JP6326140B2 - 化合物、組成物、膜、光学機器 - Google Patents

Description

本発明は、所定の構造の化合物、この化合物を含む組成物、および、この組成物より得られる膜、この膜を含む光学機器に関する。

従来、光学材料等に使用される化合物に対して、高い屈折率が求められている。
例えば、特許文献１には、高屈折率材料として、トリアジン環含有重合体が開示されている。より具体的には、トリアジン環構造を部分構造として有する重合体が、優れた屈折率を示す点が開示されている。

国際公開第２０１２／１１１６８２号

近年、光学機器（固体撮像素子、表示装置など）の高機能化や小型化などの要求に伴い、段差がある領域においても平坦な膜を形成することができる光学材料が求められている。つまり、屈折率が優れると共に、段差がある領域においても平坦性に優れる膜を形成しうる光学材料が求められている。なお、以後、形成される膜表面の平坦性が優れることを、表面平坦性に優れると称する。
本発明者らが、特許文献１に記載の光学材料の特性について検討を行ったところ、上記２つの特性の両立ができず、さらなる改良が必要であることが確認された。

本発明は、上記実情を鑑みて、高い屈折率を示すと共に、表面平坦性に優れる膜を形成しえる化合物を提供することを課題とする。
また、本発明は、上記化合物を含む組成物、上記組成物より形成される膜、および、上記膜を含む光学機器を提供することも課題とする。

本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、特定構造の化合物を使用することで、所望の効果が得られることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。

（１） 後述する一般式（１）で表される化合物を含む組成物。
（２） 後述する一般式（２）中、Ａｒ^３とＡｒ^４とが連結している、（１）に記載の組成物。
（３） 一般式（１）中、Ｘが、後述する一般式（３）で表される化合物から１個の水素原子を除いた残基を表す、（１）または（２）に記載の組成物。
（４） 一般式（３）中、Ａｒ^１〜Ａｒ^２、および、Ａｒ^５〜Ａｒ^６の少なくとも１つが多環芳香族基である、（３）に記載の組成物。
（５） 一般式（３）中、Ａｒ^５〜Ａｒ^６の少なくとも１つが多環芳香族基である、（３）または（４）に記載の組成物。
（６） 一般式（１）中、Ａが第４級炭素原子を１つ以上含む、（１）〜（５）のいずれかに記載の組成物。
（７） 一般式（１）中、Ａが、後述する一般式（４）で表される部分構造を有する基、または、後述する一般式（５）で表される部分構造を有する基である、（１）〜（６）のいずれかに記載の組成物。
（８） 一般式（１）中、Ｙが、酸基、および、重合性基からなる群から選択される基を少なくとも１つ有する１価の有機基である、（１）〜（７）のいずれかに記載の化合物。
（９） 一般式（１）中、ｎに対するｍの比が０．５〜５．０である、（１）〜（８）のいずれかに記載の組成物。なお、上記比は、ｍ／ｎを表す。
（１０） さらに、重合性化合物を含む、（１）〜（９）のいずれかに記載の組成物。
（１１） 重合性化合物が、重合性基を２つ以上有し、かつ、フルオレン骨格を有する重合性化合物を含む、（１０）に記載の組成物。
（１２） （１）〜（１１）のいずれかに記載の組成物より形成される膜。
（１３） （１２）に記載の膜を含む光学機器。
（１４） 後述する一般式（１）で表される化合物。
（１５） 後述する一般式（２）中、Ａｒ^３とＡｒ^４とが連結している、（１４）に記載の化合物。
（１６） 一般式（１）中、Ｘが、後述する一般式（３）で表される化合物から１個の水素原子を除いた残基を表す、（１４）または（１５）に記載の化合物。
（１７） 一般式（３）中、Ａｒ^１〜Ａｒ^２、および、Ａｒ^５〜Ａｒ^６の少なくとも１つが多環芳香族基である、（１６）に記載の化合物。
（１８） 一般式（３）中、Ａｒ^５〜Ａｒ^６の少なくとも１つが多環芳香族基である、（１６）または（１７）に記載の化合物。
（１９） 一般式（１）中、Ａが第４級炭素原子を１つ以上含む、（１４）〜（１８）のいずれかに記載の化合物。
（２０） 一般式（１）中、Ａが、後述する一般式（４）で表される部分構造を有する基、または、後述する一般式（５）で表される部分構造を有する基である、（１４）〜（１９）のいずれかに記載の化合物。
（２１） 一般式（１）中、Ｙが、酸基、および、重合性基からなる群から選択される基を少なくとも１つ有する１価の有機基である、（１４）〜（２０）のいずれかに記載の化合物。
（２２） 一般式（１）中、ｎに対するｍの比が０．５〜５．０である、（１４）〜（２１）のいずれかに記載の化合物。なお、上記比は、ｍ／ｎを表す。

本発明によれば、高い屈折率を示すと共に、表面平坦性に優れる膜を形成しえる化合物を提供することができる。
また、本発明によれば、上記化合物を含む組成物、上記組成物より形成される膜、および、上記膜を含む光学機器を提供することもできる。

本発明の組成物をカラーフィルタの下地剤として使用した表示装置の一態様の１画素分の断面図である。 表面平坦性評価の方法を説明するための概略断面図である。 Ａ−１の^１Ｈ−ＮＭＲ（Nuclear Magnetic Resonance）チャートである。

以下に、本発明の化合物等について説明する。
なお、本明細書において、（メタ）アクリレートとは、アクリレートまたはメタクリレートを表し、（メタ）アクリロイルオキシとは、アクリロイルオキシまたはメタクリロイルオキシを表す。
さらに、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

本発明の化合物の特徴点としては、Ａで表される（ｍ＋ｎ）価の連結基を中心にして、屈折率の高い、一般式（２）で表される化合物から１個の水素原子を除いた残基が放射状に配置されている点が挙げられる。このような構造をとることにより、化合物自体の運動性が向上し、化合物の柔軟性が高まると推測される。そのため、段差がある領域に膜を形成しようとした際に、膜表面での化合物の運動性が高くなり、結果として形成される膜の平坦性が高まっていると推測される。

＜化合物＞
以下、一般式（１）で表される化合物中の各基について詳述する。

一般式（１）中、Ａは（ｍ＋ｎ）価の連結基を表す。
Ａで表される（ｍ＋ｎ）価の連結基の分子量は特に制限されないが、形成される膜の屈折率がより優れる、および／または、形成される膜の表面平坦性がより優れる点（以後、単に「本発明の効果がより優れる点」とも称する）で、１００以上が好ましく、２００以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、合成上の点から、２０００以下が好ましく、１５００以下がより好ましく、１０００以下がさらに好ましい。

（ｍ＋ｎ）価の連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれることが好ましく、無置換でも置換基をさらに有していてもよい。
（ｍ＋ｎ）価の連結基は、具体的な例として、下記の構造単位、または、これら構造単位が組み合わさって構成される基（環構造を形成していてもよい）を挙げることができる。

（ｍ＋ｎ）価の連結基は下記一般式のいずれかで表される基であることが好ましい。

上記一般式中、
Ｌ_３は３価の基を表す。Ｔ_３は単結合または２価の連結基を表し、３個存在するＴ_３は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｌ_４は４価の基を表す。Ｔ_４は単結合または２価の連結基を表し、４個存在するＴ_４は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｌ_５は５価の基を表す。Ｔ_５は単結合または２価の連結基を表し、５個存在するＴ_５は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｌ_６は６価の基を表す。Ｔ_６は単結合または２価の連結基を表し、６個存在するＴ_６は互いに同一であっても異なっていてもよい。
なお、Ｔ_３〜Ｔ_６で表される２価の連結基の具体例および好適な態様は、後述するＬ^１およびＬ^２で表される２価の連結基と同じである。
Ａで表される（ｍ＋ｎ）価の連結基の具体的な例〔具体例（１）〜（１７）、（３５）〕を以下に示す。但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。

上記の具体例の中でも、原料の入手性、合成の容易さ、各種溶媒への溶解性の観点から、最も好ましい（ｍ＋ｎ）価の連結基は下記（１）、（２）、（１０）、（１１）、（１６）、（１７）、（３５）の基である。

上記Ａの好適態様の一つとしては、形成される膜の表面平坦性がより優れる点で、Ａに第４級炭素原子が少なくとも１つ含まれることが好ましい。
また、Ａの最好適態様としては、一般式（４）で表される部分構造を有する基、または、一般式（５）で表される部分構造を有する基が挙げられる。

一般式（５）中、Ｒはアルキル基を表す。なお、一般式（４）および（５）中、＊は結合位置を表す。

Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、単結合または２価の連結基を表す。ｍが２以上である場合、複数のＬ^１は同一であっても異なっていてもよく、ｎが２以上である場合、複数のＬ^２は同一であっても異なっていてもよい。
２価の連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基をさらに有していてもよい。
より具体的には、２価の連結基としては、例えば、２価の鎖状飽和炭化水素基（直鎖状でも分岐状であってもよく、炭素数１〜２０であることが好ましい）、２価の環状飽和炭化水素基（炭素数３〜２０であることが好ましい）、２価の芳香族基（炭素数５〜２０であることが好ましく、例えば、フェニレン基）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ_２−、−ＮＲ_Ｌ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ_Ｌ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ_３−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＳＯ_２ＮＲ_Ｌ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、または、これらを２種以上組み合わせた基（例えば、アルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンカルボニルオキシ基など）などが挙げられる。ここで、Ｒ_Ｌは、水素原子またはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０）を表す。
なかでも、Ｌ^１およびＬ^２で表される２価の連結基としては、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、アルキレン基、および、これらを組み合わせた基が好ましい。

２価の連結基は置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基等が挙げられる。

Ｘは、一般式（２）で表される化合物から１個の水素原子を除いた残基を表す。つまり、Ｘは、一般式（２）で表される構造式中の任意の位置から水素原子が１個引き抜かれ、水素原子が引き抜かれた位置で結合可能な構造の基をいう。水素原子が引き抜かれる位置は特に制限されず、Ａｒ^１〜Ａｒ^４中のいずれかに含まれる水素原子が１個引き抜かれる。

一般式（２）中、Ａｒ^１〜Ａｒ^４は、それぞれ独立に、芳香環基を表す。なお、Ａｒ^１〜Ａｒ^４は、それぞれ互いに単結合または２価の連結基を介して連結していてもよい。
芳香環基の種類は特に制限されず、芳香族炭化水素基（アリール基）、芳香族複素環基（ヘテロアリール基）、または、これらを組み合わせた基などが挙げられる。
芳香族炭化水素基を構成する環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フルオレン環、トリフェニレン環、ピレン環、ナフタセン環、ビフェニル環（２個のフェニル基は任意の連結様式で連結してもよい）、ターフェニル環（３個のフェニル基は任意の連結様式で連結してもよい）などが挙げられる。
芳香族複素環基としては、例えば、５員、６員もしくは７員の環またはその縮合環からなる芳香族複素環基が挙げられる。芳香族複素環基に含まれるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子など挙げられる。芳香族複素環基を構成する環の具体例としては、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、オキサジアゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、チアジアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、フラザン環、テトラゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、テトラジン環、ベンゾフラン環、イソベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドール環、インドリン環、イソインドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、インダゾール環、ベンゾイミダゾール環、キノリン環、イソキノリン環、シンノリン環、フタラジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、ナフチリジン環、プリン環、プテリジン環などが挙げられる。

Ａｒ^１〜Ａｒ^４で表される芳香環基の好適態様としては、多環芳香族基が挙げられる。つまり、Ａｒ^１〜Ａｒ^４の少なくとも１つが多環芳香族基であることが好ましく、Ａｒ^１〜Ａｒ^４のうち２〜４つが多環芳香族基であることがより好ましい。
多環芳香族基とは、複数の芳香環基が縮合して形成された基であり、具体的には、多環芳香族炭化水素基（多環芳香族炭化水素環基）または多環芳香族複素環基が挙げられる。
ここで、多環芳香族炭化水素基とは、２個以上の環を有する芳香族炭化水素環からなる基であり、より具体的には、２個以上の単環芳香族炭化水素環（ベンゼン環）を有する縮合環の基である。なかでも、２個以上の単環芳香族炭化水素環同士が縮環した環からなる基であるのが好ましい。
多環芳香族炭化水素基を構成する環の具体例としては、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フルオレン環、アセナフチレン環、クリセン環、フルオランテン環、ピレン環、トリフェニレン環、テトラセン環、ベンゾピレン環、ピセン環、ペリレン環、ペンタセン環、ヘキサセン環、ヘプタセン環、コロネン環などが挙げられる。なかでも、ナフタレン環が好ましい。
また、多環芳香族複素環基とは、２個以上の環を有する芳香族複素環からなる基であり、より具体的には、２個以上の環を有し、かつ、１個以上の単環芳香族複素環を有する縮合環の基である。なかでも、１個以上の単環芳香族炭化水素環と１個以上の単環複素環とが縮環した環からなる基、または、２個以上の単環複素環が縮環した環からなる基であるのが好ましい。
多環芳香族複素環基を構成する環の具体例としては、アクリジン環、ベンゾキノリン環、カルバゾール環、フェナジン環、フェナントリジン環、フェナントロリン環、カルボリン環、サイクラジン環、キンドリン環、テペニジン環、キニンドリン環、トリフェノジチアジン環、トリフェノジオキサジン環、フェナントラジン環、アントラジン環、ペリミジン環、ジアザカルバゾール環（カルボリン環を構成する炭素原子の任意の１つが窒素原子で置き換わったものを表す）、フェナントロリン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、ナフトフラン環、ナフトチオフェン環、ベンゾジフラン環、ベンゾジチオフェン環、ナフトジフラン環、ナフトジチオフェン環、アントラフラン環、アントラジフラン環、アントラチオフェン環、アントラジチオフェン環、チアントレン環、フェノキサチイン環、チオファントレン環（ナフトチオフェン環）などが挙げられる。
多環芳香族複素環基を構成する単環複素環は特に制限されないが、その具体例としては、例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、オキサジアゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、チアジアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、フラザン環、テトラゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、テトラジン環などが挙げられる。

Ｘの好適態様としては、本発明の効果がより優れる点で、Ａｒ^３とＡｒ^４とが連結しているのが好ましい。ここで、「Ａｒ^３とＡｒ^４とが連結している」とは、Ａｒ^３とＡｒ^４とが単結合または２価の連結基を介して連結していることを表す。２価の連結基の具体例および好適な態様は、上述したＬ^１およびＬ^２で表される２価の連結基と同じである。

Ｘの最好適態様としては、本発明の効果がより優れる点で、一般式（３）で表される化合物から１個の水素原子を除いた残基を表す。

一般式（３）中、Ａｒ^１〜Ａｒ^２、および、Ａｒ^５〜Ａｒ^６は、それぞれ独立に、芳香環基を表す。芳香環基の定義は、上述の通りである。なお、Ａｒ^５〜Ａｒ^６は、それぞれ一般式（３）中の２つの炭素原子を含む形で芳香環基を構成する。
一般式（３）で表される化合物からは１個の水素原子が除かれるが、水素原子が除かれる位置は特に制限されず、Ａｒ^１〜Ａｒ^２、および、Ａｒ^５〜Ａｒ^６中のいずれの基であってもよい。
なかでも、本発明の効果がより優れる点で、Ａｒ^１〜Ａｒ^２のいずれかから水素原子が除かれることが好ましく、例えば、Ａｒ^１から水素原子が除かれる場合、一般式（３）で表される化合物から１個の水素原子を除いた残基は、以下の一般式（３−１）で表される基を表す。なお、以下式中、「＊」は結合位置を表す。また、一般式（３−１）中、Ａｒ^１は、いわゆる２価の芳香環基（アリーレン基またはヘテロアリーレン基）を表す。

なかでも、本発明の効果がより優れる点で、Ａｒ^５およびＡｒ^６の少なくとも１つが多環芳香族基であることが好ましく、Ａｒ^５およびＡｒ^６の両方が多環芳香族基であることがより好ましい。
なお、多環芳香族基の定義は、上述の通りである。

Ａｒ^１〜Ａｒ^４には、置換基が含まれていてもよい。
置換基の種類としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールまたはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基（−Ｂ（ＯＨ）_２）、ホスファト基（−ＯＰＯ（ＯＨ）_２）、スルファト基（−ＯＳＯ_３Ｈ）、または、これらの基を組み合わせた基などが挙げられる。

Ｙは、１価の有機基を表す。有機基の構造は特に制限されないが、例えば、酸基、重合性基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、複素環基、アルコキシシリル基、イソシアネート基および水酸基よりなる群から選択される基（以後、官能基Ｘとも称する）を少なくとも１つ有する１価の有機基が好ましく挙げられる。
また、１価の有機基としては、ポリマー鎖（高分子骨格）であってもよい。
なお、１価の有機基中には、上述した官能基Ｘが２つ以上含まれていてもよい。上述した官能基Ｘが２つ以上含まれる態様としては、鎖状飽和炭化水素基（直鎖状でも分岐状であってもよく、炭素数１〜１０であることが好ましい）、環状飽和炭化水素基（炭素数３〜１０であることが好ましい）、芳香族基（炭素数５〜１０であることが好ましく、例えば、フェニレン基）等を介して２個以上の官能基Ｘが結合し１価の有機基を形成する態様等が挙げられ、鎖状飽和炭化水素基を介して２個以上の官能基Ｘが結合し１価の有機基を形成する態様が好ましい。
また、ポリマー鎖に、上述した官能基Ｘが２つ以上含まれていてもよい。その場合、官能基Ｘはポリマー鎖の側鎖としてポリマー鎖の主鎖に直接結合していてもよいし、官能基Ｘは２価の連結基を介してポリマー鎖の主鎖に結合していてもよい。

「酸基」として、例えば、カルボン酸基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、ホウ酸基が好ましい例として挙げられ、カルボン酸基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基がより好ましく、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基がさらに好ましく、カルボン酸基が特に好ましい。

「重合性基」としては、例えば、ラジカル重合性基、カチオン重合性基などが挙げられる。
ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、好適なものとしてラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する重合性基を挙げることができ、具体的にはビニル基、（メタ）アクリロイルオキシ基などを挙げることができる。中でも、（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。
カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、ビニルオキシ基などを挙げることができる。中でも、脂環式エーテル基、ビニルオキシ基が好適であり、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルオキシ基が特に好ましい。

「ウレア基」として、例えば、−ＮＲ^１５ＣＯＮＲ^１６Ｒ^１７（ここで、Ｒ^１５、Ｒ^１６、およびＲ^１７は各々独立に、水素原子、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、または、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）が好ましい例として挙げられ、−ＮＲ^１５ＣＯＮＨＲ^１７（ここで、Ｒ^１５およびＲ^１７は各々独立に、水素原子、炭素数１から１０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、または、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）がより好ましく、−ＮＨＣＯＮＨＲ^１７（ここで、Ｒ^１７は、水素原子、炭素数１から１０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、または、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）が特に好ましい。

「ウレタン基」として、例えば、−ＮＨＣＯＯＲ^１８、−ＮＲ^１９ＣＯＯＲ^２０、−ＯＣＯＮＨＲ^２１、−ＯＣＯＮＲ^２２Ｒ^２３（ここで、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２およびＲ^２３は各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、または、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）などが好ましい例として挙げられ、−ＮＨＣＯＯＲ^１８、−ＯＣＯＮＨＲ^２１（ここで、Ｒ^１８、Ｒ^２１は各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、または、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）などがより好ましく、−ＮＨＣＯＯＲ^１８、−ＯＣＯＮＨＲ^２１（ここで、Ｒ^１８、Ｒ^２１は各々独立に、炭素数１から１０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、または、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）などが特に好ましい。

「配位性酸素原子を有する基」としては、例えば、アセチルアセトナト基、クラウンエーテルなどが挙げられる。
「塩基性窒素原子を有する基」として、例えば、アミノ基（−ＮＨ_２）、置換イミノ基（−ＮＨＲ^８、−ＮＲ^９Ｒ^１０、ここで、Ｒ^８、Ｒ^９、およびＲ^１０は各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、または、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）、下記式（ａ１）で表されるグアニジル基、下記式（ａ２）で表されるアミジニル基などが好ましい例として挙げられる。

式（ａ１）中、Ｒ^１１およびＲ^１２は各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、または、炭素数７以上のアラルキル基を表す。
式（ａ２）中、Ｒ^１３およびＲ^１４は各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、または、炭素数７以上のアラルキル基を表す。

これらの中でも、アミノ基（−ＮＨ_２）、置換イミノ基（−ＮＨＲ^８、−ＮＲ^９Ｒ^１０、ここで、Ｒ^８、Ｒ^９、およびＲ^１０は各々独立に、炭素数１から１０までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。）、式（ａ１）で表されるグアニジル基〔式（ａ１）中、Ｒ^１１およびＲ^１２は各々独立に、炭素数１から１０までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。〕、式（ａ２）で表されるアミジニル基〔式（ａ２）中、Ｒ^１３およびＲ^１４は各々独立に、炭素数１から１０までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。〕などがより好ましい。
特に、アミノ基（−ＮＨ_２）、置換イミノ基（−ＮＨＲ^８、−ＮＲ^９Ｒ^１０、ここで、Ｒ^８、Ｒ^９、およびＲ^１０は各々独立に、炭素数１から５までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。）、式（ａ１）で表されるグアニジル基〔式（ａ１）中、Ｒ^１１およびＲ^１２は各々独立に、炭素数１から５までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。〕、式（ａ２）で表されるアミジニル基〔式（ａ２）中、Ｒ^１３およびＲ^１４は各々独立に、炭素数１から５までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。〕などが好ましく用いられる。

「アルキル基」としては、直鎖状であっても、分岐状であってもよく、炭素数１〜４０のアルキル基が好ましく、炭素数４〜３０のアルキル基がより好ましく、炭素数１０〜１８のアルキル基がさらに好ましい。
「アリール基」としては、炭素数６〜１０のアリール基が好ましい。
「アルキレンオキシ鎖を有する基」としては、末端がアルキルオキシ基を形成していることが好ましく、炭素数１〜２０のアルキルオキシ基を形成していることがより好ましい。また、アルキレンオキシ鎖としては、少なくとも１つのアルキレンオキシ基を有する限り特に制限はないが、炭素数１〜６のアルキレンオキシ基からなることが好ましい。アルキレンオキシ基としては、例えば、−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−等が挙げられる。
「アルキルオキシカルボニル基」におけるアルキル基部分としては、炭素数１から２０までのアルキル基であることが好ましい。
「アルキルアミノカルボニル基」におけるアルキル基部分としては、炭素数１から２０までのアルキル基であることが好ましい。
「カルボン酸塩基」としては、カルボン酸のアンモニウム塩からなる基などが挙げられる。
「スルホンアミド基」としては、窒素原子に結合する水素原子がアルキル基（メチル基等）、アシル基（アセチル基、トリフルオロアセチル基など）等で置換されていてもよい。

「複素環基」としては、例えば、チオフェン、フラン、キサンテン、ピロール、ピロリン、ピロリジン、ジオキソラン、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾリジン、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、チアジアゾール、ピラン、ピリジン、ピペリジン、ジオキサン、モルホリン、ピリダジン、ピリミジン、ピペラジン、トリアジン、トリチアン、イソインドリン、イソインドリノン、ベンズイミダゾロン、ベンゾチアゾール、ヒダントイン、インドール、キノリン、カルバゾール、アクリジン、アクリドン、アントラキノンなどからなる基が好ましい例として挙げられる。
「イミド基」としては、コハクイミド、フタルイミド、ナフタルイミド等が挙げられる。

「アルコキシシリル基」としては、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基のいずれでもよいが、トリアルコキシシリル基であることが好ましく、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基などが挙げられる。

上述したように、１価の有機基はポリマー鎖（高分子骨格）であってもよい。ポリマー鎖とは、ポリマー由来の基を意図し、ポリマー主鎖部分で結合可能であることが好ましい。
ポリマー鎖としては、公知のポリマーなどから目的等に応じて選択することができる。
ポリマーの中でも、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコーン系ポリマー、およびこれらの変性物、または共重合体〔例えば、ポリエーテル／ポリウレタン共重合体、ポリエーテル／ビニルモノマーの重合体の共重合体など（ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。）を含む。〕からなる群より選択される少なくとも一種が好ましく、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、およびこれらの変性物または共重合体からなる群より選択される少なくとも一種がより好ましく、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体が特に好ましい。
有機基が上記ポリマー鎖である場合、化合物が長い分子鎖を有することとなり、ガラス転移温度の低下により、形成される膜の平坦性が向上する。
また、ポリマー鎖は各種官能基（例えば、カルボン酸基などの酸基や、重合性基など）が含まれていてもよい。なお、上記各種官能基は、ポリマー鎖中の側鎖部分に配置されていてもよく、２価の連結基を介してポリマー種鎖と結合していてもよい。２価の連結基の定義は、上述の通りである。

なかでも、硬化される膜に対して現像性を付与できる点、および／または、形成される膜の強度が向上する点で、Ｙは、酸基、および、重合性基からなる群から選択される基を少なくとも１つ有する１価の有機基であることが好ましい。
なお、Ｙで表される有機基には、酸基が２つ以上含まれていても、重合性基が２つ以上含まれていてもよい。
特に、酸基が含まれる場合、化合物を現像処理に好適に適用することができ、好ましい。

ｍは２以上の整数を表し、本発明の効果がより優れる点で、２〜６が好ましく、２〜５がより好ましく、３〜４がさらに好ましい。
ｎは０以上の整数を表し、本発明の効果がより優れる点で、０〜５が好ましく、１〜４がより好ましい。
なお、ｍ＋ｎの合計数は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、３〜１０が好ましく、３〜６がより好ましい。
なかでも、本発明の効果がより優れる点で、ｎに対するｍの比（ｍ／ｎ）が０．５〜５．０であることが好ましく、１〜３であることがより好ましい。

（化合物の合成方法）
一般式（１）で表される化合物の合成方法は特に制限されないが、特開２００７−２７７５１４号公報段落０１１４〜０１４０および０２６６〜０３４８（対応する米国特許出願公開第２０１０／２３３５９５号明細書においては段落０１４５〜０１７３、および０２８９〜０４２９）に記載の合成方法に準じて合成することができる。
特に、複数のメルカプト基を有する化合物と、（メタ）アクリロイルオキシ基やビニル基などの炭素−炭素二重結合を有する化合物とを反応（チオール−エン反応法）させる方法が好ましい。

複数のメルカプト基を有する化合物の具体的な例〔具体例（１８）〜（３４）、（３６）〕としては、以下の化合物が挙げられる。

上記の中でも、原料の入手性、合成の容易さ、各種溶媒への溶解性の観点から、特に好ましい化合物は、上記（１８）、（１９）、（２７）、（２８）、（３３）、（３４）、（３６）の化合物である。

上記は、市販品として、（例えば（３３）はジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）：堺化学工業（株）製）などが入手可能である。

また、一般式（１）中の「Ｌ^１−Ｘ」部分を得るために使用される、炭素−炭素二重結合を有する化合物としては、例えば、以下の一般式（６）で表される化合物が挙げられる。

一般式（６）中、Ａｒ^１〜Ａｒ^４の定義は、上述の通りである。
Ｌ_Ａは、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基の具体例および好適な態様は、上述したＬ^１およびＬ^２で表される２価の連結基と同じである。
Ｗは、炭素−炭素二重結合を含む基であり、例えば、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基などが挙げられる。

チオール−エン反応法で用いられる適当な溶媒は特に制限されず、上述した反応基質を溶解できればよく、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、２−エチルヘキサノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエンが挙げられる。
これらの溶媒は、二種以上を混合して使用してもよい。

＜組成物＞
本発明の組成物は、上記一般式（１）で表される化合物を含む。なお、組成物中においては、一般式（１）で表される化合物は１種のみを使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
本発明の組成物より形成される膜を高屈折率膜として使用する場合、組成物中に含まれる一般式（１）で表される化合物の含有量としては、本発明の効果がより優れる点で、組成物中の全固形分に対して、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、３０質量％以上がさらに好ましい。上限は特に制限されないが、１００質量％が挙げられ、後述する他の任意成分が含まれる場合、８０質量％以下の場合が多く、６０質量％以下の場合が多い。
なお、固形分とは、後述する膜を形成する成分を意図し、溶剤は含まれない。

＜その他任意成分＞
組成物には、上記一般式（１）で表される化合物以外の他の化合物が含まれていてもよく、例えば、重合性化合物、重合開始剤、界面活性剤、シランカップリング剤、無機粒子、溶剤、重合禁止剤などが含まれていてもよい。
以下、組成物に含まれていてもよい任意成分の代表例について詳述する。

（重合性化合物）
組成物中には、重合性化合物が含まれていてよい。重合性化合物が使用され、かつ、硬化処理が施されることにより、形成される膜の強度が向上する。
重合性化合物の種類は特に制限されず、公知の重合性化合物を使用することができる。重合性化合物に含まれる重合性基の種類は特に制限されず、上述した一般式（１）中のＹがとり得る重合性基などが挙げられる。
重合性化合物中における重合性基の数は特に制限されないが、形成される膜の強度がより優れる点で、２つ以上の重合性基が含まれることが好ましい。言い換えると、多官能重合性化合物であることが好ましい。
なお、組成物中には、１種の重合性化合物のみを含有させても、２種以上の重合性化合物を含有させてもよい。
重合性化合物としては特に制限されないが、例えば、エチレン性不飽和結合を含む化合物が挙げられる。エチレン性不飽和結合を含む化合物の例としては、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落００３３〜００３４の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
エチレン性不飽和結合を含む化合物としては、エチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としてはＮＫエステルＡＴＭ−３５Ｅ；新中村化学社製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３３０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３２０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３１０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ ；日本化薬株式会社製）、およびこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコール、プロピレングリコール残基を介している構造が好ましい。またこれらのオリゴマータイプも使用できる。
また、特開２０１２−２５１１２５号公報（対応する国際公開第２０１２／１５３８２６号）の段落［０１０７］〜［０１１８］や特開２０１２−２５５１４８号公報（対応する国際公開第２０１２−１５７７８４号）の段落［０１１４］〜［０１２８］等に記載の重合性化合物が援用でき、これらの内容は本願明細書に取り込まれる。
さらに、カチオン重合性基（特に、エポキシ基）を有する重合性化合物も好適に用いられる。

重合性化合物の好適態様の一つとしては、重合性基を２つ以上有し、かつ、フルオレン骨格を有する重合性化合物が挙げられる。なお、フルオレン骨格とは、フルオレン構造を少なくとも含む骨格であり、フルオレン構造中の芳香環基は、いわゆる単環構造（ベンゼン環）でも、多環構造（多環芳香族環構造）でもよい。

重合性化合物の最好適態様としては、下記一般式（Ｍ１）で表される重合性化合物が挙げられる。

上記一般式（Ｍ１）中、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香環基を表し、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４のうち１つ以上は重合性基を有する置換基を含む。また、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４は、それぞれ互いに連結していてもよく、Ａｒ^１３とＡｒ^１４とが連結していることが好ましい。
Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４で表される芳香環基の定義は、一般式（２）中のＡｒ^１〜Ａｒ^４で表される芳香環基の定義と同義であり、好適態様も同じである。
また、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４が含む置換基が有する上記重合性基は、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基（特に、エポキシ基）であることが好ましい。

Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４のうち１つ以上は重合性基を有する置換基を含む。なかでも、形成される膜の強度がより優れる点で、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４のうち２〜４個が重合性基を有する置換基を含むことが好ましく、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４のうち２または３個が重合性基を有する置換基を含むことがより好ましく、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４のうち２個が重合性基を有する置換基を含むことが特に好ましい。
なお、重合性基を有する置換基の構造は特に限定されないが、本発明の効果がより優れる点で、以下一般式（Ｍ２）で表される基が好ましい。
一般式（Ｍ２） ＊−Ｌ_Ｂ−Ｖ
Ｌ_Ｂは、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基の具体例および好適な態様は、上述したＬ^１およびＬ^２で表される２価の連結基と同じである。
Ｖは、重合性基を表す。重合性基の定義は、上述の通りである。

上記一般式（Ｍ１）中、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４は、それぞれ互いに連結していてもよい。Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４がそれぞれ互いに連結したときに形成されることとなる環は、脂環であることが好ましい。Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４がそれぞれ互いに連結するときの連結基としては、単結合、−Ｏ−などを挙げることができ、単結合であることが好ましい。Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４がそれぞれ互いに連結するときに形成される環（Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４がそれぞれ互いに連結するときの連結基を含む１つの環を意味し、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４がそれぞれ互いに連結した結果として形成された縮合環全体ではない）の環員数は５または６であることが好ましく、５であることがより好ましい。
Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４がそれぞれ互いに連結している場合、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４のうち互いに隣り合う２つが連結していることが好ましく、Ａｒ^１３およびＡｒ^１４が連結していることがより好ましく、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１４のうちＡｒ^１３およびＡｒ^１４のみが連結していることが特に好ましい。

組成物に重合性化合物が含まれる場合、組成物中に含まれる重合性化合物の含有量としては、本発明の効果がより優れる点で、組成物中の全固形分に対して、２０〜９５質量％が好ましく、３０〜８０質量％がより好ましく、３５〜６０質量％がさらに好ましい。
また、一般式（１）で表される化合物と重合性化合物との質量比は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、一般式（１）で表される化合物１００質量部に対して、重合性化合物の含有量が１０〜１２０質量部であることが好ましく、１０〜９０質量部であることがより好ましく、３０〜８０質量部であることがさらに好ましい。
なお、組成物中においては、重合性化合物は１種のみを使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

（重合開始剤）
重合開始剤としては、光、熱のいずれか、または、その双方により重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はないが、光重合開始剤であることが好ましい。光で重合を開始させる場合、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましい。
また、熱で重合を開始させる場合には、１５０〜２５０℃で分解する重合開始剤が好ましい。
重合開始剤としては、少なくとも芳香族基を有する化合物であることが好ましく、例えば、アシルホスフィン化合物、アセトフェノン化合物、α−アミノケトン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、ケタール誘導体化合物、チオキサントン化合物、オキシム化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、トリハロメチル化合物、アゾ化合物、有機過酸化物、ジアゾニウム化合物、ヨードニウム化合物、スルホニウム化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物等のオニウム塩化合物、有機硼素塩化合物、ジスルホン化合物、チオール化合物などが挙げられる。
上記重合開始剤としては、特開２０１３−２５３２２４号公報の段落０２１７〜０２２８の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
オキシム化合物としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）を用いることができる。アセトフェノン系開始剤としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ−９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３６９、および、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３７９（商品名：いずれもＢＡＳＦジャパン社製）を用いることができる。また、アシルホスフィン系開始剤としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ−８１９やＤＡＲＯＣＵＲ−ＴＰＯ（商品名：いずれもＢＡＳＦジャパン社製）を用いることができる。
また、フッ素原子を有するオキシム開始剤を用いることも可能である。そのような開始剤の具体例としては、特開２０１０−２６２０２８号公報に記載されている化合物、特表２０１４−５００８５２号公報の段落番号０３４５に記載されている化合物２４、３６〜４０、特開２０１３−１６４４７１号公報の段落番号０１０１に記載されている化合物（Ｃ−３）が挙げられる。
また、特開２０１２−２５１１２５号公報（対応する国際公開第２０１２／１５３８２６号）の段落［０１１９］〜［０２１５］や特開２０１２−２５５１４８号公報（対応する国際公開第２０１２−１５７７８４号）の段落［０１２９］〜［０２２６］等に記載の重合開始剤が援用でき、これらの内容は本願明細書に取り込まれる。
組成物に重合開始剤が含まれる場合、組成物中に含まれる重合開始剤の含有量としては、本発明の効果がより優れる点で、組成物中の全固形分に対して、０．１〜１０質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。

（界面活性剤）
界面活性剤としては特に制限されないが、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、同Ｆ７８０、同Ｆ７８１、Ｆ７８１Ｆ（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ−３８１、同ＳＣ−３８３、同Ｓ３９３、同ＫＨ−４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
界面活性剤としては、特開２０１２−２５１１２５号公報（対応する国際公開第２０１２／１５３８２６号）の段落［０２５６］〜［０２６４］や特開２０１２−２５５１４８号公報（対応する国際公開第２０１２−１５７７８４号）の段落［０２９５］〜［０３０３］等に記載の界面活性剤が援用でき、これらの内容は本願明細書に取り込まれる。
組成物に界面活性剤が含まれる場合、組成物中に含まれる界面活性剤の含有量としては、本発明の効果がより優れる点で、組成物中の全固形分に対して、０．０１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましい。

（シランカップリング剤）
シランカップリング剤としては特に制限されないが、例えば、Ｎ−β−アミノエチル−γ−アミノプロピル−メチルジメトキシシラン（信越化学工業社製商品名 ＫＢＭ−６０２）、Ｎ−β−アミノエチル−γ−アミノプロピル−トリメトキシシラン（信越化学工業社製商品名 ＫＢＭ−６０３）、Ｎ−β−アミノエチル−γ−アミノプロピル−トリエトキシシラン（信越化学工業社製商品名 ＫＢＥ−６０２）、γ−アミノプロピル−トリメトキシシラン（信越化学工業社製商品名 ＫＢＭ−９０３）、γ−アミノプロピル−トリエトキシシラン（信越化学工業社製商品名 ＫＢＥ−９０３）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業社製商品名 ＫＢＭ−５０３）などが挙げられる。
組成物にシランカップリング剤が含まれる場合、組成物中に含まれるシランカップリング剤の含有量としては、本発明の効果がより優れる点で、組成物中の全固形分に対して、０．０１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましい。

（重合禁止剤）
本発明の組成物の製造中あるいは保存中において重合性化合物の不要な重合を阻止するために、組成物には重合禁止剤が含まれていてもよい。
重合禁止剤としては、フェノール系水酸基含有化合物、Ｎ−オキシド化合物類、ピペリジン１−オキシルフリーラジカル化合物類、ピロリジン１−オキシルフリーラジカル化合物類、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン類、ジアゾニウム化合物類、カチオン染料類、スルフィド基含有化合物類、ニトロ基含有化合物類、ＦｅＣｌ_３、ＣｕＣｌ_２等の遷移金属化合物類が挙げられる。
組成物に重合禁止剤が含まれる場合、組成物中に含まれる重合禁止剤の含有量としては、本発明の効果がより優れる点で、組成物中の全固形分に対して、０．００１〜１質量％が好ましく、０．００１〜０．５質量％がより好ましい。

（無機粒子）
無機粒子としては、屈折率が高く、無色、白色または透明な無機粒子であることが好ましく、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、ケイ素（Ｓｉ）、亜鉛（Ｚｎ）またはマグネシウム（Ｍｇ）の酸化物粒子が挙げられ、二酸化チタン（ＴｉＯ₂）粒子、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）粒子または二酸化珪素（ＳｉＯ₂）粒子であることがより好ましい。
無機粒子の一次粒子径は特に制限されず、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜８０ｎｍがより好ましく、１〜５０ｎｍが特に好ましい。無機粒子の一次粒子径が上記範囲内であれば、分散性が優れると共に、屈折率および透過率が向上する。
無機粒子の屈折率は特に制限はないが、高屈折率を得る観点から、１．７５〜２．７０であることが好ましく、１．９０〜２．７０であることがより好ましい。
無機粒子の比表面積は特に制限はないが、１０〜４００ｍ²／ｇが好ましく、２０〜２００ｍ²／ｇがより好ましく、３０〜１５０ｍ²／ｇがさらに好ましい。
また、無機粒子の形状には特に制限はなく、例えば、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状または不定形状などが挙げられる。
無機粒子は、有機化合物により表面処理されたものであってもよい。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤またはチタネートカップリング剤が含まれる。なかでも、ステアリン酸またはシランカップリング剤が好ましい。
また、無機粒子の表面は、耐候性がより向上する点で、アルミニウム、ケイ素、ジルコニアなどの酸化物により覆われていることも好ましい。
無機粒子としては、市販されているものを好ましく用いることができる。
無機粒子は、１種単独でも、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（硬化促進剤）
本発明の組成物は、特に重合性化合物にエポキシ基などのカチオン重合性基を含む場合、硬化促進剤を含むことが好ましい。
硬化速度を向上させる硬化促進剤としては、酸無水物、塩基（脂肪族アミン、芳香族アミン、変性アミン）、酸（スルホン酸、リン酸、カルボン酸等）、ポリメルカプタンなどが挙げられる。なかでも、好ましくは酸無水物で、さらに好ましくは脂肪族酸無水物が好ましい。

本発明の組成物は、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルタで濾過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているものであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等のフッ素樹脂、ナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量を含む）等によるフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）およびナイロンが好ましい。
フィルタの孔径は、０．１〜７．０μｍ程度が適しており、好ましくは０．２〜２．５μｍ程度、より好ましくは０．２〜１．５μｍ程度、さらに好ましくは０．３〜０．７μｍである。この範囲とすることにより、ろ過詰まりを抑えつつ、組成物に含まれる不純物や凝集物など、微細な異物を確実に除去することが可能となる。
フィルタを使用する際、異なるフィルタを組み合わせてもよい。その際、第１のフィルタでのフィルタリングは、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。異なるフィルタを組み合わせて２回以上フィルタリングを行う場合は１回目のフィルタリングの孔径より２回目以降の孔径が同じ、または、大きい方が好ましい。また、上述した範囲内で異なる孔径の第１のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）、または、株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
第２のフィルタは、上述した第１のフィルタと同様の材料等で形成されたものを使用することができる。第２のフィルタの孔径は、０．２〜１０．０μｍ程度が適しており、好ましくは０．２〜７．０μｍ程度、さらに好ましくは０．３〜６．０μｍ程度である。この範囲とすることにより、組成物に含有されている成分粒子を残存させたまま、組成物に混入している異物を除去することができる。
例えば、第１のフィルタでのフィルタリングは、分散液のみで行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタリングを行ってもよい。

＜用途＞
本発明の化合物および組成物の用途は特に制限されないが、例えば、表示装置や固体撮像素子の高屈折部材（マイクロレンズ、カラーフィルタの下地層や隣接層などの透明膜、カラーフィルタのホワイトピクセル）、レンズ（眼鏡レンズ、デジタルカメラ用レンズ、フレネルレンズ、プリズムレンズなど）、光学用オーバーコート剤、ハードコート剤、反射防止膜、光ファイバー、光導波路、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）用封止材料、ＬＥＤ用平坦化材料、太陽光電池用コーティング材として有用である。

＜膜＞
本発明の膜は、本発明の組成物から得られる膜である。組成物中に重合性基を有する成分（例えば、重合性化合物）が含まれる場合は、組成物に硬化処理を施すことにより、硬化膜を得ることができる。
本発明の膜の屈折率は特に制限されないが、１．５５以上であることが好ましく、１．６〜２．０であることがより好ましい。
本発明の膜の光透過率は特に制限されないが、４００〜７００ｎｍの波長領域全域に渡って９０％以上であることが好ましく、９５％以上であることがより好ましく、１００％であることがさらに好ましい。
本発明の膜の厚みは特に制限されないが、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．１〜１０μｍであることがより好ましく、０．５〜４μｍであることがさらに好ましい。
本発明の組成物を硬化させる方法は特に制限されず、加熱や露光などが挙げられる。加熱に使用する装置は特に制限されず、送風乾燥機、オーブン、赤外線乾燥機、加熱ドラムなどを用いることができる。露光に使用装置は特に制限されず、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン（Ｘｅ）ランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯などを用いることができる。
上記膜は、各種用途に適用でき、例えば、固体撮像素子や表示装置などの光学機器に適用できる。

＜固体撮像素子＞
本発明の膜は、固体撮像素子に好適に適用できる。
例えば、基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤ（Charge Coupled Device）イメージセンサ、ＣＭＯＳ（Complementary Metal Oxide Semiconductor）イメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる受光素子を有するとともに、カラーフィルタの下に本発明の膜である下塗り膜を備えた構成などが挙げられる。

＜表示装置＞
本発明の膜は、表示装置に好適に適用できる。
本発明の表示装置は、デジタル一眼レフカメラのビューファインダやヘッドマウント形ディスプレイなどに用いられる小型・高精細有機ＥＬ表示装置（例えば、マイクロＯＬＥＤ）であることが好ましく、例えば、ガラスなどの基板の上に、各画素がマトリクス状に配置されてなる表示領域が設けられたものであることが好ましい。
以下に図面を参照して、本発明の表示装置の一実施態様について説明する。
図１は、本発明の組成物をカラーフィルタの下地剤として使用した表示装置の一態様の１画素分の断面図である。各画素は、例えば、白色光を発生する複数の有機ＥＬ素子２０と、カラーフィルタ５０（５０Ｒ、５０Ｇ、５０Ｂ）との組み合わせにより三原色（赤，緑および青）のいずれかの光を発生するものである。複数の有機ＥＬ素子２０のピッチ（中心間距離）ｐは、例えば３０μｍ以下、具体的には例えば約２μｍないし３μｍである。すなわち、この表示装置は、有機ＥＬ素子２０の寸法が極めて小さい、いわゆるマイクロディスプレイと呼ばれるものである。なお、この表示装置上には接眼レンズ（図示せず）が設けられており、使用者は、表示装置に表示された画像を、接眼レンズを通して拡大して見るようになっている。そのため、使用者が見ることができるのは、表示装置に表示された画像のうち、接眼レンズの取り込み角の範囲内の部分のみである。
有機ＥＬ素子２０は、基板１０上に行列状に配置されると共に、保護膜３０により被覆されている。保護膜３０上には、接着層（図示せず）を間にして、ガラスなどよりなる封止用基板（図示せず）が全面にわたって貼り合わせられている。この封止用基板の基板１０側の表面にカラーフィルタ５０が設けられている。
カラーフィルタ５０は、複数の有機ＥＬ素子２０に対向する透過赤色領域（図示せず）を有している。透過色領域の一部には、半透過領域（図示せず）が設けられている。これにより、この表示装置では、有機ＥＬ素子２０の寸法が小さい場合にも、隣接する透過色領域を通過した光の回折による混色を抑えることが可能となっている。
カラーフィルタ５０の下には、本発明の膜である下地層４０が設けられている。

以下、実施例により、本発明についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、本実施例に関しては組成物の調製後に、全て日本ポール製DFA4201NXEY（０．４５μｍナイロンフィルター）を用いてろ過を行った。

＜化合物の合成＞
公知の方法により下記Ａ−１〜Ａ−５を合成した。なお、各化合物の同定は^１Ｈ−ＮＭＲにより行った。図３にＡ−１の^１Ｈ−ＮＭＲチャートを示す。

＜合成例１：Ａ−１（Ｘ）＞

（単官能フルオレンモノマーＸの合成）
以下に示す合成スキームおよび合成方法（工程Ａ〜Ｄ）に従って、単官能フルオレンモノマーＸを合成した。

（工程Ａ）
マグネシウム，削り状（和光純薬（株）製）１５．８ｇ（０．２１７１ｍｏｌ）を含むテトラヒドロフラン２００ｍＬを攪拌しているところに、２−ブロモナフタレン（東京化成工業（株）製）１３４．９ｇ（０．６５１４ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液６００ｍＬを滴下し、Ｇｒｉｇｎａｒｄ試薬を作製した。その後、０℃に冷却し、１１Ｈ−ベンゾ［ｂ］フルオレン−１１−オン（東京化成工業製）５０ｇのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液６００ｍＬを滴下した。滴下後、３０分攪拌した後に飽和塩化アンモニウム水溶液を滴下し、反応を停止した。分液、濃縮して得られたオイルをカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）による精製を行い、目的の三級アルコール６５ｇ（収率：８３．５％）を得た。

（工程Ｂ）
工程Ａで得られた三級アルコール６２ｇ（０．１７３０ｍｏｌ）と２−ナフトール（東京化成工業（株）製）２９．９ｇ（０．２０７６ｍｏｌ）、３−メルカプトプロピオン酸（東京化成工業（株）製）２．８ｇ（０．０２５９５ｍｏｌ）のトルエン６００ｍＬ溶液を６０℃に加熱した。その溶液にメタンスルホン酸（東京化成工業（株）製）２４９．９ｇ（２．５９５ｍｏｌ）を滴下した。滴下後、１時間攪拌した後に水と酢酸エチルを添加し、分液、濃縮して得られたオイルをカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）による精製を行い、目的のナフトール付加体７７ｇ（収率：９１．９％）を得た。

（工程Ｃ）
工程Ｂで得られたナフトール付加体７４ｇ（０．１５２７ｍｏｌ）と炭酸エチレン（東京化成工業（株）製）２６．９ｇ（０．３０５４ｍｏｌ）、炭酸カリウム（和光純薬（株）製）４２．２ｇ（０．３０５４ｍｏｌ）のジメチルホルムアルデヒド溶液７４０ｍＬを１１０℃で３時間攪拌した。原料の消失を確認後、水酸化カリウム１８．８％水溶液９１ｇを添加した。原料の炭酸エチレンの消失を確認後、水と酢酸エチルを添加し、分液、濃縮して、目的のアルコール６８ｇ（収率：８４．３％）を得た。

（工程Ｄ）
工程Ｃで得られたアルコールを６８ｇ（０．１２８６ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン１０００ｍＬ溶液にトリエチルアミン（和光純薬（株）製）５２．１ｇ（０．５１４５ｍｏｌ）を加え、０℃に冷却した。次にアクリル酸クロライド（東京化成工業（株）製）２３．３ｇ（０．２５７３ｍｏｌ）を滴下し、３０分攪拌した。原料が消失していることを確認後、水と酢酸エチルを添加し、分液、濃縮して得られたオイルに酢酸エチルを加え３０％溶液にし、０℃に冷却したメタノールに滴下し、析出してきた目的の単官能フルオレンモノマーＸ（４５ｇ）（収率：６０．０％）をろ過により回収した。

単官能フルオレンモノマーＸ（５ｇ）とジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）（ＤＰＭＰ）（ＳＣ有機化学製）１．６８ｇのシクロヘキサノン（和光純薬製）６５ｇ溶液にトリエチルアミン（和光純薬製）０．１ｇを添加し、６５℃で１２時間攪拌した。その溶液にイタコン酸（和光純薬製）０．５６ｇとＶ−６０１（和光純薬製）０．０１ｇを添加し、９０℃で加熱攪拌した。さらに２時間後、Ｖ−６０１（和光純薬製）０．０１ｇを添加した。反応終了後、反応液をメタノールに滴下し、析出してきたＡ−１（Ｘ）をろ過により回収した（７ｇ、収率９７％）。得られたＡ−１（Ｘ）をシクロヘキサノンに溶解させ、Ａ−１（Ｘ）の３３．６％溶液を得た。
なお、Ａ−１（Ｘ）においては、ｍ＝４、ｎ＝２であった。

また、使用する単官能フルオレンモノマーＸおよびイタコン酸の量を変更した以外は、上記Ａ−１（Ｘ）の製造手順と同様にして、ｍ＝３、ｎ＝３であるＡ−１（Ｙ）を製造した。
さらに、使用する単官能フルオレンモノマーＸおよびイタコン酸の量を変更した以外は、上記Ａ−１（Ｘ）の製造手順と同様にして、ｍ＝２、ｎ＝４であるＡ−１（Ｚ）を製造した。

＜合成例２：Ａ−２＞

以下のスキームに従って、フルオレノンＸを合成した。
５−ブロモ−１−インダノン５０ｇ（和光純薬製）とｏ−フタルアルデヒド３２ｇのメタノール１５００ｍＬ溶液を４０℃に加熱し完溶させた。そこに水酸化カリウム（和光純薬製）４０ｇのメタノール１００ｍＬを３０℃以下に保持しながら滴下した。滴下後５５℃で２時間加熱した後、０℃に冷却した。ろ過することで目的のフルオレノンＸを３７ｇ得た。

１１Ｈ−ベンゾ［ｂ］フルオレン−１１−オンの代わりに上記フルオレノンＸを用い、かつ、ＤＰＭＰの代わりにペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）（ＰＥＭＰ）（ＳＣ有機化学製）を用いた以外は、合成例１と同様の手順に従って、Ａ−２を合成した。なお、Ａ−２中のｍは２、ｎは２であった。

＜合成例３：Ａ−３＞

ＤＰＭＰの代わりに、カレンズＭＴ ＮＲ１（昭和電工製）を用いた以外は、合成例１と同様の手順に従って、Ａ−３を合成した。なお、Ａ−３中のｍは２、ｎは１であった。

＜合成例４：Ａ−４＞

（化合物Ｘの合成）
以下スキームに従って、化合物Ｘを合成した。
５−ブロモ−１−インダノン５０ｇ（和光純薬製）とｏ−フタルアルデヒド３２ｇのメタノール１５００ｍＬ溶液を４０℃に加熱し完溶させた。そこに水酸化カリウム（和光純薬製）４０ｇのメタノール１００ｍＬを３０℃以下に保持しながら滴下した。滴下後５５℃で２時間加熱した後、０℃に冷却した。ろ過することで目的のフルオレノンを３７ｇ得た。
窒素雰囲気下、得られたフルオレノン３０ｇと２−ナフタレンボロン酸（東京化成工業製）２０ｇのＴＨＦ５００ｍＬ溶液に炭酸カリウム３５ｇ（和光純薬製）の水２５０ｍＬ溶液を加え６５℃に加熱した。そこにテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（東京化成工業製）１．１ｇを添加した。５時間加熱攪拌した後、分液し得られた有機層にメタノールを５００ｍＬ加えた。析出してきた目的物である化合物Ｘをろ過により得た（３１ｇ、収率９０％）。

１１Ｈ−ベンゾ［ｂ］フルオレン−１１−オンの代わりに上記化合物Ｘを用い、２−ブロモナフタレンの代わりに２−（４−ブロモフェニル）−ベンゾチアゾール（東京化成製）を用いた以外は、合成例１の（単官能フルオレンモノマーＸの合成）と同様の手順に従って、単官能フルオレンモノマーＹを合成した。

単官能フルオレンモノマーＹ（５ｇ）とジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）（ＤＰＭＰ）（ＳＣ有機化学製）１．６８ｇのシクロヘキサノン（和光純薬製）６５ｇ溶液にトリエチルアミン（和光純薬製）０．１ｇを添加し、６５℃で１２時間攪拌した。その溶液をメタノール６５０ｍＬに滴下し、ろ過して、固体を得た。得られた固体をシクロヘキサノン１７ｇに溶解させた後に、イタコン酸（和光純薬製）０．５６ｇとＶ−６０１（和光純薬製）０．０１ｇを添加し、９０℃で加熱攪拌した。さらに２時間後、Ｖ−６０１（和光純薬製）０．０１ｇを添加した。反応終了後、反応液をメタノールに滴下し、析出してきた化合物をろ過により回収した（７ｇ、収率９７％）。
次に、得られた化合物（７ｇ）のシクロヘキサノン溶液（１６ｇ）に対して、グリシジルメタクリレート（０．８４ｇ）（和光純薬製）、テトラブチルアンモニウムブロミド（０．２９ｇ）（和光純薬製）、ｐ−メトキシフェノール（０．０１ｇ）（和光純薬製）を添加し、９０℃で１２時間攪拌したことでＡ−４のシクロヘキサノン溶液を得た。なお、Ａ−４中のｍは３、ｎは３であった。

＜合成例５：Ａ−５＞

１１Ｈ−ベンゾ［ｂ］フルオレン−１１−オン（東京化成工業製）の代わりに９−フルオレノン（東京化成工業（株）製）を用い、２−ブロモナフタレンの代わりにブロモベンゼンを用い、２−ナフトールの代わりにフェノールを用いた以外は、合成例１と同様の手順に従って、Ａ−５を合成した。なお、Ａ−５中のｍは３、ｎは３であった。

＜合成例６：Ａ−６（Ｘ）＞

合成例４と同様に単官能フルオレンモノマーＹを合成した。
単官能フルオレンモノマーＹ（３．６５ｇ）とジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）（ＤＰＭＰ）（ＳＣ有機化学製）０．９０ｇのシクロヘキサノン（和光純薬製）５０ｇ溶液にトリエチルアミン（和光純薬製）０．１９ｇを添加し、６５℃で１２時間攪拌した。その溶液をメタノール５００ｍＬに滴下し、ろ過して、固体を得た。得られた固体をシクロヘキサノン１６ｇに溶解させた後に、その溶液をアクリル酸（東京化成製）１．０５ｇと１３０Ａ（共栄社化学製）１．１１ｇとＶ−６０１（和光純薬製）０．１２ｇを添加し、９０℃で加熱攪拌した。さらに２時間後、Ｖ−６０１（和光純薬製）０．１２ｇを添加した。反応終了後、反応液をメタノールに滴下し、析出してきた化合物をろ過により回収した（６．５ｇ、収率９７％）。
次に、得られた化合物（６．５ｇ）のシクロヘキサノン溶液（１６ｇ）に対して、グリシジルメタクリレート（０．３０ｇ）（和光純薬製）、テトラブチルアンモニウムブロミド（０．１３ｇ）（和光純薬製）、ｐ−メトキシフェノール（０．０１ｇ）（和光純薬製）を添加し、９０℃で１２時間攪拌したことでＡ−６（Ｘ）のシクロヘキサノン溶液を得た。なお、Ａ−６（Ｘ）中のｍは４、ｎは２であった（Ｍｗ：７８００、Ｍｎ：５０００）。
なお、使用する化合物の量を調整することにより、ｍが３、ｎが３のＡ−６（Ｙ）も合成した。

＜合成例７：Ａ−７＞

合成例４と同様に単官能フルオレンモノマーＹを合成した。
単官能フルオレンモノマーＹ（３．６５ｇ）とジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）（ＤＰＭＰ）（ＳＣ有機化学製）（０．９０ｇ）とのシクロヘキサノン（和光純薬製）５０ｇ溶液に、トリエチルアミン（和光純薬製）０．１９ｇを添加し、６５℃で１２時間攪拌した。その溶液をメタノール５００ｍＬに滴下し得られた固体をろ過により得た。得られた固体をシクロヘキサノン１６ｇに溶解させた後にその溶液をＭ−５３００（共栄社）１．１４ｇとＶ−６０１（和光純薬製）０．１２ｇを添加し、９０℃で加熱攪拌した。さらに２時間後、Ｖ−６０１（和光純薬製）０．１２ｇを添加した。反応終了後、反応液をメタノールに滴下し、析出してきた化合物（Ａ−７）をろ過により回収した（６．５ｇ、収率９７％）。なお、Ａ−７中のｍは４、ｎは２であった（Ｍｗ８５００、Ｍｎ６５００）。

＜合成例８：Ａ−８＞

合成例４と同様に単官能フルオレンモノマーＹを合成した。
単官能フルオレンモノマーＹ（３．６５ｇ）とジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）（ＤＰＭＰ）（ＳＣ有機化学製）（０．９０ｇ）とのシクロヘキサノン（和光純薬製）５０ｇ溶液に、トリエチルアミン（和光純薬製）０．１９ｇを添加し、６５℃で１２時間攪拌した。その溶液をメタノール５００ｍＬに滴下し得られた固体をろ過により得た。得られた固体をシクロヘキサノン１６ｇに溶解させた後にその溶液をアクリル酸（東京化成製）１．０５ｇとＶ−６０１（和光純薬製）０．１２ｇを添加し、９０℃で加熱攪拌した。さらに２時間後、Ｖ−６０１（和光純薬製）０．１２ｇを添加した。反応終了後、反応液をメタノールに滴下し、析出してきた化合物をろ過により回収した（５．３ｇ、収率９５％）。
次に、得られた化合物（５．３ｇ）のシクロヘキサノン溶液（１６ｇ）に対して、グリシジルメタクリレート（２．６７ｇ）（和光純薬製）、テトラブチルアンモニウムブロミド（０．３０ｇ）（和光純薬製）、ｐ−メトキシフェノール（０．０１ｇ）（和光純薬製）を添加し、９０℃で１２時間攪拌したことでＡ−８のシクロヘキサノン溶液を得た。なお、Ａ−８中のｍは４、ｎは２であった（Ｍｗ８０００、Ｍｎ６０００）。

上記Ｍ−１は、以下の手順に従って合成した。
１１Ｈ−ベンゾ［ｂ］フルオレン−１１−オン（東京化成工業製）１００ｇ、２−ナフトール１５６．６ｇ（東京化成工業（株）製）、３−メルカプトプロピオン酸（東京化成工業（株）製）６．９ｇにトルエン１２００ｇを加え、６０℃に加熱攪拌した。溶解後、メタンスルホン酸（東京化成工業（株）製）１６６．９ｇを滴下し、６０℃にて２時間攪拌した。その後、水と酢酸エチルを添加し、分液、濃縮を行った。得られた濃縮物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより目的のナフトール付加体１０１ｇ（収率：４６．５％）を得た。
得られたナフトール付加体１０１ｇのジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１０００ｇ溶液に炭酸エチレン（東京化成工業（株）製）７１．１ｇ、炭酸カリウム（和光純薬（株）製）１１１．５ｇを加え、１１０℃で２時間撹拌した。原料の消失を確認後、水酸化カリウム１８．５％水溶液２４５ｇを添加した。原料の炭酸エチレンの消失を確認後、水と酢酸エチルを添加し、分液、濃縮して、目的のアルコール１００ｇ（収率：８４．０％）を得た。
得られたアルコールを６９ｇのテトラヒドロフラン１０００ｍＬ溶液にトリエチルアミン（和光純薬（株）製）９５．０ｇを加え、０℃に冷却した。次に、アクリル酸クロライド（東京化成工業（株）製）４２．５ｇを滴下し、３０分攪拌した。原料が消失していることを確認後、水と酢酸エチルを添加し、分液、濃縮して得られたオイルに酢酸エチルを加え３０％溶液にし、０℃に冷却したメタノールに滴下し、析出してきた目的のＭ−１（５７ｇ）（収率：７０．０％）をろ過により回収した。

上記Ｃ−１は、特許文献１（段落００８３）に記載の合成法を参照して、合成した。
上記Ｃ−２は、以下の手順に従って合成した。
窒素下で９０℃に加熱したシクロヘキサノン７．２ｇに、ビニルナフタレン１０ｇ（Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ社製）、アクリル酸２．０ｇ（東京化成工業（株）製）、Ｖ−６０１ ０．８５ｇ（和光純薬（株）製）のシクロヘキサノン溶液１０．８ｇを２時間かけて滴下した。２時間攪拌後、Ｖ−６０１ ０．４ｇを追加し、さらに５時間攪拌した。そこにグリシジルメタクリレート２．６３ｇ（東京化成工業（株）製）、テトラブチルアンモニウムブロミド ０．３０ｇ（東京化成工業（株）製）、ｐ−メトキシフェノール０．００５ｇ（和光純薬（株）製）を添加し、終夜攪拌を行うことでＣ−２のシクロヘキサノン溶液を得た（Ｍｗ：５４００、Ｍｎ：３２００）。

なお、後述する「Ｍ−２」として、東亞合成（株）製アロニックスＴＯ−２３４９を用いた。

重合性化合物Ｍ−４は、特開２０１４−２０８８０４号公報の比較例５を参考にして合成した。
「Ｍ−５」として、株式会社ダイセル製EHPE3150を用いた。
「Ｐ−１」として、東京化成工業株式会社製シクロヘキサンジカルボン酸無水物を用いた。
「Ｐ−２」として、東京化成工業株式会社製フタル酸無水物を用いた。

＜組成物１〜１１の調製＞
上記化合物Ａ−１の３３．６％溶液（５．０質量部）と、重合性化合物Ｍ−１（１．３質量部）と、重合性化合物Ｍ−２（０．３３質量部）と、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）０．１６質量部と、添加剤Ｍｅｇａｆａｃ Ｆ−７８１Ｆ（ＤＩＣ社製、含フッ素ポリマー型界面活性剤）０．１７質量部と、ＫＢＭ−６０２（信越化学工業社製）０．０２質量部と、ｐ−メトキシフェノール（和光純薬製）０．０１質量部と、プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート（ＰＧＭＥＡ）（１３質量部）とを混合することで組成物１を調製した。
組成物２〜１１に関しては、後述する表１に示すように、一般式（１）で表される化合物および重合性化合物の種類を変更して、組成物１と同様の手順で調製した。

＜屈折率の評価＞
各組成物をシリコンウエハ上にスピンコート法で塗布し、その後、ホットプレート上にて１００℃で２分間加熱して膜厚１μｍの感光性膜を得た。次いでＥｘｅｃｕｒｅ３０００（ＨＯＹＡ（株）社製）を用いて１０ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を照射することで、硬化膜を調製した。
得られた膜について屈折率（波長：５００ｎｍ）（装置：大日本スクリーン製造（株）製エリプソ式膜厚測定装置 ＲＥシリーズ、ＲＥ−３３２０）を用いて測定した。そして、以下の基準から屈折率を評価した。結果を表１に示す。実用上、Ａ〜Ｃであることが好ましい。
・Ａ：屈折率が１．６５以上
・Ｂ：屈折率が１．６０以上１．６５未満
・Ｃ：屈折率が１．５５以上１．６０未満
・Ｄ：屈折率が１．５５未満

＜平坦性の評価＞
平坦性の評価方法に関して、図２を用いて詳述する。
まず、図２に示す、深さＤ１が１４００ｎｍで、幅Ｗが３０００ｎｍの溝が形成された基板１１０を用意し、各組成物を基板１１０上にスピンコート法で塗布する。なお、塗布の際には、後述する手順によって得られる硬化膜１２０のＴ１の厚みが２００ｎｍとなるように調整した。
その後、ホットプレート上にて１００℃で２分間加熱して感光性膜を得た。次いでＥｘｅｃｕｒｅ３０００（ＨＯＹＡ（株）社製）を用いて１０ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を照射することで、硬化膜を作製した。
得られた硬化膜の溝上に位置する硬化膜の凹部の深さＤ２の最大値を走査型プローブ顕微鏡（Veeco Instruments社製 AFM Nano Scope IV）を用いて測定し、以下の基準から平坦性を評価した。結果を表１に示す。実用上、Ａ〜Ｂであることが好ましい。
・Ａ：深さＤ２が６００ｎｍ未満
・Ｂ：深さＤ２が６００ｎｍ以上８００ｎｍ未満
・Ｃ：深さＤ２が８００ｎｍ以上

表１に示すように、本発明の化合物を含む組成物より得られた膜は、優れた屈折率および表面平坦性を示した。
特に、実施例７と他の実施例との比較より、一般式（２）中のＡｒ^１〜Ａｒ^４のいずれかが多環芳香族基である場合、屈折率がより優れることが確認された。
また、実施例２と実施例５との比較より、一般式（１）中のＡが一般式（４）で表される部分構造を有する基である場合、表面平坦性がより優れることが確認された。
なお、本発明の化合物を含まない組成物を用いた比較例１〜３では、屈折率と表面平坦性とを両立することができなかった。

＜組成物１２〜２１の調製＞
上記化合物Ａ−６（Ｘ）の３０．０％溶液（５．０質量部）と、重合性化合物Ｍ−１（０．５質量部）と、重合性化合物Ｍ−２（０．３８質量部）と、硬化促進剤Ｐ−１（東京化成工業製）０．１３質量部と、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）０．１６質量部と、添加剤Ｍｅｇａｆａｃ Ｆ−７８１Ｆ（ＤＩＣ社製、含フッ素ポリマー型界面活性剤）０．１７質量部と、ＫＢＭ−６０２（信越化学工業社製）０．０２質量部と、ｐ−メトキシフェノール（和光純薬製）０．０１質量部と、シクロヘキサノン（１３質量部）とを混合することで組成物１２を調製した。
組成物１３〜２１に関しては、後述する表２に示すように、一般式（１）で表される化合物および重合性化合物の種類などを変更して、組成物１２と同様の手順で調製した。

得られた組成物（組成物１２〜２１）を用いて、上述した＜平坦性の評価＞を実施した。

＜評価サンプル（マイクロレンズ用厚膜基盤）の作製方法＞
ガラス基板にＦＦＥＭ製ＣＴ−４０００をスピンコート法で塗布した。その後、２２０℃で１時間加熱処理を実施して、下地層付きガラス基板を作製した。下地層の膜厚は０．１μｍであった。
得られた組成物（組成物１２〜２１）を下地層付きガラス基板上にスピンコート法で塗布した。その後、１００℃で２分間プレベークを実施した後、さらに、２６５℃で１０分間加熱処理を実施してポストベークを行った。得られた硬化膜の膜厚は３μｍであった。

上述した＜屈折率の評価＞で述べた方法により、得られた硬化膜の屈折率を測定した。また、上述した＜平坦性の評価＞で述べた方法により、平坦性を評価した。

＜耐熱性の評価＞
上記で得られた評価サンプルを用いて、硬化膜の波長４００ｎｍでの透過率を測定し、以下の基準に従って評価した。
Ａ：９５％以上
Ｂ：９０％以上９５％未満
Ｃ：８０％以上９０％未満
Ｄ：８０％未満

＜耐溶剤性の評価＞
上記で得られた評価サンプルをシクロヘキサノンに５分間浸漬した後、硬化膜の残存率（％）［｛（浸漬前の硬化膜の質量−浸漬後の硬化膜の質量）／浸漬前の硬化膜の質量｝×１００］を測定した。結果を表１に示す。実用上、Ａ〜Ｂであることが好ましい。
Ａ：残存率が９５％以上
Ｂ：残存率が８５％以上９５％未満
Ｃ：残存率が８５％未満

＜クラックの評価＞
上記で得られた評価サンプルを用いて、硬化膜を光学顕微鏡にて観察し、以下の基準に従って評価した。
Ａ：ヒビなし
Ｂ：小さなヒビあり
Ｃ：大きなひびあり
Ｄ：膜形成できず

表２に示すように、本発明の化合物を含む組成物より得られた膜は、優れた屈折率および表面平坦性を示した。
なお、実施例９と１０との比較より、重合性化合物がエポキシ基を有する場合、耐溶剤性がより優れることが確認された。
また、実施例１２と１３との比較より、酸基（カルボン酸基）が連結基を介してポリマー鎖を結合している場合、耐溶剤性およびクラックがより優れることが確認された。

１０ 基板
２０ 有機ＥＬ素子
３０ 保護膜
４０ 下地層
５０Ｒ 赤色カラーフィルタ
５０Ｇ 緑色カラーフィルタ
５０Ｂ 青色カラーフィルタ
１００ 表示装置（マイクロＯＬＥＤ）
１１０ 基板
１２０ 硬化膜

Claims (16)

1. 一般式（１）で表される化合物を含む組成物。
   
   一般式（１）中、Ａは（ｍ＋ｎ）価の連結基を表す。Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、−Ｓ−を含む２価の連結基を表す。Ｘは、一般式（３）で表される化合物から１個の水素原子を除いた残基を表す。Ｙは、酸基、および、重合性基からなる群から選択される基を少なくとも１つ有する１価の有機基を表す。ｍは２以上の整数を表し、ｎは１〜４の整数を表す。
   
   一般式（３）中、Ａｒ^１〜Ａｒ^２、および、Ａｒ^５〜Ａｒ^６は、それぞれ独立に、芳香環基を表す。なお、Ａｒ^５〜Ａｒ^６の少なくとも１つは多環芳香族基である。
2. 一般式（１）中、Ａが第４級炭素原子を１つ以上含む、請求項１に記載の組成物。
3. 一般式（１）中、Ａが、一般式（４）で表される部分構造を有する基、または、一般式（５）で表される部分構造を有する基である、請求項１または２に記載の組成物。
   
   一般式（５）中、Ｒはアルキル基を表す。なお、一般式（４）および（５）中、＊は結合位置を表す。
4. 一般式（１）中、ｎに対するｍの比が０．５〜５．０である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。なお、前記比は、ｍ／ｎを表す。
5. 一般式（１）中、ｍ＋ｎの合計数が３〜１０である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物。
6. 一般式（１）中、Ｌ^１およびＬ^２が、それぞれ独立に、−Ｓ−、または、−Ｓ−と、−Ｏ−、−ＣＯ−、および、アルキレン基からなる群から選択される基とを組み合わせた基である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物。
7. さらに、重合性化合物を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成物。
8. 前記重合性化合物が、重合性基を２つ以上有し、かつ、フルオレン骨格を有する重合性化合物を含む、請求項７に記載の組成物。
9. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の組成物より形成される膜。
10. 請求項９に記載の膜を含む光学機器。
11. 一般式（１）で表される化合物。
    
    一般式（１）中、Ａは（ｍ＋ｎ）価の連結基を表す。Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、−Ｓ−を含む２価の連結基を表す。Ｘは、一般式（３）で表される化合物から１個の水素原子を除いた残基を表す。Ｙは、酸基、および、重合性基からなる群から選択される基を少なくとも１つ有する１価の有機基を表す。ｍは２以上の整数を表し、ｎは１〜４の整数を表す。
    
    一般式（３）中、Ａｒ^１〜Ａｒ^２、および、Ａｒ^５〜Ａｒ^６は、それぞれ独立に、芳香環基を表す。なお、Ａｒ^５〜Ａｒ^６の少なくとも１つは多環芳香族基である。
12. 一般式（１）中、Ａが第４級炭素原子を１つ以上含む、請求項１１に記載の化合物。
13. 一般式（１）中、Ａが、一般式（４）で表される部分構造を有する基、または、一般式（５）で表される部分構造を有する基である、請求項１１または１２に記載の化合物。
    
    一般式（５）中、Ｒはアルキル基を表す。なお、一般式（４）および（５）中、＊は結合位置を表す。
14. 一般式（１）中、ｎに対するｍの比が０．５〜５．０である、請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の化合物。なお、前記比は、ｍ／ｎを表す。
15. 一般式（１）中、ｍ＋ｎの合計数が３〜１０である、請求項１１〜１４のいずれか１項に記載の化合物。
16. 一般式（１）中、Ｌ^１およびＬ^２が、それぞれ独立に、−Ｓ−、または、−Ｓ−と、−Ｏ−、−ＣＯ−、および、アルキレン基からなる群から選択される基とを組み合わせた基である、請求項１１〜１５のいずれか１項に記載の化合物。