JP6219734B2 - ポリカーボネート樹脂および光学フィルム - Google Patents

Description

本発明はポリカーボネート樹脂および光学フィルムに関するものであり、所望の波長分散特性を有し、光弾性定数が低く、耐熱性が高く、溶融加工性に優れたポリカーボネート樹脂および該樹脂から形成される光学フィルムである。

一般に光学フィルム、特に位相差フィルムは、液晶表示装置等の表示装置に用いられ、色補償、視野角拡大、反射防止等の機能を有している。
位相差フィルムとしては、λ／４板、λ／２板が知られており、その材料としてはビスフェノールＡを重縮合したポリカーボネートやポリエーテルサルフォン、ポリサルフォンなどの熱可塑性ポリマーが用いられている。これら材料のフィルムを延伸して得られたλ／４板、λ／２板は、短波長ほど位相差が大きくなるという性質がある。そのため、λ／４板、λ／２板として機能しうる波長が特定の波長に限られるという問題点があった。

広帯域において波長を制御する方法として、位相差の波長依存性が異なる特定の２枚以上の複屈折性フィルムを特定の角度で積層して製造する方法が知られている。（例えば特許文献１参照）これらの場合、位相差フィルムを複数枚用いるので、それらを貼り合わせたり、貼り合わせる角度を調整する工程が必要であり、生産性に問題がある。また、位相差フィルム全体の厚さが大きくなるために、光線透過率が低下して、装置に組み込んだときに厚くなったり暗くなるという問題もある。

近年、このような積層をせずに、一枚のフィルムにより広帯域化する方法が提案されている（特許文献２参照）。該フィルムは正の屈折率異方性を有する高分子のモノマー単位と負の屈折率異方性を有する高分子のモノマー単位とからなる高分子フィルムを延伸する方法である。しかしながら、具体的に開示されているフィルムは光弾性定数が高いため、応力による複屈折が大きく、位相差フィルムとして使用する場合に光抜けが起こるという問題があった。また、フルオレン系ビスフェノール骨格からなる芳香族系ポリカーボネートを用いているため、溶融加工する場合、溶融温度が高く分解によるゲル物が発生しやすいという問題がある。また。高いＴｇ（ガラス転移温度）を有しているためフィルムの延伸加工等のために高い温度を必要とし、従来と異なる特別な加工設備を必要とする等、加工性が必ずしも十分なものとはいえない。

光弾性定数を低くした溶融製膜可能なフィルムとして、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンとイソソルビドと脂肪族ジオールとのポリカーボネート共重合体や９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンとイソソルビドとのポリカーボネート共重合体を用いた位相差フィルム等が報告されている（特許文献３、４参照）

特開平０２−１２０８０４号公報 国際公開第２０００／０２６７０５号パンフレット 国際公開第２００６／０４１１９０号パンフレット 特開２０１０−１３４２３２号公報

本発明の目的は、理想的な広帯域に近い波長分散特性をもち、位相差発現性が高く、光弾性が低く、溶融加工性に優れたポリカーボネート樹脂および該樹脂からなる光学フィルムを提供することにある。

本発明者らは、かかる目的を達成せんとして鋭意検討の結果、特定のモノマーを組み合わせて用いることにより、得られるポリカーボネート樹脂からなるフィルムが理想的な広帯域に近い逆波長分散性を持ち、光弾性係数の低い位相差フィルムとなることを見出し、本発明に到達した。
すなわち、本発明は、以下の通りである。

１．下記式（Ａ２）または（Ａ４）で表される単位（Ａ）

と下記式（Ｂ１）

で表される単位（Ｂ）を含み、単位（Ａ）と単位（Ｂ）とのモル比（Ａ／Ｂ）が２０／８０〜９０／１０であり、ガラス転移温度が７０℃〜１６０℃であるポリカーボネート樹脂。

２．ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度が１１０℃〜１６０℃である前項１記載のポリカーボネート樹脂。
３．ポリカーボネート樹脂の光弾性定数が３０×１０^−１２Ｐａ^−１以下である前項１記載のポリカーボネート樹脂。
４．前項１記載のポリカーボネート樹脂から形成された光学フィルム。
５．光学フィルムが溶融押出法により成形したものである前項４記載の光学フィルム。
６．光学フィルムが、未延伸フィルムを延伸してなる位相差フィルムである前項４記載の光学フィルム。
７．波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、及び６５０ｎｍにおけるフィルム面内の位相差値Ｒ（４５０）、Ｒ（５５０）、及びＲ（６５０）が、下記式（１）及び（２）
０．６０ ≦ Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）≦ １．００ （１）
１．０１ ≦ Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）≦ １．４０ （２）
を満たす前項６記載の位相差フィルム。
８．前項６記載の位相差フィルムを具備した液晶表示装置または有機ＥＬ表示装置。

本発明の光学フィルムは、所望の波長分散特性を持ち、光弾性定数が低く、高度な透明性、加工性に優れた新規のポリカーボネート共重合体樹脂より構成され、延伸処理により所望の波長分散性を有し、一枚で広帯域化可能であり、液晶表示装置用、有機ＥＬディスプレイ用などの光学フィルムとして極めて有用である。

実施例の熱ムラ評価の説明図である。

以下、本発明を詳細に説明する。
＜ポリカーボネート樹脂＞
本発明の光学フィルムは、単位（Ａ）および単位（Ｂ）を含む新規のポリカーボネート樹脂から形成される。

（単位（Ａ））
単位（Ａ）は下記式で表される。

単位（Ａ）中、Ｒ_１およびＲ_２は夫々独立して、水素原子、炭素原子数１〜１０の芳香族基を含んでもよい炭化水素基またはハロゲン原子を示す。炭化水素基として、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数５〜１０のシクロアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜１０のアラルキル基、炭素数１〜１０のアルケニル基が挙げられる。ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。
Ｒ_３およびＲ_４は夫々独立して、炭素原子数１〜１０の芳香族基を含んでもよい炭化水素基を示す。炭化水素基は、好ましくは炭素数１〜１０のアルキレン基、さらに好ましくは炭素数１〜４のアルキレン基、より好ましくはエチレン基である。
ｐおよびｑは、それぞれ−（Ｒ_３−Ｏ）−および−（Ｏ−Ｒ_４）−の繰り返しの数を表す。ｐおよびｑは、夫々独立して、０以上の整数であり、好ましくは０〜２０の整数、さらに好ましくは０〜１２の整数、さらにより好ましくは０〜８の整数、特に好ましくは０〜４の整数、最も好ましくは０または１である。
ｍおよびｎは、夫々独立して０〜４の整数を示す。

（ｐおよびｑが０の場合）
ｐおよびｑが０の場合、単位（Ａ）は下記式で表される（以下、単位（Ａ１）と呼ぶことがある）。

（Ｒ_１およびＲ_２は単位（Ａ）と同じである。）

単位（Ａ１）として、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｎ−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｎ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｓｅｃ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）フルオレン等から誘導される単位が挙げられる。これらの単位（Ａ１）を誘導する化合物は、単独でまたは二種類以上を組み合わせて用いることもできる。

特に、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンから誘導される下記式で表される単位（Ａ２）が好ましい。

単位（Ａ２）を含むポリカーボネート共重合体は、その１０ｇをエタノール５０ｍｌに溶解した溶液を光路長３０ｍｍで測定したｂ値が、好ましくは６．０以下、より好ましくは５．５以下、さらに好ましくは５．０以下である。このｂ値が上記範囲内であれば、ポリカーボネート共重合体から形成される光学フィルムは色相が良好で強度が高い。
単位（Ａ２）の原料である９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンは、ｏ−クレゾールとフルオレノンの反応によって得られる。ｂ値の小さい９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンは、不純物を除去することによって得ることができる。

具体的には、ｏ−クレゾールとフルオレノンの反応後に、未反応のｏ−クレゾールを留去した後、残さをアルコール系、ケトン系またはベンゼン誘導体系の溶媒に溶解し、これに活性白土または活性炭を加えてろ過後、ろ液から結晶化した生成物をろ過して、精製された９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンを得ることができる。除去される不純物としては、２，４’−ジヒドロキシ体、２，２’−ジヒドロキシ体および構造不明の不純物等である。かかる精製に用いるアルコール系の溶媒としてはメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等の低級アルコールが好ましい。ケトン系の溶媒としてはアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン等の低級脂肪族ケトン類およびこれらの混合物が好ましい。ベンゼン誘導体系の溶媒としてはトルエン、キシレン、ベンゼンおよびこれらの混合物が好ましい。溶媒の使用量はフルオレン化合物が十分に溶解する量であれば足り、通常フルオレン化合物に対して２〜１０倍量程度である。活性白土としては市販されている粉末状または粒状のシリカ−アルミナを主成分とするものが用いられる。また、活性炭としては市販されている粉末状または粒状のものが用いられる。

（ｐおよびｑが１以上の整数の場合）
ｐおよびｑが１以上の整数の場合、単位（Ａ）は下記式で表される（以下、単位（Ａ３）と呼ぶことがある）。

（Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、ｍおよびｎは単位（Ａ）と同じである。ｐおよびｑは、夫々独立して、１以上の整数である。）

単位（Ａ３）として、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（３−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（４−ヒドロキシブトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［２−（２−ヒドロキシエトキシ）−５−メチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−エチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−プロピルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソプロピルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−ｎ−ブチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソブチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−（１−メチルプロピル）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（３−ヒドロキシプロポキシ）−３−メチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（４−ヒドロキシブトキシ）−３−メチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−２，５−ジメチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジエチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジプロピルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジイソプロピルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジイソブチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ビス（１−メチルプロピル）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（３−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジメチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（４−ヒドロキシブトキシ）−３，５−ジメチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−シクロヘキシルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジフェニルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−ベンジルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジベンジルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−プロペニルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フルオロフェニル］フルオレン、およびこれらの９，９−ビス（ヒドロキシアルコキシフェニル）フルオレンから誘導される単位が挙げられる。また、ｐおよびｑが２以上である９，９−ビス［ヒドロキシポリ（アルキレンオキシ）フェニル］フルオレン等から誘導される単位が挙げられる。

これらのうち、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル］フルオレン｝等が好ましい。
特に、下記式で示される９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＢＰＥＦ）から誘導される単位（Ａ４）が好ましい。

これらの単位（Ａ３）を誘導する化合物は、単独でまたは二種類以上を組み合わせて用いることもできる。
単位（Ａ３）を誘導する化合物は、９，９−ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレン類と、基Ｒ_３およびＲ_４に対応する化合物（アルキレンオキサイド、ハロアルカノール等）とを反応させることにより得られる。例えば、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンは、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンにエチレンオキサイドを付加することにより得られる。９，９−ビス［４−（３−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］フルオレンは、例えば、９，９−ビス［４−ヒドロキシフェニル］フルオレンと３−クロロプロパノールとをアルカリ条件下にて反応させることにより得られる。なお、９，９−ビス（ヒドロキシフェニル）フルオレンは、フルオレノン（９−フルオレノン等）と対応するフェノールとの反応により得ることができる。９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンは、例えば、フェノールと９−フルオレノンとの反応によって得ることができる。

（単位（Ｂ））
単位（Ｂ）は下記式（Ｂ）に示したように、側鎖アルキル基または側鎖シクロアルキル基を有する脂環式ジオールから誘導されるものである。

式（Ｂ）において、Ｃｍは炭素数３〜２０の環状構造を持つアルキレン基を表す。好ましくは炭素数３〜１２の環状構造を持つアルキレン基、より好ましくは炭素数３〜６の環状構造を持つアルキレン基である。
炭素数３〜２０の環状構造を持つアルキレン基としては、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基、シクロオクチレン基などが挙げられる。特に好ましくは炭素数４のシクロブチレン基である。
前記式（Ｂ）において、Ｒ_５は炭素数１〜２０のアルキル基またはシクロアルキル基を表す。好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基、さらに好ましくは炭素数１〜８のアルキル基である。また、（Ｒ）ｎはその合計の炭素数が１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましい。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などが挙げられる。シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などが挙げられる。
前記式（Ｂ）において、ｎは１〜１０の整数、好ましくは２〜８の整数、より好ましくは２〜６の整数を示す。また、ｐは０〜１、好ましくは０を示す。
前記式（Ｂ）において、Ｗは下記式（Ｘ）を示す。

Ｒ_６とＲ_７はそれぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、炭素原子数１〜９のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、炭素原子数６〜１２のアリール基、炭素原子数２〜５のアルケニル基、または炭素原子数７〜１７のアラルキル基を表す。また、Ｒ_６とＲ_７が結合して炭素環または複素環を形成しても良い。Ｒ_８とＲ_９はそれぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、炭素原子数１〜９のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、または炭素原子数６〜１２アリール基を表す。Ｒ_１０は１〜９のアルキレン基である。ａは０〜２０の整数を表し、ｂは１〜５００の整数を表す。

単位（Ｂ）は、下記式で表される単位（Ｂ１）または単位（Ｂ２）が好ましい。

式（Ｂ２）において、Ｗは、前記式（Ｘ）と同様であり、Ｒは炭素数１〜２０のアルキル基またはシクロアルキル基を表し、ｎは１〜１０の整数を示す。
単位（Ｂ）の構造を誘導する脂環式ジオールとしては、２−メチル−１，３−シクロブタンジオール、２，４−ジメチル−１，３−シクロブタンジオール、２，２，４，４−テトラメチル−１，３−シクロブタンジオール、２−エチル−１，３−シクロブタンジオール、２，４−ジエチル−１，３−シクロブタンジオール、２，２，４，４−テトラエチル−１，３−シクロブタンジオール、２−ブチル−１，３−シクロブタンジオール、２，４−ジブチル−１，３−シクロブタンジオール、２，２，４，４−テトラブチル−１，３−シクロブタンジオール、２，２’−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン、２，２’−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパンが挙げられる。なかでも２，２，４，４−テトラメチル−１，３−シクロブタンジオール、２，２’−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパンが特に好ましい。これらは２種類以上併用して用いても良い。

（組成）
本発明で使用されるポリカーボネート樹脂は、主たる繰り返し単位が単位（Ａ）と単位（Ｂ）とを含み、それらのモル比（Ａ／Ｂ）は２０／８０〜９０／１０である。モル比（Ａ／Ｂ）が２０／８０〜９０／１０では、耐熱性が高くなり好ましい。単位（Ａ）と単位（Ｂ）とのモル比（Ａ／Ｂ）は、２５／７５〜８５／１５が好ましく、３０／７０〜８０／２０がより好ましい。この組成の範囲では、逆波長分散性となり好ましい。モル比（Ａ／Ｂ）は、日本電子社製ＪＮＭ−ＡＬ４００のプロトンＮＭＲにて測定し算出することができる。
主たる繰り返し単位とは、単位（Ａ）及び単位（Ｂ）の合計が全繰り返し単位を基準として好ましくは４０モル％以上であり、より好ましくは５０モル％以上、さらに好ましくは６０モル％以上である。

（他の単位）
その他の共重合構成単位を誘導するジオール化合物としては、脂肪族ジオール化合物、脂環式ジオール化合物、芳香族ジヒドロキシ化合物のいずれでも良く、国際公開第２００４／１１１１０６号パンフレット、国際公開第２０１１／０２１７２０号パンフレットに記載のジオール化合物やジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコールなどのオキシアルキレングリコール類が挙げられる。

前記脂肪族ジオール化合物としては、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１．９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−ドデカンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２，４−ジエチル−１，５−ペンタンジオール、１，２−ヘキサングリコール、１，２−オクチルグリコール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，３−ジイソブチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジイソアミル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオールなどが挙げられる。

前記脂環式ジオール化合物としては、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、アダマンタンジオール、ペンタシクロペンタデカンジメタノール、３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、イソソルビドなどが挙げられる。

前記芳香族ジヒドロキシ化合物としては、α，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼン（ビスフェノールＭ）、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィド、ビスフェノールＡ、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（ビスフェノールＣ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン（ビスフェノールＡＦ）、および１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）デカンなどが挙げられる。

前記ジオール化合物としては脂環式ジオールが好ましく、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、イソソルビドがさらに好ましく、３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、イソソルビドが特に好ましい。

（比粘度：η_ＳＰ）
本発明で使用されるポリカーボネート樹脂の比粘度（η_ＳＰ）は、０．２０〜１．５０が好ましい。比粘度が０．２０〜１．５０のとき強度及び成形加工性が良好となる。比粘度（η_ＳＰ）は、より好ましくは０．２５〜１．２０であり、さらに好ましくは０．３０〜０．８０である。
本発明のポリカーボネート樹脂の比粘度が、０．２より小さいと射出成形した成形片の強度が低下しやすく、他方１．５０より大きいと射出成形の際の成形加工性が低下しやすくなる。

本発明でいう比粘度は、２０℃で塩化メチレン１００ｍｌにポリカーボネート樹脂０．７ｇを溶解した溶液からオストワルド粘度計を用いて求める。
比粘度（η_ＳＰ）＝（ｔ−ｔ_０）／ｔ_０
［ｔ_０は塩化メチレンの落下秒数、ｔは試料溶液の落下秒数］
なお、具体的な比粘度の測定としては、例えば次の要領で行うことができる。まず、ポリカーボネート樹脂をその２０〜３０倍重量の塩化メチレンに溶解し、可溶分をセライト濾過により採取した後、溶液を除去して十分に乾燥し、塩化メチレン可溶分の固体を得る。かかる固体０．７ｇを塩化メチレン１００ｍｌに溶解した溶液から２０℃における比粘度を、オストワルド粘度計を用いて求める。

＜ガラス転移温度：Ｔｇ＞
本発明の光学フィルムに使用されるポリカーボネート樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは７０〜１６０℃、より好ましくは１１０〜１６０℃の範囲である。ガラス転移温度（Ｔｇ）が７０℃より低いと、耐熱安定性に劣り、位相差値が経時変化して表示品位に影響を与える場合がある。またガラス転移温度（Ｔｇ）が１６０℃より高いと溶融製膜しようとする場合、粘度が高すぎて困難となることがある。ガラス転移温度（Ｔｇ）はティー・エイ・インスツルメント・ジャパン（株）製２９１０型ＤＳＣを使用し、昇温速度２０℃／ｍｉｎにて測定する。

＜光弾性定数＞
本発明の光学フィルムに使用されるポリカーボネート樹脂の光弾性定数の絶対値は、好ましくは３０×１０^−１２Ｐａ^−１以下、より好ましくは２５×１０^−１２Ｐａ^−１以下、さらに好ましくは２０×１０^−１２Ｐａ^−１以下、特に好ましくは１７×１０^−１２Ｐａ^−１以下である。絶対値が３０×１０^−１２Ｐａ^−１より大きいと、応力による複屈折が大きく、位相差フィルムとして使用する場合に光抜けが起こり易くなる。光弾性定数はフィルムから長さ５０ｍｍ、幅１０ｍｍの試験片を切り出し、日本分光（株）製 Ｓｐｅｃｔｒｏｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒ Ｍ−２２０を使用し測定する。

（ポリカーボネート樹脂の製造方法）
ポリカーボネート樹脂は、フルオレンジヒドロキシ成分、脂肪族ジオール成分および炭酸ジエステルを溶融重合して製造することができる。
炭酸ジエステルとしては、置換されてもよい炭素数６〜１２のアリール基、アラルキル基等のエステルが挙げられる。具体的には、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネートおよびビス（ｍ−クレジル）カーボネート等が挙げられる。これらの中でも特にジフェニルカーボネートが好ましい。
ジフェニルカーボネートの使用量は、ジヒドロキシ化合物の合計１モルに対して、好ましくは０．９７〜１．１０モル、より好ましは１．００〜１．０６モルである。

また溶融重合法においては重合速度を速めるために、重合触媒を用いることができ、かかる重合触媒としては、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、含窒素化合物、金属化合物等が挙げられる。
このような化合物としては、アルカリ金属やアルカリ土類金属の、有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物、アルコキシド、４級アンモニウムヒドロキシド等が好ましく用いられ、これらの化合物は単独もしくは組み合わせて用いることができる。

アルカリ金属化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素２ナトリウム、リン酸水素２カリウム、リン酸水素２リチウム、フェニルリン酸２ナトリウム、ビスフェノールＡの２ナトリウム塩、２カリウム塩、２セシウム塩、２リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩、リチウム塩等が挙げられる。

アルカリ土類金属化合物としては、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、二酢酸マグネシウム、二酢酸カルシウム、二酢酸ストロンチウム、二酢酸バリウム等が挙げられる。

含窒素化合物としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル、アリール基等を有する４級アンモニウムヒドロキシド類が挙げられる。また、トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミン類、２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類が挙げられる。また、アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基あるいは塩基性塩等が挙げられる。金属化合物としては亜鉛アルミニウム化合物、ゲルマニウム化合物、有機スズ化合物、アンチモン化合物、マンガン化合物、チタン化合物、ジルコニウム化合物等が挙げられる。これらの化合物は１種または２種以上併用してもよい。

これらの重合触媒の使用量は、ジオール成分１モルに対し好ましくは１×１０^−９〜１×１０^−２当量、好ましくは１×１０^−８〜１×１０^−５当量、より好ましくは１×１０^−７〜１×１０^−３当量の範囲で選ばれる。
溶融重縮合反応は、従来知られているように不活性ガス雰囲気下および減圧下で加熱しながら攪拌して生成するモノヒドロキシ化合物を留出させることで行なわれる。
反応温度は通常１２０〜３５０℃の範囲であり、反応後期には系の減圧度を１０〜０．１Ｔｏｒｒに高めて生成するモノヒドロキシ化合物の留出を容易にさせて反応を完結させる。必要に応じて末端停止剤、酸化防止剤等を加えてもよい。

また、反応後期に触媒失活剤を添加することもできる。使用する触媒失活剤としては、公知の触媒失活剤が有効に使用されるが、この中でもスルホン酸のアンモニウム塩、ホスホニウム塩が好ましい。更にドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩等のドデシルベンゼンスルホン酸の塩類、パラトルエンスルホン酸テトラブチルアンモニウム塩等のパラトルエンスルホン酸の塩類が好ましい。

またスルホン酸のエステルとして、ベンゼンスルホン酸メチル、ベンゼンスルホン酸エチル、ベンゼンスルホン酸ブチル、ベンゼンスルホン酸オクチル、ベンゼンスルホン酸フェニル、パラトルエンスルホン酸メチル、パラトルエンスルホン酸エチル、パラトルエンスルホン酸ブチル、パラトルエンスルホン酸オクチル、パラトルエンスルホン酸フェニル等が好ましく用いられる。その中でも、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩が最も好ましく使用される。これらの触媒失活剤の使用量はアルカリ金属化合物および／またはアルカリ土類金属化合物より選ばれた少なくとも１種の重合触媒を用いた場合、その触媒１モル当たり好ましくは０．５〜５０モルの割合で、より好ましくは０．５〜１０モルの割合で、更に好ましくは０．８〜５モルの割合で使用することができる。
また、用途や必要に応じて熱安定剤、可塑剤、光安定剤、重合金属不活性化剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、抗菌剤、紫外線吸収剤、離型剤等の添加剤を配合することができる。

＜光学フィルム＞
本発明の光学フィルムについて説明する。この光学フィルムとは、光学用途に使用されるフィルムである。具体的には、位相差フィルム、プラセル基板フィルム、偏光板保護フィルム、反射防止フィルム、輝度上昇フィルム、光ディスクの保護フィルム、拡散フィルム等が挙げられる。特に、位相差フィルム、偏光板保護フィルム、反射防止フィルムが好ましい。
光学フィルムの製造方法としては、例えば、溶液キャスト法、溶融押し出し法、熱プレス法、カレンダー法等公知の方法を挙げることが出来る。本発明の光学フィルムの製造法としては、溶液キャスト法、溶融押し出し法が好ましく、特に生産性の点から溶融押出法が好ましい。
溶融押し出し法においては、Ｔダイを用いて樹脂を押し出し冷却ロールに送る方法が好ましく用いられる。このときの温度はポリカーボネート共重合体の分子量、Ｔｇ、溶融流動特性等から決められるが、１８０〜３５０℃の範囲であり、２００℃〜３２０℃の範囲がより好ましい。１８０℃より低いと粘度が高くなりポリマーの配向、応力歪みが残りやすく好ましくない。また、３５０℃より高いと熱劣化、着色、Ｔダイからのダイライン（筋）等の問題が起きやすい。

また本発明で用いるポリカーボネート樹脂は、有機溶媒に対する溶解性が良好なので、溶液キャスト法も適用することが出来る。溶液キャスト法の場合は、溶媒としては塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、ジオキソラン、ジオキサン等が好適に用いられる。溶液キャスト法で用いられるフィルム中の残留溶媒量は２重量％以下であることが好ましく、より好ましくは１重量％以下である。２重量％を超えると残留溶媒が多いとフィルムのガラス転移温度の低下が著しくなり耐熱性の点で好ましくない。
本発明の未延伸の光学フィルムの厚みとしては、２０〜４００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは２０〜３００μｍの範囲である。かかるフィルムをさらに延伸して位相差フィルムとする場合には、光学フィルムの所望の位相差値、厚みを勘案して上記範囲内で適宜決めればよい。

かくして得られた未延伸の光学フィルムは延伸配向され位相差フィルムとなる。延伸方法は、縦一軸延伸、テンター等を用いる横一軸延伸、あるいはそれらを組み合わせた同時二軸延伸、逐次二軸延伸等公知の方法を用いることが出来る。また連続で行うことが生産性の点で好ましいが、バッチ式で行っても良い。延伸温度は、ポリカーボネート共重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）に対して、好ましくは（Ｔｇ−２０℃）〜（Ｔｇ＋５０℃）の範囲、より好ましくは（Ｔｇ−１０℃）〜（Ｔｇ＋３０℃）の範囲である。この温度範囲であれば、ポリマーの分子運動が適度であり、延伸による緩和が起こり難く、配向抑制容易になり所望するＲｅ値が得られ易いため好ましい。
延伸倍率は目的とする位相差値により決められるが、縦、横、それぞれ、１．０５〜５倍、より好ましくは１．１〜４倍である。この延伸は一段で行ってもよく、多段で行ってもよい。なお、溶液キャスト法により得たフィルムを延伸する場合の上記Ｔｇとは、該フィルム中の微量の溶媒を含むガラス転移温度を言う。

（厚み等）
本発明の光学フィルムの厚みは、好ましくは２０〜２００μｍ、より好ましくは２０〜１５０μｍの範囲である。この範囲であれば、延伸による所望する位相差値が得やすく、製膜も容易で好ましい。
本発明の光学フィルムは、これを構成するポリカーボネート樹脂の光弾性定数が低い。従って、応力に対する位相差の変化が少なく、かかる位相差フィルムを具備した液晶表示装置は表示安定性に優れたものとなる。
また、本発明の光学フィルムは透明性が高い。厚さ１００μｍの本発明の光学フィルムの全光線透過率が、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上である。また本発明の光学フィルムのヘイズ値は、好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下である。

（波長分散性）
本発明で使用されるポリカーボネート樹脂を用いてなる未延伸フィルムを延伸することで、波長４００〜８００ｎｍの可視光領域において、フィルム面内の位相差が短波長になるほど小さくなる逆波長分散性を示す光学フィルムを得ることができる。かかる延伸された位相差フィルムは、下記式（１）及び（２）の条件を満たすことが望ましい。

０．６０ ＜ Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜１．００ （１）
１．０１ ＜ Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１．４０ （２）
好ましくは、下記式（１−１）及び（２−１）の条件を満たす。
０．６５＜Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜０．９２ （１−１）
１．０２＜Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１．３５ （２−１）
より好ましくは、下記式（１−２）及び（２−２）の条件を満たす。
０．７０＜Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜０．９０ （１−２）
１．０３＜Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１．３０ （２−２）
さらに好ましくは、下記式（１−３）及び（２−３）の条件を満たす。
０．７０＜Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜０．８９ （１−３）
１．０３＜Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１．２０ （２−３）
特に好ましくは、下記式（１−４）及び（２−４）の条件を満たす。
０．７０＜Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜０．８８ （１−４）
１．０３＜Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１．１０ （２−４）
最も好ましくは、下記式（１−５）及び（２−５）の条件を満たす。
０．７０＜Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）＜０．８７ （１−５）
１．０３＜Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１．１０ （２−５）

ここで面内の位相差値Ｒとは下記式で定義されるものであり、フィルムに垂直方向に透過する光のＸ方向とそれと垂直のＹ方向との位相の遅れを現す特性である。
Ｒ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ
但し、ｎ_ｘはフィルム面内の主延伸方向の屈折率であり、ｎ_ｙはフィルム面内の主延伸方向と垂直方向の屈折率であり、ｄはフィルムの厚みである。ここで、主延伸方向とは一軸延伸の場合には延伸方向、二軸延伸の場合にはより配向度があがるように延伸した方向を意味しており、化学構造的には高分子主鎖の配向方向を指す。

また、光学フィルムの波長５５０ｎｍにおけるフィルム面内の位相差値Ｒ（５５０）は、Ｒ（５５０）≧５０ｎｍであることが好ましい。光学フィルムは積層することなく１枚で広帯域のλ／４板またはλ／２板として使用できる。かかる用途ではさらに、λ／４板の場合は１００ｎｍ≦Ｒ（５５０）≦１８０ｎｍ、λ／２板の場合は２２０ｎｍ≦Ｒ（５５０）≦３３０ｎｍであることが望ましい。
光学フィルムの波長分散性は、日本分光（株）製 Ｓｐｅｃｔｒｏｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒ Ｍ−２２０を使用し測定される。

本発明の光学フィルムは、特に位相差フィルムとして好適に用いることができる。本発明は、上記位相差フィルムを具備した画像表示装置（液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置）を包含する。本発明においては、上記位相差フィルムと偏光層とからなる円偏光フィルムとし、これを反射防止フィルムとして好適に使用できる。また、上記位相差フィルムは画像表示装置の偏光板保護フィルムや光学補償フィルムとして好適に使用できる。

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、実施例中「部」とは「重量部」を意味する。実施例において使用した使用樹脂および評価方法は以下のとおりである。

１．光弾性定数
フィルムから長さ５０ｍｍ、幅１０ｍｍの試験片を切り出し、日本分光（株）製 Ｓｐｅｃｔｒｏｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒ Ｍ−２２０を使用し光弾性定数を測定した。

２．位相差、波長分散性
フィルムから長さ１００ｍｍ、幅７０ｍｍの試験片を切り出し、Ｔｇ＋１０℃の延伸温度で２．０倍縦延伸し、得られたフィルムの中央部分を日本分光（株）製 Ｓｐｅｃｔｒｏｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒ Ｍ−２２０を使用し位相差波長分散性を測定した。

３．Ｔｇ（ガラス転移温度）
ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン（株）製２９１０型ＤＳＣを使用し、窒素雰囲気下、昇温速度２０℃／ｍｉｎにて測定した。

４．ポリマー組成比（ＮＭＲ）
日本電子社製ＪＮＭ−ＡＬ４００のプロトンＮＭＲにて測定し、ポリマー組成比を算出した。

５．比粘度
２０℃で塩化メチレン１００ｍｌにポリカーボネート樹脂０．７ｇを溶解した溶液からオストワルド粘度計を用いて求めた。
比粘度（η_ＳＰ）＝（ｔ−ｔ_０）／ｔ_０
［ｔ_０は塩化メチレンの落下秒数、ｔは試料溶液の落下秒数］

６．熱ムラ評価
ポリビニルアルコールにヨウ素が吸着配向している偏光子フィルムを２枚のトリアセチルセルロースフィルムにより挟んだ構造で、その片面にアクリル系感圧接着剤層が設けられている直線偏光板を用意した。実施例で作成した延伸フィルムを積算照射量１５００Ｊの条件でコロナ放電処理を施し、そのコロナ放電処理面を、前記直線偏光板へアクリル系感圧接着剤層側に４５°の角度で張り合わせた。上記偏光板を２枚作成し、無アルカリガラス（コーニングジャパン社製、商品名：ＥＡＧＬＥ２０００）に粘着剤を介し図１に示したように貼り合わせた。構成した円偏光板を９０℃２４０分保管した直後にバックライトを当てた時の透過光の光抜けを目視で評価し、光抜けのない場合は○、全体的に光抜けが見られる場合を×とした。

［実施例１］
＜ポリカーボネート共重合体の製造＞
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（以下ＢＰＥＦと略す）９４．６部、２，２，４，４−テトラメチル−１，３−シクロブタンジオール（以下ＴＭＣＢＤと略す）２５．４部、ジフェニルカーボネート８５．７部および触媒としてテトラメチルアンモニウムヒドロキシド１．８×１０^−２部と水酸化ナトリウム１．６×１０^−４部を窒素雰囲気下１８０℃に加熱し溶融させた。その後、３０分かけて減圧度を１３．４ｋＰａに調整した。その後、２０℃／ｈｒの速度で２６０℃まで昇温を行い、１０分間その温度で保持した後、１時間かけて減圧度を１３３Ｐａ以下とした。合計６時間撹拌下で反応を行った。
反応終了後、触媒量の４倍モルのドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩を添加し、触媒を失活した後、反応槽の底より窒素加圧下吐出し、水槽で冷却しながら、ペレタイザーでカットしてペレットを得た。
＜光学フィルムの製造＞
次に、（株）テクノベル製１５φ二軸押出混練機に幅１５０ｍｍ、リップ幅５００μｍのＴダイとフィルム引取り装置を取り付け、得られたポリカーボネート共重合体をフィルム成形することにより透明な押出しフィルムを得た。評価結果を表１に記載した。

［実施例２］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＢＰＥＦ８６．０部、ＴＭＣＢＤ２８．２部を用いた他は、実施例１と全く同様の操作を行い、脂肪族芳香族ポリカーボネート共重合体を得た。
＜光学フィルムの製造＞
次に実施例１と同様にしてフィルムを作成した。評価結果を表１、表２に記載した。

［実施例３］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＢＰＥＦ７７．４部、ＴＭＣＢＤ３１．１部を用いた他は、実施例１と全く同様の操作を行い、脂肪族芳香族ポリカーボネート共重合体を得た。
＜光学フィルムの製造＞
次に実施例１と同様にしてフィルムを作成した。評価結果を表１に記載した。

［実施例４］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＢＰＥＦ６８．８部、ＴＭＣＢＤ３３．９部を用いた他は、実施例１と全く同様の操作を行い、脂肪族芳香族ポリカーボネート共重合体を得た。
＜光学フィルムの製造＞
次に実施例１と同様にしてフィルムを作成した。評価結果を表１に記載した。

［実施例５］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン（以下ＢＣＦと略す）５０．４部、ＴＭＣＢＤ３７．３部を用いた他は、実施例１と全く同様の操作を行い、脂肪族芳香族ポリカーボネート共重合体を得た。
＜光学フィルムの製造＞
次に実施例１と同様にしてフィルムを作成した。評価結果を表１に記載した。

［実施例６］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＢＣＦ４４．５部、ＴＭＣＢＤ３９．５部を用いた他は、実施例１と全く同様の操作を行い、脂肪族芳香族ポリカーボネート共重合体を得た。
＜光学フィルムの製造＞
次に実施例１と同様にしてフィルムを作成した。評価結果を表１に記載した。

［実施例７］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＢＰＥＦ８６．０部、ＴＭＣＢＤ１６．９部、イソソルビド（以下ＩＳＳと略す）１１．５部を用いた他は、実施例１と全く同様の操作を行い、脂肪族芳香族ポリカーボネート共重合体を得た。
＜光学フィルムの製造＞
次に実施例１と同様にしてフィルムを作成した。評価結果を表１に記載した。

［実施例８］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＢＰＥＦ８６．０部、ＴＭＣＢＤ１６．９部、３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５．５）ウンデカン（以下ＳＰＧと略す）２３．８部を用いた他は、実施例１と全く同様の操作を行い、脂肪族芳香族ポリカーボネート共重合体を得た。
＜光学フィルムの製造＞
次に実施例１と同様にしてフィルムを作成した。評価結果を表１に記載した。

［実施例９］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＢＰＥＦ８６．０部、ＴＭＣＢＤ８．５部、ＳＰＧ４１．７部を用いた他は、実施例１と全く同様の操作を行い、脂肪族芳香族ポリカーボネート共重合体を得た。
＜光学フィルムの製造＞
次に実施例１と同様にしてフィルムを作成した。評価結果を表１に記載した。

［実施例１０］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＢＣＦ５０．４部、ＴＭＣＢＤ３２．８部、１，６−ヘキサンジオール（以下ＨＤと略す）３．７部を用いた他は、実施例１と全く同様の操作を行い、脂肪族芳香族ポリカーボネート共重合体を得た。
＜光学フィルムの製造＞
次に実施例１と同様にしてフィルムを作成した。評価結果を表１に記載した。

［実施例１１］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＢＰＥＦ８６部、２，２’−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン（以下ＨＢＰＣと略す）５２．５部を用いた他は、実施例１と全く同様の操作を行い、脂肪族芳香族ポリカーボネート共重合体を得た。
＜光学フィルムの製造＞
次に実施例１と同様にしてフィルムを作成した。評価結果を表１に記載した。

［比較例１］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＢＰＥＦ８６．０部、ＩＳＳ２８．６部を用いた他は、実施例１と全く同様の操作を行い、脂肪族芳香族ポリカーボネート共重合体を得た。
＜光学フィルムの製造＞
次に実施例１と同様にしてフィルムを作成した。評価結果を表１、表２に記載した。熱ムラ評価を行った結果、光弾性係数起因の熱ムラによる色抜けが発生した。

［比較例２］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＢＣＦ５０．４部、ＩＳＳ３７．８部を用いた他は、実施例１と全く同様の操作を行い、脂肪族芳香族ポリカーボネート共重合体を得た。
＜光学フィルムの製造＞
次に実施例１と同様にしてフィルムを作成したが、Ｔｇが高すぎるため、樹脂が分解し、発泡が起こり、光学フィルムとしての品質を満たさなかった。

［比較例３］
＜ポリカーボネート共重合体樹脂の製造＞
ＢＰＥＦ８６部、ＳＰＧ５９．６部を用いた他は、実施例１と全く同様の操作を行い、脂肪族芳香族ポリカーボネート共重合体を得た。
＜光学フィルムの製造＞
次に実施例１と同様にしてフィルムを作成した。評価結果を表１、表２に記載した。熱ムラ評価を行った結果、耐熱性が低いため熱ムラによる色抜けが発生した。

本発明の光学フィルムは、液晶表示装置用、有機ＥＬディスプレイ用などの光学フィルムとして有用である。

１．偏光板
２．延伸フィルム
３．無機ガラス
４．延伸フィルム
５．偏光板

Claims (8)

1. 下記式（Ａ２）または（Ａ４）で表される単位（Ａ）
   

   

   

   と下記式（Ｂ１）
   

   

   で表される単位（Ｂ）を含み、単位（Ａ）と単位（Ｂ）とのモル比（Ａ／Ｂ）が２０／８０〜９０／１０であり、ガラス転移温度が７０℃〜１６０℃であるポリカーボネート樹脂。
2. ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度が１１０℃〜１６０℃である請求項１記載のポリカーボネート樹脂。
3. ポリカーボネート樹脂の光弾性定数が３０×１０^−１２Ｐａ^−１以下である請求項１記載のポリカーボネート樹脂。
4. 請求項１記載のポリカーボネート樹脂から形成された光学フィルム。
5. 光学フィルムが溶融押出法により成形したものである請求項４記載の光学フィルム。
6. 光学フィルムが、未延伸フィルムを延伸してなる位相差フィルムである請求項４記載の光学フィルム。
7. 波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、及び６５０ｎｍにおけるフィルム面内の位相差値Ｒ（４５０）、Ｒ（５５０）、及びＲ（６５０）が、下記式（１）及び（２）
   ０．６０ ≦ Ｒ（４５０）／Ｒ（５５０）≦ １．００ （１）
   １．０１ ≦ Ｒ（６５０）／Ｒ（５５０）≦ １．４０ （２）
   を満たす請求項６記載の位相差フィルム。
8. 請求項６記載の位相差フィルムを具備した液晶表示装置または有機ＥＬ表示装置。

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