JP6012848B2 - 電磁石支持台 - Google Patents
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- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 44
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 20
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 11
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 238000002560 therapeutic procedure Methods 0.000 description 3
- 206010028980 Neoplasm Diseases 0.000 description 2
- 201000011510 cancer Diseases 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 carbon ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011275 oncology therapy Methods 0.000 description 1
- 210000000056 organ Anatomy 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
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- H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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- F16M11/00—Stands or trestles as supports for apparatus or articles placed thereon ; Stands for scientific apparatus such as gravitational force meters
- F16M11/02—Heads
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- F16M—FRAMES, CASINGS OR BEDS OF ENGINES, MACHINES OR APPARATUS, NOT SPECIFIC TO ENGINES, MACHINES OR APPARATUS PROVIDED FOR ELSEWHERE; STANDS; SUPPORTS
- F16M11/00—Stands or trestles as supports for apparatus or articles placed thereon ; Stands for scientific apparatus such as gravitational force meters
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H7/00—Details of devices of the types covered by groups H05H9/00, H05H11/00, H05H13/00
- H05H7/04—Magnet systems, e.g. undulators, wigglers; Energisation thereof
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/15—Means for deflecting or directing discharge
- H01J2237/152—Magnetic means
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H7/00—Details of devices of the types covered by groups H05H9/00, H05H11/00, H05H13/00
- H05H7/04—Magnet systems, e.g. undulators, wigglers; Energisation thereof
- H05H2007/048—Magnet systems, e.g. undulators, wigglers; Energisation thereof for modifying beam trajectory, e.g. gantry systems
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
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Description
図1は本発明の実施の形態1による電磁石支持台を示す図である。図2は図1のA部の拡大図であり、図3は図1のA部の側面図である。図4は本発明の実施の形態1による電磁石支持台と電磁石との係合関係を示す図であり、要部は断面で示した。電磁石カバー31に覆われた電磁石30は、電磁石支持台20により支持される。電磁石支持台20は、床35に設置される下部架台24と、上部架台23と、電磁石30を支持する複数の支持金具10と、水平方向調整部22と、鉛直方向調整部21とを備える。電磁石カバー31には、支持金具10と係合する複数のトラニオン32を備える。下部架台24、上部架台23、水平方向調整部22は、架台26を構成する。電磁石30は、荷電粒子ビームのビーム経路を制御する。
実施の形態1では、固定ボルト11を用いてトラニオン32と支持金具10を連結する例を説明したが、トラニオン32の外面と支持金具10の係合部19の嵌合する精度、すなわち係合する精度を高めることで、固定ボルト11を用いなくてもよい。実施の形態2の電磁石支持台20は、固定ボルト11を用いずにトラニオン32と支持金具10を連結する例である。
実施の形態1及び2では、トラニオン32が電磁石30の電磁石カバー31に配置され、係合部19が連結板12に形成された例で説明したが、支持金具10にトラニオン32が配置され、係合部19を備えた係合板38が電磁石30の電磁石カバー31に配置されてもよい。実施の形態3の電磁石支持台20は、支持金具10にトラニオン32が配置され、係合部19を備えた係合板38が電磁石30の電磁石カバー31に配置された例である。
20…電磁石支持台、21…鉛直方向調整部、22…水平方向調整部、
23…上部架台、24…下部架台、26…架台、30…電磁石、
32…トラニオン、33…トラニオン対、34…中心軸、39…係合板対。
Claims (6)
- 荷電粒子ビームのビーム経路を制御する電磁石を支持する電磁石支持台であって、
前記電磁石は、互いに対向する側面に設けられ、互いの中心軸が一致した2つのトラニオンからなるトラニオン対を有し、
前記トラニオンの数と同数個あり、前記トラニオンの外面を覆うように係合する係合部が設けられた支持金具と、
前記支持金具の鉛直方向位置を調整する鉛直方向調整部を介して前記支持金具を保持する架台とを備えたことを特徴とする電磁石支持台。 - 前記電磁石は、前記荷電粒子ビームの入射側に配置された前記トラニオン対である第1のトラニオン対と、前記荷電粒子ビームの出射側に配置された前記トラニオン対である第2のトラニオン対とを有し、
前記第1のトラニオン対における前記トラニオンに係合する前記支持金具は、前記第2のトラニオン対における前記トラニオンに係合する前記支持金具の前記鉛直方向位置が異なることを特徴とする請求項1記載の電磁石支持台。 - 荷電粒子ビームのビーム経路を制御する電磁石を支持する電磁石支持台であって、
前記電磁石は、互いに対向する側面に設けられ、互いの中心軸が一致した2つの窪みである係合部からなる係合部対を有し、
前記係合部の数と同数個あり、前記係合部に外面を挿入するように係合するトラニオンが設けられた支持金具と、
前記支持金具の鉛直方向位置を調整する鉛直方向調整部を介して前記支持金具を保持する架台とを備えたことを特徴とする電磁石支持台。 - 前記電磁石は、前記荷電粒子ビームの入射側に配置された前記係合部対である第1の係合部対と、前記荷電粒子ビームの出射側に配置された前記係合部対である第2の係合部対とを有し、
前記第1の係合部対における前記係合部に係合する前記支持金具は、前記第2の係合部対における前記係合部に係合する前記支持金具の前記鉛直方向位置が異なることを特徴とする請求項3記載の電磁石支持台。 - 前記鉛直方向調整部は、調整ねじ棒とナットを有し、前記調整ねじ棒に対する前記ナットの位置を変更することにより、前記支持金具の前記鉛直方向位置を調整することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の電磁石支持台。
- 前記架台は、下部架台と、上部架台と、前記上部架台を前記下部架台に対して水平方向に移動する水平方向調整部とを備えたことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の電磁石支持台。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2013/057194 WO2014141433A1 (ja) | 2013-03-14 | 2013-03-14 | 電磁石支持台 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6012848B2 true JP6012848B2 (ja) | 2016-10-25 |
JPWO2014141433A1 JPWO2014141433A1 (ja) | 2017-02-16 |
Family
ID=51536128
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015505164A Active JP6012848B2 (ja) | 2013-03-14 | 2013-03-14 | 電磁石支持台 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9293296B2 (ja) |
EP (1) | EP2975914B1 (ja) |
JP (1) | JP6012848B2 (ja) |
CN (1) | CN105191510B (ja) |
TW (1) | TWI514934B (ja) |
WO (1) | WO2014141433A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112015006890T5 (de) * | 2015-09-11 | 2018-05-24 | Mitsubishi Electric Corporation | Elektromagnet-montagerahmen, elektromagnet-vorrichtung, teilchenstrahl-therapiesystem |
CN106122728B (zh) * | 2016-08-17 | 2019-06-04 | 北京拓盛智联技术有限公司 | 磁力吸附式移动支架 |
CN108735328B (zh) * | 2018-07-28 | 2023-10-24 | 中国原子能科学研究院 | 质子束流线上四极透镜的安装准直装置及安装准直方法 |
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JP4457353B2 (ja) | 2005-11-25 | 2010-04-28 | 株式会社日立プラントテクノロジー | 調整ボルトの操作方法および電磁石の位置・姿勢調整方法 |
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JP2010144368A (ja) | 2008-12-17 | 2010-07-01 | Tokyo Univ Of Agriculture & Technology | 長尺重量物のアライメント支援方法、長尺重量物のアライメント支援システム |
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JP5873481B2 (ja) * | 2011-04-25 | 2016-03-01 | 住友重機械工業株式会社 | 荷電粒子線照射装置 |
US9275781B2 (en) * | 2011-08-09 | 2016-03-01 | Cornell University | Compact undulator system and methods |
US8884256B2 (en) * | 2012-02-13 | 2014-11-11 | Mitsubishi Electric Corporation | Septum magnet and particle beam therapy system |
-
2013
- 2013-03-14 EP EP13878222.2A patent/EP2975914B1/en not_active Not-in-force
- 2013-03-14 JP JP2015505164A patent/JP6012848B2/ja active Active
- 2013-03-14 US US14/759,010 patent/US9293296B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2013-03-14 WO PCT/JP2013/057194 patent/WO2014141433A1/ja active Application Filing
- 2013-03-14 CN CN201380074593.XA patent/CN105191510B/zh active Active
- 2013-07-12 TW TW102125039A patent/TWI514934B/zh not_active IP Right Cessation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN105191510B (zh) | 2017-06-13 |
TW201436657A (zh) | 2014-09-16 |
US20150348739A1 (en) | 2015-12-03 |
WO2014141433A1 (ja) | 2014-09-18 |
CN105191510A (zh) | 2015-12-23 |
EP2975914B1 (en) | 2018-07-25 |
JPWO2014141433A1 (ja) | 2017-02-16 |
US9293296B2 (en) | 2016-03-22 |
EP2975914A4 (en) | 2016-12-07 |
EP2975914A1 (en) | 2016-01-20 |
TWI514934B (zh) | 2015-12-21 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160823 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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|
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R250 | Receipt of annual fees |
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|
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