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JP6012848B2 - 電磁石支持台 - Google Patents

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JP6012848B2 JP2015505164A JP2015505164A JP6012848B2 JP 6012848 B2 JP6012848 B2 JP 6012848B2 JP 2015505164 A JP2015505164 A JP 2015505164A JP 2015505164 A JP2015505164 A JP 2015505164A JP 6012848 B2 JP6012848 B2 JP 6012848B2
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Description

本発明は、例えば研究、医療、工業分野に用いられる加速器やビーム輸送系等に用いられる大型電磁石を支持する電磁石支持台に関する。
一般に、癌治療等で使用される粒子線治療装置は、荷電粒子ビームを発生するビーム発生装置と、ビーム発生装置につながれ、発生した荷電粒子ビームを加速する加速器と、加速器で設定されたエネルギーまで加速された後に出射される荷電粒子ビームを輸送するビーム輸送系と、ビーム輸送系の下流に設置され、荷電粒子ビームを照射対象に照射するための粒子線照射装置とを備える。任意の角度から照射対象に荷電粒子ビームを照射するために、粒子線照射装置は3次元照射用の回転ガントリに設置される。
シンクロトロン等の加速器(円形加速器)で荷電粒子を周回加速させ、高エネルギーまで加速された荷電粒子(陽子や炭素イオン等)をその周回軌道から取り出し、ビーム状となった荷電粒子(荷電粒子ビーム、粒子線とも称する)は、ビーム輸送系で輸送して所望の対象物に照射する物理実験や、癌の治療などの粒子線治療に利用されている。加速した荷電粒子による癌治療、所謂、粒子線治療においては、治療する際、重要臓器を避けるためや、正常組織に損傷を与えることを防ぐために、照射方向を変えることが一般的に行われている。患者に対して任意の方向から照射するために、前述した回転ガントリに設置された粒子線照射装置を用いる。
シンクロトロン等の加速器は、荷電粒子ビームが周回する環状の加速管や、荷電粒子ビームの周回軌道を制御するための偏向電磁石や四極電磁石、高周波加速電圧によって発生する電界にて荷電粒子ビームを加速する加速空洞、荷電粒子ビームを加速管内に導入する入射装置、および、加速した荷電粒子ビームを外部に取り出す出射装置等で構成される。偏向電磁石や四極電磁石等は、荷電粒子ビームが加速管に衝突することなく周回させるために、位置や角度等の調整であるアライメントが行われる。また、ビーム輸送系についても、荷電粒子ビームが輸送管に衝突することなく粒子線照射装置へ輸送するために、位置や角度等の調整であるアライメントが行われる。
例えば、特許文献1には、架台に設置された加速器用電磁石を、複数の調整ボルト及びアクチュエータを用いて位置及び姿勢を調整する高エネルギー加速器用電磁石のアライメントシステムが記載されている。特許文献1のアライメントシステムは、1つの電磁石に対して水平方向に調整するための4つの調整ボルトと鉛直方向に調整するための4つの調整ボルトを備え、各調整ボルトはアクチュエータで制御していた。
また、特許文献2には、荷電粒子ビームを加速する前段加速装置と、前段加速装置から出射された荷電粒子ビームをさらに加速するシンクロトロンとが立体的に配置された加速器システムが記載されている。前段加速装置とシンクロトロンとを接続するビーム輸送手段は、垂直に配置される。ビーム輸送手段の偏向電磁石及び四極電磁石は、固定板に固定され、この固定板は遮蔽壁に固定された板状の架台の側面に垂直に配置されていた。
特開2006―302818号公報(0016段〜0018段、図1、図2) 特開2009―217938号公報(0027段〜0031段、図2、図3)
特許文献1のアライメントシステムは、4つの鉛直方向に調整するための調整ボルトで偏向電磁石を支持しており、荷電粒子ビームの入射側と出射側で高さが大きく異なる場合、すなわち加速器が設置される床に対して荷電粒子ビームの入射角度と出射角度が異なる場合には、偏向電磁石のずれ防止や設置角度を維持する支持構造が別途必要になる。このように、特許文献1のアライメントシステムは、配置自由度が低く、機器全体が大型化する問題があった。
特許文献2の加速器システムは、垂直に配置されたビーム輸送手段において偏向電磁石及び四極電磁石を固定するために巨大な板(架台)や固定板を用いていたので、複雑で開放空間が少なく、偏向電磁石及び四極電磁石へ電気を供給するためのケーブルの配置及び電磁石を冷却する冷却水配管の配置に対しても、設置場所の制約が大きいなどの問題点があった。
本発明は、大型電磁石の配置自由度が高く、機器全体をコンパクトにできる大型電磁石を支持する電磁石支持台を得ることを目的とする。
本発明に係る電磁石支持台は、互いに対向する側面に設けられ、互いの中心軸が一致した2つのトラニオンからなるトラニオン対を有する電磁石を支持するものであり、トラニオンの数と同数個あり、トラニオンの外面を覆うように係合する係合部が設けられた支持金具と、支持金具の鉛直方向位置を調整する鉛直方向調整部を介して支持金具を保持する架台とを備えたことを特徴とする。また、本発明に係る他の電磁石支持台は、互いに対向する側面に設けられ、互いの中心軸が一致した2つの窪みである係合部からなる係合部対を有する電磁石を支持するものであり、係合部の数と同数個あり、係合部に外面を挿入するように係合するトラニオンが設けられた支持金具と、支持金具の鉛直方向位置を調整する鉛直方向調整部を介して支持金具を保持する架台とを備えたことを特徴とする。
本発明に係る電磁石支持台によれば、電磁石をトラニオン及びトラニオンに係合する係合部を用いて支持するので、大型電磁石の配置自由度が高く、機器全体をコンパクトにできる。
本発明の実施の形態1による電磁石支持台を示す図である。 図1のA部の拡大図である。 図1のA部の側面図である。 本発明の実施の形態1による電磁石支持台と電磁石との係合関係を示す図である。 本発明の実施の形態2による電磁石支持台を示す図である。 図5のB部の拡大図である。 図5のB部の側面図である。 本発明の実施の形態2による電磁石支持台と電磁石との係合関係を示す図である。 本発明の実施の形態3による電磁石支持台を示す図である。 図9のC部の拡大図である。 図9のC部の側面図である。 本発明の実施の形態3による電磁石支持台と電磁石との係合関係を示す図である。
実施の形態1.
図1は本発明の実施の形態1による電磁石支持台を示す図である。図2は図1のA部の拡大図であり、図3は図1のA部の側面図である。図4は本発明の実施の形態1による電磁石支持台と電磁石との係合関係を示す図であり、要部は断面で示した。電磁石カバー31に覆われた電磁石30は、電磁石支持台20により支持される。電磁石支持台20は、床35に設置される下部架台24と、上部架台23と、電磁石30支持する複数の支持金具10と、水平方向調整部22と、鉛直方向調整部21とを備える。電磁石カバー31には、支持金具10と係合する複数のトラニオン32を備える。下部架台24、上部架台23、水平方向調整部22は、架台26を構成する。電磁石30は、荷電粒子ビームのビーム経路を制御する。
図3や図4に示すように、トラニオン32は、円筒形の突起であり、支持金具10にはめ込まれる。トラニオン32は、トラニオン32の中心軸34に対して回転可能に支持金具10により支持される。支持金具10は、鉛直方向調整部21に接続される底板16と、トラニオン32に係合する連結板12と、底板16及び連結板12に接続された側板15とを備える。トラニオンを用いた電磁石支持台を、トラニオン方式の電磁石支持台と呼ぶことにする。
水平方向調整部22は、上部架台23の位置をX方向に調整する調整ボルト17a及び上部架台23の位置をY方向に調整する調整ボルト17bを備える。鉛直方向調整部21は、上部架台23に対する支持金具10の位置をZ方向に調整する。鉛直方向調整部21は、調整ねじ棒13とナット14を備える。
トラニオン32の外面(円面及び円筒側面)は精度よく加工されている。電磁石30に対向して配置された2つのトラニオン32であるトラニオン対33は、各トラニオン32の中心軸34が一致するようになっている。連結板12には、トラニオン32と係合する窪みである係合部19が精度よく加工されている。連結板12には中心軸34を中心にした貫通孔18が形成され、トラニオン32には中心軸34を中心にしたねじ孔36が形成されている。トラニオン32に支持金具10を嵌合するように係合し、固定ボルト11によって支持金具10とトラニオン32が離れないように連結している。貫通孔18と固定ボルト11の軸とは接触していないので、トラニオン32の外面と支持金具10の係合部19との摺動を妨げることはない。
電磁石30の設置方法を説明する。図1に示した電磁石30は図における左右に2つのトラニオン対33、すなわち4つのトラニオン32を備えている。例えば左側のトラニオン対33(第1のトラニオン対)は荷電粒子ビームの入射側に配置されたものであり、右側のトラニオン対33(第2のトラニオン対)は荷電粒子ビームの出射側に配置されたものである。各トラニオン32に支持金具10を勘合し、固定ボルト11で各トラニオン32と支持金具10を連結する。支持金具10と上部架台23を調整ねじ棒13及びナット14で結合する。その後、鉛直方向調整部21及び水平方向調整部22を用いて、電磁石30の位置及び姿勢を調整する。図1の例では、第1のトラニオン対におけるトラニオン32に係合する支持金具10は、第2のトラニオン対におけるトラニオン32に係合する支持金具10の鉛直方向位置が異なるようにしている。
実施の形態1の電磁石支持台20は、トラニオン方式なので、荷電粒子ビームの入射側と出射側で高さが大きく異なる場合、すなわち電磁石30が設置される床35に対して荷電粒子ビームの入射角度と出射角度が異なる場合でも、特許文献1と異なり電磁石のずれ防止や設置角度を維持する支持構造が別途用いることなく、電磁石30を精度よく調整可能に支持することができる。トラニオン32における中心軸34方向の高さ(突起高さ)は低くでき、トラニオン32に係合する支持金具10における中心軸34方向の幅も比較的狭くでき、トラニオン32及び支持金具10を小型にできる。実施の形態1の電磁石支持台20は、トラニオン32及び支持金具10が小型なので、電磁石30と電磁石支持台20の全体をコンパクトにすることができる。
また、実施の形態1の電磁石支持台20は、小型のトラニオン32及び支持金具10により電磁石30を支持することができるので、電磁石30の周囲に特許文献2のような巨大な板や固定板を用いることがなく、電磁石30の周囲を広い開放空間にすることができる。実施の形態1の電磁石支持台20は、電磁石30の周囲に利用可能な空間を広く設けることができるので、電磁石30へ電気を供給するためのケーブルの配置位置や電磁石30を冷却する冷却水配管の配置位置に対する制約を少なくでき、電磁石30の配置自由度を高めることができる。
実施の形態1の電磁石支持台20によれば、互いに対向する側面に設けられ、互いの中心軸34が一致した2つのトラニオン32からなるトラニオン対33を有する電磁石30を支持するものであり、トラニオン32の数と同数個あり、トラニオン32の外面を覆うように係合する係合部19が設けられた支持金具10と、支持金具10を鉛直方向に移動させる鉛直方向調整部21を介して保持する架台26とを備えたので、大型電磁石の配置自由度が高く、機器全体をコンパクトにできる。
実施の形態2.
実施の形態1では、固定ボルト11を用いてトラニオン32と支持金具10を連結する例を説明したが、トラニオン32の外面と支持金具10の係合部19の嵌合する精度、すなわち係合する精度を高めることで、固定ボルト11を用いなくてもよい。実施の形態2の電磁石支持台20は、固定ボルト11を用いずにトラニオン32と支持金具10を連結する例である。
図5は本発明の実施の形態2による電磁石支持台を示す図である。図6は図5のB部の拡大図であり、図7は図5のB部の側面図である。図8は本発明の実施の形態2による電磁石支持台と電磁石との係合関係を示す図であり、要部は断面で示した。実施の形態2の電磁石支持台20は、実施の形態1の貫通孔18を有しない支持金具10を備える点で、実施の形態1とは異なる。また、電磁石30のトラニオン32は、実施の形態1のねじ孔36を有しない。
実施の形態2の電磁石支持台20は、支持金具10が実施の形態1の貫通孔18を有しないので、係合部19の小さな、すなわち係合部19の直径が小さな支持金具10を用いることができる。実施の形態2の電磁石支持台20は、実施の形態1に比べて支持金具10を小さくできるので、実施の形態1よりも電磁石30の周囲に利用可能な空間を広く設けることができ、電磁石30の配置自由度をさらに高めることができる。
実施の形態3.
実施の形態1及び2では、トラニオン32が電磁石30の電磁石カバー31に配置され、係合部19が連結板12に形成された例で説明したが、支持金具10にトラニオン32が配置され、係合部19を備えた係合板38が電磁石30の電磁石カバー31に配置されてもよい。実施の形態3の電磁石支持台20は、支持金具10にトラニオン32が配置され、係合部19を備えた係合板38が電磁石30の電磁石カバー31に配置された例である。
図9は本発明の実施の形態3による電磁石支持台を示す図である。図10は図9のC部の拡大図であり、図11は図9のC部の側面図である。図12は本発明の実施の形態3による電磁石支持台と電磁石との係合関係を示す図であり、要部は断面で示した。実施の形態3の電磁石支持台20は、実施の形態2の電磁石支持台20とは、支持金具10の連結板12にトラニオン32が設けられ、トラニオン32に嵌合するように係合する係合部19を備えた係合板38が電磁石30の電磁石カバー31に設けられた点で異なる。中心軸34が一致する2つの係合板38は係合板対39を構成し、中心軸34が一致する2つの係合部19は係合部対を構成する。例えば左側の係合板対39の係合部19(第1の係合部対)は荷電粒子ビームの入射側に配置されたものであり、右側の係合板対39の係合部19(第2の係合部対)は荷電粒子ビームの出射側に配置されたものである。図9の例では、第1の係合部対における係合部19に係合する支持金具10は、第2の係合部対における係合部19に係合する支持金具10の鉛直方向位置が異なるようにしている。実施の形態3の電磁石支持台20は、実施の形態2と同様の効果を奏する。
実施の形態3の電磁石支持台20によれば、互いに対向する側面に設けられ、互いの中心軸34が一致した2つの窪みである係合部19からなる係合部対(係合板対39)を有する電磁石30を支持するものであり、係合部19の数と同数個あり、係合部19に外面を挿入するように係合するトラニオン32が設けられた支持金具10と、支持金具10を鉛直方向に移動させる鉛直方向調整部21を介して保持する架台26とを備えたので、大型電磁石の配置自由度が高く、機器全体をコンパクトにできる。
なお、実施の形態1乃至3の電磁石支持台20において、電磁石30が設置される床35に対して荷電粒子ビームの入射角度と出射角度が異なる場合で説明したが、本発明のトラニオン32及び支持金具10を用いた電磁石30の支持方法を、荷電粒子ビームの入射角度と出射角度がほとんど同じ場合の電磁石支持台20にも適用できる。
10…支持金具、13…調整ねじ棒、14…ナット、19…係合部、
20…電磁石支持台、21…鉛直方向調整部、22…水平方向調整部、
23…上部架台、24…下部架台、26…架台、30…電磁石、
32…トラニオン、33…トラニオン対、34…中心軸、39…係合板対。

Claims (6)

  1. 荷電粒子ビームのビーム経路を制御する電磁石を支持する電磁石支持台であって、
    前記電磁石は、互いに対向する側面に設けられ、互いの中心軸が一致した2つのトラニオンからなるトラニオン対を有し、
    前記トラニオンの数と同数個あり、前記トラニオンの外面を覆うように係合する係合部が設けられた支持金具と、
    前記支持金具の鉛直方向位置を調整する鉛直方向調整部を介して前記支持金具を保持する架台とを備えたことを特徴とする電磁石支持台。
  2. 前記電磁石は、前記荷電粒子ビームの入射側に配置された前記トラニオン対である第1のトラニオン対と、前記荷電粒子ビームの出射側に配置された前記トラニオン対である第2のトラニオン対とを有し、
    前記第1のトラニオン対における前記トラニオンに係合する前記支持金具は、前記第2のトラニオン対における前記トラニオンに係合する前記支持金具の前記鉛直方向位置が異なることを特徴とする請求項1記載の電磁石支持台。
  3. 荷電粒子ビームのビーム経路を制御する電磁石を支持する電磁石支持台であって、
    前記電磁石は、互いに対向する側面に設けられ、互いの中心軸が一致した2つの窪みである係合部からなる係合部対を有し、
    前記係合部の数と同数個あり、前記係合部に外面を挿入するように係合するトラニオンが設けられた支持金具と、
    前記支持金具の鉛直方向位置を調整する鉛直方向調整部を介して前記支持金具を保持する架台とを備えたことを特徴とする電磁石支持台。
  4. 前記電磁石は、前記荷電粒子ビームの入射側に配置された前記係合部対である第1の係合部対と、前記荷電粒子ビームの出射側に配置された前記係合部対である第2の係合部対とを有し、
    前記第1の係合部対における前記係合部に係合する前記支持金具は、前記第2の係合部対における前記係合部に係合する前記支持金具の前記鉛直方向位置が異なることを特徴とする請求項3記載の電磁石支持台。
  5. 前記鉛直方向調整部は、調整ねじ棒とナットを有し、前記調整ねじ棒に対する前記ナットの位置を変更することにより、前記支持金具の前記鉛直方向位置を調整することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の電磁石支持台。
  6. 前記架台は、下部架台と、上部架台と、前記上部架台を前記下部架台に対して水平方向に移動する水平方向調整部とを備えたことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の電磁石支持台。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE112015006890T5 (de) * 2015-09-11 2018-05-24 Mitsubishi Electric Corporation Elektromagnet-montagerahmen, elektromagnet-vorrichtung, teilchenstrahl-therapiesystem
CN106122728B (zh) * 2016-08-17 2019-06-04 北京拓盛智联技术有限公司 磁力吸附式移动支架
CN108735328B (zh) * 2018-07-28 2023-10-24 中国原子能科学研究院 质子束流线上四极透镜的安装准直装置及安装准直方法
CN112690043B (zh) * 2018-10-31 2024-03-22 东芝能源系统株式会社 带电粒子输送系统及其安设方法
JP7278859B2 (ja) * 2019-04-26 2023-05-22 東芝エネルギーシステムズ株式会社 荷電粒子加速装置及びその調整方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01155700U (ja) * 1988-04-19 1989-10-25
JPH0465100A (ja) * 1990-07-03 1992-03-02 Agency Of Ind Science & Technol セプタムマグネット保持装置
JPH0636896A (ja) * 1992-06-17 1994-02-10 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd 粒子加速器の偏向電磁石およびその制御装置
JP2006302818A (ja) * 2005-04-25 2006-11-02 Hitachi Plant Technologies Ltd 高エネルギー加速器用電磁石のアライメント方法およびアライメントシステム

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3056070A (en) * 1957-09-27 1962-09-25 Varian Associates Magnet adjusting method and apparatus
US5528212A (en) * 1995-03-09 1996-06-18 Sti Optronics, Inc. Method and apparatus for control of a magnetic structure
JPH11214198A (ja) * 1998-01-29 1999-08-06 Kawasaki Heavy Ind Ltd 直線型加速装置およびその設置方法
US7986205B2 (en) * 2005-09-30 2011-07-26 Hitachi Metals. Ltd Magnetic field control method and magnetic field generator
JP4457353B2 (ja) 2005-11-25 2010-04-28 株式会社日立プラントテクノロジー 調整ボルトの操作方法および電磁石の位置・姿勢調整方法
JP2007261739A (ja) 2006-03-28 2007-10-11 Hitachi Plant Technologies Ltd 長尺重量物の位置調整支援装置、位置調整装置および位置調整方法
US7956557B1 (en) * 2007-09-11 2011-06-07 Advanced Design Consulting Usa, Inc. Support structures for planar insertion devices
JP2009217938A (ja) 2008-03-07 2009-09-24 Hitachi Ltd 加速器システム及び粒子線治療システム
JP2010144368A (ja) 2008-12-17 2010-07-01 Tokyo Univ Of Agriculture & Technology 長尺重量物のアライメント支援方法、長尺重量物のアライメント支援システム
JP2011198738A (ja) * 2010-02-23 2011-10-06 Nissin Ion Equipment Co Ltd 複数の磁場集中部材をカバーする保護部材を備えたイオンビーム照射装置用磁石
JP5873481B2 (ja) * 2011-04-25 2016-03-01 住友重機械工業株式会社 荷電粒子線照射装置
US9275781B2 (en) * 2011-08-09 2016-03-01 Cornell University Compact undulator system and methods
US8884256B2 (en) * 2012-02-13 2014-11-11 Mitsubishi Electric Corporation Septum magnet and particle beam therapy system

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01155700U (ja) * 1988-04-19 1989-10-25
JPH0465100A (ja) * 1990-07-03 1992-03-02 Agency Of Ind Science & Technol セプタムマグネット保持装置
JPH0636896A (ja) * 1992-06-17 1994-02-10 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd 粒子加速器の偏向電磁石およびその制御装置
JP2006302818A (ja) * 2005-04-25 2006-11-02 Hitachi Plant Technologies Ltd 高エネルギー加速器用電磁石のアライメント方法およびアライメントシステム

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