JP6454629B2 - 基板液処理装置 - Google Patents

Description

開示の実施形態は、基板液処理装置に関する。

従来、半導体ウェハやガラス基板といった基板に対して洗浄処理等の所定の基板処理を施す基板液処理装置が知られている。また、基板液処理装置にあっては、処理液を用いて基板を処理する液処理ユニットが配置される処理部を備え、かかる処理部の下に、処理液を貯留する貯留部と、貯留部内の処理液を液処理ユニットへ送り出す送液機構とが配置されている（たとえば特許文献１参照）。

特開２００８−３４４９０号公報

しかしながら、上述した基板液処理装置にあっては、貯留部と送液機構とが処理部の下の同じ場所に配置されているため、処理部の下に比較的大きな配置スペースが必要となっていた。そのため、上述した基板液処理装置には、省スペース化を図るという点でさらなる改善の余地があった。

実施形態の一態様は、省スペース化を図ることのできる基板液処理装置を提供することを目的とする。

実施形態の一態様に係る基板液処理装置は、搬送部と、処理部と、貯留部と、送液機構とを備える。搬送部は、基板を搬送する搬送装置が配置される。処理部は、前記搬送部に水平方向に隣接し、処理液を用いて前記基板を処理する液処理ユニットが配置される。貯留部は、前記処理液を貯留する。送液機構は、前記貯留部に貯留された前記処理液を前記液処理ユニットへ送り出す。前記貯留部は、前記搬送部の直下に配置される。また、前記送液機構は、前記処理部の直下に配置される。

実施形態の一態様によれば、基板液処理装置における省スペース化を図ることができる。

図１は、第１の実施形態に係る基板液処理システムの概略構成を示す図である。 図２は、基板処理システムの処理液供給系の概略構成を示す図である。 図３は、基板液処理装置の構成例を示す図である。 図４は、処理ステーションをＹ−Ｚ平面で切断したときの縦断面図である。 図５は、図４のＶ−Ｖ線断面図である。 図６は、処理ステーションをＸ−Ｚ平面で切断したときの縦断面図である。 図７は、第１の実施形態の変形例に係る基板液処理装置を説明するための図である。 図８は、ヒータから処理ユニットまでの液配管を模式的に示す側面図である。 図９は、第２の実施形態に係る基板液処理装置を説明するための図である。 図１０は、第２の実施形態の変形例に係る基板液処理装置を説明するための図である。 図１１は、第３の実施形態に係る処理ユニットの概略構成を示す図である。 図１２は、第４の実施形態に係る処理液供給系の概略構成を示す図である。

以下、添付図面を参照して、本願の開示する基板液処理装置の実施形態を詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態によりこの発明が限定されるものではない。

（第１の実施形態）
図１は、本実施形態に係る基板処理システムの概略構成を示す図である。以下では、位置関係を明確にするために、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸を規定し、Ｚ軸正方向を鉛直上向き方向とする。

図１に示すように、基板処理システム１は、搬入出ステーション２と、処理ステーション３とを備える。搬入出ステーション２と処理ステーション３とは隣接して設けられる。

搬入出ステーション２は、キャリア載置部１１と、搬送部１２とを備える。キャリア載置部１１には、複数枚の基板、本実施形態では半導体ウェハ（以下ウェハＷ）を水平状態で収容する複数のキャリアＣが載置される。

搬送部１２は、キャリア載置部１１に隣接して設けられ、内部に基板搬送装置１３と、受渡部１４とを備える。基板搬送装置１３は、ウェハＷを保持するウェハ保持機構を備える。また、基板搬送装置１３は、水平方向および鉛直方向への移動ならびに鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、ウェハ保持機構を用いてキャリアＣと受渡部１４との間でウェハＷの搬送を行う。

処理ステーション３は、搬送部１２に隣接して設けられる。処理ステーション３は、搬送部１５と、複数の処理ユニット１６とを備える。複数の処理ユニット１６は、搬送部１５の両側に並べて設けられる。

搬送部１５は、内部に基板搬送装置１７を備える。基板搬送装置１７は、ウェハＷを保持するウェハ保持機構を備える。また、基板搬送装置１７は、水平方向および鉛直方向への移動ならびに鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、ウェハ保持機構を用いて受渡部１４と処理ユニット１６との間でウェハＷの搬送を行う。

処理ユニット１６は、基板搬送装置１７によって搬送されるウェハＷに対して所定の基板処理を行う。

また、基板処理システム１は、制御装置４を備える。制御装置４は、たとえばコンピュータであり、制御部１８と記憶部１９とを備える。記憶部１９には、基板処理システム１において実行される各種の処理を制御するプログラムが格納される。制御部１８は、記憶部１９に記憶されたプログラムを読み出して実行することによって基板処理システム１の動作を制御する。

なお、かかるプログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、その記憶媒体から制御装置４の記憶部１９にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体としては、たとえばハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルディスク（ＭＯ）、メモリカードなどがある。

上記のように構成された基板処理システム１では、まず、搬入出ステーション２の基板搬送装置１３が、キャリア載置部１１に載置されたキャリアＣからウェハＷを取り出し、取り出したウェハＷを受渡部１４に載置する。受渡部１４に載置されたウェハＷは、処理ステーション３の基板搬送装置１７によって受渡部１４から取り出されて、処理ユニット１６へ搬入される。

処理ユニット１６へ搬入されたウェハＷは、処理ユニット１６によって処理された後、基板搬送装置１７によって処理ユニット１６から搬出されて、受渡部１４に載置される。そして、受渡部１４に載置された処理済のウェハＷは、基板搬送装置１３によってキャリア載置部１１のキャリアＣへ戻される。

次に、処理ユニット１６へ処理液を供給する液処理装置を含む処理液供給系について図２を参照して説明する。図２は、基板処理システム１の処理液供給系の概略構成を示す図である。

図２に示すように、液処理装置は、基板に対して液処理を行う複数の処理ユニット（液処理ユニット）１６と、処理ユニット１６に処理液を供給する処理流体供給源７０を有している。

処理流体供給源７０は、処理液を貯留するタンク１０２と、タンク１０２から出てタンク１０２に戻る循環ライン１０４とを有している。循環ライン１０４にはポンプ１０６が設けられている。ポンプ１０６は、タンク１０２から出て循環ライン１０４を通りタンク１０２に戻る循環流を形成する。ポンプ１０６の下流側において循環ライン１０４には、処理液に含まれるパーティクル等の汚染物質を除去するフィルタ１０８が設けられている。必要に応じて、循環ライン１０４に補機類（たとえばヒータ等）をさらに設けてもよい。

循環ライン１０４に設定された接続領域１１０に、１つまたは複数の分岐ライン１１２が接続されている。各分岐ライン１１２は、循環ライン１０４を流れる処理液を対応する処理ユニット１６に供給する。各分岐ライン１１２には、必要に応じて、流量制御弁等の流量調整機構、フィルタ等を設けることができる。

液処理装置は、タンク１０２に、処理液または処理液構成成分を補充するタンク液補充部１１６を有している。タンク１０２には、タンク１０２内の処理液を廃棄するためのドレン部１１８が設けられている。

次に、上述した液処理装置（以下、「基板液処理装置１００」と記載する）の構成について図３を参照しつつより詳細に説明する。図３は、第１の実施形態に係る基板液処理装置１００の構成例を示す図である。

図３に示すように、基板液処理装置１００は、第１処理液供給系１２１ａと、第２処理液供給系１２１ｂとを備える。なお、図３に示す各構成要素のうち、第１処理液供給系１２１ａのものには符号の末尾に「ａ」を、第２処理液供給系１２１ｂのものには符号の末尾に「ｂ」を付した。また、上記では、基板液処理装置１００が備える処理液供給系を２つとしたが、これに限られず、たとえば１つあるいは３つ以上であってもよい。

以下では、第１処理液供給系１２１ａについて説明する。なお、第１処理液供給系１２１ａにおける処理液の流れ等は、第２処理液供給系１２１ｂのそれと略同じである。したがって、以下の説明は、第２処理液供給系１２１ｂにも概ね妥当する。また、基板液処理装置１００は、もうひと組、別のタンク１０２を有する第１、第２処理液供給系１２１ａ，１２１ｂを備えるが、下記の説明は、かかる別のひと組にも概ね妥当する。

基板液処理装置１００において、タンク（貯留部の一例）１０２には、上記した循環ライン１０４ａが接続される。循環ライン１０４ａには、上流側から順に、ポンプ（送液機構の一例）１０６ａ、フィルタ１０８ａおよびヒータ１０９ａが介挿される。

ポンプ１０６ａは、タンク１０２に貯留された処理液を複数の処理ユニット（液処理ユニットの一例）１６Ｕａ，１６Ｌａへ送り出す。なお、処理液としては、たとえばＳＣ１（アンモニア、過酸化水素および水の混合液）、ＨＦ（フッ酸）やＩＰＡ（イソプロピルアルコール）などを用いることができるが、これらに限定されない。

上記したポンプ１０６ａとしては、たとえばエア式のベローズポンプを用いることができる。ポンプ１０６ａがベローズポンプである場合、ポンプ１０６ａには、エア供給源１３０がエア配管１３１ａを介して接続される。エア配管１３１ａには、ポンプ１０６ａへのエア供給量を制御する制御バルブ１３２ａが介挿される。したがって、ポンプ１０６ａは、制御バルブ１３２ａの開閉に応じて、エアがエア供給源１３０からエア配管１３１ａを介して供給されて駆動する。

なお、上記では、ポンプ１０６ａがベローズポンプである場合を例に挙げて説明したが、これに限られず、たとえばダイアフラムポンプやプランジャーポンプなどその他の種類のポンプであってもよい。

フィルタ１０８ａは、上述したように処理液内の汚染物質を取り除く。また、ヒータ１０９ａは、通過する処理液を所定温度まで昇温させる。なお、かかるヒータ１０９ａは、処理液の種類によっては除去することができる。

図４は、処理ステーション３をＹ−Ｚ平面で切断したときの縦断面図である。図４に示すように、上記した複数の処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａは、上下２段に積層される。ここでは、上段に配置される処理ユニット１６を「処理ユニット１６Ｕａ」と記載し、下段に配置される処理ユニット１６を「処理ユニット１６Ｌａ」と記載する場合がある。

なお、本実施形態では、処理ユニット１６が上下２段に積層される場合の例を示すが、処理ユニット１６の積層数は２段に限定されない。また、処理ユニット１６の台数も図示のものに限定されない。また、図３では、図示の簡素化のため、複数の処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａを４個のみ示し、他は省略した。

次いで、上記のように構成された基板液処理装置１００において、複数の処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａ，１６Ｕｂ，１６Ｌｂ、タンク１０２やポンプ１０６ａ，１０６ｂなどが配置される位置について説明する。

複数の処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａ，１６Ｕｂ，１６Ｌｂは、図１に示すように、搬送部１５に沿って配置される。詳しくは、搬送部１５は、基板搬送装置１７が配置される搬送室１５ａ（図４参照）がＸ軸に沿って延在するように形成される。

そして、図１において、搬送部１５に対してＹ軸負方向側（紙面下方側）に位置するとともに、Ｘ軸に沿って配置される複数の処理ユニット１６が、第１処理液供給系１２１ａにおける処理ユニット１６Ｕａに相当する。なお、図１では、下段の処理ユニット１６Ｌａは、上段の処理ユニット１６Ｕａに隠れて見えない。

他方、搬送部１５に対してＹ軸正方向側（紙面上方側）に位置するとともに、Ｘ軸に沿って配置される複数の処理ユニット１６が、第２処理液供給系１２１ｂにおける処理ユニット１６Ｕｂに相当する。なお、図１では、下段の処理ユニット１６Ｌｂも、上段の処理ユニット１６Ｕｂに隠れて見えない。

以下では、基板液処理装置１００において、第１処理液供給系１２１ａの処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａが配置される部分を「第１処理部２０ａ」と記載する場合がある（図４参照）。また、基板液処理装置１００において、第２処理液供給系１２１ｂの処理ユニット１６Ｕｂ，１６Ｌｂが配置される部分を「第２処理部２０ｂ」と記載する場合がある（図４参照）。

図４に示すように、第１処理部２０ａおよび第２処理部２０ｂは、搬送部１５に水平方向に隣接して配置される。また、第１処理部２０ａおよび第２処理部２０ｂは、搬送部１５を挟んで対向する位置に、並列に設けられる。そして、第１処理部２０ａおよび第２処理部２０ｂには、搬送部１５の搬送装置１７によってウェハＷが搬送される。

基板液処理装置１００は、第１、第２処理部２０ａ，２０ｂ、搬送部１５、タンク１０２およびポンプ１０６ａ，１０６ｂなど収容する収容部３０を備える。収容部３０は、たとえば内部が複数の室に区画された筐体である。

ところで、従来の基板液処理装置にあっては、たとえば、タンクおよびポンプがともに、処理部の下の同じ場所に配置されていた。そのため、処理部の下に比較的大きな配置スペースが必要となり、基板液処理装置が大型化するおそれがあった。したがって、従来の基板液処理装置には、省スペース化を図るという点でさらなる改善の余地があった。

そこで、本実施形態に係る基板液処理装置１００では、省スペース化を図ることができるとともに、設置面積を小さくすることができるような構成とした。以下、その構成について詳しく説明する。

図４に示すように、第１、第２処理部２０ａ，２０ｂおよび搬送部１５は、収容部３０のＺ軸方向における上方に配置される。そして、収容部３０において、第１、第２処理部２０ａ，２０ｂおよび搬送部１５の下方には、空間１４０が形成される。

図５は、図４のＶ−Ｖ線断面図である。なお、図４および図５では、上記した空間１４０のうち、第１処理部２０ａの下方に位置する空間を符号１２０ａを付した破線で示した。同様に、図４および図５では、空間１４０のうち、第２処理部２０ｂの下方に位置する空間を符号１２０ｂを付した破線で、搬送部１５の下方に位置する空間を符号１１５を付した破線で示した。

図４，５に示すように、タンク１０２は、搬送部１５の直下に配置される、すなわち、空間１１５に配置される。なお、図４，５に示す例では、タンク１０２は、全体が収容部３０の空間１１５内に収容されるようにしたが、これに限られず、たとえば一部分が空間１１５からはみ出すように収容されていてもよい。

また、ポンプ１０６ａ，１０６ｂは、第１、第２処理部２０ａ，２０ｂの直下に配置される。詳しくは、ポンプ１０６ａは、第１処理部２０ａの直下に配置される、すなわち、空間１２０ａに配置される。一方、ポンプ１０６ｂは、第２処理部２０ｂの直下に配置される、すなわち、空間１２０ｂに配置される。

以下では、第１処理部２０ａの直下のポンプ１０６ａを「第１ポンプ１０６ａ」（第１送液機構の一例）、第２処理部２０ｂの直下のポンプ１０６ｂを「第２ポンプ１０６ｂ」（第２送液機構の一例）と記載する場合がある。

このように、基板液処理装置１００においては、タンク１０２が搬送部１５の直下に、第１ポンプ１０６ａが第１処理部２０ａの直下に、第２ポンプ１０６ｂが第２処理部２０ｂの直下に配置されることで、収容部３０の空間１４０を有効に利用することができる。

これにより、たとえば仮にタンク１０２や第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂが第１処理部２０ａの下の同じ場所に配置される場合に比べて、第１処理部２０ａの下の空間１２０ａを小さく設定することが可能となり、よって基板液処理装置１００における省スペース化を図ることができる。また、基板液処理装置１００の省スペース化に伴い、設置面積も小さくすることができる。

また、処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａへ処理液を供給する第１ポンプ１０６ａが、処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａを有する第１処理部２０ａの直下に配置されるようにした。同様に、処理ユニット１６Ｕｂ，１６Ｌｂへ処理液を供給する第２ポンプ１０６ｂが、処理ユニット１６Ｕｂ，１６Ｌｂを有する第２処理部２０ｂの直下に配置されるようにした。

これにより、第１ポンプ１０６ａから処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａまでの循環ライン１０４ａ（図３参照）の距離、および、第２ポンプ１０６ｂから処理ユニット１６Ｕｂ，１６Ｌｂまでの循環ライン１０４ｂ（図３参照）の距離を短縮することができる。また、各循環ライン１０４ａ，１０４ｂの短縮により、各処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａ，１６Ｕｂ，１６Ｌｂへ処理液を効率よく供給できるとともに、基板液処理装置１００をより省スペース化することができる。

また、図５に示すように、基板液処理装置１００は、タンク１０２を２個備え、２個のタンク１０２には、それぞれ対応する第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂが接続される。なお、上記した「タンクに対応するポンプ」とは、たとえばタンクに貯留された処理液に適したポンプや、タンク近傍に配置されるポンプなどの意味であるが、これらに限られない。

図５に示す基板液処理装置１００の例では、タンク１０２、およびタンク１０２に対応する第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂの組み合わせたる機器群が複数（ここでは２組）ある。なお、図５では、一方の機器群を符号１４１αで、他方の機器群を符号１４１βで示した。また、かかる機器群１４１α，１４１βには、タンク１０２等に対応するフィルタ１０８ａ，１０８ｂやヒータ１０９ａ，１０９ｂなどが含まれていてもよい。

そして、収容部３０においては、機器群１４１αと機器群１４１βとの間に区画壁３１，３１が形成される。かかる区画壁３１，３１は、収容部３０の底面から第１、第２処理部２０ａ，２０ｂおよび搬送部１５の底面に至るまで形成される。これにより、収容部３０の空間１４０は、区画壁３１，３１によって空間１４０αと空間１４０βとに分けられる。

このように、基板液処理装置１００においては、機器群１４１α，１４１βごとに収容部３０に収容されて区画される。これにより、図示は省略するが、たとえば基板液処理装置１００において、機器群１４１αが配置される空間１４０α、機器群１４１βが配置される空間１４０βごとに排気や温度調節等の空調管理を行うことが可能となり、基板処理の品質向上を図ることができる。なお、上記した２個のタンク１０２に貯留される処理液は、同じ種類であっても、互いに異なる種類であってもよい。また、タンク１０２の数は２個に限定されない。

第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂは、それぞれタンク１０２に接続される。すなわち、基板液処理装置１００においては、１個のタンク１０２を、第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂで共用させることができる。

また、上述したように、第１処理部２０ａおよび第２処理部２０ｂは、搬送部１５を挟んで対向する位置に設けられることから、タンク１０２は、第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂの間に配置されることとなる。

これにより、循環ライン１０４ａのタンク１０２から第１ポンプ１０６ａまでの第１液配管１０４ａ１（図３参照）の長さ、および、循環ライン１０４ｂのタンク１０２から第２ポンプ１０６ｂまでの第２液配管１０４ｂ１（図３参照）の長さを短縮することができる。また、各液配管１０４ａ１，１０４ｂ１の短縮により、第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂへ処理液を効率よく供給できるとともに、基板液処理装置１００のさらなる省スペース化を図ることができる。

ここで、上記した第１液配管１０４ａ１の長さは、第２液配管１０４ｂ１の長さと同じであることが好ましい。これにより、基板液処理装置１００においては、処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａ，１６Ｕｂ，１６Ｌｂに対して均一な処理を行うことが可能となる。

すなわち、たとえば仮に、第１液配管１０４ａ１および第２液配管１０４ｂ１の長さが大きく異なっていた場合、各液配管１０４ａ１，１０４ｂ１における圧力損失も異なることとなる。そのため、処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａへ供給される処理液と、処理ユニット１６Ｕｂ，１６Ｌｂへ供給される処理液との間で、流量などに差異が生じ、処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａ，１６Ｕｂ，１６Ｌｂに対して均一な処理を行うことが難しくなる。

そこで、本実施形態に係る基板液処理装置１００では、第１、第２液配管１０４ａ１，１０４ｂ１の長さを同じにしたので、第１、第２液配管１０４ａ１，１０４ｂ１の圧力損失も略同じに揃えることができる。これにより、処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａと処理ユニット１６Ｕｂ，１６Ｌｂとに対して均一な処理を行うことが可能となる。

なお、上記した第１、第２液配管１０４ａ１，１０４ｂ１の長さが「同じ」とは、完全に同一であることを要さず、第１、第２液配管１０４ａ１，１０４ｂ１の長さの差が許容範囲内であれば、長さが「同じ」とみなしてもよい。また、第１、第２液配管１０４ａ１，１０４ｂ１の長さ以外にも、管径や管材の種類などを調整して、第１、第２液配管１０４ａ１，１０４ｂ１の圧力損失を略同じに揃えるようにしてもよい。

図５に示すように、収容部３０において、上記した区画壁３１，３１の間には、４つの空間１４２α，１４２α，１４２β，１４２βを形成する区画壁３２が設けられる。そして、各空間のうち、第１ポンプ１０６ａに近接する方の空間１４２α，１４２αに、第１ポンプ１０６ａ用の制御バルブ１３２ａが、第２ポンプ１０６ｂに近接する方の空間１４２β，１４２βに第２ポンプ１０６ｂ用の制御バルブ１３２ｂがそれぞれ配置される。

なお、第１ポンプ１０６ａ用の制御バルブ１３２ａは、第１処理部２０ａの直下に配置され、第２ポンプ１０６ｂ用の制御バルブ１３２ｂは、第２処理部２０ｂの直下に配置される。

これにより、制御バルブ１３２ａから第１ポンプ１０６ａまでのエア配管１３１ａの長さ、および、制御バルブ１３２ｂから第２ポンプ１０６ｂまでのエア配管１３１ｂの長さを短縮することができる。また、各エア配管１３１ａ，１３１ｂの短縮により、エアを効率よく第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂへ供給できるとともに、基板液処理装置１００の省スペース化をより一層図ることができる。

収容部３０において、Ｘ軸正方向側には、空間１４３を形成する区画壁３３が設けられる。かかる空間１４３には、エア供給源１３０からのエア配管１３１ａ，１３１ｂや図示しないＮ２ガス供給源からのガス配管など種々の配管が配設される。

そして、エア配管１３１ａ，１３１ｂは、たとえばタンク１０２の下方の配管スペース（図示せず）を通った後、制御バルブ１３２ａ，１３２ｂを介して第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂに接続される。

ここで、上記したエア配管１３１ａの長さは、エア配管１３１ｂの長さと同じであることが好ましい。また、より好ましくは、制御バルブ１３２ａから第１ポンプ１０６ａまでの長さが、制御バルブ１３２ｂから第２ポンプ１０６ｂまでの長さと同じとされる。これにより、基板液処理装置１００においては、処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａ，１６Ｕｂ，１６Ｌｂに対して均一な処理を行うことが可能となる。

すなわち、たとえば仮に、エア配管１３１ａ，１３１ｂの長さが大きく異なっていた場合、各エア配管１３１ａ，１３１ｂにおける圧力損失も異なることとなる。そのため、第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂがベローズポンプである場合、第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂとの間で、吐出流量などに差異が生じ、処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａ，１６Ｕｂ，１６Ｌｂに対して均一な処理を行うことが難しくなる。なお、第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂは、上述したようにダイアフラムポンプやプランジャーポンプなどでもよいが、その場合であっても、エア配管１３１ａ，１３１ｂの長さが大きく異なると、各処理ユニットに対して均一な処理を行うことが難しくなる。

そこで、本実施形態に係る基板液処理装置１００では、エア配管１３１ａ，１３１ｂの長さを同じにしたので、エア配管１３１ａ，１３１ｂの圧力損失も略同じに揃えることができる。これにより、処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａと処理ユニット１６Ｕｂ，１６Ｌｂとに対して均一な処理を行うことが可能となる。

なお、上記したエア配管１３１ａ，１３１ｂの長さが「同じ」とは、第１、第２液配管１０４ａ１，１０４ｂ１の長さと同様、完全に同一であることを要さない。すなわち、エア配管１３１ａ，１３１ｂの長さの差が許容範囲内であれば、長さが「同じ」とみなしてもよい。また、エア配管１３１ａ，１３１ｂの長さ以外にも、管径や管材の種類などを調整して、エア配管１３１ａ，１３１ｂの圧力損失を略同じに揃えるようにしてもよい。

図６は、処理ステーション３をＸ−Ｚ平面で切断したときの縦断面図である。なお、図６においては、図示の簡略化のため、タンク１０２や第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂなどを機器群１４１α，１４１βとしてまとめ、一つのブロックで示すようにした。

図６に示すように、機器群１４１αから延びる循環ライン１０４ａは、空間１４０αを通過した後、隣接する機器群１４１βの空間１４０βを通過し、その後、処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａ，１６Ｕｂ，１６Ｌｂを経て機器群１４１αへ戻るように配設される。なお、図６において、処理ユニット１６Ｕｂ，１６Ｌｂは、処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａに隠れて見えない。

他方、機器群１４１βから延びる循環ライン１０４ｂは、空間１４０βを通過した後、処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａ，１６Ｕｂ，１６Ｌｂへ延び、その後、隣接する機器群１４１αの空間１４０αを通過して機器群１４１βへ戻るように配設される。

このように、本実施形態に係る基板液処理装置１００では、循環ライン１０４ａ，１０４ｂがともに、隣接する機器群１４１α，１４１βの空間１４０α，１４０βを通過するようにした。これにより、収容部３０の空間１４０α，１４０βを有効に利用することができ、よって基板液処理装置１００における省スペース化をより一層図ることができる。

なお、空間１４０βを通過するときの循環ライン１０４ａには、たとえば、保護管の中を通したり、継ぎ手を用いないようにしたりするなど、機器群１４１βの処理液などからの影響を防ぐ適宜な手法が取られることが好ましい。また、空間１４０αを通過するときの循環ライン１０４ｂについても同様の手法が取られることが好ましい。

上述してきたように、第１の実施形態に係る基板液処理装置１００は、搬送部１５と、第１、第２処理部（処理部の一例）２０ａ，２０ｂと、タンク１０２と、第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂとを備える。搬送部１５は、ウェハＷを搬送する基板搬送装置１７が配置される。第１、第２処理部２０ａ，２０ｂは、搬送部１５に水平方向に隣接し、処理液を用いてウェハＷを処理する液処理ユニット１６が配置される。タンク１０２は、タンク液補充部１１６からの処理液を貯留する。第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂは、タンク１０２に貯留された処理液を液処理ユニット１６へ送り出す。タンク１０２は、搬送部１５の直下に配置される。第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂは、第１、第２処理部２０ａ，２０ｂの直下に配置される。これにより、基板液処理装置１００における省スペース化を図ることができる。

（第１の実施形態の変形例）
次いで、第１の実施形態の変形例（以下「第１変形例」という）について説明する。図７は、第１変形例に係る基板液処理装置１００を説明するための図である。

図７に示すように、第１変形例にあっては、第１液配管１０４ａ１および第１ポンプ（第１送液機構の一例）１０６ａと、第２液配管１０４ｂ１および第２ポンプ（第２送液機構の一例）１０６ｂとが、平面視において点対称になるように配置される。

図７の左側に配置される機器群１４１αを例にとって詳説すると、タンク１０２には、第１処理部２０ａの下方の空間１２０ａ側において、上流側から順に、第１液配管１０４ａ１、第１ポンプ１０６ａ、フィルタ１０８ａおよびヒータ１０９ａが接続される。また、タンク１０２には、第２処理部２０ｂの下方の空間１２０ｂ側において、第２ポンプ１０６ｂ、フィルタ１０８ｂおよびヒータ１０９ｂが接続される。

そして、第１変形例では、上記した第１液配管１０４ａ１や第１ポンプ１０６ａと、第２液配管１０４ｂ１や第２ポンプ１０６ｂとは、搬送部１５の下方の空間１１５に位置される点１５０αを対称点として、平面視において点対称になるように配置される。

また、図７の右側に配置される機器群１４１βについても、上記した機器群１４１αと同様な配置である。すなわち、第１液配管１０４ａ１や第１ポンプ１０６ａと、第２液配管１０４ｂ１や第２ポンプ１０６ｂとは、空間１１５に位置される点１５０βを対称点として、平面視において点対称になるように配置される。

なお、図７に示す例では、上記した点１５０α，１５０βは、空間１１５のうちタンク１０２の中心点と同じ位置としたが、これはあくまでも例示であって限定されるものではない。

これにより、基板液処理装置１００において、部品の共有化を図ることができる。すなわち、たとえば、第１ポンプ１０６ａと第２ポンプ１０６ｂとで、タンク１０２に対する吸込口の位置（向き）を同じにすることができる。また、たとえば、第１液配管１０４ａ１と第２液配管１０４ｂ１とで長さを同じにすることもできる。

さらに、第１液配管１０４ａ１、第１ポンプ１０６ａ、フィルタ１０８ａおよびヒータ１０９ａが固定される部品と、第２液配管１０４ｂ１、第２ポンプ１０６ｂ、フィルタ１０８ｂおよびヒータ１０９ｂが固定される部品との間で、同じ仕様の部品を用いることができる。したがって、基板液処理装置１００において、部品の共有化を図ることができるとともに、低コスト化も可能となる。

また、たとえば第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂに対して所望される仕様が変わった場合、各ポンプ１０６ａ，１０６ｂについてそれぞれ設計変更を行うこととなる。かかる場合であっても、上記のような配置とすることで、たとえば一方のポンプで行った設計変更を他方のポンプにも適用することが可能となる。これにより、基板液処理装置１００において仕様が変わった場合であっても、早期に設計変更を行うことができ、迅速に対応することが可能となる。

ところで、第１、第２液配管１０４ａ１，１０４ｂ１などが、上記のように点対称になるように配置された場合、たとえば機器群１４１αにおいて、ヒータ１０９ａの出口は収容部３０の端部付近に位置される一方、ヒータ１０９ｂの出口は収容部３０の中央部付近に位置される。そのため、ヒータ１０９ａから処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａまでの液配管の長さと、ヒータ１０９ｂから処理ユニット１６Ｕｂ，１６Ｌｂまでの液配管の長さとが異なる場合がある。かかる場合について図８を参照して詳しく説明する。

図８は、ヒータ１０９ａ，１０９ｂから処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａ，１６Ｕｂ，１６Ｌｂまでの液配管を模式的に示す側面図である。図８に示すように、循環ライン１０４ａのヒータ１０９ａから処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａまでの液配管の長さは、所定距離Ａの分だけ、循環ライン１０４ｂのヒータ１０９ｂから処理ユニット１６Ｕｂ，１６Ｌｂまでの液配管の長さよりも長くなる場合がある。

そのため、仮に、ヒータ１０９ａ，１０９ｂによって昇温される処理液の所定温度を同じ値とした場合、処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａ，１６Ｕｂ，１６Ｌｂに到達した時点の処理液の温度が循環ライン１０４ａと循環ライン１０４ｂとで異なるおそれがあった。具体的には、液配管が長い循環ライン１０４ａの処理液の温度が、循環ライン１０４ｂの処理液の温度よりも低くなってしまうおそれがあった。

そこで、第１変形例では、循環ライン１０４ａ，１０４ｂにおいて、処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａ，１６Ｕｂ，１６Ｌｂまでの液配管の長さが同じまたは略同じとなる位置に、処理液の温度を検出する温度検出部１６０ａ，１６０ｂをそれぞれ設けるようにした。

上記した温度検出部１６０ａ，１６０ｂは、検出された処理液の温度を示す信号を制御装置４へ出力する。そして、制御装置４は、検出された処理液の温度に基づいてヒータ１０９ａ，１０９ｂを制御する。詳しくは、制御装置４は、温度検出部１６０ａによって検出される処理液の温度と、温度検出部１６０ｂによって検出される処理液の温度とが同じになるように、ヒータ１０９ａ，１０９ｂを制御する。

これにより、第１変形例に係る基板液処理装置１００においては、処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａ，１６Ｕｂ，１６Ｌｂに到達した時点の処理液の温度が循環ライン１０４ａと循環ライン１０４ｂとで同じになり、よって均一な処理を行うことが可能となる。

（第２の実施形態）
次いで、第２の実施形態に係る基板液処理装置１００について説明する。上記した第１の実施形態では、１個のタンク１０２に、第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂが接続されるようにしたが、第２の実施形態では、１個のタンクに対して１個のポンプが個別に接続されるようにした。

図９は、第２の実施形態に係る基板液処理装置１００を説明するための図であり、処理ステーション３をＸ−Ｙ平面で切断したときの横断面図である。なお、以下においては、第１の実施形態と共通の構成については、同一の符号を付して説明を省略する。

図９に示すように、第２の実施形態に係る基板液処理装置１００は、第１タンク１０２ａと、第２タンク１０２ｂとを備える。なお、第１タンク１０２ａは第１貯留部の一例であり、第２タンク１０２ｂは第２貯留部の一例である。

また、第１、第２タンク１０２ａ，１０２ｂはともに、搬送部１５の直下に配置される、すなわち、空間１１５内に配置される。また、第１タンク１０２ａには、第１ポンプ１０６ａが接続される一方、第２タンク１０２ｂには第２ポンプ１０６ｂが接続される。

また、第１ポンプ１０６ａが第１、第２処理部２０ａ，２０ｂの一方の処理部の直下に配置された場合、第２ポンプ１０６ｂは第１、第２処理部２０ａ，２０ｂの他方の処理部の直下に配置されるようにする。

具体的には、第１処理部２０ａの直下（空間１２０ａ）に第１ポンプ１０６ａが配置された場合、第２処理部２０ｂの直下（空間１２０ｂ）に第２ポンプ１０６ｂが配置されることが好ましい。また、第２処理部２０ｂの直下（空間１２０ｂ）に第１ポンプ１０６ａが配置された場合、第１処理部２０ａの直下（空間１２０ａ）に第２ポンプ１０６ｂが配置されることが好ましい。

このように、第１、第２タンク１０２ａ，１０２ｂが、第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂの間に配置される、換言すれば、搬送部１５の直下に配置されることで、基板液処理装置１００の省スペース化を図ることができる。

なお、第１、第２タンク１０２ａ，１０２ｂに貯留される処理液は、同じ種類であっても、互いに異なる種類であってもよい。

ここで、第１、第２タンク１０２ａ，１０２ｂの処理液が異なる場合、図９に示すように、第１処理部２０ａの直下（空間１２０ａ）、および第２処理部２０ｂの直下（空間１２０ｂ）に、それぞれ第１ポンプ１０６ａ、第２ポンプ１０６ｂが１個ずつ配置されるようにする。

これにより、第１処理部２０ａの処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａ、および、第２処理部２０ｂの処理ユニット１６Ｕｂ，１６Ｌｂに対し、異なる種類の処理液を、近傍に配置された第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂから供給させることができる。

具体的には、第１処理部２０ａの処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａには、図９で左側の第１タンク１０２ａから第１ポンプ１０６ａを経由して処理液が供給されるとともに、図９で右側の第２タンク１０２ｂから第２ポンプ１０６ｂを経由して処理液が供給される。また、第２処理部２０ｂの処理ユニット１６Ｕｂ，１６Ｌｂには、図９で右側の第１タンク１０２ａから第１ポンプ１０６ａを経由して処理液が供給されるとともに、図９で左側の第２タンク１０２ｂから第２ポンプ１０６ｂを経由して処理液が供給される。

また、各タンク１０２ａ，１０２ｂから各ポンプ１０６ａ，１０６ｂまでの第１、第２液配管１０４ａ１，１０４ｂ１にあっては、図９で左右にある第１ポンプ１０６ａ同士、および、図９で左右にある第２ポンプ１０６ｂ同士で、長さが同じであることが好ましい。これにより、基板液処理装置１００においては、処理ユニット１６Ｕａ，１６Ｌａ，１６Ｕｂ，１６Ｌｂに対して均一な処理を行うことが可能となる。

なお、制御バルブ１３２ａ，１３２ｂは、対応する第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂと近くになるような位置に配置されるものとする。

図９に示す基板液処理装置１００の例では、第１タンク１０２ａ、および第１タンク１０２ａに対応する第１ポンプ１０６ａを含む第１機器群を符号２４１αで示した。同様に、図９では、第２タンク１０２ｂ、および第２タンク１０２ｂに対応する第２ポンプ１０６ｂを含む第２機器群を符号２４１βで示した。

そして、収容部３０においては、第１機器群２４１αと第２機器群２４１βとの間に区画壁３４が形成される。これにより、収容部３０の空間２４０は、区画壁３４によって空間２４０αと空間２４０βとに分けられる。かかる空間２４０αおよび空間２４０βは、たとえば平面視において略Ｌ字状となるように形成される。

また、収容部３０において、第１機器群２４１αの第１タンク１０２ａは、搬送部１５の直下の空間１１５内で、かつ、平面視略Ｌ字状の空間２４０α内に収容される。また、収容部３０において、第２機器群２４１βの第２タンク１０２ｂは、空間１１５内で、かつ、平面視略Ｌ字状の空間２４０β内に収容される。

このように、基板液処理装置１００においては、第１、第２機器群２４１α，２４１βごとに収容部３０に収容されて区画される。これにより、たとえば基板液処理装置１００において、第１機器群２４１αのある空間２４０α、第２機器群２４１βのある空間２４０βごとに排気や温度調節等の空調管理を行うことが可能となり、基板処理の品質向上を図ることができる。

このように、第２の実施形態においても、第１、第２タンク１０２ａ，１０２ｂはともに、搬送部１５の直下に配置されることから、基板液処理装置１００における省スペース化を図ることができる。なお、残余の効果は第１の実施形態と同一であるので、説明を省略する。

（第２の実施形態の変形例）
次いで、第２の実施形態の変形例（以下「第２変形例」という）について説明する。図１０は、第２変形例に係る基板液処理装置１００を説明するための図である。

図１０に示すように、第２変形例にあっては、第１液配管１０４ａ１や第１ポンプ１０６ａと、第２液配管１０４ｂ１や第２ポンプ１０６ｂとは、第１変形例と同様、搬送部１５の下方の空間１１５に位置される点２５０α，２５０βを対称点として、平面視において点対称になるように配置される。

さらに、第２変形例にあっては、対応する第１機器群２４１αと第２機器群２４１βとを有する組み合わせをグループ２６１，２６２とした場合、グループ２６１とグループ２６２とは、平面視において点対称になるように配置される。

なお、以下では、理解の便宜のため、図１０の左側に配置される第１、第２機器群２４１α，２４１βを有するグループ２６１を「第１グループ２６１」、右側の第１、第２機器群２４１α，２４１βを有するグループ２６２を「第２グループ２６２」と記載する場合がある。また、ここでは、第１機器群２４１αには、第１タンク１０２ａ、第１液配管１０４ａ１、第１ポンプ１０６ａ、フィルタ１０８ａおよびヒータ１０９ａが含まれるものとする。同様に、第２機器群２４１βには、第２タンク１０２ｂ、第２液配管１０４ｂ１、第２ポンプ１０６ｂ、フィルタ１０８ｂおよびヒータ１０９ｂが含まれるものとする。

第２変形例に係る基板液処理装置１００について詳説すると、上記した第１グループ２６１を構成する第１、第２機器群２４１α，２４１βと、第２グループ２６２を構成する第１、第２機器群２４１α，２４１βとは、搬送部１５の下方の空間１１５に位置される点２５１を対称点として、平面視において点対称になるように配置される。

なお、図１０に示す例では、上記した点２５１は、隣接するタンク１０２ａの間に位置されるが、これは例示であって限定されるものではない。また、点２５０α，２５０βは、空間１１５のうちタンク１０２ａ，１０２ｂの間に位置されるが、これらも例示であって限定されるものではない。また、図１０では、グループ２６１，２６２が２つある例を示したが、３つ以上であってもよい。

このように、第２変形例にあっては、第１機器群２４１αと第２機器群２４１βとを有するグループ２６１，２６２が複数あり、複数のグループ２６１，２６２は、平面視において点対称になるように配置される。

これにより、第２変形例に係る基板液処理装置１００において、部品の共有化を図ることができる。すなわち、たとえば、第１、第２グループ２６１，２６２において、第１ポンプ１０６ａと第２ポンプ１０６ｂとで、タンク１０２ａ，１０２ｂに対する吸込口の位置（向き）を同じにすることができる。また、たとえば、第１液配管１０４ａ１と第２液配管１０４ｂ１とで長さを同じにすることもできる。

このことから、第１グループ２６１と、第２グループ２６２との間で、同じ仕様の部品や液配管を用いることができる。したがって、基板液処理装置１００において、部品の共有化を図ることができるとともに、低コスト化も可能となる。なお、残余の効果は第１変形例などと同様であるため、説明を省略する。

ところで、基板液処理装置１００は、ウェハＷ（図１参照）のサイズやウェハＷに対する処理の内容などによって、全体の大きさが大型化することがある。大型化した基板液処理装置１００にあっては、たとえば、設置作業者によってウェハＷの生産工場まで搬送されて設置される際の「搬送性」や「設置容易性」を向上させるため、分割可能に構成されることが好ましい。

たとえば、図１０に示す例では、収容部３０は、第１収容部３０ａと第２収容部３０ｂとに分割可能に構成される。なお、図１０にあっては、第１収容部３０ａおよび第２収容部３０ｂの配置を明確に図示するため、第１収容部３０ａを一点鎖線で、第２収容部３０ｂを二点鎖線で囲んで示した。

第１収容部３０ａには、第１処理部２０ａ（図４参照）、搬送部１５（図４参照）、第１処理部２０ａの直下に配置された第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂ、搬送部１５の直下に配置された第１、第２タンク１０２ａ，１０２ｂなどが収容される。また、第２収容部３０ｂには、第２処理部２０ｂ（図４参照）、第２処理部２０ｂの直下に配置された第１、第２ポンプ１０６ａ，１０６ｂなどが収容される。

また、分割された第１、第２収容部３０ａ，３０ｂにあっては、それぞれに収容されるべき機器が予め組み付けられているものとし、第１収容部３０ａと第２収容部３０ｂとの境界を跨ぐ液配管は接続されていない状態とされる。

なお、図１０では、上記した第１収容部３０ａと第２収容部３０ｂとの境界を跨ぐ液配管の部位を、破線の閉曲線２７１，２７２で示し、以下「連結部位２７１，２７２」と記載する。

そして、たとえば、第１、第２収容部３０ａ，３０ｂは、分割された状態で生産工場に搬入された後、第１収容部３０ａと第２収容部３０ｂとが接続される。また、搬送部１５と第２処理部２０ｂとが接続されるとともに、連結部位２７１，２７２の液配管が連結されることで、基板液処理装置１００の設置が完了する。

このように、第１、第２処理部２０ａ，２０ｂと搬送部１５とは、第１処理部２０ａと搬送部１５とが収容される部分（第１収容部３０ａ）と、第２処理部２０ｂが収容される部分（第２収容部３０ｂ）との間で分割可能な収容部３０に収容される。

したがって、搬送部１５と第１処理部２０ａとが第１収容部３０ａによって一体的に搬送されるため、例えば生産工場に基板液処理装置１００を設置する際、設置作業者は、搬送部１５の位置調整を第２処理部２０ｂに対してのみ行えばよい。これにより、基板液処理装置１００における調整時間を短縮することができる。

なお、収容部３０の構成は、上記に限定されるものではなく、たとえば第１収容部３０ａに第１処理部２０ａが収容され、第２収容部３０ｂに搬送部１５と第２処理部２０ｂとが収容されるように分割してもよい。

また、第２変形例にあっては、上記したように、第１、第２グループ２６１，２６２の第１、第２液配管１０４ａ１，１０４ｂ１などが点対称になるように配置される。そのため、図１０に示すように、連結部位２７１，２７２の一部（ここでは連結部位２７２）が基板液処理装置１００の中心部付近に位置される場合がある。

そこで、第２変形例にあっては、収容部３０において、連結部位２７２付近をさらに分割可能に構成するようにした。これにより、基板液処理装置１００の設置容易性が低下することを抑制することができる。

具体的に説明すると、第２収容部３０ｂは、スライド収容部３０ｂ１を備える。スライド収容部３０ｂ１は、第２収容部３０ｂにおいて、設置作業者がアクセスし難い連結部位２７２付近、たとえば、第１、第２グループ２６１，２６２の間に位置される。

そして、スライド収容部３０ｂ１は、第２収容部３０ｂに対し、Ｙ軸正方向へスライドして引き出されることで、分割される。なお、引き出された状態のスライド収容部３０ｂ１を図１０に想像線で示した。また、スライド収容部３０ｂ１をスライドさせる機構としては、たとえば、第２収容部３０ｂや床面と接する部分にローラなどの回転体を介挿させ、回転体の回転によってスライドさせる機構を用いることができる。

このように、スライド収容部３０ｂ１が引き出されることで、連結部位２７２付近には、液配管を連結するための作業空間ができる。これにより、設置作業者は、連結部位２７２に容易にアクセスでき、液配管を連結することができる、すなわち、基板液処理装置１００の設置容易性が低下することを抑制することができる。

なお、上記では、スライド収容部３０ｂ１がＹ軸方向にスライドして第２収容部３０ｂと分割されるように構成したが、これに限らず、たとえばＺ軸方向にスライドする方式やその他の方式で分割されるようにしてもよい。

また、上記では、第２収容部３０ｂがスライド収容部３０ｂ１を備えるようにしたが、これに限られず、第１収容部３０ａがスライド収容部を備えるように構成してもよい。また、上記した収容部３０を、第１、第２収容部３０ａ，３０ｂ、スライド収容部３０ｂ１に分割する構成は、第１、第２の実施形態や第１変形例にも適用可能である。

（第３の実施形態）
次いで、第３の実施形態に係る基板液処理装置１００について説明する。まず、処理ユニット１６の概略構成について図１１を参照して説明する。図１１は、処理ユニット１６の概略構成を示す図である。

図１１に示すように、処理ユニット１６は、チャンバ３００と、基板保持機構３１０と、第１処理液供給部３２０と、回収カップ３３０と、第２処理液供給部３４０とを備える。

チャンバ３００は、基板保持機構３１０と、第１処理液供給部３２０と、回収カップ３３０と、第２処理液供給部３４０とを収容する。チャンバ３００の天井部には、ＦＦＵ（Fan Filter Unit）３０１が設けられる。ＦＦＵ３０１は、チャンバ３００内にダウンフローを形成する。

基板保持機構３１０は、保持部３１１と、支柱部３１２と、駆動部３１３とを備える。保持部３１１は、ウェハＷを水平に保持する。支柱部３１２は、鉛直方向に延在する部材であり、基端部が駆動部３１３によって回転可能に支持され、先端部において保持部３１１を水平に支持する。駆動部３１３は、支柱部３１２を鉛直軸まわりに回転させる。かかる基板保持機構３１０は、駆動部３１３を用いて支柱部３１２を回転させることによって支柱部３１２に支持された保持部３１１を回転させ、これにより、保持部３１１に保持されたウェハＷを回転させる。

第１処理液供給部３２０は、ウェハＷに対して処理液を供給する。第１処理液供給部３２０は、たとえば上記したタンク１０２などの処理液供給源に接続される。

回収カップ３３０は、保持部３１１を取り囲むように配置され、保持部３１１の回転によってウェハＷから飛散する処理液を捕集する。回収カップ３３０の底部には、排液口３３１が形成されており、回収カップ３３０によって捕集された処理液は、かかる排液口３３１から処理ユニット１６の外部等へ排出される。また、回収カップ３３０の底部には、ＦＦＵ２１から供給される気体を処理ユニット１６の外部へ排出する排気口３３２が形成される。

第２処理液供給部３４０は、ウェハＷに対して第２処理液を供給する。第２処理液としては、たとえばＤＩＷ（純水）を用いることができる。以下では、第２処理液がＤＩＷである場合を例にとって説明するが、これに限られず、その他の種類の処理液であってもよい。

第２処理液供給部３４０は、回収カップ３３０の周囲の適宜位置に設けられる吐出部３４１を備える。吐出部３４１は、一端がＤＩＷ供給源３４２に接続される一方、他端には吐出口３４１ａが設けられる。吐出口３４１ａは、回収カップ３３０の上部の開口からウェハＷを臨む場所に配置され、ＤＩＷ供給源３４２から供給されたＤＩＷを吐出する。

ところで、ウェハＷは、第１処理液供給部３２０からの処理液によって基板処理が施されるが、基板処理の種類によっては処理液が複数種に及ぶことがある。そのような場合においては、たとえばウェハＷへ現在供給している処理液から、次の処理に用いられる処理液に切り替える際に、切り替えに要する時間の分だけウェハＷに処理液が供給されないこととなる。

そこで、処理ユニット１６では、処理液切り替えのタイミングで、第２処理液供給部３４０からＤＩＷをウェハＷへ供給し、ウェハＷの液切れ、乾燥を防止するようにしている。

しかしながら、従来の処理ユニットにおいては、ＤＩＷのウェハＷへの供給開始時、第２処理液供給部からのＤＩＷの吐出量を徐々に増加させるようにしていたため、ＤＩＷの軌跡は、図１１に示す矢印ａ、矢印ｂ、矢印ｃの順となっていた。したがって、たとえば、ＤＩＷが矢印ｂの状態にある場合、回収カップ３３０の外周面にかかってしまい、好ましくなかった。

そこで、第３の実施形態では、ＤＩＷ供給源３４２から吐出口３４１ａまでの間に、吸引部３４３を設けるようにした。吸引部３４３としては、たとえばサックバックバルブを用いることができるが、これに限られない。

上記のように構成することで、たとえば、ＤＩＷをウェハＷへ供給するタイミングで、吸引部３４３により、ＤＩＷを一旦引き戻してから吐出させるようにすることができる。これにより、吐出口３４１ａにおけるＤＩＷの流速（初速）を増加させることができることから、ＤＩＷは吐出直後に矢印ｃの状態となり、よって回収カップ３３０の外周面など不要な部位にＤＩＷがかかることを防止することができる。

（第４の実施形態）
次いで、第４の実施形態に係る基板液処理装置１００について説明する。図１２は、処理液供給系の概略構成を示す図である。

図１２に示すように、基板液処理装置１００は、循環ライン１０４を備え、かかる循環ライン１０４には、上記したポンプ１０６やフィルタ１０８、ヒータ１０９に加え、開閉弁４００および背圧調整弁４０１が介挿される。

詳しくは、循環ライン１０４は、タンク１０２から出た後に水平に延びる第１水平部４１０と、第１水平部４１０の下流側に接続されて上方に向かって延びる上昇部４１１と、上昇部４１１の下流側に接続されて水平に延びる第２水平部４１２とを備える。循環ライン１０４は、さらに第２水平部４１２の下流側に接続されて下方に向かって延びる下降部４１３と、下降部４１３の下流側に接続されて水平に延びる第３水平部４１４とを備え、第３水平部４１４の下流側がタンク１０２に接続される。また、上記した開閉弁４００および背圧調整弁４０１は、第３水平部４１４に設けられる。

ところで、基板液処理装置１００においては、タンク１０２および循環ライン１０４を流れる処理液の入れ替えを行うことがある。入れ替えの際は、先ずタンク１０２および循環ライン１０４内の処理液をドレン部１１８から廃棄する。次いで、新しい処理液をタンク液補充部１１６からタンク１０２および循環ライン１０４へ供給する。

しかしながら、新しい処理液が循環ライン１０４の第１水平部４１０、上昇部４１１および第２水平部４１２を経由して、下降部４１３のところへ到達すると、下降部４１３内で処理液が落下する。その際、たとえば仮に、図１２に想像線で示す第３水平部４１４ａのように、下降部４１３の下流側と第３水平部４１４ａの上流側とが直接接続されていた場合、破線の円で囲んだ接続部位４１５にて、処理液は第３水平部４１４ａに当たって、液滴状態となる。かかる液滴状態の処理液がたとえば背圧調整弁４０１に供給されると、処理液と背圧調整弁４０１の弁体との間で摩擦が生じて静電気が発生し、背圧調整弁４０１にとって好ましくない。

そこで、第４の実施形態では、下降部４１３の下流側と、第３水平部４１４の上流側との間に、液だまり部４１６を設けるようにした。これにより、新しい処理液は、液だまり部４１６に一旦溜まった後に、背圧調整弁４０１へ流れ出ることから、液滴状態の処理液が背圧調整弁４０１に供給されることはなく、背圧調整弁４０１に静電気が生じることを防止することができる。

なお、上記では、循環ライン１０４に液だまり部４１６を設けるようにしたが、これに限定されるものではない。すなわち、たとえば、循環ライン１０４に新しい処理液を供給するための新液供給ラインにおいて、ストップバルブの上流側に液だまり部を設けるようにしてもよい。これにより、液滴状態ではない新液が、液だまり部からストップバルブに供給されることとなり、ストップバルブにおける流量調整を適切に行うことができる。

なお、上述した第１の実施形態では、１個のタンク１０２に対して２個のポンプ１０６ａ，１０６ｂが接続され、第２の実施形態では、１個の第１タンク１０２ａに対して１個の第１ポンプ１０６ａを接続するようにしたが、これらを適宜に組み合わせてもよい。

また、上記では、搬送部１５に配置される基板搬送装置１７を１台としたが、これに限られず、２台以上であってもよい。

さらなる効果や変形例は、当業者によって容易に導き出すことができる。このため、本発明のより広範な態様は、以上のように表しかつ記述した特定の詳細および代表的な実施形態に限定されるものではない。したがって、添付の特許請求の範囲およびその均等物によって定義される総括的な発明の概念の精神または範囲から逸脱することなく、様々な変更が可能である。

１ 基板処理システム
２ 搬入出ステーション
３ 処理ステーション
４ 制御装置
１５ 搬送部
１６ 処理ユニット
１７ 基板搬送装置
２０ａ 第１処理部
２０ｂ 第２処理部
３０ 収容部
１００ 基板液処理装置
１０２，１０２ａ，１０２ｂ タンク
１０６ａ，１０６ｂ ポンプ
１３０ エア供給源
１３１ａ，１３１ｂ エア配管
１４１α，１４１β 機器群

Claims (10)

1. 基板を搬送する搬送装置が配置される搬送部と、
   前記搬送部に水平方向に隣接し、処理液を用いて前記基板を処理する液処理ユニットが配置される処理部と、
   前記処理液を貯留する貯留部と、
   前記貯留部に貯留された前記処理液を前記液処理ユニットへ送り出す送液機構と
   を備え、
   前記貯留部は、
   前記搬送部の直下に配置され、
   前記送液機構は、
   前記処理部の直下に配置されること
   を特徴とする基板液処理装置。
2. 前記貯留部および該貯留部に対応する前記送液機構の機器群が複数あり、前記機器群ごとに収容部に収容されて区画されること
   を特徴とする請求項１に記載の基板液処理装置。
3. 前記処理部は、
   前記搬送部によって前記基板が搬送される第１処理部と第２処理部とを備え、
   前記送液機構は、
   前記第１処理部の直下に配置され、前記貯留部に接続される第１送液機構と、
   前記第２処理部の直下に配置され、前記貯留部に接続される第２送液機構と
   を備えることを特徴とする請求項１または２に記載の基板液処理装置。
4. 前記第１処理部と前記第２処理部とは、前記搬送部を挟んで対向する位置に設けられること
   を特徴とする請求項３に記載の基板液処理装置。
5. 前記貯留部と前記第１送液機構とを接続する第１液配管と、
   前記貯留部と前記第２送液機構とを接続する第２液配管と
   を備え、
   前記第１液配管の長さが、前記第２液配管の長さと同じであること
   を特徴とする請求項３または４に記載の基板液処理装置。
6. 前記貯留部と前記第１送液機構とを接続する第１液配管と、
   前記貯留部と前記第２送液機構とを接続する第２液配管と
   を備え、
   前記第１液配管および前記第１送液機構と、前記第２液配管および前記第２送液機構とは、平面視において点対称になるように配置されること
   を特徴とする請求項３〜５のいずれか一つに記載の基板液処理装置。
7. 前記第１送液機構および前記第２送液機構は、
   エア供給部からエア配管を介して供給されるエアで駆動するポンプを備えるとともに、
   前記エア供給部と前記第１送液機構のポンプとを接続する前記エア配管の長さが、前記エア供給部と前記第２送液機構のポンプとを接続する前記エア配管の長さと同じであること
   を特徴とする請求項３〜６のいずれか一つに記載の基板液処理装置。
8. 前記貯留部は、
   第１貯留部と第２貯留部とを備え、
   前記処理部は、
   前記搬送部を挟んで対向する位置に設けられる第１処理部と第２処理部とを備え、
   前記送液機構は、
   前記第１処理部の直下に配置され、前記第１貯留部に接続される第１送液機構と、
   前記第２処理部の直下に配置され、前記第２貯留部に接続される第２送液機構と
   を備えることを特徴とする請求項１または２に記載の基板液処理装置。
9. 前記第１貯留部と前記第１送液機構とを接続する第１液配管と、
   前記第２貯留部と前記第２送液機構とを接続する第２液配管と
   を備え、
   前記第１液配管および前記第１送液機構を含む第１機器群と、前記第２液配管および前記第２送液機構を含む第２機器群とを有するグループが複数あり、複数の前記グループは、平面視において点対称になるように配置されること
   を特徴とする請求項８に記載の基板液処理装置。
10. 前記処理部は、
    前記搬送部を挟んで対向する位置に設けられる第１処理部と第２処理部とを備え、
    前記第１、第２処理部と前記搬送部とは、
    前記第１処理部と前記搬送部とが収容される部分と、前記第２処理部が収容される部分との間で分割可能な収容部に収容されること
    を特徴とする請求項１〜９のいずれか一つに記載の基板液処理装置。

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