JP6458473B2 - ラクトン類の製造方法 - Google Patents
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Description
ラクトン類は工業用溶剤や洗浄剤、高分子化学品の反応中間体として有用である。
即ち、水素化反応における反応混合物中の前記糖類濃度を所定の範囲内とすることで、高い収率でラクトンが得られることを見出し、本発明を完成した。
[1] バイオマス資源由来の原料から得られた、ジカルボン酸及び/又はその誘導体(以下まとめて「ジカルボン酸類」と記す)の水素化反応により対応するラクトン類を製造する方法において、前記水素化反応時の反応混合物中における単糖類と二糖類との合計濃度を10質量ppm以上、3000質量ppm未満とするラクトン類の製造方法。
[2] 単糖類と二糖類との合計濃度が20質量ppm以上、1000質量ppm以下である上記1のラクトン類の製造方法。
[3] 前記水素化反応を周期表の第8〜11族に属する金属を含む不均一触媒及び/又は均一触媒を用いて行うこと上記1または2のラクトン類の製造方法
[4] 前記触媒中の周期表の第8〜11族に属する金属がルテニウム及び/又は銅である上記3のラクトン類の製造方法。
[5] 前記触媒が有機リン系化合物を配位子として有するルテニウム錯体である前記4のラクトン類の製造方法。
[6] ジカルボン酸類がコハク酸及び/又はその誘導体である前記1〜5のいずれかのラクトン類の製造方法。
[7] バイオマス資源由来の原料から得られた、ジカルボン酸類の水素化反応により対応するラクトン類を製造する方法が、反応工程、精製工程及び精製工程から反応工程への触媒循環工程を有し、反応工程における反応混合物中の単糖類と二糖類の合計濃度を20質量ppm以上、1000質量ppm以下の範囲とするラクトン類の製造方法。
[8] 前記触媒循環工程において、溶媒の留去処理と触媒の抽出処理とを順次行い、かつ抽出処理時に反応工程に循環する単糖類と二糖類との合計量を調整する上記7のラクトン類の製造方法。
本発明においてはラクトン類(以下単に「ラクトン」と称することがある)の製造用原料としてジカルボン酸及び又はジカルボン酸誘導体(「ジカルボン酸類」)を用いる。ここで、ジカルボン酸誘導体はジカルボン酸無水物及び/又はジカルボン酸エステルを意味するものである。これらの原料は単独で用いてもよく、混合物でもよい。
具体的には、芳香族ジカルボン酸としては、例えば、フタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸、1,2−ナフタレンジカルボン酸、4−メチルフタル酸、3−メチルフタル酸、トリメリット酸などが挙げられ、中でも、フタル酸、4−メチルフタル酸、3−メチルフタル酸が好ましく用いられる。
また、前記の通り、本発明においては上記各種のジカルボン酸に加えて、対応する酸無水物やエステル類も用いることができる。エステルとしては、炭素数1〜4の直鎖状アルキルエステルが好ましく、特にジカルボン酸ジメチルエステルやジカルボン酸ジエチルエステルが好ましい。
本発明で使用するジカルボン酸類は、バイオマス資源から発酵工程を経て製造する方法(以下、「バイオ法」と称することがある)製造されたものを用いる。バイオ法で製造されたものは単糖類及び二糖類を含み、これらの合計濃度を制御することでジカルボン酸類の水素化反応を促進させることができ、高い収率でラクトン類を得ることができるからである。
発酵法による微生物変換の際の反応温度や圧力その他の反応条件は、選択される菌体、カビなど微生物の活性に依存し、目的に応じて適宜選択すればよい。
前記のバイオマス資源から製造されるジカルボン酸類中には微生物により利用(資化)されずに残った糖類が含まれることがある。また、本発明のラクトン類の製造方法において、原料ジカルボン酸類中に、微生物に資化されずに残った多糖類が単糖類や二糖類に分解されて含まれることがある。
即ち、本願に言う単糖類及び二糖類は、2つ以上のヒドロキシ基と1つ以上のアルデヒド基又はケトン基を有している。
このような糖誘導体は、糖類の発酵の際に副生することがある。
4.ラクトン類の生成反応
本発明のラクトン類の製造方法によれば、反応系内に単糖類も二糖類も含まない、例えば石油化学法により合成されたジカルボン酸類を用いたラクトン類の製造方法よりも高い収率でラクトン類を得ることができる。
単糖類及び二糖類は、疎水性の炭化水素基の割合に対して親水性のヒドロキシル基の割合が大きいため、反応混合物中の水分との親和性が高い。従って、反応混合物中の遊離水分を単糖類及び二糖類が捕捉することにより、系内の遊離水分の濃度を制御する機能があるものと考えられる。遊離水分が多すぎる場合、反応混合物中のジカルボン酸とジカルボン酸無水物の平衡が、「酸」側へ移動し、反応性の高いジカルボン酸無水物の濃度が低下するため反応速度が低下する。一方、遊離水分が過度に少なくなると、反応混合物中の求核性配位子であるジカルボン酸濃度が著しく低下して、水素化触媒の活性が低下することとなる。
水素化触媒の配位場が占有されてしまい、触媒活性が低下することが考えられる。
即ち、反応混合物中の単糖類及び二糖類の合計濃度を本発明に規定する範囲内とすることで、遊離水分の濃度を水素化反応に適した濃度に制御すると同時に、水素化触媒の活性を安定化することができ、ラクトン化反応が促進され、高い収率でラクトンを得ることができるものと考えられる。
以下、本発明の水素化に用いる糖濃度、触媒、及び水素化の反応条件に関して詳述する。
本発明の製造方法における反応混合物中には、単糖類及び/又は二糖類が合計濃度として10質量ppm以上、3000質量ppm未満含まれる。両者の合計濃度の下限値は、好ましくは20質量ppm以上であり、上限値は、好ましくは1000質量ppm以下、より好ましくは100質量ppm以下である。
この反応混合物中の単糖類及び二糖類の濃度は、高速液体クロマトグラフィー分析のような方法により測定することができる。またその濃度を本願所定の範囲に保つ方法としては、下限値を下回った場合には、循環工程における高沸点成分の系外への排出量を少なくしたり、あるいは反応系へ単糖類や二糖類を直接添加したり、循環液中の多糖類を加水分解して単糖類や二糖類を生成させたり、より高濃度の糖類を含む原料コハク酸を使用したりする方法を、一方その濃度が上限値を上回る場合には、循環工程における高沸点成分の系外への排出量を多くしたり、循環液中の糖類を晶析や抽出によって分離したり、糖を加熱分解させたり、より糖類含有量の低い原料コハク酸を使用したり、あるいは精製済みのラクトン類により反応系を希釈したりする方法を、それぞれ例示することができる。
これは運転開始当初は、反応系内への糖類の蓄積がないため、単純に原料混合物中の糖類濃度となって、本発明の単糖類及び二糖類の合計濃度に達しない場合があることを考慮したものである。
本発明に用いられる水素化触媒としては、周期律表の第8〜11族に属する金属から選ばれる少なくとも1種の金属を含むものが好ましい。第8〜11族遷移金属としては、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金などが挙げられ、中でも触媒活性の面でルテニウム、銅が好ましく、触媒活性が高いルテニウムが特に好ましい。
以下ルテニウム錯体触媒を例として説明する。触媒の原料としては、金属ルテニウム及
びルテニウム化合物のいずれもが使用可能である。
ルテニウム化合物としては酸化物、水酸化物、無機酸塩、有機酸塩あるいは錯化合物等が使用される。具体的には二酸化ルテニウム、四酸化ルテニウム、二水酸化ルテニウム、塩化ルテニウム、臭化ルテニウム、沃化ルテニウム、硝酸ルテニウム、酢酸ルテニウム、トリス(アセチルアセトナト)ルテニウム、ヘキサクロロルテニウム酸ナトリウム、テトラカルボニルルテニウム酸ジカリウム、ペンタカルボニルルテニウム、シクロペンタジエニルジカルボニルルテニウム、ジブロモトリカルボニルルテニウム、クロロトリス(トリフェニルホスフィン)ヒドリドルテニウム、テトラ(トリフェニルホスフィン) ジヒド
リドルテニウム、テトラ(トリメチルホスフィン) ジヒドリドルテニウム、ビス(トリ
−n −ブチルホスフィン) トリカルボニルルテニウム、ドデカカルボニルテトラヒドリドテトラルテニウム、ドデカカルボニルトリルテニウム、オクタデカカルボニルヘキサルテニウム酸ジセシウム、ウンデカカルボニルヒドリドトリルテニウム酸テトラフェニルホスフォニウム等が挙げられ、好ましくは塩化ルテニウム、トリス(アセチルアセトナト)ルテニウム、酢酸ルテニウムである。
このようなホスフィンの例としては、トリデカニルホスフィン、トリノニルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリヘプチルホスフィン、トリヘキシルホスフィン、トリペンチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリプロピルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリメチルホスフィン、ジメチルオクチルホスフィン、ジオクチルメチルホスフィン、ジメチルヘプチルホスフィン、ジヘプチルメチルホスフィン、ジメチルヘキシルホスフィン、ジヘキシルメチルホスフィン、ジメチルヘプチルホスフィン、ジヘプチルメチルホスフィン、ジメチルヘキシルホスフィン、ジヘキシルメチルホスフィン、ジメチルブチルホスフィン、ジブチルメチルホスフィン、トリペンチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリヘプチルホスフィン、トリベンジルホスフィン、ジメチルシクロヘキシルホスフィン、ジシクロヘキシルメチルホスフィン、1、1、2、2−ジメチルホスフィノエタン、1、1、2、2−ジメチルホスフィノプロパン、1、1、2、2−ジメチルホスフィノブタン、1、1、2、2−ジオクチルホスフィノエタン、1、1、2、2−ジオクチルホスフィノプロパン、1、1、2、2−ジオクチルホスフィノプロパン、1、1、2、2−ジオクチルホスフィノブタン、1、1、2、2−ジヘキシルホスフィノエタン、1、1、2、2−ジヘキシルホスフィノプロパン、1、1、2、2−ジヘキシルホスフィノブタン、1、1、2、2−ジブチルホスフィノエタン、1、1、2、2−ジブチルホスフィノプロパン、1、1、2、2−ジブチルホスフィノブタン、1、1−ジホスフィナン、1,4−ジメチル−1,4−ジホスファン、1、3−ジメチルホスフォリナン、1、4− ジメチルホスフォリナン、8−メチル−8−ホスフィノビシクロオクタン、4−メ
チル−4−ホスファテトラシクロオクタン、1−メチルホスフォラン、1−メチルホスフォナン等の単座、複座、環状、及びアルキル基に置換基を持つアルキルホスフィン類が挙げられる。
モル、好ましくは1〜100モルの範囲である。
また、本発明に用いるルテニウム錯体触媒はpKaが2より小さい酸の共役塩基を用いて、カチオン性錯体の形で反応に用いることも可能であり、活性の向上、触媒の安定化など幾つかの点において共役塩基の使用が有効である。pKaが2よりも小さい酸の共役塩基としては触媒調整時または反応系中においてこのような共役塩基を形成するものであればよく、その供給形態としてはpKaが2より小さいブレンステッド酸あるいはその各種の塩などが用いられる。
これら酸あるいはその塩の使用量は、ルテニウム金属に対して1000モル以下、好ましくは100モル以下である。10モル以下が特に好ましい。
本発明方法によるラクトン類の製造は、反応原料及び反応生成混合物を溶媒として実施することも、これら以外の溶媒等を、本発明方法が適用される反応の目的や進行を阻害しない限り、使用することもできる。
このような溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、アニソール、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類;メタノール、エタノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、フェノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール等のアルコール類;ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トルイル酸などのカルボン酸類;酢酸メチル、酢酸ブチル、安息香酸ベンジルなどのエステル類;ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素;n−ヘキサン、n−オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素;ジクロロメタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素;ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のカルボン酸アミド;ヘキサメチルリン酸トリアミドその他のアミド類;N ,N−ジメチ
ルイミダゾリジノン等の尿素類;ジメチルスルホン等のスルホン類;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類;カプロラクトン等のラクトン類;テトラグライム、トリグライム等のポリエーテル類;ジメチルカーボネート、エチレンカーボネート等の炭酸エステル類等が挙げられ、好ましくはエーテル類、ポリエーテル類、およびラクトン類である。
本発明方法で実施される水素化反応は連続、回分いずれの方式も用いることができる。反応温度は、通常50〜250℃、好ましくは100〜250℃、さらに好ましくは150〜220℃である。反応系内の水素分圧は特に限られないが、工業的な実施においては通常0.01〜10MPa・G(ゲージ圧、以下同じ。)であり、好ましくは0.03〜5MPa・Gである。反応生成液からは、蒸留、抽出等の通常の分離手段により目的生成物であるラクトン類を分離する。
1質量% である。水分が多すぎるとジカルボン酸とその無水物との平衡がジカルボン酸
側に移るため、ジカルボン酸無水物濃度が低くなってラクトンの生成速度が低下する。水分が少なすぎるとルテニウム触媒の対アニオンとなるジカルボン酸濃度が低下し、触媒のカチオン性が低下するため、触媒の水素化反応活性が低下する。
本発明方法では、前記のような手順でラクトン類を製造することができる。
本発明方法が適用できるラクトン類の具体例としては、前記の原料ジカルボン酸類に対応する化合物であり、最も好ましい例としては、コハク酸、コハク酸無水物若しくはコハク酸エステル又はそれらの混合物を原料としたγ−ブチロラクトン(GBL)である。
本発明の反応方法で得られたラクトン類は、反応終了後に抽出、蒸留、晶析などの一般的な操作によって精製して、高純度の精製ラクトンを得ることができる。
また、これらの精製操作によりラクトン類を分離した後の、残渣中には未反応の原料ジカルボン酸以外にも、原料中に含有されている単糖類、二糖類その他の糖類などが含まれている。これらを上記精製工程において一部を系外へ排出し、一部を反応系に循環することにより、反応混合物中の単糖類及び二糖類の濃度を制御することができる。
反応液又は反応混合物からの目的生成物の分離・精製は、蒸留法を用いて常法により行うことができ、反応に用いた溶媒の種類によっては、減圧蒸留法を採用してもよい。
反応混合物中には、目的生成物であるラクトン類以外に、未反応のジカルボン酸成分、触媒、溶媒、糖類等の高沸点成分や、原料中の不純物や反応中に精製した副生成物などの低沸点成分が含まれているので、これらを蒸留により分離する。
上記の蒸留は、蒸留塔1基を用いて、ラクトン類を蒸留塔中段から抜き出す方法も可能であるが、通常は運転操作の安定性や蒸留塔の塔高その他の理由から、複数段、好ましくは2段の蒸留塔で行うことが好ましい。以下、2段の蒸留塔を用いる場合を例として、ラクトン類の蒸留精製について説明する。
本発明方法において用いることができる精製工程の一例を図1に示す。
図1の反応器から取り出された反応混合物は、第1蒸留塔において、ラクトンよりも高沸点の成分である、未反応のジカルボン酸類、触媒、溶媒、糖類等が除去される。
蒸留塔の塔頂部から取り出されたラクトン類は第2蒸留塔に供給され、塔底部から高沸点成分が排出される。この高沸点成分は抽出器に供給される。
ラクトン類の留出に使用する第1蒸留塔としては、好ましくは理論段数として3段以上、100段以下の蒸留塔を用いることが好ましく、より好ましくは5段以上、50段以下である。理論段数が少なすぎると目的生成物であるラクトン類の純度が低下する傾向にあり、理論段数が多すぎると、蒸留に必要な熱量が増大し、経済的でなくなる。
上記の第1蒸留塔で得られた留出液はそのまま精製ラクトンとして製品化しても差し支えないが、図1に示すようにラクトンよりも低沸点の成分を除去する第2蒸留塔にて、更に精製することが好ましい。
第2蒸留塔からのラクトンを回収する部位に特に制限はないが、通常はここに供給される原料は、第1蒸留塔で高沸点成分を除去したラクトンであるので、塔底からラクトンを回収することが一般的である。
還流比は第1蒸留塔同様、目的とする精製ラクトン純度に応じて調整でき、例えば0.01以上、100以下、好ましくは0.1以上、50以下である。塔頂圧もラクトンの種類によって調整されるが、例えばGBLの場合は、絶対圧として1kPa・A以上、200kPa・A以下程度が好ましく、2kPa・A以上、100kPa・A以下がより好ましい。特に好ましいのは5kPa・A以上、50kPa・A以下である。また、塔底の温度は20℃以上、250℃以下が好ましく、より好ましくは50℃以上、230℃以下、特に好ましくは80℃以上、200℃以下である。
なお、図1には示されていないが、第2蒸留塔から回収したラクトンをさらに蒸留しても構わない。
上記の蒸留工程において、反応液又は反応混合物から目的生成物であるラクトン類を留出させた後の液(以下「触媒液」と呼ぶことがある)に含まれる触媒、未反応のジカルボ
ン酸類、溶媒、糖類等は、そのまま反応工程へ循環させても構わないが、触媒液の少なくとも一部を抽出処理によって分離し、反応系に循環する成分と、系外へ排出する成分とに分離することが好ましい。触媒液の抽出に用いる溶媒としては、極性溶媒と非極性有機溶媒とを用いることが好ましい。
抽出効率を高くするため、抽出工程では撹拌を行うことが好ましい。撹拌時間は、分配平衡に達するまで行うのが好ましいが、途中で打ち切ってもよい。通常は10分〜5時間の範囲から適宜選定される。
触媒液中の成分のうち、糖類は極性溶媒相に分配される。この時、極性溶媒中の単糖類及び二糖類を、必要に応じて、その一部又は大部分を廃棄した上でプロセス内に循環させることによってプロセス内の単糖類及び二糖類の濃度を制御することができる。
図1に示すように、本発明方法においては、抽出工程で得られた触媒や未反応ジカルボン酸類と、単糖類及び/又は二糖類を含む触媒液を反応工程に循環することが好ましい。
循環する成分としては、上記有効成分以外に、反応工程に悪影響を及ぼさない限り、溶
媒その他の成分を含んでいてもよいが、目的生成物よりも高沸点の成分を循環させることが好ましい。
本発明においては、上記方法を用いることにより反応原料中に混在する糖類が高沸点成分として触媒に随伴して循環しプロセス内に蓄積する。このため、反応工程における単糖類及び二糖類の合計濃度を本発明の範囲内とするためには、例えば、前記糖類を含む高沸点成分の一部を系外へ排出(パージ)することが好ましい。
例えば図1の抽出器で、触媒を非極性溶媒層に抽出し、これと分離した糖類を含む極性溶媒層をパージすることで、同時に高沸点成分もパージできるので、経済的に有利である。
1.原料
コハク酸及びグルコース:試薬特級(和光純薬工業(株)製)
[ガスクロマトグラフィー分析]
ガスクロマトグラフィー分析装置((株)島津製作所製GC−17A型)にて、Agilent社製DB−1カラム(無極性)を用い、GBLを分析した。
[液体クロマトグラフィー分析]
高速液体クロマトグラフィー分析装置((株)島津製作所製LC−10Ai)にて、三菱化学(株)製MCI GEL CK08EHカラムを用い、糖分析を行った。溶離液は0.02%蟻酸水溶液を使用した。
[誘導結合プラズマ発光分析(ICP−OES)]
ICP発光分光計(サーモサイエンティフィック社製iCAP6500Duo、ペルチェ冷却有機溶媒導入システム)にて、有機溶媒直接導入法によりRu分析を行った。
<実施例1>
100mlのオートクレーブ(材質:SUS316)に、コハク酸5.9g(11.8質量%)、トリオクチルホスフィンを配位子として有するルテニウム錯体をトリグライムに溶解したもの5.0g(Ru:400質量ppm)、グルコースを0.001g(グルコース:20質量ppm)、及び溶媒としてトリグライムを33.1g仕込み、磁気回転撹拌子をオートクレーブ内に投入後、系内を水素で十分置換した。マグネチックスターラーを用いて撹拌しながら昇温し、オートクレーブ内温が205℃となったところで内圧が0.9MPa・G(Gはゲージ圧を示す)となるよう水素を圧入した。このときを反応開始時とし、引き続き2時間水素化反応を行った。反応終了後、得られた反応液を採取し、ガスクロマトグラフィーにより分析した結果、γ―ブチロラクトンの収率は27.3%であった。反応結果を表1に示す。
<実施例2〜4>
グルコース濃度を50、500、1000質量ppmとしたこと以外は実施例1と同様
に水素化反応を実施した。反応終了後、反応液を採取し、ガスクロマトグラフィーで分析した。反応結果を表1に示す。
グルコース濃度を3000質量ppmとしたこと以外は実施例1と同様に水素化反応を実施した。反応終了後、反応液を採取し、ガスクロマトグラフィーで分析した。反応結果を表1に示す。
水素化反応原料にグルコースの添加を行わなかった(水素化反応原料中のグルコース濃度20質量ppm未満)以外は実施例1と同様に水素化反応を実施した。反応終了後、反応液を採取し、ガスクロマトグラフィーで分析した。反応結果を表1に示す。
実施例1〜4では水素化反応時のグルコース(単糖類)の濃度を本願規定の範囲内とすることで、GBL収率が安定して高くなっている。
比較例1、2ではこの濃度が本願範囲を超えており、収率が著しく低下している。上記の結果より、本発明の効果は明らかである。
Claims (7)
- バイオマス資源由来の原料から得られた、ジカルボン酸及び/又はその誘導体(以下ま
とめて「ジカルボン酸類」と記す)の水素化反応により対応するラクトン類を製造する方
法において、前記水素化反応時の反応混合物中における単糖類と二糖類との合計濃度を2
0質量ppm以上、1000質量ppm以下とすることを特徴とするラクトン類の製造方
法。 - 前記水素化反応を周期表の第8〜11族に属する金属を含む不均一触媒及び/又は均一
触媒を用いて行うことを特徴とする請求項1に記載のラクトン類の製造方法。 - 前記触媒中の周期表の第8〜11族に属する金属がルテニウム及び/又は銅である請求
項2に記載のラクトン類の製造方法。 - 前記触媒が有機リン系化合物を配位子として有するルテニウム錯体である請求項3に記
載のラクトン類の製造方法。 - ジカルボン酸類がコハク酸及び/又はその誘導体である請求項1〜4のいずれか1項に
記載のラクトン類の製造方法。 - バイオマス資源由来の原料から得られた、ジカルボン酸類の水素化反応により対応する
ラクトン類を製造する方法が、反応工程、精製工程及び精製工程から反応工程への触媒循
環工程を有し、反応工程における反応混合物中の単糖類と二糖類の合計濃度を20質量p
pm以上、1000質量ppm以下の範囲とすることを特徴とするラクトン類の製造方法
。 - 前記触媒循環工程において、溶媒の留去処理と触媒の抽出処理とを順次行い、かつ抽出
処理時に反応工程に循環する単糖類と二糖類との合計量を調整することを特徴とする請求
項6に記載のラクトン類の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014248252A JP6458473B2 (ja) | 2013-12-09 | 2014-12-08 | ラクトン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013254380 | 2013-12-09 | ||
JP2013254380 | 2013-12-09 | ||
JP2014248252A JP6458473B2 (ja) | 2013-12-09 | 2014-12-08 | ラクトン類の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015131799A JP2015131799A (ja) | 2015-07-23 |
JP6458473B2 true JP6458473B2 (ja) | 2019-01-30 |
Family
ID=53899345
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014248252A Active JP6458473B2 (ja) | 2013-12-09 | 2014-12-08 | ラクトン類の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6458473B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10544241B2 (en) * | 2016-09-15 | 2020-01-28 | Fina Technology, Inc. | Farnesene-based macromonomers and methods of making and using the same |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4001282A (en) * | 1973-02-12 | 1977-01-04 | General Electric Company | Process for producing gamma-butyrolactone |
JPH0778054B2 (ja) * | 1986-08-19 | 1995-08-23 | 三菱化学株式会社 | ラクトン類の製造方法 |
JP2516805B2 (ja) * | 1989-02-06 | 1996-07-24 | 三菱化学株式会社 | ラクトン類の製造方法 |
JPH07121927B2 (ja) * | 1989-10-24 | 1995-12-25 | 三菱化学株式会社 | ラクトン類の製造法 |
JPH0782260A (ja) * | 1993-09-14 | 1995-03-28 | Tosoh Corp | ラクトン類の製法 |
WO2010035837A1 (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-01 | 三菱化学株式会社 | コハク酸およびその製造方法 |
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JP2015131799A (ja) | 2015-07-23 |
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