeleton.

上記式(10)におけるRp1としてはまた、上記の炭化水素骨格及び/又は複素環骨格から選ばれる、同一又は異なる2種以上を有し、それらが炭素−炭素結合を介して、又は、炭素−炭素結合とは異なる結合基を介して、結合した骨格を含むものが好ましい。結合基としては、例えば、−O−、−SO2−、−CO−、−Si(CH32−、−C24O−、−S−等が挙げられる。なお、上記式(10)で表される繰り返し単位におけるそれぞれのRp1としては、同一であっても異なるものであってもよい。 R p1 in the above formula (10) is also the same or different two or more kinds selected from the above hydrocarbon skeleton and / or heterocyclic skeleton, and they have a carbon-carbon bond, or carbon Preferred is one comprising a backbone linked via a linking group which is different from the-carbon bond. The bonding group, for example, -O -, - SO 2 - , - CO -, - Si (CH 3) 2 -, - C 2 H 4 O -, - S- , and the like. In addition, as each R p1 in the repeating unit represented by said Formula (10), it may be same or different.

上記Rp1で表される有機基は窒素原子に直接結合していてもよいし、結合基として、−O−、−SO2−、−CO−、−CH2−、−C(CH32−、−Si(CH32−、−C24O−、−S−等を有していてもよい。なお、式(10)におけるシクロヘキシル環における水素原子の一部又は全部が置換されていてもよいが、無置換(全て水素原子である形態)であるものが好ましい。上記式(10)で表される繰り返し単位は、同一でも異なっていてもよく、ブロック状、ランダム状等の何れの形態であってもよい。 The organic group represented by the above R p1 may be directly bonded to a nitrogen atom, and as a bonding group, -O-, -SO 2- , -CO-, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2 -, - Si (CH 3 ) 2 -, - C 2 H 4 O -, - S- , etc. may be included. In addition, although one part or all part of the hydrogen atom in the cyclohexyl ring in Formula (10) may be substituted, what is unsubstituted (a form which is all hydrogen atoms) is preferable. The repeating units represented by the above formula (10) may be the same or different, and may be in any form such as block or random.

上記ポリ(アミド)イミド樹脂の中で好ましいものとしては、例えば、下記式(10−1):   Among the above poly (amide) imide resins, preferable ones are, for example, the following formula (10-1):

で表される繰り返し単位を有する化合物が挙げられる。 The compound which has a repeating unit represented by these is mentioned.

2−2.フッ素化芳香族ポリマー
次に、溶剤可溶性樹脂として使用可能なフッ素化芳香族ポリマーについて説明する。前記フッ素化芳香族ポリマーとしては、少なくとも1以上のフッ素基を有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合及びエステル結合の群より選ばれた少なくとも1つの結合とを含む繰り返し単位により構成された重合体等が挙げられ、具体的には、例えば、フッ素原子を有するポリイミド、ポリエーテル、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリアミドエーテル、ポリアミド、ポリエーテルニトリル、ポリエステル等が挙げられる。これらの中でも、少なくとも1つ以上のフッ素基を有する芳香族環と、エーテル結合とを含む繰り返し単位を必須部位として有する重合体であることが好ましく、下記式(11−1)又は(11−2)で表される繰り返し単位を含む、フッ素原子を有するポリエーテルケトンがより好ましい。中でも特に、フッ素化ポリエーテルケトン(FPEK)が好適である。なお、式(11−1)又は(11−2)で表される繰り返し単位は、同一でも異なっていてもよく、ブロック状、ランダム状等の何れの形態であってもよい。
2-2. Fluorinated Aromatic Polymers Next, fluorinated aromatic polymers that can be used as solvent soluble resins are described. The fluorinated aromatic polymer includes an aromatic ring having at least one or more fluorine group, and at least one bond selected from the group of ether bond, ketone bond, sulfone bond, amide bond, imide bond and ester bond And the like. Examples thereof include polyimides having a fluorine atom, polyethers, polyether imides, polyether ketones, polyether ketones, polyether sulfones, polyamide ethers, polyamides, polyethers, etc. A nitrile, polyester etc. are mentioned. Among these, a polymer having, as an essential part, a repeating unit containing an aromatic ring having at least one or more fluorine groups and an ether bond is preferable, and the following formula (11-1) or (11-2) The polyether ketone which has a fluorine atom containing the repeating unit represented by is more preferable. Among these, fluorinated polyether ketone (FPEK) is particularly preferable. The repeating units represented by formula (11-1) or (11-2) may be the same or different, and may be in any form such as block or random.

上記式(11−1)中、Rq1は炭素数1〜150の芳香族環を有する2価の有機鎖を表す。Zは2価の鎖又は直接結合を表す。x及びyは0以上の整数であり、x+y=1〜8を満たし、同一又は異なって、芳香族環に結合しているフッ素原子の数を表す。nは、重合度を表し、2〜5000の範囲内が好ましく、5〜500の範囲内がより好ましい。
また上記式(11−2)中、Rq2は、置換基を有していてもよい、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルチオ基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のアリールオキシ基、炭素数6〜20のアリールアミノ基又は炭素数6〜20のアリールチオ基を表す。Rq3は、炭素数1〜150の芳香族環を有する2価の有機鎖を表す。zは、芳香族環に結合しているフッ素原子の数であり、1又は2である。nは、重合度を表し、2〜5000の範囲内が好ましく、5〜500の範囲内がより好ましい。
In said formula (11-1), Rq1 represents the bivalent organic chain which has a C1-C150 aromatic ring. Z represents a divalent chain or a direct bond. x and y are integers of 0 or more, satisfy x + y = 1 to 8, and are the same or different and represent the number of fluorine atoms bonded to the aromatic ring. n 1 represents the degree of polymerization, preferably in the range of 2 to 5000, and more preferably in the range of 5 to 500.
In the above formula (11-2), R q2 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkylamino having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent. Group, alkylthio group having 1 to 12 carbon atoms, aryl group having 6 to 20 carbon atoms, aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, arylamino group having 6 to 20 carbon atoms or arylthio group having 6 to 20 carbon atoms . R q3 represents a divalent organic chain having an aromatic ring having 1 to 150 carbon atoms. z is the number of fluorine atoms bonded to the aromatic ring and is 1 or 2; n 1 represents the degree of polymerization, preferably in the range of 2 to 5000, and more preferably in the range of 5 to 500.

上記式(11−1)において、x+yは2〜8の範囲内が好ましく、4〜8の範囲内がより好ましい。また、エーテル構造部分(−O−Rq1−O−)が芳香族環に結合する位置としては、Zに対してパラ位であることが好ましい。 In said Formula (11-1), the inside of the range of 2-8 is preferable, and x + y has more preferable inside of the range of 4-8. Moreover, as a position which an ether structure part (-O- Rq1- O-) couple | bonds with an aromatic ring, it is preferable that it is a para-position with respect to Z.

上記式(11−1)及び(11−2)において、Rq1及びRq3は2価の有機鎖であるが、例えば、下記の構造式群(11−3)で表されるいずれか一つ、又は、その組み合わせの有機鎖であることが好ましい。 In the above formulas (11-1) and (11-2), R q1 and R q3 are divalent organic chains, and for example, any one of groups represented by the following structural formula group (11-3) It is preferable that it is or the organic chain of the combination.

上記構造式群(11−3)中、Y1〜Y4は、同一若しくは異なって、水素基又は置換基を表し、該置換基は、ハロゲン原子、又は、置換基を有していてもよい、アルキル基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールアミノ基若しくはアリールチオ基を表す。 In the above structural formula group (11-3), Y 1 to Y 4 are the same or different and each represents a hydrogen group or a substituent, and the substituent may have a halogen atom or a substituent And an alkyl group, an alkoxy group, an alkylamino group, an alkylthio group, an aryl group, an aryloxy group, an arylamino group or an arylthio group.

上記Rq1及びRq3のより好ましい具体例としては、下記の構造式群(11−4)で表される有機鎖が挙げられる。 More preferable specific examples of the above R q1 and R q3 include organic chains represented by the following structural formula group (11-4).

上記式(11−1)において、Zは、2価の鎖又は直接結合していることを表す。当該2価の鎖としては、例えば、下記構造式群(11−5)で表される鎖であることが好ましい。   In Formula (11-1) above, Z represents a divalent chain or direct bonding. As the bivalent chain, for example, a chain represented by the following structural formula group (11-5) is preferable.

上記構造式群(11−5)中、Xは、炭素数1〜50の2価の有機鎖であるが、例えば、上述した構造式群(11−4)で表される有機鎖が挙げられ、その中でもジフェニルエーテル鎖、ビスフェノールA鎖、ビスフェノールF鎖、フルオレン鎖が好ましい。   In the above structural formula group (11-5), X is a divalent organic chain having 1 to 50 carbon atoms, and examples thereof include an organic chain represented by the above structural formula group (11-4). Among them, diphenyl ether chain, bisphenol A chain, bisphenol F chain and fluorene chain are preferable.

上記式(11−2)中のRq2において、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、2−エチルヘキシル基等が好適である。 The alkyl group in R q2 in the above formula (11-2) is methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, isopentyl Groups, neopentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, 2-ethylhexyl group and the like are preferable.

上記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、フルフリルオキシ基、アリルオキシ基等が好適である。   Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a 2-ethylhexyloxy group, an octyloxy group, a nonyloxy group, a decyloxy group and an undecyloxy group. , Dodecyloxy group, flufuryloxy group, allyloxy group and the like are preferable.

上記アルキルアミノ基としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、プロピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、sec−ブチルアミノ基、tert−ブチルアミノ基等が好適である。   As the above alkylamino group, methylamino group, ethylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, propylamino group, n-butylamino group, sec-butylamino group, tert-butylamino group and the like are preferable.

上記アルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基、iso−プロピルチオ基等が好適である。   As the above-mentioned alkylthio group, a methylthio group, an ethylthio group, a propylthio group, an n-butylthio group, a sec-butylthio group, a tert-butylthio group, an iso-propylthio group and the like are preferable.

上記アリール基としては、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、o−、m−又はp−トリル基、2,3−又は2,4−キシリル基、メシチル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニリル基、ベンズヒドリル基、トリチル基、ピレニル基等が好適である。   Examples of the aryl group include phenyl group, benzyl group, phenethyl group, o-, m- or p-tolyl group, 2,3- or 2,4-xylyl group, mesityl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group, Biphenylyl, benzhydryl, trityl, pyrenyl and the like are preferred.

上記アリールオキシ基としては、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、ヒドロキシ安息香酸及びそのエステル類(例えば、メチルエステル、エチルエステル、メトキシエチルエステル、エトキシエチルエステル、フルフリルエステル及びフェニルエステル等)由来の基、ナフトキシ基、o−、m−又はp−メチルフェノキシ基、o−、m−又はp−フェニルフェノキシ基、フェニルエチニルフェノキシ基、クレソチン酸及びそのエステル類由来の基等が好適である。   The aryloxy group is a group derived from phenoxy group, benzyloxy group, hydroxybenzoic acid and esters thereof (eg, methyl ester, ethyl ester, methoxyethyl ester, ethoxyethyl ester, furfuryl ester, phenyl ester and the like), Preferred are naphthoxy group, o-, m- or p-methyl phenoxy group, o-, m- or p-phenyl phenoxy group, phenylethynyl phenoxy group, groups derived from cresotine acid and esters thereof, and the like.

上記アリールアミノ基としては、アニリノ基、o−、m−又はp−トルイジノ基、1,2−又は1,3−キシリジノ基、o−、m−又はp−メトキシアニリノ基、アントラニル酸及びそのエステル類由来の基等が好適である。   Examples of the arylamino group include anilino, o-, m- or p-toluidino, 1,2- or 1,3-xylidino, o-, m- or p-methoxyanilino, anthranilic acid and the like Groups derived from esters and the like are preferred.

上記アリールチオ基としては、フェニルチオ基、フェニルメタンチオ基、o−、m−又はp−トリルチオ基、チオサリチル酸及びそのエステル類由来の基等が好適である。   As the above arylthio group, a phenylthio group, a phenylmethanethio group, an o-, m- or p-tolylthio group, a group derived from thiosalicylic acid and esters thereof, and the like are preferable.

上記Rq2としては、これらのうち、置換基を有していてもよい、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアミノ基が好ましい。但し、Rq2には、二重結合又は三重結合が含まれていてもよいし、含まれていなくてもよい。 Among them, an alkoxy group, an aryloxy group, an arylthio group and an arylamino group which may have a substituent are preferable as R q2 above. However, R q2 may or may not contain a double bond or a triple bond.

上記式(11−2)中のRq2における置換基としては、上述のような炭素数1〜12のアルキル基;フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子;シアノ基、ニトロ基、カルボキシエステル基等が好適である。また、これら置換基の水素がハロゲン化されていてもよいし、されていなくてもよい。これらの中でも、好ましくは、ハロゲン原子、水素がハロゲン化されていてもよいし、されていなくてもよいメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基及びカルボキシエステル基である。 The substituent for R q2 in the above formula (11-2) is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms as described above; halogen atoms such as fluorine, chlorine, bromine and iodine; cyano group, nitro group, carboxy ester Preferred are groups and the like. In addition, hydrogens of these substituents may or may not be halogenated. Among these, preferably, a halogen atom and hydrogen may or may not be halogenated methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, pentyl, hexyl and carboxy ester It is a group.

2−3.(メタ)アクリル系樹脂
次に、溶剤可溶性樹脂として使用できる(メタ)アクリル系樹脂を説明する。本明細書において(メタ)アクリル系樹脂は、(メタ)アクリル酸エステル単位および/または(メタ)アクリル酸単位を必須の構成単位として有し、(メタ)アクリル酸エステルまたは(メタ)アクリル酸の誘導体に由来する構成単位を有していてもよい。なお「(メタ)アクリル」とは、「アクリル」および/または「メタクリル」を意味するものとする。
2-3. (Meth) Acrylic Resin Next, a (meth) acrylic resin that can be used as a solvent-soluble resin will be described. In the present specification, the (meth) acrylic resin has a (meth) acrylic acid ester unit and / or a (meth) acrylic acid unit as an essential constituent unit, and it is preferable to use (meth) acrylic acid ester or (meth) acrylic acid It may have a structural unit derived from a derivative. In addition, "(meth) acryl" shall mean "acryl" and / or "methacryl."

(メタ)アクリル酸エステルまたは(メタ)アクリル酸エステル誘導体としては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸n−ヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニル等の(メタ)アクリル酸とヒドロキシ炭化水素とのエステル類((メタ)アクリル酸アルキル、(メタ)アクリル酸アリール、(メタ)アクリル酸アラルキル等)、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニルオキシエチル等のエーテル結合導入誘導体;(メタ)アクリル酸クロロメチル、(メタ)アクリル酸2−クロロエチル等のハロゲン導入誘導体;及びヒドロキシ基導入誘導体が挙げられる。前記ヒドロキシ基導入誘導体には、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2,3,4,5,6−ペンタヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸2,3,4,5−テトラヒドロキシペンチル等の(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル類;2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸アルキル(例えば、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸エチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸イソプロピル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸n−ブチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸t−ブチル等)、2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸アルキル(例えば、2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸メチル等)の2−(ヒドロキシアルキル)アクリル酸アルキルが含まれる。   Examples of (meth) acrylic acid esters or (meth) acrylic acid ester derivatives include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate T-Butyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, dicyclopenta (meth) acrylate Esters of (meth) acrylic acid with hydroxyhydrocarbons (alkyl (meth) acrylate, aryl (meth) acrylate, aralkyl (meth) acrylate, etc.), dicyclopentanyloxy (meth) acrylate Ether bond-introduced derivatives such as ethyl; chloromethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid Halogen-introduced derivatives such as 2-chloroethyl; and hydroxy-introduced derivatives. Examples of the hydroxy group-introduced derivatives include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2,3,4,5,6-pentahydroxyhexyl (meth) acrylate, (meth) (Meth) acrylic acid hydroxyalkyls such as acrylic acid 2,3,4,5-tetrahydroxypentyl; alkyl 2- (hydroxymethyl) acrylate (eg methyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, 2- (hydroxy) Methyl) ethyl acrylate, isopropyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, n-butyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, t-butyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, etc.), 2- (hydroxyethyl) acrylic acid Alkyl (eg, methyl 2- (hydroxyethyl) acrylate etc.) Rokishiarukiru) include alkyl acrylate.

(メタ)アクリル酸または(メタ)アクリル酸誘導体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸等の(メタ)アクリル酸類;クロトン酸等のアルキル化(メタ)アクリル酸類;2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸、2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸等のヒドロキシアルキル化(メタ)アクリル酸類等が挙げられる。これらの中でも特に、耐熱性及び透明性の観点からは、メタクリル酸メチルが好ましい。
(メタ)アクリル酸エステル(単位)、(メタ)アクリル酸(単位)およびこれらの誘導体(単位)は、それぞれ1種のみ有していてもよいし2種以上有していてもよい。
Examples of (meth) acrylic acid or (meth) acrylic acid derivatives include (meth) acrylic acids such as acrylic acid and methacrylic acid; alkylated (meth) acrylic acids such as crotonic acid; 2- (hydroxymethyl) acrylic acid And hydroxyalkylated (meth) acrylic acids such as 2- (hydroxyethyl) acrylic acid. Among these, methyl methacrylate is preferable from the viewpoint of heat resistance and transparency.
The (meth) acrylic acid ester (unit), the (meth) acrylic acid (unit) and the derivative (unit) thereof may have only one type or two or more types.

(メタ)アクリル系樹脂は、上述した(メタ)アクリル酸系モノマーを他のモノマーと共重合することによって導入される他の構成単位を有していてもよい。このような他のモノマーとしては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、メタリルアルコール、アリルアルコール、エチレン、プロピレン、4−メチル−1−ペンテン、酢酸ビニル、2−ヒドロキシメチル−1−ブテン、メチルビニルケトン、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール等の重合性二重結合を有する単量体が挙げられる。これら他のモノマー(構成単位)は1種のみを有していてもよいし2種以上有していてもよい。   The (meth) acrylic resin may have another structural unit introduced by copolymerizing the (meth) acrylic acid-based monomer described above with another monomer. As such other monomers, for example, styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene, α-hydroxymethylstyrene, α-hydroxyethylstyrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, methallyl alcohol, allyl alcohol, ethylene, propylene, Monomers having a polymerizable double bond such as 4-methyl-1-pentene, vinyl acetate, 2-hydroxymethyl-1-butene, methyl vinyl ketone, N-vinyl pyrrolidone, N-vinyl carbazole and the like can be mentioned. These other monomers (constituent units) may have only one type or two or more types.

(メタ)アクリル系樹脂の全構成単位における、(メタ)アクリル酸系モノマーに由来する構成単位(すなわち、(メタ)アクリル酸エステル単位、(メタ)アクリル酸単位およびこれら誘導体に由来する構成単位)の合計割合は、50質量%以上が好ましく、より好ましくは60質量%以上、さらに好ましくは70質量%以上である。上限は特になく、最も好ましくは100質量%である。   Constituent units derived from (meth) acrylic acid-based monomers in all constitutional units of (meth) acrylic resin (that is, (meth) acrylic acid ester units, (meth) acrylic acid units and constituent units derived from these derivatives) 50 mass% or more is preferable, More preferably, it is 60 mass% or more, More preferably, it is 70 mass% or more. There is no particular upper limit, and most preferably 100% by mass.

(メタ)アクリル系樹脂を構成する主鎖には、環構造が含まれていることが好ましい。(メタ)アクリル系樹脂における主鎖環構造は、特に限定されないが、例えば、ラクトン環構造、無水グルタル酸構造、グルタルイミド構造、無水マレイン酸構造、N−置換マレイミド構造等が挙げられる。より好ましくは、ラクトン環構造、無水グルタル酸構造、グルタルイミド構造のいずれかであり、特に好ましくはラクトン環構造である。   The main chain constituting the (meth) acrylic resin preferably contains a ring structure. The main chain ring structure in the (meth) acrylic resin is not particularly limited, and examples thereof include lactone ring structure, glutaric anhydride structure, glutarimide structure, maleic anhydride structure, N-substituted maleimide structure and the like. More preferably, it is a lactone ring structure, a glutaric anhydride structure, or a glutarimide structure, and particularly preferably a lactone ring structure.

前記ラクトン環構造は、特に限定されず、例えば、4員環から8員環のいずれであってもよいが、環構造の安定性に優れることから5員環または6員環であることが好ましく、6員環であることがより好ましい。6員環であるラクトン環構造としては、例えば、特開2004−168882号公報に開示されている構造が挙げられるが、ラクトン環構造の導入が容易であること、具体的には、前駆体(ラクトン環化前の重合体)の重合収率が高いこと、前駆体の環化縮合反応におけるラクトン環含有率を高めることができること、メタクリル酸メチル単位を構成単位として有する重合体を前駆体にできること、等の理由から下記式(12−1)に示される構造が特に好ましい。   The lactone ring structure is not particularly limited, and may be, for example, any of a 4- to 8-membered ring, but is preferably a 5- or 6-membered ring because the ring structure is excellent in stability. And 6-membered rings are more preferred. Examples of the lactone ring structure that is a six-membered ring include the structures disclosed in JP-A-2004-168882, but the introduction of the lactone ring structure is easy, specifically, the precursor ( The polymerization yield of the polymer before lactone cyclization is high, that the lactone ring content in the cyclization condensation reaction of the precursor can be increased, and that the polymer having a methyl methacrylate unit as a constituent unit can be used as a precursor The structure represented by the following formula (12-1) is particularly preferable because of reasons such as

上記式(12−1)において、Rs1、Rs2およびRs3は、互いに独立して、水素原子または炭素数1から20の有機残基であり、当該有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。
式(12−1)における有機残基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1から20の飽和脂肪族炭化水素基(アルキル基等)、エテニル基、プロペニル基等の炭素数2から20の不飽和脂肪族炭化水素基(アルケニル基等)、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6から20の芳香族炭化水素基(アリール基等)のほか、これら飽和脂肪族炭化水素基、不飽和脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基における水素原子の一つ以上が、ヒドロキシ基、カルボキシル基、エーテル基およびエステル基から選ばれる少なくとも1種類の基により置換された基等が挙げられる。
In the above formula (12-1), R s1 , R s2 and R s3 are each independently a hydrogen atom or an organic residue having 1 to 20 carbon atoms, and the organic residue contains an oxygen atom It is also good.
Examples of the organic residue in the formula (12-1) include saturated aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms such as methyl group, ethyl group and propyl group (such as alkyl group), ethenyl group and propenyl group. In addition to C2-C20 unsaturated aliphatic hydrocarbon groups (such as alkenyl groups) and C6-C20 aromatic hydrocarbon groups such as phenyl and naphthyl groups (such as aryl groups), these saturated aliphatic carbon compounds A group in which one or more of hydrogen atoms in a hydrogen group, an unsaturated aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group is substituted by at least one group selected from a hydroxy group, a carboxyl group, an ether group and an ester group Can be mentioned.

ラクトン環構造は、例えば、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリル酸系モノマーAと、(メタ)アクリル酸系モノマーBとを重合(好ましくは共重合)して分子鎖にヒドロキシ基とエステル基またはカルボキシル基とを導入した後、これらヒドロキシ基とエステル基またはカルボキシル基との間で脱アルコールまたは脱水環化縮合を生じさせることにより形成できる。重合成分として、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリル酸系モノマーAは必須であり、(メタ)アクリル酸系モノマーBは前記モノマーAを包含する。モノマーBはモノマーAと一致していてもよいし、一致しなくてもよい。モノマーBがモノマーAと一致する時には、モノマーAの単独重合となる。   The lactone ring structure is obtained by, for example, polymerizing (preferably copolymerizing) a (meth) acrylic acid-based monomer A having a hydroxy group with a (meth) acrylic acid-based monomer B to form a hydroxy group and an ester group or a carboxyl group in a molecular chain. After introducing a group, it can be formed by causing dealcoholation or dehydrating cyclocondensation between these hydroxy group and an ester group or a carboxyl group. As a polymerization component, a (meth) acrylic acid-based monomer A having a hydroxy group is essential, and a (meth) acrylic acid-based monomer B includes the monomer A. Monomer B may or may not correspond to monomer A. When monomer B matches with monomer A, homopolymerization of monomer A results.

ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリル酸系モノマーAとしては、上述の(メタ)アクリル酸エステルのヒドロキシ基導入誘導体、ヒドロキシアルキル化(メタ)アクリル酸類等が挙げられ、好ましくはヒドロキシアリル部位を有するモノマーが含まれる。ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリル酸系モノマーAの具体例としては、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸、2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸アルキル(例えば、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸エチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸イソプロピル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸n−ブチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸t−ブチル)、2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸アルキル(例えば、2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸メチル、2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸エチル)等が挙げられ、好ましくは、ヒドロキシアリル部位を有するモノマーである2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸や2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸アルキルが挙げられる。特に好ましくは2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸エチルが例示できる。(メタ)アクリル酸系モノマーBとしては、ビニル基とエステル基またはカルボキシル基とを有するモノマーが好ましく、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸アルキル(例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル等、好ましくはメタクリル酸メチル)、(メタ)アクリル酸アリール(例えば、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸ベンジル等)、2−(ヒドロキシアルキル)アクリル酸アルキル(例えば、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸エチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸イソプロピル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸n−ブチル、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸t−ブチル等の2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸アルキル、2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸メチル等の2−(ヒドロキシエチル)アクリル酸アルキル等)等が挙げられる。
さらに詳しくは、主鎖にラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系重合体は、例えば、特開2006−96960号公報、特開2006−171464号公報、特開2007−63541号公報に記載の方法により製造できる。
Examples of the (meth) acrylic acid-based monomer A having a hydroxy group include hydroxy group-introduced derivatives of (meth) acrylic acid esters described above, hydroxyalkylated (meth) acrylic acids, and the like, preferably monomers having a hydroxyallyl moiety. Is included. Specific examples of the (meth) acrylic acid-based monomer A having a hydroxy group include 2- (hydroxymethyl) acrylic acid, 2- (hydroxyethyl) acrylic acid and alkyl 2- (hydroxymethyl) acrylate (for example, 2- (hydroxymethyl) acrylic acid). Methyl (hydroxymethyl) acrylate, ethyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, isopropyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, n-butyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, t- 2- (hydroxymethyl) acrylate Butyl), alkyl 2- (hydroxyethyl) acrylate (eg, methyl 2- (hydroxyethyl) acrylate, ethyl 2- (hydroxyethyl) acrylate), etc., preferably a monomer having a hydroxyallyl moiety. Some 2- (hydroxymethyl) acrylic acid and Rokishimechiru) include alkyl acrylate. Particularly preferred are methyl 2- (hydroxymethyl) acrylate and ethyl 2- (hydroxymethyl) acrylate. The (meth) acrylic acid monomer B is preferably a monomer having a vinyl group and an ester group or a carboxyl group, and examples thereof include (meth) acrylic acid and alkyl (meth) acrylate (for example, methyl (meth) acrylate, Ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate etc, preferably methyl methacrylate), (meth) Aryl acrylate (eg, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate etc.), alkyl 2- (hydroxyalkyl) acrylate (eg, methyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, 2- (hydroxymethyl) Ethyl acrylate, isopropyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, -2- (Hydroxyethyl) alkyl such as 2- (hydroxymethyl) acrylic acid such as n-butyl (hydroxymethyl) acrylate and t-butyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, 2- (hydroxyethyl) such as methyl 2- (hydroxyethyl) acrylate And the like) and the like.
More specifically, (meth) acrylic polymers having a lactone ring structure in the main chain can be prepared, for example, by the methods described in JP-A-2006-96960, JP-A-2006-171464, and JP-A-2007-63541. It can be manufactured by

(メタ)アクリル系樹脂が主鎖にラクトン環構造を有する場合、当該樹脂におけるラクトン環構造の含有率は、特に限定はされないが、例えば5〜90質量%であることが好ましく、より好ましくは10〜80質量%、さらに好ましくは10〜70質量%、特に好ましくは20〜60質量%である。   When the (meth) acrylic resin has a lactone ring structure in the main chain, the content of the lactone ring structure in the resin is not particularly limited, but is preferably 5 to 90% by mass, more preferably 10 The content is 80 to 80% by mass, more preferably 10 to 70% by mass, and particularly preferably 20 to 60% by mass.

なお、(メタ)アクリル系樹脂におけるラクトン環構造の含有率は、ラクトン環化に関与する単量体(ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリル酸系モノマーAおよび(メタ)アクリル酸系モノマーB)の共重合量と、ラクトン環化率とから求めることができる。すなわち、ラクトン環化率の分だけラクトン環化反応が行われたものと仮定して、下記式:
ラクトン環構造の含有率(質量%)=Z1×Z2×M/M
(式中、Z1は、ラクトン環化前の重合体における、ラクトン環化に関与する原料単量体(ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリル酸系モノマーAおよび(メタ)アクリル酸系モノマーB)由来の構造単位の質量含有割合であり、Mは生成するラクトン環構造単位の式量(具体的には、ラクトン環形成元素と、ラクトン環に結合する主鎖以外の基の合計式量)であり、Mはラクトン環化に関与する原料単量体(ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリル酸系モノマーAおよび(メタ)アクリル酸系モノマーB)の分子量(合計)であり、Z2はラクトン環化率である)
により、算出することができる。
The content of lactone ring structure in the (meth) acrylic resin is the same as that of monomers involved in lactone cyclization ((meth) acrylic acid monomer A and (meth) acrylic acid monomer B having a hydroxy group). It can be determined from the amount of copolymerization and the lactone cyclization rate. That is, assuming that the lactone cyclization reaction has been performed by the lactone cyclization rate, the following formula:
Content of lactone ring structure (% by mass) = Z 1 × Z 2 × M R / M m
(In the formula, Z 1 is a raw material monomer involved in lactone cyclization in the polymer before lactone cyclization ((meth) acrylic acid type monomer A having a hydroxy group and (meth) acrylic acid type monomer B) M R is a formula weight of a lactone ring structure unit to be generated (specifically, a total formula weight of a lactone ring-forming element and a group other than the main chain bonded to the lactone ring) M m is the molecular weight (total) of the raw material monomers (hydroxy group-containing (meth) acrylic acid type monomer A and (meth) acrylic acid type monomer B) involved in lactone cyclization, and Z 2 is Lactone cyclization rate)
It can be calculated by

前記ラクトン環化率は、例えば、重合で得られた重合体組成からすべてのヒドロキシ基がアルコールまたは水として脱アルコールまたは脱水した際に起こる質量減少量を基準にし、ダイナミックTG測定において質量減少が始まる前の150℃から重合体の分解が始まる前の300℃までの脱アルコール反応による質量減少から求めることができる。すなわち、ラクトン環構造を有した重合体のダイナミックTG測定において150℃から300℃までの間の質量減少率の測定を行い、得られた実測質量減少率を(X)とする。他方、当該重合体の組成から、その重合体組成に含まれる全ての水酸基がラクトン環の形成に関与するため脱アルコールまたは脱水すると仮定した時の理論質量減少率(すなわち、その組成上において100%脱アルコールまたは脱水反応が起きたと仮定して算出した質量減少率)を(Y)とする。なお、理論質量減少率(Y)は、より具体的には、重合体中の脱アルコールまたは脱水反応に関与する構造(ヒドロキシ基)を有する原料単量体のモル比、すなわち当該重合体組成における前記原料単量体の含有率から算出することができる。これらの値(X、Y)を式:1−(実測質量減少率(X)/理論質量減少率(Y))に代入してその値を求め、「%」で表記すると、ラクトン環化率(脱アルコールまたは脱水反応率)が得られる。   The lactone cyclization rate is, for example, based on the amount of mass loss that occurs when all hydroxy groups are dealcoholized or dehydrated as alcohol or water from the polymer composition obtained by polymerization, and mass loss begins in dynamic TG measurement It can be determined from the weight loss due to the dealcoholization reaction up to 300 ° C. before 150 ° C. before decomposition of the polymer starts. That is, in the dynamic TG measurement of the polymer having a lactone ring structure, the mass reduction rate between 150 ° C. and 300 ° C. is measured, and the obtained actual mass reduction rate is defined as (X). On the other hand, from the composition of the polymer, the theoretical mass reduction rate (that is, 100% in the composition) assuming that all the hydroxyl groups contained in the polymer composition participate in the formation of the lactone ring to dealcoholate or dehydrate. Let (Y) be the mass loss rate calculated assuming that dealcoholation or dehydration reaction has occurred. More specifically, the theoretical mass reduction rate (Y) is the molar ratio of the raw material monomer having a structure (hydroxy group) involved in the dealcoholization or dehydration reaction in the polymer, that is, in the polymer composition. It can calculate from the content rate of the said raw material monomer. Substituting these values (X, Y) into the formula: 1- (measured mass reduction rate (X) / theoretical mass reduction rate (Y)), the value is determined, and expressed as "%", the lactone cyclization rate (Dealcoholization or dehydration reaction rate) is obtained.

前記無水グルタル酸構造または前記グルタルイミド構造としては、例えば、下記式(12−2)に示される構造(下記式(12−2)において、Xs1が酸素原子である場合には無水グルタル酸構造となり、Xs1が窒素原子である場合にはグルタルイミド構造となる)が好ましく挙げられる。 As the glutaric anhydride structure or the glutarimide structure, for example, when X s1 is an oxygen atom in a structure represented by the following formula (12-2) (in the following formula (12-2), a glutaric anhydride structure And preferably a glutarimide structure when X s1 is a nitrogen atom.

上記式(12−2)におけるRs4、Rs5は、互いに独立して、水素原子またはメチル基であり、Xs1は酸素原子または窒素原子である。Xs1が酸素原子であるとき、Rs6は存在せず、Xs1が窒素原子のとき、Rs6は、水素原子、炭素数1から6の直鎖アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基)、シクロペンチル基、シクロヘキシル基またはフェニル基である。 R s4 and R s5 in the above formula (12-2) are each independently a hydrogen atom or a methyl group, and X s1 is an oxygen atom or a nitrogen atom. When X s1 is an oxygen atom, R s6 does not exist, and when X s1 is a nitrogen atom, R s6 is a hydrogen atom or a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (a methyl group, an ethyl group, a propyl group A butyl group, a pentyl group, a hexyl group), a cyclopentyl group, a cyclohexyl group or a phenyl group.

上記式(12−2)におけるXs1が酸素原子である無水グルタル酸構造は、例えば、(メタ)アクリル酸エステルと(メタ)アクリル酸との共重合体を分子内で脱アルコール環化縮合させることにより形成できる。
上記式(12−2)におけるXs1が窒素原子であるグルタルイミド構造は、例えば、(メタ)アクリル酸エステル重合体をメチルアミン等のイミド化剤によりイミド化することにより形成できる。
さらに詳しくは、主鎖に無水グルタル酸構造あるいはグルタルイミド構造を有する(メタ)アクリル系樹脂は、例えば、国際公開第2007/26659号、国際公開第2005/108438号に記載の方法により製造できる。
The glutaric anhydride structure in which X s1 in the above formula (12-2) is an oxygen atom causes, for example, intramolecular dealcoholization cyclocondensation of a copolymer of (meth) acrylic acid ester and (meth) acrylic acid It can be formed by
The glutarimide structure in which X s1 in the above formula (12-2) is a nitrogen atom can be formed, for example, by imidizing a (meth) acrylic acid ester polymer with an imidizing agent such as methylamine.
More specifically, (meth) acrylic resins having a glutaric anhydride structure or a glutarimide structure in the main chain can be produced, for example, by the method described in WO 2007/26659 and WO 2005/108438.

(メタ)アクリル系樹脂が主鎖に無水グルタル酸構造あるいはグルタルイミド構造を有する場合、当該重合体における無水グルタル酸構造あるいはグルタルイミド構造の含有率は、特に限定はされないが、例えば5〜90質量%であることが好ましく、より好ましくは10〜70質量%、さらに好ましくは10〜60質量%、特に好ましくは20〜50質量%である。   When the (meth) acrylic resin has a glutaric anhydride structure or a glutarimide structure in the main chain, the content of the glutaric anhydride structure or the glutarimide structure in the polymer is not particularly limited, but is, for example, 5 to 90 mass %, More preferably 10 to 70% by mass, still more preferably 10 to 60% by mass, and particularly preferably 20 to 50% by mass.

なお、(メタ)アクリル系樹脂における無水グルタル酸構造およびグルタルイミド構造の含有率は、例えば、特開2006−131689号公報に記載の手法により求めることができる。   In addition, the content rate of the glutaric anhydride structure and glutarimide structure in (meth) acrylic-type resin can be calculated | required, for example by the method of Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-131689.

前記無水マレイン酸構造または前記N−置換マレイミド構造としては、例えば、下記式(12−3)に示される構造(下記式(12−3)において、Xs2が酸素原子である場合には無水マレイン酸構造となり、Xs2が窒素原子である場合にはN−置換マレイミド構造となる)が好ましく挙げられる。 As the maleic anhydride structure or the N-substituted maleimide structure, for example, when X s2 is an oxygen atom in a structure represented by the following formula (12-3) (in the following formula (12-3), maleic anhydride And X-substituted maleimide structure when X s2 is a nitrogen atom.

上記式(12−3)におけるRs7、Rs8は、互いに独立して、水素原子またはメチル基であり、Xs2は酸素原子または窒素原子である。Xs2が酸素原子であるとき、Rs9は存在せず、Xs2が窒素原子のとき、Rs9は、水素原子、炭素数1から6の直鎖アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基)、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基またはフェニル基である。 R s7 and R s8 in the above formula (12-3) are each independently a hydrogen atom or a methyl group, and X s2 is an oxygen atom or a nitrogen atom. When X s2 is an oxygen atom, R s9 does not exist, and when X s2 is a nitrogen atom, R s9 is a hydrogen atom or a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (a methyl group, an ethyl group, a propyl group Butyl, pentyl, hexyl), cyclopentyl, cyclohexyl, benzyl or phenyl.

上記式(12−3)におけるXs2が酸素原子である無水マレイン酸構造は、例えば、無水マレイン酸を(メタ)アクリル酸エステル等とともに重合に供することにより形成できる。
上記式(12−3)におけるXs2が窒素原子であるN−置換マレイミド構造は、例えば、フェニルマレイミド等のN−置換マレイミドを(メタ)アクリル酸エステル等とともに重合に供することにより形成できる。
さらに詳しくは、主鎖に無水マレイン酸構造あるいはN−置換マレイミド構造を有する(メタ)アクリル系樹脂は、例えば、特開昭57−153008号公報、特開2007−31537号公報に記載の方法により製造できる。
The maleic anhydride structure in which X s2 in the above formula (12-3) is an oxygen atom can be formed, for example, by subjecting maleic anhydride and a (meth) acrylic acid ester or the like to polymerization.
The N-substituted maleimide structure in which X s2 in the above formula (12-3) is a nitrogen atom can be formed, for example, by subjecting an N-substituted maleimide such as phenyl maleimide and the like to (meth) acrylic acid ester and the like to polymerization.
More specifically, (meth) acrylic resins having a maleic anhydride structure or an N-substituted maleimide structure in the main chain can be prepared, for example, by the methods described in JP-A-57-153008 and JP-A-2007-31537. It can be manufactured.

(メタ)アクリル系樹脂が主鎖に無水マレイン酸構造あるいはN−置換マレイミド構造を有する場合、当該樹脂における無水マレイン酸構造あるいはN−置換マレイミド構造の含有率は、特に限定はされないが、例えば5〜90質量%であることが好ましく、より好ましくは10〜70質量%、さらに好ましくは10〜60質量%、特に好ましくは20〜50質量%である。   When the (meth) acrylic resin has a maleic anhydride structure or an N-substituted maleimide structure in the main chain, the content of the maleic anhydride structure or the N-substituted maleimide structure in the resin is not particularly limited. It is preferably -90% by mass, more preferably 10 to 70% by mass, still more preferably 10 to 60% by mass, and particularly preferably 20 to 50% by mass.

なお、(メタ)アクリル系樹脂における無水マレイン酸構造あるいはN−置換マレイミド構造の含有率は、無水マレイン酸あるいはN−置換マレイミドの共重合量から求めることができる。   The content of the maleic anhydride structure or the N-substituted maleimide structure in the (meth) acrylic resin can be determined from the amount of copolymerization of maleic anhydride or N-substituted maleimide.

2−4.溶剤可溶性樹脂原料及び液状樹脂原料
次に、溶剤可溶性樹脂原料及び液状樹脂原料について説明する。溶剤可溶性樹脂原料又は液状樹脂原料としては、例えば、エポキシ樹脂の原料となるエポキシ化合物、ビニル重合体樹脂の原料であるビニル系化合物((メタ)アクリル系化合物、スチレン系化合物等)、ポリ(アミド)イミド前駆体等が挙げられる。好ましくは、エポキシ化合物、ビニル系化合物である。
2-4. Solvent-Soluble Resin Raw Material and Liquid Resin Raw Material Next, the solvent-soluble resin raw material and the liquid resin raw material will be described. Examples of solvent-soluble resin raw materials or liquid resin raw materials include epoxy compounds serving as raw materials for epoxy resins, vinyl compounds (such as (meth) acrylic compounds and styrenic compounds) serving as raw materials for vinyl polymer resins, and poly (amides) And imide precursors. Preferred are epoxy compounds and vinyl compounds.

上記エポキシ樹脂とは、エポキシ基を有する化合物(エポキシ化合物)を含む硬化性組成物の硬化物である。硬化物の形態としてはエポキシ化合物をカチオン硬化触媒の存在下で光及び/又は熱硬化してなる形態、エポキシ化合物を付加的硬化剤と反応させることにより得られる硬化物の形態等が挙げられる。後者において硬化反応促進のため従来公知の硬化促進剤を併用することもできる。付加的硬化剤としては、例えば、酸無水物、多価フェノール化合物、多価アミン等が例示されるが、中でも酸無水物が好ましい。   The said epoxy resin is a hardened | cured material of the curable composition containing the compound (epoxy compound) which has an epoxy group. Examples of the form of the cured product include a form obtained by photo and / or heat curing of an epoxy compound in the presence of a cationic curing catalyst, and a form of a cured product obtained by reacting an epoxy compound with an additional curing agent. In the latter case, conventionally known curing accelerators may be used in combination to accelerate the curing reaction. Examples of the additional curing agent include, for example, acid anhydrides, polyhydric phenol compounds, polyhydric amines and the like, among which acid anhydrides are preferred.

上記エポキシ化合物としては、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、水添エポキシ化合物等が好適であり、例えば、大阪ガスケミカル社製のフルオレンエポキシ(オンコートEX−1);ジャパンエポキシレジン社製のビスフェノールA型エポキシ化合物(エピコート828EL);ジャパンエポキシレジン社製の水添ビスフェノールA型エポキシ化合物(エピコートYX8000);ダイセル工業社製の脂環式液状エポキシ化合物(セロキサイド2021)等が好ましく使用できる。なお、本明細書中、エポキシ基とは、3員環のエーテルであるオキシラン環を含むものであり、狭義のエポキシ基の他、グリシジル基(グリシジルエーテル基及びグリシジルエステル基を含む)を含むものを意味する。   As the epoxy compound, an aromatic epoxy compound, an aliphatic epoxy compound, an alicyclic epoxy compound, a hydrogenated epoxy compound, and the like are preferable. For example, fluorene epoxy (Oncoat EX-1) manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd. Bisphenol A type epoxy compound (epicoat 828EL) manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd .; Hydrogenated bisphenol A type epoxy compound (epicoat YX 8000) manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd .; Alicyclic liquid epoxy compound (Celloxide 2021) manufactured by Daicel Industries, etc. Is preferably used. In the present specification, an epoxy group includes an oxirane ring which is a three-membered ether, and includes a glycidyl group (including a glycidyl ether group and a glycidyl ester group) in addition to an epoxy group in a narrow sense. Means

上記エポキシ化合物を含む硬化性組成物は、可撓性を有する成分(可撓性成分)を含むことが好適である。可撓性成分を含むことにより、成形時や基板、型等からはずすときに割れない、形が崩れない、剥がれやすい、柔軟性がある等の一体感のある樹脂組成物とすることができる。上記可撓性成分としては、上記エポキシ化合物とは異なる化合物であってもよいし、上記エポキシ化合物の少なくとも1種が可撓性成分であってもよい。   The curable composition containing the epoxy compound preferably contains a component having flexibility (flexible component). By including a flexible component, it is possible to obtain a resin composition having a sense of unity that does not break when molded or removed from a substrate, a mold or the like, does not lose its shape, easily peels off, or has flexibility. The flexible component may be a compound different from the epoxy compound, or at least one of the epoxy compounds may be a flexible component.

上記ビニル重合体樹脂とは、重合原料としてビニル系化合物を(共)重合して得られる重合体であり、アクリル樹脂、スチレン樹脂、アクリル−スチレン樹脂等が例示される。アクリル樹脂とは、(メタ)アクリロイル基を有する化合物((メタ)アクリロイル基含有化合物又は(メタ)アクリル系化合物とも称す。)を含む硬化性組成物の硬化物であり、スチレン樹脂とは、スチレンやジビニルベンゼン等のスチレン系モノマー(スチレン系化合物とも称す。)を含む硬化性組成物の硬化物であり、アクリル−スチレン樹脂とは、(メタ)アクリロイル基含有化合物及びスチレン系モノマーを含む硬化性組成物の硬化物である。上記ビニル重合体樹脂の中でも、アクリル樹脂、アクリル−スチレン樹脂が好ましい。   The vinyl polymer resin is a polymer obtained by (co) polymerizing a vinyl compound as a polymerization raw material, and examples thereof include an acrylic resin, a styrene resin, and an acrylic-styrene resin. An acrylic resin is a cured product of a curable composition containing a (meth) acryloyl group-containing compound (also referred to as a (meth) acryloyl group-containing compound or a (meth) acrylic compound), and a styrene resin is styrene And a cured product of a curable composition containing a styrene-based monomer (also referred to as a styrene-based compound) such as divinylbenzene, and the acrylic-styrene resin is a curable composition containing a (meth) acryloyl group-containing compound and a styrene-based monomer It is a cured product of the composition. Among the above vinyl polymer resins, acrylic resins and acrylic-styrene resins are preferable.

上記(メタ)アクリロイル基含有化合物として好ましくは、(メタ)アクリレートモノマー、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等が例示される。(メタ)アクリレートモノマーを(共)重合した(メタ)アクリレート(共)重合体(ただし(メタ)アクリロイル基を有する)も好適に使用できる。塗膜を容易に形成できる点で、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリレート(共)重合体等の重合性オリゴマーと、(メタ)アクリレートモノマーとを含む組成物をアクリル樹脂原料として用いることが好ましい。上記アクリル−スチレン樹脂原料としては、上記アクリル樹脂原料の好適な形態において更にスチレン系モノマーを用いた組成物が好ましい。   Preferred examples of the (meth) acryloyl group-containing compound include (meth) acrylate monomers, urethane (meth) acrylates, polyester (meth) acrylates, and epoxy (meth) acrylates. A (meth) acrylate (co) polymer (but having a (meth) acryloyl group) obtained by (co) polymerizing a (meth) acrylate monomer can also be suitably used. An acrylic composition containing a polymerizable oligomer such as urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, (meth) acrylate (co) polymer, and (meth) acrylate monomer, in that a coating film can be easily formed. It is preferable to use as a resin raw material. As said acryl- styrene resin raw material, the composition which further used the styrene-type monomer in the suitable form of the said acrylic resin raw material is preferable.

上記ポリ(アミド)イミド前駆体とは、ポリ(アミド)イミド樹脂を形成するための原料、すなわちイミド化反応に供される化合物であり、例えば、ポリアミック酸等が好適である。具体的には、例えば、日立化成工業社製のHPC−7000−30等が好ましく使用される。   The poly (amide) imide precursor is a raw material for forming a poly (amide) imide resin, that is, a compound to be subjected to an imidization reaction, and for example, polyamic acid is preferable. Specifically, for example, HPC-7000-30 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. is preferably used.

<3.溶媒>
本発明に係る樹脂組成物は、その後の塗工操作を簡便に実施するために、溶媒(有機溶剤)で希釈された組成物(すなわち、溶媒を含むもの)であってもよい。使用できる溶媒は特に限定されず、樹脂成分等の種類に応じて適宜選択可能であるが、例えば、メチルエチルケトン(2−ブタノン)、メチルイソブチルケトン(4−メチル−2−ペンタノン)、シクロヘキサノン等のケトン類;PGMEA(2−アセトキシ−1−メトキシプロパン)、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート等のグリコール誘導体(エーテル化合物、エステル化合物、エーテルエステル化合物等);N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類;酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類;N−メチル−ピロリドン(より具体的には、1−メチル−2−ピロリドン等)等のピロリドン類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジプチルエーテル等のエーテル類;等が好適である。
<3. Solvent>
The resin composition according to the present invention may be a composition (that is, one containing a solvent) diluted with a solvent (organic solvent) in order to easily carry out the subsequent coating operation. The solvent that can be used is not particularly limited and can be appropriately selected according to the type of the resin component etc. For example, ketones such as methyl ethyl ketone (2-butanone), methyl isobutyl ketone (4-methyl-2-pentanone), cyclohexanone etc. PGMEA (2-acetoxy-1-methoxypropane), glycol derivatives such as ethylene glycol mono-n-butyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate (ether compounds, ester compounds, ether ester compounds, etc.); Amides such as N, N-dimethylacetamide; esters such as ethyl acetate, propyl acetate and butyl acetate; pyrrolidones such as N-methyl-pyrrolidone (more specifically, 1-methyl-2-pyrrolidone and the like); Toluene, xylene, etc. Aromatic hydrocarbons; cyclohexane, aliphatic hydrocarbons such as heptane; tetrahydrofuran, dioxane, diethyl ether, ethers such as Djibouti ether; and the like.

上記溶媒の使用量としては、樹脂組成物100質量%中、50質量%以上であることが好ましく、また、100質量%未満が好ましい。より好ましくは、70質量%以上であり、また、95質量%以下であってもよい。前記範囲内に調整することにより、色素濃度の高い樹脂組成物を得ることが可能となる。   The amount of the solvent used is preferably 50% by mass or more in 100% by mass of the resin composition, and preferably less than 100% by mass. More preferably, it is 70 mass% or more, and may be 95 mass% or less. By adjusting in the said range, it becomes possible to obtain a resin composition with high pigment concentration.

なお、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類等は、上記一般式(1)又は(2)で記載するオキソカーボン系化合物を分解する虞があるため、使用量は少ない方が好ましい。そのためアミド類の使用量は、樹脂組成物100質量%中、80質量%以下が好ましく、より好ましくは60質量%以下であり、更に好ましくは40質量%以下であり、特に好ましくは20質量%以下であり、最も好ましくは0質量%である(すなわち、アミド類を含まない)。   In addition, since there exists a possibility that amides, such as N, N- dimethylacetamide, may decompose | disassemble the oxo carbon type compound described by the said General formula (1) or (2), the one with a small usage is preferable. Therefore, the amount of the amides used is preferably 80% by mass or less, more preferably 60% by mass or less, still more preferably 40% by mass or less, and particularly preferably 20% by mass or less in 100% by mass of the resin composition. And most preferably 0% by weight (i.e. without amides).

また本発明に係る樹脂組成物は、例えば、350〜400nmの波長域に吸収能を有する化合物を含んでいてもよい。これらの化合物の存在により、350〜400nm波長域の光(ほぼ紫光)に起因する樹脂シート(及び光選択透過フィルター)の劣化を充分に抑制することができる。350〜400nmの波長域に吸収能を有する化合物を併用する場合、350〜400nmの波長域に吸収能を有する化合物としては、例えば、TINUVIN P、TINUVIN 234、TINUVIN 329、TINUVIN 213、TINUVIN 571、TINUVIN 326(BASF社製)等の紫外線吸収化合物の1種又は2種以上を使用することができる。   In addition, the resin composition according to the present invention may contain, for example, a compound having an absorbing ability in a wavelength range of 350 to 400 nm. The presence of these compounds makes it possible to sufficiently suppress the deterioration of the resin sheet (and the light selective transmission filter) caused by the light in the 350-400 nm wavelength region (almost violet light). When a compound having absorption in the wavelength range of 350 to 400 nm is used in combination, as compounds having absorption in the wavelength range of 350 to 400 nm, for example, TINUVIN P, TINUVIN 234, TINUVIN 329, TINUVIN 213, TINUVIN 571, TINUVIN One or two or more types of ultraviolet light absorbing compounds such as 326 (manufactured by BASF) can be used.

また本発明に係る樹脂組成物には、界面活性剤、分散剤、表面張力調整剤、粘度調整剤、消泡剤、防腐剤、比抵抗調整剤等の各種添加剤が含まれていてもよい。   The resin composition according to the present invention may also contain various additives such as surfactants, dispersants, surface tension modifiers, viscosity modifiers, antifoaming agents, preservatives, specific resistance modifiers and the like. .

<4.用途>
本発明に係る樹脂組成物は、オプトデバイス用途、表示デバイス用途、機械部品、電気・電子部品等の様々な用途で用いられるフィルター形成用の樹脂組成物として好ましく使用できる。
<4. Applications>
The resin composition according to the present invention can be preferably used as a resin composition for forming a filter which is used in various applications such as opto device applications, display device applications, machine parts, and electric / electronic parts.

通常これらの用途で使用されるフィルターは、支持体と一体化され樹脂シートとして使用される。前記樹脂シートは、例えば、樹脂組成物を、支持体表面(又は、支持体と樹脂層との間に他の層を有する場合は、当該他の層の表面)にスピンコート法や溶媒キャスト法により塗布し、乾燥又は硬化することにより形成する方法(塗布法又はコーティング法と称す)や、支持体に対して、樹脂組成物から形成された樹脂フィルムを熱圧着することにより形成する方法の他、練込法等により製造できる。塗工厚(膜厚)は特に限定されないが、耐光性のよい部材を得るには薄膜であることが好ましいため、塗工厚(膜厚)は、例えば、5μm以下であることが好適であり、より好ましくは3μm以下である。また、0.5μm以上であることが好ましく、より好ましくは1μm以上である。   Usually, filters used in these applications are integrated with a support and used as a resin sheet. The resin sheet may be, for example, a spin coat method or a solvent cast method on the surface of the support (or, if there is another layer between the support and the resin layer, the surface of the resin composition). Other than the method of forming by applying (coating method or coating method) by applying by drying, and curing or forming the resin film formed from the resin composition against the support by thermocompression bonding And can be manufactured by a kneading method or the like. The coating thickness (film thickness) is not particularly limited, but is preferably a thin film to obtain a member with good light resistance, so the coating thickness (film thickness) is preferably 5 μm or less, for example. And more preferably 3 μm or less. Moreover, it is preferable that it is 0.5 micrometer or more, More preferably, it is 1 micrometer or more.

なお前記支持体としては、フィルム形状のもの(支持体フィルム)が好ましい。支持体フィルムとしては、透明性に優れる樹脂を用いることが好適であり、具体的には、例えば、(メタ)アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素化芳香族ポリマー、ポリ(アミド)イミド樹脂、ポリアミド樹脂、アラミド樹脂、シクロオレフィン樹脂等を用いることができる。これらの中でも、反射層を蒸着形成する際の耐熱性に優れる点で、フッ素化芳香族ポリマー、ポリ(アミド)イミド樹脂、ポリアミド樹脂、アラミド樹脂、シクロオレフィン樹脂、エポキシ樹脂及び/又はアクリル樹脂が好ましい。より好ましくは、ポリ(アミド)イミド樹脂を少なくとも用いることである。   In addition, as said support body, the thing of a film form (support body film) is preferable. As the support film, it is preferable to use a resin having excellent transparency. Specifically, for example, (meth) acrylic resin, epoxy resin, polycarbonate resin, polyester resin, fluorinated aromatic polymer, poly (amide) ) Imide resin, polyamide resin, aramid resin, cycloolefin resin, etc. can be used. Among these, fluorinated aromatic polymers, poly (amides) imide resins, polyamide resins, aramid resins, cycloolefin resins, epoxy resins and / or acrylic resins are preferred in that they are excellent in heat resistance when forming a reflective layer by vapor deposition. preferable. More preferably, at least a poly (amide) imide resin is used.

本発明に係る樹脂組成物には耐光性に優れる色素が含まれているため、樹脂組成物が固化した塗膜も、良好な耐光性を発揮する。   Since the resin composition according to the present invention contains a dye excellent in light resistance, the coating film obtained by solidifying the resin composition also exhibits good light resistance.

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。なお、以下においては、特に断りのない限り、「部」は「質量部」を、「%」は「質量%」を意味する。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be more specifically described by way of examples. However, the present invention is of course not limited by the following examples, and appropriate modifications may be made as long as the present invention can be applied to the purpose. Of course, implementation is also possible, and all of them are included in the technical scope of the present invention. In the following, “parts” means “parts by mass” and “%” means “% by mass” unless otherwise noted.

なお、合成された化合物についての分析には、以下の装置を用いた。
紫外−可視吸収スペクトル;日立ハイテクノロジー社製 型式「U−2810」、日本分光社製 型式「v−570型」
赤外吸収スペクトル;堀場製作所製 型式「FT-720」
NMRスペクトル;日本電子社製 型式「JNM−AL400」、日本電子社製 型式「JNM−EX400」、バリアン・テクノロジーズ社製 型式「マーキュリー2000」
マススペクトル;日本電子社製、型式「JMS−MS 700型」
(MALDI−TOF)マススペクトル;アプライド・バイオシステムズ社製、型式「Voyager−DETM−PRO」
In addition, the following apparatus was used for the analysis about the synthesize | combined compound.
Ultraviolet-visible absorption spectrum; manufactured by Hitachi High-Technologies, model "U-2810", manufactured by JASCO Corporation, model "v-570"
Infrared absorption spectrum; Horiba, Ltd. Model "FT-720"
NMR spectrum; model "JNM-AL400" manufactured by Nippon Denshi, model "JNM-EX400" manufactured by Nippon Denshi, model "Mercury 2000" manufactured by Varian Technologies
Mass spectrum; manufactured by Nippon Denshi, model "JMS-MS 700 type"
(MALDI-TOF) mass spectra; Applied Biosystems, Inc., Model "Voyager-DE TM -PRO"

また本合成例で用いた化合物20は、Tetsuo、外9名、“Acenaphthylene−Fused Cyclo[8]pyrroles with Intense Near−IR−Region Absorption Bands”、 Chemistry − A European Journal,August 26(2013),19(41))、pp 13970−13978に記載される第13971頁の化合物5の合成方法と同様の方法で製造した。   The compound 20 used in this synthesis example is Tetsuo, 9 others, “Acenaphthylene-Fused Cyclo [8] pyrroles with Intense Near-IR-Region Absorption Bands”, Chemistry-A European Journal, August 26 (2013), 19 (41)), pp. 13970-13978, prepared in the same manner as the method for synthesizing Compound 5 on page 13971.

本合成例で用いた化合物4は、Yuya、外6名、“Synthesis of π−expanded O−chelated boron-dipyrromethene as an NIR dye”、Tetrahedron,May 6(2001),67(18)、pp 3187−3193に記載される第3188頁の化合物3bの合成方法と同様の方法で製造した。   Compound 4 used in this synthesis example is Yuya, 6 others, “Synthesis of π-expanded O-chelated boron-dipyrromethene as an NIR dye”, Tetrahedron, May 6 (2001), 67 (18), pp 3187- Prepared in a similar manner to the method of synthesis of compound 3b on page 3188 described in 3193.

本合成例で用いたピロール13は、Schultz、外1名、“Application of In Situ−Generated Rh−Bound Trimethylenemethane Variants to the Synthesis of 3,4−Fused Pyrroles”、J. Am. Chem. Soc.(2013),135,pp 4696−4699に記載される第4697頁の化合物13aの合成方法と同様の方法で製造した。   The pyrrole 13 used in this synthesis example is described in Schultz, et al., "Application of In-situ-Generated Rh-Bound Trimethylethylenemethane Variants to the Synthesis of 3,4-Fused Pyrroles", J. Chem. Am. Chem. Soc. (2013), 135, pp. 4696-4699. The compound was prepared by the same method as the synthesis method of compound 13a on page 4697.

≪スクアリリウム系色素の合成例≫
合成例1 アセナフトピロールを有するスクアリリウム色素の合成
<< Synthesis example of squarylium dye >>
Synthesis Example 1 Synthesis of squarylium dye having acenaphthopyrrole

[Step1]
反応容器にアセナフトピロール20(413mg,1.1mmol)を加え、窒素置換した。dryTHFを30mL加え遮光し、LiAlH4(213mg,5.6mmol)を加えて一晩加熱還流した。室温に戻した後、飽和酒石酸Na水溶液でクエンチし、酢酸エチルで抽出後、水と飽和食塩水で洗浄した。Na2SO4で乾燥させ、減圧濃縮し、目的のアセナフトピロール2を得た(収量356mg,1.1mmol,収率quant.)。
Mol.Form.:(Exact Mass:317.2143,Mol.Wt.:317.4672)
Appearance:淡黄緑色固体
1H NMR (CDCl3,400MHz):δ=7.72 (brs,1H),7.60(d,J=1.2Hz,1H),7.52(m,2H),7.50(m,1H),6.85(d,J=2.3Hz,1H),2.54(s,3H),1.45(s, 9H),1.43(s, 9H)
[Step 1]
Acenaphthopyrrole 20 (413 mg, 1.1 mmol) was added to the reaction vessel and purged with nitrogen. 30 mL of dryTHF was added to shield light, LiAlH 4 (213 mg, 5.6 mmol) was added, and the mixture was heated to reflux overnight. After cooling to room temperature, the reaction solution was quenched with saturated aqueous sodium tartrate solution, extracted with ethyl acetate and washed with water and saturated brine. Drying over Na 2 SO 4 and concentration under reduced pressure gave the desired acenaphthopyrrole 2 (yield 356 mg, 1.1 mmol, yield quant.).
Mol. Form. : (Exact Mass: 317.2143, Mol. Wt .: 317.4672)
Appearance: light yellowish green solid
1 H NMR (CDCl 3 , 400 MHz): δ = 7.72 (brs, 1 H), 7.60 (d, J = 1.2 Hz, 1 H), 7.52 (m, 2 H), 7.50 (m , 1H), 6.85 (d, J = 2.3 Hz, 1 H), 2.54 (s, 3 H), 1.45 (s, 9 H), 1.43 (s, 9 H)

[Step2]
反応容器にスクアリン酸1(62.4mg,0.547mmol)とアセナフトピロール2(0.356g,1.13mmol)を加えて窒素置換した。n−BuOH及びtolueneを1:1の割合で20mL加え、加熱還流した。1時間後に原料のアセナフトピロールが消えているのをTLCで確認した後、加熱をやめ室温に戻して減圧濃縮した。MeOHで洗浄し生成物と思われる暗緑色の固体を得、さらにCHCl3/MeOHで再結晶させることで化合物3を得た(収量0.2744g,0.383mmol,収率70%)。クロロホルム溶解時の回転異性体存在比5:3であった。
Mol.Form.:(Exact Mass712.4029:,Mol.Wt.:712.9601)
Appearance:緑色粉末
1H NMR (CDCl3,400MHz):δ=10.19(brs,1H,minor),9.97(brs,1H,major),9.42(s,1H,major),9.24(s,1H,minor),7.80−7.78(m,2H),7.73−7.68(m,4H),2.76(s,3H,minor),2.64(s,3H,major),1.63-1.48(m,36H)
UV−vis (CHCl3) λmax,709nm
MS(MALDI−TOF MS):713.0355(M
[Step 2]
Squaric acid 1 (62.4 mg, 0.547 mmol) and acenaphthopyrrole 2 (0.356 g, 1.13 mmol) were added to a reaction vessel and purged with nitrogen. 20 mL of n-BuOH and toluene were added at a ratio of 1: 1, and the mixture was heated to reflux. After confirming that the raw material acenaphthopyrrole had disappeared after 1 hour by TLC, the heating was stopped and the temperature was returned to room temperature and concentrated under reduced pressure. The product was washed with MeOH to give a dark green solid which was considered to be a product, and further recrystallized with CHCl 3 / MeOH to give compound 3 (yield 0.2744 g, 0.383 mmol, 70% yield). The rotamer abundance ratio at the time of dissolution in chloroform was 5: 3.
Mol. Form. : (Exact Mass 712.4029 :, Mol. Wt .: 712.9601)
Appearance: Green powder
1 H NMR (CDCl 3 , 400 MHz): δ = 10.19 (brs, 1 H, minor), 9.97 (brs, 1 H, major), 9.42 (s, 1 H, major), 9.24 (s) , 1H, minor), 7.80-7.78 (m, 2H), 7.73-7.68 (m, 4H), 2.76 (s, 3H, minor), 2.64 (s, 3H) , Major), 1.63-1.48 (m, 36 H)
UV-vis (CHCl 3 ) λmax, 709 nm
MS (MALDI-TOF MS): 713.0355 (M + )

合成例2 o−メトキシフェニルビシクロピロールを有するスクアリリウム色素の合成   Synthesis Example 2 Synthesis of squarylium dye having o-methoxyphenylbicyclopyrrole

反応容器にスクアリン酸1(29.5mg,0.26mmol)とo−メトキシフェニルビシクロピロール4(126.3mg,0.5mmol)を加えて窒素置換した。n−BuOH及びtolueneを1:1の割合で10mL加え、加熱還流した。30分後に原料のo−メトキシフェニルビシクロピロールが消えているのをTLCで確認した後、加熱をやめ室温に戻して減圧濃縮した。イソプロパノールで洗浄し、化合物5を得た(収量0.0925g,0.16mmol,収率62%)。
Mol.Form.:(Exact Mass:580.2362, Mol.Wt.:580.6722)
Appearance:緑色粉末
1H NMR (CDCl3,400MHz):δ=10.66(brs,1H),10.38(brs,1H),7.78(m,2H),7.36(m,2H),7.09(m,2H),7.04(m,2H),6.63(m,2H),6.53(m,2H),5.06(m,1H),4.92(m,1H),4.38(m,2H),4.07(s,3H),4.03(s,3H),1.79−1.56(m,8H)
UV−vis (CHCl3) λmax,639nm
MS(MALDI−TOF MS):581.8236(M),553.8042(M−28), 524.7811(M−56)
Squaric acid 1 (29.5 mg, 0.26 mmol) and o-methoxyphenylbicyclopyrrole 4 (126.3 mg, 0.5 mmol) were added to the reaction vessel and purged with nitrogen. 10 mL of n-BuOH and toluene were added at a ratio of 1: 1, and the mixture was heated to reflux. After 30 minutes, it was confirmed by TLC that the starting material o-methoxyphenylbicyclopyrrole had disappeared, and then the heating was stopped and the temperature was returned to room temperature and concentrated under reduced pressure. Washing with isopropanol gave compound 5 (yield 0.0925 g, 0.16 mmol, 62% yield).
Mol. Form. : (Exact Mass: 580.2362, Mol. Wt .: 580.6722)
Appearance: Green powder
1 H NMR (CDCl 3 , 400 MHz): δ = 10.66 (brs, 1 H), 10.38 (brs, 1 H), 7.78 (m, 2 H), 7.36 (m, 2 H), 7. 09 (m, 2H), 7.04 (m, 2H), 6.63 (m, 2H), 6.53 (m, 2H), 5.06 (m, 1H), 4.92 (m, 1H) ), 4.38 (m, 2 H), 4.07 (s, 3 H), 4.03 (s, 3 H), 1.79 to 1.56 (m, 8 H)
UV-vis (CHCl 3 ) λmax, 639 nm
MS (MALDI-TOF MS): 581.8236 (M + ), 553.8042 (M + -28), 524.7811 (M + -56)

合成例3 o−メトキシフェニル−ベンゾピロールを有するスクアリリウム色素の合成   Synthesis Example 3 Synthesis of squarylium dye having o-methoxyphenyl-benzopyrrole

反応容器に化合物5(15.6mg,0.027mmol)を加えて窒素置換した。230℃で1時間加熱し室温まで放冷して化合物6を得た(収量14mg,0.027mmol,収率quant)。クロロホルム溶解時の回転異性体存在比2:1であった。
Mol.Form.:(Exact Mass:524.1736,Mol.Wt.:524.5654)
Appearance:黒色粉末
1H NMR (CDCl3,400MHz):δ=12.38(brs,1H,major),12.12(brs,1H,minor),8.94(d,J=8.1Hz,1H,minor),8.80(d,J=8.1Hz,1H,major),8.14−8.06(m,4H),7.51−7.38(m,6H),7.20−7.10(m,4H),4.19(s,3H,major),4.10(s,3H,minor)
UV−vis (CHCl3) λmax,740nm
MS(MALDI−TOF MS):546.03(M+23)
Compound 5 (15.6 mg, 0.027 mmol) was added to the reaction vessel and purged with nitrogen. The mixture was heated at 230 ° C. for 1 hour and allowed to cool to room temperature to obtain compound 6 (yield 14 mg, 0.027 mmol, yield quant). The ratio of rotomers present when dissolved in chloroform was 2: 1.
Mol. Form. : (Exact Mass: 524.1736, Mol. Wt .: 524.5654)
Appearance: black powder
1 H NMR (CDCl 3 , 400 MHz): δ = 12.38 (brs, 1H, major), 12.12 (brs, 1H, minor), 8.94 (d, J = 8.1 Hz, 1H, minor) , 8.80 (d, J = 8.1 Hz, 1 H, major), 8.14-8.06 (m, 4 H), 7.51-7.38 (m, 6 H), 7.20-7. 10 (m, 4 H), 4. 19 (s, 3 H, major), 4. 10 (s, 3 H, minor)
UV-vis (CHCl 3 ) λmax, 740 nm
MS (MALDI-TOF MS): 546.03 (M + + 23)

合成例4 α−メチルビシクロピロールを有するスクアリリウム色素の合成   Synthesis Example 4 Synthesis of squarylium dye having α-methylbicyclopyrrole

反応容器にスクアリン酸1(57.9mg,0.5mmol)とα−メチルビシクロピロール7(160mg,1.0mmol)を加えて窒素置換した。n−BuOH及びtolueneを1:1の割合で10mL加え、加熱還流した。30分後に原料のピロールが消えているのをTLCで確認した後、加熱をやめ室温に戻して減圧濃縮し、クロロホルム/ヘキサンで再結晶することで化合物8を得た(収量0.3133g,0.787mmol,収率78%)。
Mol.Form.:(Exact Mass:580.2362,Mol.Wt.:396.4810)
Appearance:色粉末
1H NMR (CDCl3,400MHz):δ=9.61(brs,1H),9.39 (brs,1H),6.56−6.46(m,4H),4.94(m,1H),4.80 (m,1H),3.90(s,2H),2.36(s,6H),1.65−1.26(m,8H)
UV−vis (CHCl3) λmax, 563nm
MS(MALDI−TOF):368.84(M−28)
MS(FAB):396(M), 340(M−56)
Squaric acid 1 (57.9 mg, 0.5 mmol) and α-methylbicyclopyrrole 7 (160 mg, 1.0 mmol) were added to the reaction vessel and purged with nitrogen. 10 mL of n-BuOH and toluene were added at a ratio of 1: 1, and the mixture was heated to reflux. After 30 minutes, it was confirmed by TLC that the starting material pyrrole had disappeared, heating was discontinued, the temperature was returned to room temperature, concentration was carried out under reduced pressure, and recrystallization with chloroform / hexane gave compound 8 (yield 0.3133 g, 0 .787 mmol, yield 78%).
Mol. Form. : (Exact Mass: 580.2362, Mol. Wt .: 396.4810)
Appearance: color powder
1 H NMR (CDCl 3 , 400 MHz): δ = 9.61 (brs, 1 H), 9.39 (brs, 1 H), 6.56-6.46 (m, 4 H), 4.94 (m, 1 H) ), 4.80 (m, 1H), 3.90 (s, 2H), 2.36 (s, 6H), 1.65 to 1.26 (m, 8H)
UV-vis (CHCl 3 ) λmax, 563 nm
MS (MALDI-TOF): 368. 84 (M + -28)
MS (FAB): 396 (M + ), 340 (M + -56)

合成例5 α−メチルベンゾピロールを有するスクアリリウム色素の合成   Synthesis Example 5 Synthesis of squarylium dye having α-methylbenzopyrrole

反応容器に化合物8(12.0mg,0.03mmol)を加えて窒素置換した。230℃で1時間加熱し室温まで放冷して化合物9を得た(収量10mg,0.03mmol,収率quant.)。
Mol.Form.:(Exact Mass:340.1212,Mol.Wt.:340.3746)
Appearance:黒色粉末
UV−vis (CHCl3) λmax,650nm
Compound 8 (12.0 mg, 0.03 mmol) was added to a reaction vessel and purged with nitrogen. The mixture was heated at 230 ° C. for 1 hour and allowed to cool to room temperature to obtain compound 9 (yield 10 mg, 0.03 mmol, yield quant.).
Mol. Form. : (Exact Mass: 340.1212, Mol. Wt .: 340.3746)
Appearance: Black powder UV-vis (CHCl 3 ) λmax, 650 nm

合成例6   Synthesis example 6

反応容器にスクアリン酸(56mg,0.493mmol)、ピロール13(295mg,0.985mol)を入れ、n−BuOH/toluene(1:1,10mL)を加えて、30分還流した。反応終了後、室温に戻し、減圧下で濃縮し、MeOHで洗浄することにより目的物14が得られた。クロロホルム溶解時の回転異性体存在比2:1であった。
yield:109mg(41%)
Mol.Form.:C343424(Exact Mass:534.25,Mol.Wt.:534.64)
Appearance:green powder
UV-vis(CHCl3):651nm
Squaric acid (56 mg, 0.493 mmol) and pyrrole 13 (295 mg, 0.985 mol) were placed in a reaction vessel, n-BuOH / toluene (1: 1, 10 mL) was added, and the mixture was refluxed for 30 minutes. After completion of the reaction, the reaction product was returned to room temperature, concentrated under reduced pressure, and washed with MeOH to obtain the desired product 14. The ratio of rotomers present when dissolved in chloroform was 2: 1.
yield: 109 mg (41%)
Mol. Form. : C 34 H 34 N 2 O 4 (Exact Mass: 534.25, Mol. Wt .: 534. 64)
Appearance: green powder
UV-vis (CHCl 3 ): 651 nm

≪クロコニウム系色素の合成例≫
合成例7 o−メトキシフェニル−ビシクロピロールを有するクロコニウム色素の合成
<< Synthesis Example of Croconium Dyes >>
Synthesis Example 7 Synthesis of croconium dye having o-methoxyphenyl-bicyclopyrrole

反応容器にクロコン酸(101mg,0.402mmol)、o−メトキシフェニルビシクロピロール4(30.3mg,0.213mol)を入れ、n−BuOH/toluene(1:1,5mL)を加えて、2時間還流した。反応終了後、室温に戻し、減圧下で濃縮し、IPAで洗浄することにより化合物10を得た(収量105mg、収率81%)。クロロホルム溶解時の回転異性体存在比1:1であった。
Mol. Form.:C393225(Exact Mass:608.23,Mol.Wt.:608.68)
Appearance:brown−red powder
1H NMR:(CDCl,400MHz):δ=13.14(brs,1H),12.83(brs,1H),12.76(brs,1H),12.60(brs,1H),7.94−7.83(m,2H+2H),7.47−7.40(m,2H+2H),7.15−7.06(m,4H+4H),6.71−6.52(m,4H+4H),5.81(m,1H),5.72 (m,1H),5.65 (m,1H),4.47−4.41(m,2H+2H),4.17(s,3H),4.16(s,3H),4.14(s,3H),4.10(s,3H),1.69−1.56(m,8H+8H)
MS (MALDI−TOF): 579.49(M−28)
UV−vis (CHCl3) λmax,794nm
In a reaction vessel, croconic acid (101 mg, 0.402 mmol) and o-methoxyphenylbicyclopyrrole 4 (30.3 mg, 0.213 mol) are placed, n-BuOH / toluene (1: 1, 5 mL) is added, and 2 hours Refluxed. After completion of the reaction, the reaction solution was returned to room temperature, concentrated under reduced pressure, and washed with IPA to obtain compound 10 (yield 105 mg, 81%). The rotomer abundance ratio at the time of dissolution in chloroform was 1: 1.
Mol. Form. : C 39 H 32 N 2 O 5 (Exact Mass: 608.23, Mol. Wt .: 608. 68)
Appearance: brown-red powder
1 H NMR: (CDCl 3 , 400 MHz): δ = 13.14 (brs, 1 H), 12.83 (brs, 1 H), 12.76 (brs, 1 H), 12. 60 (brs, 1 H), 7. 94-7.83 (m, 2H + 2H), 7.47-7.40 (m, 2H + 2H), 7.15-7.06 (m, 4H + 4H), 6.71-6.52 (m, 4H + 4H) 5.81 (m, 1 H), 5.72 (m, 1 H), 5. 65 (m, 1 H), 4.47-4.41 (m, 2 H + 2 H), 4. 17 (s, 3 H), 4 .16 (s, 3 H), 4. 14 (s, 3 H), 4. 10 (s, 3 H), 1.69-1.56 (m, 8 H + 8 H)
MS (MALDI-TOF): 579.49 (M + -28)
UV-vis (CHCl 3 ) λmax, 794 nm

合成例8 o−メトキシフェニル−ベンゾピロールを有するクロコニウム色素の合成   Synthesis Example 8 Synthesis of croconium dye having o-methoxyphenyl-benzopyrrole

反応容器に化合物10(6.5mg,0.011mmol)を入れ、真空中、230℃で2時間加熱した。室温に戻し、目的物11を得た。
yield: trace (trace)
Mol. Form.: C393225 (Exact Mass:552.17,Mol.Wt.:552.58)
Appearance: block solid
UV−vis (CHCl3) λmax,866nm
The reaction vessel was charged with compound 10 (6.5 mg, 0.011 mmol) and heated in vacuum at 230 ° C. for 2 hours. It returned to room temperature and the target object 11 was obtained.
yield: trace (trace)
Mol. Form. C 39 H 32 N 2 O 5 (Exact Mass: 552.17, Mol. Wt .: 552.58)
Appearance: block solid
UV-vis (CHCl 3 ) λmax, 866 nm

合成例9 アセナフトピロールを有するクロコニウム色素の合成   Synthesis Example 9 Synthesis of croconium dye having acenaphthopyrrole

反応容器にクロコン酸(243mg,1.71mmol)、アセナフトピロール2(1.09g,3.42mol)を入れ、n−BuOH/toluene(1:1,10mL)を加えて、1時間半還流した。反応終了後、室温に戻し、減圧下で濃縮し、IPAで洗浄することにより目的物12が得られた(収量1.15g、収率91%)。クロロホルム溶解時の回転異性体存在比10:7であった。
Mol. Form.: C515423 (Exact Mass:742.41,Mol.Wt.:742.99)
Appearance: brown−red powder
1H NMR:(CDCl,400MHz):δ(syn)=12.60(brs,2H,major),9.67(s,2H,major),7.82(s,2H,major),7.68(s,2H,major),7.43(s,2H,major),2.55(s,6H,major),1.62(s,18H,major),1.41(s,18H,major),δ(anti)=13.41(brs,1H,minor),11.76(brs,1H,minor),9.74(s,1H,minor),9.64(s,1H,minor),7.86(s,1H,minor),7.83(s,1H,minor),7.77(s,1H,minor),7.72(s,1H,minor),7.69(s,1H,minor),7.63(s,1H,minor),2.82(s,3H,minor),2.57(s,3H,minor),1.64(s,9H,minor),1.60(s,9H,minor),1.50(s,9H,minor),1.47(s,9H,minor)
MS (FAB): 742(M
UV−vis (CHCl3) λmax,854 nm
In a reaction vessel, croconic acid (243 mg, 1.71 mmol) and acenaphthopyrrole 2 (1.09 g, 3.42 mol) were placed, n-BuOH / toluene (1: 1, 10 mL) was added, and the mixture was refluxed for one and a half hours. . After completion of the reaction, the reaction product was returned to room temperature, concentrated under reduced pressure, and washed with IPA to obtain Target 12 (yield 1.15 g, 91%). The rotamer abundance ratio at the time of dissolution in chloroform was 10: 7.
Mol. Form. C 51 H 54 N 2 O 3 (Exact Mass: 742.41, Mol. Wt .: 742.99)
Appearance: brown-red powder
1 H NMR: (CDCl 3 , 400 MHz): δ (syn) = 12.60 (brs, 2 H, major), 9.67 (s, 2 H, major), 7.82 (s, 2 H, major), 7. 68 (s, 2 H, major), 7.43 (s, 2 H, major), 2.5 5 (s, 6 H, major), 1.62 (s, 18 H, major), 1.41 (s, 18 H, major), δ (anti) = 13.41 (brs, 1 H, minor), 11. 76 (brs, 1 H, minor), 9.74 (s, 1 H, minor), 9.64 (s, 1 H, minor) ), 7.86 (s, 1 H, minor), 7.83 (s, 1 H, minor), 7.77 (s, 1 H, minor), 7.72 (s, 1 H, minor), 7.69 ( s, 1 H, mino r), 7.63 (s, 1 H, minor), 2.82 (s, 3 H, minor), 2.57 (s, 3 H, minor), 1.64 (s, 9 H, minor), 1.60 (S, 9H, minor), 1.50 (s, 9H, minor), 1.47 (s, 9H, minor)
MS (FAB): 742 (M + )
UV-vis (CHCl 3 ) λmax, 854 nm

合成例10   Synthesis example 10

反応容器にクロコン酸(182mg,1.28mmol)、ピロール13(582mg,2.56mol)を入れ、n−BuOH/toluene(1:1,10mL)を加えて、室温で2時間撹拌した。反応終了後、減圧下で濃縮し、MeOHで洗浄することにより目的物15が得られた。クロロホルム溶解時の回転異性体存在比1:1であった。
yield:408mg(57%)
Mol.Form.:C353225(Exact Mass:560.23,Mol.Wt.:560.64)
Appearance:brown−red powder
UV-vis(CHCl3):800nm
Croconic acid (182 mg, 1.28 mmol) and pyrrole 13 (582 mg, 2.56 mol) were placed in a reaction vessel, n-BuOH / toluene (1: 1, 10 mL) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction product was concentrated under reduced pressure and washed with MeOH to obtain the desired product 15. The rotomer abundance ratio at the time of dissolution in chloroform was 1: 1.
yield: 408 mg (57%)
Mol. Form. : C 35 H 32 N 2 O 5 (Exact Mass: 560.23, Mol. Wt .: 560. 64)
Appearance: brown-red powder
UV-vis (CHCl 3 ): 800 nm

<耐光性試験>
下記処方1〜5で得た塗膜をキセノンウェザーメーター(スガ試験機株式会社製、X75SC)にセットし、耐光性試験を実施した。評価条件は60℃雰囲気下で24時間の光照射とした。
<Light resistance test>
The coatings obtained by the following formulations 1 to 5 were set in a xenon weather meter (X75 SC, manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), and a light resistance test was conducted. The evaluation conditions were light irradiation for 24 hours in a 60 ° C. atmosphere.

≪樹脂組成物の製造方法≫
製造例1(脂環式ポリイミドのジメチルアセトアミド溶液)
1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸(東京化成製、純度98%、Mw=260.20)5部と無水酢酸(和光純薬社製)44部とを、フラスコに仕込み、攪拌しながら反応器内を窒素ガスで置換した。窒素ガス雰囲気下で溶剤の還流温度まで昇温し、10分間溶剤を還流させた。攪拌しながら室温まで冷却し、結晶を析出させた。析出した結晶を固液分離し、乾燥して目的物(1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物)の結晶を得た。温度計、撹拌器、窒素導入管、側管付き滴下ロート、ディーンスターク、冷却管を備えたフラスコに、窒素気流下、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(和光純薬社製、Mw=200.24)8.9部と、溶剤としてジメチルアセトアミド76部を仕込んで溶解させた後、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物(Mw=224.17)10部を室温にて、固体のまま1時間かけて分割投入し、室温下2時間撹拌した。共沸脱水剤としてトルエンを26部添加して、130℃で3時間反応を行い、ディーンスタークで還流して共沸する生成水を分離した。194℃に昇温しながらキシレンを留去した後、冷却しポリイミドのジメチルアセトアミド溶液を得た。
«Method for producing resin composition»
Production Example 1 (Dimethylacetamide solution of alicyclic polyimide)
A flask was charged with 5 parts of 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry, purity 98%, Mw = 260.20) and 44 parts of acetic anhydride (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) in a flask and stirred. While replacing the inside of the reactor with nitrogen gas. The temperature was raised to the reflux temperature of the solvent under nitrogen gas atmosphere, and the solvent was refluxed for 10 minutes. The mixture was cooled to room temperature while stirring to precipitate crystals. The precipitated crystals were solid-liquid separated and dried to obtain crystals of the desired product (1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride). In a flask equipped with a thermometer, a stirrer, a nitrogen inlet tube, a dropping funnel with a side tube, a Dean Stark, and a condenser, under a nitrogen stream, 4,4'-diaminodiphenyl ether (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., Mw = 200.24 8.9 parts and 76 parts of dimethylacetamide as a solvent are charged and dissolved, and 10 parts of 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride (Mw = 224.17) at room temperature The solid was dividedly charged over 1 hour, and stirred at room temperature for 2 hours. 26 parts of toluene was added as an azeotropic dehydrating agent, and reaction was carried out at 130 ° C. for 3 hours, and refluxing with Dean-Stark was performed to separate azeotropically formed water. After distilling off xylene while raising the temperature to 194 ° C., the solution was cooled to obtain a dimethylacetamide solution of polyimide.

製造例2(アクリビュアのジオキサン溶液)
主鎖にラクトン環構造を有する(メタ)アクリル系樹脂として、日本触媒製アクリビュア(登録商標:「RN」)を使用した。前記アクリビュア10部をジオキサン90部と混合、撹拌することにより、アクリビュア(RN)のジオキサン溶液とした。
Preparation Example 2 (Acriva in dioxane)
As a (meth) acrylic resin having a lactone ring structure in its main chain, Acrivaa (registered trademark: "RN") manufactured by Nippon Shokuhin Co., Ltd. was used. By mixing 10 parts of the acribia with 90 parts of dioxane and stirring, a solution of acribia (RN) in dioxane was obtained.

≪塗膜の製造方法≫
実施例1(化合物3を含む樹脂組成物)
製造例1で得たポリイミドのジメチルアセトアミド溶液をジメチルアセトアミドで希釈し、濃度を8%に調整した。この溶液12.31部と合成例1で得た化合物(3)0.015部を混合し、化合物を溶解した。この溶液をろ過して不溶分等を除いた後、ガラス基板上にスピンコートし、150℃で20分間焼成し、塗膜を得た。
«Method of manufacturing coating film»
Example 1 (Resin composition containing compound 3)
The dimethylacetamide solution of the polyimide obtained in Preparation Example 1 was diluted with dimethylacetamide to adjust the concentration to 8%. 12.31 parts of this solution and 0.015 parts of the compound (3) obtained in Synthesis Example 1 were mixed to dissolve the compound. The solution was filtered to remove insolubles and the like, and then spin coated on a glass substrate and baked at 150 ° C. for 20 minutes to obtain a coated film.

実施例2(化合物3を含む樹脂組成物)
製造例2で得たアクリビュアのジオキサン溶液9.85部と、合成例1で得た化合物(3)0.015部を混合し、化合物を溶解した。この溶液をろ過して不溶分等を除いた後、ガラス基板上にスピンコートし、150℃で20分間焼成し、塗膜を得た。
Example 2 (Resin composition containing compound 3)
9.85 parts of a dioxane solution of Acruria obtained in Production Example 2 and 0.015 parts of the compound (3) obtained in Synthesis Example 1 were mixed to dissolve the compound. The solution was filtered to remove insolubles and the like, and then spin coated on a glass substrate and baked at 150 ° C. for 20 minutes to obtain a coated film.

実施例3(化合物12を含む樹脂組成物)
製造例2で得たアクリビュアのジオキサン溶液9.85部と、合成例9で得た化合物(12)0.015部を混合し、化合物を溶解した。この溶液をろ過して不溶分等を除いた後、ガラス基板上にスピンコートし、150℃で20分間焼成し、塗膜を得た。
Example 3 (Resin composition containing compound 12)
9.85 parts of a dioxane solution of Acruria obtained in Production Example 2 and 0.015 parts of the compound (12) obtained in Synthesis Example 9 were mixed to dissolve the compound. The solution was filtered to remove insolubles and the like, and then spin coated on a glass substrate and baked at 150 ° C. for 20 minutes to obtain a coated film.

比較例1
製造例1で得たポリイミドのジメチルアセトアミド溶液をジメチルアセトアミドで希釈し、濃度を8%に調整した。この溶液12.31部と下記式で表されるスクアリリウム色素0.015部を混合し、該色素を溶解した。この溶液をろ過して不溶分等を除いた後、ガラス基板上にスピンコートし、150℃で20分間焼成し、塗膜を得た。
Comparative Example 1
The dimethylacetamide solution of the polyimide obtained in Preparation Example 1 was diluted with dimethylacetamide to adjust the concentration to 8%. 12.31 parts of this solution and 0.015 parts of squarylium dye represented by the following formula were mixed to dissolve the dye. The solution was filtered to remove insolubles and the like, and then spin coated on a glass substrate and baked at 150 ° C. for 20 minutes to obtain a coated film.

比較例2
製造例1で得たポリイミドのジメチルアセトアミド溶液をジメチルアセトアミドで希釈し、濃度を8%に調整した。この溶液12.31部と下記式で表されるクロコニウム色素0.015部を混合し、色素を溶解した。この溶液をろ過して不溶分等を除いた後、ガラス基板上にスピンコートし、150℃で20分間焼成し、塗膜を得た。
Comparative example 2
The dimethylacetamide solution of the polyimide obtained in Preparation Example 1 was diluted with dimethylacetamide to adjust the concentration to 8%. 12.31 parts of this solution and 0.015 parts of croconium dye represented by the following formula were mixed to dissolve the dye. The solution was filtered to remove insolubles and the like, and then spin coated on a glass substrate and baked at 150 ° C. for 20 minutes to obtain a coated film.

耐光性試験の前後で得られるピークを測定し、それぞれの結果を図1〜図5に重ねて示す(添付チャートの実線は試験前のスペクトル、点線は試験後のスペクトルを示す)。耐光性試験の前後で得られるピークトップをそれぞれ求め、(試験前のピークトップの値−試験後のピークトップの値)を試験前のピークトップの値で除して、ピーク残存率とした。ピーク残存率の結果を以下に示す。
実施例1(図1) 44%
実施例2(図2) 72%
実施例3(図3) 92%
比較例1(図4) 2%
比較例2(図5) 56%
The peaks obtained before and after the light resistance test were measured, and the respective results are shown in FIGS. 1 to 5 (solid lines in the attached chart indicate spectra before the test and dotted lines indicate spectra after the test). The peak tops obtained before and after the light resistance test were respectively determined, and (the value of peak top before test−value of peak top after test) was divided by the value of peak top before test to obtain a peak remaining rate. The results of peak residual rate are shown below.
Example 1 (FIG. 1) 44%
Example 2 (FIG. 2) 72%
Example 3 (FIG. 3) 92%
Comparative Example 1 (FIG. 4) 2%
Comparative Example 2 (FIG. 5) 56%

実施例1〜2、比較例1の結果より、スクアリリウム骨格にピロール環が結合している化合物において、ピロール環の2個のβ位炭素に環状の置換基を導入した化合物は、そうでない化合物、すなわちメチン基を介してなる化合物に比べ、ピーク残存率が高く、耐光性に優れていることが分かった。同様に実施例3と比較例2の結果より、クロコニウム骨格を有する化合物においても、ピロール環の2個のβ位炭素に環状の置換基を導入した化合物は、耐光性に優れていることが分かった。   From the results of Examples 1 to 2 and Comparative Example 1, in the compound in which the pyrrole ring is bonded to the squarylium skeleton, the compound in which the cyclic substituent is introduced to two β-position carbons of the pyrrole ring is a compound other than That is, it was found that the peak residual ratio is higher and the light resistance is excellent as compared with the compound formed through the methine group. Similarly, from the results of Example 3 and Comparative Example 2, also in the compound having a croconium skeleton, it is found that the compound in which a cyclic substituent is introduced to two β-position carbons of the pyrrole ring is excellent in light resistance. The

本発明に係る樹脂組成物は、耐候性及び色調に優れる色素を含有しているため、可視光及び近赤外線を吸収・カットする機能を有する半導体受光素子用の光学フィルター;省エネルギー用に熱線を遮断する近赤外線吸収フィルムや近赤外線吸収板;セキュリティーインクや不可視バーコードインクとしての情報表示材料;可視光及び近赤外光を利用した太陽電池用材料;プラズマディスプレイパネル(PDP)やCCD用の特定波長吸収フィルター;レーザー溶着用の光熱変換材料;加圧や加熱による不具合の生じにくい光を利用した光定着法(フラッシュ定着法用の静電荷現像用トナー);を形成し得る材料として、好ましく用いることができる。   Since the resin composition according to the present invention contains a dye excellent in weather resistance and color tone, an optical filter for a semiconductor light receiving element having a function of absorbing and cutting visible light and near infrared rays; blocking heat rays for energy saving Near infrared ray absorbing film or near infrared ray absorbing plate; information display material as security ink or invisible bar code ink; solar cell material using visible light and near infrared light; specified for plasma display panel (PDP) or CCD Wavelength absorbing filter; Photothermal conversion material for laser welding; Photofixing method (toner for electrostatic charge development for flash fusing method) using light which hardly causes problems due to pressure or heating; be able to.

Claims (6)

スクアリリウム骨格を有し且つCHCl3中での極大吸収波長が639〜1000nmである下記式(1)で表されるオキソカーボン系化合物及び/又はクロコニウム骨格を有する下記式(2):
(式(1)及び(2)中、Ra1〜Ra4はそれぞれ独立して、下記式(3)で表される構造単位である。)
[式(3)中、Rb1〜Rb4は互いに独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルキルオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、*−CH=CH−Rc(式中、Rcは脂肪族炭化水素基、アリール基、又は複素環式置換基である)、又は*−CH=N−Rd(式中、Rdは置換基を有していてもよいアミノ基である)である。前記Rb1とRb2、Rb2とRb3、Rb3とRb4は、それぞれ、互いに結合して環を形成していてもよい。
*は結合部位を表す。
ただし、Rb1〜Rb4のうち少なくとも一つは、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、*−CH=CH−Rc(式中、Rcは前記に同じ)、又は*−CH=N−Rd(式中、Rdは前記に同じ)であるか、Rb1とRb2、Rb2とRb3、Rb3とRb4が結合している環が少なくとも1つ以上存在している。式(3)がR a1 及びR a2 を表す場合、式(3)の構造単位にはR b3 とR b4 が結合している環が存在している。]で表されるオキソカーボン系化合物と、
樹脂成分と、
ケトン類、グリコール誘導体、アミド類、エステル類、ピロリドン類、芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類及びエーテル類から選ばれる少なくとも1種以上の溶媒を含むことを特徴とする樹脂組成物。
An oxocarbon-based compound represented by the following formula (1) having a squarylium skeleton and having a maximum absorption wavelength of 639 to 1000 nm in CHCl 3 and / or a following formula (2) having a croconium skeleton:
(In the formulas (1) and (2), R a1 to R a4 are each independently a structural unit represented by the following formula (3).)
[In formula (3), R b1 to R b4 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an alkyloxycarbonyl group which may have a substituent, a substituent An aryloxycarbonyl group which may have, an acyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent, a substituent Optionally substituted aralkyl group, * -CH = CH-R c (wherein R c is an aliphatic hydrocarbon group, an aryl group, or a heterocyclic substituent), or * -CH = N -R d (wherein, R d is an amino group which may have a substituent). The R b1 and R b2 , R b2 and R b3 , and R b3 and R b4 may be combined with each other to form a ring.
* Represents a binding site.
However, at least one of R b1 to R b4 is an aryl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent, * -CH = CH-R c (wherein R c is as defined above, or * -CH = N-R d (wherein R d is as defined above), R b1 and R b2 , R b2 and R b3 , R b3 and R b4 There exist at least one or more rings to which is attached . When Formula (3) represents R a1 and R a2 , a ring in which R b3 and R b4 are bonded is present in the structural unit of Formula (3) . And an oxocarbon compound represented by
Resin component,
A resin composition comprising at least one solvent selected from ketones, glycol derivatives, amides, esters, pyrrolidones, aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons and ethers.
前記樹脂成分が、ポリ(アミド)イミド樹脂、フッ素化芳香族ポリマー、(メタ)アクリル系樹脂、ポリアミド樹脂、アラミド樹脂及びポリシクロオレフィン樹脂から選ばれる少なくとも1種以上である請求項1に記載の樹脂組成物。   The resin component is at least one selected from poly (amide) imide resin, fluorinated aromatic polymer, (meth) acrylic resin, polyamide resin, aramid resin and polycycloolefin resin. Resin composition. 前記アミド類の使用量が、樹脂組成物100質量%中、80質量%以下である請求項1又は2に記載の樹脂組成物。   The resin composition according to claim 1 or 2, wherein the amount of the amide used is 80% by mass or less in 100% by mass of the resin composition. 前記式(1)で表されるオキソカーボン系化合物のCHCl3中での極大吸収波長が651〜1000nmであり、
前記式(2)で表されるオキソカーボン系化合物のCHCl3中での極大吸収波長が700〜1200nmである請求項1〜3のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
The maximum absorption wavelength in CHCl 3 of the oxocarbon compound represented by the formula (1) is 651 to 1000 nm,
The resin composition according to any one of claims 1 to 3 , wherein the maximum absorption wavelength in CHCl3 of the oxocarbon-based compound represented by the formula (2) is 700 to 1200 nm.
請求項1〜のいずれか1項に記載の樹脂組成物からなる成形体。 The molded object which consists of a resin composition of any one of Claims 1-4 . 請求項1〜のいずれか1項に記載の樹脂組成物からなる面状成形体。 The planar molded object which consists of a resin composition of any one of Claims 1-4 .
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