JP6351317B2 - 基板収納容器 - Google Patents
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Description
以下、本発明の第1実施形態による基板収納容器1について、図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の第1実施形態に係る基板収納容器1に基板Wが収納された様子を示す分解斜視図である。図2は、本発明の第1実施形態に係る基板収納容器1の容器本体2を示す下方斜視図である。図3は、本発明の第1実施形態に係る基板収納容器1の容器本体2において、第二側壁26及び上壁23を省略した上方斜視図である。図4は、本発明の第1実施形態に係る基板収納容器1の容器本体2において、上壁23を省略した上方平面図である。図5は、本発明の第1実施形態に係る基板収納容器1の気体噴出制御機構101の、図4のA−A線に沿った断面図である。
図1等に示すように、容器本体2の壁部20は、奥壁22と上壁23と下壁24と第1側壁25と第2側壁26とを有する。奥壁22、上壁23、下壁24、第1側壁25、及び第2側壁26は、上述した材料により構成されており、一体成形されて構成されている。
所定の時間の間、給気用フィルタ部80にパージガスを供給し、排気用フィルタ部81から気体を放出させることにより、基板収納容器1のガスパージを行う。
さらに、管状気体流通部の開口や流体制御部を適宜設計することで、容器内部を流れるガスパージの気体の流量も、容器の上下方向において、均一にすることができる。
よって、容器本体の基板収納空間内の気体の置換を効率的に行い、短時間で且つ均一なガスパージを行える基板収納容器を提供することができる。このため、半導体の処理工程においてシリコンウェーハがパージガスにさらされている割合を長くし、しかも均一な気体置換が行えるため、シリコンウェーハ上に作製される半導体チップの歩留まりを向上させることができる。さらに、短時間で効率よく気体置換を行うことができるので、プロセル時間を短縮させ、コストダウンにも寄与する。
次に、本発明の第2実施形態による基板収納容器1について図6から図9を参照しながら説明する。図6は、本発明の第2実施形態に係る基板収納容器1の容器本体2において、第二側壁26及び上壁23を省略した上方斜視図である。図7は、本発明の第2実施形態に係る基板収納容器1の容器本体2において、上壁23を省略した上方平面図である。図8は、本発明の第2実施形態に係る基板収納容器1の気体噴出制御機構201の、図7のB−B線に沿った断面図である。図9は、本発明の第2実施形態に係る基板収納容器1の気体噴出制御機構201の、図8の領域Cにおける拡大図である。
第1実施形態と同様に、容器本体2が蓋体3によりその容器本体開口部21が閉じられた状態で、容器本体2の下壁24の給気孔45に設けられた給気用フィルタ部80にパージガスが供給される。
上述のように基板収納容器1の気体噴出制御機構は、容器本体開口部の方向に気体を放出するための複数の開口を有する奥壁気体流通部と、給気孔と奥壁気体流通部を気体が流通可能に接続する接続部を有し、給気孔に供給された気体は、接続部を通じて奥壁気体流通部に供給され、その後奥壁気体流通部の複数の開口から放出されることで容器本体の奥壁から前記容器本体開口部の方向に気体が流通する構成とした。
2つの給気用フィルタ部に供給されるパージガスの流量のバランスが悪い場合、極端には、1つの給気用フィルタ部のみからパージガスが供給されるような状況でも、奥壁気体流通部の開口にて複数の給気用フィルタ部からのパージガスが合成される。これにより、開口から放出されるパージガスの流量は均一化され、より安定したガスパージを実現できる。
次に、本発明の第3実施形態による基板収納容器1について図10から図13を参照しながら説明する。図10は、本発明の第3実施形態に係る基板収納容器1の容器本体2において、第二側壁26及び上壁23を省略した上方斜視図である。図11は、本発明の第3実施形態に係る基板収納容器1の容器本体2において、上壁23を省略した上方平面図である。図12は、本発明の第3実施形態に係る基板収納容器1の容器本体2の正面図である。図13は、本発明の第3実施形態に係る基板収納容器1の気体放出制御部310の、図11のD−D線に沿った断面図である。
給気用フィルタ部80を通過したパージガスは、気体放出制御部310に供給され、その向きを変えて開口311から放出される。気体放出制御部310からパージガスは、容器本体2の後方向で気体放出方向制御部313に向け放出される、その後、パージガスは、気体放出方向制御部313の斜面314で反射されて奥壁22に沿って上方向へその向きが変えられる。奥壁22に沿って上昇するパージガスは、気体制御凸部312により、その向きが容器本体開口部21へ変えられる。気体制御凸部312からのパージガスは、その後第1実施形態と同様に、排気用フィルタ部81あるいは容器本体開口部21から、基板収納容器1の外部に放出され、ガスパージが行われる。
上述のように,基板収納容器1の気体噴出制御機構は、給気孔に接続され、給気孔に供給された気体を奥壁の方向に放出する気体放出制御部と、気体放出制御部からの気体を容器本体開口部の方向に気体の流通方向を変えるための複数の気体制御凸部とを有し、給気孔に供給された気体は、気体放出制御部により奥壁に供給され、奥壁に形成された複数の気体制御凸部に放出され気体の流通方向を変えることで容器本体の壁部から容器本体開口部の方向に気体が流通する構成とした。
2 容器本体
3 蓋体
4 シール部材
5 基板支持板状部(側方基板支持部)
20 壁部
21 容器本体開口部
22 奥壁
23 上壁
24 下壁
25 第1側壁
26 第2側壁
27 基板収納空間
28 リブ
29 トップフランジ
30 シール面
31 開口周縁部
32A、32B 上側ラッチ部
33 操作部
40A、40B、41A,41B ラッチ係合凹部
45 給気孔
46 排気孔
80 給気用フィルタ部
81 排気用フィルタ部
82 ハウジング
83 フィルタ
84 逆止弁
101 気体噴出部
110 管状気体流通部
111、211、311 開口
112 気流制御板
120、220、320 接続部
201 気体噴出制御機構
210 奥壁気体流通部
212 気流非通気部
213 気流通気部
310 気体放出制御部
312 気体制御凸部
313 気体放出方向制御部
314 斜面
321 通路
W 基板
Claims (4)
- 一端部に容器本体開口部が形成され他端部が閉塞された筒状の壁部であって、奥壁、上壁、下壁、及び一対の側壁を有し前記上壁の一端部、前記下壁の一端部、及び前記側壁の一端部によって前記容器本体開口部が形成された壁部を備え、前記上壁の内面、前記下壁の内面、前記側壁の内面、及び前記奥壁の内面によって、複数の基板を収納可能であり前記容器本体開口部に連通する基板収納空間が形成された容器本体と、
前記容器本体開口部に対して着脱可能であり、前記容器本体開口部を閉塞可能な蓋体とを備え、
前記基板収納空間と前記容器本体の外部の空間とを連通可能とする複数の通気路を利用して容器内部の気体を置換できる基板収納容器であって、
前記通気路は、外部の空間から容器内部に気体を供給するために用いられる給気孔あるいは容器内部の空間から外部の空間に気体を放出するために用いられる排気孔を有し、
前記奥壁の内面の左右方向の中央部あるいはその近傍で前記下壁から前記上壁の間に形成され、前記給気孔から供給された気体を前記容器本体の前記奥壁から前記容器本体開口部の方向に流通させる気体噴出制御機構を有し、
前記気体噴出制御機構は、
一端に開口部を有し中空筒状で前記奥壁の方向に気体を放出する1つ又は複数の開口を有する管状気体流通部と、
前記給気孔と前記管状気体流通部の一端を気体が流通可能に接続する接続部を有し、
前記管状気体流通部は、前記奥壁の内面の近傍に2つ対向して設けられ、
前記管状気体流通部の開口は、前記奥壁の左右方向の中央部に向けられ、
前記給気孔に供給された気体は、前記接続部を通じて前記管状気体流通部に供給され、その後前記管状気体流通部の前記開口から放出され、さらに前記容器本体の前記奥壁に当った後に前記容器本体開口部の方向に気体が流通することを特徴とする基板収納容器。 - 前記奥壁側に配置された複数の前記給気孔のそれぞれに対して一組の前記管状気体流通部と前記接続部をそれぞれ接続し、複数の前記管状気体流通部からの気体を前記奥壁の方向に同時に放出することを特徴とする請求項1に記載の基板収納容器。
- 前記気体噴出制御機構は、
前記給気孔に接続され、前記給気孔に供給された気体を前記奥壁の方向に放出する気体放出制御部と、
前記気体放出制御部からの気体を前記容器本体開口部の方向に前記気体の流通方向を変えるための複数の気体制御凸部とを有し、
前記給気孔に供給された気体は、前記気体放出制御部により前記奥壁に供給され、前記奥壁に形成された前記複数の気体制御凸部に放出され前記気体の流通方向を変えることで前記容器本体の壁部から前記容器本体開口部の方向に気体が流通することを特徴とする請求項1に記載の基板収納容器。 - 前記給気孔は複数形成され、各々の前記給気孔に接続された複数の前記気体放出制御部が形成されていることを特徴とする請求項3に記載の基板収納容器。
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