JP6034484B2 - 発光素子実装用基板および発光素子モジュール - Google Patents
発光素子実装用基板および発光素子モジュール Download PDFInfo
- Publication number
- JP6034484B2 JP6034484B2 JP2015508367A JP2015508367A JP6034484B2 JP 6034484 B2 JP6034484 B2 JP 6034484B2 JP 2015508367 A JP2015508367 A JP 2015508367A JP 2015508367 A JP2015508367 A JP 2015508367A JP 6034484 B2 JP6034484 B2 JP 6034484B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- emitting element
- light emitting
- mass
- crystal
- zirconia
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 64
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 238
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 131
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 52
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 24
- 241000446313 Lamella Species 0.000 claims description 17
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 12
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910020068 MgAl Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 4
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 46
- 238000013001 point bending Methods 0.000 description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 13
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 6
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 6
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 6
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 5
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 4
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 235000019646 color tone Nutrition 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000004451 qualitative analysis Methods 0.000 description 3
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 3
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- -1 respectively Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000005056 compaction Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007723 die pressing method Methods 0.000 description 1
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 1
- 229910003440 dysprosium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- NLQFUUYNQFMIJW-UHFFFAOYSA-N dysprosium(iii) oxide Chemical compound O=[Dy]O[Dy]=O NLQFUUYNQFMIJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 229910002076 stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H01L33/486—
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/10—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on aluminium oxide
- C04B35/111—Fine ceramics
- C04B35/117—Composites
- C04B35/119—Composites with zirconium oxide
-
- H01L33/60—
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3205—Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
- C04B2235/3206—Magnesium oxides or oxide-forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3205—Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
- C04B2235/3208—Calcium oxide or oxide-forming salts thereof, e.g. lime
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3217—Aluminum oxide or oxide forming salts thereof, e.g. bauxite, alpha-alumina
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3217—Aluminum oxide or oxide forming salts thereof, e.g. bauxite, alpha-alumina
- C04B2235/3222—Aluminates other than alumino-silicates, e.g. spinel (MgAl2O4)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3231—Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3244—Zirconium oxides, zirconates, hafnium oxides, hafnates, or oxide-forming salts thereof
- C04B2235/3248—Zirconates or hafnates, e.g. zircon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/34—Non-metal oxides, non-metal mixed oxides, or salts thereof that form the non-metal oxides upon heating, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3418—Silicon oxide, silicic acids or oxide forming salts thereof, e.g. silica sol, fused silica, silica fume, cristobalite, quartz or flint
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/76—Crystal structural characteristics, e.g. symmetry
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/76—Crystal structural characteristics, e.g. symmetry
- C04B2235/765—Tetragonal symmetry
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/77—Density
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/80—Phases present in the sintered or melt-cast ceramic products other than the main phase
- C04B2235/85—Intergranular or grain boundary phases
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Description
本発明は、発光素子実装用基板および発光素子モジュールに関する。
一般照明や電光表示板の光源、さらには、携帯電話機、パソコンおよびテレビなどの液晶のバックライトに、輝度が高く、寿命が長く、消費電力の少ないなどのメリットを有している発光素子(LED)が広く利用されている。
そして、このような発光素子が搭載される発光素子実装用基体は、表面に電極が形成されるものであることから、絶縁性を有しつつ機械的特性に優れたセラミック材料が用いられている。例えば、特許文献1には、このようなセラミック材料からなる発光素子実装用基体として、アルミナとジルコニアとの混合物を焼成したセラミックスからなる反射板が提案されている。
この特許文献1において、500nmにおける反射率が最もよい試料No.5で91.6%であることが記載されているが、今般においては、さらに高い反射率を有していることが求められている。
本発明は、上記要求を満たすべく案出されたものであり、可視光領域において高い反射率を有する発光素子実装用基板および高い信頼性と高い輝度を有する発光素子モジュールを提供することを目的とする。
本発明の発光素子実装用基板は、アルミナ結晶およびジルコニア結晶と、粒界相とを含むアルミナ質焼結体からなり、CuのKα線を用いたX線回折装置により測定される正方晶ジルコニア結晶のピーク強度It(2θ=30°〜30.5°)と単斜晶ジルコニア結晶のピーク強度Im(2θ=28°〜28.5°)との強度比It/Imが35(0を含まず)以下であり、前記粒界相にガラスが存在し、該ガラスの含有量が3.5質量%以上6質量%以下であ
るとともに、前記ガラスは、前記ガラスを構成する成分100質量%のうち、酸化マグネシ
ウムが30質量%以上50質量%未満であることを特徴とするものである。
また、本発明の発光素子実装用基板は、アルミナ結晶およびジルコニア結晶と、粒界相とを含むアルミナ質焼結体からなり、CuのKα線を用いたX線回折装置により測定される正方晶ジルコニア結晶のピーク強度I t (2θ=30°〜30.5°)と単斜晶ジルコニア結晶のピーク強度I m (2θ=28°〜28.5°)との強度比I t /I m が35(0を含まず)以下であり、前記ジルコニア結晶の少なくとも一部が、ラメラ組織ジルコニア結晶であることを特徴とするものである。
るとともに、前記ガラスは、前記ガラスを構成する成分100質量%のうち、酸化マグネシ
ウムが30質量%以上50質量%未満であることを特徴とするものである。
また、本発明の発光素子実装用基板は、アルミナ結晶およびジルコニア結晶と、粒界相とを含むアルミナ質焼結体からなり、CuのKα線を用いたX線回折装置により測定される正方晶ジルコニア結晶のピーク強度I t (2θ=30°〜30.5°)と単斜晶ジルコニア結晶のピーク強度I m (2θ=28°〜28.5°)との強度比I t /I m が35(0を含まず)以下であり、前記ジルコニア結晶の少なくとも一部が、ラメラ組織ジルコニア結晶であることを特徴とするものである。
また、本発明の発光素子モジュールは、上記構成の発光素子実装基板に発光素子が搭載されていることを特徴とするものである。
本発明の発光素子実装用基板は、絶縁性を有しつつ機械的特性に優れているとともに、可視光領域において高い反射率を有している。
また、本発明の発光素子モジュールは、高い信頼性に加えて高い輝度を有している。
以下、本実施形態の発光素子実装用基板およびこの発光素子実装用基板に発光素子を搭載してなる発光素子モジュールの一例について説明する。図1は、本実施形態の発光素子実装用基板上に発光素子を搭載してなる発光素子モジュールの構成の一例を示す断面図である。
図1に示す発光素子モジュール10は、基体である発光素子実装用基板1の表面1a上に、電極3(3a,3b)、さらに電極パッド4(4a,4b)が形成され、電極パッド4a上に発光素子2が搭載され、発光素子2と電極パッド4bとが、ボンディングワイヤ5により電気的に接続されている。そして、発光素子2、電極3、電極パッド4およびボンディングワイヤ5は、樹脂等からなる封止部材6によって覆われている。ここで、この封止部材6は、発光素子2の保護とレンズの機能を併せ持つものである。
なお、本実施形態の発光素子モジュール10は、本実施形態の発光素子実装用基板1に発光素子2が搭載されていることを満たしていればよく、図1に示す例に限られるものではない。また、本実施形態において、発光素子実装用基板1の表面1aとは、発光素子2の搭載面のことである。
そして、本実施形態の発光素子実装用基板1は、アルミナ(Al2O3)結晶およびジルコニア(ZrO2)結晶と、粒界相とを含むアルミナ質焼結体からなり、CuのKα線を用いたX線回折装置(XRD)により測定される正方晶ジルコニア結晶のピーク強度It(2θ=30°〜30.5°)と単斜晶ジルコニア結晶のピーク強度Im(2θ=28°〜28.5°)との強度比It/Imが35(0を含まず)以下である。
本実施形態の発光素子実装用基板1は、上記構成を満たしていることにより、絶縁性を有しつつ機械的特性に優れているとともに、可視光領域において高い反射率を有する。なお、反射率を高めることができる理由については明らかではないが、正方晶ジルコニア結晶と単斜晶ジルコニア結晶の強度比、すなわち存在比率の違いによって、正方晶ジルコニア結晶と単斜晶ジルコニア結晶との屈折率差およびこれらのジルコニア結晶とアルミナ結晶との屈折率差が生じ、これらの屈折率差によって正反射する光量が増えたためであると推察される。なお、強度比It/Imは15以下(0を含まず)であることが好適である。これにより、さらに高い反射率を有する発光素子実装用基板1となる。
そして、本実施形態の発光素子実装用基板1におけるアルミナ質焼結体とは、ICP(Inductively Coupled Plasma)発光分光分析装置(ICP)や蛍光X線分析装置(XRF
)を用いて測定したAl量をAl2O3に換算した含有量が、焼結体を構成する全成分100質量%のうち50質量%を超えるものである。
)を用いて測定したAl量をAl2O3に換算した含有量が、焼結体を構成する全成分100質量%のうち50質量%を超えるものである。
そして、発光素子実装用基板1を構成する結晶が確認できる断面等を、SEMを用いて確認すれば、結晶と粒界相との識別ができる。また、SEMに付設のエネルギー分散型X線分光器(EDS)を用いて確認すれば、結晶がアルミナ結晶であるかジルコニア結晶であるか等の特定を行なうことができる。ここで、アルミナ結晶であれば、AlとOとが確認され、ジルコニア結晶であれば、ZrとOとが確認される。
また、正方晶ジルコニア結晶および単斜晶ジルコニア結晶との強度比It/Imについては、CuのKα線を用いたXRDによる測定における2θ=30°〜30.5°に存在する正方晶ジルコニア結晶のピーク強度Itおよび2θ=28°〜28.5°間に存在する単斜晶ジルコニア結晶のピーク強度Imの値を用いて求めれば良い。
そして、本実施形態の発光素子実装用基板1は、可視光領域における反射率の高いものであるが、具体的には、強度比It/Imが35以下(0を含まず)であることにより、500nmにおける反射率が93%以上となる。測定方法としては、分光測色計(ミノルタ製 CM−3700A)を用いて、基準光源D65、波長範囲360〜740nm、視野10°、照明径3×5mmの条件で測定することができる。
また、本実施形態の発光素子実装用基板1は、アルミナ質焼結体を構成する全成分100質量%のうち、ZrをZrO2換算したジルコニアの含有量が、5質量%以上35質量%以下であることが好適である。ジルコニアの含有量が5質量%以上35質量%以下であるときには、反射率をさらに高めることができるとともに、機械的特性の向上を図ることができる。具体的には、500nmにおける反射率を94%以上とすることができ、3点曲げ強度を400MPa以上とすることができる。
ここで、ジルコニアの含有量は、まず、発光素子実装用基板1であるアルミナ質焼結体の一部を粉砕し、得られた粉体を塩酸などの溶液に溶解して希釈した後、ICPを用いて測定し、得られたZrの含有量からZrO2に換算して求めれば良い。また、3点曲げ強度については、JIS R 1601−2008(ISO 17565:2003(MOD))に準拠して測定すればよい。
また、本実施形態の発光素子実装基板1において、ジルコニア結晶の少なくとも一部が、ラメラ組織ジルコニア結晶であることが好適である。ラメラ組織ジルコニア結晶について、図2の透過型電子顕微鏡(TEM)写真を用いて説明する。
ラメラ組織ジルコニア結晶とは、図2に示すように、色調の異なる層が重なり合って見えるものである。これらの層は、それぞれが、立方晶、正方晶または単斜晶のいずれかの結晶構造からなり、隣り合う層が異なる結晶構造となっているために、色調が異なって見えるものと推察される。
なお、図2においては、ラメラ組織ジルコニア結晶の面積占有率が高いが、図2に示すアルミナ結晶は、結晶の一部のみが示されたものであるため、結晶の全体が確認できる程度に倍率を低くすれば、アルミナ結晶の面積占有率が50%を超えるものであることはいうまでもない。また、図2に示すように、本実施形態の発光素子実装用基板1は、アルミナ結晶およびジルコニア結晶(図2においては、ラメラ組織ジルコニア結晶)と、粒界相とを有している。
そして、ジルコニア結晶の少なくとも一部が、ラメラ組織ジルコニア結晶であるときには、可視光領域においてさらに高い反射率を有する発光素子実装基板1となる。これは、ラメラ組織ジルコニア結晶が、異なる結晶構造の層が重なり合っていることにより、ラメラ組織ジルコニア結晶内においても屈折率差を有しているためと推察される。
なお、ラメラ組織ジルコニア結晶となるのは、焼成時において、アルミナ結晶とジルコニア結晶の熱膨張差により生じる応力が、アルミナ結晶間に存在するジルコニア結晶に引っ張り応力や圧縮応力として作用することによるものと推察される。
また、ジルコニア結晶の数におけるラメラ組織ジルコニア結晶の数の割合が50%以上であることが好適である。ジルコニア結晶の数におけるラメラ組織ジルコニア結晶の数の割合が50%以上であるときには、さらに反射率を向上させることができる。
ここで、ラメラ組織ジルコニア結晶の確認方法ついて説明する。まず、発光素子実装用基板1の一部をイオンシンニング装置などの加工装置を用いてエッチングし、測定面とする。次に、TEMを用いて、加速電圧200kVの条件で測定面の特定視野を1万倍から10万倍の倍率で観察することにより、アルミナ結晶は白く、ジルコニア結晶は黒く観察されることから、黒く観察される結晶のうち、色調の異なる層が重なりあって見えるか否かにより、ラメラ組織ジルコニア結晶の有無を確認することができる。なお、ジルコニア結晶であるか否かの特定が困難な場合には、付設のEDSを用いて、ZrおよびOの検出の有無で確認すればよい。
次に、ジルコニア結晶の数におけるラメラ組織ジルコニア結晶の数の割合の算出方法については、上述した特定視野におけるジルコニア結晶の数をX、色調の異なる層が重なりあって見えるジルコニア結晶(ラメラ組織ジルコニア結晶)の数をYとし、Y/X×100の計算式により1つの特定視野における割合を求め、残り4カ所(計5カ所)でそれぞれの特定視野における割合を求め、これらの割合の平均値を本実施形態におけるジルコニア結晶の数におけるラメラ組織ジルコニア結晶の数の割合とする。
また、本実施形態の発光素子実装用基板1は、粒界相に、少なくとも酸化珪素と酸化マグネシウムとを含むガラス存在し、ガラスの含有量が1質量%以上6質量%以下であることが好適である。上記構成を満たしているときには、熱伝導率の低下を抑制しつつ、反射率をさらに向上させることができる。ここで、反射率を向上させることができるのは、粒界相に、アルミナ結晶およびジルコニア結晶のいずれとも屈折率の異なるガラスを存在させていることによる。なお、本実施形態における粒界相とは、アルミナ結晶およびジルコニア結晶以外の領域のことであり、ガラスは、酸化珪素および酸化マグネシウム以外に、酸化カルシウム、酸化硼素、酸化亜鉛、酸化ビスマス等を含むものであってもよい。なお、ここでガラスの含有量とは、発光素子実装用基板1であるアルミナ質焼結体を構成する全成分を100質量%としたときの占有率のことである。
そして、ガラスの存在は、発光素子実装用基板1を切断後、断面を鏡面加工し、TEM(透過型電子顕微鏡)により、1〜15万倍の倍率で複数の粒界相について観察することによって確認することができる。または、XRFによる測定においてブロードな所謂ハローパターンの有無で確認してもよい。さらには、SEMに付設のEDS、XRF、ICP等による定性分析でAlおよびZr以外の元素が確認されていながら、XRDによる測定において、アルミナ結晶およびジルコニア結晶以外の結晶が確認されない場合もガラスが存在しているとみなすことができる。
なお、XRDによる測定において、アルミナ、ジルコニア以外の結晶が確認されない、若しくは2θ=34°〜36°に存在するアルミナのピーク強度の1/20以下の強度のピークしか確認されない場合、本実施形態におけるガラスの含有量は、定性分析で検出された元素、例えば、Si,Mg,Ca,B,Zn,Biの定量値を、それぞれSiO2,MgO,CaO,B2O3,ZnO,Bi2O3に換算した値の合計とする。
なお、ガラスの構成としては、ガラスを構成する成分100質量%のうち、酸化珪素が50質量%以上70質量%以下、酸化マグネシウムが30質量%以上50質量%未満、前述した他の酸化物の合計が10質量%未満であることが好適である。
また、本実施形態の発光素子実装用基板1であるアルミナ質焼結体の相対密度が86%以上92%以下であることが好適である。相対密度が86%以上92%以下であるときには、機械的特性の低下を抑制しつつ、発光素子実装用基板1の表面の気孔の存在によって反射率を向上させることができる。
なお、相対密度の測定方法は、JIS R 1634−1998に準拠してアルミナ質焼結体からなる発光素子実装用基板の見掛密度を求め、この見掛密度を発光素子実装用基板1を構成するアルミナ質焼結体の理論密度で除すことで求めればよい。
また、本実施形態の発光素子実装用基板1の粒界相に、MgAl2O4の結晶が存在することが好適である。粒界相に、MgAl2O4の結晶が存在するときには、面積占有率で50%を超えて占有するアルミナ結晶の粒成長が抑制され、より微細で均質な結晶組織を形成することが可能となるため、さらに機械的特性を向上させることができる。
また、本実施形態の発光素子実装用基板1の粒界相に、Al0.52Zr0.48O1.74が存在することが好適である。粒界相に、Al0.52Zr0.48O1.74が存在するときには、面積占有率で50%を超えて占有するアルミナ結晶の粒成長が抑制され、より微細で均質な結晶組織を形成することが可能となるため、さらに機械的特性を向上させることができる。なお、Al0.52Zr0.48O1.74については、CuのKα線を用いたXRDによる測定において、2θ=35.1°〜35.2°の間にメインピークを有するものであり、上記範囲におけるピークの有無により、Al0.52Zr0.48O1.74の存在を確認することができる。
そして、本実施形態の発光素子モジュール10は、本実施形態の発光素子実装用基板1が、主結晶がアルミナであり、ジルコニアを含むアルミナ質焼結体からなることから、絶縁性および機械的特性に優れているため高い信頼性を有している。また、高い反射率を有していることから、発光素子から発光された光の反射率が高いため、高い信頼性に加えて高い輝度を有する発光素子モジュール10となる。
次に、本実施形態の発光素子実装用基板1の製造方法の一例について説明する。
まず、アルミナ(Al2O3)粉末と、焼結助剤である水酸化マグネシウム(Mg(OH)2)粉末、酸化珪素(SiO2)粉末および炭酸カルシウム(CaCO3)粉末と、安定化されていないジルコニア(ZrO2)粉末とを準備する。ここで、安定化されていないジルコニア粉末とは、酸化イットリウム(Y2O3)、酸化ディスプロシウム(Dy2O3)、酸化セリウム(CeO2)、酸化カルシウム(CaO)、酸化マグネシウム(MgO)等の安定化剤によって安定化されていないジルコニア粉末のことをいう。
なお、焼結助剤と安定化剤とで重複する成分があるが、出発原料として安定化されていないジルコニア粉末を用いていればよく、焼結の過程において焼結助剤により部分的にジルコニアが安定化する分には構わない。また、MgAl2O4を粒界相に存在させるには、アルミナ粉末の平均粒径を1μm未満とし、水酸化マグネシウム粉末の平均粒径を1.5μm未満とすればよい。さらに、Al0.52Zr0.48O1.74を粒界相に存在させるには、アルミナ粉末およびジルコニア粉末ともに1μm未満の粉末を用いればよい。
なお、本実施形態の発光素子実装用基板1において、安定化されていないジルコニア粉末を用いたにも関わらず、正方晶ジルコニアが存在しているのは、変態によるもの、または、焼結助剤である炭酸カルシウム粉末におけるCaおよび水酸化マグネシウム粉末におけるMgが固溶することによるものと考えられる。
次に、これらの粉末を所定量秤量して1次原料粉末とする。具体的には、焼結助剤とアルミナ粉末とジルコニア粉末との合計100質量%のうち、焼結助剤が1〜6質量%、ジルコニア粉末が5〜35質量%、残部がアルミナ粉末となるように秤量することが好適である。
次に、この秤量した1次原料粉末100質量%に対し、1〜1.5質量%のPVA(ポリビニールアルコール)などのバインダと、100質量%の溶媒と、0.1〜0.5質量%の分散剤とを攪拌機内に入れて混合・攪拌してスラリーを得る。
その後、このスラリーを用いてドクターブレード法でシートを形成するか、このスラリーを噴霧造粒装置(スプレードライヤー)により噴霧造粒して得られた顆粒を用いてロールコンパクション法でシートを形成する。次に、金型プレスまたはレーザー加工によって、所定の製品形状または製品近似形状の成形体を得る。このとき成形体は、発光素子実装用基板1の量産性を考慮すれば、多数個取りが可能となるように、スリットを形成した成形体とすることが好ましい。
そして、得られた成形体を、大気(酸化)雰囲気の焼成炉(例えば、ローラー式トンネル炉、バッチ式雰囲気炉およびプッシャー式トンネル炉)を用いて、1400℃以上1600℃以下の最高温度で所定時間保持して焼成することによって、本実施形態の発光素子実装用基板1を得ることができる。また、発光素子実装用基板1を多数個取りする方法としては、焼成後にスリットを形成してもよいことはいうまでもない。
また、ジルコニア結晶の少なくとも一部を、ラメラ組織ジルコニア結晶とするためには、最高温度までの昇温速度を400℃/h以上として焼成すれば良い。さらに、ジルコニア結晶の数におけるラメラ組織ジルコニア結晶の数の割合を50%以上とするには、最高温度までの昇温速度を500℃/h以上とすればよい。さらに、相対密度を86%以上92%以下とするには、焼成時における最高温度を1400℃以上1500℃以下とすればよい。
また、焼成後に500℃以上の温度で熱処理を施すことによって、発光素子実装用基板1の反射率を向上させることができる。反射率を向上させることができるのは、熱処理前後において、発光素子実装用基板における正方晶ジルコニアのピーク強度Itと単斜晶ジルコニアのピーク強度Imとの強度比It/Imが小さくなっていることから、熱処理によって単斜晶ジルコニアが増えていることによると考えられる。また、熱処理温度が1100℃を超えると単斜晶から正方晶への変態が起こるとともに、熱処理によっては少なからず機械的特性の低下を伴うものであることから、この熱処理の際の温度の上限は、1100℃未満とすることが好適である。
なお、上述した熱処理によって反射率を向上させることができることから、ジルコニアの含有量を少なく、例えば5〜10質量%であっても、30質量%近く含有させたときと同じ程度の反射率とすることができるため、本願特有の効果を発揮しつつ、材料コストの低減を図るには、ジルコニアの含有量を5〜10質量%とし、熱処理を施すことが好適である。
また、粒界相にガラスを存在させるには、焼成時における最高温度から室温までの降温速度を250℃/時間以上400℃/時間以下とすればよい。
次に、本実施形態の発光素子モジュール10の製造方法の一例を図1に基づいて説明する。本実施形態の発光素子実装用基板1を基体とし、表面1aに厚膜印刷法により電極3(3a,3b)を形成する。次に、電極3上に電極パッド4(4a,4b)をメッキ等により形成する。次に、電極パッド4a上に半導体からなる発光素子2を搭載する。そして、導電性接着剤を用いた接合、または半田バンプによる接合によって、ボンディングワイヤ5で発光素子2と電極パッド4bとを電気的に接続する。次に、電極3および電極パッド4をオーバーコートガラスにより保護し、最後に、樹脂等からなる封止部材6で被覆することにより、本実施形態の発光素子モジュール10を得ることができる。
以下、本発明の実施例を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
正方晶ジルコニア結晶と単斜晶ジルコニア結晶とのピーク強度比It/Imの異なる発光素子実装用基板を作製し、反射率および3点曲げ強度の測定を行なった。
(1)試料No.1〜12用の顆粒の作製
まず、平均粒径が1.0μmのアルミナ粉末と、平均粒径が1.0μmの水酸化マグネシウム粉末、平均粒径が1.0μmの酸化珪素粉末および平均粒径が1.0μmの炭酸カルシウム粉末からなる焼結助剤と、平均粒径が2.0μmの安定化されていないジルコニア粉末とを準備した。
(1)試料No.1〜12用の顆粒の作製
まず、平均粒径が1.0μmのアルミナ粉末と、平均粒径が1.0μmの水酸化マグネシウム粉末、平均粒径が1.0μmの酸化珪素粉末および平均粒径が1.0μmの炭酸カルシウム粉末からなる焼結助剤と、平均粒径が2.0μmの安定化されていないジルコニア粉末とを準備した。
次に、安定化されていないジルコニア粉末については、各試料を構成する全成分100質量%のうちの含有量が表1に示す値となるように秤量した。また、水酸化マグネシウム粉末、酸化珪素粉末および炭酸カルシウム粉末については、各試料を構成する全成分100質量%のうちの含有量が、MgO換算で1.3質量%、SiO2換算で1.9質量%、CaO換算で0.3質量%となるように秤量した。そして、アルミナ粉末が残部となるように秤量し、1次原料とした。
次に、秤量した1次原料粉末100質量%に対し、1.0質量%のPVAと、100質量%の溶媒と、0.2質量%の分散剤とを攪拌機内に入れて混合・攪拌してスラリーを得た。その後、得られたスラリーを噴霧造粒装置(スプレードライヤー)により噴霧造粒して顆粒を得た。
(2)試料No.13用の顆粒の作製
(1)と比較して、ジルコニア粉末を添加しないこと以外は、(1)と同様の作製方法により顆粒を得た。
(3)試料No.14用の顆粒の作製
(1)と比較して、ジルコニア粉末として、予め3モル%のY2O3で安定化されたジルコニア粉末を用いたこと以外は、(1)と同様の作製方法により顆粒を得た。なお、(3)におけるジルコニア粉末は、試料No.14を構成する全成分100質量%のうちジルコニアの含有量が20質量%となるように秤量した。
(2)試料No.13用の顆粒の作製
(1)と比較して、ジルコニア粉末を添加しないこと以外は、(1)と同様の作製方法により顆粒を得た。
(3)試料No.14用の顆粒の作製
(1)と比較して、ジルコニア粉末として、予め3モル%のY2O3で安定化されたジルコニア粉末を用いたこと以外は、(1)と同様の作製方法により顆粒を得た。なお、(3)におけるジルコニア粉末は、試料No.14を構成する全成分100質量%のうちジルコニアの含有量が20質量%となるように秤量した。
次に、それぞれ得られた顆粒を用い、板状および棒状が得られる金型を用いてプレスし、板状および棒状の成形体を得た。ここで、板状の成形体は、ピーク強度および反射率測定用であり、棒状の成形体は、3点曲げ強度測定用である。次に、得られた成形体を大気(酸化)雰囲気の焼成炉に入れて1500℃の最高温度で焼成した。その後、焼成後研削加工を施すことにより、1辺が10mmの正方形であり、厚みが1.0mmの板状体と、JIS R 1601−2008(ISO 17565:2003(MOD))に準拠した寸法の棒状体とを得た。
そして、各試料について、CuのKα線を用いたXRD(PANalytical社製:X’PertPRO)にて測定を行ない、2θ=30°〜30.5°の間の正方晶ジルコニア結晶のピーク強度It、2θ=28°〜28.5°間の単斜晶ジルコニア結晶のピーク強度Imの値を用いて強度比It/Imを算出した。
また、各試料について、分光測色計(ミノルタ製 CM−3700A)を用いて、基準光源D65、波長範囲360〜740nm、視野10°、照明径3×5mmの条件で測定した。次に、JIS R 1601−2008(ISO 17565:2003(MOD))に準拠して測定を行なった。そして、強度比It/Imの値、可視光波長500nmにおける反射率、3点曲げ強度の値を表1に示した。
なお、各試料の一部を粉砕し、得られた粉体を塩酸などの溶液に溶解して希釈した後、ICP発光分光分析装置(島津製作所製:ICPS−8100)を用いて測定し、得られたZrの含有量から酸化物(ZrO2)に換算した。また、焼結助剤およびアルミナに関して、添加量通りの含有量となっていることを確認した。また、各試料における相対密度は90%であった。
表1から、ジルコニア粉末を添加していない試料No.13は、500nmにおける反射率
が89.5%と低かった。また、安定化されたジルコニア粉末を添加した試料No.14は、正方晶ジルコニア結晶の比率が高く、強度比It/Imの値が40.0であり、500nmにおけ
る反射率は、試料No.13よりは高いものの92.0%であった。また、試料No.1は、強度比It/Imの値が36.0であり、500nmにおける反射率が92.5%であった。
が89.5%と低かった。また、安定化されたジルコニア粉末を添加した試料No.14は、正方晶ジルコニア結晶の比率が高く、強度比It/Imの値が40.0であり、500nmにおけ
る反射率は、試料No.13よりは高いものの92.0%であった。また、試料No.1は、強度比It/Imの値が36.0であり、500nmにおける反射率が92.5%であった。
これに対し、強度比It/Imが35(0を含まず)以下である試料No.2〜12は、500nmにおける反射率が93.0%以上であり、高い反射率を有することが確認された。
さらに、ジルコニアの含有量が5質量%以上35質量%以下である試料No.4〜10は、500nmにおける反射率が94.0%以上であり、3点曲げ強度が400MPa以上であり、高反射率および高強度の発光素子実装用基板とできることがわかった。
次に、実施例1の試料No.5と同様の作製方法により、板状体および棒状体を得た。そして、表2に示す温度で熱処理を施し、実施例1と同様に、XRDによる強度比It/Im、反射率および3点曲げ強度の測定を行なった。結果を表2に示す。
表2から、500℃以上の温度で熱処理を行なうことにより、反射率の向上を図れることがわかった。また、1100℃の温度で熱処理したときには、単斜晶から正方晶への変態が起こり始めているためか定かではないが、1000℃のときよりも強度比It/Imの数値が大きくなっており、反射率の向上が見られず、3点曲げ強度の低下率も大きくなっていることから、熱処理温度は、500℃以上1000℃以下であることが好適とわかった。
次に、焼成時の最高温度までの昇温速度を異ならせた試料を作製し、ラメラ組織ジルコニア結晶の有無、ジルコニア結晶の数におけるラメラ組織ジルコニア結晶の数の割合の算出、反射率の測定を行なった。なお、焼成時の最高温度までの昇温速度を異ならせたこと以外は、実施例1の試料No.2と同様の作製方法により板状体の試料を作製した。また、反射率については、実施例1と同様の方法により測定した。
そして、ラメラ組織ジルコニア結晶の有無については、イオンシンニング装置を用いてエッチングした面を測定面とし、TEM(JEOL社製 JEM−2010F)を用いて、加速電圧200kVの条件で5万倍の倍率で観察して行なった。また、ジルコニア結晶の数におけるラメラ組織ジルコニア結晶の数の割合の算出については、TEMで観察した特定視野(14μm×12μm)におけるジルコニア結晶の数をX、色調の異なる層が重なりあって見えるジルコニア結晶(ラメラ組織ジルコニア結晶)の数をYとし、Y/X×100の計算式により1つの特定視野における割合を求め、残り4カ所(計5カ所)でそれぞれの特定視野における割合を求め、これらの割合の平均値をジルコニア結晶の数におけるラメラ組織ジルコニア結晶の数の割合として算出した。結果を表3に示す。
表3から、焼成時の最高温度までの昇温速度を400℃/h以上とすることにより、ラメラ組織ジルコニア結晶が存在することとなり、反射率を高められることがわかった。また、ジルコニア結晶の数におけるラメラ組織ジルコニア結晶の数の割合が50%以上であることにより、さらに反射率を高められることがわかった。
次に、焼結助剤量を異ならせた試料を作製し、反射率および熱伝導率の測定を行なった。なお、焼結助剤を表4に示す含有量としたこと以外は、実施例2の試料No.19と同様の作製方法により、試料を作製した。そして、実施例1と同様の方法により反射率の測定を行なった。また、熱伝導率については、JIS R 1611−1997に準拠して行なった。
また、XRDによる測定において、アルミナおよびジルコニア以外には、2θ=34°〜36°に存在するアルミナのピーク強度の1/20以下の強度のピークしか確認されなかったため、XRFを用いた定性分析によって確認されたSi,Mg,Caについて、ICPを用いて定量分析を行ない、それぞれSiO2,MgO,CaOに換算した。なお、試料No.33と試料No.19は同じ試料である。
表4から、粒界相に、少なくとも酸化マグネシウムと酸化珪素とを含むガラスが存在し、ガラスの含有量が1質量%以上6質量%以下であることにより、熱伝導率の低下を抑制しつつ、反射率の向上が図れることがわかった。
次に、焼成時における最高温度の保持時間を異ならせた試料を作製し、反射率および3点曲げ強度の測定を行なった。なお、試料No.39は試料No.19と同じ試料であり、試料No.が大きくなる程、最高温度の保持時間を短くして試料を作製した。そして、実施例1と同様の方法により、反射率および3点曲げ強度の測定を行なった。また、各試料につき、相対密度を算出した。結果を表5に示す。
表5から、機械的特性の低下を抑制しつつ、発光素子実装用基板の表面の気孔の存在によって反射率を向上させるには、相対密度が86%以上92%以下であることが好適とわかった。
次に、1次原料として、平均粒径が0.8μmのアルミナ粉末および平均粒径が1μmの水酸化マグネシウム粉末を用いたこと以外は、実施例1の試料No.6と同様の作製方法により、板状体および棒状体を得た。そして、実施例1と同様に、XRDによる測定、反射率および3点曲げ強度の測定を行なった。
その結果、本実施例において作製した試料には、MgAl2O4の存在が確認され、試料No.6と比較して、強度比It/Imおよび反射率は同じであったものの、3点曲げ強度が5%向上していた。この結果、MgAl2O4が存在していることにより、機械的特性の向上が図れることがわかった。
次に、1次原料として、平均粒径が0.8μmのアルミナ粉末および平均粒径が0.8μmの安定化されていないジルコニア粉末を用いたこと以外は、実施例1の試料No.6と同様の作製方法により、板状体および棒状体を得た。そして、実施例1と同様に、XRDによる測定、反射率および3点曲げ強度の測定を行なった。
その結果、本実施例において作製した試料には、Al0.52Zr0.48O1.74の存在が確認され、試料No.6と比較して、強度比It/Imおよび反射率は同じであったものの、3点曲げ強度が5%向上していた。この結果、Al0.52Zr0.48O1.74が存在していることにより、機械的特性の向上が図れることがわかった。
以上の実施例の結果より、本発明の発光素子実装用基板は、絶縁性および機械的特性に優れており、本発明の発光素子実装用基板に発光素子が搭載されてなる発光素子モジュールは、高い信頼性に加えて高い輝度を有する優れた発光素子モジュールとなることがわかった。
1 :発光素子実装用基板
1a:表面
2 :発光素子
3 :電極
4 :電極パッド
5 :ボンディングワイヤ
6 :封止部材
10 :発光素子モジュール
1a:表面
2 :発光素子
3 :電極
4 :電極パッド
5 :ボンディングワイヤ
6 :封止部材
10 :発光素子モジュール
Claims (14)
- アルミナ結晶およびジルコニア結晶と、粒界相とを含むアルミナ質焼結体からなり、CuのKα線を用いたX線回折装置により測定される正方晶ジルコニア結晶のピーク強度It(2θ=30°〜30.5°)と単斜晶ジルコニア結晶のピーク強度Im(2θ=28°〜28.5°)との強度比It/Imが35(0を含まず)以下であり、前記粒界相にガラスが存在し、該ガラスの含有量が3.5質量%以上6質量%以下であるとともに、前記ガラスは、前記ガラスを構成する成分100質量%のうち、酸化マグネシウムが30質量%以上50質量%未満であることを特徴とする発光素子実装用基板。
- 前記アルミナ質焼結体を構成する全成分100質量%のうち、ZrをZrO2換算した含有量が、5質量%以上35質量%以下であることを特徴とする請求項1に記載の発光素子実装用基板。
- 前記ジルコニア結晶の少なくとも一部が、ラメラ組織ジルコニア結晶であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の発光素子実装用基板
- 前記アルミナ質焼結体の相対密度が86%以上92%以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の発光素子実装用基板。
- 前記粒界相に、MgAl2O4で表される結晶が存在することを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の発光素子実装用基板。
- 前記粒界相に、Al0.52Zr0.48O1.74で表される結晶が存在することを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の発光素子実装用基板。
- 請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の発光素子実装用基板に発光素子が搭載されてなることを特徴とする発光素子モジュール。
- アルミナ結晶およびジルコニア結晶と、粒界相とを含むアルミナ質焼結体からなり、CuのKα線を用いたX線回折装置により測定される正方晶ジルコニア結晶のピーク強度I t (2θ=30°〜30.5°)と単斜晶ジルコニア結晶のピーク強度I m (2θ=28°〜28.5°)との強度比I t /I m が35(0を含まず)以下であり、前記ジルコニア結晶の少なくとも一部が、ラメラ組織ジルコニア結晶であることを特徴とする発光素子
実装用基板。 - 前記アルミナ質焼結体を構成する全成分100質量%のうち、ZrをZrO 2 換算した含有量が、5質量%以上35質量%以下であることを特徴とする請求項8に記載の発光素子実装用基板。
- 前記粒界相に、少なくとも酸化マグネシウムと酸化珪素とを含むガラスが存在し、該ガラスの含有量が1質量%以上6質量%以下であることを特徴とする請求項8または請求項9に記載の発光素子実装用基板。
- 前記アルミナ質焼結体の相対密度が86%以上92%以下であることを特徴とする請求項8乃至請求項10のいずれかに記載の発光素子実装用基板。
- 前記粒界相に、MgAl 2 O 4 で表される結晶が存在することを特徴とする請求項8乃至請求項11のいずれかに記載の発光素子実装用基板。
- 前記粒界相に、Al 0.52 Zr 0.48 O 1.74 で表される結晶が存在することを特徴とする請求項8乃至請求項12のいずれかに記載の発光素子実装用基板。
- 請求項8乃至請求項13のいずれかに記載の発光素子実装用基板に発光素子が搭載されてなることを特徴とする発光素子モジュール。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013064297 | 2013-03-26 | ||
JP2013064297 | 2013-03-26 | ||
JP2013144705 | 2013-07-10 | ||
JP2013144705 | 2013-07-10 | ||
PCT/JP2014/057329 WO2014156831A1 (ja) | 2013-03-26 | 2014-03-18 | 発光素子実装用基板および発光素子モジュール |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6034484B2 true JP6034484B2 (ja) | 2016-11-30 |
JPWO2014156831A1 JPWO2014156831A1 (ja) | 2017-02-16 |
Family
ID=51623811
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015508367A Active JP6034484B2 (ja) | 2013-03-26 | 2014-03-18 | 発光素子実装用基板および発光素子モジュール |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20160043283A1 (ja) |
EP (1) | EP2980042B1 (ja) |
JP (1) | JP6034484B2 (ja) |
CN (1) | CN105073682A (ja) |
WO (1) | WO2014156831A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6122367B2 (ja) * | 2013-08-31 | 2017-04-26 | 京セラ株式会社 | 発光素子実装用基板およびこれを用いた発光素子モジュール |
CN107001147B (zh) * | 2014-12-16 | 2020-07-10 | 日本碍子株式会社 | 陶瓷基体及其制造方法 |
JP6496021B2 (ja) * | 2015-06-26 | 2019-04-03 | 京セラ株式会社 | セラミック基板およびこれを用いた実装用基板ならびに電子装置 |
JP6684192B2 (ja) * | 2015-09-28 | 2020-04-22 | 京セラ株式会社 | 発光素子実装用基板、発光素子実装用回路基板、発光素子モジュールおよび発光素子実装用基板の製造方法 |
WO2019003775A1 (ja) * | 2017-06-29 | 2019-01-03 | 京セラ株式会社 | 回路基板およびこれを備える発光装置 |
JP7156987B2 (ja) * | 2019-03-25 | 2022-10-19 | 京セラ株式会社 | 耐熱部材 |
CN110330317B (zh) * | 2019-07-23 | 2020-09-22 | 南充三环电子有限公司 | 一种氧化锆复合氧化铝陶瓷烧结体、其制备方法及应用 |
CN116120046B (zh) * | 2023-02-17 | 2024-02-02 | 江苏博睿光电股份有限公司 | 一种高反射率氧化铝陶瓷基板、制备方法及应用 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06116017A (ja) * | 1992-09-30 | 1994-04-26 | Ngk Insulators Ltd | 高靱性アルミナ−ジルコニア焼結体 |
JP2011241131A (ja) * | 2010-05-20 | 2011-12-01 | Sumitomo Metal Electronics Devices Inc | セラミック焼結体および光反射体および発光素子収納用パッケージ |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3887384A (en) * | 1974-02-27 | 1975-06-03 | United Aircraft Corp | Tough refractory oxide eutectic article |
EP0207469B1 (en) * | 1985-07-03 | 1993-03-31 | Nissan Chemical Industries Ltd. | Flaky zirconia type fine crystals and method for producing them |
JP2009046326A (ja) * | 2007-08-14 | 2009-03-05 | Sumitomo Metal Electronics Devices Inc | セラミックス焼結体およびそれを用いた反射体およびそれを用いた発光素子搭載用パッケージおよびそれを用いた発光装置 |
WO2010114126A1 (ja) * | 2009-04-03 | 2010-10-07 | 株式会社住友金属エレクトロデバイス | セラミックス焼結体およびそれを用いた半導体装置用基板 |
JP4977770B2 (ja) | 2010-04-07 | 2012-07-18 | 共立エレックス株式会社 | 反射板の製造方法 |
JP5915527B2 (ja) * | 2010-07-29 | 2016-05-11 | 旭硝子株式会社 | ガラスセラミックス組成物、発光素子用基板、および発光装置 |
WO2012060341A1 (ja) * | 2010-11-01 | 2012-05-10 | 株式会社住友金属エレクトロデバイス | 電子部品素子収納用パッケージ |
WO2012162250A2 (en) * | 2011-05-20 | 2012-11-29 | University Of Central Florida Research Foundation, Inc. | Surface modified materials for tailoring responses to electromagnetic fields |
JP2013032265A (ja) * | 2011-07-01 | 2013-02-14 | Maruwa Co Ltd | 半導体装置用アルミナジルコニア焼結基板及びその製造方法 |
-
2014
- 2014-03-18 JP JP2015508367A patent/JP6034484B2/ja active Active
- 2014-03-18 CN CN201480018221.XA patent/CN105073682A/zh active Pending
- 2014-03-18 US US14/778,990 patent/US20160043283A1/en not_active Abandoned
- 2014-03-18 EP EP14775875.9A patent/EP2980042B1/en active Active
- 2014-03-18 WO PCT/JP2014/057329 patent/WO2014156831A1/ja active Application Filing
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06116017A (ja) * | 1992-09-30 | 1994-04-26 | Ngk Insulators Ltd | 高靱性アルミナ−ジルコニア焼結体 |
JP2011241131A (ja) * | 2010-05-20 | 2011-12-01 | Sumitomo Metal Electronics Devices Inc | セラミック焼結体および光反射体および発光素子収納用パッケージ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2980042A1 (en) | 2016-02-03 |
EP2980042A4 (en) | 2016-11-23 |
WO2014156831A1 (ja) | 2014-10-02 |
US20160043283A1 (en) | 2016-02-11 |
JPWO2014156831A1 (ja) | 2017-02-16 |
CN105073682A (zh) | 2015-11-18 |
EP2980042B1 (en) | 2019-10-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6034484B2 (ja) | 発光素子実装用基板および発光素子モジュール | |
US10873009B2 (en) | Barrier layer functioned novel-structure ceramic converter materials and light emitting devices | |
KR101109988B1 (ko) | 형광체 및 그의 제조방법, 및 그것을 사용한 발광장치 | |
EP2596080B1 (en) | Garnet material, method for its manufacturing and radiation-emitting component comprising the garnet material | |
JP5928468B2 (ja) | ガラスセラミックス体、発光素子搭載用基板、および発光装置 | |
EP3438229A1 (en) | Fluorescent body, light-emitting device, illuminating apparatus, and image display apparatus | |
JP5836862B2 (ja) | 電子部品実装用基板および電子装置 | |
TWI551566B (zh) | A glass-ceramic body, a substrate for mounting a light-emitting element, and a light-emitting device | |
JP5850450B2 (ja) | 高反射率セラミック基板 | |
KR20120123023A (ko) | 발광 소자 탑재용 기판 및 발광 장치 | |
JP6122367B2 (ja) | 発光素子実装用基板およびこれを用いた発光素子モジュール | |
JP6684192B2 (ja) | 発光素子実装用基板、発光素子実装用回路基板、発光素子モジュールおよび発光素子実装用基板の製造方法 | |
JP2012140289A (ja) | 被覆アルミナフィラー、ガラスセラミックス組成物、発光素子用基板、および発光装置 | |
JP6150159B2 (ja) | 発光ダイオードパッケージ用ガラスセラミック、それを用いたセラミック基板、および発光ダイオードパッケージ | |
JP6987981B2 (ja) | セラミック基板およびこれを用いた実装用基板ならびに電子装置 | |
JP6141756B2 (ja) | 保持部材 | |
TWI771599B (zh) | 光波長轉換構件及發光裝置 | |
JP7506280B1 (ja) | アルミナジルコニア焼結板 | |
JP2013228603A (ja) | 反射材およびこの反射材上に発光素子を搭載してなる発光素子モジュール | |
JP6980596B2 (ja) | セラミックス反射材およびこれを備える光源モジュール | |
JP5829582B2 (ja) | 反射材およびこの反射材上に発光素子を搭載してなる発光素子モジュール | |
JP2011192980A (ja) | 発光素子搭載用基板および発光装置 | |
CN111164059B (zh) | 发光元件安装用基板及具备其的发光元件安装用电路基板、以及发光元件模块 | |
JP2015106633A (ja) | 発光素子実装用基板およびこれを用いた発光素子モジュール | |
JP2015143173A (ja) | 発光素子搭載用セラミック基体および発光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160927 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161027 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6034484 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |