JP6282778B1 - 赤外線カットフィルタの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
TiO2とSiO2とからなる多層膜のいずれかの膜を真空蒸着装置によって真空蒸着することによって形成されている。また、赤外線反射体は、透明基板の一主面に赤外線反射膜が形成されることによって作製されている。赤外線反射膜は、TiO2などの高屈折率材
料からなる第1薄膜と、SiO2などの低屈折率材料からなる第2薄膜とが交互に複数積
層された多層膜である。
、所定の有機色素が吸収可能な赤外線の波長域は限られているので、所望の赤外線吸収特性を実現するために、複数種類の有機色素を透明樹脂に含有させることが必要になる可能性がある。しかし、複数種類の有機色素を透明樹脂に分散させることは困難な場合も多く、赤外線域の一部の波長域における吸収性能を補完するために反射型のフィルタが必要になる可能性がある。
下記式(a)で表されるホスホン酸と、銅イオンと、リン酸ジエステル及びリン酸モノエステルの少なくとも一方を含むリン酸エステルと、溶媒と、マトリクスとを含有する液状の組成物を基板に塗布して塗膜を形成し、
前記塗膜を140℃〜170℃の雰囲気で加熱して硬化させる、
赤外線カットフィルタの製造方法を提供する。
がハロゲン原子で置換されたフェニル基である。リン酸エステルは、リン酸ジエステル及びリン酸モノエステルの少なくとも一方を含む。
れぞれ、−(CH2CH2O)nR4で表される1価の官能基であり、nは、1〜25の整数であり、R4は、炭素数6〜25のアルキル基を示す。R21、R22、及びR3は、互いに同
一又は異なる種類の官能基である。
95の関係を満たす。CH/CCは、例えば3.5以下である。これにより、赤外線吸収性組成物を用いて、可視域の特定の範囲の波長の光の透過率が高い赤外線カットフィルタを製造できる。換言すると、CA/CE<1、かつ、CH/CC>1.95の関係が満たされている赤外線吸収性組成物を用いることにより、可視域の特定の範囲の波長の光の透過率が高く、かつ、カットオフ波長が例えば700nm以下である赤外線カットフィルタを製造できる。赤外線吸収性組成物は、望ましくは、CH/CC≧2.0の関係を満たす。例えば、CH/CCが1.90以下であると、赤外線カットフィルタの波長400nmの光に対する透過率を高めにくい。また、CH/CCが約2.5を超えると、場合によっては、赤外線カットフィルタの波長400nmの光に対する透過率が許容できる範囲で相対的に低い。
ポリオキシエチレン基と炭素数6以上のアルキル基とを含む。このため、リン酸モノエステルでは、銅イオンとの反応において立体障害が生じやすく、せいぜい、リン酸モノエステルの1分子中に含まれる1つの水酸基のみが銅イオンとの反応に寄与し得ると考えられる。
モルの酢酸銅一水和物によって1モルの銅イオンが供給される。
溶液を得る。次に、この銅塩の溶液に、式(b1)で表されるリン酸ジエステル及び式(b2)で表されるリン酸モノエステルなどのリン酸エステル化合物を加えて撹拌し、A液を調製する。また、式(a)で表されるホスホン酸をTHFなどの所定の溶媒に加えて撹拌し、B液を調製する。次に、A液を撹拌しながら、A液にB液を加えて所定時間撹拌する。次に、この溶液にトルエンなどの所定の溶媒を加えて撹拌し、C液を得る。次に、C液を加温しながら所定時間脱溶媒処理を行う。これにより、THFなどの溶媒及び酢酸(沸点:約118℃)などの銅塩の解離により発生する成分が除去され、式(a)で表されるホスホン酸と銅イオンとによって赤外線吸収剤が生成される。C液を加温する温度は、銅塩から解離した除去されるべき成分の沸点に基づいて定められている。なお、脱溶媒処理においては、C液を得るために用いたトルエン(沸点:約110℃)などの溶媒も揮発する。この溶媒は、赤外線吸収性組成物においてある程度残留していることが望ましいので、この観点から溶媒の添加量及び脱溶媒処理の時間が定められているとよい。なお、C液を得るためにトルエンに代えてo‐キシレン(沸点:約144℃)を用いることもできる。この場合、o‐キシレンの沸点はトルエンの沸点よりも高いので、添加量をトルエンの添加量の4分の1程度に低減できる。
も有する。
(i)可視域の特定の範囲の波長(400nm〜600nm)の光の透過率が約70%以上であり、場合によっては75%以上である。
(ii)赤外側カットオフ波長が700nm以下、場合によっては660nm以下である。(iii)紫外側カットオフ波長が370〜390nmである。
ジタルカメラなどの撮像装置の撮像光学系において撮像素子の前方に配置される赤外線カットフィルタとして望ましい特性を有する。デジタルカメラなどの撮像装置の撮像光学系において使用される赤外線カットフィルタは、比視感度が比較的小さい波長範囲の光をできるだけ遮蔽することが望ましい。このため、赤外線カットフィルタの赤外側カットオフ波長が実効的な比視感度の上限である700nmより短いことは有意義である。赤外線カ
ットフィルタの光学特性を人間の比視感度に近づける観点から、上記の(i)の特性を満たしつつ、赤外線カットフィルタの赤外側カットオフ波長が660nm以下であることが望ましい。また、比視感度の下限は380nm程度であるので、赤外線カットフィルタが380nmより短い波長の光を遮蔽することも有意義である。このため、赤外線カットフィルタ1a〜1dは、上記(ii)及び(iii)の特性を有することにより、人間の比視感
度に近しい光学特性を有する。
形成する方法は、特に制限されず、反射防止膜30aを形成する材料の種類に応じて、真空蒸着、スパッタリング、CVD(Chemical Vapor Deposition)、及びスピンコーティ
ング又はスプレーコーティングを利用したゾルゲル法のいずれかを用いることができる。
外線カットフィルタ1cにおいて反りが抑制される。
式(a)で表されるホスホン酸の代わりに用いる以外は本発明の赤外線吸収性組成物と同様に調製された赤外線吸収性組成物によって形成されている。
各実施例及び各比較例に係る赤外線カットフィルタの分光透過率スペクトルを、紫外線可視分光光度計(日本分光社製、製品名:V−670)を用いて測定した。この測定において、赤外線カットフィルタに対する入射光の入射角を0°(度)に設定した。各実施例及び各比較例に係る赤外線カットフィルタにおける赤外線吸収層の厚みの違いによる影響を排除するため、測定された分光透過率に100/92を乗じて界面における反射をキャンセルしたうえで、波長820〜840nmにおける平均透過率が1%になるように係数を定めた。さらに、各波長の透過率を吸光度に換算したうえで定めた係数をかけて調整し分光透過率を算出した。すなわち、波長820〜840nmにおける平均透過率が1%となるように正規化され、赤外線カットフィルタと空気との界面における反射がキャンセルされた赤外線カットフィルタの分光透過率スペクトルが得られた。
(赤外線吸収性組成物の調製)
酢酸銅一水和物1.125g(5.635ミリモル(以下、「mmol」と記載する))とテトラヒドロフラン(THF)60gとを混合して3時間撹拌し酢酸銅溶液を得た。次に、得られた酢酸銅溶液に、リン酸エステル化合物であるプライサーフA208F(第一工業製薬社製)を2.338g(7.035mmol)加えて30分間撹拌し、A液を得た。また、フェニルホスホン酸(日産化学工業社製)0.585g(3.699mmol)にTHF10gを加えて30分撹拌し、B液を得た。プライサーフA208Fは、上記の式(b1)及び(b2)において、R21、R22、及びR3が、それぞれ、同一種類の
(CH2CH2O)nR4であり、n=1であり、R4は炭素数が8の1価の基である、リン
酸エステル化合物であった。プライサーフA208Fの分子量は、式(b1)で表されるリン酸ジエステルと式(b2)で表されるリン酸モノエステルとを、モル比で、1:1で含んでいるとして算出した。
76mm×76mm×0.21mmの寸法を有するホウケイ酸ガラスでできた透明ガラス基板(SCHOTT社製、製品名:D263)の一方の主面の中心部の30mm×30mmの範囲にディスペンサを用いて実施例1に係る赤外線吸収性組成物を約0.3g塗布して塗膜を形成した。次に、未乾燥の塗膜を有する透明ガラス基板をオーブンに入れて、85℃で3時間、次に125℃で3時間、次に150℃で1時間、次に170℃で3時間の条件で塗膜に対して加熱処理を行い、塗膜を硬化させ、実施例1に係る赤外線カットフィルタを作製した。実施例1に係る赤外線カットフィルタの分光透過率スペクトルを図6に示す。また、この分光透過率スペクトルから求めた、実施例1に係る赤外線カットフィルタの、紫外側カットオフ波長及び赤外側カットオフ波長、並びに、400nm、600nm、及び700nmの波長の光の透過率を表1に示す。
フェニルホスホン酸及びリン酸エステル化合物の添加量を表1に示す通り変更した以外は実施例1と同様にして、実施例2〜18に係る赤外線吸収性組成物を調製した。また、フェニルホスホン酸の添加量を0.584g(3.691mmol)とし、プライサーフA208F 2.338g(7.035mmol)の代わりに、NIKKOL DDP−2(日光ケミカルズ社製) 3.615g(7.030mmol)及びNIKKOL DDP−6(日光ケミカルズ社製) 5.475g(7.033mmol)をそれぞれ用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例19及び実施例20に係る赤外線吸収性組成物を調製した。NIKKOL DDP−2は、上記の式(b1)及び(b2)において、R21、R22、及びR3が、それぞれ、同一種類の(CH2CH2O)mR5であり、m=2であ
り、R5は炭素数が12〜15の1価の基であるリン酸エステル化合物である。NIKK
OL DDP−2の分子量は、R5の炭素数を12〜15の平均である13.5とし、式
(b1)で表されるリン酸ジエステルと式(b2)で表されるリン酸モノエステルとを、モル比で、1:1で含んでいるとして算出した。NIKKOL DDP−6は、上記の式(b1)及び(b2)において、R21、R22、及びR3が、それぞれ、同一種類の(CH2CH2O)mR5であり、m=6であり、R5は炭素数が12〜15の1価の基であるリン酸エステル化合物である。NIKKOL DDP−6の分子量は、NIKKOL DDP−2と同様にR5の炭素数を13.5とし、式(b1)で表されるリン酸ジエステルと式(
b2)で表されるリン酸モノエステルとを、モル比で、1:1で含んでいるとして算出した。また、フェニルホスホン酸(日産化学工業社製)0.585g(3.699mmol)の代わりに、4‐ブロモフェニルホスホン酸(東京化成工業社製)を0.835g(3.523mmol)を用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例21に係る赤外線吸収性組成物を調製した。また、実施例1に係る赤外線吸収性組成物の代わりに、実施例2〜21に係る赤外線吸収性組成物を用いた以外は、実施例1と同様にして、それぞれ、実施例2〜21に係る赤外線カットフィルタを作製した。実施例2〜21に係る赤外線カットフィルタの分光透過率スペクトルをそれぞれ図7〜26に示す。また、実施例2〜21に係る赤外線カットフィルタの、紫外側カットオフ波長及び赤外側カットオフ波長、並びに、400nm、600nm、及び700nmの波長の光の透過率を表1に示す。実施例1〜21に係る赤外線吸収性組成物における、反応性水酸基の含有量CHモルと銅イオン
の含有量CCモルとの比(CH/CC)と、ホスホン酸の含有量CAモルとリン酸エステルの含有量CEモルとの比(CA/CE)との関係を図27に示す。図27において、丸印は実
施例1〜8、15、16、及び19〜21に関し、三角印は実施例9〜14、17、及び18に関する。また、図27における破線は、CH/CC=2.842−0.765×(CA/CE)で示される直線である。
フェニルホスホン酸に代えて、ブチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、又はエチルホスホン酸を表2に示す添加量で加えつつ、リン酸エステル化合物の添加量を表2に示す通り変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例1〜4に係る赤外線吸収性組成物を調製した。フェニルホスホン酸及びリン酸エステル化合物の添加量を表2に示す通り変更した以外は実施例1と同様にして、比較例5〜8に係る赤外線吸収性組成物を調製した。4‐ブロモフェニルホスホン酸及びリン酸エステル化合物の添加量を表2に示す通り変更した以外は実施例21と同様にして、比較例9に係る赤外線吸収性組成物を調製した。また、実施例1に係る赤外線吸収性組成物の代わりに、比較例1〜6に係る赤外線吸収性組成物を用いた以外は、実施例1と同様にして、それぞれ、比較例1〜6に係る赤外線カットフィルタを作製した。比較例1〜6に係る赤外線カットフィルタの分光透過率スペクトルをそれぞれ図28〜33に示す。また、比較例1〜6に係る赤外線カットフィルタの、紫外側カットオフ波長及び赤外側カットオフ波長、並びに、400nm、600nm、及び700nmの波長の光の透過率を表2に示す。なお、比較例7〜9に係る赤外線吸収性組成物中では凝集体の発生が著しく、微粒子が良好に分散している組成物を得ることができなかった。
実施例1の赤外線カットフィルタの透明ガラス基板の他方の主面に実施例12に係る赤外線吸収性組成物を用いて実施例1と同様にして塗膜を形成し、実施例1と同様の条件で加熱処理を行って塗膜を硬化させた。このようにして、実施例22に係る赤外線カットフィルタを得た。また、実施例5の赤外線カットフィルタの透明ガラス基板の他方の主面に比較例4に係る赤外線吸収性組成物を用いて実施例1と同様にして塗膜を形成し、実施例1と同様の条件で加熱処理を行って塗膜を硬化させた。このようにして、実施例23に係る赤外線カットフィルタを得た。実施例22及び23に係る赤外線カットフィルタの分光透過率スペクトルをそれぞれ図34及び35に示す。また、実施例22及び23に係る赤外線カットフィルタの、紫外側カットオフ波長及び赤外側カットオフ波長、並びに、400nm、600nm、及び700nmの波長の光の透過率を表1に示す。
CC≧2.842−0.765×(CA/CE)の関係が満たされていると、赤外線カット
フィルタの赤外側カットオフ波長を660nm以下に低減しやすいことが示唆された。
Claims (6)
- 前記溶媒の沸点より高い温度で脱溶媒処理を行って前記組成物を調製する、請求項1に記載の製造方法。
- 前記組成物において、前記ホスホン酸、前記銅イオン、及び前記リン酸エステルのモル基準の含有量をそれぞれCAモル、CCモル、及びCEモルと定義し、かつ、前記ホスホン酸の1分子中に含まれる2つの水酸基、前記リン酸ジエステルの1分子中に含まれる1つの水酸基、及び前記リン酸モノエステルの1分子中に含まれる1つの水酸基である反応性水酸基のモル基準の含有量の合計をCHモルと定義したとき、CA/CE<1、かつ、CH/CC>1.95の関係を満たす、
請求項1又は2に記載の製造方法。 - 前記組成物において、0.20≦CA/CE≦0.85の関係を満たす、請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記組成物において、CH/CC≧2.842−0.765×CA/CEの関係を満たす、請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記マトリクスはポリシロキサンである、請求項1〜5のいずれか1項に記載の製造方法。
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JP6273064B1 (ja) | 2017-10-03 | 2018-01-31 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
JP7099251B2 (ja) * | 2017-10-31 | 2022-07-12 | コニカミノルタ株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、近赤外線吸収性膜及び固体撮像素子用イメージセンサー |
KR102476708B1 (ko) * | 2017-11-01 | 2022-12-09 | 삼성전자주식회사 | 광학 필터, 및 이를 포함하는 카메라 모듈 및 전자 장치 |
WO2019093076A1 (ja) * | 2017-11-07 | 2019-05-16 | 日本板硝子株式会社 | 光吸収性組成物及び光学フィルタ |
CN111433644B (zh) * | 2017-12-06 | 2021-12-24 | 日本板硝子株式会社 | 滤光器和摄像装置 |
JP6606626B1 (ja) * | 2018-04-27 | 2019-11-13 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び光学フィルタ用組成物 |
JP6543746B1 (ja) * | 2018-05-07 | 2019-07-10 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタの製造方法 |
WO2019244589A1 (ja) * | 2018-06-19 | 2019-12-26 | コニカミノルタ株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、近赤外線吸収性膜及び固体撮像素子用イメージセンサー |
TWI685681B (zh) * | 2018-08-27 | 2020-02-21 | 白金科技股份有限公司 | 紅外光濾光片 |
JP7103213B2 (ja) * | 2018-12-28 | 2022-07-20 | コニカミノルタ株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、近赤外線吸収性膜及び固体撮像素子用イメージセンサー |
US12117627B2 (en) * | 2019-04-30 | 2024-10-15 | Intuitive Surgical Operations, Inc. | Image viewing systems and methods using a black glass mirror |
TWI703725B (zh) * | 2019-08-28 | 2020-09-01 | 友達光電股份有限公司 | 顯示裝置 |
TWI717187B (zh) * | 2020-01-09 | 2021-01-21 | 白金科技股份有限公司 | 有機金屬錯合物分散液、使用其所製備而成的近紅外線吸收膜以及近紅外線截止濾光片 |
JP7510278B2 (ja) * | 2020-05-27 | 2024-07-03 | 日本板硝子株式会社 | 光吸収体、光吸収体付物品、撮像装置、及び光吸収性組成物 |
JP7552193B2 (ja) | 2020-09-25 | 2024-09-18 | コニカミノルタ株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、近赤外線吸収性膜、近赤外線カットフィルター、固体撮像素子用イメージセンサー及びカメラモジュール |
EP4299526A1 (en) * | 2021-02-26 | 2024-01-03 | Sakai Chemical Industry Co., Ltd. | Zirconium element-containing resin composition |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011063814A (ja) * | 2010-12-02 | 2011-03-31 | Kureha Corp | 光学材料 |
JP2011203467A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Kureha Corp | 近赤外線吸収フィルターおよびその製造方法 |
JP2015157927A (ja) * | 2013-04-11 | 2015-09-03 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001042230A (ja) | 1999-07-27 | 2001-02-16 | Olympus Optical Co Ltd | 撮像光学系 |
JP4422866B2 (ja) | 1999-09-16 | 2010-02-24 | 株式会社クレハ | 光学フィルタ及びその製造方法 |
JP4500417B2 (ja) * | 2000-08-25 | 2010-07-14 | 株式会社クレハ | 光学材料及びその製造方法 |
US7332257B2 (en) | 2003-07-11 | 2008-02-19 | Asahi Glass Company, Limited | Composition for optical film, and optical film |
JP2008165215A (ja) | 2003-07-16 | 2008-07-17 | Asahi Glass Co Ltd | 光学フィルム及びプラズマディスプレイ用光学フィルタ |
WO2005012424A1 (ja) * | 2003-07-31 | 2005-02-10 | Kureha Chemical Industry Company, Limited | 樹脂組成物、シート状樹脂組成物及び積層体 |
CN100475914C (zh) * | 2003-10-14 | 2009-04-08 | 三菱化学株式会社 | 各向异性染料膜用染料、各向异性染料膜用染料组合物、各向异性染料膜和偏振元件 |
CN1930246A (zh) * | 2004-03-10 | 2007-03-14 | 株式会社吴羽 | 增溶剂和含该增溶剂的组合物 |
DE602004014130D1 (de) * | 2004-08-04 | 2008-07-10 | Agfa Healthcare Nv | Gerät mit einem Nahinfrarotfarbfilter |
JP4797432B2 (ja) | 2005-05-06 | 2011-10-19 | 凸版印刷株式会社 | 受光素子 |
JP5400033B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2014-01-29 | 株式会社クレハ | ホスホン酸銅化合物、並びにこれを含む赤外吸収材料及び積層体 |
JP5331361B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2013-10-30 | 株式会社クレハ | 銅塩組成物、並びに、これを用いた樹脂組成物、赤外吸収膜及び光学部材 |
JP4804572B2 (ja) * | 2008-11-06 | 2011-11-02 | ユニケミカル株式会社 | 赤外線遮断性フィルム及び赤外線遮断性積層フィルム |
KR101474351B1 (ko) * | 2008-11-28 | 2014-12-18 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 근적외선 컷 필터 및, 이를 구비하는 고체 촬상 장치 및 카메라 모듈 |
JP5554048B2 (ja) | 2009-11-05 | 2014-07-23 | 株式会社クレハ | 近赤外線吸収剤及びその製造方法、並びに光学材料 |
JP2011227462A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-11-10 | Fujifilm Corp | 色調可変膜、その製造方法及び該製造方法により得られたエレクトロクロミック素子 |
JP2011221424A (ja) * | 2010-04-14 | 2011-11-04 | Nitto Denko Corp | 偏光板および画像表示装置 |
CN102985856B (zh) | 2010-06-18 | 2015-12-16 | 株式会社大真空 | 红外截止滤光片 |
JP5738014B2 (ja) * | 2011-03-07 | 2015-06-17 | 株式会社クレハ | 近赤外線吸収剤分散液の製造方法 |
JP5829641B2 (ja) * | 2012-05-08 | 2015-12-09 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性液状組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 |
JP5934682B2 (ja) * | 2012-08-31 | 2016-06-15 | 富士フイルム株式会社 | マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法 |
CN103923438B (zh) * | 2013-01-11 | 2018-09-07 | 株式会社日本触媒 | 叠层用树脂组合物及其用途 |
CN104937453B (zh) | 2013-02-19 | 2017-07-14 | 富士胶片株式会社 | 近红外线吸收性组合物及其应用、照相机模块及其制造方法、磺酸铜络合物及其混合物 |
WO2014129366A1 (ja) | 2013-02-19 | 2014-08-28 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、近赤外線カットフィルタおよびその製造方法、並びに、カメラモジュールおよびその製造方法 |
TWI620774B (zh) * | 2013-03-25 | 2018-04-11 | 荷蘭Tno自然科學組織公司 | 奈米複合物,其製造方法,用於電子裝置之障壁結構及含其之oled |
KR20150049346A (ko) * | 2013-10-30 | 2015-05-08 | 동우 화인켐 주식회사 | 포스포닉산기를 포함하는 화합물, 이를 포함하는 광경화성 수지 조성물 |
WO2015080184A1 (ja) * | 2013-11-29 | 2015-06-04 | 株式会社クレハ | 樹脂組成物およびその用途 |
JP2015131928A (ja) * | 2014-01-15 | 2015-07-23 | 株式会社クレハ | 近赤外線硬化型組成物およびその用途 |
JP5723049B2 (ja) * | 2014-08-12 | 2015-05-27 | 株式会社Dnpファインケミカル | 顔料分散液及びその製造方法、カラーフィルター用感光性着色樹脂組成物、並びに、カラーフィルター |
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Patent Citations (3)
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JP2011203467A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Kureha Corp | 近赤外線吸収フィルターおよびその製造方法 |
JP2011063814A (ja) * | 2010-12-02 | 2011-03-31 | Kureha Corp | 光学材料 |
JP2015157927A (ja) * | 2013-04-11 | 2015-09-03 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 |
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