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JP6326315B2 - 塗布装置及び塗布方法 - Google Patents

塗布装置及び塗布方法 Download PDF

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JP6326315B2 JP2014151249A JP2014151249A JP6326315B2 JP 6326315 B2 JP6326315 B2 JP 6326315B2 JP 2014151249 A JP2014151249 A JP 2014151249A JP 2014151249 A JP2014151249 A JP 2014151249A JP 6326315 B2 JP6326315 B2 JP 6326315B2
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Description

本発明は、ノズルと硬化手段を連結部で連結した塗膜形成ユニットを構成する場合に、ノズルの走行速度(塗布処理速度)を適正に確保して適切な塗布処理を行うことができると同時に、硬化処理開始時刻の調整を適切に行うことができ、さらに、硬化処理速度(硬化処理時間)の調整も適正に行うことが可能な塗布装置及び塗布方法に関する。
従来、テーブル(定盤)に載置した基板を、ノズル用走行レールを走行するノズル用支持ポストに昇降自在に支持されたノズルから吐出される塗液で塗布するようにした基板の塗布装置(例えば、テーブルコータ(日本国登録商標)などと称される)が知られている。この種の塗布装置に、基板に塗布された塗液を硬化させるための硬化手段を備えた塗布装置として、特許文献1〜3が知られている。
特許文献1の「パターン形成方法およびパターン形成装置」は、吐出ノズル先端の吐出口から基板に向けて塗布液を吐出するとともに、基板に塗布された直後の塗布液に対して第1の照射光源から波長365nmのUV光を照射する。これにより塗布液の表面が硬化する。続いて、第2の照射光源から、より長波長(例えば385nmまたは395nm)のUV光を、先のUV光の照射を受けた塗布液に照射する。長波長の光はより塗布液の内部まで浸透するので、内部の硬化が促進されるようになっている。照射光源は、ヘッド部のベースとシリンジポンプを介して、吐出ノズルと連結されている。
特許文献2の「スリットコート式塗布装置」は、基板を保持する保持テーブルと、前記基板の前記保持テーブルに保持された保持面とは反対側の塗布面に相対向して液体が流出されるスリット状のノズル開口が設けられた塗布ヘッドとを具備し、前記基板と前記塗布ヘッドとを前記塗布面の面方向に相対的に移動させることで、前記基板の前記塗布面に液体を塗布するスリットコート式塗布装置であって、前記塗布ヘッドによって前記基板に液体を塗布させながら、当該基板に塗布された直後の液体を加熱する加熱手段を設けるようにしている。
特許文献3の「薄膜形成装置および薄膜形成方法」は、塗布対象物を吸着保持する吸着テーブルと、吸着テーブルに吸着保持された塗布対象物の表面にインクジェット式ノズルから塗布材を吐出しながら薄膜形成を行う複数の塗布ヘッドと、塗布ヘッドを塗布対象物の上方位置で移動させるガントリと、を備える薄膜形成装置であって、ガントリに、塗布対象物の表面を加熱する熱源装置を更に備えている。熱源装置は、ガントリを介して、塗布ヘッドと連結されている。
いずれの特許文献にあっても、塗液を硬化させたり、液体や塗布対象物の表面を加熱する照射光源、加熱手段、熱源装置と、吐出ノズル等とは、一定の間隔を隔てて連結固定されている。
特開2012−143691号公報 特開2005−218969号公報 特開2013−000656号公報
上記特許文献と同様に、図8に示すように、テーブルa上に載置された基板bに塗膜cを形成するために走行移動される塗膜形成ユニットdを、塗液eを吐出して塗布処理するノズルfと、UV光iなどを照射して塗液eを硬化処理する硬化手段gと、これら硬化手段gとノズルfを一定の間隔(図中、間隔LX:不変)を隔てて連結固定する連結部hとから構成すると、第1に、硬化手段gとノズルfとの間隔LXを変更調整することができない。
間隔LXが一定不変であると、ノズルfからの塗液吐出時刻と、その時刻に吐出された塗液eの位置まで硬化手段gが到達して硬化処理を開始する硬化処理開始時刻との時間間隔は、塗膜形成ユニットdの走行速度VX(ノズルf及び硬化手段gの移動速度も同一)に従って決定される一定の時間である(間隔LX/走行速度VX)。
塗膜形成ユニットdの走行速度VXは通常、塗布処理に基づいて設定される。塗布処理については、例えば塗液eの種類(粘度や材質等)や膜厚等の条件から、好ましい塗布処理速度(走行速度VX)がある。他方、硬化処理については、塗布処理と同じように、例えば塗液eの種類や膜厚等の条件から、塗布された塗液eの硬化処理を開始する、好ましい硬化処理開始タイミングがある。
ノズルfと硬化手段gが連結部hで連結されてそれらの間隔LXが一定不変であると、上述したように塗液吐出時刻から硬化処理開始時刻までの時間間隔が走行速度VXで決定されてしまうので、塗布処理を優先した走行速度VXで硬化処理を行うと、硬化処理開始時刻が早すぎたり、遅すぎたりして、的確な硬化処理開始時刻で硬化処理を開始することができず、硬化処理を適切に行うことができないという問題があった。
反対に、硬化処理を優先して、硬化処理を適切に行うことができる時間間隔に合わせた走行速度VXに設定すると、硬化処理に基づく走行速度VXに従ってノズルfから塗液eを吐出させる必要があり、吐出量等の制御が煩雑になったり、また、塗布処理を適切に行うことができないという問題があった。
第2に、ノズルfの移動速度と硬化手段gの移動速度が同一速度VXとなり、塗布処理速度と硬化処理速度を変更調整することができない。塗布処理については、上述したように好ましい塗布処理速度がある。他方、硬化処理についても同様に、塗液の種類や膜厚等に応じて、好ましい硬化処理速度がある。
硬化処理速度は、単位時間当たりの硬化処理エネルギが一定のとき、遅い場合には、硬化処理時間が長くなって塗液eに対する硬化処理エネルギが大きくなり、速い場合には、硬化処理時間が短くなって硬化処理エネルギが小さくなる。
塗布処理を優先して移動速度(塗膜形成ユニットの走行速度VX)を設定すると、硬化手段gは同じ速度でしか移動できないため、硬化処理速度(硬化処理時間)を適切に確保することができず、硬化処理エネルギが過剰となったり不足したりして、硬化処理を適正に行うことができないという問題があった。反対に、硬化処理を優先すると、第1の場合と同様に、塗布処理を適切に行うことができないという問題があった。
以上のことから、硬化手段gとノズルfを連結部hで一定不変の間隔LXを隔てて連結固定する塗膜形成ユニットdでは、膜厚や膜質等が均一で品質の高い塗膜を形成することが難しいという課題があった。
本発明は上記従来の課題に鑑みて創案されたものであって、ノズルと硬化手段を連結部で連結した塗膜形成ユニットを構成する場合に、ノズルの走行速度(塗布処理速度)を適正に確保して適切な塗布処理を行うことができると同時に、硬化処理開始時刻の調整を適切に行うことができ、さらに、硬化処理速度(硬化処理時間)の調整も適正に行うことが可能な塗布装置及び塗布方法を提供することを目的とする。
本発明にかかる塗布装置は、塗液を吐出するノズルと塗液を硬化させる硬化手段とが連結部を介して連結された塗膜形成ユニットを基板の長さ方向に走行移動して、該ノズルにより基板を塗布処理した後、該硬化手段で基板に塗布された塗液を硬化処理する塗布装置であって、上記連結部に、上記ノズルと上記硬化手段との水平方向間隔を調整する調整機構を備え、前記調整機構は、前記硬化手段を基板面に沿って旋回可能とする旋回機構であることを特徴とする。
前記硬化手段は、個々に異なる前記水平方向間隔の設定が可能に、基板の幅方向に複数配列され、前記連結部は、これら硬化手段を個別に前記ノズルに連結するために複数設けられることを特徴とする。
前記調整機構は、前記ノズルに対して前記硬化手段を相対移動させるための駆動手段を備えることを特徴とする。
本発明にかかる塗布装置は、塗液を吐出するノズルと塗液を硬化させる硬化手段とが連結部を介して連結された塗膜形成ユニットを基板の長さ方向に走行移動して、該ノズルにより基板を塗布処理した後、該硬化手段で基板に塗布された塗液を硬化処理する塗布装置であって、上記連結部に、上記ノズルと上記硬化手段との水平方向間隔を調整する調整機構を備え、前記調整機構は、前記硬化手段を基板の長さ方向に沿ってスライド可能とするスライド機構であり、前記硬化手段は、個々に異なる前記水平方向間隔の設定が可能に、基板の幅方向に複数配列され、前記連結部は、これら硬化手段を個別に前記ノズルに連結するために複数設けられることを特徴とする
前記調整機構は、前記ノズルに対して前記硬化手段を相対移動させるための駆動手段を備えることを特徴とする。
本発明にかかる塗布方法は、上述した上記調整機構を備える前者の塗布装置を用い、前記調整機構により前記ノズルと前記硬化手段との水平方向間隔を設定した後、前記塗膜形成ユニットを走行移動して、該ノズルによる塗布処理と該硬化手段による硬化処理を行うようにしたことを特徴とする。
本発明にかかる塗布方法は、上述した上記駆動手段を有する上記調整機構を備えた後者の塗布装置を用い、前記塗膜形成ユニットを走行移動して前記ノズルによる塗布処理を行うとき、前記駆動手段で前記硬化手段を該ノズルに対して相対移動しながら硬化処理を行うようにしたことを特徴とする。
本発明にかかる塗布装置及び塗布方法にあっては、ノズルと硬化手段を連結部で連結した塗膜形成ユニットを構成する場合に、ノズルの走行速度(塗布処理速度)を適正に確保して適切な塗布処理を行うことができると同時に、硬化処理開始時刻の調整を適切に行うことができ、さらに、硬化処理速度(硬化処理時間)の調整も適正に行うことが可能となる。
本発明に係る塗布装置の第1実施形態を示す斜視図である。 図1に示した塗布装置の平面図である。 図1に示した塗布装置で基板に塗膜を形成する様子を示す側面図である。 本発明に係る塗布方法の好適な実施形態を説明する概略説明図である。 第1実施形態の変形例を示す塗布装置の平面図である。 本発明に係る塗布装置の第2実施形態を示す平面図である。 図6中、A方向矢視部分拡大図である。 背景技術を説明する説明図である。
以下に、本発明にかかる塗布装置及び塗布方法の好適な実施形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。図1は、本発明に係る塗布装置の第1実施形態を示す斜視図、図2は、図1に示した塗布装置の平面図、図3は、図1に示した塗布装置で基板に塗膜を形成する様子を示す側面図である。
第1実施形態に係る塗布装置1は図1〜図3に示すように、主に、塗布対象物である基板2が交換可能に載置されるテーブル(定盤)3と、テーブル3外方の基台4上に、基板2を幅方向両側から挟む配置で、基板2の長さ方向に沿って設けられた左右一対の走行レール5と、基板2の長さ方向に走行レール5を走行移動される塗膜形成ユニット6とから構成される。
塗膜形成ユニット6は、走行レール5を走行移動する走行体7と、走行体7に設けられ、塗液Cを吐出するノズル8と、走行体5に設けられた連結部9と、連結部9を介して、走行体5に支持され、塗液Cを硬化処理する硬化手段10とから構成される。
走行体7は、左右一対の柱部7aと、これら柱部7aの間に、基板2の幅方向に沿って架設される梁部7bとから、門型形態で形成される。走行体7は、周知のリニアモータやボールねじ機構等によって、走行レール5を走行移動される。走行体7は、基板2の長さ方向に、当該基板2の一端(塗布始端2a)側と他端(塗布終端2b)側との間を往復走行される。
ノズル8は、その長さ方向両端部が走行体7の一対の柱部7aに支持され、これによりノズル8は、長さ方向が基板2の幅方向に向けられて、走行体7に設けられる。図示例では、ノズル8は、走行体7の前進走行方向前面7cに面して設けられている。ノズル8は、基板2との隙間間隔を調節できるように、柱部7aに形成された昇降用スリット7dを介して、柱部7aに昇降自在に設けられる。ノズル8を昇降させる機構は、周知のボールねじ機構などで構成される。
ノズル8には、これに塗液Cを供給するために、図示しない塗液供給手段が接続される。塗液供給手段からノズル8に塗液Cが供給されることで、ノズル8は、基板2に向けて塗液Cを吐出する。走行移動される走行体7に支持されたノズル8から塗液Cが吐出されることにより、基板2は塗布処理される(図3中、梨地部分で示す)。
連結部9は、走行体7の前進走行方向後面7eに、当該後面7eより基板2の長さ方向に沿って後方へ向けて水平に延設されたスライドバー(もしくはそれに代わるねじ軸11a)と、スライドバーに基板2の長さ方向に沿ってスライド移動可能に設けられたスライドブロック(もしくはそれに代わるナット11b)とから構成される。すなわち、連結部9は、スライド機構11を備える。
あるいは、連結部9に備えられるスライド機構11を、ボールねじ機構で構成しても良い。すなわち、スライドバーをねじ軸11aに代え、スライドブロックをナット11bに代えて、塗膜形成ユニット6のいずれかの箇所に設けた駆動手段としてのモータ12でねじ軸11aを駆動することにより、ナット11bのスライドが可能な連結部9を構成しても良い。
図示例では、ねじ軸11aは、基板2の幅方向(走行体7の梁部7bの架設方向)に、左右一対で2本設けられている。従って、ナット11bも、各ねじ軸11aに取り付けて、基板2の幅方向に左右2つ設けられている。
スライドバー及びスライドブロックで構成する場合、スライドブロックは、手で操作される締結部材等により、スライドバーに取り付けられる。締結部材等を締め付けることで、スライドブロックはスライドバーに固定され、緩めることで、スライドバーに対し、スライド可能とされる。以下、連結部9として、ボールねじ機構を採用した場合について説明する。
硬化手段10は、その長さ方向両端側が左右のナット11bに支持され、これにより硬化手段10は、長さ方向が基板2の幅方向に向けられて、連結部9と連結される。硬化手段10が設けられる連結部9は、ボールねじ機構であっても、上述したスライドバーとスライドブロックで構成した構造であっても、ナット11bやスライドブロックがスライド可能である。
従って、連結部9は、ノズル8と硬化手段10との水平方向間隔Dを、走行体5の走行移動方向(基板2の長さ方向)に調整する調整機構を備える。ボールねじ機構の場合、駆動手段であるモータ12でねじ軸11aを回転することによりナット11bのスライドが可能なので、走行体7の走行移動中にナット11bをねじ軸11aに沿ってスライドさせることができ、これにより、ノズル8に対して硬化手段10を相対移動させることができる。もちろん、連結部9は、走行体7のノズル8に対し、硬化手段10を連結する機能を備える。
硬化手段10としては、塗液CがUV硬化タイプであればUV照射体が用いられ、塗液Cが熱硬化タイプであれば発熱体が用いられ、自然乾燥タイプであれば空気等の乾燥用気体を噴出するドライヤーが用いられる。
硬化手段10は、これに接続される図示しない電気配線を介して供給される電力により、基板2に向けてUV光Fを発したり、発熱されて基板2に向けて放熱したり、乾燥用気体を基板2に向けて噴射する。硬化手段10としてはもちろん、塗液Cの種類に応じて、種々のものを採用することができる。連結部9を介して走行体7に連結された硬化手段10からUV光F等が発せられることにより、ノズル8で基板2に塗布された塗液Cは硬化処理される(図3中、黒色部分で示す)。
次に、第1実施形態に係る塗布装置1を用いた塗布方法について説明する。図4は、本塗布方法の概略説明図が示されている。基板2に塗膜を形成するとき、塗膜形成ユニット6の走行体7が走行レール5を基板2の長さ方向に走行移動される。ノズル8が最初に基板2の塗布始端2aに到達し、塗液Cを吐出して塗布処理を開始する。
ノズル8が基板2上を前進していくと、その後、連結部9に備えられたボールねじ機構のナット11bに支持された硬化手段10が、基板2の塗布始端2aに到達する。塗布始端2aにおける塗布処理及び硬化処理を例にとって説明すると、ノズル8からの塗布始端2aへの塗液吐出時刻と、塗布始端2aに塗布された塗液Cの硬化処理を開始する硬化処理開始時刻との時間間隔は、塗膜形成ユニット6の走行速度Vに基づいて、ノズル8と硬化手段10との水平方向間隔Dによって決定される。
本実施形態では、連結部9が水平方向間隔Dを調整する調整機構(ボールねじ機構)を備えているので、当該水平方向間隔Dを広げたり狭めたりすることができ、背景技術とは異なり、塗液吐出時刻から硬化処理開始時刻までの時間間隔を変更調整することができる。
例えば、塗膜形成ユニット6の走行速度Vが20mm/sec.である場合、水平方向間隔Dが80mmで固定されている場合には、時間間隔は4秒(=D/V)で一定になってしまうが、調整機構によって水平方向間隔Dを調整することができるので、水平方向間隔Dを100mmに広げて時間間隔を5秒にしたり、60mmに狭めて時間間隔を3秒にしたりして、塗液Cを塗布してから、硬化処理を開始するまでの時間を自在に調整することができる。
このように第1実施形態に係る塗布装置1及びそれを用いた塗布方法では、例えば塗布処理を優先した走行速度Vで塗膜形成を行う場合であっても、水平方向間隔Dの調整により、的確な硬化処理開始時刻で硬化処理を開始することができ、硬化処理を適切に行うことができる。水平方向間隔Dの調整は、モータ12でボールねじ機構を駆動することで自動的に行うことができる。
調整機構を、スライドバーとスライドブロックで構成した場合には、塗膜形成ユニット6の走行停止状態で、手で操作して、スライドバーに沿ってスライドブロックをスライドして水平方向間隔Dを調整し、その後、締結部材等でスライドブロックをスライドバーに締め付けて固定するようにすればよい。このようにして水平方向間隔Dを設定した後、塗膜形成ユニット6を走行移動して、ノズル8による塗布処理と硬化手段10による硬化処理が行われる。
さらに、第1実施形態に係る塗布装置を用いた塗布方法では、調整手段をボールねじ機構で構成することにより、塗布処理中に、基板2の長さ方向に沿って、硬化手段10をノズル8に対して相対移動させることができる。
例えば、長さL=1000mmの基板2を、走行速度V=20mm/sec.に設定した塗膜形成ユニット6で塗膜形成する場合に、硬化手段10をノズル8に対し相対移動しないときには、硬化手段10の硬化処理速度は、走行体7と同じ20mm/sec.となる。この場合の硬化処理時間は50秒となる。
これに対し、走行移動されるノズル8で塗布処理を行っているときに、ナット11b、すなわち硬化手段10を、ねじ軸11aに対し移動速度Va=10mm/sec.で、塗膜形成ユニット6の前進走行方向とは反対方向に、次第にノズル8から離隔していく方向へ相対移動させると、硬化手段10の基板2に対する相対移動速度が10mm/sec.となり、この場合の硬化処理時間は100秒になる。
この場合、塗装始端2aにおける塗液吐出時刻から硬化処理開始時刻までの時間間隔を例えば20秒(ノズル8と硬化手段10との水平方向間隔Dは400mm)に設定したとき、ねじ軸11aとしては、少なくとも900mm((100-50)秒×10mm/sec. +400mm)の長さのものを用いればよい。
反対に、走行移動されるノズル8で塗布処理を行っているときに、硬化手段10を、ねじ軸11aに対し移動速度Va=5mm/sec.で、塗膜形成ユニット6の前進走行方向と同じ方向に、次第にノズル8に接近していく方向へ相対移動させると、硬化手段10の基板2に対する相対移動速度が25mm/sec.となり、この場合の硬化処理時間は40秒となる。
硬化手段10をノズル8に近づけるように相対移動させる場合には、ノズル8と硬化手段10とが衝突するなど、干渉が生じないように、塗装始端2aにおける塗液吐出時刻から硬化処理開始時刻までの時間間隔を設定するノズル8と硬化手段10との水平方向間隔D、例えば上記400mmよりも、硬化処理を完了するまでに硬化手段10が相対移動する距離(200mm=5mm/sec.×40秒)が短くなるように設定される。
このように第1実施形態では、さらに、硬化手段10をノズル9に対して相対移動させるモータ12を塗膜形成ユニット6に備えているので、硬化処理開始時刻を自在に調整できるだけでなく、塗布処理速度Vとは異なる硬化処理速度、すなわち硬化処理時間を自在に調整することができ、ひいては好適な硬化処理エネルギで塗液Cを硬化させることができる。
従って、例えば塗布処理を優先した走行速度Vで塗膜形成を行う場合であっても、移動可能な硬化手段10の相対移動速度を調整することができるので、硬化処理速度(硬化処理時間)を適切に確保することができ、これにより硬化処理を適正に行うことができる。
以上説明したように、第1実施形態に係る塗布装置及び塗布方法にあっては、ノズル8と硬化手段10を連結部9で連結した塗膜形成ユニット6を構成する場合に、調整機構によりノズル8と硬化手段10の水平方向間隔Dを調整することができるので、硬化処理開始時刻の調整を適切に行うことができ、さらに、硬化手段10を相対移動させるモータ12によって硬化処理速度(硬化処理時間)の調整も適正に行うことができて、膜厚や膜質等が均一で品質の高い塗膜を形成することができる。
図5は、上記第1実施形態の変形例を示す平面図である。第1実施形態では、硬化手段10は、基板2の幅方向に一つ設けられていたが、この変形例では、この一つの硬化手段10を複数に分割した形態で、複数の硬化手段10が、基板2の幅方向に配列されて構成される。連結部9は、これら複数の硬化手段10を個別にノズル8、具体的にはノズル8を支持している走行体7に連結するために、複数設けられる。連結部9の構成は、第1実施形態と同様である。
このように構成すると、基板2の幅方向に配列された硬化手段10個々に対し、異なる水平方向間隔Dを設定したり、それぞれを異なる動きで相対移動させることができる。
基板2に塗液Cを塗布していく際、基板2の外周端縁領域よりも、基板2の中央領域の方が自然乾燥し難いので、これら外周端縁領域及び中央領域に対する硬化処理(硬化処理開始時刻や硬化処理時間等)が同じであると、基板2全面にわたって均質な塗膜を形成できないおそれがある。
この変形例では、基板2の幅方向に配列した硬化手段10個々に対して、個別の設定を行うことができるので、例えば、中央領域を硬化処理するいずれかの硬化手段10を、外周端縁領域を硬化処理する他の硬化手段10に対して、硬化処理開始時刻を早めに、あるいは遅めに設定したり、相対移動速度を速くしたり遅くしたりすることができ、これにより、自然乾燥のし易さが異なる基板2上の各領域毎に、それぞれに対応した適切な硬化処理を行うことができて、膜厚や膜質等が均一で品質の高い塗膜を形成することができる。
なお、複数の硬化手段10を一直線に配列した場合には、上記第1実施形態の単一の硬化手段10の場合と同様な塗膜形成を行うことができる。
図6及び図7には、第2実施形態に係る塗布装置が示されている。図6は、本発明に係る塗布装置の第2実施形態を示す平面図、図7は、図6中、A方向矢視部分拡大図である。第2実施形態は、調整機構が、第1実施形態のスライド機構11に代えて、旋回機構13である場合である。その他の構成は、第1実施形態と同じである。
連結部9は、走行体7の前進走行方向後面7eに、当該後面7eの中央から基板2の長さ方向に沿って後方へ向けて水平に延設されたサポートメンバー14と、サポートメンバー14の後端14aに、一端15aが回転軸16で回転可能に支持された左右一対のスイングアーム15とから構成される。すなわち、連結部9は、旋回されるスイングアーム15を有する旋回機構13を備える。
スイングアーム15は、手で操作される締結部材等により、サポートメンバー14に取り付けられる。締結部材等を締め付けることで、スイングアーム15はサポートメンバー14に固定され、緩めることで、サポートメンバー14に対し、旋回可能とされる。
スイングアーム15は、締結部材等に代えて、サポートメンバー14に設けた駆動手段としてのモータ(図示せず)と連結して、サポートメンバー14に旋回駆動可能に取り付けるようにしてもよい。モータは、左右一対のスイングアーム15を一括して駆動するために1つ設けても、あるいは、個別に駆動するために、2つ設けても良い。
また、左右一対のスイングアーム15を同一の旋回角度で旋回させるために、サポートメンバー14に回転可能に支持される各スイングアーム15の一端15a同士をギアカップリングなどで結合するようにしてもよい。旋回可能なスイングアーム15は、走行体7やノズル8に接近する向きから、離隔する向きにわたる範囲で、サポートメンバー14に対する角度θが調整可能とされる。
硬化手段10は、各スイングアーム15下に取り付けられて、基板2の幅方向に対し、2つ設けられる。硬化手段10は、スイングアーム15の角度θを調整することにより、基板2の端縁側に行くほど、ノズル8に接近したり、離隔されたり、あるいは角度θを90°とすることでノズル8と平行な向きに向けられる。左右一対のスイングアーム15の角度θを異ならせて、2つの硬化手段10の向きを異ならせるようにしても良い。
硬化手段10が設けられる連結部9は、モータ駆動式であっても、締結部材等で取り付ける形式であっても、スイングアーム15が旋回可能である。従って、連結部9は、ノズル8と硬化手段10との水平方向間隔Dを、走行体7の走行移動方向(基板2の長さ方向)に調整する調整機構を備える。
モータ駆動式の場合、モータ16でスイングアーム15の旋回が可能なので、走行体6の走行移動中に、ノズル8に対して硬化手段10を相対移動させることができる。もちろん、連結部9は、走行体7のノズル8に対し、硬化手段10を連結する機能を備える。
第2実施形態に係る塗布装置及び塗布方法では、ノズル8に対して硬化手段10の向きを傾けて配置することにより、第1実施形態の変形例と同様に、基板2の中央領域と外周端縁領域に対する硬化処理を変更調整することができて、当該第1変形例と同様に、基板2上の塗液厚さなどの状況に応じた適切な硬化処理を領域毎に行うことができ、膜厚や膜質等が均一で品質の高い塗膜を形成することができる。
他方、ノズル8と硬化手段10を平行に配置することにより、第1実施形態と同じ硬化処理を行うことができ、当該第1実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
モータ駆動でノズル8に対し硬化手段10をスライド式に相対移動させる機構として、ボールねじ機構を例示して説明したが、これに限らず、リニアモータ機構やラックアンドピニオン機構など、その他周知の移動機構を採用しても良いことはもちろんである。
1 塗布装置
2 基板
2a 塗布始端
2b 塗布終端
3 テーブル
4 基台
5 走行レール
6 塗膜形成ユニット
7 走行体
7a 柱部
7b 梁部
7c 前進走行方向前面
7d 昇降用スリット
7e 前進走行方向後面
8 ノズル
9 連結部
10 硬化手段
11 スライド機構
11a ねじ軸
11b ナット
12 モータ
13 旋回機構
14 サポートメンバー
14a 後端
15 スイングアーム
15a 一端
16 回転軸
C 塗液
D 水平方向間隔
F UV光
L 基板の長さ
V 走行体の走行速度(塗布処理速度)
Va 硬化手段の移動速度
a テーブル
b 基板
c 塗膜
d 塗膜形成ユニット
e 塗液
f ノズル
g 硬化手段
h 連結部
i UV光
LX 間隔
VX 走行速度
θ スイングアームの角度

Claims (7)

  1. 塗液を吐出するノズルと塗液を硬化させる硬化手段とが連結部を介して連結された塗膜形成ユニットを基板の長さ方向に走行移動して、該ノズルにより基板を塗布処理した後、該硬化手段で基板に塗布された塗液を硬化処理する塗布装置であって、上記連結部に、上記ノズルと上記硬化手段との水平方向間隔を調整する調整機構を備え、
    前記調整機構は、前記硬化手段を基板面に沿って旋回可能とする旋回機構であることを特徴とする塗布装置。
  2. 前記硬化手段は、個々に異なる前記水平方向間隔の設定が可能に、基板の幅方向に複数配列され、前記連結部は、これら硬化手段を個別に前記ノズルに連結するために複数設けられることを特徴とする請求項1に記載の塗布装置。
  3. 前記調整機構は、前記ノズルに対して前記硬化手段を相対移動させるための駆動手段を備えることを特徴とする請求項1または2に記載の塗布装置。
  4. 塗液を吐出するノズルと塗液を硬化させる硬化手段とが連結部を介して連結された塗膜形成ユニットを基板の長さ方向に走行移動して、該ノズルにより基板を塗布処理した後、該硬化手段で基板に塗布された塗液を硬化処理する塗布装置であって、上記連結部に、上記ノズルと上記硬化手段との水平方向間隔を調整する調整機構を備え、
    前記調整機構は、前記硬化手段を基板の長さ方向に沿ってスライド可能とするスライド機構であり、
    前記硬化手段は、個々に異なる前記水平方向間隔の設定が可能に、基板の幅方向に複数配列され、前記連結部は、これら硬化手段を個別に前記ノズルに連結するために複数設けられることを特徴とする塗布装置。
  5. 前記調整機構は、前記ノズルに対して前記硬化手段を相対移動させるための駆動手段を備えることを特徴とする請求項4に記載の塗布装置。
  6. 請求項1,2または4いずれかの項に記載の塗布装置を用い、前記調整機構により前記ノズルと前記硬化手段との水平方向間隔を設定した後、前記塗膜形成ユニットを走行移動して、該ノズルによる塗布処理と該硬化手段による硬化処理を行うようにしたことを特徴とする塗布方法。
  7. 請求項3または5に記載の塗布装置を用い、前記塗膜形成ユニットを走行移動して前記ノズルによる塗布処理を行うとき、前記駆動手段で前記硬化手段を該ノズルに対して相対移動しながら硬化処理を行うようにしたことを特徴とする塗布方法。
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