JP6135558B2 - 画像形成装置用摺擦部材、クリーニング装置、プロセスカートリッジ、および画像形成装置 - Google Patents

Description

本発明は、画像形成装置用摺擦部材、クリーニング装置、プロセスカートリッジ、および画像形成装置に関する。

電子写真方式の画像形成装置においては、像保持体や中間転写ベルト等に残留した現像剤を清掃するためにクリーニング装置が設けられている。このクリーニング装置としては、基材としてポリウレタンゴム等の樹脂を用いた弾性を有するクリーニングブレードが一般的である。クリーニングブレードは、被接触部材に角部（エッジ）が接触するよう設置され、摺擦によりエッジで現像剤を掻き落とす。尚、クリーニングブレード以外にも画像形成装置においては、他の部材に接触するよう配置されて摺擦される態様で用いられる摺擦部材が存在する。

ここで、例えば特許文献１には、静電潜像が形成される像保持体、該像保持体表面に潤滑剤を塗布する潤滑剤塗布手段および該像保持体の表面に残留するトナーを除去するための弾性ブレードからなるクリーニング手段を具備する電子写真画像形成装置において、該潤滑剤によって該弾性ブレードに発生する振動を検知する手段を具備し、該検知信号によって該像保持体表面への潤滑剤供給量を制御する電子写真画像形成装置が開示されている。

また、特許文献２には、トナー保持体接触部に、イソシアネート化合物およびポリウレタン樹脂が反応してなり、定められた形状を有する硬化層を形成し、硬化層のｔａｎδと自由長部のｔａｎδとの関係を制御するクリーニングブレードが開示されている。

また、特許文献３には、表面が有機化合物を真空中グロー放電プラズマにより堆積させた非晶質炭素膜よりなるプラズマ重合膜に被覆されている電子写真用クリーナーブレードが開示されている。

また、特許文献４には、像搬送体上に残留する作像粒子を清掃するクリーニング装置において、像搬送体に接触し且つ像搬送体との接触部形状が像搬送体の移動停止に拘わらず非変形状態に保たれるクリーニング部材を有し、このクリーニング部材には、板状のベース基材と、このベース基材のうち少なくとも像搬送体との接触部に対応する部分を被覆する被覆層とを具備させ、前記被覆層として、ａ．ビッカース硬度が１５００Ｈｖ以上であること、ｂ．摩擦係数が被覆前のベース基材の摩擦係数よりも小さいこと、ｃ．表面粗さが被覆前のベース基材の表面粗さ以下であること、を満たすクリーニング部材が開示されている。

また、特許文献５には、ウレタンゴム製クリーニングブレードにおいて、被クリーニング部材との接触部分にイソシアネート化合物による硬化処理を行い、プラズマイオン注入・成膜法によりＣＶＤ潤滑膜を成膜するクリーニングブレードが開示されている。

また、特許文献６には、シート状のポリウレタンゴム成形体からなり、トナーが付着した移動部材表面を摺擦する画像形成装置用ブレードであって、前記ポリウレタンゴム成形体表面に、炭素をプラズマ重合した低摩擦層１ａを複合化した画像形成装置用ブレードが開示されている。

特開２００４−２７９７３４号公報 特開２００１−３４３８７４号公報 特開昭６４−９０４８４号公報 特開２００５−２７４９５２号公報 特開２０１３−８００７７公報 特開平９−１６０４５７公報

本発明は、欠け発生を抑制しうる画像形成用摺擦部材を提供することを目的とする。

上記目的を達成するため、以下の発明が提供される。
請求項１に係る発明は、
少なくとも画像形成装置において被接触部材に接触しながら摺擦されるよう配置される摺擦部材であって、
樹脂を全体に含む基材であって、前記被接触部材との接触側から厚み０．１μｍ以上５０μｍ以下の領域にｓｐ３結合を有する炭素がイオン注入された炭素含有領域を有し、且つ前記炭素含有領域以外の領域は同じ材質で構成される基材を備え、
下記（Ａ）または（Ｂ）の何れかの要件を満たす画像形成用摺擦部材である。
（Ａ）前記炭素含有領域が前記被接触部材との接触部を構成する
（Ｂ）前記炭素含有領域の更に前記被接触部材との接触側表面に、樹脂を含まず且つｓｐ３結合を有する炭素を含む炭素層が成膜され、該炭素層が前記被接触部材との接触部を構成する

請求項２に係る発明は、
少なくとも画像形成装置において被接触部材に接触しながら摺擦されるよう配置される摺擦部材であって、
樹脂を全体に含む基材であって、該樹脂がイソシアネートによる架橋構造を有さず、且つ前記被接触部材との接触側から厚み０．１μｍ以上５０μｍ以下の領域にｓｐ３結合を有する炭素がイオン注入された炭素含有領域を有する基材を備え、
下記（Ａ）または（Ｂ）の何れかの要件を満たす画像形成用摺擦部材である。
（Ａ）前記炭素含有領域が前記被接触部材との接触部を構成する
（Ｂ）前記炭素含有領域の更に前記被接触部材との接触側表面に、樹脂を含まず且つｓｐ３結合を有する炭素を含む炭素層が成膜され、該炭素層が前記被接触部材との接触部を構成する

請求項３に係る発明は、
前記（Ｂ）の要件を満たす請求項１または請求項２に記載の画像形成用摺擦部材である。

請求項４に係る発明は、
前記炭素層の厚みが５００ｎｍ以下である請求項１〜請求項３の何れか一項に記載の画像形成用摺擦部材である。

請求項５に係る発明は、
前記基材に含まれる前記樹脂がＪＩＳ−Ａの硬度８５度以下のゴムである請求項１〜請求項４の何れか一項に記載の画像形成用摺擦部材である。

請求項６に係る発明は、
前記被接触部材に接触しながら、該被接触部材の表面をクリーニングするクリーニング部材である請求項１〜請求項５の何れか一項に記載の画像形成用摺擦部材である。

請求項７に係る発明は、
クリーニング部材として請求項６に記載の画像形成用摺擦部材を備えたクリーニング装置である。

請求項８に係る発明は、
請求項７に記載のクリーニング装置を備え、画像形成装置に対して脱着自在であるプロセスカートリッジである。

請求項９に係る発明は、
像保持体と、
前記像保持体を帯電する帯電装置と、
帯電した前記像保持体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成装置と、
前記像保持体の表面に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、
前記像保持体上に形成された前記トナー像が転写される中間転写体と、
前記像保持体上に形成された前記トナー像を前記中間転写体の表面に一次転写する一次転写装置と、
前記中間転写体上に転写された前記トナー像を記録媒体上に二次転写する二次転写装置と、
前記二次転写装置によって前記トナー像が転写された後の前記中間転写体の表面に、前記画像形成用摺擦部材を接触させてクリーニングする請求項７に記載のクリーニング装置と、
を備える画像形成装置である。

請求項１および請求項２に係る発明によれば、基材が樹脂を全体に含み且つ被接触部材との接触側から厚み０．１μｍ以上５０μｍ以下の領域にｓｐ３結合を有する炭素がイオン注入された炭素含有領域を有しない場合に比べ、欠け発生を抑制しうる画像形成用摺擦部材が提供される。

請求項３に係る発明によれば、前記（Ａ）の要件を満たす場合に比べ、初期において低摺擦性をより高められる画像形成用摺擦部材が提供される。

請求項４に係る発明によれば、炭素層の厚みが５００ｎｍを超える場合に比べ、被接触部材の傷付きを抑制した画像形成用摺擦部材が提供される。

請求項５に係る発明によれば、基材に含まれる前記樹脂が硬度８５度以下のゴムでない場合に比べ、欠け発生をより抑制しうる画像形成用摺擦部材が提供される。

請求項６に係る発明によれば、基材が樹脂を全体に含み且つ被接触部材との接触側に更にｓｐ３結合を有する炭素を含む炭素含有領域を有しない場合に比べ、優れたクリーニング性能を長期にわたり維持し得る画像形成用摺擦部材が提供される。

請求項７乃至請求項９に係る発明によれば、クリーニング部材として基材が樹脂を全体に含み且つ被接触部材との接触側に更にｓｐ３結合を有する炭素を含む炭素含有領域を有する画像形成用摺擦部材を備えない場合に比べ、優れたクリーニング性能を長期にわたり維持し得るクリーニング装置、プロセスカートリッジ、および画像形成装置が提供される。

本実施形態における摺擦部材の一例を示す概略図である。 本実施形態における摺擦部材を用いたクリーニングブレードの一例を示す概略図である。 本実施形態におけるクリーニングブレードが駆動している像保持体に接触している状態を示す概略図である。 本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略模式図である。 本実施形態におけるクリーニング装置の一例を示す模式断面図である。

以下、本発明の画像形成装置およびプロセスカートリッジの実施形態について詳細に説明する。

＜画像形成装置用摺擦部材＞
本実施形態に係る画像形成装置用摺擦部材（以下単に「摺擦部材」と称す）は、少なくとも画像形成装置において被接触部材に接触しながら摺擦されるよう配置される摺擦部材である。
尚、該摺擦部材は少なくとも基材を有し、該基材は樹脂を全体に含む。また、該基材は前記被接触部材との接触側に更にｓｐ３結合を有する炭素を含む炭素含有領域を有する。
更に、該摺擦部材は、下記（Ａ）または（Ｂ）の何れかの要件を満たす。
（Ａ）前記炭素含有領域が前記被接触部材との接触部を構成する
（Ｂ）前記炭素含有領域の更に前記被接触部材との接触側表面に、樹脂を含まず且つｓｐ３結合を有する炭素を含む炭素層を備え、該炭素層が前記被接触部材との接触部を構成する

そして、本実施形態において第１実施形態に係る摺擦部材は、前記基材における前記炭素含有領域以外の領域が同じ材質で構成される。

また、本実施形態において第２実施形態に係る摺擦部材は、前記基材に含まれる前記樹脂がイソシアネートによる架橋構造を有さない。

ここで、画像形成装置において被接触部材に接触するよう配置されて摺擦される態様で用いられる摺擦部材の一種であるクリーニングブレードでは、低摩擦性を持たせるためにポリウレタン樹脂等の基材にイソシアネート化合物による硬化処理を行う対策が行われることがある。つまり、イソシアネート化合物との反応により被接触部材との接触部（エッジ部）のみを硬化処理する対策が行われている。
しかしながら、二成分現像方式を用いた画像形成装置の場合、トナーの摩擦帯電に使用される鉄粉の一部がクリーニングブレードのエッジ部へ突入する状況がある。被接触部材との接触部（エッジ部）を硬化処理した場合、エッジ部の柔軟性が低下し、例えば鉄粉の衝突や、その他用紙端部との衝突などによって生じる局所的な応力集中に対して脆くなり、エッジ部において一部に欠けが生じることがあった。

これに対し、本実施形態に係る摺擦部材では、樹脂を含む基材の被接触部材との接触側に更にｓｐ３結合を有する炭素を含む炭素含有領域を有する。また、第１実施形態では基材における前記炭素含有領域以外の領域が同じ材質で構成され、一方第２実施形態では基材に含まれる前記樹脂がイソシアネートによる架橋構造を有さない。この構成により、炭素含有領域におけるｓｐ３結合を有する炭素成分が有する低摺擦性や耐摩耗性と、樹脂成分が有する靭性（柔軟性）とが両立され、鉄粉等の異物との衝突などによって発生する局所的な応力集中に対する欠けを抑制しつつ、更に長期的に安定した接触状態が維持される。

尚、基材の炭素含有領域の被接触部材との接触側表面に更に、樹脂を含まず且つｓｐ３結合を有する炭素を含む炭素層を備えること、即ち前記（Ｂ）の要件を満たすことが、初期において低摺擦性をより高められるとの観点からより好ましい。但し、上記炭素層は摺擦がより激しくなり摩擦力が上昇するほど剥がれやすくなる性質を有し、使用し続ける程消失する傾向にある。ただ、炭素層が消失した後であっても、本実施形態では炭素含有領域を有する基材が存在する為、低摺擦性と耐摩耗性とが保たれる。

次いで、本実施形態に係る摺擦部材の構成について詳述する。

本実施形態に係る摺擦部材は、図１に示すごとく少なくとも基材４を有し、該基材４は被接触部材との接触側に更にｓｐ３結合を有する炭素を含む炭素含有領域４Ｂを有する。尚、第１実施形態に係る摺擦部材では、基材４における炭素含有領域以外の領域４Ａが全体として同じ材質で構成される。一方、第２実施形態に係る摺擦部材では、基材４に含まれる樹脂がイソシアネートによる架橋構造を有さない。
また、上記摺擦部材は、炭素含有領域４Ｂの更に被接触部材との接触側表面に、樹脂を含まず且つｓｐ３結合を有する炭素を含む炭素層６を備えてもよい。この場合、該炭素層６が被接触部材との接触部を構成する。一方、炭素層６を備えない場合、炭素含有領域４Ｂが被接触部材との接触部を構成する。

本実施形態に係る摺擦部材は、少なくとも画像形成装置において被接触部材に接触しながら摺擦されるよう配置して用いられる。
ここで、上記摺擦部材がクリーニングブレードとして用いられる態様について、図を用いて説明する。以下においては、図２に示すごとく、クリーニングブレード（摺擦部材）は、駆動する像保持体（感光体ドラム）３１に接触して像保持体３１の表面をクリーニングする接触部（接触角部またはエッジ部）３Ａと、接触角部３Ａが１つの辺を構成し且つ前記駆動の方向（矢印Ａ方向）の上流側を向く先端面３Ｂと、接触角部３Ａが１つの辺を構成し且つ前記駆動の方向（矢印Ａ方向）の下流側を向く腹面３Ｃと、先端面３Ｂと１つの辺を共有し且つ腹面３Ｃに対向する背面３Ｄと、を有する。
また、接触角部３Ａと平行な方向を奥行き方向と、接触角部３Ａから先端面３Ｂが形成されている側の方向を厚み方向と、接触角部３Ａから腹面３Ｃが形成されている側の方向を幅方向と称す。
尚、図２には便宜上、像保持体（感光体ドラム）３１が駆動する方向を矢印Ａとして描いたが、図２は像保持体３１が停止している状態を示している。

本実施形態に係るクリーニングブレード（摺擦部材）は、図２に示すごとく、像保持体（被摺擦部材）３１の表面に接触して配置される。像保持体３１が駆動すると、図３に示すごとく、クリーニングブレード３４２と像保持体３１との接触部に摺動が生じてニップ部Ｔが形成され、像保持体３１の表面が清掃される。

（基材）
−樹脂−
本実施形態に係る摺擦部材における基材は、その全体に樹脂を含有する。
樹脂としてはゴムが望ましく、例えば、ポリウレタンゴム、シリコンゴム、フッ素ゴム、プロロピレンゴム、ブタジエンゴム等が挙げられる。尚、特にポリウレタンゴムが望ましく、更には高結晶化されたポリウレタンゴムがより望ましい。

ポリウレタンゴムは、通常ポリイソシアネートとポリオールとを重合することで合成される。また、ポリオール以外にイソシアネート基と反応し得る官能基を有する樹脂を用いてもよい。尚、ポリウレタンゴムはハードセグメントとソフトセグメントとを有していることが望ましい。
ここで、「ハードセグメント」および「ソフトセグメント」とは、ポリウレタンゴム材料中で、前者を構成する材料の方が、後者を構成する材料よりも相対的に硬い材料からなり、後者を構成する材料の方が前者を構成する材料よりも相対的に柔らかい材料からなるセグメントを意味する。
また、上記「ポリイソシアネート」は、合成された樹脂において架橋構造を形成するものではなく、つまり第２実施形態に係る摺擦部材における前述の「イソシアネートによる架橋構造」を形成するものではない。

ハードセグメントを構成する材料（ハードセグメント材料）とソフトセグメントを構成する材料（ソフトセグメント材料）との組み合わせとしては、特に限定されず、一方が他方に対して相対的に硬く、他方が一方に対して相対的に柔らかい組み合わせとなるよう公知の樹脂材料から選択し得るが、本実施形態においては、以下の組み合わせが好適である。

・ソフトセグメント材料
まず、ソフトセグメント材料としては、ポリオールとして、ジオールと二塩基酸との脱水縮合で得られるポリエステルポリオール、ジオールとアルキルカーボネートの反応により得られるポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリエーテルポリオール等が挙げられる。なお、ソフトセグメント材料として用いられる上記ポリオールの市販品としては、例えば、ダイセル化学社製のプラクセル２０５やプラクセル２４０などが挙げられる。

・ハードセグメント材料
また、ハードセグメント材料としては、イソシアネート基に対して反応し得る官能基を有する樹脂を用いることが望ましい。また、柔軟性のある樹脂であることが望ましく、柔軟性の点から直鎖構造を有する脂肪族系の樹脂であることがより望ましい。具体例としては、２つ以上のヒドロキシル基を含むアクリル樹脂や、２つ以上のヒドロキシル基を含むポリブタジエン樹脂、２つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂等を用いることが望ましい。

２つ以上のヒドロキシル基を含むアクリル樹脂の市販品としては、例えば、綜研化学社製のアクトフロー（グレード：ＵＭＢ−２００５Ｂ、ＵＭＢ−２００５Ｐ、ＵＭＢ−２００５、ＵＭＥ−２００５等）が挙げられる。
２つ以上のヒドロキシル基を含むポリブタジエン樹脂の市販品としては、例えば、出光興産社製、Ｒ−４５ＨＴ等が挙げられる。

２つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂としては、従来の一般的なエポキシ樹脂のごとく硬くて脆い性質を有するものではなく、従来のエポキシ樹脂よりも柔軟強靭性であるものが望ましい。上記エポキシ樹脂としては、例えば、分子構造の面では、その主鎖構造中に、主鎖の可動性を高くし得る構造（柔軟性骨格）を有するものが好適であり、柔軟性骨格としては、アルキレン骨格や、シクロアルカン骨格、ポリオキシアルキレン骨格等が挙げられ、特にポリオキシアルキレン骨格が好適である。
また、物性面では、従来のエポキシ樹脂と比べて、分子量に比して粘度が低いエポキシ樹脂が好適である。具体的には、重量平均分子量が９００±１００の範囲内であり、２５℃における粘度が１５０００±５０００ｍＰａ・ｓの範囲内であることが望ましく、１５０００±３０００ｍＰａ・ｓの範囲内であることがより望ましい。この特性を有するエポキシ樹脂の市販品としては、例えば、ＤＩＣ製、ＥＰＬＩＣＯＮ ＥＸＡ−４８５０−１５０等が挙げられる。

ハードセグメント材料およびソフトセグメント材料を用いる場合、ハードセグメント材料およびソフトセグメント材料の総量に対するハードセグメントを構成する材料の質量比（以下「ハードセグメント材料比」と称す）が１０質量％以上３０質量％以下の範囲内であることが望ましく、１３質量％以上２３質量％以下の範囲内であることがより望ましく、１５質量％以上２０質量％以下の範囲内であることが更に望ましい。
ハードセグメント材料比が、１０質量％以上であることにより、耐摩耗性が得られる。一方、ハードセグメント材料比が３０質量％以下であることにより、硬くなり過ぎることがなく、柔軟性や伸張性が得られ、欠けの発生が抑制される。

・ポリイソシアネート
ポリウレタンゴムの合成に用いられるポリイソシアネートとしては、例えば、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、２，６−トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ）、１，６−ヘキサンジイソシアネート（ＨＤＩ）、１，５−ナフタレンジイソシアネート（ＮＤＩ）および３，３−ジメチルフェニル−４，４−ジイソシアネート（ＴＯＤＩ）などが挙げられる。
尚、求められる大きさ（粒子径）のハードセグメント凝集体の形成し易さという点から、ポリイソシアネートとしては、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、１，５−ナフタレンジイソシアネート（ＮＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）がより望ましい。

ポリイソシアネートのイソシアネート基に対して反応し得る官能基を有する樹脂１００質量部に対する配合量は、２０質量部以上４０質量部以下が望ましく、更には２０質量部以上３５質量部以下がより望ましく、２０質量部以上３０質量部以下が更に望ましい。
２０質量部以上であることにより、ウレタン結合量が多く確保されてハードセグメント成長し、求められる硬度が得られる。一方４０質量部以下であることにより、ハードセグメントが大きくなり過ぎず、伸張性が得られ、摺擦部材の欠けの発生が抑制される。

・架橋剤
架橋剤としては、ジオール（２官能）、トリオール（３官能）、テトラオール（４官能）等が挙げられ、これらを併用してもよい。また、架橋剤としてアミン系化合物を用いてもよい。尚、３官能以上の架橋剤を用いて架橋されたものであることが望ましい。３官能の架橋剤としては、例えば、トリメチロールプロパン、グリセリン、トリイソプロパノールアミン等が挙げられる。

架橋剤のイソシアネート基に対して反応し得る官能基を有する樹脂１００質量部に対する配合量は２質量部以下が望ましい。２質量部以下であることにより、分子運動が化学架橋で拘束されることなく、熟成によるウレタン結合由来のハードセグメントが大きく成長し、求められる硬度が得やすくなる。

・基材（炭素含有領域を形成する前の基材）の成形方法
本実施形態において全体に樹脂の一種であるポリウレタンゴムを含む基材（但し炭素含有領域を形成する前の基材）の製造は、プレポリマー法やワンショット法など、ポリウレタンの一般的な製造方法が用いられる。プレポリマー法は強度、耐摩耗性に優れるポリウレタンが得られるため本実施形態には好適であるが、製法により制限されるものではない。

かかるポリウレタンゴムは、上述したポリオールに、ポリイソシアネート化合物および架橋剤等を配合し混合して成形する。尚、炭素含有領域を形成する前の基材の成形は、上記方法により調製された基材形成用の組成物を、例えば、遠心成形や押し出し成形等を利用して、シート状に形成し、切断加工等を施すことにより作製される。

ここで、一例を挙げて、炭素含有領域を形成する前の基材の製造方法の詳細を説明する。

まず、ソフトセグメント材料（例えばポリカプロラクトンポリオール）と、ハードセグメント材料（例えば２つ以上のヒドロキシル基を含むアクリル樹脂）を、混合（例えば質量比８：２）する。
次に、このソフトセグメント材料とハードセグメント材料との混合物に対して、イソシアネート化合物（例えば４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート）を加えて、例えば窒素雰囲気下で反応させる。この際の温度は６０℃以上１５０℃以下であることが望ましく、更には８０℃以上１３０℃以下であることが望ましい。また反応時間は０．１時間以上３時間以下であることが望ましく、更には１時間以上２時間以下であることが望ましい。

続いて、イソシアネート化合物を更に加え、例えば窒素雰囲気下で反応させてプレポリマーを得る。この際の温度は４０℃以上１００℃以下であることが望ましく、更には６０℃以上９０℃以下であることが望ましい。また反応時間は３０分間以上６時間以下であることが望ましく、更には１時間以上４時間以下であることが望ましい。
次いで、このプレポリマーを昇温し減圧下で脱泡する。この際の温度は６０℃以上１２０℃以下であることが望ましく、更には８０℃以上１００℃以下であることが望ましい。また反応時間は１０分間以上２時間以下であることが望ましく、更には３０分間以上１時間以下であることが望ましい。
その後、プレポリマーに対して、架橋剤（例えば１，４−ブタンジオールやトリメチロールプロパン）を加え、更にチキソ性組成物を混合して、基材形成用の組成物を調製する。

次いで、遠心成形機の金型に上記基材形成用の組成物を流し込み、硬化反応させる。この際の金型温度は８０℃以上１６０℃以下であることが望ましく、更には１００℃以上１４０℃以下であることが望ましい。また反応時間は２０分間以上３時間以下であることが望ましく、更には３０分間以上２時間以下であることが望ましい。
更に架橋反応させ、冷却した後に切断し炭素含有領域を形成する前の基材が形成される。この架橋反応の際の熟成加熱の温度は７０℃以上１３０℃以下であることが望ましく、８０℃以上１３０℃以下であることがより望ましく、更には１００℃以上１２０℃以下であることが望ましい。また反応時間は１時間以上４８時間以下であることが望ましく、更には１０時間以上２４時間以下であることが望ましい。

・物性
基材に含まれる樹脂としては、ＪＩＳ−Ａの硬度８５度以下のゴムであることが好ましく、該硬度は更に７０度以上８５度以下がより好ましく、７３度以上８２度以下が更に好ましい。

尚、上記のＪＩＳ−Ａの硬度は以下の方法により測定される。
ゴム試料表面に定められた形状の押針を、バネを介して押し付けたときの押込み深さから硬さを求めるデュロメータによる試験方法により測定される。

基材に含有される樹脂がポリウレタンゴムである場合、該ポリウレタンゴムの重量平均分子量は、１０００乃至４０００の範囲内であることが望ましく、１５００乃至３５００の範囲内であることがより望ましい。

（基材における炭素含有領域および炭素層）
本実施形態における基材は、被接触部材との接触側に更にｓｐ３結合を有する炭素を含む炭素含有領域を有する。炭素含有領域の形成方法としては、特に限定されるものではないが、例えば樹脂を含む基材に対し直接プラズマイオンを注入することで基材内部にｓｐ３結合を有する炭素原子を浸透させる方法が挙げられる。

また、本実施形態に係る摺擦部材は、前記炭素含有領域の更に被接触部材との接触側表面に、樹脂を含まず且つｓｐ３結合を有する炭素を含む炭素層を備えていてもよい。尚、炭素層の形成方法としても、特に限定されるものではないが、上記の直接プラズマイオンを注入する方法によって炭素含有領域を形成する際、イオン注入の時間を調整することで前記炭素含有領域の外側にまでｓｐ３結合を有する炭素を積層させる方法が挙げられる。

・パルスプラズマイオン注入法による炭素含有領域の形成、および炭素層の成膜
ここで、基材における炭素含有領域および炭素層を形成し得る、パルスプラズマイオン注入法について説明する。
パルスプラズマイオン注入法においては、少なくとも１以上のイオン注入用ガスを用いて、パルスプラズマによる、イオン注入プロセスと成膜プロセスとを組み合わせた複合プロセスによって、基材の被接触部材との接触側に炭素含有領域を形成し、さらに該炭素含有領域の被接触部材との接触側表面に炭素層を成膜する。また、上記の複合プロセスの前にパルスプラズマによる表面調整プロセスを設けてもよい。

尚、こうして形成される炭素含有領域では、基材中の樹脂の種類を選択することによって該樹脂とｓｐ３結合を有する炭素とが結合され、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）層が形成される。また、上記方法で形成される炭素層も、ｓｐ３結合を有する炭素が積層されてＤＬＣ層を形成される。

ここで、より具体的な形成方法について説明する。
プラズマ発生用高周波電源と、高電圧パルス発生用電源とを、共通のフィードスルーを介してチャンバー内の基材に接続しておき、前記プラズマ発生用高周波電源から基材に高周波パルス（パルスＲＦ電圧）を印加して基材の外形に沿って周囲にプラズマを発生させる。そして、そのプラズマ中またはアフターグロープラズマ中に、高電圧パルス発生用電源から基材に負の高電圧パルス（ＤＣパルス電圧）を少なくとも１回印加し、これら高周波パルスの印加と負の高電圧パルスの印加とを繰り返し行う。尚、この高周波パルスの印加と高電圧パルスの印加との繰り返し数は、１００回／秒以上５０００回／秒以下の範囲が好ましい。

高周波パルス幅は２μｓ以上２００μｓ以下の短パルスとし、高電圧パルス幅は０．２μｓ以上５０μｓ以下の短パルスとすることが望ましい。前記高周波パルスの印加後１０μｓ以上３００μｓ以下経過した後に高電圧パルスを印加する。

表面調整プロセスに用いるガスとしては、アルゴンとメタン、または更に水素を含む混合ガスが用いられる。

炭素層を成膜する場合、パルスプラズマイオン注入用ガスとしては、メタンガスが好適に用いられる。成膜用ガスとしては、アセチレン、プロパン、ブタン、ヘキサン、ベンゼン、クロルベンゼン、トルエンからなる群より選ばれる１種以上のガスが用いられる。

尚、高パルス印加電極によって基材の表面近傍に遊離された少なくともＳｉイオンとＣイオンを含むプラズマイオンを、例えば５ｋｅＶ以上３０ｋｅＶ以下の運動エネルギーに励起させた状態で基材へ注入させることで、処理温度を５０℃以上１００℃以下の範囲に抑制しつつ、基材内部に炭素含有領域を形成し得る。また、炭素含有領域の表面に０．２μｍ以上１．０μｍ以下の範囲でＤＬＣ層、つまり炭素層を堆積し得る。

また、炭素含有領域および炭素層中には、ｓｐ３結合を有するＣ原子やＳｉ成分に加えて、更にＮ原子、Ｆ原子を成分として含んでいてもよい。
Ｎ原子を含むことにより、摺擦部材において摩擦帯電による粉体の固着が抑制される。また、Ｆ原子を含むことにより、摺擦部材における摺擦部分の離型性が向上され粉体の固着が抑制される。

尚、Ｎ原子を含有させる際に用いる注入用ガスとしては、例えばアルゴン、水素、酸素と、アンモニアガスを混合させたガス等が挙げられる。
また、Ｆ原子を含有させる際に用いる注入用ガスとしては、例えばヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）とアセチレン（Ｃ_２Ｈ_２）、フッ化炭素（Ｃ_３Ｆ_８）を流量比１：１：０．１の割合で混合したガス等が挙げられる。

尚、イオンの注入は摺動部材における被接触部材と接触する面側から行うことが好ましく、例えば図２に示すクリーニングブレード３４２であれば、像保持体（感光体ドラム）３１と接触する面、つまり先端面３Ｂ側から注入することが好ましい。

・厚み
前記炭素含有領域の被接触部材との接触面側からの厚みとしては、０．１μｍ以上５０μｍ以下が好ましい。
炭素含有領域の厚みが０．１μｍ以上であることにより、求められる低摺動性を得るとの点で好ましく、一方厚みが５．０μｍ以下であることにより、炭素含有領域の樹脂（ゴム）としての靭性（粘弾性）が維持されることによる異物衝突時の破損防止との点で好ましい。

尚、炭素含有領域の厚みは、例えば前述のイオン注入の際における、印加電圧、カレント電流、繰返しパルス数、パルス幅、ディレータイム等の調整によって制御される。

前記炭素層の厚みとしては、０ｎｍ以上５００ｎｍ以下が好ましく、更には１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が更に好ましい。
炭素含有領域の厚みが５００ｎｍ以下であることにより、炭素層の剥がれが発生した場合であっても発生した剥離片が小さいため、接触する被接触部材への剥離片による傷付きが抑制されるとの点で好ましい。

尚、炭素層の厚みは、例えばイオン注入の時間の調整によって制御される。

・用途
本実施形態の摺擦部材は、例えばクリーニングブレードとして好適に用いられる。該クリーニングブレードによるクリーニングの対象となる被クリーニング部材としては、表面のクリーニングが要求される部材であれば特に限定されず、例えば、像保持体（感光体）、中間転写体、帯電ロール、転写ロール、被転写材搬送ベルト、用紙搬送ロール、像保持体からトナーを除去するクリーニングブラシからさらにトナーを除去するデトーニングロール等が挙げられる。
また、本実施形態の摺擦部材は、クリーニングブレード以外にも、画像形成装置において他の部材に接触するよう配置されて摺擦される態様であれば、特に限定されずあらゆる部材に用い得る。例えば、摺擦部材の他の用途としては、回転ローラー表面、記録媒体搬送路表面、気密パッキン表面、摺擦パッド表面、シート等が挙げられる。

（クリーニング装置、プロセスカートリッジおよび画像形成装置）
次に、本実施形態の摺擦部材をクリーニングブレードとして用いたクリーニング装置、プロセスカートリッジ、および、画像形成装置について説明する。

本実施形態のクリーニング装置は、被クリーニング部材表面に接触し、被クリーニング部材表面をクリーニングするクリーニングブレードとして、本実施形態の摺擦部材を備えたものであれば特に限定されない。例えば、クリーニング装置の構成例としては、被クリーニング部材側に開口部を有するクリーニングケース内に、エッジ先端が開口部側となるようクリーニングブレードを固定すると共に、クリーニングブレードにより被クリーニング部材表面から回収された廃トナー等の異物を異物回収容器に導く搬送部材を備えた構成などが挙げられる。また、本実施形態のクリーニング装置には、本実施形態のクリーニングブレードが２つ以上用いられていてもよい。

なお、本実施形態のクリーニングブレードを中間転写ベルト等の中間転写体のクリーニングに利用する場合、クリーニングブレードが中間転写体に押し当てられる力ＮＦ（Ｎｏｒｍａｌ Ｆｏｒｃｅ）は１．２ｇｆ／ｍｍ以上３．０ｇｆ／ｍｍ以下の範囲であることが望ましく、１．６ｇｆ／ｍｍ以上２．５ｇｆ／ｍｍ以下の範囲であることがより望ましい。
また、クリーニングブレード先端部が中間転写体に食込む長さが０．６ｍｍ以上２．０ｍｍ以下の範囲であることが望ましく、０．９ｍｍ以上１．４ｍｍ以下の範囲であることがより望ましい。
クリーニングブレードと中間転写体との接触部における角度Ｗ／Ａ（Ｗｏｒｋｉｎｇ Ａｎｇｌｅ）は８°以上１４°以下の範囲であることが望ましく、１０°以上１２°以下の範囲であることがより望ましい。

一方、本実施形態のプロセスカートリッジは、像保持体や中間転写体等の１つ以上の被クリーニング部材表面に接触し、被クリーニング部材表面をクリーニングするクリーニング装置として、本実施形態のクリーニング装置を備えたものであれば特に限定されず、例えば、中間転写体と、この中間転写体表面をクリーニングする本実施形態のクリーニング装置とを含み、画像形成装置に対して脱着自在な態様等が挙げられる。加えて、本実施形態のクリーニング装置の他に、クリーニングブラシ等を併用してもよい。

−画像形成装置、クリーニング装置の具体例−
次に、本実施形態のクリーニングブレード、並びに、これを用いた画像形成装置およびクリーニング装置の具体例について、図面を用いてより詳細に説明する。
図４は、本実施形態の画像形成装置の一例を示す概略模式図であり、いわゆるタンデム型の画像形成装置について示したものである。
図４中、２１は本体ハウジング、２２、２２ａ乃至２２ｄは作像ユニット、２３はベルトモジュール、２４は記録媒体供給カセット、２５は記録媒体搬送路、３０は各感光体ユニット、３１は感光体ドラム、３３は各現像ユニット、３４はクリーニング装置、３５、３５ａ乃至３５ｄはトナーカートリッジ、４０は露光ユニット、４１はユニットケース、４２はポリゴンミラー、５１は一次転写装置、５２は二次転写装置、５３はベルトクリーニング装置、６１は送出しロール、６２は搬送ロール、６３は位置合わせロール、６６は定着装置、６７は排出ロール、６８は排紙部、７１は手差し供給装置、７２は送出しロール、７３は両面記録用ユニット、７４は案内ロール、７６は搬送路、７７は搬送ロール、２３０は中間転写ベルト、２３１、２３２は支持ロール、５２１は二次転写ロール、５３１はクリーニングブレードを表す。

図４に示すタンデム型画像形成装置は、本体ハウジング２１内に四つの色（本実施の形態ではイエロ、マゼンタ、シアン、ブラック）の作像ユニット２２（具体的には２２ａ乃至２２ｄ）を配列し、その上方には各作像ユニット２２の配列方向に沿って循環搬送される中間転写ベルト２３０が含まれるベルトモジュール２３を配設する一方、本体ハウジング２１の下方には用紙等の記録媒体（図示せず）が収容される記録媒体供給カセット２４を配設すると共に、この記録媒体供給カセット２４からの記録媒体の搬送路となる記録媒体搬送路２５を垂直方向に配置したものである。

本実施の形態において、各作像ユニット２２（２２ａ乃至２２ｄ）は、中間転写ベルト２３０の循環方向上流側から順に、例えばイエロ用、マゼンタ用、シアン用、ブラック用（配列は必ずしもこの順番とは限らない）のトナー像を形成するものであり、各感光体ユニット３０と、各現像ユニット３３と、共通する一つの露光ユニット４０とを備えている。
ここで、感光体ユニット３０は、例えば感光体ドラム３１と、この感光体ドラム３１を予め帯電する帯電装置（帯電ロール）３２と、感光体ドラム３１上の残留トナーを除去するクリーニング装置３４とを一体的にサブカートリッジ化したものである。

また、現像ユニット３３は、帯電された感光体ドラム３１上に露光ユニット４０にて露光形成された静電潜像を対応する色トナー（本実施の形態では例えば負極性）で現像するものであり、例えば感光体ユニット３０からなるサブカートリッジと一体化されてプロセスカートリッジ（所謂Ｃｕｓｔｏｍｅｒ Ｒｅｐｌａｃｅａｂｌｅ Ｕｎｉｔ）を構成している。
尚、感光体ユニット３０を現像ユニット３３から切り離して単独のプロセスカートリッジとしてもよいことは勿論である。また、図４中、符号３５（３５ａ乃至３５ｄ）は各現像ユニット３３に各色成分トナーを補給するためのトナーカートリッジである（トナー補給経路は図示せず）。

一方、露光ユニット４０は、ユニットケース４１内に例えば四つの半導体レーザ（図示せず）、一つのポリゴンミラー４２、結像レンズ（図示せず）および各感光体ユニット３０に対応するそれぞれミラー（図示せず）を格納し、各色成分毎の半導体レーザからの光をポリゴンミラー４２で偏向走査し、結像レンズ、ミラーを介して対応する感光体ドラム３１上の露光ポイントに光像を導くよう配置したものである。

また、本実施の形態において、ベルトモジュール２３は、例えば一対の支持ロール（一方が駆動ロール）２３１，２３２間に中間転写ベルト２３０を掛け渡したものであり、各感光体ユニット３０の感光体ドラム３１に対応した中間転写ベルト２３０の裏面には一次転写装置（本例では一次転写ロール）５１が配設され、この一次転写装置５１にトナーの帯電極性と逆極性の電圧を印加することで、感光体ドラム３１上のトナー像を中間転写ベルト２３０側に静電的に転写する。更に、中間転写ベルト２３０の最下流作像ユニット２２ｄの下流側の支持ロール２３２に対応した部位には二次転写装置５２が配設されており、中間転写ベルト２３０上の一次転写像を記録媒体に二次転写（一括転写）する。

本実施の形態では、二次転写装置５２は、中間転写ベルト２３０のトナー像保持面側に圧接配置される二次転写ロール５２１と、中間転写ベルト２３０の裏面側に配置されて二次転写ロール５２１の対向電極をなす背面ロール（本例では支持ロール２３２を兼用）とを備えている。そして、例えば二次転写ロール５２１が接地されており、また、背面ロール（支持ロール２３２）にはトナーの帯電極性と同極性のバイアスが印加されている。
更にまた、中間転写ベルト２３０の最上流作像ユニット２２ａの上流側にはベルトクリーニング装置５３が配設されており、中間転写ベルト２３０上の残留トナーを除去する。尚、ベルトクリーニング装置５３で用いられるクリーニングブレード５３１として、本実施形態のクリーニングブレードが用いられている。

また、記録媒体供給カセット２４には記録媒体を送り出す送出しロール６１が設けられ、この送出しロール６１の直後には記録媒体を送出する搬送ロール６２が配設されると共に、二次転写部位の直前に位置する記録媒体搬送路２５には記録媒体を定められたタイミングで二次転写部位へ供給するレジストレーションロール（位置合わせロール）６３が配設されている。一方、二次転写部位の下流側に位置する記録媒体搬送路２５には定着装置６６が設けられ、この定着装置６６の下流側には記録媒体排出用の排出ロール６７が設けられており、本体ハウジング２１の上部に形成された排紙部６８に排出記録媒体が収容される。

更に、本実施の形態では、本体ハウジング２１の側方には手差し供給装置（ＭＳＩ）７１が設けられており、この手差し供給装置７１上の記録媒体は送出しロール７２および搬送ロール６２にて記録媒体搬送路２５に向かって送出される。
更にまた、本体ハウジング２１には両面記録用ユニット７３が付設されており、この両面記録用ユニット７３は、記録媒体の両面に画像記録を行う両面モード選択時に、片面記録済みの記録媒体を排出ロール６７を逆転させ、かつ、入口手前の案内ロール７４にて内部に取り込み、搬送ロール７７にて内部の記録媒体戻し搬送路７６に沿って記録媒体を搬送し、再度位置合わせロール６３側へと供給するものである。

次に、図４に示すタンデム型画像形成装置内に配置されたクリーニング装置３４について詳述する。
図５は、本実施形態のクリーニング装置の一例を示す模式断面図であり、図４中に示すクリーニング装置３４と共にサブカートリッジ化された感光体ドラム３１、帯電ロール３２や、現像ユニット３３も示した図である。
図５中、３２は帯電ロール（帯電装置）、３３１はユニットケース、３３２は現像ロール、３３３はトナー搬送部材、３３４は搬送パドル、３３５はトリミング部材、３４１はクリーニングケース、３４２はクリーニングブレード、３４４はフィルムシール、３４５は搬送部材を表す。

クリーニング装置３４は、残留トナーが収容され且つ感光体ドラム３１に対向して開口するクリーニングケース３４１を有し、このクリーニングケース３４１の開口下縁には感光体ドラム３１に接触配置されるクリーニングブレード３４２を図示外のブラケットを介して取り付ける一方、クリーニングケース３４１の開口上縁には感光体ドラム３１との間が気密に保たれるフィルムシール３４４を取り付けたものである。尚、符号３４５はクリーニングケース３４１内に収容された廃トナーを側方の廃トナー容器に導く搬送部材である。

尚、本実施の形態では、各作像ユニット２２（２２ａ乃至２２ｄ）の全てのクリーニング装置３４において、クリーニングブレード３４２として本実施形態のクリーニングブレードが用いられている。また、ベルトクリーニング装置５３で用いられるクリーニングブレード５３１も本実施形態のクリーニングブレードが用いられている。

また、本実施の形態で用いられる現像ユニット（現像装置）３３は、例えば図５に示すごとく、現像剤が収容され且つ感光体ドラム３１に対向して開口するユニットケース３３１を有している。ここで、このユニットケース３３１の開口に面した箇所に現像ロール３３２が配設されると共に、ユニットケース３３１内には現像剤攪拌搬送のためのトナー搬送部材３３３が配設されている。更に、現像ロール３３２とトナー搬送部材３３３との間には搬送パドル３３４を配設してもよい。
現像に際しては、現像ロール３３２に現像剤を供給した後、例えばトリミング部材３３５にて現像剤を層厚規制した状態で、感光体ドラム３１に対向する現像領域に搬送される。

本実施の形態では、現像ユニット３３としては、例えばトナーとキャリアとからなる二成分現像剤を使用するが、トナーのみからなる一成分現像剤を使用するものであっても差し支えない。

次に、本実施の形態に係る画像形成装置の作動を説明する。先ず、各作像ユニット２２（２２ａ乃至２２ｄ）が各色に対応した単色トナー像を形成すると、各色の単色トナー像は中間転写ベルト２３０表面に、元の原稿情報と一致するよう順次重ね合わせて一次転写される。続いて、中間転写ベルト２３０表面に転写されたカラートナー像は、二次転写装置５２にて記録媒体表面に転写され、カラートナー像が転写された記録媒体は定着装置６６による定着処理を経た後、排紙部６８へと排出される。
一方、各作像ユニット２２（２２ａ乃至２２ｄ）において、感光体ドラム３１上の残留トナーはクリーニング装置３４にて清掃され、また、中間転写ベルト２３０上の残留トナーはベルトクリーニング装置５３にて清掃される。
こうした作像過程において、夫々の残留トナーはクリーニング装置３４、ベルトクリーニング装置５３によって清掃される。

なお、クリーニングブレード３４２は、図５に示されるごとくクリーニング装置３４内のフレーム部材に直接固定するのではなく、バネ材を介して固定されてもよい。

以下に、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、以下の説明において「部」は「質量部」を意味する。

〔実施例１〕
−炭素含有領域を有さない基材の作製−
まず、ポリカプロラクトンポリオール（ダイセル化学工業(株)製、プラクセル２０５、平均分子量５２９、水酸基価２１２ＫＯＨｍｇ／ｇ）およびポリカプロラクトンポリオール（ダイセル化学工業(株)製、プラクセル２４０、平均分子量４１５５、水酸基価２７ＫＯＨｍｇ／ｇ）と、をポリオール成分のソフトセグメント材料として用いた。また、２つ以上のヒドロキシル基を含むアクリル樹脂（綜研化学社製、アクトフローＵＭＢ−２００５Ｂ）をハードセグメント材料として用い、上記ソフトセグメント材料およびハードセグメント材料を８：２（質量比）の割合で混合した。
次に、このソフトセグメント材料とハードセグメント材料との混合物１００部に対して、イソシアネート化合物として４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（日本ポリウレタン工業(株)製、ミリオネートＭＴ）を６．２６部加えて、窒素雰囲気下で７０℃で３時間反応させた。尚、この反応で使用したイソシアネート化合物量は、反応系に含まれる水酸基に対するイソシアネート基の比（イソシアネート基／水酸基）が０．５となるよう選択したものである。
続いて、上記イソシアネート化合物を更に３４．３部加え、窒素雰囲気下で７０℃で３時間反応させて、プレポリマーを得た。尚、プレポリマーの使用に際して利用したイソシアネート化合物の全量は４０．５６部であった。
次に、このプレポリマーを１００℃に昇温し、減圧下で１時間脱泡した。その後、プレポリマー１００部に対して、１，４−ブタンジオールとトリメチロールプロパンとの混合物（質量比＝６０／４０）を７．１４部加え、３分間泡を巻きこまないよう混合し、基材形成用組成物Ａを調製した。

次いで、１４０℃に金型を調整した遠心成形機に上記基材形成用組成物Ａを流し込み、１時間硬化反応させた。次いで、１１０℃で２４時間熟成加熱し、冷却した後切断して、長さ３２０ｍｍ、幅１２ｍｍ、厚さ２ｍｍの基材Ａを得た。

−炭素含有領域の形成および炭素層の成膜−
パルスプラズマイオン注入法により、前記基材Ａの被接触部材との接触側にｓｐ３結合を有する炭素をイオン注入して炭素含有領域を形成し、且つその炭素含有領域の外側（被接触部材との接触表面）に炭素層を製膜した。以下に具体的なパルスプラズマイオン注入の方法を説明する。
基材Ａに対し、メタンガスのプラズマ中にて高電圧パルス（１５ｋＶ以上３５ｋＶ以下）を印加することで、基材Ａに主として炭素イオンをイオン注入した。これにより、炭素イオンがゴムからなる基材Ａの炭素同士の結合または炭素と水素との結合を切り、ゴム中の炭素または水素と置換される。その結果、基材Ａから少なくとも０．１μｍ以上深さまで炭素原子が注入された炭素含有領域が形成される。
ここで、炭素含有領域の浸透を高めるためガス圧を高くし（０．５Ｐａ以上２Ｐａ以下の範囲）、高電圧パルスの繰り返し数を可能な限り高くする（２０００ｐｐｓ以上１００００ｐｐｓ以下）。次に、メタンガスのプラズマ中でパッキン本体に印加する低電圧パルス（２ｋＶ以上５ｋＶ以下）を少なくとも１回印加する。これにより、基材Ａの炭素含有領域の表面に炭素層が形成される。なお、前記イオン注入プロセスの前にパルスプラズマによる表面調整プロセスを設けてもよい。

〔参考例１〕
実施例１で作製した基材Ａに対し炭素含有領域および炭素層を形成せず、そのまま用いた。

〔比較例１〕
実施例１で作製した基材Ａに対し炭素含有領域および炭素層を形成せず、且つ被接触部材との接触側にイソシアネートによる硬化処理を施した。尚、特開２０１３−８００７７号の段落〔００３９〕乃至〔００４９〕に記載の方法によりイソシアネートによる硬化処理を施した。
硬化処理を施す具体的行程について述べる。基材Ａにイソシアネート化合物を含浸させる方法としては、まず、ポリイソシアネート化合物が液状である温度とし、その中に基材Ａを浸した。尚、浸漬した後のポリイソシアネート化合物の温度も同様に、そのポリイソシアネート化合物が液状である温度が好ましい。こうして、ポリイソシアネート化合物をウレタンに含浸させ、ウレタン表面に残存するポリイソシアネート化合物を拭き取る。その後含浸されたポリイソシアネート化合物とポリウレタンゴムとの反応を進行させることで、硬化処理を施した。

〔比較例２〕
比較例１で作製した、イソシアネートによる硬化処理を施した基材に対し、更に実施例１で行ったパルスプラズマイオン注入を行い、炭素含有領域および炭素層を形成した。

＜評価試験＞
−被接触部材との接触角（エッジ）近傍硬度の測定−
以下の方法により、エッジ近傍の硬度を測定した。
被接触部材と接触する面、つまり先端面３Ｂ側からマイクロゴム硬度計（ＡＳＫＥＲ社製ＭＤ−１ ｃａｐａ）にて測定した。

−欠け試験−
以下の試験を実施し、欠けが発生するまでのサイクル回数を測定した。
ポリイミド樹脂に鉄粉を均一分散させたシートを張り付けたターンテーブル型の衝撃試験機により欠けの発生の有無を検討した。ターンテーブルの回転数は３０９ｍｍ／ｓｅｃ、ブレード接触時の荷重を３ｇｆ／ｍｍ、接触角度は２１度に設定した。３００サイクル行ったところ、実施例１および参考例１では欠けが生じなかったものの、比較例１および比較例２では欠けが生じた。

尚、基材のゴム材質が同じであるにもかかわらず、参考例１に対して実施例１の硬度が高く、比較例２に対して比較例１の硬度が高くなっているのは炭素含有領域の有無によるものと推定される。

実施例１の摺擦部材を画像形成装置（富士ゼロックス社製、商品名：７００ Ｄｉｇｉｔａｌ Ｃｏｌｏｒ Ｐｒｅｓｓのプロセス速度を高速に改造した画像形成装置）においてクリーニングブレードとして搭載し、未使用状態および実使用条件下での使用後の表面を光学顕微鏡（Ｋｅｙｅｎｃｅ社製、ＶＫ９５００）にて観察した。未使用状態品では炭素層の割れは見られなかったが、使用後の炭素層には割れ、剥がれが生じていた。しかし、接触面（先端面）への初期潤滑剤の塗布が無くとも画像出力中は良好なクリーニングを維持し、５００００枚画像形成後もめくれの発生はなかった。

一方で、イオン注入が施されていないゴムのみのブレード（参考例１）では、高温高湿環境下（３０℃８０％ＲＨ）でめくれが発生した。

また、イソシアネートによる硬化処理を施したブレード（比較例１）は、低画像連続走行時に欠けが生じ、クリーニング不良が生じた。
以上の結果から、本実施例に係る摺擦部材によれば、被接触部材との低摺擦性が得られ、且つ欠け発生を抑制しうることが分かった。

３Ａ 接触角部、３Ｂ 先端面、３Ｃ 腹面、３Ｄ 背面、２１ 本体ハウジング、２２、２２ａ乃至２２ｄ 作像ユニット、２３ ベルトモジュール、２４ 記録媒体供給カセット、２５ 記録媒体搬送路、３０ 感光体ユニット、３１ 感光体ドラム（像保持体）、３２ 帯電ロール、３３ 現像ユニット、３４ クリーニング装置、３５、３５ａ乃至３５ｄ トナーカートリッジ、４０ 露光ユニット、４１ ユニットケース、４２ ポリゴンミラー、５１ 一次転写装置、５２ 二次転写装置、５３ ベルトクリーニング装置、６１ 送出しロール、６２ 搬送ロール、６３ 位置合わせロール、６６ 定着装置、６７ 排出ロール、６８ 排紙部、７１ 手差し供給装置、７２ 送出しロール、７３ 両面記録用ユニット、７４ 案内ロール、７６ 搬送路、７７ 搬送ロール、２３０ 中間転写ベルト、２３１、２３２ 支持ロール、３３１ ユニットケース、３３２ 現像ロール、３３３ トナー搬送部材、３３４ 搬送パドル、３３５ トリミング部材、３４１ クリーニングケース、３４２ クリーニングブレード、３４４ フィルムシール、３４５ 搬送部材、５２１ 二次転写ロール、５３１ クリーニングブレード

Claims (9)

1. 少なくとも画像形成装置において被接触部材に接触しながら摺擦されるよう配置される摺擦部材であって、
   樹脂を全体に含む基材であって、前記被接触部材との接触側から厚み０．１μｍ以上５０μｍ以下の領域にｓｐ３結合を有する炭素がイオン注入された炭素含有領域を有し、且つ前記炭素含有領域以外の領域は同じ材質で構成される基材を備え、
   下記（Ａ）または（Ｂ）の何れかの要件を満たす画像形成用摺擦部材。
   （Ａ）前記炭素含有領域が前記被接触部材との接触部を構成する
   （Ｂ）前記炭素含有領域の更に前記被接触部材との接触側表面に、樹脂を含まず且つｓｐ３結合を有する炭素を含む炭素層が成膜され、該炭素層が前記被接触部材との接触部を構成する
2. 少なくとも画像形成装置において被接触部材に接触しながら摺擦されるよう配置される摺擦部材であって、
   樹脂を全体に含む基材であって、該樹脂がイソシアネートによる架橋構造を有さず、且つ前記被接触部材との接触側から厚み０．１μｍ以上５０μｍ以下の領域にｓｐ３結合を有する炭素がイオン注入された炭素含有領域を有する基材を備え、
   下記（Ａ）または（Ｂ）の何れかの要件を満たす画像形成用摺擦部材。
   （Ａ）前記炭素含有領域が前記被接触部材との接触部を構成する
   （Ｂ）前記炭素含有領域の更に前記被接触部材との接触側表面に、樹脂を含まず且つｓｐ３結合を有する炭素を含む炭素層が成膜され、該炭素層が前記被接触部材との接触部を構成する
3. 前記（Ｂ）の要件を満たす請求項１または請求項２に記載の画像形成用摺擦部材。
4. 前記炭素層の厚みが５００ｎｍ以下である請求項１〜請求項３の何れか一項に記載の画像形成用摺擦部材。
5. 前記基材に含まれる前記樹脂がＪＩＳ−Ａの硬度８５度以下のゴムである請求項１〜請求項４の何れか一項に記載の画像形成用摺擦部材。
6. 前記被接触部材に接触しながら、該被接触部材の表面をクリーニングするクリーニング部材である請求項１〜請求項５の何れか一項に記載の画像形成用摺擦部材。
7. クリーニング部材として請求項６に記載の画像形成用摺擦部材を備えたクリーニング装置。
8. 請求項７に記載のクリーニング装置を備え、画像形成装置に対して脱着自在であるプロセスカートリッジ。
9. 像保持体と、
   前記像保持体を帯電する帯電装置と、
   帯電した前記像保持体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成装置と、
   前記像保持体の表面に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、
   前記像保持体上に形成された前記トナー像が転写される中間転写体と、
   前記像保持体上に形成された前記トナー像を前記中間転写体の表面に一次転写する一次転写装置と、
   前記中間転写体上に転写された前記トナー像を記録媒体上に二次転写する二次転写装置と、
   前記二次転写装置によって前記トナー像が転写された後の前記中間転写体の表面に、前記画像形成用摺擦部材を接触させてクリーニングする請求項７に記載のクリーニング装置と、
   を備える画像形成装置。