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JP6568461B2 - Nonvolatile semiconductor memory storage device - Google Patents

Nonvolatile semiconductor memory storage device Download PDF

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JP6568461B2 JP2015225592A JP2015225592A JP6568461B2 JP 6568461 B2 JP6568461 B2 JP 6568461B2 JP 2015225592 A JP2015225592 A JP 2015225592A JP 2015225592 A JP2015225592 A JP 2015225592A JP 6568461 B2 JP6568461 B2 JP 6568461B2
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Description

本発明は、廃棄後の記憶データの漏洩を防止した不揮発性半導体メモリ記憶装置に関する。   The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory storage device that prevents leakage of stored data after disposal.

フラッシュメモリなどにより構成されるSSD(Solid State Disk)装置は、ハードディスク装置の後を追うように大容量化が進展している。フラッシュメモリは、不揮発性半導体メモリであるため、SSD装置もハードディスク装置と同様に廃棄された後の記憶データの漏洩が問題となる。SSD装置の場合、記憶データの消去時間はハードディスク装置の場合ほどは長くならないものの、その記憶容量の増大に伴って、より短時間により簡便に記憶データを破壊する手段の必要性が高まっている。   An SSD (Solid State Disk) device composed of a flash memory or the like has been increased in capacity so as to follow the hard disk device. Since the flash memory is a non-volatile semiconductor memory, the leakage of stored data after the SSD device is discarded as in the hard disk device becomes a problem. In the case of an SSD device, the erasure time of stored data is not as long as in the case of a hard disk device, but as the storage capacity increases, the need for means for easily destroying stored data in a shorter time is increasing.

特許文献1には、フラッシュメモリに記憶された情報のセキュリティを確保するようにしたICカードの例が開示されている。特許文献1の図1などの説明によれば、ICカード1Aに搭載されたマイクロコンピュータ2は、内部の電源回路10に電源電圧VDDを昇圧する昇圧回路11を備え、昇圧回路11は素子破壊電圧VPPを発生する。マイクロコンピュータ2のCPU8は、外部から不正なアタックが繰り返し行われたと判断した場合、認証ミス信号を電源回路10に入力する。認証ミス信号を受けた電源回路10は、通常の電源電圧VDDに代えて素子破壊電圧VPPを少なくともRAM3およびフラッシュメモリ7に供給する。素子破壊電圧VPPの供給により、RAM3およびフラッシュメモリ7を構成する回路素子が破壊されるので、ICカード1Aに記憶されている情報(データおよびプログラム)の漏洩に関するセキュリティが確保される。   Patent Document 1 discloses an example of an IC card that ensures the security of information stored in a flash memory. According to the description of FIG. 1 and the like of Patent Document 1, the microcomputer 2 mounted on the IC card 1A includes the booster circuit 11 that boosts the power supply voltage VDD in the internal power supply circuit 10, and the booster circuit 11 has an element breakdown voltage. Generate a VPP. The CPU 8 of the microcomputer 2 inputs an authentication error signal to the power supply circuit 10 when determining that an illegal attack has been repeatedly performed from the outside. Upon receiving the authentication error signal, the power supply circuit 10 supplies at least the element breakdown voltage VPP to the RAM 3 and the flash memory 7 instead of the normal power supply voltage VDD. Since the circuit elements constituting the RAM 3 and the flash memory 7 are destroyed by the supply of the element breakdown voltage VPP, security regarding leakage of information (data and program) stored in the IC card 1A is ensured.

特開2010−140129号公報JP 2010-140129 A

しかしながら、特許文献1に開示されている技術は、基本的には、1チップマイクロコンピュータなど1つの集積回路チップの内部回路に適用される技術である。そのため、この技術を複数の集積回路チップからなるSSD装置などプリント基板上に実装された不揮発性半導体メモリ記憶装置に適用するといくつかの問題が生じる。ちなみに、SSD装置を構成するプリント基板には、通常、複数のフラッシュメモリチップと1つのマイクロコンピュータチップ、すなわち、複数の集積回路チップが搭載されている。   However, the technique disclosed in Patent Document 1 is basically a technique applied to an internal circuit of one integrated circuit chip such as a one-chip microcomputer. Therefore, when this technology is applied to a nonvolatile semiconductor memory storage device mounted on a printed circuit board such as an SSD device composed of a plurality of integrated circuit chips, several problems arise. Incidentally, a plurality of flash memory chips and one microcomputer chip, that is, a plurality of integrated circuit chips are usually mounted on a printed circuit board constituting the SSD device.

このような複数の集積回路チップが搭載されたプリント基板に特許文献1の技術を適用した場合、素子破壊電圧VPPを、複数のフラッシュメモリチップの電源端子に供給する必要性から、供給すべき電流量が増大する。従って、素子破壊電圧VPPを発生する昇圧回路が大きくなる、すなわち、追加すべき回路が増大するという問題が生じる。   When the technique of Patent Document 1 is applied to a printed circuit board on which a plurality of integrated circuit chips are mounted, the current to be supplied from the necessity of supplying the element breakdown voltage VPP to the power supply terminals of the plurality of flash memory chips. The amount increases. Therefore, there arises a problem that the booster circuit for generating the element breakdown voltage VPP becomes large, that is, the number of circuits to be added increases.

また、素子破壊電圧VPPを単に電源電圧VDDの電源配線に供給した場合、その電源配線はフラッシュメモリチップだけでなくマイクロコンピュータチップにも接続されているため、マイクロコンピュータチップを構成する回路素子も素子破壊電圧VPPによって破壊される。そのため、SSD装置における情報の読み出し機能も併せて失われる。   Further, when the element breakdown voltage VPP is simply supplied to the power supply wiring of the power supply voltage VDD, the power supply wiring is connected not only to the flash memory chip but also to the microcomputer chip, so that the circuit elements constituting the microcomputer chip are also elements. It is destroyed by the breakdown voltage VPP. Therefore, the information reading function in the SSD device is also lost.

SSD装置における情報の読み出し機能が失われるということは、フラッシュメモリチップに記憶されていた情報が素子破壊電圧VPPを供給したことによって確実に破壊されたか否かを確認する手段が失われたことを意味する。従って、ユーザは、SSD装置に記憶されていた情報が確実に破壊されたか否かを確認することはできない。万が一、マイクロコンピュータチップの回路素子だけ破壊され、フラッシュメモリチップの回路素子が破壊されなかった場合には、フラッシュメモリチップに記憶されていた情報が漏洩する可能性が残ることになる。   The loss of the information reading function in the SSD device means that the means for confirming whether or not the information stored in the flash memory chip has been reliably destroyed by supplying the element breakdown voltage VPP is lost. means. Therefore, the user cannot confirm whether or not the information stored in the SSD device has been reliably destroyed. If only the circuit element of the microcomputer chip is destroyed and the circuit element of the flash memory chip is not destroyed, there is a possibility that information stored in the flash memory chip is leaked.

この発明は、以上のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、大きな追加回路を必要とせずに、廃棄時の情報漏洩を容易に防止することが可能な不揮発性半導体メモリ記憶装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and is a nonvolatile semiconductor memory storage that can easily prevent information leakage at the time of disposal without requiring a large additional circuit. To provide an apparatus.

上記従来技術の問題点に鑑み、本発明に係る不揮発性半導体メモリ記憶装置は、データの電気的な書き込みおよび消去が可能な不揮発性半導体メモリチップと、複数の制御信号を介して前記不揮発性半導体メモリチップに対するデータの読み書きを制御する制御回路と、外部から供給される電源電圧を昇圧して、前記不揮発性半導体メモリチップに設定されている絶対最大定格電圧よりも高い電圧である素子破壊電圧を生成する昇圧回路と、を備え、前記制御回路から出力される素子破壊電圧印加指示信号に基づき、前記制御回路から前記不揮発性半導体メモリチップへ出力される前記制御信号のうち、前記不揮発性半導体メモリチップからのデータ読み出しタイミングを制御する第1の制御信号の信号線および制御の対象とする前記不揮発性半導体メモリチップを選択する第2の制御信号の信号線の少なくとも一方の信号線に、前記昇圧回路で生成される前記素子破壊電圧を印加することを特徴とする。   In view of the above-described problems of the prior art, the nonvolatile semiconductor memory storage device according to the present invention includes a nonvolatile semiconductor memory chip capable of electrically writing and erasing data, and the nonvolatile semiconductor via a plurality of control signals. A control circuit that controls reading / writing of data to / from the memory chip and a power supply voltage supplied from the outside are boosted, and an element breakdown voltage that is higher than the absolute maximum rated voltage set in the nonvolatile semiconductor memory chip is obtained. A non-volatile semiconductor memory among the control signals output from the control circuit to the non-volatile semiconductor memory chip based on an element breakdown voltage application instruction signal output from the control circuit. The signal line of the first control signal for controlling the timing of reading data from the chip and the nonvolatile to be controlled At least one signal line of the signal line of the second control signal for selecting a semiconductor memory chip, and applying the device breakdown voltage generated by the booster circuit.

本発明によれば、大きな追加回路を必要とせずに、廃棄時の情報漏洩を防止することが可能な不揮発性半導体メモリ記憶装置が提供される。   According to the present invention, there is provided a nonvolatile semiconductor memory device capable of preventing information leakage at the time of disposal without requiring a large additional circuit.

本発明の第1の実施形態に係るSSD装置の構成の例を示した図。The figure which showed the example of a structure of the SSD apparatus which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態の変形例に係るSSD装置の構成の例を示した図。The figure which showed the example of a structure of the SSD apparatus which concerns on the modification of the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態において、フラッシュメモリチップのデータをより確実に読み出し不可能とするために制御回路により実行される処理手順の例を示した図。The figure which showed the example of the process sequence performed by the control circuit in order to make it impossible to read the data of a flash memory chip more reliably in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に係るSSD装置の構成の例を示した図。The figure which showed the example of a structure of the SSD apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態の変形例に係るSSD装置の構成の例を示した図。The figure which showed the example of a structure of the SSD apparatus which concerns on the modification of the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態に係るSSD装置の構成の例を示した図。The figure which showed the example of a structure of the SSD apparatus which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施形態に係るSSD装置の構成の例を示した図。The figure which showed the example of a structure of the SSD apparatus which concerns on the 4th Embodiment of this invention. 本発明の第5の実施形態に係るSSD装置の構成の例を示した図。The figure which showed the example of a structure of the SSD apparatus which concerns on the 5th Embodiment of this invention. 本発明の第5の実施形態の変形例に係るSSD装置の構成の例を示した図。The figure which showed the example of a structure of the SSD apparatus which concerns on the modification of the 5th Embodiment of this invention.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の各図面において、共通する構成要素には同一の符号を付し、重複した説明を省略する。また、ここでは、代表的な不揮発性半導体メモリであるフラッシュメモリで構成された記憶装置、すなわち、SSD装置を例としてその実施形態を説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following drawings, common constituent elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. Here, the embodiment will be described by taking a storage device constituted by a flash memory, which is a typical nonvolatile semiconductor memory, that is, an SSD device as an example.

<第1の実施形態>
図1は、本発明の第1の実施形態に係るSSD装置1の構成の例を示した図である。図1に示すように、SSD装置1は、複数個(例えば、20個)のフラッシュメモリチップ11、制御回路12、昇圧回路13、逆流保護用のダイオード14,15などが1枚または複数枚のプリント基板上に搭載されて構成される。ここで、フラッシュメモリチップ11は、例えば、16Gbitのフラッシュメモリセルが集積された半導体チップが、例えばTSOP(Thin Small Outline Package)などの1つのパッケージに収容されて構成されたものをいう。また、図1では、フラッシュメモリチップ11は、3個しか描かれていないが、3個に限定されるわけではない。また、フラッシュメモリチップ11の数は、複数に限定されず、1個であってもよい。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a diagram showing an example of the configuration of the SSD device 1 according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the SSD device 1 includes a plurality of (for example, 20) flash memory chips 11, a control circuit 12, a booster circuit 13, backflow protection diodes 14 and 15, and the like. It is configured on the printed circuit board. Here, the flash memory chip 11 refers to, for example, a semiconductor chip in which 16 Gbit flash memory cells are integrated and contained in one package such as a TSOP (Thin Small Outline Package). In FIG. 1, only three flash memory chips 11 are depicted, but the number is not limited to three. Further, the number of flash memory chips 11 is not limited to a plurality and may be one.

SSD装置1は、いわゆるS−ATA(Serial Advanced Technology Attachment)やUSB(Universal Serial Bus)などのインターフェースケーブル21を介してホストコンピュータ2に接続され、ホストコンピュータ2の補助記憶装置として用いられる。すなわち、SSD装置1は、ホストコンピュータ2の指示のもとに、ホストコンピュータ2から転送されるデータをフラッシュメモリチップ11に記憶しておくとともに、フラッシュメモリチップ11に記憶されているデータを読み出して、ホストコンピュータ2へ転送する。なお、ホストコンピュータ2とは、一般的なパーソナルコンピュータやワークステーション、さらには、各種装置に付属する情報処理装置などをいう。   The SSD device 1 is connected to the host computer 2 via an interface cable 21 such as so-called S-ATA (Serial Advanced Technology Attachment) or USB (Universal Serial Bus), and is used as an auxiliary storage device of the host computer 2. That is, the SSD device 1 stores the data transferred from the host computer 2 in the flash memory chip 11 and reads out the data stored in the flash memory chip 11 under the instruction of the host computer 2. To the host computer 2. Note that the host computer 2 refers to a general personal computer, a workstation, and an information processing apparatus attached to various devices.

SSD装置1には、ACアダプタなどの外部の電源回路3から電源電圧Vdd(例えば、5V)が供給され、電源電圧Vddは、SSD装置1内において、フラッシュメモリチップ11、制御回路12、昇圧回路13などに供給される。なお、SSD装置1の内部では、電源電圧Vdd(例えば、5V)をフラッシュメモリチップ11などが求める電源電圧の仕様に応じて、適宜、3Vなどに変換してもよい。   The SSD device 1 is supplied with a power supply voltage Vdd (for example, 5 V) from an external power supply circuit 3 such as an AC adapter, and the power supply voltage Vdd is supplied to the flash memory chip 11, the control circuit 12, and the booster circuit in the SSD device 1. 13 and so on. Note that, inside the SSD device 1, the power supply voltage Vdd (for example, 5V) may be appropriately converted to 3V or the like according to the specification of the power supply voltage required by the flash memory chip 11 or the like.

制御回路12は、ホストコンピュータ2とフラッシュメモリチップ11との間にあって、ホストコンピュータ2によるフラッシュメモリチップ11へのデータの書き込みおよびフラッシュメモリチップ11からのデータの読み出しを仲介し、その仲介を制御する。すなわち、制御回路12は、ホストコンピュータ2との間のインターフェースと、フラッシュメモリチップ11との間のインターフェースの相違を調整する。   The control circuit 12 is between the host computer 2 and the flash memory chip 11, mediates writing of data to the flash memory chip 11 and reading of data from the flash memory chip 11 by the host computer 2, and controls the mediation. . That is, the control circuit 12 adjusts the difference in the interface between the host computer 2 and the flash memory chip 11.

制御回路12は、この両者のインターフェースの相違を調整するために、RAM(Random Access Memory)などで構成された一時記憶メモリ(図示せず)を有している。すなわち、ホストコンピュータ2から転送されたデータは、この一時記憶メモリに一時記憶された後、制御回路12によってフラッシュメモリチップ11へ書き込まれる。また、制御回路12によってフラッシュメモリチップ11から読み出されたデータは、この一時記憶メモリに一時記憶された後、ホストコンピュータ2へ転送される。   The control circuit 12 has a temporary storage memory (not shown) composed of a RAM (Random Access Memory) or the like in order to adjust the difference between the two interfaces. That is, the data transferred from the host computer 2 is temporarily stored in the temporary storage memory and then written to the flash memory chip 11 by the control circuit 12. The data read from the flash memory chip 11 by the control circuit 12 is temporarily stored in the temporary storage memory and then transferred to the host computer 2.

ホストコンピュータ2は、SSD装置1を仮想的なハードディスク装置とみなしてSデータの読み書きを実行する。そのため、ホストコンピュータ2は、SSD装置1に対するデータの読み書きに際しては、ハードディスク装置でいうデータの格納場所であるトラックアドレスおよびセクタアドレスを指定する。従って、制御回路12は、ホストコンピュータ2により指定されるトラックアドレスおよびセクタアドレスを、フラッシュメモリチップ11の物理アドレス(ページアドレスやブロックアドレス)に変換する役割も担う。   The host computer 2 regards the SSD device 1 as a virtual hard disk device, and reads and writes S data. Therefore, the host computer 2 designates a track address and a sector address, which are data storage locations in the hard disk device, when reading / writing data from / to the SSD device 1. Therefore, the control circuit 12 also plays a role of converting a track address and a sector address designated by the host computer 2 into a physical address (page address or block address) of the flash memory chip 11.

図1に示すように、制御回路12とフラッシュメモリチップ11とは、アドレス/データバス(A/D bus)で接続されるとともに、制御回路12は、データの読み書きを行うための各種制御信号をフラッシュメモリチップ11に向けて出力する。なお、図1では、その各種制御信号の内、データ読み出しタイミングを制御する信号を制御信号REと表し、複数のフラッシュメモリチップ11の中から制御対象とするフラッシュメモリチップ11を選択する信号を制御信号CS1,CS2,CS3と表し、これら以外の制御信号を制御信号CNTと表している。   As shown in FIG. 1, the control circuit 12 and the flash memory chip 11 are connected by an address / data bus (A / D bus), and the control circuit 12 receives various control signals for reading and writing data. Output to the flash memory chip 11. In FIG. 1, among the various control signals, a signal for controlling the data read timing is represented as a control signal RE, and a signal for selecting the flash memory chip 11 to be controlled from the plurality of flash memory chips 11 is controlled. Signals CS1, CS2, and CS3 are represented, and other control signals are represented as control signals CNT.

なお、以上のように構成される制御回路12は、1チップタイプのマイクロコンピュータ、FPGA(Field Programmable Gate Array)などを用いることより、コンパクトな回路として実現することができる。   The control circuit 12 configured as described above can be realized as a compact circuit by using a one-chip type microcomputer, FPGA (Field Programmable Gate Array), or the like.

昇圧回路13は、外部の電源回路3からの電源電圧Vdd(例えば、5V)の供給を受けて、その電源電圧Vddを昇圧し、フラッシュメモリチップ11に設定されている絶対最大定格電圧(例えば、7V)よりも高電圧の素子破壊電圧Vds(例えば、20V)を出力する。ただし、ここでは、昇圧回路13は、制御回路12から出力される昇圧指示信号BSがアクティブになったとき作動、すなわち、素子破壊電圧Vdsを出力する。また、制御回路12は、ホストコンピュータ2から、フラッシュメモリチップ11の素子破壊指令を受けたとき、昇圧指示信号BSをアクティブにするものとする。なお、昇圧指示信号BSは、所定時間後にインアクティブにされる。   The booster circuit 13 receives the supply of the power supply voltage Vdd (for example, 5V) from the external power supply circuit 3, boosts the power supply voltage Vdd, and sets the absolute maximum rated voltage (for example, the flash memory chip 11). 7V), a device breakdown voltage Vds (for example, 20V) having a voltage higher than 7V) is output. However, here, the booster circuit 13 operates when the boost instruction signal BS output from the control circuit 12 becomes active, that is, outputs the element breakdown voltage Vds. The control circuit 12 activates the boost instruction signal BS when receiving an element destruction command for the flash memory chip 11 from the host computer 2. The boost instruction signal BS is made inactive after a predetermined time.

また、本実施形態では、制御回路12からフラッシュメモリチップ11に出力される制御信号のうち制御信号REについては、ダイオード14を介してフラッシュメモリチップ11の入力端子に接続される。さらに、昇圧回路13から出力される素子破壊電圧Vdsが印加される配線は、ダイオード15を経由して、制御信号REの信号線上の、ダイオード14とフラッシュメモリチップ11の入力端子と間の点Pに接続されている。すなわち、ダイオード15は、昇圧回路13と制御信号REの信号線上の点Pをつなぐ配線上の途中に配置されている。さらに、この信号線の点Pが含まれる配線部分とアース間には、プルダウン抵抗Rが接続される。   In this embodiment, the control signal RE among the control signals output from the control circuit 12 to the flash memory chip 11 is connected to the input terminal of the flash memory chip 11 via the diode 14. Furthermore, the wiring to which the element breakdown voltage Vds output from the booster circuit 13 is applied is connected to a point P between the diode 14 and the input terminal of the flash memory chip 11 on the signal line of the control signal RE via the diode 15. It is connected to the. That is, the diode 15 is arranged on the wiring connecting the booster circuit 13 and the point P on the signal line of the control signal RE. Further, a pull-down resistor R is connected between the wiring portion including the signal line point P and the ground.

ここで、ダイオード14は、制御回路12側からフラッシュメモリチップ11側への方向が順方向になるように設けられ、その逆方向の耐圧は、素子破壊電圧Vdsよりも高いものとする。また、ダイオード15は、昇圧回路13側から点P側への方向が順方向になるように設けられる。なお、ダイオード15の逆方向の耐圧は、電源電圧Vddの絶対最大定格電圧よりも高ければよい。なお、ダイオード14,15としては、通常のpn接合のダイオードを用いてもよいが、高周波特性に優れ、スイッチングスピードが速く、順方向の電圧降下の小さいショットキバリアダイオード(SBD)を用いるのが好ましい。   Here, the diode 14 is provided such that the direction from the control circuit 12 side to the flash memory chip 11 side is the forward direction, and the reverse breakdown voltage is higher than the element breakdown voltage Vds. The diode 15 is provided such that the direction from the booster circuit 13 side to the point P side is the forward direction. The reverse breakdown voltage of the diode 15 only needs to be higher than the absolute maximum rated voltage of the power supply voltage Vdd. As the diodes 14 and 15, normal pn junction diodes may be used, but it is preferable to use Schottky barrier diodes (SBD) having excellent high frequency characteristics, high switching speed, and small forward voltage drop. .

このとき、昇圧回路13から素子破壊電圧Vdsが点Pに印加されると、素子破壊電圧Vdsは、フラッシュメモリチップ11の制御信号REの入力端子に印加される。そのため、素子破壊電圧Vdsの印加によって、フラッシュメモリチップ11内の入力ゲートが破壊され、制御信号REは、その入力ゲートより奥のフラッシュメモリチップ11の内部へ伝達されないことになる。従って、フラッシュメモリチップ11内では、メモリセルからのデータの読み出し信号を生成することができなくなるので、制御回路12は、フラッシュメモリチップ11からデータを読み出すことができない。   At this time, when the element breakdown voltage Vds is applied to the point P from the booster circuit 13, the element breakdown voltage Vds is applied to the input terminal of the control signal RE of the flash memory chip 11. Therefore, the application of the element breakdown voltage Vds destroys the input gate in the flash memory chip 11, and the control signal RE is not transmitted to the inside of the flash memory chip 11 behind the input gate. Therefore, in the flash memory chip 11, it becomes impossible to generate a data read signal from the memory cell, and thus the control circuit 12 cannot read data from the flash memory chip 11.

一方、昇圧回路13から素子破壊電圧Vdsが点Pに印加されても、制御回路12への素子破壊電圧Vdsの印加は、ダイオード14によって阻止されるので、素子破壊電圧Vdsにより制御回路12が破壊されることはない。   On the other hand, even if the element breakdown voltage Vds is applied from the booster circuit 13 to the point P, the application of the element breakdown voltage Vds to the control circuit 12 is blocked by the diode 14, so that the control circuit 12 is destroyed by the element breakdown voltage Vds. It will never be done.

なお、ダイオード15は、通常の動作時、すなわち、昇圧指示信号BSがインアクティブであるとき(昇圧回路13が動作していないとき)に、制御信号REを昇圧回路13から切り離す役割を果たす。   The diode 15 serves to separate the control signal RE from the booster circuit 13 during normal operation, that is, when the boost instruction signal BS is inactive (when the booster circuit 13 is not operating).

以上、本実施形態では、制御回路12は、ホストコンピュータ2から昇圧指令を受けると、昇圧指示信号BSをアクティブにし、そのアクティブな昇圧指示信号BSを昇圧回路13に出力する。また、昇圧回路13は、アクティブな昇圧指示信号BSを受けると、昇圧動作を開始して素子破壊電圧Vdsを生成し、その生成した素子破壊電圧Vdsを、ダイオード15を経由させて制御信号REの信号線上の点Pに印加する。この素子破壊電圧Vdsの印加によりフラッシュメモリチップ11内の入力ゲートが破壊されるので、制御回路12は、フラッシュメモリチップ11からのデータの読み出しが不可能な状態になる。   As described above, in the present embodiment, when receiving the boost command from the host computer 2, the control circuit 12 activates the boost command signal BS and outputs the active boost command signal BS to the boost circuit 13. When the booster circuit 13 receives the active boost instruction signal BS, the booster circuit 13 starts a boost operation to generate the element breakdown voltage Vds, and the generated element breakdown voltage Vds is transmitted to the control signal RE via the diode 15. Apply to point P on the signal line. Since the input gate in the flash memory chip 11 is destroyed by the application of the element breakdown voltage Vds, the control circuit 12 cannot read data from the flash memory chip 11.

よって、SSD装置1を廃棄する場合、ホストコンピュータ2は、SSD装置1に対して昇圧指令を出力することにより、SSD装置1に記憶されているデータの読み出しを不可能にすることができる。すなわち、本実施形態によれば、従来の一般的なSSD装置に昇圧回路13、ダイオード14,15およびプルダウン抵抗Rを追加するだけで、廃棄するSSD装置1からの情報漏洩を防止することが可能になる。しかも、そのとき必要となるホストコンピュータ2側の処理は、昇圧指令を出力するだけという簡単な処理で済む。   Therefore, when discarding the SSD device 1, the host computer 2 can make it impossible to read data stored in the SSD device 1 by outputting a boost command to the SSD device 1. That is, according to the present embodiment, it is possible to prevent information leakage from the discarded SSD device 1 simply by adding the booster circuit 13, the diodes 14 and 15 and the pull-down resistor R to the conventional general SSD device. become. In addition, the processing on the host computer 2 side required at that time can be as simple as outputting a boost command.

また、本実施形態では、素子破壊電圧Vdsは、特許文献1に示されているようにフラッシュメモリチップ11の電源端子に供給されるのではなく、制御信号REの入力端子に供給される。制御信号REの入力端子は、電源端子と異なり、入力インピーダンスが大きい。そのため、入力回路のゲートを破壊するのに必要な素子破壊電圧Vdsの電流容量は、小さくて済む。これは、昇圧回路13の規模が小さくて済むことを意味する。   In this embodiment, the element breakdown voltage Vds is not supplied to the power supply terminal of the flash memory chip 11 as shown in Patent Document 1, but is supplied to the input terminal of the control signal RE. Unlike the power supply terminal, the input terminal of the control signal RE has a large input impedance. Therefore, the current capacity of the element breakdown voltage Vds necessary for destroying the gate of the input circuit may be small. This means that the scale of the booster circuit 13 can be small.

また、本実施形態では、制御信号REの信号線に素子破壊電圧Vdsが印加されても、ダイオード14により制御回路12が破壊されることを防止することができる。従って、制御回路12は、制御信号REの信号線に素子破壊電圧Vdsが印加された後であっても、その素子破壊電圧Vdsの印加が解除されれば正常に動作する。その結果、素子破壊電圧Vdsによりフラッシュメモリチップ11の入力回路が破壊された後、制御回路12がフラッシュメモリチップ11からデータを読み出すことにより、フラッシュメモリチップ11の入力回路が破壊されたことを確認すること可能になる。   In the present embodiment, even when the element breakdown voltage Vds is applied to the signal line of the control signal RE, the diode 14 can prevent the control circuit 12 from being destroyed. Therefore, even after the element breakdown voltage Vds is applied to the signal line of the control signal RE, the control circuit 12 operates normally if the application of the element breakdown voltage Vds is released. As a result, after the input circuit of the flash memory chip 11 is destroyed by the element breakdown voltage Vds, the control circuit 12 reads data from the flash memory chip 11 to confirm that the input circuit of the flash memory chip 11 is destroyed. It becomes possible to do.

ちなみに、制御信号REの入力回路が破壊されたフラッシュメモリチップ11から読み出されるデータは、全く意味のないデータ(全ビット0なども含む)となる。SSD装置1の場合、制御回路12は、フラッシュメモリチップ11からデータを読み出すとき、ページデータを単位として読み出すが、そのページデータには、リード・ソロモン符号など誤り検査訂正符号のデータが付加されている。従って、制御回路12は、その誤り検査訂正符号のデータを用いて、読み出したデータにおける誤りの有無を検査することができる。制御信号REの入力回路が破壊されている場合、誤り検査訂正符号のデータも意味のないデータとなる。そのため、この誤りの検査では、読み出されたページデータは、当然誤り有りと判定される。   Incidentally, the data read from the flash memory chip 11 in which the input circuit of the control signal RE is destroyed becomes meaningless data (including all bits 0). In the case of the SSD device 1, when reading data from the flash memory chip 11, the control circuit 12 reads page data as a unit. The page data is added with error check correction code data such as Reed-Solomon code. Yes. Therefore, the control circuit 12 can check the presence or absence of errors in the read data using the data of the error check and correction code. When the input circuit of the control signal RE is destroyed, the error check correction code data is also meaningless data. Therefore, in this error check, the read page data is naturally determined to have an error.

そこで、制御回路12がSSD装置1に含まれるフラッシュメモリチップ11から全ページのデータを読み出し、その全てのページデータについての誤り検査訂正符号の検査で誤り有りと判定された場合には、全てのフラッシュメモリチップ11から正常なデータが読み出せなくなったと判断することができる。従って、制御回路12は、フラッシュメモリチップ11から正常なデータの読み出しができなくなったか否かを確認することができる。さらに、このことは、ホストコンピュータ2がフラッシュメモリチップ11から正常なデータの読み出しが不可能になったことを確認することができることを意味する。   Therefore, when the control circuit 12 reads all the page data from the flash memory chip 11 included in the SSD device 1 and it is determined that there is an error in the error check correction code check for all the page data, It can be determined that normal data cannot be read from the flash memory chip 11. Therefore, the control circuit 12 can confirm whether normal data cannot be read from the flash memory chip 11. Furthermore, this means that the host computer 2 can confirm that normal data reading from the flash memory chip 11 has become impossible.

<第1の実施形態の変形例>
図2は、本発明の第1の実施形態の変形例に係るSSD装置1aの構成の例を示した図である。なお、この変形例に係るSSD装置1aの構成は、次の2点において図1に示したSSD装置1と相違している。
<Modification of First Embodiment>
FIG. 2 is a diagram showing an example of the configuration of the SSD device 1a according to the modification of the first embodiment of the present invention. The configuration of the SSD device 1a according to this modification is different from the SSD device 1 shown in FIG. 1 in the following two points.

(1)昇圧回路13から出力される素子破壊電圧Vdsを導通させる配線は、ダイオード15に直接接続されるのではなく、スイッチ16を経由してダイオード15に接続される。すなわち、スイッチ16は、昇圧回路13とダイオード15とをつなぐ配線の途中に配置される。このスイッチ16は、接合型またはMOS(Metal Oxide Semiconductor)型の電界効果トランジスタ(FET:Field Effect Transistor)で構成してもよく、リレーなど機械的なスイッチで構成してもよい。
(2)制御回路12は、昇圧回路13に対し昇圧指示信号BS(図1参照)を出力するのではなく、スイッチ16に対しスイッチオン信号SWAを出力する。ここで、スイッチオン信号SWAがアクティブになったとき、スイッチ16は導通状態となり、スイッチオン信号SWAがインアクティブになったとき、スイッチ16は非導通状態となる。なお、スイッチオン信号SWAは、所定時間アクティブになった後、インアクティブに制御される。また、この場合、昇圧回路13は、常に素子破壊電圧Vdsを生成するものであってもよい。
(1) The wiring for conducting the element breakdown voltage Vds output from the booster circuit 13 is not directly connected to the diode 15 but connected to the diode 15 via the switch 16. That is, the switch 16 is disposed in the middle of the wiring connecting the booster circuit 13 and the diode 15. The switch 16 may be a junction type or MOS (Metal Oxide Semiconductor) type field effect transistor (FET), or may be a mechanical switch such as a relay.
(2) The control circuit 12 outputs the switch-on signal SWA to the switch 16 instead of outputting the boost instruction signal BS (see FIG. 1) to the booster circuit 13. Here, when the switch-on signal SWA becomes active, the switch 16 becomes conductive, and when the switch-on signal SWA becomes inactive, the switch 16 becomes non-conductive. The switch-on signal SWA is controlled to be inactive after being active for a predetermined time. In this case, the booster circuit 13 may always generate the element breakdown voltage Vds.

本変形例では、昇圧回路13は、制御回路12からスイッチオン信号SWAがアクティブ前から素子破壊電圧Vdsを生成するものであってもよい。その場合、制御回路12からスイッチオン信号SWAがアクティブになると、素子破壊電圧Vdsは、直ちにスイッチ16およびダイオード15を経て、制御信号REの信号線に印加される。従って、制御信号REの電圧は、急激に高電圧側に変化するため、その急激な変化により、フラッシュメモリチップ11内の制御信号REの入力回路が破壊されやすくなる。   In this modification, the booster circuit 13 may generate the element breakdown voltage Vds before the switch-on signal SWA from the control circuit 12 is active. In that case, when the switch-on signal SWA is activated from the control circuit 12, the element breakdown voltage Vds is immediately applied to the signal line of the control signal RE via the switch 16 and the diode 15. Therefore, since the voltage of the control signal RE is suddenly changed to the high voltage side, the input circuit of the control signal RE in the flash memory chip 11 is easily destroyed due to the rapid change.

なお、以上の点を除けば、図2に示したSSD装置1aの作用および効果は、図1に示したSSD装置1の作用および効果とほとんど同じであるので、以下、繰り返しとなる説明を省略する。   Except for the above points, the operation and effect of the SSD device 1a shown in FIG. 2 are almost the same as the operation and effect of the SSD device 1 shown in FIG. To do.

<第1の実施形態の第2の変形例>
第2の変形例については、図示を省略する。この第2の変形例では、昇圧回路13は、予め定められた複数種の素子破壊電圧(例えば、20V,30V,50Vなど)を出力可能なように構成されている。そして、制御回路12からの指示に従い、前記の複数種の素子破壊電圧の中から1つを選択し、素子破壊電圧Vdsとして出力する。そのため、制御回路12から昇圧回路13に向けて出力する昇圧指示信号BSは、1本ではなく、複数本とするのがよい。例えば、昇圧回路13が20V,30V,50Vなど3種類の素子破壊電圧を出力可能な場合、制御回路12は、その素子破壊電圧の種類の数と同数の3本の昇圧指示信号BS(BS1,BS2,BS3)を用いて、そのいずれかの素子破壊電圧を選択する。
<Second Modification of First Embodiment>
The illustration of the second modification is omitted. In the second modification, the booster circuit 13 is configured to output a plurality of predetermined element breakdown voltages (for example, 20V, 30V, 50V, etc.). Then, according to an instruction from the control circuit 12, one of the plurality of types of element breakdown voltages is selected and output as the element breakdown voltage Vds. Therefore, the boost instruction signal BS output from the control circuit 12 toward the booster circuit 13 is preferably not a single signal but a plurality of boost command signals BS. For example, when the booster circuit 13 can output three types of element breakdown voltages such as 20 V, 30 V, and 50 V, the control circuit 12 has three boost instruction signals BS (BS1, BS1, BS1, BS2) having the same number as the number of types of the element breakdown voltages. One of the element breakdown voltages is selected using BS2, BS3).

なお、以上のような昇圧回路13は、例えば、多段の昇圧用のチャーチポンプを備えた昇圧回路により実現することができる。すなわち、出力すべき素子破壊電圧Vdsの電圧が指示されたときには、その電圧に対応する段数のチャージポンプの出力電圧を選択し、そのチャージポンプからの出力電圧を昇圧回路13の素子破壊電圧Vdsとすることができる。   The booster circuit 13 as described above can be realized by, for example, a booster circuit including a multi-stage booster church pump. That is, when the element breakdown voltage Vds to be output is instructed, the output voltage of the charge pump of the number of stages corresponding to the voltage is selected, and the output voltage from the charge pump is set as the element breakdown voltage Vds of the booster circuit 13. can do.

当然ではあるが、本変形例においても、制御信号REの信号線上の点Pに素子破壊電圧Vdsを印加することにより、フラッシュメモリチップ11の制御信号REの入力回路を破壊することができる。しかしながら、フラッシュメモリチップ11の入力回路には、静電気などの保護のために保護回路が組み込まれているのが一般的である。そのため、制御信号REの信号線上の点Pに素子破壊電圧Vds(例えば、20V)が印加されても、フラッシュメモリチップ11の制御信号REの入力回路が破壊されないことは十分にあり得ることである。   Naturally, also in this modification, the input circuit of the control signal RE of the flash memory chip 11 can be destroyed by applying the element breakdown voltage Vds to the point P on the signal line of the control signal RE. However, a protection circuit is generally incorporated in the input circuit of the flash memory chip 11 to protect against static electricity and the like. Therefore, even if an element breakdown voltage Vds (for example, 20 V) is applied to the point P on the signal line of the control signal RE, it is sufficiently possible that the input circuit of the control signal RE of the flash memory chip 11 is not destroyed. .

一方、制御信号RE上の制御回路12側には、印加する素子破壊電圧Vdsよりも高い逆方向の耐圧を有するダイオード14が設けられているため、点Pに素子破壊電圧Vdsが印加されても、制御回路12は破壊されない。   On the other hand, since the diode 14 having a reverse breakdown voltage higher than the applied element breakdown voltage Vds is provided on the control circuit 12 side on the control signal RE, even if the element breakdown voltage Vds is applied to the point P. The control circuit 12 is not destroyed.

そこで、本変形例では、例えば、昇圧回路13から例えば20Vの素子破壊電圧Vdsを制御信号REの信号線上の点Pに印加し、フラッシュメモリチップ11の制御信号REの入力回路を破壊する。その後、制御回路12は、フラッシュメモリチップ11の全データを読み出し、その読み出しが可能であったか否かを判定する。その判定の結果、一部にせよデータ読み出しが可能であった場合には、点Pに印加する素子破壊電圧Vdsをさらに高電圧(例えば、30V)にする。そして、その高電圧にした素子破壊電圧Vdsを、再度、制御信号REの信号線上の点Pに印加し、フラッシュメモリチップ11の制御信号REの入力回路を破壊する。このように、本変形例では、制御回路12が以上のような手順を繰り返し実行することにより、フラッシュメモリチップ11のデータをより確実に読み出し不可能にすることができる。   Therefore, in this modification, for example, the element breakdown voltage Vds of 20 V, for example, is applied from the booster circuit 13 to the point P on the signal line of the control signal RE, and the input circuit of the control signal RE of the flash memory chip 11 is destroyed. Thereafter, the control circuit 12 reads all the data in the flash memory chip 11 and determines whether or not the reading is possible. As a result of the determination, if data can be read out even if partly, the element breakdown voltage Vds applied to the point P is set to a higher voltage (for example, 30 V). Then, the high element breakdown voltage Vds is applied again to the point P on the signal line of the control signal RE to destroy the input circuit of the control signal RE of the flash memory chip 11. As described above, in the present modification, the control circuit 12 repeatedly executes the above-described procedure, whereby the data of the flash memory chip 11 can be more reliably read out.

図3は、本発明の第1の実施形態において、フラッシュメモリチップ11のデータをより確実に読み出し不可能とするために制御回路により実行される処理手順の例を示した図である。この処理手順では、制御回路12は、まず、昇圧回路13が出力すべき素子破壊電圧Vdsの初期値(例えば、20V)を設定する(ステップS11)。フラッシュメモリチップ11の入力回路の   FIG. 3 is a diagram showing an example of a processing procedure executed by the control circuit in order to make it impossible to read data of the flash memory chip 11 more reliably in the first embodiment of the present invention. In this processing procedure, the control circuit 12 first sets an initial value (for example, 20 V) of the element breakdown voltage Vds to be output by the booster circuit 13 (step S11). Of the input circuit of the flash memory chip 11

次に、制御回路12は、昇圧回路13に対し、制御信号REの信号線上の点Pへの素子破壊電圧Vdsの印加を指示する(ステップS12)。すなわち、制御回路12は、昇圧指示信号BS(例えば、20Vに対応付けられた昇圧指示信号BS1)をアクティブにする。そして、所定の時間(例えば、5秒)経過の後、制御回路12は、昇圧回路13に対し、制御信号REの信号線上の点Pへの素子破壊電圧Vdsの印加の停止を指示する(ステップS13)。すなわち、制御回路12は、アクティブな昇圧指示信号BS(例えば、前記のBS1)をインアクティブにする。   Next, the control circuit 12 instructs the booster circuit 13 to apply the element breakdown voltage Vds to the point P on the signal line of the control signal RE (step S12). That is, the control circuit 12 activates the boost instruction signal BS (for example, the boost instruction signal BS1 associated with 20V). Then, after elapse of a predetermined time (for example, 5 seconds), the control circuit 12 instructs the booster circuit 13 to stop applying the element breakdown voltage Vds to the point P on the signal line of the control signal RE (step). S13). That is, the control circuit 12 inactivates an active boost instruction signal BS (for example, the BS1).

続いて、制御回路12は、フラッシュメモリチップ11に記憶されているデータを全て読み出す(ステップS14)。そして、このデータ読み出し時にハードディスク装置でいうページに対応するデータ(ページデータ)ごとに、そのページデータに付された誤り検査訂正符号による読み出しデータの誤り検査を実行し、誤りの有無を判定する(ステップS15)。その判定の結果、全てのページデータについて、誤り有りと判定された場合には(ステップS15でYes)、制御回路12は、フラッシュメモリチップ11の全データを正しく読み出すことができなかったことになるので、フラッシュメモリチップ11からのデータ読み出しは不可能になったと判断し、図3の処理を終了する。   Subsequently, the control circuit 12 reads all the data stored in the flash memory chip 11 (step S14). Then, for each data (page data) corresponding to a page in the hard disk device at the time of this data reading, an error check is performed on the read data using an error check correction code attached to the page data to determine the presence or absence of an error ( Step S15). As a result of the determination, if it is determined that there is an error for all the page data (Yes in step S15), the control circuit 12 has not been able to correctly read all the data in the flash memory chip 11. Therefore, it is determined that data reading from the flash memory chip 11 is impossible, and the processing of FIG.

一方、ステップS15の判定において、一部のページのデータについて、誤り検査訂正符号の検査で誤りなしと判定された場合には(ステップS15でNo)、フラッシュメモリチップ11における制御信号REの入力回路が十分には破壊されていないことを意味する。そこで、この場合には、制御回路12は、昇圧回路13に出力すべき高電圧の値を、例えば、20Vから30Vへとより高電圧に変更し(ステップS16)、ステップS12以下の処理を繰り返し実行する。   On the other hand, if it is determined in step S15 that there is no error in the error check correction code check for some pages of data (No in step S15), the input circuit of the control signal RE in the flash memory chip 11 Means that it is not fully destroyed. Therefore, in this case, the control circuit 12 changes the value of the high voltage to be output to the booster circuit 13 to, for example, a higher voltage from 20 V to 30 V (step S16), and repeats the processing from step S12 onward. Run.

すなわち、以上の第1の実施形態の第2の変形例によれば、制御回路12は、フラッシュメモリチップ11における制御信号REの入力回路を破壊する素子破壊電圧Vdsを印加し、その破壊結果を確認し、破壊が不十分な場合には、印加する素子破壊電圧Vdsをさらに高くする処理を繰り返す。従って、フラッシュメモリチップ11における制御信号REの入力回路は、より確実に破壊される。よって、フラッシュメモリチップ11に記憶されていた情報の漏洩を、より確実に防止することが可能になる。   That is, according to the second modification of the first embodiment described above, the control circuit 12 applies the element breakdown voltage Vds that destroys the input circuit of the control signal RE in the flash memory chip 11 and determines the breakdown result. If the breakdown is insufficient, the process of further increasing the applied element breakdown voltage Vds is repeated. Therefore, the input circuit for the control signal RE in the flash memory chip 11 is more reliably destroyed. Therefore, leakage of information stored in the flash memory chip 11 can be prevented more reliably.

なお、ステップS12以下の繰り返し処理は、昇圧回路13で出力可能にされている素子破壊電圧Vdsの数しか繰り返すことができない。従って、昇圧回路13で出力可能にされている素子破壊電圧Vdsのうち、万一最高の電圧でもフラッシュメモリチップ11における制御信号REの入力回路をすべて破壊できなかった場合には、制御回路12は、その旨をホストコンピュータ2に報告するようにしておくとよい。その場合には、ホストコンピュータ2は、そのSSD装置1を、例えば、物理的または機械的に破壊すべきであることを作業者に知らせることができる。   Note that the iterative process after step S12 can be repeated only for the number of element breakdown voltages Vds that can be output by the booster circuit 13. Therefore, if all the input circuits for the control signal RE in the flash memory chip 11 cannot be destroyed even by the highest voltage among the element breakdown voltages Vds that can be output by the booster circuit 13, the control circuit 12 It is advisable to report that fact to the host computer 2. In that case, the host computer 2 can inform the operator that the SSD device 1 should be destroyed, for example, physically or mechanically.

<第2の実施形態>
図4は、本発明の第2の実施形態に係るSSD装置1bの構成の例を示した図である。なお、この第2の実施形態に係るSSD装置1bの構成は、次の2点において図1に示したSSD装置1と相違している。
<Second Embodiment>
FIG. 4 is a diagram showing an example of the configuration of the SSD device 1b according to the second embodiment of the present invention. The configuration of the SSD device 1b according to the second embodiment is different from the SSD device 1 shown in FIG. 1 in the following two points.

(1)昇圧回路13から出力される素子破壊電圧Vdsは、制御信号REの信号線上の点Pに印加されるのではなく、それぞれ独立のダイオード15を経由し、それぞれ制御信号CS1,CS2,CS3の信号線上の点P1,P2,P3に印加される。
(2)ダイオード14は、制御信号REの信号線上ではなく、制御信号CS1,CS2,CS3の信号線上の点P1,P2,P3と制御回路12の制御信号CS1,CS2,CS3の出力端子との間に設けられる。また、制御信号CS1,CS2,CS3の信号線の点P1,P2,P3が含まれる配線部分とアース間には、それぞれプルダウン抵抗R1,R2,R3が接続される。
(1) The element breakdown voltage Vds output from the booster circuit 13 is not applied to the point P on the signal line of the control signal RE, but passes through the independent diodes 15 to control signals CS1, CS2, CS3, respectively. Applied to the points P1, P2 and P3 on the signal line.
(2) The diode 14 is not on the signal line of the control signal RE but between the points P1, P2, P3 on the signal lines of the control signals CS1, CS2, CS3 and the output terminals of the control signals CS1, CS2, CS3 of the control circuit 12. Between. In addition, pull-down resistors R1, R2, and R3 are respectively connected between the wiring portion including the signal line points P1, P2, and P3 of the control signals CS1, CS2, and CS3 and the ground.

ここで、制御信号CS1,CS2,CS3は、いずれも同時にはアクティブにはならない信号である。そして、そのいずれかがアクティブになることにより、そのアクティブになった制御信号CS1,CS2,CS3が接続されたフラッシュメモリチップ11の入力および出力信号を有効化させる。従って、制御信号CS1,CS2,CS3がアクティブにならない限り、その制御信号CS1,CS2,CS3が接続されたフラッシュメモリチップ11からデータを読み出すことはできない。すなわち、制御信号CS1,CS2,CS3は、制御回路12がデータ読み書きの制御対象とするフラッシュメモリチップ11を選択する信号といえる。   Here, the control signals CS1, CS2 and CS3 are all signals that do not become active at the same time. Then, when one of them becomes active, the input and output signals of the flash memory chip 11 to which the activated control signals CS1, CS2 and CS3 are connected are validated. Therefore, data cannot be read from the flash memory chip 11 to which the control signals CS1, CS2, and CS3 are connected unless the control signals CS1, CS2, and CS3 are activated. That is, the control signals CS1, CS2, and CS3 can be said to be signals for selecting the flash memory chip 11 to be controlled by the control circuit 12 for data reading and writing.

そこで、第2の実施形態では、制御信号CS1,CS2,CS3の信号線上の点P1,P2,P3それぞれに素子破壊電圧Vdsが印加されると、その素子破壊電圧Vdsにより、フラッシュメモリチップ11内の制御信号CS1,CS2,CS3それぞれに対応する入力回路が破壊される。従って、これらの入力回路が破壊されると、制御回路12により制御信号CS1,CS2,CS3がアクティブ化されても、そのアクティブ化された制御信号CS1,CS2,CS3は、フラッシュメモリチップ11の内部に伝達されない。その結果、制御回路12は、フラッシュメモリチップ11に記憶されているデータを読み出すことができなくなり、形式的に読み出されたデータは、全く無意味なデータとなる。   Therefore, in the second embodiment, when the element breakdown voltage Vds is applied to each of the points P1, P2, and P3 on the signal lines of the control signals CS1, CS2, and CS3, the element breakdown voltage Vds causes the inside of the flash memory chip 11 to be generated. The input circuits corresponding to the control signals CS1, CS2 and CS3 are destroyed. Therefore, when these input circuits are destroyed, even if the control signals CS1, CS2, and CS3 are activated by the control circuit 12, the activated control signals CS1, CS2, and CS3 are stored in the flash memory chip 11. Not transmitted to. As a result, the control circuit 12 cannot read the data stored in the flash memory chip 11, and the data read formally becomes completely meaningless data.

従って、第2の実施形態に係るSSD装置1bの作用および効果は、図1に示した第1の実施形態に係るSSD装置1の作用および効果とほとんど同じになるので、その繰り返しの説明を省略する。   Therefore, the operation and effect of the SSD device 1b according to the second embodiment are almost the same as the operation and effect of the SSD device 1 according to the first embodiment shown in FIG. To do.

<第2の実施形態の変形例>
図5は、本発明の第2の実施形態の変形例に係るSSD装置1cの構成の例を示した図である。なお、この変形例に係るSSD装置1cの構成は、次の2点において図4に示したSSD装置1bと相違している。
<Modification of Second Embodiment>
FIG. 5 is a diagram showing an example of the configuration of an SSD device 1c according to a modification of the second embodiment of the present invention. The configuration of the SSD device 1c according to this modification is different from the SSD device 1b shown in FIG. 4 in the following two points.

(1)昇圧回路13から出力される素子破壊電圧Vdsが導通する配線は、ダイオード15に直接接続されるのではなく、スイッチ16cを経由してダイオード15に接続されている。ここで、スイッチ16cは、接合型またはMOS型の電界効果トランジスタで構成してもよく、リレーなど機械的なスイッチで構成してもよい。
(2)制御回路12は、昇圧回路13に対し昇圧指示信号BS(図1参照)を出力するのではなく、スイッチ16cに対しスイッチオン信号SWAを出力する。ここで、スイッチオン信号SWAがアクティブになったとき、スイッチ16cは導通状態となり、スイッチオン信号SWAがインアクティブになったとき、スイッチ16cは非導通状態となる。なお、この場合、昇圧回路13は、常に素子破壊電圧Vdsを生成するものであってもよい。
(1) The wiring through which the element breakdown voltage Vds output from the booster circuit 13 is conducted is not directly connected to the diode 15, but is connected to the diode 15 via the switch 16c. Here, the switch 16c may be formed of a junction-type or MOS-type field effect transistor, or may be formed of a mechanical switch such as a relay.
(2) The control circuit 12 does not output the boost instruction signal BS (see FIG. 1) to the booster circuit 13, but outputs a switch-on signal SWA to the switch 16c. Here, when the switch-on signal SWA becomes active, the switch 16c becomes conductive, and when the switch-on signal SWA becomes inactive, the switch 16c becomes non-conductive. In this case, the booster circuit 13 may always generate the element breakdown voltage Vds.

本変形例では、昇圧回路13は、制御回路12からスイッチオン信号SWAが出力される前から素子破壊電圧Vdsを生成するものであってもよい。その場合、制御回路12からスイッチオン信号SWAが出力されると、素子破壊電圧Vdsは、直ちにスイッチ16cおよびダイオード15を経て、制御信号CS1,CS2,CS3の信号線上に印加される。従って、制御信号CS1,CS2,CS3の電圧は、急激に高電圧に変化するため、その急激な変化により、フラッシュメモリチップ11内の制御信号CS1,CS2,CS3の入力回路が破壊されやすくなる。   In this modification, the booster circuit 13 may generate the element breakdown voltage Vds before the switch-on signal SWA is output from the control circuit 12. In this case, when the switch-on signal SWA is output from the control circuit 12, the element breakdown voltage Vds is immediately applied to the signal lines of the control signals CS1, CS2, and CS3 via the switch 16c and the diode 15. Accordingly, since the voltages of the control signals CS1, CS2, and CS3 are rapidly changed to high voltages, the input circuit of the control signals CS1, CS2, and CS3 in the flash memory chip 11 is easily destroyed due to the rapid change.

なお、以上の点を除けば、図5に示したSSD装置1cの作用および効果は、図4に示したSSD装置1bの作用および効果とほとんど同じであるので、その繰り返しとなる説明を省略する。   Except for the above points, the operation and effect of the SSD device 1c shown in FIG. 5 are almost the same as the operation and effect of the SSD device 1b shown in FIG. .

<第3の実施形態>
図6は、本発明の第3の実施形態に係るSSD装置1dの構成の例を示した図である。なお、この第3の実施形態に係るSSD装置1dの構成は、次の2点において第1の実施形態に係るSSD装置1(図1参照)と相違している。
<Third Embodiment>
FIG. 6 is a diagram showing an example of the configuration of an SSD device 1d according to the third embodiment of the present invention. The configuration of the SSD device 1d according to the third embodiment is different from the SSD device 1 according to the first embodiment (see FIG. 1) in the following two points.

(1)昇圧回路13から出力される素子破壊電圧Vdsは、それぞれ独立のダイオード15を経由して、制御信号REの信号線上の点Pだけでなく、制御信号CS1,CS2,CS3の信号線上の点P1,P2,P3にも印加される。
(2)独立のダイオード14は、制御信号REの信号線上の点Pと制御回路12の制御信号REの出力端子との間だけではなく、制御信号CS1,CS2,CS3の信号線上の点P1,P2,P3と制御回路12の制御信号CS1,CS2,CS3の出力端子との間に設けられる。
(1) The element breakdown voltage Vds output from the booster circuit 13 passes through independent diodes 15 on not only the point P on the signal line of the control signal RE but also on the signal lines of the control signals CS1, CS2, and CS3. It is also applied to points P1, P2 and P3.
(2) The independent diode 14 is not only between the point P on the signal line of the control signal RE and the output terminal of the control signal RE of the control circuit 12, but also on the signal line of the control signals CS1, CS2, CS3. Provided between P2 and P3 and the output terminals of the control signals CS1, CS2 and CS3 of the control circuit 12.

この第3の実施形態に係るSSD装置1dの構成は、実質的には、前記した第1の実施形態に係るSSD装置1(図1参照)および第2の実施形態に係るSSD装置1b(図2参照)を組み合わせたものである。従って、その分、フラッシュメモリチップ11からデーを読み出せなくなる確実性が増大する効果を期待することができる。なお、その他の作用および効果は、第1の実施形態および第2の実施形態とほとんど同じになるので、その繰り返しの説明を省略する。   The configuration of the SSD device 1d according to the third embodiment is substantially the same as the SSD device 1 according to the first embodiment (see FIG. 1) and the SSD device 1b according to the second embodiment (FIG. 2). Therefore, it is possible to expect an effect that the certainty that data cannot be read from the flash memory chip 11 is increased accordingly. Since other operations and effects are almost the same as those of the first embodiment and the second embodiment, repeated description thereof is omitted.

<第4の実施形態>
図7は、本発明の第4の実施形態に係るSSD装置1eの構成の例を示した図である。なお、この第4の実施形態に係るSSD装置1eの構成は、人手で操作可能な廃棄ボタン17および廃棄保護スイッチ18が追加されている点で第1の実施形態に係るSSD装置1(図1参照)と相違している。
<Fourth Embodiment>
FIG. 7 is a diagram showing an example of the configuration of an SSD device 1e according to the fourth embodiment of the present invention. The configuration of the SSD device 1e according to the fourth embodiment is that the SSD button 1 according to the first embodiment (FIG. 1) is added in that a discard button 17 and a discard protection switch 18 that can be operated manually are added. It is different from reference).

廃棄ボタン17は、SSD装置1eのユーザ又は廃棄業者がSSD装置1eを廃棄するときに押下する。廃棄ボタン17が押下されると、制御回路12は、昇圧回路13に昇圧指示信号BSを出力して、昇圧回路13から制御信号REの信号線上の点Pに素子破壊電圧Vdsを印加する。その結果、フラッシュメモリチップ11内の制御信号REの入力回路が破壊されるので、フラッシュメモリチップ11から記憶されていたデータを読み出すことができなくなる。従って、SSD装置1eに記憶されていた情報の漏えいは、実質的に防止される。   The discard button 17 is pressed when the user of the SSD device 1e or the discarder discards the SSD device 1e. When the discard button 17 is pressed, the control circuit 12 outputs the boost instruction signal BS to the booster circuit 13 and applies the element breakdown voltage Vds from the booster circuit 13 to the point P on the signal line of the control signal RE. As a result, the input circuit of the control signal RE in the flash memory chip 11 is destroyed, and the stored data cannot be read from the flash memory chip 11. Accordingly, leakage of information stored in the SSD device 1e is substantially prevented.

この廃棄ボタン17を設けたことにより、SSD装置1eをホストコンピュータ2に接続しなくても、例えば、ACアダプタなどの電源回路3から電源電圧Vddが供給されていれば、人手でフラッシュメモリチップ11に記憶されているデータの読み出しをできなくすることが可能になる。よって、SSD装置1eのユーザは、極めて簡単な操作で、その記憶内容の情報漏洩を防止した上で、安全にSSD装置1eを廃棄することができる。   By providing the discard button 17, even if the SSD device 1e is not connected to the host computer 2, if the power supply voltage Vdd is supplied from the power supply circuit 3 such as an AC adapter, the flash memory chip 11 is manually added. It becomes possible to make it impossible to read the data stored in the memory. Therefore, the user of the SSD device 1e can safely discard the SSD device 1e while preventing the leakage of information stored in the stored content by an extremely simple operation.

なお、以上のように簡単な操作でSSD装置1eのフラッシュメモリチップ11からの読み出しができなくなるとすると、ユーザによる誤操作対策もしておく必要がある。そこで、本実施形態では、廃棄ボタン17は、SSD装置1eの収納筐体の一部に形成された細い貫通孔内に設けられ、例えば、針などの部材をその貫通項に挿入しなければ、廃棄ボタン17を押下できないようにしておく。あるいは、廃棄ボタン17を、通常の力では割れないクラッカープレートを押し割って押下するようなボタンにしておく。   If it is impossible to read from the flash memory chip 11 of the SSD device 1e by a simple operation as described above, it is necessary to take countermeasures against erroneous operations by the user. Therefore, in the present embodiment, the discard button 17 is provided in a thin through hole formed in a part of the housing of the SSD device 1e. For example, if a member such as a needle is not inserted into the through term, The discard button 17 cannot be pressed. Alternatively, the discard button 17 is a button that pushes a cracker plate that cannot be broken by a normal force.

さらに、廃棄ボタン17の他に廃棄保護スイッチ18を設けておいてもよい。この廃棄保護スイッチ18は、通常時はオン状態にあるとする。そして、この廃棄保護スイッチ18がオフ状態されていない限り、廃棄ボタン17が押下されても、制御回路12は、昇圧回路13に昇圧指示信号BSを出力しないものとする。同様に、廃棄保護スイッチ18がオフ状態にされていない場合には、制御回路12は、ホストコンピュータ2からの昇圧指令を受けても、昇圧回路13に昇圧指示信号BSを出力しないものとする。従って、廃棄保護スイッチ18は、ユーザの廃棄ボタン17の誤操作の防止だけではなく、ホストコンピュータ2からの昇圧指令の誤出力の防止にも有効である。   In addition to the discard button 17, a discard protection switch 18 may be provided. It is assumed that the discard protection switch 18 is normally on. As long as the discard protection switch 18 is not turned off, the control circuit 12 does not output the boost instruction signal BS to the booster circuit 13 even when the discard button 17 is pressed. Similarly, when the discard protection switch 18 is not turned off, the control circuit 12 does not output the boost instruction signal BS to the booster circuit 13 even if it receives a boost command from the host computer 2. Accordingly, the discard protection switch 18 is effective not only for preventing erroneous operation of the user's discard button 17 but also for preventing erroneous output of the boost command from the host computer 2.

ここで、あるケースとして、ホストコンピュータ2に複数のSSD装置1eが接続されていることを想定する。ここで、廃棄しようとするSSD装置1eの廃棄保護スイッチ18をオフ状態にし、廃棄しないSSD装置1eの廃棄保護スイッチ18をオン状態のままとする。この場合には、ホストコンピュータ2のユーザは、廃棄しようとするSSD装置1eに対し、安全に昇圧指令を出力し、その廃棄を指示することができる。すなわち、ユーザのホストコンピュータ2の誤操作により、廃棄しないSSD装置1eを誤って廃棄することが防止される。   Here, as a case, it is assumed that a plurality of SSD devices 1 e are connected to the host computer 2. Here, the discard protection switch 18 of the SSD device 1e to be discarded is turned off, and the discard protection switch 18 of the SSD device 1e not to be discarded is kept on. In this case, the user of the host computer 2 can safely output a boost command to the SSD device 1e to be discarded and instruct the discarding. That is, it is possible to prevent the SSD device 1e that is not discarded from being erroneously discarded due to an erroneous operation of the user's host computer 2.

また、本実施形態においては、第1の実施形態と同様に、制御回路12は、フラッシュメモリチップ11に素子破壊電圧Vdsを印加後も正常に動作し、さらに、フラッシュメモリチップ11から読み出したデータにおける誤り有無を検査することができる。そこで、SSD装置1eにさらに発光ダイオードなどを設け、フラッシュメモリチップ11から読み出した全てのページデータについて誤り検査訂正符号による検査を実施する。そして、その検査で誤り有りと判定された場合には、その発光ダイオードを点灯するようにしてもよい。これにより、ユーザは、フラッシュメモリチップ11からのデータが正常に読み出しできなくなったこと、すなわち、SSD装置1eからのデータ読み出し機能が破壊されたか否かを容易に確認することができる。また、スピーカやブザーなどを設け、音によってデータ読み出し機能が破壊されたか否かを容易に確認する構成としてもよい。   In the present embodiment, as in the first embodiment, the control circuit 12 operates normally even after the device breakdown voltage Vds is applied to the flash memory chip 11, and the data read from the flash memory chip 11. The presence or absence of an error can be inspected. Therefore, a light-emitting diode or the like is further provided in the SSD device 1e, and all page data read from the flash memory chip 11 is inspected using an error check and correction code. If the inspection determines that there is an error, the light emitting diode may be turned on. As a result, the user can easily confirm whether or not data from the flash memory chip 11 cannot be normally read, that is, whether or not the function of reading data from the SSD device 1e is destroyed. In addition, a speaker, a buzzer, or the like may be provided to easily confirm whether or not the data reading function is destroyed by sound.

<第5の実施形態>
図8は、本発明の第5の実施形態に係るSSD装置1fの構成の例を示した図である。なお、この第5の実施形態に係るSSD装置1fの構成は、次の2点において図1に示したSSD装置1と相違している。
<Fifth Embodiment>
FIG. 8 is a diagram showing an example of the configuration of an SSD device 1f according to the fifth embodiment of the present invention. The configuration of the SSD device 1f according to the fifth embodiment is different from the SSD device 1 shown in FIG. 1 in the following two points.

(1)制御回路12の制御信号REの出力端子と素子破壊電圧Vdsが印加される点Pとの間には、ダイオード14(図1参照)ではなく、FETスイッチ19が設けられている。なお、FETスイッチ19は、MOS型でも接合型でもよいが、図8ではNチャネルのMOS型として描かれている。また、FETスイッチ19のドレイン−ソース耐圧は、素子破壊電圧Vdeよりも大きいものとする。なお、この場合、制御信号REの信号線をプルダウンするプルダウン抵抗Rは不要である。
(2)FETスイッチ19を駆動するインバータ回路20が追加されている。なお、インバータ回路20は、昇圧指示信号BSがインアクティブのとき、FETスイッチ19をオン状態にするのに十分な電圧を出力できるものとする。
(1) Between the output terminal of the control signal RE of the control circuit 12 and the point P to which the element breakdown voltage Vds is applied, an FET switch 19 is provided instead of the diode 14 (see FIG. 1). The FET switch 19 may be a MOS type or a junction type, but is depicted as an N-channel MOS type in FIG. Further, it is assumed that the drain-source breakdown voltage of the FET switch 19 is larger than the element breakdown voltage Vde. In this case, the pull-down resistor R that pulls down the signal line of the control signal RE is not necessary.
(2) An inverter circuit 20 for driving the FET switch 19 is added. The inverter circuit 20 can output a voltage sufficient to turn on the FET switch 19 when the boost instruction signal BS is inactive.

本実施形態では、制御回路12から出力される昇圧指示信号BSがインアクティブなとき、FETスイッチ19がオン状態すなわち導通状態となる。従って、制御回路12から出力される制御信号REは、FETスイッチ19を通過し、フラッシュメモリチップ11の入力端子に到達する。また、このときには、昇圧回路13が動作しないため、素子破壊電圧Vdeが制御信号REの信号線上の点Pに印加されることはない。   In the present embodiment, when the boost instruction signal BS output from the control circuit 12 is inactive, the FET switch 19 is in an on state, that is, a conductive state. Therefore, the control signal RE output from the control circuit 12 passes through the FET switch 19 and reaches the input terminal of the flash memory chip 11. At this time, since the booster circuit 13 does not operate, the element breakdown voltage Vde is not applied to the point P on the signal line of the control signal RE.

一方、制御回路12から出力される昇圧指示信号BSがアクティブになると、FETスイッチ19がオフ状態すなわち非導通状態となる。そのため、素子破壊電圧Vdeが印加される制御信号REの信号線上の点Pと制御回路12の制御信号REの出力端子との間が電気的に切断された状態となる。従って、制御回路12の出力端子に素子破壊電圧Vdeが印加されることはないので、制御回路12が素子破壊電圧Vdeにより破壊されることはない。   On the other hand, when the boost instruction signal BS output from the control circuit 12 becomes active, the FET switch 19 is turned off, that is, non-conductive. Therefore, the point P on the signal line of the control signal RE to which the element breakdown voltage Vde is applied and the output terminal of the control signal RE of the control circuit 12 are electrically disconnected. Therefore, since the element breakdown voltage Vde is not applied to the output terminal of the control circuit 12, the control circuit 12 is not broken by the element breakdown voltage Vde.

なお、以上の点を除けば、図8に示したSSD装置1fの作用および効果は、図1に示したSSD装置1の作用および効果とほとんど同じであるので、以下、繰り返しとなる説明を省略する。   Except for the above points, the operation and effect of the SSD device 1f shown in FIG. 8 are almost the same as the operation and effect of the SSD device 1 shown in FIG. To do.

<第5の実施形態の変形例>
図9は、本発明の第5の実施形態の変形例に係るSSD装置1gの構成の例を示した図である。なお、この変形例に係るSSD装置1gの構成は、次の2点において図8に示したSSD装置1fと相違している。
<Modification of Fifth Embodiment>
FIG. 9 is a diagram showing an example of the configuration of an SSD device 1g according to a modification of the fifth embodiment of the present invention. The configuration of the SSD device 1g according to this modification is different from the SSD device 1f shown in FIG. 8 in the following two points.

(1)昇圧回路13から出力される素子破壊電圧Vdsが導通する配線は、ダイオード15ではなく、FETスイッチ19aを経由して制御信号REの信号線上の点Pに接続されている。なお、FETスイッチ19aは、MOS型でも接合型でもよいが、図9ではNチャネルのMOS型として描かれている。また、FETスイッチ19aのドレイン−ソース耐圧は、素子破壊電圧Vdeよりも大きいものとする。
(2)制御回路12は、昇圧回路13に対し昇圧指示信号BS(図8参照)を出力するのではなく、FETスイッチ19aに対しスイッチオン信号SWAを出力する。ここで、スイッチオン信号SWAがアクティブになったとき、FETスイッチ19aは導通状態となり、スイッチオン信号SWAがインアクティブになったとき、FETスイッチ19aは非導通状態となる。なお、この場合、昇圧回路13は、常に素子破壊電圧Vdsを生成するものであってもよい。
(1) The wiring through which the element breakdown voltage Vds output from the booster circuit 13 is connected is connected to the point P on the signal line of the control signal RE via the FET switch 19a, not the diode 15. The FET switch 19a may be a MOS type or a junction type, but is depicted as an N-channel MOS type in FIG. Further, it is assumed that the drain-source breakdown voltage of the FET switch 19a is larger than the element breakdown voltage Vde.
(2) The control circuit 12 does not output a boost instruction signal BS (see FIG. 8) to the booster circuit 13, but outputs a switch-on signal SWA to the FET switch 19a. Here, when the switch-on signal SWA becomes active, the FET switch 19a becomes conductive, and when the switch-on signal SWA becomes inactive, the FET switch 19a becomes non-conductive. In this case, the booster circuit 13 may always generate the element breakdown voltage Vds.

この実施形態の変形例は、第5の実施形態に係るSSD装置1f(図8参照)を第1の実施形態の変形例に係るSSD装置1a(図2参照)に適用したものといえるが、ここでは、図2で示されているダイオード15は省略されている。その場合でも、スイッチオン信号SWAがインアクティブのときには、FETスイッチ19aが非導通状態となるため、昇圧回路13が動作しない場合であっても、制御信号REの電圧変動が昇圧回路13に伝達されることはない。   In the modification of this embodiment, it can be said that the SSD device 1f (see FIG. 8) according to the fifth embodiment is applied to the SSD device 1a (see FIG. 2) according to the modification of the first embodiment. Here, the diode 15 shown in FIG. 2 is omitted. Even in such a case, when the switch-on signal SWA is inactive, the FET switch 19a is in a non-conductive state. Therefore, even when the booster circuit 13 does not operate, the voltage fluctuation of the control signal RE is transmitted to the booster circuit 13. Never happen.

なお、以上の点を除けば、図9に示したSSD装置1gの作用および効果は、図8に示したSSD装置1fの作用および効果とほとんど同じであるので、以下、繰り返しとなる説明を省略する。   Except for the above points, the operation and effect of the SSD device 1g shown in FIG. 9 are almost the same as the operation and effect of the SSD device 1f shown in FIG. To do.

また、さらなる変形例として、図8および図9で説明した第5の実施形態に係るSSD装置1fおよびその変形例に係るSSD装置1gにおいて、FETスイッチ19,19aに代えて、機械的に動作するリレーなどのスイッチを用いたものであってもよい。   As a further modification, the SSD device 1f according to the fifth embodiment described in FIGS. 8 and 9 and the SSD device 1g according to the modification operate mechanically instead of the FET switches 19 and 19a. A switch such as a relay may be used.

なお、本発明は、以上に説明した実施形態および変形例に限定されるものではなく、さらに、様々な変形例が含まれる。例えば、前記した実施形態および変形例は、本発明を分かり易く詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施形態や変形例の構成の一部を、他の実施形態や変形例の構成に置き換えることが可能であり、さらに、ある実施形態や変形例の構成に他の実施形態や変形例の構成を加えることも可能である。   The present invention is not limited to the above-described embodiments and modifications, and further includes various modifications. For example, the above-described embodiments and modified examples describe the present invention in detail in an easy-to-understand manner, and are not necessarily limited to those having all the configurations described. Further, a part of the configuration of an embodiment or modification can be replaced with the configuration of another embodiment or modification, and further, the configuration of another embodiment or modification can be replaced with another embodiment or modification. It is also possible to add the following configuration.

1,1a,1b,1c,1d,1e SSD装置(不揮発性半導体メモリ記憶装置)
2 ホストコンピュータ
3 電源回路
11 フラッシュメモリチップ(不揮発性半導体メモリチップ)
12 制御回路
13 昇圧回路
14 ダイオード(第1のダイオード)
15 ダイオード(第2のダイオード)
16,16c スイッチ
17 廃棄ボタン
18 廃棄保護スイッチ
19 FETスイッチ(第1のスイッチ)
19a FETスイッチ(第2のスイッチ)
20 インバータ回路
21 インターフェースケーブル
R プルダウン抵抗
Vdd 電源電圧
Vds 素子破壊電圧
CNT 制御信号
RE 制御信号(第1の制御信号)
CS1,CS2,CS3 制御信号(第2の制御信号)
BS,BS1,BS2,BS3 昇圧指示信号(素子破壊電圧印加指示信号)
SWA スイッチオン信号(素子破壊電圧印加指示信号)
1, 1a, 1b, 1c, 1d, 1e SSD device (nonvolatile semiconductor memory storage device)
2 Host computer 3 Power supply circuit 11 Flash memory chip (nonvolatile semiconductor memory chip)
12 Control circuit 13 Booster circuit 14 Diode (first diode)
15 Diode (second diode)
16, 16c Switch 17 Discard button 18 Discard protection switch 19 FET switch (first switch)
19a FET switch (second switch)
20 Inverter circuit 21 Interface cable R Pull-down resistor Vdd Power supply voltage Vds Element breakdown voltage CNT Control signal RE Control signal (first control signal)
CS1, CS2, CS3 control signal (second control signal)
BS, BS1, BS2, BS3 Boost instruction signal (element breakdown voltage application instruction signal)
SWA switch-on signal (element breakdown voltage application instruction signal)

Claims (10)

データの電気的な書き込みおよび消去が可能な不揮発性半導体メモリチップと、
複数の制御信号を介して前記不揮発性半導体メモリチップに対するデータの読み書きを制御する制御回路と、
外部から供給される電源電圧を昇圧して、前記不揮発性半導体メモリチップに設定されている絶対最大定格電圧よりも高い電圧である素子破壊電圧を生成する昇圧回路と、
を備え、
前記制御回路から出力される素子破壊電圧印加指示信号に基づき、前記制御回路から前記不揮発性半導体メモリチップへ出力される前記制御信号のうち、前記不揮発性半導体メモリチップからのデータ読み出しタイミングを制御する第1の制御信号の信号線および制御の対象とする前記不揮発性半導体メモリチップを選択する第2の制御信号の信号線の少なくとも一方の信号線に、前記昇圧回路で生成される前記素子破壊電圧を印加すること
を特徴とする不揮発性半導体メモリ記憶装置。
A nonvolatile semiconductor memory chip capable of electrically writing and erasing data; and
A control circuit that controls reading and writing of data with respect to the nonvolatile semiconductor memory chip via a plurality of control signals;
A booster circuit that boosts a power supply voltage supplied from the outside and generates an element breakdown voltage that is higher than an absolute maximum rated voltage set in the nonvolatile semiconductor memory chip;
With
Based on the element breakdown voltage application instruction signal output from the control circuit, the timing for reading data from the nonvolatile semiconductor memory chip is controlled among the control signals output from the control circuit to the nonvolatile semiconductor memory chip. The element breakdown voltage generated by the booster circuit on at least one signal line of the signal line of the first control signal and the signal line of the second control signal that selects the nonvolatile semiconductor memory chip to be controlled A non-volatile semiconductor memory storage device, wherein:
前記素子破壊電圧が印加される前記信号線上の素子破壊電圧印加点と前記制御回路の前記信号線の出力端子との間に、前記素子破壊電圧よりも高い逆方向の耐圧を有する第1のダイオードが、前記出力端子側から前記素子破壊電圧印加点側への方向が順方向となるように設けられていること
を特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体メモリ記憶装置。
A first diode having a reverse breakdown voltage higher than the element breakdown voltage between an element breakdown voltage application point on the signal line to which the element breakdown voltage is applied and an output terminal of the signal line of the control circuit 2. The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 1, wherein a direction from the output terminal side to the element breakdown voltage application point side is a forward direction.
前記昇圧回路の前記素子破壊電圧の出力端子から前記信号線上の前記素子破壊電圧印加点に到る配線の途中に、前記電源電圧よりも高い逆方向の耐圧を有する第2のダイオードが、前記素子破壊電圧の出力端子側から前記素子破壊電圧印加点側への方向が順方向となるように設けられていること
を特徴とする請求項2に記載の不揮発性半導体メモリ記憶装置。
A second diode having a reverse breakdown voltage higher than the power supply voltage is provided in the middle of the wiring from the element breakdown voltage output terminal of the booster circuit to the element breakdown voltage application point on the signal line. The nonvolatile semiconductor memory storage device according to claim 2, wherein a direction from the breakdown voltage output terminal side to the element breakdown voltage application point side is a forward direction.
前記昇圧回路の前記素子破壊電圧の出力端子から前記第2のダイオードに到る配線の途中に、前記素子破壊電圧印加指示信号がアクティブのとき導通状態となり、前記素子破壊電圧印加指示信号がインアクティブのとき非導通状態となるスイッチがさらに設けられていること
を特徴とする請求項3に記載の不揮発性半導体メモリ記憶装置。
When the element breakdown voltage application instruction signal is active, in the middle of the wiring from the element breakdown voltage output terminal of the booster circuit to the second diode, the element breakdown voltage application instruction signal is inactive. The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 3, further comprising a switch that is in a non-conducting state at the time.
前記素子破壊電圧が印加される前記信号線上の素子破壊電圧印加点と前記制御回路の前記信号線の出力端子との間に、前記素子破壊電圧印加指示信号がインアクティブのとき導通状態となり、前記素子破壊電圧印加指示信号がアクティブのとき非導通状態となる第1のスイッチが設けられていること
を特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体メモリ記憶装置。
Between the element breakdown voltage application point on the signal line to which the element breakdown voltage is applied and the output terminal of the signal line of the control circuit, when the element breakdown voltage application instruction signal is inactive, the conductive state, The non-volatile semiconductor memory storage device according to claim 1, further comprising a first switch that is turned off when the element breakdown voltage application instruction signal is active.
前記昇圧回路の前記素子破壊電圧の出力端子から前記信号線上の前記素子破壊電圧印加点に到る配線の途中に、前記素子破壊電圧印加指示信号がアクティブのとき導通状態となり、前記素子破壊電圧印加指示信号がインアクティブのとき非導通状態となる第2のスイッチが設けられていること
を特徴とする請求項5に記載の不揮発性半導体メモリ記憶装置。
In the middle of the wiring from the output terminal of the element breakdown voltage of the booster circuit to the element breakdown voltage application point on the signal line, the element breakdown voltage application instruction signal is in a conductive state when active, and the element breakdown voltage application The non-volatile semiconductor memory device according to claim 5, further comprising a second switch that is turned off when the instruction signal is inactive.
前記制御回路は、前記昇圧回路を介して第1の破壊電圧を、前記第1の制御信号の信号線および前記第2の制御信号の信号線の少なくとも一方に印加した後、前記不揮発性半導体メモリチップからデータを読み出し、前記読み出したデータ全てが誤っていない場合には、前記昇圧回路を介して前記第1の破壊電圧よりも高い第2の破壊電圧を、再度、前記第1の制御信号の信号線および前記第2の制御信号の信号線の少なくとも一方に印加すること
を特徴とする請求項2ないし請求項6のいずれか1項に記載の不揮発性半導体メモリ記憶装置。
The control circuit applies a first breakdown voltage to at least one of the signal line of the first control signal and the signal line of the second control signal via the booster circuit, and then the nonvolatile semiconductor memory When data is read from the chip and all of the read data is not in error, a second breakdown voltage higher than the first breakdown voltage is again applied to the first control signal via the booster circuit. The nonvolatile semiconductor memory storage device according to claim 2, wherein the nonvolatile semiconductor memory storage device is applied to at least one of a signal line and a signal line of the second control signal.
前記制御回路は、外部に接続されたホストコンピュータから出力される前記不揮発性半導体メモリチップの素子破壊指令を受けたとき、前記昇圧回路に対し前記素子破壊電圧印加指示信号を出力すること
を特徴とする請求項1ないし請求項7のいずれか1項に記載の不揮発性半導体メモリ記憶装置。
The control circuit outputs the element breakdown voltage application instruction signal to the booster circuit when receiving an element breakdown command of the nonvolatile semiconductor memory chip output from a host computer connected to the outside. The non-volatile semiconductor memory storage device according to claim 1.
人手によって操作される廃棄ボタンを、さらに、備え、
前記制御回路は、前記廃棄ボタンが押下されたとき、前記昇圧回路に対し前記素子破壊電圧印加指示信号を出力すること
を特徴とする請求項1ないし請求項8のいずれか1項に記載の不揮発性半導体メモリ記憶装置。
A disposal button that is manually operated is further provided.
9. The nonvolatile circuit according to claim 1, wherein when the discard button is pressed, the control circuit outputs the element breakdown voltage application instruction signal to the booster circuit. 10. Semiconductor memory storage device.
人手によって操作される廃棄保護スイッチを、さらに、備え、
前記廃棄保護スイッチがオン状態であるとき、前記制御回路からの前記素子破壊電圧印加指示信号の出力が禁止され、前記廃棄保護スイッチがオフ状態であるとき、前記制御回路からの前記素子破壊電圧印加指示信号の出力が許容されること
を特徴とする請求項1ないし請求項9のいずれか1項に記載の不揮発性半導体メモリ記憶装置。
A waste protection switch that is manually operated is further provided.
When the discard protection switch is on, output of the element breakdown voltage application instruction signal from the control circuit is prohibited, and when the discard protection switch is off, the element breakdown voltage is applied from the control circuit. The non-volatile semiconductor memory device according to claim 1, wherein the output of the instruction signal is allowed.
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