JP6568461B2 - Nonvolatile semiconductor memory storage device - Google Patents
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Description
本発明は、廃棄後の記憶データの漏洩を防止した不揮発性半導体メモリ記憶装置に関する。 The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory storage device that prevents leakage of stored data after disposal.
フラッシュメモリなどにより構成されるSSD(Solid State Disk)装置は、ハードディスク装置の後を追うように大容量化が進展している。フラッシュメモリは、不揮発性半導体メモリであるため、SSD装置もハードディスク装置と同様に廃棄された後の記憶データの漏洩が問題となる。SSD装置の場合、記憶データの消去時間はハードディスク装置の場合ほどは長くならないものの、その記憶容量の増大に伴って、より短時間により簡便に記憶データを破壊する手段の必要性が高まっている。 An SSD (Solid State Disk) device composed of a flash memory or the like has been increased in capacity so as to follow the hard disk device. Since the flash memory is a non-volatile semiconductor memory, the leakage of stored data after the SSD device is discarded as in the hard disk device becomes a problem. In the case of an SSD device, the erasure time of stored data is not as long as in the case of a hard disk device, but as the storage capacity increases, the need for means for easily destroying stored data in a shorter time is increasing.
特許文献1には、フラッシュメモリに記憶された情報のセキュリティを確保するようにしたICカードの例が開示されている。特許文献1の図1などの説明によれば、ICカード1Aに搭載されたマイクロコンピュータ2は、内部の電源回路10に電源電圧VDDを昇圧する昇圧回路11を備え、昇圧回路11は素子破壊電圧VPPを発生する。マイクロコンピュータ2のCPU8は、外部から不正なアタックが繰り返し行われたと判断した場合、認証ミス信号を電源回路10に入力する。認証ミス信号を受けた電源回路10は、通常の電源電圧VDDに代えて素子破壊電圧VPPを少なくともRAM3およびフラッシュメモリ7に供給する。素子破壊電圧VPPの供給により、RAM3およびフラッシュメモリ7を構成する回路素子が破壊されるので、ICカード1Aに記憶されている情報(データおよびプログラム)の漏洩に関するセキュリティが確保される。
Patent Document 1 discloses an example of an IC card that ensures the security of information stored in a flash memory. According to the description of FIG. 1 and the like of Patent Document 1, the
しかしながら、特許文献1に開示されている技術は、基本的には、1チップマイクロコンピュータなど1つの集積回路チップの内部回路に適用される技術である。そのため、この技術を複数の集積回路チップからなるSSD装置などプリント基板上に実装された不揮発性半導体メモリ記憶装置に適用するといくつかの問題が生じる。ちなみに、SSD装置を構成するプリント基板には、通常、複数のフラッシュメモリチップと1つのマイクロコンピュータチップ、すなわち、複数の集積回路チップが搭載されている。 However, the technique disclosed in Patent Document 1 is basically a technique applied to an internal circuit of one integrated circuit chip such as a one-chip microcomputer. Therefore, when this technology is applied to a nonvolatile semiconductor memory storage device mounted on a printed circuit board such as an SSD device composed of a plurality of integrated circuit chips, several problems arise. Incidentally, a plurality of flash memory chips and one microcomputer chip, that is, a plurality of integrated circuit chips are usually mounted on a printed circuit board constituting the SSD device.
このような複数の集積回路チップが搭載されたプリント基板に特許文献1の技術を適用した場合、素子破壊電圧VPPを、複数のフラッシュメモリチップの電源端子に供給する必要性から、供給すべき電流量が増大する。従って、素子破壊電圧VPPを発生する昇圧回路が大きくなる、すなわち、追加すべき回路が増大するという問題が生じる。 When the technique of Patent Document 1 is applied to a printed circuit board on which a plurality of integrated circuit chips are mounted, the current to be supplied from the necessity of supplying the element breakdown voltage VPP to the power supply terminals of the plurality of flash memory chips. The amount increases. Therefore, there arises a problem that the booster circuit for generating the element breakdown voltage VPP becomes large, that is, the number of circuits to be added increases.
また、素子破壊電圧VPPを単に電源電圧VDDの電源配線に供給した場合、その電源配線はフラッシュメモリチップだけでなくマイクロコンピュータチップにも接続されているため、マイクロコンピュータチップを構成する回路素子も素子破壊電圧VPPによって破壊される。そのため、SSD装置における情報の読み出し機能も併せて失われる。 Further, when the element breakdown voltage VPP is simply supplied to the power supply wiring of the power supply voltage VDD, the power supply wiring is connected not only to the flash memory chip but also to the microcomputer chip, so that the circuit elements constituting the microcomputer chip are also elements. It is destroyed by the breakdown voltage VPP. Therefore, the information reading function in the SSD device is also lost.
SSD装置における情報の読み出し機能が失われるということは、フラッシュメモリチップに記憶されていた情報が素子破壊電圧VPPを供給したことによって確実に破壊されたか否かを確認する手段が失われたことを意味する。従って、ユーザは、SSD装置に記憶されていた情報が確実に破壊されたか否かを確認することはできない。万が一、マイクロコンピュータチップの回路素子だけ破壊され、フラッシュメモリチップの回路素子が破壊されなかった場合には、フラッシュメモリチップに記憶されていた情報が漏洩する可能性が残ることになる。 The loss of the information reading function in the SSD device means that the means for confirming whether or not the information stored in the flash memory chip has been reliably destroyed by supplying the element breakdown voltage VPP is lost. means. Therefore, the user cannot confirm whether or not the information stored in the SSD device has been reliably destroyed. If only the circuit element of the microcomputer chip is destroyed and the circuit element of the flash memory chip is not destroyed, there is a possibility that information stored in the flash memory chip is leaked.
この発明は、以上のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、大きな追加回路を必要とせずに、廃棄時の情報漏洩を容易に防止することが可能な不揮発性半導体メモリ記憶装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and is a nonvolatile semiconductor memory storage that can easily prevent information leakage at the time of disposal without requiring a large additional circuit. To provide an apparatus.
上記従来技術の問題点に鑑み、本発明に係る不揮発性半導体メモリ記憶装置は、データの電気的な書き込みおよび消去が可能な不揮発性半導体メモリチップと、複数の制御信号を介して前記不揮発性半導体メモリチップに対するデータの読み書きを制御する制御回路と、外部から供給される電源電圧を昇圧して、前記不揮発性半導体メモリチップに設定されている絶対最大定格電圧よりも高い電圧である素子破壊電圧を生成する昇圧回路と、を備え、前記制御回路から出力される素子破壊電圧印加指示信号に基づき、前記制御回路から前記不揮発性半導体メモリチップへ出力される前記制御信号のうち、前記不揮発性半導体メモリチップからのデータ読み出しタイミングを制御する第1の制御信号の信号線および制御の対象とする前記不揮発性半導体メモリチップを選択する第2の制御信号の信号線の少なくとも一方の信号線に、前記昇圧回路で生成される前記素子破壊電圧を印加することを特徴とする。 In view of the above-described problems of the prior art, the nonvolatile semiconductor memory storage device according to the present invention includes a nonvolatile semiconductor memory chip capable of electrically writing and erasing data, and the nonvolatile semiconductor via a plurality of control signals. A control circuit that controls reading / writing of data to / from the memory chip and a power supply voltage supplied from the outside are boosted, and an element breakdown voltage that is higher than the absolute maximum rated voltage set in the nonvolatile semiconductor memory chip is obtained. A non-volatile semiconductor memory among the control signals output from the control circuit to the non-volatile semiconductor memory chip based on an element breakdown voltage application instruction signal output from the control circuit. The signal line of the first control signal for controlling the timing of reading data from the chip and the nonvolatile to be controlled At least one signal line of the signal line of the second control signal for selecting a semiconductor memory chip, and applying the device breakdown voltage generated by the booster circuit.
本発明によれば、大きな追加回路を必要とせずに、廃棄時の情報漏洩を防止することが可能な不揮発性半導体メモリ記憶装置が提供される。 According to the present invention, there is provided a nonvolatile semiconductor memory device capable of preventing information leakage at the time of disposal without requiring a large additional circuit.
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の各図面において、共通する構成要素には同一の符号を付し、重複した説明を省略する。また、ここでは、代表的な不揮発性半導体メモリであるフラッシュメモリで構成された記憶装置、すなわち、SSD装置を例としてその実施形態を説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following drawings, common constituent elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. Here, the embodiment will be described by taking a storage device constituted by a flash memory, which is a typical nonvolatile semiconductor memory, that is, an SSD device as an example.
<第1の実施形態>
図1は、本発明の第1の実施形態に係るSSD装置1の構成の例を示した図である。図1に示すように、SSD装置1は、複数個(例えば、20個)のフラッシュメモリチップ11、制御回路12、昇圧回路13、逆流保護用のダイオード14,15などが1枚または複数枚のプリント基板上に搭載されて構成される。ここで、フラッシュメモリチップ11は、例えば、16Gbitのフラッシュメモリセルが集積された半導体チップが、例えばTSOP(Thin Small Outline Package)などの1つのパッケージに収容されて構成されたものをいう。また、図1では、フラッシュメモリチップ11は、3個しか描かれていないが、3個に限定されるわけではない。また、フラッシュメモリチップ11の数は、複数に限定されず、1個であってもよい。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a diagram showing an example of the configuration of the SSD device 1 according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the SSD device 1 includes a plurality of (for example, 20)
SSD装置1は、いわゆるS−ATA(Serial Advanced Technology Attachment)やUSB(Universal Serial Bus)などのインターフェースケーブル21を介してホストコンピュータ2に接続され、ホストコンピュータ2の補助記憶装置として用いられる。すなわち、SSD装置1は、ホストコンピュータ2の指示のもとに、ホストコンピュータ2から転送されるデータをフラッシュメモリチップ11に記憶しておくとともに、フラッシュメモリチップ11に記憶されているデータを読み出して、ホストコンピュータ2へ転送する。なお、ホストコンピュータ2とは、一般的なパーソナルコンピュータやワークステーション、さらには、各種装置に付属する情報処理装置などをいう。
The SSD device 1 is connected to the
SSD装置1には、ACアダプタなどの外部の電源回路3から電源電圧Vdd(例えば、5V)が供給され、電源電圧Vddは、SSD装置1内において、フラッシュメモリチップ11、制御回路12、昇圧回路13などに供給される。なお、SSD装置1の内部では、電源電圧Vdd(例えば、5V)をフラッシュメモリチップ11などが求める電源電圧の仕様に応じて、適宜、3Vなどに変換してもよい。
The SSD device 1 is supplied with a power supply voltage Vdd (for example, 5 V) from an external
制御回路12は、ホストコンピュータ2とフラッシュメモリチップ11との間にあって、ホストコンピュータ2によるフラッシュメモリチップ11へのデータの書き込みおよびフラッシュメモリチップ11からのデータの読み出しを仲介し、その仲介を制御する。すなわち、制御回路12は、ホストコンピュータ2との間のインターフェースと、フラッシュメモリチップ11との間のインターフェースの相違を調整する。
The
制御回路12は、この両者のインターフェースの相違を調整するために、RAM(Random Access Memory)などで構成された一時記憶メモリ(図示せず)を有している。すなわち、ホストコンピュータ2から転送されたデータは、この一時記憶メモリに一時記憶された後、制御回路12によってフラッシュメモリチップ11へ書き込まれる。また、制御回路12によってフラッシュメモリチップ11から読み出されたデータは、この一時記憶メモリに一時記憶された後、ホストコンピュータ2へ転送される。
The
ホストコンピュータ2は、SSD装置1を仮想的なハードディスク装置とみなしてSデータの読み書きを実行する。そのため、ホストコンピュータ2は、SSD装置1に対するデータの読み書きに際しては、ハードディスク装置でいうデータの格納場所であるトラックアドレスおよびセクタアドレスを指定する。従って、制御回路12は、ホストコンピュータ2により指定されるトラックアドレスおよびセクタアドレスを、フラッシュメモリチップ11の物理アドレス(ページアドレスやブロックアドレス)に変換する役割も担う。
The
図1に示すように、制御回路12とフラッシュメモリチップ11とは、アドレス/データバス(A/D bus)で接続されるとともに、制御回路12は、データの読み書きを行うための各種制御信号をフラッシュメモリチップ11に向けて出力する。なお、図1では、その各種制御信号の内、データ読み出しタイミングを制御する信号を制御信号REと表し、複数のフラッシュメモリチップ11の中から制御対象とするフラッシュメモリチップ11を選択する信号を制御信号CS1,CS2,CS3と表し、これら以外の制御信号を制御信号CNTと表している。
As shown in FIG. 1, the
なお、以上のように構成される制御回路12は、1チップタイプのマイクロコンピュータ、FPGA(Field Programmable Gate Array)などを用いることより、コンパクトな回路として実現することができる。
The
昇圧回路13は、外部の電源回路3からの電源電圧Vdd(例えば、5V)の供給を受けて、その電源電圧Vddを昇圧し、フラッシュメモリチップ11に設定されている絶対最大定格電圧(例えば、7V)よりも高電圧の素子破壊電圧Vds(例えば、20V)を出力する。ただし、ここでは、昇圧回路13は、制御回路12から出力される昇圧指示信号BSがアクティブになったとき作動、すなわち、素子破壊電圧Vdsを出力する。また、制御回路12は、ホストコンピュータ2から、フラッシュメモリチップ11の素子破壊指令を受けたとき、昇圧指示信号BSをアクティブにするものとする。なお、昇圧指示信号BSは、所定時間後にインアクティブにされる。
The
また、本実施形態では、制御回路12からフラッシュメモリチップ11に出力される制御信号のうち制御信号REについては、ダイオード14を介してフラッシュメモリチップ11の入力端子に接続される。さらに、昇圧回路13から出力される素子破壊電圧Vdsが印加される配線は、ダイオード15を経由して、制御信号REの信号線上の、ダイオード14とフラッシュメモリチップ11の入力端子と間の点Pに接続されている。すなわち、ダイオード15は、昇圧回路13と制御信号REの信号線上の点Pをつなぐ配線上の途中に配置されている。さらに、この信号線の点Pが含まれる配線部分とアース間には、プルダウン抵抗Rが接続される。
In this embodiment, the control signal RE among the control signals output from the
ここで、ダイオード14は、制御回路12側からフラッシュメモリチップ11側への方向が順方向になるように設けられ、その逆方向の耐圧は、素子破壊電圧Vdsよりも高いものとする。また、ダイオード15は、昇圧回路13側から点P側への方向が順方向になるように設けられる。なお、ダイオード15の逆方向の耐圧は、電源電圧Vddの絶対最大定格電圧よりも高ければよい。なお、ダイオード14,15としては、通常のpn接合のダイオードを用いてもよいが、高周波特性に優れ、スイッチングスピードが速く、順方向の電圧降下の小さいショットキバリアダイオード(SBD)を用いるのが好ましい。
Here, the
このとき、昇圧回路13から素子破壊電圧Vdsが点Pに印加されると、素子破壊電圧Vdsは、フラッシュメモリチップ11の制御信号REの入力端子に印加される。そのため、素子破壊電圧Vdsの印加によって、フラッシュメモリチップ11内の入力ゲートが破壊され、制御信号REは、その入力ゲートより奥のフラッシュメモリチップ11の内部へ伝達されないことになる。従って、フラッシュメモリチップ11内では、メモリセルからのデータの読み出し信号を生成することができなくなるので、制御回路12は、フラッシュメモリチップ11からデータを読み出すことができない。
At this time, when the element breakdown voltage Vds is applied to the point P from the
一方、昇圧回路13から素子破壊電圧Vdsが点Pに印加されても、制御回路12への素子破壊電圧Vdsの印加は、ダイオード14によって阻止されるので、素子破壊電圧Vdsにより制御回路12が破壊されることはない。
On the other hand, even if the element breakdown voltage Vds is applied from the
なお、ダイオード15は、通常の動作時、すなわち、昇圧指示信号BSがインアクティブであるとき(昇圧回路13が動作していないとき)に、制御信号REを昇圧回路13から切り離す役割を果たす。
The
以上、本実施形態では、制御回路12は、ホストコンピュータ2から昇圧指令を受けると、昇圧指示信号BSをアクティブにし、そのアクティブな昇圧指示信号BSを昇圧回路13に出力する。また、昇圧回路13は、アクティブな昇圧指示信号BSを受けると、昇圧動作を開始して素子破壊電圧Vdsを生成し、その生成した素子破壊電圧Vdsを、ダイオード15を経由させて制御信号REの信号線上の点Pに印加する。この素子破壊電圧Vdsの印加によりフラッシュメモリチップ11内の入力ゲートが破壊されるので、制御回路12は、フラッシュメモリチップ11からのデータの読み出しが不可能な状態になる。
As described above, in the present embodiment, when receiving the boost command from the
よって、SSD装置1を廃棄する場合、ホストコンピュータ2は、SSD装置1に対して昇圧指令を出力することにより、SSD装置1に記憶されているデータの読み出しを不可能にすることができる。すなわち、本実施形態によれば、従来の一般的なSSD装置に昇圧回路13、ダイオード14,15およびプルダウン抵抗Rを追加するだけで、廃棄するSSD装置1からの情報漏洩を防止することが可能になる。しかも、そのとき必要となるホストコンピュータ2側の処理は、昇圧指令を出力するだけという簡単な処理で済む。
Therefore, when discarding the SSD device 1, the
また、本実施形態では、素子破壊電圧Vdsは、特許文献1に示されているようにフラッシュメモリチップ11の電源端子に供給されるのではなく、制御信号REの入力端子に供給される。制御信号REの入力端子は、電源端子と異なり、入力インピーダンスが大きい。そのため、入力回路のゲートを破壊するのに必要な素子破壊電圧Vdsの電流容量は、小さくて済む。これは、昇圧回路13の規模が小さくて済むことを意味する。
In this embodiment, the element breakdown voltage Vds is not supplied to the power supply terminal of the
また、本実施形態では、制御信号REの信号線に素子破壊電圧Vdsが印加されても、ダイオード14により制御回路12が破壊されることを防止することができる。従って、制御回路12は、制御信号REの信号線に素子破壊電圧Vdsが印加された後であっても、その素子破壊電圧Vdsの印加が解除されれば正常に動作する。その結果、素子破壊電圧Vdsによりフラッシュメモリチップ11の入力回路が破壊された後、制御回路12がフラッシュメモリチップ11からデータを読み出すことにより、フラッシュメモリチップ11の入力回路が破壊されたことを確認すること可能になる。
In the present embodiment, even when the element breakdown voltage Vds is applied to the signal line of the control signal RE, the
ちなみに、制御信号REの入力回路が破壊されたフラッシュメモリチップ11から読み出されるデータは、全く意味のないデータ(全ビット0なども含む)となる。SSD装置1の場合、制御回路12は、フラッシュメモリチップ11からデータを読み出すとき、ページデータを単位として読み出すが、そのページデータには、リード・ソロモン符号など誤り検査訂正符号のデータが付加されている。従って、制御回路12は、その誤り検査訂正符号のデータを用いて、読み出したデータにおける誤りの有無を検査することができる。制御信号REの入力回路が破壊されている場合、誤り検査訂正符号のデータも意味のないデータとなる。そのため、この誤りの検査では、読み出されたページデータは、当然誤り有りと判定される。
Incidentally, the data read from the
そこで、制御回路12がSSD装置1に含まれるフラッシュメモリチップ11から全ページのデータを読み出し、その全てのページデータについての誤り検査訂正符号の検査で誤り有りと判定された場合には、全てのフラッシュメモリチップ11から正常なデータが読み出せなくなったと判断することができる。従って、制御回路12は、フラッシュメモリチップ11から正常なデータの読み出しができなくなったか否かを確認することができる。さらに、このことは、ホストコンピュータ2がフラッシュメモリチップ11から正常なデータの読み出しが不可能になったことを確認することができることを意味する。
Therefore, when the
<第1の実施形態の変形例>
図2は、本発明の第1の実施形態の変形例に係るSSD装置1aの構成の例を示した図である。なお、この変形例に係るSSD装置1aの構成は、次の2点において図1に示したSSD装置1と相違している。
<Modification of First Embodiment>
FIG. 2 is a diagram showing an example of the configuration of the
(1)昇圧回路13から出力される素子破壊電圧Vdsを導通させる配線は、ダイオード15に直接接続されるのではなく、スイッチ16を経由してダイオード15に接続される。すなわち、スイッチ16は、昇圧回路13とダイオード15とをつなぐ配線の途中に配置される。このスイッチ16は、接合型またはMOS(Metal Oxide Semiconductor)型の電界効果トランジスタ(FET:Field Effect Transistor)で構成してもよく、リレーなど機械的なスイッチで構成してもよい。
(2)制御回路12は、昇圧回路13に対し昇圧指示信号BS(図1参照)を出力するのではなく、スイッチ16に対しスイッチオン信号SWAを出力する。ここで、スイッチオン信号SWAがアクティブになったとき、スイッチ16は導通状態となり、スイッチオン信号SWAがインアクティブになったとき、スイッチ16は非導通状態となる。なお、スイッチオン信号SWAは、所定時間アクティブになった後、インアクティブに制御される。また、この場合、昇圧回路13は、常に素子破壊電圧Vdsを生成するものであってもよい。
(1) The wiring for conducting the element breakdown voltage Vds output from the
(2) The
本変形例では、昇圧回路13は、制御回路12からスイッチオン信号SWAがアクティブ前から素子破壊電圧Vdsを生成するものであってもよい。その場合、制御回路12からスイッチオン信号SWAがアクティブになると、素子破壊電圧Vdsは、直ちにスイッチ16およびダイオード15を経て、制御信号REの信号線に印加される。従って、制御信号REの電圧は、急激に高電圧側に変化するため、その急激な変化により、フラッシュメモリチップ11内の制御信号REの入力回路が破壊されやすくなる。
In this modification, the
なお、以上の点を除けば、図2に示したSSD装置1aの作用および効果は、図1に示したSSD装置1の作用および効果とほとんど同じであるので、以下、繰り返しとなる説明を省略する。
Except for the above points, the operation and effect of the
<第1の実施形態の第2の変形例>
第2の変形例については、図示を省略する。この第2の変形例では、昇圧回路13は、予め定められた複数種の素子破壊電圧(例えば、20V,30V,50Vなど)を出力可能なように構成されている。そして、制御回路12からの指示に従い、前記の複数種の素子破壊電圧の中から1つを選択し、素子破壊電圧Vdsとして出力する。そのため、制御回路12から昇圧回路13に向けて出力する昇圧指示信号BSは、1本ではなく、複数本とするのがよい。例えば、昇圧回路13が20V,30V,50Vなど3種類の素子破壊電圧を出力可能な場合、制御回路12は、その素子破壊電圧の種類の数と同数の3本の昇圧指示信号BS(BS1,BS2,BS3)を用いて、そのいずれかの素子破壊電圧を選択する。
<Second Modification of First Embodiment>
The illustration of the second modification is omitted. In the second modification, the
なお、以上のような昇圧回路13は、例えば、多段の昇圧用のチャーチポンプを備えた昇圧回路により実現することができる。すなわち、出力すべき素子破壊電圧Vdsの電圧が指示されたときには、その電圧に対応する段数のチャージポンプの出力電圧を選択し、そのチャージポンプからの出力電圧を昇圧回路13の素子破壊電圧Vdsとすることができる。
The
当然ではあるが、本変形例においても、制御信号REの信号線上の点Pに素子破壊電圧Vdsを印加することにより、フラッシュメモリチップ11の制御信号REの入力回路を破壊することができる。しかしながら、フラッシュメモリチップ11の入力回路には、静電気などの保護のために保護回路が組み込まれているのが一般的である。そのため、制御信号REの信号線上の点Pに素子破壊電圧Vds(例えば、20V)が印加されても、フラッシュメモリチップ11の制御信号REの入力回路が破壊されないことは十分にあり得ることである。
Naturally, also in this modification, the input circuit of the control signal RE of the
一方、制御信号RE上の制御回路12側には、印加する素子破壊電圧Vdsよりも高い逆方向の耐圧を有するダイオード14が設けられているため、点Pに素子破壊電圧Vdsが印加されても、制御回路12は破壊されない。
On the other hand, since the
そこで、本変形例では、例えば、昇圧回路13から例えば20Vの素子破壊電圧Vdsを制御信号REの信号線上の点Pに印加し、フラッシュメモリチップ11の制御信号REの入力回路を破壊する。その後、制御回路12は、フラッシュメモリチップ11の全データを読み出し、その読み出しが可能であったか否かを判定する。その判定の結果、一部にせよデータ読み出しが可能であった場合には、点Pに印加する素子破壊電圧Vdsをさらに高電圧(例えば、30V)にする。そして、その高電圧にした素子破壊電圧Vdsを、再度、制御信号REの信号線上の点Pに印加し、フラッシュメモリチップ11の制御信号REの入力回路を破壊する。このように、本変形例では、制御回路12が以上のような手順を繰り返し実行することにより、フラッシュメモリチップ11のデータをより確実に読み出し不可能にすることができる。
Therefore, in this modification, for example, the element breakdown voltage Vds of 20 V, for example, is applied from the
図3は、本発明の第1の実施形態において、フラッシュメモリチップ11のデータをより確実に読み出し不可能とするために制御回路により実行される処理手順の例を示した図である。この処理手順では、制御回路12は、まず、昇圧回路13が出力すべき素子破壊電圧Vdsの初期値(例えば、20V)を設定する(ステップS11)。フラッシュメモリチップ11の入力回路の
FIG. 3 is a diagram showing an example of a processing procedure executed by the control circuit in order to make it impossible to read data of the
次に、制御回路12は、昇圧回路13に対し、制御信号REの信号線上の点Pへの素子破壊電圧Vdsの印加を指示する(ステップS12)。すなわち、制御回路12は、昇圧指示信号BS(例えば、20Vに対応付けられた昇圧指示信号BS1)をアクティブにする。そして、所定の時間(例えば、5秒)経過の後、制御回路12は、昇圧回路13に対し、制御信号REの信号線上の点Pへの素子破壊電圧Vdsの印加の停止を指示する(ステップS13)。すなわち、制御回路12は、アクティブな昇圧指示信号BS(例えば、前記のBS1)をインアクティブにする。
Next, the
続いて、制御回路12は、フラッシュメモリチップ11に記憶されているデータを全て読み出す(ステップS14)。そして、このデータ読み出し時にハードディスク装置でいうページに対応するデータ(ページデータ)ごとに、そのページデータに付された誤り検査訂正符号による読み出しデータの誤り検査を実行し、誤りの有無を判定する(ステップS15)。その判定の結果、全てのページデータについて、誤り有りと判定された場合には(ステップS15でYes)、制御回路12は、フラッシュメモリチップ11の全データを正しく読み出すことができなかったことになるので、フラッシュメモリチップ11からのデータ読み出しは不可能になったと判断し、図3の処理を終了する。
Subsequently, the
一方、ステップS15の判定において、一部のページのデータについて、誤り検査訂正符号の検査で誤りなしと判定された場合には(ステップS15でNo)、フラッシュメモリチップ11における制御信号REの入力回路が十分には破壊されていないことを意味する。そこで、この場合には、制御回路12は、昇圧回路13に出力すべき高電圧の値を、例えば、20Vから30Vへとより高電圧に変更し(ステップS16)、ステップS12以下の処理を繰り返し実行する。
On the other hand, if it is determined in step S15 that there is no error in the error check correction code check for some pages of data (No in step S15), the input circuit of the control signal RE in the
すなわち、以上の第1の実施形態の第2の変形例によれば、制御回路12は、フラッシュメモリチップ11における制御信号REの入力回路を破壊する素子破壊電圧Vdsを印加し、その破壊結果を確認し、破壊が不十分な場合には、印加する素子破壊電圧Vdsをさらに高くする処理を繰り返す。従って、フラッシュメモリチップ11における制御信号REの入力回路は、より確実に破壊される。よって、フラッシュメモリチップ11に記憶されていた情報の漏洩を、より確実に防止することが可能になる。
That is, according to the second modification of the first embodiment described above, the
なお、ステップS12以下の繰り返し処理は、昇圧回路13で出力可能にされている素子破壊電圧Vdsの数しか繰り返すことができない。従って、昇圧回路13で出力可能にされている素子破壊電圧Vdsのうち、万一最高の電圧でもフラッシュメモリチップ11における制御信号REの入力回路をすべて破壊できなかった場合には、制御回路12は、その旨をホストコンピュータ2に報告するようにしておくとよい。その場合には、ホストコンピュータ2は、そのSSD装置1を、例えば、物理的または機械的に破壊すべきであることを作業者に知らせることができる。
Note that the iterative process after step S12 can be repeated only for the number of element breakdown voltages Vds that can be output by the
<第2の実施形態>
図4は、本発明の第2の実施形態に係るSSD装置1bの構成の例を示した図である。なお、この第2の実施形態に係るSSD装置1bの構成は、次の2点において図1に示したSSD装置1と相違している。
<Second Embodiment>
FIG. 4 is a diagram showing an example of the configuration of the
(1)昇圧回路13から出力される素子破壊電圧Vdsは、制御信号REの信号線上の点Pに印加されるのではなく、それぞれ独立のダイオード15を経由し、それぞれ制御信号CS1,CS2,CS3の信号線上の点P1,P2,P3に印加される。
(2)ダイオード14は、制御信号REの信号線上ではなく、制御信号CS1,CS2,CS3の信号線上の点P1,P2,P3と制御回路12の制御信号CS1,CS2,CS3の出力端子との間に設けられる。また、制御信号CS1,CS2,CS3の信号線の点P1,P2,P3が含まれる配線部分とアース間には、それぞれプルダウン抵抗R1,R2,R3が接続される。
(1) The element breakdown voltage Vds output from the
(2) The
ここで、制御信号CS1,CS2,CS3は、いずれも同時にはアクティブにはならない信号である。そして、そのいずれかがアクティブになることにより、そのアクティブになった制御信号CS1,CS2,CS3が接続されたフラッシュメモリチップ11の入力および出力信号を有効化させる。従って、制御信号CS1,CS2,CS3がアクティブにならない限り、その制御信号CS1,CS2,CS3が接続されたフラッシュメモリチップ11からデータを読み出すことはできない。すなわち、制御信号CS1,CS2,CS3は、制御回路12がデータ読み書きの制御対象とするフラッシュメモリチップ11を選択する信号といえる。
Here, the control signals CS1, CS2 and CS3 are all signals that do not become active at the same time. Then, when one of them becomes active, the input and output signals of the
そこで、第2の実施形態では、制御信号CS1,CS2,CS3の信号線上の点P1,P2,P3それぞれに素子破壊電圧Vdsが印加されると、その素子破壊電圧Vdsにより、フラッシュメモリチップ11内の制御信号CS1,CS2,CS3それぞれに対応する入力回路が破壊される。従って、これらの入力回路が破壊されると、制御回路12により制御信号CS1,CS2,CS3がアクティブ化されても、そのアクティブ化された制御信号CS1,CS2,CS3は、フラッシュメモリチップ11の内部に伝達されない。その結果、制御回路12は、フラッシュメモリチップ11に記憶されているデータを読み出すことができなくなり、形式的に読み出されたデータは、全く無意味なデータとなる。
Therefore, in the second embodiment, when the element breakdown voltage Vds is applied to each of the points P1, P2, and P3 on the signal lines of the control signals CS1, CS2, and CS3, the element breakdown voltage Vds causes the inside of the
従って、第2の実施形態に係るSSD装置1bの作用および効果は、図1に示した第1の実施形態に係るSSD装置1の作用および効果とほとんど同じになるので、その繰り返しの説明を省略する。
Therefore, the operation and effect of the
<第2の実施形態の変形例>
図5は、本発明の第2の実施形態の変形例に係るSSD装置1cの構成の例を示した図である。なお、この変形例に係るSSD装置1cの構成は、次の2点において図4に示したSSD装置1bと相違している。
<Modification of Second Embodiment>
FIG. 5 is a diagram showing an example of the configuration of an
(1)昇圧回路13から出力される素子破壊電圧Vdsが導通する配線は、ダイオード15に直接接続されるのではなく、スイッチ16cを経由してダイオード15に接続されている。ここで、スイッチ16cは、接合型またはMOS型の電界効果トランジスタで構成してもよく、リレーなど機械的なスイッチで構成してもよい。
(2)制御回路12は、昇圧回路13に対し昇圧指示信号BS(図1参照)を出力するのではなく、スイッチ16cに対しスイッチオン信号SWAを出力する。ここで、スイッチオン信号SWAがアクティブになったとき、スイッチ16cは導通状態となり、スイッチオン信号SWAがインアクティブになったとき、スイッチ16cは非導通状態となる。なお、この場合、昇圧回路13は、常に素子破壊電圧Vdsを生成するものであってもよい。
(1) The wiring through which the element breakdown voltage Vds output from the
(2) The
本変形例では、昇圧回路13は、制御回路12からスイッチオン信号SWAが出力される前から素子破壊電圧Vdsを生成するものであってもよい。その場合、制御回路12からスイッチオン信号SWAが出力されると、素子破壊電圧Vdsは、直ちにスイッチ16cおよびダイオード15を経て、制御信号CS1,CS2,CS3の信号線上に印加される。従って、制御信号CS1,CS2,CS3の電圧は、急激に高電圧に変化するため、その急激な変化により、フラッシュメモリチップ11内の制御信号CS1,CS2,CS3の入力回路が破壊されやすくなる。
In this modification, the
なお、以上の点を除けば、図5に示したSSD装置1cの作用および効果は、図4に示したSSD装置1bの作用および効果とほとんど同じであるので、その繰り返しとなる説明を省略する。
Except for the above points, the operation and effect of the
<第3の実施形態>
図6は、本発明の第3の実施形態に係るSSD装置1dの構成の例を示した図である。なお、この第3の実施形態に係るSSD装置1dの構成は、次の2点において第1の実施形態に係るSSD装置1(図1参照)と相違している。
<Third Embodiment>
FIG. 6 is a diagram showing an example of the configuration of an
(1)昇圧回路13から出力される素子破壊電圧Vdsは、それぞれ独立のダイオード15を経由して、制御信号REの信号線上の点Pだけでなく、制御信号CS1,CS2,CS3の信号線上の点P1,P2,P3にも印加される。
(2)独立のダイオード14は、制御信号REの信号線上の点Pと制御回路12の制御信号REの出力端子との間だけではなく、制御信号CS1,CS2,CS3の信号線上の点P1,P2,P3と制御回路12の制御信号CS1,CS2,CS3の出力端子との間に設けられる。
(1) The element breakdown voltage Vds output from the
(2) The
この第3の実施形態に係るSSD装置1dの構成は、実質的には、前記した第1の実施形態に係るSSD装置1(図1参照)および第2の実施形態に係るSSD装置1b(図2参照)を組み合わせたものである。従って、その分、フラッシュメモリチップ11からデーを読み出せなくなる確実性が増大する効果を期待することができる。なお、その他の作用および効果は、第1の実施形態および第2の実施形態とほとんど同じになるので、その繰り返しの説明を省略する。
The configuration of the
<第4の実施形態>
図7は、本発明の第4の実施形態に係るSSD装置1eの構成の例を示した図である。なお、この第4の実施形態に係るSSD装置1eの構成は、人手で操作可能な廃棄ボタン17および廃棄保護スイッチ18が追加されている点で第1の実施形態に係るSSD装置1(図1参照)と相違している。
<Fourth Embodiment>
FIG. 7 is a diagram showing an example of the configuration of an
廃棄ボタン17は、SSD装置1eのユーザ又は廃棄業者がSSD装置1eを廃棄するときに押下する。廃棄ボタン17が押下されると、制御回路12は、昇圧回路13に昇圧指示信号BSを出力して、昇圧回路13から制御信号REの信号線上の点Pに素子破壊電圧Vdsを印加する。その結果、フラッシュメモリチップ11内の制御信号REの入力回路が破壊されるので、フラッシュメモリチップ11から記憶されていたデータを読み出すことができなくなる。従って、SSD装置1eに記憶されていた情報の漏えいは、実質的に防止される。
The discard
この廃棄ボタン17を設けたことにより、SSD装置1eをホストコンピュータ2に接続しなくても、例えば、ACアダプタなどの電源回路3から電源電圧Vddが供給されていれば、人手でフラッシュメモリチップ11に記憶されているデータの読み出しをできなくすることが可能になる。よって、SSD装置1eのユーザは、極めて簡単な操作で、その記憶内容の情報漏洩を防止した上で、安全にSSD装置1eを廃棄することができる。
By providing the discard
なお、以上のように簡単な操作でSSD装置1eのフラッシュメモリチップ11からの読み出しができなくなるとすると、ユーザによる誤操作対策もしておく必要がある。そこで、本実施形態では、廃棄ボタン17は、SSD装置1eの収納筐体の一部に形成された細い貫通孔内に設けられ、例えば、針などの部材をその貫通項に挿入しなければ、廃棄ボタン17を押下できないようにしておく。あるいは、廃棄ボタン17を、通常の力では割れないクラッカープレートを押し割って押下するようなボタンにしておく。
If it is impossible to read from the
さらに、廃棄ボタン17の他に廃棄保護スイッチ18を設けておいてもよい。この廃棄保護スイッチ18は、通常時はオン状態にあるとする。そして、この廃棄保護スイッチ18がオフ状態されていない限り、廃棄ボタン17が押下されても、制御回路12は、昇圧回路13に昇圧指示信号BSを出力しないものとする。同様に、廃棄保護スイッチ18がオフ状態にされていない場合には、制御回路12は、ホストコンピュータ2からの昇圧指令を受けても、昇圧回路13に昇圧指示信号BSを出力しないものとする。従って、廃棄保護スイッチ18は、ユーザの廃棄ボタン17の誤操作の防止だけではなく、ホストコンピュータ2からの昇圧指令の誤出力の防止にも有効である。
In addition to the discard
ここで、あるケースとして、ホストコンピュータ2に複数のSSD装置1eが接続されていることを想定する。ここで、廃棄しようとするSSD装置1eの廃棄保護スイッチ18をオフ状態にし、廃棄しないSSD装置1eの廃棄保護スイッチ18をオン状態のままとする。この場合には、ホストコンピュータ2のユーザは、廃棄しようとするSSD装置1eに対し、安全に昇圧指令を出力し、その廃棄を指示することができる。すなわち、ユーザのホストコンピュータ2の誤操作により、廃棄しないSSD装置1eを誤って廃棄することが防止される。
Here, as a case, it is assumed that a plurality of
また、本実施形態においては、第1の実施形態と同様に、制御回路12は、フラッシュメモリチップ11に素子破壊電圧Vdsを印加後も正常に動作し、さらに、フラッシュメモリチップ11から読み出したデータにおける誤り有無を検査することができる。そこで、SSD装置1eにさらに発光ダイオードなどを設け、フラッシュメモリチップ11から読み出した全てのページデータについて誤り検査訂正符号による検査を実施する。そして、その検査で誤り有りと判定された場合には、その発光ダイオードを点灯するようにしてもよい。これにより、ユーザは、フラッシュメモリチップ11からのデータが正常に読み出しできなくなったこと、すなわち、SSD装置1eからのデータ読み出し機能が破壊されたか否かを容易に確認することができる。また、スピーカやブザーなどを設け、音によってデータ読み出し機能が破壊されたか否かを容易に確認する構成としてもよい。
In the present embodiment, as in the first embodiment, the
<第5の実施形態>
図8は、本発明の第5の実施形態に係るSSD装置1fの構成の例を示した図である。なお、この第5の実施形態に係るSSD装置1fの構成は、次の2点において図1に示したSSD装置1と相違している。
<Fifth Embodiment>
FIG. 8 is a diagram showing an example of the configuration of an
(1)制御回路12の制御信号REの出力端子と素子破壊電圧Vdsが印加される点Pとの間には、ダイオード14(図1参照)ではなく、FETスイッチ19が設けられている。なお、FETスイッチ19は、MOS型でも接合型でもよいが、図8ではNチャネルのMOS型として描かれている。また、FETスイッチ19のドレイン−ソース耐圧は、素子破壊電圧Vdeよりも大きいものとする。なお、この場合、制御信号REの信号線をプルダウンするプルダウン抵抗Rは不要である。
(2)FETスイッチ19を駆動するインバータ回路20が追加されている。なお、インバータ回路20は、昇圧指示信号BSがインアクティブのとき、FETスイッチ19をオン状態にするのに十分な電圧を出力できるものとする。
(1) Between the output terminal of the control signal RE of the
(2) An
本実施形態では、制御回路12から出力される昇圧指示信号BSがインアクティブなとき、FETスイッチ19がオン状態すなわち導通状態となる。従って、制御回路12から出力される制御信号REは、FETスイッチ19を通過し、フラッシュメモリチップ11の入力端子に到達する。また、このときには、昇圧回路13が動作しないため、素子破壊電圧Vdeが制御信号REの信号線上の点Pに印加されることはない。
In the present embodiment, when the boost instruction signal BS output from the
一方、制御回路12から出力される昇圧指示信号BSがアクティブになると、FETスイッチ19がオフ状態すなわち非導通状態となる。そのため、素子破壊電圧Vdeが印加される制御信号REの信号線上の点Pと制御回路12の制御信号REの出力端子との間が電気的に切断された状態となる。従って、制御回路12の出力端子に素子破壊電圧Vdeが印加されることはないので、制御回路12が素子破壊電圧Vdeにより破壊されることはない。
On the other hand, when the boost instruction signal BS output from the
なお、以上の点を除けば、図8に示したSSD装置1fの作用および効果は、図1に示したSSD装置1の作用および効果とほとんど同じであるので、以下、繰り返しとなる説明を省略する。
Except for the above points, the operation and effect of the
<第5の実施形態の変形例>
図9は、本発明の第5の実施形態の変形例に係るSSD装置1gの構成の例を示した図である。なお、この変形例に係るSSD装置1gの構成は、次の2点において図8に示したSSD装置1fと相違している。
<Modification of Fifth Embodiment>
FIG. 9 is a diagram showing an example of the configuration of an
(1)昇圧回路13から出力される素子破壊電圧Vdsが導通する配線は、ダイオード15ではなく、FETスイッチ19aを経由して制御信号REの信号線上の点Pに接続されている。なお、FETスイッチ19aは、MOS型でも接合型でもよいが、図9ではNチャネルのMOS型として描かれている。また、FETスイッチ19aのドレイン−ソース耐圧は、素子破壊電圧Vdeよりも大きいものとする。
(2)制御回路12は、昇圧回路13に対し昇圧指示信号BS(図8参照)を出力するのではなく、FETスイッチ19aに対しスイッチオン信号SWAを出力する。ここで、スイッチオン信号SWAがアクティブになったとき、FETスイッチ19aは導通状態となり、スイッチオン信号SWAがインアクティブになったとき、FETスイッチ19aは非導通状態となる。なお、この場合、昇圧回路13は、常に素子破壊電圧Vdsを生成するものであってもよい。
(1) The wiring through which the element breakdown voltage Vds output from the
(2) The
この実施形態の変形例は、第5の実施形態に係るSSD装置1f(図8参照)を第1の実施形態の変形例に係るSSD装置1a(図2参照)に適用したものといえるが、ここでは、図2で示されているダイオード15は省略されている。その場合でも、スイッチオン信号SWAがインアクティブのときには、FETスイッチ19aが非導通状態となるため、昇圧回路13が動作しない場合であっても、制御信号REの電圧変動が昇圧回路13に伝達されることはない。
In the modification of this embodiment, it can be said that the
なお、以上の点を除けば、図9に示したSSD装置1gの作用および効果は、図8に示したSSD装置1fの作用および効果とほとんど同じであるので、以下、繰り返しとなる説明を省略する。
Except for the above points, the operation and effect of the
また、さらなる変形例として、図8および図9で説明した第5の実施形態に係るSSD装置1fおよびその変形例に係るSSD装置1gにおいて、FETスイッチ19,19aに代えて、機械的に動作するリレーなどのスイッチを用いたものであってもよい。
As a further modification, the
なお、本発明は、以上に説明した実施形態および変形例に限定されるものではなく、さらに、様々な変形例が含まれる。例えば、前記した実施形態および変形例は、本発明を分かり易く詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施形態や変形例の構成の一部を、他の実施形態や変形例の構成に置き換えることが可能であり、さらに、ある実施形態や変形例の構成に他の実施形態や変形例の構成を加えることも可能である。 The present invention is not limited to the above-described embodiments and modifications, and further includes various modifications. For example, the above-described embodiments and modified examples describe the present invention in detail in an easy-to-understand manner, and are not necessarily limited to those having all the configurations described. Further, a part of the configuration of an embodiment or modification can be replaced with the configuration of another embodiment or modification, and further, the configuration of another embodiment or modification can be replaced with another embodiment or modification. It is also possible to add the following configuration.
1,1a,1b,1c,1d,1e SSD装置(不揮発性半導体メモリ記憶装置)
2 ホストコンピュータ
3 電源回路
11 フラッシュメモリチップ(不揮発性半導体メモリチップ)
12 制御回路
13 昇圧回路
14 ダイオード(第1のダイオード)
15 ダイオード(第2のダイオード)
16,16c スイッチ
17 廃棄ボタン
18 廃棄保護スイッチ
19 FETスイッチ(第1のスイッチ)
19a FETスイッチ(第2のスイッチ)
20 インバータ回路
21 インターフェースケーブル
R プルダウン抵抗
Vdd 電源電圧
Vds 素子破壊電圧
CNT 制御信号
RE 制御信号(第1の制御信号)
CS1,CS2,CS3 制御信号(第2の制御信号)
BS,BS1,BS2,BS3 昇圧指示信号(素子破壊電圧印加指示信号)
SWA スイッチオン信号(素子破壊電圧印加指示信号)
1, 1a, 1b, 1c, 1d, 1e SSD device (nonvolatile semiconductor memory storage device)
2
12
15 Diode (second diode)
16,
19a FET switch (second switch)
20
CS1, CS2, CS3 control signal (second control signal)
BS, BS1, BS2, BS3 Boost instruction signal (element breakdown voltage application instruction signal)
SWA switch-on signal (element breakdown voltage application instruction signal)
Claims (10)
複数の制御信号を介して前記不揮発性半導体メモリチップに対するデータの読み書きを制御する制御回路と、
外部から供給される電源電圧を昇圧して、前記不揮発性半導体メモリチップに設定されている絶対最大定格電圧よりも高い電圧である素子破壊電圧を生成する昇圧回路と、
を備え、
前記制御回路から出力される素子破壊電圧印加指示信号に基づき、前記制御回路から前記不揮発性半導体メモリチップへ出力される前記制御信号のうち、前記不揮発性半導体メモリチップからのデータ読み出しタイミングを制御する第1の制御信号の信号線および制御の対象とする前記不揮発性半導体メモリチップを選択する第2の制御信号の信号線の少なくとも一方の信号線に、前記昇圧回路で生成される前記素子破壊電圧を印加すること
を特徴とする不揮発性半導体メモリ記憶装置。 A nonvolatile semiconductor memory chip capable of electrically writing and erasing data; and
A control circuit that controls reading and writing of data with respect to the nonvolatile semiconductor memory chip via a plurality of control signals;
A booster circuit that boosts a power supply voltage supplied from the outside and generates an element breakdown voltage that is higher than an absolute maximum rated voltage set in the nonvolatile semiconductor memory chip;
With
Based on the element breakdown voltage application instruction signal output from the control circuit, the timing for reading data from the nonvolatile semiconductor memory chip is controlled among the control signals output from the control circuit to the nonvolatile semiconductor memory chip. The element breakdown voltage generated by the booster circuit on at least one signal line of the signal line of the first control signal and the signal line of the second control signal that selects the nonvolatile semiconductor memory chip to be controlled A non-volatile semiconductor memory storage device, wherein:
を特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体メモリ記憶装置。 A first diode having a reverse breakdown voltage higher than the element breakdown voltage between an element breakdown voltage application point on the signal line to which the element breakdown voltage is applied and an output terminal of the signal line of the control circuit 2. The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 1, wherein a direction from the output terminal side to the element breakdown voltage application point side is a forward direction.
を特徴とする請求項2に記載の不揮発性半導体メモリ記憶装置。 A second diode having a reverse breakdown voltage higher than the power supply voltage is provided in the middle of the wiring from the element breakdown voltage output terminal of the booster circuit to the element breakdown voltage application point on the signal line. The nonvolatile semiconductor memory storage device according to claim 2, wherein a direction from the breakdown voltage output terminal side to the element breakdown voltage application point side is a forward direction.
を特徴とする請求項3に記載の不揮発性半導体メモリ記憶装置。 When the element breakdown voltage application instruction signal is active, in the middle of the wiring from the element breakdown voltage output terminal of the booster circuit to the second diode, the element breakdown voltage application instruction signal is inactive. The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 3, further comprising a switch that is in a non-conducting state at the time.
を特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体メモリ記憶装置。 Between the element breakdown voltage application point on the signal line to which the element breakdown voltage is applied and the output terminal of the signal line of the control circuit, when the element breakdown voltage application instruction signal is inactive, the conductive state, The non-volatile semiconductor memory storage device according to claim 1, further comprising a first switch that is turned off when the element breakdown voltage application instruction signal is active.
を特徴とする請求項5に記載の不揮発性半導体メモリ記憶装置。 In the middle of the wiring from the output terminal of the element breakdown voltage of the booster circuit to the element breakdown voltage application point on the signal line, the element breakdown voltage application instruction signal is in a conductive state when active, and the element breakdown voltage application The non-volatile semiconductor memory device according to claim 5, further comprising a second switch that is turned off when the instruction signal is inactive.
を特徴とする請求項2ないし請求項6のいずれか1項に記載の不揮発性半導体メモリ記憶装置。 The control circuit applies a first breakdown voltage to at least one of the signal line of the first control signal and the signal line of the second control signal via the booster circuit, and then the nonvolatile semiconductor memory When data is read from the chip and all of the read data is not in error, a second breakdown voltage higher than the first breakdown voltage is again applied to the first control signal via the booster circuit. The nonvolatile semiconductor memory storage device according to claim 2, wherein the nonvolatile semiconductor memory storage device is applied to at least one of a signal line and a signal line of the second control signal.
を特徴とする請求項1ないし請求項7のいずれか1項に記載の不揮発性半導体メモリ記憶装置。 The control circuit outputs the element breakdown voltage application instruction signal to the booster circuit when receiving an element breakdown command of the nonvolatile semiconductor memory chip output from a host computer connected to the outside. The non-volatile semiconductor memory storage device according to claim 1.
前記制御回路は、前記廃棄ボタンが押下されたとき、前記昇圧回路に対し前記素子破壊電圧印加指示信号を出力すること
を特徴とする請求項1ないし請求項8のいずれか1項に記載の不揮発性半導体メモリ記憶装置。 A disposal button that is manually operated is further provided.
9. The nonvolatile circuit according to claim 1, wherein when the discard button is pressed, the control circuit outputs the element breakdown voltage application instruction signal to the booster circuit. 10. Semiconductor memory storage device.
前記廃棄保護スイッチがオン状態であるとき、前記制御回路からの前記素子破壊電圧印加指示信号の出力が禁止され、前記廃棄保護スイッチがオフ状態であるとき、前記制御回路からの前記素子破壊電圧印加指示信号の出力が許容されること
を特徴とする請求項1ないし請求項9のいずれか1項に記載の不揮発性半導体メモリ記憶装置。 A waste protection switch that is manually operated is further provided.
When the discard protection switch is on, output of the element breakdown voltage application instruction signal from the control circuit is prohibited, and when the discard protection switch is off, the element breakdown voltage is applied from the control circuit. The non-volatile semiconductor memory device according to claim 1, wherein the output of the instruction signal is allowed.
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