JP6575123B2 - Release film and method for producing molded product - Google Patents
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Description
本発明は、離型フィルムおよび成型品の製造方法に関する。 The present invention relates to a release film and a method for producing a molded product.
離型フィルムは、一般的に、成型品を製造する際や異なる材料を貼り合わせた積層体を製造する際に使用されるものである。上記離型フィルムは、例えば、回路が露出したフレキシブルフィルム(以下、「回路露出フィルム」とも称する。)に対して、接着剤を介してカバーレイフィルム(以下、「CLフィルム」とも称する。)を加熱プレスにより接着してフレキシブルプリント回路基板(以下「FPC」とも称する)を作製する際に用いられる。具体的には、離型フィルムは、成型品や上記積層体を作製する際に、当該成型品や積層体の表面を保護する目的で使用される。そのため、離型フィルムについては、従来から以下に説明する2つの特性を向上させることが要求されてきた。第一に要求される離型フィルムの特性は、成型品や上記積層体を製造した後における当該離型フィルムの剥離しやすさ、すなわち、離型性である。第二に要求される離型フィルムの特性は、成型品や上記積層体の表面に対する当該離型フィルムの密着性、すなわち、追従性である。こうした離型フィルムにおける離型性や追従性といった特性を向上させることは、従来から、種々の検討がなされてきた。 The release film is generally used when a molded product is manufactured or a laminate in which different materials are bonded is manufactured. The release film is, for example, a coverlay film (hereinafter also referred to as “CL film”) via an adhesive with respect to a flexible film (hereinafter also referred to as “circuit exposure film”) from which a circuit is exposed. It is used when a flexible printed circuit board (hereinafter also referred to as “FPC”) is manufactured by bonding with a hot press. Specifically, the release film is used for the purpose of protecting the surface of the molded product or laminate when producing the molded product or the laminate. Therefore, it has been conventionally required for the release film to improve two characteristics described below. The characteristic of the mold release film requested | required first is the ease of peeling of the said mold release film after manufacturing a molded article or the said laminated body, ie, mold release property. The second required property of the release film is the adhesiveness of the release film to the surface of the molded product or the laminate, that is, the followability. Conventionally, various studies have been made to improve characteristics such as releasability and followability in such a release film.
離型フィルムの離型性の向上に着目した技術、追従性の向上に着目した技術として、たとえば、以下のものがある。 Examples of techniques that focus on improving the releasability of the release film and techniques that focus on improving followability include the following.
特許文献1には、表面に特定の条件を満たす凸凹が形成されたポリエステル層を有する離型フィルムが開示されている。 Patent Document 1 discloses a release film having a polyester layer in which irregularities that satisfy a specific condition are formed on the surface.
FPCは、可動配線に使用される耐屈曲性に優れた部材として知られている。近年、電子機器の小型化・軽量化に要求される技術水準は、ますます高くなっており、FPCについても耐屈曲性のさらなる向上が要求されている。これに伴い、離型フィルムの各種特性についても、要求される技術水準は、ますます高くなってきている傾向にある。こうした事情に鑑みて、本発明者は、従来の離型フィルムが、以下のような課題を有していることを見出した。 FPC is known as a member having excellent bending resistance used for movable wiring. In recent years, the technical level required for downsizing and weight reduction of electronic devices has been increased, and further improvement in flex resistance has been demanded for FPC. Accordingly, the required technical level of various properties of the release film tends to be higher. In view of such circumstances, the present inventor has found that conventional release films have the following problems.
本発明者は、従来の離型フィルムを用いてFPCを作製した場合、離型フィルムの表面に形成された凹凸形状がFPCに転写されることにより、加熱プレス時に接着剤のしみだしが増加してしまい、結果としてFPCの耐屈曲性が低下するという不都合が生じる場合あることを知見した。そこで、本発明者が、上述した不都合が生じた原因について鋭意検討したところ、離型フィルムの剛性を制御することが設計指針として有効であることを見出した。しかし、離型フィルムの剛性を制御した場合には、上述したFPCの耐屈曲性低下の問題は解消できるものの、接着剤中にボイドが発生してしまうという新たな課題を有していることが知見された。 When the present inventor made an FPC using a conventional release film, the concavo-convex shape formed on the surface of the release film was transferred to the FPC, so that the oozing of the adhesive during hot pressing increased. As a result, it has been found that there may be a disadvantage that the bending resistance of the FPC is lowered. Then, when this inventor earnestly examined the cause which the above-mentioned inconvenience produced, it discovered that controlling the rigidity of a release film was effective as a design guideline. However, when the rigidity of the release film is controlled, the above-mentioned problem of lowering the bending resistance of the FPC can be solved, but there is a new problem that voids are generated in the adhesive. It was discovered.
そこで、本発明は、離型性および追従性のバランスに優れ、かつボイドの発生を抑制しつつ耐屈曲性に優れた成型品の作製に使用可能な離型フィルム、および上記離型フィルムを使用した成型品の製造方法を提供する。 Therefore, the present invention uses a release film that has an excellent balance of releasability and followability, and that can be used to produce a molded product that has excellent bending resistance while suppressing the generation of voids, and the above release film. A method for producing a molded product is provided.
本発明者は、上記課題を達成するために鋭意研究を重ねた結果、離型面を形成する樹脂材料として、特定の大きさの無機粒子を特定量含む熱可塑性樹脂材料を使用することが、設計指針として有効であるという知見を得て、本発明を完成させた。 As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventor can use a thermoplastic resin material containing a specific amount of a specific size of inorganic particles as a resin material for forming a release surface. Obtaining knowledge that it is effective as a design guideline, the present invention has been completed.
本発明によれば、少なくとも一方の面に、熱可塑性樹脂材料を含む離型層を有する離型フィルムであって、
前記熱可塑性樹脂材料は、熱可塑性樹脂と、無機粒子とを含んでおり、
前記熱可塑性樹脂が、ポリ4−メチル1−ペンテン樹脂、シンジオタクチックポリスチレン樹脂およびポリプロピレン樹脂からなる群より選択される1種以上であり、
前記無機粒子の平均粒径d50が、5μm以上18μm以下であり、
前記離型層全量に対し、前記無機粒子を1.5重量%以上10重量%以下含む離型フィルムが提供される。
According to the present invention, a release film having a release layer containing a thermoplastic resin material on at least one surface,
The thermoplastic resin material includes a thermoplastic resin and inorganic particles,
The thermoplastic resin is at least one selected from the group consisting of poly-4-methyl 1-pentene resin, syndiotactic polystyrene resin and polypropylene resin;
The average particle diameter d50 of the inorganic particles is 5 μm or more and 18 μm or less ,
A release film containing the inorganic particles in an amount of 1.5% by weight to 10% by weight with respect to the total amount of the release layer is provided.
さらに、本発明によれば、上記離型フィルムの離型層が成型物側になるように、前記成型物上に前記離型フィルムを配置する工程と、
前記離型フィルムが配置された前記成型物に対し、加熱プレスを行う工程と、
を含み、
前記離型フィルムを配置する前記工程において、前記成型物の前記離型フィルムが配置される面が、熱硬化性樹脂を含む材料によって形成されている、成型品の製造方法が提供される。
Furthermore, according to the present invention, the step of disposing the release film on the molded product such that the release layer of the release film is on the molded product side;
A step of performing a heat press on the molded article on which the release film is disposed;
Including
In the step of arranging the release film, there is provided a method for producing a molded product, wherein a surface of the molded product on which the release film is arranged is formed of a material containing a thermosetting resin.
本発明によれば、離型性および追従性のバランスに優れ、かつボイドの発生を抑制しつつ耐屈曲性に優れた成型品の作製に使用可能な離型フィルム、および上記離型フィルムを使用した成型品の製造方法を提供できる。 According to the present invention, a release film that has an excellent balance of releasability and followability and that can be used to produce a molded product with excellent bending resistance while suppressing generation of voids, and the above release film are used. A method for producing a molded product can be provided.
<離型フィルム>
本実施形態における離型フィルムは、少なくとも一方の面に、熱可塑性樹脂材料を含む離型層を有する離型フィルムであって、上記熱可塑性樹脂材料が、熱可塑性樹脂と、無機粒子とを含んでおり、上記無機粒子の平均粒径d50が、4μm以上20μm以下であり、離型層全量に対し、上記無機粒子を0.5重量%以上10重量%以下含む構成を採用するものである。こうすることで、離型性および追従性のバランスに優れ、かつボイドの発生を抑制しつつ耐屈曲性に優れた成型品の作製に使用可能な離型フィルムを実現することができる。
<Release film>
The release film in the present embodiment is a release film having a release layer containing a thermoplastic resin material on at least one surface, and the thermoplastic resin material contains a thermoplastic resin and inorganic particles. The average particle diameter d50 of the inorganic particles is 4 μm or more and 20 μm or less, and the inorganic particle is included in an amount of 0.5 wt% or more and 10 wt% or less with respect to the total amount of the release layer. By doing so, it is possible to realize a release film that is excellent in the balance between releasability and followability, and that can be used to produce a molded product having excellent bending resistance while suppressing generation of voids.
本実施形態に係る離型フィルムにおいて、離型層とは、少なくとも当該離型フィルムを対象物上に配置した際に、対象物に接する面(以下、「離型面」とも示す。)を形成する樹脂層である。 In the release film according to the present embodiment, the release layer forms at least a surface (hereinafter, also referred to as “release surface”) that contacts the object when the release film is disposed on the object. It is a resin layer.
また、離型フィルムを配置する前の上記対象物表面は、通常、半硬化状態の熱硬化性樹脂を含む材料によって形成されている。本実施形態に係る離型フィルムは、上記半硬化状態の熱硬化性樹脂を含む材料によって形成された対象物表面上に配置して用いる。そして、対象物表面に当該離型フィルムを配置した状態で、加熱プレスを行うことで、成型品を得ることができる。 Moreover, the said target object surface before arrange | positioning a release film is normally formed of the material containing the thermosetting resin of a semi-hardened state. The release film according to the present embodiment is used by being disposed on the surface of an object formed of a material containing the semi-cured thermosetting resin. And a molded article can be obtained by performing a heat press in the state which has arrange | positioned the said release film on the target object surface.
本発明者の知見によれば、従来の離型フィルムにおいては、離型性を向上させるために離型面に凹凸が形成されているものと考えられる。しかし、離型面に凹凸が形成されている従来の離型フィルムを用いた場合、上記発明が解決しようとする課題で述べたとおり、成型品の耐屈曲性が低下するという不都合が生じることがあった。 According to the knowledge of the present inventor, in the conventional release film, it is considered that the unevenness is formed on the release surface in order to improve the release property. However, when a conventional release film having unevenness on the release surface is used, as described in the problem to be solved by the above invention, there is a disadvantage that the bending resistance of the molded product is lowered. there were.
本発明者は、離型フィルムの剛性を制御することにより、上述した不都合が発生することを抑制できることを知見したものの、成型品中にボイドが発生してしまうという新たな課題を見出した。 The present inventor has found that by controlling the rigidity of the release film, it is possible to suppress the above-described inconvenience, but has found a new problem that voids are generated in the molded product.
本実施形態に係る離型フィルムは、上述したように離型面を形成する樹脂材料として、特定の大きさの無機粒子を特定量含む熱可塑性樹脂材料を使用するものである。こうすることで、成型品の作製時にプレス圧を離型フィルムに対して均一に加えることが可能となる。そのため、離型フィルムの離型面に微細な凹凸が形成されているか否かに関わらず、成型品中にボイドが発生してしまうことを防ぐことができるものと考えられる。 As described above, the release film according to this embodiment uses a thermoplastic resin material containing a specific amount of inorganic particles having a specific size as the resin material forming the release surface. By doing so, it is possible to apply a press pressure uniformly to the release film during the production of a molded product. Therefore, it is considered that voids can be prevented from occurring in the molded product regardless of whether fine unevenness is formed on the release surface of the release film.
本実施形態に係る離型フィルムにおいて、離型層を形成するために使用する熱可塑性樹脂材料は、熱可塑性樹脂と、無機粒子とを含むものである。そして、上記無機粒子の平均粒径d50は、4μm以上20μm以下であり、かつ上記無機粒子の含有量が、離型層全量に対して、0.5重量%以上10重量%以下であるが、好ましくは、平均粒径d50が、5μm以上15μm以下であり、かつ含有量が、離型層全量に対して、2重量%以上10重量%以下である。こうすることで、離型面に微細な凹凸を付与しつつ、離型フィルムの剛性を向上させることが可能である。そのため、ボイドの発生を抑制しつつ耐屈曲性に優れた成型品の作製に有効な、離型性および追従性のバランスに優れた離型フィルムを実現することができる。ただし、本発明者は、熱可塑性樹脂とともに、単に無機粒子を含有させただけの樹脂材料を使用して離型層を形成した場合、離型フィルムの剛性を向上させることは可能であるものの、成型品中には依然としてボイドが発生してしまうことがあるという不都合が生じることも知見している。 In the release film according to the present embodiment, the thermoplastic resin material used to form the release layer includes a thermoplastic resin and inorganic particles. And the average particle diameter d50 of the said inorganic particle is 4 micrometers or more and 20 micrometers or less, and the content of the said inorganic particle is 0.5 weight% or more and 10 weight% or less with respect to the mold release layer whole quantity, Preferably, the average particle diameter d50 is 5 μm or more and 15 μm or less, and the content is 2% by weight or more and 10% by weight or less with respect to the total amount of the release layer. By doing so, it is possible to improve the rigidity of the release film while giving fine unevenness to the release surface. Therefore, it is possible to realize a release film excellent in the balance between releasability and followability, which is effective for producing a molded product having excellent bending resistance while suppressing generation of voids. However, the present inventor can improve the rigidity of the release film when the release layer is formed by using a resin material containing only inorganic particles together with the thermoplastic resin, It has also been found that there is a disadvantage that voids may still occur in the molded product.
離型層の離型面の表面10点平均粗さ(Rz)は、離型層の強度を確保しつつ安定した離型性を得る観点から、好ましくは、0.5μm以上であり、より好ましくは、0.8μm以上である。一方、表面粗さが転写されるのを抑制する観点から、離型層の離型面の表面10点平均粗さ(Rz)は、好ましくは、5.0μm以下であり、より好ましくは、4.0μm以下である。なお、表面10点平均粗さ(Rz)は、JIS−B0601−1994に準じて測定することができる。 The surface 10-point average roughness (Rz) of the release surface of the release layer is preferably 0.5 μm or more from the viewpoint of obtaining stable release properties while ensuring the strength of the release layer. Is 0.8 μm or more. On the other hand, from the viewpoint of suppressing the transfer of the surface roughness, the surface 10-point average roughness (Rz) of the release surface of the release layer is preferably 5.0 μm or less, more preferably 4 μm. 0.0 μm or less. The surface 10-point average roughness (Rz) can be measured according to JIS-B0601-1994.
離型層の離型面の凹凸の平均間隔(Sm)は、離型層の強度を確保しつつ安定した離型性を得る観点から、好ましくは、180μm以上であり、より好ましくは、195μm以上である。一方、表面粗さが転写されるのを抑制する観点から、凹凸の平均間隔(Sm)は、好ましくは、450μm以下であり、より好ましくは、345μm以下である。なお、凹凸の平均間隔(Sm)は、JIS−B0601−1994に準じて測定することができる。なお、本実施形態に係る凹凸の平均間隔(Sm)は、離型フィルムが対象物に配置された際に、離型フィルムにおける対象物側にあたる面(離型面)の数値を指す。 The average spacing (Sm) of the unevenness of the release surface of the release layer is preferably 180 μm or more, more preferably 195 μm or more, from the viewpoint of obtaining stable release properties while ensuring the strength of the release layer. It is. On the other hand, from the viewpoint of suppressing the transfer of the surface roughness, the average interval (Sm) of the unevenness is preferably 450 μm or less, more preferably 345 μm or less. In addition, the average space | interval (Sm) of an unevenness | corrugation can be measured according to JIS-B0601-1994. In addition, the average space | interval (Sm) of the unevenness | corrugation which concerns on this embodiment points out the numerical value of the surface (release surface) which hits the target object side in a release film, when a release film is arrange | positioned at a target object.
離型層の離型面の算術平均粗さ(Ra)は、離型層の強度を確保しつつ安定した離型性を得る観点から、好ましくは、0.08μm以上であり、より好ましくは、0.14μm以上である。一方、表面粗さが転写されるのを抑制する観点から、算術平均粗さ(Ra)は、好ましくは、1μm以下であり、より好ましくは、0.78μm以下である。なお、算術平均粗さ(Ra)は、JIS−B0601−1994に準じて測定することができる。なお、本実施形態に係る算術平均粗さ(Ra)は、離型フィルムが対象物に配置された際に、離型フィルムにおける対象物側にあたる面(離型面)の数値を指す。 The arithmetic average roughness (Ra) of the release surface of the release layer is preferably 0.08 μm or more, more preferably from the viewpoint of obtaining stable release properties while ensuring the strength of the release layer. It is 0.14 μm or more. On the other hand, from the viewpoint of suppressing the transfer of the surface roughness, the arithmetic average roughness (Ra) is preferably 1 μm or less, and more preferably 0.78 μm or less. In addition, arithmetic mean roughness (Ra) can be measured according to JIS-B0601-1994. In addition, arithmetic mean roughness (Ra) which concerns on this embodiment points out the numerical value of the surface (release surface) which hits the target object side in a release film, when a release film is arrange | positioned at a target object.
離型層の離型面の剥離強度は、低いほど好ましいが、好ましくは、5N/50mm以下であり、より好ましくは、3N/50mm以下である。上記剥離強度は、たとえば、以下の方法で測定することができる。まず、カバーレイフィルムが接着剤を介して仮止めされた回路露出フィルムに対して、離型フィルムの離型面が、上述した回路露出フィルムにおける上記カバーレイフィルムを配した面と対向するように貼り合わせ、195℃、6MPaの圧力で、2分間の熱プレスを行うことにより、試験片を作製する。その後、得られた試験片の離型フィルムを、引張試験機を用いて、180°方向に約50mm/秒の速度で応力を加えて剥離することにより、離型面の剥離強度を測定する。なお、上述した剥離試験は、熱プレス処理を施した直後に実施することが好ましい。 The peel strength of the release surface of the release layer is preferably as low as possible, but is preferably 5 N / 50 mm or less, and more preferably 3 N / 50 mm or less. The peel strength can be measured, for example, by the following method. First, with respect to the circuit exposure film in which the cover lay film is temporarily fixed via an adhesive, the release surface of the release film is opposed to the surface of the circuit exposure film on which the cover lay film is disposed. A test piece is prepared by performing hot pressing for 2 minutes at 195 ° C. and a pressure of 6 MPa. Thereafter, the release film of the obtained test piece is peeled off by applying stress at a rate of about 50 mm / second in the 180 ° direction using a tensile tester, thereby measuring the peel strength of the release surface. In addition, it is preferable to implement the peeling test mentioned above immediately after giving a hot press process.
本実施形態に係る離型フィルムの厚みは、好ましくは、50μm以上150μm以下であり、さらに好ましくは、75μm以上150μm以下であり、最も好ましくは、100μm以上150μm以下である。こうすることで、成型品の作製時にプレス圧を離型フィルムに対してより一層均一に印加することが可能となり、離型フィルムの離型面に微細な凹凸が形成されているか否かに関わらず、成型品中にボイドが発生してしまうことをより一層高度に抑制することができる。 The thickness of the release film according to this embodiment is preferably 50 μm or more and 150 μm or less, more preferably 75 μm or more and 150 μm or less, and most preferably 100 μm or more and 150 μm or less. This makes it possible to apply the press pressure to the release film more uniformly during the production of the molded product, regardless of whether fine unevenness is formed on the release surface of the release film. Therefore, the occurrence of voids in the molded product can be further suppressed to a high degree.
離型層は、熱可塑性樹脂と無機粒子とを含む熱可塑性樹脂材料を含む。この熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂(PET)、ポリブチレンテレフタレート樹脂(PBT)、ポリトリメチレンテレフタレート樹脂(PTT)、ポリヘキサメチレンテレフタレート樹脂(PHT)等のポリアルキレンテレフタレート樹脂、ポリ4−メチル1−ペンテン樹脂(TPX:以下、ポリメチルペンテン樹脂と示す。)、シンジオタクチックポリスチレン樹脂(SPS)、ポリプロピレン樹脂(PP)及び他の成分を共重合した共重合体樹脂が挙げられる。これらは、1種または2種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、離型性と追従性のバランスを向上させる観点から、ポリメチルペンテン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、シンジオタクチックポリスチレン樹脂およびポリプロピレン樹脂からなる群より選択される1種以上を用いることが好ましい。 The release layer includes a thermoplastic resin material including a thermoplastic resin and inorganic particles. Examples of the thermoplastic resin include polyalkylene terephthalate resins such as polyethylene terephthalate resin (PET), polybutylene terephthalate resin (PBT), polytrimethylene terephthalate resin (PTT), polyhexamethylene terephthalate resin (PHT), and poly-4. -Methyl 1-pentene resin (TPX: hereinafter referred to as polymethylpentene resin), syndiotactic polystyrene resin (SPS), polypropylene resin (PP), and a copolymer resin obtained by copolymerizing other components. These may be used alone or in combination of two or more. Especially, it is preferable to use 1 or more types selected from the group which consists of a polymethylpentene resin, a polybutylene terephthalate resin, a syndiotactic polystyrene resin, and a polypropylene resin from a viewpoint of improving the balance of mold release property and followable | trackability.
離型層は、熱可塑性樹脂と無機粒子とを含む熱可塑性樹脂材料を含む。この無機粒子の具体例としては、無機粒子としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、アルミナ、窒化アルミニウム、ほう酸アルミウイスカ、窒化ホウ素、結晶性シリカ、非晶性シリカ、アンチモン酸化物、Eガラス、Dガラス、Sガラスなどが挙げられる。これらは、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。無機粒子は、樹脂との密着性を向上させる目的でシランカップリング剤など用いて表面処理を行ってもよいし、分散性を向上させる目的で無機粒子に有機被膜処理を行ったコアシェル型粒子を用いてもよい。離型フィルムの剛性を向上させる観点から、ガラスビーズ、結晶性シリカが好ましい。 The release layer includes a thermoplastic resin material including a thermoplastic resin and inorganic particles. Specific examples of the inorganic particles include aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, calcium oxide, magnesium oxide, alumina, aluminum nitride, and aluminum borate whisker. Boron nitride, crystalline silica, amorphous silica, antimony oxide, E glass, D glass, S glass and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Inorganic particles may be surface-treated with a silane coupling agent or the like for the purpose of improving adhesion to the resin, or core-shell type particles obtained by subjecting inorganic particles to organic coating treatment for the purpose of improving dispersibility. It may be used. From the viewpoint of improving the rigidity of the release film, glass beads and crystalline silica are preferable.
無機粒子は、ボイドを低減する観点から、JIS標準篩を用いて篩分により測定した粒度分布における、上記無機粒子全体に対する3μm未満の小粒子の割合が、好ましくは、0.1%以下であり、さらに好ましくは、0.08%以下である。 From the viewpoint of reducing voids, the proportion of small particles of less than 3 μm with respect to the whole inorganic particles in the particle size distribution measured by sieving using a JIS standard sieve is preferably 0.1% or less. More preferably, it is 0.08% or less.
無機粒子は、当該無機粒子について、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定される累積頻度が90%となる粒子径d90が、好ましくは、3μm以上20μm以下であり、さらに好ましくは、5μm以上20μm以下である.こうすることで、成型品の作製時にプレス圧を離型フィルムに対してより一層均一に印加することが可能となり、離型フィルムの離型面に微細な凹凸が形成されているか否かに関わらず、成型品中にボイドが発生してしまうことをより一層高度に抑制することができる。 The inorganic particle has a particle diameter d90 with a cumulative frequency of 90% measured with a laser diffraction particle size distribution measuring device for the inorganic particle, preferably 3 μm or more and 20 μm or less, more preferably 5 μm or more. 20 μm or less. This makes it possible to apply the press pressure to the release film more uniformly during the production of the molded product, regardless of whether fine unevenness is formed on the release surface of the release film. Therefore, the occurrence of voids in the molded product can be further suppressed to a high degree.
本実施形態に係る熱可塑性樹脂材料には、熱可塑性樹脂の他に、酸化防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、帯電防止剤、染料および顔料等着色剤、安定剤等の添加剤、フッ素樹脂、シリコンゴム等の耐衝撃性付与剤、酸化チタン、炭酸カルシウム、タルク等の無機充填剤を含有させてもよい。 The thermoplastic resin material according to the present embodiment includes, in addition to thermoplastic resins, antioxidants, slip agents, antiblocking agents, antistatic agents, coloring agents such as dyes and pigments, additives such as stabilizers, fluororesins Further, an impact resistance imparting agent such as silicon rubber, and an inorganic filler such as titanium oxide, calcium carbonate, and talc may be contained.
離型層の厚みは、成型品に対する埋め込み性を向上させる観点から、好ましくは、5μm以上であり、より好ましくは、10μm以上である。一方、適度な強度を得る観点から、離型層の厚みは、好ましくは、100μm以下であり、より好ましくは、50μm以下であり、最も好ましくは、30μm以下である。 The thickness of the release layer is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, from the viewpoint of improving the embedding property to the molded product. On the other hand, from the viewpoint of obtaining an appropriate strength, the thickness of the release layer is preferably 100 μm or less, more preferably 50 μm or less, and most preferably 30 μm or less.
離型フィルムの離型層を構成する樹脂の固有粘度は、成膜性を良好にできる観点から、好ましくは、0.3dl/g以上であり、より好ましくは、0.5dl/g以上である。一方、離型層を構成する樹脂の固有粘度は、離型フィルム製造時の負荷を軽減する観点から、好ましくは、2.5dl/g以下であり、より好ましくは、2.0dl/g以下であり、最も好ましくは、1.5dl/g以下である。 The intrinsic viscosity of the resin constituting the release layer of the release film is preferably 0.3 dl / g or more, more preferably 0.5 dl / g or more, from the viewpoint of improving the film formability. . On the other hand, the intrinsic viscosity of the resin constituting the release layer is preferably 2.5 dl / g or less, more preferably 2.0 dl / g or less, from the viewpoint of reducing the load during the production of the release film. Yes, most preferably 1.5 dl / g or less.
離型フィルムの離型層を構成する樹脂の酸価は、剥離性、追従性のバランスを良好にする観点から、好ましくは、1以上であり、より好ましくは、3以上である。一方、離型層を構成する樹脂の酸価は、耐熱性、成膜性の観点から、好ましくは、40以下であり、より好ましくは、30以下であり、最も好ましくは、25以下である。なお、本実施形態における酸価は、JIS K0070(1992年式)に準じた値を指す。 The acid value of the resin constituting the release layer of the release film is preferably 1 or more, more preferably 3 or more, from the viewpoint of improving the balance between peelability and followability. On the other hand, the acid value of the resin constituting the release layer is preferably 40 or less, more preferably 30 or less, and most preferably 25 or less, from the viewpoints of heat resistance and film formability. In addition, the acid value in this embodiment points out the value according to JISK0070 (1992 formula).
本実施形態における離型フィルムは、少なくとも一方の面に、熱可塑性樹脂材料を含む離型層を有するものであればよいが、離型層と、上記離型層とは異なる他の層とを含む多層構造を形成しているものであることが好ましい。具体的には、離型フィルムは、用途によっては、当該離型フィルムの両面に熱可塑性樹脂材料を含む離型層を有するものとしてもよい。また、離型フィルムは、離型層に接するクッション層をさらに有していてもよい。また、離型フィルムは、離型層、クッション層、及び副離型層の順で積層した三層構造としてもよい。このような副離型層を含めることにより、プレス機で熱プレスされた際に、熱板からの離型性が向上し、成形体や積層体の製造における生産性を向上させることができる。複数の離型層は、熱可塑性樹脂材料を含む材料であれば、同じ材料から形成されたものであってもよく、異なる材料から形成されたものであってもよい。また、複数の離型層は、互いに異なる厚みであってもよい。 The release film in the present embodiment may have a release layer containing a thermoplastic resin material on at least one surface, but the release layer and another layer different from the release layer are provided. It is preferable to form a multilayer structure including the same. Specifically, the release film may have a release layer containing a thermoplastic resin material on both sides of the release film depending on the application. Moreover, the release film may further have a cushion layer in contact with the release layer. The release film may have a three-layer structure in which a release layer, a cushion layer, and a sub-release layer are laminated in this order. By including such a sub-release layer, when it is hot-pressed with a press, the release property from the hot plate is improved, and the productivity in the production of a molded body and a laminate can be improved. The plurality of release layers may be formed from the same material or may be formed from different materials as long as the material includes a thermoplastic resin material. Further, the plurality of release layers may have different thicknesses.
副離型層の離型面の表面10点平均粗さ(Rz)は、副離型層の強度を確保しつつ安定した離型性を得る観点から、好ましくは、0.5μm以上であり、より好ましくは、0.8μm以上である。一方、表面粗さが転写されるのを抑制する観点から、副離型層の離型面の表面10点平均粗さ(Rz)は、好ましくは、5.0μm以下であり、より好ましくは、4.0μm以下である。なお、表面10点平均粗さ(Rz)は、JIS−B0601−1994に準じて測定することができる。また、上記表面10点平均粗さ(Rz)は、離型フィルムが対象物に配置された際に、離型フィルムにおける対象物側とは反対側の面(離型面)の数値を指す。 The surface 10-point average roughness (Rz) of the release surface of the sub-release layer is preferably 0.5 μm or more from the viewpoint of obtaining stable release properties while ensuring the strength of the sub-release layer. More preferably, it is 0.8 μm or more. On the other hand, from the viewpoint of suppressing the transfer of the surface roughness, the surface 10-point average roughness (Rz) of the release surface of the sub-release layer is preferably 5.0 μm or less, more preferably, 4.0 μm or less. The surface 10-point average roughness (Rz) can be measured according to JIS-B0601-1994. Moreover, the said surface 10-point average roughness (Rz) points out the numerical value of the surface (release surface) on the opposite side to the target object side in a release film, when a release film is arrange | positioned at a target object.
クッション層は、柔軟性を有する樹脂が用いられることにより、離型フィルム全体にクッション性を付与するものである。これにより、離型フィルム使用時において、被着体に対して、プレス熱板からの熱及び圧力が均等に伝わりやすくなり、離型フィルムと被着体との密着性及び追従性をさらに良好にできる。 The cushion layer imparts cushioning properties to the entire release film by using a resin having flexibility. As a result, when the release film is used, heat and pressure from the press hot plate are easily transmitted to the adherend, and the adhesion and followability between the release film and the adherend are further improved. it can.
クッション層を形成する樹脂材料としては、ポリエチレン、ポリプロプレン等のα−オレフィン系重合体、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、メチルペンテン等を重合体成分として有するα−オレフィン系共重合体、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド等のエンジニアリングプラスチックス系樹脂が挙げられる。これらは、単独であるいは複数併用しても構わない。中でも、α−オレフィン系共重合体が好ましい。このα−オレフィン系共重合体としては、エチレン等のα−オレフィンと(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体、エチレンと(メタ)アクリル酸との共重合体、およびそれらの部分イオン架橋物等が挙げられる。さらに、良好なクッション機能を得る観点から、エチレン等のα−オレフィン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体を単独で用いたもの、または、ポリブチレンテレフタレートと1,4シクロヘキサンジメタノール共重合ポリエチレンテレフタレートとの混合物、α−オレフィン系重合体とエチレン等のα−オレフィン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体との混合物が好ましい。たとえば、エチレンとエチレン−メチルメタクリレート共重合体(EMMA)との混合物、ポリプロピレン(PP)とエチレン−メチルメタクリレート共重合体(EMMA)との混合物、ポリブチレンテレフタレート(PBT)とポリプロピレン(PP)とエチレン−メチルメタクリレート共重合体(EMMA)との混合物、などがより好ましい。 As a resin material for forming the cushion layer, an α-olefin polymer such as polyethylene and polypropylene, an α-olefin copolymer having ethylene, propylene, butene, pentene, hexene, methylpentene and the like as a polymer component, Engineering plastics resins such as polyethersulfone and polyphenylene sulfide are listed. These may be used alone or in combination. Of these, α-olefin copolymers are preferred. Examples of the α-olefin copolymer include a copolymer of an α-olefin such as ethylene and a (meth) acrylic acid ester, a copolymer of ethylene and vinyl acetate, and a copolymer of ethylene and (meth) acrylic acid. Examples thereof include polymers and partially ion cross-linked products thereof. Furthermore, from the viewpoint of obtaining a good cushion function, an α-olefin- (meth) acrylic acid ester copolymer such as ethylene alone, or polybutylene terephthalate and 1,4 cyclohexanedimethanol copolymer polyethylene terephthalate And a mixture of an α-olefin polymer and an α-olefin- (meth) acrylate copolymer such as ethylene. For example, a mixture of ethylene and ethylene-methyl methacrylate copolymer (EMMA), a mixture of polypropylene (PP) and ethylene-methyl methacrylate copolymer (EMMA), polybutylene terephthalate (PBT), polypropylene (PP) and ethylene -A mixture with a methyl methacrylate copolymer (EMMA) is more preferable.
クッション層は、さらにゴム成分を含んでもよい。ゴム成分としては、例えば、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体等のスチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー、アミド系エラストマー、ポリエステル系エラストマー等の熱可塑性エラストマー材料、天然ゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、シリコンゴム等のゴム材料等が挙げられる。 The cushion layer may further contain a rubber component. Examples of the rubber component include thermoplastic elastomer materials such as styrene-based thermoplastic elastomers such as styrene-butadiene copolymer and styrene-isoprene copolymer, olefin-based thermoplastic elastomers, amide-based elastomers, and polyester-based elastomers, and natural rubber. And rubber materials such as isoprene rubber, chloroprene rubber and silicon rubber.
クッション層には、酸化防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、帯電防止剤、染料および顔料等の着色剤、安定剤等の添加剤、フッ素樹脂、シリコンゴム等の耐衝撃性付与剤、酸化チタン、炭酸カルシウム、タルク等の無機充填剤を含有させてもよい。 For the cushion layer, antioxidants, slip agents, anti-blocking agents, antistatic agents, coloring agents such as dyes and pigments, additives such as stabilizers, impact resistance imparting agents such as fluororesin and silicon rubber, titanium oxide Inorganic fillers such as calcium carbonate and talc may be included.
なお、クッション層を形成する方法としては、例えば、空冷または水冷インフレーション押出法、Tダイ押出法等の公知の方法が挙げられる。 In addition, as a method of forming a cushion layer, well-known methods, such as an air cooling or a water cooling inflation extrusion method and a T-die extrusion method, are mentioned, for example.
クッション層の厚さは、好ましくは、10μm以上100μm以下であり、より好ましくは、20μm以上90μm以下であり、最も好ましくは、30μm以上70μm以下である。クッション層の厚さが上記下限値以上である場合には、離型フィルムのクッション性が低下することを抑制できる。クッション層の厚さが上記上限値以下である場合には、離型性の低下を抑制することができる。 The thickness of the cushion layer is preferably 10 μm or more and 100 μm or less, more preferably 20 μm or more and 90 μm or less, and most preferably 30 μm or more and 70 μm or less. When the thickness of the cushion layer is equal to or more than the above lower limit value, it is possible to suppress a decrease in the cushioning property of the release film. When the thickness of the cushion layer is equal to or less than the above upper limit value, it is possible to suppress a decrease in releasability.
また、離型フィルムは、接着層、ガスバリア層等を有する4層、5層等の4層以上の構成であってもよい。この場合、接着層、ガスバリア層としては、特に限定されず、公知のものを用いることができる。
<離型フィルムの製造方法>
本実施形態における離型フィルムは、共押出法、押出ラミネート法、ドライラミネート法、インフレーション法等公知の方法を用いて作製することができる。また、離型フィルムが多層構造の場合、離型層、クッション層の各層を、別々に製造してからラミネーター等により接合してもよいが、空冷式または水冷式共押出インフレーション法、共押出Tダイ法で成膜することが好ましい。なかでも、共押出Tダイ法で成膜する方法が各層の厚さ制御に優れる点で特に好ましい。また、離型層と、クッション層とをそのまま接合してもよいし、接着層を介して接合してもよい。
<成型品の製造方法>
次に、本実施形態の成型品の製造方法について説明する。
Further, the release film may have a configuration of four or more layers such as four layers and five layers having an adhesive layer, a gas barrier layer and the like. In this case, the adhesive layer and the gas barrier layer are not particularly limited, and known ones can be used.
<Method for producing release film>
The release film in the present embodiment can be produced using a known method such as a co-extrusion method, an extrusion lamination method, a dry lamination method, or an inflation method. In addition, when the release film has a multilayer structure, the release layer and the cushion layer may be manufactured separately and then joined by a laminator or the like, but the air-cooled or water-cooled coextrusion inflation method, coextrusion T It is preferable to form a film by a die method. Among these, a method of forming a film by a coextrusion T-die method is particularly preferable because it is excellent in controlling the thickness of each layer. Further, the release layer and the cushion layer may be joined as they are, or may be joined via an adhesive layer.
<Method of manufacturing molded product>
Next, the manufacturing method of the molded product of this embodiment is demonstrated.
本実施形態の成型品の製造方法は、上述した離型フィルムを使用するものである。そして、本実施形態の成型品の製造方法は、たとえば、フレキシブルプリント回路基板を作製する際に使用してもよい。この場合、離型フィルムは、フレキシブルフィルム上に形成された回路を保護するため、当該回路に対してカバーレイフィルムを加熱プレスして密着させる際に、カバーレイとプレス機との間に介在させて使用する。 The manufacturing method of the molded product of this embodiment uses the release film mentioned above. And the manufacturing method of the molded article of this embodiment may be used when producing a flexible printed circuit board, for example. In this case, in order to protect the circuit formed on the flexible film, the release film is interposed between the coverlay and the pressing machine when the coverlay film is heated and pressed against the circuit. To use.
具体的には、離型フィルムは、例えば、フレキシブルプリント配線基板の製造工程の一つであるカバーレイプレスラミネート工程において用いられる。より詳細には、離型フィルムは、回路露出フィルムへのカバーレイフィルム接着時にカバーレイフィルムを回路パターンの凹凸部に密着させるためにカバーレイフィルムを包むように配置され、回路露出フィルム及びカバーレイフィルムと共にプレス機により加熱加圧される。この時、クッション性の向上のために、紙、ゴム、フッ素樹脂シート、ガラスペーパー等、またはこれらを組合せたものを離型フィルムとプレス機の間に挿入した上で加熱加圧することもできる。 Specifically, the release film is used, for example, in a cover lay press laminating process which is one of the manufacturing processes of a flexible printed wiring board. More specifically, the release film is disposed so as to wrap the coverlay film so that the coverlay film adheres to the concavo-convex portion of the circuit pattern when the coverlay film is adhered to the circuit exposed film. At the same time, it is heated and pressurized by a press. At this time, in order to improve cushioning properties, paper, rubber, fluororesin sheet, glass paper, or the like, or a combination of these may be inserted between the release film and the press machine and then heated and pressed.
また、本実施形態の離型フィルムは、以下の方法で使用してもよい。 Moreover, you may use the release film of this embodiment with the following method.
まず、熱硬化性樹脂を含む材料によって形成されている対象物の表面に対して、上記本実施形態に係る離型フィルムの離型層における離型面を配置する。そして、離型フィルムを配置した対象物に対し、金型内でプレス処理を行う。ここで、上述した熱硬化性樹脂は、半硬化状態であっても、硬化状態であってもよいが、半硬化状態であると、当該離型フィルムの作用効果が一層顕著なものとなる。特に、熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂を含む樹脂組成物である場合には、当該エポキシ樹脂が、硬化反応の中間の段階にあること、すなわち、Bステージ状態にあることが好ましい。 First, the mold release surface in the mold release layer of the mold release film according to the present embodiment is arranged on the surface of an object formed of a material containing a thermosetting resin. And it press-processes in the metal mold | die with respect to the target object which has arrange | positioned the release film. Here, the thermosetting resin described above may be in a semi-cured state or a cured state. However, when the thermosetting resin is in a semi-cured state, the effect of the release film becomes more remarkable. In particular, when the thermosetting resin is a resin composition containing an epoxy resin, the epoxy resin is preferably in an intermediate stage of the curing reaction, that is, in a B-stage state.
以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
以下、本発明の参考形態の一例を示す。
<1>
少なくとも一方の面に、熱可塑性樹脂材料を含む離型層を有する離型フィルムであって、
前記熱可塑性樹脂材料は、熱可塑性樹脂と、無機粒子とを含んでおり、
前記無機粒子の平均粒径d50が、4μm以上20μm以下であり、
前記離型層全量に対し、前記無機粒子を0.5重量%以上10重量%以下含む、離型フィルム。
<2>
当該離型フィルムにおいて前記離型層の離型面の表面粗さが、表面10点平均粗さRzで0.5μm以上5.0μm以下である、<1>に記載の離型フィルム。
<3>
当該離型フィルムの厚みが、50μm以上150μm以下である、<1>または<2>に記載の離型フィルム。
<4>
前記熱可塑性樹脂が、ポリ4−メチル1−ペンテン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、シンジオタクチックポリスチレン樹脂およびポリプロピレン樹脂からなる群より選択される1種以上である、<1>乃至<3>のいずれか一つに記載の離型フィルム。
<5>
前記離型層、クッション層、及び副離型層の順に積層した三層構造を有している、<1>乃至<4>のいずれか一つに記載の離型フィルム。
<6>
当該離型フィルムにおける前記副離型層の離型面の表面粗さが、表面10点平均粗さRzで0.5μm以上5μm以下である、<5>に記載の離型フィルム。
<7>
半硬化状態の熱硬化性樹脂を含む材料によって形成された成型物の表面に、前記離型層の表面を重ねて用いられる、<1>乃至<6>のいずれか一つに記載の離型フィルム。
<8>
前記熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂を含む<7>に記載の離型フィルム。
<9>
<1>乃至<8>のいずれか一つに記載の離型フィルムの離型層が対象物側になるように、前記対象物上に前記離型フィルムを配置する工程と、
前記離型フィルムが配置された前記対象物に対し、加熱プレスを行う工程と、
を含み、
前記離型フィルムを配置する前記工程において、前記対象物の前記離型フィルムが配置される面が、熱硬化性樹脂を含む材料によって形成されている、成型品の製造方法。
<10>
当該成型品がフレキシブルプリント回路基板である、<9>に記載の成型品の製造方法。
As mentioned above, although embodiment of this invention was described, these are illustrations of this invention and various structures other than the above are also employable.
Hereinafter, an example of a reference form of the present invention will be shown.
<1>
A release film having a release layer containing a thermoplastic resin material on at least one surface,
The thermoplastic resin material includes a thermoplastic resin and inorganic particles,
The average particle diameter d50 of the inorganic particles is 4 μm or more and 20 μm or less,
A release film containing the inorganic particles in an amount of 0.5 wt% to 10 wt% with respect to the total amount of the release layer.
<2>
The release film according to <1>, wherein in the release film, the surface roughness of the release surface of the release layer is 0.5 μm or more and 5.0 μm or less in terms of the surface 10-point average roughness Rz.
<3>
The release film according to <1> or <2>, wherein the release film has a thickness of 50 μm or more and 150 μm or less.
<4>
Any of <1> to <3>, wherein the thermoplastic resin is at least one selected from the group consisting of poly-4-methyl 1-pentene resin, polybutylene terephthalate resin, syndiotactic polystyrene resin and polypropylene resin. The release film as described in any one.
<5>
The release film according to any one of <1> to <4>, which has a three-layer structure in which the release layer, the cushion layer, and the sub-release layer are stacked in this order.
<6>
The release film according to <5>, wherein the surface roughness of the release surface of the sub-release layer in the release film is 0.5 μm or more and 5 μm or less in terms of 10-point surface average roughness Rz.
<7>
The mold release according to any one of <1> to <6>, wherein the surface of the mold release layer is used on the surface of a molding formed of a material containing a semi-cured thermosetting resin. the film.
<8>
The release film according to <7>, wherein the thermosetting resin includes an epoxy resin.
<9>
<1> thru | or the process of arrange | positioning the said release film on the said object so that the release layer of the release film as described in any one of <8> may become an object side,
A step of performing a heat press on the object on which the release film is disposed;
Including
In the step of disposing the release film, the surface of the object on which the release film is disposed is formed of a material containing a thermosetting resin.
<10>
The method for producing a molded product according to <9>, wherein the molded product is a flexible printed circuit board.
以下、本発明を実施例および比較例により説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
<実施例1>
ポリメチルペンテン樹脂(TPX(登録商標))(三井化学社製、TPX DX820)とガラスビーズ(ボッターズ・バロティーニ製、EMB−20)からなる樹脂材料を用いて、押出Tダイ法にてTPXフィルムを製膜して離型層を得た。ここで、離型層の作製に使用したガラスビーズの平均粒径d50は、10μmであり、かつ粒子径d90は、15μmであった。また、上記離型層の作製に使用した上記樹脂材料は、離型層全量に対する上記ガラスビーズの含有量が5重量%となるように上記TPXと配合したものを用いた。
Hereinafter, although an example and a comparative example explain the present invention, the present invention is not limited to these.
<Example 1>
Using a resin material consisting of polymethylpentene resin (TPX (registered trademark)) (manufactured by Mitsui Chemicals, TPX DX820) and glass beads (manufactured by Botters Ballotini, EMB-20), a TPX film is formed by an extrusion T-die method. A release layer was obtained by film formation. Here, the average particle diameter d50 of the glass beads used for producing the release layer was 10 μm, and the particle diameter d90 was 15 μm. Further, the resin material used for the production of the release layer was prepared by blending with the TPX so that the content of the glass beads with respect to the total amount of the release layer was 5% by weight.
上記離型層と、TPX、ポリプロピレン(サンアロマ―社製、PB270A)、変性ポリエチレン(エチレン−メチルメタクリレート共重合体(住友化学社製、WH102)からなるクッション層(配合比率:TPX:ポリプロピレン:エチレン−メチルメタクリレート共重合体:=50:30:20)およびTPXからなる副離型層をこの順で押出Tダイ法により積層し、3層からなる離型フィルムを製造した。 Cushion layer (compounding ratio: TPX: polypropylene: ethylene) composed of the release layer, TPX, polypropylene (manufactured by Sun Aroma, PB270A), and modified polyethylene (ethylene-methyl methacrylate copolymer (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., WH102)). -Methyl methacrylate copolymer: = 50: 30: 20) and a sub-release layer composed of TPX were laminated in this order by an extrusion T-die method to produce a release film consisting of three layers.
また、得られた離型フィルムの各層の厚さは、離型層、第2の離型層はいずれも30μm、クッション層は40μmであった。
<実施例2>
離型層全量に対するガラスビーズの含有量が2重量%となるようにポリメチルペンテン樹脂(TPX(登録商標))(三井化学社製、TPX DX820)と配合した樹脂材料を用いて離型層を作製した点、離型層の厚さを25μmとした点以外は、実施例1と同様にして離型フィルムを得た。
<実施例3>
平均粒径d50が18μmであり、かつ粒子径d90が27μmのガラスビーズ(ボッターズ・バロティーニ製、EGB−210)の含有量が離型層全量に対して1.5重量%となるようにポリメチルペンテン樹脂(TPX(登録商標))(三井化学社製、TPX DX820)と配合した樹脂材料を用いて離型層を作製した点、クッション層の厚さを60μmとした点以外は、実施例1と同様にして離型フィルムを得た。
<実施例4>
離型層全量に対するガラスビーズの含有量が10重量%となるようにポリメチルペンテン樹脂(TPX(登録商標))(三井化学社製、TPX DX820)と配合した樹脂材料を用いて離型層を作製した点、クッション層の厚さを90μmとした点以外は、実施例1と同様にして離型フィルムを得た。
The thickness of each layer of the obtained release film was 30 μm for the release layer and the second release layer, and 40 μm for the cushion layer.
<Example 2>
Using a resin material blended with polymethylpentene resin (TPX (registered trademark)) (manufactured by Mitsui Chemicals, TPX DX820) so that the content of the glass beads with respect to the total amount of the release layer is 2% by weight, the release layer is formed. A release film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the produced point and the thickness of the release layer were 25 μm.
<Example 3>
Polymethyl so that the content of glass beads having an average particle diameter d50 of 18 μm and a particle diameter d90 of 27 μm (manufactured by Botters Ballotini, EGB-210) is 1.5% by weight with respect to the total amount of the release layer. Example 1 except that a release layer was prepared using a resin material blended with pentene resin (TPX (registered trademark)) (manufactured by Mitsui Chemicals, TPX DX820), and the thickness of the cushion layer was 60 μm. In the same manner, a release film was obtained.
<Example 4>
Using a resin material blended with polymethylpentene resin (TPX (registered trademark)) (manufactured by Mitsui Chemicals, TPX DX820) so that the content of glass beads with respect to the total amount of the release layer is 10% by weight, the release layer is formed. A release film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the cushion layer was 90 μm.
<実施例5>
平均粒径d50が5μmであり、かつ粒子径d90が8μmの炭酸カルシウム(丸東製、BF−200)の含有量が離型層全量に対して5重量%となるようにポリメチルペンテン樹脂(TPX(登録商標))(三井化学社製、TPX DX820)と配合した樹脂材料を用いて離型層を作製した点以外は、実施例1と同様にして離型フィルムを得た。
<Example 5>
The polymethylpentene resin (so that the content of calcium carbonate (manufactured by Maruto, BF-200) having an average particle diameter d50 of 5 μm and a particle diameter d90 of 8 μm is 5% by weight with respect to the total amount of the release layer ( A release film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a release layer was prepared using a resin material blended with TPX (registered trademark) (manufactured by Mitsui Chemicals, TPX DX820).
<実施例6>
平均粒径d50が5μmであり、かつ粒子径d90が13μmの球状アルミナ(電気化学工業製、DAM−05)の含有量が離型層全量に対して5重量%となるようにポリメチルペンテン樹脂(TPX(登録商標))(三井化学社製、TPX DX820)と配合した樹脂材料を用いて離型層を作製した点以外は、実施例1と同様にして離型フィルムを得た。
<実施例7>
平均粒径d50が13μmであり、かつ粒子径d90が65μmの結晶シリカ(龍森製、NX−7)の含有量が離型層全量に対して5重量%となるようにポリメチルペンテン樹脂(TPX(登録商標))(三井化学社製、TPX DX820)と配合した樹脂材料を用いて離型層を作製した点以外は、実施例1と同様にして離型フィルムを得た。
<実施例8>
ポリブチレンテレフタレート樹脂(PBT)(三菱エンジニアリングプラスチック社製、ノバデュラン5020)とガラスビーズ(ボッターズ・バロティーニ製、EMB−20)からなる樹脂材料を用いて、押出Tダイ法にてPBTフィルムを製膜して離型層を得た。ここで、離型層の作製に使用したガラスビーズの平均粒径d50は、10μmであり、かつ粒子径d90は、15μmであった。また、上記離型層の作製に使用した上記樹脂材料は、離型層全量に対する上記ガラスビーズの含有量が5重量%となるように上記PBTと配合したものを用いた。
<Example 6>
Polymethylpentene resin such that the content of spherical alumina (DAM-05, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) having an average particle diameter d50 of 5 μm and a particle diameter d90 of 13 μm is 5% by weight based on the total amount of the release layer. A release film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a release layer was prepared using a resin material blended with (TPX (registered trademark)) (manufactured by Mitsui Chemicals, TPX DX820).
<Example 7>
Polymethylpentene resin (average particle diameter d50 is 13 μm and the content of crystalline silica (manufactured by Tatsumori, NX-7) having a particle diameter d90 of 65 μm is 5% by weight with respect to the total amount of the release layer ( A release film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a release layer was prepared using a resin material blended with TPX (registered trademark) (manufactured by Mitsui Chemicals, TPX DX820).
<Example 8>
A PBT film is formed by an extrusion T-die method using a resin material consisting of polybutylene terephthalate resin (PBT) (manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, Novaduran 5020) and glass beads (manufactured by Botters Ballotini, EMB-20). Thus, a release layer was obtained. Here, the average particle diameter d50 of the glass beads used for producing the release layer was 10 μm, and the particle diameter d90 was 15 μm. Further, the resin material used for the production of the release layer was a material blended with the PBT so that the content of the glass beads with respect to the total amount of the release layer was 5% by weight.
上記離型層と、TPX(ポリメチルペンテン樹脂(TPX(登録商標))(三井化学社製、TPX DX820))、ポリプロピレン(サンアロマ―社製、PB270A)、変性ポリエチレン(エチレン−メチルメタクリレート共重合体(住友化学社製、WH102)からなるクッション層(配合比率:TPX:ポリプロピレン:エチレン−メチルメタクリレート共重合体:=50:30:20)およびTPXからなる副離型層をこの順で押出Tダイ法により積層し、3層からなる離型フィルムを製造した。 The release layer, TPX (polymethylpentene resin (TPX (registered trademark)) (manufactured by Mitsui Chemicals, TPX DX820)), polypropylene (manufactured by Sun Aroma, PB270A), modified polyethylene (ethylene-methyl methacrylate copolymer) A cushion layer (compounding ratio: TPX: polypropylene: ethylene-methyl methacrylate copolymer: = 50: 30: 20) made of a coalescence (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., WH102) and a sub-release layer made of TPX were extruded in this order. A release film consisting of three layers was produced by lamination by a die method.
また、得られた離型フィルムの各層の厚さは、離型層、第2の離型層はいずれも30μm、クッション層は40μmであった。
<比較例1>
平均粒径d50が2μmであり、かつ粒子径d90が5μmの球状アルミナ(昭和電工製、CB−P02)を用いた点以外は、実施例1と同様にして離型フィルムを得た。
<比較例2>
ポリメチルペンテン樹脂(TPX(登録商標))(三井化学社製、TPX DX820)からなる樹脂材料を用いて離型層を作製した点、Rz=10の金属ロールに圧着してエンボス形状を付与した以外は、実施例1と同様にして離型フィルムを得た。
<比較例3>
平均粒径d50が32μmであり、かつ粒子径d90が50μmのガラスビーズ(ボッターズ・バロティーニ製、GB−731)を用いた離型層を作製した点以外は、実施例1と同様にして離型フィルムを得た。
The thickness of each layer of the obtained release film was 30 μm for the release layer and the second release layer, and 40 μm for the cushion layer.
<Comparative Example 1>
A release film was obtained in the same manner as in Example 1 except that spherical alumina (CB-P02, manufactured by Showa Denko) having an average particle diameter d50 of 2 μm and a particle diameter d90 of 5 μm was used.
<Comparative example 2>
A release layer was prepared using a resin material made of polymethylpentene resin (TPX (registered trademark)) (manufactured by Mitsui Chemicals, TPX DX820), and an embossed shape was imparted by pressure bonding to a metal roll of Rz = 10. Except for this, a release film was obtained in the same manner as in Example 1.
<Comparative Example 3>
Mold release in the same manner as in Example 1 except that a release layer using glass beads having an average particle diameter d50 of 32 μm and a particle diameter d90 of 50 μm (manufactured by Botters Ballotini, GB-731) was prepared. A film was obtained.
実施例および比較例の各離型フィルムを用いて、以下の評価を行った。結果を表1に示す。
<評価方法>
・表面10点平均粗さ(Rz)
離型フィルムの離型面の表面について、JIS B0601 (1994年)に準じ、「株式会社東京精密製 ハンディサーフ E−35B」を用いて、中央n=3について測定した。
・離型性:離型フィルムの離型面に有沢製作所社製のカバーレイ(CMタイプ)の接着剤面を貼り合わせ、195℃×2分×6MPaで熱プレスを行い、引っ張り試験機(エーアンドデイ社製Force gauge AD−4932A−50N)を用いて、180°方向に約1000mm/分の速度で、離型面とカバーレイ接着剤間の剥離力を測定した。測定はプレス直後に実施し、以下の基準に基づいて離型性を評価した。
○:剥離可能
×:剥離が重くフィルムもしくはカバーレイが破断する
・追従性
離型フィルムの離型面に有沢製作所社製のカバーレイ(CMタイプ)のポリイミド面を貼り合わせ、195℃×2分×6MPaで熱プレスを行った後離型フィルムを剥離し、カバーレイの表面について、JPCA規格の「7.5.7.2項しわ」に準じて測定した。
○:シワ発生率 2.0%未満
×:シワ発生率 2.0%以上
・ボイドの有無:まず、フレキシブル配線板用銅張積板の両面の銅箔をエッチングし、3cm角の開口部を作成した。次いで、有沢製作所社製のカバーレイ(CMタイプ)を上記フレキシブル配線板用銅張積板に形成した開口部に張り合わせ、その上に離型フィルムの離型面がカバーレイ側となるように重ねて、145℃×5分×5MPaで熱プレスを行った後離型フィルムを剥離した。得られたフレキシブル配線板用銅張積板において開口部内に入り込んだ接着剤中にボイドが発生しているか否かを評価した。
・耐屈曲性(接着剤のしみだし形状):まず、フレキシブル配線板用銅張積板の両面の銅箔をエッチングし、3cm角の開口部を作成した。次いで、有沢製作所社製のカバーレイ(CMタイプ)を上記フレキシブル配線板用銅張積板に形成した開口部に張り合わせ、その上に離型フィルムの離型面がカバーレイ側となるように重ねて、145℃×5分×5MPaで熱プレスを行った後離型フィルムを剥離した。得られたフレキシブル配線板用銅張積板において開口部内に入り込んだ接着剤のしみだし形状を観察し、以下の基準に基づいて耐屈曲性を評価した。
○:接着剤のしみだし形状がフラット(平坦)である。
×:接着剤のしみだし形状に凹凸がある。
The following evaluation was performed using each release film of an Example and a comparative example. The results are shown in Table 1.
<Evaluation method>
・ 10-point average roughness (Rz)
The surface of the release surface of the release film was measured for the center n = 3 using “Handy Surf E-35B manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.” according to JIS B0601 (1994).
・ Releasability: Adhesive surface of coverlay (CM type) manufactured by Arisawa Manufacturing Co., Ltd. is pasted on the release surface of the release film, heat pressed at 195 ° C x 2 minutes x 6 MPa, and a tensile tester (A & D) The peel force between the release surface and the coverlay adhesive was measured at a speed of about 1000 mm / min in the 180 ° direction using a Force gauge AD-4932A-50N). The measurement was performed immediately after pressing, and the releasability was evaluated based on the following criteria.
○: Peelable ×: Peeling is heavy and the film or coverlay breaks. ・ Followability A polyimide surface of the coverlay (CM type) manufactured by Arisawa Manufacturing Co., Ltd. is bonded to the release surface of the release film. The release film was peeled off after hot pressing at × 6 MPa, and the surface of the coverlay was measured in accordance with “7.5.7.2 Wrinkle” of the JPCA standard.
○: Wrinkle generation rate less than 2.0% ×: Wrinkle generation rate 2.0% or more · Presence or absence of voids: First, etch the copper foil on both sides of the copper clad plate for flexible wiring boards, and open a 3cm square opening. Created. Next, a cover lay (CM type) manufactured by Arisawa Manufacturing Co., Ltd. is attached to the opening formed in the copper-clad laminate for flexible wiring boards, and is overlaid so that the release surface of the release film is on the cover lay side. The release film was peeled off after hot pressing at 145 ° C. × 5 minutes × 5 MPa. In the obtained copper-clad laminate for flexible wiring boards, it was evaluated whether or not voids were generated in the adhesive that entered the opening.
Flex resistance (adhesive oozing shape): First, copper foils on both sides of a copper-clad laminate for flexible wiring boards were etched to create a 3 cm square opening. Next, a cover lay (CM type) manufactured by Arisawa Manufacturing Co., Ltd. is attached to the opening formed in the copper-clad laminate for flexible wiring boards, and is overlaid so that the release surface of the release film is on the cover lay side. The release film was peeled off after hot pressing at 145 ° C. × 5 minutes × 5 MPa. In the obtained copper-clad laminate for flexible wiring boards, the oozing shape of the adhesive that entered the opening was observed, and the bending resistance was evaluated based on the following criteria.
○: The shape of the adhesive oozing is flat (flat).
X: The oozing shape of the adhesive has irregularities.
実施例1〜4の離型フィルムを用いて作製した成型品は、ボイドの無い耐屈曲性に優れたものであった。一方、比較例1の離型フィルムを用いて作製した成型品は、ボイドが発生したものであった。また、比較例2および3の離型フィルムを用いて作製した成型品は、耐屈曲性という点において要求水準を満たすものではなかった。
Molded articles produced using the release films of Examples 1 to 4 were excellent in bending resistance without voids. On the other hand, the molded product produced using the release film of Comparative Example 1 had voids. Moreover, the molded article produced using the release films of Comparative Examples 2 and 3 did not satisfy the required level in terms of bending resistance.
Claims (10)
前記熱可塑性樹脂材料は、熱可塑性樹脂と、無機粒子とを含んでおり、
前記熱可塑性樹脂が、ポリ4−メチル1−ペンテン樹脂、シンジオタクチックポリスチレン樹脂およびポリプロピレン樹脂からなる群より選択される1種以上であり、
前記無機粒子の平均粒径d50が、5μm以上18μm以下であり、
前記離型層全量に対し、前記無機粒子を1.5重量%以上10重量%以下含む離型フィルム。 A release film having a release layer containing a thermoplastic resin material on at least one surface,
The thermoplastic resin material includes a thermoplastic resin and inorganic particles,
The thermoplastic resin is at least one selected from the group consisting of poly-4-methyl 1-pentene resin, syndiotactic polystyrene resin and polypropylene resin;
The average particle diameter d50 of the inorganic particles is 5 μm or more and 18 μm or less ,
A release film containing 1.5 wt% or more and 10 wt% or less of the inorganic particles with respect to the total amount of the release layer.
前記離型フィルムが配置された前記成型物に対し、加熱プレスを行う工程と、
を含み、
前記離型フィルムを配置する前記工程において、前記成型物の前記離型フィルムが配置される面が、熱硬化性樹脂を含む材料によって形成されている、成型品の製造方法。 A step of disposing the release film on the molded product such that the release layer of the release film according to any one of claims 1 to 8 is on the molded product side;
A step of performing a heat press on the molded article on which the release film is disposed;
Including
In the step of arranging the release film, the surface of the molded product on which the release film is arranged is formed of a material containing a thermosetting resin.
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