JP6443069B2 - 光学積層体 - Google Patents

Description

本発明は、光学積層体に関する。

陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等の画像表示装置の画像表示面は、取り扱い時に傷がつかないように、耐擦傷性を付与することが要求される。
このような要求に対して、例えば、光透過性基材にハードコート（ＨＣ）層を設けたり、更に、反射防止性や防眩性等光学機能を付与したりした光学積層体を利用することにより、画像表示装置の画像表示面の耐擦傷性を向上させることが一般になされている。

従来、ハードコート層の硬度を向上させる方法としては、無機微粒子を添加する方法があり、一般に、光透過性基材上に無機微粒子を添加したハードコート層を設けた光学積層体が製造されている（例えば、特許文献１等参照）。

しかしながら、近年、更に耐擦傷性や硬度に優れたハードコート層を備えた光学積層体が要求されている。
このようなハードコート層をより高硬度とする方法として、例えば、特許文献２には、光透過性基材上に反応性シリカ微粒子とバインダー成分とを含む第一のハードコート層を設け、該第一のハードコート層上に第二のハードコート層を設けたハードコートフィルムが開示されている。

ここで、近年の画像表示装置は、表示画面の大画面化とともに薄膜化の要求が益々大きくなってきており、光学積層体に使用される光透過性基材も従来と比較してより薄くなってきている。
ところが、このような薄膜化された光透過性基材上に従来の高硬度化の図られたハードコート層を形成すると、大きなカールが発生するという問題があった。

特開２００８−１０７７６２号公報 特開２０１０−１３１７７１号公報

本発明は、上記現状に鑑みて、高硬度で優れた耐擦傷性を有し、カールの発生が抑制された光学積層体を提供することを目的とするものである。

本発明は、光透過性基材の一方の面上に、第一のハードコート層が形成され、上記第一のハードコート層の上記光透過性基材側と反対側面上に、第二のハードコート層が形成された光学積層体であって、上記第一のハードコート層は、第一のシリカ微粒子と第一の樹脂成分とを含む第一のハードコート層用組成物を用いて形成されてなり、かつ、上記第一の樹脂成分が上記光透過性基材中に浸透して形成された浸透層と、上記第一のハードコート層用組成物により形成された非浸透層とを有するものであり、上記第二のハードコート層は、第二のシリカ微粒子と第二の樹脂成分とを含む第二のハードコート層用組成物を用いて形成されてなり、かつ、上記第一の樹脂成分が海島状に分散された分散物を含有するものであり、上記浸透層の厚みが上記第一ハードコート層の厚みの１５〜８５％であり、上記第二のハードコート層は、厚さ方向の断面における上記第一の樹脂成分の面積率が５〜１５％であることを特徴とする光学積層体である。

本発明の光学積層体において、上記海島状に分散された第一の樹脂成分は、第二のハードコート層の第一のハードコート層側に偏在して含有されていることが好ましい。

また、上記第二のハードコート層の断面のビッカース硬度（Ｎ１）、第一のハードコート層の非浸透層の断面のビッカース硬度（Ｎ２）及び光透過性基材の断面のビッカース硬度（Ｎ３）を、それぞれナノインデンテーション法により、負荷荷重１０ｍＮで測定したとき、上記ビッカース硬度（Ｎ１）が、６００〜１３００ＭＰａであり、上記ビッカース硬度（Ｎ２）が、２５０〜５００ＭＰａであり、上記ビッカース硬度（Ｎ３）が、２５０〜３３５ＭＰａであることが好ましい。

上記第一のハードコート層の厚みが２〜７μｍであり、第二のハードコート層の厚みが２〜７μｍであり、光透過性基材の厚みが１５〜４５μｍであることが好ましい。
また、上記第一の樹脂成分は、熱可塑性樹脂であることが好ましい。
以下に、本発明を詳細に説明する。

本発明者らは、光透過性基材上にハードコート層が形成された光学積層体について鋭意検討した結果、上記ハードコート層を、第一のハードコート層と第二のハードコート層とを有し、上記第一のハードコート層の樹脂成分が上記第二のハードコート層中に溶出して海島構造が形成された構成とすることで、優れた硬度を有するとともに、光透過性基材の薄膜化を図った場合であっても、カールの発生を好適に防止できることを見出した。
また、光透過性基材上にハードコート層を設け構成の光学積層体においては、光透過性基材とハードコート層との屈折率の相違から入射光の界面反射に起因した干渉縞の発生が問題となる。
このため、本発明者らは、更に検討した結果、上記光透過性基材の第一のハードコート層側の界面近傍に、上記第一のハードコート層を構成する樹脂成分が浸透してなる浸透層を設け、上記第一のハードコート層を、上記浸透層と光透過性基材に浸透していない非浸透層とからなる構成とすることで、干渉縞の発生を好適に防止できることを見出し、本発明を完成するに至った。

本発明は、光透過性基材の一方の面上に、第一のハードコート層が形成され、上記第一のハードコート層の上記光透過性基材側と反対側面上に、第二のハードコート層が形成された光学積層体である。

本発明の光学積層体は、光透過性基材を有する。
上記光透過性基材の材料は、トリアセチルセルロースであることが好ましい。上記トリアセチルセルロースを材料として形成される光透過性基材は、透明性、平滑性、耐熱性を備え、更に機械的強度に優れる。
上記光透過性基材の厚みは、１５〜４５μｍであることが好ましい。１５μｍ未満であると、本発明の光学積層体の硬度が不充分となることがあり、４５μｍを超えると、本発明の光学積層体が厚くなり、近年の薄膜化の要請に充分に応えることができなくなくなることがある。上記光透過性基材の厚みのより好ましい下限は２０μｍ、より好ましい上限は４０μｍである。
また、上記光透過性基材は、その上に第一のハードコート層を形成するに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、プラズマ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、ケン化処理、溶剤処理等の化学的な処理、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布（厚みは１μｍ程度）を予め行ってもよい。

本発明の光学積層体は、上記光透過性基材の一方の面上に、第一のハードコート層が形成され、上記第一のハードコート層の上記光透過性基材側と反対側面上に、第二のハードコート層が形成されている。
本発明の光学積層体において、上記第一のハードコート層は、後述する第二のハードコート層よりも硬度の低い層である。このような低硬度の第一のハードコート層を有することで、本発明の光学積層体は、内部応力を緩和することができ、その結果、カールの発生を好適に防止することができる。

上記第一のハードコート層は、第一のシリカ微粒子と第一の樹脂成分とを含む第一のハードコート層用組成物を用いて形成されてなるものである。
上記第一のシリカ微粒子としては特に限定されないが、例えば、コロイダルシリカが挙げられる。
上記コロイダルシリカは、表面処理コロイダルシリカであることが好ましい。上記表面処理コロイダルシリカとしては、表面に紫外線反応性官能基を有するコロイダルシリカが挙げられる。上記紫外線反応性官能基としては特に限定されず、例えば、アクリレート基、メタクリレート基、エポキシ基、ビニル基等が挙げられる。
このような紫外線反応性官能基を表面に有するコロイダルシリカとしては、例えば、第一のシリカ微粒子の表面に上記紫外線反応性官能基を有するシランカップリング剤を反応させる方法等により得ることができる。
上記シランカップリング剤としては特に限定されず、公知のものを挙げることができ、例えば、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３、ＫＢＭ−５８０３、ＫＢＭ−４８０３、ＫＢＭ−１０８３（商品名、いずれも、信越化学工業社製）等が挙げられる。

上記コロイダルシリカの平均粒子径は、５〜１００ｎｍであることが好ましい。５ｎｍ未満であると、均一な粒子径のコロイダルシリカの製造が困難となる。また粒子同士の凝集が大きくなるおそれもある。また、塗工液の粘度が高くなり塗工性が悪化するおそれがある。１００ｎｍを超えると、ヘイズが向上し光透過率も低下するため好ましくない。上記コロイダルシリカの平均粒子径のより好ましい下限は１０ｎｍ、より好ましい上限は６０ｎｍである。
上記平均粒子径は、本発明の光学積層体の断面を電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察し、測定して得られる値である。上記コロイダルシリカの平均粒子径は、インク中で分散した状態であっても、形成後の第一のハードコート層内においても、同じ数値を示すのである。
なお、本発明の光学積層体において、上記コロイダルシリカは、１種類で用いてもよいし、平均粒子径が異なる２種類以上を混合して用いてもよい。

また、上記コロイダルシリカは、上記第一のハードコート層用組成物中で、単粒子状及び／又は異形粒子状であることが好ましい。
本発明の光学積層体では、上記第一のハードコート層形成用組成物におけるコロイダルシリカの形態は、単粒子状、又は、異形粒子状のいずれかであってもよいが、形成する第一のハードコート層のケン化耐性及び鉛筆硬度が良好になることから、より好ましくは異形粒子状である。
ここで、「異形粒子状」とは、３〜２０個の球状のコロイダルシリカが無機の化学結合により結合した状態を意味する。このような異形粒子状のコロイダルシリカは、上述した表面処理コロイダルシリカであることで容易に形成することができる。
上記異形粒子状のコロイダルシリカは、球状のコロイダルシリカが無機の化学結合により結合した状態なため、鉛筆硬度試験等のような外部からの押込力がかかった際、つぶれにくい頑丈な性質を持っている。また、異形粒子状のコロイダルシリカは、表面面積が広く、またその形状から、上記ペンタエリスルトールトリ（メタ）アクリレート等との接着力が強くなる利点がある。そのため、異型粒子状のコロイダルシリカは、剥がれにくくケン化耐性等が向上する。更に、異形粒子状のコロイダルシリカは、該異形粒子状のコロイダルシリカ同士がランダムに絡み合うために、物理的にも頑丈になる。
また、単粒子状シリカでも、粒子径が大きくなると（例えば、平均粒径が３０ｎｍ以上）、鉛筆硬度試験等のような外部からの大きな押込力がかかった際、つぶれにくく頑丈となり、また、剥がれにくくなり、ケン化耐性も良好となる。
更に、単粒子状シリカの粒子径が小さくなった場合であっても（例えば、平均粒径が３０ｎｍ未満）、第一のハードコート層表面付近の硬度が増すため、耐ＳＷ性が良化する結果も得られる。

上記コロイダルシリカの市販品としては、例えば、ＩＰＡＳＴ、ＩＰＡＳＴＳ、ＩＰＡＳＴＭＳ、ＩＰＡＳＴＬ、ＩＰＡＳＴＺＬ、ＩＰＡＳＴＵＰ、ＭＩＢＫＳＤ、ＭＩＢＫＳＤＬ、ＭＩＢＫＳＤＭＬ、ＭＩＢＫＳＤＺＬ、ＭＩＢＫＳＤＵＰ（いずれも、商品名、日産化学社製）、Ｖ８８０３（日揮触媒化成社製）、ＦＣＮＳ（ＤＮＰファインケミカル社製）等が挙げられる。

上記コロイダルシリカの配合量は、第一のハードコート層用組成物の第一の樹脂成分の固形分との合計１００質量％に対して、５〜４０質量％であることが好ましい。５質量％未満であると、第一のハードコート層の硬度が不充分となることがあり、４０質量％を超えると、第二のハードコート層との密着性が悪くなったり、ヘイズが悪化したりすることがある。上記コロイダルシリカの配合量のより好ましい下限は１０質量％であり、より好ましい上限は３０質量％である。

上記第一の樹脂成分としては特に限定されないが、例えば、熱可塑性樹脂であることが好ましい。なお、本明細書において、「樹脂」は、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分も包含する概念である。
上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等が挙げられる。
上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性の観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。
なお、本明細書において、（メタ）アクリルとは、アクリル及びメタクリルを意味する。
上記熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が７０℃以上であることが好ましい。
また、上記熱可塑性樹脂は、分子内に紫外線又は電子線により硬化する官能基を有していてもよい。上記熱可塑性樹脂のガラス転移温度は、分子内への紫外線又は電子線により硬化する官能基の導入により低下する傾向にあるため、硬化前の状態でガラス転移温度が７０℃以上となる範囲で、上記分子内に紫外線又は電子線により硬化する官能基が導入されることが好ましい。

上記第一の樹脂成分は、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂を含有していてもよい。
上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、多官能のウレタン（メタ）アクリレート、多官能のエポキシ（メタ）アクリレート等の多官能化合物、又は、上記多官能化合物と（メタ）アクリレート等との反応生成物（例えば、多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）等が挙げられる。更に、上述した化合物のエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン又はイソシアヌル酸等の変性を施した化合物であってもよい。

上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。

また、上記第一の樹脂成分は、熱硬化性樹脂を含有していてもよい。
上記熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。

上記第一の樹脂成分が電離放射線硬化型樹脂を含み、該電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。
上記光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類（例えば、商品名イルガキュア１８４、ＢＡＳＦ社製の１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、商品名イルガキュア９０７、ＢＡＳＦの２−メチル−１〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モリフォリノプロパン−１−オン）、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。これらは、単独で使用してもよいし又は２種以上を併用してもよい。
また、商品名イルガキュア１２７（ＢＡＳＦ社製の２−ヒドロキシ−１−｛４−〔４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）ベンジル〕−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン）や、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１や２−ジメチルアミノ−２−（４メチル−ベンジル）−１−（４−モリフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オンも併用可能である。
更に、上記以外の市販品も使用でき、具体的には、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア３６９、イルガキュア３７９、イルガキュア８１９、イルガキュア５００、イルガキュア７５４、イルガキュア２５０、イルガキュア１８００、イルガキュア１８７０、イルガキュア２９５９、イルガキュアＯＸＥ０１、ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３、日本シイベルヘグナー社製のＳｐｅｅｄｃｕｒｅＭＢＢ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＰＢＺ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＩＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＣＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＥＤＢ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＯＮＥ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ１５０、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴＯ４６、日本化薬社製のＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＣＴＸ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＭＢＩ等が挙げられる。

上記第一のハードコート層用組成物は、上述した成分の他に、必要に応じて、その他の成分を含んでいてもよい。上記その他の成分としては、上記樹脂成分以外の樹脂、熱重合開始剤、光酸発生剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、レベリング剤、防汚剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、帯電防止剤、酸化防止剤、抗菌剤、スリップ剤、屈折率調整剤、分散剤、ブロッキング防止剤、着色剤等が挙げられる。これらは公知のものを使用することができる。

上記第一のハードコート層用組成物は、上述した第一のシリカ微粒子、樹脂成分及び必要に応じて他の成分を溶剤中に分散させることで調製することができる。上記第一のハードコート層用組成物の調製方法としては各成分を均一に混合できれば特に限定されず、例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用して行うことができる。

上記第一のハードコート層は、例えば、上記第一のハードコート層用組成物を、上記光透過性基材上に塗布し形成した塗膜を乾燥し、電離放射線照射又は加熱等により硬化させることで形成することができる。
ただし、後述するように、本発明の光学積層体では、第二のハードコート層は、第一の樹脂成分が海島状に分散された分散物を含むものであるため、上記第一のハードコート層用組成物を光透過性基材上に塗布した塗膜は、完全に硬化させてから第二のハードコート層が形成されるのではなく、ハーフキュア（半硬化）の状態で、第二のハードコート層が形成される。
また、上記第一の樹脂成分がガラス転移温度１００℃以上の熱可塑性樹脂である場合、該熱可塑性樹脂は、第一のハードコート層用組成物の塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となる樹脂（溶剤乾燥型樹脂）であるため、上記第一のハードコート層用組成物の塗膜は、電離放射線照射等による硬化は不要である。
上記第一の樹脂成分がガラス転移温度１００℃未満の熱可塑性樹脂である場合、本発明の光学積層体は、ロールトゥロールで製造されるため、上記塗膜がガイドロールに貼り付くことを防止するため、該塗膜に電離放射線照射によるハーフキュア（半硬化）を行うことが好ましい。
なお、上記第一のハードコート層用組成物の塗膜への電離放射線等の照射は、空気中又は酸素濃度が高めの環境下で行うことが好ましい。このような環境下で第一のハードコート層用組成物の塗膜に電離放射線等を照射することで、上記塗膜をハーフキュアとすることが容易となり、該塗膜上に形成する第二のハードコート層中への第一の樹脂成分の溶出制御と第二のハードコート層との密着性とを向上させることが容易となる。

上記第一のハードコート層用組成物を光透過性基材上に塗布する方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の公知の方法を挙げることができる。

また、上記乾燥後の塗膜を硬化させる際の電離放射線の照射方法としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源を用いる方法が挙げられる。
また、紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。

また、上記溶剤としては、使用する樹脂成分の種類及び溶解性に応じて選択して使用することができ、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、カーボネート類（ジメチルカーボネート、エチルメチルカーボネート）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、ＰＧＭＥＡ等）、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、グリコール類；メチルグリコール、メチルグリコールアセテート、ＰＧＭＥ、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合溶媒であってもよい。

上記溶剤は、なかでも、トリアセチルセルロースからなる光透過性基材（以下、ＴＡＣ基材ともいう）に対して浸透性のある浸透性溶剤を含有することが好ましい。本発明において、浸透性溶剤の「浸透性」とは、ＴＡＣ基材に対する浸透性、膨潤性、湿潤性等のすべての概念を包含する意味である。
上記光透過性基材がＴＡＣ基材であると、このような浸透性溶剤がＴＡＣ基材を膨潤、湿潤することによって、第一のハードコート層用組成物の一部がＴＡＣ基材に浸透する挙動をとり、ＴＡＣ基材の界面近傍に第一のハードコート層の樹脂成分が浸透した浸透層が形成され、これらの界面を実質的に無くすことができ、干渉縞の発生の防止、及び、ＴＡＣ基材と第一のハードコート層との密着性の向上を図ることができる。

上記浸透性溶剤の具体例としては、ケトン類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、エステル類；蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、含窒素化合物；ニトロメタン、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、グリコール類；メチルグリコール、メチルグリコールアセテート、エーテル類；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル、ハロゲン化炭化水素；塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン、グリコールエーテル類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート、その他、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレン、ジメチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、又は、これらの混合物が挙げられる。
好ましくは、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、ジメチルカーボネート、エチルメチルカーボネート等が用いられる。
その他溶剤も、上記浸透性溶剤と混合して用いることができる。

本発明の光学積層体において、上記第一のハードコート層は、上述した第一の樹脂成分が上記光透過性基材中に浸透して形成された浸透層と、上記第一のハードコート層用組成物により形成された非浸透層とを有する。
このような構成の第一のハードコート層を有することで、本発明の光学積層体は、光透過性基材と第一のハードコート層との界面反射に起因した干渉縞の発生を好適に防止でき、また、上記光透過性基材と第一のハードコート層との密着性も極めて優れたものとなる。

このような第一のハードコート層は、厚み（上述した浸透層と非浸透層との合計膜厚）が、２〜７μｍでることが好ましい。２μｍ未満であると、浸透部分と非浸透部分の両方を発現させるために、生産マージンが非常に狭く製造が困難になり、光学積層体の光学特性や機械特性が不安定となり、本発明の光学積層体の硬度が不充分となったり、光透過性基材との密着性が悪化したり、干渉縞が発生し易くなることがある。
一方、７μｍを超えると、本発明の光学積層体にカールが発生したり、薄膜化の要請に充分に応えることができなかったりするだけでなく、第二のハードコート層との密着性も悪化したり、第二のハードコート層と第一のハードコート層の間での干渉縞が発生することもある。

また、上記第一のハードコート層における浸透層の厚みは特に限定されないが、該浸透層の厚みが第一のハードコート層の厚み（上述した浸透層と非浸透層との合計膜厚）の１５〜８５％であることが好ましい。１５％未満であると、干渉縞が発生し易くなることがあり、８５％を超えると、本発明の光学積層体の光学特性や機械特性が不安定となったり、また、硬度が不充分となったりすることがある。
なお、本明細書において、上記第一のハードコート層の厚み、上記浸透層及び非浸透層の厚みは、本発明の光学積層体の断面顕微鏡観察により測定することができる。

本発明の光学積層体において、上記第二のハードコート層は、第二のシリカ微粒子と第二の樹脂成分とを含む第二のハードコート層用組成物を用いて形成されてなるものである。
上記第二のシリカ微粒子及び第二の樹脂成分としては、上述した第一のハードコート層における第一のシリカ微粒子及び第一の樹脂成分と同様のものが挙げられ、また、上記第二のハードコート層用組成物の調製方法も上記第一のハードコート層用組成物と同様の方法が挙げられる。
上記第二のシリカ微粒子の平均粒子径は、上記第一のシリカ微粒子の平均粒子径と同じであっても、異なっていてもよい。
本発明の光学積層体において、上記第二のハードコート層は、上述した第一のハードコート層よりも硬度の高い層である。このような高硬度の第二のハードコート層を有することで、本発明の光学積層体は、耐擦傷性に優れたものとなる。
なお、本発明の光学積層体において、第一のハードコート層用組成物及び／又は第二のハードコート層用組成物の具体的な組成は、第一のハードコート層の硬度と第二のハードコート層の硬度とが、上述した特定の関係となるよう適宜調整される。

上記第二のハードコート層において、上記第二のシリカ微粒子の配合量は、第二のハードコート層用組成物の第二の樹脂成分の固形分との合計１００質量％に対して、２５〜６０質量％であることが好ましい。２５質量％未満であると、第二のハードコート層の硬度が不充分となることがあり、６０質量％を超えると、第一のハードコート層との密着性が悪化したり、光学積層体のヘイズが悪化したり、耐擦傷性が悪化したりすることがある。
第二のシリカ微粒子の配合量のより好ましい下限は３０質量％であり、より好ましい上限は５０質量％である。

上記第二のハードコート層は、上述した第一の樹脂成分が海島状に分散された分散物を含有する。このような分散物を含有することで、上記第一のハードコート層との密着性が良化するばかりでなく、干渉縞を好適に防止することもできる。
ここで、上記「第一の樹脂成分が海島状に分散された分散物を含有する」という状態は、上記第二のハードコート層の断面顕微鏡観察により確認することができ、具体的には、第二のハードコート層の断面において、均一に分散された状態の第二のシリカ微粒子中に、上記第一の樹脂成分が第二のシリカ微粒子が殆ど存在しない塊状の領域として、かつ、当該領域の分散状態が、上記均一に分散された状態の第二のシリカ微粒子と比較して、明らかに均一でない状態で観察されることをいう。なお、上記「第二のシリカ微粒子が殆ど存在しない塊状の領域」とは、当該塊状の領域に、第二のシリカ微粒子が全く存在しない場合を含む。

上記第二のハードコート層は、厚さ方向の断面における上記第一の樹脂成分の面積率が５〜１５％であることが好ましい。５％未満であると、上記第一のハードコート層との密着性の向上が図れず、また、干渉縞を充分に防止できないことがある。一方、１５％を超えると、第二のハードコート層の屈折率が上昇して（内部）ヘイズが発生して白くなってしまうことがあり、また、硬度も不充分となることがある。第一のハードコート層の非浸透層の厚みが薄い場合、第一のハードコート層の非浸透層成分が、第二のハードコート層側に溶出するため、第一のハードコート層と第二のハードコート層との密着性が悪化する場合もある。上記厚さ方向の断面における上記第一の樹脂成分の面積率は１０％以下であることがより好ましい。
なお、上記面積率は、ＴＥＭによる上記第二のハードコート層の断面写真から、画像解析ソフトＷｉｎ Ｒｏｏｆ（三谷商事社ビジュアルシステム部）によって画像の２値化（第一の樹脂成分の存在量を面積化する）を行い、０．０１μｍ^２以上となる領域の面積を測定して得ることができる。

上記第二のハードコート層において、海島状に分散された上記第一の樹脂成分は、上記第二のハードコート層の第一のハードコート層側に偏在して含有されていることが好ましい。このような状態で上記第一の樹脂成分が第二のハードコート層に含まれることで、密着性が良化し、干渉縞を好適に防止することができる。
一方、第一の樹脂成分が、第二のハードコート層の第一のハードコート層側と反対側表面に多く存在すると、耐擦傷性が悪化することがある。
ここで、上記「第二のハードコート層の第一のハードコート層側に偏在して含有されている」とは、上記第二のハードコート層の断面顕微鏡観察により確認することができ、該第二のハードコート層の断面の厚み方向の中点を結ぶ線の第一のハードコート層と反対側（以下、上側領域ともいう）よりも第一のハードコート層側（以下、下側領域ともいう）に上記第一の樹脂成分が多く分散されていることを意味する。
より具体的には、上述した面積率を測定したときに、上記下側領域における第一の樹脂成分の面積率が、上記上側領域における第一の樹脂成分の面積率の１．５〜２．３倍であることが好ましい。

このような第二のハードコート層の厚みは、２〜７μｍでることが好ましい。２μｍ未満であると、本発明の光学積層体の硬度が不充分となることがあり、７μｍを超えると、本発明の光学積層体にカールが発生したり、薄膜化の要請に充分に応えることができなかったりすることがある。上記第二のハードコート層の厚みのより好ましい下限は３μｍ、より好ましい上限は６μｍである。

このような第二のハードコート層の形成方法としては、例えば、上述したようなハーフキュア又はさせた第一のハードコート層用組成物の塗膜上に、上述した第二のハードコート層用組成物を塗布して第二のハードコート層の塗膜を形成した後、該第二のハードコート層の塗膜を乾燥し、電離放射線照射又は加熱等により硬化させることで形成することができる。ハーフキュアさせた第一のハードコート層用組成物の塗膜上に、第二のハードコート層用組成物の塗膜を形成し乾燥させることで、上記ハーフキュアさせた第一のハードコート層用組成物の塗膜中の第一の樹脂成分が第二のハードコート層用組成物の塗膜中に溶出し、第二のハードコート層は、第一の樹脂成分が海島状に分散された分散物を含有することとなる。
上記第二のハードコート層用組成物の塗膜を硬化させる際には、ハーフキュアさせた第一のハードコート層用組成物の塗膜も併せて硬化させることが好ましい。
また、第二のハードコート層用組成物の塗膜への電離放射線等の照射は、低酸素濃度環境下で行うことが好ましい。低酸素濃度環境下で電離放射線等の照射を行うことで、第二のハードコート層用組成物の塗膜を、該塗膜中に溶出した第一の樹脂成分の海島構造を壊すことなく硬化させることができる。

本発明の光学積層体は、上述した第二のハードコート層の断面のビッカース硬度（Ｎ１）、第一のハードコート層の非浸透層の断面のビッカース硬度（Ｎ２）及び光透過性基材の断面のビッカース硬度（Ｎ３）を、それぞれナノインデンテーション法により、負荷荷重１０ｍＮで測定したとき、上記ビッカース硬度（Ｎ１）が、６００〜１３００ＭＰａであり、上記ビッカース硬度（Ｎ２）が、２５０〜５００ＭＰａであり、上記ビッカース硬度（Ｎ３）が、２５０〜３３５ＭＰａであることが好ましい。上記ビッカース硬度（Ｎ１）、（Ｎ２）及び（Ｎ３）が上記範囲内にそれぞれあることで、本発明の光学積層体は、カールの発生と優れた硬度とを兼ね備えたものとなる。

上記第二のハードコート層の断面のビッカース硬度（Ｎ１）が６００ＭＰａ未満であると、本発明の光学積層体の表面硬度が目標の鉛筆硬度に到達せず、また、耐擦傷性も不充分となることがある。一方、上記ビッカース硬度（Ｎ１）が１３００ＭＰａを超えると、硬くなりすぎて、脆くなり、クラック性（靭性）が低下してしまうことがある。また、カールが強くなり、後加工のプロセスにおいて、不具合（例えば、ケン化工程でカールが更に強くなって生産ラインを通らなくなり、場合によっては破断してしまったり、偏光板に貼合した後にもカールしてしまったりする等）が生じてしまう。更に、本発明の光学積層体の表面硬度が目標の鉛筆硬度３Ｈに到達しなくなる。
上記ビッカース硬度（Ｎ１）のより好ましい下限は６５０ＭＰａ、より好ましい上限は１２５０ＭＰａであり、更に好ましい下限は７００ＭＰａ、更に好ましい上限は１２００ＭＰａである。
なお、本発明の光学積層体において、上記ビッカース硬度（Ｎ１）は、後述するようにビッカース圧子を第二のハードコート層の断面に押込むことで測定される。
上記ビッカース圧子を押込む位置は、上記第二のハードコート層の断面の第一のハードコート層側と反対側表面付近であることが好ましい。このような位置にビッカース圧子を押込むことで測定されるビッカース硬度（Ｎ１）は、上記第二のハードコート層の表面（第一のハードコート層側と反対側表面）のビッカース硬度と見做すことができる。具体的には、上記ビッカース圧子は、上記第二のハードコート層の断面の上記第一のハードコート層側と反対側表面から１．５μｍまでの範囲内であることが好ましい。

また、上記第一のハードコート層の断面のビッカース硬度（Ｎ２）が２５０ＭＰａ未満であると、本発明の光学積層体の表面硬度が目標の鉛筆硬度３Ｈに到達しないことがある。一方、上記ビッカース硬度（Ｎ２）が５００ＭＰａを超えると、硬くなりすぎて脆くなり、クラック性（靭性）が低下してしまうことがある。また、カールが大きくなり、第二のハードコートを積層する工程で、塗工及び乾燥が困難となることがある。
上記ビッカース硬度（Ｎ２）のより好ましい下限は２７０ＭＰａ、より好ましい上限は４５０ＭＰａであり、更に好ましい下限は２８０ＭＰａ、更に好ましい上限は４００ＭＰａである。
なお、上記ビッカース硬度（Ｎ２）は、上記第一のハードコート層の断面の厚み方向の中点を結ぶ位置で測定された値であることが好ましい。

また、上記光透過性基材（トリアセチルセルロース基材）の断面のビッカース硬度（Ｎ３）が２５０ＭＰａ未満であると、本発明の光学積層体の表面硬度が目標の鉛筆硬度に到達しないことがある。また、本発明の光学積層体の製造中に、光透過性基材が切れたり、光透過性基材の流れ方向にシワが入ったり、折れたりするため好ましくない。また、第一のハードコート層の硬化収縮の影響を受けてシワ（うねり）が入ったりすることもある。一方、上記ビッカース硬度（Ｎ３）が３３５ＭＰａを超えると、硬くなりすぎて脆くなり、クラック性（靭性）が低下してしまうことがある。上記ビッカース硬度（Ｎ３）のより好ましい下限は２５５ＭＰａ、より好ましい上限は３３０ＭＰａであり、更に好ましい下限は２６０ＭＰａ、更に好ましい上限は３２５ＭＰａである。
なお、上記ビッカース硬度（Ｎ３）は、上記光透過性基材の断面の厚み方向の中点を結ぶ位置で測定された値であることが好ましい。

ここで、上記第二のハードコート層の断面のビッカース硬度（Ｎ１）の具体的な測定方法としては、例えば、図１に示したように、上記（Ｎ１）は、第二のハードコート層１０の断面１０ａの所定の位置（Ａ−Ａ線）に、該断面１０ａに対して垂直方向から対稜角が１１５°のダイヤモンド正三角錐形状のバーコビッチ圧子１２を押し込み、得られた荷重−変位曲線から、ビッカース硬度を算出し、これを５箇所について求めた平均を第二のハードコート層のビッカース硬度（Ｎ１）とする。なお、上記ビッカース硬度は、より具体的には、バーコビッチ圧子の押し込みによりできた三角錐状のくぼみ１３ａの対角線の長さからその表面積Ａ’（ｍｍ^２）を計算し、試験荷重Ｆ（Ｎ）を割る（Ｆ／Ａ’）ことで求められる。
また、第一のハードコート層１００の断面のビッカース硬度（Ｎ２）は、図１に示したように、第一のハードコート層１００の断面１００ａの中央（Ｂ−Ｂ線）に、該断面１００ａに対して垂直方向からバーコビッチ圧子１２を押し込んで形成したくぼみ１３ｂから、上記（Ｎ１）と同様にしてビッカース硬度（５箇所について求めた平均）を求める。また、上記トリアセチルセルロース基材の断面のビッカース硬度（Ｎ３）は、光透過性基材１１の断面１１ａの中央（Ｃ−Ｃ線）に、該断面１１ａに対して垂直方向からバーコビッチ圧子１２を押し込んで形成したくぼみ１３ｃから、上記（Ｎ１）と同様にしてビッカース硬度（５箇所について求めた平均）を求める。
なお、上記ナノインデンテーション法によるビッカース硬度の測定は、ＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）社製の品名「ＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ」、圧子「Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子（三角錐）」を用いて測定することができる。
上記ビッカース硬度の測定は、具体的には、以下の方法で行うことが好ましい。
（１）負荷：２０秒かけてバーコビッチ圧子１２を０から２００ｎｍまで押込む（押込み速度：１０ｎｍ／秒）
（２）保持：押込んだバーコビッチ圧子１２を５秒間保持
（３）除荷：２０秒かけてバーコビッチ圧子１２を２００ｎｍから０ｎｍまで戻す（戻し速度：１０ｎｍ／秒）
（４）上記（１）〜（３）により測定したｍａｘ荷重を計測し、該ｍａｘ荷重（Ｐ_ｍａｘ（μＮ）と深さ２００ｎｍのくぼみ面積Ａ（ｎｍ^２）とを用い、Ｐ_ｍａｘ／Ａでビッカース硬度を算出

また、本発明の光学積層体において、上記第二のハードコート層は、表面の鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）の硬度が、３Ｈ以上であることが好ましい。３Ｈ未満であると、本発明の光学積層体のハードコート性が不充分となることがある。なお、上記鉛筆硬度試験は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に規定する鉛筆硬度試験に準ずる試験である。
本明細書において、上記第二のハードコート層の鉛筆硬度試験による硬度は、５回ひっかき試験を行ったうち、１回の引いた長さの３分の１以上の長さに傷が発生した回をＮＧとし、ＮＧが１回以下であれば合格という基準に基づいて評価した結果を意味する。つまり、５回ひっかき試験を行い、１回傷が発生した場合は「４／５」という記述になり合格となり、また、５回ひっかき試験を行い、４回傷が発生した場合は「１／５」という記述になり不合格となる。

本発明の光学積層体は、１００ｍｍ×１００ｍｍ四方の大きさにカットしたサンプルを作製し、該サンプルを静置してカールさせたとき、上記サンプルがカールすることで近づいた対向する２辺の距離（最短距離）が１０〜１００ｍｍであることが好ましい。１０ｍｍ未満であると、本発明の光学積層体のカールの発生が充分に抑制されていないこととなり、１００ｍｍであると、上記サンプルにカールが発生していないこととなる。

本発明の光学積層体は、上記第二のハードコート層の光透過性基材と反対側面上に、従来公知の任意の光学機能層（低屈折率層、高屈折率層、防汚層、帯電防止層、防眩層等）が形成されていてもよい。これらの光学機能層は、有機物、無機物、有機物と無機物とが混合されたものいずれでもよく、従来の公知の構成及び方法で形成できる。なお、例えば、有機バインダーに中空シリカなどを混合した組成物を塗布、硬化し、低屈折率層を積層したり、あるいは、ＳｉＯｘ（ｘ＝１から２）等の無機薄膜をスパッタや、ＣＶＤ蒸着することで低屈折率層を積層したりするなど、上記第二のハードコート層上に何かしら機能層を一層以上設けると、本発明の光学積層体のナノインデンテーションによる押し込み硬度は、第二のハードコート層だけの場合よりも２倍から３倍高硬度（上限が約４ＧＰａ）まで向上させることができる。これは、最表面の硬度が向上している状態であるため、耐擦傷性も非常によくなる。

本発明の光学積層体は、上述した構成からなるものであるため、高硬度で優れた耐擦傷性を有し、カールの発生が抑制されたものとするこができる。
このため、本発明の光学積層体は、フレキシブルタイプの有機ＥＬディスプレイや、スマートフォンや腕時計型端末などの携帯端末、自動車内部の表示装置、腕時計などに使用するフレキシブルパネル等に、更には、液晶表示装置等の画像表示装置やタッチパネル等に好適に用いることができる。

ビッカース硬度の測定方法を説明する模式図である。

本発明の内容を下記の実施例により説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。

（実施例１）
光透過性基材として、厚さ２５μｍのトリアセチルセルロース基材（富士フイルム社製、ＴＡＣ２５）を準備し、該光透過性基材の一方の面上に、上記表１に示した組成の第一のハードコート層用組成物Ａを塗布し、塗膜（浸透層及び非浸透層）を形成した。
次いで、形成した塗膜に対して、７０℃の乾燥空気を４５秒間流通させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を高酸素濃度雰囲気（酸素濃度５００ｐｐｍ以上）下にて積算光量が５０ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して塗膜をハーフキュアさせ、浸透層と非浸透層とからなる塗膜を形成した。
次いで、ハーフキュアさせた第一のハードコート層用組成物の塗膜上に、上記表２に示した組成の第二のハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、７０℃の乾燥空気を４５秒間流通させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、４．５μｍ厚み（硬化時）の第二のハードコート層を形成し、光学積層体を製造した。

（実施例２）
第二のハードコート層の厚みが６．０μｍとなるようにした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例３）
第二のハードコート層の厚みが２．５μｍとなるようにした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例４）
第一のハードコート層の浸透層の厚みが３．０μｍ、非浸透層の厚みが３．０μｍとなるようにした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例５）
第一のハードコート層の浸透層の厚みが１．５μｍ、非浸透層の厚みが１．５μｍとなるようにした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例６）
第一のハードコート層の浸透層の厚みが３．０μｍ、非浸透層の厚みが３．０μｍとなるようにし、第二のハードコート層の厚みが６．０μｍとなるようにした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例７）
光透過性基材として、厚さ４０μｍのトリアセチルセルロース基材（コニカミノルタ社製、ＴＡＣ４０）を用いた以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例８）
第二のハードコート層用組成物１に代えて、第二のハードコート層用組成物２を用いた以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例９）
第二のハードコート層用組成物１に代えて、第二のハードコート層用組成物３を用いた以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例１０）
光透過性基材として、厚さ４０μｍのトリアセチルセルロース基材（コニカミノルタ社製、ＴＡＣ４０）を用いた以外は、実施例９と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例１１）
第二のハードコート層用組成物１に代えて、第二のハードコート層用組成物４を用いた以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例１２）
第二のハードコート層用組成物１に代えて、第二のハードコート層用組成物５を用いた以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例１３）
第二のハードコート層用組成物１に代えて、第二のハードコート層用組成物６を用いた以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例１４）
第二のハードコート層用組成物１に代えて、第二のハードコート層用組成物７を用いた以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例１５）
第二のハードコート層用組成物１に代えて、第二のハードコート層用組成物８を用いた以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例１６）
第一のハードコート層用組成物Ａに代えて、第一のハードコート層用組成物Ｂを用いた以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例１７）
第一のハードコート層用組成物Ａに代えて、第一のハードコート層用組成物Ｃを用いた以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例１８）
第一のハードコート層用組成物Ａに代えて、第一のハードコート層用組成物Ｄを用いた以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例１９）
第一のハードコート層用組成物Ａに代えて、第一のハードコート層用組成物Ｅを用いた以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例２０）
第一のハードコート層用組成物Ａに代えて、第一のハードコート層用組成物Ｆを用い、浸透層の厚みが１．６μｍ、非浸透層の厚みが２．６μｍとなるようにした以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例２１）
第一のハードコート層用組成物Ａに代えて、第一のハードコート層用組成物Ｇを用い、浸透層の厚みが３．０μｍ、非浸透層の厚みが１．２μｍとなるようにした以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例２２）
第一のハードコート層用組成物Ａに代えて、第一のハードコート層用組成物Ｈを用い、浸透層の厚みが１．２μｍ、非浸透層の厚みが３．０μｍとなるようにした以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例２３）
第一のハードコート層用組成物Ａに代えて、第一のハードコート層用組成物Ｉを用い、浸透層の厚みが１．２μｍ、非浸透層の厚みが３．０μｍとなるようにした以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例２４）
第一のハードコート層用組成物Ａに代えて、第一のハードコート層用組成物Ｊを用いた以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例２５）
第一のハードコート層用組成物Ａに代えて、第一のハードコート層用組成物Ｋを用いた以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例２６）
第一のハードコート層用組成物Ａに代えて、第一のハードコート層用組成物Ｌを用いた以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例２７）
第一のハードコート層用組成物Ａに代えて、第一のハードコート層用組成物Ｍを用いた以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（実施例２８）
第一のハードコート層用組成物Ａに代えて、第一のハードコート層用組成物Ｃを用い、第二のハードコート層用組成物１に代えて、第二のハードコート層用組成物３を用いた以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（比較例１）
第二のハードコート層を形成しなかった以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（比較例２）
第一のハードコート層用組成物Ａに代えて、第一のハードコート層用組成物Ｎを用い、浸透層が形成されず、非浸透層の厚みが４．０μｍの第一のハードコート層を形成した以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（比較例３）
第一のハードコート層用組成物Ａに代えて、第一のハードコート層用組成物Ｏを用い、非浸透層が形成されず、浸透層の厚みが４．０μｍの第一のハードコート層を形成した以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（比較例４）
第一のハードコート層用組成物Ａに代えて、第一のハードコート層用組成物Ｐを用いた以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（比較例５）
第二のハードコート層用組成物１に代えて、第二のハードコート層用組成物９を用いた以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（参考例１）
第二のハードコート層の厚みが１０．０μｍとなるようにした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（参考例２）
第二のハードコート層の厚みが１．０μｍとなるようにした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（参考例３）
第一のハードコート層用組成物Ａに代えて、第一のハードコート層用組成物Ｑを用いた以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

（参考例４）
第二のハードコート層用組成物１に代えて、第二のハードコート層用組成物１０を用いた以外、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。

実施例、比較例及び参考例で得られた光学積層体について、以下の評価を行い、その結果を表３に示した。

（ビッカース硬度の測定）
実施例、比較例及び参考例に係る光学積層体の第一のハードコート層の断面、第二のハードコート層の断面、及び、光透過性基材の断面をナノインデンテーション法によりビッカース硬度を測定した値を、それぞれＮ１、Ｎ２、Ｎ３とした。
なお、各実施例、比較例及び参考例に係る光学積層体を５０μｍに裁断し、第二のハードコート層の断面の第一のハードコート層側と反対側面から０．５μｍとなる場所、並びに、第一のハードコート層及び光透過性基材それぞれの断面のほぼ中央となる場所を下記方法によりビッカース硬度を測定した。５回測定した値の平均値をそれぞれＮ１、Ｎ２、Ｎ３とした。
なお、ビッカース硬度の詳細な測定方法は、図１を用いて説明したとおりである。
具体的なナノインデンテーション法によるビッカース硬度の測定方法は、ＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）社製の「ＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ」を用いて行った。すなわち、Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子（三角錐）を、実施例、比較例及び参考例に係る光学積層体の第二のハードコート層等の断面から２００ｎｍ押し込み、一定保持して残留応力の緩和を行った後、除荷させて、緩和後のｍａｘ荷重を計測し、該ｍａｘ荷重（Ｐ_ｍａｘ（μＮ）と深さ２００ｎｍのくぼみ面積Ａ（ｎｍ^２）とを用い、Ｐ_ｍａｘ／Ａにより、インデンテーション硬度を算出する。なお、測定温度は２５℃、測定湿度は５０％とする。
（Ｂｅｒｋｏｖｉｃ圧子変位制御方式）
２０秒間に０ｎｍから２００ｎｍまで負荷（押込み）
２００ｎｍのままで５秒保持
２０秒間に２００ｎｍから０ｎｍまで除荷

（耐ＳＷ性）
実施例、比較例及び参考例に係る光学積層体の第二のハードコート層表面を、スチールウール（「ボンスター＃００００（商品名）」、日本スチールウール社製）を用いて、摩擦荷重を変化させ、１０往復摩擦し、その後の塗膜の傷、剥がれの有無を目視し下記の基準にて評価した。
○：７００ｇ／ｃｍ^２荷重で、傷なし、塗膜の剥がれなし
×：７００ｇ／ｃｍ^２荷重で傷又は塗膜の剥がれがあった

（ヘイズ）
実施例、比較例及び参考例に係る光学積層体のヘイズを、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号：ＨＭ−１５０）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７３６１に準拠して測定した。

（鉛筆硬度）
実施例、比較例及び参考例に係る光学積層体の鉛筆硬度を、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に基づいて測定した。

（密着性）
実施例、比較例及び参考例に係る光学積層体にクロスカット碁盤目試験を行い、元のカット部数（１００）に対するテープ（ニチバン社製）を剥がした後に光透過性基材上に残存したカット部数について、下記の基準にて評価した。
○：９０〜１００
×：０〜８９

（干渉縞）
実施例、比較例及び参考例に係る光学積層体の光透過性基材の第一及び第二のハードコート層を形成した面と逆の面に、裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、第二のハードコート層の面から光学積層体を目視により観察し、干渉縞の発生の有無を評価した。
干渉縞が観察されなかったものを「○」とし、干渉縞が観察されたものを「×」とした。

（カール）
実施例、比較例及び参考例に係る光学積層体を、任意の方向で１００ｍｍ×１００ｍｍ四方に切取り、温度２５℃、湿度５０％の雰囲気下で２４時間静置。その後、浮きあがった対向する２辺の距離（カール）を測定した。なお、対向する２辺が重なった場合「筒状」と表記した。

（面積率）
実施例、比較例及び参考例に係る光学積層体について、ＴＥＭによる第二のハードコート層の断面写真から、画像解析ソフトＷｉｎ Ｒｏｏｆ（三谷商事社ビジュアルシステム部）によって画像の２値化（第一の樹脂成分の存在量を面積化する）を行い、０．０１μｍ２以上となる領域の面積を測定した。

表３に示したように、実施例に係る光学積層体は、いずれも鉛筆硬度が３Ｈ以上であり、耐ＳＷ評価にも優れ、カールも筒状になったものはなかった。なお、いずれの実施例に係る光学積層体も、第二のハードコート層の第一のハードコート層中に第一のハードコート層用組成物の第一の樹脂成分が溶出した海島構造が形成されており、該第一の樹脂成分の面積率は５〜１５％の範囲内であった。
比較例１に係る光学積層体は、第二のハードコート層を設けなかったため、鉛筆硬度及び耐ＳＷ性の各評価に劣っていた。比較例２に係る光学積層体は、第一のハードコート層に浸透層が形成されなかったため、また、比較例３に係る光学積層体は、第一のハードコート層に非浸透層が形成されなかったため、それぞれ、第一のハードコート層と第二のハードコート層との密着性に劣り、また、干渉縞も発生していた。比較例３に係る光学積層体は、鉛筆硬度にも劣っていた。比較例４に係る光学積層体は、第一のハードコート層に第一のシリカ微粒子を含まなかったため、また、比較例５に係る光学積層体は、第二のハードコート層に第二のシリカ微粒子を含まなかったため、それぞれ、干渉縞の評価に劣り、また、大きなカールが発生して筒状となっていた。
参考例１に係る光学積層体は、第二のハードコート層の厚みが１０．０μｍと厚すぎたため、カールが発生して筒状となっていた。参考例２に係る光学積層体は、第二のハードコート層の厚みが１．０μｍと薄く、鉛筆硬度の結果が２Ｈと実施例に係る光学積層体の鉛筆硬度の結果よりも劣っていた。参考例３に係る光学積層体は、第一のハードコート層用組成物に熱可塑性樹脂を含まなかったため、第一のハードコート層と第二のハードコート層との密着性に劣り、また、干渉縞も発生していた。参考例４に係る光学積層体は、第二のハードコート層に溶出した第一のハードコート層用組成物の第一の樹脂成分が多すぎ（第一の樹脂成分の面積率が１５％を超える）たため、ヘイズが高く、耐ＳＷ性にも劣っていた。

本発明の光学積層体は、光透過性基材上に上述した構成からなる第一のハードコート層及び第二のハードコート層を有するため、高硬度で優れた耐擦傷性を有し、カールの発生が抑制されたものとなる。
そのため、本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等に好適に適用することができる。

１０ 第二のハードコート層
１０ａ 第二のハードコート層１０の断面
１１ 光透過性基材
１１ａ 光透過性基材１１の断面
１２ バーコビッチ圧子
１３ａ、１３ｂ、１３ｃ くぼみ
１００ 第一のハードコート層
１００ａ 第一のハードコート層１００の断面

Claims (5)

1. 光透過性基材の一方の面上に、第一のハードコート層が形成され、前記第一のハードコート層の前記光透過性基材側と反対側面上に、第二のハードコート層が形成された光学積層体であって、
   前記第一のハードコート層は、第一のシリカ微粒子と第一の樹脂成分とを含む第一のハードコート層用組成物を用いて形成されてなり、かつ、前記第一の樹脂成分が前記光透過性基材中に浸透して形成された浸透層と、前記第一のハードコート層用組成物により形成された非浸透層とを有するものであり、
   前記第二のハードコート層は、第二のシリカ微粒子と第二の樹脂成分とを含む第二のハードコート層用組成物を用いて形成されてなり、かつ、前記第一の樹脂成分が海島状に分散された分散物を含有するものであり、
   前記浸透層の厚みが前記第一ハードコート層の厚みの１５〜８５％であり、
   前記第二のハードコート層は、厚さ方向の断面における前記第一の樹脂成分の面積率が５〜１５％である
   ことを特徴とする光学積層体。
2. 海島状に分散された第一の樹脂成分は、第二のハードコート層の第一のハードコート層側に偏在して含有されている請求項１記載の光学積層体。
3. 第二のハードコート層の断面のビッカース硬度（Ｎ１）、第一のハードコート層の非浸透層の断面のビッカース硬度（Ｎ２）及び光透過性基材の断面のビッカース硬度（Ｎ３）を、それぞれナノインデンテーション法により、負荷荷重１０ｍＮで測定したとき、
   前記ビッカース硬度（Ｎ１）が、６００〜１３００ＭＰａであり、
   前記ビッカース硬度（Ｎ２）が、２５０〜５００ＭＰａであり、
   前記ビッカース硬度（Ｎ３）が、２５０〜３３５ＭＰａである
   請求項１又は２記載の光学積層体。
4. 第一のハードコート層の厚みが２〜７μｍであり、第二のハードコート層の厚みが２〜７μｍであり、光透過性基材の厚みが１５〜４５μｍである請求項１、２又は３記載の光学積層体。
5. 第一の樹脂成分は、熱可塑性樹脂である請求項１、２、３又は４記載の光学積層体。

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